JP2010275404A - Glass cloth-containing white film, metal laminate and substrate for led loading - Google Patents

Glass cloth-containing white film, metal laminate and substrate for led loading Download PDF

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純 松井
Shingetsu Yamada
紳月 山田
Hideji Suzuki
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass cloth-containing white film which is excellent in dimensional stability, has high heat resistance and high reflectance in a visible light region, substantially avoids lowering of reflectance in a hot thermally loaded environment, can meet the demand for a larger area, and can be used for a printed wiring board for LED mounting, and to provide a metal laminate obtained using the white film and a substrate for LED loading. <P>SOLUTION: The glass cloth-containing white film comprises white films 100 of a resin composition containing a thermoplastic resin and an inorganic filler and glass cloth 400, and has predetermined reflection properties. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、耐熱性、寸法安定性に優れ、かつ高い反射率特性を備えたガラスクロス含有白色フィルム、該白色フィルムを用いてなる金属積層体及びLED搭載用基板に関し、より詳細には、高温熱負荷環境下においても、反射率低下が抑制され、発光ダイオード(Light Emitting diode、LED)等を実装可能とするガラスクロス含有白色フィルム等に関するものである。   The present invention relates to a glass cloth-containing white film having excellent heat resistance and dimensional stability and having high reflectance characteristics, a metal laminate using the white film, and an LED mounting substrate. The present invention relates to a glass cloth-containing white film that is capable of mounting a light emitting diode (Light Emitting Diode, LED) or the like, in which a decrease in reflectance is suppressed even under a thermal load environment.

プリント配線基板のパターン上に直接素子を実装し、樹脂封止されたチップタイプLEDは小型化、薄型化に有利なことから、携帯電話のテンキー照明や、小型液晶ディスプレーのバックライトなど電子機器に幅広く使用されてきた。   Since chip-type LEDs that are mounted directly on the printed circuit board pattern and are resin-sealed are advantageous for miniaturization and thinning, they can be used in electronic devices such as numeric keypad lighting for mobile phones and backlights for small liquid crystal displays. Widely used.

近年、LEDの高輝度化技術の向上が著しく、LEDはより高輝度化しているが、それに伴いLED素子自体の発熱量も増大し、プリント配線基板等周辺にかかる熱負荷も増大しており、LED素子周辺温度は100℃超になる場合もあるのが現状である。また、LED搭載基板の製造工程において、封止樹脂の熱硬化処理や、鉛(Pb)フリー半田の採用が進み、リフロー工程においても、260〜300℃程度の温度がかかる場合があり、高温の熱環境下にさらされる。そういった熱負荷の環境下では、従来使用されてきた熱硬化系樹脂組成物からなる白色のプリント配線基板では、黄変するなど白色度が低下し、反
射効率が劣る傾向が見られ、今後の次世代高輝度LED搭載向け基板としては、依然改良の余地があった。また、従来の白色のプリント配線板を搭載した製品は、光照射下、特に紫外線照射下で黄変するなど白色度が低下し、反射率が劣る傾向が見られ、依然改良の余地があった。それに対し、セラミック基板については、耐熱性の点では優れているものの、硬く脆い性質から大面積、薄型化には限界があり、今後の一般照明用途や、ディスプレー用途向けの基板としては対応が困難になる可能性があり、高温熱負荷下、UV照射下で、変色しない、反射率の低下しない、大面積化に対応可能な、耐熱性を有する白色プリント配線板の開発が求められていた。
また、現在主流である白色LEDは、青色LED(波長470nm)と黄色蛍光体等から構成されており、可視光域(400〜800nm)と青色LEDの発光波長470nm付近の反射率が高いことが求められていた。
In recent years, the improvement in the technology for increasing the brightness of LEDs has been remarkably improved, and the LEDs have become more bright, but along with this, the amount of heat generated by the LED elements themselves has increased, and the thermal load on the periphery of the printed circuit board has increased, The LED element ambient temperature is sometimes over 100 ° C. Moreover, in the manufacturing process of the LED mounting substrate, the thermosetting treatment of the sealing resin and the use of lead (Pb) -free solder have progressed, and in the reflow process, a temperature of about 260 to 300 ° C. may be applied. Exposed to thermal environment. Under such heat load environment, the white printed wiring board made of the thermosetting resin composition that has been used in the past has a tendency to decrease in whiteness such as yellowing and inferior reflection efficiency. There was still room for improvement as a substrate for the generation high-intensity LED mounting. In addition, products equipped with conventional white printed wiring boards have a tendency to deteriorate in whiteness, such as yellowing under light irradiation, particularly under ultraviolet irradiation, and have a tendency to have poor reflectance, and there is still room for improvement. . On the other hand, ceramic substrates are superior in heat resistance, but they are hard and brittle, so there is a limit to reducing the area and thickness due to their hard and brittle nature, making it difficult to handle as a substrate for future general lighting and display applications. There has been a demand for the development of a white printed wiring board having heat resistance that does not change color, does not decrease reflectance, and can cope with a large area under high-temperature heat load and UV irradiation.
Moreover, white LEDs, which are currently mainstream, are composed of blue LEDs (wavelength 470 nm), yellow phosphors, and the like, and have a high reflectance in the visible light region (400 to 800 nm) and in the vicinity of the emission wavelength 470 nm of blue LEDs. It was sought after.

