JP2011013007A - Magnetic particle flaw inspection apparatus - Google Patents

Magnetic particle flaw inspection apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2011013007A
JP2011013007A JP2009155426A JP2009155426A JP2011013007A JP 2011013007 A JP2011013007 A JP 2011013007A JP 2009155426 A JP2009155426 A JP 2009155426A JP 2009155426 A JP2009155426 A JP 2009155426A JP 2011013007 A JP2011013007 A JP 2011013007A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image
luminance
magnetic particle
threshold
binarization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009155426A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Wasa
泰宏 和佐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd filed Critical Kobe Steel Ltd
Priority to JP2009155426A priority Critical patent/JP2011013007A/en
Publication of JP2011013007A publication Critical patent/JP2011013007A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To determine a binarization threshold, coping with a brightness fluctuation in various magnetic particle flaw inspection images, reduce misdetections, and attain a high defect detection rate.SOLUTION: In a magnetic particle flaw inspection apparatus 1, a magnetic particle pattern is generated on the surface of a carried to-be-inspected material 2; an image of the magnetic particle pattern is captured by an imaging means 7; a surface defect K of the to-be-inspected material 2 is detected from the captured image; the binarization threshold Th is the sum of an average Vave of the luminance in the image and a multiple W of the standard deviation Vσ of the luminance; and the image is binarized, and the surface defect K is detected by using the threshold Th.

Description

本発明は、表面欠陥を検出する磁粉探傷装置に関するものである。   The present invention relates to a magnetic particle flaw detector that detects surface defects.

従来、磁性材料である検査対象の表面欠陥の検査を行う非破壊検査手段として、蛍光磁粉を散布する表面探傷方法が広く活用されている。この方法においては、まず検査対象を種々の方法で磁化し、蛍光特性を有する磁粉を分散させた磁粉液を散布し、表面欠陥から漏れ出る漏洩磁束によって磁粉を引き寄せる。そしてその後に、表面の欠陥周辺に凝集した磁粉に紫外光源を照射して蛍光発光させ、磁粉指示模様を観察して表面欠陥を検出している。
この方法は、微細な欠陥に対しても漏洩磁束が大きくなる場合には明瞭な磁粉指示模様が観察できるため、検査対象の表面の磁粉探傷方法としては非常に高感度で有効である。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a nondestructive inspection means for inspecting a surface defect of an inspection object that is a magnetic material, a surface flaw detection method that spreads fluorescent magnetic powder has been widely used. In this method, first, the inspection object is magnetized by various methods, a magnetic powder liquid in which magnetic powder having fluorescent properties is dispersed is sprayed, and the magnetic powder is attracted by the leakage magnetic flux leaking from the surface defect. After that, the magnetic particles aggregated around the surface defects are irradiated with an ultraviolet light source to emit fluorescent light, and the surface defects are detected by observing the magnetic powder indicating pattern.
This method is very sensitive and effective as a method for flaw detection on the surface of an inspection object because a clear magnetic powder indication pattern can be observed when the leakage magnetic flux increases even for a minute defect.

蛍光磁粉による磁粉探傷方法で現れた磁粉指示模様は、複雑な形状の検査対象に対しては目視で確認する場合が多いが、単純な形状の検査対象に対してはカメラで磁粉指示模様を撮像し、磁粉指示模様を自動抽出する磁粉探傷装置を用いる場合もあり、鉄鋼業などの素材メーカなどでは広く活用されている。
このような磁粉探傷装置においては、高精度で且つ安定した探傷性能を維持する事が重要となり、そのための方法が提案されている。検査対象を有効に磁化させる方法、磁粉液を均一にムラなく、必要十分に散布する方法、紫外光源を均一に照射する方法、検査対象の磁粉探傷面を高感度、高分解能で撮像する方法、撮像した画像から欠陥部分を抽出する画像処理方法などが必要になる。
The magnetic particle indication pattern that appears by the magnetic particle flaw detection method using fluorescent magnetic particles is often visually confirmed for inspection objects with complex shapes, but the magnetic particle indication pattern is imaged with a camera for inspection objects with simple shapes. However, there are cases where a magnetic particle flaw detector that automatically extracts a magnetic particle indication pattern is used, which is widely used by material manufacturers in the steel industry and the like.
In such a magnetic particle flaw detector, it is important to maintain highly accurate and stable flaw detection performance, and a method for that purpose has been proposed. A method of effectively magnetizing the inspection object, a method of spraying the magnetic powder liquid uniformly and uniformly, a method of irradiating the ultraviolet light source uniformly, a method of imaging the magnetic particle flaw detection surface of the inspection object with high sensitivity and high resolution, An image processing method for extracting a defective portion from the captured image is required.

磁粉探傷画像の画像処理としては、撮像された画像内の明るい部分を、欠陥に凝集して蛍光発光した部分であるとして抽出することが基本である。しかし、欠陥以外にも単に磁粉が固まりとして堆積していたり、検査対象の表面粗度が粗い場合に、それに起因する連続的な磁粉指示模様が発生していたりして、単純に明るい部分のみを抽出すると誤検出が多くなる。
そこで、磁粉指示模様の形状に着目し、球体状に固まった明るい部分は磁粉の固まりとして排除し、長く線状になっている部分を欠陥として抽出する形状認識手段が提案され、実用に供されている。
The image processing of the magnetic particle flaw detection image is basically performed by extracting a bright part in the captured image as a part that is aggregated into a defect and fluorescently emitted. However, in addition to defects, magnetic particles are simply accumulated as a mass, or when the surface roughness of the object to be inspected is rough, a continuous magnetic particle indication pattern is generated. Extraction increases false detection.
Therefore, paying attention to the shape of the magnetic particle indicating pattern, a shape recognizing means has been proposed and put into practical use, in which a bright portion solidified in a spherical shape is excluded as a lump of magnetic powder, and a long linear portion is extracted as a defect. ing.

例えば、角柱形状の鋼材の磁粉探傷方法において、角柱の長手方向に延びた欠陥及び幅方向に延びた欠陥の2種類を同時に検出すべく、2種類の積和フィルタを画像に施し、画像上明るい部分を抽出(2値化)したのち、形状を抽出(ラベリング)して欠陥部分を評価値で弁別する手法が開示されている(特許文献1参照)。
ここで重要なのが、形状を判断する時の輝度の2値化のしきい値であり、適切な2値化のしきい値を選択しないと、欠陥の見逃しや誤検出が多く発生してしまう。2値化のしきい値の設定は、種々の試行錯誤の後、適切な固定された値を選択する方法(固定しきい値法)が、勘弁な方法として用いられてきたが、信号処理装置の演算速度の向上に伴って、撮像された画像ごとに適切なしきい値をその都度、動的に算出決定する手法が適用され始めた。
For example, in a magnetic particle flaw detection method for a prismatic steel material, two types of product-sum filters are applied to the image so that two types of defects extending in the longitudinal direction of the prism and defects extending in the width direction can be detected at the same time. A method is disclosed in which a part is extracted (binarized), then a shape is extracted (labeled), and a defective part is discriminated by an evaluation value (see Patent Document 1).
What is important here is the threshold for binarization of luminance when judging the shape. If an appropriate threshold for binarization is not selected, many defects are missed and false detection occurs. . A method of selecting an appropriate fixed value after various trials and errors (fixed threshold method) has been used as a reasonable method for setting a threshold value for binarization. As the calculation speed increases, a method of dynamically calculating and determining an appropriate threshold value for each captured image has begun to be applied.

