JP2010279907A - Priming treatment method and priming treatment apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に
塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理方法
およびプライミング処理装置に関する。
The present invention relates to a priming processing method and a priming processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid as a preparation for coating processing in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing.
LCD等のフラットパネルディスプレイ(FPD)の製造プロセスにおけ
るフォトリソグラフィー工程には、スリット状の吐出口を有する長尺形のス
リットノズルを走査して被処理基板(たとえばガラス基板)上にレジスト液
を塗布するスピンレス法が多く用いられている。
In a photolithography process in the manufacturing process of flat panel displays (FPD) such as LCDs, a long slit nozzle having slit-like discharge ports is scanned to apply a resist solution onto a substrate to be processed (for example, a glass substrate). The spinless method is often used.
このようなスピンレス法においては、レジスト乾燥膜の膜厚の不均一性や
塗布ムラを防止するうえで、塗布走査中に基板上に吐出されたレジスト液が
走査方向においてスリットノズルの背面側に回って形成されるメニスカスが
ノズル長手方向で水平一直線に揃うのが望ましく、そのためには塗布走査の
開始直前にスリットノズルの吐出口と基板との間の塗布ギャップが隙間なく
適量のレジスト液で塞がることが必要条件となっている。この要件を満たす
ために、塗布走査の下準備としてスリットノズルの吐出口から背面下端部に
かけてレジスト液の液膜を形成するプライミング処理が行われている。
In such a spinless method, in order to prevent non-uniformity of the resist dry film thickness and coating unevenness, the resist solution discharged onto the substrate during coating scanning rotates to the back side of the slit nozzle in the scanning direction. It is desirable that the meniscus formed in this way be aligned in a horizontal line in the longitudinal direction of the nozzle. To this end, the coating gap between the slit nozzle outlet and the substrate is closed with an appropriate amount of resist solution immediately before the start of coating scanning. Is a necessary condition. In order to satisfy this requirement, a priming process for forming a liquid film of a resist solution from the discharge port of the slit nozzle to the lower end of the back surface is performed as a preparation for coating scanning.
代表的なプライミング処理法は、スリットノズルと同等またはそれ以上の
長さを有する円筒状のプライミングローラを塗布処理部の近くで水平に設置
し、微小なギャップを介してプライミングローラの頂部と対向する位置まで
スリットノズルを近づけてレジスト液を吐出させ、その直後にプライミング
ローラを所定方向に回転させる。そうすると、プライミングローラの頂部付
近に吐出されたレジスト液がスリットノズルの背面下部に回り込むようにし
てプライミングローラの外周面上に巻き取られ、スリットノズル側とプライ
ミングローラ側とに分かれる形でレジスト液の液膜が切り離される。スリッ
トノズルには、ノズル吐出口から背面下端部にかけてレジスト液の液膜が残
る。
In a typical priming method, a cylindrical priming roller having a length equal to or longer than that of the slit nozzle is horizontally installed near the coating processing unit, and is opposed to the top of the priming roller through a minute gap. The resist nozzle is discharged by bringing the slit nozzle close to the position, and immediately after that, the priming roller is rotated in a predetermined direction. Then, the resist solution discharged near the top of the priming roller is wound around the outer peripheral surface of the priming roller so as to wrap around the lower part of the back surface of the slit nozzle, and is divided into a slit nozzle side and a priming roller side. The liquid film is cut off. A liquid film of the resist solution remains on the slit nozzle from the nozzle discharge port to the lower end of the back surface.
従来一般のプライミング処理装置は、プライミングローラを回転駆動する
回転機構だけでなく、プライミングローラをクリーニングするためのスクレ
ーパや洗浄ノズルおよび乾燥ノズル等を備えており、1回のプライミング処
理が終了すると、その後処理として、回転機構によりプライミングローラを
連続回転させ、スクレーパでプライミングローラの外周面からレジスト液を
こそげ落とし、洗浄ノズルおよび乾燥ノズルより洗浄液および乾燥ガスをそ
れぞれプライミングローラの外周面に噴き付けるようにしている。
A conventional general priming processing apparatus is provided with not only a rotating mechanism that rotates the priming roller but also a scraper, a cleaning nozzle, and a drying nozzle for cleaning the priming roller. As a process, the priming roller is continuously rotated by a rotating mechanism, the resist solution is scraped off from the outer peripheral surface of the priming roller by a scraper, and the cleaning liquid and the drying gas are sprayed from the cleaning nozzle and the drying nozzle to the outer peripheral surface of the priming roller, respectively. Yes.
しかしながら、1回のプライミング処理でスリットノズルより吐出されるレ
ジスト液を受けて巻き取るために使用されるプライミングローラ上の領域は、
スリットノズルやプライミングローラのサイズによって異なるが、プライミン
グローラの全周(360°)を必要とするものではなく、通常は半周(180
°)以下であり、1/4周(90°)以下あるいは1/5周(72°)以下で
済ますことも可能である。しかるに、従来一般のプライミング処理装置は、プ
ライミング処理を実行する度毎に後処理として上記のようにプライミングロー
ラを連続回転させてプライミングローラの外周面全体(全周)に洗浄液を噴き
付けるため、洗浄液(通常シンナー)を多量に使用するという問題があった。
However, the region on the priming roller used for receiving and winding up the resist solution discharged from the slit nozzle in one priming process is as follows:
Although it varies depending on the size of the slit nozzle and the priming roller, it does not require the entire circumference (360 °) of the priming roller, and usually a half circumference (180
°) or less, and it may be less than 1/4 turn (90 °) or less than 1/5 turn (72 °). However, the conventional general priming processing apparatus sprays the cleaning liquid on the entire outer peripheral surface (all circumferences) of the priming roller by continuously rotating the priming roller as described above every time the priming process is executed. There was a problem of using a large amount of (usually thinner).
本出願人は、この問題を解決するために、特許文献1において、1回のプラ
イミング処理のために、スリットノズルの吐出口とプライミングローラの上端
とを所定のギャップを隔てて対向させ、スリットノズルより一定量の処理液ま
たは塗布液(たとえばレジスト液)を吐出させるとともにプライミングローラ
を所定の回転角だけ回転させて、プライミングローラの半周以下の部分的表面
領域を当該プライミング処理に使用し、連続した所定回数のプライミング処理
が終了した後にプライミングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄する
プライミング処理法を開示している。
In order to solve this problem, the present applicant, in
このプライミング処理法は、プライミングローラの外周面をその周回方向に
複数に分割してそれらの分割領域(部分的表面領域)を連続する所定回数のプ
ライミング処理に順次割り当てて使用し、その後にプライミングローラの外周
面を全周に亘って一括洗浄する。この一括洗浄処理は、回転機構によりプライ
ミングローラを連続回転させながら洗浄機構と乾燥部とを作動させてプライミ
ングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄するものであり、各プライミ
ング処理の際にプライミングローラの表面に巻き取られた塗布液の液膜をこす
げ落とすためのスクレーパは不要であり、プライミング処理後の洗浄処理で消
費する洗浄液を節減できるとともに、洗浄処理の際にパーティクルの発生を防
止することもできる。
In this priming method, the outer peripheral surface of the priming roller is divided into a plurality of circumferential directions, and the divided areas (partial surface areas) are sequentially assigned to a predetermined number of continuous priming processes, and then the priming roller is used. The outer peripheral surface of is collectively cleaned over the entire circumference. In this batch cleaning process, the cleaning mechanism and the drying unit are operated while the priming roller is continuously rotated by the rotating mechanism, and the outer peripheral surface of the priming roller is cleaned all around. In addition, there is no need for a scraper to scrape off the liquid film of the coating liquid wound on the surface of the priming roller, and it is possible to save the cleaning liquid consumed in the cleaning process after the priming process and to generate particles during the cleaning process. Can also be prevented.
本発明は、本出願人が上記特許文献1で開示したプライミング処理法の改良
版であるとともに、独自の観点から、プライミング処理の歩留まりないし信頼
性にも配慮しつつプライミング処理で使用する洗浄液の更なる節減を実現する
ものである。
The present invention is an improved version of the priming treatment method disclosed by the present applicant in the above-mentioned
すなわち、本発明は、プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用
量を一層削減できるプライミング処理方法およびプライミング処理装置を提供
する。
That is, the present invention provides a priming processing method and a priming processing apparatus that can further reduce the amount of cleaning liquid used while ensuring the reliability of the priming processing.
本発明の第1の観点におけるプライミング処理方法は、スピンレス法の塗布
処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の
液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、1回分のプライミング
処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの
頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対
向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミ
ングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出さ
れた塗布液の一部を巻き取る第1の工程と、前記プライミングローラの外周面
上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1乾燥膜とする第2の工程と、
別の1回分のプライミング処理のために、前記第1乾燥膜を外して前記プライ
ミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐
出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてか
ら前記プライミングローラを回転させて、前記第1乾燥膜とは異なる領域で前
記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る
第3の工程と、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または
乾燥膜を洗浄によって一括除去する第4の工程とを有する。
A priming processing method according to a first aspect of the present invention is a priming processing method for forming a liquid film of a coating liquid as a preparation for coating processing in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing, For one priming process, the slit nozzle discharge port is made to face the top of a horizontally arranged cylindrical or columnar priming roller with a predetermined gap in parallel, and fixed to the slit nozzle. A first step of rotating the priming roller after discharging an amount of the coating liquid and winding a part of the discharged coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller; and the outer peripheral surface of the priming roller A second step of drying the liquid film of the coating liquid wound on top to form a first dry film;
For another priming process, the first dry film is removed and the slit nozzle discharge port is parallelly opposed to the top of the priming roller with a predetermined gap therebetween. After the amount of the coating liquid is discharged, the priming roller is rotated to take up a part of the discharged coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller in a region different from the first dry film. And a fourth step of collectively removing the liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller by cleaning.
また、本発明の第1の観点におけるプライミング処理装置は、スピンレス法
の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処
理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平
に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミング
ローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラ
の外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミング
ローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄
部および前記排気部の各動作を制御する制御部とを有し、1回分のプライミン
グ処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔
てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一
定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを
回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の
一部を巻き取り、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミ
ングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取
られた塗布液の液膜を乾燥させて第1乾燥膜とし、別の1回分のプライミング
処理のために、前記第1乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対し
て所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前
記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラ
を回転させて、前記第1乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外
周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、所望回数の前記プライミ
ング処理が終了した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させ
ながら前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて、前記プライミングローラ
の外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する。
The priming processing apparatus according to the first aspect of the present invention is a priming processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid as a preparation for coating processing in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing. A cylindrical or columnar priming roller disposed horizontally at a predetermined position, a rotating mechanism for rotating the priming roller about its central axis, and a cleaning liquid jet for cleaning the outer peripheral surface of the priming roller Priming for one time, including a cleaning mechanism to be attached, an exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller, and a control unit for controlling the operations of the rotating mechanism, the cleaning unit, and the exhaust unit For processing, the discharge port of the slit nozzle is parallel to the top of the priming roller with a predetermined gap. The priming roller is rotated by the rotating mechanism and a part of the discharged coating liquid is wound on the outer peripheral surface of the priming roller. The rotation of the priming roller is continued even after winding of the coating liquid by the rotating mechanism, and the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller is dried to form a first dry film. For another priming process, the first dry film is removed and the slit nozzle discharge port is parallelly opposed to the top of the priming roller with a predetermined gap therebetween. An outer peripheral surface of the priming roller in a region different from the first dry film by rotating the priming roller after discharging an amount of coating liquid A part of the discharged coating liquid is wound up, and after the priming process is completed a desired number of times, the cleaning mechanism and the exhaust mechanism are operated while rotating the priming roller by the rotating mechanism, The liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller is removed at once by washing.
上記第1の観点のプライミング処理方法または処理装置においては、プライ
ミングローラの外周面上の所望の領域を使用して実施された1回分のプライミ
ング処理の結果として該領域内に残存(付着)する塗布液の液膜を乾燥させて
第1乾燥膜とし、さらにプライミングローラの外周面上の第1乾燥膜とは異な
る領域を使用して後続のプライミング処理を実施する。第1乾燥膜は所定の領
域内に固定されてそこに保持されるため、その近くで後続のプライミング処理
を実施しても第1乾燥膜からの影響(干渉)を受けることはない。
In the priming processing method or processing apparatus according to the first aspect, the coating that remains (attaches) in the region as a result of a single priming process performed using a desired region on the outer peripheral surface of the priming roller. The liquid film of the liquid is dried to form a first dry film, and a subsequent priming process is performed using a region different from the first dry film on the outer peripheral surface of the priming roller. Since the first dry film is fixed and held in a predetermined region, even if the subsequent priming process is performed near the first dry film, the first dry film is not affected (interference) from the first dry film.
好適には、第1乾燥膜は、自然乾燥により半乾きの状態で形成される。この
ために、プライミングローラ上に塗布液の一部を巻き取った後も、プライミン
グローラの回転をそのまま継続させて、塗布液の自然乾燥を行うのが好ましい
。このような自然乾燥法により、各々の乾燥膜を半乾きの状態で一括洗浄に附
することが可能であり、乾燥膜の洗い落としを容易にし、洗浄液の使用量を削
減することができる。
Preferably, the first dry film is formed in a semi-dry state by natural drying. For this reason, it is preferable that the coating liquid is naturally dried by continuing the rotation of the priming roller even after winding a part of the coating liquid on the priming roller. By such a natural drying method, each dry film can be subjected to batch cleaning in a semi-dry state, and the dry film can be easily washed off, and the amount of cleaning liquid used can be reduced.
一括洗浄において、好適には、プライミングローラを回転させながら、プラ
イミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗
浄液を噴き付けることにより、洗浄液の使用量を一層削減することができる。
In the collective cleaning, preferably, the amount of the cleaning liquid used is further reduced by spraying the cleaning liquid only on the area where the liquid film or the dry film is adhered on the outer peripheral surface of the priming roller while rotating the priming roller. be able to.