これらの問題に対し、特許文献1には、熱可塑性樹脂100重量部、特定の珪素化合物0.001〜10重量部、及び平均粒径0.05〜1.0μmで、アルミナ水和物、ケイ酸水和物から選ばれた少なくとも1種の化合物で表面処理された結晶形態がルチル形の酸化チタン0.05〜25重量部からなる熱可塑性樹脂組成物について記載され、該熱可塑性樹脂組成物からなる成形品(具体的には、前記熱可塑性樹脂組成物を射出成形させた100×100×2mmの角板)は、90%程度と高い反射率で、かつ分散性、表面外観、機械的強度に優れ、幅広い産業分野で好適に使用できる旨の記載がある。   In order to solve these problems, Patent Document 1 discloses that 100 parts by weight of a thermoplastic resin, 0.001 to 10 parts by weight of a specific silicon compound, and 0.05 to 1.0 μm in average particle diameter are used. A thermoplastic resin composition comprising 0.05 to 25 parts by weight of rutile titanium oxide whose surface is treated with at least one compound selected from acid hydrates is described, and the thermoplastic resin composition (Specifically, a 100 × 100 × 2 mm square plate obtained by injection-molding the thermoplastic resin composition) has a high reflectivity of about 90%, dispersibility, surface appearance, and mechanical properties. There is a description that it is excellent in strength and can be suitably used in a wide range of industrial fields.

また特許文献2には、面倒な工程を必要とせず、かつ高い反射率を有する、照明や表示装置等に使用される反射体として、結晶性樹脂に、平均粒径0.05μm〜5μmの白色顔料、及び平均粒径が0.5μm〜10mmの無機フィラーを含む樹脂組成物からなる表面粗さが0.5〜50μmである反射体が記載されており、例えば、ポリアリールケトン、酸化チタン、及びガラス繊維を含有させた樹脂組成物を射出成形させた3cm角1mmの角板が開示されている。   Patent Document 2 discloses a white material having an average particle diameter of 0.05 μm to 5 μm as a reflector used in lighting, a display device or the like that does not require a troublesome process and has a high reflectance. A reflector having a surface roughness of 0.5 to 50 μm comprising a pigment and a resin composition containing an inorganic filler having an average particle diameter of 0.5 μm to 10 mm is described, for example, polyaryl ketone, titanium oxide, In addition, a 3 cm square 1 mm square plate is disclosed in which a resin composition containing glass fiber is injection molded.

また特許文献3には、特定のポリアミド樹脂100質量部に対して、酸化チタンを5〜100質量部、水酸化マグネシウムを0.5〜30質量部、及び繊維状充填材や針状充填材等の強化剤を20〜100質量部含有するLEDリフレクター成形用ポリアミド樹脂組成物について記載されており、具体的には、前記ポリアミド樹脂組成物を射出成形させた厚さ1mm、幅40mm、長さ100mmの板が開示されている。前記樹脂組成物からなるリフレクターは、熱負荷下(170℃で2時間)でも、波長470nmの反射率が低下せずに、高い白色度が維持される。   Patent Document 3 discloses that 5 to 100 parts by mass of titanium oxide, 0.5 to 30 parts by mass of magnesium hydroxide, and fibrous fillers and needle-like fillers with respect to 100 parts by mass of a specific polyamide resin. The polyamide resin composition for molding an LED reflector containing 20 to 100 parts by mass of the reinforcing agent is described. Specifically, the polyamide resin composition is injection-molded with a thickness of 1 mm, a width of 40 mm, and a length of 100 mm. A plate is disclosed. The reflector made of the resin composition maintains high whiteness without decreasing the reflectance at a wavelength of 470 nm even under a heat load (2 hours at 170 ° C.).

また、特許文献4には、シアン酸エステル化合物とノボラック型エポキシ樹脂と二酸化チタンの含有する樹脂組成物と基材からなるプリプレグ及び銅張積層板が開示されている。   Patent Document 4 discloses a prepreg and a copper-clad laminate comprising a resin composition containing a cyanate ester compound, a novolac-type epoxy resin and titanium dioxide, and a base material.

また、特許文献5には、熱可塑性樹脂内に、ガラス繊維織布が埋め込まれてなることを特徴とする絶縁基材が開示されている。   Patent Document 5 discloses an insulating base material in which a glass fiber woven fabric is embedded in a thermoplastic resin.

特許第3470730号Japanese Patent No. 3470730 特開2007−218980号公報JP 2007-218980 A 特開2006−257314号公報JP 2006-257314 A 特開2007−131842号公報JP 2007-131842 A 特開2008−141008号公報JP 2008-141008 A

