JP2011029099A - Substrate with transparent conductive film - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate with a transparent conductive film which includes the transparent conductive film having the conductivity increased while ensuring light remittance without need of increasing the content of metal nanowires. <P>SOLUTION: The substrate with the transparent conductive film includes the transparent conductive film 2 formed on the surface of a transparent substrate 1 by including the metal nanowires 3 in a matrix resin 5. The matrix resin 5 of the transparent conductive film 2 contains translucent particles 4 each of which has a refractive index difference of &plusmn;0.03 with respect to the matrix resin 5 and has a particle size greater than the thickness of the transparent conductive film 2 by 0.5 to 1.2 times. The existence region of the metal nanowires 3 in the matrix region 5 is limited by the translucent particles 4 and the contact probability between the metal nanowires 3 is enhanced to ensure a large number of contacts between the metal nanowires 3. As a result, without the need of increasing the content of the metal nanowires 3, the conductivity of the transparent conductive film 2 is enhanced. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、表面に透明導電膜を設けた透明導電膜付き基材に関するものである。   The present invention relates to a substrate with a transparent conductive film provided with a transparent conductive film on the surface.

透明導電膜は、液晶ディスプレイやPDP、タッチパネル、また有機ELや太陽電池などの分野で、透明電極として広く用いられている。そしてこのような透明で導電性を発現する透明導電膜を形成するにあたっては、透明で導電性を有する材料を用いて膜を形成する方法の他に、透明樹脂に導電性物質を含有させて膜を形成することによって、着色するけれども導電性物質の形状や配向によって透明性を確保しつつ導電性が発現した透明導電膜を形成する方法がある。   Transparent conductive films are widely used as transparent electrodes in fields such as liquid crystal displays, PDPs, touch panels, organic ELs, and solar cells. In forming such a transparent conductive film that exhibits conductivity, in addition to a method of forming a film using a transparent and conductive material, a film containing a conductive substance in a transparent resin is used. There is a method of forming a transparent conductive film that exhibits conductivity while securing transparency by the shape and orientation of the conductive substance although it is colored by forming the film.

ここで、一般的に導電性物質は導電特性を発現する自由電子が多いため、特に可視光波長域から生じるプラズマ共鳴振動吸収により着色していることが多い。このため、例えば粒子状の導電性物質を含有させる場合には、粒径をナノオーダーまで小さくすることによって、可視域で透明性を確保するようにしている。しかしながら、粒径を小さくすると表面積が増大するために、導電性物質の粒子間の凝集が起こり易くなる。これを防ぐために分散剤で粒子の表面を修飾するなどの必要があるが、この分散剤が透明導電膜の導電性の妨げとなる。この場合、導電性物質の添加量を増やすことで導電性を上げることは可能であるが、逆に透明性は低下することになり、従って透明性と導電性を両立させることが困難になる。   Here, since a conductive substance generally has a large number of free electrons that exhibit conductive characteristics, it is often colored by plasma resonance vibration absorption generated particularly from the visible light wavelength region. For this reason, for example, when a particulate conductive material is contained, transparency is ensured in the visible range by reducing the particle size to the nano order. However, when the particle size is reduced, the surface area is increased, so that aggregation between particles of the conductive material is likely to occur. In order to prevent this, it is necessary to modify the surface of the particles with a dispersant, but this dispersant hinders the conductivity of the transparent conductive film. In this case, it is possible to increase the conductivity by increasing the addition amount of the conductive substance, but conversely, the transparency is lowered, and therefore it is difficult to achieve both transparency and conductivity.

このような透明性と導電性のトレードオフを解決する手法の一つに、導電性物質の形状を粒子状からファイバー状に変更し、導電性物質の接触確率を高めて、導電性物質の配合量を低減する方法がある。   One way to solve this trade-off between transparency and conductivity is to change the shape of the conductive material from particle to fiber, increase the contact probability of the conductive material, and mix the conductive material. There are ways to reduce the amount.

特に近年では、カーボンナノファイバーやカーボンナノチューブといった材料を用いて透明導電膜を形成する手法が報告されており、例えば特許文献1にみられるように、気相法炭素繊維を用いて透明導電膜を形成する例がある。しかし、カーボン系の材料は比抵抗が50S/cm程度であるため、高い導電性が必要とされる透明電極への適用は、現在では困難である。   Particularly in recent years, a method for forming a transparent conductive film using a material such as carbon nanofiber or carbon nanotube has been reported. For example, as shown in Patent Document 1, a transparent conductive film is formed using vapor grown carbon fiber. There is an example of forming. However, since the carbon-based material has a specific resistance of about 50 S / cm, it is currently difficult to apply it to a transparent electrode that requires high conductivity.

一方、特許文献2では、金属ナノワイヤを用いて透明導電膜を形成することが提案されている。金属ナノワイヤの導電性はその金属に由来し、例えば銀の場合には10−7Ω・cmと非常に優れた導電性を有しているので、透明電極に適用することが可能である。 On the other hand, Patent Document 2 proposes forming a transparent conductive film using metal nanowires. The conductivity of the metal nanowire is derived from the metal. For example, in the case of silver, it has a very excellent conductivity of 10 −7 Ω · cm, so that it can be applied to a transparent electrode.

ここで、金属ナノワイヤ3を含有する透明導電膜2を形成する方法の一つとして、金属ナノワイヤ3を分散した樹脂溶液を透明基材1の表面に塗布して成膜する方法があり、図2に示すように、透明導電膜2は膜を形成するマトリクス樹脂5中に金属ナノワイヤ3が含有されたものとして形成されている。そして金属ナノワイヤ3同士が接触していることによって、透明導電膜2に導電性が付与されるものである。   Here, as one method of forming the transparent conductive film 2 containing the metal nanowire 3, there is a method of forming a film by applying a resin solution in which the metal nanowire 3 is dispersed on the surface of the transparent substrate 1, FIG. As shown in FIG. 2, the transparent conductive film 2 is formed as a material in which a metal nanowire 3 is contained in a matrix resin 5 that forms a film. And the electroconductivity is provided to the transparent conductive film 2 by the metal nanowires 3 being in contact with each other.

このようにマトリクス樹脂5中に金属ナノワイヤ3を含有して形成される透明導電膜2にあって、透明導電膜2の導電性を高めるには、金属ナノワイヤ3の含有量を増やす必要がある。しかし金属ナノワイヤ3の含有量を増やすと透明導電膜2のヘイズが高くなって、光の透過率が低下することになり、透明導電膜2としての品質が損なわれるおそれがあるという問題があった。   Thus, in the transparent conductive film 2 formed by including the metal nanowire 3 in the matrix resin 5, it is necessary to increase the content of the metal nanowire 3 in order to increase the conductivity of the transparent conductive film 2. However, when the content of the metal nanowire 3 is increased, the haze of the transparent conductive film 2 is increased, the light transmittance is decreased, and the quality as the transparent conductive film 2 may be impaired. .

特開2002−266170号公報JP 2002-266170 A 特表2009−505358号公報Special table 2009-505358

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、金属ナノワイヤの含有量を増やす必要なく、光の透過率を確保しつつ、導電性を高めた透明導電膜を備える透明導電膜付き基材を提供することを目的とするものである。   This invention is made | formed in view of said point, The base material with a transparent conductive film provided with the transparent conductive film which improved the electroconductivity, ensuring the light transmittance, without having to increase content of metal nanowire Is intended to provide.

本発明に係る透明導電膜付き基材は、マトリクス樹脂中に金属ナノワイヤを含有して形成される透明導電膜を透明基材の表面に備えた透明導電膜付き基材であって、透明導電膜のマトリクス樹脂中には、マトリクス樹脂との屈折率の差が±0.03以内であり、かつ透明導電膜の膜厚の0.5〜1.2倍の粒子径を有する透光性粒子を含有して成ることを特徴とするものである。   The substrate with a transparent conductive film according to the present invention is a substrate with a transparent conductive film provided on the surface of the transparent substrate with a transparent conductive film formed by containing metal nanowires in a matrix resin, the transparent conductive film In the matrix resin, translucent particles having a refractive index difference of ± 0.03 or less and 0.5 to 1.2 times the film thickness of the transparent conductive film are included in the matrix resin. It is characterized by comprising.

このようにマトリクス樹脂中に透光性粒子が含有されていることによって、マトリクス樹脂中の金属ナノワイヤの存在領域を透光性粒子で制限することができ、金属ナノワイヤの接触確率が高くなって、金属ナノワイヤ同士の接点を多く確保することができるものであり、金属ナノワイヤの含有量を多くする必要なく、透明導電膜の導電性を高めることができるものである。従って、金属ナノワイヤの含有量を多くする場合のような、透明導電膜のヘイズが高くなって透過率が低下するようなことがないものである。また透光性粒子はマトリクス樹脂との屈折率の差が±0.03以内であるため、マトリクス樹脂中に含有される透光性粒子によって透明導電膜のヘイズが高くなることがなく、透明導電膜の透過率を低下させることはないものである。   Thus, by containing translucent particles in the matrix resin, the presence region of the metal nanowires in the matrix resin can be limited by the translucent particles, and the contact probability of the metal nanowires is increased. A large number of contact points between the metal nanowires can be secured, and the conductivity of the transparent conductive film can be increased without increasing the content of the metal nanowires. Therefore, the haze of the transparent conductive film is not increased and the transmittance is not decreased as in the case where the content of the metal nanowire is increased. In addition, since the translucent particles have a refractive index difference within ± 0.03 with the matrix resin, the translucent particles contained in the matrix resin do not increase the haze of the transparent conductive film. It does not reduce the permeability of the membrane.

また本発明は、透光性粒子の粒子径(D)と金属ナノワイヤの長さ(L)の比が、0.005≦D/L<1であることを特徴とするものである。   The present invention is also characterized in that the ratio of the particle diameter (D) of the translucent particles to the length (L) of the metal nanowires is 0.005 ≦ D / L <1.

