JP2010162486A - Slit nozzle - Google Patents
Slit nozzle Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010162486A JP2010162486A JP2009007361A JP2009007361A JP2010162486A JP 2010162486 A JP2010162486 A JP 2010162486A JP 2009007361 A JP2009007361 A JP 2009007361A JP 2009007361 A JP2009007361 A JP 2009007361A JP 2010162486 A JP2010162486 A JP 2010162486A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit nozzle
- liquid
- slit
- coating
- tip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
本発明は、ガラス基板等の板状被処理物表面に、レジスト等の塗布液を一定幅で塗布するためのスピンレスコーター用スリットノズルに関する。 The present invention relates to a slit nozzle for a spinless coater for applying a coating liquid such as a resist to a surface of a plate-like workpiece such as a glass substrate with a certain width.
従来、ガラス基板等の板状被処理物表面に、レジスト等の塗布液を塗布するための塗布方式として、スピンコート方式がある。これは、スピンナー上に載置した被処理物表面の中心部にノズルあるいはスリットから塗布液を滴下し、スピンナーによって被処理物を回転させ、その遠心力で塗布液を外方に向けて拡散させることで均一に塗布しようとする方法である。この場合の塗布液の膜厚は、回転数と時間で制御されるが、この方法では被処理物表面に残る塗布液は僅かであり、殆どが飛散してしまうので無駄がある。 Conventionally, there is a spin coating method as a coating method for coating a coating liquid such as a resist on the surface of a plate-like workpiece such as a glass substrate. This is because the coating liquid is dropped from the nozzle or slit to the center of the surface of the workpiece placed on the spinner, the workpiece is rotated by the spinner, and the coating liquid is diffused outward by the centrifugal force. It is a method of trying to apply | coat uniformly. In this case, the film thickness of the coating solution is controlled by the number of rotations and time. However, in this method, a little coating solution remains on the surface of the object to be processed, and most of the coating solution is scattered, which is wasteful.
そこで、スピンコート方式に代わって、ノズル自体に所定幅の塗布液吐出口スリットを開口させ、このスリットノズルを一定速度で移動することで被処理物表面に所定幅で塗布液を均一に塗布でき、塗布液の無駄をなくし且つ効率的な方法として提案されている。これは、スリットノズル(ダイ)コート方式と称され、大型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の感光性樹脂の塗布等に多用されている。 Therefore, instead of the spin coating method, a coating liquid discharge port slit having a predetermined width is opened in the nozzle itself, and the slit nozzle is moved at a constant speed, whereby the coating liquid can be uniformly applied to the surface of the object to be processed. It has been proposed as an efficient method that eliminates waste of the coating liquid. This is called a slit nozzle (die) coating method, and is often used for application of a photosensitive resin to a color filter substrate for a large liquid crystal display device.
この塗布方式においては、塗布液をダイのスリットから押し出し、一定速度で移動して、ガラス基板等の被処理物に対してビードを形成させながら塗布する。このスリットダイは、一般的には、サイドプレートで両サイドから挟持された2枚以上のブロックを組み合わせてスリットを形成し、塗布液を供給する供給口と、供給された塗布液を一度留めて貯蔵し幅方向に広げて長手方向に均一に流動させるためのマニホールド部分と、マニホールドより塗布液を幅方向で均一に流動させてリップより吐出させるためのスリットを有している。 In this coating method, a coating solution is extruded from a slit of a die, moved at a constant speed, and coated while forming beads on a workpiece such as a glass substrate. In general, this slit die is formed by combining two or more blocks sandwiched from both sides by a side plate to form a slit, and once a supply port for supplying a coating liquid and the supplied coating liquid are fastened. It has a manifold portion for storing and spreading in the width direction and flowing uniformly in the longitudinal direction, and a slit for allowing the coating liquid to flow uniformly from the manifold in the width direction and discharging from the lip.
