JP2011018738A - Production management system - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production management system capable of predicting the processing time required for the processing of a prescribed lot with high accuracy, in a semiconductor manufacturing apparatus.SOLUTION: The production management system includes: a data collecting part 3 for associating the actually measured processing time required for the processing of the prescribed lot with a prescribed data tag and storing it in a data storage part 4, when the semiconductor manufacturing apparatus completes the processing of the lot; and a processing time estimating part 8 for estimating the processing time of a scheduled lot, by using the actually measured processing time associated with the data tag in the data storage part 4, which matches with a prescribed scheduled data tag, when the processing time of the scheduled lot is estimated.

Description

本発明は、生産管理システムに関し、詳しくは、半導体製造装置に対して所定のロットの処理に要する処理時間を高精度に予測することができる生産管理システムに関する。   The present invention relates to a production management system, and more particularly to a production management system capable of accurately predicting a processing time required for processing a predetermined lot for a semiconductor manufacturing apparatus.

近年、他社との競争が激化しつつある半導体デバイスの製造工程では、製造工程の複雑化に反して、製造リードタイムの短縮及び納期遵守率の向上が要求されている。そのため、半導体デバイスの製造工程において、生産シミュレータを使用して算出されるロットの進行計画に基づいて半導体デバイスを製造することが一般的である。このロットの進行計画の精度を向上させることは、製造リードタイムの短縮と、納期厳守率の向上とを図り、半導体デバイスの事業の成否を決定する重要な要素となってきている。   In recent years, in the manufacturing process of semiconductor devices, where competition with other companies is intensifying, it is required to shorten the manufacturing lead time and improve the delivery time compliance rate, despite the complexity of the manufacturing process. Therefore, in a semiconductor device manufacturing process, it is common to manufacture a semiconductor device based on a lot progress plan calculated using a production simulator. Improving the accuracy of this lot progress plan has become an important factor in determining the success or failure of a semiconductor device business by shortening the manufacturing lead time and improving the delivery rate.

生産シミュレータは、生産ラインにおけるロット処理状況および設備稼働状況に応じて、一定期間ごとに、生産ラインに属する各半導体製造装置(製造装置)にロットを割り当てるシミュレーションを実施している。ロットの進行計画の作成には、当該ロットに対する各半導体製造装置の予測処理時間が必要であり、この予測処理時間を、ロットを実際に処理した場合の実測処理時間に近づけることがロットの進行計画の精度を向上させることに繋がる。そのため、実測処理時間に近い予測処理時間を算出することが、今後益々重要になってくる。   The production simulator performs a simulation of assigning a lot to each semiconductor manufacturing apparatus (manufacturing apparatus) belonging to the production line at regular intervals according to the lot processing status and facility operation status in the production line. Creation of a lot progress plan requires the estimated processing time of each semiconductor manufacturing apparatus for the lot, and it is necessary to bring this predicted processing time closer to the actual measurement processing time when the lot is actually processed. This leads to an improvement in the accuracy. For this reason, it becomes increasingly important in the future to calculate a predicted processing time close to the actual measurement processing time.

従来、予測処理時間は、ロットに属するウエハ枚数(基板枚数、ロットサイズともいう)を変数とする一次関数で表現されたモデル式(設備モデル式)により算出されている(特許文献1)。   Conventionally, the predicted processing time is calculated by a model formula (equipment model formula) expressed by a linear function with the number of wafers belonging to a lot (also called the number of substrates or lot size) as a variable (Patent Document 1).

例えば、予測処理時間Y(sec)は、ウエハ1枚当たりの処理時間a(sec)、ロット内の1枚目のウエハに対する処理時間b(sec)、ウエハ枚数X(枚)とすると、以下の式(1)により表現される。   For example, assuming that the predicted processing time Y (sec) is the processing time a (sec) per wafer, the processing time b (sec) for the first wafer in the lot, and the number of wafers X (sheets), It is expressed by equation (1).

Y=a*(X−1)+b ・・・(1)
ウエハの処理時間a(sec/枚)、ロット内の1枚目のウエハに対する処理時間b(sec)は、既取得のデータに基づいて算出される。具体的には、ユーザが、実測データのばらつきを経験に基づいて一次関数で直線近似を行い、ウエハの処理時間a(sec)、ロット内の1枚目のウエハに対する処理時間b(sec)を決定している。
Y = a * (X−1) + b (1)
The wafer processing time a (sec / sheet) and the processing time b (sec) for the first wafer in the lot are calculated based on the acquired data. Specifically, the user linearly approximates the variation of the measured data with a linear function based on experience, and sets the wafer processing time a (sec) and the processing time b (sec) for the first wafer in the lot. Has been decided.

又、特開2008−287442号公報(特許文献2)では、設備の処理方式に着目して、設備モデル式(1)を拡張している。   In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-287442 (Patent Document 2), the equipment model formula (1) is expanded by paying attention to the equipment processing method.

例えば、1つのチャンバーで1枚ずつウエハを処理する製造装置には、「枚葉型」の設備モデル式が使用される。複数のチャンバーでそれぞれ1枚ずつウエハを処理する製造装置には、「枚葉段差型」の設備モデル式が使用される。ロットサイズ以下の複数枚のウエハを同時に処理する製造装置には、「バッチ注入型」の設備モデル式が使用される。ロットサイズを越える複数枚のウエハを同時に処理可能な製造装置には、「バッチ洗浄型」の設備モデル式が使用される。   For example, a “single-wafer type” equipment model formula is used for a manufacturing apparatus that processes wafers one by one in one chamber. A “single-wafer step type” equipment model formula is used in a manufacturing apparatus that processes one wafer at a time in a plurality of chambers. A “batch injection type” equipment model formula is used in a manufacturing apparatus that simultaneously processes a plurality of wafers having a lot size or less. For a manufacturing apparatus capable of simultaneously processing a plurality of wafers exceeding the lot size, a “batch cleaning type” equipment model formula is used.

以上に示された各設備モデル式は、ウエハ枚数X(枚)と処理時間Y(sec)とが以下に示す式で表現される。
枚葉型 Y=a*(X−1)+b ・・・(2)
枚葉段差型 Y=a*(X−1)+b+floor((X−1)/c)*d ・・・(3)
バッチ注入型 Y=floor((X−1)/c)*d ・・・(4)
バッチ洗浄型 Y=b ・・・(5)
尚、式(3)及び式(4)において、関数floor(X)は、引数Xの小数点以下を切り捨てる端数処理を行う関数である。又、式(3)及び式(4)において、モデルパラメータc(枚)、d(sec)は、既取得のデータに基づいて決定されるパラメータである。
In each of the equipment model expressions shown above, the number of wafers X (sheets) and the processing time Y (sec) are expressed by the following expressions.
Single wafer type Y = a * (X-1) + b (2)
Single wafer step type Y = a * (X-1) + b + floor ((X-1) / c) * d (3)
Batch injection type Y = floor ((X-1) / c) * d (4)
Batch cleaning type Y = b (5)
In Expressions (3) and (4), the function floor (X) is a function that performs fraction processing to round off the decimal point of the argument X. In the equations (3) and (4), model parameters c (sheets) and d (sec) are parameters determined based on already acquired data.

特開2004−334643号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-334643 特開2008−287442号公報JP 2008-287442 A

しかしながら、特許文献1又は2に記載の処理時間予測法では、収集されたデータ(ウエハ枚数、実測処理時間)を特定の関数で近似しているため、所定のウエハ枚数に対する実測処理時間のばらつきが大きい場合、上述した設備モデル式を当該データにフィッティングさせたとしても、適切な近似式を得ることが出来ないという問題がある。   However, in the processing time prediction method described in Patent Document 1 or 2, since the collected data (the number of wafers, the actual processing time) is approximated by a specific function, there is a variation in the actual processing time for a predetermined number of wafers. If it is large, there is a problem that an appropriate approximate expression cannot be obtained even if the equipment model formula described above is fitted to the data.

図6は、従来の予測処理時間と実際の処理時間との関係を示す図である。   FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the conventional predicted processing time and the actual processing time.

図6に示されたデータは、同一の半導体製造装置と、同一の処理条件(レシピ)とにおいて、ロットを処理した際に得られた複数のロットサイズ(ウエハ枚数)(枚)と、複数の処理時間(実測処理時間)(sec)との対応関係である。図6に示すように、同一のロットサイズ(例えば、ロットサイズ「12」)に対応する処理時間601は、最大値と最小値との間の差が600sec程度であり、非常にばらついていることが理解される。そのため、図6に示す設備モデル式602と、実際の処理時間603とに乖離が生じ、精度の高い処理時間を算出することが出来ないこととなる。   The data shown in FIG. 6 includes a plurality of lot sizes (number of wafers) (sheets) obtained when a lot is processed under the same semiconductor manufacturing apparatus and the same processing conditions (recipe), and a plurality of data. This corresponds to the processing time (actual measurement processing time) (sec). As shown in FIG. 6, the processing time 601 corresponding to the same lot size (for example, lot size “12”) is very varied with the difference between the maximum value and the minimum value being about 600 seconds. Is understood. Therefore, there is a difference between the equipment model equation 602 shown in FIG. 6 and the actual processing time 603, and it is impossible to calculate a processing time with high accuracy.

従って、従来の処理時間予測法では、設備モデル式を幾ら高精度化しても、上述した処理時間のばらつきの影響により、予測処理時間の精度が向上しないため、結局、ロットの進行計画の精度が向上しないという問題がある。   Therefore, in the conventional processing time prediction method, no matter how high the accuracy of the equipment model formula is, the accuracy of the prediction processing time is not improved due to the influence of the processing time variation described above. There is a problem of not improving.

又、半導体製造装置が用いるレシピに着目すると、以下のような問題も存在する。   Further, when attention is paid to the recipe used by the semiconductor manufacturing apparatus, the following problems also exist.

一般に、半導体デバイスの製造方法では、ロット間で生じる処理ロスを最小化するために、所定のロットの処理は、ロット間相互の間隔を空けずに連続して実行されることが多い。このようなロットの処理態様を、連続処理という。   In general, in a method of manufacturing a semiconductor device, in order to minimize a processing loss that occurs between lots, processing of a predetermined lot is often executed continuously without a space between lots. Such a lot processing mode is called continuous processing.

例えば、全くロットに関して処理を実行していない半導体製造装置に所定のロットが投入される場合がある。この場合では、前記半導体製造装置が、前記ロットが投入されて始めて処理を開始することになる。当該ロットの処理は、ロット間相互の間隔を空けて実行される。このようなロットの処理態様を、単体処理という。   For example, there is a case where a predetermined lot is thrown into a semiconductor manufacturing apparatus that has not executed any processing on the lot. In this case, the semiconductor manufacturing apparatus starts processing only after the lot is input. The processing of the lot is executed with an interval between lots. Such a lot processing mode is called single processing.

