JP2013101751A - Organic electroluminescent element - Google Patents

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光 辻本
Masahiro Nakamura
将啓 中村
Tasuke Matsui
太佑 松井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent element capable of extracting light more efficiently.SOLUTION: An organic electroluminescent element includes a transparent substrate 1, a transparent electrode 2 provided on the transparent substrate 1, and an organic light-emitting layer 3 provided on the transparent electrode 2. The transparent electrode 2 is formed by adding metal nanowires 5 and refractive index control particles 6 into a matrix resin 4. The refractive index n1 of the transparent substrate 1, the refractive index n2 of the transparent electrode 2, and the refractive index n3 of the organic light-emitting layer 3 are set to satisfy a relation of n1≤n2≤n3, n3-n1≤0.3. Total reflection of light can be minimized, respectively, on the boundary surface of the organic light-emitting layer 3 and the transparent electrode 2, and on the boundary surface of the transparent electrode 2 and the transparent substrate 1.

Description

本発明は、面発光体などとして使用される有機エレクトロルミネッセンス素子に関するものである。   The present invention relates to an organic electroluminescence element used as a surface light emitter or the like.

面発光体の代表的なものとして、有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)がある。この有機EL素子は、図3に示すように、光透過性の透明基板1の上に光透過性の透明電極2を設け、この透明電極2の上に有機発光層3を設け、さらに有機発光層3の上に電極10を設けることによって形成されている。そして透明電極2と電極10との間に電圧を印加することによって有機発光層3で発光した光は、透明電極2及び透明基板1を透過して取り出される。   A typical example of the surface light emitter is an organic electroluminescence element (organic EL element). As shown in FIG. 3, this organic EL element is provided with a light transmissive transparent electrode 2 on a light transmissive transparent substrate 1, an organic light emitting layer 3 on the transparent electrode 2, and organic light emission. It is formed by providing an electrode 10 on the layer 3. The light emitted from the organic light emitting layer 3 by applying a voltage between the transparent electrode 2 and the electrode 10 is extracted through the transparent electrode 2 and the transparent substrate 1.

ここで、上記の透明電極2としては、ITO、IZO、AZO,GZO,FTO,ATOなどの金属酸化物を透明導電材料として用い、スパッタ法や真空蒸着法などの気相成膜法などで形成したものが一般的である(例えば特許文献1等参照)。   Here, the transparent electrode 2 is formed by using a metal oxide such as ITO, IZO, AZO, GZO, FTO, or ATO as a transparent conductive material, and using a vapor deposition method such as a sputtering method or a vacuum evaporation method. (See, for example, Patent Document 1).

しかしこれらの製膜方法は、高価な装置や多量のエネルギーが必要であり、このため製造コストや環境負荷を低減する技術が求められている。また、これらの金属酸化物を製膜して形成した透明電極2の屈折率は、一般にガラスで形成される透明基板1に比べて著しく高い。このため、透明基板1と透明電極2との屈折率差によって、有機発光層3で発光した光が透明電極2と透明基板1の界面で全反射し易くなり、この全反射ロスが光取出し効率を低下させる要因になるものであった。   However, these film forming methods require an expensive apparatus and a large amount of energy, and therefore a technique for reducing the manufacturing cost and the environmental load is required. Moreover, the refractive index of the transparent electrode 2 formed by forming these metal oxides is significantly higher than that of the transparent substrate 1 generally formed of glass. For this reason, due to the difference in refractive index between the transparent substrate 1 and the transparent electrode 2, the light emitted from the organic light emitting layer 3 is easily totally reflected at the interface between the transparent electrode 2 and the transparent substrate 1, and this total reflection loss is a light extraction efficiency. It became a factor to reduce the.

一方、ワイヤ状導電体を含む透明膜で透明電極を形成するようにした有機ELが提案されている(特許文献2参照)。そしてこのものでは、透明膜を形成する材料の選択によって透明電極の屈折率を制御できるので、透明基板と透明電極の屈折率の差が所定範囲内になるように調整することによって、光の全反射を抑制して光取出し効率を向上するようにしている。   On the other hand, an organic EL in which a transparent electrode is formed of a transparent film containing a wire-like conductor has been proposed (see Patent Document 2). In this case, since the refractive index of the transparent electrode can be controlled by selecting the material for forming the transparent film, by adjusting the difference in refractive index between the transparent substrate and the transparent electrode within a predetermined range, The light extraction efficiency is improved by suppressing reflection.

特開2007−329176号公報JP 2007-329176 A 特開2009−181856号公報JP 2009-181856 A

上記の特許文献2のものでは、透明電極の屈折率を制御して透明基板との屈折率の差を調整して、光の全反射を抑制するようにしているが、有機発光層から発生した光の取出し効率を向上するには、透明電極と透明基板の屈折率の関係を調整するだけでは不十分であり、光の取出し性能は十分といえないものであった。   In the thing of said patent document 2, although the refractive index of a transparent electrode is controlled and the difference of the refractive index with a transparent substrate is adjusted, it is trying to suppress the total reflection of light, but it generate | occur | produced from the organic light emitting layer. In order to improve the light extraction efficiency, it is not sufficient to adjust the relationship between the refractive indexes of the transparent electrode and the transparent substrate, and the light extraction performance is not sufficient.

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、より高効率に光を取り出すことができる有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することを目的とするものである。   This invention is made | formed in view of said point, and it aims at providing the organic electroluminescent element which can take out light more efficiently.

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、透明基板1と、透明基板1の上に設けられた透明電極2と、透明電極2の上に設けられた有機発光層3とを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、透明電極2はマトリクス樹脂4中に金属ナノワイヤ5及び屈折率制御用粒子6を含有して形成されていると共に、透明基板1の屈折率n1、透明電極2の屈折率n2、有機発光層3の屈折率n3は、n1≦n2≦n3、n3−n1≦0.3の関係に設定されていることを特徴とするものである。   An organic electroluminescent device according to the present invention includes a transparent substrate 1, a transparent electrode 2 provided on the transparent substrate 1, and an organic light emitting layer 3 provided on the transparent electrode 2. The transparent electrode 2 is formed by containing the metal nanowire 5 and the refractive index controlling particles 6 in the matrix resin 4, and the refractive index n1 of the transparent substrate 1, the refractive index n2 of the transparent electrode 2, and the organic The refractive index n3 of the light emitting layer 3 is set to have a relationship of n1 ≦ n2 ≦ n3 and n3−n1 ≦ 0.3.

このように、透明基板1と、透明電極2と、有機発光層3の3層の屈折率の関係を上記のように設定することによって、有機発光層3と透明電極2の界面で、また透明電極2と透明基板1の界面で、それぞれ光の全反射を抑制することができると共に、しかも透明電極2のマトリクス樹脂4中には屈折率制御用粒子6を含有するために、透明電極2内で光散乱を発生させることができ、この光散乱効果によっても光の全反射を抑制することができるものであり、より高効率に光を取り出すことができるものである。   Thus, by setting the relationship between the refractive indexes of the three layers of the transparent substrate 1, the transparent electrode 2, and the organic light emitting layer 3 as described above, it is transparent at the interface between the organic light emitting layer 3 and the transparent electrode 2. The total reflection of light can be suppressed at the interface between the electrode 2 and the transparent substrate 1, and the refractive index control particles 6 are contained in the matrix resin 4 of the transparent electrode 2. In this case, light scattering can be generated, and total reflection of light can also be suppressed by this light scattering effect, and light can be extracted with higher efficiency.

また本発明は、透明電極2の上記マトリクス樹脂4の屈折率n4と上記屈折率制御用粒子6の屈折率n5の差が0.2以上であることを特徴とするものである。   In the present invention, the difference between the refractive index n4 of the matrix resin 4 of the transparent electrode 2 and the refractive index n5 of the refractive index control particles 6 is 0.2 or more.

このようにマトリクス樹脂4の屈折率と屈折率制御用粒子6の屈折率の差を大きく設定することによって、透明電極2内での屈折率制御用粒子6による光散乱効果を高めることができ、光の全反射を抑制する効果をより高く得ることができるものである。   Thus, by setting a large difference between the refractive index of the matrix resin 4 and the refractive index of the refractive index control particles 6, the light scattering effect by the refractive index control particles 6 in the transparent electrode 2 can be enhanced. A higher effect of suppressing the total reflection of light can be obtained.

また本発明において、透明電極2の上記マトリクス樹脂4は導電性高分子であることを特徴とするものである。   In the present invention, the matrix resin 4 of the transparent electrode 2 is a conductive polymer.

この発明によれば、金属ナノワイヤ5の導電性に加えて、マトリクス樹脂4自身の導電性によって、透明電極2の電気特性を向上することができるものである。   According to this invention, in addition to the conductivity of the metal nanowire 5, the electrical properties of the transparent electrode 2 can be improved by the conductivity of the matrix resin 4 itself.

また本発明は、透明電極2の上記屈折率制御用粒子6は導電性金属酸化物粒子であることを特徴とするものである。   In the present invention, the refractive index controlling particles 6 of the transparent electrode 2 are conductive metal oxide particles.

透明電極2の屈折率を制御し且つ透明電極2内での光散乱効果を得るために、マトリクス樹脂4に含有される屈折率制御用粒子6に導電性を持たせることができ、透明電極2の電気特性を向上することができるものである。   In order to control the refractive index of the transparent electrode 2 and obtain a light scattering effect in the transparent electrode 2, the refractive index control particles 6 contained in the matrix resin 4 can be made conductive. The electrical characteristics can be improved.

また本発明は、透明基板1の上記透明電極2を設けた側と反対側の表面に反射防止層7を設けたことを特徴とするものである。   Further, the present invention is characterized in that an antireflection layer 7 is provided on the surface of the transparent substrate 1 opposite to the side on which the transparent electrode 2 is provided.