上記特許文献1〜3には、熱可塑性樹脂組成物に酸化チタン等を添加して、反射率を高めた成型品について開示されているものの、いずれも具体的に開示されている形態は射出成形された成型品のみであって、フィルム状に加工され、耐熱性等が改善された白色フィルムについては検討されてはいない。また、特許文献4記載の銅張積層板は、従来の基板に比べ、熱負荷下(180℃1時間)での反射率の低下は抑えられているが(80%から64%に低下)、今後LEDが高輝度下していき、また、Pbフリーの半田リフロー工程を考慮すると、より高温環境下での耐熱性が充分とはいえない。また、特許文献5には、高耐熱の熱可塑性樹脂組成物を用いたガラス繊維織布を用いることにより耐熱強度が向上された絶縁基材について開示されているものの、耐熱変色性や反射特性を有する白色フィルムについては開示されていない。   Although the above Patent Documents 1 to 3 disclose a molded article in which a titanium oxide or the like is added to a thermoplastic resin composition to increase the reflectance, all of the disclosed forms are injection molded. A white film that is only a molded product that has been processed into a film and has improved heat resistance or the like has not been studied. Moreover, although the copper clad laminated board of patent document 4 is suppressing the fall of the reflectance under a heat load (180 degreeC 1 hour) compared with the conventional board | substrate (it falls from 80% to 64%), In the future, the LED will be reduced in brightness, and considering the Pb-free solder reflow process, it cannot be said that the heat resistance in a higher temperature environment is sufficient. Further, Patent Document 5 discloses an insulating base material having improved heat resistance strength by using a glass fiber woven fabric using a high heat resistance thermoplastic resin composition, but it has heat discoloration and reflection characteristics. No white film is disclosed.

また本発明者等は、先に耐熱性に優れ、異方性が低減され、かつ高い反射特性を備えた白色フィルム等を見出している(特願2007−309035)。しかしながらこの白色フィルムは、Pbフリー半田リフロー工程(260℃)での耐熱性、及び寸法安定性において依然改良の余地があった。   The present inventors have previously found a white film having excellent heat resistance, reduced anisotropy, and high reflection characteristics (Japanese Patent Application No. 2007-309035). However, this white film still has room for improvement in heat resistance and dimensional stability in the Pb-free solder reflow process (260 ° C.).

そこで、本発明の課題は、寸法安定性に優れ、耐熱性が高く、可視光領域において反射率が高く、及び高温熱負荷環境下における反射率の低下が少ない、大面積化に対応可能な、LED実装用プリント配線基板に使用可能なガラスクロス含有白色フィルム、該白色フィルムを用いてなる金属積層体及びLED搭載用基板を提供することである。   Therefore, the problems of the present invention are excellent in dimensional stability, high heat resistance, high reflectivity in the visible light region, and low decrease in reflectivity under a high temperature heat load environment, and can cope with a large area. It is providing the glass cloth containing white film which can be used for the printed wiring board for LED mounting, the metal laminated body which uses this white film, and the board | substrate for LED mounting.

本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、熱可塑性樹脂及び無機充填材を含有する樹脂組成物と、ガラスクロスとからなり、波長400〜800nmにおける平均反射率が70%以上であって、かつ200℃で4時間熱処理した後の波長470nmにおける反射率の低下率が10%以下であることを特徴とするガラスクロス含有白色フィルムにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention are composed of a resin composition containing a thermoplastic resin and an inorganic filler and a glass cloth, and an average reflectance at a wavelength of 400 to 800 nm is 70%. It was found that the above problem can be solved by a glass cloth-containing white film having a reflectance reduction rate of 10% or less at a wavelength of 470 nm after heat treatment at 200 ° C. for 4 hours. The invention has been completed.

すなわち、第1の本発明は、熱可塑性樹脂及び無機充填材を含有する樹脂組成物と、ガラスクロスとからなり、波長400〜800nmにおける平均反射率が70%以上であって、かつ200℃で4時間熱処理した後の波長470nmにおける反射率の低下率が10%以下であることを特徴とするガラスクロス含有白色フィルムである。   That is, the first present invention comprises a resin composition containing a thermoplastic resin and an inorganic filler, and a glass cloth, and has an average reflectance of 70% or more at a wavelength of 400 to 800 nm, and at 200 ° C. A glass cloth-containing white film characterized in that the reflectance reduction rate at a wavelength of 470 nm after heat treatment for 4 hours is 10% or less.

第1の本発明において、前記熱可塑性樹脂は、結晶融解ピーク温度が260以上の結晶性熱可塑性樹脂、ガラス転移温度が260℃以上の非晶性熱可塑性樹脂、及び液晶転移温度が260℃以上の液晶ポリマーから選択されるいずれか1種以上であることが好ましい。   In the first aspect of the present invention, the thermoplastic resin includes a crystalline thermoplastic resin having a crystal melting peak temperature of 260 or higher, an amorphous thermoplastic resin having a glass transition temperature of 260 ° C. or higher, and a liquid crystal transition temperature of 260 ° C. or higher. Any one or more selected from the above liquid crystal polymers is preferable.

また第1の本発明において、無機充填材は、少なくとも酸化チタンを含有することが好ましい。   In the first aspect of the present invention, the inorganic filler preferably contains at least titanium oxide.

また第1の本発明において、フィルムの厚みは、3〜500μmであることが好ましい。   In the first invention, the thickness of the film is preferably 3 to 500 μm.

さらに第1の本発明において、260℃で5分間熱処理した後の波長470nmにおける反射率の低下率は、10%以下であることが好ましい。   Furthermore, in the first aspect of the present invention, it is preferable that the rate of decrease in reflectance at a wavelength of 470 nm after heat treatment at 260 ° C. for 5 minutes is 10% or less.

