JP2011029257A - 位置合わせ装置、光学電子部品製造装置および光学電子部品製造方法 - Google Patents

位置合わせ装置、光学電子部品製造装置および光学電子部品製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】基板とレンズ母型との距離を所望状態に保持し面方向の位置合わせを行う。
【解決手段】温度調節部11bを備えたステージ11と、液状の固定媒体13が浸透され、ステージ11上に設けられて基板14が置かれるシート12と、基板14と位置合わせされるレンズ母型16を保持する保持手段15と、基板14とレンズ母型16とが接近する第1の方向および基板14の面方向である第2の方向にステージ11を移動させる移動手段21と、ステージ11を第1の方向に移動させて基板14でシート12を加圧したまま温度調節部11bで固定媒体13を凝固させて基板14をステージ11上に固定し、次に、ステージ11を第2の方向に移動させて基板14とレンズ母型16との面方向の位置合わせを行う制御手段23とを有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、位置合わせ装置、光学電子部品製造装置および光学電子部品製造方法に関するものである。
半導体ウエハなどの基板の上に様々な素子を形成する技術が知られている。基板上に素子を形成するにあたっては、基板と位置合わせ材とを正確に位置合わせする必要がある。
ここで、特開平5−182891号公報には、基板端面を位置決め部材に押し当てるにあたり、付勢手段として捻じりばねを使用し、基板のサイズに応じて押圧力の大きさを変え、結果的に押し当て圧力を一定にする技術が開示されている。
また、特開平6−246567号公報には、テーブル上にあるワークとの間に液状媒体を供給し、その媒体を凝固させることによりワークをテーブル上に固定する冷凍チャック方法と凝固の仕方を任意に選択できる装置が開示されている。
特開平5−182891号公報 特開平6−246567号公報
本発明は、基板と位置合わせ材との距離を所望の状態に保持したまま面方向の位置合わせを行うことのできる位置合わせ装置、光学電子部品製造装置および光学電子部品製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、請求項1に記載の本発明の位置合わせ装置は、温度調節部を備えた台と、前記台上に設けられ、液状の固定媒体が浸透された弾性体と、前記弾性体上に置かれる基板と位置合わせされる位置合わせ材を保持する保持手段と、前記基板と前記位置合わせ材とが相互に接近する第1の方向および前記基板の面方向である第2の方向に前記台と前記保持手段とを相対移動させる移動手段と、前記移動手段により前記台と前記保持手段とを前記第1の方向に相対移動させて前記基板で前記弾性体を加圧したまま前記温度調節部により前記固定媒体を凝固させて前記基板を前記台上に固定し、次に、前記移動手段により前記台と前記保持手段とを前記第2の方向に相対移動させて前記基板と前記位置合わせ材との面方向の位置合わせを行うように制御する制御手段と、を有することを特徴とする。
請求項2に記載の本発明の光学電子部品製造装置は、温度調節部を備えた台と、液状の固定媒体が浸透されて前記台上に設けられた弾性体と、主面に光学素子が形成され前記弾性体上に置かれる基板と対向した面を有するとともに当該面にスペーサが設けられ、素子部品形成領域が形成されて前記基板と位置合わせされる位置合わせ材と、前記位置合わせ材を保持する保持手段と、前記基板と前記位置合わせ材とが相互に接近する第1の方向および前記基板の面方向である第2の方向に前記台と前記保持手段とを相対移動させる移動手段と、前記基板の前記主面に塗布された素子部品形成用の樹脂を硬化させる硬化手段と、前記移動手段により前記台と前記保持手段とを前記第1の方向に相対移動させて前記基板で前記弾性体を加圧したまま前記温度調節部により前記固定媒体を凝固させて前記基板を前記台上に固定するとともに前記樹脂を前記主面全体に広げ、次に、前記移動手段により前記台と前記保持手段とを前記第2の方向に相対移動させて前記素子部品形成領域と前記光学素子とが重なり合うように前記基板と前記位置合わせ材との位置合わせを行い、次に、前記硬化手段により前記樹脂の前記素子部品形成領域に対応する部分を硬化させて前記光学素子上に素子部品を形成するように制御する制御手段と、を有することを特徴とする。
