JP2011001354A - Amide compound, and use thereof in controlling plant disease - Google Patents

Amide compound, and use thereof in controlling plant disease Download PDF

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    • C07D277/56Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new compound exhibiting an excellent effect on controlling plant diseases, and an agent for controlling plant diseases comprising the compound.SOLUTION: There are disclosed an amide compound represented by the formula or a salt thereof, and an agent of controlling plant diseases comprising the compound (in the formula, p represents an integer of 1 to 5; and Rrepresents a 1-5C linear hydrocarbon group that may be substituted, a 3-10C cycloalkyl group that may be substituted, a phenyl group that may be substituted, a halogen, a cyano group, a nitro group or the like).

Description

本発明は、アミド化合物及びその植物病害防除用途に関する。   The present invention relates to an amide compound and its use for controlling plant diseases.

従来より、植物病害の防除のために多くの化合物が開発され、使用されてきた。   Conventionally, many compounds have been developed and used for controlling plant diseases.

本発明は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。   An object of the present invention is to provide a compound having an excellent plant disease control effect.

本発明者等は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式(1)で示されるアミド化合物が優れた植物病害防除効力を有することを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は以下のものである。   As a result of intensive studies to find a compound having an excellent plant disease control effect, the present inventors have found that the amide compound represented by the following formula (1) has an excellent plant disease control effect and completed the present invention. did. That is, the present invention is as follows.

[1] 式(1)

Figure 2011001354
〔式中、
pは1から5の整数のいずれかを表し、
2は群Cより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC1〜C5鎖式炭化水素基、群Dより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC3〜C10シクロアルキル基、群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいフェニル基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、−O−R5基、−S−R5基、−C(=O)−R5基、−C(=O)−OR5基、−OC(=O)−R5基、−NR56基、−C(=O)−NR56基又は−NR5−C(=O)−R6基を表すか、
或いは、pが2以上あり、かつ2つのR2がベンゼン環の隣接する炭素に結合する場合には、該2つのR2が結合して、群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC2〜C5ポリメチレン基、群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいプロペン−1,3−ジイル基、群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよい1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基又はメチレンジオキシ基を表し、
5及びR6は独立して、水素、群Cより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC1〜C10鎖式炭化水素基、群Dより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC3〜C10シクロアルキル基又は群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいフェニル基を表す。
但し、pが2から5の整数のいずれかである場合、R2は相互に同一又は相異なる。
なお、群Cは群Dより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC3〜C10シクロアルキル基、ハロゲン、シアノ基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルコキシ基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルチオ基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルスルフィニル基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルスルホニル基、ハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルキル)カルボニル基、ハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルコキシ)カルボニル基及びハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルキル)カルボニルオキシ基からなる群を表し、
群DはC1〜C5アルキル基及びハロゲンからなる群を表し、
群Eはハロゲン、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C10鎖式炭化水素基、群Dより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC3〜C10シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルコキシ基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルチオ基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルスルフィニル基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルスルホニル基、ハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルキル)カルボニル基、ハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルコキシ)カルボニル基及びハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルキル)カルボニルオキシ基からなる群を表す。〕
で示されるアミド化合物(以下、本発明化合物と記す)又はその塩。 [1] Formula (1)
Figure 2011001354
[Where,
p represents any integer from 1 to 5;
R 2 is a C1-C5 chain hydrocarbon group which may be substituted with one or more groups selected from group C, and a C3-C10 cycloalkyl group which may be substituted with one or more groups selected from group D. , Phenyl group, halogen, cyano group, nitro group, —O—R 5 group, —S—R 5 group, —C (═O) —R optionally substituted with one or more groups selected from group E 5 groups, —C (═O) —OR 5 group, —OC (═O) —R 5 group, —NR 5 R 6 group, —C (═O) —NR 5 R 6 group or —NR 5 —C Represents the (= O) -R 6 group,
Alternatively, when p is 2 or more and two R 2 are bonded to adjacent carbons of the benzene ring, the two R 2 are bonded and substituted with one or more groups selected from group E. An optionally substituted C2-C5 polymethylene group, a propene-1,3-diyl group which may be substituted with one or more groups selected from group E, and one or more groups selected from group E. Represents a 1,3-butadiene-1,4-diyl group or a methylenedioxy group,
R 5 and R 6 are independently hydrogen, a C1-C10 chain hydrocarbon group optionally substituted with one or more groups selected from group C, or one or more groups selected from group D. Represents a phenyl group which may be substituted with one or more groups selected from C3 to C10 cycloalkyl groups which may be substituted or group E.
However, when p is any integer of 2 to 5, R 2 is the same or different from each other.
Group C is a C3-C10 cycloalkyl group which may be substituted with one or more groups selected from Group D, a halogen, a cyano group, a C1-C4 alkoxy group which may be substituted with halogen, or a halogen. An optionally substituted C1-C4 alkylthio group, an optionally substituted C1-C4 alkylsulfinyl group, an optionally substituted C1-C4 alkylsulfonyl group, and an optionally substituted halogen ( A group consisting of a (C1-C4 alkyl) carbonyl group, a (C1-C4 alkoxy) carbonyl group optionally substituted with halogen and a (C1-C4 alkyl) carbonyloxy group optionally substituted with halogen;
Group D represents a group consisting of a C1-C5 alkyl group and halogen,
Group E is halogen, cyano group, nitro group, C1-C10 chain hydrocarbon group which may be substituted with halogen, C3-C10 cycloalkyl group which may be substituted with one or more groups selected from group D C1-C4 alkoxy group optionally substituted with halogen, C1-C4 alkylthio group optionally substituted with halogen, C1-C4 alkylsulfinyl group optionally substituted with halogen, halogen-substituted May be a C1-C4 alkylsulfonyl group, a (C1-C4 alkyl) carbonyl group optionally substituted with halogen, a (C1-C4 alkoxy) carbonyl group optionally substituted with halogen, and a halogen-substituted A good (C1-C4 alkyl) carbonyloxy group is represented. ]
Or an salt thereof (hereinafter referred to as the present compound).

[2] R2がハロゲンである[1]記載のアミド化合物又はその塩。 [2] The amide compound or a salt thereof according to [1], wherein R 2 is halogen.

[3] R2がフッ素又は塩素である[1]記載のアミド化合物又はその塩。 [3] The amide compound or a salt thereof according to [1], wherein R 2 is fluorine or chlorine.

[4] R2がフッ素又は臭素である[1]記載のアミド化合物又はその塩。 [4] The amide compound or a salt thereof according to [1], wherein R 2 is fluorine or bromine.

[5] pが3であり、R2は相互に同一又は相異なり、ハロゲンである[1]記載のアミド化合物又はその塩。 [5] The amide compound or a salt thereof according to [1], wherein p is 3, and R 2 are the same or different from each other and are halogen.

[6] pが3であり、R2は相互に同一又は相異なり、フッ素又は塩素である[1]記載のアミド化合物又はその塩。 [6] The amide compound or a salt thereof according to [1], wherein p is 3, and R 2 are the same or different from each other and are fluorine or chlorine.

[7] pが3であり、R2は相互に同一又は相異なり、フッ素又は臭素である請求項1記載のアミド化合物又はその塩。 [7] The amide compound or a salt thereof according to claim 1, wherein p is 3, and R 2 are the same or different from each other and are fluorine or bromine.

[8] [1]〜[7]いずれか1項記載のアミド化合物又はその塩と、不活性担体と、を含有する植物病害防除剤。 [8] A plant disease control agent comprising the amide compound or salt thereof according to any one of [1] to [7] and an inert carrier.

[9] [1]〜[7]いずれか1項記載のアミド化合物又はその塩の有効量を植物又は植物が生育する土壌に施用する工程を有する植物病害の防除方法。 [9] A method for controlling plant diseases comprising a step of applying an effective amount of the amide compound or salt thereof according to any one of [1] to [7] to a plant or a soil in which the plant grows.

[10] 植物病害を防除するための[1]〜[7]いずれか1項記載のアミド化合物又はその塩の使用。 [10] Use of the amide compound or salt thereof according to any one of [1] to [7] for controlling plant diseases.

本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有することから、植物病害防除剤の有効成分として有用である。   Since the compound of the present invention has an excellent plant disease control effect, it is useful as an active ingredient of a plant disease control agent.

本明細書の記載において用いられる種々の置換基について、例を挙げて以下に説明する。
「ハロゲン」とは、フッ素、塩素、臭素および沃素を意味する。
Various substituents used in the description of the present specification will be described below with examples.
“Halogen” means fluorine, chlorine, bromine and iodine.

「群Cより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC1〜C5鎖式炭化水素基」としては、例えばシクロプロピルメチル基、2−シクロプロピルエチル基、3−シクロプロピルプロピル基、4−シクロプロピルブチル基、5−シクロプロピルペンチル基、
メチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、ヨードメチル基、クロロジフルオロメチル基、
エチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、パーフルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−ヨードエチル基、
プロピル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、パーフルオロプロピル基、イソプロピル基、2,2,2,2’,2’,2’−ヘキサフルオロイソプロピル基、パーフルオロイソプロピル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリクロロプロピル基、3−ブロモプロピル基、3−ヨードプロピル基、
ブチル基、4−フルオロブチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、パーフルオロブチル基、4−クロロブチル基、4,4,4−トリクロロブチル基、4−ブロモブチル基、4−ヨードブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、
ペンチル基、5−フルオロペンチル基、5,5,5−トリフルオロペンチル基、パーフルオロペンチル基、5−クロロペンチル基、5,5,5−トリクロロペンチル基、5−ブロモペンチル基、5−ヨードペンチル基、
シアノメチル基、ジシアノメチル基、2−シアノエチル基、2,2−ジシアノエチル基、3−シアノプロピル基、3,3−ジシアノプロピル基、4−シアノブチル基、4,4−ジシアノブチル基、5−シアノペンチル基、5,5−ジシアノペンチル基、
メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、t−ブトキシメチル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、4−メトキシブチル基、5−メトキシペンチル基、2−エトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、4−エトキシブチル基、5−エトキシペンチル基、2−プロポキシエチル基、3−プロポキシプロピル基、4−プロポキシブチル基、5−プロポキシペンチル基、2−ブトキシエチル基、3−ブトキシプロピル基、4−ブトキシブチル基、5−ブトキシペンチル基、
メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基、イソプロピルチオメチル基、ブチルチオメチル基、イソブチルチオメチル基、t−ブチルチオメチル基、2−メチルチオエチル基、3−メチルチオプロピル基、4−メチルチオブチル基、5−メチルチオペンチル基、2−エチルチオエチル基、3−エチルチオプロピル基、4−エチルチオブチル基、5−エチルチオペンチル基、2−プロピルチオエチル基、3−プロピルチオプロピル基、4−プロピルチオブチル基、5−プロピルチオペンチル基、2−ブチルチオエチル基、3−ブチルチオプロピル基、4−ブチルチオブチル基、5−ブチルチオペンチル基、
メタンスルフィニルメチル基、エタンスルフィニルメチル基、プロパンスルフィニルメチル基、イソプロパンスルフィニルメチル基、ブタンスルフィニルメチル基、イソブタンスルフィニルメチル基、t−ブタンスルフィニルメチル基、2−メタンスルフィニルエチル基、3−メタンスルフィニルプロピル基、4−メタンスルフィニルブチル基、5−メタンスルフィニルペンチル基、2−エタンスルフィニルエチル基、3−エタンスルフィニルプロピル基、4−エタンスルフィニルブチル基、5−エタンスルフィニルペンチル基、2−プロパンスルフィニルエチル基、3−プロパンスルフィニルプロピル基、4−プロパンスルフィニルブチル基、5−プロパンスルフィニルペンチル基、2−ブタンスルフィニルエチル基、3−ブタンスルフィニルプロピル基、4−ブタンスルフィニルブチル基、5−ブタンスルフィニルペンチル基、
メタンスルホニルメチル基、エタンスルホニルメチル基、プロパンスルホニルメチル基、イソプロパンスルホニルメチル基、ブタンスルホニルメチル基、イソブタンスルホニルメチル基、t−ブタンスルホニルメチル基、2−メタンスルホニルエチル基、3−メタンスルホニルプロピル基、4−メタンスルホニルブチル基、5−メタンスルホニルペンチル基、2−エタンスルホニルエチル基、3−エタンスルホニルプロピル基、4−エタンスルホニルブチル基、5−エタンスルホニルペンチル基、2−プロパンスルホニルエチル基、3−プロパンスルホニルプロピル基、4−プロパンスルホニルブチル基、5−プロパンスルホニルペンチル基、2−ブタンスルホニルエチル基、3−ブタンスルホニルプロピル基、4−ブタンスルホニルブチル基及び5−ブタンスルホニルペンチル基が挙げられる。
Examples of the “C1-C5 chain hydrocarbon group optionally substituted with one or more groups selected from group C” include cyclopropylmethyl group, 2-cyclopropylethyl group, 3-cyclopropylpropyl group, 4 -Cyclopropylbutyl group, 5-cyclopropylpentyl group,
Methyl group, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, bromomethyl group, dibromomethyl group, iodomethyl group, chlorodifluoromethyl group,
Ethyl group, 2-fluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, perfluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-iodoethyl group,
Propyl group, 3-fluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, perfluoropropyl group, isopropyl group, 2,2,2,2 ′, 2 ′, 2′-hexafluoroisopropyl group, perfluoro Isopropyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trichloropropyl group, 3-bromopropyl group, 3-iodopropyl group,
Butyl group, 4-fluorobutyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, perfluorobutyl group, 4-chlorobutyl group, 4,4,4-trichlorobutyl group, 4-bromobutyl group, 4-iodobutyl group, s-butyl group, t-butyl group,
Pentyl group, 5-fluoropentyl group, 5,5,5-trifluoropentyl group, perfluoropentyl group, 5-chloropentyl group, 5,5,5-trichloropentyl group, 5-bromopentyl group, 5-iodo Pentyl group,
Cyanomethyl group, dicyanomethyl group, 2-cyanoethyl group, 2,2-dicyanoethyl group, 3-cyanopropyl group, 3,3-dicyanopropyl group, 4-cyanobutyl group, 4,4-dicyanobutyl group, 5-cyano Pentyl group, 5,5-dicyanopentyl group,
Methoxymethyl group, ethoxymethyl group, propoxymethyl group, isopropoxymethyl group, butoxymethyl group, isobutoxymethyl group, t-butoxymethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 4-methoxybutyl group, 5-methoxypentyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group, 4-ethoxybutyl group, 5-ethoxypentyl group, 2-propoxyethyl group, 3-propoxypropyl group, 4-propoxybutyl group, 5- Propoxypentyl group, 2-butoxyethyl group, 3-butoxypropyl group, 4-butoxybutyl group, 5-butoxypentyl group,
Methylthiomethyl group, ethylthiomethyl group, propylthiomethyl group, isopropylthiomethyl group, butylthiomethyl group, isobutylthiomethyl group, t-butylthiomethyl group, 2-methylthioethyl group, 3-methylthiopropyl group, 4- Methylthiobutyl group, 5-methylthiopentyl group, 2-ethylthioethyl group, 3-ethylthiopropyl group, 4-ethylthiobutyl group, 5-ethylthiopentyl group, 2-propylthioethyl group, 3-propylthiopropyl group Group, 4-propylthiobutyl group, 5-propylthiopentyl group, 2-butylthioethyl group, 3-butylthiopropyl group, 4-butylthiobutyl group, 5-butylthiopentyl group,
Methanesulfinylmethyl group, ethanesulfinylmethyl group, propanesulfinylmethyl group, isopropanesulfinylmethyl group, butanesulfinylmethyl group, isobutanesulfinylmethyl group, t-butanesulfinylmethyl group, 2-methanesulfinylethyl group, 3-methanesulfinylpropyl group Group, 4-methanesulfinylbutyl group, 5-methanesulfinylpentyl group, 2-ethanesulfinylethyl group, 3-ethanesulfinylpropyl group, 4-ethanesulfinylbutyl group, 5-ethanesulfinylpentyl group, 2-propanesulfinylethyl group 3-propanesulfinylpropyl group, 4-propanesulfinylbutyl group, 5-propanesulfinylpentyl group, 2-butanesulfinylethyl group, 3-butanesulfy group Rupuropiru group, 4-Bed ethanesulfinyl butyl group, 5- butane sulfinyl point pen butyl group,
Methanesulfonylmethyl group, ethanesulfonylmethyl group, propanesulfonylmethyl group, isopropanesulfonylmethyl group, butanesulfonylmethyl group, isobutanesulfonylmethyl group, t-butanesulfonylmethyl group, 2-methanesulfonylethyl group, 3-methanesulfonylpropyl group Group, 4-methanesulfonylbutyl group, 5-methanesulfonylpentyl group, 2-ethanesulfonylethyl group, 3-ethanesulfonylpropyl group, 4-ethanesulfonylbutyl group, 5-ethanesulfonylpentyl group, 2-propanesulfonylethyl group 3-propanesulfonylpropyl group, 4-propanesulfonylbutyl group, 5-propanesulfonylpentyl group, 2-butanesulfonylethyl group, 3-butanesulfonylpropyl group, 4-butanesulfonylbutyl group And it includes 5-butane sulfonyl pentyl group.

「群Dより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC3〜C10シクロアルキル基」としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、メチルシクロプロピル基、1,1−ジメチルシクロプロピル基、エチルシクロプロピル基、プロピルシクロプロピル基、ブチルシクロプロピル基、ペンチルシクロプロピル基、2−メチルシクロヘキシル基、2−エチルシクロヘキシル基、2−プロピルシクロヘキシル基、2−ブチルシクロヘキシル基、2−ペンチルシクロヘキシル基、3−メチルシクロヘキシル基、3−エチルシクロヘキシル基、3−プロピルシクロヘキシル基、3−ブチルシクロヘキシル基、3−ペンチルシクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、4−エチルシクロヘキシル基、4−プロピルシクロヘキシル基、4−ブチルシクロヘキシル基、4−ペンチルシクロヘキシル基、フルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、1,1−ジフルオロシクロプロピル基、1,1−ジクロロシクロプロピル基、2−フルオロシクロヘキシル基、3−フルオロシクロヘキシル基、4−フルオロシクロヘキシル基、2−クロロシクロヘキシル基、3−クロロシクロヘキシル基及び4−クロロシクロヘキシル基が挙げられる。   Examples of the “C3-C10 cycloalkyl group optionally substituted with one or more groups selected from group D” include, for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl. Group, cyclodecyl group, methylcyclopropyl group, 1,1-dimethylcyclopropyl group, ethylcyclopropyl group, propylcyclopropyl group, butylcyclopropyl group, pentylcyclopropyl group, 2-methylcyclohexyl group, 2-ethylcyclohexyl group 2-propylcyclohexyl group, 2-butylcyclohexyl group, 2-pentylcyclohexyl group, 3-methylcyclohexyl group, 3-ethylcyclohexyl group, 3-propylcyclohexyl group, 3-butylcyclohexyl group, 3-pentylcycle Hexyl group, 4-methylcyclohexyl group, 4-ethylcyclohexyl group, 4-propylcyclohexyl group, 4-butylcyclohexyl group, 4-pentylcyclohexyl group, fluorocyclopropyl group, chlorocyclopropyl group, 1,1-difluorocyclopropyl Group, 1,1-dichlorocyclopropyl group, 2-fluorocyclohexyl group, 3-fluorocyclohexyl group, 4-fluorocyclohexyl group, 2-chlorocyclohexyl group, 3-chlorocyclohexyl group and 4-chlorocyclohexyl group.

「群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいフェニル基」としては、例えばフェニル基、2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2−ブロモフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル基、2−ヨードフェニル基、3−ヨードフェニル基、4−ヨードフェニル基、
2−シアノフェニル基、3−シアノフェニル基、4−シアノフェニル基、2−ニトロフェニル基、3−ニトロフェニル基、4−ニトロフェニル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、2−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、4−エチルフェニル基、2−プロピルフェニル基、3−プロピルフェニル基、4−プロピルフェニル基、2−イソプロピルフェニル基、3−イソプロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、2−ブチルフェニル基、3−ブチルフェニル基、4−ブチルフェニル基、2−イソブチルフェニル基、3−イソブチルフェニル基、4−イソブチルフェニル基、2−t−ブチルフェニル基、3−t−ブチルフェニル基、4−t−ブチルフェニル基、2−ペンチルフェニル基、3−ヘキシルフェニル基、4−ヘプチルフェニル基、2−オクチルフェニル基、3−ノニルフェニル基、4−デシルフェニル基、2−トリフルオロメチルフェニル基、3−トリフルオロメチルフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、2−(2,2,2−トリフルオロエチル)フェニル基、3−(3,3,3−トリフルオロプロピル)フェニル基、4−(4,4,4−トリフルオロブチル)フェニル基、2−(5,5,5−トリフルオロペンチル)フェニル基、3−(6,6,6−トリフルオロヘキシル)フェニル基、4−(7,7,7−トリフルオロヘプチル)フェニル基、2−(8,8,8−トリフルオロオクチル)フェニル基、3−(9,9,9−トリフルオロノニル)フェニル基、4−(10,10,10−トリフルオロデシル)フェニル基、
2−シクロプロピルフェニル基、3−シクロプロピルフェニル基、4−シクロプロピルフェニル基、2−シクロブチルフェニル基、3−シクロペンチルフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基、2−シクロヘプチルフェニル基、3−シクロオクチルフェニル基、4−シクロノニルフェニル基、2−シクロデシルフェニル基、3−(メチルシクロプロピル)フェニル基、4−(1,1−ジメチルシクロプロピル)フェニル基、3−(フルオロシクロプロピル)フェニル基、4−(クロロシクロプロピル)フェニル基、2−(1,1−ジフルオロシクロプロピル)フェニル基、3−(1,1−ジクロロシクロプロピル)フェニル基、4−(2−フルオロシクロヘキシル)フェニル基、4−(2−クロロシクロヘキシル)フェニル基、
2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニル基、2−トリフルオロメトキシフェニル基、3−トリフルオロメトキシフェニル基、4−トリフルオロメトキシフェニル基、2−エトキシフェニル基、3−プロポキシフェニル基、4−ブトキシフェニル基、
2−メチルチオフェニル基、3−メチルチオフェニル基、4−メチルチオフェニル基、2−トリフルオロメチルチオフェニル基、3−トリフルオロメチルチオフェニル基、4−トリフルオロメチルチオフェニル基、2−エチルチオフェニル基、3−プロピルチオフェニル基、4−ブチルチオフェニル基、
2−メタンスルフィニルフェニル基、3−メタンスルフィニルフェニル基、4−メタンスルフィニルフェニル基、2−メタンスルフィニルフェニル基、3−メタンスルフィニルフェニル基、4−メタンスルフィニルフェニル基、2−エチルスルフィニルフェニル基、3−プロピルスルフィニルフェニル基、4−ブチルスルフィニルフェニル基、
2−メタンスルホニルフェニル基、3−メタンスルホニルフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基、2−メタンスルホニルフェニル基、3−メタンスルホニルフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基、2−エチルスルホニルフェニル基、3−プロピルスルホニルフェニル基、4−ブチルスルホニルフェニル基、
2−アセチルフェニル基、3−アセチルフェニル基、4−アセチルフェニル基、2−ジフルオロアセチルフェニル基、3−トリフルオロアセチルフェニル基、4−ジクロロアセチルフェニル基、2−トリクロロアセチルフェニル基、3−プロパノイルフェニル基、4−ブタノイルフェニル基、2−イソブタノイルフェニル基、3−ペンタノイルフェニル基、4−ピバロイルフェニル基、
2−(メトキシカルボニル)フェニル基、3−(メトキシカルボニル)フェニル基、4−(メトキシカルボニル)フェニル基、2−(トリフルオロメトキシカルボニル)フェニル基、3−(トリクロロメトキシカルボニル)フェニル基、4−(エトキシカルボニル)フェニル基、2−(プロポキシカルボニル)フェニル基、3−(イソプロポキシカルボニル)フェニル基、4−(ブトキシカルボニル)フェニル基、
2−アセトキシフェニル基、3−アセトキシフェニル基、4−アセトキシフェニル基、2−ジフルオロアセトキシフェニル基、3−トリフルオロアセトキシフェニル基、4−トリクロロアセトキシフェニル基、2−プロパノイルオキシフェニル基、3−ブタノイルオキシフェニル基、4−イソブタノイルオキシフェニル基、2−ペンタノイルオキシフェニル基及び3−ピバロイルオキシフェニル基が挙げられる。
Examples of the “phenyl group optionally substituted with one or more groups selected from group E” include, for example, phenyl group, 2-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 2-bromophenyl group, 3-bromophenyl group, 4-bromophenyl group, 2-iodophenyl group, 3-iodophenyl group, 4-iodophenyl group,
2-cyanophenyl group, 3-cyanophenyl group, 4-cyanophenyl group, 2-nitrophenyl group, 3-nitrophenyl group, 4-nitrophenyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4- Methylphenyl group, 2-ethylphenyl group, 3-ethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 2-propylphenyl group, 3-propylphenyl group, 4-propylphenyl group, 2-isopropylphenyl group, 3-isopropylphenyl Group, 4-isopropylphenyl group, 2-butylphenyl group, 3-butylphenyl group, 4-butylphenyl group, 2-isobutylphenyl group, 3-isobutylphenyl group, 4-isobutylphenyl group, 2-t-butylphenyl Group, 3-t-butylphenyl group, 4-t-butylphenyl group, 2-pentylphenyl group, -Hexylphenyl group, 4-heptylphenyl group, 2-octylphenyl group, 3-nonylphenyl group, 4-decylphenyl group, 2-trifluoromethylphenyl group, 3-trifluoromethylphenyl group, 4-trifluoromethyl Phenyl group, 2- (2,2,2-trifluoroethyl) phenyl group, 3- (3,3,3-trifluoropropyl) phenyl group, 4- (4,4,4-trifluorobutyl) phenyl group 2- (5,5,5-trifluoropentyl) phenyl group, 3- (6,6,6-trifluorohexyl) phenyl group, 4- (7,7,7-trifluoroheptyl) phenyl group, 2 -(8,8,8-trifluorooctyl) phenyl group, 3- (9,9,9-trifluorononyl) phenyl group, 4- (10,10,10-trifluorode) ) Phenyl group,
2-cyclopropylphenyl group, 3-cyclopropylphenyl group, 4-cyclopropylphenyl group, 2-cyclobutylphenyl group, 3-cyclopentylphenyl group, 4-cyclohexylphenyl group, 2-cycloheptylphenyl group, 3-cyclo Octylphenyl group, 4-cyclononylphenyl group, 2-cyclodecylphenyl group, 3- (methylcyclopropyl) phenyl group, 4- (1,1-dimethylcyclopropyl) phenyl group, 3- (fluorocyclopropyl) phenyl Group, 4- (chlorocyclopropyl) phenyl group, 2- (1,1-difluorocyclopropyl) phenyl group, 3- (1,1-dichlorocyclopropyl) phenyl group, 4- (2-fluorocyclohexyl) phenyl group 4- (2-chlorocyclohexyl) phenyl group,
2-methoxyphenyl group, 3-methoxyphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 2-trifluoromethoxyphenyl group, 3-trifluoromethoxyphenyl group, 4-trifluoromethoxyphenyl group, 2-ethoxyphenyl group, 3- Propoxyphenyl group, 4-butoxyphenyl group,
2-methylthiophenyl group, 3-methylthiophenyl group, 4-methylthiophenyl group, 2-trifluoromethylthiophenyl group, 3-trifluoromethylthiophenyl group, 4-trifluoromethylthiophenyl group, 2-ethylthiophenyl group, 3 -Propylthiophenyl group, 4-butylthiophenyl group,
2-methanesulfinylphenyl group, 3-methanesulfinylphenyl group, 4-methanesulfinylphenyl group, 2-methanesulfinylphenyl group, 3-methanesulfinylphenyl group, 4-methanesulfinylphenyl group, 2-ethylsulfinylphenyl group, 3 -Propylsulfinylphenyl group, 4-butylsulfinylphenyl group,
2-methanesulfonylphenyl group, 3-methanesulfonylphenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 2-methanesulfonylphenyl group, 3-methanesulfonylphenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 2-ethylsulfonylphenyl group, 3 -Propylsulfonylphenyl group, 4-butylsulfonylphenyl group,
2-acetylphenyl group, 3-acetylphenyl group, 4-acetylphenyl group, 2-difluoroacetylphenyl group, 3-trifluoroacetylphenyl group, 4-dichloroacetylphenyl group, 2-trichloroacetylphenyl group, 3-propa Noylphenyl group, 4-butanoylphenyl group, 2-isobutanoylphenyl group, 3-pentanoylphenyl group, 4-pivaloylphenyl group,
2- (methoxycarbonyl) phenyl group, 3- (methoxycarbonyl) phenyl group, 4- (methoxycarbonyl) phenyl group, 2- (trifluoromethoxycarbonyl) phenyl group, 3- (trichloromethoxycarbonyl) phenyl group, 4- (Ethoxycarbonyl) phenyl group, 2- (propoxycarbonyl) phenyl group, 3- (isopropoxycarbonyl) phenyl group, 4- (butoxycarbonyl) phenyl group,
2-acetoxyphenyl group, 3-acetoxyphenyl group, 4-acetoxyphenyl group, 2-difluoroacetoxyphenyl group, 3-trifluoroacetoxyphenyl group, 4-trichloroacetoxyphenyl group, 2-propanoyloxyphenyl group, 3- Examples include butanoyloxyphenyl group, 4-isobutanoyloxyphenyl group, 2-pentanoyloxyphenyl group and 3-pivaloyloxyphenyl group.