このように反射防止層7を設けることによって、透明基板1と空気との界面での全反射を低減することができ、光の取出し効率をより高めることができるものである。   By providing the antireflection layer 7 in this way, total reflection at the interface between the transparent substrate 1 and air can be reduced, and the light extraction efficiency can be further increased.

本発明によれば、透明基板1の屈折率n1、透明電極2の屈折率n2、有機発光層3の屈折率n3を、n1≦n2≦n3、n3−n1≦0.3の関係に設定するようにしたので、有機発光層3と透明電極2の界面で、また透明電極2と透明基板1の界面で、それぞれ光の全反射を抑制することができると共に、しかも透明電極2のマトリクス樹脂4中には屈折率制御用粒子6を含有するので、透明電極2内で光散乱を発生させることができ、この光散乱効果によっても光の全反射を抑制することができるものであり、有機発光層3で発光した光を、より高効率に取り出すことができるものである。   According to the present invention, the refractive index n1 of the transparent substrate 1, the refractive index n2 of the transparent electrode 2, and the refractive index n3 of the organic light emitting layer 3 are set to a relationship of n1 ≦ n2 ≦ n3 and n3−n1 ≦ 0.3. As a result, total reflection of light can be suppressed at the interface between the organic light emitting layer 3 and the transparent electrode 2 and at the interface between the transparent electrode 2 and the transparent substrate 1, and the matrix resin 4 of the transparent electrode 2 can be suppressed. Since the refractive index control particles 6 are contained therein, light scattering can be generated in the transparent electrode 2, and total reflection of light can be suppressed by this light scattering effect. The light emitted from the layer 3 can be extracted with higher efficiency.

本発明の実施の形態の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の他の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows another example of embodiment of this invention. 従来例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows a prior art example.

以下、本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

図1は本発明に係る有機EL素子の実施の形態の一例を示すものであり、光透過性の透明基板1の片側の表面に光透過性の透明電極2が設けてある。またこの透明電極2の表面に有機発光層3が設けてあり、さらに有機発光層3の上に電極10を設けることによって有機ELを形成することができる。有機発光層3は有機EL材料を含有して形成されるものであり、有機発光層3は単独で形成する他、有機発光層3の陽極側に正孔輸送層や正孔注入層を、有機発光層3の陰極側に電子輸送層や電子注入層を積層して、複数層の有機層として形成することもできる。   FIG. 1 shows an example of an embodiment of an organic EL element according to the present invention, and a light transmissive transparent electrode 2 is provided on one surface of a light transmissive transparent substrate 1. Moreover, the organic light emitting layer 3 is provided on the surface of the transparent electrode 2, and the organic EL can be formed by providing the electrode 10 on the organic light emitting layer 3. The organic light-emitting layer 3 is formed by containing an organic EL material. The organic light-emitting layer 3 is formed alone, and a hole transport layer or a hole injection layer is formed on the anode side of the organic light-emitting layer 3. An electron transport layer or an electron injection layer may be laminated on the cathode side of the light emitting layer 3 to form a plurality of organic layers.

透明電極2を陽極とするときには、電極10は陰極となるものであり、透明電極2と電極10との間に電圧を印加すると、陽極となる透明電極2から注入された正孔と、陰極となる電極10から注入された電子が有機発光層3で再結合し、この際に光が発生する。そして有機発光層3で発光したこの光は、透明電極2及び透明基板1を透過して取り出されるものである。   When the transparent electrode 2 is used as an anode, the electrode 10 serves as a cathode. When a voltage is applied between the transparent electrode 2 and the electrode 10, holes injected from the transparent electrode 2 serving as an anode, Electrons injected from the electrode 10 are recombined in the organic light emitting layer 3, and light is generated at this time. The light emitted from the organic light emitting layer 3 is extracted through the transparent electrode 2 and the transparent substrate 1.

上記の透明基板1としては、光を透過させるものであれば特に制限されることなく使用することができるものであり、無機材料で形成されたもの及び有機材料で形成されたもののいずれであってもよい。透明基板1を形成する無機材料としては、例えば、ソーダガラスや無アルカリガラスなどのガラス、石英、シリコンなどが挙げられる。また有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)等のアセテート系樹脂;ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステル系樹脂;ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   The transparent substrate 1 can be used without particular limitation as long as it allows light to pass therethrough, and is either an inorganic material or an organic material. Also good. Examples of the inorganic material forming the transparent substrate 1 include glass such as soda glass and non-alkali glass, quartz, and silicon. Examples of organic materials include acetate resins such as triacetyl cellulose (TAC); polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET); polyethersulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, and polyimides. Resin, polyolefin resin, acrylic resin, polynorbornene resin, cellulose resin, polyarylate resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyacrylic resin Etc. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

また透明基板1の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく適宜選択することができる。透明基板1の形状としては、例えば平板状、シート状、フィルム状などが挙げられ、また構造としては、例えば単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、適宜選択することができる。   Further, the shape, structure, size and the like of the transparent substrate 1 are not particularly limited and can be appropriately selected. Examples of the shape of the transparent substrate 1 include a flat plate shape, a sheet shape, and a film shape. The structure may be, for example, a single layer structure or a laminated structure, and may be selected as appropriate. Can do.

透明基板1は単体のものであってもよいが、基板の表面に一層ないし複数層のハードコート層が形成されたものであってもよい。このように透明基板1がハードコート層を備える場合、透明電極2はハードコート層の上に形成されるものである。本発明において、透明電極2と透明基板1の間で屈折率が問題になるのは、透明基板1のうち透明電極2との接触界面部である。従って本発明において透明基板1の屈折率とは、透明基板1が基板単体のものであれば、透明基板1自体の屈折率をいうものであり、透明基板1が表面にハードコート層を有するものであれば、ハードコート層の屈折率をいうものである。   The transparent substrate 1 may be a single substrate, or may be one in which one or more hard coat layers are formed on the surface of the substrate. Thus, when the transparent substrate 1 is provided with a hard coat layer, the transparent electrode 2 is formed on the hard coat layer. In the present invention, the refractive index is a problem between the transparent electrode 2 and the transparent substrate 1 in the contact interface portion of the transparent substrate 1 with the transparent electrode 2. Accordingly, in the present invention, the refractive index of the transparent substrate 1 means the refractive index of the transparent substrate 1 itself if the transparent substrate 1 is a single substrate, and the transparent substrate 1 has a hard coat layer on the surface. If so, it means the refractive index of the hard coat layer.

ハードコート層は、例えば、反応性硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂と電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方を含むハードコートコーティング材を用いて形成することができる。   The hard coat layer can be formed using, for example, a reactive curable resin, that is, a hard coat coating material containing at least one of a thermosetting resin and an ionizing radiation curable resin.

前記熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を使用することができ、これらの熱硬化性樹脂に必要に応じて架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤を加えて使用することもできる。   As the thermosetting resin, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, silicon resin, polysiloxane resin, etc. can be used. A crosslinking agent, a polymerization initiator, a curing agent, a curing accelerator, and a solvent can be added to these thermosetting resins as necessary.

また、前記電離放射線硬化型樹脂としては、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマー、プレポリマー、及び反応性希釈剤としてエチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等を比較的多量に含有するものを使用することができる。さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開始剤を配合することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などを例示することができる。また、光重合開始剤に加えて光増感剤を用いてもよい。光増感剤としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、チオキサントンなどを例示することができる。   The ionizing radiation curable resin preferably has an acrylate functional group, for example, a relatively low molecular weight polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiro resin. Acetal resin, polybutadiene resin, polythiol polyene resin, oligomers such as (meth) acrylates of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohol, prepolymers, and reactive diluents such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, Monofunctional monomers such as methylstyrene and N-vinylpyrrolidone, as well as polyfunctional monomers such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate , Diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, etc. Can be used. Furthermore, in order to make the ionizing radiation curable resin into an ultraviolet curable resin, it is preferable to incorporate a photopolymerization initiator therein. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, thioxanthones, and the like. In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone.

また、ハードコートコーティング材中に高屈折率粒子、すなわち高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子を添加することで、ハードコート層に高屈折率粒子を含有させて屈折率を調整しても良い。高屈折率粒子は屈折率が1.6以上で粒径が0.5〜200nmのものが好ましい。高屈折率粒子の配合量はハードコート層に対して例えば5〜70体積%の範囲となるように調整される。前記高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子としては、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる一つあるいは二つ以上の酸化物の粒子が挙げられ、具体的には、例えば、ZnO(屈折率1.90)、TiO(屈折率2.3〜2.7)、CeO(屈折率1.95)、Sb(屈折率1.71)、SnO、ITO(屈折率1.95)、Y(屈折率1.87)、La(屈折率1.95)、ZrO(屈折率2.05)、Al(屈折率1.63)等の微粉末が挙げられる。 In addition, by adding high refractive index particles, that is, ultrafine particles of high refractive index metal or metal oxide, to the hard coat coating material, the refractive index is adjusted by adding high refractive index particles to the hard coat layer. Also good. The high refractive index particles preferably have a refractive index of 1.6 or more and a particle size of 0.5 to 200 nm. The compounding quantity of high refractive index particle | grains is adjusted so that it may become the range of 5-70 volume% with respect to a hard-coat layer. Examples of the ultrafine particles of the high refractive index metal or metal oxide include one or more oxide particles selected from titanium, aluminum, cerium, yttrium, zirconium, niobium, and antimony. Are, for example, ZnO (refractive index 1.90), TiO 2 (refractive index 2.3 to 2.7), CeO 2 (refractive index 1.95), Sb 2 O 5 (refractive index 1.71), SnO. 2 , ITO (refractive index 1.95), Y 2 O 3 (refractive index 1.87), La 2 O 3 (refractive index 1.95), ZrO 2 (refractive index 2.05), Al 2 O 3 ( Examples thereof include fine powders having a refractive index of 1.63).