また、画像全体の輝度の平均を求め、当該平均値の2〜3倍の値を2値化のしきい値にする方法が提示されている(特許文献2参照)。
さらに、画像の各画素輝度のヒストグラムを算出し、地肌部分と欠陥相当部分が輝度のヒストグラム上で明確に分離するとして輝度のヒストグラム度数が0になる最小輝度値を2値化のしきい値として採用する手法が提示されている(特許文献3参照)。
In addition, a method is proposed in which an average of the luminance of the entire image is obtained and a value that is two to three times the average value is used as a threshold for binarization (see Patent Document 2).
Further, a histogram of the luminance of each pixel of the image is calculated, and the minimum luminance value at which the luminance histogram frequency becomes 0 is assumed as the threshold value for binarization assuming that the background portion and the defect-corresponding portion are clearly separated on the luminance histogram. A technique to be adopted is presented (see Patent Document 3).

特開2000−111527号公報JP 2000-111527 A 特許第3225660号公報Japanese Patent No. 3225660 特許第2564737号公報Japanese Patent No. 2564737

上述したように、2値化のしきい値の決定方法に関して種々の方法が提案されているが、実際の画像に適用するとやはり誤検出や欠陥の見逃しが発生する場合が多いのが問題である。
特許文献1に記載された従来の手法による自動しきい値決定手段は、磁粉探傷画像の輝度分布に影響を与える要因(紫外光源の照度変動、磁粉液の劣化、散布量変化による輝度変動、紫外光源の検査対象の表面での強度分布、検査対象内での磁化強度分布、検査対象の表面粗度分布など)の影響が大きく、実際の現場では適切に動作しにくい。
As described above, various methods have been proposed for determining a threshold value for binarization. However, when it is applied to an actual image, it is still a problem that false detection or defect oversight often occurs. .
The automatic threshold value determination means according to the conventional method described in Patent Document 1 is a factor that affects the luminance distribution of the magnetic particle flaw detection image (illuminance fluctuation of the ultraviolet light source, deterioration of the magnetic powder liquid, luminance fluctuation due to a change in the amount of application, ultraviolet light The influence of the intensity distribution on the surface of the inspection target of the light source, the magnetization intensity distribution in the inspection target, the surface roughness distribution of the inspection target, etc.) is large, and it is difficult to operate properly in the actual site.

特許文献2に開示された画像全体の輝度の平均からしきい値を決定する方法では、紫外光源の照度変動、磁粉液劣化、散布量変動による輝度変動など、輝度分布が全体的に変化する場合には適用可能で有効に働くが、それ以外の変動要因では、検査対象内でのバラツキの変化や、輝度のヒストグラムの分布の変化が生じるため有効ではない。
特許文献3における輝度のヒストグラム度数が0になる最小輝度値を2値化のしきい値とする方法は、欠陥の輝度分布と地肌の輝度分布とが明確に分離することは少なく、少なからずのオーバーラップを生じることが一般的であり、輝度のヒストグラム度数が0になる最小輝度値を求めること自体不可能な場合も多い。
In the method of determining the threshold value from the average luminance of the entire image disclosed in Patent Document 2, when the luminance distribution changes as a whole, such as illuminance fluctuations of the ultraviolet light source, magnetic powder liquid deterioration, luminance fluctuations due to dispersion amount fluctuations, etc. However, it is not effective for other fluctuation factors because of variations in the inspection object and changes in the distribution of the luminance histogram.
In the method of setting the minimum luminance value at which the luminance histogram frequency of 0 in Patent Document 3 is a threshold value for binarization, the luminance distribution of the defect and the luminance distribution of the background are rarely separated, and there are not a few In general, an overlap occurs, and it is often impossible to obtain the minimum luminance value at which the luminance histogram frequency is zero.

上述した問題に鑑み、本発明は、様々な磁粉探傷画像の輝度変動に対応可能な2値化のしきい値を決定することで、誤検出を少なくすると共に、高い欠陥検出率を実現する磁粉探傷装置を提供するものである。   In view of the above-described problems, the present invention determines a binarization threshold value that can cope with luminance fluctuations of various magnetic particle flaw detection images, thereby reducing false detection and realizing a high defect detection rate. A flaw detection apparatus is provided.

前記目的を達成するため、本発明は、以下の技術的手段を採用した。
本発明に係る磁粉探傷装置は、搬送されている被検査材の表面に生じた磁粉模様を撮像手段により撮像し、撮像された画像から前記被検査材の表面欠陥を検出する磁粉探傷装置において、前記画像における輝度の平均と輝度の標準偏差の定数倍との和を2値化のしきい値とし、このしきい値を用いて前記画像を2値化して表面欠陥を検出することを特徴とする。
本願発明者らは、被検査材の表面を探傷するに際して、肌荒れ等によって正常部(地肌)での輝度のバラツキが大きい場合について考察してみた。
In order to achieve the above object, the present invention employs the following technical means.
In the magnetic particle flaw detector according to the present invention, the magnetic particle pattern generated on the surface of the object to be inspected is imaged by an imaging unit, and the surface defect of the object to be inspected is detected from the imaged image. The sum of the average luminance in the image and a constant multiple of the standard deviation of luminance is used as a binarization threshold, and the image is binarized using this threshold to detect surface defects. To do.
The inventors of the present application have considered the case where the variation in luminance at the normal portion (background) is large due to rough skin or the like when flaw detection is performed on the surface of the material to be inspected.

図5(b)に示したように、正常部の輝度分布の裾が表面欠陥K内の画素の輝度とオーバーラップする部分(図5(b)中のLによって示された領域)では、正常部内の一部画素の輝度は、表面欠陥K内の一部画素の輝度と略同一となっている。このため、厳密には欠陥と正常部を輝度のみで弁別することは困難となり、より誤検出を少なく且つ表面欠陥Kを確実に2値化するための適正なしきい値を決定する必要が生じる。
ところが、図5(b)中のTh−A(輝度の平均Vaveの2倍)を2値化のしきい値として用いた場合、正常部(地肌)の輝度のバラツキ具合が全く考慮されていないため、誤検出がかなり発生する。
As shown in FIG. 5B, in the portion where the skirt of the luminance distribution of the normal portion overlaps with the luminance of the pixel in the surface defect K (the region indicated by L in FIG. 5B), it is normal. The luminance of some pixels in the portion is substantially the same as the luminance of some pixels in the surface defect K. Therefore, strictly speaking, it is difficult to discriminate a defect from a normal part only by luminance, and it is necessary to determine an appropriate threshold value for reducing the number of false detections and binarizing the surface defect K reliably.
However, when Th-A (twice the average brightness Vave) in FIG. 5B is used as the threshold for binarization, the brightness variation of the normal part (background) is not considered at all. As a result, false detection occurs considerably.