「群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC2〜C5ポリメチレン基」としては、例えばエチレン基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン基、1,5−ペンチレン基、フルオロエチレン基、クロロエチレン基、ブロモエチレン基、シアノエチレン基、ニトロエチレン基、1,2−プロピレン基、3,3,3−トリフルオロ−1,2−プロピレン基、シクロプロピルエチレン基、メトキシエチレン基、トリフルオロメトキシエチレン基、メチルチオエチレン基、トリフルオロメチルチオエチレン基、メタンスルフィニルエチレン基、トリフルオロメタンスルフィニルエチレン基、メタンスルホニルエチレン基、トリフルオロメタンスルホニルエチレン基、アセチルエチレン基、トリフルオロアセチルエチレン基、メトキシカルボニルエチレン基、トリフルオロメトキシカルボニルエチレン基、アセトキシエチレン基及びトリフルオロアセトキシエチレン基が挙げられる。   Examples of the “C2-C5 polymethylene group optionally substituted with one or more groups selected from group E” include, for example, ethylene group, 1,3-propylene group, 1,4-butylene group, 1,5-pentylene group , Fluoroethylene group, chloroethylene group, bromoethylene group, cyanoethylene group, nitroethylene group, 1,2-propylene group, 3,3,3-trifluoro-1,2-propylene group, cyclopropylethylene group, methoxy Ethylene group, trifluoromethoxyethylene group, methylthioethylene group, trifluoromethylthioethylene group, methanesulfinylethylene group, trifluoromethanesulfinylethylene group, methanesulfonylethylene group, trifluoromethanesulfonylethylene group, acetylethylene group, trifluoroacetylethylene group , Methoxyca Boniruechiren group, a trifluoromethoxy carbonyl ethylene group include acetoxy ethylene group and trifluoroacetoxy ethylene group.

「群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいプロペン−1,3−ジイル基」としては、例えばプロペン−1,3−ジイル基、2−フルオロプロペン−1,3−ジイル基、3−フルオロプロペン−1,3−ジイル基、3,3−ジフルオロプロペン−1,3−ジイル基、2−クロロプロペン−1,3−ジイル基、2−ブロモプロペン−1,3−ジイル基、2−シアノプロペン−1,3−ジイル基、2−ニトロプロペン−1,3−ジイル基、2−メチルプロペン−1,3−ジイル基、3−メチルプロペン−1,3−ジイル基、3,3−ジメチルプロペン−1,3−ジイル基、2−トリフルオロメチルプロペン−1,3−ジイル基、2−シクロプロピルプロペン−1,3−ジイル基、2−メトキシプロペン−1,3−ジイル基、2−トリフルオロメトキシプロペン−1,3−ジイル基、2−メチルチオプロペン−1,3−ジイル基、2−トリフルオロメチルチオプロペン−1,3−ジイル基、2−メタンスルフィニルプロペン−1,3−ジイル基、2−トリフルオロメタンスルフィニルプロペン−1,3−ジイル基、2−アセチルプロペン−1,3−ジイル基、2−トリフルオロアセチルプロペン−1,3−ジイル基、2−メトキシカルボニルプロペン−1,3−ジイル基、2−トリフルオロメトキシカルボニルプロペン−1,3−ジイル基、2−アセトキシプロペン−1,3−ジイル基及び2−トリフルオロアセトキシプロペン−1,3−ジイル基が挙げられる。   Examples of the “propene-1,3-diyl group optionally substituted with one or more groups selected from group E” include propene-1,3-diyl group, 2-fluoropropene-1,3-diyl group 3-fluoropropene-1,3-diyl group, 3,3-difluoropropene-1,3-diyl group, 2-chloropropene-1,3-diyl group, 2-bromopropene-1,3-diyl group 2-cyanopropene-1,3-diyl group, 2-nitropropene-1,3-diyl group, 2-methylpropene-1,3-diyl group, 3-methylpropene-1,3-diyl group, 3 , 3-Dimethylpropene-1,3-diyl group, 2-trifluoromethylpropene-1,3-diyl group, 2-cyclopropylpropene-1,3-diyl group, 2-methoxypropene-1,3-diyl Group, 2-trif Olomethoxypropene-1,3-diyl group, 2-methylthiopropene-1,3-diyl group, 2-trifluoromethylthiopropene-1,3-diyl group, 2-methanesulfinylpropene-1,3-diyl group, 2-trifluoromethanesulfinylpropene-1,3-diyl group, 2-acetylpropene-1,3-diyl group, 2-trifluoroacetylpropene-1,3-diyl group, 2-methoxycarbonylpropene-1,3- Examples include a diyl group, a 2-trifluoromethoxycarbonylpropene-1,3-diyl group, a 2-acetoxypropene-1,3-diyl group, and a 2-trifluoroacetoxypropene-1,3-diyl group.

「群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよい1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基」としては、例えば1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−フルオロ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、2−フルオロ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−クロロ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、2−クロロ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−ブロモ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、2−ブロモ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−シアノ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−ニトロ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−メチル−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、2−メチル−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−トリフルオロメチル−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−シクロプロピル−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−メトキシ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−トリフルオロメトキシプ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−メチルチオ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−トリフルオロメチルチオ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−メタンスルフィニル−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−トリフルオロメタンスルフィニル−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−アセチル−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−トリフルオロアセチル−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−メトキシカルボニル−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−トリフルオロメトキシカルボニル−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基、1−アセトキシ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基及び1−トリフルオロアセトキシ−1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基が挙げられる。   Examples of the “1,3-butadiene-1,4-diyl group optionally substituted with one or more groups selected from group E” include 1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-fluoro -1,3-butadiene-1,4-diyl group, 2-fluoro-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-chloro-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 2- Chloro-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-bromo-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 2-bromo-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1 -Cyano-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-nitro-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-methyl-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 2-methyl-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-trifluoromethyl -1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-cyclopropyl-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-methoxy-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1 -Trifluoromethoxy-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-methylthio-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-trifluoromethylthio-1,3-butadiene-1, 4-diyl group, 1-methanesulfinyl-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-trifluoromethanesulfinyl-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-acetyl-1,3- Butadiene-1,4-diyl group, 1-trifluoroacetyl-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-methoxycarbonyl-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-trifluoro Methoxycarbonyl-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-acetoxy-1,3-butadiene-1,4-diyl group and 1-trifluoroacetoxy-1,3-butadiene-1,4-diyl Groups.

「C1〜C4鎖式炭化水素基」としては、例えばメチル基、エチル基、エチニル基、プロピル基、イソプロピル基、アリル基、プロパルギル基、ブチル基、イソブチル基及びt−ブチル基が挙げられる。   Examples of the “C1-C4 chain hydrocarbon group” include a methyl group, an ethyl group, an ethynyl group, a propyl group, an isopropyl group, an allyl group, a propargyl group, a butyl group, an isobutyl group, and a t-butyl group.

「群Cより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC1〜C10鎖式炭化水素基」としては、例えばシクロプロピルメチル基、2−シクロプロピルエチル基、3−シクロプロピルプロピル基、4−シクロプロピルブチル基、5−シクロプロピルペンチル基、
メチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、ヨードメチル基、クロロジフルオロメチル基、
エチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、パーフルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−ヨードエチル基、
プロピル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、パーフルオロプロピル基、イソプロピル基、2,2,2,2’,2’,2’−ヘキサフルオロイソプロピル基、パーフルオロイソプロピル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリクロロプロピル基、3−ブロモプロピル基、3−ヨードプロピル基、
ブチル基、4−フルオロブチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、パーフルオロブチル基、4−クロロブチル基、4,4,4−トリクロロブチル基、4−ブロモブチル基、4−ヨードブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、
ペンチル基、5−フルオロペンチル基、5,5,5−トリフルオロペンチル基、パーフルオロペンチル基、5−クロロペンチル基、5,5,5−トリクロロペンチル基、5−ブロモペンチル基、5−ヨードペンチル基、
ヘキシル基、6,6,6−トリフルオロヘキシル基、6−クロロヘキシル基、
ヘプチル基、7,7,7−トリフルオロヘプチル基、7−クロロヘプチル基、
オクチル基、8,8,8、−トリフルオロオクチル基、8−クロロオクチル基、
ノニル基、9,9,9−トリフルオロノニル基、9−クロロノニル基、
デシル基、10,10,10−トリフルオロデシル基、10−クロロデシル基、
シアノメチル基、ジシアノメチル基、2−シアノエチル基、2,2−ジシアノエチル基、3−シアノプロピル基、3,3−ジシアノプロピル基、4−シアノブチル基、4,4−ジシアノブチル基、5−シアノペンチル基、5,5−ジシアノペンチル基、
メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、t−ブトキシメチル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、4−メトキシブチル基、5−メトキシペンチル基、2−エトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、4−エトキシブチル基、5−エトキシペンチル基、2−プロポキシエチル基、3−プロポキシプロピル基、4−プロポキシブチル基、5−プロポキシペンチル基、2−ブトキシエチル基、3−ブトキシプロピル基、4−ブトキシブチル基、5−ブトキシペンチル基、
メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基、イソプロピルチオメチル基、ブチルチオメチル基、イソブチルチオメチル基、t−ブチルチオメチル基、2−メチルチオエチル基、3−メチルチオプロピル基、4−メチルチオブチル基、5−メチルチオペンチル基、2−エチルチオエチル基、3−エチルチオプロピル基、4−エチルチオブチル基、5−エチルチオペンチル基、2−プロピルチオエチル基、3−プロピルチオプロピル基、4−プロピルチオブチル基、5−プロピルチオペンチル基、2−ブチルチオエチル基、3−ブチルチオプロピル基、4−ブチルチオブチル基、5−ブチルチオペンチル基、
メタンスルフィニルメチル基、エタンスルフィニルメチル基、プロパンスルフィニルメチル基、イソプロパンスルフィニルメチル基、ブタンスルフィニルメチル基、イソブタンスルフィニルメチル基、t−ブタンスルフィニルメチル基、2−メタンスルフィニルエチル基、3−メタンスルフィニルプロピル基、4−メタンスルフィニルブチル基、5−メタンスルフィニルペンチル基、2−エタンスルフィニルエチル基、3−エタンスルフィニルプロピル基、4−エタンスルフィニルブチル基、5−エタンスルフィニルペンチル基、2−プロパンスルフィニルエチル基、3−プロパンスルフィニルプロピル基、4−プロパンスルフィニルブチル基、5−プロパンスルフィニルペンチル基、2−ブタンスルフィニルエチル基、3−ブタンスルフィニルプロピル基、4−ブタンスルフィニルブチル基、5−ブタンスルフィニルペンチル基、
メタンスルホニルメチル基、エタンスルホニルメチル基、プロパンスルホニルメチル基、イソプロパンスルホニルメチル基、ブタンスルホニルメチル基、イソブタンスルホニルメチル基、t−ブタンスルホニルメチル基、2−メタンスルホニルエチル基、3−メタンスルホニルプロピル基、4−メタンスルホニルブチル基、5−メタンスルホニルペンチル基、2−エタンスルホニルエチル基、3−エタンスルホニルプロピル基、4−エタンスルホニルブチル基、5−エタンスルホニルペンチル基、2−プロパンスルホニルエチル基、3−プロパンスルホニルプロピル基、4−プロパンスルホニルブチル基、5−プロパンスルホニルペンチル基、2−ブタンスルホニルエチル基、3−ブタンスルホニルプロピル基、4−ブタンスルホニルブチル基及び5−ブタンスルホニルペンチル基が挙げられる。
Examples of the “C1-C10 chain hydrocarbon group optionally substituted with one or more groups selected from group C” include cyclopropylmethyl group, 2-cyclopropylethyl group, 3-cyclopropylpropyl group, 4 -Cyclopropylbutyl group, 5-cyclopropylpentyl group,
Methyl group, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, bromomethyl group, dibromomethyl group, iodomethyl group, chlorodifluoromethyl group,
Ethyl group, 2-fluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, perfluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-iodoethyl group,
Propyl group, 3-fluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, perfluoropropyl group, isopropyl group, 2,2,2,2 ′, 2 ′, 2′-hexafluoroisopropyl group, perfluoro Isopropyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trichloropropyl group, 3-bromopropyl group, 3-iodopropyl group,
Butyl group, 4-fluorobutyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, perfluorobutyl group, 4-chlorobutyl group, 4,4,4-trichlorobutyl group, 4-bromobutyl group, 4-iodobutyl group, s-butyl group, t-butyl group,
Pentyl group, 5-fluoropentyl group, 5,5,5-trifluoropentyl group, perfluoropentyl group, 5-chloropentyl group, 5,5,5-trichloropentyl group, 5-bromopentyl group, 5-iodo Pentyl group,
Hexyl group, 6,6,6-trifluorohexyl group, 6-chlorohexyl group,
Heptyl group, 7,7,7-trifluoroheptyl group, 7-chloroheptyl group,
Octyl group, 8,8,8, -trifluorooctyl group, 8-chlorooctyl group,
Nonyl group, 9,9,9-trifluorononyl group, 9-chlorononyl group,
Decyl group, 10,10,10-trifluorodecyl group, 10-chlorodecyl group,
Cyanomethyl group, dicyanomethyl group, 2-cyanoethyl group, 2,2-dicyanoethyl group, 3-cyanopropyl group, 3,3-dicyanopropyl group, 4-cyanobutyl group, 4,4-dicyanobutyl group, 5-cyano Pentyl group, 5,5-dicyanopentyl group,
Methoxymethyl group, ethoxymethyl group, propoxymethyl group, isopropoxymethyl group, butoxymethyl group, isobutoxymethyl group, t-butoxymethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 4-methoxybutyl group, 5-methoxypentyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group, 4-ethoxybutyl group, 5-ethoxypentyl group, 2-propoxyethyl group, 3-propoxypropyl group, 4-propoxybutyl group, 5- Propoxypentyl group, 2-butoxyethyl group, 3-butoxypropyl group, 4-butoxybutyl group, 5-butoxypentyl group,
Methylthiomethyl group, ethylthiomethyl group, propylthiomethyl group, isopropylthiomethyl group, butylthiomethyl group, isobutylthiomethyl group, t-butylthiomethyl group, 2-methylthioethyl group, 3-methylthiopropyl group, 4- Methylthiobutyl group, 5-methylthiopentyl group, 2-ethylthioethyl group, 3-ethylthiopropyl group, 4-ethylthiobutyl group, 5-ethylthiopentyl group, 2-propylthioethyl group, 3-propylthiopropyl group Group, 4-propylthiobutyl group, 5-propylthiopentyl group, 2-butylthioethyl group, 3-butylthiopropyl group, 4-butylthiobutyl group, 5-butylthiopentyl group,
Methanesulfinylmethyl group, ethanesulfinylmethyl group, propanesulfinylmethyl group, isopropanesulfinylmethyl group, butanesulfinylmethyl group, isobutanesulfinylmethyl group, t-butanesulfinylmethyl group, 2-methanesulfinylethyl group, 3-methanesulfinylpropyl group Group, 4-methanesulfinylbutyl group, 5-methanesulfinylpentyl group, 2-ethanesulfinylethyl group, 3-ethanesulfinylpropyl group, 4-ethanesulfinylbutyl group, 5-ethanesulfinylpentyl group, 2-propanesulfinylethyl group 3-propanesulfinylpropyl group, 4-propanesulfinylbutyl group, 5-propanesulfinylpentyl group, 2-butanesulfinylethyl group, 3-butanesulfy group Rupuropiru group, 4-Bed ethanesulfinyl butyl group, 5- butane sulfinyl point pen butyl group,
Methanesulfonylmethyl group, ethanesulfonylmethyl group, propanesulfonylmethyl group, isopropanesulfonylmethyl group, butanesulfonylmethyl group, isobutanesulfonylmethyl group, t-butanesulfonylmethyl group, 2-methanesulfonylethyl group, 3-methanesulfonylpropyl group Group, 4-methanesulfonylbutyl group, 5-methanesulfonylpentyl group, 2-ethanesulfonylethyl group, 3-ethanesulfonylpropyl group, 4-ethanesulfonylbutyl group, 5-ethanesulfonylpentyl group, 2-propanesulfonylethyl group 3-propanesulfonylpropyl group, 4-propanesulfonylbutyl group, 5-propanesulfonylpentyl group, 2-butanesulfonylethyl group, 3-butanesulfonylpropyl group, 4-butanesulfonylbutyl group And it includes 5-butane sulfonyl pentyl group.

「ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルコキシ基」としては、メトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロメトキシ基、ジクロロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、ブロモメトキシ基、ジブロモメトキシ基、ヨードメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、
エトキシ基、2−フルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、パーフルオロエトキシ基、2−クロロエトキシ基、2,2,2−トリクロロエトキシ基、2−ブロモエトキシ基、2−ヨードエトキシ基、
プロポキシ基、3−フルオロプロポキシ基、3,3,3−トリフルオロプロポキシ基、パーフルオロプロポキシ基、2,2,2,2’, 2’, 2’−ヘキサフルオロイソプロポキシ基、パーフルオロイソプロポキシ基、3−クロロプロポキシ基、3,3,3−トリクロロプロポキシ基、3−ブロモプロポキシ基、3−ヨードプロポキシ基、
ブトキシ基、4−フルオロブトキシ基、4,4,4−トリフルオロブトキシ基、パーフルオロブトキシ基、4−クロロブトキシ基、4,4,4−トリクロロブトキシ基、4−ブロモブトキシ基及び4−ヨードブトキシ基が挙げられる。
Examples of the “C1-C4 alkoxy group optionally substituted with halogen” include a methoxy group, a fluoromethoxy group, a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a chloromethoxy group, a dichloromethoxy group, a trichloromethoxy group, a bromomethoxy group, Dibromomethoxy group, iodomethoxy group, chlorodifluoromethoxy group,
Ethoxy group, 2-fluoroethoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, perfluoroethoxy group, 2-chloroethoxy group, 2,2,2-trichloroethoxy group, 2-bromoethoxy group, 2-iodo An ethoxy group,
Propoxy group, 3-fluoropropoxy group, 3,3,3-trifluoropropoxy group, perfluoropropoxy group, 2,2,2,2 ′, 2 ′, 2′-hexafluoroisopropoxy group, perfluoroisopropoxy group Group, 3-chloropropoxy group, 3,3,3-trichloropropoxy group, 3-bromopropoxy group, 3-iodopropoxy group,
Butoxy group, 4-fluorobutoxy group, 4,4,4-trifluorobutoxy group, perfluorobutoxy group, 4-chlorobutoxy group, 4,4,4-trichlorobutoxy group, 4-bromobutoxy group and 4-iodo A butoxy group is mentioned.

「ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルチオ基」としては、メチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、クロロメチルチオ基、ジクロロメチルチオ基、トリクロロメチルチオ基、ブロモメチルチオ基、ジブロモメチルチオ基、ヨードメチルチオ基、クロロジフルオロメチルチオ基、
エチルチオ基、2−フルオロエチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、パーフルオロエチルチオ基、2−クロロエチルチオ基、2,2,2−トリクロロエチルチオ基、2−ブロモエチルチオ基、2−ヨードエチルチオ基、
プロピルチオ基、3−フルオロプロピルチオ基、3,3,3−トリフルオロプロピルチオ基、パーフルオロプロピルチオ基、2,2,2,2’, 2’, 2’−ヘキサフルオロイソプロピルチオ基、パーフルオロイソプロピルチオ基、3−クロロプロピルチオ基、3,3,3−トリクロロプロピルチオ基、3−ブロモプロピルチオ基、3−ヨードプロピルチオ基、
ブチルチオ基、4−フルオロブチルチオ基、4,4,4−トリフルオロブチルチオ基、パーフルオロブチルチオ基、4−クロロブチルチオ基、4,4,4−トリクロロブチルチオ基、4−ブロモブチルチオ基及び4−ヨードブチルチオ基が挙げられる。
Examples of the “C1-C4 alkylthio group optionally substituted with halogen” include methylthio group, fluoromethylthio group, difluoromethylthio group, trifluoromethylthio group, chloromethylthio group, dichloromethylthio group, trichloromethylthio group, bromomethylthio group, Dibromomethylthio group, iodomethylthio group, chlorodifluoromethylthio group,
Ethylthio group, 2-fluoroethylthio group, 2,2,2-trifluoroethylthio group, perfluoroethylthio group, 2-chloroethylthio group, 2,2,2-trichloroethylthio group, 2-bromoethyl A thio group, a 2-iodoethylthio group,
Propylthio group, 3-fluoropropylthio group, 3,3,3-trifluoropropylthio group, perfluoropropylthio group, 2,2,2,2 ′, 2 ′, 2′-hexafluoroisopropylthio group, Fluoroisopropylthio group, 3-chloropropylthio group, 3,3,3-trichloropropylthio group, 3-bromopropylthio group, 3-iodopropylthio group,
Butylthio group, 4-fluorobutylthio group, 4,4,4-trifluorobutylthio group, perfluorobutylthio group, 4-chlorobutylthio group, 4,4,4-trichlorobutylthio group, 4-bromobutyl A thio group and a 4-iodobutylthio group are mentioned.

「ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルスルフィニル基」としては、メタンスルフィニル基、フルオロメタンスルフィニル基、ジフルオロメタンスルフィニル基、トリフルオロメタンスルフィニル基、クロロメタンスルフィニル基、ジクロロメタンスルフィニル基、トリクロロメタンスルフィニル基、ブロモメタンスルフィニル基、ジブロモメタンスルフィニル基、ヨードメタンスルフィニル基、クロロジフルオロメタンスルフィニル基、
エタンスルフィニル基、2−フルオロエタンスルフィニル基、2,2,2−トリフルオロエタンスルフィニル基、パーフルオロエタンスルフィニル基、2−クロロエタンスルフィニル基、2,2,2−トリクロロエタンスルフィニル基、2−ブロモエタンスルフィニル基、2−ヨードエタンスルフィニル基、
プロパンスルフィニル基、3−フルオロプロパンスルフィニル基、3,3,3−トリフルオロプロパンスルフィニル基、パーフルオロプロパンスルフィニル基、イソプロパンスルフィニル基、2,2,2,2’, 2’, 2’−ヘキサフルオロイソプロパンスルフィニル基、パーフルオロイソプロパンスルフィニル基、3−クロロプロパンスルフィニル基、3,3,3−トリクロロプロパンスルフィニル基、3−ブロモプロパンスルフィニル基、3−ヨードプロパンスルフィニル基、
ブタンスルフィニル基、4−フルオロブタンスルフィニル基、4,4,4−トリフルオロブタンスルフィニル基、パーフルオロブタンスルフィニル基、4−クロロブタンスルフィニル基、4,4,4−トリクロロブタンスルフィニル基、4−ブロモブタンスルフィニル基及び4−ヨードブタンスルフィニル基が挙げられる。
Examples of the “C1-C4 alkylsulfinyl group optionally substituted with halogen” include methanesulfinyl group, fluoromethanesulfinyl group, difluoromethanesulfinyl group, trifluoromethanesulfinyl group, chloromethanesulfinyl group, dichloromethanesulfinyl group, trichloromethanesulfinyl group. Group, bromomethanesulfinyl group, dibromomethanesulfinyl group, iodomethanesulfinyl group, chlorodifluoromethanesulfinyl group,
Ethanesulfinyl group, 2-fluoroethanesulfinyl group, 2,2,2-trifluoroethanesulfinyl group, perfluoroethanesulfinyl group, 2-chloroethanesulfinyl group, 2,2,2-trichloroethanesulfinyl group, 2-bromoethanesulfinyl group Group, 2-iodoethanesulfinyl group,
Propanesulfinyl group, 3-fluoropropanesulfinyl group, 3,3,3-trifluoropropanesulfinyl group, perfluoropropanesulfinyl group, isopropanesulfinyl group, 2,2,2,2 ′, 2 ′, 2′-hexa Fluoroisopropanesulfinyl group, perfluoroisopropanesulfinyl group, 3-chloropropanesulfinyl group, 3,3,3-trichloropropanesulfinyl group, 3-bromopropanesulfinyl group, 3-iodopropanesulfinyl group,
Butanesulfinyl group, 4-fluorobutanesulfinyl group, 4,4,4-trifluorobutanesulfinyl group, perfluorobutanesulfinyl group, 4-chlorobutanesulfinyl group, 4,4,4-trichlorobutanesulfinyl group, 4-bromo Examples include butanesulfinyl group and 4-iodobutanesulfinyl group.

「ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルスルホニル基」としては、メタンスルホニル基、フルオロメタンスルホニル基、ジフルオロメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、クロロメタンスルホニル基、ジクロロメタンスルホニル基、トリクロロメタンスルホニル基、ブロモメタンスルホニル基、ジブロモメタンスルホニル基、ヨードメタンスルホニル基、クロロジフルオロメタンスルホニル基、
エタンスルホニル基、2−フルオロエタンスルホニル基、2,2,2−トリフルオロエタンスルホニル基、パーフルオロエタンスルホニル基、2−クロロエタンスルホニル基、2,2,2−トリクロロエタンスルホニル基、2−ブロモエタンスルホニル基、2−ヨードエタンスルホニル基、
プロパンスルホニル基、3−フルオロプロパンスルホニル基、3,3,3−トリフルオロプロパンスルホニル基、パーフルオロプロパンスルホニル基、イソプロパンスルホニル基、2,2,2,2’,2’,2’−ヘキサフルオロイソプロパンスルホニル基、パーフルオロイソプロパンスルホニル基、3−クロロプロパンスルホニル基、3,3,3−トリクロロプロパンスルホニル基、3−ブロモプロパンスルホニル基、3−ヨードプロパンスルホニル基、
ブタンスルホニル基、4−フルオロブタンスルホニル基、4,4,4−トリフルオロブタンスルホニル基、パーフルオロブタンスルホニル基、4−クロロブタンスルホニル基、4,4,4−トリクロロブタンスルホニル基、4−ブロモブタンスルホニル基及び4−ヨードブタンスルホニル基が挙げられる。
Examples of the “C1-C4 alkylsulfonyl group optionally substituted with halogen” include methanesulfonyl group, fluoromethanesulfonyl group, difluoromethanesulfonyl group, trifluoromethanesulfonyl group, chloromethanesulfonyl group, dichloromethanesulfonyl group, trichloromethanesulfonyl. Group, bromomethanesulfonyl group, dibromomethanesulfonyl group, iodomethanesulfonyl group, chlorodifluoromethanesulfonyl group,
Ethanesulfonyl group, 2-fluoroethanesulfonyl group, 2,2,2-trifluoroethanesulfonyl group, perfluoroethanesulfonyl group, 2-chloroethanesulfonyl group, 2,2,2-trichloroethanesulfonyl group, 2-bromoethanesulfonyl Group, 2-iodoethanesulfonyl group,
Propanesulfonyl group, 3-fluoropropanesulfonyl group, 3,3,3-trifluoropropanesulfonyl group, perfluoropropanesulfonyl group, isopropanesulfonyl group, 2,2,2,2 ′, 2 ′, 2′-hexa Fluoroisopropanesulfonyl group, perfluoroisopropanesulfonyl group, 3-chloropropanesulfonyl group, 3,3,3-trichloropropanesulfonyl group, 3-bromopropanesulfonyl group, 3-iodopropanesulfonyl group,
Butanesulfonyl group, 4-fluorobutanesulfonyl group, 4,4,4-trifluorobutanesulfonyl group, perfluorobutanesulfonyl group, 4-chlorobutanesulfonyl group, 4,4,4-trichlorobutanesulfonyl group, 4-bromo A butanesulfonyl group and a 4-iodobutanesulfonyl group are mentioned.

「ハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルキル)カルボニル基」としては、アセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ジクロロアセチル基、トリクロロアセチル基、ブロモアセチル基、ジブロモアセチル基、ヨードアセチル基、クロロジフルオロアセチル基、
プロパノイル基、3−フルオロプロパノイル基、3,3,3−トリフルオロプロパノイル基、パーフルオロプロパノイル基、3−クロロプロパノイル基、3,3,3−トリクロロプロパノイル基、3−ブロモプロパノイル基、3−ヨードプロパノイル基、
ブタノイル基、4−フルオロブタノイル基、4,4,4−トリフルオロブタノイル基、パーフルオロブタノイル基、3,3,3,3’,3’,3’−ヘキサフルオロイソブタノイル基、パーフルオロイソブタノイル基、4−クロロブタノイル基、4,4,4−トリクロロブタノイル基、4−ブロモブタノイル基、4−ヨードブタノイル基、イソブタノイル基、2,2,2,2’,2’,2’−ヘキサフルオロイソブタノイル基、パーフルオロイソブタノイル基、
ペンタノイル基、5−フルオロペンタノイル基、5,5,5−トリフルオロペンタノイル基、パーフルオロペンタノイル基、5−クロロペンタノイル基、5,5,5−トリクロロペンタノイル基、5−ブロモペンタノイル基、5−ヨードペンタノイル基及びピバロイル基が挙げられる。
Examples of the “(C1-C4 alkyl) carbonyl group optionally substituted with halogen” include acetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, dichloroacetyl group, trichloroacetyl group, bromo group. Acetyl group, dibromoacetyl group, iodoacetyl group, chlorodifluoroacetyl group,
Propanoyl group, 3-fluoropropanoyl group, 3,3,3-trifluoropropanoyl group, perfluoropropanoyl group, 3-chloropropanoyl group, 3,3,3-trichloropropanoyl group, 3-bromopropanoyl group Noyl group, 3-iodopropanoyl group,
Butanoyl group, 4-fluorobutanoyl group, 4,4,4-trifluorobutanoyl group, perfluorobutanoyl group, 3,3,3,3 ′, 3 ′, 3′-hexafluoroisobutanoyl group, Perfluoroisobutanoyl group, 4-chlorobutanoyl group, 4,4,4-trichlorobutanoyl group, 4-bromobutanoyl group, 4-iodobutanoyl group, isobutanoyl group, 2,2,2,2 ′ , 2 ′, 2′-hexafluoroisobutanoyl group, perfluoroisobutanoyl group,
Pentanoyl group, 5-fluoropentanoyl group, 5,5,5-trifluoropentanoyl group, perfluoropentanoyl group, 5-chloropentanoyl group, 5,5,5-trichloropentanoyl group, 5-bromopenta Examples include a noyl group, a 5-iodopentanoyl group, and a pivaloyl group.

「ハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルコキシ)カルボニル基」としては、メトキシカルボニル基、フルオロメトキシカルボニル基、ジフルオロメトキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、クロロメトキシカルボニル基、ジクロロメトキシカルボニル基、トリクロロメトキシカルボニル基、ブロモメトキシカルボニル基、ジブロモメトキシカルボニル基、ヨードメトキシカルボニル基、クロロジフルオロメトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基、2−フルオロエトキシカルボニル基、2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル基、パーフルオロエトキシカルボニル基、2−クロロエトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、2−ブロモエトキシカルボニル基、2−ヨードエトキシカルボニル基、
プロポキシカルボニル基、3−フルオロプロポキシカルボニル基、3,3,3−トリフルオロプロポキシカルボニル基、パーフルオロプロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、2,2,2,2’,2’,2’−ヘキサフルオロイソプロポキシカルボニル基、パーフルオロイソプロポキシカルボニル基、3−クロロプロポキシカルボニル基、3,3,3−トリクロロプロポキシカルボニル基、3−ブロモプロポキシカルボニル基、3−ヨードプロポキシカルボニル基、
ブトキシカルボニル基、4−フルオロブトキシカルボニル基、4,4,4−トリフルオロブトキシカルボニル基、パーフルオロブトキシカルボニル基、4−クロロブトキシカルボニル基、4,4,4−トリクロロブトキシカルボニル基、4−ブロモブトキシカルボニル基、4−ヨードブトキシカルボニル基及びt−ブトキシカルボニル基が挙げられる。
Examples of the “(C1-C4 alkoxy) carbonyl group optionally substituted with halogen” include a methoxycarbonyl group, a fluoromethoxycarbonyl group, a difluoromethoxycarbonyl group, a trifluoromethoxycarbonyl group, a chloromethoxycarbonyl group, and a dichloromethoxycarbonyl group. , Trichloromethoxycarbonyl group, bromomethoxycarbonyl group, dibromomethoxycarbonyl group, iodomethoxycarbonyl group, chlorodifluoromethoxycarbonyl group,
Ethoxycarbonyl group, 2-fluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, perfluoroethoxycarbonyl group, 2-chloroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, 2-bromo Ethoxycarbonyl group, 2-iodoethoxycarbonyl group,
Propoxycarbonyl group, 3-fluoropropoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropoxycarbonyl group, perfluoropropoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, 2,2,2,2 ′, 2 ′, 2′-hexa Fluoroisopropoxycarbonyl group, perfluoroisopropoxycarbonyl group, 3-chloropropoxycarbonyl group, 3,3,3-trichloropropoxycarbonyl group, 3-bromopropoxycarbonyl group, 3-iodopropoxycarbonyl group,
Butoxycarbonyl group, 4-fluorobutoxycarbonyl group, 4,4,4-trifluorobutoxycarbonyl group, perfluorobutoxycarbonyl group, 4-chlorobutoxycarbonyl group, 4,4,4-trichlorobutoxycarbonyl group, 4-bromo A butoxycarbonyl group, a 4-iodobutoxycarbonyl group, and a t-butoxycarbonyl group are mentioned.

「ハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルキル)カルボニルオキシ基」としては、例えばアセトキシ基、フルオロアセトキシ基、ジフルオロアセトキシ基、トリフルオロアセトキシ基、クロロアセトキシ基、ジクロロアセトキシ基、トリクロロアセトキシ基、ブロモアセトキシ基、ジブロモアセトキシ基、ヨードアセトキシ基、クロロジフルオロアセトキシ基、
プロパノイルオキシ基、3−フルオロプロパノイルオキシ基、3,3,3−トリフルオロプロパノイルオキシ基、パーフルオロプロパノイルオキシ基、3−クロロプロパノイルオキシ基、3,3,3−トリクロロプロパノイルオキシ基、3−ブロモプロパノイルオキシ基、3−ヨードプロパノイルオキシ基、
ブタノイルオキシ基、4−フルオロブタノイルオキシ基、4,4,4−トリフルオロブタノイルオキシ基、パーフルオロブタノイルオキシ基、イソブタノイルオキシ基、3,3,3,3’,3’,3’−ヘキサフルオロイソブタノイルオキシ基、パーフルオロイソブタノイルオキシ基、4−クロロブタノイルオキシ基、4,4,4−トリクロロブタノイルオキシ基、4−ブロモブタノイルオキシ基、4−ヨードブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、5−フルオロペンタノイルオキシ基、5,5,5−トリフルオロペンタノイルオキシ基、パーフルオロペンタノイルオキシ基、5−クロロペンタノイルオキシ基、5,5,5−トリクロロペンタノイルオキシ基、5−ブロモペンタノイルオキシ基、5−ヨードペンタノイルオキシ基及びピバロイルオキシ基が挙げられる。
Examples of the “(C1-C4 alkyl) carbonyloxy group optionally substituted with halogen” include, for example, an acetoxy group, a fluoroacetoxy group, a difluoroacetoxy group, a trifluoroacetoxy group, a chloroacetoxy group, a dichloroacetoxy group, and a trichloroacetoxy group Bromoacetoxy group, dibromoacetoxy group, iodoacetoxy group, chlorodifluoroacetoxy group,
Propanoyloxy group, 3-fluoropropanoyloxy group, 3,3,3-trifluoropropanoyloxy group, perfluoropropanoyloxy group, 3-chloropropanoyloxy group, 3,3,3-trichloropropanoyl An oxy group, a 3-bromopropanoyloxy group, a 3-iodopropanoyloxy group,
Butanoyloxy group, 4-fluorobutanoyloxy group, 4,4,4-trifluorobutanoyloxy group, perfluorobutanoyloxy group, isobutanoyloxy group, 3,3,3,3 ′, 3 ′ , 3′-hexafluoroisobutanoyloxy group, perfluoroisobutanoyloxy group, 4-chlorobutanoyloxy group, 4,4,4-trichlorobutanoyloxy group, 4-bromobutanoyloxy group, 4- Iodobutanoyloxy group, pentanoyloxy group, 5-fluoropentanoyloxy group, 5,5,5-trifluoropentanoyloxy group, perfluoropentanoyloxy group, 5-chloropentanoyloxy group, 5,5 , 5-trichloropentanoyloxy group, 5-bromopentanoyloxy group, 5-iodopentanoyloxy group and piva Yloxy group, and the like.

「C1〜C5アルキル基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基及びペンチル基が挙げられる。   Examples of the “C1-C5 alkyl group” include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, and a pentyl group.

「ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C10鎖式炭化水素基」としては、例えばメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、ヨードメチル基、クロロジフルオロメチル基、
エチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、パーフルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−ヨードエチル基、
プロピル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、パーフルオロプロピル基、イソプロピル基、2,2,2,2’, 2’, 2’−ヘキサフルオロイソプロピル基、パーフルオロイソプロピル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリクロロプロピル基、3−ブロモプロピル基、3−ヨードプロピル基、
ブチル基、4−フルオロブチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、パーフルオロブチル基、4−クロロブチル基、4,4,4−トリクロロブチル基、4−ブロモブチル基、4−ヨードブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、
ペンチル基、5−フルオロペンチル基、5,5,5−トリフルオロペンチル基、パーフルオロペンチル基、5−クロロペンチル基、5,5,5−トリクロロペンチル基、5−ブロモペンチル基及び5−ヨードペンチル基が挙げられる。
Examples of the “C1-C10 chain hydrocarbon group optionally substituted with halogen” include, for example, methyl group, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, Bromomethyl group, dibromomethyl group, iodomethyl group, chlorodifluoromethyl group,
Ethyl group, 2-fluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, perfluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-iodoethyl group,
Propyl group, 3-fluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, perfluoropropyl group, isopropyl group, 2,2,2,2 ′, 2 ′, 2′-hexafluoroisopropyl group, perfluoro Isopropyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trichloropropyl group, 3-bromopropyl group, 3-iodopropyl group,
Butyl group, 4-fluorobutyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, perfluorobutyl group, 4-chlorobutyl group, 4,4,4-trichlorobutyl group, 4-bromobutyl group, 4-iodobutyl group, s-butyl group, t-butyl group,
Pentyl group, 5-fluoropentyl group, 5,5,5-trifluoropentyl group, perfluoropentyl group, 5-chloropentyl group, 5,5,5-trichloropentyl group, 5-bromopentyl group and 5-iodo A pentyl group is mentioned.

本発明化合物の態様としては、例えば以下のアミド化合物が挙げられる。
式(1)において、R2が群Cより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC1〜C5鎖式炭化水素基、群Dより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC3〜C10シクロアルキル基、群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいフェニル基、ハロゲン又はシアノ基を表すか、
或いは、pが2以上あり、かつ2つのR2がベンゼン環の隣接する炭素に結合する場合には、該2つのR2が結合して、群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC2〜C5ポリメチレン基、群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいプロペン−1,3−ジイル基、群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよい1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基又はメチレンジオキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が群Cより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC1〜C5鎖式炭化水素基又はハロゲンであるアミド化合物;
式(1)において、R2がハロゲンで置換されていてもよいC1〜C5鎖式炭化水素基又はハロゲンであるアミド化合物;
式(1)において、R2がハロゲンで置換されていてもよいメチル基又はハロゲンであるアミド化合物;
式(1)において、R2がメチル基又はハロゲンであるアミド化合物;
式(1)において、R2がハロゲンであるアミド化合物;
式(1)において、R2がフッ素原であるアミド化合物;
式(1)において、R2が塩素であるアミド化合物;
式(1)において、pが1であり、R2がメチル基であるアミド化合物;
式(1)において、pが1であり、R2がフッ素であるアミド化合物;
式(1)において、pが1であり、R2が塩素であるアミド化合物;
及び、
式(1)において、pが2であり、2つのR2がそれぞれフッ素と塩素であるアミド化合物。
As an aspect of this invention compound, the following amide compounds are mentioned, for example.
In the formula (1), R 2 may be substituted with one or more groups selected from a C1-C5 chain hydrocarbon group which may be substituted with one or more groups selected from group C, or group D. Represents a C3-C10 cycloalkyl group, a phenyl group optionally substituted with one or more groups selected from group E, a halogen or a cyano group,
Alternatively, when p is 2 or more and two R 2 are bonded to adjacent carbons of the benzene ring, the two R 2 are bonded and substituted with one or more groups selected from group E. A C2-C5 polymethylene group which may be substituted, a propene-1,3-diyl group which may be substituted with one or more groups selected from group E, and one or more groups selected from group E. An amide compound which is a 1,3-butadiene-1,4-diyl group or a methylenedioxy group;
An amide compound in which R 2 is a C1-C5 chain hydrocarbon group or halogen which may be substituted with one or more groups selected from group C in formula (1);
An amide compound represented by formula (1), wherein R 2 is a C1-C5 chain hydrocarbon group which may be substituted with halogen or halogen;
An amide compound in which R 2 in formula (1) is a methyl group or halogen optionally substituted with halogen;
An amide compound in which R 2 is a methyl group or halogen in formula (1);
An amide compound in which R 2 is halogen in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a fluorine atom in formula (1);
An amide compound in which R 2 is chlorine in formula (1);
An amide compound in which p is 1 and R 2 is a methyl group in formula (1);
An amide compound in which p is 1 and R 2 is fluorine in formula (1);
An amide compound in which p is 1 and R 2 is chlorine in formula (1);
as well as,
An amide compound represented by the formula (1), wherein p is 2 and two R 2 are fluorine and chlorine, respectively.

(製造法1)
本発明化合物又はその塩は、化合物(3)又はその塩と化合物(2)とを、脱水縮合剤の存在下に反応させることにより製造することができる。

Figure 2011001354
〔式中、R2及びpは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン(以下、THFと記す場合がある。)、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル(以下、MTBEと記す場合がある。)等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと記す場合がある。)等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド(以下、DMSOと記す場合がある。)等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる脱水縮合剤としては、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(以下、WSCと記す。)、ベンゾトリアゾール−1−イルオキシ)トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート(以下、BOP試薬と記す。)及び1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド等が挙げられる。
該反応には化合物(2)1モルに対して、化合物(3)が通常1〜3モルの割合、脱水縮合剤が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常0〜200℃の範囲である。該反応の反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
該反応において、BOP試薬を使用する場合は、必要に応じて塩基の存在下で反応を行う。かかる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第3級アミン類及びピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等が挙げられる。
該反応には化合物(2)1モルに対して、塩基が通常1〜10モルの割合で用いられる。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた後、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Production method 1)
The compound of the present invention or a salt thereof can be produced by reacting the compound (3) or a salt thereof with the compound (2) in the presence of a dehydration condensing agent.
Figure 2011001354
[Wherein, R 2 and p represent the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran (hereinafter sometimes referred to as THF), ethylene glycol dimethyl ether, tert-butyl methyl ether (hereinafter sometimes referred to as MTBE), hexane, Aliphatic hydrocarbons such as heptane and octane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, N, Examples thereof include acid amides such as N-dimethylformamide (hereinafter sometimes referred to as DMF), sulfoxides such as dimethyl sulfoxide (hereinafter sometimes referred to as DMSO), and mixtures thereof.
Examples of the dehydrating condensing agent used in the reaction include 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (hereinafter referred to as WSC), benzotriazol-1-yloxy) tris (dimethylamino) phosphonium hexa Examples thereof include fluorophosphate (hereinafter referred to as BOP reagent) and 1,3-dicyclohexylcarbodiimide.
In the reaction, with respect to 1 mol of the compound (2), the compound (3) is usually used in a proportion of 1 to 3 mol, and the dehydrating condensing agent is usually used in a proportion of 1 to 5 mol.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 200 ° C. The reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
In the reaction, when a BOP reagent is used, the reaction is performed in the presence of a base as necessary. Examples of such bases include tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine, and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
In the reaction, the base is usually used at a ratio of 1 to 10 mol per 1 mol of the compound (2).
After completion of the reaction, the compound of the present invention can be isolated by performing post-treatment operations such as adding water to the reaction mixture, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. The isolated compound of the present invention can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

(製造法2)
本発明化合物は、化合物(3)又はその塩と化合物(4)又はその塩とを、塩基の存在下、反応させることにより製造することができる。

Figure 2011001354
〔式中、R2及びpは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、MTBE等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、DMF等の酸アミド類、DMSO等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第3級アミン類及びピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等が挙げられる。
該反応には化合物(4)1モルに対して、化合物(3)が通常1〜3モルの割合、塩基が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜140℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Production method 2)
The compound of the present invention can be produced by reacting compound (3) or a salt thereof with compound (4) or a salt thereof in the presence of a base.
Figure 2011001354
[Wherein, R 2 and p represent the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as THF, ethylene glycol dimethyl ether, and MTBE, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and chlorobenzene. Examples thereof include halogenated hydrocarbons, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as DMF, sulfoxides such as DMSO, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine, and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine. Can be mentioned.
In the reaction, with respect to 1 mol of the compound (4), the compound (3) is usually used in a proportion of 1 to 3 mol, and the base is usually used in a proportion of 1 to 10 mol.
The reaction temperature is usually in the range of -20 to 140 ° C. The reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound of the present invention can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent, and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound of the present invention can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

(製造法3)
本発明化合物は、例えば化合物(5)から下記のスキームに従って製造することができる。

Figure 2011001354
〔式中、R2及びpは前記と同じ意味を表す。〕 (Production method 3)
The compound of the present invention can be produced, for example, from compound (5) according to the following scheme.
Figure 2011001354
[Wherein, R 2 and p represent the same meaning as described above. ]

工程(I−1)
化合物(6)は、化合物(5)と化合物(3)又はその塩とを、脱水縮合剤の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、MTBE等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、DMF等の酸アミド類、DMSO等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる脱水縮合剤としては、WSC、BOP試薬及び1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド等が挙げられる。
該反応には化合物(5)1モルに対して、化合物(3)が通常1〜3モルの割合、脱水縮合剤が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常0〜200℃の範囲である。該反応の反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
該反応において、BOP試薬を使用する場合は、必要に応じて塩基の存在下で反応を行う。かかる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第3級アミン類及びピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等が挙げられる。
該反応には化合物(5)1モルに対して、塩基が通常1〜10モルの割合で用いられる。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた後、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(6)を単離することができる。単離された化合物(6)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
Step (I-1)
Compound (6) can be produced by reacting compound (5) with compound (3) or a salt thereof in the presence of a dehydration condensing agent.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as THF, ethylene glycol dimethyl ether, and MTBE, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and chlorobenzene. Examples thereof include halogenated hydrocarbons, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as DMF, sulfoxides such as DMSO, and mixtures thereof.
Examples of the dehydrating condensing agent used in the reaction include WSC, BOP reagent, and 1,3-dicyclohexylcarbodiimide.
In the reaction, with respect to 1 mol of the compound (5), the compound (3) is usually used in a proportion of 1 to 3 mol, and the dehydrating condensing agent is usually used in a proportion of 1 to 5 mol.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 200 ° C. The reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
In the reaction, when a BOP reagent is used, the reaction is performed in the presence of a base as necessary. Examples of such bases include tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine, and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
In the reaction, the base is usually used at a ratio of 1 to 10 mol per 1 mol of the compound (5).
After completion of the reaction, the compound (6) can be isolated by performing post-treatment operations such as adding water to the reaction mixture, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. The isolated compound (6) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

工程(I−2)
本発明化合物は、化合物(6)と酸とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、DMSO等のスルホキシド類、メタノール、エタノール、2−メチルエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。
該反応には化合物(6)1モルに対して、酸は通常1モル〜過剰量の割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常0〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
Step (I-2)
The compound of the present invention can be produced by reacting compound (6) with an acid.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and chlorobenzene, sulfoxides such as DMSO, methanol, ethanol, 2-methylethanol and the like. Alcohols, acetones, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, water, and mixtures thereof.
Examples of the acid used in the reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids such as trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, and methanesulfonic acid.
In the reaction, the acid is usually used in an amount of 1 mol to excess with respect to 1 mol of the compound (6).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 150 ° C. The reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound of the present invention can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent, and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound of the present invention can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

本発明化合物は、農学上許容される塩(agriculturally acceptable salt)を形成できる。かかる本発明化合物の塩は、通常本発明化合物と酸との塩である。酸との塩としては例えば、塩酸塩、臭化水素塩、硫酸塩等の無機酸塩、メタンスルホン酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩等の有機酸塩が挙げられる。   The compound of the present invention can form an agriculturally acceptable salt. Such a salt of the compound of the present invention is usually a salt of the compound of the present invention and an acid. Examples of the salt with an acid include inorganic acid salts such as hydrochloride, hydrobromide, and sulfate, and organic acid salts such as methanesulfonate, formate, acetate, and trifluoroacetate.

本発明化合物と酸との塩は、本発明化合物を酸と反応させることにより製造することができる。

Figure 2011001354
〔式中、R2及びpは前記と同じ意味を表し、HXは酸を表す。〕
該反応は、溶媒の存在下又は溶媒の非存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、MTBE等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸等の無機酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。
該反応には本発明化合物1モルに対して、酸が通常1〜100モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常0〜200℃の範囲である。該反応の反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、未反応の酸を除去して本発明化合物と酸との塩を単離することができる。 The salt of this invention compound and an acid can be manufactured by making this invention compound react with an acid.
Figure 2011001354
[Wherein R 2 and p represent the same meaning as described above, and HX represents an acid. ]
The reaction is performed in the presence of a solvent or in the absence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as THF, ethylene glycol dimethyl ether, and MTBE, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, water, and the like. Of the mixture.
Examples of the acid used in the reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, and sulfuric acid, and organic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid, formic acid, p-toluenesulfonic acid, and methanesulfonic acid. Can be mentioned.
In the reaction, an acid is usually used at a ratio of 1 to 100 mol with respect to 1 mol of the compound of the present invention.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 200 ° C. The reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the salt of the compound of the present invention and the acid can be isolated by removing the unreacted acid.

本発明の植物病害防除剤は、本発明化合物又はその塩と不活性担体(固体担体、液体担体又はガス担体)を含有する。本発明の植物病害防除剤は、さらに界面活性剤、その他の製剤用補助剤が混合され、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ドライフロアブル剤、乳剤、水性液剤、油剤、くん煙剤、エアゾール剤、マイクロカプセル剤等に製剤化されている。これらの製剤には本発明化合物又はその塩が重量比で通常0.1〜99%、好ましくは0.2〜90%含有される。   The plant disease control agent of the present invention contains the compound of the present invention or a salt thereof and an inert carrier (solid carrier, liquid carrier or gas carrier). The plant disease control agent of the present invention is further mixed with a surfactant and other formulation adjuvants, wettable powder, granular wettable powder, flowable powder, granules, dry flowable powder, emulsion, aqueous liquid, oil, Formulated into smoking agents, aerosols, microcapsules and the like. These preparations contain the compound of the present invention or a salt thereof in a weight ratio of usually 0.1 to 99%, preferably 0.2 to 90%.

