JP2010533849A - バイモーダル光学導波路に基づく干渉計及びセンサと検出方法 - Google Patents
バイモーダル光学導波路に基づく干渉計及びセンサと検出方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010533849A JP2010533849A JP2010516528A JP2010516528A JP2010533849A JP 2010533849 A JP2010533849 A JP 2010533849A JP 2010516528 A JP2010516528 A JP 2010516528A JP 2010516528 A JP2010516528 A JP 2010516528A JP 2010533849 A JP2010533849 A JP 2010533849A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waveguide
- bimodal
- interferometer
- optical waveguide
- planar optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
- G01N21/45—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/75—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
- G01N21/77—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator
- G01N21/7703—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator using reagent-clad optical fibres or optical waveguides
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/124—Geodesic lenses or integrated gratings
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
- G01N21/45—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
- G01N2021/458—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods using interferential sensor, e.g. sensor fibre, possibly on optical waveguide
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/75—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
- G01N21/77—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator
- G01N2021/7769—Measurement method of reaction-produced change in sensor
- G01N2021/7779—Measurement method of reaction-produced change in sensor interferometric
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12083—Constructional arrangements
- G02B2006/12107—Grating
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12133—Functions
- G02B2006/12152—Mode converter
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12133—Functions
- G02B2006/12159—Interferometer
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/14—Mode converters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/32—Optical coupling means having lens focusing means positioned between opposed fibre ends
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)は、基板(8、28、28、48)と、前記基板(8、28、38、48)上に堆積された少なくとも1つの層(1、2、3)を有し、異なる散乱を持つ0次横断伝播モード及び1次横断伝播モードをサポートするバイモーダル導波路(10、20、20’、30、40)と、前記バイモーダル導波路(10、20、20’、30、40)の上側の選択領域に位置し、前記バイモーダル導波路(10、20、20’、30、40)の有効屈折率を変化させることができる化学的、生化学的又は物理的入力刺激を受信するセンサ板(21、31、41、51)と、を備える。前記バイモーダル導波路(10、20、20’、30、40)は、横方向に光を閉じ込めるように設計された閉じ込め手段(9)をさらに有し、横モードをサポートするように設計されている。平面型光学導波路干渉計を備えるチップ、センサ及び検出方法が提供される。
Description
(b)前記センサ板21、31、41上に化学的、生化学的若しくは物理的な刺激又は検体を配置する
(c)前記センサ板21、31、41上において化学的、生化学的若しくは物理的な刺激の変化を導入又は引き起こす
(d)電磁放射の基本モード及び1次モードが導波路により規定されるセンサ板21、31、41を通過する時に、前記化学的、生化学的又は物理的な刺激における変化に依存する、例えば位相遅延等の特性の変化を受けるように、両モードを前記光学導波路10、20、30、40に結合する
(e)前記導波路の出力部において、前記1次モードの応答に対する前記基本モードの応答を測定する
(f)両モードの前記相対応答を化学的、生化学的又は物理的な刺激における変化に対して関連付ける。
(e1)干渉縞のパターンを生成する
(e2)干渉パターン内の変位を測定する
を有することが好ましい。
(f1)干渉パターンにおける変位を決定された化学的、生化学的又は物理的な刺激における変化の存在に関連付ける
を有することが好ましい。
Claims (24)
- 基板(8、28、28、48)と、
前記基板(8、28、38、48)上に堆積された少なくとも1つの層(1、2、3)を有し、異なる散乱を持つ0次横断伝播モード及び1次横断伝播モードをサポートするバイモーダル導波路(10、20、20’、30、40)と、
前記バイモーダル導波路(10、20、20’、30、40)の上側の選択領域に位置し、前記バイモーダル導波路(10、20、20’、30、40)の有効屈折率を変化させることができる化学的、生化学的又は物理的入力刺激を受信するセンサ板(21、31、41、51)と、
を備え、