このようなハードコートコーティング材を基板に重ねて塗布し、必要に応じて乾燥した後、熱硬化性樹脂を含むハードコートコーティング材の場合は加熱し、電離線硬化性樹脂を含むハードコートコーティング材の場合は紫外線等の電離線を照射するなどして硬化成膜することで、ハードコート層が形成される。塗布方法は特に制限されず、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の各種方法が採用される。   After applying such a hard coat coating material on the substrate and drying it as necessary, in the case of a hard coat coating material containing a thermosetting resin, it is heated and a hard coat coating material containing an ionizing radiation curable resin. In this case, the hard coat layer is formed by irradiating with ionizing rays such as ultraviolet rays to form a cured film. The coating method is not particularly limited, and various methods such as spin coating method, dip method, spray method, slide coating method, bar coating method, roll coater method, meniscus coater method, flexographic printing method, screen printing method, and bead coater method are available. Adopted.

そして本発明において、この透明基板1の表面に設ける透明電極2は、マトリクス樹脂4中に金属ナノワイヤ5及び屈折率制御用粒子6を含有して形成されているものである。透明電極2の形成は、例えば、金属ナノワイヤ5と屈折率制御用粒子6を樹脂溶液に分散させ、この樹脂溶液を透明基板1の表面に塗布して、マトリクス樹脂4の膜を成膜することによって行なうことができる。   In the present invention, the transparent electrode 2 provided on the surface of the transparent substrate 1 is formed by containing the metal nanowire 5 and the refractive index controlling particles 6 in the matrix resin 4. The transparent electrode 2 is formed, for example, by dispersing the metal nanowires 5 and the refractive index controlling particles 6 in a resin solution and applying the resin solution to the surface of the transparent substrate 1 to form a matrix resin 4 film. Can be done.

透明電極2の膜を形成するためのマトリクス樹脂4としては、特に限定されるものではないが、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン、ポリアクリルニトリル、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ポリイミド、ジアクリルフタレート樹脂、セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、その他の熱可塑性樹脂や、これらの樹脂を構成する単量体の2種以上の共重合体を挙げることができる。   The matrix resin 4 for forming the film of the transparent electrode 2 is not particularly limited, but acrylic resin, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyethersulfone, polyarylate, polycarbonate resin. , Polyurethane, polyacrylonitrile, polyvinyl acetal, polyamide, polyimide, diacryl phthalate resin, cellulosic resin, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl acetate, other thermoplastic resins, and the single amount constituting these resins Two or more types of copolymers may be mentioned.

またマトリクス樹脂4としては、モノマーやオリゴマーの重合反応によりポリマー化するものを用いることもできる。このような樹脂として、光重合反応または熱重合反応する樹脂を使用する場合、可視光、または紫外線や電子線のような電離放射線の照射により直接または開始剤の作用を受けて重合反応を生じるモノマーあるいはオリゴマーを用いることができ、アクリル基あるいはメタクリル基を有するモノマーあるいはオリゴマーが好適である。中でも架橋させて耐擦傷性、硬度を上げるには多官能性バインダー成分であることが好ましい。   Moreover, as the matrix resin 4, what polymerizes by the polymerization reaction of a monomer or an oligomer can also be used. When using a resin that undergoes a photopolymerization reaction or a thermal polymerization reaction as such a resin, a monomer that generates a polymerization reaction directly or under the action of an initiator by irradiation with ionizing radiation such as ultraviolet light or an electron beam. Or an oligomer can be used and the monomer or oligomer which has an acryl group or a methacryl group is suitable. Among them, a polyfunctional binder component is preferable in order to increase the scratch resistance and hardness by crosslinking.

そして一分子中に一個の官能基をもつものとして、具体的には例えば、イソアミル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシ−ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシ−トリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレートフェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチル−コハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリン等が挙げられる。   As one having one functional group in one molecule, specifically, for example, isoamyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxy-diethylene glycol (meta ) Acrylate, methoxy-triethylene glycol (meth) acrylate, methoxy-polyethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxy-polyethylene glycol (meth) ) Acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, -Hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl-succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalate Acid, isooctyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, Examples include cyclohexyl methacrylate, benzyl (meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine, and the like.

また二個以上の官能基を持つものとして、具体的には例えば、ポリエチレングリコールジアクリレート、グリセリントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられ、更にベンゼン環を有する化合物としては、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート、変性ビスフェノールAジアクリレートエチレングリコールジアクリレート、エチレンオキサイドプロピレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート、プロピレンオキサイドテトラメチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールA−ジエポキシ−アクリル酸付加物、エチレンオキサイド変性ビスフェノールFジアクリレート、ポリエステルアクリレート等の多官能アクリレート類あるいはメタクリレート類が挙げられる。   As those having two or more functional groups, specifically, for example, polyethylene glycol diacrylate, glycerin triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, diester Examples thereof include pentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol hexaacrylate, and the compounds having a benzene ring include ethylene oxide-modified bisphenol A diacrylate, modified bisphenol A diacrylate, ethylene glycol diacrylate, and ethylene oxide propylene oxide-modified bisphenol. A diacrylate, propylene oxide tetramethylene oxide Modified bisphenol A diacrylate, bisphenol A- diepoxy - acrylic acid adduct, ethylene oxide-modified bisphenol F diacrylate, and polyfunctional acrylates or methacrylates such as polyester acrylates.

また、1,2−ビス(メタ)アクリロイルチオエタン、1,3−ビス(メタ)アクリロイルチオプロパン、1,4−ビス(メタ)アクリロイルチオブタン、1,2−ビス(メタ)アクリロイルメチルチオベンゼン、1,3−ビス(メタ)アクリロイルメチルチオベンゼンなどの硫黄含有(メタ)アクリレート類を用いることも高屈折率化に有効である。   1,2-bis (meth) acryloylthioethane, 1,3-bis (meth) acryloylthiopropane, 1,4-bis (meth) acryloylthiobutane, 1,2-bis (meth) acryloylmethylthiobenzene, The use of sulfur-containing (meth) acrylates such as 1,3-bis (meth) acryloylmethylthiobenzene is also effective for increasing the refractive index.

さらに、紫外線や熱による硬化を促進させるため、光または熱重合開始剤を配合してもよい。   Further, a light or thermal polymerization initiator may be blended in order to promote curing by ultraviolet rays or heat.

光重合開始剤としては、一般に市販されているもので構わないが、特に例示すると、ベンゾフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「イルガキュアー651」)、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「イルガキュアー184」)、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「ダロキュアー1173」、ランベルティー社製「エサキュアーKL200」)、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)(ランベルティー社製「エサキュアーKIP150」)、2−ヒドロキシエチル−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「イルガキュアー2959」)、2−メチル−1(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「イルガキュアー907」)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「イルガキュアー369」)、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「イルガキュアー819」)、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「CGI403」)、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(=TMDPO)(BASF社製「ルシリンTPO」、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製「ダロキュアーTPO」)、チオキサントンまたはその誘導体などが挙げられ、これらのうち1種、あるいは2種以上混合して用いることができる。   Although what is generally marketed may be used as a photoinitiator, when it illustrates especially, benzophenone, 2, 2- dimethoxy- 1, 2- diphenyl ethane- 1-one (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. product " Irgacure 651 "), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (" Irgacure 184 "manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (Ciba Specialty Chemicals' “Darocur 1173”, Lamberti's “Esacure KL200”), Oligo (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one) (Lamberti's “Esacure KIP150” "), 2-hydroxyethyl-phenyl-2-hydride Xyl-2-methyl-1-propan-1-one (“Irgacure 2959” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 2-methyl-1 (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 -ON ("Irgacure 907" manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. " Irgacure 369 "), bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (" Irgacure 819 "manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4 , 4-Trimethyl-pentylphosphine oxide (Ciba Specialty Chemical) "CGI403" manufactured by KK Thioxanthone or a derivative thereof, and the like can be used, and one or a mixture of two or more of these can be used.

また、光増感作用の目的により第三アミン、例えばトリエタノールアミン、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、イソペンチルメチルアミノベンゾエートなどを添加しても良い。   Further, a tertiary amine such as triethanolamine, ethyl-4-dimethylaminobenzoate, isopentylmethylaminobenzoate or the like may be added for the purpose of photosensitization.

熱による重合開始剤としては、主として過酸化ベンゾイル(=BPO)などの過酸化物、アゾビスイソブチルニトリル(=AIBN)などのアゾ化合物が用いられる。   As a polymerization initiator by heat, a peroxide such as benzoyl peroxide (= BPO) or an azo compound such as azobisisobutylnitrile (= AIBN) is mainly used.

上記の光重合開始剤や熱重合開始剤の配合量は、通常、組成物(樹脂+金属ナノワイヤ)100質量部に対し、0.1〜10質量部程度が好ましい。   The blending amount of the photopolymerization initiator and the thermal polymerization initiator is usually preferably about 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the composition (resin + metal nanowire).

また、エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタニル基等のカチオン重合性官能基を有するモノマーあるいはオリゴマーを用いてもよい。さらに必要に応じて光カチオン開始剤等を組み合わせて用いることもできる。これらは同様に多官能であることが好ましい。   Moreover, you may use the monomer or oligomer which has cationic polymerizable functional groups, such as an epoxy group, a thioepoxy group, and an oxetanyl group. Further, if necessary, a photocation initiator or the like can be used in combination. These are likewise preferably polyfunctional.