しかしながら、スリットノズルのリップ先端面は塗布液に対する濡れ性が良いことが安定したビード形成に必要であるが、通常同じ材質からなるリップ先端側面やサイドプレート先端部も塗布液に対する濡れ性が良いことで、リップの両端で塗布液がサイドプレート先端の上面に濡れ広がる。このスリットノズル先端部に付着した感光性樹脂等の塗布レジスト液は固化あるいは乾燥することで、いわゆる、レジカス異物の発生源となり、また流れ方向にスジやムラ等の塗布欠陥を発生させてしまう問題がある。このため、特許文献1に開示されているように、塗布後の洗浄によってノズル先端及びその周辺部の塗布液を除去する必要がある。また、スリットノズルを一定時間以上使用しないときには、あるいは定期的に、スリットノズル先端のリップ部分を洗浄液のディップ槽に浸漬保持し乾燥を防止することが必須である。 However, it is necessary for the bead formation that the lip tip surface of the slit nozzle has good wettability with respect to the coating solution, but the lip tip side surface and the side plate tip part, which are usually made of the same material, also have good wettability with respect to the coating solution. Thus, the coating liquid spreads wet on the top surface of the side plate tip at both ends of the lip. The coating resist solution such as photosensitive resin adhering to the tip of the slit nozzle becomes a source of so-called regicus foreign matter by solidifying or drying, and also causes coating defects such as streaks and unevenness in the flow direction. There is. For this reason, as disclosed in Patent Document 1, it is necessary to remove the coating liquid at the nozzle tip and its peripheral portion by washing after coating. In addition, when the slit nozzle is not used for a certain period of time or periodically, it is essential to prevent the drying by immersing and holding the lip portion at the tip of the slit nozzle in the dip tank of the cleaning liquid.
通常、ディップ槽の洗浄液は、加圧等で周期的にディップ槽に供給され、一定液面以上でオーバーフローさせることにより液面を一定に保っている。しかし、例えば、供給加圧の低下、供給配管の詰り等なんらかの影響で供給液の流量が低下すると、洗浄液の液面が低下して、スリットノズル先端が洗浄液に漬かっていない状態となり、異物発生の原因となる。スリットノズル先端のリップ部分が洗浄液の液面に漬かっているかどうかは、現状の設備では、人が定期的に目視確認する方法で対応せざるを得なかった。 Usually, the cleaning liquid in the dip tank is periodically supplied to the dip tank by pressurization or the like, and the liquid level is kept constant by overflowing above a certain liquid level. However, if the flow rate of the supply liquid decreases due to, for example, a decrease in supply pressure or clogging of the supply pipe, the liquid level of the cleaning liquid decreases and the slit nozzle tip is not immersed in the cleaning liquid. Cause. Whether or not the lip portion at the tip of the slit nozzle is immersed in the surface of the cleaning liquid has to be dealt with by a method in which a person regularly checks visually with current equipment.
洗浄ユニットが装設されたスリットノズル(ダイ)は、通常、環境の清浄度を保ち、有機溶剤蒸気の飛散を抑制し、かつ移動するスリットダイとの接触を避ける安全性のために、ガラス等の透明な板からなる扉付の仕切り壁で囲われたクリーンブース内で運用・稼動している。スリットダイ先端のリップ部分がディップ槽の洗浄液の液面に漬かっているかどうかを、人が確認する場合、ガラス板越に確認することになるが、光の反射等があり正確に確認できず、扉を開けて確認する場合には、安全のためコーターユニットを一時的に停止させる方法で対応せざるを得ず、クリーン度の維持の上でも好ましくなかった。本発明の目的は、乾燥防止モードでスリットダイ先端のリップ部分がディップ槽の洗浄液の液面に確実に漬かっているかどうかを、人の確認無しに監視可能で、異物の発生を抑制するスリットノズルを提供することにある。 Slit nozzles (dies) equipped with a cleaning unit are usually made of glass, etc. for the sake of safety to maintain cleanliness of the environment, suppress scattering of organic solvent vapor and avoid contact with moving slit dies. It operates and operates in a clean booth surrounded by a partition wall with a door made of transparent plates. When a person checks whether the lip part at the tip of the slit die is immersed in the liquid level of the cleaning liquid in the dip tank, it will be checked over the glass plate, but it cannot be accurately confirmed due to light reflection, etc. When checking by opening the door, for safety, the coater unit must be temporarily stopped, which is not preferable in terms of maintaining cleanliness. The object of the present invention is to monitor whether or not the lip portion at the tip of the slit die is reliably immersed in the liquid level of the cleaning liquid in the dip tank in the dry prevention mode, and can be monitored without human confirmation, and the slit nozzle that suppresses the generation of foreign matter Is to provide.
