JP2011020407A - Manufacturing method of uneven pattern - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printing plate by which high definition printed matter can be prepared, in a manufacturing technique of a printing plate including a process of forming a pattern by laser engraving. <P>SOLUTION: This is a manufacturing method of a printing plate including a laser engraving process in which a resin layer is engraved using laser. The laser engraving process is such that the resin layer is engraved with the output of 20-80% of the maximum output of the laser, with 50-1,000 W, and with the number of lines of 120 lpi or more. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザー彫刻によりパターン形成を行う凹凸パターンの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a concavo-convex pattern in which pattern formation is performed by laser engraving.

近年、紙・フィルム等の軟質包装材料に対する印刷方法として、いわゆるフレキソ印刷が広く用いられており、例えば、段ボール、紙器、紙袋、軟包装用フィルム等の各種包装材、壁紙、化粧板等の各種建装材、ラベルに対する印刷法として、その比重が高まりつつある。
フレキソ印刷用の印刷版を製造するためには、通常、感光性樹脂(液状の樹脂又はシート状に成形された固体樹脂板等)が用いられる。
具体的には、所定のフォトマスクを感光性樹脂上に置き、マスクを介して光照射し、感光性樹脂を架橋反応させた後、架橋反応していない未露光部分を現像液で洗い落として、パターンが形成された印刷版を作製するという方法が用いられている。
近年においては、所定の感光性樹脂版の表面に、ブラックレイヤーという薄い光吸収層を設け、これにレーザー光を照射し、感光性樹脂版上に直接マスク画像を形成し、そのマスク画像を通して光照射を行い架橋反応させ、その後、非架橋部分を現像液で洗い落とすという効率的な印刷版の製造方法であるフレキソCTP(Computer to Plate)技術が開発されている。
In recent years, so-called flexographic printing has been widely used as a printing method for soft packaging materials such as paper and film. For example, various packaging materials such as corrugated cardboard, paper containers, paper bags, and soft packaging films, wallpaper, decorative plates, and the like. As a printing method for building materials and labels, its specific gravity is increasing.
In order to produce a printing plate for flexographic printing, a photosensitive resin (a liquid resin or a solid resin plate formed into a sheet shape) is usually used.
Specifically, after placing a predetermined photomask on the photosensitive resin, irradiating with light through the mask, causing the photosensitive resin to undergo a crosslinking reaction, the unexposed portion that has not undergone the crosslinking reaction is washed away with a developer, A method of producing a printing plate on which a pattern is formed is used.
In recent years, a thin light-absorbing layer called a black layer is provided on the surface of a predetermined photosensitive resin plate, and this is irradiated with laser light to form a mask image directly on the photosensitive resin plate, and light is transmitted through the mask image. A flexo CTP (Computer to Plate) technique, which is an efficient method for producing a printing plate in which a crosslinking reaction is performed by irradiation, and then a non-crosslinked portion is washed away with a developer, has been developed.

しかしながら、このフレキソCTP技術においても印刷版作製工程において現像工程が必須であるため、より一層の製造工程の効率化が求められている。
現像工程を必要としない印刷版の製造方法として、樹脂層に対して直接レーザーで彫刻し、パターン形成を行う方法がある。
この技術においては、版材としてレーザー彫刻版が用いられ、製版時間の短縮、廃棄物の減少等の利点がある。
下記特許文献1においては、レーザー彫刻工程で発生する彫刻カスを除去せしめた印刷版であって、2ポイントの凸部および凹文字、30μm幅の細線、100μmの直径の独立点ならびに156lpi、1%網点が形成されてなるレーザー彫刻印刷版が開示されている。
However, even in this flexo CTP technology, since a developing process is essential in the printing plate preparation process, further efficiency in the manufacturing process is required.
As a method for producing a printing plate that does not require a development step, there is a method in which a resin layer is directly engraved with a laser to form a pattern.
In this technique, a laser engraving plate is used as a plate material, and there are advantages such as shortening of plate making time and reduction of waste.
In the following Patent Document 1, a printing plate from which engraving debris generated in a laser engraving process is removed, which is a two-point convex part and a concave character, a 30 μm-wide thin line, an independent point of a diameter of 100 μm, and 156 lpi, 1% A laser engraving printing plate in which halftone dots are formed is disclosed.

特開2008−105429号公報JP 2008-105429 A

上記特許文献1に開示されている技術は、レーザー彫刻工程で発生する彫刻カスを除去せしめた印刷版であって、2ポイントの凸部および凹文字、30μm幅の細線、100μmの直径の独立点ならびに156lpi、1%網点が形成されてなるレーザー彫刻印刷版についての記載がある。
しかし、印刷品質、特に高精細な印刷再現を図ることについては何ら検討がなされておらず、かかる観点からは、未だ改良すべき余地が多くある。
The technique disclosed in Patent Document 1 is a printing plate from which engraving residue generated in a laser engraving process is removed, and has two points of convex portions and concave characters, a thin line of 30 μm width, and an independent point of a diameter of 100 μm. In addition, there is a description of a laser engraving printing plate in which 156 lpi and 1% halftone dots are formed.
However, no consideration has been given to print quality, particularly high-definition print reproduction, and there is still much room for improvement from this point of view.

そこで本発明においては、レーザー彫刻によりパターン形成を行う工程を含む凹凸パターンの製造技術において、高密度の凹凸パターンを提供することを目的とする。さらに、本発明においては、優れた印刷品質、特に高精細な印刷再現が可能な印刷版の製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a high-density concavo-convex pattern in a concavo-convex pattern manufacturing technique including a step of performing pattern formation by laser engraving. Furthermore, an object of the present invention is to provide a method for producing a printing plate capable of excellent print quality, particularly high-definition printing reproduction.

そこで、本発明者らは、上述した従来技術の課題を解決するために、凹凸パターンの製造方法に関して鋭意検討を行った結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下の通りである。
樹脂層をレーザーを用いて彫刻するレーザー彫刻工程を含む凹凸パターンの製造方法であって、前記レーザー彫刻工程が、使用するレーザーの最大出力の20%〜80%の出力であって、50W以上1000W以下で、120lpi以上の線数で樹脂層に彫刻する工程である、凹凸パターン製造方法。
Accordingly, the present inventors have intensively studied on a method for producing a concavo-convex pattern in order to solve the above-described problems of the prior art, and as a result, the present invention has been completed. That is, the present invention is as follows.
A method for producing a concavo-convex pattern including a laser engraving process for engraving a resin layer using a laser, wherein the laser engraving process has an output of 20% to 80% of a maximum output of a laser to be used, and is 50 W or more and 1000 W In the following, a method for producing a concavo-convex pattern, which is a step of engraving a resin layer with a line number of 120 lpi or more.

本発明によれば、レーザー彫刻によりパターン形成する工程を含む凹凸パターンの製造技術において、高密度の凹凸パターンを提供することができる。さらに、本発明によれば、高精細な印刷再現が可能な印刷版を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, a high-density uneven | corrugated pattern can be provided in the manufacturing technology of the uneven | corrugated pattern including the process of forming a pattern by laser engraving. Furthermore, according to the present invention, a printing plate capable of high-definition printing reproduction can be provided.

実施例1〜5より得られたドットゲインカーブ。The dot gain curve obtained from Examples 1-5. 比較例1〜5より得られたドットゲインカーブ。The dot gain curve obtained from Comparative Examples 1-5.

以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、本実施の形態)について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の記載に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施できる。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as the present embodiment) will be described in detail. In addition, this invention is not limited to the following description, In the range of the summary, various deformation | transformation can be implemented.

〔凹凸パターンの製造方法〕
本実施の形態は、レーザー彫刻工程を含む凹凸パターンの製造方法であって、前記レーザー彫刻工程が、レーザーの最大出力の20%〜80%の出力であって、50W以上1000W以下で、かつ、120(lpi)((インチ当たりの線数)以上の線数で樹脂層を彫刻する工程である凹凸パターンの製造方法である。
[Method of manufacturing uneven pattern]
The present embodiment is a method for producing a concavo-convex pattern including a laser engraving process, wherein the laser engraving process has an output of 20% to 80% of the maximum output of the laser, and is 50 W or more and 1000 W or less, and It is a manufacturing method of the uneven | corrugated pattern which is the process of engraving a resin layer with the number of lines more than 120 (lpi) ((number of lines per inch)).

本実施の形態において、レーザー彫刻は50W以上1000W以下で行う。このような仕事率でレーザー彫刻を行うと、高密度の凹凸パターンを鮮明に形成できる。   In this embodiment mode, laser engraving is performed at 50 W to 1000 W. When laser engraving is performed at such a power, a high-density concavo-convex pattern can be clearly formed.