また、好適には、一括洗浄に先立って、プライミングローラの外周面上に付
着している液膜または乾燥膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づ
いて一括洗浄における洗浄液の使用量を決定してよい。このことによって、洗
浄液の使用量をさらに削減することができる。
Preferably, prior to batch cleaning, the range and film thickness of the liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller are measured, and the amount of cleaning liquid used in the batch cleaning is based on the measurement results. May be determined. As a result, the amount of cleaning liquid used can be further reduced.
本発明の第2の観点におけるプライミング処理方法は、スピンレス法の塗布
処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の
液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、水平に配置された円筒
状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて
前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズル
を平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに、前記
プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前
記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取る第1の工程と、前記プライミ
ングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の乾燥
膜とする第2の工程と、1回分のプライミング処理のために、前記第1層の乾
燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラ
の頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルの吐
出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてか
ら前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の乾燥膜の上に前記吐出
された塗布液の一部を巻き取る第3の工程と、前記プライミングローラの外周
面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する第4の工程
とを有する。
A priming processing method according to a second aspect of the present invention is a priming processing method for forming a liquid film of a coating solution as a preparation for coating processing in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing, The slit nozzle for coating treatment or another slit nozzle for non-coating treatment is opposed in parallel with a predetermined gap to the top of a cylindrical or columnar priming roller arranged horizontally, and the slit nozzle A first step of winding a part or all of the discharged coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller by rotating the priming roller and rotating the priming roller; and an outer periphery of the priming roller A second step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the surface to form a dry film of the first layer, and a single prime For the coating process, the dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, and the discharge port of the slit nozzle for the coating process is parallel to the top of the priming roller with a predetermined gap. A third amount of the coating liquid is wound around the dry film of the first layer by rotating a priming roller after discharging a predetermined amount of the coating liquid to the slit nozzle. And a fourth step of collectively removing the liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller by cleaning.
本発明の第2の観点におけるプライミング処理装置は、スピンレス法の塗布
処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の
液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に配置
された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングローラ
をその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの外周
面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングローラ
の周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄機構お
よび前記排気機構の各動作を制御する制御部とを有し、前記プライミングロー
ラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルも
しくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノ
ズルに塗布液を吐出させるとともに前記回転機構により前記プライミングロー
ラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布
液の一部または全部を巻き取り、前記排気機構を止めたまま、前記回転機構に
より前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回転を継続させて、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて
第1層の乾燥膜とし、1回分のプライミング処理のために、前記第1層の乾燥
膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの
頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対
向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構
により前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の乾燥膜の上に前記
吐出された塗布液の一部を巻き取り、所望回数の前記プライミング処理が終了
した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄
機構および前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に
付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する。
A priming processing apparatus according to a second aspect of the present invention is a priming processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid as a preparation for coating processing in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing, A cylindrical or columnar priming roller disposed horizontally at a predetermined position, a rotating mechanism for rotating the priming roller around its central axis, and a cleaning spray for cleaning the outer peripheral surface of the priming roller A mechanism, an exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller, and a control unit for controlling each operation of the rotation mechanism, the cleaning mechanism, and the exhaust mechanism, and the top of the priming roller The slit nozzle for the coating process or another slit nozzle for the non-coating process with a predetermined gap therebetween The coating liquid is made to face in parallel, the coating liquid is discharged to the slit nozzle, and the priming roller is rotated by the rotating mechanism, so that part or all of the discharged coating liquid is wound on the outer peripheral surface of the priming roller. The rotation of the priming roller is continued even after winding of the coating liquid by the rotating mechanism while the exhaust mechanism is stopped.
The liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller is dried to form a first dry film, and the first dry film is used for the priming roller for one priming process. Positioned at the top, the discharge port of the slit nozzle is opposed in parallel with a predetermined gap with respect to the top of the priming roller, and after a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle, the rotation mechanism The priming roller is rotated to wind up a part of the discharged coating liquid on the dry film of the first layer, and the priming roller is rotated by the rotating mechanism after the desired number of times of the priming process is completed. The cleaning mechanism and the exhaust mechanism are operated while the liquid film or the dry film adhering on the outer peripheral surface of the priming roller is cleaned. Collectively to remove me.
上記第2の観点のプライミング処理方法または処理装置においては、或る1
回分のプライミング処理の結果としてプライミングローラの外周面上に形成さ
れた第1層の乾燥膜の上で後続の別のプライミング処理が実施され、それによ
って第1層の乾燥膜の上に重ねて第2層の液膜が巻き取られる。ここで、第1
層の乾燥膜の上に巻き取られる第2層の液膜の長さ(周回方向サイズ)は、プ
ライミングローラの外周面上に巻き取られる第1層の液膜の長さ(周回方向サ
イズ)よりも格段に短いものになる。このことにより、プライミングローラの
一周内で第1層の液膜巻き取りの回数(プライミング処理回数)よりも第2層
の液膜巻き取りの回数(プライミング処理回数)を多くすることもできる。そ
して、第1層および第2層の各液膜(または乾燥膜)は一括洗浄によって同時
に除去される。これによって、プライミングローラ上で洗浄処理を挿まずに連
続して実施できるプライミング処理の回数を大幅に増やすことが可能であり、
一括洗浄における洗浄液の使用量の一層大幅な削減を図ることもできる。
In the priming processing method or processing apparatus according to the second aspect,
Subsequent another priming process is performed on the dry film of the first layer formed on the outer peripheral surface of the priming roller as a result of the batch priming process. A two-layer liquid film is wound up. Where the first
The length (circumferential direction size) of the liquid film of the second layer wound on the dry film of the layer is the length (circular direction size) of the liquid film of the first layer wound on the outer peripheral surface of the priming roller. It will be much shorter than that. Accordingly, the number of times of liquid film winding of the second layer (number of times of priming processing) can be made larger than the number of times of liquid film winding of the first layer (number of times of priming processing) within one circumference of the priming roller. The liquid films (or dry films) of the first layer and the second layer are simultaneously removed by collective cleaning. This makes it possible to greatly increase the number of priming processes that can be carried out continuously without inserting the cleaning process on the priming roller,
It is also possible to further reduce the amount of cleaning liquid used in batch cleaning.
好適な一態様として、上記第2の観点におけるプライミング処理方法は、第
1の工程では、1回分のプライミング処理のために、プライミングローラの頂
部に対して所定のギャップを隔てて塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平
行に対向させ、スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてからプライミン
グローラを回転させて、プライミングローラの外周面上に塗布液の一部を巻き
取る。
As a preferred embodiment, in the first step, the priming processing method according to the second aspect includes a slit for coating processing with a predetermined gap with respect to the top of the priming roller for one priming processing. The nozzle outlets are made to face each other in parallel, and after a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle, the priming roller is rotated to wind a part of the coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller.
また、好適には、第1層の乾燥膜は、自然乾燥により半乾きの状態で形成さ
れる。このために、プライミングローラの外周面の上に塗布液の一部を巻き取
った後も、プライミングローラの回転をそのまま継続させて、排気機構を止め
たままで塗布液膜の自然乾燥を行うのが好ましい。このような自然乾燥法によ
り、各々の乾燥膜を半乾きの状態で一括洗浄に附することが可能であり、乾燥
膜の洗い落としを容易にし、洗浄液の使用量を低減することができる。
Preferably, the dry film of the first layer is formed in a semi-dry state by natural drying. For this reason, after winding a part of the coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller, the priming roller continues to rotate as it is, and the coating liquid film is naturally dried while the exhaust mechanism is stopped. preferable. By such a natural drying method, each dry film can be subjected to batch cleaning in a semi-dry state, and the dry film can be easily washed off, and the amount of cleaning liquid used can be reduced.
別の好適な一態様として、上記第2の観点におけるプライミング処理方法は
、第2の工程と第3の工程との間で、第1層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定す
る第5の工程と、膜厚分布特性の測定結果に基づき、第1層の乾燥膜の膜厚均
一性が一定の基準を超えるときは第3の工程の実行を許可する旨の判定結果を
出し、第1層の乾燥膜の膜厚均一性が該基準を超えないときは第3の工程の実
行を中止すべき旨の判定結果を出す第6の工程とを有する。また、上記第2の
観点におけるプライミング処理装置は、プライミングローラ上の乾燥膜の膜厚
を測定するための膜厚測定部を有し、この膜厚測定部により第1層の乾燥膜の
膜厚分布特性を測定し、膜厚分布特性の測定結果に基づき、第1層の乾燥膜の
膜厚均一性が一定の基準を超えるときは第1層の乾燥膜上でのプライミング処
理を実行し、第1層の乾燥膜の膜厚均一性が基準を超えないときは第1層の乾
燥膜上でのプライミング処理を中止する。
As another preferred embodiment, the priming method according to the second aspect includes a fifth method for measuring the thickness distribution characteristic of the dry film of the first layer between the second step and the third step. Based on the measurement result of the process and the film thickness distribution characteristic, when the film thickness uniformity of the dry film of the first layer exceeds a certain standard, a determination result is given that the execution of the third process is permitted. And a sixth step for outputting a determination result indicating that the execution of the third step should be stopped when the thickness uniformity of the dry film of the layer does not exceed the reference. The priming apparatus according to the second aspect has a film thickness measuring unit for measuring the film thickness of the dry film on the priming roller, and the film thickness of the first dry film is measured by the film thickness measuring unit. Measure the distribution characteristics, and based on the measurement results of the film thickness distribution characteristics, when the film thickness uniformity of the first layer dry film exceeds a certain standard, execute a priming process on the first layer dry film, When the film thickness uniformity of the dry film of the first layer does not exceed the standard, the priming process on the dry film of the first layer is stopped.
このように、後続のプライミング処理でスリットノズルより吐出される塗布
液を受ける下地となる予定の第1層の乾燥膜の膜質状態(膜厚均一性)を検査
する機能を備えることにより、プライミング処理の歩留まりないし信頼性を向
上させることができる。
In this way, the priming process is provided with the function of inspecting the film quality state (film thickness uniformity) of the dry film of the first layer that is to be the base for receiving the coating liquid discharged from the slit nozzle in the subsequent priming process. Yield and reliability can be improved.
また、別の好適な一態様においては、第3の工程における周回方向の塗布液
巻き取りサイズが、第1の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの1
/2未満である。上記のように、第1層の乾燥膜の上に巻き取られる第2層の
液膜の長さ(周回方向サイズ)は、プライミングローラの外周面上に巻き取ら
れる第1層の液膜の長さ(周回方向サイズ)よりも格段(通常1/2以下)に
短いものになる。
Moreover, in another suitable one aspect | mode, the coating liquid winding size of the circumference direction in a 3rd process is 1 of the coating liquid winding size of the circumference direction in a 1st process.
Less than / 2. As described above, the length (circumferential size) of the second-layer liquid film wound on the first-layer dry film is the same as that of the first-layer liquid film wound on the outer peripheral surface of the priming roller. This is much shorter (usually 1/2 or less) than the length (size in the circumferential direction).
この場合、好適な一態様においては、第3の工程で第1層の乾燥膜の上に巻
き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第2層の第1乾燥膜とする。その後、こ
の第2層の第1乾燥膜とは異なる領域を使用して第1層の乾燥膜上で更に別の
1回分のプライミング処理を行い、その領域内に塗布液(第2層の第2液膜)
を巻き取る。その後に、一括洗浄において、第1層の乾燥膜と第2層の第1乾
燥膜および第2液膜(または第2乾燥膜)とを同時に洗い落とす。
In this case, in a preferred embodiment, the liquid film of the coating liquid wound on the first layer dry film in the third step is dried to form the second layer first dry film. Thereafter, another priming process is performed on the first layer dry film using a region different from the second layer first dry film, and a coating liquid (second layer first layer) is formed in the region. (2 liquid film)
Wind up. Thereafter, in the collective cleaning, the dry film of the first layer, the first dry film of the second layer, and the second liquid film (or the second dry film) are simultaneously washed off.
別の好適な一態様においては、第3の工程で第1層の乾燥膜の上に巻き取ら
れた塗布液の液膜を乾燥させて第2層の乾燥膜とする。その後、この第2層の
乾燥膜を使用して更に別の1回分のプライミング処理を行い、その領域内に塗
布液(第3層の液膜)を巻き取る。その後に、一括洗浄において、第1層の乾
燥膜と第2層の乾燥膜と第3層の液膜(乾燥膜)第1乾燥膜とを同時に洗い落
とす。
In another preferred embodiment, the liquid film of the coating liquid wound on the first layer dry film in the third step is dried to form a second layer dry film. Thereafter, another priming process is performed using the dried film of the second layer, and the coating liquid (third layer of liquid film) is wound up in the region. After that, in the batch cleaning, the first layer dry film, the second layer dry film, and the third layer liquid film (dry film) first dry film are washed out simultaneously.
また、一括洗浄(第4の工程)において、好ましくは、プライミングローラ
を回転させながら、プライミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付
着している領域のみに洗浄液を噴き付ける。これによって、一括洗浄における
洗浄液の使用量を一層削減することができる。また、一括洗浄に先立って、プ
ライミングローラの外周面上に付着している各液膜または乾燥膜の範囲および
膜厚を測定し、その測定結果に基づいて一括洗浄における洗浄液の使用量を決
定するのも好ましく、これによって、一括洗浄における洗浄液使用量の削減を
更に促進することができる。
Further, in the collective cleaning (fourth step), preferably, the cleaning liquid is sprayed only on a region where the liquid film or the dry film is attached on the outer peripheral surface of the priming roller while rotating the priming roller. As a result, the amount of cleaning liquid used in the batch cleaning can be further reduced. Prior to batch cleaning, the range and film thickness of each liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller are measured, and the amount of cleaning liquid used in the batch cleaning is determined based on the measurement result. It is also preferable, and this can further promote the reduction of the amount of cleaning liquid used in the batch cleaning.