また、熱重合する樹脂については一般的にゾル−ゲル系材料が挙げられ、アルコキシシシラン、アルコキシチタン等のゾル−ゲル系材料が好ましい。これらのなかでもアルコキシシランが好ましい。ゾル−ゲル系材料は、ポリシロキサン構造を形成する。アルコキシシランの具体的は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシラン類、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン等があげられる。これらアルコキシシランはその部分縮合物等として用いることができる。これらのなかでもテトラアルコキシシラン類またはこれらの部分縮合物等が好ましい。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランまたはこれらの部分縮合物が好ましい。   Moreover, about resin to thermally polymerize, a sol-gel type material is mentioned generally, Sol-gel type materials, such as alkoxy silane and alkoxy titanium, are preferable. Of these, alkoxysilane is preferred. The sol-gel material forms a polysiloxane structure. Specific examples of the alkoxysilane include tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, and tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, and methyl. Tributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, isopropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylto Trialkoxysilanes such as ethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, Examples include diethyldimethoxysilane and diethyldiethoxysilane. These alkoxysilanes can be used as a partial condensate thereof. Among these, tetraalkoxysilanes or partial condensates thereof are preferable. In particular, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane or a partial condensate thereof is preferable.

さらにマトリクス樹脂4として、導電性高分子を用いることもできる。導電性高分子としては、例えば、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセチレン、ポリカルバゾール、ポリアセチレンなどを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよいし、組み合わせて用いてもよい。また導電性を高めるために、次のようなドーパントを用いてドーピングを行なっても良い。ドーパントとしては、スルホン酸、ルイス酸、プロトン酸、アルカリ金属、アルカリ土類金属などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Further, a conductive polymer can be used as the matrix resin 4. Examples of the conductive polymer include, but are not limited to, polythiophene, polyaniline, polypyrrole, polyphenylene, polyphenylene vinylene, polyacetylene, polycarbazole, and polyacetylene. These may be used alone or in combination. Moreover, in order to improve electroconductivity, you may perform doping using the following dopants. Examples of the dopant include, but are not limited to, sulfonic acid, Lewis acid, protonic acid, alkali metal, alkaline earth metal, and the like.

透明電極2の膜を形成するマトリクス樹脂4としてこのように導電性高分子を用いることによって、金属ナノワイヤ5による導電性に加えて、マトリクス樹脂4で形成される膜自体にも導電性が付与されるものであり、透明電極2の電気特性を向上することができるものである。   By using the conductive polymer as the matrix resin 4 for forming the film of the transparent electrode 2 in this way, in addition to the conductivity by the metal nanowire 5, the film itself formed by the matrix resin 4 is also provided with conductivity. The electrical characteristics of the transparent electrode 2 can be improved.

またマトリクス樹脂4としては、上記した光重合性の樹脂、熱重合性の樹脂、導電性高分子から選ばれる2種類以上のものを併用してもよい。   As the matrix resin 4, two or more kinds selected from the above-mentioned photopolymerizable resin, thermopolymerizable resin, and conductive polymer may be used in combination.

本発明において透明電極2に含有される金属ナノワイヤ5としては、Agナノワイヤ、Auナノワイヤ、Cuナノワイヤ、Coナノワイヤなど任意のものを用いることができる。また金属ナノワイヤ5の製造手段には特に制限は無く、例えば、液相法や気相法などの公知の手段を用いることができる。具体的な製造方法にも特に制限は無く、公知の製造方法を用いることができる。例えば、Agナノワイヤの製造方法として、Adv.Mater.2002,14,P833〜837や、Chem.Mater.2002,14,P4736〜4745、前記の特許文献2等を、Auナノワイヤの製造方法として、特開2006−233252号公報等を、Cuナノワイヤの製造方法として、特開2002−266007号公報等を、Coナノワイヤの製造方法として、特開2004−149871号公報等を挙げることができる。特に、上記のAdv.Mater.及びChem.Mater.で報告されたAgナノワイヤの製造方法は、水系で簡便にかつ大量にAgナノワイヤを製造することができ、また銀の導電率は金属中で最大であることから、本発明で用いる金属ナノワイヤ5の製造方法として好ましく適用することができる。   In the present invention, the metal nanowire 5 contained in the transparent electrode 2 may be any material such as an Ag nanowire, an Au nanowire, a Cu nanowire, or a Co nanowire. Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of the metal nanowire 5, For example, well-known means, such as a liquid phase method and a gaseous-phase method, can be used. There is no restriction | limiting in particular also in a specific manufacturing method, A well-known manufacturing method can be used. For example, as a method for producing Ag nanowires, Adv. Mater. 2002, 14, P833-837, Chem. Mater. 2002, 14, P4736-4745, the above-mentioned Patent Document 2 and the like, as a method for producing Au nanowires, JP 2006-233252A and the like, as a method for producing Cu nanowires, JP 2002-266007 A and the like, As a method for producing Co nanowires, JP-A No. 2004-148771 can be cited. In particular, the above Adv. Mater. And Chem. Mater. The method for producing Ag nanowires reported in (1) can produce Ag nanowires easily and in large quantities in an aqueous system, and the conductivity of silver is the largest among metals. It can apply preferably as a manufacturing method.

本発明において金属ナノワイヤ5の平均直径は、透明性の観点から200nm以下であることが好ましく、導電性の観点から10nm以上であることが好ましい。平均直径が200nm以下であれば光透過率の低下を抑えることができるため好ましい。一方で、平均直径が10nm以上であれば導電体としての機能を有意に発現でき、平均直径がより大きい方が導電性が向上するため好ましい。従って平均直径は、より好ましくは20〜150nmであり、40〜150nmであることが更に好ましい。また金属ナノワイヤ5の平均長さは、導電性の観点から1μm以上であることが好ましく、凝集による透明性への影響から100μm以下であることが好ましい。より好ましくは1〜50μmであり、3〜50μmであることが更に好ましい。金属ナノワイヤ5の平均直径及び平均長さは、SEMやTEMを用いて十分な数のナノワイヤについて電子顕微鏡写真を撮影し、個々のナノワイヤ像の計測値の算術平均から求めることができる。金属ナノワイヤ5の長さは、本来直線状に伸ばした状態で求めるべきであるが、現実には屈曲している場合が多いため、電子顕微鏡写真から画像解析装置を用いて金属ナノワイヤ5の投影径及び投影面積を算出し、円柱体を仮定して算出する(長さ=投影面積/投影径)ものとする。計測対象の金属ナノワイヤ数は、少なくとも100個以上が好ましく、300個以上の金属ナノワイヤ5を計測するのが更に好ましい。   In the present invention, the average diameter of the metal nanowire 5 is preferably 200 nm or less from the viewpoint of transparency, and preferably 10 nm or more from the viewpoint of conductivity. It is preferable that the average diameter is 200 nm or less because a decrease in light transmittance can be suppressed. On the other hand, if the average diameter is 10 nm or more, the function as a conductor can be expressed significantly, and a larger average diameter is preferable because conductivity is improved. Therefore, the average diameter is more preferably 20 to 150 nm, and further preferably 40 to 150 nm. The average length of the metal nanowires 5 is preferably 1 μm or more from the viewpoint of conductivity, and preferably 100 μm or less from the viewpoint of the effect on the transparency due to aggregation. More preferably, it is 1-50 micrometers, and it is still more preferable that it is 3-50 micrometers. The average diameter and the average length of the metal nanowire 5 can be obtained from an arithmetic average of measured values of individual nanowire images by taking an electron micrograph of a sufficient number of nanowires using SEM or TEM. The length of the metal nanowire 5 should originally be obtained in a state of being straightly extended, but in reality, it is often bent, and thus the projected diameter of the metal nanowire 5 using an image analyzer from an electron micrograph. And the projected area is calculated, assuming a cylindrical body (length = projected area / projected diameter). The number of metal nanowires to be measured is preferably at least 100 or more, and more preferably 300 or more metal nanowires 5 are measured.

また本発明において、上記の屈折率制御用粒子6は、透明電極2の屈折率を調整するために含有されるものであり、透明電極2のマトリクス樹脂よりも低い屈折率を有するものが好ましい。屈折率制御用粒子6の屈折率の数値は特に限定されるものではないが、1.10〜1.45の範囲であることが好ましい。   In the present invention, the refractive index controlling particles 6 are contained for adjusting the refractive index of the transparent electrode 2 and preferably have a lower refractive index than the matrix resin of the transparent electrode 2. The numerical value of the refractive index of the refractive index controlling particle 6 is not particularly limited, but is preferably in the range of 1.10 to 1.45.

このような屈折率制御用粒子6としては、特に限定されるものではないが、例えばシリカ、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化セリウム、フッ化アルミニウム、アクリル粒子、スチレン粒子、ウレタン粒子、或いはこれらの複合物やナノポーラス粒子を挙げることができる。   Such refractive index controlling particles 6 are not particularly limited, but for example, silica, magnesium fluoride, calcium fluoride, cerium fluoride, aluminum fluoride, acrylic particles, styrene particles, urethane particles, or These composites and nanoporous particles can be mentioned.

また屈折率制御用粒子6としては、導電性金属酸化物粒子を用いることもできる。導電性金属酸化物としては、インジウム−錫酸化物(ITO)、インジウム−亜鉛酸化物(IZO)、錫酸化物、アンチモンドープ錫酸化物(ATO)とガリウムドープ亜鉛酸化物(GZO)の混合物などを挙げることができる。   Further, as the refractive index control particles 6, conductive metal oxide particles can also be used. Examples of the conductive metal oxide include indium-tin oxide (ITO), indium-zinc oxide (IZO), tin oxide, a mixture of antimony-doped tin oxide (ATO) and gallium-doped zinc oxide (GZO), etc. Can be mentioned.

透明電極2に含有させる屈折率制御用粒子6としてこのような導電性金属酸化物粒子を用いることによって、金属ナノワイヤ5による導電性に加えて、屈折率制御用粒子6でも導電性を付与することがでできるものであり、透明電極2の電気特性を向上することができるものである。   By using such conductive metal oxide particles as the refractive index control particles 6 to be contained in the transparent electrode 2, in addition to the conductivity by the metal nanowires 5, the refractive index control particles 6 can also have conductivity. The electrical characteristics of the transparent electrode 2 can be improved.