本実施の形態では、使用するレーザーの最大出力の20〜80%を利用して、50W以上1000W以下という出力を得る。レーザー彫刻の生産性を単純に考慮すると、通常は、レーザーの最大出力、すなわち100%の出力を使用することとなる。しかし、本発明者の研究によれば、最大出力を利用せず、あえてレーザーの最大出力の20〜80%の出力で彫刻すると、高密度な凹凸パターンであっても、再現性よく形成できることが判明した。すなわち、例えば同じ300Wの仕事率でレーザー彫刻するとしても、最大出力300Wのレーザーの100%の出力で行う場合と、最大出力500Wのレーザーの60%の出力で行う場合とでは、高密度な凹凸パターンの再現性に差異があり、最大出力500Wのレーザーの60%の出力で行えば、通常は難しい高密度な凹凸パターンのレーザー彫刻が再現性よく実現できることが分かった。
そして、このような凹凸パターン製造方法を印刷版の製造に適用すると、ドットゲインプロットをした際に濃度ジャンプが起こらず、高品質な印刷物を得ることが可能な印刷版を製造することが可能となった。
前記レーザー彫刻工程におけるレーザーの出力はレーザーの最大出力の20%〜80%の出力、好ましくは20%〜75%の出力、より好ましくは25%〜72%の出力、よりさらに好ましくは30%〜70%の出力である。この範囲であれば安定的にレーザー彫刻を行うことができる。
In the present embodiment, an output of 50 W or more and 1000 W or less is obtained by using 20 to 80% of the maximum output of the laser to be used. Considering simply the productivity of laser engraving, usually the maximum output of the laser, ie 100% output, is used. However, according to the inventor's research, engraving with an output of 20 to 80% of the maximum output of the laser without using the maximum output can be formed with high reproducibility even with a high-density uneven pattern. found. That is, even when laser engraving is performed at the same 300 W power, for example, when 100% output of a laser with a maximum output of 300W is performed and when 60% output of a laser with a maximum output of 500W is performed, high density unevenness It was found that there was a difference in the reproducibility of the pattern, and laser engraving of a high-density concavo-convex pattern, which is usually difficult, could be realized with good reproducibility if performed at 60% output of a laser with a maximum output of 500 W.
And, when such a concavo-convex pattern manufacturing method is applied to the production of a printing plate, it is possible to produce a printing plate that does not cause a density jump when dot gain plotting and can obtain a high-quality printed matter. became.
The laser output in the laser engraving process is 20% to 80% of the maximum output of the laser, preferably 20% to 75%, more preferably 25% to 72%, and even more preferably 30% to The output is 70%. Within this range, laser engraving can be performed stably.

また、前記レーザー彫刻工程により作成した凹凸パターンの密度は120lpi以上、好ましくは125lpi以上、より好ましくは133lpi以上である。この範囲であれば高精細な印刷物とみなすことができる。   The density of the concavo-convex pattern created by the laser engraving process is 120 lpi or more, preferably 125 lpi or more, more preferably 133 lpi or more. Within this range, it can be regarded as a high-definition printed matter.

前記レーザー彫刻に用いるデータ(以下、「彫刻元データ」ということがある。)の解像度は、好ましくは100dpi(インチあたりのドットの数)以上5000dpi以下、さらに好ましくは100dpi以上5000dpi以下である。この範囲とすることにより、シャドウ及びハイライトのバランスのとれた凹凸パターンが得られる。
前記彫刻元データのピクセル内でのドットの配置には、通常AMスクリーンが用いられるが、FMスクリーン、またそれらを組み合わせたハイブリッドを用いてもよい。
The resolution of data used for the laser engraving (hereinafter also referred to as “engraving original data”) is preferably 100 dpi (number of dots per inch) to 5000 dpi, more preferably 100 dpi to 5000 dpi. By setting it in this range, a concavo-convex pattern in which the shadow and highlight are balanced can be obtained.
An AM screen is usually used for the arrangement of dots in the engraving source data pixels, but an FM screen or a hybrid combining them may be used.

レーザー彫刻に用いるレーザーは、適用する樹脂層が吸収を有する波長を含むものであればよく、特に限定されるものではない。
具体的には、密閉式炭酸ガスレーザーや流通式炭酸ガスレーザー、YAGレーザー、半導体レーザー等の赤外線あるいは赤外線放出固体レーザーが、好適なレーザーとして挙げられる。
また、可視光線領域に発振波長を有するYAGレーザーの第2高調波、銅蒸気レーザー、紫外線領域に発振波長を有する紫外線レーザー、例えばエキシマレーザー、第3又は第4高調波へ波長変換したYAGレーザーは、有機分子の結合を切断するアブレージョン加工が可能なレーザーであり、微細加工を行うために好適なレーザーである。
The laser used for laser engraving is not particularly limited as long as the applied resin layer includes a wavelength having absorption.
Specifically, an infrared or infrared emitting solid laser such as a sealed carbon dioxide laser, a flow-through carbon dioxide laser, a YAG laser, or a semiconductor laser can be cited as a suitable laser.
In addition, the second harmonic of a YAG laser having an oscillation wavelength in the visible light region, a copper vapor laser, an ultraviolet laser having an oscillation wavelength in the ultraviolet region, such as an excimer laser, and a YAG laser that has been wavelength-converted to the third or fourth harmonic are: It is a laser capable of ablation processing that cuts the bonds of organic molecules, and is a laser suitable for performing fine processing.

上述したレーザーの照射は、連続照射でも、パルス照射でもよい。
樹脂層に対するレーザー彫刻を行う雰囲気に限定はなく、例えば、酸素含有ガス下、一般的に空気存在下又は気流下でレーザー彫刻を実施できるが、炭酸ガス、窒素ガス存在下で行ってもよい。
レーザー彫刻終了後、発生する粉末状又は液状の物質は、所定の方法、例えば、溶剤や界面活性剤を含有する水等で洗浄する方法、強アルカリ性電解水、高圧スプレー等により水系洗浄剤を使用する方法、高圧スチームを照射する方法等により除去できる。
The laser irradiation described above may be continuous irradiation or pulse irradiation.
There is no limitation on the atmosphere for performing laser engraving on the resin layer. For example, laser engraving can be performed in an oxygen-containing gas, generally in the presence of air or in an air stream, but may be performed in the presence of carbon dioxide gas or nitrogen gas.
After completion of laser engraving, the powdered or liquid substance generated uses a predetermined method, for example, a method of cleaning with water containing a solvent or a surfactant, a strong alkaline electrolyzed water, a high-pressure spray, etc. Or by irradiating with high-pressure steam.

レーザー彫刻工程においては、所望の画像をデジタル型のデータとしておき、所定のコンピューターを利用し、彫刻用のレーザー装置を用いてレーザー彫刻を行い、樹脂層上にレリーフ画像を形成することができる。
前記レーザー彫刻は複数回に分けて行ってもよく、複数回の彫刻は同じ光源を用いてもよいし異なる光源を用いてもよい。
In the laser engraving process, a desired image can be set as digital data, and a predetermined image can be used to perform laser engraving using a laser device for engraving to form a relief image on the resin layer.
The laser engraving may be performed in a plurality of times, and the same light source or different light sources may be used for the plurality of times of engraving.

前記レーザー彫刻は、具体的には、公知の技術、例えば特開2001−146064号公報に記載されている技術を利用して行うことができる。
具体的には、先ず、コンピューター等の版下作成装置で作製した版下データをフロッピーディスク(登録商標)、MOディスク、CD、DVD、ポータブルハードディスク、LAN等を介してレーザー彫刻の制御装置に読み込む。続いて、この制御装置が加工制御プログラムに従い版下データを解析し、実行ファイルを作成し、樹脂層に彫刻開始を指令する。続いて、印刷原版の凹部に相当する部分にレーザーを出力して樹脂層を彫刻する。
なお、レーザー彫刻工程に使用するレーザーとしては、複数のレーザーヘッドを具備するレーザー、単数のレーザーを分割する機能を有するレーザー、ソフトウェアで同時に複数箇所の彫刻を行う機能を有する彫刻機等を用いることができ、凹凸パターンの製造工程数が短縮化し、製造効率が向上する。
Specifically, the laser engraving can be performed using a known technique, for example, a technique described in JP-A-2001-146064.
Specifically, first, the block data created by a block forming device such as a computer is read into a laser engraving control device via a floppy disk (registered trademark), MO disk, CD, DVD, portable hard disk, LAN, etc. . Subsequently, the control device analyzes the composition data in accordance with the machining control program, creates an execution file, and instructs the resin layer to start engraving. Subsequently, the resin layer is engraved by outputting a laser to a portion corresponding to the concave portion of the printing original plate.
In addition, as a laser used for the laser engraving process, a laser having a plurality of laser heads, a laser having a function of dividing a single laser, an engraving machine having a function of simultaneously engraving a plurality of places with software, and the like are used. This can shorten the number of manufacturing steps of the concavo-convex pattern and improve the manufacturing efficiency.

前記レーザー彫刻中の樹脂層の彫刻速度が2m/s以上18m/s以下であることが好ましい。ここで、彫刻速度とは、レーザーの主走査方向の走査速度をいう。より好ましくは2m/s以上17m/s、よりさらに好ましくは2m/s以上16m/sである。この範囲であれば安定的に樹脂層が移動することができる。   The engraving speed of the resin layer during the laser engraving is preferably 2 m / s or more and 18 m / s or less. Here, the engraving speed refers to the scanning speed of the laser in the main scanning direction. More preferably, they are 2 m / s or more and 17 m / s, More preferably, they are 2 m / s or more and 16 m / s. If it is this range, a resin layer can move stably.