このような二種類のロットの処理態様において、連続処理の半導体製造装置の処理時間が、単体処理の半導体製造装置の処理時間と比較すると、半導体製造装置が用いるレシピ(処理条件)に対応して長時間化する傾向がある。   In such two types of lot processing modes, the processing time of the continuous processing semiconductor manufacturing apparatus corresponds to the recipe (processing conditions) used by the semiconductor manufacturing apparatus when compared with the processing time of the single-unit semiconductor manufacturing apparatus. There is a tendency to become longer.

例えば、以下の一例に基づいて、上記長時間化する傾向を説明する。   For example, the tendency to increase the time will be described based on the following example.

半導体製造装置に、ロットのウエハに処理を施す処理ユニットが二つ備えられており、第一処理ユニットでは洗浄処理を実行し、第二処理ユニットでは乾燥処理を実行し、レシピA、レシピBは、ともに当該ウエハを第一処理ユニットで洗浄処理を実行した後に、第二処理ユニットで乾燥処理を実行するよう構成されていると仮定する。   The semiconductor manufacturing apparatus is provided with two processing units for processing a lot of wafers, the first processing unit performs a cleaning process, the second processing unit performs a drying process, and recipes A and B are Both assume that the wafer is configured to execute a drying process in the second processing unit after the wafer is cleaned in the first processing unit.

又、単体処理において、レシピAに従って処理を実行した第一処理ユニットのウエハ一枚当たりの処理時間を1分/枚、第二処理ユニットのウエハ一枚当たりの処理時間を1分/枚と仮定する。そして、単体処理において、レシピBに従って処理を実行した第一処理ユニットのウエハ一枚当たりの処理時間を2分/枚、第二処理ユニットのウエハ一枚当たりの処理時間を1分/枚と仮定する。   In the single processing, it is assumed that the processing time per wafer of the first processing unit executing processing according to Recipe A is 1 minute / sheet, and the processing time per wafer of the second processing unit is 1 minute / sheet. To do. In the single processing, it is assumed that the processing time per wafer of the first processing unit that executes processing according to the recipe B is 2 minutes / sheet, and the processing time per wafer of the second processing unit is 1 minute / sheet. To do.

次に、ウエハを第一処理ユニットが洗浄処理した後に、当該ウエハを第二処理ユニットが乾燥処理をする場合、当該第二処理ユニットが乾燥処理を実行している最中に、当該第一処理ユニットが次のウエハの洗浄処理を実行できるものと仮定する。又、第一処理ユニットに対するウエハの搬送処理と、第二処理ユニットに対するウエハの搬出処理とは、当該第一処理ユニットと当該第二処理ユニットとがともにそれぞれの処理を完了した後に実行するものと仮定する。   Next, when the second processing unit performs a drying process on the wafer after the first processing unit performs the cleaning process on the wafer, the first processing unit is performing the drying process while the second processing unit is performing the drying process. Assume that the unit can perform the next wafer cleaning process. The wafer transfer process to the first processing unit and the wafer unloading process to the second processing unit are executed after both the first processing unit and the second processing unit have completed their respective processes. Assume.

図7は、所定の半導体製造装置が、所定のレシピ(レシピA)で単体処理を実行した場合の処理ガントチャート(図7(A))と、二種類の異なるレシピ(レシピA、レシピB)で連続処理を実行した場合の処理ガントチャート(図7(B))との一例を示す図である。   FIG. 7 shows a processing Gantt chart (FIG. 7A) when a predetermined semiconductor manufacturing apparatus executes a single process with a predetermined recipe (recipe A), and two different recipes (recipe A and recipe B). It is a figure which shows an example with the process Gantt chart (FIG.7 (B)) at the time of performing a continuous process by.

図7(A)に示すように、第一処理ユニットと第二処理ユニットとを備えた半導体製造装置が、レシピAを用いて12枚のウエハ枚数で構成されるロット(ロットA)を単体処理する場合、当該第一処理ユニットがロットAの最初のウエハに洗浄処理を開始してから、当該第二処理ユニットが当該ロットAの最後のウエハに乾燥処理を完了するまでに要する処理時間は13分と算出される。   As shown in FIG. 7A, a semiconductor manufacturing apparatus including a first processing unit and a second processing unit processes a lot (lot A) composed of 12 wafers using recipe A. When the first processing unit starts the cleaning process on the first wafer of the lot A, the processing time required for the second processing unit to complete the drying process on the last wafer of the lot A is 13 Calculated as minutes.

一方、図7(B)に示すように、当該半導体製造装置が、レシピAを用いてロットAを処理した後に、レシピBを用いて新たなロット(ロットB)を処理する場合、つまり、当該半導体製造装置が連続処理する場合、当該第一処理ユニットがロットAの最初のウエハに洗浄処理を開始してから、当該第二処理ユニットが当該ロットAの最後のウエハに乾燥処理を完了するまでに要する処理時間は、14分と算出される。   On the other hand, as shown in FIG. 7B, when the semiconductor manufacturing apparatus processes a lot A using recipe A and then processes a new lot (lot B) using recipe B, that is, When the semiconductor manufacturing apparatus performs continuous processing, the first processing unit starts the cleaning process on the first wafer of the lot A until the second processing unit completes the drying process on the last wafer of the lot A. The processing time required for is calculated as 14 minutes.

このように、単体処理におけるロットAの処理時間(13分)は、連続処理におけるロットAの処理時間(14分)と比較して、1分間遅延することになる。   As described above, the processing time for lot A in the single processing (13 minutes) is delayed by one minute compared to the processing time for lot A in continuous processing (14 minutes).

これは、図7(A)、図7(B)に示すように、第二処理ユニットがロットAの最後のウエハにレシピAでの乾燥処理を実行するとともに、第一処理ユニットがロットBの最初のウエハにレシピBでの洗浄処理を実行する場合、当該第二処理ユニットでは1分間で乾燥処理を完了することができるものの、当該第一処理ユニットでは洗浄処理を完了するために2分間必要であり、第二処理ユニットからのロットAの最後のウエハの搬送処理が第一処理ユニットの処理完了まで待たされるからである。図7(B)に示すように、第一処理ユニットでは、1分間の待ち時間801が発生している。   As shown in FIGS. 7 (A) and 7 (B), the second processing unit performs the drying process in the recipe A on the last wafer of the lot A, and the first processing unit has the lot B. When performing the cleaning process in Recipe B on the first wafer, the second processing unit can complete the drying process in one minute, but the first processing unit requires two minutes to complete the cleaning process. This is because the transfer processing of the last wafer of the lot A from the second processing unit is waited until the processing of the first processing unit is completed. As shown in FIG. 7B, a waiting time 801 of 1 minute occurs in the first processing unit.

図7(A)、図7(B)では、レシピAが当該レシピAの直後のレシピBにより、当該レシピAでのロットの処理時間に影響を与える一例を説明したが、レシピAが当該レシピAの直前のレシピCにより、当該レシピAでのロットの処理時間に影響を与える場合も存在する。   7A and 7B illustrate an example in which the recipe A affects the lot processing time in the recipe A by the recipe B immediately after the recipe A. The recipe C immediately before A may affect the lot processing time in the recipe A.

例えば、単体処理において、レシピCに従って処理を実行した第一処理ユニットのウエハ一枚当たりの処理時間を2分/枚、第二処理ユニットのウエハ一枚当たりの処理時間を2分/枚、単体処理において、レシピAに従って処理を実行した第一処理ユニットのウエハ一枚当たりの処理時間を1分/枚、第二処理ユニットのウエハ一枚当たりの処理時間を1分/枚と仮定した場合である。   For example, in the single processing, the processing time per wafer of the first processing unit that executed processing according to the recipe C is 2 minutes / sheet, the processing time per wafer of the second processing unit is 2 minutes / sheet, In the processing, it is assumed that the processing time per wafer of the first processing unit executing processing according to the recipe A is 1 minute / sheet, and the processing time per wafer of the second processing unit is 1 minute / sheet. is there.

連続処理の半導体製造装置が、レシピCを用いてロットCを処理した後に、レシピAを用いてロットAを処理する場合、第二処理ユニットがロットCの最後のウエハにレシピCでの乾燥処理を実行するとともに、第一処理ユニットがロットAの最初のウエハにレシピAでの洗浄処理を実行すると、当該第一処理ユニットでは1分間で洗浄処理を完了するものの、当該第二処理ユニットでは2分間で乾燥処理を完了する。そのため、当該第一処理ユニットからのロットAの最初のウエハの搬送処理が、第二処理ユニットの処理完了まで待たされることになる。この場合は、所定のレシピAの直前のレシピCが当該レシピAのロットの処理時間に影響を与える。   When the continuous processing semiconductor manufacturing apparatus processes the lot C using the recipe C and then processes the lot A using the recipe A, the second processing unit performs the drying process in the recipe C on the last wafer of the lot C. When the first processing unit executes the cleaning process in the recipe A on the first wafer of the lot A, the first processing unit completes the cleaning process in one minute, but the second processing unit has 2 Complete the drying process in minutes. Therefore, the transfer processing of the first wafer of the lot A from the first processing unit is waited until the processing of the second processing unit is completed. In this case, the recipe C immediately before the predetermined recipe A affects the processing time of the lot of the recipe A.

このように、連続処理する半導体製造装置がロットの処理を実行する場合、当該半導体製造装置により用いられる所定のレシピの前後のレシピの種類が異なると、当該処理に要する処理時間が異なる場合がある。このような処理時間の変動(ばらつき)は、上述した特許文献1又は特許文献2に記載の処理時間予測法では考慮されていないため、予測処理時間が、実際の処理時間と比較するとばらつくという問題がある。   As described above, when a semiconductor manufacturing apparatus that performs continuous processing executes a lot process, if the types of recipes before and after a predetermined recipe used by the semiconductor manufacturing apparatus are different, the processing time required for the process may be different. . Such a variation (variation) in processing time is not taken into account in the processing time prediction method described in Patent Document 1 or Patent Document 2 described above, and thus the problem is that the predicted processing time varies when compared with the actual processing time. There is.

本発明は、上記問題に鑑みて提案されたものであり、半導体製造装置におけるロットの処理時間を高精度に予測することができ、高精度なロット進行計画を作成することができる生産管理システムを提供することを目的としている。   The present invention has been proposed in view of the above problems, and a production management system capable of predicting a lot processing time in a semiconductor manufacturing apparatus with high accuracy and creating a highly accurate lot progress plan. It is intended to provide.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る生産管理システムは、半導体製造装置が投入予定の予定ロットの処理を開始してから当該処理を完了するまでに要する処理時間を推定することによって、予定ロットの進行計画を作成する生産管理システムを前提とする。   In order to solve the above-described problems and achieve the object, the production management system according to the present invention has a processing time required from the start of the processing of the scheduled lot scheduled for input by the semiconductor manufacturing apparatus to the completion of the processing. A production management system that creates a progress plan for a planned lot by estimation is assumed.

当該生産管理システムにおいて、データ格納手段と、データ収集手段と、処理時間推定手段とを備える。   The production management system includes data storage means, data collection means, and processing time estimation means.