本発明の第3の観点におけるプライミング処理方法は、スピンレス法の塗布
処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の
液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、1回分のプライミング
処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの
頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対
向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミ
ングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に塗布液の一
部を巻き取る第1の工程と、前記第1の工程で前記プライミングローラの外周
面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第1乾燥膜とする第2
の工程と、別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1乾燥膜
を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記
スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗
布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第1乾燥膜
とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面の上に塗布液の一部を巻き
取る第3の工程と、前記第3の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻
き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第2乾燥膜とする第4の工程と
、更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1または第2
乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングロー
ラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行
に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プラ
イミングローラを回転させて、前記第1層の第1または第2乾燥膜の上に塗布
液の一部を巻き取る第5の工程と、前記プライミングローラの外周面上に付着
している全ての膜を洗浄によって一括除去する第6の工程とを有する。
A priming processing method according to a third aspect of the present invention is a priming processing method for forming a liquid film of a coating liquid as a preparation for coating processing in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing, For one priming process, the slit nozzle discharge port is made to face the top of a horizontally arranged cylindrical or columnar priming roller with a predetermined gap in parallel, and fixed to the slit nozzle. A first step of discharging the amount of the coating liquid and then rotating the priming roller to wind a part of the coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller; and The liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface is dried to form the first dry film of the first layer.
In order to perform another priming process, the first dry film of the first layer is removed, and the discharge port of the slit nozzle is made parallel to the top of the priming roller with a predetermined gap. The priming roller is rotated after discharging a predetermined amount of the coating liquid to the slit nozzle, and a part of the coating liquid is placed on the outer peripheral surface of the priming roller in a region different from the first dry film. A third step of winding, and a fourth step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller in the third step to form a second dry film of the first layer. , The first or second layer of the first layer for another one-time priming process.
A dry film is positioned on the top of the priming roller, and the discharge port of the slit nozzle is opposed to the top of the priming roller in parallel with a predetermined gap, and a fixed amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle. And then rotating the priming roller to wind a part of the coating solution on the first or second dry film of the first layer, and adhere to the outer peripheral surface of the priming roller. And a sixth step of removing all the films in a lump by cleaning.
また、本発明の第3の観点におけるプライミング処理装置は、ピンレス法の
塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理
液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に
配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングロ
ーラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの
外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングロ
ーラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄機
構および前記排気機構の各動作を制御する制御部とを有し、1回分のプライミ
ング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを
隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに
一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラ
を回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に塗布液の一部を巻き取
り、前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後
も前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外
周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第1乾燥膜とし、別
の1回分のプライミング処理のために、前記第1乾燥膜を外して前記プライミ
ングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出
口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから
前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第1乾燥膜と
は異なる領域で前記プライミングローラの外周面上に塗布液の一部を巻き取り
、前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も
前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に
巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第2乾燥膜とし、更に別の1
回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1または第2乾燥膜を前記
プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対
して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、
前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前
記プライミングローラを回転させて、前記第1層の第1または第2乾燥膜の上
に塗布液の一部を巻き取り、所望回数の前記プライミング処理が終了した後に
、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄機構およ
び前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に付着して
いる全ての膜を洗浄によって一括除去する。
A priming processing apparatus according to a third aspect of the present invention is a priming processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid as a preparation for coating processing in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for pinless coating processing. A cylindrical or columnar priming roller disposed horizontally at a predetermined position, a rotating mechanism for rotating the priming roller about its central axis, and a cleaning liquid jet for cleaning the outer peripheral surface of the priming roller Priming for one time, including a cleaning mechanism to be attached, an exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller, and a control unit that controls the operations of the rotation mechanism, the cleaning mechanism, and the exhaust mechanism For processing, the discharge port of the slit nozzle is parallel to the top of the priming roller with a predetermined gap. The discharge mechanism discharges a predetermined amount of the coating liquid to the slit nozzle and then rotates the priming roller by the rotating mechanism to wind up a part of the coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller, and the exhaust mechanism The rotation of the priming roller is continued even after winding of the coating liquid by the rotating mechanism with the rotation mechanism being stopped, and the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller is dried. The first dry film of the layer is used, and for another priming process, the first dry film is removed and the discharge port of the slit nozzle is made parallel to the top of the priming roller with a predetermined gap. Unlike the first dry film, the priming roller is rotated by the rotating mechanism after a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle. A part of the coating liquid is wound on the outer peripheral surface of the priming roller in a region where the priming roller is rotated, and the priming roller is rotated after the coating liquid is wound by the rotating mechanism while the exhaust mechanism is stopped. The liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the roller is dried to form the second dry film of the first layer.
For the priming process for one batch, the first or second dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, and the slit nozzle discharges a predetermined gap from the top of the priming roller. Facing the outlets in parallel,
A predetermined amount of the coating liquid is discharged to the slit nozzle, and then the priming roller is rotated by the rotating mechanism to wind a part of the coating liquid on the first or second dry film of the first layer, After the desired number of priming processes have been completed, the cleaning mechanism and the exhaust mechanism are operated while rotating the priming roller by the rotating mechanism to clean all the films adhering to the outer peripheral surface of the priming roller. Remove all at once.
上記第3の観点のプライミング処理方法または処理装置においては、プライ
ミングローラの外周面上で洗浄を挿まずに複数回のプライミング処理が行われ
、その度毎に後処理として乾燥工程が行われてプライミングローラの外周面上
に第1層の第1および第2乾燥膜が形成される。そして、第1層の第1または
第2乾燥膜の上でも後続の別のプライミング処理が実施され、それによって第
1層の第1または第2乾燥膜の上に重ねて第2層の液膜が巻き取られる。ここ
で、第1層の乾燥膜の上に巻き取られる第2層の液膜の長さ(周回方向サイズ
)は、プライミングローラの外周面上に巻き取られる液膜の長さ(周回方向サ
イズ)よりも格段に短いものになる。このことにより、プライミングローラの
一周内で第1層の液膜巻き取りの回数(プライミング処理回数)よりも第2層
の液膜巻き取りの回数(プライミング処理回数)を多くすることもできる。第
1層および第2層の各液膜(あるいは乾燥膜)は一括洗浄によって同時に除去
される。
In the priming processing method or processing apparatus according to the third aspect, the priming process is performed a plurality of times without inserting cleaning on the outer peripheral surface of the priming roller, and a drying process is performed as a post-process each time. First and second dry films of the first layer are formed on the outer peripheral surface of the roller. Then, another subsequent priming process is performed also on the first or second dry film of the first layer, whereby the liquid film of the second layer is superimposed on the first or second dry film of the first layer. Is wound up. Here, the length (circumferential size) of the second layer liquid film wound on the first dry film is the length (circumferential size) of the liquid film wound on the outer peripheral surface of the priming roller. ) Is much shorter. Accordingly, the number of times of liquid film winding of the second layer (number of times of priming processing) can be made larger than the number of times of liquid film winding of the first layer (number of times of priming processing) within one circumference of the priming roller. The liquid films (or dry films) of the first layer and the second layer are simultaneously removed by batch cleaning.
上記第3の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置におい
ても、上記第2の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置と
同様に、プライミングローラ上で洗浄処理を挿まずに連続して実施できるプラ
イミング処理の回数を大幅に増やすことが可能であり、一括洗浄における洗浄
液の使用量の一層大幅な削減を図ることもできる。
In the priming processing method or priming processing apparatus according to the third aspect, as in the priming processing method or priming processing apparatus according to the second aspect, the priming process that can be continuously performed without inserting the cleaning process on the priming roller. The number of cleaning operations can be greatly increased, and the amount of cleaning liquid used in batch cleaning can be further greatly reduced.
本発明の第4の観点におけるプライミング処理装置は、スピンレス法の塗布
処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の
液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、1回分のプライミング
処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔て
て前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定
量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プラ
イミングローラの外周面の上に塗布液の一部を巻き取るプライミング処理部と
、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜またはその
乾燥膜の膜厚分布特性を測定するための膜厚測定部と、前記膜厚測定部より得
られる膜厚分布特性の測定結果に基づいて、前記スリットノズルの吐出機能の
良否を判定するノズル吐出機能判定部とを有する。
A priming processing apparatus according to a fourth aspect of the present invention is a priming processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid as a preparation for coating processing in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing, For one priming process, the discharge port of the slit nozzle is opposed in parallel with a predetermined gap with respect to the top of the priming roller, and a predetermined amount of the coating liquid is discharged to the slit nozzle. A priming treatment section for rotating a priming roller to wind a part of the coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller; and a liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller or a dried film thereof Based on the film thickness measurement part for measuring the film thickness distribution characteristic of the film and the measurement result of the film thickness distribution characteristic obtained from the film thickness measurement part And a nozzle discharge function determination unit determines the quality of the discharge function of the slit nozzle.
上記の構成によれば、プライミング処理を実施した後にプライミングローラ
上に巻き取られている塗布液の液膜またはその乾燥膜の膜厚分布特性からスリ
ットノズルの吐出機能の良否を判定できるので、塗布処理の歩留まりないし信
頼性を向上させることができる。
According to the above configuration, it is possible to determine the quality of the discharge function of the slit nozzle from the film thickness distribution characteristics of the liquid film of the coating liquid wound on the priming roller after the priming process or the dry film thereof. Processing yield and reliability can be improved.
本発明のプライミング処理方法またはプライミング処理装置によれば、上記
のような構成および作用により、プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄
液の使用量を一層削減することができる。
According to the priming processing method or the priming processing apparatus of the present invention, the amount of the cleaning liquid used can be further reduced while ensuring the reliability of the priming processing by the configuration and operation as described above.
以下、添付図を参照して本発明の好適な実施の形態を説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
[プライミング処理装置の構成]
図1に、本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す。
このプライミング処理装置は、たとえばLCD製造プロセス用のフォトリソグ
ラフィー工程においてスピンレス法のレジスト塗布処理を行うレジスト塗布装
置(図示せず)に組み込まれ、レジスト塗布処理のために被処理基板を載置あ
るいは浮上搬送する塗布ステージ(図示せず)の近くに配置される。
[Configuration of Priming Processing Device]
FIG. 1 shows a configuration of a priming processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
This priming processing apparatus is incorporated in a resist coating apparatus (not shown) that performs spinless resist coating processing in, for example, a photolithography process for an LCD manufacturing process, and places or floats a substrate to be processed for resist coating processing. It arrange | positions near the application | coating stage (not shown) to convey.
図示のプライミング処理装置において、ハウジング10は、上面にスリット
状の開口部12を有する長尺形の筐体からなり、収容するプライミングローラ
14をその頂部が開口部12を介して上方に露出するように軸受(図示せず)
で水平かつ回転可能に支持している。
In the illustrated priming apparatus, the
It is supported horizontally and rotatably.
プライミングローラ14は、たとえばステンレス鋼からなる円筒状または円
柱状のローラであり、一定の外径(たとえば100〜150mm)と後述する
スリットノズル72の全長をカバーする長さを有している。ハウジング10も
、たとえばステンレス鋼で作られてよい。
The priming
ハウジング10内には、プライミングローラ14の頂部(最上部)から底部
(最下部)まで正の回転方向(図1では時計回り)に沿って向う途中に、好ま
しくは回転角位置90°〜180°の区間内に、洗浄機構16の洗浄ノズル1
8が設けられている。この洗浄ノズル18は、好ましくは長尺形の2流体ジェ
ットノズル18からなり、プライミングローラ14の全長をカバーする長さで
それと平行に配置され、配管20,22を介して洗浄液供給部24およびガス
供給部26に接続されている。配管24,26の途中には開閉弁28,30が
それぞれ設けられている。
In the
8 is provided. The cleaning
プライミングローラ14を洗浄する時は、開閉弁28,30が開けられ、2
流体ジェットノズル18は、洗浄液供給部24およびガス供給部26よりそれ
ぞれ洗浄液(たとえばシンナー)およびガス(たとえばエアまたは窒素ガス)
を所望の流量で受け取り、ノズル内で洗浄液とガスとを混合してスリットまた
は多孔型の吐出口よりジェット流でプライミングローラ16の外周面に噴き付
けるように構成されている。洗浄制御部25は、洗浄液供給部24、ガス供給
部26および開閉弁28,30を制御し、特に後述する主制御部70からの指
示の下で洗浄液およびガスの流量を個別的かつ任意に制御できるようになって
いる。
When cleaning the priming
The
Is received at a desired flow rate, and the cleaning liquid and gas are mixed in the nozzle and sprayed onto the outer peripheral surface of the priming
開口部12と洗浄機構16との間の区間は、ハウジング10の内壁がプライ
ミングローラ14の外周面と接触しない程度の僅かな隙間を残して近接し、ミ
スト遮蔽部32となっている。プライミングローラ14を洗浄する時に2流体
ジェットノズル18の周囲で発生するミストは、ミスト遮蔽部32の隙間を通
って開口部12側へ出ることはなく、そこで遮断されるようになっている。
The section between the
ハウジング10内には、プライミングローラ14を中心にしてミスト遮蔽部
32および洗浄機構16の反対側に、ミスト引き込み部34、吸引口36およ
び強制乾燥部38が設けられている。
In the
ミスト引き込み部34は、好ましくは、プライミングローラ14の頂部から
回転方向に沿って回転角位置180°〜270°の区間内に設けられる。図示
の構成例のミスト引き込み部34は、該区間内でハウジング10の内壁とプラ
イミングローラ14の外周面との間に形成されたミスト引き込み用の隙間40
を有している。
The mist pull-in
have.