前記レーザーの彫刻送りピッチが5μm以上20μm以下であることが好ましい。ここで、彫刻送りピッチとは、凹凸パターンを形成する原版が円筒状のもの又は円筒状に固定したものである場合には、原版もしくは円筒状原版が1回転したときに、レーザーのレーザーヘッドが副走査方向に動く距離を意味する。また、原版が平板状のものである又は平面に固定したもの(フラットベッド)である場合、レーザーヘッドが前の行の彫刻を終えて次の行へ移動したときに、レーザーヘッドが副走査方向に動く距離を意味する。彫刻送りピッチは、より好ましくは7μm以上18μm、よりさらに好ましくは10μm以上15μmである。この範囲であれば安定的にドットを形成することができる。この場合、レーザーはワークが副走査方向に可動しても、レーザーヘッドが副走査に可動するタイプの彫刻機のどちらでも構わない。   The laser engraving feed pitch is preferably 5 μm or more and 20 μm or less. Here, the engraving feed pitch means that when the original forming the concave / convex pattern is cylindrical or fixed in a cylindrical shape, when the original or the cylindrical original is rotated once, the laser head of the laser is This means the distance moved in the sub-scanning direction. Also, when the original plate is a flat plate or fixed to a flat surface (flat bed), when the laser head moves to the next row after engraving the previous row, the laser head moves in the sub-scanning direction. Means the distance to move. The engraving feed pitch is more preferably 7 μm or more and 18 μm, and still more preferably 10 μm or more and 15 μm. Within this range, dots can be stably formed. In this case, the laser may be either a type of engraving machine in which the workpiece is movable in the sub-scanning direction or the laser head is movable in the sub-scanning direction.

前記レーザーの最大出力が60W以上1200W以下であることが好ましい。より好ましくは100W以上800W以下、さらに好ましくは150W以上700W以下である。この範囲であればレーザー彫刻の生産性向上と安定性を保つことができる。
レーザーの出力については、例えば、レーザーヘッドから射出したレーザーを、レーザパワーメータ ディスプレイであるフィールド・メイト(商品名、米国、コヒレント社製)をパワーセンサーPM5K(商品名、米国、コヒレント社製)と組み合わせる等して測定できる。
It is preferable that the maximum output of the laser is 60 W or more and 1200 W or less. More preferably, they are 100W or more and 800W or less, More preferably, they are 150W or more and 700W or less. Within this range, the productivity and stability of laser engraving can be maintained.
Regarding the output of the laser, for example, the laser emitted from the laser head, the field mate (trade name, manufactured by Coherent, USA) which is a laser power meter display, and the power sensor PM5K (trade name, manufactured by Coherent, USA) It can be measured by combining them.

凹凸パターンが印刷版である場合、前記レーザーにより彫刻した樹脂層の面積率が1%の網点部を構成する各凸部の高さが、ベタ印刷部の高さよりも10μm以上150μm以下低くなっていることが好ましい。この範囲は樹脂層の硬度、印刷機、印刷インキ、被印刷体、印刷版の構成、すなわちクッション層や支持体などにより異なるが、より好ましくは10μm以上100μm以下、より更に好ましくは10μm以上80μm以下である。この範囲であれば高精細な印刷に適する。   When the concavo-convex pattern is a printing plate, the height of each convex part constituting the halftone dot part having an area ratio of 1% of the resin layer engraved by the laser is 10 μm or more and 150 μm or less lower than the height of the solid printing part. It is preferable. This range varies depending on the hardness of the resin layer, the printing press, the printing ink, the printing medium, the printing plate, that is, the cushion layer and the support, etc., more preferably 10 μm to 100 μm, still more preferably 10 μm to 80 μm. It is. This range is suitable for high-definition printing.

[樹脂層]
本実施の形態において、樹脂層は、レーザーを照射により凹部を形成することが可能であれば特に制限されないが、例えば熱可塑性樹脂層や硬化性樹脂組成物の硬化物層が挙げられ、レーザー彫刻性の観点から好ましくは硬化性樹脂組成物の硬化物層である。硬化性樹脂組成物の硬化物層としては、熱硬化性樹脂組成物の熱硬化物層や、感光性樹脂組成物の光硬化物層が挙げられる。樹脂層の厚みは、最終的に目的とする凹凸パターンの使用目的に応じて任意に選択でき、0.1〜7mmが好ましい。
[Resin layer]
In the present embodiment, the resin layer is not particularly limited as long as the concave portion can be formed by irradiation with a laser, and examples thereof include a thermoplastic resin layer and a cured layer of a curable resin composition, and laser engraving. From the viewpoint of properties, a cured product layer of a curable resin composition is preferable. Examples of the cured product layer of the curable resin composition include a thermoset product layer of a thermosetting resin composition and a photocured product layer of a photosensitive resin composition. The thickness of the resin layer can be arbitrarily selected according to the intended use of the concavo-convex pattern, and is preferably 0.1 to 7 mm.

[熱可塑性樹脂層]
樹脂層の具体例である熱可塑性樹脂層としては、エラストマーであっても非エラストマーであっても構わない。
熱可塑性エラストマーとして特に限定するものではないが、スチレン系熱可塑性エラストマーであるSBS(ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン)、SIS(ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン)、SEBS(ポリスチレン−ポリエチレン/ポリブチレン−ポリスチレン)、SBR(スチレン−ブタジエンゴム)等、オレフィン系熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー、シリコーン系熱可塑性エラストマー等を挙げることができる。なお、熱可塑性エラストマーとは、加熱することにより流動し通常の熱可塑性プラスチック同様成形加工ができ、常温ではゴム弾性を示す材料である。分子構造としては、ポリエーテルあるいはゴム分子のようなソフトセグメントと、常温付近では加硫ゴムと同じく塑性変形を防止するハードセグメントからなり、ハードセグメントとしては凍結相、結晶相、水素結合、イオン架橋など種々のタイプが存在する。
[Thermoplastic resin layer]
The thermoplastic resin layer that is a specific example of the resin layer may be an elastomer or a non-elastomer.
Although it does not specifically limit as a thermoplastic elastomer, SBS (polystyrene-polybutadiene-polystyrene), SIS (polystyrene-polyisoprene-polystyrene), SEBS (polystyrene-polyethylene / polybutylene-polystyrene), SBR which are styrenic thermoplastic elastomers. (Styrene-butadiene rubber) and the like, olefin-based thermoplastic elastomer, urethane-based thermoplastic elastomer, ester-based thermoplastic elastomer, amide-based thermoplastic elastomer, silicone-based thermoplastic elastomer, and the like. The thermoplastic elastomer is a material that flows by heating and can be molded like a normal thermoplastic, and exhibits rubber elasticity at room temperature. The molecular structure consists of soft segments such as polyether or rubber molecules, and hard segments that prevent plastic deformation at around room temperature, as with vulcanized rubber. The hard segments include frozen phase, crystalline phase, hydrogen bonding, and ionic crosslinking. There are various types.

凹凸パターンの用途により、熱可塑性エラストマーの種類を選択できる。例えば、耐溶剤性が要求される分野では、ウレタン系、エステル系、アミド系、フッ素系熱可塑性エラストマーが好ましく、耐熱性が要求される分野では、ウレタン系、オレフィン系、エステル系、フッ素系熱可塑性エラストマーが好ましい。また、熱可塑性エラストマーの種類により、硬度を大きく変えることができる。本実施の形態において製造する凹凸パターンを通常の印刷版として使用する場合には、ショアA硬度が20〜75度の領域とすることが好ましく、紙、フィルム、建築材料等の表面に凹凸パターンを形成するためのエンボス加工に使用する場合には、比較的硬い材料が必要であり、ショアD硬度で、30〜80度の領域とすることが好ましい。   The type of thermoplastic elastomer can be selected depending on the use of the uneven pattern. For example, urethane, ester, amide, and fluorine thermoplastic elastomers are preferred in fields where solvent resistance is required, and urethane, olefin, ester, and fluorine heat are required in fields where heat resistance is required. A plastic elastomer is preferred. Moreover, hardness can be changed greatly with the kind of thermoplastic elastomer. When the uneven pattern produced in the present embodiment is used as a normal printing plate, the Shore A hardness is preferably in the range of 20 to 75 degrees, and the uneven pattern is formed on the surface of paper, film, building material, etc. When used for embossing to form, a relatively hard material is required, and it is preferable to have a Shore D hardness of 30 to 80 degrees.

非エラストマー性のものとして、特に限定するものではないが、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、不飽和ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂等を挙げることができる。
熱可塑性樹脂の軟化温度は、好ましくは50℃以上500℃以下、より好ましくは80℃以上350℃以下、更に好ましい範囲は100℃以上250℃以下である。軟化温度が50℃以上であれば常温で固体として取り扱うことができ、シート状あるいは円筒状に加工したものを変形させることなく取り扱うことができる。また軟化温度が500℃以下である場合、シート状あるいは円筒状に加工する際に極めて高い温度に加熱する必要がなく、混合する他の化合物を変質、分解させずに済む。本実施の形態において、軟化温度の測定は、動的粘弾性測定装置を用い、室温から温度を上昇していった場合、粘性率が大きく変化する(粘性率曲線の傾きが変化する)最初の温度を軟化温度とする。
As non-elastomeric, there is no particular limitation, but polyester resin, unsaturated polyester resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyurethane resin, unsaturated polyurethane resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyimide resin, polycarbonate Examples thereof include resins and wholly aromatic polyester resins.
The softening temperature of the thermoplastic resin is preferably 50 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or higher and 350 ° C. or lower, and further preferably 100 ° C. or higher and 250 ° C. or lower. If the softening temperature is 50 ° C. or higher, it can be handled as a solid at room temperature, and a sheet or cylinder processed can be handled without deformation. When the softening temperature is 500 ° C. or lower, it is not necessary to heat to a very high temperature when processing into a sheet or cylinder, and it is not necessary to alter or decompose other compounds to be mixed. In this embodiment, the softening temperature is measured by using a dynamic viscoelasticity measuring device. When the temperature is increased from room temperature, the viscosity changes greatly (the slope of the viscosity curve changes). Let temperature be the softening temperature.