本発明の請求項1に係る発明は、板状被処理物表面に、塗布液を一定幅で塗布するためのスピンレスコーター用スリットノズルにおいて、一連の塗布動作実行中に該スリットノズルを一定時間以上使用しないときに、該スリットノズル先端を洗浄液に浸漬保持し乾燥を防止するディップ槽(洗浄液の溜り部)の液面を検地する液面センサーを、一定幅の開口を有する該スリットノズル両端の少なくとも一方の外側面に具設してあることを特徴とするスリットノズルである。 According to a first aspect of the present invention, there is provided a slit nozzle for a spinless coater for applying a coating liquid to a surface of a plate-like workpiece at a certain width. When not in use, a liquid level sensor for detecting the liquid level of the dip tank (cleaning liquid reservoir) that immerses and holds the tip of the slit nozzle in the cleaning liquid to prevent drying is provided at both ends of the slit nozzle having openings of a certain width. A slit nozzle is provided on at least one outer surface.
本発明のスリットノズルは、一定幅の開口を有し、その両端の少なくとも一方の外側面に、ディップ槽の液面を検地する液面センサーを具設してある。そのため、ガラス基板等の板状非処理物表面に感光性樹脂溶液等の塗布液を塗布する工程で、スリットノズルを一定時間以上使用しないときにスリットノズル先端をディップ槽の洗浄液に浸漬しておく乾燥防止モードで、スリットノズル先端がディップ槽の洗浄液に確実に浸漬しているかどうかを常時監視することが可能となり、ディップ槽液面の低下等トラブルに早急に対応することが可能となる。その結果、スリットノズル先端部に付着した塗布レジストの乾燥を防止し、いわゆる、レジカス異物の発生を防止することができ、製品不良率の低減、塗布装置稼働率の向上が可能となる。 The slit nozzle of the present invention has an opening of a certain width, and a liquid level sensor for detecting the liquid level of the dip tank is provided on at least one outer surface of both ends thereof. Therefore, in the step of applying a coating solution such as a photosensitive resin solution on the surface of a plate-like non-treated product such as a glass substrate, the tip of the slit nozzle is immersed in the cleaning solution of the dip tank when the slit nozzle is not used for a certain period of time. In the dry prevention mode, it is possible to always monitor whether the tip of the slit nozzle is surely immersed in the cleaning liquid of the dip tank, and it is possible to promptly deal with troubles such as a drop in the liquid level of the dip tank. As a result, it is possible to prevent the coating resist adhering to the tip of the slit nozzle from being dried, so that the so-called Regis foreign matter can be prevented, and the product defect rate can be reduced and the coating apparatus operating rate can be improved.
以下に本発明のスリットノズルを一実施形態に基づいて説明する。 Below, the slit nozzle of the present invention is explained based on one embodiment.
図1に示す通り、本発明のスリットノズル10は、外側面に具設された液面センサー1でディップ槽2の洗浄液3の液面を検地する。そのため、スリットノズル先端をディップ
槽の洗浄液に浸漬しておく乾燥防止モードで、スリットノズル先端がディップ槽の洗浄液に確実に浸漬しているかどうかを常時監視する。スリットノズル先端がディップ槽の液面に漬かっていないときは、警報を発して、異物発生を未然に防止する。
As shown in FIG. 1, the
まず、本発明のスリットノズル10は、図2に示すように、少なくともサイドプレート8、9で両サイドから挟持された2枚以上のブロック6、7を組み合わせてスリット4を形成し、図示しない塗布液を供給する供給口と、供給された塗布液を一度留めて貯蔵し幅方向に広げて長手方向に均一に流動させるためのマニホールド5と、マニホールドより塗布液を幅方向で均一に流動させてリップ部40より吐出させるためのスリット4を有している。液面センサー1は、サイドプレートの外側面の片方又は両方に具設される。スリットノズルの幅方向に対して前面あるいは後面側に具設すると、後述する洗浄装置でノズル先端を洗浄するときに邪魔になるため好ましくない。
First, as shown in FIG. 2, the
液面センサーとしては、非接触式のものとして、液面付近と大気中との温度差を検出するものや、液面での超音波の反射を検出するもの、あるいは光学式のもの等がある。接触式のものとしては、静電容量式のものや、フロート式のもの等がある。本発明のスリットノズルはガラス基板等の被処理物の上面を移動して塗布を行うため、洗浄液が付着して落下する恐れのない非接触式の液面センサーが好ましい。 Liquid level sensors include non-contact type sensors that detect the temperature difference between the vicinity of the liquid level and the atmosphere, those that detect the reflection of ultrasonic waves at the liquid level, and optical sensors. . Examples of the contact type include a capacitance type and a float type. Since the slit nozzle of the present invention is applied by moving the upper surface of an object to be processed such as a glass substrate, a non-contact type liquid level sensor that is free from the risk of the cleaning liquid adhering and dropping is preferable.