屈折率制御用粒子6は中実粒子であってもよく、また一つの空洞を外殻が覆う構造を有する中空粒子や、或いは多孔質粒子であってもよい。これらの中空粒子や多孔質粒子は、その内部の中空部によって屈折率を低く調整する効果を高く得ることができるので、好ましい。また、屈折率制御用粒子6の形状は球状であってもよく、異形状であってもよい。さらに屈折率制御用粒子6の表面は、シラン系、チタン系、アルミニウム系、或いはジルコニウム系カップリング剤等の有機金属化合物で処理されていてもよい。屈折率制御用粒子6は、上記したものから1種を単独で使用する他、複数種を併用することもできるが、これらのなかでも、特に中空状のシリカ粒子が好ましい。   The refractive index controlling particles 6 may be solid particles, or may be hollow particles having a structure in which one outer shell covers a single cavity, or porous particles. These hollow particles and porous particles are preferable because the effect of adjusting the refractive index to be low can be obtained by the hollow portion inside the hollow particles and porous particles. Further, the shape of the refractive index control particles 6 may be spherical or irregular. Furthermore, the surface of the refractive index control particles 6 may be treated with an organometallic compound such as a silane, titanium, aluminum, or zirconium coupling agent. The refractive index controlling particles 6 can be used alone or in combination with one or more of the above-described ones. Among these, hollow silica particles are particularly preferable.

また屈折率制御用粒子6の粒径は特に限定されるものではないが、その平均一次粒子径が100nm未満であることが好ましく、80nm以下であることが更に好ましい。屈折率制御用粒子6の平均一次粒子径が100nmを超えると、透明電極2の透明性が低下するおそれがある。屈折率制御用粒子6の粒径の下限は、実用上、平均一次粒子径で5nm程度である。尚、本発明において平均粒子径は、レーザ回折・散乱法によって測定された値である。   The particle diameter of the refractive index controlling particles 6 is not particularly limited, but the average primary particle diameter is preferably less than 100 nm, and more preferably 80 nm or less. If the average primary particle diameter of the refractive index control particles 6 exceeds 100 nm, the transparency of the transparent electrode 2 may be reduced. The lower limit of the particle size of the refractive index controlling particles 6 is practically about 5 nm in terms of average primary particle size. In the present invention, the average particle diameter is a value measured by a laser diffraction / scattering method.

透明電極2を形成する樹脂溶液への金属ナノワイヤ5の配合量は、後述のように透明電極2を形成した際に、透明電極2中に金属ナノワイヤ5が0.01〜90質量%含有されるように調整して設定するのが好ましい。金属ナノワイヤ5の含有量は0.1〜30質量%がより好ましく、さらに好ましくは0.5〜10質量%である。   The compounding quantity of the metal nanowire 5 to the resin solution which forms the transparent electrode 2 is 0.01-90 mass% of metal nanowires 5 in the transparent electrode 2 when the transparent electrode 2 is formed as described later. It is preferable to adjust and set as described above. As for content of the metal nanowire 5, 0.1-30 mass% is more preferable, More preferably, it is 0.5-10 mass%.

また透明電極2を形成する樹脂溶液への屈折率制御用粒子6の配合量は、樹脂固形分と屈折率制御用粒子6の合計量に対して10〜80質量%の範囲になるように設定するのが好ましく、より好ましくは20〜70質量%である。屈折率制御用粒子6の配合量がこの範囲未満であると、屈折率制御用粒子6を配合して透明電極2の屈折率を調整する効果が不十分になるおそれがあり、逆に屈折率制御用粒子6の配合量がこの範囲を超えて多いと、透明電極2の膜硬度が低下して、膜強度に問題が生じるおそれがある。   The blending amount of the refractive index control particles 6 in the resin solution forming the transparent electrode 2 is set to be in the range of 10 to 80% by mass with respect to the total amount of the resin solid content and the refractive index control particles 6. Preferably, it is 20 to 70% by mass. If the blending amount of the refractive index control particles 6 is less than this range, the effect of adjusting the refractive index of the transparent electrode 2 by blending the refractive index control particles 6 may be insufficient. When the blending amount of the control particles 6 exceeds this range, the film hardness of the transparent electrode 2 is lowered, and there is a possibility that a problem occurs in the film strength.

ここで、樹脂溶液には、マトリクス樹脂4の固形分、金属ナノワイヤ5、屈折率制御用粒子6など固形成分を溶解・分散するための溶剤が含有されることが必須であるが、溶剤の種類は特に限定されるものではない。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、あるいはこれらの混合物を用いることができる。これらの中でも、ケトン系の有機溶剤を用いるのが好ましく、ケトン系溶剤を用いて樹脂溶液を調製すると、透明基材の表面に容易に均一に塗布することができ、かつ、塗工後において溶剤の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いので、均一な厚さの大面積の透明導電膜を容易に得ることができるものある。また、溶剤としては上記の有機溶剤の他に、水を用いる場合もあり、有機溶剤と水を組み合わせて用いる場合もある。溶剤の量は、上記の各固形成分を均一に溶解・分散することができ、樹脂溶液を調製した後の保存時に凝集を来たさず、かつ、塗工時に希薄すぎない濃度となるように適宜調節するものである。この条件が満たされる範囲内で溶剤の使用量を少なくして高濃度の樹脂溶液を調製し、容量をとらない状態で保存し、使用時に必要分を取り出して塗工作業に適した濃度に溶剤で希釈するのが好ましい。固形分と溶剤の合計量を100質量部とした時に、全固形分0.1〜50質量部に対して、溶剤の量を50〜99.9質量部に設定するのが好ましく、さらに好ましくは、全固形分0.5〜30重量部に対して、溶剤を70〜99.5質量部の割合で用いることにより、特に分散安定性に優れ、長期保存に適した樹脂溶液を得ることができる。用いる樹脂と溶剤の組み合わせについては、特に規定されるものではないが、配合する樹脂が溶解しやすい溶剤を用いるほうが好ましい。また塗工する透明基板1によっては、用いる溶剤に溶解する場合もあるので、予め透明基板1への溶解性を確認したうえで適切な溶剤組成を設計することが望ましい。   Here, it is essential that the resin solution contains a solvent for dissolving and dispersing solid components such as the solid content of the matrix resin 4, the metal nanowires 5, and the refractive index control particles 6. Is not particularly limited. For example, alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; halogenated hydrocarbons; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene Or mixtures thereof can be used. Among these, it is preferable to use a ketone-based organic solvent. When a resin solution is prepared using a ketone-based solvent, it can be easily and uniformly applied to the surface of the transparent substrate, and the solvent after coating. Since the evaporation rate is moderate and hardly causes uneven drying, a transparent conductive film having a uniform thickness and a large area can be easily obtained. In addition to the above organic solvent, water may be used as the solvent, or an organic solvent and water may be used in combination. The amount of the solvent can uniformly dissolve and disperse each of the above solid components so that the concentration does not cause aggregation during storage after preparing the resin solution and is not too dilute during coating. Adjust as appropriate. Prepare a high-concentration resin solution by reducing the amount of solvent used within the range that satisfies this condition, store it in a state that does not take up the volume, take out the necessary amount at the time of use, and adjust the solvent to a concentration suitable for coating work. It is preferable to dilute with. When the total amount of the solid content and the solvent is 100 parts by mass, the amount of the solvent is preferably set to 50 to 99.9 parts by mass with respect to 0.1 to 50 parts by mass of the total solids, and more preferably By using 70 to 99.5 parts by mass of the solvent with respect to 0.5 to 30 parts by weight of the total solid content, a resin solution that is particularly excellent in dispersion stability and suitable for long-term storage can be obtained. . The combination of the resin and the solvent to be used is not particularly defined, but it is preferable to use a solvent in which the compounded resin is easily dissolved. Moreover, since it may melt | dissolve in the solvent to be used depending on the transparent substrate 1 to apply, it is desirable to design an appropriate solvent composition after confirming the solubility in the transparent substrate 1 in advance.

金属ナノワイヤ5や屈折率制御用粒子6を分散した樹脂溶液を透明基板1の表面に塗工するにあたっては、スピンコート、スクリーン印刷、ディップコート、ダイコート、キャスト、スプレーコート、グラビアコートなど任意の方法を採用することができる。   When coating the resin solution in which the metal nanowires 5 and the refractive index controlling particles 6 are dispersed on the surface of the transparent substrate 1, any method such as spin coating, screen printing, dip coating, die coating, casting, spray coating, gravure coating, etc. Can be adopted.

本発明において、透明電極2の上に設けられる有機発光層3を形成する有機EL材料としては、有機EL素子において従来から使用されている任意のものを用いることができる。例えば、アントラセン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス(8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム錯体、トリス(4−メチル−8−キノリナート)アルミニウム錯体、トリス(5−フェニル−8−キノリナート)アルミニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン金属錯体、トリ−(p−ターフェニル−4−イル)アミン、ピラン、キナクリドン、ルブレン、及びこれらの誘導体、あるいは、1−アリール−2,5−ジ(2−チエニル)ピロール誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、スチリルアミン誘導体、及びこれらの発光性化合物からなる基を分子の一部分に有する化合物あるいは高分子等を挙げることができる。また上記化合物に代表される蛍光色素由来の化合物のみならず、いわゆる燐光発光材料、例えばIr錯体、Os錯体、Pt錯体、ユーロピウム錯体等々の発光材料、又はそれらを分子内に有する化合物若しくは高分子も好適に用いることができる。   In the present invention, as an organic EL material for forming the organic light emitting layer 3 provided on the transparent electrode 2, any material conventionally used in organic EL elements can be used. For example, anthracene, naphthalene, pyrene, tetracene, coronene, perylene, phthaloperylene, naphthaloperylene, diphenylbutadiene, tetraphenylbutadiene, coumarin, oxadiazole, bisbenzoxazoline, bisstyryl, cyclopentadiene, coumarin, oxadiazole, bisbenzoxa Zoline, bisstyryl, cyclopentadiene, quinoline metal complex, tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum complex, tris (4-methyl-8-quinolinato) aluminum complex, tris (5-phenyl-8-quinolinato) aluminum complex, amino Quinoline metal complex, benzoquinoline metal complex, tri- (p-terphenyl-4-yl) amine, pyran, quinacridone, rubrene, and derivatives thereof, or 1 Examples include aryl-2,5-di (2-thienyl) pyrrole derivatives, distyrylbenzene derivatives, styrylarylene derivatives, styrylamine derivatives, and compounds or polymers having a group consisting of these luminescent compounds as part of the molecule. be able to. Further, not only compounds derived from fluorescent dyes typified by the above compounds, but also so-called phosphorescent materials, for example, luminescent materials such as Ir complexes, Os complexes, Pt complexes, and europium complexes, or compounds or polymers having these in the molecule It can be used suitably.