請求項3に記載の本発明の光学電子部品製造方法は、液状の固定媒体が浸透された弾性体を台上に置き、主面に光学素子の形成された基板を前記弾性体上に置き、前記基板の前記主面に素子部品形成用の樹脂を塗布し、素子部品形成領域が形成された位置合わせ材の面をスペーサを挟んで前記基板に押し当て、前記基板で前記弾性体を加圧したまま前記固定媒体を凝固させて前記基板を前記台上に固定するとともに前記樹脂を前記基板の前記主面全体に広げ、前記基板と前記位置合わせ材とを前記基板の面方向に相対移動させて前記素子部品形成領域と前記光学素子とが重なり合うように前記位置合わせ材と前記基板との位置合わせを行い、前記樹脂の前記素子部品形成領域に対応する部分を硬化させて前記光学素子上に素子部品を形成し、前記位置合わせ材を前記基板から剥離し、前記固定媒体を液状に戻して前記基板を前記台から取り外し、未硬化の前記樹脂を前記基板から除去して光学電子部品を得る、ことを特徴とする。
請求項1記載の発明によれば、基板と位置合わせ材との距離を所望の状態に保持したまま面方向の位置合わせを行うことができる。
請求項2記載の発明によれば、光学素子の形成された基板と光学素子上に形成される素子部品の形成領域が形成された位置合わせ材との距離を所望の状態に保持したまま面方向の位置合わせを行うことができる。
請求項3記載の発明によれば、光学素子の形成された基板と光学素子上に形成される素子部品の形成領域が形成された位置合わせ材との距離を所望の状態に保持したまま面方向の位置合わせを行うことができる。
本発明の一実施の形態に係る位置合わせ装置の一例である光学電子部品製造装置の概略図である。 光学素子の形成された基板を示す概念図である。 基板と位置合わせされるレンズ母型を示す概念図である。 基板にレンズが形成されるプロセスの一部を示す説明図である。 図4に続く説明図である。 図5に続く説明図である。 図6に続く説明図である。 図7に続く説明図である。
以下、本発明の一例としての実施の形態について、図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための図面において、同一の構成要素には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
図1に示すように、本発明の一実施の形態に係る光学電子部品製造装置(位置合わせ装置の一例)はステージ11(台の一例)を有している。ステージ11の上面には、底面が平らになった穴部11aが形成されており、例えばポーラスシリコンゴムなどのように多孔質で弾性を有する材料からなるシート12(弾性体の一例)が設けられている。そして、シート12には、常温域(例えば、日本工業規格で定められた20℃±15℃(5〜35℃)の範囲)など、ある温度帯域では液状となり、冷却すると凝固する性質を有する固定媒体13が浸透されている。
なお、シート12としては、多孔質体のように液状の固定媒体が浸透する性質を備え、後述するように基板14で加圧したときに変形する程度の弾性を有している様々な材料が適用され、ポーラスシリコンゴム以外にも、例えば有機高分子多孔体、樹脂ポーラスなどが適用される。
ステージ11は、このステージ11上に置かれた物体を例えば−20〜+50℃の範囲で加熱・冷却する温度調節部11bを備えている。したがって、ステージ11に形成された穴部11aに配されたシート12に浸透された固定媒体13は、ステージ11に備えられた温度調節部11bに冷却されて凝固される。また、凝固された固定媒体13は、冷却が解除されるか加熱されて液体に戻される。
なお、温度調節部11bによる温度調節範囲は上述の範囲に限定されるものではなく、固定媒体13を冷却して凝固させることができ、また凝固した固定媒体13を液体に戻すことができればよい。
図1に示すように、シート12上には平坦な基板14が置かれる。図2に示すように、基板14は、本実施の形態では例えばガリウムヒ素ウエハであり、その主面14aには例えばLED(Light Emitting Diode:発光ダイオード)等の発光素子14−1(光学素子の一例)が形成されている。発光素子14−1は、スクライブエリア14bで区画された各チップ領域14cにおいて多数個(例えば、256個)が一列に形成されている。この発光素子14−1は基板14の主面14aに発光面があり、基板に対してほぼ垂直に発光するものであり、指向性が低く光が拡散する。そこで、後述するレンズ(素子部品の一例)を当該発光素子14−1の表面に形成することによって光に方向性をもたせ、利用効率を上げるようにしている。
なお、基板14はガリウムヒ素ウエハに限定されるものではなく、シリコンウエハのような半導体基板はもちろん、配線が形成されたプリント基板など、様々な基板が適用される。
また、光学素子は本実施の形態に示すLEDに限定されるものではなく、基板上に形成される様々な光学素子(発光素子・受光素子)が適用される。
ステージ11の上方には、保持手段15に保持されたレンズ母型16(位置合わせ材の一例)が配置されている。例えば石英で作製されたレンズ母型16には、ステージ11に設けられたシート12上に置かれた基板14と対向した平坦面16aを有している。平坦面16aには、後述するレンズ形成用の樹脂24(図4参照)の厚みを調整するためのスペーサ17が設けられている。