透光性粒子の粒子径(D)と金属ナノワイヤの長さ(L)の比をこの範囲に設定することによって、マトリクス樹脂中の金属ナノワイヤの存在領域を透光性粒子で制限して、金属ナノワイヤの接触確率を高める効果を良好に得ることができるものである。   By setting the ratio of the particle diameter (D) of the translucent particles to the length (L) of the metal nanowires within this range, the region where the metal nanowires are present in the matrix resin is limited by the translucent particles. The effect of increasing the contact probability of the nanowire can be obtained satisfactorily.

また本発明は、透明導電膜中のマトリクス樹脂と透光性粒子の体積比率が、マトリクス樹脂/透光性粒子≦5であることを特徴とするものである。   The present invention is also characterized in that the volume ratio of the matrix resin and the translucent particles in the transparent conductive film is matrix resin / translucent particles ≦ 5.

マトリクス樹脂と透光性粒子の体積比率をこの範囲に設定することによって、マトリクス樹脂中の金属ナノワイヤの存在領域を透光性粒子で制限して、金属ナノワイヤの接触確率を高める効果を良好に得ることができるものである。   By setting the volume ratio of the matrix resin and the translucent particles within this range, the presence region of the metal nanowires in the matrix resin is limited by the translucent particles, and the effect of increasing the contact probability of the metal nanowires is obtained favorably. It is something that can be done.

本発明によれば、透明導電膜の膜厚の0.5〜1.2倍の粒子径を有する透光性粒子がマトリクス樹脂中に含有されていることによって、マトリクス樹脂中の金属ナノワイヤの存在領域を透光性粒子で制限することができ、金属ナノワイヤの接触確率が高くなって、金属ナノワイヤ同士の接点を多く確保することができるものであり、金属ナノワイヤの含有量を多くして透明性を低下させることなく、透明導電膜の導電性を高めることができるものである。また透光性粒子はマトリクス樹脂との屈折率の差が0.03以内であるため、マトリクス樹脂中に含有される透光性粒子によって透明導電膜のヘイズが高くなることがなく、透明導電膜の透過率を低下させることはないものである。   According to the present invention, translucent particles having a particle diameter of 0.5 to 1.2 times the film thickness of the transparent conductive film are contained in the matrix resin, so that the presence of metal nanowires in the matrix resin is present. The region can be limited by translucent particles, the contact probability of metal nanowires is increased, and many contact points between metal nanowires can be secured, and transparency is increased by increasing the content of metal nanowires. The conductivity of the transparent conductive film can be increased without lowering the thickness. In addition, since the translucent particles have a refractive index difference with the matrix resin of 0.03 or less, the translucent particles contained in the matrix resin do not increase the haze of the transparent electroconductive film. This does not decrease the transmittance.

本発明の実施の形態の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of embodiment of this invention. 従来例を示す概略図である。It is the schematic which shows a prior art example.

以下、本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

本発明において金属ナノワイヤとしては任意のものを用いることができるものであり、また金属ナノワイヤの製造手段には特に制限は無く、例えば、液相法や気相法などの公知の手段を用いることができる。具体的な製造方法にも特に制限は無く、公知の製造方法を用いることができる。例えば、Agナノワイヤの製造方法として、Adv.Mater.2002,14,P833〜837や、Chem.Mater.2002,14,P4736〜4745、前記の特許文献2等を、Auナノワイヤの製造方法として、特開2006−233252号公報等を、Cuナノワイヤの製造方法として、特開2002−266007号公報等を、Coナノワイヤの製造方法として、特開2004−149871号公報等を挙げることができる。特に、上記のAdv.Mater.及びChem.Mater.で報告されたAgナノワイヤの製造方法は、水系で簡便にかつ大量にAgナノワイヤを製造することができ、また銀の導電率は金属中で最大であることから、本発明で用いる金属ナノワイヤの製造方法として好ましく適用することができる。   In the present invention, any metal nanowire can be used, and the means for producing the metal nanowire is not particularly limited. For example, a known means such as a liquid phase method or a gas phase method can be used. it can. There is no restriction | limiting in particular also in a specific manufacturing method, A well-known manufacturing method can be used. For example, as a method for producing Ag nanowires, Adv. Mater. 2002, 14, P833-837, Chem. Mater. 2002, 14, P4736-4745, the above-mentioned Patent Document 2 and the like, as a method for producing Au nanowires, JP 2006-233252A and the like, as a method for producing Cu nanowires, JP 2002-266007 A and the like, As a method for producing Co nanowires, JP-A No. 2004-148771 can be cited. In particular, the above Adv. Mater. And Chem. Mater. The method for producing Ag nanowires reported in 1) can produce Ag nanowires easily and in large quantities in an aqueous system, and since the conductivity of silver is the largest among metals, production of metal nanowires used in the present invention It can be preferably applied as a method.

本発明において金属ナノワイヤの平均直径は、透明性の観点から200nm以下であることが好ましく、導電性の観点から10nm以上であることが好ましい。平均直径が200nm以下であれば光透過率の低下を抑えることができるため好ましい。一方で、平均直径が10nm以上であれば導電体としての機能を有意に発現でき、平均直径がより大きい方が導電性が向上するため好ましい。従って平均直径は、より好ましくは20〜150nmであり、40〜150nmであることが更に好ましい。また金属ナノワイヤの平均長さは、導電性の観点から1μm以上であることが好ましく、凝集による透明性への影響から100μm以下であることが好ましい。より好ましくは1〜50μmであり、3〜50μmであることが更に好ましい。金属ナノワイヤの平均直径及び平均長さは、SEMやTEMを用いて十分な数のナノワイヤについて電子顕微鏡写真を撮影し、個々の金属ナノワイヤ像の計測値の算術平均から求めることができる。金属ナノワイヤの長さは、本来直線状に伸ばした状態で求めるべきであるが、現実には屈曲している場合が多いため、電子顕微鏡写真から画像解析装置を用いて金属ナノワイヤの投影径及び投影面積を算出し、円柱体を仮定して算出する(長さ=投影面積/投影径)ものとする。計測対象の金属ナノワイヤ数は、少なくとも100個以上が好ましく、300個以上の金属ナノワイヤを計測するのが更に好ましい。   In the present invention, the average diameter of the metal nanowires is preferably 200 nm or less from the viewpoint of transparency, and preferably 10 nm or more from the viewpoint of conductivity. It is preferable that the average diameter is 200 nm or less because a decrease in light transmittance can be suppressed. On the other hand, if the average diameter is 10 nm or more, the function as a conductor can be expressed significantly, and a larger average diameter is preferable because conductivity is improved. Therefore, the average diameter is more preferably 20 to 150 nm, and further preferably 40 to 150 nm. The average length of the metal nanowires is preferably 1 μm or more from the viewpoint of conductivity, and preferably 100 μm or less from the viewpoint of the effect on the transparency due to aggregation. More preferably, it is 1-50 micrometers, and it is still more preferable that it is 3-50 micrometers. The average diameter and the average length of the metal nanowires can be obtained from an arithmetic average of measured values of individual metal nanowire images by taking an electron micrograph of a sufficient number of nanowires using SEM or TEM. The length of the metal nanowire should be obtained in a state where it has been stretched in a straight line, but in reality it is often bent, so the projection diameter and projection of the metal nanowire using an image analyzer from an electron micrograph The area is calculated and calculated assuming a cylindrical body (length = projected area / projected diameter). The number of metal nanowires to be measured is preferably at least 100 or more, and more preferably 300 or more metal nanowires.

上記の金属ナノワイヤは樹脂溶液に分散させて使用されるものであり、後述のようにこの樹脂溶液を透明基材の表面に塗布して、透明導電膜を形成するものである。樹脂溶液において、透明導電膜の膜を形成するためのマトリクス樹脂としては、モノマーやオリゴマーの重合反応によりポリマー化するものが用いられる。   The metal nanowire is used by being dispersed in a resin solution. As described later, this resin solution is applied to the surface of a transparent substrate to form a transparent conductive film. In the resin solution, as a matrix resin for forming a film of the transparent conductive film, one that is polymerized by a polymerization reaction of monomers or oligomers is used.

このようなマトリクス樹脂として、光重合反応または熱重合反応する樹脂を使用する場合、可視光、または紫外線や電子線のような電離放射線の照射により直接または開始剤の作用を受けて重合反応を生じるモノマーあるいはオリゴマーを用いることができ、アクリル基あるいはメタクリル基を有するモノマーあるいはオリゴマーが好適である。中でも架橋させて耐擦傷性、硬度を上げるには多官能性バインダー成分であることが好ましい。   When a resin that undergoes a photopolymerization reaction or a thermal polymerization reaction is used as such a matrix resin, a polymerization reaction is generated directly or by the action of an initiator by irradiation with ionizing radiation such as ultraviolet light or electron beam. Monomers or oligomers can be used, and monomers or oligomers having an acrylic group or a methacryl group are preferred. Among them, a polyfunctional binder component is preferable in order to increase the scratch resistance and hardness by crosslinking.

そして一分子中に一個の官能基をもつものとして、具体的には例えば、イソアミル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシ−ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシ−トリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレートフェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチル−コハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリン等が挙げられる。   As one having one functional group in one molecule, specifically, for example, isoamyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxy-diethylene glycol (meta ) Acrylate, methoxy-triethylene glycol (meth) acrylate, methoxy-polyethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxy-polyethylene glycol (meth) ) Acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, -Hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl-succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalate Acid, isooctyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, Examples include cyclohexyl methacrylate, benzyl (meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine, and the like.