第2の本発明は、第1の本発明のガラスクロス含有白色フィルムの少なくとも片面に、金属層を積層してなる金属積層体である。   2nd this invention is a metal laminated body formed by laminating | stacking a metal layer on the at least single side | surface of the glass cloth containing white film of 1st this invention.

第3の本発明は、第2の本発明の金属積層体を用いてなるLED搭載用基板である。   3rd this invention is a board | substrate for LED mounting formed using the metal laminated body of 2nd this invention.

本発明によると、寸法安定性に優れ、可視光領域において反射率が高く、耐熱性が高く、かつ高温熱負荷環境下における反射率の低下が少ないガラスクロス含有白色フィルム及び金属積層体を提供することができ、これらはその特性から、LED実装用プリント配線基板に好適に使用可能なものである。   According to the present invention, a glass cloth-containing white film and a metal laminate having excellent dimensional stability, high reflectance in the visible light region, high heat resistance, and little reduction in reflectance under a high temperature heat load environment are provided. These can be suitably used for a printed wiring board for LED mounting because of their characteristics.

図1は、本発明のLED搭載用基板及びその製造方法の一実施形態を示した図である。FIG. 1 is a view showing an embodiment of an LED mounting substrate and a manufacturing method thereof according to the present invention. 図2は、本発明のLED搭載用基板及びその製造方法の一実施形態を示した図である。FIG. 2 is a view showing an embodiment of an LED mounting substrate and a manufacturing method thereof according to the present invention. 図3は、本発明のLED搭載用基板及びその製造方法の一実施形態を示した図である。FIG. 3 is a view showing an embodiment of the LED mounting substrate and the manufacturing method thereof according to the present invention.

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明の範囲がこの実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, although embodiment of this invention is described, the scope of the present invention is not limited to this embodiment.

<ガラスクロス含有白色フィルム>
第1の本発明であるガラスクロス含有白色フィルムとしては、熱可塑性樹脂及び無機充填材を含有する樹脂組成物と、ガラスクロスとからなり、波長400〜800nmにおける平均反射率が70%以上であって、かつ200℃で4時間熱処理した後の波長470nmにおける反射率の低下率が10%以下のものであれば、特に制限されず、このガラスクロス含有白色フィルムは、寸法安定性に優れ、可視光域の反射率が高く、かつ高温熱負荷環境下における反射率の低下が極めて少ないという、優れた効果を奏することができる。
<White film containing glass cloth>
The glass cloth-containing white film according to the first aspect of the present invention comprises a resin composition containing a thermoplastic resin and an inorganic filler and a glass cloth, and has an average reflectance of 70% or more at a wavelength of 400 to 800 nm. In addition, the glass cloth-containing white film is excellent in dimensional stability and visible as long as the rate of decrease in reflectance at a wavelength of 470 nm after heat treatment at 200 ° C. for 4 hours is 10% or less. The excellent effect that the reflectance in the light region is high and the decrease in reflectance under a high temperature heat load environment is extremely small can be achieved.

上記のとおり、第1の本発明であるガラスクロス含有白色フィルムは、波長400〜800nmにおける平均反射率が70%以上であることを必要とするが、これは可視光領域の反射率が高いほど、搭載するLEDの輝度が高くなる傾向があり、上記範囲であれば、白色LED搭載向け基板として好適に利用可能であるからである。また、青色LEDの平均波長(470nm)に対応した470nm付近の反射率が高いほど輝度が高くなる傾向があるため、470nmにおける反射率が70%以上であることがより好ましく、反射率が75%以上であることがより好ましい。   As described above, the glass cloth-containing white film of the first invention needs to have an average reflectance of 70% or more at a wavelength of 400 to 800 nm, which is higher as the reflectance in the visible light region is higher. This is because the brightness of the LED to be mounted tends to be high, and if it is in the above range, it can be suitably used as a substrate for mounting a white LED. Moreover, since there exists a tendency for a brightness | luminance to become high so that the reflectance of 470 nm vicinity corresponding to the average wavelength (470 nm) of blue LED is high, it is more preferable that the reflectance in 470 nm is 70% or more, and a reflectance is 75%. More preferably.