前記バイモーダル導波路(10、20、20’、30、40)は、横方向に光を閉じ込めるように設計された閉じ込め手段(9)をさらに有し、横モードをサポートするように設計されていることを特徴とする平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)。 - 光を前記バイモーダル導波路(10、20、20’、30、40)に導く電磁放射源(4、4’)を備えることを特徴とする請求項1に記載の平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)。
- 前記電磁放射源(4、4’)はレーザであることを特徴とする請求項2に記載の平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)。
- 前記電磁放射源は基板(8、28、38、48)の構造に集積されることを特徴とする請求項2に記載の平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)。
- 偏光手段を備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)。
- 他の焦点調節手段をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)。
- 前記焦点調節手段はレンズ(22、52)であることを特徴とする請求項6に記載の平面型光学導波路干渉計(15、25)。
- 前記レンズ(22、52)の中心軸はバイモーダル導波路(20、20’)の縦方向対称軸に対して横断方向にずれており、光源からの光が前記レンズを介してバイモーダル導波路(20、20’)に対して直接焦点調節される時に、第1及び第2の横断伝播モードはバイモーダル導波路(20、20’)内で励起されることを特徴とする請求項7に記載の平面型光学導波路干渉計(15、25)。
- 前記バイモーダル導波路(30)の一端に接続され、横断方向及び横方向の両方において単一モードをサポートする入力導波路(32)と、
前記バイモーダル導波路(30)の他端に接続され、横断方向及び横方向の両方において単一モードをサポートする出力導波路(33)と、
を備え、
前記入力導波路及び出力導波路(32、33)の各々の厚さは、前記バイモーダル導波路(30)より薄く、前記入力導波路(32)及び前記バイモーダル導波路(30)の接合箇所における構造の非対称性により、前記単一モードが前記第1及び第2の横断伝播モードに分岐することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の平面型光学導波路干渉計(35)。 - 電磁放射を前記バイモーダル導波路(30)に結合する手段をさらに備え、当該手段はエンドファイア、ダイレクト焦点調節、プリズム結合及び回折格子結合からなる集合から選択されることを特徴とする請求項9に記載の平面型光学導波路干渉計(35)。
- 出力導波路(33)に結合される光の量は、バイモーダル導波路(30)と出力導波路(33)との間の接合箇所に存在する強度分布に依存することを特徴とする請求項9又は10に記載の平面型光学導波路干渉計(35)。
- 前記バイモーダル導波路(40)を、異なる入射角(θ1、θ2)を有する光の1次モード及び2次モードに結合する結合手段(42)を備えることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の平面型光学導波路干渉計(45)。
- 前記結合手段(42)は、前記バイモーダル導波路(40)の入力に結合された回折格子であることを特徴とする請求項12に記載の平面型光学導波路干渉計(45)。
- 前記バイモーダル導波路(10、20、20’、30、40)は少なくとも2つの層を有することを特徴とする請求項1乃至13のいずれかに記載の平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)。
- 第1導波路層は第1屈折率を有し、第2導波路層は第2屈折率を有し、前記第2の層の屈折率は前記第1の導波路層の屈折率より低いことを特徴とする請求項14に記載の平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)。
- 前記0次モードの有効屈折率及び前記1次モードの有効屈折率は大きく異なることを特徴とする請求項1乃至15のいずれかに記載の平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)。
- 前記横断伝播モードの異なる散乱は前記導波路のパラメータの伝播速度に依存することを特徴とする請求項1乃至16のいずれかに記載の平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)。
- 前記導波路の出力において前記入力刺激による放射強度の変化を測定する検出手段(27、27’、37、47)をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至17のいずれかに記載の平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)。
- 前記検出手段(27、27’、37、47)は2次元フォトディテクタであることを特徴とする請求項18に記載の平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)。
- 少なくとも1つの、請求項1乃至19のいずれかに記載の平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)を備えるチップ。
- 請求項1乃至19のいずれかに記載の平面型光学導波路干渉計(15、25、35、45)を備えるセンサ。
- (a)光学導波路干渉計(15、25、35、45)のバイモーダル導波路(10、20、20’、30、40)の特定領域にセンサ板(21、31、41、51)を規定する工程と、
(b)前記センサ板(21、31、41、51)に化学的、生化学的若しくは物理的な刺激を与える工程と、
(c)前記センサ板(21、31、41、51)に配置された化学的、生化学的若しくは物理的な刺激の変化を導入又は引き起こす工程と、
(d)電磁放射の0次モード及び別の1次モードがバイモーダル導波路(10、29、20’、30、40)において決定されるセンサ板(21、31、41、51)を通過する時に、これら両モードが前記化学的、生化学的又は物理的な刺激における変化に依存する位相遅延を受けるように、両モードを前記バイモーダル導波路(10、20、20’、30、40)に結合する工程と、
(e)前記導波路(10、20、20’、30、40)の出力部において、前記1次モードの応答に対する前記0次モードの応答を測定する工程と、
(f)両モードの前記相対応答を化学的、生化学的又は物理的な刺激における変化に対して関連付ける工程と、
を備える検出方法。 - 前記1次モードの応答に対する前記0次モードの応答を測定する工程は、
干渉縞(11、12、13)のパターンを生成する工程と、
干渉パターン(11、12、13)内の変位を測定する工程と、
を有することを特徴とする請求項22に記載の検出方法。 - 前記両モードの前記相対応答を化学的、生化学的又は物理的な刺激における変化に対して関連付ける工程は、
干渉パターンにおける変位を決定された化学的、生化学的又は物理的な刺激における変化の存在に関連付ける工程を有することを特徴とする請求項23に記載の検出方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP07381053.3A EP2017602B1 (en) | 2007-07-19 | 2007-07-19 | Interferometer and sensor based on bimodal optical waveguide and sensing method |