ここで、本発明では、有機発光層3の屈折率が透明基板1の屈折率よりも高くなるように、有機EL材料を選定するものであり、また有機発光層3と透明基板1の屈折率の差が0.3以下になるように、有機EL材料を選定するものである。有機発光層3と透明基板1の屈折率の差は小さいほど好ましく、理想的には0である。   Here, in the present invention, the organic EL material is selected so that the refractive index of the organic light emitting layer 3 is higher than the refractive index of the transparent substrate 1, and the refractive indexes of the organic light emitting layer 3 and the transparent substrate 1 are selected. The organic EL material is selected so that the difference between the two becomes 0.3 or less. The smaller the difference in refractive index between the organic light emitting layer 3 and the transparent substrate 1, the better. Ideally, it is zero.

また本発明において、有機発光層3の上に設けられる電極10の材料としては、Alなどを用いるのが一般的であるが、Alと他の電極材料を組み合わせて積層構造などとして構成することもできる。このような電極材料の組み合わせとしては、アルカリ金属とAlとの積層体、アルカリ金属と銀との積層体、アルカリ金属のハロゲン化物とAlとの積層体、アルカリ金属の酸化物とAlとの積層体、アルカリ土類金属や希土類金属とAlとの積層体、これらの金属種と他の金属との合金などを挙げることできる。具体的には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム、マグネシウムなどとAlとの積層体、マグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金、LiF/Al混合物/積層体、Al/Al混合物などを例として挙げることができる。勿論、上記に挙げた材料や形態は一例であり、これらに限定されるものではない。 In the present invention, Al or the like is generally used as the material of the electrode 10 provided on the organic light emitting layer 3, but a laminated structure or the like may be configured by combining Al and another electrode material. it can. Such electrode material combinations include alkali metal and Al laminates, alkali metal and silver laminates, alkali metal halides and Al laminates, and alkali metal oxides and Al laminates. And a laminate of alkaline earth metal or rare earth metal and Al, and alloys of these metal species with other metals. Specifically, a laminate of Al, sodium, sodium-potassium alloy, lithium, magnesium and the like, magnesium-silver mixture, magnesium-indium mixture, aluminum-lithium alloy, LiF / Al mixture / laminate, Al / Al 2 An O 3 mixture or the like can be mentioned as an example. Of course, the materials and forms listed above are merely examples, and the present invention is not limited to these.

上記のようにして形成される有機EL素子にあって、透明電極2は膜のマトリクス樹脂4中に含有される金属ナノワイヤ5同士が接触しあうことによって、高い導電性を発現するものである。そして透明電極2の屈折率は、マトリクス樹脂4中に含有される屈折率制御用粒子6の種類や、含有率を変えることによって調整することができるものである。   In the organic EL element formed as described above, the transparent electrode 2 exhibits high conductivity when the metal nanowires 5 contained in the matrix resin 4 of the film come into contact with each other. The refractive index of the transparent electrode 2 can be adjusted by changing the type and content of the refractive index control particles 6 contained in the matrix resin 4.

ここで本発明では、透明基板1の屈折率をn1、透明電極2の屈折率をn2、有機発光層3の屈折率n3とすると、n1≦n2≦n3となるように、すなわち透明電極2の屈折率n2が透明基板1の屈折率n1と有機発光層3の屈折率n3の間の数値になるように、透明電極2の屈折率n2を設定するようにしてある。そして上記のように透明基板1の屈折率n1と有機発光層3の屈折率n3の差は0.3以下、すなわちn3−n1≦0.3である。このため、有機発光層3の屈折率n3と透明電極2の屈折率n2の差や、透明電極2の屈折率n2と透明基板1の屈折率n3は小さくなり、有機発光層3で発光した光が透明電極2に入射される際に、有機発光層3と透明電極2の界面で全反射することを抑制することができると共に、また透明電極2を透過した光が透明基板1に入射される際に、透明電極2と透明基板1の界面で全反射することを抑制することができるものである。   Here, in the present invention, when the refractive index of the transparent substrate 1 is n1, the refractive index of the transparent electrode 2 is n2, and the refractive index n3 of the organic light emitting layer 3, n1 ≦ n2 ≦ n3 is satisfied. The refractive index n2 of the transparent electrode 2 is set so that the refractive index n2 is a value between the refractive index n1 of the transparent substrate 1 and the refractive index n3 of the organic light emitting layer 3. As described above, the difference between the refractive index n1 of the transparent substrate 1 and the refractive index n3 of the organic light emitting layer 3 is 0.3 or less, that is, n3−n1 ≦ 0.3. For this reason, the difference between the refractive index n3 of the organic light emitting layer 3 and the refractive index n2 of the transparent electrode 2, the refractive index n2 of the transparent electrode 2 and the refractive index n3 of the transparent substrate 1 become small, and the light emitted from the organic light emitting layer 3 Can be prevented from being totally reflected at the interface between the organic light emitting layer 3 and the transparent electrode 2 and light transmitted through the transparent electrode 2 is incident on the transparent substrate 1. At this time, total reflection at the interface between the transparent electrode 2 and the transparent substrate 1 can be suppressed.

従って、有機発光層3と透明電極2、透明電極2と透明基板1のそれぞれの界面で光の全反射を抑制することができるものであり、光の取出し効率を高めることができるものである。しかも透明電極2のマトリクス樹脂4中には屈折率制御用粒子6を含有するので、透明電極2内で光散乱を発生させることができるものであり、この光散乱効果によっても光の全反射を抑制することができ、光の取出し効率をより高めることができるものである。   Therefore, total reflection of light can be suppressed at each interface between the organic light emitting layer 3 and the transparent electrode 2, and between the transparent electrode 2 and the transparent substrate 1, and the light extraction efficiency can be increased. In addition, since the matrix resin 4 of the transparent electrode 2 contains the refractive index control particles 6, light scattering can be generated in the transparent electrode 2, and the total reflection of light is also caused by this light scattering effect. Therefore, the light extraction efficiency can be further increased.

ここで、透明電極2のマトリクス樹脂4の屈折率n4と屈折率制御用粒子6の屈折率n5は、その差が0.2以上あることが好ましい。このようにマトリクス樹脂4の屈折率n4と屈折率制御用粒子6の屈折率n5の差が大きいと、屈折率制御用粒子6による光散乱効果を高めることができるものであり、光の全反射を抑制して光の取出し効率をより高めることができるものである。   Here, the difference between the refractive index n4 of the matrix resin 4 of the transparent electrode 2 and the refractive index n5 of the refractive index control particles 6 is preferably 0.2 or more. Thus, when the difference between the refractive index n4 of the matrix resin 4 and the refractive index n5 of the refractive index control particles 6 is large, the light scattering effect by the refractive index control particles 6 can be enhanced, and the total reflection of light. And the light extraction efficiency can be further increased.

図2は本発明の他の実施の形態を示すものであり、透明基板1の透明電極2を設けた側と反対側の表面に反射防止層7が設けてある。このように透明基板1に反射防止層7を設けることによって、透明基板1を透過する光が、透明基板1と空気との界面で全反射することを抑制できるものであり、光の取出し効率をより高めることができるものである。   FIG. 2 shows another embodiment of the present invention, in which an antireflection layer 7 is provided on the surface of the transparent substrate 1 opposite to the side on which the transparent electrode 2 is provided. By providing the antireflection layer 7 on the transparent substrate 1 in this way, it is possible to prevent the light transmitted through the transparent substrate 1 from being totally reflected at the interface between the transparent substrate 1 and air, and to improve the light extraction efficiency. It can be increased.

また、透明基板1の透明電極2を設けた側と反対側の表面には、ガスバリア層を設けるようにしてもよい。このようにガスバリア層を設けることによって、湿気や酸素が有機EL内に侵入することを防ぐことができ、有機発光層3の劣化を抑制して、有機EL素子の寿命を長く維持することができるものである。   A gas barrier layer may be provided on the surface of the transparent substrate 1 opposite to the side where the transparent electrode 2 is provided. By providing the gas barrier layer in this manner, moisture and oxygen can be prevented from entering the organic EL, deterioration of the organic light emitting layer 3 can be suppressed, and the life of the organic EL element can be maintained long. Is.

次に、本発明を実施例によって具体的に説明する。   Next, the present invention will be specifically described with reference to examples.