前記データ格納手段は、ロットの処理で用いられた完了レシピと、当該完了レシピの直前で用いられた前完了レシピと、当該完了レシピの直後で用いられる予定の後完了レシピとを一体としたデータタグと、当該ロットの処理に要した実測処理時間とを関連付けて記憶する。   The data storage means is an integrated data of the completed recipe used in the lot processing, the previous completed recipe used immediately before the completed recipe, and the later completed recipe scheduled to be used immediately after the completed recipe. The tag is stored in association with the actual measurement processing time required for processing the lot.

前記データ収集手段は、前記半導体製造装置が所定のロットの処理を完了すると、前記データタグに、当該ロットの処理に要した実測処理時間を関連付けて、データ格納手段に記憶させる。   When the semiconductor manufacturing apparatus completes the processing of a predetermined lot, the data collection means associates the actual measurement processing time required for the processing of the lot with the data tag and stores it in the data storage means.

前記処理時間推定手段は、予定ロットの処理時間を推定する際に、当該予定ロットの処理で用いられる予定レシピと、当該予定レシピの直前で用いられる予定の前予定レシピと、当該予定レシピの直後で用いられる予定の後予定レシピとを一体とした予定データタグに一致する、前記データ格納手段のデータタグに関連付けられた実測処理時間を用いることによって、当該予定ロットの処理時間を推定する。   The processing time estimation means, when estimating the processing time of the scheduled lot, the scheduled recipe used in the processing of the scheduled lot, the previous scheduled recipe to be used immediately before the scheduled recipe, and immediately after the scheduled recipe The processing time of the scheduled lot is estimated by using the actually measured processing time associated with the data tag of the data storage means that matches the scheduled data tag integrated with the scheduled recipe used in the above.

当該構成により、予定ロットのレシピの前後のレシピの関係を考慮した実測処理時間に基づいて予定ロットの処理時間を推定することが可能となる。そのため、予定ロットの処理時間を、現実に処理を実行した際の処理時間と比較して、大きく乖離することない、再現性の高い処理時間とすることが可能となる。その結果、予定ロットの処理時間の推定と、予定ロットの進行計画の作成とを精度高く実現することが可能となる。更に、一体としたデータタグを採用することにより、データ量の増加を抑制して、データ量の増加に伴う処理の繁雑さを排除し、データ検索の容易性、迅速性を高めることが可能となる。   With this configuration, it is possible to estimate the processing time of the planned lot based on the actual measurement processing time considering the relationship between the recipes before and after the recipe of the planned lot. Therefore, the processing time of the scheduled lot can be set to a processing time with high reproducibility that does not greatly deviate from the processing time when the processing is actually executed. As a result, it is possible to accurately estimate the processing time of the scheduled lot and create a progress plan for the scheduled lot. Furthermore, by adopting an integrated data tag, it is possible to suppress the increase in the amount of data, eliminate the complexity of processing associated with the increase in the amount of data, and improve the ease and speed of data search. Become.

又、前記生産管理システムにおいて、前記データ収集手段が、実測処理時間とともに、処理が完了したロットを構成する完了ウエハ枚数を前記データタグに関連付けて、データ格納手段に記憶させる。更に、前記処理時間推定手段が、前記予定データタグと予定ロットを構成するウエハ枚数との組に対応する、前記データ格納手段のデータタグと完了ウエハ枚数との組に関連付けられた実測処理時間を用いることによって、当該予定ロットの処理時間を推定する。   Further, in the production management system, the data collection means stores the number of completed wafers constituting a lot for which processing has been completed, in association with the data tag, together with the actual measurement processing time, in the data storage means. Further, the processing time estimation means calculates an actual processing time associated with a set of the data tag of the data storage means and the number of completed wafers corresponding to a set of the scheduled data tag and the number of wafers constituting the scheduled lot. By using it, the processing time of the scheduled lot is estimated.

ここで、前記予定データタグと前記ウエハ枚数との組に対応する、前記データ格納手段の前記データタグと前記完了ウエハ枚数との組とは、前記予定データタグに一致するデータタグと、前記ウエハ枚数に一致する完了ウエハ枚数との対応関係(組み合わせ)を意味する。   Here, the set of the data tag and the number of completed wafers of the data storage means corresponding to the set of the scheduled data tag and the number of wafers includes a data tag that matches the scheduled data tag, and the wafer This means the correspondence (combination) with the number of completed wafers that matches the number of sheets.

当該構成により、データタグと、完了ウエハ枚数とを利用して予定ロットの処理時間を推定するため、より精度の高い予定ロットの処理時間を推定することが可能となり、より精度の高い予定ロットの進行計画を作成することが可能となる。   With this configuration, since the processing time of the scheduled lot is estimated using the data tag and the number of completed wafers, it is possible to estimate the processing time of the scheduled lot with higher accuracy. It is possible to create a progress plan.

又、前記生産管理システムにおいて、前記処理時間推定手段が、前記予定データタグと前記ウエハ枚数との組に対応する、前記データ格納手段のデータタグと完了ウエハ枚数との組に関連付けられた実測処理時間が複数存在する場合、複数の実測処理時間の統計値を用いることによって、当該予定ロットの処理時間を推定する。   In the production management system, the processing time estimation means corresponds to the set of the scheduled data tag and the number of wafers, and the actual measurement process associated with the set of the data tag of the data storage means and the number of completed wafers. When there are a plurality of times, the processing time of the scheduled lot is estimated by using the statistical values of the plurality of actually measured processing times.

当該構成により、複数ある実測処理時間から所定の統計値を算出するため、推定される予定ロットの処理時間が、現実に測定される処理時間と比較すると、再現性の高い処理時間となる。そのため、より精度の高い予定ロットの進行計画を作成することが可能となる。   With this configuration, since a predetermined statistical value is calculated from a plurality of actually measured processing times, the processing time of the estimated scheduled lot is a processing time with high reproducibility when compared with the processing time actually measured. Therefore, it is possible to create a progress plan for a scheduled lot with higher accuracy.

又、前記生産管理システムにおいて、前記処理時間推定手段が、前記予定データタグと前記ウエハ枚数との組に対応する、前記データ格納手段のデータタグと完了ウエハ枚数との組が存在しない場合、当該予定データタグに一致する前記データタグに関連付けられた、完了ウエハ枚数と実測処理時間との関係から関係式を取得し、当該関係式と予定ロットのウエハ枚数とを用いることによって、当該予定ロットの処理時間を推定する。   In the production management system, when the processing time estimation unit does not have a set of the data tag of the data storage unit and the number of completed wafers corresponding to the set of the scheduled data tag and the number of wafers, By acquiring a relational expression from the relationship between the number of completed wafers and the actual measurement processing time associated with the data tag that matches the planned data tag, and using the relational expression and the number of wafers in the planned lot, Estimate processing time.

当該構成により、データ格納手段に所定の条件に合致する実測処理時間等が存在しない場合であっても、所定の関係式から、予定ロットの処理時間を推定することが可能となる。   With this configuration, it is possible to estimate the processing time of a scheduled lot from a predetermined relational expression even when there is no actual measurement processing time or the like that matches a predetermined condition in the data storage means.

本発明によれば、予定ロットの処理時間を精度よく推定することが可能となる。その結果、高精度な予定ロットの進行計画を作成することが可能となり、生産ラインを効率的に稼動させることが可能となる。   According to the present invention, it is possible to accurately estimate the processing time of a scheduled lot. As a result, it is possible to create a progress plan for the scheduled lot with high accuracy, and to efficiently operate the production line.

本発明の実施形態に係る生産管理システムを示す概略構成図である。It is a schematic structure figure showing a production management system concerning an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る生産管理システムが予定ロットの進行計画を作成する手順を示すためのフローチャートである。It is a flowchart for showing the procedure in which the production management system which concerns on embodiment of this invention produces the progress plan of a scheduled lot. 本発明の実施形態に係るデータ格納部4に記憶されたデータタグと、完了ウエハ枚数と、実測処理時間との一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the data tag memorize | stored in the data storage part 4 which concerns on embodiment of this invention, the number of completed wafers, and measurement process time. 本発明の実施形態に係る複数の実測処理時間と、平均実測処理時間との一例を示す図である。It is a figure which shows an example of several measurement process time and average measurement process time which concern on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る完了ウエハ枚数と実測処理時間との対応関係と、近似式と、予定ロットの処理時間との一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the correspondence of the number of completed wafers and measurement process time, the approximate expression, and the process time of a scheduled lot which concern on embodiment of this invention. 従来技術における予測処理時間と実際の処理時間との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the prediction processing time in a prior art, and actual processing time. 所定の半導体製造装置が、所定のレシピで単体処理を実行した場合の処理ガントチャート(図7(A))と、二種類の異なるレシピで連続処理を実行した場合の処理ガントチャート(図7(B))との一例を示す図である。A processing Gantt chart (FIG. 7A) when a predetermined semiconductor manufacturing apparatus executes a single process with a predetermined recipe, and a processing Gantt chart when a continuous process is executed with two different recipes (FIG. 7 (A)). It is a figure which shows an example with B)).

以下、本発明の一実施形態を、図面を参照しながら説明する。以下の実施形態では、半導体装置生産ラインの生産管理システムおよび生産管理方法として本発明を具体化している。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, the present invention is embodied as a production management system and production management method for a semiconductor device production line.

図1は、本発明の実施形態に係る生産管理システムを示す概略構成図である。   FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a production management system according to an embodiment of the present invention.

生産管理システムは、生産ライン1と、処理時間格納部2と、生産シミュレータ部6と、ロットディスパッチ部9とから構成される。   The production management system includes a production line 1, a processing time storage unit 2, a production simulator unit 6, and a lot dispatch unit 9.

処理時間格納部2と、生産シミュレータ部6と、ロットディスパッチ部9とを合わせて、製造実行システム(Manufacturing Execution System:MES)と称する場合もある。   The processing time storage unit 2, the production simulator unit 6, and the lot dispatch unit 9 may be collectively referred to as a manufacturing execution system (MES).

生産ライン1は、所定台数nの半導体製造装置i(i=1〜n:nは、生産ラインに存在する半導体製造装置の台数、図1では、設備iと表示)を有している。当該生産ライン1は、ロットディスパッチ部9の指示に従ってロットの処理を実行する。ここで、ロットとは、所定数のウエハの単位を示し、当該所定数は、例えば、前面開放一体式ポッドに収納されるウエハの数を最大数として設定される。   The production line 1 has a predetermined number n of semiconductor manufacturing apparatuses i (where i = 1 to n: n is the number of semiconductor manufacturing apparatuses existing on the production line, which is indicated as equipment i in FIG. 1). The production line 1 executes lot processing in accordance with instructions from the lot dispatch unit 9. Here, the lot indicates a unit of a predetermined number of wafers, and the predetermined number is set, for example, with the number of wafers stored in the front open integrated pod as a maximum number.