固体担体としては、例えば、粘土類(例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、ろう石クレー、ベントナイト、酸性白土、タルク)、その他の無機鉱物(例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ)等の微粉末あるいは粒状物が挙げられる。液体担体としては、例えば、水、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン)、芳香族炭化水素類(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン)、脂肪族炭化水素類(例えば、ヘキサン、シクロヘキサノン、灯油)、エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル)、ニトリル類(例えば、アセトニトリル、イソブチロニトリル)、エーテル類(例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル)、酸アミド類(例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド)、ハロゲン化炭化水素類(例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素)等が挙げられる。ガス状担体としては、例えばジメチルエーテル及び二酸化炭素が挙げられる。   Examples of the solid support include clays (for example, kaolin, diatomaceous earth, synthetic hydrous silicon oxide, wax clay, bentonite, acid clay, talc), and other inorganic minerals (for example, sericite, quartz powder, sulfur powder, activated carbon). , Calcium carbonate, hydrated silica) and the like. Examples of the liquid carrier include water, alcohols (eg, methanol, ethanol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, methylnaphthalene), fat Group hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexanone, kerosene), esters (eg, ethyl acetate, butyl acetate), nitriles (eg, acetonitrile, isobutyronitrile), ethers (eg, dioxane, diisopropyl ether), Acid amides (for example, dimethylformamide, dimethylacetamide), halogenated hydrocarbons (for example, dichloroethane, trichloroethylene, carbon tetrachloride) and the like can be mentioned. Examples of the gaseous carrier include dimethyl ether and carbon dioxide.

界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等が挙げられる。   Examples of the surfactant include alkyl sulfates, alkyl sulfonates, alkyl aryl sulfonates, alkyl aryl ethers and polyoxyethylene compounds thereof, polyoxyethylene glycol ethers, polyhydric alcohol esters, sugar alcohol derivatives. Etc.

その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤、分散剤、増粘剤、濡れ剤、増量剤や酸化防止剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類(例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロース誘導体、アルギン酸)、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子(例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類)、PAP(酸性りん酸イソプロピル)、BHT(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、BHA(2−tert−ブチル−4−メトキシフェノールと3−tert−ブチル−4−メトキシフェノールとの混合物)、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。   Other formulation adjuvants include, for example, fixing agents, dispersants, thickeners, wetting agents, extenders and antioxidants, specifically casein, gelatin, polysaccharides (eg starch, arabic gum, cellulose derivatives, Alginic acid), lignin derivatives, bentonite, saccharides, synthetic water-soluble polymers (eg, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylic acids), PAP (isopropyl acid phosphate), BHT (2,6-di-tert-butyl-4) -Methylphenol), BHA (mixture of 2-tert-butyl-4-methoxyphenol and 3-tert-butyl-4-methoxyphenol), vegetable oil, mineral oil, fatty acid or ester thereof, and the like.

本発明化合物又はその塩は、植物又は植物が生育する土壌に施用することによる植物病害の防除用途に用いられる。本発明化合物又はその塩を植物又は植物が生育する土壌に施用する方法としては、例えば植物に茎葉散布する方法、植物を栽培している土壌に施用する方法、及び植物種子に施用する方法が挙げられる。
本発明の植物病害防除方法には、通常本発明の植物病害防除剤が用いられる。
本発明の植物病害防除剤を植物に茎葉散布する方法又は植物を栽培している土壌に施用する方法に用いられる場合において、本発明の植物病害防除剤の施用量は、施用場所1,000m2あたり、本発明化合物又はその塩の量で通常1〜500gの割合、好ましくは2〜200gの割合である。本発明の植物病害防除剤が乳剤、水和剤、懸濁剤等に製剤化されている場合は、その製剤は本発明化合物又はその塩の濃度が通常0.0005〜2重量%、好ましくは0.005〜1重量%となるように水で希釈して施用される。本発明の植物病害防除剤が粉剤、粒剤等に製剤化されている場合は、その製剤は希釈することなくそのまま施用される。
本発明の植物病害防除剤を植物種子に施用する方法に用いられる場合において、本発明の植物病害防除剤の施用量は、種子1Kgあたり、本発明化合物又はその塩の量で通常0.001〜100gの割合、好ましくは0.01〜50gの割合である。
The compound of the present invention or a salt thereof is used for controlling plant diseases by applying to plants or soil where plants grow. Examples of the method of applying the compound of the present invention or a salt thereof to the plant or the soil where the plant grows include, for example, a method of spraying foliage on the plant, a method of applying to the soil where the plant is cultivated, and a method of applying to the plant seed. It is done.
In the plant disease control method of the present invention, the plant disease control agent of the present invention is usually used.
In the case where the plant disease control agent of the present invention is used in a method of spraying foliage on a plant or a method of applying to a soil where plants are cultivated, the application amount of the plant disease control agent of the present invention is 1,000 m 2 at the application site. The ratio of the present compound or its salt is usually 1 to 500 g, preferably 2 to 200 g. When the plant disease control agent of the present invention is formulated into an emulsion, wettable powder, suspension, etc., the concentration of the compound of the present invention or a salt thereof is usually 0.0005 to 2% by weight, preferably It is diluted with water so as to be 0.005 to 1% by weight. When the plant disease control agent of the present invention is formulated into a powder, granule or the like, the formulation is applied as it is without dilution.
When used in the method of applying the plant disease control agent of the present invention to plant seeds, the application amount of the plant disease control agent of the present invention is usually 0.001 to 1 kg of the compound of the present invention or a salt thereof per 1 kg of seed. The ratio is 100 g, preferably 0.01 to 50 g.

本発明の植物病害防除剤は、他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料または土壌改良剤と混合及び/又は併用できる。
かかる殺菌剤の有効成分としては、例えば以下のものが挙げられる。
The plant disease control agent of the present invention can be mixed and / or used in combination with other fungicides, insecticides, acaricides, nematicides, herbicides, plant growth regulators, fertilizers or soil conditioners.
Examples of the active ingredient of such a bactericide include the following.

(1) アゾール殺菌活性化合物
プロピコナゾール(propiconazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、トリアジメノール(triadimenol)、プロクロラズ(prochloraz)、ペンコナゾール(penconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、ジニコナゾール(diniconazole)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、シプロコナゾール(cyproconazole)、メトコナゾール(metconazole)、トリフルミゾール(triflumizole)、テトラコナゾール(tetraconazole)、マイクロブタニル(microbutanil)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、トリティコナゾール(triticonazole)、ビテルタノール(bitertanol)、イマザリル(imazalil)、フルトリアホール(flutriafol)、シメコナゾール(simeconazole)、イプコナゾール(ipconazole)等;
(1) Azole bactericidal active compounds propiconazole, prothioconazole, triadimenol, prochloraz, penconazole, zebolazole, tebuconazole diconazole, bromuconazole, epoxiconazole, difenoconazole, cyproconazole, metconazole, metconazole, metconazole ), Tetraconazole, microbutanil, fenbuconazole, hexaconazole, fluquinconazole, triticonazole, triticonazole. (Imazalil), flutriafol, simeconazole, ipconazole, etc .;

(2) アミン殺菌活性化合物
フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、トリデモルフ(tridemorph)、フェンプロピジン(fenpropidin)、スピロキサミン(spiroxamine)等;
(2) Amine bactericidal active compounds fenpropimorph, tridemorph, fenpropidin, spiroxamine and the like;

(3) ベンズイミダゾール殺菌活性化合物
カルベンダジム(carbendazim)、ベノミル(benomyl)、チアベンダゾール(thiabendazole)、チオファネートメチル(thiophanate―Methyl)等;
(3) benzimidazole bactericidal active compounds carbendazim, benomyl, thiabendazole, thiophanate-methyl and the like;

(4) ジカルボキシイミド殺菌活性化合物
プロシミドン(procymidone)、イプロジオン(iprodione)、ビンクロゾリン(vinclozolin)等;
(4) Dicarboximide bactericidal active compound procymidone, iprodione, vinclozolin and the like;

(5) アニリノピリミジン殺菌活性化合物
シプロディニル(cyprodinil)、ピリメタニル(pyrimethanil)、メパニピリム(mepanipyrim)等;
(5) Anilinopyrimidine bactericidal active compounds cyprodinil, pyrimethanil, mepanipyrim and the like;

(6) フェニルピロール殺菌活性化合物
フェンピクロニル(fenpiclonil)、フルジオキソニル(fludioxonil)等;
(6) Phenylpyrrole bactericidal active compound fenpiclonil, fludioxonil and the like;

(7) ストロビルリン殺菌活性化合物
クレソキシムメチル(kresoxim−methyl)、アゾキシストロビン(azoxystrobin)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、フルオキサストロビン(fluoxastrobin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、ピリベンカルブ(pyribencarb)、メトミノストロビン(metominostrobin)、オリザストロビン(oryzastrobin)、エネストロビン(enestrobin)等;
(7) strobilurin bactericidal active compounds cresoxim-methyl, azoxystrobin, trifloxystrobin, floxastrobin, picoxystrobin (picoxystrobibin) pyraclostrobin, dimoxystrobin, pyribencarb, methinostrobin, oryzatrobin, enestrobin, etc .;

(8) フェニルアマイド殺菌活性化合物
メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシルMまたはメフェノキサム(metalaxyl−M or mefenoxam)、ベナラキシル(benalaxyl)、ベナラキシルMまたはキララキシル(benalaxyl−M or kiralaxyl)等;
(8) Phenylamide bactericidal active compounds metalaxyl, metalaxyl M or mefenoxam, benalaxyl, benalaxyl M or kiraxyl-ra

(9) カルボン酸アミド殺菌活性化合物
ジメトモルフ(dimethomorph)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、ベンチアバリカルブイソプロピル(benthiavalicarb−isopropyl)、マンジプロパミド(mandipropamid)、バリフェナル(valiphenal)
(9) Carboxylic acid amide bactericidal active compounds dimethomorph, iprovarialcarb, benchavaricarb-isopropyl, mandipropamide, varifenal

(10) カルボン酸アミド殺菌活性化合物
カルボキシン(carboxin)、メプロニル(mepronil)、フルトラニル(flutolanil)、チフルザミド(thifluzamide)、フラメトピル(furametpyr)、ボスカリド(boscalid)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、フルオピラン(fluopyram)、ビキサフェン(bixafen)、
(10) Carboxylic acid bactericidal active compounds carboxin, mepronil, flutolanil, tifluzamide, furamethpyr, boscalid, penthipyrofylpentylpyrpentyl Bixafen,

(11) その他の殺菌活性化合物
ジエトフェンカルブ;チウラム;フルアジナム;マンコゼブ;クロロタロニル;キャプタン;ジクロフルアニド;フォルペット;キノキシフェン;フェンヘキサミド;ファモキサドン;フェナミドン;ゾキサミド;エタボキサム;アミスルブロム;シアゾファミド;メトラフェノン;シフルフェナミド;プロキナジド;フルスルファミド;フルオピコリド;フォセチル;シモキサニル;ペンシクロン;トルクロホスメチル;カルプロパミド;ジクロシメット;フェノキサニル;トリシクラゾール;ピロキロン;プロベナゾール;イソチアニル;チアジニル;テブフロキン;ジクロメジン;カスガマイシン;フェリムゾン;フサライド;バリダマイシン;ヒドロキシイソキサゾール;イミノクタジン酢酸塩;イソプロチオラン;オキソリニック酸;オキシテトラサイクリン;ストレプトマイシン;塩基性塩化銅;水酸化第二銅;塩基性硫酸銅;有機銅;硫黄;
(11) Other bactericidal active compounds dietophane carb; thiuram; fluazinam; mancozeb; chlorothalonil; captan; diclofluuride; folpette; Flusulfamide; fluorpicolide; focetyl; simoxanil; penclone; tolcrofosmethyl; carpropamide; diclocimet; phenoxanil; tricyclazole; pyroxilone; probenazole; ;I Oxolinic acid; oxytetracycline; streptomycin; basic copper chloride; cupric hydroxide; basic copper sulfate; organic copper;

式(8)

Figure 2011001354
〔式中、X1は水素、またはハロゲンを表し、X2はメチル基、ジフルオロメチル基、又はトリフルオロメチル基を表し、Qは下記のいずれかの基
Figure 2011001354
を表す。〕
で示されるピラゾールカルボキサミド化合物; Formula (8)
Figure 2011001354
[Wherein, X 1 represents hydrogen or halogen, X 2 represents a methyl group, a difluoromethyl group, or a trifluoromethyl group, and Q represents any of the following groups:
Figure 2011001354
Represents. ]
A pyrazole carboxamide compound represented by:

式(9)

Figure 2011001354
〔式中、X3はメチル基、ジフルオロメチル基、またはエチル基を表し、X4はメトキシ基、またはメチルアミノ基を表し、X5はフェニル基、2−メチルフェニル基、または2,5−ジメチルフェニル基を表す。〕
で示されるα−アルコキシフェニル酢酸化合物; Formula (9)
Figure 2011001354
[Wherein, X 3 represents a methyl group, a difluoromethyl group or an ethyl group, X 4 represents a methoxy group or a methylamino group, X 5 represents a phenyl group, a 2-methylphenyl group, or 2,5- Represents a dimethylphenyl group. ]
An α-alkoxyphenylacetic acid compound represented by:

式(10)

Figure 2011001354
〔式中、X6はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、2−プロペニルオキシ基、2−プロピニルオキシ基、3−ブテニルオキシ基、3−ブチニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、または2−プロペニルチオ基を表し、X7は1−メチルエチル基、または1−メチルプロピル基を表し、X8は2−メチルフェニル基、または2,6−ジクロロフェニル基を表す。〕
で示されるピラゾリノン化合物。 Formula (10)
Figure 2011001354
[Wherein, X 6 is a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a 2-propenyloxy group, a 2-propynyloxy group, a 3-butenyloxy group, a 3-butynyloxy group, a methylthio group, an ethylthio group, or a 2-propenylthio group. X 7 represents a 1-methylethyl group or a 1-methylpropyl group, and X 8 represents a 2-methylphenyl group or a 2,6-dichlorophenyl group. ]
A pyrazolinone compound represented by:

かかる殺虫剤の有効成分としては、例えば以下のものが挙げられる。
(1) 有機リン殺虫活性化合物
アセフェート(acephate)、りん化アルミニウム(Aluminium phosphide)、ブタチオホス(butathiofos)、キャドサホス(cadusafos)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos-methyl)、シアノホス(cyanophos:CYAP)、ダイアジノン(diazinon)、DCIP(dichlorodiisopropyl ether)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion:ECP)、ジクロルボス(dichlorvos:DDVP)、ジメトエート(dimethoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジスルホトン(disulfoton)、EPN、エチオン(ethion)、エトプロホス(ethoprophos)、エトリムホス(etrimfos)、フェンチオン(fenthion:MPP)、フエニトロチオン(fenitrothion:MEP)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホルモチオン(formothion)、りん化水素(Hydrogen phosphide)、イソフェンホス(isofenphos)、イソキサチオン(isoxathion)、マラチオン(malathion)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、メチダチオン(methidathion:DMTP)、モノクロトホス(monocrotophos)、ナレッド(naled:BRP)、オキシデプロホス(oxydeprofos:ESP)、パラチオン(parathion)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet:PMP)、ピリミホスメチル(pirimiphos-methyl)、ピリダフェンチオン(pyridafenthion)、キナルホス(quinalphos)、フェントエート(phenthoate:PAP)、プロフェノホス(profenofos)、プロパホス(propaphos)、プロチオホス(prothiofos)、ピラクロホス(pyraclorfos)、サリチオン(salithion)、スルプロホス(sulprofos)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テメホス(temephos)、テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos)、テルブホス(terbufos)、チオメトン(thiometon)、トリクロルホン(trichlorphon:DEP)、バミドチオン(vamidothion)、フォレート(phorate)、カズサホス(cadusafos)等;
Examples of the active ingredient of such an insecticide include the following.
(1) Organophosphorus insecticidal active compounds: acephate, aluminum phosphide, butathiofos, cadusafos, chlorethoxyphos, chlorfenvinphos, chlorfenvinphos , Chlorpyrifos-methyl, Cyanophos (CYAP), Diazinon, DCIP (Dichlorodipropionether), Dichlorfenthion (ECP), Dichlorvos (DchloV) Dimethoate, dimethylvinphos, disulfoton, EPN, etion, ethoprofos, etrimfos, fentione: MPP, fenitrothion, EP fothiazate, formothion (formulation), hydrogen phosphide (isofenphos), isoxathion (isoxathion), malathion (mesulfenfos), DM thiothion , Monocrotophos, nared (BRP), oxydeprofos (ESP), parathion, fosarone, phosmet (PMP), pirimiphosentyl (pyrimimiphosentythiophene) ), Quinalphos, phentoate (PAP), profenofos, propopafos, prothiofos, pyrachlorfos, salithion, sulfilos ebupirimfos), temephos (temephos), tetrachlorvinphos bottle phosphite (tetrachlorvinphos), terbufos (terbufos), thiometon (thiometon), trichlorfon (trichlorphon: DEP), vamidothion (vamidothion), folate (phorate), cadusafos (cadusafos), and the like;

(2) カーバメート殺虫活性化合物
アラニカルブ(alanycarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、BPMC、カルバリル(carbaryl)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、クロエトカルブ(cloethocarb)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb:MIPC)、メトルカルブ(metolcarb)、 メソミル(methomyl)、メチオカルブ(methiocarb)、NAC、オキサミル(oxamyl)、ピリミカーブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur:PHC)、XMC、チオジカルブ(thiodicarb)、 キシリルカルブ(xylylcarb)、アルジカルブ(aldicarb)等;
(2) Carbamate insecticidal active compounds alaniccarb, bendiocarb, benfuracarb, BPMC, carbaryl, carbofuran, carbosulfane, carbosulfane, carbosulfane Ethiofencarb, fenobucarb, phenothiocarb, phenoxycarb, furathiocarb, isoprocarb (MIPC), metholcarb, MIPC, etolcarb (Methiocarb), NAC, oxamyl (oxamyl), pirimicarb (pirimicarb), propoxur (propoxur: PHC), XMC, thiodicarb (thiodicarb), xylylcarb (xylylcarb), aldicarb (aldicarb) or the like;

(3) 合成ピレスロイド殺虫活性化合物
アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)、ベンフルスリン(benfluthrin)、ベータ−シフルトリン(beta-cyfluthrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(ethofenprox) 、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルフェンプロックス(flufenoprox)、フルメスリン(flumethrin)、フルバリネート(fluvalinate)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、イミプロトリン(imiprothrin)、ペルメトリン(permethrin)、プラレトリン(prallethrin)、ピレトリン(pyrethrins)、レスメトリン(resmethrin)、シグマ−サイパーメスリン(sigma-cypermethrin)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、フェノトリン(phenothrin)、シフェノトリン(cyphenothrin)、アルファシペルメトリン(alpha-cypermethrin)、ゼータシペルメトリン(zeta-cypermethrin)、ラムダシハロトリン(lambda-cyhalothrin)、フラメトリン(furamethrin)、タウフルバリネート(tau-fluvalinate)、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル (EZ)−(1RS,3RS;1RS,3SR)−2,2−ジメチル−3−プロプ−1−エニルシクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メチルベンジル (EZ)−(1RS,3RS;1RS,3SR)−2,2−ジメチル−3−プロプ−1−エニルシクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル (1RS,3RS;1RS,3SR)−2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート等;
(3) Synthetic Pyrethroid Insecticidal Compounds Acrinathrin, Allethrin, Benfluthrin, Beta-Cyfluthrin, Bifenthrin, Cycloprothrin, Cycloprothrin (Cyhalothrin), cypermethrin, deltamethrin, esfenvalerate, etofenprox, fenpropathrin, fenvalerate, fenvalerate Flunate, flufenprox, flumethrin, fluvalinate, halfenprox, imiprothrin, perthrin, threthrin, pelmethrin Resmethrin, sigma-cypermethrin, silafluofen, tefluthrin, tralomethrin, transfluthrin, transfluthrin, transfluthrin eteramethrin), phenothrin, cyphenothrin, alpha-cypermethrin, zeta-cypermethrin, lambda cithalthrin (lambda-thylmethrin) (Tau-flavinate), 2,3,5,6-tetrafluoro-4- (methoxymethyl) benzyl (EZ)-(1RS, 3RS; 1RS, 3SR) -2,2-dimethyl-3-prop-1- Enylcyclopropanecarboxylate, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-methylbenzyl (EZ)-(1RS, 3RS; 1RS, 3SR) -2,2- Methyl-3-prop-1-enylcyclopropanecarboxylate, 2,3,5,6-tetrafluoro-4- (methoxymethyl) benzyl (1RS, 3RS; 1RS, 3SR) -2,2-dimethyl-3- (2-methyl-1-propenyl) cyclopropanecarboxylate and the like;

(4) ネライストキシン殺虫活性化合物
カルタップ(cartap)、ベンスルタップ(bensultap)、チオシクラム(thiocyclam)、モノスルタップ(monosultap)、ビスルタップ(bisultap)等;
(4) Nereistoxin insecticidal active compound cartap, bensultap, thiocyclam, monosultap, bisultap, etc .;

(5) ネオニコチノイド殺虫活性化合物
イミダクロプリド(imidacloprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チアクロプリド(thiacloprid)、ジノテフラン(dinotefuran)、クロチアニジン(clothianidin)等;
(5) Neonicotinoid insecticidal active compound imidacloprid, nitenpyram, acetamiprid, thiamethoxam, thiacloani, dinotefur, intefurandin

(6) ベンゾイル尿素殺虫活性化合物
クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、ビストリフルロン(bistrifluron)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、フルアズロン(fluazuron)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、トリフルムロン(triflumuron)、トリアズロン等;
(6) Benzoylurea insecticidal active compound chlorfluazuron, bistrifluron, diafenthiuron, diflubenzuron, fluazuron, flucyclolon, flucyclofluron Phenoxuron, hexaflumuron, lufenuron, novaluron, noviflumuron, teflubenzuron, triflumuron, etc.

(7) フェニルピラゾール殺虫活性化合物
アセトプロール(acetoprole)、エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fipronil)、バニリプロール(vaniliprole)、ピリプロール(pyriprole)、ピラフルプロール(pyrafluprole)等;
(7) Phenylpyrazole insecticidal active compounds acetoprole, etiprole, fipronil, vaniliprole, pyriprole, pyrafluprole, etc .;

(8) Btトキシン
バチルス・チューリンゲンシス菌由来の生芽胞および産生結晶毒素、並びにそれらの混合物;
(8) Bt toxin Live spores and produced crystal toxins derived from Bacillus thuringiensis, and mixtures thereof;

(9) ヒドラジン殺虫活性化合物
クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、テブフェノジド(tebufenozide)等;
(9) Hydrazine insecticidal active compounds Chromafenozide, halofenozide, methoxyphenozide, tebufenozide and the like;

(10) 有機塩素系化合物
アルドリン(aldrin)、ディルドリン(dieldrin)、ジエノクロル(dienochlor)、エンドスルファン(endosulfan)、メトキシクロル(methoxychlor)等;
(10) Organochlorine compounds Aldrin, dieldrin, dienochlor, endosulfan, methoxychlor and the like;

(11) その他の殺虫有効成分
マシン油(machine oil)、硫酸ニコチン(nicotine-sulfate);
アベルメクチン(avermectin-B)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、ブプロフェジン(buprofezin)、クロルフェナピル(chlorphenapyr)、シロマジン(cyromazine)、D−D(1,3-Dichloropropene)、エマメクチンベンゾエート(emamectin-benzoate)、フェナザキン(fenazaquin)、フルピラゾホス(flupyrazofos)、ハイドロプレン(hydroprene)、メトプレン(methoprene)、インドキサカルブ(indoxacarb)、メトキサジアゾン(metoxadiazone)、ミルベマイシンA(milbemycin-A)、ピメトロジン(pymetrozine)、ピリダリル(pyridalyl)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、スピノサッド(spinosad)、スルフラミド(sulfluramid)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、トリアゼメイト(triazamate)、フルベンジアミド(flubendiamide)、レピメクチン(lepimectin)、亜ひ酸(Arsenic acid)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、石灰窒素(Calcium cyanamide)、石灰硫黄合剤(Calcium polysulfide)、クロルデン(chlordane)、DDT、DSP、フルフェネリウム(flufenerim)、フロニカミド(flonicamid)、フルリムフェン(flurimfen)、ホルメタネート(formetanate)、メタム・アンモニウム(metam-ammonium)、メタム・ナトリウム(metam-sodium)、臭化メチル(Methyl bromide)、ニディノテフラン(nidinotefuran)、オレイン酸カリウム(Potassium oleate)、プロトリフェンビュート(protrifenbute)、スピロメシフェン(spiromesifen)、硫黄(Sulfur)、メタフルミゾン(metaflumizone)、スピロテトラマット(spirotetramat)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazone)、スピネトラム(spinetoram)、クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、
(11) Other insecticidal active ingredients machine oil, nicotine sulfate (nicotine-sulfate);
Avermectin (avermectin-B), bromopropyrate, buprofezin, chlorphenapyr, cyromazine, D-D (1,3-Dichloropropene), D-D (1,3-Dichloropropene) fenazaquin, flupyrazofos, hydroprene, methoprene, indoxacarb, methoxadiazone, milbemyropymetropine, milbemycine Pyridalyl, pyriproxyfen, spinosad, sulfuramide, tolfenpyrad, triazemate, flubendiametic, flubendiamide , Benclothiaz, Calcium cyanamide, Calcium polysulfide, Chlordane, DDT, DSP, flufenerim, flurifammid , Formatenate, metham-ammonium, metham-sodium, methyl bromide, ninototefuran, potassium oleate, protastoleate profibutene, spiromesifen, sulfur, metaflumizone, spirotetramat, pyrifluinole, spinet tram, spinet tram

式(11)

Figure 2011001354
[式中、
10は、Me、Cl、BrまたはF、
20は、F、Cl、Br、C1−C4ハロアルキル、またはC1−C4ハロアルコキシ、
30は、F、ClまたはBr、
40は、H、1以上のハロゲン;CN;SMe;S(O)Me;S(0)2MeおよびOMeで置換されていてもよいC1−C4アルキル、C3−C4アルケニル、C3−C4アルキニル、または、C3−C5シクロアルキルアルキル、
50は、HまたはMe、
60は、H、FまたはCl、
70は、H、FまたはClを表す。]で示される化合物、 Formula (11)
Figure 2011001354
[Where:
R 10 is Me, Cl, Br or F,
R 20 is F, Cl, Br, C1-C4 haloalkyl, or C1-C4 haloalkoxy,
R 30 is F, Cl or Br,
R 40 is H, one or more halogen; CN; SMe; S (O) Me; C1-C4 alkyl, C3-C4 alkenyl, C3-C4 alkynyl optionally substituted with S (0) 2 Me and OMe Or C3-C5 cycloalkylalkyl,
R 50 is H or Me,
R 60 is H, F or Cl,
R 70 represents H, F or Cl. A compound represented by

式(12)

Figure 2011001354
[式中、Xは、Cl、BrまたはIを表す。]
で示される化合物。 Formula (12)
Figure 2011001354
[Wherein X represents Cl, Br, or I. ]
A compound represented by

かかる殺ダニ剤の有効成分としては、例えばアセキノシル(acequinocyl)、アミトラズ(amitraz)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ビフェナゼート(bifenaate)、フェニソブロモレート(bromopropylate)、キノメチオネート(chinomethionat)、クロルベンジレート(chlorobenzilate)、CPCBS(chlorfenson)、クロフェンテジン(clofentezine)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、ケルセン(ジコホル:dicofol)、エトキサゾール(etoxazole)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、フルプロキシフェン(fluproxyfen)、ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、プロパルギット(propargite:BPPS)、ポリナクチン複合体(polynactins)、ピリダベン(pyridaben)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、テトラジホン(tetradifon)、スピロディクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スピロテトラマット(spirotetramat)、アミドフルメット(amidoflumet)、シエノピラフェン(cyenopyrafen)等が挙げられる。   Examples of the active ingredient of such an acaricide include, for example, acequinocyl, amitraz, benzoximate, bifenate, phenisobromolate, quinomethionate, chinomethionate, chlorobenzilate, CPCBS (chlorfenson), clofentezine, cyflumetofen, quercene, dioxol, etoxazole, fenbutatin phenothiophene Fenpyroximate, fluacrylpyrim, fluproxyfen, penthiridinepirpene, fenpyridine , Tetradiphon, spirodiclofen, spiromesifen, spirotetramat, amidoflumet, cienopyrafene ), And the like.