また二個以上の官能基を持つものとして、具体的には例えば、ポリエチレングリコールジアクリレート、グリセリントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられ、更にベンゼン環を有する化合物としては、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート、変性ビスフェノールAジアクリレートエチレングリコールジアクリレート、エチレンオキサイドプロピレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート、プロピレンオキサイドテトラメチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールA−ジエポキシ−アクリル酸付加物、エチレンオキサイド変性ビスフェノールFジアクリレート、ポリエステルアクリレート等の多官能アクリレート類あるいはメタクリレート類が挙げられる。   As those having two or more functional groups, specifically, for example, polyethylene glycol diacrylate, glycerin triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, diester Examples thereof include pentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol hexaacrylate, and the compounds having a benzene ring include ethylene oxide-modified bisphenol A diacrylate, modified bisphenol A diacrylate, ethylene glycol diacrylate, and ethylene oxide propylene oxide-modified bisphenol. A diacrylate, propylene oxide tetramethylene oxide Modified bisphenol A diacrylate, bisphenol A- diepoxy - acrylic acid adduct, ethylene oxide-modified bisphenol F diacrylate, and polyfunctional acrylates or methacrylates such as polyester acrylates.

また、1,2−ビス(メタ)アクリロイルチオエタン、1,3−ビス(メタ)アクリロイルチオプロパン、1,4−ビス(メタ)アクリロイルチオブタン、1,2−ビス(メタ)アクリロイルメチルチオベンゼン、1,3−ビス(メタ)アクリロイルメチルチオベンゼンなどの硫黄含有(メタ)アクリレート類を用いることも高屈折率化に有効である。   1,2-bis (meth) acryloylthioethane, 1,3-bis (meth) acryloylthiopropane, 1,4-bis (meth) acryloylthiobutane, 1,2-bis (meth) acryloylmethylthiobenzene, The use of sulfur-containing (meth) acrylates such as 1,3-bis (meth) acryloylmethylthiobenzene is also effective for increasing the refractive index.

さらに、紫外線や熱による硬化を促進させるため、光または熱重合開始剤を配合してもよい。   Further, a light or thermal polymerization initiator may be blended in order to promote curing by ultraviolet rays or heat.

光重合開始剤としては、一般に市販されているもので構わないが、特に例示すると、ベンゾフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「イルガキュアー651」)、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「イルガキュアー184」)、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「ダロキュアー1173」、ランベルティー社製「エサキュアーKL200」)、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)(ランベルティー社製「エサキュアーKIP150」)、2−ヒドロキシエチル−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「イルガキュアー2959」)、2−メチル−1(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「イルガキュアー907」)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「イルガキュアー369」)、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「イルガキュアー819」)、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「CGI403」)、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(=TMDPO)(BASF社製「ルシリンTPO」、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「ダロキュアーTPO」)、チオキサントンまたはその誘導体などが挙げられ、これらのうち1種、あるいは2種以上混合して用いることができる。   Although what is generally marketed may be used as a photoinitiator, when it illustrates especially, benzophenone, 2, 2- dimethoxy- 1, 2- diphenyl ethane- 1-one (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. product " Irgacure 651 "), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (" Irgacure 184 "manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (Ciba Specialty Chemicals' “Darocur 1173”, Lamberti's “Esacure KL200”), Oligo (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one) (Lamberti's “Esacure KIP150” "), 2-hydroxyethyl-phenyl-2-hydride Xyl-2-methyl-1-propan-1-one (“Irgacure 2959” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 2-methyl-1 (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 -ON ("Irgacure 907" manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. " Irgacure 369 "), bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (" Irgacure 819 "manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4 , 4-Trimethyl-pentylphosphine oxide (Ciba Specialty Chemical) ("CGI403" manufactured by Co., Ltd.), 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (= TMDPO) ("Lucirin TPO" manufactured by BASF AG, "Darocur TPO" manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Thioxanthone or a derivative thereof, and the like can be used, and one or a mixture of two or more of these can be used.

また、光増感作用の目的により第三アミン、例えばトリエタノールアミン、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、イソペンチルメチルアミノベンゾエートなどを添加しても良い。   Further, a tertiary amine such as triethanolamine, ethyl-4-dimethylaminobenzoate, isopentylmethylaminobenzoate or the like may be added for the purpose of photosensitization.

熱による重合開始剤としては、主として過酸化ベンゾイル(=BPO)などの過酸化物、アゾビスイソブチルニトリル(=AIBN)などのアゾ化合物が用いられる。   As a polymerization initiator by heat, a peroxide such as benzoyl peroxide (= BPO) or an azo compound such as azobisisobutylnitrile (= AIBN) is mainly used.

上記の光重合開始剤や熱重合開始剤の配合量は、通常、組成物(樹脂+金属ナノワイヤ)100質量部に対し、0.1〜10質量部程度が好ましい。   The blending amount of the photopolymerization initiator and the thermal polymerization initiator is usually preferably about 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the composition (resin + metal nanowire).

また、エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタニル基等のカチオン重合性官能基を有するモノマーあるいはオリゴマーを用いてもよい。さらに必要に応じて光カチオン開始剤等を組み合わせて用いることもできる。これらは同様に多官能であることが好ましい。   Moreover, you may use the monomer or oligomer which has cationic polymerizable functional groups, such as an epoxy group, a thioepoxy group, and an oxetanyl group. Further, if necessary, a photocationic initiator or the like can be used in combination. These are likewise preferably polyfunctional.

また、熱重合する樹脂については一般的にゾル−ゲル系材料が挙げられ、アルコキシシシラン、アルコキシチタン等のゾル−ゲル系材料が好ましい。これらのなかでもアルコキシシランが好ましい。ゾル−ゲル系材料は、ポリシロキサン構造を形成する。アルコキシシランの具体的は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシラン類、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン等があげられる。これらアルコキシシランはその部分縮合物等として用いることができる。これらのなかでもテトラアルコキシシラン類またはこれらの部分縮合物等が好ましい。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランまたはこれらの部分縮合物が好ましい。   Moreover, about resin to thermally polymerize, a sol-gel type material is mentioned generally, Sol-gel type materials, such as alkoxy silane and alkoxy titanium, are preferable. Of these, alkoxysilane is preferred. The sol-gel material forms a polysiloxane structure. Specific examples of the alkoxysilane include tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, and tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, and methyl. Tributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, isopropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylto Trialkoxysilanes such as ethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, Examples include diethyldimethoxysilane and diethyldiethoxysilane. These alkoxysilanes can be used as a partial condensate thereof. Among these, tetraalkoxysilanes or partial condensates thereof are preferable. In particular, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane or a partial condensate thereof is preferable.

さらに、樹脂溶液のマトリクス樹脂として導電性高分子を用いることもできる。導電性高分子としては、例えば、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリトリフェニルアミン等を例示することができる。   Furthermore, a conductive polymer can also be used as a matrix resin for the resin solution. Examples of the conductive polymer include polyaniline, polypyrrole, polythiophene, polytriphenylamine and the like.

また樹脂溶液のマトリクス樹脂としては、上記した光重合性の樹脂、熱重合性の樹脂、導電性高分子から選ばれる2種類以上のものを併用してもよい。   Further, as the matrix resin of the resin solution, two or more kinds selected from the above-mentioned photopolymerizable resin, thermopolymerizable resin, and conductive polymer may be used in combination.

本発明は、樹脂溶液に金属ナノワイヤの他に、透光性粒子を分散させて使用するものである。透光性粒子は、透明など透光性を有し、且つ上記のマトリクス樹脂との屈折率の差が±0.03以内、すなわち、マトリクス樹脂と透光性粒子の屈折率の差が+0.03〜−0.03の範囲内のものであればよく、特に限定されるものではないが、例えばシリカ、アルミナ、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化セリウム、フッ化アルミニウム、アクリル粒子、スチレン粒子、ウレタン粒子、スチレンアクリル粒子及びその架橋体粒子、メラミン−ホルマリン縮合物の粒子、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)の粒子、PFA(ペルフルオロアルコキシ樹脂)の粒子、FEP(テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体)の粒子、PVDF(ポリフルオロビニリデン)の粒子、ETFE(エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体)等の含フッ素ポリマー粒子、シリコーン樹脂粒子、ガラスビーズ等を挙げることができる。これらは1種を単独で用いる他、2種類以上を混合して使用してもよい。また透光性粒子は中実粒子であってもよく、一つの空洞を外殻が覆う構造を有する中空状粒子や、或いは多孔質粒子であってもよい。さらに透光性粒子の形状は球状であってもよく、異形状であってもよい。   In the present invention, translucent particles are dispersed in a resin solution in addition to metal nanowires. The translucent particles have translucency such as transparency, and the difference in refractive index from the matrix resin is within ± 0.03, that is, the difference in refractive index between the matrix resin and the translucent particles is +0. There is no particular limitation as long as it is within the range of 03 to -0.03. For example, silica, alumina, magnesium fluoride, calcium fluoride, cerium fluoride, aluminum fluoride, acrylic particles, styrene Particles, urethane particles, styrene acrylic particles and crosslinked particles thereof, melamine-formalin condensate particles, PTFE (polytetrafluoroethylene) particles, PFA (perfluoroalkoxy resin) particles, FEP (tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene) Copolymer) particles, PVDF (polyfluorovinylidene) particles, ETFE (ethylene-tet) Fluoropolymer particles of fluoroethylene copolymer) and the like, silicone resin particles include glass beads. These may be used alone or in combination of two or more. The translucent particles may be solid particles, or may be hollow particles having a structure in which one outer shell covers a single cavity, or porous particles. Furthermore, the shape of the translucent particles may be spherical or irregular.