[熱硬化性樹脂組成物の熱硬化物層]
熱硬化性樹脂組成物の熱硬化物としては、例えば前記熱可塑性エラストマーに重合性モノマーを混合した樹脂組成物の熱硬化物を言う。ここで使用できる熱可塑性エラストマーの具体例としては、スチレン系熱可塑性エラストマーであるSBS(ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン)、SIS(ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン)、SEBS(ポリスチレン−ポリエチレン/ポリブチレン−ポリスチレン)等、オレフィン系熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー、シリコン系熱可塑性エラストマー、フッ素系熱可塑性エラストマー等を挙げることができる。
[Thermosetting material layer of thermosetting resin composition]
As a thermosetting material of a thermosetting resin composition, the thermosetting material of the resin composition which mixed the polymerizable monomer with the said thermoplastic elastomer is said, for example. Specific examples of the thermoplastic elastomer that can be used here include SBS (polystyrene-polybutadiene-polystyrene), SIS (polystyrene-polyisoprene-polystyrene), and SEBS (polystyrene-polyethylene / polybutylene-polystyrene), which are styrenic thermoplastic elastomers. Olefin-based thermoplastic elastomer, urethane-based thermoplastic elastomer, ester-based thermoplastic elastomer, amide-based thermoplastic elastomer, silicon-based thermoplastic elastomer, fluorine-based thermoplastic elastomer, and the like.

[感光性樹脂組成物の光硬化物層]
感光性樹脂組成物を構成する樹脂(a)は、光の照射により硬化するものであれば特に限定はない。その数平均分子量の範囲は、好ましくは1000以上50万以下、より好ましくは2000以上30万以下、更に好ましくは5000以上10万以下である。数平均分子量が1000以上であれば、硬化物としたときに印刷版としての使用にも耐えうる機械的強度を十分確保でき、また、50万以下であれば、レーザー光線照射により十分に分解させることができる。本発明において数平均分子量とは、ゲルパー浸透クロマトグラフィー(GPC)を用いて測定し、分子量既知のポリスチレン標品に対して評価したものである。
レーザー彫刻性の観点から、樹脂(a)の分子鎖中に分解し易いモノマー単位としてスチレン、アクリルエステル類、メタクリルエステル類、エステル化合物類、エーテル化合物類、ニトロ化合物類、脂肪族環状化合物類等が含まれていることが好ましい。特にポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラエチレングリコール等のポリエーテル類、脂肪族ポリカーボネート類、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ニトロセルロース、ポリオキシエチレン、ポリノルボルネン、ポリシクロヘキサジエン水添物、あるいは分岐構造の多いデンドリマー等の樹脂は、分解し易いものの代表例である。樹脂の分解し易さを測る指標として、空気下において熱重量分析法を用いて測定した重量減少率がある。本発明で用いる樹脂(a)の重量減少率は、500℃において50wt%以上であることが好ましい。50wt%以上であれば、レーザー光線の照射により樹脂を充分に分解させることができる。
[Photocured layer of photosensitive resin composition]
The resin (a) constituting the photosensitive resin composition is not particularly limited as long as it is cured by light irradiation. The range of the number average molecular weight is preferably 1000 or more and 500,000 or less, more preferably 2000 or more and 300,000 or less, and further preferably 5000 or more and 100,000 or less. If the number average molecular weight is 1000 or more, sufficient mechanical strength to withstand use as a printing plate when cured is obtained, and if it is 500,000 or less, it can be sufficiently decomposed by laser beam irradiation. Can do. In the present invention, the number average molecular weight is measured using Gel Permeation Chromatography (GPC) and is evaluated with respect to a polystyrene sample having a known molecular weight.
From the viewpoint of laser engraving properties, styrene, acrylic esters, methacrylic esters, ester compounds, ether compounds, nitro compounds, aliphatic cyclic compounds, etc. as monomer units that are easily decomposed in the molecular chain of the resin (a) Is preferably included. Especially polyethers such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetraethylene glycol, aliphatic polycarbonates, polymethyl methacrylate, polystyrene, nitrocellulose, polyoxyethylene, polynorbornene, polycyclohexadiene hydrogenated, or branched structure Many resins such as dendrimers are representative examples of those that are easily decomposed. As an index for measuring the ease of decomposing the resin, there is a weight reduction rate measured using thermogravimetric analysis under air. The weight reduction rate of the resin (a) used in the present invention is preferably 50 wt% or more at 500 ° C. If it is 50 wt% or more, the resin can be sufficiently decomposed by irradiation with a laser beam.

また、感光性樹脂組成物は、ラジカル重合反応あるいは開環重合反応に関与する不飽和結合を有する有機化合物を含んでいてもよい。このような有機化合物としては、例えば、エチレン、プロピレン、スチレン、ジビニルベンゼン等のオレフィン類、アセチレン類、(メタ)アクリル酸及びその誘導体、ハロオレフィン類、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類、(メタ)アクリルアミド及びその誘導体、アリルアルコール、アリルイソシアネート等のアリル化合物、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸及びそれらの誘導体、酢酸ビニル類、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、シアネートエステル類等が挙げられる。
また、感光性樹脂組成物は、光重合開始剤や安定剤等のその他の添加剤を含んでいてもよい。
The photosensitive resin composition may contain an organic compound having an unsaturated bond that participates in radical polymerization reaction or ring-opening polymerization reaction. Examples of such organic compounds include olefins such as ethylene, propylene, styrene, and divinylbenzene, acetylenes, (meth) acrylic acid and derivatives thereof, haloolefins, unsaturated nitriles such as acrylonitrile, (meth) Acrylamide and its derivatives, allyl compounds such as allyl alcohol and allyl isocyanate, unsaturated dicarboxylic acids such as maleic anhydride, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid and their derivatives, vinyl acetates, N-vinylpyrrolidone, N-vinyl Examples thereof include carbazole and cyanate esters.
Moreover, the photosensitive resin composition may contain other additives, such as a photoinitiator and a stabilizer.

[染料・顔料]
一般に、樹脂材料は、炭酸ガスレーザーの10μm近傍に吸収を持つため、レーザー光の吸収を助ける成分を樹脂層に添加することは必須ではない。しかしYAGレーザーは、波長が1.06μm近傍であり、かかる波長のレーザーに対する吸収を有する樹脂はあまり存在しない。よって、レーザー彫刻にYAGレーザーを使用する場合には、吸収を助ける成分として染料や顔料を樹脂層に添加することが好ましい。
染料の具体例としては、ポリ(置換)フタロシアニン化合物、金属含有フタロシアニン化合物、シアニン化合物、スクアリリウム染料、カルコゲノピリロアリリデン染料、クロロニウム染料、金属チオレート染料、ビス(カルコゲノピリロ)ポリメチン染料、オキシインドリジン染料、ビス(アミノアリール)ポリメチン染料、メロシアニン染料及びキノイド染料等が挙げられる。
顔料の具体例としては、カーボンブラック、グラファイト、亜クロム酸銅、酸化クロム、コバルトクロームアルミネート、酸化銅、酸化鉄等の暗色の無機顔料;鉄、アルミニウム、銅、亜鉛等の金属粉;及びこれらの金属にSi、Mg、P、Co、Ni、Y等をドープしたもの等が挙げられる。
上記染料及び顔料は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよいし、樹脂層が複数の感光性樹脂層からなる場合には、層ごとに含有する染料・含量が異なるものとしてもよい。
但し、樹脂層の製造工程において、光を用いて感光性樹脂組成物を硬化させる工程がある場合、光硬化に使用する光の波長における光吸収が大きな有機/無機化合物(染料及び顔料)の添加量は、樹脂層の製造に支障のない範囲にすることが好ましい。感光性樹脂組成物を光硬化せしめて樹脂層とする場合は、感光性樹脂組成物全体量に対する、染料及び顔料の合計の添加比率は5質量%以下が好ましく、2質量%以下がより好ましい。なお、硬化性樹脂組成物を熱硬化させて樹脂層とする場合や、光や熱による硬化は行わない樹脂層の場合はこの限りではない。
[Dye / Pigment]
In general, since the resin material has absorption in the vicinity of 10 μm of the carbon dioxide laser, it is not essential to add a component that assists in the absorption of laser light to the resin layer. However, the YAG laser has a wavelength in the vicinity of 1.06 μm, and there are not many resins having absorption for the laser having such a wavelength. Therefore, when a YAG laser is used for laser engraving, it is preferable to add a dye or a pigment to the resin layer as a component that aids absorption.
Specific examples of dyes include poly (substituted) phthalocyanine compounds, metal-containing phthalocyanine compounds, cyanine compounds, squarylium dyes, chalcogenopyrylarylidene dyes, chloronium dyes, metal thiolate dyes, bis (chalcogenopyrrillo) polymethine dyes, oxyindolizine dyes Bis (aminoaryl) polymethine dyes, merocyanine dyes and quinoid dyes.
Specific examples of pigments include dark inorganic pigments such as carbon black, graphite, copper chromite, chromium oxide, cobalt chrome aluminate, copper oxide and iron oxide; metal powders such as iron, aluminum, copper and zinc; and These metals may be doped with Si, Mg, P, Co, Ni, Y or the like.
The above dyes and pigments may be used alone or in combination of two or more, and when the resin layer is composed of a plurality of photosensitive resin layers, the dye and content contained in each layer May be different.
However, when there is a step of curing the photosensitive resin composition using light in the production process of the resin layer, addition of organic / inorganic compounds (dyes and pigments) having a large light absorption at the wavelength of light used for photocuring The amount is preferably in a range that does not hinder the production of the resin layer. When the photosensitive resin composition is photocured to form a resin layer, the total addition ratio of the dye and the pigment to the total amount of the photosensitive resin composition is preferably 5% by mass or less, and more preferably 2% by mass or less. Note that this is not the case when the curable resin composition is thermally cured to form a resin layer, or when the resin layer is not cured by light or heat.

