JP2010278411A - White coating agent, substrate for mounting optical semiconductor element using the same, and optical semiconductor device - Google Patents

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直之 浦崎
Isato Kotani
勇人 小谷
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真悟 小林
Minoru Suzuki
実 鈴木
Masaru Shiina
大 椎名
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a white coating agent capable of forming a substrate for mounting an optical semiconductor element capable of sufficiently suppressing the generation of cracks caused by stress applied in a manufacturing process or the like of a printed circuit board. <P>SOLUTION: The white coating agent includes a thermosetting resin, a white pigment, a curing agent, a curing catalyst, and elastomer. Whiteness when leaving cured materials composed of the white coating agent for 24 hours at 200°C is preferably 75 or more. Preferably, the thermosetting resin is an epoxy resin. Preferably, the elastomer is at least one kind selected from a group composed of an acrylic resin, an urethane resin, a polybutadiene resin, a polyester resin, a silicone resin, and modified resins thereof. Preferably, the white pigment is at least one kind selected from a group composed of titanium oxide, silica, alumina, magnesium oxide, antimony oxide, aluminum hydroxide, barium sulfate, magnesium carbonate, barium carbonate, and magnesium hydroxide. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、白色コート剤、これを用いた光半導体素子搭載用基板及び光半導体装置に関し、より詳しくは導体部材間に用いられる白色コート剤、これを用いた光半導体素子搭載用基板及び光半導体装置に関する。   The present invention relates to a white coating agent, an optical semiconductor element mounting substrate and an optical semiconductor device using the white coating agent, and more specifically, a white coating agent used between conductor members, an optical semiconductor element mounting substrate and an optical semiconductor using the white coating agent. Relates to the device.

従来、発光ダイオード(LED)実装用プリント配線板としては、二酸化チタンを含有したエポキシ樹脂をガラス織布に含浸させた後、加熱硬化させた積層板や、二酸化チタンに加えてアルミナを含有するエポキシ樹脂を使用した積層板などを用いることが知られている(例えば、特許文献1〜3参照)。   Conventionally, as a printed wiring board for mounting a light emitting diode (LED), a glass woven cloth impregnated with an epoxy resin containing titanium dioxide and then heat-cured laminated board or an epoxy containing alumina in addition to titanium dioxide. It is known to use a laminate using a resin (for example, see Patent Documents 1 to 3).

特開平10−202789号公報JP-A-10-202789 特開2003−060321号公報JP 2003-060321 A 特開2008−001880号公報JP 2008-001880 A

しかしながら、上記特許文献に記載されているような従来のエポキシ樹脂積層板は、プリント配線板の製造工程やLED実装工程における加熱処理、或いはLED実装後の使用時における加熱等により、クラックが発生することがある。そのため、LED実装後の使用時において発熱による変形が発生し、光半導体装置として使用される場合に信頼性の低下が懸念されており、さらなる改善が必要であった。   However, the conventional epoxy resin laminate as described in the above-mentioned patent document is cracked by the heat treatment in the manufacturing process of the printed wiring board and the LED mounting process, or the heating at the time of use after the LED mounting. Sometimes. Therefore, deformation due to heat generation occurs at the time of use after LED mounting, and there is a concern about a decrease in reliability when used as an optical semiconductor device, and further improvement is necessary.

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、プリント配線板の製造工程等で加わる応力によるクラックの発生を十分に抑制できる光半導体素子搭載用基板等の基板を形成可能な、白色コート剤、これを用いた光半導体素子搭載用基板及び光半導体装置を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and can form a substrate such as a substrate for mounting an optical semiconductor element that can sufficiently suppress the generation of cracks due to stress applied in a manufacturing process of a printed wiring board. It is another object of the present invention to provide a white coating agent, an optical semiconductor element mounting substrate and an optical semiconductor device using the white coating agent.

上記目的を達成するために、本発明は、熱硬化性樹脂、白色顔料、硬化剤、硬化触媒及びエラストマを含有する、白色コート剤を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a white coating agent containing a thermosetting resin, a white pigment, a curing agent, a curing catalyst, and an elastomer.

かかる白色コート剤によれば、上述した組成を有することにより、プリント配線板の製造工程等で加わる応力によるクラックの発生を十分に抑制できる光半導体素子搭載用基板等の基板を形成することができる。   According to such a white coating agent, by having the above-described composition, it is possible to form a substrate such as an optical semiconductor element mounting substrate that can sufficiently suppress generation of cracks due to stress applied in a manufacturing process of a printed wiring board. .

また、本発明の白色コート剤は、該白色コート剤からなる硬化物を200℃で24時間放置した場合の白色度が75以上であるものであることが好ましい。   The white coating agent of the present invention preferably has a whiteness of 75 or more when a cured product made of the white coating agent is left at 200 ° C. for 24 hours.

かかる白色コート剤によれば、上述した組成を有するとともに、上述した白色度の条件を満たすことにより、優れた耐熱性と、可視光領域における優れた光反射率とを有し、加熱処理や光照射処理による光反射率の低下を十分に抑制できるとともに、プリント配線板の製造工程等で加わる応力によるクラックの発生を十分に抑制できる光半導体素子搭載用基板等の基板を形成することができる。   According to such a white coating agent, it has excellent heat resistance and excellent light reflectance in the visible light region by having the above-described composition and satisfying the above-described whiteness condition. It is possible to form a substrate such as a substrate for mounting an optical semiconductor element that can sufficiently suppress a decrease in light reflectivity due to irradiation treatment and can sufficiently suppress generation of cracks due to stress applied in a manufacturing process of a printed wiring board.

また、本発明の白色コート剤は、導体部材間に用いられるものであることが好ましい。本発明の白色コート剤は、上述した効果が得られることから、導体部材間に好適に用いられる。   Moreover, it is preferable that the white coating agent of this invention is what is used between conductor members. Since the effect mentioned above is acquired, the white coating agent of this invention is used suitably between conductor members.

また、本発明の白色コート剤において、上記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂であることが好ましい。かかる白色コート剤によれば、より優れた耐熱性を有する光半導体素子搭載用基板等の基板を形成することができる。   In the white coating agent of the present invention, the thermosetting resin is preferably an epoxy resin. According to such a white coating agent, a substrate such as a substrate for mounting an optical semiconductor element having better heat resistance can be formed.

また、本発明の白色コート剤において、上記エラストマは、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、及び、これらの変性樹脂からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。かかる白色コート剤によれば、クラックの発生をより十分に抑制できる光半導体素子搭載用基板等の基板を形成することができる。また、クラックの発生を更に十分に抑制できることから、上記エラストマは、樹枝状ポリエステル樹脂であることがより好ましい。   In the white coating agent of the present invention, the elastomer is preferably at least one selected from the group consisting of acrylic resins, urethane resins, polybutadiene resins, polyester resins, silicone resins, and modified resins thereof. . According to such a white coating agent, it is possible to form a substrate such as a substrate for mounting an optical semiconductor element that can sufficiently suppress the occurrence of cracks. Moreover, since generation | occurrence | production of a crack can be suppressed further fully, it is more preferable that the said elastomer is a dendritic polyester resin.

また、本発明の白色コート剤において、上記白色顔料は、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、及び、水酸化マグネシウムからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。これらの白色顔料を用いることにより、可視光領域においてより優れた光反射率を有する光半導体素子搭載用基板等の基板を形成することができる。   In the white coating agent of the present invention, the white pigment is selected from the group consisting of titanium oxide, silica, alumina, magnesium oxide, antimony oxide, aluminum hydroxide, barium sulfate, magnesium carbonate, barium carbonate, and magnesium hydroxide. It is preferable that at least one selected. By using these white pigments, it is possible to form a substrate such as a substrate for mounting an optical semiconductor element having better light reflectance in the visible light region.

また、本発明の白色コート剤において、上記白色顔料の平均粒径は、0.1〜50μmであることが好ましい。平均粒径が上記範囲内である白色顔料を用いることにより、可視光領域においてより優れた光反射率を有する光半導体素子搭載用基板等の基板を形成することができる。   Moreover, in the white coating agent of this invention, it is preferable that the average particle diameter of the said white pigment is 0.1-50 micrometers. By using a white pigment having an average particle diameter within the above range, a substrate such as an optical semiconductor element mounting substrate having a better light reflectance in the visible light region can be formed.

更に、本発明の白色コート剤において、上記白色顔料の含有量は、上記白色コート剤の固形分全体積を基準として10〜85体積%であることが好ましい。白色顔料の含有量を上記範囲内とすることにより、可視光領域においてより優れた光反射率を有する光半導体素子搭載用基板等の基板を形成することができる。   Furthermore, in the white coating agent of the present invention, the content of the white pigment is preferably 10 to 85% by volume based on the total solid content of the white coating agent. By setting the content of the white pigment within the above range, it is possible to form a substrate such as a substrate for mounting an optical semiconductor element having better light reflectance in the visible light region.