かかる殺線虫剤の有効成分としては、例えば、DCIP、フォスチアゼート(fosthiazate)、塩酸レバミゾール(levamisol)、メチルイソチオシアネート(methyisothiocyanate)、酒石酸モランテル(morantel tartarate)、イミシアホス(imicyafos)等が挙げられる。   Examples of the active ingredient of such a nematicide include DCIP, fostiazate, levamisole hydrochloride, methylisothiocyanate, morantartrate tartrate, and imiciafos.

かかる植物生長調節剤の有効成分としては、例えば、エテホン(ethephon)、クロルメコート(chlormequat−chloride)、メピコート(mepiquat−chloride)、等が挙げられる。   Examples of the active ingredient of such a plant growth regulator include ethephon, chlormequat-chloride, mepiquat-chloride, and the like.

本発明の植物病害防除剤は、例えば畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地で使用することができる。本発明の植物病害防除剤を使用できる「作物」としては、例えば以下のものが挙げられる。   The plant disease control agent of the present invention can be used, for example, in agricultural lands such as fields, paddy fields, lawns, orchards. Examples of the “crop” in which the plant disease control agent of the present invention can be used include the following.

農作物;トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、野菜;ナス科野菜(ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等)、ウリ科野菜(キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等)、アブラナ科野菜(ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等)、キク科野菜(ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等)、ユリ科野菜(ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス)、セリ科野菜(ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等)、アカザ科野菜(ホウレンソウ、フダンソウ等)、シソ科野菜(シソ、ミント、バジル等)、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ、ヤトロファ等、
花卉、
観葉植物、
果樹;仁果類(リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等)、核果類(モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等)、カンキツ類(ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等)、堅果類(クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等)、液果類(ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等)、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹;チャ、クワ、花木、街路樹(トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ)等。
Agricultural crops: corn, rice, wheat, barley, rye, oats, sorghum, cotton, soybeans, peanuts, buckwheat, sugar beet, rapeseed, sunflower, sugarcane, tobacco, vegetables, solanaceous vegetables (eggplant, tomato, pepper, pepper, potato Cucumber, pumpkin, zucchini, watermelon, melon, etc., cruciferous vegetables (radish, turnip, horseradish, kohlrabi, cabbage, cabbage, mustard, broccoli, cauliflower, etc.), asteraceae (burdock, Shungiku, artichokes, lettuce, etc.), liliaceae vegetables (leek, onion, garlic, asparagus), celeryaceae vegetables (carrot, parsley, celery, red pepper, etc.), red crustacean vegetables (spinach, chard, etc.) (Perilla, mint, basil ), Strawberry, sweet potato, yam, taro, Jatropha, etc.,
Bridegroom,
Foliage plant,
Fruit trees; pears (apples, pears, Japanese pears, quince, quince, etc.), nuclear fruits (peaches, plums, nectarines, ume, sweet cherry, apricots, prunes, etc.), citrus (satsuma mandarin, orange, lemon, lime, grapefruit) ), Nuts (chestnut, walnut, hazel, almond, pistachio, cashew nut, macadamia nut, etc.), berries (blueberry, cranberry, blackberry, raspberry, etc.), grape, oyster, olive, loquat, banana, coffee, Date palm, coconut palm, etc.
Trees other than fruit trees: Cha, mulberry, flowering trees, street trees (ash, birch, dogwood, eucalyptus, ginkgo, lilac, maple, oak, poplar, redwood, fu, sycamore, zelkova, black bean, peach tree, Tsuga, rat, pine, Spruce, yew) etc.

上記「作物」には、除草剤に対する耐性、害虫抵抗性、病害耐性等の形質が、古典的な育種法、もしくは遺伝子組換え技術により付与された作物も含まれる。   The “crop” includes crops to which traits such as resistance to herbicides, pest resistance, and disease resistance have been imparted by classical breeding methods or genetic recombination techniques.

本発明化合物又はその塩が効力を有する植物病害としては、例えば糸状菌による植物病害が挙げられ、具体的には以下の植物病害が挙げられる。   Examples of plant diseases in which the compound of the present invention or a salt thereof is effective include plant diseases caused by filamentous fungi, and specific examples include the following plant diseases.

イネのいもち病(Magnaporthe grisea)、ごま葉枯病(Cochliobolus miyabeanus)、紋枯病(Rhizoctonia solani)、馬鹿苗病(Gibberella fujikuroi);
コムギの病害:うどんこ病(Erysiphe graminis)、赤かび病(Fusarium graminearum、F. avenacerum、F. culmorum、Microdochium nivale)、さび病(Puccinia striiformis、P. graminis、P. recondita)、紅色雪腐病(Micronectriella nivale)、雪腐小粒菌核病(Typhula sp.)、裸黒穂病(Ustilago tritici)、なまぐさ黒穂病(Tilletia caries)、眼紋病(Pseudocercosporella herpotrichoides)、葉枯病(Mycosphaerella graminicola)、ふ枯病(Stagonospora nodorum)、黄斑病(Pyrenophora tritici-repentis);
オオムギの病害:うどんこ病(Erysiphe graminis)、赤かび病(Fusarium graminearum、F. avenacerum、F. culmorum、Microdochium nivale)、さび病(Puccinia striiformis、P.graminis、P.hordei)、裸黒穂病(Ustilago nuda)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、網斑病(Pyrenophora teres)、斑点病(Cochliobolus sativus)、斑葉病(Pyrenophora graminea)、リゾクトニア属菌による苗立枯れ病(Rhizoctonia solani);
カンキツ類の黒点病(Diaporthe citri)、そうか病(Elsinoe fawcetti)、果実腐敗病(Penicillium digitatum, P. italicum)、フィトフトラ病(Phytophthora parasitica, Phytophthora citrophthora);
リンゴのモニリア病(Monilinia mali)、腐らん病(Valsa ceratosperma)、うどんこ病(Podosphaera leucotricha)、斑点落葉病(Alternaria alternata apple pathotype)、黒星病(Venturia inaequalis)、炭そ病(Glomerella cingulata)、疫病(Phytophtora cactorum);
ナシの黒星病(Venturia nashicola, V. pirina)、黒斑病(Alternaria alternata Japanese pear pathotype)、赤星病(Gymnosporangium haraeanum);
モモの灰星病(Monilinia fructicola)、黒星病(Cladosporium carpophilum)、フォモプシス腐敗病(Phomopsis sp.);
Rice blast (Magnaporthe grisea), sesame leaf blight (Cochliobolus miyabeanus), blight (Rhizoctonia solani), idiot seedling (Gibberella fujikuroi);
Wheat diseases: powdery mildew (Erysiphe graminis), red mold (Fusarium graminearum, F. avenacerum, F. culmorum, Microdochium nivale), rust (Puccinia striiformis, P. graminis, P. recondita), red snow rot (Micronectriella nivale), Snowy rot granule nuclei (Typhula sp.), Bare scab (Ustilago tritici), Tuna scab (Tilletia caries), Eye rot (Pseudocercosporella herpotrichoides), Leaf blight (Mycosphaerella graminicola), Fu Blight (Stagonospora nodorum), macular disease (Pyrenophora tritici-repentis);
Barley diseases: powdery mildew (Erysiphe graminis), mildew (Fusarium graminearum, F. avenacerum, F. culmorum, Microdochium nivale), rust (Puccinia striiformis, P. graminis, P. hordei), naked scab ( Ustilago nuda), cloud disease (Rhynchosporium secalis), reticulum disease (Pyrenophora teres), spot disease (Cochliobolus sativus), leafy leaf disease (Pyrenophora graminea), Rhizoctonia solani (Rhizoctonia solani);
Citrus spot disease (Diaporthe citri), common scab (Elsinoe fawcetti), fruit rot (Penicillium digitatum, P. italicum), phytophthora disease (Phytophthora parasitica, Phytophthora citrophthora);
Monilinia mali, rot (Valsa ceratosperma), powdery mildew (Podosphaera leucotricha), spotted leaf (Alternaria alternata apple pathotype), black rot (Venturia inaequalis), anthracnose (Glomerella cingulata), plague (Phytophtora cactorum);
Pear black spot disease (Venturia nashicola, V. pirina), black spot disease (Alternaria alternata Japanese pear pathotype), red star disease (Gymnosporangium haraeanum);
Peach ash scab (Monilinia fructicola), black scab (Cladosporium carpophilum), Phomopsis sp. (Phomopsis sp.);

ブドウの黒とう病(Elsinoe ampelina)、晩腐病(Glomerella cingulata)、うどんこ病(Uncinula necator)、さび病(Phakopsora ampelopsidis)、ブラックロット病(Guignardia bidwellii)、べと病(Plasmopara viticola);
カキの炭そ病(Gloeosporium kaki)、落葉病(Cercospora kaki, Mycosphaerella nawae);
ウリ類の炭そ病(Colletotrichum lagenarium)、うどんこ病(Sphaerotheca fuliginea)、つる枯病(Mycosphaerella melonis)、つる割病(Fusarium oxysporum)、べと病(Pseudoperonospora cubensis)、疫病(Phytophthora sp.)、苗立枯病(Pythium sp.);
トマトの輪紋病(Alternaria solani)、葉かび病(Cladosporium fulvum)、疫病(Phytophthora infestans);
ナスの褐紋病(Phomopsis vexans)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum);
アブラナ科野菜の黒斑病(Alternaria japonica)、白斑病(Cercosporella brassicae);
ネギのさび病(Puccinia allii)、ダイズの紫斑病(Cercospora kikuchii)、黒とう病(Elsinoe glycines)、黒点病(Diaporthe phaseolorum var. sojae)、さび病( Phakopsora pachyrhizi)、茎疫病(Phytophthora sojae);
インゲンの炭そ病(Colletotrichum lindemthianum)
ラッカセイの黒渋病(Cercospora personata)、褐斑病(Cercospora arachidicola)、白絹病(Sclerotium rolfsii);
エンドウのうどんこ病(Erysiphe pisi);
ジャガイモの夏疫病(Alternaria solani)、疫病(Phytophthora infestans)、緋色腐敗病(Phytophthora erythroseptica)、半身萎凋病(Verticillium albo-atrum, V. dahliae, V. nigrescens);
イチゴのうどんこ病(Sphaerotheca humuli);
チャの網もち病(Exobasidium reticulatum);白星病(Elsinoe leucospila)、輪斑病(Pestalotiopsis sp.)、炭そ病(Colletotrichum theae-sinensis)
タバコの赤星病(Alternaria longipes)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、炭そ病(Colletotrichum tabacum)、べと病(Peronospora tabacina)、疫病(Phytophthora nicotianae);
Grapes black rot (Elsinoe ampelina), late rot (Glomerella cingulata), powdery mildew (Uncinula necator), rust (Phakopsora ampelopsidis), black lot disease (Guignardia bidwellii), downy mildew (Plasmopara viticola);
Oyster anthracnose (Gloeosporium kaki), deciduous leaf disease (Cercospora kaki, Mycosphaerella nawae);
Colletotrichum lagenarium, powdery mildew (Sphaerotheca fuliginea), vine blight (Mycosphaerella melonis), vine split (Fusarium oxysporum), downy mildew (Pseudoperonospora cubensis), plague (Phytophthora sp.) Seedling blight (Pythium sp.);
Tomato ring disease (Alternaria solani), leaf mold (Cladosporium fulvum), plague (Phytophthora infestans);
Eggplant brown spot (Phomopsis vexans), powdery mildew (Erysiphe cichoracearum);
Brassicaceae vegetable black spot (Alternaria japonica), white spot (Cercosporella brassicae);
Leek rust (Puccinia allii), soybean purpura (Cercospora kikuchii), black scab (Elsinoe glycines), sunspot (Diaporthe phaseolorum var. Sojae), rust (Phakopsora pachyrhizi), stem rot (Phytophthora sojae)
Green Bean Anthracnose (Colletotrichum lindemthianum)
Groundnut black rot (Cercospora personata), brown spot (Cercospora arachidicola), silkworm (Sclerotium rolfsii);
Pea powdery mildew (Erysiphe pisi);
Potato summer plague (Alternaria solani), plague (Phytophthora infestans), scarlet rot (Phytophthora erythroseptica), half body wilt (Verticillium albo-atrum, V. dahliae, V. nigrescens);
Strawberry powdery mildew (Sphaerotheca humuli);
Tea net blast (Exobasidium reticulatum); white spot (Elsinoe leucospila), ring spot (Pestalotiopsis sp.), Anthracnose (Colletotrichum theae-sinensis)
Tobacco red blight (Alternaria longipes), powdery mildew (Erysiphe cichoracearum), anthracnose (Colletotrichum tabacum), downy mildew (Peronospora tabacina), plague (Phytophthora nicotianae);

テンサイの褐斑病(Cercospora beticola)、葉腐病(Thanatephorus cucumeris)、根腐病(Thanatephorus cucumeris)、黒根病(Aphanomyces cochlioides);
バラの黒星病(Diplocarpon rosae)、うどんこ病(Sphaerotheca pannosa);
キクの褐斑病(Septoria chrysanthemi−indici)、白さび病(Puccinia horiana);
ヒマワリのべと病(Plasmopara halstedii);
タマネギの白斑葉枯病(Botrytis cinerea, B. byssoidea, B. squamosa)、灰色腐敗病(Botrytis alli)、小菌核性腐敗病(Botrytis squamosa);
種々の作物の灰色かび病(Botrytis cinerea)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、ピシウム属菌による苗立枯病(Pythium aphanidermatum、P. debarianum, P. graminicola, P. irregulare, P. ultimum);ダイコンの黒すす病(Alternaria brassicicola);
シバのダラースポット病(Sclerotinia homeocarpa)、シバのブラウンパッチ病およびラージパッチ病(Rhizoctonia solani);
バナナのシガトカ病(Mycosphaerella fijiensis、Mycosphaerella musicola、Pseudocercospora musae);並びに
ポリミクサ属(Polymixa spp.)またはオルピディウム属(Olpidium spp.)等によって媒介される各種植物のウイルス病。
Sugar beet brown spot (Cercospora beticola), leaf rot (Thanatephorus cucumeris), root rot (Thanatephorus cucumeris), black root (Aphanomyces cochlioides);
Rose scab (Diplocarpon rosae), powdery mildew (Sphaerotheca pannosa);
Chrysanthemum brown spot (Septoria chrysanthemi-indici), white rust (Puccinia horiana);
Sunflower downy mildew (Plasmopara halstedii);
Onion white spot blight (Botrytis cinerea, B. byssoidea, B. squamosa), gray rot (Botrytis alli), sclerotia rot (Botrytis squamosa);
Various crops of gray mold (Botrytis cinerea), sclerotia (Sclerotinia sclerotiorum), seedling blight (Pythium aphanidermatum, P. debarianum, P. graminicola, P. irregulare, P. ultimum); Black soot disease (Alternaria brassicicola);
Shirah's dollar spot disease (Sclerotinia homeocarpa), Shiva brown patch disease and large patch disease (Rhizoctonia solani);
Viral diseases of various plants mediated by banana sigatoka disease (Mycosphaerella fijiensis, Mycosphaerella musicola, Pseudocercospora musae); and Polymixa spp. Or Olpidium spp.

以下、本発明を製造例、参考製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるものではない。   Hereinafter, although this invention is demonstrated in more detail by a manufacture example, a reference manufacture example, a formulation example, a test example, etc., this invention is not limited only to these examples.

まず、本発明化合物の製造例を示す。   First, the manufacture example of this invention compound is shown.

製造例1

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.21g、DMF2ml、トリエチルアミン0.42g及び2−クロロ−4−フルオロベンジルアミン0.32gの混合物にBOP試薬0.53gを加え、室温で終夜撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して2−アミノ−N−(2−クロロ−4−フルオロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(1)と記す。)0.31gを得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ[ppm]:4.40(2H, d, J=5.6Hz), 7.22-7.27(1H, m), 7.34-7.38(1H, m), 7.44-7.47(1H, m), 7.78(2H, brs), 8.90(1H, t, J=5.6Hz) Production Example 1
Figure 2011001354
To a mixture of 0.21 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 ml of DMF, 0.42 g of triethylamine and 0.32 g of 2-chloro-4-fluorobenzylamine, 0.53 g of BOP reagent was added at room temperature. And stirred overnight. A saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (2-chloro-4-fluorobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (1). ) 0.31 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ [ppm]: 4.40 (2H, d, J = 5.6Hz), 7.22-7.27 (1H, m), 7.34-7.38 (1H, m), 7.44-7.47 (1H , m), 7.78 (2H, brs), 8.90 (1H, t, J = 5.6Hz)

製造例2

Figure 2011001354
窒素雰囲気下にて、BOP試薬0.49g、2−クロロベンジルアミン0.13g、DMF1mL、トリエチルアミン0.15gの混合物に、窒素雰囲気下かつ氷冷下にて2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.21gを加え、室温で8時間攪拌した。室温にて終夜放置し、反応混合物を飽和重曹水に注加した。その混合物を酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2−クロロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(2)と記す。)を0.15g得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ[ppm]:4.43(2H, d, J=5.6Hz), 7.28-7.37(3H, m), 7.45(1H, d, J=7.8Hz,), 7.77(2H, brs, ), 8.90(1H, t, J=5.6Hz) Production Example 2
Figure 2011001354
Under a nitrogen atmosphere, a mixture of 0.49 g of BOP reagent, 0.13 g of 2-chlorobenzylamine, 1 mL of DMF, and 0.15 g of triethylamine was added to 2-amino-4-trifluoromethylthiazole under a nitrogen atmosphere and ice cooling. 0.21 g of -5-carboxylic acid was added and stirred at room temperature for 8 hours. The reaction mixture was allowed to stand at room temperature overnight and poured into a saturated aqueous sodium bicarbonate solution. The mixture was extracted with ethyl acetate and washed with water and saturated brine. Dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained solid was washed with chloroform, and 2-amino-N- (2-chlorobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (2)) was 0. .15 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ [ppm]: 4.43 (2H, d, J = 5.6Hz), 7.28-7.37 (3H, m), 7.45 (1H, d, J = 7.8Hz,), 7.77 (2H, brs,), 8.90 (1H, t, J = 5.6Hz)

製造例3

Figure 2011001354
BOP試薬0.73g、2−メチルベンジルアミン0.20g、DMF1.5mL、トリエチルアミン0.17gの混合物に、氷冷下にて2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.32gを加え、室温で2.5時間攪拌した。室温にて終夜放置し、反応混合物を飽和重曹水に注加した。その混合物を酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2−メチルベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(3)と記す。)を0.41g得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ[ppm]:2.28(3H, s), 4.34(2H, d, J=5.6Hz), 7.14-7.21(4H, m), 7.73(2H, brs), 8.81(1H, t, J=5.6Hz) Production Example 3
Figure 2011001354
A mixture of 0.73 g of BOP reagent, 0.20 g of 2-methylbenzylamine, 1.5 mL of DMF, and 0.17 g of triethylamine was added to 0.32 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid under ice cooling. And stirred at room temperature for 2.5 hours. The reaction mixture was allowed to stand at room temperature overnight and poured into a saturated aqueous sodium bicarbonate solution. The mixture was extracted with ethyl acetate and washed with water and saturated brine. Dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained solid was washed with chloroform, and 2-amino-N- (2-methylbenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (3)) was 0. .41 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ [ppm]: 2.28 (3H, s), 4.34 (2H, d, J = 5.6Hz), 7.14-7.21 (4H, m), 7.73 (2H, brs), 8.81 (1H, t, J = 5.6Hz)

製造例4

Figure 2011001354
BOP試薬0.73g、2−フルオロベンジルアミン0.21g、DMF1.5mL、トリエチルアミン0.17gの混合物に、氷冷下にて2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.32gを加え、室温で5時間攪拌した。室温にて終夜放置し、反応混合物を飽和重曹水に注加した。その混合物を酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2−フルオロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(4)と記す。)を0.38g得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ[ppm]:4.40(2H, d, J=5.6Hz), 7.16-7.20(2H, m), 7.30-7.34(2H, m), 7.76(2H, brs), 8.89(1H, t, J=5.6Hz) Production Example 4
Figure 2011001354
A mixture of 0.73 g of BOP reagent, 0.21 g of 2-fluorobenzylamine, 1.5 mL of DMF, and 0.17 g of triethylamine was added to 0.32 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid under ice cooling. And stirred at room temperature for 5 hours. The reaction mixture was allowed to stand at room temperature overnight and poured into a saturated aqueous sodium bicarbonate solution. The mixture was extracted with ethyl acetate and washed with water and saturated brine. Dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained solid was washed with chloroform, and 2-amino-N- (2-fluorobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (4)) was 0. .38 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ [ppm]: 4.40 (2H, d, J = 5.6Hz), 7.16-7.20 (2H, m), 7.30-7.34 (2H, m), 7.76 (2H, brs ), 8.89 (1H, t, J = 5.6Hz)

製造例5

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、3−メチルベンジルアミン0.24gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(3−メチルベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(5)と記す。)を0.49g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 2.29 (3H, s), 4.33 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.01−7.10 (3H, m), 7.17−7.25 (1H, m), 7.73 (2H, brs), 8.87 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 5
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, 0.24 g of 3-methylbenzylamine was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. Stir. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (3-methylbenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (5)). 0.49 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.29 (3H, s), 4.33 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.01-7.10 (3H, m), 7.17-7.25 (1H, m), 7.73 (2H, brs), 8.87 (1H, t, J = 5.8 Hz).

製造例6

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、4−メチルベンジルアミン0.24gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(4−メチルベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(6)と記す。)を0.51g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 2.28 (3H, s), 4.31 (2H, d, J = 6.0 Hz), 7.08−7.19 (6H, m), 8.87 (1H, t, J = 6.0 Hz). Production Example 6
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine, and 0.93 g of BOP reagent, 0.24 g of 4-methylbenzylamine was added, and 6 hours at room temperature. Stir. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (4-methylbenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (6)). 0.51 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.28 (3H, s), 4.31 (2H, d, J = 6.0 Hz), 7.08-7.19 (6H, m), 8.87 (1H, t, J = 6.0 Hz).

製造例7

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、2−トリフルオロメチルベンジルアミン0.39gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−4−トリフルオロメチル−N−(2−トリフルオロメチルベンジル)−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(7)と記す。)を0.55g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.55 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.45−7.55 (2H, m), 7.64−7.77 (2H, m), 7.80 (2H, brs), 8.96 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 7
Figure 2011001354
To a mixture of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 2 mL, triethylamine 0.21 g and BOP reagent 0.93 g, add 0.39 g of 2-trifluoromethylbenzylamine at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and 2-amino-4-trifluoromethyl-N- (2-trifluoromethylbenzyl) -thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (7)). ) Was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.55 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.45-7.55 (2H, m), 7.64-7.77 (2H M), 7.80 (2H, brs), 8.96 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例8

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、3−トリフルオロメチルベンジルアミン0.39gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−4−トリフルオロメチル−N−(3−トリフルオロメチルベンジル)−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(8)と記す。)を0.42g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.46 (2H, d, J = 6.0 Hz), 7.53−7.65 (4H, m), 7.77 (2H, brs), 9.00 (1H, t, J = 6.0 Hz). Production Example 8
Figure 2011001354
To a mixture of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 2 mL, triethylamine 0.21 g and BOP reagent 0.93 g was added 3-trifluoromethylbenzylamine 0.39 g at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and described as 2-amino-4-trifluoromethyl-N- (3-trifluoromethylbenzyl) -thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (8)). ) Was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.46 (2H, d, J = 6.0 Hz), 7.53-7.65 (4H, m), 7.77 (2H, brs), 9.00 (1H, t, J = 6.0 Hz).

製造例9

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、2−メトキシベンジルアミン0.30gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2−メトキシベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(9)と記す。)を0.34g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 3.80 (3H, s), 4.33 (2H, d, J = 5.8 Hz), 6.88−6.95 (1H, m), 6.98 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.15 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.21−7.29 (1H, m), 7.73 (2H, brs), 8.70 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 9
Figure 2011001354
To a mixture of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 2 mL, triethylamine 0.21 g, and BOP reagent 0.93 g, 0.30 g of 2-methoxybenzylamine was added, and the mixture was at room temperature for 6 hours. Stir. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (2-methoxybenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (9)). 0.34 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 3.80 (3H, s), 4.33 (2H, d, J = 5.8 Hz), 6.88-6.95 (1H, m), 6.98 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.15 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.21-7.29 (1H, m), 7.73 (2H , Brs), 8.70 (1H, t, J = 5.8 Hz).

製造例10

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、3−フルオロベンジルアミン0.28gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(3−フルオロベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(10)と記す。)を0.40g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.38 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.01−7.15 (3H, m), 7.33−7.43 (1H, m), 7.76 (2H, brs), 8.93 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 10
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, 0.28 g of 3-fluorobenzylamine was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. Stir. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (3-fluorobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (10)). 0.40 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.38 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.01-7.15 (3H, m), 7.33-7.43 (1H M), 7.76 (2H, brs), 8.93 (1H, t, J = 5.8 Hz).

製造例11

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、4−フルオロベンジルアミン0.28gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(4−フルオロベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(11)と記す。)を0.47g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.34 (2H, d, J = 6.0 Hz), 7.10−7.22 (2H, m), 7.24−7.36 (2H, m), 7.75 (2H, brs), 8.90 (1H, t, J = 6.0 Hz). Production Example 11
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine, and 0.93 g of BOP reagent, 0.28 g of 4-fluorobenzylamine was added, and the mixture was at room temperature for 6 hours. Stir. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (4-fluorobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (11)). 0.47 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.34 (2H, d, J = 6.0 Hz), 7.10-7.22 (2H, m), 7.24-7.36 (2H , M), 7.75 (2H, brs), 8.90 (1H, t, J = 6.0 Hz).