また、輝度のヒストグラム度数が0になる最小輝度値(図5(b)で画素数が0となる点Cで示される輝度値)を2値化のしきい値とすると、表面欠陥Kによる最大輝度よりもさらに高い輝度を2値化のしきい値とすることになり、表面欠陥Kを見逃してしまうことにもなる(図5(b)中のTh−C参照)。
そこで、被検査材において表面欠陥Kはごく一部であり、表面の大部分を占める正常部位における輝度分布の散らばり具合に対応できるように、撮像画像における輝度の平均Vaveだけでなく、正常部での輝度のバラツキを考慮できる標準偏差Vσも採り入れたTh−Bを用いることによって、被検査材に肌荒れなどが生じていても、誤検出は少なく、より適正なしきい値設定が可能となる。
Further, if the minimum luminance value at which the luminance histogram frequency is 0 (the luminance value indicated by the point C at which the number of pixels is 0 in FIG. 5B) is used as the threshold for binarization, the maximum due to the surface defect K is obtained. Brightness higher than the brightness is set as a threshold for binarization, and the surface defect K is missed (see Th-C in FIG. 5B).
Therefore, the surface defect K is only a small part in the material to be inspected, and not only the average luminance Vave in the captured image but also the normal part so as to correspond to the distribution of the luminance distribution in the normal part occupying most of the surface. By using Th-B that also incorporates the standard deviation Vσ that can take into account variations in brightness, even if the material to be inspected has rough skin, there are few false detections and a more appropriate threshold value can be set.

このことから判るように、撮像画像に対して輝度の平均Vaveと輝度の標準偏差Vσの定数倍Wとの和よりも高い輝度を持つ部分を欠陥として2値化抽出することで、被検査材の肌荒れ等で磁粉模様の画像における正常部位の輝度のバラツキが大きい場合であっても、被検査材の磁粉探傷においては磁粉模様の画像内の欠陥部位が全体の中でごく一部であることから、被検査材や探傷条件によらず、漏れなく表面の欠陥を検出でき、誤検出を少なくすることができる。
前記画像を複数のブロック画像に分割し、各ブロック画像における輝度の平均と輝度の標準偏差の定数倍との和を2値化のしきい値とし、これらのしきい値を用いて前記各ブロック画像を2値化して表面欠陥を検出することを特徴とすることが好ましい。
As can be seen from this, a portion having a luminance higher than the sum of the average luminance Vave and the constant multiple W of the standard deviation Vσ of the captured image is binarized and extracted as a defect, thereby inspecting the material to be inspected. Even if the brightness of the normal part in the magnetic powder pattern image is large due to rough skin, etc., the defect part in the magnetic powder pattern image is only a part of the whole in the magnetic particle inspection of the inspection material Therefore, surface defects can be detected without leakage regardless of the material to be inspected and flaw detection conditions, and false detection can be reduced.
The image is divided into a plurality of block images, and the sum of the average luminance and a constant multiple of the standard deviation of luminance in each block image is set as a threshold value for binarization, and each block is used by using these threshold values. Preferably, the image is binarized to detect surface defects.

これにより、画像をブロック画像に分割することで、被検査材の表面上に部分的な肌荒れが生じている場合など、画像の一部に輝度のバラツキが存在する場合であっても、最適な2値化のしきい値を決定することができ、光源の輝度ムラ等によって生じる被検査材の部位による明るさの変動なども吸収することが可能となる。
また、前記画像における各画素を中心としてブロック画像を設定し、設定した各ブロック画像における輝度の平均と輝度の標準偏差の定数倍との和を2値化のしきい値とし、これらのしきい値を用いて前記各画素を2値化して表面欠陥を検出することが好ましい。
As a result, by dividing the image into block images, even when there is a variation in brightness in a part of the image, such as when partial skin roughness occurs on the surface of the material to be inspected, it is optimal. The binarization threshold value can be determined, and it is possible to absorb fluctuations in brightness due to the portion of the material to be inspected caused by uneven brightness of the light source.
Further, a block image is set around each pixel in the image, and the sum of the average luminance and a constant multiple of the standard deviation of luminance in each set block image is set as a threshold for binarization, and these thresholds are set. It is preferable to binarize each pixel using a value to detect a surface defect.

これにより、各画素とその周辺との2値化しきい値の変化を平滑化して、より適した2値化のしきい値を決定することができる。
さらに、前記定数倍を3以上5以下にすることが好適である。
これは、輝度の標準偏差の定数倍としては、種々の実験より経験的に3以上5以下が適正であると判断している。
Thereby, the change of the binarization threshold value between each pixel and its periphery can be smoothed to determine a more suitable binarization threshold value.
Furthermore, it is preferable that the constant multiple is 3 or more and 5 or less.
As a constant multiple of the standard deviation of luminance, it is determined from experience that 3 to 5 is appropriate from various experiments.

本発明によると、様々な磁粉探傷画像の輝度変動に対応可能な2値化のしきい値を決定して、誤検出を少なくし、高い欠陥検出率を実現することができる。   According to the present invention, it is possible to determine a binarization threshold value that can cope with luminance fluctuations of various magnetic particle flaw detection images, reduce false detections, and realize a high defect detection rate.

本発明に係る磁粉探傷装置の構成図である。It is a block diagram of the magnetic particle inspection apparatus which concerns on this invention. 画像の処理アルゴリズムのフローチャート図である。It is a flowchart figure of the processing algorithm of an image. 2値化のしきい値を算出する処理アルゴリズムのフローチャート図である。It is a flowchart figure of the processing algorithm which calculates the threshold value of binarization. 第1実施形態にて画像をブロック画像に分割した状態を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows the state which divided | segmented the image into the block image in 1st Embodiment. 画素の輝度のバラツキが小さい時と大きい時とを表す輝度分布図である。It is a luminance distribution diagram showing when the variation in luminance of pixels is small and large. 第2実施形態にて画像の各画素を中心としたブロック画像を設定した状態を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows the state which set the block image centering on each pixel of the image in 2nd Embodiment. 表面欠陥を含む原画像1を2値化する様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the original image 1 containing a surface defect is binarized. 表面欠陥を含む原画像2を2値化する様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the original image 2 containing a surface defect is binarized. 表面欠陥を含む原画像3を2値化する様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the original image 3 containing a surface defect is binarized.

以下、本発明の実施形態を、図面に基づき説明する。
図1には、本発明に係る磁粉探傷装置1が示されている。この磁粉探傷装置1は、角柱状の鋼材(鋼片)などの被検査材2の表面欠陥Kを連続的に自動で検出する装置である。
磁粉探傷装置1は、被検査材2を搬送する搬送手段3と、この搬送手段3によって搬送される被検査材2の表面に磁粉液を散布する磁粉散布手段4と、この磁粉散布手段4の下流側で被検査材2を磁化させる磁化手段5と、この磁化手段5の下流側で被検査材2の表面の照明を行う照明手段6と、この照明手段6によって蛍光発光した磁粉模様を撮像する撮像手段7と、この撮像手段7で撮像した画像を処理して表面欠陥Kを検出する欠陥検出部8とを備えるものとなっている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows a magnetic particle flaw detector 1 according to the present invention. This magnetic particle inspection apparatus 1 is an apparatus that continuously and automatically detects a surface defect K of a material to be inspected 2 such as a prismatic steel material (steel piece).
The magnetic particle flaw detector 1 includes a conveying unit 3 that conveys the material to be inspected 2, a magnetic particle dispersing unit 4 that spreads a magnetic powder liquid on the surface of the material to be inspected 2 that is conveyed by the conveying unit 3, and The magnetizing means 5 for magnetizing the material to be inspected 2 on the downstream side, the illumination means 6 for illuminating the surface of the material to be inspected 2 on the downstream side of the magnetizing means 5, and the magnetic powder pattern fluoresced by the illumination means 6 are imaged. The image pickup means 7 for detecting the surface defect K by processing the image picked up by the image pickup means 7 is provided.