強制乾燥部38は、好ましくは、プライミングローラ14の頂部から回転方
向に沿って回転角位置270°〜360°の区間内に設けられる。図示の構成
例の強制乾燥部38は、該区間内でハウジング10の内壁とプライミングロー
ラ14の外周面との間に形成された液切り用の隙間42を有している。
The forced drying
吸引口36は、バキューム通路44およびバキューム管46を介して、たと
えば真空ポンプまたは吸気ファン(図示せず)およびミストトラップまたはフ
ィルタ等を有するバキューム装置48に通じている。バキューム通路44の終
端付近には、排気弁制御部50によって開閉制御される排気ダンパ52が設け
られている。バキューム装置48をオンにして、排気ダンパ52を開状態にす
ると、ミスト引き込み部34および強制乾燥部38が作動し、ミスト引き込み
用の隙間40および液切り用の隙間42に外から吸気口36に向ってミスト引
き込み用の気流および液切り用の気流がそれぞれ流れるようになっている。排
気ダンパ52を閉じると、バキューム装置48がオンしていても、吸気口36
にはバキュームが及ばず、ミスト引き込み部34および強制乾燥部38はオフ
状態になる。
The
Therefore, the vacuum does not reach, and the mist pull-in
このプライミング処理装置において、プライミングローラ14の周囲を強制
的に排気するための排気機構45は、上記のようにミスト引き込み部34、吸
引口36、強制乾燥部38、バキューム装置48、排気弁制御部50および排
気ダンパ52を備えている。
In this priming processing apparatus, the
ハウジング10の底には、プライミングローラ14の真下の位置にドレイン
口54が形成されている。このドレイン口54は排液管56を介してドレイン
タンク58に通じている。
A
このプライミング処理装置において、プライミングローラ14を回転させる
ための回転機構65は、モータ60、回転制御部62およびエンコーダ64を
備えている。モータ60は、好ましくはサーボモータからなり、その回転駆動
軸はたとえばプーリや伝動ベルト等の伝動機構(図示せず)を介してプライミ
ングローラ14の回転軸に接続されている。回転制御部62は、モータ60の
基本動作(回転、停止、速度制御等)だけでなく、エンコーダ64を通じてモ
ータ60の回転量および回転角度位置を任意に制御できるようになっている。
In this priming processing apparatus, a
このプライミング処理装置には、プライミングローラ14上のレジスト膜の
膜厚を測定するための膜厚測定部67が設けられている。膜厚測定部67は、
膜厚センサ66および膜厚演算部68を有している。
This priming processing apparatus is provided with a film
A
膜厚センサ66は、スリットノズル72と干渉を起こさないように開口部1
2の近傍に設置または配置され、その位置から真向かいのプライミングローラ
14の外周面上に付着しているレジスト膜またはその液膜の膜厚を非接触式つ
まり光学式で測定する。別の構成例として、膜厚センサ66をたとえば支持ア
ーム等で可動に支持し、スリットノズル72がハウジング10の開口部12か
ら遠ざかっているときに、膜厚センサ66を開口部12の上に位置合わせして
もよい。
The
The film thickness of the resist film or its liquid film that is installed or disposed in the vicinity of 2 and adheres to the outer peripheral surface of the priming
膜厚演算部68は、膜厚センサ66の出力信号を入力して、プライミングロ
ーラ14上のレジスト液膜の膜厚測定値を演算する。好ましくは、プライミン
グローラ14の軸方向に一定間隔で複数個の膜厚センサ66が一列に配置され
、プライミングローラ14の周回方向だけでなく軸方向においてもレジスト液
膜の膜厚分布特性を測定できるようになっている。膜厚測定部67で得られる
膜厚測定値ないし膜厚分布特性測定値は、主制御部70に送られる。
The film
主制御部70は、所定のソフトウェアにしたがって動作するマイクロコンピ
ュータを含み、このプライミング処理装置内の洗浄機構16、排気機構45、
回転機構65および膜厚測定部67の動作を統括して制御する。図示の構成例
では、主制御部70が、バキューム装置48、膜厚センサ66および膜厚演算
部68の各動作を直接制御するとともに、洗浄制御部25、排気弁制御部50
および回転制御部62を通じて2流体ジェットノズル18、排気ダンパ52お
よびモータ60の各動作を制御する。さらに、主制御部70は、回転機構65
の回転制御部62を通じてプライミングローラ14の回転量および回転角位置
を把握ないし制御できるようになっている。
The
The operations of the
The operation of the two-
The
また、主制御部70は、このプライミング処理装置内の全体のシーケンスを
統括して制御するとともに、少なくともプライミング処理に関しては、当該レ
ジスト塗布装置に備わっているレジスト塗布処理用のスリットノズル72の一
切の動作を制御するようになっている。
The
すなわち、当該レジスト塗布装置において、スリットノズル72は、ノズル
移動機構74によって支持され、かつ予め設定されたスペース内で任意の位置
に搬送され、任意の位置に位置決めされるようになっている。また、スリット
ノズル72には、レジスト供給部76よりレジスト供給管78を介してレジス
ト液が供給される。ここで、レジスト供給管78には開閉弁80が設けられて
いる。プライミング処理に関しては、主制御部70が、ノズル移動機構74、
レジスト供給部76、開閉弁80を通じて、スリットノズル72の移動や位置
決め、およびレジスト液吐出動作を制御するようになっている。
That is, in the resist coating apparatus, the
The movement and positioning of the
[プライミング処理方法の第1の実施例]
次に、図2〜図8につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミ
ング処理方法の第1の実施例を説明する。
[First embodiment of priming method]
Next, with reference to FIGS. 2 to 8, a first embodiment of a priming processing method that can be performed by this priming processing apparatus will be described.
このプライミング処理装置が組み込まれている当該レジスト塗布装置におい
ては、塗布ステージ上で基板一枚分の塗布処理が終了する度毎に次の塗布処理
の下準備としてこのプライミング処理装置で1回分のプライミング処理が行わ
れる。
In the resist coating apparatus in which the priming processing apparatus is incorporated, every time the coating process for one substrate is completed on the coating stage, one priming is performed by the priming processing apparatus as preparation for the next coating process. Processing is performed.
図2に、プライミングローラ14の外周面が全周にわたり清浄な状態にリセ
ットされてから最初(1回目)のプライミング処理が行われるときの各段階を
示す。図3に、図2のプライミング処理動作におけるプライミングローラ14
の回転速度を時間軸上の波形で示す。
FIG. 2 shows each stage when the first (first) priming process is performed after the outer peripheral surface of the priming
The rotation speed is shown as a waveform on the time axis.
この1回目のプライミング処理では、先ず、図1に示すように、スリットノ
ズル72の吐出口がプライミングローラ14の頂部と所定のギャップ(たとえ
ば数十〜数百μm)を隔てて平行に対向するように、ノズル移動機構74を通
じてスリットノズル72を位置決めする。この場面では、洗浄機構16はもち
ろん、排気機構45も止めたままにしておく。
In the first priming process, first, as shown in FIG. 1, the discharge port of the
次に、図2のI(吐出)に示すように、プライミングローラ14を静止させ
たままで、レジスト供給部76を通じてスリットノズル72に一定量のレジス
ト液Rを吐出させる。
Next, as shown in I (discharge) in FIG. 2, a predetermined amount of resist solution R is discharged to the
このレジスト液吐出の動作は、一定時間(図3のt0〜t1)内に行われる。
スリットノズル72の吐出口より吐出されたレジスト液Rは、プライミングロ
ーラ14の頂部付近に着液してから周回方向で周囲に広がる。
The operation of the resist solution discharge is performed for a
The resist liquid R discharged from the discharge port of the
次いで、回転機構65により所定のタイミング(図3の時点t1)でプライ
ミングローラ14に回転動作を開始させ、図2のII(巻き取り)に示すように
、レジスト液Rをスリットノズル72の背面下部72aに回り込ませるように
して、プライミングローラ14の外周面上にレジスト液Rを巻き取る。ここで
、レジスト液Rを巻き取るときの回転速度Vaは、レジスト液Rの液膜を早急
に断ち切ってしまわないような比較的低い速度が好ましく、たとえば周速度で
数十mm/秒に選ばれる。
Then, by the
次いで、所定のタイミング(図3の時点t2)でプライミングローラ14の
回転速度を一気に上げる。これによって、図2のIII(切り離し)に示すよう
に、レジスト液Rの液膜が切り離されて、スリットノズル72側とプライミン
グローラ14側とに分かれる。この際、スリットノズル72を上昇させると、
レジスト液膜の分離を所定の部位でより円滑かつ確実に行うことができる。こ
うして、スリットノズル72には、ノズル吐出口から背面下端部72aにかけ
てレジスト液の液膜RFが残る。一方、プライミングローラ14の外周面上に
は、上記のようにして巻き取られたレジスト液の液膜RM1が残る。このレジ
スト液膜RM1の周回方向巻き取りサイズは、回転角度範囲でたとえば70°
〜75°のサイズに設定することができる。
Next, the rotational speed of the priming
The resist liquid film can be separated more smoothly and reliably at a predetermined site. Thus, the resist film liquid film RF remains on the
It can be set to a size of ~ 75 °.
この実施例では、レジスト液膜RM1を切り離した後も、図2のIV(自然乾
燥)に示すようにプライミングローラ14の回転をそのまま継続させる。この
際、プライミングローラ14の回転速度は、図3の実線Vで示すように、レジ
スト液膜を切り離した直後(図3の時点t3)の速度Vb(たとえば周速度で数
百mm/秒)をそのまま維持してもよく、あるいは仮想線(一点鎖線)V’で
示すように異なる速度(たとえば周速度で数十mm/秒)に切り換えてもよい
。なお、この自然乾燥(IV)の間も、排気機構45は止めておく。
In this embodiment, after disconnecting the resist solution film RM 1 also as to continue the rotation of the priming
この実施例では、このようにプライミングローラ14上に巻き取られたレジ
スト液膜RM1を切り取った後もプライミングローラ14の回転をそのまま継
続させる動作によって、2つの重要な効果が奏される。
In this embodiment, by directly operation to continue the rotation of the priming
第1の効果は、プライミングローラ14上に巻き取られたレジスト液膜RM
1の液垂れを防止できることである。すなわち、巻き取り(II)および切り離
し(III)の動作中に、プライミングローラ14上のレジスト液膜RM1は、プ
ライミングローラ14の頂部から底部に向って周回方向に移動する。
The first effect is that the resist liquid film RM wound on the priming
1 can prevent dripping. That is, during the operation of winding (II) and disconnect (III), the resist solution film RM 1 on priming
仮に、ここでプライミングローラ14の回転を止めたならば、レジスト液膜
RM1には重力によって周回方向下向きの力が持続的に働いて、プライミング
ローラ14の外周面上でレジスト液膜RM1が下に垂れる(広がる)。スリッ
トノズルを使用するスピンレス塗布法では、通常20cp以下の低粘度レジス
ト液が使用されるため、プライミングローラ上で上記のようなレジスト液膜の
液垂れが生じやすい。
If the rotation of the priming
しかるに、この実施例では、プライミングローラ14の回転を止めずにその
まま継続させることによって、レジスト液膜RM1に働く重力の作用(液垂れ
を誘引する力)を実質的にキャンセルし、プライミングローラ14上に巻き取
ったレジスト液膜RM1を液垂れで広げることなく表面張力で所定の領域(分
割領域)内に止めておくことができる。
However, in this embodiment, by continuing the rotation of the priming
第2の効果として、排気機構45を止めたまま、プライミングローラ14の
回転を継続させることにより、プライミングローラ14上に巻き取られたレジ
スト液膜RM1を短時間で効率よく自然乾燥させることができる。
As a second effect, by continuously rotating the priming
すなわち、排気機構45をオンにしてプライミングローラ14を回転させる
と、プライミングローラ14上のレジスト液膜RM1が強制乾燥部38の隙間
42の中で逆風による大きなストレスを受けて、膜厚均一性を低下させやすい
。特に、強制乾燥部38の隙間42内でレジスト液膜RM1に加わる逆風の圧
力に軸方向でばらつきがあると、レジスト液膜RM1の表面に周回方向に延び
る筋状の凹凸が付きやすい。排気機構45を止めておけば、プライミングロー
ラ14の回転中にその外周面上のレジスト液膜RM1は隙間42を通過する時
でも逆風の圧力を受けることはなく、大気中に静止状態で放置されていた場合
と同等の自然乾燥を受ける。
That is, when the priming
こうして、プライミングローラ14上のレジスト液膜RM1は、自然乾燥に
よって、膜の内部は液状のままで膜の表層部が乾燥固化した半乾きまたは生乾
きの状態になる。このような半乾きの状態に至ると、プライミングローラ14
の回転を止めても、レジスト液膜RM1の液垂れは生じない。
Thus, the resist liquid film RM 1 on priming
Even stop the rotation, dripping of the resist solution film RM 1 does not occur.
この実施形態では、自然乾燥工程後の半乾き状態になったレジスト液膜RM
i(i=1,2,3・・)を、自然乾燥工程前の完全な液状態の液膜と区別す
るために、レジスト乾燥膜[RMi]と称する。
In this embodiment, the resist liquid film RM that is in a semi-dry state after the natural drying step.
i (i = 1, 2, 3,...) is referred to as a resist dry film [RM i ] in order to distinguish it from a completely liquid film before the natural drying process.
上記のようなプライミングローラ14の回転によるレジスト液膜RM1の自
然乾燥(IV)は、一定の時間(図3のt3〜t4)をかけて行われる。この間に
、スリットノズル72は、ノズル移動機構74によって塗布ステージへ送られ
、そこで基板一枚分のレジスト塗布処理に供される。そして、レジスト塗布処
理を終えると、スリットノズル72は、再びこのプライミング処理装置へ戻っ
てきて、図1に示すように、その吐出口がプライミングローラ14の頂部に対
して所定のギャップを隔てて平行に対向するように位置決めされる。
The natural drying (IV) of the resist liquid film RM 1 by the rotation of the priming
図4に、2回目のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。この2
回目のプライミング処理では、図4のI(吐出)に示すように、前回(1回目
)のプライミング処理でプライミングローラ14に巻き取られている第1のレ
ジスト乾燥膜[RM1]を外してプライミングローラ14の頂部をスリットノ
ズル72の吐出口に対向させた状態で、スリットノズル72に一定量のレジス
ト液Rを吐出させる。
FIG. 4 shows each stage when the second priming process is performed. This 2
In the first priming process, as shown by I (discharge) in FIG. 4, the first resist dry film [RM 1 ] wound around the priming
次いで、図4に示すように、1回目のプライミング処理のときと同じ動作お
よびタイミングでレジスト液Rの巻き取り(II)、切り離し(III)、自然乾
燥(IV)の各工程が順次行われる。
Next, as shown in FIG. 4, the steps of winding up the resist solution R (II), separating (III), and natural drying (IV) are sequentially performed at the same operation and timing as in the first priming process.