図3に示すように、レンズ母型16には、基板14に形成された発光素子14−1に対応したレンズ形成領域16−1(素子部品形成領域の一例)が形成されている。レンズ形成領域16−1は、例えばクロムからなり平坦面16aに設けられたフォトマスク18の開口部分に形成されており、発光素子14−1からの光を集光するために凸レンズ状のキャビティとなっている。そして、基板14に形成された各発光素子14−1と、これら各発光素子14−1に対応したレンズ形成領域16−1とが重なり合うように基板14とレンズ母型16とが位置合わせされる。
なお、本実施の形態では発光素子14−1とレンズ形成領域16−1とが重なり合うように基板14とレンズ母型16とが位置合わせされるが、基板としては様々なものが適用され、また、レンズ母型は位置合わせ材の一例であることから、発光素子14−1とレンズ形成領域16−1とが重なり合うような位置合わせは、基板と位置合わせ材との様々な位置合わせ形態の一例に過ぎない。
また、本実施の形態では、発光素子14−1上に素子部品の一例としてのレンズが形成されるようになっているために、位置合わせ材の一例であるレンズ母型16にレンズ形成領域16−1が形成されているが、発光素子14−1などの光学素子上に形成される素子部品はレンズに限定されるものではなく、例えば光学素子を保護する部品などであってもよい。
基板14とレンズ母型16との位置合わせを行うために、レンズ母型16の基板14と反対側には、図1に示すように、発光素子14−1とレンズ形成領域16−1との平面方向の位置関係を観察するためのカメラ19(位置確認手段の一例)が配置されている。さらに、同じくレンズ母型16の基板14と反対側には、基板14の主面14aに塗布されたレンズ形成用の樹脂24(UV硬化性の樹脂)を硬化させるためのUV光を照射する光源20が配置されている。
なお、このようにレンズ母型16を通してカメラ19で発光素子14−1とレンズ形成領域16−1とを観察するために透明性が高いことが要求され、また、光源20から照射されたUV光をレンズ母型16を通して樹脂24に照射するためにUVの透過率が高いことが要求されることから、前述のように、レンズ母型16が石英で作製されている。但し、レンズ母型16はこれらの要求を満たす材料であればよく、石英には限定されない。
さらに、カメラ19は位置確認手段の一例であり、位置確認手段はカメラのように観察する形態のものには限定されない。例えば、基板14とレンズ母型16とに、両者が位置合わせされた位置で導通する電極を形成しておき、導通の有無によって位置合わせされたか否かを確認する位置確認手段などでもよい。
ステージ11には、基板14とレンズ母型16とが相互に接近する第1の方向および基板14の平面方向である第2の方向にステージ11を移動させるための移動手段21が取り付けられている。なお、本実施の形態では、ステージ11を移動させているが、保持手段15に移動手段を取り付け、当該保持手段15を基板14とレンズ母型16とが相互に接近する第1の方向および基板14の平面方向である第2の方向に移動させるようにしてもよい。つまり、ステージ11と保持手段15とは(換言すれば、ステージ11上の基板14と保持手段15に保持されたレンズ母型16とは)、移動手段により相対移動されるようになっていればよい。
そして、以上に説明した温度調節部11b、光源20および移動手段21を制御して発光素子14−1上にレンズ22を形成するための制御手段23が設けられている。
次に、本実施の形態の光学電子部品製造方法におけるレンズ形成のためのプロセスについて説明する。
まず、固定媒体13が浸透されたシート12をステージ11上の穴部11aに置き、このシート12上に、発光素子14−1の形成された主面14aを表にして基板14を置く。また、平坦面16aが基板14と対向するようにして、レンズ母型16を保持手段15に保持させる。
そして、図4に示すように、基板14の主面14aにレンズ形成用の樹脂24を塗布する。
次に、図5に示すように、制御手段23は移動手段21を動作させてステージ11を第1の方向(保持手段15に接近する方向)に移動させ、レンズ母型16の平坦面16aをスペーサ17を挟んで基板14に押し当てる。そして、このようにして基板14でシート12を加圧したまま、さらに制御手段23は温度調節部11bを動作させて固定媒体13を凝固させて基板14をステージ11上に固定するとともに、樹脂24を基板14の主面14a全体に広げる。これにより、樹脂24は、基板14とレンズ母型16との間にスペーサ17の厚み分に亘って全体に行き渡るとともに、レンズ母型16のレンズ形成領域16−1内へと入り込む。