(熱可塑性樹脂)
上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリエーテルサルホン(PES)、ポリフェニレンエーテル(PPE)、ポリアミドイミド(PAI)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリフェニルサルフォン(PPSU)、液晶ポリマー(LCP)等が挙げられ、これらを1種又は2種以上用いても良い。これらの中でも、耐熱性の理由から、特に結晶融解ピーク温度が260℃以上の結晶性熱可塑性樹脂、ガラス転移温度が260℃以上の非晶性熱可塑性樹脂及び液晶転移温度が260℃以上の液晶ポリマーから選択されるいずれか1種以上を用いることが好ましく、結晶融解ピーク温度(Tm)が260℃以上の結晶性熱可塑性樹脂、及びガラス転移温度(Tg)が260℃以上の非晶性熱可塑性樹脂から選択されるいずれか1種以上を用いることがさらに好ましい。上記範囲の熱可塑性樹脂を用いることによって、Pbフリー半田リフローに対する耐熱性を有することが可能である。また、高熱環境下での酸化劣化を防止し、反射率の低下を抑えることが可能である。結晶融解ピーク温度が260℃以上の結晶性熱可塑性樹脂としては、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK:Tg =145℃、Tm=335℃)、ポリエーテルケトン(PEK:Tg=165℃、Tm=355℃)等のポリアリールケトン(PAr)、ポリフェニレンサルファイド(PPS:Tg=100℃、Tm=280℃)等が好適に用いられる。ガラス転移温度が260℃以上の非晶性熱可塑性樹脂としては、ポリアミドイミド(PAI:Tg=280℃)や260℃以上の高Tgを有するポリエーテルイミド(PEI)等が好適に用いられる。
(Thermoplastic resin)
Examples of the thermoplastic resin include polyether ether ketone (PEEK), polyether ketone (PEK), polyphenylene sulfide (PPS), polyether sulfone (PES), polyphenylene ether (PPE), polyamideimide (PAI), Examples thereof include polyetherimide (PEI), polyphenylsulfone (PPSU), and liquid crystal polymer (LCP), and these may be used alone or in combination. Among these, for reasons of heat resistance, a crystalline thermoplastic resin having a crystal melting peak temperature of 260 ° C. or higher, an amorphous thermoplastic resin having a glass transition temperature of 260 ° C. or higher, and a liquid crystal having a liquid crystal transition temperature of 260 ° C. or higher. It is preferable to use at least one selected from polymers, a crystalline thermoplastic resin having a crystal melting peak temperature (Tm) of 260 ° C. or higher, and an amorphous heat having a glass transition temperature (Tg) of 260 ° C. or higher. It is more preferable to use at least one selected from plastic resins. By using a thermoplastic resin in the above range, it is possible to have heat resistance against Pb-free solder reflow. In addition, it is possible to prevent oxidative deterioration in a high heat environment and suppress a decrease in reflectance. Crystalline thermoplastic resins having a crystal melting peak temperature of 260 ° C. or higher include polyether ether ketone (PEEK: Tg = 145 ° C., Tm = 335 ° C.), polyether ketone (PEK: Tg = 165 ° C., Tm = 355 ° C.). Polyaryl ketones (PAr), polyphenylene sulfide (PPS: Tg = 100 ° C., Tm = 280 ° C.) and the like are preferably used. As the amorphous thermoplastic resin having a glass transition temperature of 260 ° C. or higher, polyamideimide (PAI: Tg = 280 ° C.), polyetherimide (PEI) having a high Tg of 260 ° C. or higher, and the like are preferably used.

このポリアリールケトン樹脂は、その構造単位に芳香核結合、エーテル結合及びケトン結合を含む熱可塑性樹脂であり、その代表例としては、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン等があり、中でも、ポリエーテルエーテルケトンが好ましい。なお、ポリエーテルエーテルケトンは、「PEEK151G」、「PEEK381G」、「PEEK450G」(いずれもVICTREX社の商品名)等として市販されている。   This polyaryl ketone resin is a thermoplastic resin having an aromatic nucleus bond, an ether bond and a ketone bond in its structural unit, and representative examples thereof include polyether ketone, polyether ether ketone, polyether ketone ketone and the like. Of these, polyetheretherketone is preferred. Polyether ether ketone is commercially available as “PEEK151G”, “PEEK381G”, “PEEK450G” (all are trade names of VICTREX), and the like.

この結晶性熱可塑性樹脂は単一で用いてもよく、複数の結晶性熱可塑性樹脂を混合した混合樹脂組成物を用いてもよい。また、この結晶性熱可塑性樹脂にポリエーテルイミド(PEI)等の非晶性熱可塑性樹脂を混合した混合樹脂組成物を用いてもよい。中でも、結晶融解ピーク温度が260℃以上である結晶性ポリアリールケトン樹脂(A)80〜20重量%と、非晶性ポリエーテルイミド樹脂(B)20〜80重量%とからなる樹脂組成物を用いることがより好ましい。この樹脂組成物を用いることによって、後述するLEDが搭載された基板(以下、単に「基板」ともいう。)との極めて良好な密着性を確保することが可能となり、積層後はPbフリーの半田耐熱性を有する。   This crystalline thermoplastic resin may be used alone, or a mixed resin composition obtained by mixing a plurality of crystalline thermoplastic resins may be used. Moreover, you may use the mixed resin composition which mixed amorphous thermoplastic resins, such as polyetherimide (PEI), with this crystalline thermoplastic resin. Among them, a resin composition comprising a crystalline polyaryl ketone resin (A) having a crystal melting peak temperature of 260 ° C. or higher and 80 to 20% by weight and an amorphous polyetherimide resin (B) 20 to 80% by weight. More preferably, it is used. By using this resin composition, it becomes possible to ensure extremely good adhesion to a substrate (hereinafter also simply referred to as “substrate”) on which an LED, which will be described later, is mounted. Has heat resistance.