本発明のスリットノズル10は、図示しないポンプから供給された塗布液がマニホールド5及びスリット4を通ったのちリップ部40でガラス基板等の被処理物表面にビードを作り、被処理物上を一定速度で移動しながら塗布を行う。塗布終了後、スリットノズルは、図3に例示する洗浄調整装置100に運ばれ、ノズル先端を洗浄し、次のコートのために先端部の調整を行う。
In the
前述したように、スリットノズルでの塗布では安定したビードの形成のために、ノズル先端のリップ部は塗布液に対する接触角が低く濡れが良いことが必要である。このスリットノズル先端部に付着した感光性樹脂等の塗布レジスト液は固化あるいは乾燥することで、いわゆる、レジカス異物の発生源となり、また流れ方向にスジやムラ等の塗布欠陥を発生させてしまう問題がある。塗布液がリップ部先端の側面に回りこまないために、様々な工夫が行われているが、リップ部先端面に存在する塗布液のビードが、スリットノズル先端の側面に濡れて広がることは避けられず、塗布後の洗浄によってノズル先端及びその周辺部の塗布液を除去する必要がある。また、スリットノズルを一定時間以上使用しないときには、あるいは定期的に、スリットノズル先端のリップ部分を洗浄液のディップ槽に浸漬保持し乾燥を防止することが必須である。 As described above, in the application with the slit nozzle, in order to form a stable bead, the lip portion at the tip of the nozzle needs to have a low contact angle with the coating liquid and good wettability. The coating resist solution such as photosensitive resin adhering to the tip of the slit nozzle becomes a source of so-called regicus foreign matter by solidifying or drying, and also causes coating defects such as streaks and unevenness in the flow direction. There is. Various measures have been taken to prevent the coating liquid from reaching the side of the tip of the lip, but the coating solution bead existing on the tip of the lip should not spread on the side of the slit nozzle. However, it is necessary to remove the coating liquid at the nozzle tip and its periphery by washing after application. In addition, when the slit nozzle is not used for a certain period of time or periodically, it is essential to prevent the drying by immersing and holding the lip portion at the tip of the slit nozzle in the dip tank of the cleaning liquid.
スリットノズルは、洗浄調整装置100の洗浄装置に運ばれ、洗浄液の吹き付け等でノズル先端を洗浄する。先端の洗浄後、乾燥防止装置20のディップ槽2に運ばれて、ノズル先端が洗浄液中に漬けられる。このとき、ノズル先端が洗浄液中に確実に漬けられたかどうかを液面センサーにより検知する。浸漬されていないと判断すると、洗浄液供給装置31に通知され、洗浄液を供給する。ガラス基板等の被処理物が塗布位置に近づくと、次のコートのために、スリットノズルを調整する予備吐出装置50に運び、スリット内にたまっている塗布液を捨てるために予備吐出ロール51に予備吐出を行った後、スリットノズルを塗布位置に運びコートを行う。
The slit nozzle is carried to the cleaning device of the
以上説明した通り、本発明のスリットノズルを用いることで、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板のレジスト塗布でのトラブルが低減され、不良率の低減、塗布装置稼働率の向上が可能となり、製品のコストダウンに寄与する。 As described above, by using the slit nozzle of the present invention, troubles in resist coating of the color filter substrate used in the liquid crystal display device can be reduced, the defect rate can be reduced, and the coating device operating rate can be improved. Contributes to cost reduction.
1・・・液面センサー 2・・・ディップ槽 3・・・洗浄液
4・・・スリット 5・・・マニホールド 6、7・・・ブロック
8,9・・・サイドプレート 10・・・スリットノズル(スリットダイ)
20・・・乾燥防止装置 30・・・洗浄装置 31・・・洗浄液供給装置
32・・・洗浄液オーバーフロー 40・・・リップ部 41・・・開口部
50・・・予備吐出装置51・・・予備吐出ロール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid level sensor 2 ...