この場合も、1回目のプライミング処理のときと同様に、巻き取り(II)お
よび切り離し(III)の工程により、プライミングローラ14の外周面上に所
定の周回方向サイズ(回転角度範囲で70°〜75°)でレジスト液Rが巻き
取られてレジスト液膜RM2が形成される。そして、プライミングローラ14
の回転をそのまま継続して切り離し(III)から自然乾燥(IV)の動作に移行
し、液垂れを起こさずに所定の領域内でレジスト液膜RM2を自然乾燥させる
。こうして、プライミングローラ14の外周面上には、第1レジスト乾燥膜[
RM1]とは異なる領域に、通常は回転方向において下流側の隣に設定された
分割領域内に、今回(2回目)のプライミング処理に付随した残存物として第
2レジスト乾燥膜[RM2]が所定の周回方向サイズ(70°〜75°)で形
成される。
Also in this case, in the same manner as in the first priming process, the winding (II) and separation (III) steps are performed on the outer circumferential surface of the priming
Proceeds to the operation of the air drying (IV) rotates as it is from the disconnection continues (III) of, to dry naturally resist solution film RM 2 at a predetermined area without causing dripping. Thus, on the outer peripheral surface of the priming
The second resist dry film [RM 2 ] as a residue associated with the current (second) priming process in a region different from RM 1 ], usually in a divided region set next to the downstream side in the rotation direction. Is formed in a predetermined circumferential direction size (70 ° to 75 °).
3回目のプライミング処理も、図示省略するが、上述した1回目および2回
目のプライミング処理と同じ手順および動作で行われる。結果として、第1お
よび第2のレジスト乾燥膜[RM1],[RM2]とは異なる領域に、通常は回
転方向において第2レジスト乾燥膜[RM2]の下流側の隣に設定された分割
領域内に、3回目のプライミング処理に付随した残存物として第3レジスト乾
燥膜[RM3]が所定の周回方向サイズ(70°〜75°)で形成される。
Although not shown, the third priming process is performed in the same procedure and operation as the first and second priming processes described above. As a result, it was set in a region different from the first and second resist dry films [RM 1 ] and [RM 2 ], usually next to the downstream side of the second resist dry film [RM 2 ] in the rotation direction. A third resist dry film [RM 3 ] is formed in a predetermined circumferential direction size (70 ° to 75 °) as a residue associated with the third priming process in the divided region.
なお、3回目のプライミング処理が終了した時点で、第3レジスト乾燥膜[
RM3]は上述したように自然乾燥により半乾き状態になっているが、第1お
よび第2レジスト乾燥膜[RM1],[RM2]も依然として半乾き状態を保っ
ている。すなわち、第1および第2レジスト乾燥膜[RM1],[RM2]は、
プライミングローラ14上で強制乾燥処理や加熱処理を一切受けていないので
、自然乾燥の時間が数倍長くてもまだ半乾き状態のままでいる。
When the third priming process is completed, the third resist dry film [
As described above, RM 3 ] is in a semi-dry state by natural drying, but the first and second resist dry films [RM 1 ] and [RM 2 ] are still in a semi-dry state. That is, the first and second resist dry films [RM 1 ] and [RM 2 ] are
Since no forced drying process or heating process has been performed on the priming
この第1の実施例では、プライミングローラ14の外周面が全周にわたり清
浄な状態にリセットされてから連続して所定回数たとえば4回のプライミング
処理を行った直後に、プライミングローラ14の一括洗浄(外周面全周の清浄
化)を行うようにしている。
In the first embodiment, immediately after the priming process is performed a predetermined number of times, for example, four times after the outer peripheral surface of the priming
図5に、プライミングローラ14の一周内で最後(4回目)のプライミング
処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を示す。図6に、図5
のプライミング処理動作および一括洗浄処理動作におけるプライミングローラ
14の回転速度を時間軸上の波形で示す。
FIG. 5 shows each stage when the last (fourth) priming process and the immediately following batch cleaning process are performed within one rotation of the priming
The rotational speed of the priming
最後(4回目)のプライミング処理でも、図5に示すように、レジスト液R
の吐出(I)、巻き取り(II)および切り離し(III)の各工程は1回目〜3
回目の各プライミング処理のときと同じであり、プライミングローラ14の外
周面上には回転方向において第3レジスト乾燥膜[RM3]の下流側隣の分割
領域内にレジスト液膜RM4が巻き取られる。
In the final (fourth) priming process, as shown in FIG.
Each process of discharging (I), winding (II) and separating (III) is first to third
The resist liquid film RM 4 is wound on the outer peripheral surface of the priming
しかし、切り離し(III)の後は、自然乾燥(IV)の工程をスキップして、
プライミングローラ14の回転を継続したまま、洗浄(V)の工程に移行する。
この洗浄(V)の工程では、洗浄機構16および排気機構45を作動させる。
However, after separation (III), skip the natural drying (IV) process,
While the rotation of the priming
In this cleaning (V) step, the
なお、洗浄(V)の工程を開始する前に、主制御部70は、回転機構65およ
び膜厚測定部67を通じて、プライミングローラ14上に付着しているレジス
ト乾燥膜[RM1],[RM2],[RM3]およびレジスト液膜RM4の範囲
(面積)および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて洗浄(V)の工程におけ
る洗浄液の使用量を演算によって決定する。たとえば、プライミングローラ1
4上に付着している全てのレジスト膜(液膜または乾燥膜)の総レジスト量(
範囲×膜厚)を基準値とし、洗浄液使用量をその基準値(総レジスト量)に等
しい値に決定してよい。
Before starting the cleaning (V) process, the
4 Total resist amount of all resist films (liquid film or dry film) adhering to (
Range × film thickness) may be a reference value, and the amount of cleaning liquid used may be determined to be equal to the reference value (total resist amount).
また、レジスト膜測定に関しては、通常はプライミングローラ14上で同じ
プライミング処理が繰り返されるので、各分割領域に付着しているレジスト膜
[RM1],[RM2],[RM3],RM4の範囲および膜厚は同じであると
みなし、その中の一つ、たとえば[RM1]の範囲(面積)および膜厚だけの
測定で済ましてもよい。
Regarding the resist film measurement, since the same priming process is normally repeated on the priming
洗浄(V)の工程における好適な一態様として、主制御部70は、2流体ジェ
ットノズル18がプライミングローラ14の外周面全周の中でレジスト膜[R
M1],[RM2],[RM3],RM4が付着している領域のみに洗浄液およ
びエアの2流体ジェット流を噴き付けるように、回転機構65と洗浄機構16
とを連動(連携)させて制御する。ここで、洗浄液の流量ないし使用量は、上
記のようなレジスト膜測定に基づいて決定されたものである。
As a preferred embodiment in the cleaning (V) process, the
The
Are controlled in conjunction with each other. Here, the flow rate or amount of use of the cleaning liquid is determined based on the resist film measurement as described above.
こうして、2流体ジェットノズル18より噴射される2流体ジェット流の強
い衝撃力により、プライミングローラ14の外周面上に付着したばかりのレジ
スト液膜RM4はもちろん半乾き状態のレジスト乾燥膜[RM1],[RM2]
,[RM3]も容易に洗い落とされ、その多くは洗浄液に混じって直下のドレ
イン口54へ落下し、残りはミストmaに変じて付近に飛散する。こうして一
括洗浄中に2流体ジェットノズル18の周囲で発生するミストmaのうち上方
へ舞い上がったものは、ミスト遮蔽部32に遮られ、ハウジング10の開口部
12側に出ることはほとんどない。
Thus, the resist liquid film RM 4 just deposited on the outer peripheral surface of the priming
, [RM 3 ] are easily washed off, and most of them are mixed with the washing liquid and fall to the
一方、排気機構45では、排気ダンパ52が開いて、バキューム装置48か
らのバキュームがバキューム管46、バキューム通路44および吸引口36を
介してミスト引き込み部34および強制乾燥部38に供給される。
On the other hand, in the
図7に示すように、ミスト引き込み部34は、2流体ジェットノズル18の
周囲で発生するミストmaを隙間40の下端から中に吸い込み、隙間40の中
でミストmaをプライミングローラ14の外周面に沿って回転方向に流し、隙
間40の上端から吸引口36に出たミストmaをバキューム装置48へ送る。
強制乾燥部38は、開口部12を介して上方の大気空間よりエアを隙間42の
中に吸い込んで、隙間42の中でエアをプライミングローラ14の外周に沿っ
て回転方向と逆向きに流し、プライミングローラ14の外周面に残っている液
をエアの圧力で削ぎ落として液滴化し、隙間42の下端から吸引口36に出た
ミストmbをバキューム装置48へ送る。このように、バキュームを利用して
プライミングローラ14の外周面に対して回転方向と逆向きのエア流を当てて
液切りし、その液切りで発生したミストmbをそのままバキュームで回収する
ので、乾燥効率が高いうえミストの飛散を防止することができる。
As shown in FIG. 7, the mist pull-in
The forced drying
上記のような洗浄(V)の工程を開始してから所定時間が経過した時(図6
の時点t5)に洗浄機構16をオフして、2流体ジェット洗浄を止める。その
後は、プライミングローラ14を連続回転させたまま排気機構45(ミスト引
き込み部34および強制乾燥部38)の動作だけを継続させ、プライミングロ
ーラ14の外周面を全周に亘りバキュームの力で乾かす強制乾燥(VI)の工程
に切り換える。そして、所定時間の経過後に、排気ダンパ52を閉じて排気機
構45をオフにして乾燥処理を停止し、これで一括洗浄処理の全工程を終了す
る。
When a predetermined time has elapsed since the start of the cleaning (V) process as described above (FIG. 6).
At the time t 5 ), the
なお、タクトを揃える観点から、一括洗浄処理において洗浄(V)および強制
乾燥(VI)を合わせた全処理時間(図6のt3〜t6)が、自然乾燥(IV)の処
理時間(図3のt3〜t4)と同じ長さ(たとえば60秒)に設定されるのが好
ましい。この場合、洗浄(V)の処理時間(図6のt3〜t5)がたとえば20秒
に設定され、強制乾燥(VI)の処理時間(図6のt5〜t6)がたとえば40秒
に設定されてよい。
From the viewpoint of aligning tact, the total processing time (t 3 to t 6 in FIG. 6) including the cleaning (V) and the forced drying (VI) in the batch cleaning processing is the processing time of natural drying (IV) (FIG. 6 ). 3 t 3 ~t 4) the same length (e.g. preferably set to 60 seconds). In this case, the processing time for cleaning (V) (t 3 to t 5 in FIG. 6) is set to 20 seconds, for example, and the processing time for forced drying (VI) (t 5 to t 6 in FIG. 6 ) is set to 40 seconds, for example. May be set.
上述したように、この第1の実施例によれば、プライミングローラ14の外
周面をその周回方向に複数(たとえば4つ)に分割して各分割領域を連続する
所定回数(4回)のプライミング処理に割り当てて使用し、最後(4回目)の
プライミング処理を除く各プライミング処理においては、レジスト液の液膜R
Miを巻き取った後もプライミングローラ14の回転をそのまま継続させる動
作によって、レジスト液膜RMiの液垂れを防止してレジスト液膜RMiを各分
割(割当)領域内に保持できるとともに、レジスト液膜RMiを短時間で効率
よく自然乾燥させて半乾き状態のレジスト乾燥膜[RMi]とすることができ
る。
As described above, according to the first embodiment, the outer peripheral surface of the priming
By directly operation to continue the rotation of the priming
このように、プライミングローラ14上で、レジスト液膜RMiの液垂れを
防止できるので、隣の未使用分割領域を汚すおそれはなく、したがって後続の
プライミング処理が前のプライミング処理によって影響を受けることはなく、
プライミング処理の再現性および信頼性を向上させることができる。
Thus, on the priming
The reproducibility and reliability of the priming process can be improved.
また、プライミングローラ14上に付着した各レジスト液膜RMiは自然乾
燥による半乾き状態のレジスト乾燥膜[RMi]として、あるいは完全な液状
の状態で洗浄されるので、洗い落としが容易であり、洗浄機構16の負担を軽
減し、洗浄液の使用量を少なくすることができる。
In addition, each resist liquid film RM i attached on the priming
さらに、一括洗浄では、プライミングローラ14の外周面のうちレジスト膜
[RM1],[RM2],[RM3],RM4が付着している領域のみに適量の
洗浄液を噴き付けるので、洗浄液の使用量を一層削減することができる。
Further, in the collective cleaning, an appropriate amount of cleaning liquid is sprayed only on the region where the resist films [RM 1 ], [RM 2 ], [RM 3 ], and RM 4 are adhered on the outer peripheral surface of the priming
なお、図示の例では、プライミングローラ14の外周面を4分割し、1回の
プライミング処理における周回方向のレジスト液巻き取りサイズを70°〜7
5°とした。しかし、任意の分割数および巻き取りサイズが可能であり、たと
えば1回当たりの周回方向巻き取りサイズを70°以下で済まし、プライミン
グローラ14の外周面を5分割して5回連続使用することも可能である。また
、プライミングローラ14の外周面上に一周に亘って設定される複数の分割領
域の間でプライミング処理に使用される順序は任意(順不同)であり、配列順
序に一致させなくてもよい。
In the illustrated example, the outer peripheral surface of the priming
The angle was 5 °. However, any number of divisions and take-up sizes are possible. For example, the take-up size in the circumferential direction per turn may be 70 ° or less, and the outer peripheral surface of the priming
図8に、上述した第1の実施例によるプライミング処理方法の大まかな手順
を斜視図で示す。
FIG. 8 is a perspective view showing a rough procedure of the priming processing method according to the first embodiment described above.
[プライミング処理方法の第2の実施例]
次に、図9〜図12につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライ
ミング処理方法の第2の実施例を説明する。
[Second Embodiment of Priming Method]
Next, a second embodiment of the priming processing method that can be performed by this priming processing apparatus will be described with reference to FIGS.