本発明はまた、基材と、該基材の表面に形成された複数の導体部材と、複数の上記導体部材間に形成された、上記本発明の白色コート剤からなる白色樹脂層と、を備える光半導体素子搭載用基板を提供する。複数の導体部材間に白色コート剤からなる白色樹脂層が形成されている光半導体素子搭載用基板は、プリント配線板の製造工程等で加わる応力によるクラックの発生が十分に抑制される。   The present invention also includes a substrate, a plurality of conductor members formed on the surface of the substrate, and a white resin layer formed between the plurality of conductor members and made of the white coating agent of the present invention. Provided is a substrate for mounting an optical semiconductor element. In the substrate for mounting an optical semiconductor element in which a white resin layer made of a white coating agent is formed between a plurality of conductor members, generation of cracks due to stress applied in a manufacturing process of a printed wiring board is sufficiently suppressed.

本発明は更に、上記本発明の光半導体素子搭載用基板に光半導体素子を搭載してなる光半導体装置を提供する。かかる光半導体装置は、上記本発明の光半導体素子搭載用基板を備えることから、プリント配線板の製造工程等で加わる応力によるクラックの発生が十分に抑制される。   The present invention further provides an optical semiconductor device comprising an optical semiconductor element mounted on the optical semiconductor element mounting substrate of the present invention. Since the optical semiconductor device includes the optical semiconductor element mounting substrate of the present invention, the generation of cracks due to stress applied in the manufacturing process of the printed wiring board is sufficiently suppressed.

本発明によれば、プリント配線板の製造工程等で加わる応力によるクラックの発生を十分に抑制できる光半導体素子搭載用基板等の基板を形成可能な、白色コート剤、これを用いた光半導体素子搭載用基板及び光半導体装置を提供することができる。   According to the present invention, a white coating agent capable of forming a substrate such as a substrate for mounting an optical semiconductor element that can sufficiently suppress the occurrence of cracks due to stress applied in a manufacturing process of a printed wiring board, etc., and an optical semiconductor device using the same A mounting substrate and an optical semiconductor device can be provided.

本発明の光半導体装置の好適な一例を示す概略図である。It is the schematic which shows a suitable example of the optical semiconductor device of this invention.

以下、場合により図面を参照しつつ本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as the case may be. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Further, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios.

(白色コート剤)
本発明の白色コート剤は、熱硬化性樹脂、白色顔料、硬化剤、硬化触媒及びエラストマを含有するものである。また、本発明の白色コート剤は、該白色コート剤からなる硬化物を200℃で24時間放置した場合の白色度が75以上であるものであることが好ましい。
(White coating agent)
The white coating agent of the present invention contains a thermosetting resin, a white pigment, a curing agent, a curing catalyst, and an elastomer. The white coating agent of the present invention preferably has a whiteness of 75 or more when a cured product made of the white coating agent is left at 200 ° C. for 24 hours.

上記白色度は、以下の式(1)で求められるものである。白色度は、分光測色計を用いて測定することができる。
W=100−sqr〔(100−L)+(a+b)〕 (1)
(W:白色度、L:明度、a:色相、b:彩度)
The whiteness is determined by the following formula (1). Whiteness can be measured using a spectrocolorimeter.
W = 100−sqr [(100−L) 2 + (a 2 + b 2 )] (1)
(W: whiteness, L: lightness, a: hue, b: saturation)

また、上記白色コート剤からなる硬化物の硬化条件は、白色コート剤を十分に硬化させることができる条件、より詳しくは、熱硬化性樹脂と硬化剤との混合物を十分に硬化させることができる条件であればよく、130〜180℃で0.5〜10時間の条件とすることが好ましい。   Further, the curing condition of the cured product composed of the white coating agent is a condition capable of sufficiently curing the white coating agent, more specifically, a mixture of the thermosetting resin and the curing agent can be sufficiently cured. The conditions may be sufficient, and it is preferable to set the conditions at 130 to 180 ° C. for 0.5 to 10 hours.

また、本発明の白色コート剤において、上記白色度は、75以上であることが好ましく、80以上であることがより好ましく、90以上であることが更に好ましい。   In the white coating agent of the present invention, the whiteness is preferably 75 or more, more preferably 80 or more, and still more preferably 90 or more.

上記組成を有し且つ上記白色度の条件を満たす白色コート剤によれば、導体部材間に用いられることで、優れた耐熱性と、可視光領域における優れた光反射率とを有し、加熱処理や光照射処理による光反射率の低下を十分に抑制することができ、且つ、プリント配線板の製造工程等で加わる応力から生じるクラックを十分に抑制できる光半導体素子搭載用基板を形成することができる。   According to the white coating agent having the above composition and satisfying the above whiteness degree, it is used between the conductor members, has excellent heat resistance and excellent light reflectance in the visible light region, and is heated. Forming a substrate for mounting an optical semiconductor element capable of sufficiently suppressing a decrease in light reflectivity due to a processing or a light irradiation process and capable of sufficiently suppressing a crack caused by a stress applied in a manufacturing process of a printed wiring board, etc. Can do.

以下、本発明の白色コート剤に使用される各成分について説明する。   Hereinafter, each component used for the white coating agent of this invention is demonstrated.

本発明で使用される熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、それらの変性樹脂等が挙げられる。これらの中でも、エポキシ樹脂が好ましく、脂環式エポキシ樹脂及びイソシアヌレート骨格を有するエポキシ樹脂がより好ましい。   Examples of the thermosetting resin used in the present invention include epoxy resins, urethane resins, silicone resins, polyester resins, and modified resins thereof. Among these, an epoxy resin is preferable, and an alicyclic epoxy resin and an epoxy resin having an isocyanurate skeleton are more preferable.

エポキシ樹脂として脂環式エポキシ樹脂又はイソシアヌレート骨格を有するエポキシ樹脂を用いることにより、加熱や光照射による光反射率の低下をより十分に抑制することができる光半導体素子搭載用基板などの基板を形成することができる。   By using an alicyclic epoxy resin or an epoxy resin having an isocyanurate skeleton as an epoxy resin, a substrate such as an optical semiconductor element mounting substrate that can more sufficiently suppress a decrease in light reflectance due to heating or light irradiation. Can be formed.

また、エポキシ樹脂は、光照射による光反射率の低下をより十分に抑制する観点から、可能な限り芳香環を有しないものであることが好ましい。さらに、熱硬化性樹脂は、比較的着色の少ないものが好ましい。   Moreover, it is preferable that an epoxy resin does not have an aromatic ring as much as possible from a viewpoint which suppresses the fall of the light reflectivity by light irradiation more fully. Further, the thermosetting resin is preferably one with relatively little coloring.

脂環式エポキシ樹脂としては、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート〔商品名:セロキサイド2021、セロキサイド2021A、セロキサイド2021P、セロキサイド2081(以上、ダイセル化学工業株式会社製)、ERL4221、ERL4221D、ERL4221E(以上、ダウケミカル日本株式会社製)〕、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート〔商品名:ERL4299(ダウケミカル日本株式会社製)、EXA7015(大日本インキ化学工業株式会社製)〕、1−エポキシエチル−3,4−エポキシシクロヘキサン、エピコートYX8000、エピコートYX8034、エピコートYL7170(以上、ジャパンエポキシレジン株式会社製)、セロキサイド2081、セロキサイド3000、エポリードGT301、エポリードGT401、EHPE3150(以上、ダイセル化学工業株式会社製)等が挙げられる。   Examples of the alicyclic epoxy resin include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate [trade names: Celoxide 2021, Celoxide 2021A, Celoxide 2021P, Celoxide 2081 (above, Daicel Chemical Industries Ltd.) ERL 4221, ERL 4221D, ERL 4221E (above, manufactured by Dow Chemical Japan Co., Ltd.), bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate Ink Chemical Industries, Ltd.)], 1-epoxyethyl-3,4-epoxycyclohexane, Epicoat YX8000, Epicoat YX8034, Epicoat YL7170 (above, Japan Epoxy Resin) Made by formula companies), Celloxide 2081, CELLOXIDE 3000, Epolead GT301, Epolead GT401, EHPE3150 (or more, include Daicel Chemical Industries, Ltd.), and the like.

好ましい脂環式エポキシ樹脂としては、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、エピコートYX8000、エピコートYX8034、エポリードGT301、エポリードGT401、EHPE3150が挙げられる。   Preferred alicyclic epoxy resins include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, Epikote YX8000, Epicote YX8034, Eporide GT301, Epolide GT401 and EHPE3150 are mentioned.