(実施例1)
マトリクス樹脂4の形成材料として紫外線硬化型アクリル樹脂(新中村化学工業(株)製「A−DPH」、屈折率1.49)を7.50質量部、屈折率制御用粒子6として酸化Zr粒子(シーアイ化成社製、固形分20質量%、屈折率2.15)を30.0質量部用い、これらをメチルエチルケトン28.5質量部とメチルイソブチルケトン28.5質量部の混合溶媒に溶解した。次にこの溶液に金属ナノワイヤ5として銀ナノワイヤを配合した。銀ナノワイヤはMEKを分散媒として固形分30.0質量%で分散した分散液として用い、上記の混合溶液にこの分散液を5.0質量部加えてよく混合した。そしてさらに光重合開始剤1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバガイギー社製「イルガキュア184」)0.50質量部を加えてよく混合し、25℃の恒温雰囲気下で1時間撹拌混合することによって、乾燥時の固形分質量比率がマトリクス樹脂:屈折率制御用粒子:金属ナノワイヤ=50:40:10の樹脂溶液を調製した。
Example 1
7.50 parts by mass of ultraviolet curable acrylic resin (“A-DPH” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., refractive index 1.49) as a forming material of the matrix resin 4 and oxidized Zr particles as refractive index control particles 6 30.0 parts by mass (manufactured by CI Kasei Co., Ltd., solid content 20% by mass, refractive index 2.15) was used, and these were dissolved in a mixed solvent of 28.5 parts by mass of methyl ethyl ketone and 28.5 parts by mass of methyl isobutyl ketone. Next, silver nanowires were blended as metal nanowires 5 into this solution. The silver nanowire was used as a dispersion in which MEK was dispersed as a dispersion medium at a solid content of 30.0% by mass, and 5.0 parts by mass of this dispersion was added to the above mixed solution and mixed well. Further, 0.50 part by mass of a photopolymerization initiator 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Geigy) was added and mixed well, followed by stirring and mixing in a constant temperature atmosphere at 25 ° C. for 1 hour. A resin solution having a solid mass ratio upon drying of matrix resin: refractive index control particles: metal nanowires = 50: 40: 10 was prepared.

次に、透明基板1としてガラス基板(屈折率1.50)を用い、このガラス基板の表面に上記の樹脂溶液をスピンコートによって塗布し、常温(23℃)で2分間乾燥した後、さらに120℃で3分間加熱して乾燥した。その後、紫外線を強度500mJ/cmにて照射して硬化させることによって、膜厚0.5μmの透明電極2を形成した。尚、このように形成された透明電極2の屈折率は1.67であった。 Next, a glass substrate (refractive index: 1.50) is used as the transparent substrate 1, and the above resin solution is applied to the surface of the glass substrate by spin coating, dried at room temperature (23 ° C.) for 2 minutes, and then further 120 It was dried by heating at 3 ° C. for 3 minutes. Then, the transparent electrode 2 with a film thickness of 0.5 μm was formed by irradiating and curing ultraviolet rays at an intensity of 500 mJ / cm 2 . The transparent electrode 2 formed in this way had a refractive index of 1.67.

次に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリアニオンポリ(スチレンスルホン酸塩)を、前者をPEDOT、後者をPSSと略称とすると、PEDOT:PSS=1:2.5の組成比で混合した溶液を調製した。そして上記のように形成した透明電極2の上にこの溶液をスピンコート法により塗布し、200nmの膜厚になるように成膜して、120℃まで加熱することにより、ホール注入層を形成した。このPEDOT:PSS膜からなるこのホール注入層の屈折率は1.52であった。次に、TFB(Poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(4,4’-(N-(4-sec-butylphenyl))diphenylamine)])(アメリカンダイソース社製「Hole Transport Polymer ADS259BE」)をTHF溶媒に溶解した溶液を、膜厚12nmになるようにスピンコーターで塗布して、ホール注入層の上にTFB被膜を成膜し、これを200℃で10分間焼成することによって、ホール輸送層を形成した。このホール輸送層の屈折率は1.7であった。次にホール輸送層の上に赤色高分子(アメリカンダイソース社製「Light Emittingpolymer ATS111RE」)をTHF溶媒に溶解した溶液を、膜厚が70nmになるようにスピンコーターで塗布し、100℃で10分間焼成することによって、有機発光層3を形成した。この有機発光層3の屈折率を測定したところ1.7であった。さらにこの有機発光層3の上に電子注入層として、Ba(高純度化学製)を5nmの膜厚で形成した。   Next, when poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polyanionic poly (styrenesulfonate) are abbreviated as PEDOT and the latter as PSS, the composition ratio of PEDOT: PSS = 1: 2.5 A mixed solution was prepared. And this solution was apply | coated by the spin coat method on the transparent electrode 2 formed as mentioned above, and it formed into a film thickness so that it might become a film thickness of 200 nm, and formed the hole injection layer by heating to 120 degreeC. . The refractive index of this hole injection layer made of this PEDOT: PSS film was 1.52. Next, TFB (Poly [(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl) -co- (4,4 '-(N- (4-sec-butylphenyl)) diphenylamine)]) (manufactured by American Dice Source) “Hole Transport Polymer ADS259BE”) in THF solvent was applied with a spin coater to a film thickness of 12 nm, and a TFB film was formed on the hole injection layer. A hole transport layer was formed by firing. The refractive index of this hole transport layer was 1.7. Next, a solution obtained by dissolving a red polymer (“Light Emitting polymer ATS111RE” manufactured by American Dye Source) in a THF solvent is applied onto the hole transport layer with a spin coater so as to have a film thickness of 70 nm. The organic light emitting layer 3 was formed by baking for minutes. It was 1.7 when the refractive index of this organic light emitting layer 3 was measured. Further, Ba (manufactured by high purity chemical) was formed on the organic light emitting layer 3 as an electron injection layer with a film thickness of 5 nm.

そして最後に、電子注入層の上にAl(高純度化学社製)を80nmの膜厚で真空蒸着し、陰極となる電極4を形成した。このようにして、図1のような層構成の有機EL素子を得た。   Finally, Al (manufactured by High-Purity Chemical Co., Ltd.) was vacuum-deposited with a thickness of 80 nm on the electron injection layer to form the electrode 4 serving as a cathode. In this way, an organic EL element having a layer structure as shown in FIG. 1 was obtained.

(実施例2)
実施例1において、透明基板1としてフィルム状基材(PET、厚み125μm、屈折率1.65)を用いるようにした以外は、実施例1と同様にして、図1のような層構成の有機EL素子を得た。
(Example 2)
In Example 1, an organic material having a layer structure as shown in FIG. 1 was used in the same manner as in Example 1 except that a film-like substrate (PET, thickness 125 μm, refractive index 1.65) was used as the transparent substrate 1. An EL element was obtained.

(実施例3)
実施例1において、屈折率制御用粒子6としてITO粒子(シーアイ化成社製、固形分20質量%、屈折率2.10)を用いるようにし、その他は実施例1と同様にして透明電極2を形成した。この透明電極2の屈折率は1.60であった。そしてそれ以外は実施例1と同様にして、図1のような層構成の有機EL素子を得た。
(Example 3)
In Example 1, ITO particles (manufactured by CI Kasei Co., Ltd., solid content: 20% by mass, refractive index: 2.10) are used as the refractive index control particles 6. Formed. The refractive index of the transparent electrode 2 was 1.60. Otherwise, in the same manner as in Example 1, an organic EL element having a layer structure as shown in FIG. 1 was obtained.

(実施例4)
実施例1において、マトリクス樹脂4の形成材料として、アクリル樹脂のかわりにポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリアニオンポリ(スチレンスルホン酸塩)を、PEDOT:PSS=1:2.5の組成比で混合した溶液を用いるようにした他は、実施例1と同様にして透明電極2を形成した。この導電電極2においてマトリクス樹脂の屈折率は1.52であり、透明電極2の屈折率は1.68であった。そしてそれ以外は実施例1と同様にして、図1のような層構成の有機EL素子を得た。
Example 4
In Example 1, instead of acrylic resin, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polyanionic poly (styrene sulfonate) are used as the forming material of the matrix resin 4, and PEDOT: PSS = 1: 2.5. A transparent electrode 2 was formed in the same manner as in Example 1 except that the solution mixed at the composition ratio was used. In this conductive electrode 2, the refractive index of the matrix resin was 1.52, and the refractive index of the transparent electrode 2 was 1.68. Otherwise, in the same manner as in Example 1, an organic EL element having a layer structure as shown in FIG. 1 was obtained.

(実施例5)
実施例2において、PET基材からなる透明基板1の透明電極2と反対側の表面に、膜厚100nm,屈折率1.35の低屈率膜からなる反射防止層7を設けるようにした。この反射防止層7は、次のように調製したコーティング材組成物を透明基板1の表面に塗工することによって形成した。
(Example 5)
In Example 2, the antireflection layer 7 made of a low refractive index film having a film thickness of 100 nm and a refractive index of 1.35 was provided on the surface opposite to the transparent electrode 2 of the transparent substrate 1 made of a PET base material. The antireflection layer 7 was formed by coating the surface of the transparent substrate 1 with the coating material composition prepared as follows.

まず、テトラエトキシシラン208質量部にメタノール356質量部を加え、更に水18質量部及び0.01Nの塩酸水溶液18質量部(「HO」/「OR」=0.5」を加え、これをディスパーを用いてよく混合して混合液を得た。この混合液を25℃恒温槽中で2時間攪拌して、重量平均分子量を850に調整したシリコーンレジンをマトリクス形成材料として得た。次に、中空シリカ微粒子として中空シリカIPA(イソプロパノール)分散ゾル(固形分20質量%、平均一次粒子径35nm、外殻厚み約8nm、触媒化成工業社製)を用い、これをシリコーンレジンに加え、中空シリカ微粒子/シリコーンレジン(縮合化合物換算)が固形分基準で質量比が40/60になるように配合し、これを全固形分が3質量%になるようにメタノールで希釈することによって、コーティング材組成物を調製した。 First, 356 parts by mass of methanol was added to 208 parts by mass of tetraethoxysilane, and 18 parts by mass of water and 18 parts by mass of 0.01N hydrochloric acid aqueous solution (“H 2 O” / “OR” = 0.5 ”were added. This mixture was stirred for 2 hours in a constant temperature bath at 25 ° C. to obtain a silicone resin having a weight average molecular weight adjusted to 850 as a matrix forming material. In addition, hollow silica IPA (isopropanol) dispersion sol (solid content 20% by mass, average primary particle diameter 35 nm, outer shell thickness about 8 nm, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.) is used as a hollow silica fine particle. Silica fine particles / silicone resin (condensation compound equivalent) is blended so that the mass ratio is 40/60 on a solid basis, so that the total solid content is 3% by mass. By dilution with methanol to prepare a coating material composition.