この第2の実施例は、プライミングローラ14上で洗浄処理を挿まずに連続
して行えるプライミング処理の回数を飛躍的に増やせる手法である。この実施
例では、プライミングローラ14の外周面を使用して一周内の最後(4回目)
のプライミング処理においてプライミングローラ14上に巻き取られたレジス
ト液の液膜RM4を切り離すステップ(図5のIII(切り離し))までは、第1
の実施例と同じプロセスを経る。
The second embodiment is a technique that can dramatically increase the number of priming processes that can be performed continuously without inserting a cleaning process on the priming
In the first priming process, the first step until the step (III (separation) in FIG. 5) of separating the resist solution liquid film RM 4 wound on the priming
It goes through the same process as in the example.
第2の実施例において、この先は、一括洗浄(V)ではなく、1回目〜3回
目のプライミング処理の場合と同様に自然乾燥(IV)の工程に移行する。結果
として、プライミングローラ14の外周面上には、第3レジスト乾燥膜[RM
3]と第1レジスト乾燥膜[RM1]との間に設定された分割領域内に、4回目
のプライミング処理に付随した残存物として第4レジスト乾燥膜[RM4]が
所定の周回方向サイズ(70°〜75°)で形成される。
In the second embodiment, this is not the batch cleaning (V), and the process proceeds to the natural drying (IV) process as in the first to third priming processes. As a result, the third resist dry film [RM] is formed on the outer peripheral surface of the priming
3 ] and the first resist dry film [RM 1 ], the fourth resist dry film [RM 4 ] has a predetermined circumferential size as a residue associated with the fourth priming process. (70 ° to 75 °).
次いで、図9に示すように、主制御部70は、回転機構65および膜厚測定
部67を通じて、プライミングローラ14上に付着している全てのレジスト乾
燥膜[RM1],[RM2],[RM3],[RM4]の各々の膜厚分布特性を
測定する。上述したような洗浄(V)前の膜厚測定は洗浄液の使用量を決定す
るためのものであるからそれほど高い精度を必要としないが、この場面での膜
厚分布特性はプライミング処理の信頼性(再現性)に直接関係するため出来る
だけ高い精度で測定するのが望ましい。
Next, as shown in FIG. 9, the
すなわち、この第2の実施例では、プライミングローラ14の外周面上に形
成された第1層のレジスト乾燥膜[RM1],[RM2],[RM3],[RM
4]は、後続のプライミング処理においてスリットノズル72から吐出される
レジスト液Rを受ける下地に使われる。この下地膜の膜厚均一性(平坦度)は
、その上に巻き取られるレジスト液膜の均一性(平坦度)だけでなく、スリッ
トノズル72の吐出口側に残るレジスト液膜RFの均一性に影響し、ひいては
レジスト塗布処理で基板上に塗布されるレジスト膜の膜厚均一性に影響する。
That is, in the second embodiment, the first resist dry film [RM 1 ], [RM 2 ], [RM 3 ], [RM] formed on the outer peripheral surface of the priming
4 ] is used as a base for receiving the resist solution R discharged from the
この点に関して、自然乾燥(IV)の工程は、プライミングローラ14上のレ
ジスト液膜RMiに強制乾燥によるストレスを与えないので、通常は膜厚均一
性(平坦度)の優れたレジスト乾燥膜[RMi]を得ることができる。しかし
、周囲からの不所望な圧力あるいは振動等の外乱があったり、スリットノズル
72の吐出機能に異常があったりすると、レジスト乾燥膜[RMi]の膜厚均
一性(平坦度)が良くない場合もあり得る。この実施形態では、プライミング
処理の精度および再現性に万全を期すために、上記のように回転機構65およ
び膜厚測定部67を作動させて、全てのレジスト乾燥膜[RM1],[RM2]
,[RM3],[RM4]について膜厚均一性を検査する。
In this regard, the natural drying (IV) process does not apply stress due to forced drying to the resist liquid film RMi on the priming
, [RM 3 ], [RM 4 ] are inspected for film thickness uniformity.
より詳しくは、主制御部70は、膜厚分布特性の測定結果に基づき、膜厚均
一性が所定の基準を超えるときは、当該レジスト乾燥膜[RMi]を後続の別
のプライミング処理に使用可能な良品と判定する。しかし、膜厚均一性が該基
準を超えないときは、当該レジスト乾燥膜[RMi]を後続のプライミング処
理には使用不可の不良品と判定する。以下の説明では、第1層のレジスト乾燥
膜[RM1],[RM2],[RM3],[RM4]が全て使用可(良品)の認
定を受けたものとする。
More specifically, the
図10に、第2の実施例において、プライミングローラ14の外周面上に既
に形成されている第1レジスト乾燥膜[RM1]の上で後続たとえば5回目の
プライミング処理が行われるときの各段階を示す。
In FIG. 10, in the second embodiment, each stage when the subsequent priming process is performed on the first resist dry film [RM 1 ] already formed on the outer peripheral surface of the priming
この5回目のプライミング処理では、先ず、第1層の第1レジスト乾燥膜[
RM1]をプライミングローラ14の頂部に位置させて、スリットノズル72
の吐出口がプライミングローラ14の頂部と所定のギャップ(たとえば数十〜
数百μm)を隔てて平行に対向するように、ノズル移動機構74を通じてスリ
ットノズル72を位置決めする。
In the fifth priming process, first, the first resist dry film of the first layer [
RM 1 ] is positioned on the top of the priming
Of the priming
The
次に、図10のI(吐出)に示すように、プライミングローラ14を静止さ
せたままで、レジスト供給部76を通じてスリットノズル72に一定量のレジ
スト液Rを吐出させる。
Next, as shown in I (discharge) in FIG. 10, a predetermined amount of resist solution R is discharged to the
このレジスト液吐出の動作は、一定時間(図3のt0〜t1)内に行われる。
スリットノズル72の吐出口より吐出されたレジスト液Rは、プライミングロ
ーラ14の頂部つまり第1層の第1レジスト乾燥膜[RM1]上に着液してか
ら周回方向で周囲に広がる。
This resist solution discharging operation is performed within a certain time (t 0 to t 1 in FIG. 3).
The resist solution R discharged from the discharge port of the
次いで、回転機構65により所定のタイミングでプライミングローラ14に
回転を開始させ、図10のII(巻き取り)に示すように、レジスト液Rをスリ
ットノズル72の背面下部72aに回り込ませるようにして、第1レジスト乾
燥膜[RM1]上にレジスト液Rを巻き取る。
Next, the
ここで、スリットノズル72より吐出されたレジスト液Rは同一材質である
第1レジスト乾燥膜[RM1]に付着しやすいので、プライミングローラ14
の外周面上に巻き取るときよりも巻き取り時間(図3のt1〜t2)を一段短く
する。これにより、切り離し(III)の工程によって第1レジスト乾燥膜[R
M1]側に残るレジスト液膜rm1はプライミングローラ14の外周面上で切り
離し(III)を行った場合よりも大きな膜厚と短い長さ(周回方向巻き取りサ
イズ)を有している。なお、スリットノズル72側に残るレジスト液膜RFは
、プライミングローラ14の外周面上で切り取り(III)を行った場合と略同
じである。
Here, since the resist solution R discharged from the
The winding time (t 1 to t 2 in FIG. 3) is made shorter by one step than when winding on the outer peripheral surface. As a result, the first resist dry film [R
The resist liquid film rm 1 remaining on the M 1 ] side has a larger film thickness and a shorter length (a winding direction winding size) than when the separation (III) is performed on the outer peripheral surface of the priming
一例として、第1層のレジスト乾燥膜[RM1]の周回方向巻き取りサイズ
が40mmである場合に、今回(5回目)のプライミング処理で第1層のレジ
スト乾燥膜[RM1]上に巻き取られる第2層のレジスト液Rの液膜rm1の周
回方向巻き取りサイズを10mm以下にすることができる。なお、プライミン
グ処理でプライミングローラ14側に巻き取られるレジスト液膜の膜厚は通常
数μm以下であるから、多層重ねの巻き取りを行っても、スリットノズル72
とプライミングローラ14間のギャップ間隔(数十〜数百μm)に実質的な影
響を与えることはない。
As an example, when the winding direction winding size of the first layer resist dry film [RM 1 ] is 40 mm, it is wound on the first layer resist dry film [RM 1 ] by the priming process of this time (fifth time). The winding-up size of the liquid film rm 1 of the second layer resist solution R taken can be made 10 mm or less. The film thickness of the resist liquid film wound around the priming
And the gap interval (several tens to several hundreds μm) between the priming
切り離し(III)工程の後は、第1層のときのプライミング処理のときと同
様に、プライミングローラ14の回転をそのまま継続させて自然乾燥(IV)の
工程に移行し、所定時間の経過後にプライミングローラ14の回転を止める。
その結果、プライミングローラ14において、第1層の第1レジスト乾燥膜[
RM1]上に、5回目のプライミング処理に付随した残存物として第2層の第
1レジスト乾燥膜[rm1]が所定の周回方向サイズ(たとえば約18°)で
形成される。
After the separation (III) step, as in the case of the priming process for the first layer, the rotation of the priming
As a result, in the priming
On the RM 1 ], a second layer of the first resist dry film [rm 1 ] is formed in a predetermined circumferential direction size (for example, about 18 °) as a residue associated with the fifth priming process.
後続の6回目および7回目のプライミング処理も、上述した5回目のプライ
ミング処理と全く同じ手順により、第1層の第2レジスト乾燥膜[RM2]お
よび第3レジスト乾燥膜[RM3]上でそれぞれ行われる。
The subsequent sixth and seventh priming processes are performed on the second resist dry film [RM 2 ] and the third resist dry film [RM 3 ] in exactly the same procedure as the fifth priming process described above. Each done.
これにより、プライミングローラ14において、第1層の第2レジスト乾燥
膜[RM2]上には、6回目のプライミング処理に付随した残存物として第2
層の第2レジスト乾燥膜[rm2]が上記と略同じ周回方向サイズ(約18°
)で形成される。また、第1層の第3レジスト乾燥膜[RM3]上には、7回
目のプライミング処理に付随した残存物として第2層の第3レジスト乾燥膜[
rm3]が上記と略同じ周回方向サイズ(約18°)で形成される。
As a result, in the priming
The second resist dry film [rm 2 ] of the layer is substantially the same in the circumferential direction size (about 18 °).
). Further, on the first layer of the third resist dry film [RM 3 ], the second layer of the third resist dry film [RM as a residue accompanying the seventh priming process]
rm 3 ] is formed with the same circumferential direction size (about 18 °) as described above.
この第2の実施例では、図11に示すように、8回目のプライミング処理に
おいて第1層の第4レジスト乾燥膜[RM4]上に第2層のレジスト液膜rm4
を巻き取った直後に、プライミングローラ14の一括洗浄(外周面全周清浄化
)を行うようにしている。
In the second embodiment, as shown in FIG. 11, in the eighth priming process, the second resist liquid film rm 4 is formed on the first fourth resist dry film [RM 4 ].
Immediately after winding, the priming
すなわち、図11に示すように、8回目のプライミング処理でも、レジスト
液Rの吐出(I)、巻き取り(II)および切り離し(III)の各工程は5回目
〜7回目のプライミング処理のときと同じであり、第1層の第4レジスト乾燥
膜[RM4]上にレジスト液膜rm4が巻き取られる。
That is, as shown in FIG. 11, even in the eighth priming process, the steps of discharging (I), winding (II), and separating (III) of the resist solution R are the same as in the fifth to seventh priming processes. The resist liquid film rm 4 is wound on the fourth resist dry film [RM 4 ] of the first layer.
しかし、切り離し(III)の後は、自然乾燥(IV)の工程をスキップして、
プライミングローラ14の回転を継続したまま、洗浄(V)の工程に移行する。
この洗浄(V)の工程では、洗浄機構16および排気機構45を作動させる。
However, after separation (III), skip the natural drying (IV) process,
While the rotation of the priming
In this cleaning (V) step, the
この場面でも、洗浄(V)の工程を開始する前に、主制御部70は、回転機構
65および膜厚測定部67を通じて、プライミングローラ14上に付着してい
る第1層のレジスト乾燥膜[RM1],[RM2],[RM3],[RM4]、
第2層のレジスト乾燥膜[rm1],[rm2],[rm3]およびレジスト液
膜rm4の範囲(面積)および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて洗浄(V)
の工程における洗浄液の使用量を演算によって決定する。たとえば、プライミ
ングローラ14上に付着している全てのレジスト膜(液膜または乾燥膜)の総
レジスト量(範囲×膜厚)を基準値とし、たとえば洗浄液使用量をその基準値
(総レジスト量)に等しい値に決定してよい。
Also in this scene, before starting the cleaning (V) process, the
The range (area) and film thickness of the resist dry film [rm 1 ], [rm 2 ], [rm 3 ] and resist liquid film rm 4 of the second layer are measured, and cleaning (V) is performed based on the measurement result.
The amount of cleaning liquid used in this step is determined by calculation. For example, the total resist amount (range × film thickness) of all resist films (liquid film or dry film) adhering onto the priming
この第2の実施例の一括洗浄処理における洗浄(V)および強制乾燥(VI)の
工程は、基本的には、上述した第1の実施例の一括洗浄処理における洗浄(V)
および強制乾燥(VI)の工程とそれぞれ同一内容のプロセスであってよい。
The cleaning (V) and forced drying (VI) steps in the batch cleaning process of the second embodiment are basically the cleaning (V) in the batch cleaning process of the first embodiment described above.
And the forced drying (VI) step and the same process.
この第2の実施例によれば、上述した第1の実施例における作用効果を全部
含むだけでなく、第1層のレジスト乾燥膜[RM1],[RM2],[RM3]
,[RM4]上でも後続のプライミング処理を重ねて実施してから、まとめて
プライミングローラ14の一括洗浄処理を行うようにしたので、洗浄液使用量
の削減効果を倍増させることができる。
According to the second embodiment, not only all the effects of the first embodiment described above are included, but also the first resist dry film [RM 1 ], [RM 2 ], [RM 3 ].
, [RM 4 ], the subsequent priming process is repeated, and then the priming
図12に、上述した第2の実施例によるプライミング処理方法の大まかな手
順を斜視図で示す。
FIG. 12 is a perspective view showing a rough procedure of the priming method according to the second embodiment described above.