ここで、スペーサ17に基板14の全体が押し当てられるまで加圧することでシート12は加圧による荷重を分散して変形し、基板14の反りが補正されてレンズ母型16と基板14上に形成された発光素子14−1とがほぼ平行になる。そして、その状態で固定媒体13が凝固されることにより基板14がステージ11に固定されることから、基板14の平面方向の剛性が確保される。
次に、制御手段23はカメラ19の画像を取り込みながら、移動手段21を動作させてステージ11を第2の方向に移動させ、基板14をその平面方向に移動させる。そして、レンズ母型16のレンズ形成領域16−1と基板14の発光素子14−1とが重なり合うようにレンズ母型16と基板14の位置合わせを行う。
そして、図6に示すように、制御手段23は光源20に給電を行って樹脂24にUV露光を行う。このとき、レンズ母型16のレンズ形成領域16−1以外の領域はフォトマスク18で遮光されているので、レンズ形成領域16−1に対応する部分にある樹脂24にはUV光により硬化されて発光素子14−1上にレンズ22が形成されるが、それ以外の領域にある樹脂24はUV光が照射されずに硬化されない。このとき、樹脂硬化時による化学反応やUV露光時の熱により基板14とレンズ22とが膨張するが、固定媒体13が凝固したことにより基板14はシート12を介してステージ11に固定されているので、位置ズレが発生することはない。
発光素子14−1上にレンズ22が形成されたならば、光源20への給電を停止して、図7に示すように、レンズ母型16を基板14から剥離する。
続いて、温度調節部11bによる固定媒体13の冷却を停止するか温度調節部11bにより固定媒体13を加熱することにより固定媒体13を凝固状態から液体に戻して基板14をステージ11から取り外す。
そして、未硬化の樹脂24を洗浄して基板14から除去し、図8に示すような光学電子部品を得る。
なお、本実施の形態の基板14は、スクライブエリア14bで区画された各チップ領域14cに発光素子14−1が形成されたガリウムヒ素ウエハであるため、最後に、各チップにダイシングされる。
このように、本実施の形態では、基板14とシート12とを加圧したまま固定媒体13を凝固させ、その後基板14とレンズ母型16との平面方向の位置合わせを行うようにしている。したがって、加圧時の荷重分散によりシート12が変形して基板14の反りが補正された状態で当該基板14がステージ11に固定されて平面方向の剛性が確保され、その状態で基板14の平面方向の位置合わせが行われることになる。
これにより、発光素子14−1の形成された基板14と発光素子14−1上に形成されるレンズ形成領域16−1が形成されたレンズ母型16との距離を所望の状態に保持したまま平面方向の位置合わせが行われる。
このように、本実施の形態では、レンズ母型16により基板14の反りを補正して平面にして平面方向の位置合わせを行っている。しかしながら、レンズ母型16と基板14との間隔が全面にわたって異なっていなければ基板14とレンズ母型16との距離は所望の状態に保持されることから、基板14を平面に補正する必要はない。つまり、レンズ母型16の基板14との対向面を曲面とし、基板14をレンズ母型16の曲面に合わせるように補正してもよい。なお、この場合には、曲面方向の位置合わせが行われることになる。
ここで、以上の説明では、レンズ形成用の樹脂としてUV硬化型の樹脂を用いていたが、熱硬化型の樹脂を用いてもよい。
この場合には、光源20に代えて、例えばハロゲンランプなどの熱源が配置される。
そして、レンズ形成のためのプロセスにおいては、UV光照射に代えて熱源による加熱でレンズ形成領域16−1に対応する部分にある樹脂24を硬化させて発光素子14−1上にレンズ22を形成する。
つまり、レンズ形成のためのプロセスの概略を説明すれば、まず、固定媒体13が浸透されたステージ11上のシート12に基板14を置くとともに、レンズ母型16を保持手段15に保持させる。
次に、基板14の主面14aにレンズ形成用の樹脂24(ここでは、熱硬化型の樹脂)を塗布し、レンズ母型16の平坦面16aをスペーサ17を挟んで基板14に押し当てる。そして、基板14でシート12を加圧したまま、固定媒体13を凝固させて基板14をステージ11上に固定するとともに、樹脂24を基板14の主面14a全体に広げる。
次に、基板14を平面方向に移動させてレンズ母型16のレンズ形成領域16−1と基板14の発光素子14−1とが重なり合うようにレンズ母型16と基板14の位置合わせを行う。
そして、熱源により樹脂を加熱し、レンズ形成領域16−1に対応する部分にある樹脂24を硬化させて発光素子14−1上にレンズ22を形成する。