PCT/ES2008/070142 WO2009010624A1 (es) | 2007-07-19 | 2008-07-18 | Interferometro y sensor basados en guías de ondas ópticas bimodales y método de detección |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010533849A true JP2010533849A (ja) | 2010-10-28 |
Family
ID=38707226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010516528A Pending JP2010533849A (ja) | 2007-07-19 | 2008-07-18 | バイモーダル光学導波路に基づく干渉計及びセンサと検出方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8279445B2 (ja) |
EP (1) | EP2017602B1 (ja) |
JP (1) | JP2010533849A (ja) |
CN (1) | CN101842691B (ja) |
CA (1) | CA2693423C (ja) |
DK (1) | DK2017602T3 (ja) |
ES (1) | ES2465619T3 (ja) |
PL (1) | PL2017602T3 (ja) |
WO (1) | WO2009010624A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013154196A (ja) * | 2008-10-16 | 2013-08-15 | Hatsuta Seisakusho Co Ltd | 消火器及び消火剤貯蔵容器 |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES2373848T3 (es) * | 2009-02-03 | 2012-02-09 | Optisense B.V. | Interferómetro óptico de guía de ondas integrado. |
JP5571102B2 (ja) * | 2009-02-04 | 2014-08-13 | オステンドゥム ホールディング ベスローテン フェンノートシャップ | 流体解析システム |
US8587490B2 (en) * | 2009-07-27 | 2013-11-19 | New Jersey Institute Of Technology | Localized wave generation via model decomposition of a pulse by a wave launcher |
GB0921994D0 (en) * | 2009-12-17 | 2010-02-03 | Univ Gent | Methods and systems for optical characterisation |
EP2506014B1 (en) | 2011-03-30 | 2014-08-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Measuring system using optical waveguide, measuring device, measuring method, optical waveguide type sensor chip, and magnetic fine particle |
WO2012170352A2 (en) * | 2011-06-06 | 2012-12-13 | The Regents Of The University Of California | Multiplex fluorescent particle detection using spatially distributed excitation |
US9285314B2 (en) | 2011-10-12 | 2016-03-15 | Brown University | Systems and methods enabling high-throughput, real time detection of analytes |
EP2839387A4 (en) * | 2012-04-19 | 2016-01-27 | Molecular Sensing Inc | IMPROVED EVENT IDENTIFICATION FOR RECYCLING INTERFEROMETRY |
WO2013162528A1 (en) | 2012-04-25 | 2013-10-31 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Analyzing light by mode interference |
US10816550B2 (en) | 2012-10-15 | 2020-10-27 | Nanocellect Biomedical, Inc. | Systems, apparatus, and methods for sorting particles |
CA2897181A1 (en) * | 2013-01-11 | 2014-07-17 | Lumense, Inc. | System and method for sensing ammonia in a fluid |
US9453791B2 (en) * | 2014-07-01 | 2016-09-27 | Octrolix Bv | Flow cytometry system and method |
DE102015102454A1 (de) | 2015-02-20 | 2016-08-25 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren zur Strukturierung einer Nitridschicht, strukturierte Dielektrikumschicht, optoelektronisches Bauelement, Ätzverfahren zum Ätzen von Schichten und Umgebungssensor |
SE540878C2 (en) * | 2015-06-29 | 2018-12-11 | Briano Floria Ottonello | A sensor device and a method of detecting a component in gas |
CN105572797B (zh) * | 2016-02-15 | 2021-02-26 | 欧阳征标 | 一种太赫兹波脉冲调幅信号与光脉冲调幅信号变换放大器 |
JP6706814B2 (ja) * | 2016-03-30 | 2020-06-10 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 光検出装置および光検出システム |
US10996400B2 (en) * | 2016-08-04 | 2021-05-04 | Mitsubishi Electric Research Laboratories, Inc. | Optical waveguide interferometer |