前記ロットには、所定のレシピ(処理条件)が対応付けられており、半導体製造装置iが所定のロットを処理する場合、当該ロットに対応付けられたレシピに従って処理を実行する。   A predetermined recipe (processing condition) is associated with the lot, and when the semiconductor manufacturing apparatus i processes a predetermined lot, the process is executed according to the recipe associated with the lot.

又、処理時間格納部2は、データ収集部3と、データ格納部4と、データ読出部5とを備える。   The processing time storage unit 2 includes a data collection unit 3, a data storage unit 4, and a data reading unit 5.

データ収集部3は、生産ライン1又は所定の半導体製造装置iが所定のロットの処理を完了すると、当該完了を検知して、処理が完了したロットに関するデータを生産ライン1等から取得(収集)する。   When the production line 1 or a predetermined semiconductor manufacturing apparatus i completes processing of a predetermined lot, the data collection unit 3 detects the completion and acquires (collects) data relating to the processed lot from the production line 1 or the like. To do.

データ収集部3は、受信したデータから後述するデータタグを作成して、当該データタグと実測処理時間とを関連付けてデータ格納部4に記憶させる。   The data collection unit 3 creates a data tag to be described later from the received data, and stores the data tag and the actual measurement processing time in association with each other in the data storage unit 4.

データ読出部5は、後述する生産スケジューリング部7から所定のデータの読出要求を受信すると、所定のデータをデータ格納部4から取得(抽出)し、処理時間推定部8に出力する。   When the data reading unit 5 receives a predetermined data read request from the production scheduling unit 7 described later, the data reading unit 5 acquires (extracts) the predetermined data from the data storage unit 4 and outputs it to the processing time estimation unit 8.

又、生産シミュレータ部6は、生産スケジューリング部7と、処理時間推定部8とを備える。   Further, the production simulator unit 6 includes a production scheduling unit 7 and a processing time estimation unit 8.

まず、処理時間推定部8は、前記データ読出部5から所定のデータを受信すると、受信したデータを利用して予定ロットの処理時間を推定する。予定ロットの処理時間を推定する方法は、処理時間推定部8が受信するデータの種類に応じて適宜変更されるため、当該受信時点のデータの種類に対応した予定ロットの処理時間が推定される。   First, when the processing time estimation unit 8 receives predetermined data from the data reading unit 5, the processing time estimation unit 8 estimates the processing time of the scheduled lot using the received data. Since the method for estimating the processing time of the scheduled lot is appropriately changed according to the type of data received by the processing time estimation unit 8, the processing time of the planned lot corresponding to the type of data at the time of reception is estimated. .

又、生産スケジューリング部7は、ユーザにより予め設定された所定期間毎に、所定の半導体製造装置iに順次投入される予定の予定ロット(未処理ロット)に関するデータを、生産ライン1等から取得し、前記データ読出部5へ所定のデータの読出要求を送信する。   In addition, the production scheduling unit 7 acquires, from the production line 1 and the like, data related to scheduled lots (unprocessed lots) that are scheduled to be sequentially inserted into a predetermined semiconductor manufacturing apparatus i at predetermined intervals preset by the user. Then, a request for reading predetermined data is transmitted to the data reading unit 5.

又、生産スケジューリング部7は、後述するように、処理時間推定部8から予定ロットの処理時間を受信すると、当該予定ロットの処理時間を利用して予定ロットの進行計画を作成(立案)する。生産スケジューリング部7は、作成した予定ロットの進行計画をロットディスパッチ部9に送信する。   Further, as will be described later, when the production scheduling unit 7 receives the processing time of the planned lot from the processing time estimation unit 8, the production scheduling unit 7 creates (plans) the progress plan of the planned lot using the processing time of the planned lot. The production scheduling unit 7 transmits the created progress plan of the scheduled lot to the lot dispatch unit 9.

又、ロットディスパッチ部9は、生産スケジューリング部7から予定ロットの進行計画を受信すると、生産ライン1から、現在仕掛かり中である仕掛かりロットの進捗状況を受信し、予定ロットの進行計画と、仕掛かりロットの進捗状況とに基づいて、予定ロット及び仕掛かりロットを処理するように生産ライン1に指示する。   When the lot dispatch unit 9 receives the progress plan of the scheduled lot from the production scheduling unit 7, the lot dispatch unit 9 receives the progress status of the in-process lot currently in progress from the production line 1, The production line 1 is instructed to process the scheduled lot and the in-process lot based on the progress status of the in-process lot.

上述した処理時間格納部2、生産シミュレータ部6、ロットディスパッチ部9は、例えば、専用の演算回路、或いはプロセッサとRAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)等のメモリを備えたハードウエアおよび当該メモリに格納され、プロセッサ上で動作するソフトウエア等として実現することができる。   The processing time storage unit 2, the production simulator unit 6, and the lot dispatch unit 9 described above are, for example, dedicated arithmetic circuits or hardware including a processor and a memory such as a RAM (Random Access Memory) and a ROM (Read Only Memory). It can also be realized as software stored in the memory and operating on the processor.

次に、図1、図2を参照しながら、本発明の実施形態に係る生産管理システムが、精度の高い予定ロットの進行計画を作成する手順について説明する。   Next, with reference to FIG. 1 and FIG. 2, a description will be given of a procedure in which the production management system according to the embodiment of the present invention creates a progress plan for a scheduled lot with high accuracy.

図2は、生産管理システムが予定ロットの進行計画を作成する手順を示すためのフローチャートである。   FIG. 2 is a flowchart for showing a procedure for the production management system to create a progress plan for a scheduled lot.

まず、生産ライン1のうち、所定の半導体製造装置iが、所定のロットの処理を完了すると、処理時間格納部2のデータ収集部3が、当該ロットの処理の完了を検知し、当該半導体製造装置iから、当該ロットに関するデータを取得する(図2(A):S101)。   First, when a predetermined semiconductor manufacturing apparatus i in the production line 1 completes processing of a predetermined lot, the data collection unit 3 of the processing time storage unit 2 detects the completion of processing of the lot, and the semiconductor manufacturing Data on the lot is acquired from the device i (FIG. 2A: S101).

ロットに関するデータは、前記半導体製造装置iにより当該ロットの処理で用いられた完了レシピと、当該完了レシピの直前で用いられた前完了レシピと、当該完了レシピの直後で用いられる予定の後完了レシピと、当該ロットの処理に要した実測処理時間と、当該ロットを構成する完了ウエハ枚数とから構成される。   The lot-related data includes a completed recipe used in the processing of the lot by the semiconductor manufacturing apparatus i, a previous completed recipe used immediately before the completed recipe, and a post-completed recipe scheduled to be used immediately after the completed recipe. And the actual measurement processing time required for processing the lot and the number of completed wafers constituting the lot.

完了レシピ、前完了レシピ、後完了レシピは、例えば、生産ライン1又は半導体製造装置iに予め記憶されている。実測処理時間、完了ウエハ枚数は、例えば、ロットの処理を実行した半導体製造装置iが測定(監視)することによって得られ、当該ロットの処理の完了毎に、当該半導体製造装置iの所定の記憶手段に記憶される。   The completed recipe, the pre-completed recipe, and the post-completed recipe are stored in advance in the production line 1 or the semiconductor manufacturing apparatus i, for example. The actual measurement processing time and the number of completed wafers are obtained, for example, by measuring (monitoring) the semiconductor manufacturing apparatus i that has executed the lot processing, and each time the lot processing is completed, a predetermined storage of the semiconductor manufacturing apparatus i is performed. Stored in the means.

データ収集部3が前記ロットに関するデータを取得すると、当該データ中の完了レシピ、前完了レシピ、後完了レシピを、完了レシピ、前完了レシピ、後完了レシピの順番で配列して、これらを一体とする情報(データタグ)を作成する。更に、データ収集部3は、作成したデータタグと、完了ウエハ枚数と、実測処理時間とを関連付けて、データ格納部4に記憶させる(図2(A):S102)。   When the data collection unit 3 acquires data related to the lot, the completed recipe, the pre-completed recipe, and the post-completed recipe in the data are arranged in the order of the completed recipe, the pre-completed recipe, and the post-completed recipe, and these are integrated. Create information (data tag) to be used. Further, the data collection unit 3 associates the created data tag, the number of completed wafers, and the actual measurement processing time with each other and stores them in the data storage unit 4 (FIG. 2A: S102).

尚、データ収集部3が、データタグを作成する際に、前完了レシピ又は(及び)後完了レシピが存在しない場合、本実施形態では、当該データ収集部3が、前完了レシピ又は後完了レシピが存在しないことを示す情報(例えば、「Z」等の不存在識別情報)を、存在しない前完了レシピ又は後完了レシピに対応させて、完了レシピに配列させて当該データタグを作成する。当該構成により、データ収集部3が、半導体製造装置におけるロットの処理態様が連続処理か単体処理かを判定することなく、半導体製造装置が完了したロットの処理全てについてデータタグを作成することが可能となる。   When the data collection unit 3 creates a data tag and there is no pre-completed recipe or (and) post-completed recipe, in the present embodiment, the data collection unit 3 selects the pre-completed recipe or the post-completed recipe. The data tag is created by arranging information indicating that the data does not exist (for example, non-existence identification information such as “Z”) in correspondence with the non-existing pre-completed recipe or the post-completed recipe in the complete recipe. With this configuration, it is possible for the data collection unit 3 to create a data tag for all of the lot processing completed by the semiconductor manufacturing apparatus without determining whether the lot processing mode in the semiconductor manufacturing apparatus is continuous processing or single processing. It becomes.

又、前記データ収集部3の記憶処理は、生産ライン1の半導体製造装置i毎に実行され、記憶されるデータタグ等も、当該半導体製造装置i毎にデータ格納部4内で整理される。当該整理方法は、例えば、所定の半導体製造装置を特定する装置ID毎に、テーブルがデータ格納部4に用意され、当該テーブルに前記データタグ等が記憶され、整理される。   The storage processing of the data collection unit 3 is executed for each semiconductor manufacturing apparatus i in the production line 1, and the stored data tags and the like are organized in the data storage unit 4 for each semiconductor manufacturing apparatus i. In the organizing method, for example, a table is prepared in the data storage unit 4 for each device ID that identifies a predetermined semiconductor manufacturing apparatus, and the data tags and the like are stored and organized in the table.

図3は、所定の装置IDにおけるデータ格納部4のテーブルに記憶されたデータタグと、完了ウエハ枚数と、実測処理時間との一例を示す図である。   FIG. 3 is a diagram illustrating an example of the data tag, the number of completed wafers, and the actual measurement processing time stored in the table of the data storage unit 4 for a predetermined apparatus ID.