そしてそれ以外は実施例1と同様にして、図2のような層構成の有機EL素子を得た。   Otherwise, in the same manner as in Example 1, an organic EL element having a layer structure as shown in FIG. 2 was obtained.

(比較例1)
透明基板1の表面に、ITO膜(屈折率2.1)をスパッタすることによって、透明電極2を形成した。そしてそれ以外は実施例1と同様にして、図3のような層構成の有機EL素子を得た。
(Comparative Example 1)
A transparent electrode 2 was formed on the surface of the transparent substrate 1 by sputtering an ITO film (refractive index 2.1). Otherwise, in the same manner as in Example 1, an organic EL element having a layer structure as shown in FIG. 3 was obtained.

(比較例2)
マトリクス樹脂4の形成材料として紫外線硬化型アクリル樹脂(新中村化学工業(株)製「A−DPH」、屈折率1.49)を13.50質量部用い、これをメチルエチルケトン40.5質量部とメチルイソブチルケトン40.5質量部の混合溶媒に溶解した。次にこの溶液に金属ナノワイヤ5として銀ナノワイヤを配合した。銀ナノワイヤはMEKを分散媒として固形分30.0質量%で分散した分散液として用い、上記の混合溶液にこの分散液を5.0質量部加えてよく混合した。そしてさらに光重合開始剤1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバガイギー社製「イルガキュア184」)0.50質量部を加えてよく混合し、25℃の恒温雰囲気下で1時間撹拌混合することによって、乾燥時の固形分質量比率がマトリクス樹脂:屈折率制御用粒子:金属ナノワイヤ=90:0:10の樹脂溶液を調製した。
(Comparative Example 2)
13.50 parts by mass of UV curable acrylic resin (“A-DPH” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., refractive index 1.49) is used as a material for forming the matrix resin 4, and 40.5 parts by mass of methyl ethyl ketone It melt | dissolved in the mixed solvent of 40.5 mass parts of methyl isobutyl ketone. Next, silver nanowires were blended as metal nanowires 5 into this solution. The silver nanowire was used as a dispersion in which MEK was dispersed as a dispersion medium at a solid content of 30.0% by mass, and 5.0 parts by mass of this dispersion was added to the above mixed solution and mixed well. Further, 0.50 part by mass of a photopolymerization initiator 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Geigy) was added and mixed well, followed by stirring and mixing in a constant temperature atmosphere at 25 ° C. for 1 hour. A resin solution in which the solid content mass ratio at the time of drying was matrix resin: refractive index control particles: metal nanowires = 90: 0: 10 was prepared.

次に、透明基板1としてガラス基板(屈折率1.50)を用い、このガラス基板の表面に上記の樹脂溶液をスピンコートによって塗布し、常温(23℃)で2分間乾燥した後、さらに120℃で3分間加熱して乾燥した。その後、紫外線を強度500mJ/cmにて照射して硬化させることによって、膜厚0.5μmの透明電極2を形成した。このように形成された透明電極2の屈折率は1.49であった。 Next, a glass substrate (refractive index: 1.50) is used as the transparent substrate 1, and the above resin solution is applied to the surface of the glass substrate by spin coating, dried at room temperature (23 ° C.) for 2 minutes, and then further 120 It was dried by heating at 3 ° C. for 3 minutes. Then, the transparent electrode 2 with a film thickness of 0.5 μm was formed by irradiating and curing ultraviolet rays at an intensity of 500 mJ / cm 2 . The refractive index of the transparent electrode 2 thus formed was 1.49.

そしてそれ以外は実施例1と同様にして、有機EL素子を得た。
(比較例3)
比較例2において、マトリクス樹脂4の形成材料として、アクリル樹脂のかわりにポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリアニオンポリ(スチレンスルホン酸塩)を、PEDOT:PSS=1:2.5の組成比で混合した溶液を用いるようにした他は、実施例1と同様にして透明電極2を形成した。この導電電極2においてマトリクス樹脂の屈折率は1.52であり、また透明電極2の屈折率も1.68であった。そしてそれ以外は比較例2と同様にして、有機EL素子を得た。
Other than that, an organic EL device was obtained in the same manner as in Example 1.
(Comparative Example 3)
In Comparative Example 2, as a material for forming the matrix resin 4, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polyanionic poly (styrenesulfonate) are used instead of acrylic resin, and PEDOT: PSS = 1: 2.5. A transparent electrode 2 was formed in the same manner as in Example 1 except that the solution mixed at the composition ratio was used. In this conductive electrode 2, the refractive index of the matrix resin was 1.52, and the refractive index of the transparent electrode 2 was 1.68. And otherwise, it carried out similarly to the comparative example 2, and obtained the organic EL element.

上記のように作製した実施例1〜5の有機ELについて、2V印加時の電流値と、外部量子効率比を測定した。   About the organic EL of Examples 1-5 produced as mentioned above, the electric current value at the time of 2V application and an external quantum efficiency ratio were measured.

ここで、有機EL素子に2V印加時の電流値は、DC電源(ケースレイ社製)を用いて測定した。   Here, the current value when 2 V was applied to the organic EL element was measured using a DC power source (manufactured by Caseley).

また、同じくDC電源(ケースレイ社製)を用い、有機EL素子内部に流れる電流を10mA/cmに固定し、輝度計(トプコン社製)を用いて有機EL素子の特性評価を行なった。そして正面輝度(cd/m)と電流効率(cd/A)を、10°ごとの角度方位で−80°〜+80°まで測定し、これを基に全光束[外部量子効率(%)]を算出した。表1には、比較例1を「1.0」として、その倍率で「外部量子効率比」を示した。 Similarly, a DC power source (manufactured by Caseley) was used, the current flowing inside the organic EL element was fixed at 10 mA / cm 2, and the characteristics of the organic EL element were evaluated using a luminance meter (manufactured by Topcon). Then, front luminance (cd / m 2 ) and current efficiency (cd / A) are measured from −80 ° to + 80 ° in angular orientations every 10 °, and based on this, the total luminous flux [external quantum efficiency (%)] Was calculated. In Table 1, “External quantum efficiency ratio” is shown as a comparative example 1 with “1.0” as the magnification.

Figure 2013101751
Figure 2013101751

表1にみられるように、透明基板の屈折率n1、透明電極の屈折率n2、有機発光層の屈折率n3の関係が、透明電極がITOの比較例1では、n1≦n3≦n2になっており、また比較例2ではn2≦n1≦n3になっているのに対して、実施例1〜5ではn1≦n2≦n3の関係であるので、各実施例のものは、外部量子効率が高く、光の取出し効率が向上していることが確認される。   As seen in Table 1, the relationship between the refractive index n1 of the transparent substrate, the refractive index n2 of the transparent electrode, and the refractive index n3 of the organic light emitting layer is n1 ≦ n3 ≦ n2 in Comparative Example 1 where the transparent electrode is ITO. In Comparative Example 2, n2 ≦ n1 ≦ n3, whereas in Examples 1-5, the relationship is n1 ≦ n2 ≦ n3. It is confirmed that the light extraction efficiency is high.

また特許文献2に相当する比較例3ではn1≦n2≦n3の関係であるが、透明電極に屈折率制御用粒子が含有されていないので光散乱効果が得られず、光の取出し効率を向上する効果は不十分であることが確認される。   In Comparative Example 3 corresponding to Patent Document 2, the relationship is n1 ≦ n2 ≦ n3. However, since the refractive index control particles are not contained in the transparent electrode, the light scattering effect cannot be obtained, and the light extraction efficiency is improved. It is confirmed that the effect to do is insufficient.

1 透明基板
2 透明電極
3 有機発光層
4 マトリクス樹脂
5 金属ナノワイヤ
6 屈折率制御用粒子
7 反射防止層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 2 Transparent electrode 3 Organic light emitting layer 4 Matrix resin 5 Metal nanowire 6 Refractive index control particle 7 Antireflection layer

Claims (5)

透明基板と、透明基板の上に設けられた透明電極と、透明電極の上に設けられた有機発光層とを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、透明電極はマトリクス樹脂中に金属ナノワイヤ及び屈折率制御用粒子を含有して形成されていると共に、透明基板の屈折率n1、透明電極の屈折率n2、有機発光層の屈折率n3は、n1≦n2≦n3、n3−n1≦0.3の関係に設定されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。   An organic electroluminescent device comprising a transparent substrate, a transparent electrode provided on the transparent substrate, and an organic light emitting layer provided on the transparent electrode, wherein the transparent electrode is a metal nanowire and a refractor in a matrix resin. The refractive index n1 of the transparent substrate, the refractive index n2 of the transparent electrode, and the refractive index n3 of the organic light emitting layer are n1 ≦ n2 ≦ n3 and n3−n1 ≦ 0.3. An organic electroluminescence element characterized by being set to a relationship of 透明電極の上記マトリクス樹脂の屈折率n4と上記屈折率制御用粒子の屈折率n5の差が0.2以上であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   2. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein a difference between a refractive index n <b> 4 of the matrix resin of the transparent electrode and a refractive index n <b> 5 of the refractive index control particles is 0.2 or more. 透明電極の上記マトリクス樹脂は導電性高分子であることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   3. The organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the matrix resin of the transparent electrode is a conductive polymer. 透明電極の上記屈折率制御用粒子は導電性金属酸化物粒子であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescence device according to any one of claims 1 to 3, wherein the refractive index control particles of the transparent electrode are conductive metal oxide particles. 透明基板の上記透明電極を設けた側と反対側の表面に反射防止層を設けたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescence device according to any one of claims 1 to 4, wherein an antireflection layer is provided on the surface of the transparent substrate opposite to the side on which the transparent electrode is provided.
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