DE102017105113B4 (de) | 2017-03-10 | 2021-09-30 | Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. (Engl.Leibniz Institute of Photonic Technology) | Anordnung und Verfahren für die Erfassung von Änderungen der optischen Weglänge in einem Nano-Kapillarkanal |
US10724139B2 (en) * | 2017-06-19 | 2020-07-28 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Encapsulation method for OLED Panel |
EP3460561A1 (en) | 2017-09-26 | 2019-03-27 | Thomson Licensing | Device for deviating and focusing light |
US11846574B2 (en) | 2020-10-29 | 2023-12-19 | Hand Held Products, Inc. | Apparatuses, systems, and methods for sample capture and extraction |
USD987457S1 (en) * | 2021-03-15 | 2023-05-30 | Salvus, Llc | Cartridge |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04503251A (ja) * | 1988-11-04 | 1992-06-11 | ジョージア テック リサーチ コーポレーション | 光学的検知装置及び方法 |
JPH06300683A (ja) * | 1993-03-26 | 1994-10-28 | F Hoffmann La Roche Ag | 伝搬特性測定プロセス及び装置 |
JP2003515126A (ja) * | 1999-11-18 | 2003-04-22 | ファーフィールド・センサーズ・リミテッド | センサデバイス |
JP2004145246A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-05-20 | Murata Mfg Co Ltd | 平面型二次元導波路および二次元導波路型光学装置 |
JP2004530135A (ja) * | 2001-05-18 | 2004-09-30 | カウンシル・フォー・ザ・セントラル・ラボラトリー・オブ・ザ・リサーチ・カウンシルズ | 方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2699269B1 (fr) * | 1992-12-10 | 1995-01-13 | Merlin Gerin | Dispositif de mesure interferrométrique. |
US20020015155A1 (en) * | 1993-09-21 | 2002-02-07 | Ralf-Dieter Pechstedt | Interferometer integrated on silicon-on-insulator chip |
US5444249A (en) * | 1994-02-14 | 1995-08-22 | Telaire Systems, Inc. | NDIR gas sensor |
US5623561A (en) * | 1995-09-29 | 1997-04-22 | Georgia Tech Research Corporation | Integrated optic interferometric sensor |
EP1127263A1 (en) * | 1998-10-30 | 2001-08-29 | Photonic Sensor Systems | Methods and sensors for detecting or measuring an acid or base |
US6646747B2 (en) * | 2001-05-17 | 2003-11-11 | Sioptical, Inc. | Interferometer apparatus and associated method |
KR100726206B1 (ko) * | 2006-01-31 | 2007-06-11 | 한국표준과학연구원 | 이상상태 검출을 위한 광섬유 이중모드 간섭형 센서와 이를이용한 이상 탐지 신호처리 방법 |
US20080043248A1 (en) | 2006-08-18 | 2008-02-21 | Meric Ozcan | Photonic crystal sensors using band edge and/or defect mode modulation |
-
2007
- 2007-07-19 DK DK07381053.3T patent/DK2017602T3/da active
- 2007-07-19 EP EP07381053.3A patent/EP2017602B1/en active Active
- 2007-07-19 ES ES07381053.3T patent/ES2465619T3/es active Active
- 2007-07-19 PL PL07381053T patent/PL2017602T3/pl unknown
-
2008
- 2008-07-18 JP JP2010516528A patent/JP2010533849A/ja active Pending
- 2008-07-18 WO PCT/ES2008/070142 patent/WO2009010624A1/es active Application Filing
- 2008-07-18 CN CN2008801062544A patent/CN101842691B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-07-18 CA CA2693423A patent/CA2693423C/en active Active
- 2008-07-18 US US12/669,307 patent/US8279445B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04503251A (ja) * | 1988-11-04 | 1992-06-11 | ジョージア テック リサーチ コーポレーション | 光学的検知装置及び方法 |
JPH06300683A (ja) * | 1993-03-26 | 1994-10-28 | F Hoffmann La Roche Ag | 伝搬特性測定プロセス及び装置 |
JP2003515126A (ja) * | 1999-11-18 | 2003-04-22 | ファーフィールド・センサーズ・リミテッド | センサデバイス |
JP2004530135A (ja) * | 2001-05-18 | 2004-09-30 | カウンシル・フォー・ザ・セントラル・ラボラトリー・オブ・ザ・リサーチ・カウンシルズ | 方法 |