製造例12

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.44g、BOP試薬0.93gの混合物に、2−ニトロベンジルアミン塩酸塩0.42gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2−ニトロベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(12)と記す。)を0.51g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.66 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.47−7.59 (2H, m), 7.71−7.78 (1H, m), 7.80 (2H, brs), 8.01−8.10 (1H, m), 8.92 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 12
Figure 2011001354
To a mixture of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 2 mL, triethylamine 0.44 g, and BOP reagent 0.93 g was added 2-nitrobenzylamine hydrochloride 0.42 g at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (2-nitrobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (12)). 0.51 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.66 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.47-7.59 (2H, m), 7.71-7.78 (1H M), 7.80 (2H, brs), 8.01-8.10 (1H, m), 8.92 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例13

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、4−トリフルオロメチルベンジルアミン0.39gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−4−トリフルオロメチル−N−(4−トリフルオロメチルベンジル)−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(13)と記す。)を0.49g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.45 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.49 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.71 (2H, d, J = 8.2 Hz), 7.78 (2H, brs), 8.98 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 13
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine, and 0.93 g of BOP reagent, 0.39 g of 4-trifluoromethylbenzylamine was added at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and 2-amino-4-trifluoromethyl-N- (4-trifluoromethylbenzyl) -thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (13)). ) Was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.45 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.49 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.71 (2H, d, J = 8.2 Hz), 7.78 (2H, brs), 8.98 (1H, t, J = 5.8 Hz).

製造例14

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.44g、BOP試薬0.93gの混合物に、3−ニトロベンジルアミン塩酸塩0.42gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(3−ニトロベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(14)と記す。)を0.53g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.50 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.61−7.68 (1H, m), 7.69−7.86 (3H, m), 8.06−8.17 (2H, m), 9.04 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 14
Figure 2011001354
To a mixture of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 2 mL, triethylamine 0.44 g and BOP reagent 0.93 g was added 3-nitrobenzylamine hydrochloride 0.42 g at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (3-nitrobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (14)). 0.53 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.50 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.61-7.68 (1H, m), 7.69-7.86 (3H M), 8.06-8.17 (2H, m), 9.04 (1H, t, J = 5.8 Hz).

製造例15

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、4−tert−ブチルベンジルアミン0.36gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(4−tert−ブチルベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(15)と記す。)を0.18g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 1.27 (9H, s), 4.32 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.14−7.24 (2H, m), 7.32−7.40 (2H, m), 7.73 (2H, brs), 8.84 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 15
Figure 2011001354
To a mixture of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 2 mL, triethylamine 0.21 g, and BOP reagent 0.93 g was added 0.36 g of 4-tert-butylbenzylamine at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and described as 2-amino-N- (4-tert-butylbenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (15)). ) Was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 1.27 (9H, s), 4.32 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.14-7.24 (2H, m), 7.32-7.40 (2H, m), 7.73 (2H, brs), 8.84 (1H, t, J = 5.8 Hz).

製造例16

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、3,4−ジフルオロベンジルアミン0.32gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(3,4−ジフルオロベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(16)と記す。)を0.53g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.35 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.07−7.15 (1H, m), 7.25−7.34 (1H, m), 7.35−7.46 (1H, m), 7.77 (2H, brs), 8.93 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 16
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, add 0.32 g of 3,4-difluorobenzylamine at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and described as 2-amino-N- (3,4-difluorobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (16)). ) Was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.35 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.07-7.15 (1H, m), 7.25-7.34 (1H , M), 7.35-7.46 (1H, m), 7.77 (2H, brs), 8.93 (1H, t, J = 5.8 Hz).

製造例17

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、3,5−ジフルオロベンジルアミン0.32gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(3,5−ジフルオロベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(17)と記す。)を0.49g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.39 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.91−7.03 (2H, m), 7.06−7.17 (1H, m), 7.79 (2H, brs), 8.96 (1H, t, J = 6.0 Hz). Production Example 17
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine, and 0.93 g of BOP reagent, 0.32 g of 3,5-difluorobenzylamine was added at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and described as 2-amino-N- (3,5-difluorobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (17)). ) Was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.39 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.91-7.03 (2H, m), 7.06-7.17 (1H M), 7.79 (2H, brs), 8.96 (1H, t, J = 6.0 Hz).

製造例18

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、3−クロロベンジルアミン0.31gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(3−クロロベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(18)と記す。)を0.50g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.37 (2H, d, J = 6.0 Hz), 7.21−7.28 (1H, m), 7.28−7.34 (2H, m), 7.34−7.42 (1H, m), 7.77 (2H, brs), 8.94 (1H, t, J = 6.0 Hz). Production Example 18
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, 0.31 g of 3-chlorobenzylamine was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. Stir. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (3-chlorobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (18)). 0.50 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.37 (2H, d, J = 6.0 Hz), 7.21-7.28 (1H, m), 7.28-7.34 (2H , M), 7.34-7.42 (1H, m), 7.77 (2H, brs), 8.94 (1H, t, J = 6.0 Hz).

製造例19

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.44g、BOP試薬0.93gの混合物に、3−ブロモベンジルアミン塩酸塩0.49gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(3−ブロモベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(19)と記す。)を0.58g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.36 (2H, d, J = 6.0 Hz), 7.22−7.37 (2H, m), 7.39−7.53 (2H, m), 7.77 (2H, brs), 8.94 (1H, t, J = 6.0 Hz). Production Example 19
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.44 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, 0.49 g of 3-bromobenzylamine hydrochloride was added at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (3-bromobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (19)). 0.58 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.36 (2H, d, J = 6.0 Hz), 7.22-7.37 (2H, m), 7.39-7.53 (2H M), 7.77 (2H, brs), 8.94 (1H, t, J = 6.0 Hz).

製造例20

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、2,5−ジフルオロベンジルアミン0.32gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2,5−ジフルオロベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(20)と記す。)を0.50g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.39 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.06−7.13 (1H, m), 7.13−7.21 (1H, m), 7.22−7.30 (1H, m), 7.78 (2H, brs), 8.93 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 20
Figure 2011001354
To a mixture of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 2 mL, triethylamine 0.21 g and BOP reagent 0.93 g was added 0.35 g of 2,5-difluorobenzylamine at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and described as 2-amino-N- (2,5-difluorobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (20)). ) Was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.39 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.06-7.13 (1H, m), 7.13-7.21 (1H M), 7.2-2.30 (1H, m), 7.78 (2H, brs), 8.93 (1H, t, J = 5.8 Hz).

製造例21

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、2,4−ジフルオロベンジルアミン0.32gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2,4−ジフルオロベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(21)と記す。)を0.46g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.36 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.03−7.14 (1H, m), 7.17−7.29 (1H, m), 7.31−7.42 (1H, m), 7.76 (2H, brs), 8.89 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 21
Figure 2011001354
To a mixture of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 2 mL, triethylamine 0.21 g, and BOP reagent 0.93 g was added 0.34 g of 2,4-difluorobenzylamine at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and described as 2-amino-N- (2,4-difluorobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (21)). ) Was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.36 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.03-7.14 (1H, m), 7.17-7.29 (1H , M), 7.31-7.42 (1H, m), 7.76 (2H, brs), 8.89 (1H, t, J = 5.8 Hz).

製造例22

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、2−フルオロ−4−メチルベンジルアミン0.31gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2−フルオロ−4−メチルベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(22)と記す。)を0.43g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 2.29 (3H, s), 4.35 (2H, d, J = 5.8 Hz), 6.89−7.07 (2H, m), 7.13−7.28 (1H, m), 7.74 (2H, brs), 8.84 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 22
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine, and 0.93 g of BOP reagent, 0.31 g of 2-fluoro-4-methylbenzylamine was added, Stir at room temperature for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and 2-amino-N- (2-fluoro-4-methylbenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (22)). 0.43 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.29 (3H, s), 4.35 (2H, d, J = 5.8 Hz), 6.89-7.07 (2H, m), 7.13-7.28 (1H, m), 7.74 (2H, brs), 8.84 (1H, t, J = 5.8 Hz).

製造例23

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、4−フルオロ−2−メチルベンジルアミン0.31gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(4−フルオロ−2−メチルベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(23)と記す。)を0.42g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 2.29 (3H, s), 4.31 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.94−7.10 (2H, m), 7.16−7.29 (1H, m), 7.73 (2H, brs), 8.81 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 23
Figure 2011001354
To a mixture of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 2 mL, triethylamine 0.21 g and BOP reagent 0.93 g, 0.31 g of 4-fluoro-2-methylbenzylamine was added, Stir at room temperature for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and 2-amino-N- (4-fluoro-2-methylbenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (23)). 0.42 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.29 (3H, s), 4.31 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.94-7.10 (2H, m), 7.16-7.29 (1H, m), 7.73 (2H, brs), 8.81 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例24

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、4−エチルベンジルアミン0.30gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(4−エチルベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(24)と記す。)を0.42g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 1.16 (3H, t, J = 7.5 Hz), 2.57 (2H, q, J = 7.5 Hz), 4.32 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.12−7.23 (4H, m), 7.73 (2H, brs), 8.86 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 24
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, 0.30 g of 4-ethylbenzylamine was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. Stir. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (4-ethylbenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (24)). 0.42 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 1.16 (3H, t, J = 7.5 Hz), 2.57 (2H, q, J = 7.5 Hz), 4.32 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.12-7.23 (4H, m), 7.73 (2H, brs), 8.86 (1H, t, J = 5.8 Hz).

製造例25

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、4−クロロベンジルアミン0.31gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(4−クロロベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(25)と記す。)を0.49g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.35 (2H, d, J = 6.0 Hz), 7.25−7.35 (2H, m), 7.36−7.45 (2H, m), 7.76 (2H, brs), 8.91 (1H, t, J = 6.0 Hz). Production Example 25
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, 0.31 g of 4-chlorobenzylamine was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. Stir. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and 2-amino-N- (4-chlorobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (25)). 0.49 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.35 (2H, d, J = 6.0 Hz), 7.25-7.35 (2H, m), 7.36-7.45 (2H , M), 7.76 (2H, brs), 8.91 (1H, t, J = 6.0 Hz).

製造例26

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、4−アミノベンジルアミン0.27gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(4−アミノベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(26)と記す。)を0.47g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.17 (2H, d, J = 5.8 Hz), 4.97 (2H, brs), 6.37−6.73 (2H, m), 6.81−7.24 (2H, m), 7.69 (2H, brs), 8.70 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 26
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, 0.27 g of 4-aminobenzylamine was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. Stir. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (4-aminobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (26)). 0.47 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.17 (2H, d, J = 5.8 Hz), 4.97 (2H, brs), 6.37-6.73 (2H, m), 6.81-7.24 (2H, m), 7.69 (2H, brs), 8.70 (1H, t, J = 5.8 Hz).

製造例27

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.44g、BOP試薬0.93gの混合物に、2−ブロモベンジルアミン塩酸塩0.49gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2−ブロモベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(27)と記す。)を0.54g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.40 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.16−7.27 (1H, m), 7.27−7.35 (1H, m), 7.35−7.45 (1H, m), 7.55−7.68 (1H, m), 7.78 (2H, brs), 8.91 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 27
Figure 2011001354
To a mixture of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 2 mL, triethylamine 0.44 g, and BOP reagent 0.93 g, add 0.49 g of 2-bromobenzylamine hydrochloride at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (2-bromobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (27)). 0.54 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.40 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.16-7.27 (1H, m), 7.27-7.35 (1H M), 7.35-7.45 (1H, m), 7.55-7.68 (1H, m), 7.78 (2H, brs), 8.91 (1H, t, J = 5 .8 Hz).

製造例28

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、2−フェニルベンジルアミン0.40gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2−フェニルベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(28)と記す。)を0.52g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.30 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.17−7.29 (1H, m), 7.29−7.43 (6H, m), 7.43−7.51 (2H, m), 7.72 (2H, brs), 8. 82 (1H, t, J = 5.8 Hz). Production Example 28
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, 0.40 g of 2-phenylbenzylamine was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. Stir. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (2-phenylbenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (28)). 0.52 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.30 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.17-7.29 (1H, m), 7.29-7.43 (6H , M), 7.43-7.51 (2H, m), 7.72 (2H, brs), 8. 82 (1H, t, J = 5.8 Hz).

製造例29

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、2−エチルベンジルアミン0.30gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−4−トリフルオロメチル−N−(2−エチルベンジル)−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(29)と記す。)を0.37g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 1.17 (3H, t, J = 7.5 Hz), 2.64 (2H, q, J = 7.5 Hz), 4.39 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.16−7.22 (4H, m), 7.73 (2H, brs), 8.82 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 29
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, 0.30 g of 2-ethylbenzylamine was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. Stir. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and 2-amino-4-trifluoromethyl-N- (2-ethylbenzyl) -thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (29)). 0.37 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 1.17 (3H, t, J = 7.5 Hz), 2.64 (2H, q, J = 7.5 Hz), 4.39 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.16-7.22 (4H, m), 7.73 (2H, brs), 8.82 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例30

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、2−ブロモ−4−フルオロベンジルアミン0.45gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2−ブロモ−4−フルオロベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(30)と記す。)を0.59g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.38 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.26−7.41 (2H, m), 7.57−7.64 (1H, m), 7.79 (2H, brs), 8.81 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 30
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine, and 0.93 g of BOP reagent, 0.45 g of 2-bromo-4-fluorobenzylamine was added, Stir at room temperature for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and 2-amino-N- (2-bromo-4-fluorobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (30)). 0.59 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.38 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.26-7.41 (2H, m), 7.57-7.64 (1H , M), 7.79 (2H, brs), 8.81 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例31

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、2,4−ジクロロベンジルアミン0.39gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2,4−ジクロロベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(31)と記す。)を0.62g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.41 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.29−7.38 (1H, m), 7.42−7.50 (1H, m), 7.59−7.66 (1H, m), 7.79 (2H, brs), 8.91 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 31
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine, and 0.93 g of BOP reagent, 0.39 g of 2,4-dichlorobenzylamine was added at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and described as 2-amino-N- (2,4-dichlorobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (31)). ) Was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.41 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.29-7.38 (1H, m), 7.42-7.50 (1H M), 7.59-7.66 (1H, m), 7.79 (2H, brs), 8.91 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例32

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、2−ヨードベンジルアミン塩酸塩0.59gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2−ヨードベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(32)と記す。)を0.62g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.32 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.99−7.09 (1H, m), 7.21−7.30 (1H, m), 7.36−7.47 (1H, m), 7.78 (2H, brs), 7.84−7.92 (1H, m), 8.90 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 32
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, 0.59 g of 2-iodobenzylamine hydrochloride was added at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform to give 2-amino-N- (2-iodobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (32)). 0.62 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.32 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.99-7.09 (1H, m), 7.21-7.30 (1H M), 7.36-7.47 (1H, m), 7.78 (2H, brs), 7.84-7.92 (1H, m), 8.90 (1H, t, J = 5 .6 Hz).

製造例33

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、2,5−ジメチルベンジルアミン0.30gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(2,5−ジメチルベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(33)と記す。)を0.53g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 2.22 (3H, s), 2.24 (3H, s), 4.30 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.96−7.06 (3H, m), 7.72 (2H, brs), 8.78 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 33
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, 0.30 g of 2,5-dimethylbenzylamine was added at room temperature. Stir for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and 2-amino-N- (2,5-dimethylbenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (33)). ) Was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.22 (3H, s), 2.24 (3H, s), 4.30 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.96- 7.06 (3H, m), 7.72 (2H, brs), 8.78 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例34

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、4−フルオロ−2−ヨードベンジルアミン塩酸塩0.63gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(4−フルオロ−2−ヨードベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(34)と記す。)を0.74g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.31 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.15−7.40 (2H, m), 7.67−7.91 (3H, m), 8.88 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 34
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, 0.63 g of 4-fluoro-2-iodobenzylamine hydrochloride was added. The mixture was further stirred at room temperature for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and 2-amino-N- (4-fluoro-2-iodobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (34)). 0.74 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.31 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.15-7.40 (2H, m), 7.67-7.91 (3H , M), 8.88 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例35

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF2mL、トリエチルアミン0.21g、BOP試薬0.93gの混合物に、4−フルオロ−2−ニトロベンジルアミン塩酸塩0.35gを加え、室温で6時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をクロロホルムで洗浄し、2−アミノ−N−(4−フルオロ−2−ニトロベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(35)と記す。)を0.45g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.62 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.54−7.61 (1H, m), 7.63−7.72 (1H, m), 7.80 (2H, brs), 7.94−8.02 (1H, m), 8.91 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 35
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 2 mL of DMF, 0.21 g of triethylamine and 0.93 g of BOP reagent, 0.35 g of 4-fluoro-2-nitrobenzylamine hydrochloride was added. The mixture was further stirred at room temperature for 6 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The obtained solid was washed with chloroform, and 2-amino-N- (4-fluoro-2-nitrobenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (35)). 0.45 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.62 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.54-7.61 (1H, m), 7.63-7.72 (1H M), 7.80 (2H, brs), 7.94-8.02 (1H, m), 8.91 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例36

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.24g、BOP試薬1.06g、および3−フルオロ−2−メチルベンジルアミン0.28gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(3−フルオロ−2−メチルベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(36)と記す。)を0.40g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 2.18 (3H, d, J = 2.0 Hz), 4.37 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.03−7.09 (2H, m), 7.20 (1H, dd, J = 13.9, 7.8 Hz), 7.75 (2H, s), 8.86 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 36
Figure 2011001354
2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 3 mL, triethylamine 0.24 g, BOP reagent 1.06 g, and 3-fluoro-2-methylbenzylamine 0.28 g were mixed. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (3-fluoro-2-methylbenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound ( 36) was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.18 (3H, d, J = 2.0 Hz), 4.37 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.03-7. 09 (2H, m), 7.20 (1H, dd, J = 13.9, 7.8 Hz), 7.75 (2H, s), 8.86 (1H, t, J = 5.6 Hz) ).

製造例37

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.24g、BOP試薬1.06g、および5−フルオロ−2−メチルベンジルアミン0.28gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(5−フルオロ−2−メチルベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(37)と記す。)を0.38g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 2.25 (3H, s), 4.33 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.94−7.02 (2H, m), 7.18−7.23 (1H, m), 7.77 (2H, s), 8.89 (1H, t, J = 5.9 Hz). Production Example 37
Figure 2011001354
2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 3 mL, triethylamine 0.24 g, BOP reagent 1.06 g, and 5-fluoro-2-methylbenzylamine 0.28 g were mixed, The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (5-fluoro-2-methylbenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound ( 37).) Was obtained in an amount of 0.38 g.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.25 (3H, s), 4.33 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.94-7.02 (2H, m), 7.18-7.23 (1H, m), 7.77 (2H, s), 8.89 (1H, t, J = 5.9 Hz).

製造例38

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.24g、BOP試薬1.06g、および4−フルオロ−2−トリフルオロメチルベンジルアミン0.39gを混合し、その混合物を室温で3時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(4−フルオロ−2−トリフルオロメチルベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(38)と記す。)を0.49g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.51 (2H, d, J = 5.4 Hz), 7.50−7.65 (3H, m), 7.80 (2H, s), 8.97 (1H, t, J = 5.4 Hz). Production Example 38
Figure 2011001354
2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 3 mL, triethylamine 0.24 g, BOP reagent 1.06 g, and 4-fluoro-2-trifluoromethylbenzylamine 0.39 g were mixed. The mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (4-fluoro-2-trifluoromethylbenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present invention). 0.49 g of compound (38) was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.51 (2H, d, J = 5.4 Hz), 7.50-7.65 (3H, m), 7.80 (2H, s), 8.97 (1H, t, J = 5.4 Hz).

製造例39

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.49g、BOP試薬1.06g、および2−クロロ−5−ニトロベンジルアミン塩酸塩0.45gを混合し、その混合物を室温で3時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(2−クロロ−5−ニトロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(39)と記す。)を0.40g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.52 (2H, d, J = 5.9 Hz), 7.79 (1H, d, J = 8.8 Hz), 7.84 (2H, s), 8.15−8.20 (2H, m), 9.11 (1H, t, J = 5.9 Hz). Production Example 39
Figure 2011001354
2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 3 mL, triethylamine 0.49 g, BOP reagent 1.06 g, and 2-chloro-5-nitrobenzylamine hydrochloride 0.45 g were mixed. The mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (2-chloro-5-nitrobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound ( 39)) was obtained in an amount of 0.40 g.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.52 (2H, d, J = 5.9 Hz), 7.79 (1H, d, J = 8.8 Hz), 7.84 (2H, s), 8.15-8.20 (2H, m), 9.11 (1H, t, J = 5.9 Hz).

製造例40

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.24g、BOP試薬1.06g、および2−クロロ−5−フルオロベンジルアミン0.32gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−4−トリフルオロメチル−N−(2−クロロ−5−フルオロベンジル)チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(40)と記す。)を0.43g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.41 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.10 (1H, dd, J = 9.6, 3.0 Hz), 7.17−7.22 (1H, m), 7.52 (1H, dd, J = 8.8, 5.1 Hz), 7.80 (2H, s), 8.95 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 40
Figure 2011001354
0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 3 mL of DMF, 0.24 g of triethylamine, 1.06 g of BOP reagent, and 0.32 g of 2-chloro-5-fluorobenzylamine were mixed. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-4-trifluoromethyl-N- (2-chloro-5-fluorobenzyl) thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound ( 40).) Was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.41 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.10 (1H, dd, J = 9.6, 3.0 Hz), 7. 17-7.22 (1H, m), 7.52 (1H, dd, J = 8.8, 5.1 Hz), 7.80 (2H, s), 8.95 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例41

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.24g、BOP試薬1.06g、および2−クロロ−3−フルオロベンジルアミン0.32gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(2−クロロ−3−フルオロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(41)と記す。)を0.14g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.46 (2H, d, J = 5.9 Hz), 7.17 (1H, d, J = 7.1 Hz), 7.31−7.43 (2H, m), 7.79 (2H, s), 8.95 (1H, t, J = 5.9 Hz). Production Example 41
Figure 2011001354
0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 3 mL of DMF, 0.24 g of triethylamine, 1.06 g of BOP reagent, and 0.32 g of 2-chloro-3-fluorobenzylamine were mixed. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (2-chloro-3-fluorobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound ( 41)) was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.46 (2H, d, J = 5.9 Hz), 7.17 (1H, d, J = 7.1 Hz), 7.31-7. 43 (2H, m), 7.79 (2H, s), 8.95 (1H, t, J = 5.9 Hz).

製造例42

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.49g、BOP試薬1.06g、および2−ブロモ−5−フルオロベンジルアミン塩酸塩0.48gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(2−ブロモ−5−フルオロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(42)と記す。)を0.45g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.38 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.06−7.16 (2H, m), 7.67 (1H, dd, J = 8.8, 5.4 Hz), 7.79 (2H, s), 8.95 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 42
Figure 2011001354
2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 3 mL, triethylamine 0.49 g, BOP reagent 1.06 g, and 2-bromo-5-fluorobenzylamine hydrochloride 0.48 g were mixed. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (2-bromo-5-fluorobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound ( 42) was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.38 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.06-7.16 (2H, m), 7.67 (1H, dd, J = 8.8, 5.4 Hz), 7.79 (2H, s), 8.95 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例43

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.24g、BOP試薬1.06g、および3,4,5−トリフルオロベンジルアミン0.32gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(3,4,5−トリフルオロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(43)と記す。)を0.34g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.35 (2H, d, J = 6.1 Hz), 7.17−7.22 (2H, m), 7.80 (2H, s), 8.95 (1H, t, J = 6.1 Hz). Production Example 43
Figure 2011001354
Mixing 0.42 g 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 3 mL DMF, 0.24 g triethylamine, 1.06 g BOP reagent, and 0.32 g 3,4,5-trifluorobenzylamine, The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (3,4,5-trifluorobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound). 0.34 g of (43) is obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.35 (2H, d, J = 6.1 Hz), 7.17-7.22 (2H, m), 7.80 (2H, s), 8.95 (1H, t, J = 6.1 Hz).

製造例44

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.24g、BOP試薬1.06g、および2,4,5−トリフルオロベンジルアミン0.32gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(2,4,5−トリフルオロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(44)と記す。)を0.45g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.35 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.32−7.39 (1H, m), 7.52−7.59 (1H, m), 7.78 (2H, s), 8.92 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 44
Figure 2011001354
2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 3 mL, triethylamine 0.24 g, BOP reagent 1.06 g, and 2,4,5-trifluorobenzylamine 0.32 g were mixed, The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (2,4,5-trifluorobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound). 0.45 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.35 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.32-7.39 (1H, m), 7.52-759 (1H , M), 7.78 (2H, s), 8.92 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例45

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.24g、BOP試薬1.06g、および2,3,5−トリフルオロベンジルアミン0.32gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(2,3,5−トリフルオロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(45)と記す。)を0.34g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.43 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.95−7.00 (1H, m), 7.42−7.50 (1H, m), 7.80 (2H, s), 8.97 (1H, t, J = 5.9 Hz). Production Example 45
Figure 2011001354
Mixing 0.42 g 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 3 mL DMF, 0.24 g triethylamine, 1.06 g BOP reagent, and 0.32 g 2,3,5-trifluorobenzylamine, The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (2,3,5-trifluorobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound). 0.34 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.43 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.95-7.00 (1H, m), 7.42-7.50 (1H M), 7.80 (2H, s), 8.97 (1H, t, J = 5.9 Hz).