図3に示すように、データ収集部3が、完了レシピとして「A」、前完了レシピとして「B」、後完了レシピとして「C」、完了ウエハ枚数として「5枚」、実測処理時間として「5.0分」を所定の半導体製造装置iから取得すると、データ収集部3が、データタグとして、完了レシピ、前完了レシピ、後完了レシピの順番に配列して、「A、B、C」というデータタグ301を作成し、データ格納部4に記憶する。更に、データ収集部3が、当該データタグ301に、完了ウエハ枚数「5」302と、実測処理時間「5.0」303とを関連付けて記憶する。   As shown in FIG. 3, the data collection unit 3 performs “A” as the completion recipe, “B” as the previous completion recipe, “C” as the subsequent completion recipe, “5” as the number of completed wafers, and “5” as the actual measurement processing time. When “5.0 minutes” is acquired from the predetermined semiconductor manufacturing apparatus i, the data collection unit 3 arranges the data tag as a data tag in the order of the completed recipe, the pre-completed recipe, and the post-completed recipe, and “A, B, C”. The data tag 301 is created and stored in the data storage unit 4. Further, the data collection unit 3 stores the number of completed wafers “5” 302 and the actually measured processing time “5.0” 303 in the data tag 301 in association with each other.

さて、生産シミュレータ部6は、所定の期間が経過すると、所定の予定ロットの進行計画を作成する。当該進行計画の作成対象となる予定ロットは、例えば、生産ライン1等により当該生産シミュレータ部6に予め送信されている。   Now, the production simulator section 6 creates a progress plan for a predetermined scheduled lot when a predetermined period elapses. For example, the scheduled lot for which the progress plan is to be created is transmitted in advance to the production simulator 6 by the production line 1 or the like.

生産シミュレータ部6の生産スケジューリング部7が、予定ロットの進行計画を作成する場合、生産ライン1、半導体製造装置i等と通信して、予定ロットが投入される半導体製造装置と、予定ロットに関するデータを取得する(図2(B):S201)。   When the production scheduling unit 7 of the production simulator unit 6 creates a progress plan for a planned lot, it communicates with the production line 1, the semiconductor manufacturing apparatus i, etc., and the semiconductor manufacturing apparatus into which the planned lot is input, and data related to the planned lot Is acquired (FIG. 2B: S201).

予定ロットに関するデータは、予定ロットの処理に用いられる予定レシピと、当該予定レシピの直前で用いられる予定の前予定レシピと、当該予定レシピの直後で用いられる予定の後予定レシピと、当該予定ロットのウエハ枚数とから構成される。これらのデータは、生産ライン1、半導体製造装置i等に予め記憶されている。   The data related to the planned lot includes a planned recipe used for processing the planned lot, a pre-planned recipe to be used immediately before the planned recipe, a post-planned recipe to be used immediately after the planned recipe, and the planned lot. The number of wafers. These data are stored in advance in the production line 1, the semiconductor manufacturing apparatus i, and the like.

次に、生産スケジューリング部7が、予定ロットに関するデータ中の予定レシピ、前予定レシピ、後予定レシピを、予定レシピ、前予定レシピ、後予定レシピの順番で配列して、これらを一体とする情報(予定データタグ)を作成する。   Next, the production scheduling unit 7 arranges the planned recipe, the pre-planned recipe, and the post-planned recipe in the data related to the planned lot in the order of the planned recipe, the pre-planned recipe, and the post-planned recipe, and integrates them. (Schedule data tag) is created.

尚、生産スケジューリング部7が、予定データタグを作成する際に、前予定レシピ又は(及び)後予定レシピが存在しない場合、上述したように、データ収集部3が、存在しない前完了レシピ又は(及び)後完了レシピに対応した不存在識別情報を用いてデータタグを作成した構成と同様に、生産スケジューリング部7が、存在しない前予定レシピ又は(及び)後予定レシピに対応した不存在識別情報を用いて予定データタグを作成する。当該構成により、前記データ収集部3が作成したデータタグに、前記生産スケジューリング部7が作成した予定データタグを対応させることが可能となる。   In addition, when the production scheduling unit 7 creates the planned data tag, if the previous planned recipe or (and) the subsequent planned recipe does not exist, as described above, the data collection unit 3 performs the pre-completed recipe or ( And) Similar to the configuration in which the data tag is created using the non-existence identification information corresponding to the post-completed recipe, the production scheduling unit 7 has the pre-existing recipe that does not exist or (and) the non-existence identification information corresponding to the post-planning recipe Create a scheduled data tag using. With this configuration, it is possible to associate the scheduled data tag created by the production scheduling unit 7 with the data tag created by the data collection unit 3.

生産スケジューリング部7が予定データタグを作成すると、予定ロットの処理が実行される半導体製造装置に対応する実測処理時間の読出要求を処理時間格納部2のデータ読出部5に送信し、作成した予定データタグと、予定ロットのウエハ枚数とを当該データ読出部5に送信する(図2(B):S202)。   When the production scheduling unit 7 creates the scheduled data tag, a request for reading the measured processing time corresponding to the semiconductor manufacturing apparatus in which the scheduled lot processing is executed is transmitted to the data reading unit 5 of the processing time storage unit 2 to create the scheduled data tag. The data tag and the number of wafers in the planned lot are transmitted to the data reading unit 5 (FIG. 2B: S202).

データ読出部5は、生産スケジューリング部7から、所定の半導体製造装置に対応する実測処理時間の読出要求と、前記予定データタグと、前記ウエハ枚数とを受信すると、データ格納部4を参照し、当該半導体製造装置に対応するテーブルを特定し、当該テーブルに当該予定データタグに一致するデータタグが存在するか否かを判定する(図2(B):S203)。   When the data reading unit 5 receives from the production scheduling unit 7 a request for reading an actual processing time corresponding to a predetermined semiconductor manufacturing apparatus, the scheduled data tag, and the number of wafers, the data reading unit 5 refers to the data storage unit 4, A table corresponding to the semiconductor manufacturing apparatus is specified, and it is determined whether or not a data tag that matches the scheduled data tag exists in the table (FIG. 2B: S203).

前記データ読出部5が判定した結果、予定データタグに一致するデータタグが存在すると判定すると、当該データ読出部5は、次に、ウエハ枚数に一致する、当該データタグに関連付けられた完了ウエハ枚数が存在するか否かを判定する(図2(B):S203YES→S204)。   If the data reading unit 5 determines that there is a data tag that matches the scheduled data tag as a result of the determination, the data reading unit 5 next matches the number of wafers and the number of completed wafers associated with the data tag. Is determined (FIG. 2B: S203 YES → S204).

前記データ読出部5が判定した結果、ウエハ枚数に一致する完了ウエハ枚数が存在すると判定すると、当該データ読出部5は、当該完了ウエハ枚数に関連付けられた実測処理時間を取得する(図2(B):S204YES→S205)。   If the data reading unit 5 determines that there is a completed wafer number that matches the number of wafers, the data reading unit 5 acquires an actual measurement processing time associated with the completed wafer number (FIG. 2B ): S204 YES → S205).

図3に示すように、データ読出部5が、予定データタグ「A、B、C」とウエハ枚数「5」とを受信した場合、予定データタグに一致するデータタグ「A、B、C」301と、ウエハ枚数「5」302に一致する完了ウエハ枚数とが所定のテーブル(データ格納部4)に存在するため、データ読出部5は、データタグ「A、B、C」301と、ウエハ枚数「5」302とに関連付けられた実測処理時間「5.0」303を取得する。   As shown in FIG. 3, when the data reading unit 5 receives the scheduled data tag “A, B, C” and the number of wafers “5”, the data tag “A, B, C” that matches the scheduled data tag. 301 and the number of completed wafers corresponding to the number of wafers “5” 302 exist in a predetermined table (data storage unit 4), the data reading unit 5 includes data tags “A, B, C” 301, wafers The actual measurement processing time “5.0” 303 associated with the number “5” 302 is acquired.

尚、図3には、1の実測処理時間「5.0」を示しているが、予定データタグに一致するデータタグと、ウエハ枚数に一致する完了ウエハ枚数とに関連付けられた実測処理時間がテーブル(データ格納部4)に複数存在する場合は、データ読出部5は全ての実測処理時間を取得する。   Although FIG. 3 shows one actual measurement processing time “5.0”, the actual measurement processing time associated with the data tag that matches the scheduled data tag and the number of completed wafers that matches the number of wafers. When there are a plurality of tables (data storage unit 4), the data reading unit 5 acquires all the actual measurement processing times.

データ読出部5が実測処理時間を取得すると、取得した実測処理時間と、予定データタグと、ウエハ枚数とを処理時間推定部8に送信する。   When the data reading unit 5 acquires the actual measurement processing time, the acquired actual measurement processing time, the scheduled data tag, and the number of wafers are transmitted to the processing time estimation unit 8.

前記処理時間推定部8が、実測処理時間と、予定データタグと、ウエハ枚数とを受信すると、当該実測処理時間を受信した時点で、予定データタグと、ウエハ枚数とに対応するデータタグと、完了ウエハ枚数とがテーブルに存在すると判定し、ユーザにより予め設定された統計学的手法に従って、受信した実測処理時間から所定の統計値(例えば、平均値、中央値、最大値、最小値等)を算出する(図2(B):S206)。   When the processing time estimation unit 8 receives the actual measurement processing time, the scheduled data tag, and the number of wafers, when the actual processing time is received, the data tag corresponding to the planned data tag and the number of wafers; It is determined that the number of completed wafers exists in the table, and predetermined statistical values (for example, average value, median value, maximum value, minimum value, etc.) are obtained from the actually measured processing time received according to a statistical method preset by the user. Is calculated (FIG. 2B: S206).

所定の統計値は、生産ラインの構成、各半導体製造装置の構成、ロットに施される処理、ロットの処理に用いられるレシピ等に応じてユーザが任意に設計する。本発明の実施形態では、平均値を統計値として採用する。   The predetermined statistical value is arbitrarily designed by the user in accordance with the configuration of the production line, the configuration of each semiconductor manufacturing apparatus, the processing applied to the lot, the recipe used for the processing of the lot, and the like. In the embodiment of the present invention, the average value is adopted as the statistical value.

図4は、本発明の実施形態に係る複数の実測処理時間と、平均実測処理時間との一例を示す図である。   FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a plurality of actual measurement processing times and an average actual measurement processing time according to the embodiment of the present invention.

図4に示すように、処理時間推定部8が、複数の実測処理時間401(7つの実測処理時間)を受信すると、当該実測処理時間を平均した平均実測処理時間「5.0」402を算出する。処理時間推定部8は、平均実測処理時間「5.0」402を予定ロットの処理時間として推定する。   As shown in FIG. 4, when the processing time estimation unit 8 receives a plurality of actual measurement processing times 401 (seven actual measurement processing times), an average actual measurement processing time “5.0” 402 is calculated by averaging the actual measurement processing times. To do. The processing time estimation unit 8 estimates the average actually measured processing time “5.0” 402 as the processing time of the scheduled lot.

次に、予定データタグに一致するデータタグが存在するものの、ウエハ枚数に一致する完了ウエハ枚数がデータ格納部4に存在しない場合について説明する。   Next, a case will be described in which there is a data tag that matches the scheduled data tag, but there is no completed wafer number in the data storage unit 4 that matches the number of wafers.