搬送手段3は、被検査材2を支持する上下、左右一対の支持ローラ等によって、毎分30〜40mの速さで連続搬送している。
磁粉散布手段4は、表面欠陥Kを検査したい被検査材2の表面に対して、磁粉(鉄粉に蛍光体を付着させたもの)が含まれた検査液を散布するものであって、被検査材2の表面に向く散布ノズル4aを備えるものとなっている。
磁化手段5は、本実施形態においては4極電磁石を用いており、コ字状の磁性体5aにコイル5bを巻き付けた電磁石2組で構成されている。各コ字状の磁性体5aの一対の先端部(極部)の間を被検査材2に近づけ、コイル5bに交流電流を印可することで、両極部間に位置する被検査材2の表面に磁場を印可するものとなっている。
The conveyance means 3 is continuously conveyed at a speed of 30 to 40 m per minute by a pair of upper and lower and left and right support rollers that support the material 2 to be inspected.
The magnetic powder spraying means 4 sprays an inspection liquid containing magnetic powder (iron powder with a phosphor attached) onto the surface of the inspection object 2 to be inspected for surface defects K. A spray nozzle 4 a facing the surface of the inspection material 2 is provided.
The magnetizing means 5 uses a quadrupole electromagnet in this embodiment, and is composed of two sets of electromagnets in which a coil 5b is wound around a U-shaped magnetic body 5a. The surface of the material to be inspected 2 positioned between the two poles by applying an alternating current to the coil 5b between the pair of tip portions (poles) of each U-shaped magnetic body 5a close to the material to be inspected 2 It is intended to apply a magnetic field.

この磁化手段5により磁場が印可された被検査材2に表面欠陥Kがあった場合、表面欠陥Kの近傍で漏洩した磁束が存在するため、表面欠陥Kのない部分よりも強い磁界が生じており、蛍光体を含んだ磁粉が表面欠陥K付近に高密度に凝集し、かかる表面欠陥Kに対応するように磁粉の模様が現れる。
照明手段6は、表面欠陥Kの近傍で漏洩した磁束によって生じる磁粉模様に紫外線を照射する紫外線ランプ等である。また、照明手段6は、撮像画像の2値化の際にしきい値Thの設定が困難になることがないように、輝度ムラの少ない光源を使用している。
When the inspection object 2 to which the magnetic field is applied by the magnetizing means 5 has a surface defect K, a magnetic field leaked in the vicinity of the surface defect K is present, so that a stronger magnetic field is generated than a portion without the surface defect K. Thus, the magnetic powder containing the phosphor aggregates in the vicinity of the surface defect K at a high density, and a pattern of magnetic powder appears so as to correspond to the surface defect K.
The illuminating means 6 is an ultraviolet lamp or the like that irradiates the magnetic powder pattern generated by the magnetic flux leaked near the surface defect K with ultraviolet rays. In addition, the illumination unit 6 uses a light source with less luminance unevenness so that setting of the threshold Th is not difficult when binarizing the captured image.

撮像手段7は、ラインセンサカメラ7を採用しており、ラインセンサカメラ7は、被検査材2の表面欠陥K付近等に付着した蛍光体を含む磁粉から発せられた蛍光を撮像し、その撮像した画像は欠陥検出部8へ供給される。
[第1実施形態]
本発明の第1実施形態に係る磁粉探傷装置1について説明する。
図2は、磁粉探傷装置1の欠陥検出部8内での処理アルゴリズムを示したものである。
被検査材2の表面に存在する表面欠陥Kを検出する際には、まず、原画像を取得(ステップS1)後、前処理として、磁粉だまりの除去や、各種画像処理フィルタによる欠陥強調処理を行う(ステップS2)。
The imaging means 7 employs a line sensor camera 7, and the line sensor camera 7 images fluorescence emitted from magnetic powder containing phosphors attached near the surface defect K of the material 2 to be inspected, and the imaging. The processed image is supplied to the defect detection unit 8.
[First Embodiment]
A magnetic particle flaw detector 1 according to a first embodiment of the present invention will be described.
FIG. 2 shows a processing algorithm in the defect detection unit 8 of the magnetic particle inspection apparatus 1.
When detecting the surface defect K existing on the surface of the inspection object 2, first, after acquiring the original image (step S1), as a pre-processing, removal of magnetic particles and defect enhancement processing by various image processing filters are performed. Perform (step S2).

その後に、2値化のしきい値Thを計算し(ステップS3)、このしきい値Thに基づいて2値化処理を行う(ステップS4)。
2値化画像上で連結している部分を抜き出して、個別のラベルを付与するラベリング処理を行い(ステップS5)、ラベルごとに面積や最大輝度、縦横比などの特徴量を算出して、その特徴量から評価値を算出する(ステップS6)。そして、あらかじめ設定された評価値しきい値を入力して(ステップS7)、この評価値しきい値との比較で最終的に欠陥がどうかを判定する(ステップS8)。欠陥と判定されたものは、欠陥リストに追加し(ステップS9)、これを全ラベルに対して繰り返すことになる。
Thereafter, a threshold value Th for binarization is calculated (step S3), and binarization processing is performed based on the threshold value Th (step S4).
The connected parts on the binarized image are extracted, and a labeling process for assigning individual labels is performed (step S5), and feature quantities such as area, maximum luminance, and aspect ratio are calculated for each label. An evaluation value is calculated from the feature amount (step S6). Then, a preset evaluation value threshold value is input (step S7), and it is finally determined whether or not there is a defect by comparison with the evaluation value threshold value (step S8). Those determined to be defects are added to the defect list (step S9), and this is repeated for all labels.

詳しくは、ステップS1では、ラインセンサカメラ7で撮像された1次元のライン画像は、画像処理装置で構成された欠陥検出部8に送られ、当該欠陥検出部8内のフレームメモリに時系列で蓄えられて2次元画像とされている。
ステップS2では、照明手段6から照射される紫外線強度にムラがあったり、被検査材2に散布された磁粉にムラ(磁粉だまり)があると、表面欠陥Kの部分以外でも輝度変化が生じるため、画像処理フィルタによって地肌の輝度を一定とし、且つ欠陥部輝度を強調するような前処理を行う。
Specifically, in step S1, a one-dimensional line image captured by the line sensor camera 7 is sent to a defect detection unit 8 configured by the image processing apparatus, and is time-sequentially stored in a frame memory in the defect detection unit 8. The two-dimensional image is stored.
In step S2, if there is unevenness in the intensity of ultraviolet rays irradiated from the illumination means 6 or unevenness (magnetic powder accumulation) in the magnetic powder dispersed on the material 2 to be inspected, the brightness changes even in areas other than the surface defect K. The image processing filter performs a pre-process that makes the background luminance constant and enhances the defect portion luminance.