製造例46

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.49g、BOP試薬1.06g、および2−クロロ−4,5−ジフルオロベンジルアミン塩酸塩0.43gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(2−クロロ−4,5−ジフルオロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(46)と記す。)を0.52g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.38 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.34 (1H, dd, J = 11.5, 8.5 Hz), 7.76 (1H, dd, J = 10.4, 7.4 Hz), 7.80 (2H, s), 8.94 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 46
Figure 2011001354
0.42 g 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 3 mL DMF, 0.49 g triethylamine, 1.06 g BOP reagent, and 0.43 g 2-chloro-4,5-difluorobenzylamine hydrochloride Mix and stir the mixture for 1 hour at room temperature. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (2-chloro-4,5-difluorobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present invention). 0.52 g of compound (46) was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.38 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.34 (1H, dd, J = 11.5, 8.5 Hz), 7. 76 (1H, dd, J = 10.4, 7.4 Hz), 7.80 (2H, s), 8.94 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例47

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.71g、BOP試薬1.06g、および2−ブロモ−4,5−ジフルオロベンジルアミン塩酸塩0.52gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(2−ブロモ−4,5−ジフルオロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(47)と記す。)を0.52g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.35 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.32 (1H, dd, J = 11.6, 8.4 Hz), 7.79 (2H, s), 7.88 (1H, dd, J = 10.2, 7.6 Hz), 8.94 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 47
Figure 2011001354
0.42 g 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 3 mL DMF, 0.71 g triethylamine, 1.06 g BOP reagent, and 0.52 g 2-bromo-4,5-difluorobenzylamine hydrochloride Mix and stir the mixture for 1 hour at room temperature. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (2-bromo-4,5-difluorobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present invention). 0.52 g of compound (47) was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.35 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.32 (1H, dd, J = 11.6, 8.4 Hz), 7. 79 (2H, s), 7.88 (1H, dd, J = 10.2, 7.6 Hz), 8.94 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例48

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.24g、BOP試薬1.06g、および3,4−ジフルオロ−2−メチルベンジルアミン0.31gを混合し、その混合物を室温で2時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(3,4−ジフルオロ−2−メチルベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(48)と記す。)を0.21g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 2.24 (3H, s), 4.34 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.04−7.08 (1H, m), 7.20−7.27 (1H, m), 7.75 (2H, s), 8.85 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 48
Figure 2011001354
2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 3 mL, triethylamine 0.24 g, BOP reagent 1.06 g, and 3,4-difluoro-2-methylbenzylamine 0.31 g were mixed. The mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (3,4-difluoro-2-methylbenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present invention). 0.21 g of compound (48) is obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.24 (3H, s), 4.34 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.04-7.08 (1H, m), 7.20-7.27 (1H, m), 7.75 (2H, s), 8.85 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例49

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.49g、BOP試薬1.06g、および2−ブロモ−3,5−ジフルオロベンジルアミン塩酸塩0.52gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(2−ブロモ−3,5−ジフルオロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(49)と記す。)を0.49g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.43 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.99 (1H, d, J = 9.5 Hz), 7.40−7.46 (1H, m), 7.81 (2H, s), 8.98 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 49
Figure 2011001354
0.42 g 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 3 mL DMF, 0.49 g triethylamine, 1.06 g BOP reagent, and 0.52 g 2-bromo-3,5-difluorobenzylamine hydrochloride Mix and stir the mixture for 1 hour at room temperature. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (2-bromo-3,5-difluorobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present invention). 0.49 g of compound (49) was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.43 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.99 (1H, d, J = 9.5 Hz), 7.40-7. 46 (1H, m), 7.81 (2H, s), 8.98 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例50

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.51g、BOP試薬1.06g、および4−フェニルベンジルアミン0.37gを混合し、その混合物を室温で2時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(4−フェニルベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(50)と記す。)を0.20g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.41 (2H, d, J = 6.1 Hz), 7.34−7.38 (3H, m), 7.43−7.48 (2H, m), 7.62−7.67 (4H, m), 7.75 (2H, s), 8.93 (1H, t, J = 6.1 Hz). Production Example 50
Figure 2011001354
0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 3 mL of DMF, 0.51 g of triethylamine, 1.06 g of BOP reagent, and 0.37 g of 4-phenylbenzylamine were mixed, and the mixture was mixed at room temperature. Stir for 2 hours. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (4-phenylbenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (50)). 0.20 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.41 (2H, d, J = 6.1 Hz), 7.34-7.38 (3H, m), 7.43-7.48 (2H M), 7.62-7.67 (4H, m), 7.75 (2H, s), 8.93 (1H, t, J = 6.1 Hz).

製造例51

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.24g、BOP試薬1.06g、および4−トリフルオロメトキシベンジルアミン0.38gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(4−トリフルオロメトキシベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(51)と記す。)を0.57g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.38 (2H, d, J = 5.9 Hz), 7.34 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.39 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.77 (2H, s), 8.93 (1H, t, J = 5.9 Hz). Production Example 51
Figure 2011001354
0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 3 mL of DMF, 0.24 g of triethylamine, 1.06 g of BOP reagent, and 0.38 g of 4-trifluoromethoxybenzylamine were mixed, and the mixture was mixed. Stir at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (4-trifluoromethoxybenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (51)). 0.57 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.38 (2H, d, J = 5.9 Hz), 7.34 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.39 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.77 (2H, s), 8.93 (1H, t, J = 5.9 Hz).

製造例52

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.24g、BOP試薬1.06g、および3,4,5−トリフルオロ−2−メチルベンジルアミン0.35gを混合し、その混合物を室温で7時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(3,4,5−トリフルオロ−2−メチルベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(52)と記す。)を0.48g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 2.20 (3H, s), 4.34 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.05−7.11 (1H, m), 7.78 (2H, s), 8.89 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 52
Figure 2011001354
0.42 g 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 3 mL DMF, 0.24 g triethylamine, 1.06 g BOP reagent, and 0.35 g 3,4,5-trifluoro-2-methylbenzylamine And the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (3,4,5-trifluoro-2-methylbenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as “amide”). And 0.48 g of the present compound (52).
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.20 (3H, s), 4.34 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.05-7.11 (1H, m), 7.78 (2H, s), 8.89 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例53

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.49g、BOP試薬1.06g、および2−ブロモ−3,4,5−トリフルオロベンジルアミン塩酸塩0.55gを混合し、その混合物を室温で2時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(2−ブロモ−3,4,5−トリフルオロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(53)と記す。)を0.63g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.40 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.21−7.27 (1H, m), 7.82 (2H, s), 8.96 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 53
Figure 2011001354
2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 3 mL, triethylamine 0.49 g, BOP reagent 1.06 g, and 2-bromo-3,4,5-trifluorobenzylamine hydrochloride 0 0.55 g was mixed and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (2-bromo-3,4,5-trifluorobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as “amide”). And 0.63 g of the present compound (53).
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.40 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.21-7.27 (1H, m), 7.82 (2H, s), 8.96 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例54

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.49g、BOP試薬1.06g、および2,3,4,5−テトラフルオロベンジルアミン塩酸塩0.43gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(2,3,4,5−テトラフルオロベンジル)−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(54)と記す。)を0.49g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.41 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.22−7.29 (1H, m), 7.80 (2H, s), 8.94 (1H, t, J = 5.6 Hz). Production Example 54
Figure 2011001354
0.42 g 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 3 mL DMF, 0.49 g triethylamine, 1.06 g BOP reagent, and 0.43 g 2,3,4,5-tetrafluorobenzylamine hydrochloride And the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (2,3,4,5-tetrafluorobenzyl) -4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as “this”). 0.49 g of Inventive Compound (54) was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.41 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.22-7.29 (1H, m), 7.80 (2H, s), 8.94 (1H, t, J = 5.6 Hz).

製造例55

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF3mL、トリエチルアミン0.24g、BOP試薬1.06g、および4,5−ジフルオロ−2−メチルベンジルアミン0.31gを混合し、その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−4−トリフルオロメチル−N−(4,5−ジフルオロ−2−メチルベンジル)チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(55)と記す。)を0.42g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 2.25 (3H, s), 4.29 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.16 (1H, dd, J = 11.8, 8.4 Hz), 7.27 (1H, dd, J = 11.6, 8.4 Hz), 7.76 (2H, s), 8.86 (1H, t, J = 5.5 Hz). Production Example 55
Figure 2011001354
2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid 0.42 g, DMF 3 mL, triethylamine 0.24 g, BOP reagent 1.06 g, and 4,5-difluoro-2-methylbenzylamine 0.31 g were mixed. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-4-trifluoromethyl-N- (4,5-difluoro-2-methylbenzyl) thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present invention). 0.42g of compound (55) was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.25 (3H, s), 4.29 (2H, d, J = 5.6 Hz), 7.16 (1H, dd, J = 11.8) , 8.4 Hz), 7.27 (1H, dd, J = 11.6, 8.4 Hz), 7.76 (2H, s), 8.86 (1H, t, J = 5.5 Hz). ).

製造例56

Figure 2011001354
2−アミノ−4−トリフルオロメチルチアゾール−5−カルボン酸0.42g、DMF10mL、トリエチルアミン0.20g、BOP試薬0.88gの混合物に、3−トリフルオロメトキシベンジルアミン0.38gを加え、室温で3時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、2−アミノ−N−(3−トリフルオロメトキシベンジル)−4−トリフルオロメチル−チアゾール−5−カルボン酸アミド(以下、本発明化合物(56)と記す。)を0.28g得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.40 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.22−7.30 (3H, m), 7.46 (1H, t, J = 7.7 Hz), 7.76 (2H, s), 8.98 (1H, t, J = 5.9 Hz). Production Example 56
Figure 2011001354
To a mixture of 0.42 g of 2-amino-4-trifluoromethylthiazole-5-carboxylic acid, 10 mL of DMF, 0.20 g of triethylamine, and 0.88 g of BOP reagent, 0.38 g of 3-trifluoromethoxybenzylamine was added at room temperature. Stir for 3 hours. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-amino-N- (3-trifluoromethoxybenzyl) -4-trifluoromethyl-thiazole-5-carboxylic acid amide (hereinafter referred to as the present compound (56). 0.28 g was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.40 (2H, d, J = 5.8 Hz), 7.22-7.30 (3H, m), 7.46 (1H, t, J = 7.7 Hz), 7.76 (2H, s), 8.98 (1H, t, J = 5.9 Hz).

次に参考製造例を示す。
参考製造例1

Figure 2011001354
2−ブロモ−4,5−ジフルオロベンジルアジド3.35gのTHF溶液(40mL)に、氷冷下にてトリフェニルホスフィン3.91gを加えた。その混合物を室温で6時間攪拌した。反応混合物を終夜室温で放置し、ここにアンモニア水(28%)を15mL加えた。その混合物を室温で3時間攪拌した後、4N水酸化ナトリウム水溶液46.4mLを加えた。その混合物を室温で1時間攪拌した後、1N塩酸を87.5mL加えた。反応混合物を静置し、THF層を分取した。水層はt−ブチルエチルエーテルで抽出し、THF層とあわせた。水、飽和食塩水の順に洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で濃縮して、残渣にTHF5mLを加えた。氷冷下にて濃塩酸1.5mLを加え、トルエンを加えて水を共沸させた。残渣をTHFで洗浄し、得られた結晶を乾燥して、2−ブロモ−4,5−ジフルオロベンジルアミン塩酸塩1.94gを得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.10 (2H, s) , 7.82(1H, dd, J1 = 11.7 Hz, J2 = 8.3 Hz), 7.93(1H, dd, J1 = 10.1 Hz, J2 = 7.7 Hz), 8.55(3H, brs) Reference production examples are shown below.
Reference production example 1
Figure 2011001354
To a THF solution (40 mL) of 2.35 g of 2-bromo-4,5-difluorobenzyl azide, 3.91 g of triphenylphosphine was added under ice cooling. The mixture was stirred at room temperature for 6 hours. The reaction mixture was left overnight at room temperature, and 15 mL of aqueous ammonia (28%) was added thereto. The mixture was stirred at room temperature for 3 hours, and 46.4 mL of 4N aqueous sodium hydroxide solution was added. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and 87.5 mL of 1N hydrochloric acid was added. The reaction mixture was allowed to stand and the THF layer was separated. The aqueous layer was extracted with t-butyl ethyl ether and combined with the THF layer. The extract was washed with water and saturated brine in that order and dried over sodium sulfate. Concentrated under reduced pressure and 5 mL of THF was added to the residue. Under ice-cooling, 1.5 mL of concentrated hydrochloric acid was added, and toluene was added to azeotrope water. The residue was washed with THF, and the obtained crystal was dried to obtain 1.94 g of 2-bromo-4,5-difluorobenzylamine hydrochloride.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.10 (2H, s), 7.82 (1H, dd, J 1 = 11.7 Hz, J 2 = 8.3 Hz), 7.93 ( 1H, dd, J 1 = 10.1 Hz, J 2 = 7.7 Hz), 8.55 (3H, brs)

参考製造例2

Figure 2011001354
2−ブロモ−4,5−ジフルオロベンジルクロリド3.28gのDMSO溶液(30mL)にアジ化ナトリウム1.08gを加えた。その混合物を室温で1.5時間攪拌した。反応混合物を終夜室温で放置し、反応混合物を水50mLに注加した。t−ブチルメチルエーテルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で濃縮して、2−ブロモ−4,5−ジフルオロベンジルアジド3.35gを得た。
1H−NMR (CDCl3) δ: 4.45 (2H, s) , 7.28(1H, dd, J1 = 10.0 Hz, J2 = 7.6 Hz), 7.44(1H, dd, J1 = 9.5 Hz, J2 = 7.3 Hz) Reference production example 2
Figure 2011001354
To a solution of 2-bromo-4,5-difluorobenzyl chloride (3.28 g) in DMSO (30 mL) was added 1.08 g of sodium azide. The mixture was stirred at room temperature for 1.5 hours. The reaction mixture was left overnight at room temperature and the reaction mixture was poured into 50 mL of water. The mixture was extracted with t-butyl methyl ether, washed with water and saturated brine in that order, and then dried over magnesium sulfate. Concentration under reduced pressure yielded 3.35 g of 2-bromo-4,5-difluorobenzyl azide.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 4.45 (2H, s), 7.28 (1H, dd, J 1 = 10.0 Hz, J 2 = 7.6 Hz), 7.44 (1H, dd, J 1 = 9.5 Hz, J 2 = 7.3 Hz)

参考製造例3

Figure 2011001354
2−ブロモ−4,5−ジフルオロベンジルアルコール4.02gのトルエン溶液(15mL)に塩化チオニル1.45mLとDMF2滴を加えた。その混合物を80℃にて1時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトに付して、2−ブロモ−4,5−ジフルオロベンジルクロリド3.28gを得た。
1H−NMR (CDCl3) δ: 4.62 (2H, s) , 7.36(1H, dd, J1 = 10.5 Hz, J2 = 8.1 Hz), 7.43(1H, dd, J1 = 9.5 Hz, J2 = 7.4 Hz) Reference production example 3
Figure 2011001354
To a toluene solution (15 mL) of 4.02 g of 2-bromo-4,5-difluorobenzyl alcohol, 1.45 mL of thionyl chloride and 2 drops of DMF were added. The mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 3.28 g of 2-bromo-4,5-difluorobenzyl chloride.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 4.62 (2H, s), 7.36 (1H, dd, J 1 = 10.5 Hz, J 2 = 8.1 Hz), 7.43 (1H, dd, J 1 = 9.5 Hz, J 2 = 7.4 Hz)

参考製造例4

Figure 2011001354
2−ブロモ−3,5−ジフルオロベンジルアジド6.90gのTHF溶液(100mL)に、氷冷下にてトリフェニルホスフィン7.91gを加えた。その混合物を室温で9時間攪拌した。反応混合物を終夜室温で放置し、アンモニア水(28%)を30mL加えた。室温で3時間攪拌した後、4N水酸化ナトリウム水溶液94mLを加えた。室温で1時間攪拌した後、1N塩酸を177mL加えた。反応混合物を静置し、THF層を分取した。水層はt−ブチルエチルエーテルで抽出し、THF層とあわせた。水、飽和食塩水の順に洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で濃縮して、残渣にTHF10mLを加えた。氷冷下にて濃塩酸3mLを加え、生じた結晶を濾過により集めた。得られた結晶をTHFで洗浄した後、乾燥して、2−ブロモ−3,5−ジフルオロベンジルアミン塩酸塩2.89gを得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.17 (2H, s) , 7.48−7.53(2H, m), 8.71(3H, brs) Reference production example 4
Figure 2011001354
To a THF solution (100 mL) of 6.90 g of 2-bromo-3,5-difluorobenzyl azide, 7.91 g of triphenylphosphine was added under ice cooling. The mixture was stirred at room temperature for 9 hours. The reaction mixture was left overnight at room temperature, and 30 mL of aqueous ammonia (28%) was added. After stirring at room temperature for 3 hours, 94 mL of 4N aqueous sodium hydroxide solution was added. After stirring at room temperature for 1 hour, 177 mL of 1N hydrochloric acid was added. The reaction mixture was allowed to stand and the THF layer was separated. The aqueous layer was extracted with t-butyl ethyl ether and combined with the THF layer. The extract was washed with water and saturated brine in that order and dried over sodium sulfate. Concentrated under reduced pressure and 10 mL of THF was added to the residue. Under ice-cooling, 3 mL of concentrated hydrochloric acid was added, and the resulting crystals were collected by filtration. The obtained crystals were washed with THF and dried to obtain 2.89 g of 2-bromo-3,5-difluorobenzylamine hydrochloride.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.17 (2H, s), 7.48-7.53 (2H, m), 8.71 (3H, brs)

参考製造例5

Figure 2011001354
2−ブロモ−3,5−ジフルオロベンジルクロリド7.00gのDMSO溶液(55mL)にアジ化ナトリウム2.18gを加えた。その混合物を室温で2.5時間攪拌した。反応混合物を終夜室温で放置し、反応混合物を水200mLに注加した。t−ブチルメチルエーテルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で濃縮して、2−ブロモ−3,5−ジフルオロベンジルアジド6.90gを得た。
1H−NMR (CDCl3) δ: 4.52 (2H, s) , 6.87−6.92(1H, m), 7.02−7.05(1H, m) Reference production example 5
Figure 2011001354
2.18 g of sodium azide was added to a DMSO solution (55 mL) of 7.00 g of 2-bromo-3,5-difluorobenzyl chloride. The mixture was stirred at room temperature for 2.5 hours. The reaction mixture was left at room temperature overnight and the reaction mixture was poured into 200 mL of water. The mixture was extracted with t-butyl methyl ether, washed with water and saturated brine in that order, and then dried over magnesium sulfate. Concentration under reduced pressure gave 6.90 g of 2-bromo-3,5-difluorobenzyl azide.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 4.52 (2H, s), 6.87-6.92 (1H, m), 7.02-7.05 (1H, m)

参考製造例6

Figure 2011001354
2−ブロモ−3,5−ジフルオロベンジルアルコール6.12gのトルエン溶液(200mL)に塩化チオニル2.40mLとDMF4滴を加えた。その混合物を80℃にて1時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し2−ブロモ−3,5−ジフルオロベンジルクロリド7.00gを得た。
1H−NMR (CDCl3) δ: 4.68 (2H, s) , 6.87−7.18(2H, m) Reference production example 6
Figure 2011001354
To a toluene solution (200 mL) of 6.12 g of 2-bromo-3,5-difluorobenzyl alcohol, 2.40 mL of thionyl chloride and 4 drops of DMF were added. The mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure to obtain 7.00 g of 2-bromo-3,5-difluorobenzyl chloride.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 4.68 (2H, s), 6.87-7.18 (2H, m)

参考製造例7

Figure 2011001354
2−ブロモ−3,5−ジフルオロ安息香酸19.51gのTHF溶液(300mL)に1,1’−カルボニルジイミダゾール20.01gを加え、3時間40分加熱還流した。反応混合物を室温まで放冷し、水素化ホウ素ナトリウム5.07gの水溶液(160mL)に4時間かけて滴下した。水素化ホウ素ナトリウム2.5gを追加し、3時間攪拌した後、室温で一晩放置した。反応混合物を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトに付して、2−ブロモ−3,5−ジフルオロベンジルアルコール7.414gを得た。
1H−NMR (CDCl3) δ: 2.01(1H, brs), 4.76(2H, s), 6.84(1H, ddd, J1 = 8.3 Hz, J2 = 8.3 Hz, J3 = 2.9 Hz), 7.13−7.16(1H, m) Reference production example 7
Figure 2011001354
20.01 g of 1,1′-carbonyldiimidazole was added to a THF solution (300 mL) of 19.51 g of 2-bromo-3,5-difluorobenzoic acid, and the mixture was heated to reflux for 3 hours and 40 minutes. The reaction mixture was allowed to cool to room temperature and dropped into an aqueous solution (160 mL) of 5.07 g of sodium borohydride over 4 hours. After adding 2.5 g of sodium borohydride and stirring for 3 hours, the mixture was allowed to stand overnight at room temperature. The reaction mixture was concentrated, and the residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 7.414 g of 2-bromo-3,5-difluorobenzyl alcohol.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 2.01 (1H, brs), 4.76 (2H, s), 6.84 (1H, ddd, J 1 = 8.3 Hz, J 2 = 8.3) Hz, J 3 = 2.9 Hz), 7.13-7.16 (1H, m)

参考製造例8

Figure 2011001354
2−ブロモ−3,4,5−トリフルオロベンジルクロリド6.54gのDMSO溶液(55mL)にアジ化ナトリウム2.18gを加えた。その混合物を室温で30分間攪拌した。反応混合物を室温で一晩放置した後、反応混合物を水80mLに注加した。t−ブチルメチルエーテルで抽出した後、水、飽和食塩水の順で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残渣にTHF100mLを加え、氷冷下にてトリフェニルホスフィン7.27gを加え、室温で1.5時間攪拌した。室温で3日間放置した後、アンモニア水(28%)28mLを加え、3時間攪拌した。4N水酸化ナトリウム水溶液94mLを加え、1時間攪拌した。1N塩酸を150mL加えた後、反応混合物を静置し、THF層を分取した。水層はt−ブチルエチルエーテルで抽出し、THF層とあわせた。飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で濃縮して、残渣にTHF5mLを加えた。氷冷下にて濃塩酸5mLを加え、トルエンを加えて水を共沸させた。残渣をクロロホルムで洗浄し、得られた結晶を乾燥して、2−ブロモ−3,4,5−トリフルオロベンジルアミン塩酸塩3.36gを得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.15 (2H, s) , 7.75−7.80(1H, m), 8.69(3H, brs) Reference production example 8
Figure 2011001354
2.18 g of sodium azide was added to a DMSO solution (55 mL) of 6.54 g of 2-bromo-3,4,5-trifluorobenzyl chloride. The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. The reaction mixture was left at room temperature overnight and then poured into 80 mL of water. After extraction with t-butyl methyl ether, water and saturated brine were washed in this order. Dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. To the residue was added 100 mL of THF, 7.27 g of triphenylphosphine was added under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 1.5 hours. After standing at room temperature for 3 days, 28 mL of aqueous ammonia (28%) was added and stirred for 3 hours. 94 mL of 4N aqueous sodium hydroxide solution was added and stirred for 1 hour. After adding 150 mL of 1N hydrochloric acid, the reaction mixture was allowed to stand, and the THF layer was separated. The aqueous layer was extracted with t-butyl ethyl ether and combined with the THF layer. The extract was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Concentrated under reduced pressure and 5 mL of THF was added to the residue. Under ice-cooling, 5 mL of concentrated hydrochloric acid was added, and toluene was added to azeotrope water. The residue was washed with chloroform, and the obtained crystals were dried to obtain 3.36 g of 2-bromo-3,4,5-trifluorobenzylamine hydrochloride.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.15 (2H, s), 7.75-7.80 (1H, m), 8.69 (3H, brs)

参考製造例9

Figure 2011001354
2−ブロモ−3,4,5−トリフルオロベンジルアルコール16.65gのトルエン溶液(200mL)に塩化チオニル7.56mLとDMF4滴を加えた。その混合物を110℃にて3時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトに付して、2−ブロモ−3,4,5−トリフルオロベンジルクロリド6.537gを得た。
1H−NMR (CDCl3) δ: 4.64 (2H, s), 7.21−7.26(1H, m) Reference production example 9
Figure 2011001354
To a toluene solution (200 mL) of 16.65 g of 2-bromo-3,4,5-trifluorobenzyl alcohol, 7.56 mL of thionyl chloride and 4 drops of DMF were added. The mixture was stirred at 110 ° C. for 3 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 6.537 g of 2-bromo-3,4,5-trifluorobenzyl chloride.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 4.64 (2H, s), 7.21-7.26 (1H, m)

参考製造例10

Figure 2011001354
2−ブロモ−3,4,5−トリフルオロ安息香酸16.91gのトルエン溶液(200mL)に塩化チオニル7.26mLとDMF4滴を加えた。その混合物を110℃で6時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、残渣をTHF150mLに溶解させた。このTHF溶液を氷冷した水素化ホウ素ナトリウム4.09gのエタノール溶液(300mL)に1.5時間かけて滴下し、その後室温で1時間攪拌した。反応混合物を室温で一晩放置した後、減圧下で濃縮した。残渣に水と酢酸エチルを加え、酢酸エチル層を分取した。水層は酢酸エチルで抽出し、先の酢酸エチル層と合わせた。飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトに付して、2−ブロモ−3,4,5−トリフルオロベンジルアルコール6.603gを得た。
1H−NMR (CDCl3) δ: 2.08(1H, t, J = 5.9 Hz), 4.72(2H, d, J = 5.9 Hz), 7.24−7.29(1H, m) Reference production example 10
Figure 2011001354
To a toluene solution (200 mL) of 16.91 g of 2-bromo-3,4,5-trifluorobenzoic acid, 7.26 mL of thionyl chloride and 4 drops of DMF were added. The mixture was stirred at 110 ° C. for 6 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure and the residue was dissolved in 150 mL of THF. This THF solution was added dropwise to ice-cooled sodium borohydride 4.09 g ethanol solution (300 mL) over 1.5 hours, and then stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was left at room temperature overnight and then concentrated under reduced pressure. Water and ethyl acetate were added to the residue, and the ethyl acetate layer was separated. The aqueous layer was extracted with ethyl acetate and combined with the previous ethyl acetate layer. The extract was washed with saturated brine and dried over magnesium sulfate. After concentration under reduced pressure, the residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 6.603 g of 2-bromo-3,4,5-trifluorobenzyl alcohol.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 2.08 (1H, t, J = 5.9 Hz), 4.72 (2H, d, J = 5.9 Hz), 7.24-7.29 ( 1H, m)

参考製造例11

Figure 2011001354
2−クロロ−4,5−ジフルオロ−ベンジルアジド2.63gのTHF溶液(50mL)に、氷冷下にてトリフェニルホスフィン3.72gを加えた。その混合物を室温で7.5時間攪拌した。反応混合物を1日間室温で放置し、アンモニア水(28%)を14mL加えた。室温で3.5時間攪拌した後、4N水酸化ナトリウム水溶液45mLを加えた。室温で2時間攪拌した後、1N塩酸を85mL加えた。反応混合物を静置し、THF層を分取した。水層はt−ブチルエチルエーテルで抽出し、THF層とあわせた。水、飽和食塩水の順に洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で濃縮して、残渣にTHF5mLを加えた。氷冷下にて濃塩酸1.5mLを加え、生じた結晶を濾過により集めた。得られた結晶をTHFで洗浄した後、乾燥して、2−クロロ−4,5−ジフルオロ−ベンジルアミン塩酸塩1.41gを得た。
1H−NMR (DMSO−d6) δ: 4.10 (2H, s) , 7.79(1H, dd, J1 = 10.4 Hz, J1 = 7.4 Hz), 7.88(1H, dd, J1 = 11.5 Hz, J1 = 8.5 Hz), 8.72(3H, brs) Reference production example 11
Figure 2011001354
To a THF solution (50 mL) of 2.63 g of 2-chloro-4,5-difluoro-benzyl azide, 3.72 g of triphenylphosphine was added under ice cooling. The mixture was stirred at room temperature for 7.5 hours. The reaction mixture was allowed to stand at room temperature for 1 day, and 14 mL of aqueous ammonia (28%) was added. After stirring at room temperature for 3.5 hours, 45 mL of 4N aqueous sodium hydroxide solution was added. After stirring at room temperature for 2 hours, 85 mL of 1N hydrochloric acid was added. The reaction mixture was allowed to stand and the THF layer was separated. The aqueous layer was extracted with t-butyl ethyl ether and combined with the THF layer. The extract was washed with water and saturated brine in that order and dried over sodium sulfate. Concentrated under reduced pressure and 5 mL of THF was added to the residue. Concentrated hydrochloric acid (1.5 mL) was added under ice cooling, and the resulting crystals were collected by filtration. The obtained crystals were washed with THF and dried to obtain 1.41 g of 2-chloro-4,5-difluoro-benzylamine hydrochloride.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 4.10 (2H, s), 7.79 (1H, dd, J 1 = 10.4 Hz, J 1 = 7.4 Hz), 7.88 ( 1H, dd, J 1 = 11.5 Hz, J 1 = 8.5 Hz), 8.72 (3H, brs)

参考製造例12

Figure 2011001354
2−クロロ−4,5−ジフルオロ−ベンジルブロミド3.15gのDMSO溶液(25mL)にアジ化ナトリウム1.03gを加えた。その混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を終夜室温で放置し、反応混合物を水100mLに注加した。t−ブチルメチルエーテルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で濃縮して、2−クロロ−4,5−ジフルオロ−ベンジルアジド2.63gを得た。
1H−NMR (CDCl3) δ: 4.46(2H, s) , 7.25−7.29(2H, m) Reference production example 12
Figure 2011001354
To a solution (25 mL) of 3.15 g of 2-chloro-4,5-difluoro-benzyl bromide, 1.03 g of sodium azide was added. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was left at room temperature overnight and the reaction mixture was poured into 100 mL of water. The mixture was extracted with t-butyl methyl ether, washed with water and saturated brine in that order, and then dried over magnesium sulfate. Concentration under reduced pressure gave 2.63 g of 2-chloro-4,5-difluoro-benzyl azide.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 4.46 (2H, s), 7.25-7.29 (2H, m)

次に製剤例を示す。なお、部とは重量部を示す。   Next, formulation examples are shown. In addition, a part shows a weight part.