上記ポリアリールケトン樹脂及び非晶性ポリエーテルイミド樹脂の混合割合としては、金属層との密着性を考慮すると、ポリアリールケトン樹脂を20質量%以上、80質量%以下含有し、残部を非晶性ポリエーテルイミド樹脂及び不可避不純物とした混合組成物を用いることが好ましい。より好ましくは30質量%以上、75質量%以下、さらに好ましくは、40質量%以上、70質量%以下である。ポリアリールケトン樹脂の含有率の上限を前記範囲内とすることで、ガラスクロス含有白色フィルムを構成する熱可塑性樹脂の結晶性が高くなるのを抑えることができ、基板との密着性の低下を防ぐことができる。また、ポリアリールケトン樹脂の含有率の下限を前記範囲内とすることで、ガラスクロス含有白色フィルムを構成する熱可塑性樹脂の結晶性が低くなるのを抑えることができ、耐熱性の低下を防ぐことができ、さらに、ガラスクロス内に樹脂を含有し易くなる。   As a mixing ratio of the polyaryl ketone resin and the amorphous polyetherimide resin, considering the adhesion to the metal layer, the polyaryl ketone resin is contained in an amount of 20% by mass or more and 80% by mass or less, and the balance is amorphous. It is preferable to use a mixed composition composed of a conductive polyetherimide resin and inevitable impurities. More preferably, they are 30 mass% or more and 75 mass% or less, More preferably, they are 40 mass% or more and 70 mass% or less. By setting the upper limit of the content of the polyaryl ketone resin within the above range, it is possible to suppress the increase in crystallinity of the thermoplastic resin constituting the glass cloth-containing white film, and to reduce the adhesion with the substrate. Can be prevented. Moreover, by setting the lower limit of the content of the polyaryl ketone resin within the above range, it is possible to prevent the crystallinity of the thermoplastic resin constituting the glass cloth-containing white film from being lowered, and to prevent a decrease in heat resistance. Furthermore, it becomes easy to contain resin in the glass cloth.

前記ポリアリールケトン系樹脂(A)は、その構造単位に芳香族核結合、エーテル結合及びケトン結合を含む熱可塑性樹脂である。その具体例としては、ポリエーテルケトン(ガラス転移温度〔以下、「Tg」という〕:157℃、結晶融解ピーク温度〔以下、「Tm」という〕:373℃)、ポリエーテルエーテルケトン(Tg:143℃、Tm:334℃)、ポリエーテルエーテルケトンケトン(Tg:153℃、Tm:370℃)等を挙げることができる。これらの中では、耐熱性向上の観点から、結晶性を示し、Tmが260℃以上、特に300〜380℃のものが好ましい。また、本発明の効果を阻害しない限り、ビフェニル構造、スルホニル基等又はその他の繰り返し単位を含むものであってもよい。   The polyaryl ketone resin (A) is a thermoplastic resin having an aromatic nucleus bond, an ether bond and a ketone bond in its structural unit. Specific examples thereof include polyether ketone (glass transition temperature [hereinafter referred to as “Tg”]: 157 ° C., crystal melting peak temperature (hereinafter referred to as “Tm”]: 373 ° C.), polyether ether ketone (Tg: 143 C, Tm: 334 ° C.), polyether ether ketone ketone (Tg: 153 ° C., Tm: 370 ° C.), and the like. Among these, from the viewpoint of improving the heat resistance, it exhibits crystallinity and preferably has a Tm of 260 ° C. or higher, particularly 300 to 380 ° C. Moreover, as long as the effect of this invention is not inhibited, you may contain a biphenyl structure, a sulfonyl group, etc., or another repeating unit.

前記ポリアリールケトン系樹脂(A)の中でも、下記構造式(1)で表される繰り返し単位を有するポリエーテルエーテルケトンを主成分とするポリアリールケトン系樹脂(A)が特に好ましく用いられる。ここで主成分とは、その含有量が50質量%を超えることを意味する。市販されているポリエーテルエーテルケトンとしては、VICTREX社製の商品名「PEEK151G」(Tg:143℃、Tm:334℃)、「PEEK381G」(Tg:143℃、Tm:334℃)、「PEEK450G」(Tg:143℃、Tm:334℃)等を挙げることができる。なお、ポリアリールケトン系樹脂(A)は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。   Among the polyaryl ketone resins (A), a polyaryl ketone resin (A) mainly composed of a polyether ether ketone having a repeating unit represented by the following structural formula (1) is particularly preferably used. Here, the main component means that the content exceeds 50% by mass. Commercially available polyether ether ketones include trade names “PEEK151G” (Tg: 143 ° C., Tm: 334 ° C.), “PEEK381G” (Tg: 143 ° C., Tm: 334 ° C.), “PEEK450G” manufactured by VICTREX. (Tg: 143 ° C., Tm: 334 ° C.) and the like. In addition, polyaryl ketone-type resin (A) can be used individually or in combination of 2 or more types.

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上記非晶性ポリエーテルイミド樹脂(B)としては、具体的に下記構造式(2)又は(3)で表される繰り返し単位を有する非晶性ポリエーテルイミド樹脂が挙げられる。   Specific examples of the amorphous polyetherimide resin (B) include an amorphous polyetherimide resin having a repeating unit represented by the following structural formula (2) or (3).