樹脂層は、単層構造であってもよいが、組成の異なる材料を複数積層した構造であってもよい。例えば、最表面にYAGレーザー、ファイバーレーザー、半導体レーザー等の近赤外線領域に発振波長を有するレーザーを用いて彫刻することができる層を形成し、その層の下層に、炭酸ガスレーザー等の赤外線レーザー、可視・紫外線レーザーを用いてレーザー彫刻可能な層を形成した構成としてもよい。このような積層構造とすることにより、極めて高出力の炭酸ガスレーザーを用いて比較的粗いパターンを深く彫刻し、表面近傍には、極めて精細なパターンを、YAGレーザー、ファイバーレーザー等の近赤外線レーザーを用いて彫刻できる。表面近傍の精細なパターンは、比較的浅く彫刻できればよいので、この近赤外線レーザーに感度のある層の厚さは0.01mm以上0.5mm以下の範囲とすることが好ましい。
このように近赤外線レーザーに感度のある層と赤外線レーザーに感度のある層とを積層した構成とすることにより、近赤外線レーザーを用いて彫刻されたパターンの深さを正確に制御できる。これは、赤外線レーザーに感度のある層を、近赤外線レーザーでは彫刻することが困難である現象が利用できるからである。
なお、パターンの精細さの違いは、レーザー装置固有の発振波長の違い、すなわち絞れるレーザービーム径の違いに起因して制御できる。
このような方法でレーザー彫刻を行う場合、赤外線レーザーと近赤外線レーザーを、それぞれ搭載したレーザー彫刻装置を用いてもよく、また、赤外線レーザーと近赤外線レーザーとの両方を搭載したレーザー彫刻装置を用いてもよい。
The resin layer may have a single layer structure, or may have a structure in which a plurality of materials having different compositions are stacked. For example, a layer that can be engraved using a laser having an oscillation wavelength in the near infrared region such as a YAG laser, a fiber laser, or a semiconductor laser is formed on the outermost surface, and an infrared laser such as a carbon dioxide laser is formed below the layer. Alternatively, a layer capable of laser engraving using a visible / ultraviolet laser may be formed. By adopting such a laminated structure, a relatively rough pattern is deeply engraved using an extremely high output carbon dioxide laser, and an extremely fine pattern is formed near the surface by a near infrared laser such as a YAG laser or a fiber laser. Can be engraved using. The fine pattern in the vicinity of the surface only needs to be relatively shallow and can be engraved. Therefore, the thickness of the layer sensitive to the near infrared laser is preferably in the range of 0.01 mm to 0.5 mm.
As described above, by stacking the layer sensitive to the near infrared laser and the layer sensitive to the infrared laser, the depth of the pattern engraved using the near infrared laser can be accurately controlled. This is because a phenomenon that makes it difficult to engrave a layer sensitive to an infrared laser with a near infrared laser can be used.
Note that the difference in the fineness of the pattern can be controlled due to the difference in the oscillation wavelength inherent to the laser device, that is, the difference in the diameter of the laser beam that can be reduced.
When performing laser engraving by this method, you may use a laser engraving device equipped with an infrared laser and a near-infrared laser, respectively, or use a laser engraving device equipped with both an infrared laser and a near-infrared laser. May be.

以下、具体的な実施例及び比較例を挙げて詳細に説明する。
なお、以下において、「部」及び「%」は、「質量部」及び「質量%」を各々意味する。
Hereinafter, specific examples and comparative examples will be described in detail.
In the following, “parts” and “%” mean “parts by mass” and “% by mass”, respectively.

〔製造例〕樹脂層の作成
温度計、攪拌機、還流器を備えた1Lのセパラブルフラスコに、旭化成ケミカルズ株式会社製ポリカーボネートジオール「PCDL T4672」(商標)(数平均分子量2025、OH価55.4)402.60gと、トリレンジイソシアネート24.01gとを加え、40℃加温下で約1時間、80rpmにて攪拌した後、触媒としてジブチルチンジラウレートを0.2g添加し、3時間反応させた。
次に、2−メタクリロイルオキシイソシアネート11.53gを添加し、さらに約3時間反応させて、末端がメタアクリル基(分子内の重合性不飽和基が1分子あたり平均約2.0個)である数平均分子量約7500の、樹脂層形成用の樹脂(a)を調製した。
この樹脂(a)は、20℃では水飴状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。
上記樹脂(a)100質量部に対し、下記の有機化合物、光重合開始剤、及び安定剤等を混合し、樹脂層形成用の樹脂組成物を調製した。
有機化合物として、共栄社化学株式会社製のフェノキシエチルメタクリレート「ライトエステルPO」(商標)37.3質量部、及び共栄社化学株式会社製のジエチレングリコールモノブチルエーテルモノメタクリレート「ライトエステルBC」(商標)11.9質量部を用いた。
光重合開始剤として、崩壊型光重合開始剤である2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノンを3.0質量部、水素引き抜き型光重合開始剤であるベンゾフェノン0.8質量部を用いた。
安定剤として、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノールを0.9質量部、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケートを1.5質量部使用した。
添加剤として、信越化学工業株式会社のシリコーンオイル「KF−410」(商標)1.5質量部、富士シリシア化学株式会社製の無機多孔質体「サイロスフェアC−1504」(商標)(数平均粒子径4.5μm、比表面積520m2/g、平均細孔径12nm、細孔容積1.5mL/g、灼熱減量2.5質量%、吸油量290mL/100g、添加した多孔質球状シリカであるサイロスフェアC−1504の真球度は、走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、ほぼ全ての粒子が0.9以上であった)を7.7質量部添加した。
これにより、20℃で液状の樹脂組成物を作製した。
[Production Example] Preparation of Resin Layer Into a 1 L separable flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, polycarbonate diol “PCDL T4672” (trademark) manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation (number average molecular weight 2025, OH value 55.4). ) 402.60 g and 24.01 g of tolylene diisocyanate were added and stirred at 80 rpm for about 1 hour under heating at 40 ° C. Then, 0.2 g of dibutyltin dilaurate was added as a catalyst and reacted for 3 hours. .
Next, 11.53 g of 2-methacryloyloxyisocyanate is added and further reacted for about 3 hours, and the terminal is a methacrylic group (the average number of polymerizable unsaturated groups in the molecule is about 2.0 per molecule). A resin layer forming resin (a) having a number average molecular weight of about 7500 was prepared.
This resin (a) was in the form of a syrup at 20 ° C., flowed when an external force was applied, and did not recover its original shape even when the external force was removed.
The following organic compound, photopolymerization initiator, stabilizer and the like were mixed with 100 parts by mass of the resin (a) to prepare a resin composition for forming a resin layer.
As organic compounds, 37.3 parts by mass of phenoxyethyl methacrylate “Light Ester PO” (trademark) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. and diethylene glycol monobutyl ether monomethacrylate “Light Ester BC” (trademark) 11.9 manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Part by mass was used.
As a photopolymerization initiator, 3.0 parts by mass of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, which is a decay type photopolymerization initiator, and 0.8 parts by mass of benzophenone, which is a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator, were used.
As stabilizers, 0.9 parts by mass of 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol and 1.5 parts by mass of bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate used.
As additives, 1.5 parts by mass of silicone oil “KF-410” (trademark) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., an inorganic porous material “Syrosphere C-1504” (trademark) manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd. (number average) Silo which is a porous spherical silica having a particle diameter of 4.5 μm, a specific surface area of 520 m 2 / g, an average pore diameter of 12 nm, a pore volume of 1.5 mL / g, a loss on ignition of 2.5% by mass, an oil absorption of 290 mL / 100 g. The sphericity of Sphere C-1504 was observed with a scanning electron microscope, and almost all particles were 0.9 or more).
This produced the liquid resin composition at 20 degreeC.