製剤例1
本発明化合物(1)〜(56)のいずれか1種50部、リグニンスルホン酸カルシウム3部、ラウリル硫酸マグネシウム2部及び合成含水酸化珪素45部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を得る。
Formulation Example 1
Each wettable powder is obtained by thoroughly grinding and mixing 50 parts of any one of the compounds (1) to (56) of the present invention, 3 parts of calcium lignin sulfonate, 2 parts of magnesium lauryl sulfate and 45 parts of synthetic silicon hydroxide. Get.

製剤例2
本発明化合物(1)〜(56)のいずれか1種20部とソルビタントリオレエ−ト1.5部とを、ポリビニルアルコール2部を含む水溶液28.5部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム0.05部及びアルミニウムマグネシウムシリケート0.1部を含む水溶液40部を加え、さらにプロピレングリコール10部を加えて攪拌混合し、各々のフロアブル製剤を得る。
Formulation Example 2
20 parts of any one of the compounds (1) to (56) of the present invention and 1.5 parts of sorbitan trioleate are mixed with 28.5 parts of an aqueous solution containing 2 parts of polyvinyl alcohol. After pulverization, 40 parts of an aqueous solution containing 0.05 part of xanthan gum and 0.1 part of aluminum magnesium silicate is added thereto, and further 10 parts of propylene glycol is added and stirred to obtain each flowable preparation.

製剤例3
本発明化合物(1)〜(56)のいずれか1種2部、カオリンクレー88部及びタルク10部をよく粉砕混合することにより、各々の粉剤を得る。
Formulation Example 3
Each powder agent is obtained by pulverizing and mixing well 2 parts of any one of the compounds (1) to (56) of the present invention, 88 parts of kaolin clay and 10 parts of talc.

製剤例4
本発明化合物(1)〜(56)のいずれか1種5部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部及びキシレン75部をよく混合することにより、各々の乳剤を得る。
Formulation Example 4
Each emulsion is obtained by thoroughly mixing 5 parts of any one of the compounds (1) to (56) of the present invention, 14 parts of polyoxyethylene styrylphenyl ether, 6 parts of calcium dodecylbenzenesulfonate and 75 parts of xylene. Get.

製剤例5
本発明化合物(1)〜(56)のいずれか1種2部、合成含水酸化珪素1部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部及びカオリンクレー65部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、各々の粒剤を得る。
Formulation Example 5
After thoroughly mixing 2 parts of any one of the present compounds (1) to (56), 1 part of synthetic hydrous silicon oxide, 2 parts of calcium lignin sulfonate, 30 parts of bentonite and 65 parts of kaolin clay, water is added. Kneaded well and granulated and dried to obtain each granule.

製剤例6
本発明化合物(1)〜(56)のいずれか1種10部;ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50部を含むホワイトカーボン35部;及び水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々のフロアブル製剤を得る。
Formulation Example 6
10 parts of any one of the compounds (1) to (56) of the present invention; 35 parts of white carbon containing 50 parts of polyoxyethylene alkyl ether sulfate ammonium salt; and 55 parts of water are mixed and pulverized by a wet pulverization method. Thus, each flowable preparation is obtained.

製剤例7
本発明化合物(1)〜(56)のいずれか1種40部、プロピレングリコールを5部(ナカライテスク製)、Soprophor FLK を5部(ローディア日華製)、アンチフォームCエマルションを0.2部(ダウコーニング社製)、プロキセルGXLを 0.3部(アーチケミカル製)、及びイオン交換水を49.5部の割合で混合し、原体スラリーを調製する。該スラリー100部に150部のガラスビーズ(Φ=1mm)を投入し、冷却水で冷却しながら、2時間粉砕する。粉砕後、ガラスビーズをろ過により除き、各々のフロアブル製剤を得る。
Formulation Example 7
40 parts of any one of the present compounds (1) to (56), 5 parts of propylene glycol (manufactured by Nacalai Tesque), 5 parts of Soprophor FLK (manufactured by Rhodia Nikka), and 0.2 part of anti-form C emulsion (Dow Corning), 0.3 part of Proxel GXL (manufactured by Arch Chemical) and 49.5 parts of ion-exchanged water are mixed to prepare a raw material slurry. 150 parts of glass beads (Φ = 1 mm) are put into 100 parts of the slurry, and pulverized for 2 hours while cooling with cooling water. After grinding, the glass beads are removed by filtration to obtain each flowable formulation.

製剤例8
本発明化合物(1)〜(56)のいずれか1種50部、NNカオリンクレーを38.5部(竹原化学工業製)、Morwet D425を10部、Morwer EFWを1.5部(アクゾノーベル社製)の割合で混合し、該混合物をジェットミルで粉砕し、各々の粉剤を得る。
Formulation Example 8
50 parts of any one of the compounds (1) to (56) of the present invention, 38.5 parts of NN kaolin clay (manufactured by Takehara Chemical Industries), 10 parts of Morwet D425, 1.5 parts of Morwer EFW (Akzo Nobel) And the mixture is pulverized with a jet mill to obtain each powder.

次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、本発明化合物を処理した植物の病斑の面積と、無処理の植物の病斑の面積を比較することにより評価した。
Next, test examples show that the compounds of the present invention are useful for controlling plant diseases.
The control effect is obtained by visually observing the area of the lesion on the test plant at the time of the survey, and comparing the area of the lesion on the plant treated with the compound of the present invention and the area of the lesion on the untreated plant. evaluated.

試験例1
プラスチックポットに土壌を詰め、イネ(品種;日本晴)を播種し、温室内で20日間生育させた。その後本発明化合物(5)、(8)、(9)、(15)、(16)、(17)、(18)、(19)、(22)、(23)、(24)、(25)及び(51)の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記イネの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、植物を風乾し、昼間24℃、夜間20℃多湿下で、いもち病菌(Magnaporthe oryzae)に罹病したイネ苗(品種;日本晴)と接触させながら6日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物(5)、(8)、(9)、(15)、(16)、(17)、(18)、(19)、(22)、(23)、(24)、(25)及び(51)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
Test example 1
A plastic pot was filled with soil, rice (cultivar; Nipponbare) was sown, and grown in a greenhouse for 20 days. Then, the present compound (5), (8), (9), (15), (16), (17), (18), (19), (22), (23), (24), (25 ) And (51) were each made into a flowable formulation according to Formulation Example 6, diluted with water to a predetermined concentration (500 ppm), and sprayed on the foliage so as to adhere well to the rice leaf surface. After spraying, the plants were air-dried and placed for 6 days in contact with rice seedlings (variety: Nihonbare) afflicted with Magnaporthe oryzae at 24 ° C in the daytime and 20 ° C in the nighttime. did. As a result, the present compounds (5), (8), (9), (15), (16), (17), (18), (19), (22), (23), (24), The lesion area in the plant which processed (25) and (51) was 30% or less of the lesion area in an untreated plant.

試験例2
プラスチックポットに土壌を詰め、コムギ(品種;シロガネ)を播種し、温室内で9日間生育させた後、コムギ赤さび病菌(Puccinia redondita f. sp. tritici)の胞子をふりかけ接種した。接種後23℃、暗黒多湿下に1日置いた後、風乾させコムギ赤さび病感染苗とした。本発明化合物(29)、(41)及び(48)の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、さらに照明下に6日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物(29)、(41)及び(48)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
Test example 2
A plastic pot was filled with soil, seeded with wheat (variety: Shirogane), grown in a greenhouse for 9 days, and then sprinkled with spores of wheat red rust fungus (Puccinia redondita f. Sp. Tritici). After inoculation, it was placed in a dark and humid place at 23 ° C. for 1 day, and then air-dried to obtain a wheat rust-infected seedling. Each of the compounds (29), (41) and (48) of the present invention was made into a flowable formulation according to Formulation Example 6 and then diluted with water to a predetermined concentration (500 ppm) so as to adhere well to the leaves of the wheat. The foliage was sprayed on the ground. After spraying, the plants were air-dried and placed under illumination for 6 days, and then the lesion area was examined. As a result, the lesion area on the plant treated with the compounds (29), (41) and (48) of the present invention was 30% or less of the lesion area on the untreated plant.

試験例3
プラスチックポットに土壌を詰め、コムギ(品種;アポジー)を播種し、温室内で10日間生育させた。本発明化合物(15)、(21)、(22)及び(46)の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、3日後または4日後にコムギ葉枯病菌(Septoria tritici)胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後はじめは18℃多湿下に3日置き、さらに照明下に14日から18日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物(15)、(21)、(22)及び(46)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
Test example 3
A plastic pot was filled with soil, seeded with wheat (variety: Apogee), and grown in a greenhouse for 10 days. Each of the compounds (15), (21), (22) and (46) of the present invention was made into a flowable formulation according to Formulation Example 6, and then diluted with water to a predetermined concentration (500 ppm). The foliage was sprayed to ensure sufficient adhesion. After spraying, the plants were air-dried and spray-inoculated with a water suspension of Septoria tritici spores after 3 or 4 days. After the inoculation, the area was first placed under a high humidity of 18 ° C. for 3 days and further under illumination for 14 to 18 days, and then the lesion area was examined. As a result, the lesion area in the plant treated with the compounds (15), (21), (22) and (46) of the present invention was 30% or less of the lesion area in the untreated plant.

試験例4
プラスチックポットに土壌を詰め、キュウリ(品種;相模半白)を播種し、温室内で12日間生育させた。上記ポットにキュウリべと病菌(Pseudoperonospola cubensis)遊走子嚢の水懸濁液を噴霧接種し、23℃、多湿下に1日置いた後、風乾し、キュウリべと病感染苗とした。本発明化合物(6)、(8)、(10)、(11)、(12)、(14)、(16)、(17)、(18)、(19)、(22)、(23)、(25)、(30)、(35)、(36)、(37)、(38)、(40)、(42)、(45)、(46)、(47)、(48)、(49)、(52)、(53)及び(55)の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、23℃の温室内で5日置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物(6)、(8)、(10)、(11)、(12)、(14)、(16)、(17)、(18)、(19)、(22)、(23)、(25)、(30)、(35)、(36)、(37)、(38)、(40)、(42)、(45)、(46)、(47)、(48)、(49)、(52)、(53)及び(55)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
Test example 4
The plastic pot was filled with soil, cucumber (variety: Sagamihanjiro) was sown and grown in a greenhouse for 12 days. The above-mentioned pot was spray-inoculated with a water suspension of Pseudoperonospola cubensis zoosporangium, placed at 23 ° C. under high humidity for 1 day, and then air-dried to obtain a cucumber downy mildew-infected seedling. Compound (6), (8), (10), (11), (12), (14), (16), (17), (18), (19), (22), (23) , (25), (30), (35), (36), (37), (38), (40), (42), (45), (46), (47), (48), ( 49), (52), (53) and (55) were each made into a flowable formulation according to Formulation Example 6 and then diluted with water to a predetermined concentration (500 ppm) so that it sufficiently adheres to the cucumber leaf surface. The foliage was sprayed. After spraying, the plants were air-dried and placed in a greenhouse at 23 ° C. for 5 days, and then the lesion area was examined. As a result, the present compounds (6), (8), (10), (11), (12), (14), (16), (17), (18), (19), (22), (23), (25), (30), (35), (36), (37), (38), (40), (42), (45), (46), (47), (48 ), (49), (52), (53) and the lesion area in the plant treated with (55) was 30% or less of the lesion area in the untreated plant.

試験例5
プラスチックポットに土壌を詰め、キュウリ(品種;相模半白)を播種し、温室内で12日間生育させた。本発明化合物(44)を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリ灰色かび病菌(Botrytis cinerea)の胞子含有PDA培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後12℃、多湿下に4日置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物(44)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
Test Example 5
The plastic pot was filled with soil, cucumber (variety: Sagamihanjiro) was sown and grown in a greenhouse for 12 days. The compound (44) of the present invention was made into a flowable formulation according to Formulation Example 6, diluted with water to a predetermined concentration (500 ppm), and sprayed on the foliage so that it adhered sufficiently to the cucumber leaf surface. After spraying, the plants were air-dried, and a spore-containing PDA medium of cucumber gray mold fungus (Botrytis cinerea) was placed on the cucumber leaf surface. After inoculation, the lesion area was examined after 4 days in a humid environment at 12 ° C. As a result, the lesion area in the plant treated with the compound (44) of the present invention was 30% or less of the lesion area in the untreated plant.

試験例6
プラスチックポットに土壌を詰め、インゲン(品種;長鶉菜豆)を播種し、温室内で8日間生育させた。本発明化合物(11)、(15)、(52)、(54)及び(55)の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記インゲン葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、菌核病菌(Sclerotinia sclerotiorum)の菌糸含有PDA培地をインゲン葉面上に置いた。接種後23℃、多湿下に5日置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物(11)、(15)、(52)、(54)及び(55)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
Test Example 6
A plastic pot was stuffed with soil, seeded with green beans (variety; Nagahama peas) and grown in a greenhouse for 8 days. Each of the compounds (11), (15), (52), (54) and (55) of the present invention was made into a flowable formulation according to Formulation Example 6 and then diluted with water to a predetermined concentration (500 ppm). The foliage was sprayed so as to adhere well to the leaf surface. After spraying, the plants were air-dried, and a mycelia-containing PDA medium of Sclerotinia sclerotiorum was placed on the kidney leaf surface. After inoculation, the lesion area was investigated after 23 days at 23 ° C. and high humidity. As a result, the lesion area in the plant treated with the compounds (11), (15), (52), (54) and (55) of the present invention was 30% or less of the lesion area in the untreated plant. .

試験例7
プラスチックポットに土壌を詰め、キュウリ(品種;相模半白)を播種し、温室内で12日間生育させた。上記ポットにキュウリべと病菌(Pseudoperonospola cubensis)遊走子嚢の水懸濁液を噴霧接種し、23℃、多湿下に1日置いた後、風乾し、キュウリべと病感染苗とした。本発明化合物(1)、(2)、(3)及び(4)の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、23℃の温室内で5日置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物(1)、(2)、(3)及び(4)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
Test Example 7
The plastic pot was filled with soil, cucumber (variety: Sagamihanjiro) was sown and grown in a greenhouse for 12 days. The above-mentioned pot was spray-inoculated with a water suspension of Pseudoperonospola cubensis zoosporangium, placed at 23 ° C. under high humidity for 1 day, and then air-dried to obtain a cucumber downy mildew-infected seedling. Each of the compounds (1), (2), (3) and (4) of the present invention was made into a flowable formulation according to Formulation Example 6 and then diluted with water to a predetermined concentration (500 ppm), which was sufficient for the cucumber leaf surface. The foliage was sprayed to adhere. After spraying, the plants were air-dried and placed in a greenhouse at 23 ° C. for 5 days, and then the lesion area was examined. As a result, the lesion area in the plant which processed this invention compound (1), (2), (3) and (4) was 30% or less of the lesion area in an untreated plant.

試験例8
プラスチックポットに土壌を詰め、トマト(品種:パティオ)を播種し、温室内で20日間生育させた。本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(13)、(14)、(16)、(17)、(18)、(19)、(20)、(23)、(25)、(27)、(29)、(30)、(31)、(32)、(34)、(35)、(36)、(37)、(38)、(39)、(40)、(41)、(42)、(45)、(46)、(47)、(48)、(49)、(52)、(53)及び(55)の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記トマト苗の葉面に充分付着するように茎葉散布した。葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾した後、トマト疫病菌(Phytophthora infestans)胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後はじめは23℃、多湿下に1日置き、続いて20℃の人工気象室内で4日間栽培した後、病斑面積を調査した。
本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(13)、(14)、(16)、(17)、(18)、(19)、(20)、(23)、(25)、(27)、(29)、(30)、(31)、(32)、(34)、(35)、(36)、(37)、(38)、(39)、(40)、(41)、(42)、(45)、(46)、(47)、(48)、(49)、(52)、(53)及び(55)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
Test Example 8
The plastic pot was filled with soil, tomato (variety: patio) was sown and grown in a greenhouse for 20 days. Compounds of the present invention (1), (2), (3), (4), (5), (6), (7), (8), (9), (10), (11), (12) , (13), (14), (16), (17), (18), (19), (20), (23), (25), (27), (29), (30), ( 31), (32), (34), (35), (36), (37), (38), (39), (40), (41), (42), (45), (46) , (47), (48), (49), (52), (53) and (55) are each made into a flowable formulation according to Formulation Example 6, and then diluted with water to a predetermined concentration (500 ppm), The foliage was sprayed so as to adhere well to the leaf surface of the tomato seedling. After air-drying the diluted solution on the leaf surface to dryness, an aqueous suspension of Phytophthora infestans spores was spray-inoculated. After inoculation, the plant was first placed at 23 ° C. under high humidity for 1 day, followed by cultivation in an artificial weather room at 20 ° C. for 4 days, and then the lesion area was examined.
Compounds of the present invention (1), (2), (3), (4), (5), (6), (7), (8), (9), (10), (11), (12) , (13), (14), (16), (17), (18), (19), (20), (23), (25), (27), (29), (30), ( 31), (32), (34), (35), (36), (37), (38), (39), (40), (41), (42), (45), (46) , (47), (48), (49), (52), (53) and (55), the lesion area in the plant was 30% or less of the lesion area in the untreated plant.

試験例9
プラスチック製スポンジ片にトマト(品種:パティオ)を播種し、プラスチックカップ中で約20日間水耕栽培した。本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(10)、(14)、(16)、(17)、(19)、(22)、(23)、(25)、(27)、(29)、(30)、(36)、(37)、(38)、(40)、(41)、(42)、(45)、(46)、(47)、(48)、(49)、(52)及び(53)の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、重量換算で1植物あたり1mgを上記トマト水耕栽培苗のカップ中に投入した。さらに7日間水耕栽培後、トマト疫病菌(Phytophthora infestans)胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後はじめは23℃、多湿下に1日置き、続いて20℃の人工気象室内で4日間栽培した後、病斑面積を調査した。
本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(10)、(14)、(16)、(17)、(19)、(22)、(23)、(25)、(27)、(29)、(30)、(36)、(37)、(38)、(40)、(41)、(42)、(45)、(46)、(47)、(48)、(49)、(52)及び(53)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
Test Example 9
Tomato (variety: patio) was sown on a plastic sponge piece and hydroponically cultivated in a plastic cup for about 20 days. Compound (1), (2), (3), (4), (5), (6), (7), (10), (14), (16), (17), (19) , (22), (23), (25), (27), (29), (30), (36), (37), (38), (40), (41), (42), ( 45), (46), (47), (48), (49), (52) and (53) are each made into a flowable formulation according to Formulation Example 6, and then 1 mg per plant in terms of weight is converted to the above. The tomato hydroponic seedling was put into a cup. Further, after 7 days of hydroponics, spray inoculation with an aqueous suspension of Phytophthora infestans spores. After inoculation, the plant was first placed at 23 ° C. under high humidity for 1 day, followed by cultivation in an artificial weather room at 20 ° C. for 4 days, and then the lesion area was examined.
Compound (1), (2), (3), (4), (5), (6), (7), (10), (14), (16), (17), (19) , (22), (23), (25), (27), (29), (30), (36), (37), (38), (40), (41), (42), ( 45), (46), (47), (48), (49), (52), and the lesion area in the plant treated with (53) was 30% or less of the lesion area in the untreated plant. It was.

Claims (10)

式(1)
Figure 2011001354
〔式中、
pは1から5の整数のいずれかを表し、
2は群Cより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC1〜C5鎖式炭化水素基、群Dより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC3〜C10シクロアルキル基、群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいフェニル基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、−O−R5基、−S−R5基、−C(=O)−R5基、−C(=O)−OR5基、−OC(=O)−R5基、−NR56基、−C(=O)−NR56基又は−NR5−C(=O)−R6基を表すか、
或いは、pが2以上あり、かつ2つのR2がベンゼン環の隣接する炭素に結合する場合には、該2つのR2が結合して、群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC2〜C5ポリメチレン基、群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいプロペン−1,3−ジイル基、群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよい1,3−ブタジエン−1,4−ジイル基又はメチレンジオキシ基を表し、
5及びR6は独立して、水素、群Cより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC1〜C10鎖式炭化水素基、群Dより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC3〜C10シクロアルキル基又は群Eより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいフェニル基を表す。
但し、pが2から5の整数のいずれかである場合、R2は相互に同一又は相異なる。
なお、群Cは群Dより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC3〜C10シクロアルキル基、ハロゲン、シアノ基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルコキシ基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルチオ基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルスルフィニル基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルスルホニル基、ハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルキル)カルボニル基、ハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルコキシ)カルボニル基及びハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルキル)カルボニルオキシ基からなる群を表し、
群DはC1〜C5アルキル基及びハロゲンからなる群を表し、
群Eはハロゲン、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C10鎖式炭化水素基、群Dより選ばれる1以上の基で置換されていてもよいC3〜C10シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルコキシ基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルチオ基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルスルフィニル基、ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アルキルスルホニル基、ハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルキル)カルボニル基、ハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルコキシ)カルボニル基及びハロゲンで置換されていてもよい(C1〜C4アルキル)カルボニルオキシ基からなる群を表す。〕
で示されるアミド化合物又はその塩。
Formula (1)
Figure 2011001354
[Where,
p represents any integer from 1 to 5;
R 2 is a C1-C5 chain hydrocarbon group which may be substituted with one or more groups selected from group C, and a C3-C10 cycloalkyl group which may be substituted with one or more groups selected from group D. , Phenyl group, halogen, cyano group, nitro group, —O—R 5 group, —S—R 5 group, —C (═O) —R optionally substituted with one or more groups selected from group E 5 groups, —C (═O) —OR 5 group, —OC (═O) —R 5 group, —NR 5 R 6 group, —C (═O) —NR 5 R 6 group or —NR 5 —C Represents the (= O) -R 6 group,
Alternatively, when p is 2 or more and two R 2 are bonded to adjacent carbons of the benzene ring, the two R 2 are bonded and substituted with one or more groups selected from group E. An optionally substituted C2-C5 polymethylene group, a propene-1,3-diyl group which may be substituted with one or more groups selected from group E, and one or more groups selected from group E. Represents a 1,3-butadiene-1,4-diyl group or a methylenedioxy group,
R 5 and R 6 are independently hydrogen, a C1-C10 chain hydrocarbon group optionally substituted with one or more groups selected from group C, or one or more groups selected from group D. Represents a phenyl group which may be substituted with one or more groups selected from C3 to C10 cycloalkyl groups which may be substituted or group E.
However, when p is any integer of 2 to 5, R 2 is the same or different from each other.
Group C is a C3-C10 cycloalkyl group which may be substituted with one or more groups selected from Group D, a halogen, a cyano group, a C1-C4 alkoxy group which may be substituted with halogen, or a halogen. An optionally substituted C1-C4 alkylthio group, an optionally substituted C1-C4 alkylsulfinyl group, an optionally substituted C1-C4 alkylsulfonyl group, and an optionally substituted halogen ( A group consisting of a (C1-C4 alkyl) carbonyl group, a (C1-C4 alkoxy) carbonyl group optionally substituted with halogen and a (C1-C4 alkyl) carbonyloxy group optionally substituted with halogen;
Group D represents a group consisting of a C1-C5 alkyl group and halogen,
Group E is halogen, cyano group, nitro group, C1-C10 chain hydrocarbon group which may be substituted with halogen, C3-C10 cycloalkyl group which may be substituted with one or more groups selected from group D C1-C4 alkoxy group optionally substituted with halogen, C1-C4 alkylthio group optionally substituted with halogen, C1-C4 alkylsulfinyl group optionally substituted with halogen, halogen-substituted May be a C1-C4 alkylsulfonyl group, a (C1-C4 alkyl) carbonyl group optionally substituted with halogen, a (C1-C4 alkoxy) carbonyl group optionally substituted with halogen, and a halogen-substituted A good (C1-C4 alkyl) carbonyloxy group is represented. ]
Or an salt thereof.
2がハロゲンである請求項1記載のアミド化合物又はその塩。 The amide compound or a salt thereof according to claim 1, wherein R 2 is halogen. 2がフッ素又は塩素である請求項1記載のアミド化合物又はその塩。 The amide compound or a salt thereof according to claim 1, wherein R 2 is fluorine or chlorine. 2がフッ素又は臭素である請求項1記載のアミド化合物又はその塩。 The amide compound or a salt thereof according to claim 1, wherein R 2 is fluorine or bromine. pが3であり、R2は相互に同一又は相異なり、ハロゲンである請求項1記載のアミド化合物又はその塩。 The amide compound or a salt thereof according to claim 1, wherein p is 3, and R 2 are the same or different from each other and are halogen. pが3であり、R2は相互に同一又は相異なり、フッ素又は塩素である請求項1記載のアミド化合物又はその塩。 The amide compound or a salt thereof according to claim 1, wherein p is 3, and R 2 are the same or different from each other and are fluorine or chlorine. pが3であり、R2は相互に同一又は相異なり、フッ素又は臭素である請求項1記載のアミド化合物又はその塩。 The amide compound or a salt thereof according to claim 1, wherein p is 3, and R 2 are the same or different from each other and are fluorine or bromine. 請求項1〜7いずれか1項記載のアミド化合物又はその塩と、不活性担体と、を含有する植物病害防除剤。   A plant disease control agent comprising the amide compound or a salt thereof according to any one of claims 1 to 7, and an inert carrier. 請求項1〜7いずれか1項記載のアミド化合物又はその塩の有効量を植物又は植物が生育する土壌に施用する工程を有する植物病害の防除方法。   A method for controlling plant diseases, comprising a step of applying an effective amount of the amide compound or a salt thereof according to any one of claims 1 to 7 to a plant or soil in which the plant grows. 植物病害を防除するための請求項1〜7いずれか1項記載のアミド化合物又はその塩の使用。   Use of the amide compound or a salt thereof according to any one of claims 1 to 7, for controlling plant diseases.
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