Figure 2010275404
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構造式(2)又は(3)で表される繰り返し単位を有する非晶性ポリエーテルイミド樹脂は、4,4’−[イソプロピリデンビス(p−フェニレンオキシ)]ジフタル酸二無水物とp−フェニレンジアミン又はm−フェニレンジアミンとの重縮合物として、公知の方法により製造することができる。これらの非晶性ポリエーテルイミド樹脂の市販品としては、ゼネラルエレクトリック社製の商品名「Ultem 1000」(Tg:216℃)、「Ultem 1010」(Tg:216℃)又は「Ultem CRS5001」(Tg226℃)等が挙げられ、これらの中でも、前記構造式(2)で表される繰り返し単位を有する非晶性ポリエーテルイミド樹脂が特に好ましい。なお、ポリエーテルイミド樹脂(B)は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。   The amorphous polyetherimide resin having a repeating unit represented by the structural formula (2) or (3) is composed of 4,4 ′-[isopropylidenebis (p-phenyleneoxy)] diphthalic dianhydride and p- As a polycondensate with phenylenediamine or m-phenylenediamine, it can be produced by a known method. Commercially available products of these amorphous polyetherimide resins include “Ultem 1000” (Tg: 216 ° C.), “Ultem 1010” (Tg: 216 ° C.) or “Ultem CRS 5001” (Tg 226) manufactured by General Electric. Among them, an amorphous polyetherimide resin having a repeating unit represented by the structural formula (2) is particularly preferable. In addition, polyetherimide resin (B) can be used individually or in combination of 2 or more types.

(無機充填材)
上記無機充填材としては、例えば、タルク、マイカ、雲母、ガラスフレーク、窒化ホウ素(BN)、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、シリカ、チタン酸塩(チタン酸カリウム等)、硫酸バリウム、アルミナ、カオリン、クレー、酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、チタン酸鉛、酸化ジルコン、酸化アンチモン、酸化マグネシウム等が挙げられる。これらは1種類を単独で添加してもよく、2種類以上を組み合わせて添加してもよい。
(Inorganic filler)
Examples of the inorganic filler include talc, mica, mica, glass flake, boron nitride (BN), calcium carbonate, aluminum hydroxide, silica, titanate (potassium titanate, etc.), barium sulfate, alumina, kaolin, Examples include clay, titanium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, lead titanate, zircon oxide, antimony oxide, and magnesium oxide. These may be added singly or in combination of two or more.

無機充填材は、熱可塑性樹脂への分散性を向上させるために、無機充填材の表面を、シリコーン系化合物、多価アルコール系化合物、アミン系化合物、脂肪酸、脂肪酸エステル等で表面処理されたものを使用することができる。その中でもシリコーン系化合物(シランカップリング剤)で処理されたものを好適に使用することができる。   Inorganic fillers are those whose surface is treated with silicone compounds, polyhydric alcohol compounds, amine compounds, fatty acids, fatty acid esters, etc. in order to improve dispersibility in thermoplastic resins. Can be used. Among them, those treated with a silicone compound (silane coupling agent) can be preferably used.

光反射性を考慮した場合には、上記熱可塑性樹脂との屈折率差が大きい無機充填材を熱可塑性樹脂に含有させることが好ましい。具体的には、屈折率が1.6以上である炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化亜鉛、酸化チタン、チタン酸塩等を用いることが好ましく、特に酸化チタンを用いることが好ましい。   In consideration of light reflectivity, it is preferable that the thermoplastic resin contains an inorganic filler having a large refractive index difference from the thermoplastic resin. Specifically, calcium carbonate, barium sulfate, zinc oxide, titanium oxide, titanate, or the like having a refractive index of 1.6 or more is preferably used, and titanium oxide is particularly preferably used.

前記酸化チタンは、他の無機充填材に比べて、顕著に屈折率が高く、熱可塑性樹脂との屈折率差を大きくすることができるため、他の充填材を使用した場合よりも、少ない配合量で優れた反射性を得ることができる。またフィルムを薄くしても、高い反射性を有するガラスクロス含有白色フィルムを得ることができる。   The titanium oxide has a significantly higher refractive index than other inorganic fillers, and can increase the difference in refractive index from the thermoplastic resin. Therefore, the titanium oxide is less blended than when other fillers are used. Excellent reflectivity can be obtained in an amount. Even if the film is thinned, a glass cloth-containing white film having high reflectivity can be obtained.

酸化チタンは、アナターゼ型やルチル型のような結晶型の酸化チタンが好ましく、その中でもベース樹脂との屈折率差が大きくなるといった観点から、ルチル型の酸化チタンが好ましい。   The titanium oxide is preferably a crystalline titanium oxide such as anatase type or rutile type. Among them, a rutile type titanium oxide is preferable from the viewpoint of a large difference in refractive index from the base resin.

また酸化チタンの製造方法は、塩素法と硫酸法があるが、白色度の点からは、塩素法で製造された酸化チタンを使用することが好ましい。   Moreover, although the manufacturing method of a titanium oxide has a chlorine method and a sulfuric acid method, it is preferable to use the titanium oxide manufactured by the chlorine method from the point of whiteness.

酸化チタンは、その表面が不活性無機酸化物で被覆処理されたものが好ましい。酸化チタンの表面を不活性無機酸化物で被覆処理することにより、酸化チタンの光触媒活性を抑制することができ、フィルムが劣化することを防ぐことができる。不活性無機酸化物としては、シリカ、アルミナ、及びジルコニアからなる群から選ばれる少なくとも1種類を用いることが好ましい。これらの不活性無機酸化物を用いれば、高い反射性を損なうことなく、高温溶融時に、熱可塑性樹脂の分子量低下や、黄変を抑制することができる。   The titanium oxide is preferably one whose surface is coated with an inert inorganic oxide. By coating the surface of titanium oxide with an inert inorganic oxide, the photocatalytic activity of titanium oxide can be suppressed, and deterioration of the film can be prevented. As the inert inorganic oxide, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of silica, alumina, and zirconia. When these inert inorganic oxides are used, a decrease in the molecular weight of the thermoplastic resin and yellowing can be suppressed during high temperature melting without impairing high reflectivity.