4 ... Slit 5 ... Manifold 6,7 ... Block
8, 9 ...
DESCRIPTION OF
Claims (1)
一連の塗布動作実行中に該スリットノズルを一定時間以上使用しないときに、該スリットノズル先端を洗浄液に浸漬保持し乾燥を防止するディップ槽(洗浄液の溜り部)の液面を検地する液面センサーを、一定幅の開口を有する該スリットノズル両端の少なくとも一方の外側面に具設してあることを特徴とするスリットノズル。 In a slit nozzle for a spinless coater for applying a coating liquid with a certain width on the surface of a plate-shaped workpiece,
Liquid level sensor that detects the liquid level in the dip tank (cleaning liquid reservoir) that prevents the slit nozzle from being dipped in the cleaning liquid and preventing drying when the slit nozzle is not used for a certain period of time during a series of coating operations. Is provided on at least one outer surface of both ends of the slit nozzle having openings of a certain width.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009007361A JP2010162486A (en) | 2009-01-16 | 2009-01-16 | Slit nozzle |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009007361A JP2010162486A (en) | 2009-01-16 | 2009-01-16 | Slit nozzle |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010162486A true JP2010162486A (en) | 2010-07-29 |
Family
ID=42579122
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009007361A Pending JP2010162486A (en) | 2009-01-16 | 2009-01-16 | Slit nozzle |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010162486A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012043949A (en) * | 2010-08-18 | 2012-03-01 | Tokyo Electron Ltd | Coating device and nozzle maintenance method |
KR20160005825A (en) * | 2014-07-07 | 2016-01-18 | 세메스 주식회사 | Substrate treating apparatus and method |
-
2009
- 2009-01-16 JP JP2009007361A patent/JP2010162486A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012043949A (en) * | 2010-08-18 | 2012-03-01 | Tokyo Electron Ltd | Coating device and nozzle maintenance method |
CN102376547A (en) * | 2010-08-18 | 2012-03-14 | 东京毅力科创株式会社 | Coating device and nozzle maintenance method |
KR20160005825A (en) * | 2014-07-07 | 2016-01-18 | 세메스 주식회사 | Substrate treating apparatus and method |
KR102250359B1 (en) * | 2014-07-07 | 2021-05-12 | 세메스 주식회사 | Substrate treating apparatus and method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101085845B1 (en) | Coating method of die coater and pellicle for photolithographies manufactured by this method | |
JP2006187763A (en) | Slit coater and method for manufacturing liquid crystal display device using it | |
JP4526288B2 (en) | Adjusting device and adjusting method for slit nozzle tip | |
JP2006263535A (en) | Slit coater | |
KR20010086065A (en) | System and method for coating of substrates | |
JP2007268521A (en) | Pretreatment unit for coating film forming apparatus, pretreatment method for coating film forming apparatus, coating film forming apparatus and coating film forming method | |
JP5154510B2 (en) | Priming processing method and priming processing apparatus | |
JP2014156086A (en) | Gravure coating apparatus provided with cleaning function | |
KR100748794B1 (en) | Film-forming apparatus and film-forming method | |
JP2004274054A (en) | Photosensitive substance coating device | |
JP5309588B2 (en) | Coating liquid coating apparatus and coating method | |
JP2010162486A (en) | Slit nozzle | |
JP2004121980A (en) | Method and apparatus for preliminary discharge | |
KR101656351B1 (en) | slit coater | |
KR101960272B1 (en) | Apparatus and Method for dispensing photoresist | |
JP4812610B2 (en) | Nozzle cleaning method | |
US20090211477A1 (en) | Cleaning device for rollers in lithographic plate manufacturing | |
JP3987362B2 (en) | Substrate processing equipment | |
US20060147618A1 (en) | Slit coater with a service unit for a nozzle and a coating method using the same | |
JP2013215644A (en) | Coating method and coating apparatus | |
JPH11165116A (en) | Treating liquid coating device | |
JP4188043B2 (en) | Coating die cleaning device and coating device | |
JP2006263644A (en) | Method for cleaning slit nozzle and slit coater | |
JP2018006616A (en) | Substrate processing device | |
JP5562315B2 (en) | Priming processing method and priming processing apparatus |