次に、レンズ母型16を基板14から剥離した後、固定媒体13を凝固状態から液体に戻して基板14をステージ11から取り外し、未硬化の樹脂24を洗浄して基板14から除去する。そして、各チップにダイシングする。
以上本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本明細書で開示された実施の形態はすべての点で例示であって、開示された技術に限定されるものではないと考えるべきである。すなわち、本発明の技術的な範囲は、前記の実施の形態における説明に基づいて制限的に解釈されるものでなく、あくまでも特許請求の範囲の記載に従って解釈されるべきであり、特許請求の範囲の記載技術と均等な技術および特許請求の範囲の要旨を逸脱しない限りにおけるすべての変更が含まれる。
以上の説明では、本発明を基板に形成された光学素子と位置合わせ材としてのレンズ母型に形成されたレンズ形成領域との位置合わせに適用した例が説明されているが、本発明は、半導体基板やプリント基板などの様々な基板と位置合わせ材との位置合わせに適用される。
11 ステージ
11a 穴部
11b 温度調節部
12 シート
13 固定媒体
14 基板
14−1 発光素子
14a 主面
14b スクライブエリア
14c チップ領域
15 保持手段
16 レンズ母型
16−1 レンズ形成領域
16a 平坦面
17 スペーサ
18 フォトマスク
19 カメラ
20 光源
21 移動手段
22 レンズ
23 制御手段
24 樹脂

Claims (3)

  1. 温度調節部を備えた台と、
    前記台上に設けられ、液状の固定媒体が浸透された弾性体と、
    前記弾性体上に置かれる基板と位置合わせされる位置合わせ材を保持する保持手段と、
    前記基板と前記位置合わせ材とが相互に接近する第1の方向および前記基板の面方向である第2の方向に前記台と前記保持手段とを相対移動させる移動手段と、
    前記移動手段により前記台と前記保持手段とを前記第1の方向に相対移動させて前記基板で前記弾性体を加圧したまま前記温度調節部により前記固定媒体を凝固させて前記基板を前記台上に固定し、次に、前記移動手段により前記台と前記保持手段とを前記第2の方向に相対移動させて前記基板と前記位置合わせ材との面方向の位置合わせを行うように制御する制御手段と、
    を有することを特徴とする位置合わせ装置。
  2. 温度調節部を備えた台と、
    液状の固定媒体が浸透されて前記台上に設けられた弾性体と、
    主面に光学素子が形成され前記弾性体上に置かれる基板と対向した面を有するとともに当該面にスペーサが設けられ、素子部品形成領域が形成されて前記基板と位置合わせされる位置合わせ材と、
    前記位置合わせ材を保持する保持手段と、
    前記基板と前記位置合わせ材とが相互に接近する第1の方向および前記基板の面方向である第2の方向に前記台と前記保持手段とを相対移動させる移動手段と、
    前記基板の前記主面に塗布された素子部品形成用の樹脂を硬化させる硬化手段と、
    前記移動手段により前記台と前記保持手段とを前記第1の方向に相対移動させて前記基板で前記弾性体を加圧したまま前記温度調節部により前記固定媒体を凝固させて前記基板を前記台上に固定するとともに前記樹脂を前記主面全体に広げ、次に、前記移動手段により前記台と前記保持手段とを前記第2の方向に相対移動させて前記素子部品形成領域と前記光学素子とが重なり合うように前記基板と前記位置合わせ材との位置合わせを行い、次に、前記硬化手段により前記樹脂の前記素子部品形成領域に対応する部分を硬化させて前記光学素子上に素子部品を形成するように制御する制御手段と、
    を有することを特徴とする光学電子部品製造装置。
  3. 液状の固定媒体が浸透された弾性体を台上に置き、
    主面に光学素子の形成された基板を前記弾性体上に置き、
    前記基板の前記主面に素子部品形成用の樹脂を塗布し、
    素子部品形成領域が形成された位置合わせ材の面をスペーサを挟んで前記基板に押し当て、前記基板で前記弾性体を加圧したまま前記固定媒体を凝固させて前記基板を前記台上に固定するとともに前記樹脂を前記基板の前記主面全体に広げ、
    前記基板と前記位置合わせ材とを前記基板の面方向に相対移動させて前記素子部品形成領域と前記光学素子とが重なり合うように前記位置合わせ材と前記基板との位置合わせを行い、
    前記樹脂の前記素子部品形成領域に対応する部分を硬化させて前記光学素子上に素子部品を形成し、
    前記位置合わせ材を前記基板から剥離し、
    前記固定媒体を液状に戻して前記基板を前記台から取り外し、
    未硬化の前記樹脂を前記基板から除去して光学電子部品を得る、
    ことを特徴とする光学電子部品製造方法。
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