ステップS3では、撮像された画像内の画素における輝度の平均Vaveと標準偏差Vσを式(1)に代入することで、2値化のしきい値Thが求められる。   In step S3, the threshold value Th for binarization is obtained by substituting the average Vave and standard deviation Vσ of the luminance in the pixels in the captured image into the equation (1).

また、本実施形態では、撮像された原画像をブロック画像Bに切り分け(図4参照)、これらのブロック画像Bごとに2値化のしきい値Thを算出している。
ステップS4では、原画像を、各ブロック画像Bごとで各しきい値Thより輝度が大きい画素に255を、輝度の小さい画素に0を割り当てて2値化する。したがって、2値化により得られていた2値化画像内で、表面欠陥K候補とそれ以外の部分とが分離されることとなる。
ステップS5においては、ステップS4で表面欠陥K候補に対応するとされた画素のうち、互いに連結している画素を1つのグループにまとめ、各表面欠陥K候補のグループ内の画素ごとに異なる番号が割り振られる(ラベリング処理)。
In the present embodiment, the captured original image is cut into block images B (see FIG. 4), and a binarization threshold Th is calculated for each block image B.
In step S4, the original image is binarized by assigning 255 to pixels having a luminance higher than the threshold Th for each block image B and 0 to pixels having a low luminance. Therefore, the surface defect K candidate and the other portion are separated in the binarized image obtained by binarization.
In step S5, among the pixels determined to correspond to the surface defect K candidate in step S4, the mutually connected pixels are grouped into one group, and a different number is assigned to each pixel in each surface defect K candidate group. (Labeling process).

ステップS6では、ラベリングされた各画素グループ(領域)ごとに評価値が計算される。
この評価値は、例えば、式(2)に従って算出される。すなわち、同一番号が割り付けられた画素の領域の面積が小さくとも、輝度が明るい場合には、評価値が大きくなるように設定されている。
In step S6, an evaluation value is calculated for each labeled pixel group (region).
This evaluation value is calculated according to the formula (2), for example. That is, the evaluation value is set to be large when the luminance is bright even if the area of the pixel region to which the same number is assigned is small.

ステップS7及びステップS8においては、ラベリングされた画素グループの評価値が所定の評価値しきい値より大きいか否かに基づいて、当該画素グループが表面欠陥Kであるか否かの判定が行われる。
ステップS9では、表面欠陥Kであると判定された画素グループについては、その位置や大きさ、方向等の情報と共に、欠陥リストへ追加される。
ステップS6〜ステップS9は、2値化画像内で表面欠陥K候補であると判断された画素グループすべてに対して繰り返される。
In step S7 and step S8, whether or not the pixel group is a surface defect K is determined based on whether or not the evaluation value of the labeled pixel group is larger than a predetermined evaluation value threshold value. .
In step S9, the pixel group determined to be the surface defect K is added to the defect list together with information such as the position, size, direction, and the like.
Steps S6 to S9 are repeated for all pixel groups determined to be surface defect K candidates in the binarized image.

ここで問題となるのが、ステップS3における2値化のしきい値Thの決定方法であり、散布量変化による輝度変動、被検査材2内での磁化強度分布や表面粗度分布などの各種変動要因に対応するために、図3に示すような手順で、被検査材2の幅方向、搬送方向(長手方向)に分割したブロック画像Bごとに決定する。
つまり、ステップS3では、ブロック画像Bを切り出し(ステップS31)、そのブロック画像Bごとに画素の輝度の平均Vaveと輝度の標準偏差Vσとを算出し(ステップS32、ステップS33)、上述した式(1)で2値化のしきい値Thを算出する(ステップS34)。
The problem here is how to determine the threshold value Th for binarization in step S3. Various methods such as luminance fluctuations due to changes in the amount of application, magnetization intensity distribution and surface roughness distribution in the material 2 to be inspected, etc. In order to deal with the variation factors, the determination is made for each block image B divided in the width direction and the conveyance direction (longitudinal direction) of the material 2 to be inspected in the procedure as shown in FIG.
That is, in step S3, the block image B is cut out (step S31), and the average luminance Vave and the standard deviation Vσ of luminance are calculated for each block image B (step S32, step S33), and the above-described formula ( In 1), a binarization threshold Th is calculated (step S34).

ステップS31において、図4に示した如く、被検査材2の幅方向に100ピクセル(100画素)、長手方向に100ピクセル(100画素)を1つのブロック画像Bとして、ラインセンサカメラ7で撮像した画像を切り出す。
ステップS32及びステップS33では、切り出したブロック画像B内の100×1000画素全体のデータを用いて、輝度の平均Vaveと標準偏差Vσとを算出する。
そして、ステップS34にて、それらの線形和である式(1)によって、各ブロック画像Bごとに2値化のしきい値Thを決定していく。
In step S31, as shown in FIG. 4, 100 pixels (100 pixels) in the width direction of the inspection object 2 and 100 pixels (100 pixels) in the longitudinal direction are taken as one block image B by the line sensor camera 7. Cut out the image.
In step S32 and step S33, the average brightness Vave and the standard deviation Vσ are calculated using the data of the entire 100 × 1000 pixels in the cut-out block image B.
In step S34, the binarization threshold Th is determined for each block image B by using the linear sum (1).

また、原画像の輝度分布には被検査材2や磁粉探傷装置1の状態に応じて様々な分布があり得る。
例えば、図5(a)に模式的に示した場合には、正常部(地肌)の輝度分布のバラツキが小さく、表面欠陥Kの輝度と明確に分離している。この場合には、2値化のしきい値Thの決定方法として、従来の輝度の平均Vaveの数倍とか、輝度のヒストグラム度数が0になる最小輝度値を2値化のしきい値Thとしても、適正に表面欠陥Kを抽出することは可能である。
In addition, the luminance distribution of the original image may have various distributions depending on the state of the inspection object 2 and the magnetic particle flaw detector 1.
For example, in the case schematically shown in FIG. 5A, the variation in the luminance distribution of the normal portion (background) is small and clearly separated from the luminance of the surface defect K. In this case, as a method of determining the binarization threshold Th, the minimum luminance value at which the histogram frequency of luminance is several times the conventional average Vave of luminance or the binarization threshold Th is set as the binarization threshold Th. However, it is possible to appropriately extract the surface defect K.