[変形例および他の実施例]
上述した第2の実施例においても、プライミングローラ14の外周面上に一
周に亘って巻き取られる第1層の複数のレジスト乾燥膜[RMi]の個数およ
び巻き取り順序を任意に選択できるだけでなく、たとえば図13に示すように
、第1層のレジスト乾燥膜[RMi]上に巻き取られる第2層のレジスト液膜
rmiの個数および巻き取り順序も任意に選択できる。
[Modifications and other embodiments]
Also in the second embodiment described above, the number and the winding order of the plurality of first layer resist dry films [RM i ] wound around the outer peripheral surface of the priming
また、第2の実施例において、第1層のレジスト乾燥膜[RMi]上で第2
層分のプライミング処理を行ってから、その第1層のレジスト乾燥膜[RMi
]とは異なる領域でプライミングローラ14の外周面上で別の第1層分のプラ
イミング処理を行うことも可能である。
In the second embodiment, the second layer is formed on the first resist dry film [RM i ].
After performing the priming process for the first layer, the first resist dry film [RM i
It is also possible to perform a priming process for another first layer on the outer peripheral surface of the priming
また、第2の実施例においては、上述したように1回分のプライミング処理
において、プライミングローラ14の外周面上に形成される第1層のレジスト
液膜RMの周回方向巻き取りサイズよりも、第1層のレジスト乾燥膜上に形成
される第2層のレジスト液膜rmの周回方向巻き取りサイズが格段(数分の一
以下)に短くなる。したがって、たとえば図14に示すように、先ずプライミ
ングローラ14の外周面上に、下地膜の形成のために第1層のレジスト液膜R
Mを好ましくは略全周に亘って形成し、これを上記と同様の自然乾燥によりレ
ジスト乾燥膜[RM]とする。この第1層のレジスト乾燥膜[RM]つまり下
地膜の上では、周回方向に分割領域を短く区切って相当多く(たとえば10回
以上)のプライミング処理を実施することができる。
In the second embodiment, as described above, in the one-time priming process, the first-direction resist liquid film RM formed on the outer peripheral surface of the priming
M is preferably formed over substantially the entire circumference, and this is formed into a resist dry film [RM] by natural drying similar to the above. On the first resist dry film [RM], that is, the base film, a considerable number of priming processes (for example, 10 times or more) can be performed by dividing the divided region into short parts in the circumferential direction.
なお、プライミングローラ14の外周面上に下地膜(第1層のレジスト膜)
を形成するための処理では、プライミングローラ14を通常とは逆方向に回転
させてもよく、また、レジスト塗布用のスリットノズル72に代えてたとえば
プライミング処理装置に専属の別のスリットノズルを使用してもよい。
A base film (first layer resist film) is formed on the outer peripheral surface of the priming
In the process for forming the priming
また、プライミングローラ14において、上記のようにして形成された第2
層のレジスト乾燥膜rm上で後続のプライミング処理を実施して第3層のレジ
スト液膜を巻き取ることも可能である。更には、4層以上重ねて多数回のプラ
イミング処理を実施することも可能である。
In the priming
It is also possible to carry out a subsequent priming process on the layered resist dry film rm to wind up the third layer resist liquid film. Furthermore, it is also possible to perform the priming process many times with four or more layers.
一括洗浄処理においては、洗浄液の使用量は増えるが、プライミングローラ
14の外周面全周に洗浄液を噴き付けることも可能である。
In the collective cleaning process, the amount of cleaning liquid used is increased, but it is also possible to spray the cleaning liquid around the entire outer peripheral surface of the priming
プライミング処理装置内の各部の構成または機能も上述した実施形態のもの
に限定されない。たとえば、洗浄機構16において2流体ジェットノズル以外
の洗浄ツールたとえばスクレーパも使用または併用可能であり、排気機構45
の各部、特に強制乾燥部38の構成を種種変形することができる。
The configuration or function of each unit in the priming processing apparatus is not limited to that of the above-described embodiment. For example, in the
Various configurations of each of these parts, in particular, the forced drying
上述した実施形態のプライミング処理装置においては、プライミング処理の
結果としてプライミングローラ上に残るレジスト液膜(または乾燥膜)の膜厚
分布特性を測定する構成および機能(図9)を利用して、スリットノズル72
側のレシスト吐出機能(特にスリット長手方向における吐出流の均一性)を検
査し、レジスト塗布処理の歩留まりないし信頼性を向上させることもできる。
In the priming processing apparatus of the above-described embodiment, the slit is formed using the configuration and function (FIG. 9) for measuring the film thickness distribution characteristic of the resist liquid film (or dry film) remaining on the priming roller as a result of the priming process.
The resist discharge function on the side (especially the uniformity of the discharge flow in the slit longitudinal direction) can be inspected to improve the yield or reliability of the resist coating process.
本発明における塗布液としては、レジスト液以外にも、たとえば層間絶縁材
料、誘電体材料、配線材料等の塗布液も可能であり、各種薬液、現像液やリン
ス液等も可能である。本発明における被処理基板はLCD基板に限らず、他の
フラットパネルディスプレイ用基板、半導体ウエハ、CD基板、フォトマスク
、プリント基板等も可能である。
As the coating solution in the present invention, in addition to the resist solution, for example, a coating solution such as an interlayer insulating material, a dielectric material, and a wiring material can be used, and various chemical solutions, developing solutions, rinse solutions, and the like are also possible. The substrate to be processed in the present invention is not limited to an LCD substrate, and other flat panel display substrates, semiconductor wafers, CD substrates, photomasks, printed substrates and the like are also possible.
10 プライミング処理装置
12 開口部
14 プライミングローラ
16 洗浄機構
18 2流体ジェットノズル
36 バキューム口
38 強制乾燥部
45 排気機構
60 モータ
62 回転制御部
65 回転機構
70 主制御部
72 スリットノズル
74 ノズル移動機構
DESCRIPTION OF
Claims (31)
下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
1回分のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状
のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノ
ズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出
させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの
外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第1の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させ
て第1乾燥膜とする第2の工程と、
別の1回分のプライミング処理のために、前記第1乾燥膜を外して前記プラ
イミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの
吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させて
から前記プライミングローラを回転させて、前記第1乾燥膜とは異なる領域で
前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取
る第3の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄
によって一括除去する第4の工程と
を有するプライミング処理方法。 A priming method for forming a liquid film of a coating solution as a preparation for coating processing near the discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing,
For one priming process, the slit nozzle discharge port is made to face the top of a horizontally arranged cylindrical or columnar priming roller with a predetermined gap in parallel, and fixed to the slit nozzle. A first step of rotating a part of the discharged coating liquid on an outer peripheral surface of the priming roller by rotating the priming roller after discharging an amount of the coating liquid;
A second step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller to form a first dry film;
For another priming process, the first dry film is removed and the slit nozzle discharge port is parallelly opposed to the top of the priming roller with a predetermined gap therebetween. After the amount of the coating liquid is discharged, the priming roller is rotated to take up a part of the discharged coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller in a region different from the first dry film. And the process of
A priming treatment method comprising: a fourth step of collectively removing a liquid film or a dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller by cleaning.
転をそのまま継続させて、前記塗布液の液膜を自然乾燥させる、請求項1に記
載のプライミング処理方法。 The priming processing method according to claim 1, wherein in the second step, the rotation of the priming roller started in the first step is continued as it is, and the liquid film of the coating liquid is naturally dried.
ミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄
液を噴き付ける、請求項1または請求項2に記載のプライミング処理方法。 The said 4th process sprays a washing | cleaning liquid only to the area | region to which the liquid film or the dry film has adhered among the outer peripheral surfaces of the said priming roller, rotating the said priming roller. Priming method.
いる液膜または乾燥膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて前
記第4の工程における洗浄液の使用量を決定する第5の工程を有する、請求項
1〜3のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。 Prior to the fourth step, the range and film thickness of the liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller are measured, and the use of the cleaning liquid in the fourth step is based on the measurement result. The priming method according to any one of claims 1 to 3, further comprising a fifth step of determining the amount.
下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して
所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理
用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐
出させるとともに前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングロ
ーラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取る第1の
工程と、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させ
て第1層の乾燥膜とする第2の工程と、
1回分のプライミング処理のために、前記第1層の乾燥膜を前記プライミン
グローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定の
ギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平行に対向させ
、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングロ
ーラを回転させて、前記第1層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を
巻き取る第3の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄
によって一括除去する第4の工程と
を有するプライミング処理方法。 A priming method for forming a liquid film of a coating solution as a preparation for coating processing near the discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing,
The slit nozzle for coating treatment or another slit nozzle for non-coating treatment is opposed in parallel with a predetermined gap to the top of a cylindrical or columnar priming roller arranged horizontally, and the slit nozzle Discharging the coating liquid and rotating the priming roller to wind up part or all of the discharged coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller;
A second step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller to form a dry film of the first layer;
For the priming process for one time, the dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, and the discharge nozzle of the coating processing slit nozzle discharges a predetermined gap with respect to the top of the priming roller. With the outlets facing each other in parallel, a predetermined amount of the coating liquid is ejected to the slit nozzle, and then the priming roller is rotated to wind a part of the ejected coating liquid on the dry film of the first layer. A third step to take;
A priming treatment method comprising: a fourth step of collectively removing a liquid film or a dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller by cleaning.
ローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズ
ルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出さ
せてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外
周面上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る、請求項5に記載のプライミ
ング処理方法。 In the first step, for one priming process, a discharge gap of the slit nozzle for coating process is opposed in parallel with a predetermined gap to the top of the priming roller, The priming processing method according to claim 5, wherein after discharging a certain amount of coating liquid, the priming roller is rotated to wind up part of the discharged coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller.
転をそのまま継続させて、前記塗布液の液膜を自然乾燥させる、請求項5また
は請求項6に記載のプライミング処理方法。 The priming processing method according to claim 5 or 6, wherein the second step continues the rotation of the priming roller started in the first step as it is, and naturally dries the liquid film of the coating solution. .
前記第1層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定する第5の工程と、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が
一定の基準を超えるときは前記第3の工程の実行を許可する旨の判定結果を出
し、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第3の
工程の実行を中止すべき旨の判定結果を出す第6の工程と
を有する、請求項5〜7のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。 Between the second step and the third step,
A fifth step of measuring a film thickness distribution characteristic of the dry film of the first layer;
Based on the measurement result of the film thickness distribution characteristic, when the film thickness uniformity of the dry film of the first layer exceeds a certain standard, a determination result is given that the execution of the third step is permitted, And a sixth step for producing a determination result indicating that the execution of the third step should be stopped when the thickness uniformity of the dry film of one layer does not exceed the reference. The priming processing method according to claim 1.
程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの1/2未満である、請求項5〜
8のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。 The coating liquid winding size in the circumferential direction in the third step is less than ½ of the coating liquid winding size in the circumferential direction in the first step.
The priming method according to claim 8.
前記第3の工程で前記第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾
燥させて第2層の第1乾燥膜とする第7の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第2層の第1乾燥膜を外
して前記第1層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記
プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズ
ルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出さ
せてから前記プライミングローラを回転させて、前記第2層の第1乾燥膜とは
異なる領域で前記第1層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取
る第8の工程と
を有する請求項9に記載のプライミング処理方法。 Between the third step and the fourth step,
A seventh step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the dry film of the first layer in the third step to form a first dry film of the second layer;
For yet another priming process, the first dry film of the second layer is removed and the dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, so that the top of the priming roller is The discharge ports of the slit nozzles face each other with a predetermined gap in parallel, and after a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzles, the priming roller is rotated, and the first dry film of the second layer The priming method according to claim 9, further comprising: an eighth step of winding a part of the discharged coating liquid on the dry film of the first layer in a different region.
前記第3の工程で前記第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾
燥させて第2層の乾燥膜とする第7の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第2層の乾燥膜を前記プ
ライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対し
て所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前
記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラ
を回転させて、前記第2層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き
取る第8の工程と
を有する請求項5〜9のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。 Between the third step and the fourth step,
A seventh step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the dry film of the first layer in the third step to form a dry film of the second layer;
In order to perform another priming process, the second layer of the dry film is positioned on the top of the priming roller, and a discharge gap of the slit nozzle is provided with a predetermined gap from the top of the priming roller. And a part of the discharged coating liquid is wound on the dried film of the second layer by rotating the priming roller after discharging a predetermined amount of the coating liquid to the slit nozzle. The priming method according to any one of claims 5 to 9, further comprising an eighth step.
ミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄
液を噴き付ける、請求項5〜11のいずれか一項に記載のプライミング処理方
法。 The said 4th process sprays a washing | cleaning liquid only to the area | region to which the liquid film or the dry film has adhered among the outer peripheral surfaces of the said priming roller, rotating the said priming roller. The priming processing method according to item.
いる各液膜または乾燥膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて
前記第4の工程における洗浄液の使用量を決定する第9の工程を有する、請求
項10〜12のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。 Prior to the fourth step, the range and film thickness of each liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller are measured, and the cleaning liquid in the fourth step is measured based on the measurement result. The priming processing method according to claim 10, further comprising a ninth step of determining a usage amount.
れ、前記排気機構を前記第1、第2および第3の工程では止めておいて前記第
4の工程で作動させる、請求項5〜13のいずれか一項に記載のプライミング
処理方法。 An exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller is provided, and the exhaust mechanism is stopped in the first, second, and third steps and operated in the fourth step. The priming processing method according to any one of 5 to 13.