また、透光性粒子は後述する理由により、透明導電膜の膜厚50%以上120%以下、すなわち透明導電膜の膜厚の0.5〜1.2倍の粒子径を有するものが用いられるものである。さらに、透光性粒子の粒子径は後述する理由により、透光性粒子の粒子径をD、金属ナノワイヤの長さ(平均長さ)をLとすると、透光性粒子の粒子径Dと金属ナノワイヤの長さLの比が、0.005≦D/L<1となるように設定するのが好ましい。尚、本発明において透光性粒子の粒子径は、平均粒子径を意味するものであり、またこの平均粒子径は、レーザ回折・散乱法によって測定された値である。   Moreover, the translucent particle | grains which have a particle diameter of 0.5-1.2 times the film thickness of a transparent conductive film 50 to 120%, ie, the film thickness of a transparent conductive film, for the reason mentioned later are used. Is. Further, the particle diameter of the translucent particles is determined by assuming that the particle diameter of the translucent particles is D and the length (average length) of the metal nanowires is L for the reasons described later. The ratio of the length L of the nanowires is preferably set so that 0.005 ≦ D / L <1. In the present invention, the particle diameter of the translucent particles means an average particle diameter, and the average particle diameter is a value measured by a laser diffraction / scattering method.

樹脂溶液への金属ナノワイヤの配合量は、後述のように透明導電膜を形成した際に、透明導電膜中に金属ナノワイヤが0.01〜90質量%含有されるように調整して設定するのが好ましい。金属ナノワイヤの含有量は0.1〜30質量%がより好ましく、さらに好ましくは0.5〜10質量%である。   The compounding amount of the metal nanowires in the resin solution is adjusted and set so that 0.01 to 90% by mass of the metal nanowires are contained in the transparent conductive film when the transparent conductive film is formed as described later. Is preferred. As for content of metal nanowire, 0.1-30 mass% is more preferable, More preferably, it is 0.5-10 mass%.

また樹脂溶液への透光性粒子の配合量は後述する理由により、後述のように透明導電膜を形成した際に、透明導電膜中のマトリクス樹脂と透光性粒子の体積比率が、マトリクス樹脂/透光性粒子≦5となるように、設定するのが好ましい。   In addition, the amount of translucent particles added to the resin solution is that the volume ratio of the matrix resin to the translucent particles in the transparent conductive film is the matrix resin when the transparent conductive film is formed as described later for the reason described later. / It is preferable to set so that translucent particles ≦ 5.

ここで、樹脂溶液には、樹脂固形分、金属ナノワイヤ、透光性粒子など固形成分を溶解乃至分散するための溶剤が含有されることが必須であるが、溶剤の種類は特に限定されるものではない。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、あるいはこれらの混合物を用いることができる。これらの中でも、ケトン系の有機溶剤を用いるのが好ましく、ケトン系溶剤を用いて樹脂溶液を調製すると、透明基材の表面に容易に均一に塗布することができ、かつ、塗工後において溶剤の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いので、均一な厚さの大面積の透明導電膜を容易に得ることができるものある。また、溶剤としては上記の有機溶剤の他に、水を用いる場合もあり、有機溶剤と水を組み合わせて用いる場合もある。溶剤の量は、上記の各固形成分を均一に溶解、分散することができ、樹脂溶液を調製した後の保存時に凝集を来たさず、かつ、塗工時に希薄すぎない濃度となるように適宜調節するものである。この条件が満たされる範囲内で溶剤の使用量を少なくして高濃度の樹脂溶液を調製し、容量をとらない状態で保存し、使用時に必要分を取り出して塗工作業に適した濃度に溶剤で希釈するのが好ましい。固形分と溶剤の合計量を100質量部とした時に、全固形分0.1〜50質量部に対して、溶剤の量を50〜99.9質量部に設定するのが好ましく、さらに好ましくは、全固形分0.5〜30重量部に対して、溶剤を70〜99.5質量部の割合で用いることにより、特に分散安定性に優れ、長期保存に適した樹脂溶液を得ることができる。用いる樹脂と溶剤の組み合わせについては、特に規定されるものではないが、配合する樹脂が溶解しやすい溶剤を用いるほうが好ましい。また塗工する透明基材によっては、用いる溶剤によって溶解が発生する場合もあるので、予め透明基材への溶解性を確認したうえで適切な溶剤組成を設計することが望ましい。   Here, it is essential that the resin solution contains a solvent for dissolving or dispersing solid components such as resin solids, metal nanowires, and translucent particles, but the type of solvent is particularly limited. is not. For example, alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; halogenated hydrocarbons; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene Or mixtures thereof can be used. Among these, it is preferable to use a ketone-based organic solvent. When a resin solution is prepared using a ketone-based solvent, it can be easily and uniformly applied to the surface of the transparent substrate, and the solvent after coating. Since the evaporation rate is moderate and hardly causes uneven drying, a transparent conductive film having a uniform thickness and a large area can be easily obtained. In addition to the above organic solvent, water may be used as the solvent, or an organic solvent and water may be used in combination. The amount of the solvent can uniformly dissolve and disperse each of the above solid components so that the concentration does not cause aggregation during storage after preparing the resin solution and is not too dilute during coating. Adjust as appropriate. Prepare a high-concentration resin solution by reducing the amount of solvent used within the range that satisfies this condition, store it in a state that does not take up the volume, take out the necessary amount at the time of use, and adjust the solvent to a concentration suitable for coating work. It is preferable to dilute with. When the total amount of the solid content and the solvent is 100 parts by mass, the amount of the solvent is preferably set to 50 to 99.9 parts by mass with respect to 0.1 to 50 parts by mass of the total solids, and more preferably By using 70 to 99.5 parts by mass of the solvent with respect to 0.5 to 30 parts by weight of the total solid content, a resin solution that is particularly excellent in dispersion stability and suitable for long-term storage can be obtained. . The combination of the resin and the solvent to be used is not particularly defined, but it is preferable to use a solvent in which the compounded resin is easily dissolved. Further, depending on the transparent substrate to be coated, dissolution may occur depending on the solvent used. Therefore, it is desirable to design an appropriate solvent composition after confirming the solubility in the transparent substrate in advance.

一方、本発明で用いる透明基材において、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。透明基材の形状としては、例えば平板状、シート状、フィルム状などが挙げられ、また構造としては、例えば単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、適宜選択することができる。透明基材の材料についても特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれであっても好適に用いることができる。透明基材を形成する無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコンなどが挙げられる。また有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)等のアセテート系樹脂;ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステル系樹脂;ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   On the other hand, the shape, structure, size and the like of the transparent substrate used in the present invention are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Examples of the shape of the transparent substrate include a flat plate shape, a sheet shape, and a film shape, and the structure may be, for example, a single layer structure or a laminated structure, and may be appropriately selected. Can do. There is no restriction | limiting in particular also about the material of a transparent base material, Any of an inorganic material and an organic material can be used suitably. Examples of the inorganic material forming the transparent substrate include glass, quartz, and silicon. Examples of organic materials include acetate resins such as triacetyl cellulose (TAC); polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET); polyethersulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, and polyimides. Resin, polyolefin resin, acrylic resin, polynorbornene resin, cellulose resin, polyarylate resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyacrylic resin Etc. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

また本発明において透明基材としては、上記のような基材単体のものであってもよいが、基材の表面に一層ないし複数層のハードコート層が形成されたものであってもよい。このように透明基材がハードコート層を備える場合、透明導電膜はハードコート層の上に形成されるものである。   Further, in the present invention, the transparent substrate may be a single substrate as described above, but may be one in which one or a plurality of hard coat layers are formed on the surface of the substrate. Thus, when a transparent base material is provided with a hard-coat layer, a transparent conductive film is formed on a hard-coat layer.

本発明において、透明導電膜と透明基材の間で屈折率が問題になるのは、透明基材のうち透明導電膜との接触界面部である。従って本発明において透明基材の屈折率とは、透明基材が基材単体のものであれば、透明基材自体の屈折率をいうものであり、透明基材が表面にハードコート層を有するものであれば、ハードコート層の屈折率をいうものである。   In this invention, it is a contact interface part with a transparent conductive film among transparent substrates that a refractive index becomes a problem between a transparent conductive film and a transparent base material. Therefore, in the present invention, the refractive index of the transparent substrate means the refractive index of the transparent substrate itself if the transparent substrate is a single substrate, and the transparent substrate has a hard coat layer on the surface. If it is, it means the refractive index of the hard coat layer.

ハードコート層は、例えば、反応性硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂と電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方を含むハードコートコーティング材を用いて形成することができる。   The hard coat layer can be formed using, for example, a reactive curable resin, that is, a hard coat coating material containing at least one of a thermosetting resin and an ionizing radiation curable resin.

前記熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を使用することができ、これらの熱硬化性樹脂に必要に応じて架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤を加えて使用することもできる。   As the thermosetting resin, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, silicon resin, polysiloxane resin, etc. can be used. A crosslinking agent, a polymerization initiator, a curing agent, a curing accelerator, and a solvent can be added to these thermosetting resins as necessary.

また、前記電離放射線硬化型樹脂としては、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマー、プレポリマー、及び反応性希釈剤としてエチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等を比較的多量に含有するものを使用することができる。さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開始剤を配合することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などを例示することができる。また、光重合開始剤に加えて光増感剤を用いてもよい。光増感剤としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、チオキサントンなどを例示することができる。   The ionizing radiation curable resin preferably has an acrylate functional group, for example, a relatively low molecular weight polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiro resin. Acetal resin, polybutadiene resin, polythiol polyene resin, oligomers such as (meth) acrylates of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohol, prepolymers, and reactive diluents such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, Monofunctional monomers such as methylstyrene and N-vinylpyrrolidone, as well as polyfunctional monomers such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate , Diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, etc. Can be used. Furthermore, in order to make the ionizing radiation curable resin into an ultraviolet curable resin, it is preferable to incorporate a photopolymerization initiator therein. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, thioxanthones, and the like. In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone.