イソシアヌレート骨格を有するエポキシ樹脂としては、例えば、トリグリシジルイソシアヌレート(商品名:TEPIC−S、日産化学工業株式会社製)が挙げられる。   Examples of the epoxy resin having an isocyanurate skeleton include triglycidyl isocyanurate (trade name: TEPIC-S, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.).

上記以外のエポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等が挙げられる。具体的には、例えばエピコート828、YL980(以上、ジャパンエポキシレジン株式会社製)、YLSV120TE(東都化成株式会社製)等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin other than the above include bisphenol A type epoxy resin and bisphenol S type epoxy resin. Specifically, for example, Epicoat 828, YL980 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), YLSV120TE (Toto Kasei Co., Ltd.) and the like can be mentioned.

熱硬化性樹脂は、1種を単独で又は2種以上を適宜混合して使用することができる。   A thermosetting resin can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types as appropriate.

また、熱硬化性樹脂としては、分子量が500未満程度のものを使用することが好ましい。   Moreover, it is preferable to use a thermosetting resin having a molecular weight of less than about 500.

白色コート剤における熱硬化性樹脂の含有量は、白色コート剤の固形分全量を基準として、5〜30質量%であることが好ましく、10〜20質量%であることがより好ましい。この含有量が5質量%未満であると、流動性が低下して均一な硬化物が得られ難い傾向があり、30質量%を超えると、反射率が低下する傾向がある。   The content of the thermosetting resin in the white coating agent is preferably 5 to 30% by mass and more preferably 10 to 20% by mass based on the total solid content of the white coating agent. When this content is less than 5% by mass, the fluidity tends to be lowered and a uniform cured product tends to be hardly obtained, and when it exceeds 30% by mass, the reflectance tends to decrease.

本発明で使用される硬化剤としては、上記熱硬化性樹脂と反応するものであれば特に制限なく用いることができるが、比較的着色の少ないものが好ましい。硬化剤としては、例えば、酸無水物系硬化剤、イソシアヌル酸誘導体、フェノール系硬化剤等が挙げられる。   The curing agent used in the present invention can be used without particular limitation as long as it reacts with the thermosetting resin, but a curing agent with relatively little color is preferable. Examples of the curing agent include an acid anhydride curing agent, an isocyanuric acid derivative, and a phenol curing agent.

酸無水物系硬化剤としては、例えば、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、無水ジメチルグルタル酸、無水ジエチルグルタル酸、無水コハク酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ノルボルネンジカルボン酸無水物、メチルノルボルネンジカルボン酸無水物、ノルボルナンジカルボン酸無水物、メチルノルボルナンジカルボン酸無水物等が挙げられる。   Examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, nadic anhydride, glutaric anhydride. Acid, dimethyl glutaric anhydride, diethyl glutaric anhydride, succinic anhydride, methyl hexahydrophthalic anhydride, methyl tetrahydrophthalic anhydride, norbornene dicarboxylic anhydride, methyl norbornene dicarboxylic anhydride, norbornane dicarboxylic anhydride, methyl norbornane And dicarboxylic acid anhydride.

イソシアヌル酸誘導体としては、1,3,5−トリス(1−カルボキシメチル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(2−カルボキシエチル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(3−カルボキシプロピル)イソシアヌレート、1,3−ビス(2−カルボキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。   Isocyanuric acid derivatives include 1,3,5-tris (1-carboxymethyl) isocyanurate, 1,3,5-tris (2-carboxyethyl) isocyanurate, 1,3,5-tris (3-carboxypropyl) ) Isocyanurate, 1,3-bis (2-carboxyethyl) isocyanurate and the like.

本発明においては、上述した硬化剤の中でも、無水フタル酸、無水トリメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸、無水ジメチルグルタル酸、無水ジエチルグルタル酸、1,3,5−トリス(3−カルボキシプロピル)イソシアヌレートを用いることが好ましい。   In the present invention, among the curing agents described above, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, glutaric anhydride, dimethyl anhydride It is preferable to use glutaric acid, diethyl glutaric anhydride, or 1,3,5-tris (3-carboxypropyl) isocyanurate.

硬化剤は、その分子量が100〜400のものが好ましく、また、無色ないし淡黄色のものが好ましい。   The curing agent preferably has a molecular weight of 100 to 400, and is preferably colorless or light yellow.

硬化剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   A hardening | curing agent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

白色コート剤における硬化剤の含有量は、熱硬化性樹脂100質量部に対して、50〜200質量部であることが好ましく、100〜150質量部であることがより好ましい。この含有量が50質量部未満であると、硬化が充分進まない傾向があり、200質量部を超えると、硬化物がもろく着色しやすくなる傾向がある。   The content of the curing agent in the white coating agent is preferably 50 to 200 parts by mass and more preferably 100 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermosetting resin. When this content is less than 50 parts by mass, curing tends not to proceed sufficiently, and when it exceeds 200 parts by mass, the cured product tends to be brittle and easily colored.

本発明で使用されるエラストマとしては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン・カプロラクトンブロック共重合体、及び、これらの変性樹脂からなる群より選択される1種又は2種以上を組み合わせたものであることが好ましい。   The elastomer used in the present invention is one or two selected from the group consisting of acrylic resins, urethane resins, polybutadiene resins, polyester resins, silicone resins, silicone-caprolactone block copolymers, and modified resins thereof. A combination of more than one species is preferred.

また、エラストマとしては、重量平均分子量が500〜100万程度のものを使用することが好ましい。重量平均分子量が500よりも小さくなると、クラック抑制効果が充分に発揮できない場合があり、重量平均分子量が100万を超えると、白色コート剤の粘度が増加し、スクリーン印刷などにより塗布する場合に塗布性が悪化する傾向がある。   Moreover, it is preferable to use an elastomer having a weight average molecular weight of about 500 to 1,000,000. If the weight average molecular weight is less than 500, the crack suppressing effect may not be sufficiently exhibited. If the weight average molecular weight exceeds 1,000,000, the viscosity of the white coating agent increases, and it is applied when applied by screen printing or the like. There is a tendency to deteriorate.

本発明では、エラストマとして樹枝状高分子を用いることが好ましい。樹枝状高分子としては、着色が少なく、耐クラック性等の強度及び透明性に優れるという効果をより顕著に発揮させる観点から、樹枝状ポリエステル樹脂を用いることが好ましい。   In the present invention, it is preferable to use a dendritic polymer as the elastomer. As the dendritic polymer, it is preferable to use a dendritic polyester resin from the viewpoint of exhibiting the effects of less coloring and excellent strength and transparency such as crack resistance and the like.

また、樹枝状ポリエステル樹脂は、少なくとも1個の反応性エポキシ基又はヒドロキシル基を有する核に1〜50世代、好ましくは1〜10世代の少なくとも1個のジヒドロキシモノカルボン酸が付加されたポリエステル樹脂であることがより好ましい。   The dendritic polyester resin is a polyester resin in which at least one dihydroxymonocarboxylic acid of 1 to 50 generations, preferably 1 to 10 generations, is added to a core having at least one reactive epoxy group or hydroxyl group. More preferably.

好ましい核としては、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール等のアルコール類、モノカルボン酸のグリシジルエステル、モノアルコールのグリシジルエーテル等のエポキシド類などが挙げられる。   Preferred nuclei include alcohols such as neopentyl glycol, trimethylolpropane, pentaerythritol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, epoxides such as glycidyl esters of monocarboxylic acids, glycidyl ethers of monoalcohols, etc. And the like.

ジヒドロキシモノカルボン酸としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸などが挙げられる。   Examples of the dihydroxymonocarboxylic acid include 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid and 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid.

本発明に用いる樹枝状高分子の製造方法には特に制限はなく、公知の方法を適用することができる。   There is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of the dendritic polymer used for this invention, A well-known method is applicable.

本発明の白色コート剤において、樹枝状高分子等のエラストマは、硬化剤100質量部に対して1〜60質量部含まれることが好ましく、10〜50質量部含まれることがより好ましい。エラストマの含有量が1質量部未満であると、得られる硬化物の強靭性が十分でなく、耐クラック性が低下するおそれがある。一方、エラストマの含有量が60質量部を超えると、白色コート剤が高粘度となり取扱い難く、また、得られる硬化物のガラス転移温度が著しく低下するおそれがあり、実用上好ましくない。   In the white coating agent of the present invention, the elastomer such as a dendritic polymer is preferably contained in an amount of 1 to 60 parts by mass, more preferably 10 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curing agent. When the content of the elastomer is less than 1 part by mass, the toughness of the obtained cured product is not sufficient, and crack resistance may be reduced. On the other hand, when the content of the elastomer exceeds 60 parts by mass, the white coating agent becomes highly viscous and difficult to handle, and the glass transition temperature of the resulting cured product may be remarkably lowered, which is not preferable in practice.