前記データ読出部5が判定した結果、ウエハ枚数に一致する完了ウエハ枚数が存在しないと判定すると、データ読出部5は、予定データタグに一致するデータタグに関連付けられた完了ウエハ枚数と、実測処理枚数とを取得する(図2:S204NO→S207)。   If the data reading unit 5 determines that there is no completed wafer number that matches the number of wafers, the data reading unit 5 determines the number of completed wafers associated with the data tag that matches the scheduled data tag and the actual measurement process. The number of images is acquired (FIG. 2: S204 NO → S207).

図3に示すように、データ読出部5が、予定データタグ「A、B、C」と、ウエハ枚数「8」とを受信した場合、予定データタグに一致するデータタグ「A、B、C」301はテーブルに2つ存在するものの、ウエハ枚数に一致する完了ウエハ枚数は当該テーブルに存在しない。そのため、データ読出部5は、2つ存在するデータタグ「A、B、C」301に関連付けられた完了ウエハ枚数(「5」302、「12」304)と、実測処理時間(「5.0」303、「10.0」305)とを取得する。   As shown in FIG. 3, when the data reading unit 5 receives the scheduled data tag “A, B, C” and the number of wafers “8”, the data tag “A, B, C” that matches the scheduled data tag. "301" exists in the table, but the number of completed wafers corresponding to the number of wafers does not exist in the table. Therefore, the data reading unit 5 includes the number of completed wafers (“5” 302, “12” 304) associated with two existing data tags “A, B, C” 301 and the actual measurement processing time (“5.0 "303," 10.0 "305).

データ読出部5が、完了ウエハ枚数と、実測処理時間とを取得すると、取得した完了ウエハ枚数と、実測処理時間と、予定データタグと、ウエハ枚数とを処理時間推定部8に送信する。   When the data reading unit 5 acquires the number of completed wafers and the actual measurement processing time, it transmits the acquired number of completed wafers, actual measurement processing time, scheduled data tag, and number of wafers to the processing time estimation unit 8.

前記処理時間推定部8が、完了ウエハ枚数と、実測処理時間と、予定データタグと、ウエハ枚数とを受信すると、完了ウエハ枚数と、実測処理時間とを受信した時点で、完了ウエハ枚数とウエハ枚数とが異なるから、予定データタグに一致するデータタグはテーブルに存在するものの、ウエハ枚数に一致する完了ウエハ枚数は当該テーブルに存在しないと判定する。すると、前記処理時間推定部8は、上述した統計学的手法とは異なる方法(以下、第一の方法とする)により、当該ウエハ枚数に対応する処理時間を算出し、予定ロットの処理時間を推定する(図2(B):S208)。   When the processing time estimation unit 8 receives the number of completed wafers, the actually measured processing time, the scheduled data tag, and the number of wafers, when the received number of completed wafers and the actually measured processing time are received, the number of completed wafers and the wafer Since the number is different, it is determined that the data tag that matches the scheduled data tag exists in the table, but the completed wafer number that matches the number of wafers does not exist in the table. Then, the processing time estimation unit 8 calculates a processing time corresponding to the number of wafers by a method (hereinafter referred to as a first method) different from the statistical method described above, and calculates the processing time of the scheduled lot. Estimation is performed (FIG. 2B: S208).

当該処理時間推定部8が予定ロットの処理時間を推定する第一の方法は、どのような方法でも構わないが、例えば、以下のような推定方法が採用される。   Any method may be used as the first method for the processing time estimation unit 8 to estimate the processing time of the scheduled lot. For example, the following estimation method is adopted.

まず、処理時間推定部8が、受信した完了ウエハ枚数と、実測処理時間とに対して最小二乗法等により所定の関数(例えば、一次関数)を適用し、近似式を取得する。次に、処理時間推定部8が、当該近似式の完了ウエハ枚数に対応するパラメータに、予定ロットのウエハ枚数を代入し、計算される実測処理時間を当該ウエハ枚数に対応する処理時間として算出する。そして、処理時間推定部8が、算出した処理時間を予定ロットの処理時間と推定する。   First, the processing time estimation unit 8 applies a predetermined function (for example, a linear function) to the received number of completed wafers and the actually measured processing time by a least square method or the like to obtain an approximate expression. Next, the processing time estimation unit 8 substitutes the number of wafers in the planned lot for the parameter corresponding to the number of completed wafers in the approximate expression, and calculates the calculated actual processing time as the processing time corresponding to the number of wafers. . Then, the processing time estimation unit 8 estimates the calculated processing time as the processing time of the scheduled lot.

図5は、本発明の実施形態に係る完了ウエハ枚数と実測処理時間との対応関係と、近似式と、予定ロットの処理時間との一例を示す図である。   FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a correspondence relationship between the number of completed wafers and an actual measurement processing time, an approximate expression, and a processing time of a scheduled lot according to the embodiment of the present invention.

図5に示すように、処理時間推定部8が、完了ウエハ枚数「5」、実測処理時間「5.0」と、完了ウエハ枚数「12」、実測処理時間「10.0」とを受信すると、両者に対して一次関数をフィッティングして直線近似式を取得する。図5では、完了ウエハ枚数をX(枚数)、実測処理時間をY(分)とすると、当該直線近似式501は、Y=0.71X+1.43となる。そこで、予定ロットのウエハ枚数が「8」である場合、処理時間推定部8は、当該直線近似式501のXにウエハ枚数「8」を代入して、当該ウエハ枚数「8」に対応する実測処理時間を「7.1」502と算出する。これにより、処理時間推定部8が、予定ロットの処理時間を「7.1」502と推定する。   As shown in FIG. 5, when the processing time estimation unit 8 receives the completed wafer number “5”, the actually measured processing time “5.0”, the completed wafer number “12”, and the actually measured processing time “10.0”. Then, a linear function is obtained by fitting a linear function to both. In FIG. 5, when the number of completed wafers is X (number) and the actual measurement processing time is Y (minutes), the linear approximation formula 501 is Y = 0.71X + 1.43. Therefore, when the number of wafers in the planned lot is “8”, the processing time estimation unit 8 substitutes the number of wafers “8” for X in the linear approximation formula 501, and actually measures the number of wafers “8”. The processing time is calculated as “7.1” 502. Thereby, the processing time estimation unit 8 estimates the processing time of the scheduled lot as “7.1” 502.

尚、処理時間推定部8が直線近似で採用した関数は、一次関数である必要はなく、例えば、設備モデルに対応する直線や段差直線等を採用しても構わない。又、処理時間推定部8が直線近似で採用した関数は、所定の関数を採用しなくてもよく、例えば、簡単な補間式を用いて、予定ロットの処理時間を推定するよう構成しても構わない。   Note that the function adopted by the processing time estimation unit 8 in the linear approximation need not be a linear function. For example, a straight line corresponding to the equipment model, a step straight line, or the like may be adopted. Further, the function adopted by the processing time estimation unit 8 in the linear approximation need not use a predetermined function. For example, the processing time estimation unit 8 may be configured to estimate the processing time of the scheduled lot using a simple interpolation formula. I do not care.

ところで、上述した第一の方法は、2以上の完了ウエハ枚数、実測処理時間が存在する場合に採用することができるが、1の完了ウエハ枚数、実測処理時間の存在する場合には採用することができない。そのため、処理時間推定部8が、1の完了ウエハ枚数、実測処理時間を取得した場合は、例えば、次の第二の方法を採用する。   By the way, the above-described first method can be adopted when the number of completed wafers is two or more and the actual measurement processing time is present, but is adopted when there is one completed wafer number and the actual measurement processing time. I can't. Therefore, when the processing time estimation unit 8 acquires the number of completed wafers of 1 and the actual measurement processing time, for example, the following second method is adopted.

まず、所定の記憶手段に、従来から用いられていた設備モデルに対応する関数等をユーザにより予め記憶させておく。次に、処理時間推定部8が、1の完了ウエハ枚数、実測処理時間を取得すると、当該関数を当該記憶手段から読み出し、当該関数と、完了ウエハ枚数と、実測処理時間とに基づいて当該関数に関するパラメータを決定する。そして、処理時間推定部8が、当該パラメータを決定した関数と、予定ロットのウエハ枚数とに基づいて、予定ロットの処理時間を推定する。このようにすれば、上述した第一の方法を採用しなくても、予定ロットの処理時間を推定することができる。   First, a function or the like corresponding to a conventionally used equipment model is previously stored by a user in a predetermined storage unit. Next, when the processing time estimation unit 8 acquires the number of completed wafers of 1 and the actual processing time, the function is read from the storage unit, and the function is based on the function, the number of completed wafers, and the actual processing time. Determine the parameters. Then, the processing time estimation unit 8 estimates the processing time of the planned lot based on the function that has determined the parameter and the number of wafers of the planned lot. In this way, the processing time of the scheduled lot can be estimated without adopting the first method described above.

尚、上記では、設備モデルに対応する関数のパラメータを決定した後に、当該関数と予定ロットのウエハ枚数とから予定ロットの処理時間を推定するよう構成しているが、例えば、当該パラメータが固定されている場合は、パラメータを決定する処理を実行しないで、パラメータが固定された関数と、予定ロットのウエハ枚数とから予定ロットの処理時間を推定するよう構成しても構わない。   In the above, after determining the parameters of the function corresponding to the equipment model, the processing time of the planned lot is estimated from the function and the number of wafers of the planned lot. For example, the parameter is fixed. In this case, the processing time for the planned lot may be estimated from the function with the fixed parameters and the number of wafers of the planned lot without executing the process for determining the parameter.

さて、最後に、予定データタグに一致するデータタグも、ウエハ枚数に一致する完了ウエハ枚数も、データ格納部4に存在しない場合について説明する。   Finally, a case will be described in which neither the data tag that matches the scheduled data tag nor the number of completed wafers that matches the number of wafers exists in the data storage unit 4.

データ読出部5が判定した結果、予定データタグに一致するデータタグが存在しないと判定すると、データ読出部5は、予定データタグと、ウエハ枚数とを処理時間推定部8に送信する(図2(B):S203NO)。   If the data reading unit 5 determines that there is no data tag that matches the scheduled data tag, the data reading unit 5 transmits the scheduled data tag and the number of wafers to the processing time estimation unit 8 (FIG. 2). (B): S203 NO).

前記処理時間推定部8が、予定データタグと、ウエハ枚数とを受信すると、予定データタグと、ウエハ枚数とを受信した時点で、予定データタグと、ウエハ枚数とに対応するデータタグ、完了ウエハ枚数がテーブルに存在しないと判定する。すると、処理時間推定部8は、他の方法により、予定ロットの処理時間を推定する(図2(B):S209)。   When the processing time estimation unit 8 receives the scheduled data tag and the number of wafers, when the scheduled data tag and the number of wafers are received, the data tag corresponding to the scheduled data tag and the number of wafers, the completed wafer It is determined that the number of sheets does not exist in the table. Then, the processing time estimation unit 8 estimates the processing time of the scheduled lot by another method (FIG. 2B: S209).