しかし、例えば図5(b)に示したような正常部(地肌)での輝度のバラツキが大きい場合には、正常部の輝度分布の裾が表面欠陥K内の画素の輝度とオーバーラップしている(図5(b)中のLによって示された領域では、正常部内の一部画素の輝度は、表面欠陥K内の一部画素の輝度と略同一となっている)。よって、厳密には欠陥と正常部を輝度のみで弁別することは困難であり、より誤検出が少なく且つ表面欠陥Kを確実に2値化するための適正なしきい値Thを決定する必要がある。
図5(b)において、しきい値Th−Aは輝度の平均Vaveの2倍としており、誤検出がかなり発生する。一方、しきい値Th−Bは、式(1)を用いて算出したしきい値であり、この場合には誤検出は少なく、より適正なしきい値設定となっている。なお、図5(b)において、定数Wを経験的に妥当な3としている。
However, for example, when the variation in luminance in the normal portion (background) as shown in FIG. 5B is large, the bottom of the luminance distribution in the normal portion overlaps the luminance of the pixels in the surface defect K. (In the region indicated by L in FIG. 5B, the luminance of some pixels in the normal portion is substantially the same as the luminance of some pixels in the surface defect K). Therefore, strictly speaking, it is difficult to discriminate between the defect and the normal part only by the luminance, and it is necessary to determine an appropriate threshold value Th for reducing the number of false detections and reliably binarizing the surface defect K. .
In FIG. 5B, the threshold value Th-A is set to twice the average brightness Vave, so that erroneous detection occurs considerably. On the other hand, the threshold value Th-B is a threshold value calculated using the equation (1). In this case, there are few false detections, and the threshold value is set more appropriately. In FIG. 5B, the constant W is set to 3 that is empirically valid.

さらに、この例の場合に、輝度のヒストグラム度数が0になる最小輝度値(図5(b)で画素数が0となる点Cで示される輝度値)を2値化のしきい値Thとすると、表面欠陥Kによる最大輝度よりもさらに高い輝度を2値化のしきい値とすることになり、表面欠陥Kを見逃してしまうことにもなる(図5(b)中のしきい値Th−C参照)。
このように、本発明に係る式(1)によって2値化のしきい値Thを決定する磁粉探傷装置1では、被検査材2の肌荒れ、光源の輝度ムラなどの探傷条件によって探傷画像の輝度のバラツキ具合が変化したとしても、常に適正な2値化のしきい値Thを決定することが可能となり、誤検出を少なくし、且つ漏れなく表面の欠陥を検出することができる。
[第2実施形態]
本発明の第2実施形態に係る磁粉探傷装置1について説明する。
Further, in the case of this example, the minimum luminance value at which the luminance histogram frequency is 0 (the luminance value indicated by the point C at which the number of pixels is 0 in FIG. 5B) is set as the binarization threshold Th. Then, a higher luminance than the maximum luminance due to the surface defect K is set as a threshold for binarization, and the surface defect K is missed (threshold Th in FIG. 5B). -See C).
As described above, in the magnetic particle flaw detector 1 that determines the binarization threshold Th by the expression (1) according to the present invention, the brightness of the flaw detection image is determined according to the flaw detection conditions such as rough skin of the material 2 to be inspected and uneven brightness of the light source. Even when the degree of variation of the above changes, it is possible to always determine an appropriate threshold value Th for binarization, reduce erroneous detection, and detect surface defects without omission.
[Second Embodiment]
A magnetic particle flaw detector 1 according to a second embodiment of the present invention will be described.

実施例2における最も大きな相違点は、図6に示したように、フレームメモリ内に蓄えられた撮像画像における各画素ごとに、その画素を中心として被検査材2の幅方向100ピクセル、長手方向100ピクセルのブロック画像Bを設定している。これら設定した各ブロック画像Bにおいて式(1)に基づいて2値化のしきい値Thを算出し、これらのしきい値Thを用いて各ブロック画像Bの中心に位置する画素を2値化している点である。
つまり、欠陥検出部8内のフレームメモリに時系列で蓄えられた2次元撮像画像内すべての画素について、各画素の周辺画素(100×100画素からなるブロック画像B)を考え、そのブロック画像B内での輝度の平均Vave及び標準偏差Vσを式(1)に代入して、当該画素の2値化のしきい値Thを決定している。
As shown in FIG. 6, the greatest difference in the second embodiment is that, for each pixel in the captured image stored in the frame memory, 100 pixels in the width direction of the material 2 to be inspected with the pixel as the center, the longitudinal direction A block image B of 100 pixels is set. In each of the set block images B, a binarization threshold Th is calculated based on the equation (1), and the pixel located at the center of each block image B is binarized using the threshold Th. It is a point.
That is, for all the pixels in the two-dimensional captured image stored in time series in the frame memory in the defect detection unit 8, the peripheral pixels of each pixel (block image B made up of 100 × 100 pixels) are considered, and the block image B The luminance average Vave and the standard deviation Vσ are substituted into the equation (1) to determine the binarization threshold Th of the pixel.

例えば、図6中の画素G1は、その周辺画素で構成されたブロック画像B1の輝度の平均Vave及び標準偏差Vσによってしきい値Thを求めている。また、画素G1から数ピクセル分だけ被検査材2の幅方向にずれた画素G2は、周辺のブロック画像B2の平均Vave及び標準偏差Vσによってしきい値Thを求め、さらに幅方向にずれた画素G3は、ブロック画像B3の平均Vave及び標準偏差Vσによってしきい値Thを求めている。
これと同様に、被検査材2の長手方向にずれた画素G4、G5についても、それらの周辺画素によるブロック画像B4、B5によってしきい値Thを求めている。
For example, the pixel G1 in FIG. 6 obtains the threshold value Th from the average brightness Vave and the standard deviation Vσ of the block image B1 composed of the peripheral pixels. Further, a pixel G2 shifted from the pixel G1 by several pixels in the width direction of the inspection object 2 obtains a threshold value Th based on the average Vave and the standard deviation Vσ of the surrounding block image B2, and further shifts in the width direction. G3 obtains the threshold value Th from the average Vave and the standard deviation Vσ of the block image B3.
Similarly, for the pixels G4 and G5 shifted in the longitudinal direction of the material 2 to be inspected, the threshold value Th is obtained from the block images B4 and B5 of the peripheral pixels.

このように、移動平均の考えを導入した2値化のしきい値Thの求め方を採用すると、各画素とその周辺画素との輝度変化が平滑化され、より適した2値化のしきい値Thを決定することができ、複数のブロック画像Bにまたがる細長い表面欠陥Kの抽出に有利となる。   In this way, when the method of obtaining the threshold value Th for binarization that introduces the concept of moving average is adopted, the luminance change between each pixel and its surrounding pixels is smoothed, and a more suitable threshold for binarization is achieved. The value Th can be determined, which is advantageous for extracting an elongated surface defect K that extends over a plurality of block images B.

以下、本発明に係るしきい値Thの決定方法を用いて、表面欠陥Kを含む原画像を2値化する場合について述べる。なお、原画像1〜原画像3にわたって、定数Wは5としている。
複数のブロック画像Bにまたがる表面欠陥Kを含む原画像1を2値化する際には、原画像1内の画素の輝度の平均Vaveと標準偏差Vσとを求めると、Vave=40.9、Vσ=5.7となる。これらを式(1)に代入すると原画像1に対するしきい値Thは69と算出される。
Hereinafter, a case where an original image including the surface defect K is binarized using the threshold value Th determination method according to the present invention will be described. Note that the constant W is 5 over the original image 1 to the original image 3.
When binarizing the original image 1 including the surface defect K extending over a plurality of block images B, the average brightness Vave and standard deviation Vσ of the pixels in the original image 1 are obtained, and Vave = 40.9. Vσ = 5.7. By substituting these into equation (1), the threshold Th for the original image 1 is calculated as 69.