次に、支持体として、内径152.905mm、外径155.880mm、幅1000mmの繊維強化プラスチック製スリーブ(独、POLYWEST社製、商標「Polyflex RUBIN」を用意した。
支持体上に、クッションテープ(独、Lohmann社製、商標「Duploflex5.3」)を貼り、その上に、前述のようにして調製した樹脂層形成用の樹脂組成物を、ドクターブレードで塗工した。
その後、これにメタルハライドランプ(アイ・グラフィックス社製、商標「M056−L21」)の紫外線を12000mJ/cm2(UVメーターとUV−35−APRフィルターを用いて積算したエネルギー量)照射し、硬化させ、樹脂層を形成し、印刷原版(支持体と樹脂層の積層体)を得た。
硬化後の印刷周長が500mmとなるように、樹脂層の最外面を研削、研磨して調整し、印刷性評価用の印刷原版を得た。
この印刷原版を同様の方法で10本作製した。
Next, a fiber-reinforced plastic sleeve (trade name “Polyflex RUBIN”, manufactured by POLYWEST, Germany) having an inner diameter of 152.905 mm, an outer diameter of 155.880 mm, and a width of 1000 mm was prepared as a support.
Cushion tape (trademark “Duploflex 5.3” manufactured by Lohmann, Germany) is pasted on the support, and the resin composition for forming the resin layer prepared as described above is applied thereon with a doctor blade. did.
Thereafter, the metal halide lamp (trade name “M056-L21” manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) was irradiated with 12000 mJ / cm 2 (energy amount accumulated using a UV meter and a UV-35-APR filter), and cured. Thus, a resin layer was formed to obtain a printing original plate (a laminate of a support and a resin layer).
The outermost surface of the resin layer was adjusted by grinding and polishing so that the printing peripheral length after curing was 500 mm to obtain a printing original plate for printability evaluation.
Ten printing original plates were produced by the same method.

(1)彫刻画像
彫刻画像は下記の形状を含むように作成した。
網点は、20%、25%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、のパターンを作成した。
別途、0%から100%までのグラデーションのパターンを作成した。
細線は30μm幅、60μm幅、100μm幅、150μm幅、200μm幅、250μm幅、500μm幅のパターンを作成した。
白抜き線は30μm幅、60μm幅、100μm幅、150μm幅、200μm幅、250μm幅、500μm幅のパターンを作成した。
細字は2point、3point、4point、6point、8pointを明朝体、ゴシック体で作成した。
白抜き細字は2point、3point、4point、6point、8pointを明朝体、ゴシック体で作成した。
(1) Engraving image The engraving image was created to include the following shapes.
For the halftone dots, patterns of 20%, 25%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, and 80% were created.
Separately, a gradation pattern from 0% to 100% was created.
The fine lines produced patterns with a width of 30 μm, 60 μm, 100 μm, 150 μm, 200 μm, 250 μm, and 500 μm.
The white lines produced patterns with a width of 30 μm, 60 μm, 100 μm, 150 μm, 200 μm, 250 μm, and 500 μm.
The fine characters are 2 points, 3 points, 4 points, 6 points, and 8 points in Mincho and Gothic.
White thin letters were created in 2 points, 3 points, 4 points, 6 points, and 8 points in Mincho and Gothic.

(2)レリーフ深度
レリーフ深度を大きく設定すると、微細な網点部のパターンのレリーフ面の面積が確保できず、形状も崩れて不鮮明となるため、レリーフ深度を0.5mmとした。
「レリーフ深度」とは、印刷版の印刷部(レリーフ面)と非印刷部(バック面)の高低差を意味する。
(2) Relief depth When the relief depth is set large, the area of the relief surface of the fine halftone dot pattern cannot be secured, and the shape collapses and becomes unclear, so the relief depth is set to 0.5 mm.
“Relief depth” means a difference in height between a printing portion (relief surface) and a non-printing portion (back surface) of a printing plate.

(3)レーザー彫刻 以下のレーザーを用い、2540dpiの彫刻パターンを彫刻した。
(3−1)レーザー(i)(Stork AGRIOS5212M(オーストリア、STORK社製、最大出力500Wのガス流通式レーザー発信器を搭載))
このレーザーを用いてレーザー彫刻を行う場合には、以下の条件に従った。
Speed(彫刻速度)(m/sec):適宜変更
Power limit(最大出力に対する割合)(%):適宜変更
スクリーン線数(lpi):適宜変更
(3−2)レーザー(ii)(英国、ZED社製、商標「ZED−mini−1000」(米国、コヒーレント社製、最大出力250W炭酸ガスレーザーを搭載))
このレーザーを用いてレーザー彫刻を行う場合には、以下の条件に従った。
Bottom Power(最大出力に対する割合)(%):適宜変更
Width:0.5mm
Speed(彫刻速度)(m/sec):適宜変更
(3) Laser engraving A 2540 dpi engraving pattern was engraved using the following laser.
(3-1) Laser (i) (Stork AGRIOS 5212M (made by Stork, Austria, equipped with a gas flow type laser transmitter with a maximum output of 500 W))
When performing laser engraving using this laser, the following conditions were followed.
Speed (engraving speed) (m / sec): change as appropriate Power limit (percentage of maximum output) (%): change as appropriate Screen frequency (lpi): change as appropriate (3-2) Laser (ii) (UK, ZED) Manufactured, trademark "ZED-mini-1000" (manufactured by Coherent, USA, equipped with a maximum output 250W carbon dioxide laser)
When performing laser engraving using this laser, the following conditions were followed.
Bottom Power (percentage of maximum output) (%): Change as appropriate Width: 0.5 mm
Speed (engraving speed) (m / sec): Change as appropriate

(4)印刷品質の評価
レーザー彫刻を行った印刷版を用いて、印刷を行い、印刷品質を評価した。
印刷機は、「FlexPress16S」(独国、Fischer&Krecke社製、商標)を用いた。
インキは、溶剤「XS−812」(大日本インキ化学工業社製、商標)を用いて、インキ粘度を、ザーンカップ4番を用いて、8.4秒(容量45ccのカップに開けた直径4mmの穴から、インキが30cm下まで落ちるのに要する秒数)に調製したものを用いた。
被印刷体として、厚み45μmの乳白ポリエチレンフィルムを用いた。
アニロックスロールの線数は900(lpi)、アニロックスロールのセル容積は4ccとした。
印刷速度は200m/分とした。
印刷物の網点の面積率の評価は、画像解析装置(株式会社NIRECO製、商標「LUZEX」)を用いて行った。1画面の中に20個程度のドットが収まるように印刷物を撮影し、撮影した画像について、インキの付着箇所(ドット)と付着していない箇所に分けて2値化を行った。この2値化データに基づいて、インクの付着箇所の全体に対する面積割合を求め、「ドットの面積率」とした。
(4) Evaluation of printing quality Printing was performed using a printing plate subjected to laser engraving, and the printing quality was evaluated.
The printer used was “FlexPress16S” (trademark, manufactured by Fischer & Krecke, Germany).
The ink was prepared using a solvent “XS-812” (trademark, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), and the viscosity of the ink was 8.4 seconds using a Zahn cup No. 4 (diameter 4 mm opened in a 45 cc cup). The number of seconds required for the ink to fall to 30 cm below from the hole of the above was used.
A milk white polyethylene film having a thickness of 45 μm was used as the printing material.
The number of wires of the anilox roll was 900 (lpi), and the cell volume of the anilox roll was 4 cc.
The printing speed was 200 m / min.
The evaluation of the area ratio of the halftone dots of the printed material was performed using an image analysis apparatus (trademark “LUZEX” manufactured by NIRECO Co., Ltd.). The printed matter was photographed so that about 20 dots could be accommodated in one screen, and the photographed image was binarized by dividing it into ink adhering portions (dots) and non-adhering portions. Based on this binarized data, the area ratio with respect to the whole area where the ink was deposited was obtained and was defined as “dot area ratio”.

(5)印刷物の評価
(4)で得た印刷物のドットの面積率を上記(4)に記載の方法で測定し、ドットゲインカーブをプロットした。ドットゲインカーブとは、x−y軸のx軸に彫刻元データの網点の面積率、y軸に印刷物の網点の面積率をプロットした図である。彫刻元データの20%から80%の間で濃度ジャンプの有無を確認した。濃度ジャンプとはドットゲインカーブ中の断続的な変化がある箇所をいい、濃度ジャンプがあると印刷物の網点の階調が狭くなり高精細な印刷品質を損なう。具体的には彫刻元データが5%増加するのに対し、印刷物の網点が15%以上増加することをいう。
また、彫刻元データの20%から80%の間で網点が均一に印刷されているか否か、モアレ様の幾何学模様があるか評価した。この幾何学模様があると、多色印刷へ多大な影響をもたらし、印刷品質を大きく損なう。
(5) Evaluation of printed matter The dot area ratio of the printed matter obtained in (4) was measured by the method described in (4) above, and the dot gain curve was plotted. The dot gain curve is a diagram in which the area ratio of halftone dots of the engraving original data is plotted on the x axis of the xy axis, and the area ratio of halftone dots of the printed material is plotted on the y axis. The presence or absence of density jumps was confirmed between 20% and 80% of the engraving source data. Density jump refers to a portion where there is an intermittent change in the dot gain curve, and if there is a density jump, the gradation of the halftone dot of the printed material becomes narrow and the high-definition print quality is impaired. Specifically, the engraving source data increases by 5%, while the halftone dot of the printed material increases by 15% or more.
Further, it was evaluated whether or not halftone dots were printed uniformly between 20% and 80% of the engraving original data and whether there was a moire-like geometric pattern. This geometric pattern has a great influence on multicolor printing and greatly deteriorates the printing quality.