また、ハードコートコーティング材中に高屈折率粒子、すなわち高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子を添加することで、ハードコート層に高屈折率粒子を含有させて屈折率を調整しても良い。高屈折率粒子は屈折率が1.6以上で粒径が0.5〜200nmのものが好ましい。高屈折率粒子の配合量はハードコート層に対して例えば5〜70体積%の範囲となるように調整される。前記高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子としては、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる一つあるいは二つ以上の酸化物の粒子が挙げられ、具体的には、例えば、ZnO(屈折率1.90)、TiO(屈折率2.3〜2.7)、CeO(屈折率1.95)、Sb(屈折率1.71)、SnO、ITO(屈折率1.95)、Y(屈折率1.87)、La(屈折率1.95)、ZrO(屈折率2.05)、Al(屈折率1.63)等の微粉末が挙げられる。 In addition, by adding high refractive index particles, that is, ultrafine particles of high refractive index metal or metal oxide, to the hard coat coating material, the refractive index is adjusted by adding high refractive index particles to the hard coat layer. Also good. The high refractive index particles preferably have a refractive index of 1.6 or more and a particle size of 0.5 to 200 nm. The compounding quantity of high refractive index particle | grains is adjusted so that it may become the range of 5-70 volume% with respect to a hard-coat layer. Examples of the ultrafine particles of the high refractive index metal or metal oxide include one or more oxide particles selected from titanium, aluminum, cerium, yttrium, zirconium, niobium, and antimony. Are, for example, ZnO (refractive index 1.90), TiO 2 (refractive index 2.3 to 2.7), CeO 2 (refractive index 1.95), Sb 2 O 5 (refractive index 1.71), SnO. 2 , ITO (refractive index 1.95), Y 2 O 3 (refractive index 1.87), La 2 O 3 (refractive index 1.95), ZrO 2 (refractive index 2.05), Al 2 O 3 ( Examples thereof include fine powder having a refractive index of 1.63).

このようなハードコートコーティング材を基材に重ねて塗布し、必要に応じて乾燥した後、熱硬化性樹脂を含むハードコートコーティング材の場合は加熱し、電離線硬化性樹脂を含むハードコートコーティング材の場合は紫外線等の電離線を照射するなどして硬化成膜することで、ハードコート層が形成される。塗布方法は特に制限されず、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の各種方法が採用される。   After applying such a hard coat coating material on the base material and drying it as necessary, in the case of a hard coat coating material containing a thermosetting resin, it is heated and a hard coat coating containing an ionizing ray curable resin is applied. In the case of a material, a hard coat layer is formed by forming a cured film by irradiating ionizing rays such as ultraviolet rays. The coating method is not particularly limited, and various methods such as spin coating method, dip method, spray method, slide coating method, bar coating method, roll coater method, meniscus coater method, flexographic printing method, screen printing method, and bead coater method are available. Adopted.

このハードコート層の屈折率は1.54〜1.90の範囲であることが好ましい。この屈折率が1.54より小さくなると特に反射防止用途の光学部材においては十分な反射防止効果が得られなくなるおそれがあり、またこの屈折率が1.90より大きくなるとハードコート層の高屈折率化のために高屈折率粒子を多く添加することとなって、耐摩耗性等の実用性が低下するおそれがある。   The refractive index of this hard coat layer is preferably in the range of 1.54 to 1.90. If this refractive index is less than 1.54, there is a risk that a sufficient antireflection effect may not be obtained particularly in an optical member for antireflection use. If this refractive index is greater than 1.90, the high refractive index of the hard coat layer may be lost. For this reason, a large amount of high refractive index particles is added to reduce the practicality such as wear resistance.

そして透明基材1の表面に、上記の金属ナノワイヤ3と、透光性粒子4とを配合した樹脂溶液を塗布して乾燥・硬化させることによって、図1のように透明導電膜2を形成することができるものである。このように形成される透明導電膜2中には図1のように、透明なマトリクス樹脂5内に金属ナノワイヤ3や、透光性粒子4がほぼ均一に分散した状態で含有されている。樹脂溶液の塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。   And the transparent conductive film 2 is formed like FIG. 1 by apply | coating the resin solution which mix | blended said metal nanowire 3 and the translucent particle | grains 4 on the surface of the transparent base material 1, and making it dry and harden | cure. It is something that can be done. In the transparent conductive film 2 formed in this way, as shown in FIG. 1, the metal nanowires 3 and the translucent particles 4 are contained in a transparent matrix resin 5 in a substantially uniformly dispersed state. Examples of the resin solution coating method include spin coating, casting, roll coating, flow coating, printing, dip coating, casting film formation, bar coating, and gravure printing.

このように形成される透明導電膜2は、膜のマトリクス樹脂5中に含有される金属ナノワイヤ3同士が接触しあうことによって導電性を発現するものである。ここで、透明導電膜2のマトリクス樹脂5中には透光性粒子4が含有されている。このため、例えば同じ厚みで透明導電膜2を形成する場合、マトリクス樹脂5中に透光性粒子4が含有されていると、透明導電膜2に占める透光性粒子4の体積ぶん、マトリクス樹脂5の体積が少なくなる(図1と図2の対比を参照)。このように、マトリクス樹脂5の体積が減少すると、マトリクス樹脂5中に金属ナノワイヤ3が存在できる領域が制限されることになり、すなわち金属ナノワイヤ3は集中して密度高く存在することになって、金属ナノワイヤ3同士が接触する確率が高くなり、金属ナノワイヤ3同士の接点を多く確保することができるものである。従って、金属ナノワイヤ3の含有量を多くする必要なく、金属ナノワイヤ3の接点の確保で透明導電膜2の導電性を高めることができるものである。そしてこのように、透明導電膜2の導電性を高めるにあたって金属ナノワイヤ3の含有量を多くする必要がないので、金属ナノワイヤ3の含有量を多くする場合のように、透明導電膜2のヘイズが高くなることがなく、透明導電膜2の透過率を高く維持することができるものである。   The transparent conductive film 2 formed in this way exhibits conductivity when the metal nanowires 3 contained in the matrix resin 5 of the film come into contact with each other. Here, the translucent particles 4 are contained in the matrix resin 5 of the transparent conductive film 2. Therefore, for example, when forming the transparent conductive film 2 with the same thickness, if the translucent particles 4 are contained in the matrix resin 5, the volume of the translucent particles 4 in the transparent conductive film 2, the matrix resin The volume of 5 is reduced (see the contrast between FIG. 1 and FIG. 2). Thus, when the volume of the matrix resin 5 decreases, the region where the metal nanowires 3 can exist in the matrix resin 5 is limited, that is, the metal nanowires 3 are concentrated and exist in a high density. The probability that the metal nanowires 3 come into contact with each other is increased, and many contacts between the metal nanowires 3 can be secured. Therefore, it is possible to increase the conductivity of the transparent conductive film 2 by securing the contact of the metal nanowire 3 without increasing the content of the metal nanowire 3. Thus, since it is not necessary to increase the content of the metal nanowire 3 in order to increase the conductivity of the transparent conductive film 2, the haze of the transparent conductive film 2 is increased as in the case where the content of the metal nanowire 3 is increased. The transmittance of the transparent conductive film 2 can be kept high without increasing.

ここで、透光性粒子4の粒子径は上記のように、透明導電膜2の膜厚の0.5〜1.2倍のものが用いられるものである。透光性粒子4の粒子径が透明導電膜2の膜厚の0.5倍未満であると、透光性粒子4を透明導電膜2のマトリクス樹脂5中に含有させることによる導電性向上の効果を十分に得ることができない。また透光性粒子4の粒子径が透明導電膜2の膜厚の1.2倍を超えると、透光性粒子4が透明導電膜2の表面から大きく突出して、透明導電膜2の表面の平滑性が損なわれることになり、また粒子径が膜厚に対して大き過ぎると却って金属ナノワイヤ同士の接点を確保できなくなって、導電性が低下するおそれがある。   Here, the particle diameter of the translucent particles 4 is 0.5 to 1.2 times the film thickness of the transparent conductive film 2 as described above. When the particle diameter of the translucent particles 4 is less than 0.5 times the film thickness of the transparent conductive film 2, the conductivity is improved by including the translucent particles 4 in the matrix resin 5 of the transparent conductive film 2. The effect cannot be obtained sufficiently. Moreover, when the particle diameter of the translucent particle 4 exceeds 1.2 times the film thickness of the transparent conductive film 2, the translucent particle 4 greatly protrudes from the surface of the transparent conductive film 2, and the surface of the transparent conductive film 2 is exposed. The smoothness will be impaired, and if the particle diameter is too large with respect to the film thickness, the contact between the metal nanowires cannot be secured, and the conductivity may be lowered.

また透光性粒子4の粒子径は上記のように、透光性粒子4の粒子径をD、金属ナノワイヤの長さ(平均長さ)をLとすると、透光性粒子4の粒子径Dと金属ナノワイヤ3の長さLの比が、0.005≦D/L<1となるものが使用されるものである。すなわち透光性粒子4として、金属ナノワイヤ3の長さ寸法よりも小さい粒径で且つ、金属ナノワイヤ3の長さの1/200以上の大きさの粒子径を有するものを用いるものである。透光性粒子4の粒径がこの範囲より大きい場合も、小さい場合もいずれも、マトリクス樹脂5中で金属ナノワイヤ3が存在する領域を透光性粒子4によって制限する作用が不十分になり、透明導電膜2の導電性を高める効果を十分に得ることができない。   Further, as described above, the particle diameter of the translucent particles 4 is as follows. When the particle diameter of the translucent particles 4 is D and the length (average length) of the metal nanowires is L, the particle diameter D of the translucent particles 4 is as follows. And the ratio of the length L of the metal nanowire 3 is 0.005 ≦ D / L <1. That is, as the translucent particle 4, a particle having a particle size smaller than the length of the metal nanowire 3 and a particle size larger than 1/200 of the length of the metal nanowire 3 is used. In both cases where the particle size of the translucent particle 4 is larger or smaller than this range, the function of limiting the region where the metal nanowire 3 exists in the matrix resin 5 by the translucent particle 4 becomes insufficient. The effect of increasing the conductivity of the transparent conductive film 2 cannot be sufficiently obtained.