図7に示したように、このしきい値Thに基づいて2値化すると2値化画像1となる。
原画像1のようにS/N比が高い画像ならば、従来のように固定したしきい値Thで2値化を行うこともできる。
しかし、図8に示したような、各画素の輝度が全体的に低い原画像2のような部分が被検査材2にあった際には、固定的なしきい値Th(例えば、後述する原画像3のしきい値である91)を用いた場合では、存在する表面欠陥Kを見逃してしまう可能性がある(2値化画像22参照)。
As shown in FIG. 7, when binarization is performed based on the threshold Th, a binary image 1 is obtained.
If the image has a high S / N ratio like the original image 1, binarization can be performed with a fixed threshold value Th as in the prior art.
However, when the inspection object 2 has a portion such as the original image 2 in which the luminance of each pixel is generally low as shown in FIG. 8, a fixed threshold Th (for example, an original image to be described later). When the threshold 91) of the image 3 is used, there is a possibility that the existing surface defect K may be missed (see the binarized image 22).

そこで、原画像2中の表面欠陥Kを含むブロック画像B内の画素の輝度の平均Vaveと標準偏差Vσとを算出し(Vave=35.5、Vσ=5.6)、これらを式(1)に代入すると、原画像2に対してふさわしいしきい値Thを63と導出することができる。
このしきい値Thを用いて原画像2を2値化すると、全体的な輝度が低い部分中の表面欠陥Kであっても、漏らすことなく検出することが可能となる(2値化画像21参照)。
さらに、図9に示した如く、被検査材2の表面(地肌)に肌荒れが生じている部分での表面欠陥Kを検出する際にも、固定的なしきい値Th(例えば、前述した原画像2のしきい値である63)を用いた場合では、実際の表面欠陥Kがない部位であってもしきい値Thを上回る画素が生じてしまい、2値化画像32で示したように、非常に多くの誤検出が発生する。
Therefore, an average Vave and a standard deviation Vσ of the luminance of the pixels in the block image B including the surface defect K in the original image 2 are calculated (Vave = 35.5, Vσ = 5.6), and these are expressed by the equation (1). ), The threshold value Th suitable for the original image 2 can be derived as 63.
If the original image 2 is binarized using this threshold Th, even a surface defect K in a portion where the overall luminance is low can be detected without leakage (binarized image 21). reference).
Further, as shown in FIG. 9, when the surface defect K is detected in a portion where the surface (background) of the inspection object 2 is rough, a fixed threshold Th (for example, the above-described original image) is detected. When the threshold value 63) of 2 is used, even if there is no actual surface defect K, pixels exceeding the threshold value Th are generated, and as shown in the binarized image 32, Many false positives occur.

そこで原画像3でも、表面欠陥Kを含むブロック画像B内における画素の輝度の平均Vave及び標準偏差Vσ(Vave=40.6、Vσ=10.1)を式(1)に代入して、原画像3に対してふさわしいしきい値Thを91と導出することができる。
このしきい値Thを用いて原画像3を2値化すると、肌荒れを生じている部位に表面欠陥Kがある場合でも、2値化画像31のように実際の表面欠陥Kのみを検出でき、誤検出を防ぐことが可能となる。
以上の構成により、磁粉模様の撮像画像における輝度のバラツキに対応可能な2値化のしきい値Thの決定でき、結果として誤検出を少なくし、表面欠陥Kの検出率を向上させることができる。
Therefore, in the original image 3 as well, the average luminance Vave and standard deviation Vσ (Vave = 40.6, Vσ = 10.1) of the pixels in the block image B including the surface defect K are substituted into the equation (1), The threshold value Th suitable for the image 3 can be derived as 91.
When the original image 3 is binarized using this threshold Th, even if there is a surface defect K at a site where rough skin occurs, only the actual surface defect K can be detected as in the binarized image 31. It becomes possible to prevent false detection.
With the above configuration, it is possible to determine the binarization threshold value Th that can cope with the luminance variation in the captured image of the magnetic powder pattern, and as a result, it is possible to reduce false detection and improve the detection rate of the surface defect K. .

なお、本発明にかかる磁粉探傷装置は、上述した実施の形態に限定されるものではない。
輝度の標準偏差Vσの重み定数Wは、3や5でなくとも、経験的に3以上5以下とすることが妥当である。
撮像手段7は、ラインセンサカメラでなく、エリアセンサカメラであってもよい。
In addition, the magnetic particle inspection apparatus concerning this invention is not limited to embodiment mentioned above.
Even if the weight constant W of the standard deviation Vσ of luminance is not 3 or 5, it is reasonable to set it to 3 or more and 5 or less empirically.
The imaging means 7 may be an area sensor camera instead of a line sensor camera.

本発明は、表面欠陥を検出する磁粉傷装置として利用することができる。   The present invention can be used as a magnetic particle scratching device for detecting surface defects.

1 磁粉探傷装置
2 被検査材
3 搬送手段
4 磁粉散布手段
5 磁化手段
6 照明手段
7 撮像手段
8 欠陥検出部
K 表面欠陥
Vave 輝度の平均
Vσ 輝度の標準偏差
W 標準偏差の重み定数
Th 2値化のしきい値
B ブロック画像
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Magnetic particle flaw detector 2 Inspected material 3 Conveyance means 4 Magnetic powder dispersion | distribution means 5 Magnetization means 6 Illumination means 7 Imaging means 8 Defect detection part K Surface defect Vave Average of brightness Vσ Standard deviation of brightness W Standard deviation weight constant Th Binary Threshold B block image

Claims (4)

搬送されている被検査材の表面に生じた磁粉模様を撮像手段により撮像し、撮像された画像から前記被検査材の表面欠陥を検出する磁粉探傷装置において、
前記画像における輝度の平均と輝度の標準偏差の定数倍との和を2値化のしきい値とし、このしきい値を用いて前記画像を2値化して表面欠陥を検出することを特徴とする磁粉探傷装置。
In the magnetic particle flaw detector for imaging the magnetic powder pattern generated on the surface of the material being inspected by the imaging means and detecting the surface defect of the material to be inspected from the imaged image,
The sum of the average luminance in the image and a constant multiple of the standard deviation of luminance is used as a binarization threshold, and the image is binarized using this threshold to detect surface defects. Magnetic particle flaw detection device.
前記画像を複数のブロック画像に分割し、各ブロック画像における輝度の平均と輝度の標準偏差の定数倍との和を2値化のしきい値とし、これらのしきい値を用いて前記各ブロック画像を2値化して表面欠陥を検出することを特徴とする請求項1に記載の磁粉探傷装置。   The image is divided into a plurality of block images, and the sum of the average luminance and a constant multiple of the standard deviation of luminance in each block image is set as a threshold value for binarization, and each block is used by using these threshold values. 2. The magnetic particle flaw detector according to claim 1, wherein a surface defect is detected by binarizing the image. 前記画像における各画素を中心としてブロック画像を設定し、設定した各ブロック画像における輝度の平均と輝度の標準偏差の定数倍との和を2値化のしきい値とし、これらのしきい値を用いて前記各画素を2値化して表面欠陥を検出することを特徴とする請求項1に記載の磁粉探傷装置。   A block image is set around each pixel in the image, and the sum of the average luminance and a constant multiple of the standard deviation of the luminance in each set block image is set as a threshold value for binarization. The magnetic particle flaw detector according to claim 1, wherein each pixel is binarized to detect a surface defect. 前記定数倍を3以上5以下にすることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の磁粉探傷装置。   4. The magnetic particle flaw detector according to claim 1, wherein the constant multiple is 3 or more and 5 or less.
JP2009155426A 2009-06-30 2009-06-30 Magnetic particle flaw inspection apparatus Pending JP2011013007A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009155426A JP2011013007A (en) 2009-06-30 2009-06-30 Magnetic particle flaw inspection apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009155426A JP2011013007A (en) 2009-06-30 2009-06-30 Magnetic particle flaw inspection apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011013007A true JP2011013007A (en) 2011-01-20