当該処理時間推定部8が予定ロットの処理時間を推定する方法は、どのような方法でも構わないが、例えば、以下のような方法を採用する。   The method for estimating the processing time of the scheduled lot by the processing time estimation unit 8 may be any method. For example, the following method is adopted.

まず、所定の記憶手段に、従来から用いられていた設備モデルに対応する関数等をユーザにより予め記憶させておく。処理時間推定部8が、予定データタグと、ウエハ枚数とに対応するデータタグ、完了ウエハ枚数がテーブルに存在しないと判定すると、データ読出部5を介して、予定データタグの予定レシピに一致するデータタグの完了レシピがデータ格納部4に存在するか否かを判定する。   First, a function or the like corresponding to a conventionally used equipment model is previously stored by a user in a predetermined storage unit. When the processing time estimation unit 8 determines that the scheduled data tag, the data tag corresponding to the number of wafers, and the number of completed wafers do not exist in the table, the processing time estimation unit 8 matches the scheduled recipe of the scheduled data tag via the data reading unit 5. It is determined whether or not a data tag completion recipe exists in the data storage unit 4.

予定レシピに一致する完了レシピがテーブルに存在すると判定すると、処理時間推定部8が、データ読出部5を介して、当該完了レシピに関連付けられた完了ウエハ枚数と、実測処理時間とを取得する。次に、処理時間推定部8が、設備モデルに対応する関数を記憶手段から読み出し、当該関数と、完了ウエハ枚数と、実測処理時間とに基づいて当該関数に関するパラメータを決定する。そして、処理時間推定部8が、当該パラメータを決定した関数と、予定ロットのウエハ枚数とに基づいて、予定ロットの処理時間を推定する。このような方法は、上述したような、1の完了ウエハ枚数、実測処理時間の存在する場合に採用した第二の方法と同様である。   When it is determined that a completed recipe that matches the scheduled recipe exists in the table, the processing time estimation unit 8 acquires the number of completed wafers associated with the completed recipe and the actually measured processing time via the data reading unit 5. Next, the processing time estimation unit 8 reads a function corresponding to the equipment model from the storage unit, and determines a parameter related to the function based on the function, the number of completed wafers, and the actually measured processing time. Then, the processing time estimation unit 8 estimates the processing time of the planned lot based on the function that has determined the parameter and the number of wafers of the planned lot. Such a method is the same as the second method employed in the case where the number of completed wafers of 1 and the actual measurement processing time exist as described above.

このようにすれば、上述した予定データタグに一致するデータタグがテーブルに存在しなくても、当該テーブルから実測処理時間を取得し、予定ロットの処理時間を推定することができる。   In this way, even if there is no data tag that matches the above-mentioned scheduled data tag in the table, it is possible to acquire the measured processing time from the table and estimate the processing time of the scheduled lot.

さて、処理時間推定部8が、予定ロットの処理時間を推定すると、推定された予定ロットの処理時間を生産スケジューリング部7へ送信する。生産スケジューリング部7は、受信した予定ロットの処理時間に基づいて、予定ロットの進行計画を作成する(図2(B):S210)。   When the processing time estimation unit 8 estimates the processing time of the scheduled lot, the processing time estimation unit 8 transmits the estimated processing time of the planned lot to the production scheduling unit 7. The production scheduling unit 7 creates a scheduled lot progress plan based on the received processing time of the planned lot (FIG. 2B: S210).

尚、予定ロットの進行計画のうち、予定ロットが複数の半導体製造装置を経由して処理される場合は、生産スケジューリング部7が生産ライン1等と通信して、予定ロットが投入される複数の半導体製造装置を特定し、当該半導体製造装置毎に、予定ロットの処理時間を取得するよう構成される。   In addition, when the planned lot is processed via a plurality of semiconductor manufacturing apparatuses among the progress plans of the planned lot, the production scheduling unit 7 communicates with the production line 1 and the like, and a plurality of planned lots are input. The semiconductor manufacturing apparatus is specified, and the processing time of the scheduled lot is acquired for each semiconductor manufacturing apparatus.

具体的には、生産スケジューリング部7が、データ読出部5に、半導体製造装置毎に、予定ロットに対応する実測処理時間を読み出すよう読出要求を送信し、当該読出要求に対応して処理時間推定部8から推定される半導体製造装置毎の予定ロットの処理時間を受信する。生産スケジューリング部7は、受信した半導体製造装置毎の予定ロットの処理時間に基づいて、予定ロットの進行計画を作成することになる。   Specifically, the production scheduling unit 7 transmits a read request to the data reading unit 5 so as to read the actual measurement processing time corresponding to the scheduled lot for each semiconductor manufacturing apparatus, and estimates the processing time in response to the read request. The processing time of the scheduled lot for each semiconductor manufacturing apparatus estimated from the unit 8 is received. The production scheduling unit 7 creates a scheduled lot progress plan based on the received processing time of the scheduled lot for each semiconductor manufacturing apparatus.

生産スケジューリング部7が予定ロットの進行計画を作成すると、作成した予定ロットの進行計画をロットディスパッチ部9に送信する。当該ロットディスパッチ部9は、当該予定ロットの進行計画を受信すると、生産ライン1から、現在仕掛かり中である仕掛かりロットの進捗状況を取得し、予定ロットの進行計画と、仕掛かりロットの進捗状況とを利用して、所定の半導体製造装置iに対する予定ロット、仕掛りロットの投入順を決定する。例えば、当該決定方法は、処理時間が最短となる投入順である。   When the production scheduling unit 7 creates a progress plan for the scheduled lot, the production scheduling unit 7 transmits the created progress plan for the scheduled lot to the lot dispatch unit 9. When the lot dispatch unit 9 receives the progress plan of the scheduled lot, the lot dispatch unit 9 obtains the progress status of the in-process lot currently in progress from the production line 1, and the progress plan of the scheduled lot and the progress of the in-process lot. The order of the scheduled lot and the in-process lot for the predetermined semiconductor manufacturing apparatus i is determined using the situation. For example, the determination method is the order of insertion that minimizes the processing time.

投入順を決定すると、ロットディスパッチ部9は、当該投入順で所定の半導体製造装置が予定ロット、仕掛りロットを処理するように、生産ライン1に指示する。つまり、ロットディスパッチ部9が、予定ロットを所定の半導体製造装置iに割り当てて、当該半導体製造装置iに予定ロットの処理を実行させる。   When the order of input is determined, the lot dispatch unit 9 instructs the production line 1 so that a predetermined semiconductor manufacturing apparatus processes the scheduled lot and the in-process lot in the order of input. That is, the lot dispatch unit 9 assigns a scheduled lot to a predetermined semiconductor manufacturing apparatus i and causes the semiconductor manufacturing apparatus i to execute the processing of the scheduled lot.

当該半導体製造装置iでは、割り当てられた予定ロットの処理を実行する。半導体製造装置iが予定ロットを処理する場合、上述した予定ロットの進行計画に従って処理することになる。そのため、従来技術で説明したように、当該半導体製造装置iにおける予定ロットの処理に対する現実の処理時間と、進行計画の作成に用いられた処理時間との間に大きなばらつきが生じることなく、予定ロットの納期遵守率を向上することが可能となる。   In the semiconductor manufacturing apparatus i, processing of the assigned scheduled lot is executed. When the semiconductor manufacturing apparatus i processes a planned lot, it processes according to the schedule plan of the planned lot described above. For this reason, as described in the related art, the planned lot is generated without causing a large variation between the actual processing time for processing the planned lot in the semiconductor manufacturing apparatus i and the processing time used for creating the progress plan. It becomes possible to improve the delivery rate compliance.

尚、本発明の実施形態では、以上で説明した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲において、種々の変形および応用が可能である。   The embodiment of the present invention is not limited to the embodiment described above, and various modifications and applications can be made without departing from the technical idea of the present invention.

例えば、生産シミュレータ部6は、所定の期間毎に予定ロットの進行計画を作成するよう構成したが、所定の期間毎に限られず、所定の半導体製造装置iが所定のロットの処理完了毎に、当該生産シミュレータ部6が予定ロットの進行計画を作成するよう構成しても構わない。   For example, the production simulator unit 6 is configured to create a progress plan for a scheduled lot every predetermined period. However, the production simulator unit 6 is not limited to every predetermined period, and each time a predetermined semiconductor manufacturing apparatus i completes processing of a predetermined lot, You may comprise so that the said production simulator part 6 produces the progress plan of a scheduled lot.

当該構成とすると、前記半導体製造装置iによりロットの処理に要する処理時間が、前記期間よりも短い場合、当該ロットに関するデータがデータ格納部4に格納されるとともに、データ読出部5が当該ロットに関するデータも検索対象とするため、生産スケジューリング部7が、新たに記憶されたロットに関するデータに対応する予定ロットの進行計画を作成することが可能となる。その結果、作成される予定ロットの進行計画は、新たなデータが反映されることになるので、さらに予定ロットの進行計画の精度を向上させることが可能となる。   With this configuration, when the processing time required for processing a lot by the semiconductor manufacturing apparatus i is shorter than the period, data relating to the lot is stored in the data storage unit 4 and the data reading unit 5 is related to the lot. Since the data is also a search target, the production scheduling unit 7 can create a progress plan for the scheduled lot corresponding to the data relating to the newly stored lot. As a result, since the progress plan of the planned lot to be created reflects new data, it is possible to further improve the accuracy of the progress plan of the planned lot.

又、本発明の実施形態では、データ収集部3が、データタグと、完了ウエハ枚数と、実測処理時間とを関連付けてデータ格納部4に記憶し、データ読出部5が、予定データタグ及びウエハ枚数に対応するデータタグ及び完了ウエハ枚数に関連付けられた実測処理時間を取得するよう構成したが、他の構成であっても構わない。   In the embodiment of the present invention, the data collection unit 3 stores the data tag, the number of completed wafers, and the actual measurement processing time in association with each other in the data storage unit 4, and the data reading unit 5 stores the scheduled data tag and the wafer. The data tag corresponding to the number of sheets and the actual measurement processing time associated with the number of completed wafers are acquired, but other structures may be used.

例えば、データ収集部3が、完了ウエハ枚数を除いて、データタグと、実測処理時間とを関連付けてデータ格納部4に記憶し、データ読出部5が、予定データタグに一致(対応)するデータタグに関連付けられた実測処理時間を取得するよう構成しても構わない。   For example, the data collection unit 3 stores the data tag and the actual measurement processing time in association with each other except the number of completed wafers in the data storage unit 4, and the data reading unit 5 matches (corresponds to) the scheduled data tag. You may comprise so that the measurement processing time linked | related with the tag may be acquired.

当該構成としても、レシピ間相互の関係から生じる待ち時間も考慮した予定ロットの処理時間を推定することが可能となり、推定される予定ロットの処理時間の精度を向上させることが可能となる。   Even in this configuration, it is possible to estimate the processing time of the scheduled lot in consideration of the waiting time resulting from the mutual relationship between the recipes, and it is possible to improve the accuracy of the processing time of the estimated scheduled lot.