また、透明導電膜2中の透光性粒子4の含有量は上記のように、透明導電膜2中のマトリクス樹脂5と透光性粒子4の体積比率が、マトリクス樹脂/透光性粒子≦5となるように設定されるものである。すなわち、透光性粒子4がマトリクス樹脂5の1/5以上の体積比率となるように設定されるものである。透光性粒子4の含有量がこれより少ないと、マトリクス樹脂5中で金属ナノワイヤ3が存在する領域を透光性粒子4によって制限する作用が不十分になり、透明導電膜2の導電性を高める効果を十分に得ることができない。透明樹脂4の含有量の上限は特に設定されるものではないが、実用上、マトリクス樹脂/透光性粒子≧0.1である。従って、マトリクス樹脂5と透光性粒子4の体積比率は、0.1≦マトリクス樹脂/透光性粒子≦5の範囲が好ましい。   In addition, as described above, the content of the translucent particles 4 in the transparent conductive film 2 is such that the volume ratio of the matrix resin 5 and the translucent particles 4 in the transparent conductive film 2 is matrix resin / translucent particles ≦ It is set to be 5. That is, the translucent particles 4 are set to have a volume ratio of 1/5 or more of the matrix resin 5. If the content of the translucent particles 4 is less than this, the function of limiting the region where the metal nanowires 3 are present in the matrix resin 5 by the translucent particles 4 becomes insufficient, and the conductivity of the transparent conductive film 2 is reduced. The effect of enhancing cannot be obtained sufficiently. The upper limit of the content of the transparent resin 4 is not particularly set, but is practically matrix resin / translucent particle ≧ 0.1. Therefore, the volume ratio between the matrix resin 5 and the translucent particles 4 is preferably in the range of 0.1 ≦ matrix resin / translucent particles ≦ 5.

そして、上記のように透明導電膜2のマトリクス樹脂5中に透光性粒子4を含有させることによって透明導電膜2の導電性を高めるにあたって、透光性粒子4としてマトリクス樹脂5との屈折率の差が±0.03以内のものを用いているため、マトリクス樹脂5中に含有される透光性粒子4によって透明導電膜2のヘイズが高くなることがなく、透明導電膜2の透過率を透光性粒子4で低下させるようなことはないものである。透光性粒子4とマトリクス樹脂5との屈折率の差が±0.03を超える場合、マトリクス樹脂5と透光性粒子4の界面で光が散乱し易くなり、透明導電膜2のヘイズが高くなって透過率が低下するおそれがある。   When the translucent particles 4 are contained in the matrix resin 5 of the transparent conductive film 2 to increase the conductivity of the transparent conductive film 2 as described above, the refractive index of the matrix resin 5 as the translucent particles 4 is increased. Therefore, the transparent conductive film 2 does not increase in haze due to the light-transmitting particles 4 contained in the matrix resin 5, and the transmittance of the transparent conductive film 2 is increased. Is not reduced by the translucent particles 4. When the difference in refractive index between the translucent particles 4 and the matrix resin 5 exceeds ± 0.03, light is easily scattered at the interface between the matrix resin 5 and the translucent particles 4, and the haze of the transparent conductive film 2 is increased. There is a risk that the transmittance will be lowered.

尚、透明導電膜2の表面には、透明導電膜2の表面抵抗を増大させない範囲で、表面平滑層を形成してもよい。   In addition, you may form a surface smooth layer in the range which does not increase the surface resistance of the transparent conductive film 2 on the surface of the transparent conductive film 2.

上記のようにして得られる本発明に係る透明導電膜付き基板の用途は、特に制限されるものではないが、有機EL素子、透明配線、光電変換素子、電磁波シールド、タッチパネル、電子ペーパー等に適用することができるものである。   The use of the substrate with a transparent conductive film according to the present invention obtained as described above is not particularly limited, but is applicable to organic EL elements, transparent wiring, photoelectric conversion elements, electromagnetic wave shields, touch panels, electronic papers, and the like. Is something that can be done.

次に、本発明を実施例によって具体的に説明する。   Next, the present invention will be specifically described with reference to examples.

(実施例1)
光硬化性アクリル樹脂(新中村化学社製「A−DPH」:屈折率1.49)10.00質量部と、透光性粒子としてアクリル樹脂粒子(綜研化学社製:粒径300nm、屈折率1.49)4.55質量部を、メチルエチルケトン34.87質量部とメチルイソブチルケトン34.86質量部の混合溶媒に混合し、光硬化性アクリル樹脂を溶解させて、混合物Aを調製した。また金属ナノワイヤとして銀ナノワイヤを用いた。この銀ナノワイヤは、公知論文「Materials Chemistry and Physics vol.114 p333-338 “Preparation ofAg nanorods with high yield by polyol process”」に準じて作製したものであり、平均直径150nm、平均長さ5μmである。この金属ナノワイヤをメチルエチルケトンに3.0質量%の量で分散させて混合物Bを調製した。そして混合物Aに混合物Bを15.0質量部加えてよく混合した後、これに光重合開始剤1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバガイギー社製「イルガキュア184」)0.72質量部を加えてよく混合し、さらに25℃の恒温雰囲気下で1時間撹拌混合することによって、金属ナノワイヤと透光性粒子を含む樹脂溶液からなるコーティング材組成物を得た。
Example 1
10.00 parts by mass of a photocurable acrylic resin (“A-DPH” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: refractive index 1.49) and acrylic resin particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd .: particle size 300 nm, refractive index) 1.49) A mixture A was prepared by mixing 4.55 parts by mass with a mixed solvent of 34.87 parts by mass of methyl ethyl ketone and 34.86 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and dissolving the photocurable acrylic resin. Silver nanowires were used as metal nanowires. This silver nanowire was prepared according to a known paper “Materials Chemistry and Physics vol. 114 p333-338“ Preparation of Ag nanorods with high yield by polyol process ””, and has an average diameter of 150 nm and an average length of 5 μm. This metal nanowire was dispersed in methyl ethyl ketone in an amount of 3.0% by mass to prepare a mixture B. After adding 15.0 parts by mass of mixture B to mixture A and mixing well, 0.72 parts by mass of photoinitiator 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Geigy) was added thereto. The mixture was further mixed and stirred and mixed in a constant temperature atmosphere at 25 ° C. for 1 hour to obtain a coating material composition comprising a resin solution containing metal nanowires and translucent particles.

そして透明基材として透明PETフィルム(厚み125μm、屈折率1.665)を用い、上記のコーティング材組成物をワイヤーバーコーター#4で透明基材の表面に塗布し、常温(23℃)で2分間乾燥した後、120℃で3分間加熱して乾燥し、さらに紫外線を強度500mJ/cmで照射して硬化させることによって、膜厚0.5μmの透明導電膜を形成した透明導電膜付き基材を得た(図1参照)。尚、透明導電膜においてマトリクス樹脂/透光性粒子の体積比は約2であり、また透明導電膜中の金属ナノワイヤの含有量は約3.0質量%であった。   Then, using a transparent PET film (thickness 125 μm, refractive index 1.665) as a transparent substrate, the above-mentioned coating material composition was applied to the surface of the transparent substrate with a wire bar coater # 4, and 2 at room temperature (23 ° C.). The substrate with a transparent conductive film in which a transparent conductive film having a thickness of 0.5 μm is formed by drying by heating at 120 ° C. for 3 minutes and then drying by irradiating ultraviolet rays with an intensity of 500 mJ / cm for curing. Was obtained (see FIG. 1). In the transparent conductive film, the volume ratio of matrix resin / translucent particles was about 2, and the content of metal nanowires in the transparent conductive film was about 3.0% by mass.

(実施例2)
光硬化性アクリル樹脂(新中村化学社製「A−DPH」:屈折率1.49)10.00質量部と、透光性粒子としてアクリル樹脂粒子(綜研化学社製:粒径350nm、屈折率1.49)4.55質量部を、メチルエチルケトン34.87質量部とメチルイソブチルケトン34.86質量部の混合溶媒に混合し、光硬化性アクリル樹脂を溶解させて、混合物Aを調製した。この混合物Aに実施例1で調製した混合物Bを15.0質量部加えてよく混合した後、これに光重合開始剤1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバガイギー製「イルガキュア184」)0.72質量部を加えてよく混合し、さらに25℃の恒温雰囲気下で1時間撹拌混合した。これにさらにメチルエチルケトン35.00質量部とメチルイソブチルケトン35.00質量部を加えて希釈することによって、金属ナノワイヤと透光性粒子を含む樹脂溶液からなるコーティング材組成物を得た。
(Example 2)
10.00 parts by mass of a photocurable acrylic resin (“A-DPH” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: refractive index 1.49) and acrylic resin particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd .: particle size 350 nm, refractive index) 1.49) A mixture A was prepared by mixing 4.55 parts by mass with a mixed solvent of 34.87 parts by mass of methyl ethyl ketone and 34.86 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and dissolving the photocurable acrylic resin. 15.0 parts by mass of the mixture B prepared in Example 1 was added to the mixture A and mixed well. Then, a photopolymerization initiator 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Geigy) was added. 72 parts by mass was added and mixed well, and further stirred and mixed in a constant temperature atmosphere at 25 ° C. for 1 hour. Further, 35.00 parts by mass of methyl ethyl ketone and 35.00 parts by mass of methyl isobutyl ketone were added and diluted to obtain a coating material composition comprising a resin solution containing metal nanowires and translucent particles.