Family

ID=43592077

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009155426A Pending JP2011013007A (en) 2009-06-30 2009-06-30 Magnetic particle flaw inspection apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011013007A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012167963A (en) * 2011-02-10 2012-09-06 Keyence Corp Image inspection device, image inspection method, and computer program
JP2015025703A (en) * 2013-07-25 2015-02-05 Jfeスチール株式会社 Evaluation method and evaluation apparatus
JP2015187578A (en) * 2014-03-27 2015-10-29 福井県 Surface shape evaluation method and device of saw wire
KR20160118932A (en) 2015-04-02 2016-10-12 마크텍 가부시키가이샤 Flaw detection device and flaw part detecting method by flaw detection device
JP2018179939A (en) * 2017-04-21 2018-11-15 オムロン株式会社 Sheet inspection device, and inspection system
JP2021004809A (en) * 2019-06-26 2021-01-14 マークテック株式会社 Ultraviolet LED irradiation device
CN113254875A (en) * 2021-04-23 2021-08-13 四川瑞精特科技有限公司 Lifting force measuring method for magnetic yoke type magnetic particle flaw detector
JP7463592B2 (en) 2022-04-12 2024-04-08 ヴィポテック ゲーエムベーハー Method and apparatus for detecting anomalies in two-dimensional digital images of products - Patents.com

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6319543A (en) * 1986-07-14 1988-01-27 Kawasaki Steel Corp Binarizing processing method for variable density picture in picture processing
JPH0875675A (en) * 1994-09-05 1996-03-22 Sumitomo Metal Ind Ltd Method and device for magnetic particle inspection
JP2001155146A (en) * 1999-11-26 2001-06-08 Fujitsu Ltd Device and method for image processing
JP2001284422A (en) * 2000-03-28 2001-10-12 Toshiba Corp Contact failure defect detection method and computer readable recording medium

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6319543A (en) * 1986-07-14 1988-01-27 Kawasaki Steel Corp Binarizing processing method for variable density picture in picture processing
JPH0875675A (en) * 1994-09-05 1996-03-22 Sumitomo Metal Ind Ltd Method and device for magnetic particle inspection
JP2001155146A (en) * 1999-11-26 2001-06-08 Fujitsu Ltd Device and method for image processing
JP2001284422A (en) * 2000-03-28 2001-10-12 Toshiba Corp Contact failure defect detection method and computer readable recording medium

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012167963A (en) * 2011-02-10 2012-09-06 Keyence Corp Image inspection device, image inspection method, and computer program
JP2015025703A (en) * 2013-07-25 2015-02-05 Jfeスチール株式会社 Evaluation method and evaluation apparatus
JP2015187578A (en) * 2014-03-27 2015-10-29 福井県 Surface shape evaluation method and device of saw wire
KR20160118932A (en) 2015-04-02 2016-10-12 마크텍 가부시키가이샤 Flaw detection device and flaw part detecting method by flaw detection device
CN106053593A (en) * 2015-04-02 2016-10-26 码科泰克株式会社 Flaw detection device and flaw part detecting method by flaw detection device
CN106053593B (en) * 2015-04-02 2021-05-11 码科泰克株式会社 Flaw detection device and flaw detection method using flaw detection device
JP2018179939A (en) * 2017-04-21 2018-11-15 オムロン株式会社 Sheet inspection device, and inspection system
JP7005930B2 (en) 2017-04-21 2022-01-24 オムロン株式会社 Sheet inspection equipment and inspection system
JP2021004809A (en) * 2019-06-26 2021-01-14 マークテック株式会社 Ultraviolet LED irradiation device
CN113254875A (en) * 2021-04-23 2021-08-13 四川瑞精特科技有限公司 Lifting force measuring method for magnetic yoke type magnetic particle flaw detector
CN113254875B (en) * 2021-04-23 2022-11-22 四川中测仪器科技有限公司 Lifting force measuring method for magnetic yoke type magnetic particle flaw detector
JP7463592B2 (en) 2022-04-12 2024-04-08 ヴィポテック ゲーエムベーハー Method and apparatus for detecting anomalies in two-dimensional digital images of products - Patents.com

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011013007A (en) Magnetic particle flaw inspection apparatus
KR101340765B1 (en) Particle measuring system and particle measuring method
KR102342791B1 (en) A flaw detection device, and a method for detecting defects by the flaw detection device
RU2764644C1 (en) Method for detecting surface defects, device for detecting surface defects, method for producing steel materials, method for steel material quality control, steel materials production plant, method for generating models for determining surface defects and a model for determining surface defects
KR102518378B1 (en) Flaw detection device and flaw part detecting method by flaw detection device
CN107709977B (en) Surface defect detection device and surface defect detection method
Rathod et al. A comparative study of different segmentation techniques for detection of flaws in NDE weld images
Ma et al. A machine vision assisted system for fluorescent magnetic particle inspection of railway wheelsets
JP3440569B2 (en) Magnetic particle flaw detection method and apparatus
CN109191439A (en) A kind of target workpiece surface knife mark defect inspection method
JP6035124B2 (en) Defect inspection apparatus and defect inspection method
JPH09210969A (en) Automatic magnetic particle inspection device
JPH07333197A (en) Automatic surface flaw detector
US20210080521A1 (en) Magnetic particle inspection device
JP4115378B2 (en) Defect detection method
KR20140082335A (en) Method and apparatus of inspecting mura of flat display
JP6431643B1 (en) Metal plate surface defect inspection method and surface defect inspection apparatus
CN108460763B (en) Automatic detection and identification method for magnetic powder inspection image
JPH1019801A (en) Surface defect detector
JP4074837B2 (en) Method and apparatus for detecting the marking position of a steel piece
JP2005265828A (en) Flaw detection method and apparatus
WO2024070101A1 (en) Surface defect detecting method and surface defect detecting device
JPH0337564A (en) Automatic magnetic-particle examination apparatus
JP2011153874A (en) Apparatus, system and method for visual inspection
JP2682112B2 (en) Automatic magnetic particle flaw detector

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110901

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121128

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121204

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130402