本発明で使用される硬化触媒(硬化促進剤)としては、特に制限はなく、例えば、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、トリ−2,4,6−ジメチルアミノメチルフェノール等の3級アミン類、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−テトラフルオロボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−テトラフェニルボレート等のリン化合物、4級アンモニウム塩、有機金属塩類及びこれらの誘導体などが挙げられる。これらは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの硬化促進剤の中では、3級アミン類、イミダゾール類、リン化合物を用いることが好ましい。   The curing catalyst (curing accelerator) used in the present invention is not particularly limited. For example, 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, tri-2,4, Tertiary amines such as 6-dimethylaminomethylphenol, imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 2-methylimidazole, triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetra-n-butylphosphonium-o , O-diethyl phosphorodithioate, tetra-n-butylphosphonium-tetrafluoroborate, phosphorus compounds such as tetra-n-butylphosphonium-tetraphenylborate, quaternary ammonium salts, organometallic salts and derivatives thereof It is done. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Among these curing accelerators, it is preferable to use tertiary amines, imidazoles, and phosphorus compounds.

白色コート剤における硬化触媒(硬化促進剤)の含有量は、熱硬化性樹脂100質量部に対して、0.01〜8質量部であることが好ましく、0.1〜3質量部であることがより好ましい。硬化促進剤の含有量が、0.01質量部未満では、十分な硬化促進効果を得られない場合があり、また、8質量部を超えると、得られる成形体に変色が見られる場合がある。   The content of the curing catalyst (curing accelerator) in the white coating agent is preferably 0.01 to 8 parts by mass, and 0.1 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermosetting resin. Is more preferable. If the content of the curing accelerator is less than 0.01 parts by mass, a sufficient curing acceleration effect may not be obtained, and if it exceeds 8 parts by mass, discoloration may be seen in the resulting molded product. .

本発明で使用される白色顔料としては、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、無機中空粒子等が挙げられる。これらは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the white pigment used in the present invention include silica, alumina, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, barium sulfate, magnesium carbonate, barium carbonate, and inorganic hollow particles. It is done. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

これらの中でも、白色顔料としては、熱伝導性、光反射特性、成型性、難燃性の点から、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウムからなる群より選択される1種又は2種以上の混合物が好ましい。   Among these, white pigments include silica, alumina, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, aluminum hydroxide, and magnesium hydroxide in terms of thermal conductivity, light reflection characteristics, moldability, and flame retardancy. , One or a mixture of two or more selected from the group consisting of barium sulfate, magnesium carbonate and barium carbonate is preferred.

また、無機中空粒子としては、例えば、珪酸ソーダガラス、アルミ珪酸ガラス、硼珪酸ソーダガラス、シラス等が挙げられる。   Examples of the inorganic hollow particles include sodium silicate glass, aluminum silicate glass, borosilicate soda glass, and shirasu.

上述した白色顔料を用いることにより、可視光領域においてより優れた光反射率を有する光半導体素子搭載用基板等の基板を形成することができる。   By using the white pigment described above, it is possible to form a substrate such as an optical semiconductor element mounting substrate that has a better light reflectance in the visible light region.

白色顔料の粒径は、平均粒径が0.1〜50μmの範囲であることが好ましく、0.1〜10μmの範囲であることがより好ましい。平均粒径が0.1μm未満であると、粒子が凝集しやすく分散性が悪くなる傾向があり、50μmを超えると、反射特性が十分に得られにくくなる傾向がある。   The average particle diameter of the white pigment is preferably in the range of 0.1 to 50 μm, and more preferably in the range of 0.1 to 10 μm. If the average particle size is less than 0.1 μm, the particles tend to aggregate and the dispersibility tends to deteriorate, and if it exceeds 50 μm, the reflection characteristics tend to be difficult to obtain sufficiently.

平均粒径が上記範囲内である白色顔料を用いることにより、可視光領域においてより優れた光反射率を有する光半導体素子搭載用基板等の基板を形成することができる。白色顔料の平均粒径は、レーザ光式粒度分布計、例えば、Beckman Coulter LS 13 320により測定されるものである。   By using a white pigment having an average particle diameter within the above range, a substrate such as an optical semiconductor element mounting substrate having a better light reflectance in the visible light region can be formed. The average particle diameter of the white pigment is measured by a laser beam type particle size distribution analyzer, for example, a Beckman Coulter LS 13 320.

また、難燃効果の観点から、白色顔料としては、水酸化アルミニウム又は水酸化マグネシウムが好ましい。これらの難燃剤は、白色であり、反射率に与える影響が無い点で好ましい。さらに、耐湿信頼性の観点からは、イオン性不純物の少ない水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウムが好ましく、例えば、Na化合物の含有量が0.2質量%以下のものが好ましい。   Further, from the viewpoint of the flame retardant effect, the white pigment is preferably aluminum hydroxide or magnesium hydroxide. These flame retardants are preferable in that they are white and do not affect the reflectance. Furthermore, from the viewpoint of moisture resistance reliability, aluminum hydroxide and magnesium hydroxide with less ionic impurities are preferable. For example, a Na compound content of 0.2% by mass or less is preferable.

水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウムの平均粒径は、特に制限はないが、難燃性及び流動性の観点から、0.1〜50μmであることが好ましく、0.1〜10μmであることがより好ましい。   The average particle diameter of aluminum hydroxide or magnesium hydroxide is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 50 μm and more preferably 0.1 to 10 μm from the viewpoint of flame retardancy and fluidity. preferable.

白色コート剤における水酸化アルミニウム又は水酸化マグネシウムの含有量は、白色顔料全量を基準として10〜30質量%であることが好ましく、20〜30質量%であることがより好ましい。この含有量が10質量%未満では、難燃効果が十分に得られにくくなる傾向があり、30質量%を超えると、流動性や硬化性に悪影響を与える傾向がある。水酸化アルミニウム又は水酸化マグネシウムの含有量を上記範囲内とすることにより、可視光領域においてより優れた光反射率を有するとともに、優れた難燃性を有する光半導体素子搭載用基板等の基板を形成することができる。   The content of aluminum hydroxide or magnesium hydroxide in the white coating agent is preferably 10 to 30% by mass, more preferably 20 to 30% by mass based on the total amount of the white pigment. If the content is less than 10% by mass, the flame-retardant effect tends to be hardly obtained, and if it exceeds 30% by mass, the fluidity and curability tend to be adversely affected. By setting the content of aluminum hydroxide or magnesium hydroxide within the above range, a substrate such as a substrate for mounting an optical semiconductor element having excellent light reflectivity in the visible light region and excellent flame retardancy can be obtained. Can be formed.

白色コート剤における白色顔料の含有量(充填量)は、白色コート剤の固形分全体積を基準として10〜85体積%であることが好ましく、15〜70体積%であることがより好ましく、20〜50体積%であることが特に好ましい。この含有量が10体積%未満であると、光反射特性が低下する傾向があり、85体積%を超えると、成型性が悪くなり基板の作製が困難となる傾向がある。白色顔料の含有量を上記範囲内とすることにより、可視光領域においてより優れた光反射率を有する光半導体素子搭載用基板等の基板を形成することができる。   The white pigment content (filling amount) in the white coating agent is preferably 10 to 85% by volume, more preferably 15 to 70% by volume, based on the total solid content of the white coating agent, and 20 It is particularly preferred that it is ˜50% by volume. If this content is less than 10% by volume, the light reflection characteristics tend to be reduced, and if it exceeds 85% by volume, the moldability tends to be poor and the production of the substrate tends to be difficult. By setting the content of the white pigment within the above range, it is possible to form a substrate such as a substrate for mounting an optical semiconductor element having better light reflectance in the visible light region.

また、本発明の白色コート剤には、白色顔料の分散性を向上させる目的で、カップリング剤を添加してもよい。カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤等が挙げられるが、着色の観点から、エポキシシラン系のカップリング剤が好ましい。   Moreover, you may add a coupling agent to the white coating agent of this invention in order to improve the dispersibility of a white pigment. Examples of the coupling agent include a silane coupling agent and a titanate coupling agent. From the viewpoint of coloring, an epoxy silane coupling agent is preferable.

エポキシシラン系のカップリング剤としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Epoxysilane coupling agents include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and the like.

白色コート剤におけるカップリング剤の含有量は、白色顔料100質量部に対して、5質量部以下であることが好ましい。   The content of the coupling agent in the white coating agent is preferably 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the white pigment.