又、本発明の実施形態では、データ収集部3が、完了レシピ、前完了レシピ、後完了レシピの順番で配列して、これらを一体とするデータタグを作成し、当該作成方法に対応するように、生産スケジューリング部7が、予定レシピ、前予定レシピ、後予定レシピの順番で配列して、これらを一体とする予定データタグを作成するよう構成したが、他の構成であっても構わない。   In the embodiment of the present invention, the data collection unit 3 arranges the completed recipe, the pre-completed recipe, and the post-completed recipe in this order, creates a data tag that integrates them, and corresponds to the creation method. In addition, the production scheduling unit 7 is configured to arrange the order recipe, the pre-scheduled recipe, and the post-scheduled recipe in this order to create a schedule data tag that integrates them, but other configurations may be used. .

例えば、前記配列態様を考慮せずに、データ収集部3が、完了レシピと、前完了レシピと、後完了レシピとを一体としたデータタグを作成するとともに、当該データタグと対応するように、生産スケジューリング部7が、予定レシピと、前予定レシピと、後予定レシピとを一体とした予定データタグを作成するよう構成しても構わない。   For example, without considering the arrangement mode, the data collection unit 3 creates a data tag in which a completed recipe, a pre-completed recipe, and a post-completed recipe are integrated, and corresponds to the data tag, The production scheduling unit 7 may be configured to create a schedule data tag that integrates the scheduled recipe, the previous scheduled recipe, and the later scheduled recipe.

又、本発明の実施形態では、データ収集部3が、完了レシピ、前完了レシピ、後完了レシピの順番で配列して、データタグを作成するよう構成したが、他の配列態様によりデータタグを作成するよう構成しても構わない。   In the embodiment of the present invention, the data collection unit 3 is configured to create the data tag by arranging the completed recipe, the pre-completed recipe, and the post-completed recipe in this order. You may comprise so that it may produce.

前記配列態様として、例えば、前完了レシピ、完了レシピ、後完了レシピの順番で配列する態様、後完了レシピ、完了レシピ、前完了レシピの順番で配列する態様等が挙げられるが、これに限られるものではない。   Examples of the arrangement form include, but are not limited to, an aspect of arranging in the order of pre-completed recipe, completed recipe, and post-completed recipe, an aspect of arranging in the order of post-completed recipe, completed recipe, and pre-completed recipe. It is not a thing.

又、本発明の実施形態では、データ収集部3がデータタグを作成する場合でも、生産スケジューリング部7が予定データタグを作成する場合でも、所定のレシピが存在しないことを示す情報(不存在識別情報)を用いてデータ収集部3がデータタグを、生産スケジューリング部7が予定データタグを作成するよう構成したが、他の構成であっても構わない。   In the embodiment of the present invention, information indicating that a predetermined recipe does not exist (non-existence identification) regardless of whether the data collection unit 3 creates a data tag or the production scheduling unit 7 creates a scheduled data tag. The data collection unit 3 uses the information) and the production scheduling unit 7 creates the scheduled data tag. However, other configurations may be used.

例えば、データ収集部3が、所定の半導体製造装置iが所定のロットの処理を完了すると、当該半導体製造装置が単体処理でロットの処理を完了したのか連続処理でロットの処理を完了したのかを判定するよう構成して、ロットに関するデータとともに、単体処理か連続処理かを示す情報(処理態様情報とする)も取得し、当該処理態様情報も含めてデータ格納部4に記憶させるよう構成しても構わない。そして、生産スケジューリング部7が、予定ロットに関するデータに前記処理態様情報を加えて、前記データ格納部4から、当該予定ロットに関するデータに対応するロットに関するデータ(例えば、実測処理時間)を取得するよう構成しても構わない。   For example, when the data collection unit 3 completes the processing of a predetermined lot by a predetermined semiconductor manufacturing apparatus i, it is determined whether the semiconductor manufacturing apparatus has completed the lot processing by a single process or the lot processing by a continuous process. It is configured so as to determine, and together with the data relating to the lot, information indicating whether it is a single process or continuous process (processing mode information) is acquired and stored in the data storage unit 4 including the processing mode information. It doesn't matter. Then, the production scheduling unit 7 adds the processing mode information to the data related to the planned lot, and acquires data (for example, actual measurement processing time) related to the lot corresponding to the data related to the planned lot from the data storage unit 4. You may comprise.

当該構成とすると、生産スケジューリング部7が、処理態様によるロットの処理時間のばらつきも考慮して実績値である実測処理時間を取得することが可能となるから、当該ばらつきを抑えるとともに、さらに予定ロットの進行計画の精度を向上させることが可能となる。又、蓄積される大量のデータを効率よく整理することも可能となる。   With this configuration, the production scheduling unit 7 can acquire the actual measurement processing time that is the actual value in consideration of the variation in the processing time of the lot according to the processing mode. It is possible to improve the accuracy of the progress plan. In addition, a large amount of accumulated data can be efficiently organized.

本発明は、半導体製造装置に対して所定のロットの処理に要する処理時間を高精度に予測することができ、その結果、高精度なロットの進行計画を作成することができるとともに、生産ラインを高効率で稼動させることができるという効果を有し、生産管理システムとして有用である。   The present invention can predict the processing time required for processing a predetermined lot for a semiconductor manufacturing apparatus with high accuracy, and as a result, can create a highly accurate lot progress plan and It has the effect of being able to operate with high efficiency and is useful as a production management system.

1 生産ライン
2 処理時間格納部
3 データ収集部
4 データ格納部
5 データ読出部
6 生産シミュレータ部
7 生産スケジューリング部
8 処理時間推定部
9 ロットディスパッチ部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Production line 2 Processing time storage part 3 Data collection part 4 Data storage part 5 Data reading part 6 Production simulator part 7 Production scheduling part 8 Processing time estimation part 9 Lot dispatch part

Claims (4)

半導体製造装置が投入予定の予定ロットの処理を開始してから当該処理を完了するまでに要する処理時間を推定することによって、予定ロットの進行計画を作成する生産管理システムにおいて、
前記半導体製造装置が所定のロットの処理を完了すると、当該ロットの処理で用いられた完了レシピと、当該完了レシピの直前で用いられた前完了レシピと、当該完了レシピの直後で用いられる予定の後完了レシピとを一体としたデータタグに、当該ロットの処理に要した実測処理時間を関連付けて、データ格納手段に記憶させるデータ収集手段と、
予定ロットの処理時間を推定する際に、当該予定ロットの処理で用いられる予定レシピと、当該予定レシピの直前で用いられる予定の前予定レシピと、当該予定レシピの直後で用いられる予定の後予定レシピとを一体とした予定データタグに一致する、前記データ格納手段のデータタグに関連付けられた実測処理時間を用いることによって、当該予定ロットの処理時間を推定する処理時間推定手段と、
を備えることを特徴とする生産管理システム。
In the production management system that creates the progress plan of the planned lot by estimating the processing time required from the start of the processing of the planned lot scheduled for input by the semiconductor manufacturing equipment to the completion of the processing,
When the semiconductor manufacturing apparatus completes the processing of the predetermined lot, the completed recipe used in the processing of the lot, the previous completed recipe used immediately before the completed recipe, and the schedule to be used immediately after the completed recipe A data collection means for associating an actual processing time required for processing of the lot with a data tag integrated with a post-completion recipe, and storing it in a data storage means;
When estimating the processing time of a scheduled lot, the scheduled recipe used in the processing of the scheduled lot, the previous scheduled recipe used immediately before the scheduled recipe, and the scheduled schedule used immediately after the scheduled recipe Processing time estimation means for estimating the processing time of the scheduled lot by using the actual measurement processing time associated with the data tag of the data storage means, which matches the recipe data tag integrated with the recipe;
A production management system comprising:
前記データ収集手段が、実測処理時間とともに、処理が完了したロットを構成する完了ウエハ枚数を前記データタグに関連付けて、データ格納手段に記憶させ、
前記処理時間推定手段が、前記予定データタグと予定ロットを構成するウエハ枚数との組に対応する、前記データ格納手段のデータタグと完了ウエハ枚数との組に関連付けられた実測処理時間を用いることによって、当該予定ロットの処理時間を推定することを特徴とする請求項1に記載の生産管理システム。
The data collection means associates with the data tag the number of completed wafers constituting the processed lot together with the actual measurement processing time, and stores it in the data storage means.
The processing time estimation means uses an actual processing time associated with a set of the data tag of the data storage means and the number of completed wafers corresponding to a set of the scheduled data tag and the number of wafers constituting the scheduled lot. The production management system according to claim 1, wherein the processing time of the scheduled lot is estimated by:
前記処理時間推定手段が、前記予定データタグと前記ウエハ枚数との組に対応する、前記データ格納手段のデータタグと完了ウエハ枚数との組に関連付けられた実測処理時間が複数存在する場合、複数の実測処理時間の統計値を用いることによって、当該予定ロットの処理時間を推定することを特徴とする請求項2に記載の生産管理システム。   When the processing time estimation means has a plurality of measured processing times associated with a set of the data tag of the data storage means and the number of completed wafers corresponding to the set of the scheduled data tag and the number of wafers, a plurality of The production management system according to claim 2, wherein the processing time of the scheduled lot is estimated by using the statistical value of the actual measurement processing time. 前記処理時間推定手段が、前記予定データタグと前記ウエハ枚数との組に対応する、前記データ格納手段のデータタグと完了ウエハ枚数との組が存在しない場合、当該予定データタグに一致する前記データタグに関連付けられた、完了ウエハ枚数と実測処理時間との関係から関係式を取得し、当該関係式と予定ロットのウエハ枚数とを用いることによって、当該予定ロットの処理時間を推定することを特徴とする請求項2又は3に記載の生産管理システム。   When the processing time estimation unit does not have a set of the data tag and the number of completed wafers corresponding to the set of the scheduled data tag and the number of wafers, the data that matches the scheduled data tag A relational expression is acquired from the relationship between the number of completed wafers and the actual processing time associated with the tag, and the processing time of the planned lot is estimated by using the relational expression and the number of wafers of the planned lot. The production management system according to claim 2 or 3.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013120397A (en) * 2011-12-06 2013-06-17 Hitachi Ltd Method, device, and program for constructing simulation model for manufacturing line
JP2019050332A (en) * 2017-09-12 2019-03-28 株式会社ディスコ Processing method
CN117434871A (en) * 2023-12-07 2024-01-23 成都芯极客科技有限公司 Dynamic process parameter management method for experimental batch

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013120397A (en) * 2011-12-06 2013-06-17 Hitachi Ltd Method, device, and program for constructing simulation model for manufacturing line
JP2019050332A (en) * 2017-09-12 2019-03-28 株式会社ディスコ Processing method
JP6990070B2 (en) 2017-09-12 2022-01-12 株式会社ディスコ Processing method
CN117434871A (en) * 2023-12-07 2024-01-23 成都芯极客科技有限公司 Dynamic process parameter management method for experimental batch

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