(実施例1)
レーザー(i)の条件をSpeed:8.0m/sec、Power limit:55%、スクリーン線数:133lpi、データ解像度:2032dpi、彫刻送りピッチ:12.5μmで行った。その他の条件は(3−1)に記載した条件と同様として印刷版を得た。
この印刷版を用いて印刷を行い、得られた印刷物の評価を行った。そのドットゲインカーブを図1にプロットしたが濃度ジャンプは見られなかった。
また、網点を目視で評価したところ網点は均一であった。なお、得られた印刷物のグラデーションパターンは滑らかな階調性を有し、細線、白抜き線、細字、白抜き細字はいずれも設計どおりの印刷物が得られていた。
Example 1
Laser (i) conditions were as follows: Speed: 8.0 m / sec, Power limit: 55%, Screen line number: 133 lpi, Data resolution: 2032 dpi, Engraving feed pitch: 12.5 μm. Other conditions were the same as those described in (3-1) to obtain a printing plate.
Printing was performed using this printing plate, and the obtained printed matter was evaluated. The dot gain curve was plotted in FIG. 1, but no density jump was observed.
Moreover, when the halftone dots were visually evaluated, the halftone dots were uniform. In addition, the gradation pattern of the obtained printed matter had a smooth gradation, and the printed matter as designed was obtained for all of the fine lines, white lines, fine characters, and white fine characters.

(実施例2)
レーザー(i)の条件をSpeed:7.0m/sec、Power limit:40%、スクリーン線数:133lpi、データ解像度:2032dpi、彫刻送りピッチ:12.5μmで行った。その他の条件は(3−1)に記載した条件と同様として印刷版を得た。
この印刷版を用いて印刷を行い、得られた印刷物の評価を行った。そのドットゲインカーブを図1にプロットしたが濃度ジャンプは見られなかった。
また、網点を目視で評価したところ網点は均一であった。なお、得られた印刷物のグラデーションパターンは滑らかな階調性を有し、細線、白抜き線、細字、白抜き細字はいずれも設計どおりの印刷物が得られていた。
(Example 2)
The conditions of laser (i) were as follows: Speed: 7.0 m / sec, Power limit: 40%, number of screen lines: 133 lpi, data resolution: 2032 dpi, engraving feed pitch: 12.5 μm. Other conditions were the same as those described in (3-1) to obtain a printing plate.
Printing was performed using this printing plate, and the obtained printed matter was evaluated. The dot gain curve was plotted in FIG. 1, but no density jump was observed.
Moreover, when the halftone dots were visually evaluated, the halftone dots were uniform. In addition, the gradation pattern of the obtained printed matter had a smooth gradation, and the printed matter as designed was obtained for all of the fine lines, white lines, fine characters, and white fine characters.

(実施例3)
レーザー(i)の条件をSpeed:10.0m/sec、Power limit:55%、スクリーン線数:150lpi、データ解像度:2540dpi、彫刻送りピッチ:10.0μmで行った。その他の条件は(3−1)に記載した条件と同様として印刷版を得た。
この印刷版を用いて印刷を行い、得られた印刷物の評価を行った。そのドットゲインカーブを図1にプロットしたが濃度ジャンプは見られなかった。
また、網点を目視で評価したところ網点は均一であった。なお、得られた印刷物のグラデーションパターンは滑らかな階調性を有し、細線、白抜き線、細字、白抜き細字はいずれも設計どおりの印刷物が得られていた。
(Example 3)
The conditions of laser (i) were as follows: Speed: 10.0 m / sec, Power limit: 55%, number of screen lines: 150 lpi, data resolution: 2540 dpi, and engraving feed pitch: 10.0 μm. Other conditions were the same as those described in (3-1) to obtain a printing plate.
Printing was performed using this printing plate, and the obtained printed matter was evaluated. The dot gain curve was plotted in FIG. 1, but no density jump was observed.
Moreover, when the halftone dots were visually evaluated, the halftone dots were uniform. In addition, the gradation pattern of the obtained printed matter had a smooth gradation, and the printed matter as designed was obtained for all of the fine lines, white lines, fine characters, and white fine characters.

(実施例4)
レーザー(i)の条件をSpeed:8.5m/sec、Power limit:40%、スクリーン線数:150lpi、データ解像度:2540dpi、彫刻送りピッチ:10.0μmで行った。その他の条件は(3−1)に記載した条件と同様として印刷版を得た。
この印刷版を用いて印刷を行い、得られた印刷物の評価を行った。そのドットゲインカーブを図1にプロットしたが濃度ジャンプは見られなかった。
また、網点を目視で評価したところ網点は均一であった。なお、得られた印刷物のグラデーションパターンは滑らかな階調性を有し、細線、白抜き線、細字、白抜き細字はいずれも設計どおりの印刷物が得られていた。
Example 4
The conditions of laser (i) were as follows: Speed: 8.5 m / sec, Power limit: 40%, number of screen lines: 150 lpi, data resolution: 2540 dpi, engraving feed pitch: 10.0 μm. Other conditions were the same as those described in (3-1) to obtain a printing plate.
Printing was performed using this printing plate, and the obtained printed matter was evaluated. The dot gain curve was plotted in FIG. 1, but no density jump was observed.
Moreover, when the halftone dots were visually evaluated, the halftone dots were uniform. In addition, the gradation pattern of the obtained printed matter had a smooth gradation, and the printed matter as designed was obtained for all of the fine lines, white lines, fine characters, and white fine characters.

(実施例5)
レーザー(ii)の条件をSpeed:7.0m/sec、Bottom Power:70%、スクリーン線数:150lpi、データ解像度:2540dpi、彫刻送りピッチ:10.0μmで行った。その他の条件は(3−2)に記載した条件と同様として印刷版を得た。
この印刷版を用いて印刷を行い、得られた印刷物の評価を行いドットゲインカーブを図1にプロットしたが濃度ジャンプは見られなかった。
また、網点を目視で評価したところ網点は均一であった。なお、得られた印刷物のグラデーションパターンは滑らかな階調性を有し、細線、白抜き線、細字、白抜き細字はいずれも設計どおりの印刷物が得られていた。
(Example 5)
The conditions of laser (ii) were as follows: Speed: 7.0 m / sec, Bottom Power: 70%, number of screen lines: 150 lpi, data resolution: 2540 dpi, engraving feed pitch: 10.0 μm. Other conditions were the same as those described in (3-2) to obtain a printing plate.
Printing was performed using this printing plate, the obtained printed matter was evaluated, and the dot gain curve was plotted in FIG. 1, but no density jump was observed.
Moreover, when the halftone dots were visually evaluated, the halftone dots were uniform. In addition, the gradation pattern of the obtained printed matter had a smooth gradation, and the printed matter as designed was obtained for all of the fine lines, white lines, fine characters, and white fine characters.

(比較例1)
レーザー(i)の条件をSpeed:12.5m/sec、Power limit:100%、スクリーン線数:133lpi、データ解像度:2032dpi、彫刻送りピッチ:12.5μmで行った。その他の条件は(3−1)に記載した条件と同様として印刷版を得た。
この印刷版を用いて印刷を行い、得られた印刷物の評価を行った。そのドットゲインカーブを図2にプロットしたところ濃度ジャンプが見られ、不連続なドットゲインカーブが得られた。
網点を目視で評価したところ網点は不均一な箇所が確認され、得られた印刷物のグラデーションパターンは一部で滑らかな階調性を有していなかった。なお、細線、白抜き線、細字、白抜き細字はいずれも設計どおりの印刷物が得られていた。
(Comparative Example 1)
The conditions of laser (i) were as follows: Speed: 12.5 m / sec, Power limit: 100%, number of screen lines: 133 lpi, data resolution: 2032 dpi, engraving feed pitch: 12.5 μm. Other conditions were the same as those described in (3-1) to obtain a printing plate.
Printing was performed using this printing plate, and the obtained printed matter was evaluated. When the dot gain curve was plotted in FIG. 2, a density jump was observed, and a discontinuous dot gain curve was obtained.
When the halftone dots were visually evaluated, the halftone dots were found to be non-uniform, and the gradation pattern of the obtained printed matter had some smooth gradation. In addition, as for the fine line, the white line, the fine character, and the white fine character, the printed matter as designed was obtained.