また、本発明の白色コート剤には、その他の添加剤として、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、離型剤、イオン捕捉剤、可撓化剤、レベリング剤、消泡剤等を添加してもよい。レベリング剤及び消泡剤としては、ジメチルシロキサン系樹脂が適している。   In addition, the white coating agent of the present invention includes, as other additives, an antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a release agent, an ion scavenger, a flexible agent, a leveling agent, an antifoaming agent, and the like. It may be added. As the leveling agent and antifoaming agent, a dimethylsiloxane resin is suitable.

さらに、本発明の白色コート剤には、溶剤を添加してもよい。溶剤としては例えば、アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、エチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。但し、上記組成を有する本発明の白色コート剤は、無溶剤でも液状であり、溶剤を添加することなく成膜することが可能である。   Furthermore, a solvent may be added to the white coating agent of the present invention. Examples of the solvent include acetone, methyl ethyl ketone, ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like. However, the white coating agent of the present invention having the above composition is liquid even without a solvent, and can be formed without adding a solvent.

無溶剤の場合には、成膜時にBステージ化する工程を省略することができるため、工程の簡略化が可能であるとともに、Bステージ化に伴う光反射率の低下等の問題を解消することができる。   In the case of a solvent-free process, the B-stage process can be omitted at the time of film formation, so that the process can be simplified and problems such as a decrease in light reflectivity associated with the B-stage process can be solved. Can do.

本発明の白色コート剤は、25℃での粘度が5〜200Pa・sであることが好ましく、10〜50Pa・sであることがより好ましい。白色コート剤の粘度は、E型粘度計により測定される。粘度が5Pa・s未満であると、得られる硬化物の膜厚にムラが発生しやすくなる傾向があり、200Pa・sを超えると、白色コート剤の印刷性が低下する傾向がある。   The white coating agent of the present invention preferably has a viscosity at 25 ° C. of 5 to 200 Pa · s, and more preferably 10 to 50 Pa · s. The viscosity of the white coating agent is measured with an E-type viscometer. If the viscosity is less than 5 Pa · s, unevenness tends to occur in the film thickness of the resulting cured product, and if it exceeds 200 Pa · s, the printability of the white coating agent tends to decrease.

(光半導体素子搭載用基板及び光半導体装置)
本発明の光半導体素子搭載用基板は、基材と該基材の表面に形成された複数の導体部材(接続端子)間に形成された上記本発明の白色コート剤からなる白色樹脂層と、を備えるものである。また、本発明の光半導体装置は、上記本発明の光半導体素子搭載用基板に光半導体素子を搭載してなるものである。
(Optical semiconductor element mounting substrate and optical semiconductor device)
The substrate for mounting an optical semiconductor element of the present invention is a white resin layer made of the white coating agent of the present invention formed between a base material and a plurality of conductor members (connection terminals) formed on the surface of the base material, Is provided. The optical semiconductor device of the present invention is obtained by mounting an optical semiconductor element on the optical semiconductor element mounting substrate of the present invention.

複数の導体部材間に本発明の白色コート剤からなる白色樹脂層が形成されている光半導体素子搭載用基板は、プリント配線板の製造工程等で加わる応力によるクラックの発生が十分に抑制される。   In the optical semiconductor element mounting substrate in which the white resin layer made of the white coating agent of the present invention is formed between a plurality of conductor members, generation of cracks due to stress applied in the manufacturing process of the printed wiring board is sufficiently suppressed. .

また、上記光半導体装置は、上記本発明の光半導体素子搭載用基板を備えることから、プリント配線板の製造工程等で加わる応力によるクラックの発生が十分に抑制される。   In addition, since the optical semiconductor device includes the optical semiconductor element mounting substrate of the present invention, generation of cracks due to stress applied in the manufacturing process of the printed wiring board is sufficiently suppressed.

また、白色樹脂層を形成するための白色コート剤として、該白色コート剤の硬化物を200℃で24時間放置した場合の白色度が75以上である白色コート剤を用いた場合の光半導体素子搭載用基板及び光半導体装置は、優れた耐熱性と、可視光領域における優れた光反射率とを有し、加熱処理や光照射処理による光反射率の低下が十分に抑制されるとともに、プリント配線板の製造工程等で加わる応力によるクラックの発生が十分に抑制される。   In addition, as a white coating agent for forming a white resin layer, an optical semiconductor element in which a white coating agent having a whiteness of 75 or more when a cured product of the white coating agent is allowed to stand at 200 ° C. for 24 hours is used. The mounting substrate and the optical semiconductor device have excellent heat resistance and excellent light reflectance in the visible light region, and the decrease in light reflectance due to heat treatment or light irradiation treatment is sufficiently suppressed, and printing. Generation of cracks due to stress applied in the manufacturing process of the wiring board is sufficiently suppressed.

図1は、本発明の光半導体装置の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図1に示すように、光半導体装置100は、基材1と、該基材1の表面に形成された複数の導体部材2と、複数の導体部材(接続端子)2間に形成された、上記本発明の白色コート剤からなる白色樹脂層3と、を備える光半導体素子搭載用基板に、光半導体素子10が搭載され、該光半導体素子10が封止されるように透明な封止樹脂4が設けられた、表面実装型の発光ダイオードである。なお、光半導体装置100において、光半導体素子10は、接着層8を介して導体部材2に接着されており、ワイヤー9により導体部材2と電気的に接続されている。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a preferred embodiment of the optical semiconductor device of the present invention. As shown in FIG. 1, an optical semiconductor device 100 is formed between a base material 1, a plurality of conductor members 2 formed on the surface of the base material 1, and a plurality of conductor members (connection terminals) 2. An optical semiconductor element 10 is mounted on an optical semiconductor element mounting substrate including the white resin layer 3 made of the white coating agent of the present invention, and a transparent sealing resin so that the optical semiconductor element 10 is sealed 4 is a surface-mount type light emitting diode provided with 4. In the optical semiconductor device 100, the optical semiconductor element 10 is bonded to the conductor member 2 through the adhesive layer 8 and is electrically connected to the conductor member 2 by a wire 9.

基材1としては、光半導体素子搭載用基板に用いられる基材を特に制限なく用いることができるが、例えば、エポキシ樹脂積層板のような樹脂積層板などが挙げられる。   As the base material 1, a base material used for a substrate for mounting an optical semiconductor element can be used without particular limitation, and examples thereof include a resin laminated board such as an epoxy resin laminated board.

導体部材2は、接続端子として機能するものであり、例えば、銅箔をフォトエッチングする方法など、公知の方法により形成することができる。   The conductor member 2 functions as a connection terminal, and can be formed by a known method such as a method of photoetching a copper foil.

光半導体素子搭載用基板は、本発明の白色コート剤を基材1上の複数の導体部材2間に塗布し、加熱硬化して上記白色コート剤からなる白色樹脂層3を形成することにより作製することができる。   The substrate for mounting an optical semiconductor element is produced by applying the white coating agent of the present invention between the plurality of conductor members 2 on the base material 1 and heating and curing to form the white resin layer 3 made of the white coating agent. can do.

本発明の白色コート剤の基板1への塗布方法としては、例えば、印刷法、ダイコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ロールコート法等の塗布方法を用いることができる。   As a method for applying the white coating agent of the present invention to the substrate 1, for example, a coating method such as a printing method, a die coating method, a curtain coating method, a spray coating method, or a roll coating method can be used.

白色コート剤の塗膜を加熱硬化する際の加熱条件としては、特に限定されないが、例えば、130〜180℃、30〜600分間の条件で加熱を行うことが好ましい。   Although it does not specifically limit as a heating condition at the time of heat-hardening the coating film of a white coating agent, For example, it is preferable to heat on 130-180 degreeC and the conditions for 30 to 600 minutes.

その後、導体部材2表面に余分に付着した樹脂成分は、バフ研磨等により除去し、導体部材2からなる回路を露出させ、光半導体素子搭載用基板とする。   Thereafter, the resin component excessively attached to the surface of the conductor member 2 is removed by buffing or the like to expose the circuit formed of the conductor member 2 to form an optical semiconductor element mounting substrate.

また、白色樹脂層3と導体部材2との密着性を確保するために、導体部材2に対して酸化還元処理やCZ処理(メック株式会社製)等の粗化処理を行なうことも好ましい。   Moreover, in order to ensure the adhesiveness between the white resin layer 3 and the conductor member 2, it is also preferable to subject the conductor member 2 to a roughening treatment such as oxidation-reduction treatment or CZ treatment (manufactured by MEC Co., Ltd.).