JP2004145246A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-05-20 | Murata Mfg Co Ltd | 平面型二次元導波路および二次元導波路型光学装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013154196A (ja) * | 2008-10-16 | 2013-08-15 | Hatsuta Seisakusho Co Ltd | 消火器及び消火剤貯蔵容器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DK2017602T3 (da) | 2014-06-02 |
CN101842691A (zh) | 2010-09-22 |
US8279445B2 (en) | 2012-10-02 |
CA2693423C (en) | 2017-10-31 |
PL2017602T3 (pl) | 2014-09-30 |
US20100271634A1 (en) | 2010-10-28 |
EP2017602B1 (en) | 2014-02-26 |
CA2693423A1 (en) | 2009-01-22 |
WO2009010624A1 (es) | 2009-01-22 |
CN101842691B (zh) | 2013-07-03 |
EP2017602A1 (en) | 2009-01-21 |
ES2465619T3 (es) | 2014-06-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2010533849A (ja) | バイモーダル光学導波路に基づく干渉計及びセンサと検出方法 | |
Wangüemert-Pérez et al. | Subwavelength structures for silicon photonics biosensing | |
Luan et al. | Enhanced sensitivity of subwavelength multibox waveguide microring resonator label-free biosensors | |
CA2233305C (en) | Integrated optic interferometric sensor | |
JP3071859B2 (ja) | 化学物質のマイクロオプティカル検出方法およびマイクロオプティカルセンサー | |
Steglich et al. | Hybrid-waveguide ring resonator for biochemical sensing | |
US20090103099A1 (en) | Integrated surface mode biosensor | |
JP4511857B2 (ja) | フォトニック結晶を応用したセンサおよび検出対象物質の検出方法 | |
US9335263B2 (en) | Optical circuit for sensing a biological entity in a fluid and method of configuring the same | |
Zhang et al. | Silicon subwavelength-grating microdisks for optical sensing | |
Pham et al. | On-chip bulk-index concentration and direct, label-free protein sensing utilizing an optical grated-waveguide cavity | |
Duval et al. | Interferometric waveguide biosensors based on Si-technology for point-of-care diagnostic | |
Okubo et al. | Silicon nitride directional coupler interferometer for surface sensing | |
Lindecrantz et al. | Characterization of a waveguide Mach-Zehnder interferometer using PDMS as a cover layer | |
Huang et al. | Dual-parameter optical sensor with cascaded ring resonators for simultaneous refractive index and temperature sensing | |
JP2008268188A (ja) | センシング装置 | |
Flueckiger | Enhancing the performance of silicon photonics biosensors | |
US20240061174A1 (en) | Method for generating and interacting with polymeric photonic integrated circuits | |
Werquin et al. | Silicon Ring Resonator-Based Biochips | |
US20220244168A1 (en) | Photothermal gas detector including an integrated on-chip optical waveguide | |
Aslam et al. | Design and modeling of ultra-compact and highly-sensitive silicon Bragg grating sensor for biochemical sensing applications | |
Castelló-Pedrero et al. | 1310 nm TM grating couplers to operate silicon nitride ring resonator biosensors | |
Le Trung | LeTrungThanh Optical Biosensors Based on Multimode Interference and Microring Resonator Structures | |
Mohri et al. | Hybrid plasmon waveguide for highly sensitive biosensing | |
Cheng | High-sensitivity optical biochemical sensors |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110622 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121130 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130227 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130306 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130319 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130927 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140304 |