(比較例2)
レーザー(i)の条件をSpeed:3.0m/sec、Power limit:15%、スクリーン線数:133lpi、データ解像度:2032dpi、彫刻送りピッチ:12.5μmで行った。その他の条件は(3−1)に記載した条件と同様として印刷版を得た。
この印刷版を用いて印刷を行い、得られた印刷物の評価を行った。そのドットゲインカーブを図2にプロットしたところ濃度ジャンプが見られ、不連続なドットゲインカーブが得られた。
網点を目視で評価したところ網点は不均一な箇所が確認され、得られた印刷物のグラデーションパターンは一部で滑らかな階調性を有していなかった。なお、細線、白抜き線、細字、白抜き細字はいずれも設計どおりの印刷物が得られていた。
(Comparative Example 2)
The conditions of laser (i) were as follows: Speed: 3.0 m / sec, Power limit: 15%, number of screen lines: 133 lpi, data resolution: 2032 dpi, engraving feed pitch: 12.5 μm. Other conditions were the same as those described in (3-1) to obtain a printing plate.
Printing was performed using this printing plate, and the obtained printed matter was evaluated. When the dot gain curve was plotted in FIG. 2, a density jump was observed, and a discontinuous dot gain curve was obtained.
When the halftone dots were visually evaluated, the halftone dots were found to be non-uniform, and the gradation pattern of the obtained printed matter had some smooth gradation. In addition, as for the fine line, the white line, the fine character, and the white fine character, the printed matter as designed was obtained.

(比較例3)
レーザー(i)の条件をSpeed:16.0m/sec、Power limit:100%、スクリーン線数:150lpi、データ解像度:2540dpi、彫刻送りピッチ:10.0μmで行った。その他の条件は(3−1)に記載した条件と同様として印刷版を得た。
この印刷版を用いて印刷を行い、印刷物の評価を行った。そのドットゲインカーブを図2にプロットしたところ濃度ジャンプが見られ、不連続なドットゲインカーブが得られた。
網点を目視で評価したところ網点は不均一な箇所が確認され、得られた印刷物のグラデーションパターンは一部で滑らかな階調性を有していなかった。なお、細線、白抜き線、細字、白抜き細字はいずれも設計どおりの印刷物が得られていた。
(Comparative Example 3)
The conditions of laser (i) were as follows: Speed: 16.0 m / sec, Power limit: 100%, number of screen lines: 150 lpi, data resolution: 2540 dpi, engraving feed pitch: 10.0 μm. Other conditions were the same as those described in (3-1) to obtain a printing plate.
Printing was performed using this printing plate, and the printed matter was evaluated. When the dot gain curve was plotted in FIG. 2, a density jump was observed, and a discontinuous dot gain curve was obtained.
When the halftone dots were visually evaluated, the halftone dots were found to be non-uniform, and the gradation pattern of the obtained printed matter had some smooth gradation. In addition, as for the fine line, the white line, the fine character, and the white fine character, the printed matter as designed was obtained.

(比較例4)
レーザー(i)の条件をSpeed:2.0m/sec、Power limit:15%、スクリーン線数:150lpi、データ解像度:2540dpi、彫刻送りピッチ:10.0μmで行った。その他の条件は(3−1)に記載した条件と同様として印刷版を得た。
この印刷版を用いて印刷を行い、得られた印刷物の評価を行った。そのドットゲインカーブを図2にプロットしたところ濃度ジャンプが見られ、不連続なドットゲインカーブが得られた。
網点を目視で評価したところ網点は不均一な箇所が確認され、得られた印刷物のグラデーションパターンは一部で滑らかな階調性を有していなかった。なお、細線、白抜き線、細字、白抜き細字はいずれも設計どおりの印刷物が得られていた。
(Comparative Example 4)
The conditions of laser (i) were as follows: Speed: 2.0 m / sec, Power limit: 15%, number of screen lines: 150 lpi, data resolution: 2540 dpi, and engraving feed pitch: 10.0 μm. Other conditions were the same as those described in (3-1) to obtain a printing plate.
Printing was performed using this printing plate, and the obtained printed matter was evaluated. When the dot gain curve was plotted in FIG. 2, a density jump was observed, and a discontinuous dot gain curve was obtained.
When the halftone dots were visually evaluated, the halftone dots were found to be non-uniform, and the gradation pattern of the obtained printed matter had some smooth gradation. In addition, as for the fine line, the white line, the fine character, and the white fine character, the printed matter as designed was obtained.

(比較例5)
レーザー(ii)の条件をSpeed:10.0m/sec、Bottom Power:100%、スクリーン線数:150lpi、データ解像度:2540dpi、彫刻送りピッチ:10.0μmで行った。その他の条件は(3−2)に記載した条件と同様として印刷版を得た。
この印刷版を用いて印刷を行い、得られた印刷物の評価を行った。そのドットゲインカーブを図2にプロットしたところ濃度ジャンプが見られ、不連続なドットゲインカーブが得られた。
網点を目視で評価したところ網点は不均一な箇所が確認され、得られた印刷物のグラデーションパターンは一部で滑らかな階調性を有していなかった。なお、細線、白抜き線、細字、白抜き細字はいずれも設計どおりの印刷物が得られていた。
(Comparative Example 5)
The conditions of laser (ii) were as follows: Speed: 10.0 m / sec, Bottom Power: 100%, screen line number: 150 lpi, data resolution: 2540 dpi, engraving feed pitch: 10.0 μm. Other conditions were the same as those described in (3-2) to obtain a printing plate.
Printing was performed using this printing plate, and the obtained printed matter was evaluated. When the dot gain curve was plotted in FIG. 2, a density jump was observed, and a discontinuous dot gain curve was obtained.
When the halftone dots were visually evaluated, the halftone dots were found to be non-uniform, and the gradation pattern of the obtained printed matter had some smooth gradation. In addition, as for the fine line, the white line, the fine character, and the white fine character, the printed matter as designed was obtained.

実施例1〜5および比較例1〜5における彫刻元データのドットの面積率と印刷物のドットの面積率のデータを表1に記した。
上記の結果をまとめると、レーザーの最大出力の40%〜70%の出力でレーザー彫刻を行った実施例1から5の印刷版を用いた印刷物のドットゲインカーブには濃度ジャンプが見られず、高精細な印刷品質が実現できた。これに対し、レーザーの最大出力の100%又は15%の出力でレーザー彫刻を行った比較例1から5ではいずれも50%から55%または55%から60%の間に濃度ジャンプが見られ、高精細な印刷品質は実現できなかった。
Table 1 shows data of the dot area ratio of the engraving original data and the dot area ratio of the printed matter in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5.
Summarizing the above results, there is no density jump in the dot gain curve of the printed material using the printing plates of Examples 1 to 5 where laser engraving was performed at an output of 40% to 70% of the maximum output of the laser. High-definition print quality was achieved. In contrast, in Comparative Examples 1 to 5 in which laser engraving was performed at an output of 100% or 15% of the maximum output of the laser, a density jump was observed between 50% and 55% or between 55% and 60%. High definition print quality could not be realized.

本発明は、フレキソ印刷、グラビア印刷、ドライオフセット印刷等の各種印刷版の製造方法として好適である。また、エンボス加工等の表面パターンの形成、タイル等の印刷用レリーフ画像形成、電子部品の導体、半導体、絶縁体、パターン形成、光学部品の反射防止膜、カラーフィルター、(近)赤外線カットフィルター等の機能性材料のパターン形成、更には液晶ディスプレイあるいは有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の表示素子の製造における配向膜、下地層、発光層、電子輸送層、封止材層の塗膜・パターン形成にも利用できる。   The present invention is suitable as a method for producing various printing plates such as flexographic printing, gravure printing, and dry offset printing. Also, surface pattern formation such as embossing, relief image formation for printing such as tiles, conductors for electronic components, semiconductors, insulators, pattern formation, antireflection films for optical components, color filters, (near) infrared cut filters, etc. Used for pattern formation of functional materials, and for coating film / pattern formation of alignment films, underlayers, light-emitting layers, electron transport layers, and encapsulant layers in the production of display elements such as liquid crystal displays or organic electroluminescence displays it can.

Claims (4)

樹脂層をレーザーを用いて彫刻するレーザー彫刻工程を含む凹凸パターンの製造方法であって、前記レーザー彫刻工程が、使用するレーザーの最大出力の20%〜80%の出力であって、50W以上1000W以下で、120lpi以上の線数で樹脂層に彫刻する工程である、凹凸パターン製造方法。   A method for producing a concavo-convex pattern including a laser engraving process for engraving a resin layer using a laser, wherein the laser engraving process has an output of 20% to 80% of a maximum output of a laser to be used, and is 50 W or more and 1000 W In the following, a method for producing a concavo-convex pattern, which is a step of engraving a resin layer with a line number of 120 lpi or more. 前記レーザー彫刻工程中の樹脂層の彫刻速度が2m/s以上18m/s以下である、請求項1に記載の凹凸パターンの製造方法。   The manufacturing method of the uneven | corrugated pattern of Claim 1 whose engraving speed of the resin layer in the said laser engraving process is 2 m / s or more and 18 m / s or less. 前記レーザーの彫刻送りピッチが5μm以上20μm以下である、請求項1または2に記載の凹凸パターンの製造方法。   The manufacturing method of the uneven | corrugated pattern of Claim 1 or 2 whose engraving feed pitch of the said laser is 5 micrometers or more and 20 micrometers or less. 凹凸パターンが印刷版である、請求項1から4いずれか一項に記載の凹凸パターンの製造方法。   The manufacturing method of the uneven | corrugated pattern as described in any one of Claim 1 to 4 whose uneven | corrugated pattern is a printing plate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017520800A (en) * 2014-08-19 2017-07-27 深▲セン▼市華星光電技術有限公司 Induction film orientation method
KR101924738B1 (en) * 2014-08-19 2018-12-03 센젠 차이나 스타 옵토일렉트로닉스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 Guide film alignment method

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