上記本発明の光半導体素子搭載用基板は、その表面が白色樹脂層3と導体部材2のみで形成されているため、該光半導体素子搭載用基板を用いることで、熱や光劣化が十分に抑制された長寿命の光半導体装置を得ることができる。   Since the surface of the optical semiconductor element mounting substrate of the present invention is formed of only the white resin layer 3 and the conductor member 2, the use of the optical semiconductor element mounting substrate can sufficiently prevent heat and light deterioration. An optical semiconductor device having a suppressed long life can be obtained.

また、上記本発明の光半導体素子搭載用基板においては、白色樹脂層3が導体部材2間にのみ配置されているため、例えば、白色樹脂層3を基材1と導体部材2との間の基材1表面全体に形成するような場合と比較して、光半導体素子搭載用基板の反りの発生を十分に抑制することができる。   In the optical semiconductor element mounting substrate of the present invention, since the white resin layer 3 is disposed only between the conductor members 2, for example, the white resin layer 3 is disposed between the base material 1 and the conductor member 2. Compared with the case where it forms on the whole surface of the base material 1, generation | occurrence | production of the curvature of the board | substrate for optical semiconductor element mounting can fully be suppressed.

以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described in detail, this invention is not limited to the said embodiment.

以下、本発明を実施例により詳述するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example explains in full detail this invention, the scope of the present invention is not limited to these Examples.

[実施例1]
熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)としてトリグリシジルイソシアヌレート(商品名:TEPIC−S、日産化学工業株式会社製)100質量部、硬化剤(酸無水物系硬化剤)としてメチルヘキサヒドロフタル酸無水物(商品名:HN−5500E、日立化成工業株式会社製)150質量部、エラストマとして樹枝状ポリエステル(商品名:BOLTORN P−1000、Perstorp社製、重量平均分子量:1800)25質量部、白色顔料として酸化チタン(商品名:FTR−700、堺化学工業株式会社製、平均粒径:0.2μm)470質量部、及び、硬化触媒(硬化促進剤)としてテトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート(商品名:PX−4ET、日本化学工業株式会社製)1.5質量部を混合し、混練温度20〜30℃、混練時間10分の条件で、らいかい機で混練し、白色コート剤を作製した。得られた白色コート剤の粘度は、25℃で30Pa・sであった。また、白色コート剤の固形分全体積を基準とした白色顔料の含有量は、32体積%であった。
[Example 1]
100 parts by mass of triglycidyl isocyanurate (trade name: TEPIC-S, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) as a thermosetting resin (epoxy resin), methylhexahydrophthalic anhydride as a curing agent (acid anhydride curing agent) (Trade name: HN-5500E, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) 150 parts by mass, dendritic polyester (trade name: BOLTORN P-1000, manufactured by Perstorp, weight average molecular weight: 1800) as an elastomer, 25 parts by mass, as white pigment 470 parts by mass of titanium oxide (trade name: FTR-700, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., average particle size: 0.2 μm), and tetra-n-butylphosphonium-o, o- as a curing catalyst (curing accelerator) 1.5 parts by mass of diethyl phosphorodithioate (trade name: PX-4ET, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) , Kneading temperature 20 to 30 ° C., under the conditions of the kneading time of 10 minutes, then kneaded with kneader to prepare a white coating agent. The viscosity of the obtained white coating agent was 30 Pa · s at 25 ° C. The white pigment content based on the total solid content of the white coating agent was 32% by volume.

[実施例2]
熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)として脂環式エポキシ樹脂であるセロキサイド2021P(商品名、ダイセル化学工業株式会社製)100質量部、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(商品名:HN−5500E、日立化成工業株式会社製)120質量部、エラストマとして樹枝状ポリエステル(商品名:BOLTORN P−1000、Perstorp社製、重量平均分子量:1800)25質量部、酸化チタン(商品名:FTR−700、堺化学工業株式会社製)410質量部、及び、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート(商品名:PX−4ET、日本化学工業株式会社製)1.5質量部を混合し、混練温度20〜30℃、混練時間10分の条件で、らいかい機で混練し、白色コート剤を作製した。得られた白色コート剤の粘度は、25℃で20Pa・sであった。また、白色コート剤の固形分全体積を基準とした白色顔料の含有量は、32体積%であった。
[Example 2]
As thermosetting resin (epoxy resin), 100 parts by mass of Celoxide 2021P (trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries), which is an alicyclic epoxy resin, methylhexahydrophthalic anhydride (trade name: HN-5500E, Hitachi Chemical) 120 parts by mass of Kogyo Co., Ltd., dendritic polyester (trade name: BOLTORN P-1000, manufactured by Perstorp, weight average molecular weight: 1800) as an elastomer, 25 parts by mass, titanium oxide (trade name: FTR-700, Sakai Chemical Industry) 410 parts by mass) and 1.5 parts by mass of tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethyl phosphorodithioate (trade name: PX-4ET, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) A white coating agent was prepared by kneading with a rough machine under conditions of kneading temperature 20-30 ° C. and kneading time 10 minutes. . The viscosity of the obtained white coating agent was 20 Pa · s at 25 ° C. The white pigment content based on the total solid content of the white coating agent was 32% by volume.

[実施例3]
熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)として脂環式エポキシ樹脂であるセロキサイド2021P(商品名、ダイセル化学工業株式会社製)100質量部、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(商品名:HN−5500E、日立化成工業株式会社製)120質量部、エラストマとしてアクリルポリマ(商品名:LA2140e、クラレ株式会社製、重量平均分子量:8万)10質量部、酸化チタン(商品名:FTR−700、堺化学工業株式会社製)410質量部、及び、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート(商品名:PX−4ET、日本化学工業株式会社製)1.5質量部を混合し、混練温度20〜30℃、混練時間10分の条件で、らいかい機で混練し、白色コート剤を作製した。得られた白色コート剤の粘度は、25℃で50Pa・sであった。また、白色コート剤の固形分全体積を基準とした白色顔料の含有量は、33体積%であった。
[Example 3]
Cellulose 2021P (trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), an alicyclic epoxy resin, as thermosetting resin (epoxy resin), 100 parts by mass, methyl hexahydrophthalic anhydride (trade name: HN-5500E, Hitachi Chemical) Industrial Co., Ltd.) 120 parts by mass, elastomer as acrylic polymer (trade name: LA2140e, Kuraray Co., Ltd., weight average molecular weight: 80,000) 10 parts by mass, titanium oxide (trade name: FTR-700, Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) 410 parts by mass and tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethyl phosphorodithioate (trade name: PX-4ET, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) 1.5 parts by mass are mixed and kneading temperature The mixture was kneaded with a rough machine under conditions of 20 to 30 ° C. and a kneading time of 10 minutes to prepare a white coating agent. The viscosity of the obtained white coating agent was 50 Pa · s at 25 ° C. The white pigment content based on the total solid content of the white coating agent was 33% by volume.

[実施例4]
熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)として脂環式エポキシ樹脂であるセロキサイド2021P(商品名、ダイセル化学工業株式会社製)100質量部、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(商品名:HN−5500E、日立化成工業株式会社製)120質量部、エラストマとして樹枝状ポリエステル(商品名:BOLTORN P−500、Perstorp社製、重量平均分子量:1800)20質量部、酸化チタン(商品名:FTR−700、堺化学工業株式会社製)410質量部、及び、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート(商品名:PX−4ET、日本化学工業株式会社製)1.5質量部を混合し、混練温度20〜30℃、混練時間10分の条件で、らいかい機で混練し、白色コート剤を作製した。得られた白色コート剤の粘度は、25℃で10Pa・sであった。また、白色コート剤の固形分全体積を基準とした白色顔料の含有量は、32体積%であった。
[Example 4]
Cellulose 2021P (trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), an alicyclic epoxy resin, as thermosetting resin (epoxy resin), 100 parts by mass, methyl hexahydrophthalic anhydride (trade name: HN-5500E, Hitachi Chemical) 120 parts by mass of Kogyo Co., Ltd., 20 parts by mass of dendritic polyester (trade name: BOLTORN P-500, manufactured by Perstorp, weight average molecular weight: 1800) as an elastomer, titanium oxide (trade name: FTR-700, Sakai Chemical Industry) 410 parts by mass) and 1.5 parts by mass of tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethyl phosphorodithioate (trade name: PX-4ET, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) The mixture was kneaded with a rough machine under conditions of a kneading temperature of 20 to 30 ° C. and a kneading time of 10 minutes to prepare a white coating agent. The viscosity of the obtained white coating agent was 10 Pa · s at 25 ° C. The white pigment content based on the total solid content of the white coating agent was 32% by volume.