下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
1回分のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状
のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノ
ズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出
させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの
外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第1の工程と、
前記第1の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液
の液膜を乾燥させて第1層の第1乾燥膜とする第2の工程と、
別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1乾燥膜を外して
前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリット
ノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐
出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第1乾燥膜とは異な
る領域で前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部
を巻き取る第3の工程と、
前記第3の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液
の液膜を乾燥させて第1層の第2乾燥膜とする第4の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1または第2
乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングロー
ラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行
に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プラ
イミングローラを回転させて、前記第1層の第1または第2乾燥膜の上に前記
吐出された塗布液の一部を巻き取る第5の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄
によって一括除去する第6の工程と
を有するプライミング処理方法。 A priming method for forming a liquid film of a coating solution as a preparation for coating processing near the discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing,
For one priming process, the slit nozzle discharge port is made to face the top of a horizontally arranged cylindrical or columnar priming roller with a predetermined gap in parallel, and fixed to the slit nozzle. A first step of rotating a part of the discharged coating liquid on an outer peripheral surface of the priming roller by rotating the priming roller after discharging an amount of the coating liquid;
A second step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller in the first step to form a first dry film of the first layer;
For another priming process, the first dry film of the first layer is removed, and a discharge gap of the slit nozzle is opposed in parallel with a predetermined gap from the top of the priming roller, After a predetermined amount of the coating liquid is discharged to the slit nozzle, the priming roller is rotated, and a part of the discharged coating liquid is applied onto the outer peripheral surface of the priming roller in a region different from the first dry film. A third step of winding;
A fourth step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller in the third step to form a second dry film of the first layer;
For the further one priming process, the first or second of the first layer.
A dry film is positioned on the top of the priming roller, and the discharge port of the slit nozzle is opposed to the top of the priming roller in parallel with a predetermined gap, and a fixed amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle. And then rotating the priming roller to wind up part of the discharged coating liquid on the first or second dry film of the first layer;
A priming treatment method comprising: a sixth step of collectively removing a liquid film or a dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller by cleaning.
転をそのまま継続させて、前記塗布液の液膜を自然乾燥させる、請求項15に
記載のプライミング処理方法。 The priming processing method according to claim 15, wherein in the second step, the rotation of the priming roller started in the first step is continued as it is and the liquid film of the coating liquid is naturally dried.
前記第1層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定する第7の工程と、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が
一定の基準を超えるときは前記第3の工程の実行を許可する旨の判定結果を出
し、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第3の
工程の実行を中止すべき旨の判定結果を出す第8の工程と
を有する、請求項15または請求項16に記載のプライミング処理方法。 Between the second step and the third step,
A seventh step of measuring a film thickness distribution characteristic of the dry film of the first layer;
Based on the measurement result of the film thickness distribution characteristic, when the film thickness uniformity of the dry film of the first layer exceeds a certain standard, a determination result is given that the execution of the third step is permitted, An eighth step of outputting a determination result indicating that the execution of the third step should be stopped when the film thickness uniformity of one dry film does not exceed the standard. The priming processing method described in 1.
第3の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの1/2未満である、請
求項15〜17のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。 18. The coating liquid winding size in the circumferential direction in the fifth step is less than ½ of the coating liquid winding size in the circumferential direction in the first and third steps. The priming processing method described in 1.
前記第5の工程で前記第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾
燥させて第2層の第1乾燥膜とする第9の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第2層の第1乾燥膜を外
して前記第1層の第1または第2乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位
置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前
記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の
塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第2層の
第1乾燥膜とは異なる領域で前記第1層の第1または第2乾燥膜の上に前記吐
出された塗布液の一部を巻き取る第10の工程と
を有する請求項18に記載のプライミング処理方法。 Between the fifth step and the sixth step,
A ninth step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the dry film of the first layer in the fifth step to form a first dry film of the second layer;
For another one-time priming process, the first dry film of the second layer is removed and the first or second dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, and the priming roller The slit nozzle discharge port is made to face the top of the slit nozzle in parallel with a predetermined gap, and after a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle, the priming roller is rotated, The priming according to claim 18, further comprising: a tenth step of winding a part of the discharged coating liquid on the first or second dry film of the first layer in a region different from the first dry film. Processing method.
前記第5の工程で前記第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾
燥させて第2層の乾燥膜とする第9の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第2層の乾燥膜を前記プ
ライミングローラの頂部に位置させて、プライミングローラの頂部に対して所
定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記ス
リットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回
転させて、前記第2層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る
第10の工程と
を有する請求項15〜18のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。 Between the fifth step and the sixth step,
A ninth step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the dry film of the first layer in the fifth step to form a dry film of the second layer;
For another one-time priming process, the dry film of the second layer is positioned on the top of the priming roller, and the discharge port of the slit nozzle is separated from the top of the priming roller by a predetermined gap. First, a predetermined amount of coating liquid is ejected to the slit nozzle, and then the priming roller is rotated to wind up a part of the ejected coating liquid on the dried film of the second layer. The priming method according to claim 15, further comprising: 10 steps.
ミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄
液を噴き付ける、請求項15〜20のいずれか一項に記載のプライミング処理
方法。 The said 6th process sprays a washing | cleaning liquid only to the area | region to which the liquid film or the dry film has adhered among the outer peripheral surfaces of the said priming roller, rotating the said priming roller. The priming processing method according to item.
いる各液膜または乾燥膜の面積および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて
前記第6の工程における洗浄液の使用量を決定する第11の工程を有する、請
求項15〜21のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。 Prior to the sixth step, the area and film thickness of each liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller are measured, and the cleaning liquid in the sixth step is measured based on the measurement result. The priming method according to any one of claims 15 to 21, further comprising an eleventh step of determining a usage amount.
れ、前記排気機構を前記第1ないし第5の工程では止めておいて前記第6の工
程で作動させる、請求項15〜22のいずれか一項に記載のプライミング処理
方法。 23. An exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller is provided, and the exhaust mechanism is stopped in the first to fifth steps and operated in the sixth step. The priming method according to any one of the above.
下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄
機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部と
を有し、
1回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対し
て所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前
記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記
プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前
記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回
転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の
液膜を乾燥させて第1乾燥膜とし、
別の1回分のプライミング処理のために、前記第1乾燥膜を外して前記プラ
イミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの
吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させて
から前記プライミングローラを回転させて、前記第1乾燥膜とは異なる領域で
前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取
り、
所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプラ
イミングローラを回転させながら前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて
、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄
によって一括除去する、
プライミング処理装置。 A priming processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid as a preparation for coating processing in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing,
A cylindrical or columnar priming roller disposed horizontally at a predetermined position;
A rotation mechanism for rotating the priming roller about its central axis;
A cleaning mechanism for spraying a cleaning liquid to clean the outer peripheral surface of the priming roller;
An exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller;
A control unit that controls each operation of the rotation mechanism, the cleaning unit, and the exhaust unit;
For one priming process, the discharge port of the slit nozzle is opposed in parallel with a predetermined gap with respect to the top of the priming roller, and a predetermined amount of the coating liquid is discharged to the slit nozzle. The priming roller is rotated by a rotating mechanism, and a part of the discharged coating liquid is wound on the outer peripheral surface of the priming roller,
The rotation of the priming roller is continued even after winding of the coating liquid by the rotating mechanism, and the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller is dried to form a first dry film.
For another priming process, the first dry film is removed and the slit nozzle discharge port is parallelly opposed to the top of the priming roller with a predetermined gap therebetween. An amount of the coating liquid is discharged and then the priming roller is rotated to wind up a part of the discharged coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller in a region different from the first dry film,
After the desired number of priming processes have been completed, the cleaning mechanism and the exhaust mechanism are operated while rotating the priming roller by the rotating mechanism, so that the liquid film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller or dry Remove the film by cleaning,
Priming processing device.
4に記載のプライミング処理装置。 The exhaust mechanism is stopped when the liquid film of the coating liquid is dried.
5. The priming processing apparatus according to 4.
および膜厚を測定するための膜測定部と、
前記一括洗浄の前に、前記膜測定部で得られる測定結果に基づいて前記膜の
一括除去で使用する洗浄液の量を決定する洗浄液使用量決定部と
を有する請求項24または請求項25に記載のプライミング処理装置。 A film measuring unit for measuring the range and film thickness of the liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller;
26. A cleaning liquid usage determining unit that determines an amount of cleaning liquid to be used for batch removal of the film based on a measurement result obtained by the film measuring unit before the batch cleaning. Priming processing equipment.
が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける、請求項24〜26のいずれか
一項に記載のプライミング処理方法。 27. The priming method according to any one of claims 24 to 26, wherein the cleaning mechanism sprays a cleaning liquid only on a region where a liquid film or a dry film is attached on an outer peripheral surface of the priming roller.
下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄
機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部
と
を有し、
前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処
理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対
向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに前記回転機構によ
り前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の
上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取り、
前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も
前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周
面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の乾燥膜とし、
1回分のプライミング処理のために、前記第1層の乾燥膜を前記プライミン
グローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定の
ギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリッ
トノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミ
ングローラを回転させて、前記第1層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の
一部を巻き取り、
所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプラ
イミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させ
て、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗
浄によって一括除去する、
プライミング処理装置。 A priming processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid as a preparation for coating processing in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing,
A cylindrical or columnar priming roller disposed horizontally at a predetermined position;
A rotation mechanism for rotating the priming roller about its central axis;
A cleaning mechanism for spraying a cleaning liquid to clean the outer peripheral surface of the priming roller;
An exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller;
A control unit that controls each operation of the rotation mechanism, the cleaning mechanism, and the exhaust mechanism;
The coating nozzle or another slit nozzle for non-coating treatment is opposed in parallel with a predetermined gap with respect to the top of the priming roller, the coating liquid is discharged to the slit nozzle, and the rotating mechanism By rotating the priming roller to wind up part or all of the discharged coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller,
While the exhaust mechanism is stopped, the rotation of the priming roller is continued even after the coating liquid is wound by the rotating mechanism, and the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller is dried. To make the first layer dry film,
For the priming process for one time, the dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, and the discharge port of the slit nozzle is parallel to the top of the priming roller with a predetermined gap. The priming roller is rotated by the rotating mechanism after a predetermined amount of the coating liquid is discharged to the slit nozzle, and a part of the discharged coating liquid is wound on the dry film of the first layer. take,
After the desired number of priming processes have been completed, the cleaning mechanism and the exhaust mechanism are operated while rotating the priming roller by the rotating mechanism, and the liquid film or the dry film adhered to the outer peripheral surface of the priming roller Remove all at once by washing,
Priming processing device.
し、
前記膜厚測定部により前記第1層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定し、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が
一定の基準を超えるときは前記第1層の乾燥膜上でのプライミング処理を実行
し、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第1層
の乾燥膜上でのプライミング処理を中止する、
請求項28に記載のプライミング処理装置。 Having a film thickness measuring unit for measuring the film thickness of the dry film on the priming roller;
Measure the thickness distribution characteristics of the dry film of the first layer by the film thickness measurement unit,
Based on the measurement result of the film thickness distribution characteristic, when the film thickness uniformity of the dry film of the first layer exceeds a certain standard, a priming process is performed on the dry film of the first layer, When the thickness uniformity of the dry film of the layer does not exceed the standard, the priming process on the dry film of the first layer is stopped.
The priming apparatus according to claim 28.
下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄
機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部
と
を有し、
1回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対し
て所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前
記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記
プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前
記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も
前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周
面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第1乾燥膜とし、
別の1回分のプライミング処理のために、前記第1乾燥膜を外して前記プラ
イミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの
吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させて
から前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第1乾燥
膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面上に前記吐出された塗布
液の一部を巻き取り、
前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も
前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に
巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第2乾燥膜とし、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1または第2
乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングロー
ラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行
に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転
機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の第1または第
2乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプラ
イミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させ
て、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗
浄によって一括除去する、
プライミング処理装置。 A priming processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid as a preparation for coating processing in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing,
A cylindrical or columnar priming roller disposed horizontally at a predetermined position;
A rotation mechanism for rotating the priming roller about its central axis;
A cleaning mechanism for spraying a cleaning liquid to clean the outer peripheral surface of the priming roller;
An exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller;
A control unit that controls each operation of the rotation mechanism, the cleaning mechanism, and the exhaust mechanism;
For one priming process, the discharge port of the slit nozzle is opposed in parallel with a predetermined gap with respect to the top of the priming roller, and a predetermined amount of the coating liquid is discharged to the slit nozzle. The priming roller is rotated by a rotating mechanism, and a part of the discharged coating liquid is wound on the outer peripheral surface of the priming roller,
While the exhaust mechanism is stopped, the rotation of the priming roller is continued even after the coating liquid is wound by the rotating mechanism, and the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller is dried. A first dry film of the first layer,
For another priming process, the first dry film is removed and the slit nozzle discharge port is parallelly opposed to the top of the priming roller with a predetermined gap therebetween. After the amount of the coating liquid is discharged, the priming roller is rotated by the rotating mechanism, and a part of the discharged coating liquid is wound on the outer peripheral surface of the priming roller in a region different from the first dry film. take,
While the exhaust mechanism is stopped, the priming roller is rotated even after the coating liquid is wound by the rotating mechanism, and the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller is dried. A second layer of dry film,
For the further one priming process, the first or second of the first layer.
A dry film is positioned on the top of the priming roller, and the discharge port of the slit nozzle is opposed to the top of the priming roller in parallel with a predetermined gap, and a fixed amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle. Then, the priming roller is rotated by the rotating mechanism, and a part of the discharged coating liquid is wound on the first or second dry film of the first layer,
After the desired number of priming processes have been completed, the cleaning mechanism and the exhaust mechanism are operated while rotating the priming roller by the rotating mechanism, and the liquid film or the dry film adhered to the outer peripheral surface of the priming roller Remove all at once by washing,
Priming processing device.
し、
前記膜厚測定部により前記第1層の第1または第2乾燥膜の膜厚分布特性を
測定し、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第1層の第1または第2乾燥膜
の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは当該乾燥膜上でのプライミング処理
を実行し、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは当該
乾燥膜上でのプライミング処理を中止する、
請求項30に記載のプライミング処理装置。 Having a film thickness measuring unit for measuring the film thickness of the dry film on the priming roller;
The film thickness measurement unit measures the film thickness distribution characteristic of the first or second dry film of the first layer,
Based on the measurement result of the film thickness distribution characteristic, when the film thickness uniformity of the first or second dry film of the first layer exceeds a certain standard, a priming process is performed on the dry film, When the film thickness uniformity of one dry film does not exceed the standard, the priming process on the dry film is stopped.
The priming processing apparatus according to claim 30.
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