そしてこのコーティング材組成物を実施例1と同様にして、透明PETフィルムからなる透明基材の表面に塗布・乾燥・硬化することによって、膜厚0.3μmの透明導電膜を形成した透明導電膜付き基材を得た(図1参照)。尚、透明導電膜においてマトリクス樹脂/透光性粒子の体積比は約2であり、また透明導電膜中の金属ナノワイヤの含有量は約3.0質量%であった。   Then, in the same manner as in Example 1, this coating material composition was coated, dried and cured on the surface of a transparent substrate made of a transparent PET film to form a transparent conductive film having a thickness of 0.3 μm. An attached substrate was obtained (see FIG. 1). In the transparent conductive film, the volume ratio of matrix resin / translucent particles was about 2, and the content of metal nanowires in the transparent conductive film was about 3.0% by mass.

(実施例3)
光硬化性アクリル樹脂(新中村化学社製「A−DPH」:屈折率1.49)10.00質量部と、透光性粒子としてアクリル樹脂粒子(綜研化学社製:粒径3μm、屈折率1.49)4.55質量部を、メチルエチルケトン9.87質量部とメチルイソブチルケトン9.86質量部の混合溶媒に混合し、光硬化性アクリル樹脂を溶解させて、混合物Aを調製した。この混合物Aを用いる他は、実施例1と同様にして、金属ナノワイヤと透光性粒子を含む樹脂溶液からなるコーティング材組成物を得た。
(Example 3)
10.00 parts by mass of a photocurable acrylic resin (“A-DPH” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: refractive index 1.49) and acrylic resin particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd .: particle size 3 μm, refractive index) 1.49) A mixture A was prepared by mixing 4.55 parts by mass with a mixed solvent of 9.87 parts by mass of methyl ethyl ketone and 9.86 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and dissolving the photocurable acrylic resin. A coating material composition comprising a resin solution containing metal nanowires and translucent particles was obtained in the same manner as in Example 1 except that this mixture A was used.

そして透明基材として透明PETフィルム(厚み125μm、屈折率1.665)を用い、上記のコーティング材組成物をワイヤーバーコーター#20で透明基材の表面に塗布し、常温(23℃)で2分間乾燥した後、120℃で3分間加熱して乾燥し、さらに紫外線を強度500mJ/cmで照射して硬化させることによって、膜厚5.0μmの透明導電膜を形成した透明導電膜付き基材を得た(図1参照)。尚、透明導電膜においてマトリクス樹脂/透光性粒子の体積比は約2であり、また透明導電膜中の金属ナノワイヤの含有量は約3.0質量%であった。   Then, using a transparent PET film (thickness 125 μm, refractive index 1.665) as a transparent substrate, the above-mentioned coating material composition was applied to the surface of the transparent substrate with a wire bar coater # 20, and 2 at room temperature (23 ° C.). The substrate with a transparent conductive film in which a transparent conductive film having a thickness of 5.0 μm is formed by drying for 3 minutes, heating at 120 ° C. for 3 minutes, drying, and further irradiating and curing ultraviolet rays at an intensity of 500 mJ / cm. Was obtained (see FIG. 1). In the transparent conductive film, the volume ratio of matrix resin / translucent particles was about 2, and the content of metal nanowires in the transparent conductive film was about 3.0% by mass.

(実施例4)
シリコーン樹脂(三菱化学(株)製「MS51」:酸化物換算51質量%、屈折率1.51)19.60質量部と、透光性粒子としてシリカ粒子(シーアイ化成社製:イソプロピルアルコール分散固形分20質量%、粒径120nm、屈折率1.50)22.75質量部を、イソプロピルアルコール34.87質量部に混合し、シリコーン樹脂を溶解させて、混合物Aを調製した。また金属ナノワイヤとして実施例1と同じ銀ナノワイヤを用い、この金属ナノワイヤをイソプロピルアルコールに3.0質量%の量で分散させて混合物Bを調製した。そして混合物Aに混合物Bを15.0質量部加えてよく混合した後、さらに0.1Nの硝酸を2.65質量部加えてよく混合し、25℃の恒温雰囲気下で1時間撹拌混合することによって、金属ナノワイヤと透光性粒子を含む樹脂溶液からなるコーティング材組成物を得た。
Example 4
Silicone resin ("MS51" manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd .: 51% by mass in terms of oxide, refractive index 1.51) 19.60 parts by mass, silica particles as translucent particles (CAI Kasei Co., Ltd .: isopropyl alcohol dispersed solid) The mixture A was prepared by mixing 22.75 parts by mass of 20% by mass, particle size 120 nm, refractive index 1.50) with 34.87 parts by mass of isopropyl alcohol and dissolving the silicone resin. Moreover, the same silver nanowire as Example 1 was used as a metal nanowire, and this metal nanowire was disperse | distributed to the amount of 3.0 mass% in isopropyl alcohol, and the mixture B was prepared. Add 15.0 parts by weight of mixture B to mixture A and mix well, then add 2.65 parts by weight of 0.1N nitric acid and mix well, and stir and mix in a constant temperature atmosphere at 25 ° C. for 1 hour. Thus, a coating material composition comprising a resin solution containing metal nanowires and translucent particles was obtained.

そして透明基材として透明PETフィルム(厚み125μm、屈折率1.665)を用い、上記のコーティング材組成物をワイヤーバーコーター#2で透明基材の表面に塗布し、常温(23℃)で2分間乾燥した後、120℃で3分間加熱して乾燥し、さらに紫外線を強度500mJ/cmで照射して硬化させることによって、膜厚0.2μmの透明導電膜を形成した透明導電膜付き基材を得た(図1参照)。尚、透明導電膜においてマトリクス樹脂/透光性粒子の体積比は約2であり、また透明導電膜中の金属ナノワイヤの含有量は約3.0質量%であった。   Then, using a transparent PET film (thickness 125 μm, refractive index 1.665) as a transparent substrate, the above-mentioned coating material composition was applied to the surface of the transparent substrate with a wire bar coater # 2, and 2 at room temperature (23 ° C.). The substrate with a transparent conductive film in which a transparent conductive film having a thickness of 0.2 μm is formed by drying for 3 minutes, heating at 120 ° C. for 3 minutes, drying, and further irradiating and curing ultraviolet rays at an intensity of 500 mJ / cm. Was obtained (see FIG. 1). In the transparent conductive film, the volume ratio of matrix resin / translucent particles was about 2, and the content of metal nanowires in the transparent conductive film was about 3.0% by mass.

(実施例5)
光硬化性アクリル樹脂(新中村化学社製「A−DPH」:屈折率1.49)4.55質量部と、透光性粒子としてアクリル樹脂粒子(綜研化学社製:粒径300nm、屈折率1.49)10.00質量部を、メチルエチルケトン34.87質量部とメチルイソブチルケトン34.86質量部の混合溶媒に混合し、光硬化性アクリル樹脂を溶解させて、混合物Aを調製した。この混合物Aを用いる他は、実施例1と同様にして、金属ナノワイヤと透光性粒子を含む樹脂溶液からなるコーティング材組成物を得た。
(Example 5)
4.55 parts by mass of a photocurable acrylic resin (“A-DPH” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: refractive index 1.49) and acrylic resin particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd .: particle size 300 nm, refractive index) 1.49) 10.00 parts by mass was mixed with a mixed solvent of 34.87 parts by mass of methyl ethyl ketone and 34.86 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and the photocurable acrylic resin was dissolved to prepare a mixture A. A coating material composition comprising a resin solution containing metal nanowires and translucent particles was obtained in the same manner as in Example 1 except that this mixture A was used.

そしてこのコーティング材組成物を実施例1と同様にして、透明PETフィルムからなる透明基材の表面に塗布・乾燥・硬化することによって、膜厚0.5μmの透明導電膜を形成した透明導電膜付き基材を得た(図1参照)。尚、透明導電膜においてマトリクス樹脂/透光性粒子の体積比は約0.45であり、また透明導電膜中の金属ナノワイヤの含有量は約3.0質量%であった。   Then, in the same manner as in Example 1, this coating material composition was applied, dried, and cured on the surface of a transparent substrate made of a transparent PET film, thereby forming a transparent conductive film having a thickness of 0.5 μm. An attached substrate was obtained (see FIG. 1). In the transparent conductive film, the matrix resin / translucent particle volume ratio was about 0.45, and the content of metal nanowires in the transparent conductive film was about 3.0 mass%.

(比較例1)
光硬化性アクリル樹脂(新中村化学社製「A−DPH」:屈折率1.49)14.55
質量部をメチルエチルケトン34.87質量部とメチルイソブチルケトン34.86質量部の混合溶媒に混合し、アクリル樹脂を溶解させて、混合物Aを調製した。また金属ナノワイヤとして実施例1と同じ銀ナノワイヤを用い、この金属ナノワイヤをメチルエチルケトンに3.0質量%の量で分散させて混合物Bを調製した。そして混合物Aに混合物Bを15.0質量部加えてよく混合した後、これに光重合開始剤1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバガイギー社製「イルガキュア184」)0.72質量部を加えてよく混合し、さらに25℃の恒温雰囲気下で1時間撹拌混合することによって、金属ナノワイヤを含む樹脂溶液からなるコーティング材組成物を得た。
(Comparative Example 1)
Photocurable acrylic resin (“A-DPH” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: refractive index 1.49) 14.55
Part A was mixed with a mixed solvent of 34.87 parts by mass of methyl ethyl ketone and 34.86 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and the acrylic resin was dissolved to prepare a mixture A. Moreover, the same silver nanowire as Example 1 was used as a metal nanowire, and this metal nanowire was disperse | distributed to methyl ethyl ketone in the quantity of 3.0 mass%, and the mixture B was prepared. After adding 15.0 parts by mass of mixture B to mixture A and mixing well, 0.72 parts by mass of photoinitiator 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Geigy) was added thereto. Then, the mixture was stirred and mixed in a constant temperature atmosphere at 25 ° C. for 1 hour to obtain a coating material composition comprising a resin solution containing metal nanowires.