[実施例5]
熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)として脂環式エポキシ樹脂であるセロキサイド2021P(商品名、ダイセル化学工業株式会社製)100質量部、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(商品名:HN−5500E、日立化成工業株式会社製)120質量部、エラストマとしてアクリルゴム(商品名:HTR−811−2DR、ナガセケムテック(株)製、重量平均分子量:47万)1質量部、酸化チタン(商品名:FTR−700、堺化学工業株式会社製)410質量部、及び、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート(商品名:PX−4ET、日本化学工業株式会社製)1.5質量部を混合し、混練温度20〜30℃、混練時間10分の条件で、らいかい機で混練し、白色コート剤を作製した。得られた白色コート剤の粘度は、25℃で50Pa・sであった。また、白色コート剤の固形分全体積を基準とした白色顔料の含有量は、34体積%であった。
[Example 5]
Cellulose 2021P (trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), an alicyclic epoxy resin, as thermosetting resin (epoxy resin), 100 parts by mass, methyl hexahydrophthalic anhydride (trade name: HN-5500E, Hitachi Chemical) 120 parts by mass of Kogyo Co., Ltd., acrylic rubber as an elastomer (trade name: HTR-811-2DR, manufactured by Nagase Chemtech Co., Ltd., weight average molecular weight: 470,000), 1 part by mass, titanium oxide (trade name: FTR- 700, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) 410 parts by mass and tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethyl phosphorodithioate (trade name: PX-4ET, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) 1.5 mass The parts were mixed and kneaded with a roughing machine under conditions of a kneading temperature of 20 to 30 ° C. and a kneading time of 10 minutes to prepare a white coating agent. The viscosity of the obtained white coating agent was 50 Pa · s at 25 ° C. The content of the white pigment based on the total solid content of the white coating agent was 34% by volume.

[実施例6]
熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)として脂環式エポキシ樹脂であるセロキサイド2021P(商品名、ダイセル化学工業株式会社製)100質量部、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(商品名:HN−5500E、日立化成工業株式会社製)120質量部、エラストマとしてアクリルゴム(商品名:HTR−860P−3、ナガセケムテック(株)製、重量平均分子量:80万)1質量部、酸化チタン(商品名:FTR−700、堺化学工業株式会社製)410質量部、及び、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート(商品名:PX−4ET、日本化学工業株式会社製)1.5質量部を混合し、混練温度20〜30℃、混練時間10分の条件で、らいかい機で混練し、白色コート剤を作製した。得られた白色コート剤の粘度は、25℃で80Pa・sであった。また、白色コート剤の固形分全体積を基準とした白色顔料の含有量は、34体積%であった。
[Example 6]
Cellulose 2021P (trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), an alicyclic epoxy resin, as thermosetting resin (epoxy resin), 100 parts by mass, methyl hexahydrophthalic anhydride (trade name: HN-5500E, Hitachi Chemical) Kogyo Co., Ltd.) 120 parts by mass, elastomer as acrylic rubber (trade name: HTR-860P-3, manufactured by Nagase Chemtech Co., Ltd., weight average molecular weight: 800,000) 1 part by mass, titanium oxide (trade name: FTR- 700, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) 410 parts by mass and tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethyl phosphorodithioate (trade name: PX-4ET, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) 1.5 mass The parts were mixed and kneaded with a roughing machine under conditions of a kneading temperature of 20 to 30 ° C. and a kneading time of 10 minutes to prepare a white coating agent. The viscosity of the obtained white coating agent was 80 Pa · s at 25 ° C. The content of the white pigment based on the total solid content of the white coating agent was 34% by volume.

[比較例1]
熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)としてトリグリシジルイソシアヌレート(商品名:TEPIC−S、日産化学工業株式会社製)100質量部、硬化剤(酸無水物系硬化剤)としてメチルヘキサヒドロフタル酸無水物(商品名:HN−5500E、日立化成工業株式会社製)150質量部、白色顔料として酸化チタン(商品名:FTR−700、堺化学工業株式会社製、平均粒径:0.2μm)470質量部、及び、硬化触媒(硬化促進剤)としてテトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート(商品名:PX−4ET、日本化学工業株式会社製)1.5質量部を混合し、混練温度20〜30℃、混練時間10分の条件で、らいかい機で混練し、白色コート剤を作製した。得られた白色コート剤の粘度は、25℃で8Pa・sであった。また、白色コート剤の固形分全体積を基準とした白色顔料の含有量は、35体積%であった。
[Comparative Example 1]
100 parts by mass of triglycidyl isocyanurate (trade name: TEPIC-S, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) as a thermosetting resin (epoxy resin), methylhexahydrophthalic anhydride as a curing agent (acid anhydride curing agent) (Trade name: HN-5500E, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) 150 parts by mass, titanium oxide as a white pigment (trade name: FTR-700, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., average particle size: 0.2 μm) 470 parts by mass And 1.5 parts by mass of tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethylphosphorodithioate (trade name: PX-4ET, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) as a curing catalyst (curing accelerator) The mixture was kneaded with a rough machine under conditions of a kneading temperature of 20 to 30 ° C. and a kneading time of 10 minutes to prepare a white coating agent. The viscosity of the obtained white coating agent was 8 Pa · s at 25 ° C. The white pigment content based on the total solid content of the white coating agent was 35% by volume.

[比較例2]
熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)として脂環式エポキシ樹脂であるセロキサイド2021P(商品名、ダイセル化学工業株式会社製)100質量部、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(商品名:HN−5500E、日立化成工業株式会社製)120質量部、酸化チタン(商品名:FTR−700、堺化学工業株式会社製)410質量部、及び、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート(商品名:PX−4ET、日本化学工業株式会社製)1.5質量部を混合し、混練温度20〜30℃、混練時間10分の条件で、らいかい機で混練し、白色コート剤を作製した。得られた白色コート剤の粘度は、25℃で6Pa・sであった。また、白色コート剤の固形分全体積を基準とした白色顔料の含有量は、34体積%であった。
[Comparative Example 2]
Cellulose 2021P (trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), an alicyclic epoxy resin, as thermosetting resin (epoxy resin), 100 parts by mass, methyl hexahydrophthalic anhydride (trade name: HN-5500E, Hitachi Chemical) Industrial Co., Ltd.) 120 parts by mass, titanium oxide (trade name: FTR-700, Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) 410 parts by mass, and tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethyl phosphorodithioate (commodity) Name: PX-4ET, manufactured by Nippon Kagaku Kogyo Co., Ltd.) 1.5 parts by mass was mixed and kneaded with a rough machine under conditions of a kneading temperature of 20-30 ° C. and a kneading time of 10 minutes to prepare a white coating agent. . The viscosity of the obtained white coating agent was 6 Pa · s at 25 ° C. The content of the white pigment based on the total solid content of the white coating agent was 34% by volume.

(白色度の測定)
実施例1〜6及び比較例1、2でそれぞれ作製した白色コート剤を、キャスト法によりAl箔付き型上に塗布し、150℃で120分間加熱硬化させ、Al箔を剥離して、白色コート剤からなる厚さ1mmの硬化膜を作製した。この硬化膜について、初期及び200℃で24時間放置後のL(明度)、a・b(色相・彩度)、白色度及び波長460nmの光の反射率を、分光測色計(商品名:CM−508d、コニカミノルタセンシング株式会社製)を用いて測定した。その結果を表1(初期)及び表2(200℃で24時間放置後)に示す。
(Measurement of whiteness)
The white coating agents prepared in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2, respectively, were applied on a mold with an Al foil by a casting method, and heated and cured at 150 ° C. for 120 minutes. A cured film having a thickness of 1 mm made of an agent was prepared. About this cured film, L (lightness), a · b (hue / saturation), whiteness, and reflectance of light having a wavelength of 460 nm after being allowed to stand for 24 hours at 200 ° C. CM-508d, manufactured by Konica Minolta Sensing Co., Ltd.). The results are shown in Table 1 (initial) and Table 2 (after leaving at 200 ° C. for 24 hours).

Figure 2010278411
Figure 2010278411

Figure 2010278411
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(光照射後の着色の有無及び光反射率の評価)
上記白色度の測定で作製した硬化膜に対し、波長240〜380nmの光を30J/cmの照射量で照射した後の着色の有無を目視により確認した。着色が無い(白色である)場合は「A」、着色が有る場合は「B」として評価した。また、光照射後の硬化膜の波長460nmの光の反射率を、分光測色計(商品名:CM−508d、ミノルタ社製)を用いて測定した。それらの結果を表3に示す。
(Evaluation of light reflectance and coloration after light irradiation)
The cured film produced by measuring the whiteness was visually checked for coloration after irradiation with light having a wavelength of 240 to 380 nm at an irradiation dose of 30 J / cm 2 . Evaluation was made as “A” when there was no coloring (white), and as “B” when there was coloring. Moreover, the reflectance of the light of wavelength 460nm of the cured film after light irradiation was measured using the spectrocolorimeter (brand name: CM-508d, Minolta company make). The results are shown in Table 3.