そしてこのコーティング材組成物を実施例1と同上にして、透明PETフィルムからなる透明基材の表面に塗布・乾燥・硬化することによって、膜厚0.5μmの透明導電膜を形成した透明導電膜付き基材を得た(図2参照)。尚、透明導電膜中の金属ナノワイヤの含有量は約3.0質量%であった。   A transparent conductive film in which a transparent conductive film having a thickness of 0.5 μm was formed by applying, drying, and curing the coating material composition on the surface of a transparent substrate made of a transparent PET film in the same manner as in Example 1. An attached substrate was obtained (see FIG. 2). In addition, content of the metal nanowire in a transparent conductive film was about 3.0 mass%.

(比較例2)
光硬化性アクリル樹脂(新中村化学社製「A−DPH」:屈折率1.49)10.00質量部と、透光性粒子としてアクリル樹脂粒子(綜研化学社製:粒径300nm、屈折率1.49)4.55質量部を、メチルエチルケトン34.87質量部とメチルイソブチルケトン34.86質量部の混合溶媒に混合し、光硬化性アクリル樹脂を溶解させて、混合物Aを調製した。この混合物Aを用いる他は、実施例1と同様にして、金属ナノワイヤと透光性粒子を含む樹脂溶液からなるコーティング材組成物を得た。
(Comparative Example 2)
10.00 parts by mass of a photocurable acrylic resin (“A-DPH” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: refractive index 1.49) and acrylic resin particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd .: particle size 300 nm, refractive index) 1.49) A mixture A was prepared by mixing 4.55 parts by mass with a mixed solvent of 34.87 parts by mass of methyl ethyl ketone and 34.86 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and dissolving the photocurable acrylic resin. A coating material composition comprising a resin solution containing metal nanowires and translucent particles was obtained in the same manner as in Example 1 except that this mixture A was used.

そして透明基材として透明PETフィルム(厚み125μm)を用い、上記のコーティング材組成物をワイヤーバーコーター#10で透明基材の表面に塗布し、常温(23℃)で2分間乾燥した後、120℃で3分間加熱して乾燥し、さらに紫外線を強度500mJ/cmで照射して硬化させることによって、膜厚1.2μmの透明導電膜を形成した透明導電膜付き基材を得た(図1参照)。尚、透明導電膜においてマトリクス樹脂/透光性粒子の体積比は約2であり、また透明導電膜中の金属ナノワイヤの含有量は約3.0質量%であった。   Then, using a transparent PET film (thickness: 125 μm) as a transparent substrate, the above coating material composition was applied to the surface of the transparent substrate with a wire bar coater # 10, dried at room temperature (23 ° C.) for 2 minutes, and then 120 A substrate with a transparent conductive film on which a transparent conductive film having a thickness of 1.2 μm was formed was obtained by heating and drying at 3 ° C. for 3 minutes, and further irradiating and curing ultraviolet rays at an intensity of 500 mJ / cm (FIG. 1). reference). In the transparent conductive film, the volume ratio of matrix resin / translucent particles was about 2, and the content of metal nanowires in the transparent conductive film was about 3.0% by mass.

(比較例3)
光硬化性アクリル樹脂(新中村化学社製「A−DPH」:屈折率1.49)10.00質量部と、透光性粒子としてアクリル樹脂粒子(綜研化学社製:粒径2μm、屈折率1.49)4.55質量部を、メチルエチルケトン34.87質量部とメチルイソブチルケトン34.86質量部の混合溶媒に混合し、光硬化性アクリル樹脂を溶解させて、混合物Aを調製した。この混合物Aを用いる他は、実施例1と同様にして、金属ナノワイヤと透光性粒子を含む樹脂溶液からなるコーティング材組成物を得た。
(Comparative Example 3)
10.00 parts by mass of a photocurable acrylic resin (“A-DPH” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: refractive index 1.49) and acrylic resin particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd .: particle size 2 μm, refractive index) 1.49) A mixture A was prepared by mixing 4.55 parts by mass with a mixed solvent of 34.87 parts by mass of methyl ethyl ketone and 34.86 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and dissolving the photocurable acrylic resin. A coating material composition comprising a resin solution containing metal nanowires and translucent particles was obtained in the same manner as in Example 1 except that this mixture A was used.

そして透明基材として透明PETフィルム(厚み125μm、屈折率1.665)を用い、上記のコーティング材組成物をワイヤーバーコーター#10で透明基材の表面に塗布し、常温(23℃)で2分間乾燥した後、120℃で3分間加熱して乾燥し、さらに紫外線を強度500mJ/cmで照射して硬化させることによって、膜厚1.2μmの透明導電膜を形成した透明導電膜付き基材を得た(図1参照)。尚、透明導電膜においてマトリクス樹脂/透光性粒子の体積比は約2であり、また透明導電膜中の金属ナノワイヤの含有量は約3.0質量%であった。   Then, using a transparent PET film (thickness 125 μm, refractive index 1.665) as a transparent substrate, the above-mentioned coating material composition was applied to the surface of the transparent substrate with a wire bar coater # 10, and 2 at room temperature (23 ° C.). The substrate with a transparent conductive film in which a transparent conductive film having a film thickness of 1.2 μm is formed by drying for 3 minutes, heating at 120 ° C. for 3 minutes, drying, and further irradiating and curing ultraviolet rays at an intensity of 500 mJ / cm. Was obtained (see FIG. 1). In the transparent conductive film, the volume ratio of matrix resin / translucent particles was about 2, and the content of metal nanowires in the transparent conductive film was about 3.0% by mass.

そして透明基材として透明PETフィルム(厚み125μm)を用い、上記のコーティング材組成物をワイヤーバーコーター#4で透明基材の表面に塗布し、常温(23℃)で2分間乾燥した後、120℃で3分間加熱して乾燥し、さらに紫外線を強度500mJ/cmで照射して硬化させることによって、膜厚0.5μmの透明導電膜を形成した透明導電膜付き基材を得た(図1参照)。尚、透明導電膜においてマトリクス樹脂/透光性粒子の体積比は約2であり、また透明導電膜中の金属ナノワイヤの含有量は約3.0質量%であった。   Then, using a transparent PET film (thickness 125 μm) as a transparent substrate, the above coating material composition was applied to the surface of the transparent substrate with a wire bar coater # 4, dried at room temperature (23 ° C.) for 2 minutes, and then 120 A substrate with a transparent conductive film in which a transparent conductive film having a thickness of 0.5 μm was formed was obtained by heating and drying at 3 ° C. for 3 minutes, and further irradiating and curing ultraviolet rays at an intensity of 500 mJ / cm (FIG. 1). reference). In the transparent conductive film, the volume ratio of matrix resin / translucent particles was about 2, and the content of metal nanowires in the transparent conductive film was about 3.0% by mass.

上記の実施例1〜5及び比較例1〜3の透明導電膜付き基材について、透明導電膜の表面抵抗、透明導電膜の透過率を測定した。   About the base material with a transparent conductive film of said Examples 1-5 and Comparative Examples 1-3, the surface resistance of the transparent conductive film and the transmittance | permeability of the transparent conductive film were measured.

ここで、透明導電膜の表面抵抗の測定は、表面抵抗値計(三菱化学社製「Hiresta IP (MCP−HT260)」)を使用して行なった。透明導電膜の透過率の測定は、分光光度計(日立ハイテク社製「U−4100」)を用いて行なった。結果を表1に示す。   Here, the surface resistance of the transparent conductive film was measured using a surface resistance meter (“Hiresta IP (MCP-HT260)” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). The transmittance of the transparent conductive film was measured using a spectrophotometer (“U-4100” manufactured by Hitachi High-Tech). The results are shown in Table 1.

Figure 2011029099
Figure 2011029099

表1にみられるように、各実施例の透明導電膜は表面抵抗が小さく、導電性が向上しているものであり、また透過率も高いことが確認された。   As can be seen in Table 1, it was confirmed that the transparent conductive film of each Example had a small surface resistance, improved conductivity, and high transmittance.

1 透明基材
2 透明導電膜
3 金属ナノワイヤ
4 透光性粒子
5 マトリクス樹脂
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent base material 2 Transparent electrically conductive film 3 Metal nanowire 4 Translucent particle | grains 5 Matrix resin

Claims (3)

マトリクス樹脂中に金属ナノワイヤを含有して形成される透明導電膜を透明基材の表面に備えた透明導電膜付き基材であって、透明導電膜のマトリクス樹脂中には、マトリクス樹脂との屈折率の差が±0.03以内であり、かつ透明導電膜の膜厚の0.5〜1.2倍の粒子径を有する透光性粒子を含有して成ることを特徴とする透明導電膜付き基材。   A substrate with a transparent conductive film provided with a transparent conductive film formed on the surface of the transparent base material containing a metal nanowire in the matrix resin, and the matrix resin of the transparent conductive film has a refraction with the matrix resin. A transparent conductive film comprising translucent particles having a difference in rate of within ± 0.03 and having a particle diameter of 0.5 to 1.2 times the film thickness of the transparent conductive film With base material. 透光性粒子の粒子径(D)と金属ナノワイヤの長さ(L)の比が、0.005≦D/L<1であることを特徴とする請求項1に記載の透明導電膜付き基材。   2. The transparent conductive film-attached group according to claim 1, wherein the ratio of the particle diameter (D) of the translucent particles to the length (L) of the metal nanowires is 0.005 ≦ D / L <1. Wood. 透明導電膜中のマトリクス樹脂と透光性粒子の体積比率が、マトリクス樹脂/透光性粒子≦5であることを特徴とする請求項1叉は2に記載の透明導電膜付き基材。   3. The substrate with a transparent conductive film according to claim 1 or 2, wherein the volume ratio of the matrix resin and the translucent particles in the transparent conductive film is matrix resin / translucent particles ≦ 5.
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