(光半導体装置の作製及びクラックの評価)
フォトエッチングにより銅箔からなる導体回路を形成した光半導体素子搭載用基板の導体回路をCZ処理で粗化した後、実施例1〜6及び比較例1、2の白色コート剤を印刷法により厚み50μmで塗布し、150℃で2時間加熱硬化させて、硬化膜を形成した。形成した硬化膜について、目視によりクラックの有無を観察し、クラックの無い場合を「A」、クラックが有る場合を「B」として評価した。この評価結果を硬化後のクラックの有無として表3に示す。
(Production of optical semiconductor device and evaluation of cracks)
After the conductor circuit of the optical semiconductor element mounting substrate on which the conductor circuit made of copper foil is formed by photoetching is roughened by CZ treatment, the white coating agents of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 are thickened by the printing method. It apply | coated by 50 micrometers and was heat-hardened at 150 degreeC for 2 hours, and formed the cured film. About the formed cured film, the presence or absence of a crack was observed visually, and the case where there was no crack was evaluated as "A", and the case where there was a crack was evaluated as "B". The evaluation results are shown in Table 3 as the presence or absence of cracks after curing.

次に、導体回路表面に付着した余分な樹脂(硬化膜)をバフ研磨により除去して導体回路を露出させることで、導体回路間に白色樹脂層を形成した。バフ研磨は、バフロールを用いた研磨機(株式会社石井表記製)を使用して、機械研磨により行った。バフロールとしては、穴埋め樹脂研磨用のJPバフモンスターV3/V3−D2(商品名、ジャブロ工業社製)を使用した。使用したバフロールの番手は、#600番、#800番、#1000番であり、これらをこの順に組み合わせて使用した。また、研磨電流は1.2Aであった。研磨後の白色樹脂層について、目視によりクラックの有無を観察し、クラックの無い場合を「A」、クラックが有る場合を「B」として評価した。この評価結果を研磨後のクラックの有無として表3に示す。   Next, excess resin (cured film) adhering to the surface of the conductor circuit was removed by buffing to expose the conductor circuit, thereby forming a white resin layer between the conductor circuits. The buffing was performed by mechanical polishing using a polishing machine (made by Ishii Co., Ltd.) using buffalo. As the baffle, JP buff monster V3 / V3-D2 (trade name, manufactured by Jaburo Industry Co., Ltd.) for hole filling resin polishing was used. The numbers of the baflor used were # 600, # 800, and # 1000, and these were used in combination in this order. The polishing current was 1.2A. About the white resin layer after grinding | polishing, the presence or absence of a crack was observed visually, and the case where there was no crack was evaluated as "A", and the case where there was a crack was evaluated as "B". The evaluation results are shown in Table 3 as the presence or absence of cracks after polishing.

その後、導体回路にニッケル、銀めっきを施した。銀めっき後の白色樹脂層について、目視によりクラックの有無を観察し、クラックの無い場合を「A」、クラックが有る場合を「B」として評価した。この評価結果を銀めっき後のクラックの有無として表3に示す。   Thereafter, nickel and silver plating was applied to the conductor circuit. About the white resin layer after silver plating, the presence or absence of a crack was observed visually, and the case where there was no crack was evaluated as "A", and the case where there was a crack was evaluated as "B". The evaluation results are shown in Table 3 as the presence or absence of cracks after silver plating.

その後、光半導体素子をダイボンドした。さらに、ワイヤボンドにより光半導体素子と導体回路とを電気的に接続し、透明封止樹脂で封止して、光半導体装置を作製した。   Thereafter, the optical semiconductor element was die-bonded. Furthermore, the optical semiconductor element and the conductor circuit were electrically connected by wire bonding, and sealed with a transparent sealing resin to produce an optical semiconductor device.

Figure 2010278411
Figure 2010278411

表1〜3に示されるように、実施例1〜6の白色コート剤は、プリント配線板の製造工程を行った後もクラックの発生がないことが確認された。また、実施例1〜5の白色コート剤は、加熱処理や光照射による着色がなく、光反射率の低下が十分に抑制されていることが確認された。   As shown in Tables 1 to 3, it was confirmed that the white coating agents of Examples 1 to 6 were free from cracks even after the printed wiring board manufacturing process was performed. In addition, it was confirmed that the white coating agents of Examples 1 to 5 were not colored by heat treatment or light irradiation, and the decrease in light reflectance was sufficiently suppressed.

上記の結果から明らかなように、本発明の白色コート剤からなる白色樹脂層を基板表面の導体部材間に形成した光半導体素子搭載用基板によれば、基板表面が白色樹脂層と導体回路のみで形成されているため、熱や光劣化が十分に抑制された長寿命の光半導体装置を得ることができる。   As is apparent from the above results, according to the substrate for mounting an optical semiconductor element in which the white resin layer made of the white coating agent of the present invention is formed between the conductor members on the substrate surface, the substrate surface is composed of only the white resin layer and the conductor circuit. Therefore, it is possible to obtain a long-life optical semiconductor device in which heat and light degradation are sufficiently suppressed.

1…基材、2…導体部材、3…白色樹脂層、4…封止樹脂、8…接着層、9…ワイヤー、10…光半導体素子、100…光半導体装置。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base material, 2 ... Conductive member, 3 ... White resin layer, 4 ... Sealing resin, 8 ... Adhesive layer, 9 ... Wire, 10 ... Optical semiconductor element, 100 ... Optical semiconductor device.

Claims (11)

熱硬化性樹脂、白色顔料、硬化剤、硬化触媒及びエラストマを含有する、白色コート剤。   A white coating agent containing a thermosetting resin, a white pigment, a curing agent, a curing catalyst, and an elastomer. 前記白色コート剤からなる硬化物を200℃で24時間放置した場合の白色度が75以上である、請求項1記載の白色コート剤。   The white coating agent according to claim 1, wherein the whiteness when the cured product made of the white coating agent is allowed to stand at 200 ° C. for 24 hours is 75 or more. 導体部材間に用いられる、請求項1又は2記載の白色コート剤。   The white coating agent of Claim 1 or 2 used between conductor members. 前記熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の白色コート剤。   The white coating agent as described in any one of Claims 1-3 whose said thermosetting resin is an epoxy resin. 前記エラストマが、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、及び、これらの変性樹脂からなる群より選択される少なくとも1種である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の白色コート剤。   The said elastomer is at least 1 sort (s) selected from the group which consists of an acrylic resin, a urethane resin, a polybutadiene resin, a polyester resin, a silicone resin, and these modified resins, It is any one of Claims 1-4. White coating agent. 前記エラストマが樹枝状ポリエステル樹脂である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の白色コート剤。   The white coating agent according to any one of claims 1 to 5, wherein the elastomer is a dendritic polyester resin. 前記白色顔料が、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、及び、水酸化マグネシウムからなる群より選択される少なくとも1種である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の白色コート剤。   The white pigment is at least one selected from the group consisting of titanium oxide, silica, alumina, magnesium oxide, antimony oxide, aluminum hydroxide, barium sulfate, magnesium carbonate, barium carbonate, and magnesium hydroxide. Item 7. The white coating agent according to any one of Items 1 to 6. 前記白色顔料の平均粒径が0.1〜50μmである、請求項1〜7のいずれか一項に記載の白色コート剤。   The white coating agent as described in any one of Claims 1-7 whose average particle diameters of the said white pigment are 0.1-50 micrometers. 前記白色顔料の含有量が、前記白色コート剤の固形分全体積を基準として10〜85体積%である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の白色コート剤。   The white coating agent according to any one of claims 1 to 8, wherein the content of the white pigment is 10 to 85% by volume based on the total solid content of the white coating agent. 基材と、該基材の表面に形成された複数の導体部材と、複数の前記導体部材間に形成された請求項1〜9のいずれか一項に記載の白色コート剤からなる白色樹脂層と、を備える光半導体素子搭載用基板。   The white resin layer which consists of a base material, the some conductor member formed in the surface of this base material, and the white coating agent as described in any one of Claims 1-9 formed between the said some conductor members And a substrate for mounting an optical semiconductor element. 請求項10に記載の光半導体素子搭載用基板に光半導体素子を搭載してなる光半導体装置。
An optical semiconductor device comprising an optical semiconductor element mounted on the optical semiconductor element mounting substrate according to claim 10.
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