また、酸化チタンは、樹脂組成物への分散性を高めるために、その表面がシロキサン化合物、シランカップリング剤等からなる群から選ばれる少なくとも1種類の無機化合物や、ポリオール、ポリエチレングリコール等からなる群から選ばれる少なくとも1種類の有機化合物で表面されたものが好ましい。特に耐熱性の点からは、シランカップリング剤で処理されたものが好ましい。   In addition, in order to improve dispersibility in the resin composition, titanium oxide has at least one inorganic compound selected from the group consisting of siloxane compounds, silane coupling agents, etc., a polyol, polyethylene glycol, and the like. Those surfaced with at least one organic compound selected from the group are preferred. In particular, those treated with a silane coupling agent are preferable from the viewpoint of heat resistance.

酸化チタンの粒径は、0.1〜1.0μmであることが好ましく、より好ましくは0.2〜0.5μmである。酸化チタンの粒径が上記範囲であれば、樹脂組成物への分散性が良好で、それとの界面が緻密に形成され、高い反射性を付与することができる。   The particle size of titanium oxide is preferably 0.1 to 1.0 μm, more preferably 0.2 to 0.5 μm. When the particle size of titanium oxide is in the above range, the dispersibility in the resin composition is good, the interface with the resin composition is densely formed, and high reflectivity can be imparted.

酸化チタンの含有量は、熱可塑性樹脂100質量部に対し、15質量部以上であることが好ましく、25質量部以上であることがより好ましく、さらには35質量部以上であることが最も好ましい。上記範囲内とすることで、良好な反射特性を得られ、またフィルムの厚みが薄くなっても良好な反射特性を得ることが可能である。   The content of titanium oxide is preferably 15 parts by mass or more, more preferably 25 parts by mass or more, and most preferably 35 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the thermoplastic resin. By setting it within the above range, good reflection characteristics can be obtained, and good reflection characteristics can be obtained even when the thickness of the film is reduced.

またより寸法安定性を付与させる場合には、平均粒径15μm以下、かつ平均アスペクト比(平均粒径/平均厚み)30以上の無機充填材を用いてもよい。   In order to impart more dimensional stability, an inorganic filler having an average particle size of 15 μm or less and an average aspect ratio (average particle size / average thickness) of 30 or more may be used.

上記平均粒径15μm以下、かつ平均アスペクト比(平均粒径/平均厚み)30以上の充填材1としては、例えば、合成マイカ、天然マイカ(マスコバイト、フロゴパイト、セリサイト、スゾライト等)、焼成された天然又は合成のマイカ、ベーマイト、タルク、イライト、カオリナイト、モンモリロナイト、バーミキュライト、スメクタイト、及び板状アルミナ等の無機鱗片状(板状)充填材や、鱗片状チタン酸塩を挙げることができる。これらの無機充填材によれば、表層の熱可塑性樹脂層の平面方向と厚み方向の線膨張係数比を低く抑えることができる。また、光反射性を考慮した場合には、鱗片状チタン酸塩が、屈折率が高いためより好ましい。なお、前記充填材は単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。アスペクト比の高い鱗片状充填材を用いることにより、フィルムへの透湿(吸湿)を抑えることができ、熱可塑性樹脂の高熱環境下での酸化劣化を防止し、反射率の低下を抑えることが可能であり、また、フィルムの剛性も向上し、より薄型の基板に使用することが可能である。   Examples of the filler 1 having an average particle size of 15 μm or less and an average aspect ratio (average particle size / average thickness) of 30 or more are, for example, synthetic mica, natural mica (mascobite, phlogopite, sericite, szolite, etc.), fired. In addition, inorganic scale-like (plate-like) fillers such as natural or synthetic mica, boehmite, talc, illite, kaolinite, montmorillonite, vermiculite, smectite, and plate-like alumina, and scale-like titanates can be mentioned. According to these inorganic fillers, the ratio of the linear expansion coefficient between the plane direction and the thickness direction of the surface thermoplastic resin layer can be kept low. In consideration of light reflectivity, scaly titanate is more preferable because of its high refractive index. In addition, the said filler can be used individually or in combination of 2 or more types. By using a scaly filler with a high aspect ratio, moisture permeation (moisture absorption) to the film can be suppressed, oxidation deterioration of the thermoplastic resin in a high heat environment can be prevented, and reduction in reflectance can be suppressed. In addition, the rigidity of the film is improved and the film can be used for a thinner substrate.

上記充填材の含有量は、熱可塑性樹脂組成物100質量部に対し、10質量部以上であることが好ましく、20質量部以上であることがより好ましく、さらには30質量部以上であることが好ましい。上記範囲であれば、得られるガラスクロス含有白色フィルムの寸法安定性を向上させることが可能である。   The content of the filler is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 20 parts by mass or more, and further preferably 30 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the thermoplastic resin composition. preferable. If it is the said range, it is possible to improve the dimensional stability of the obtained glass cloth containing white film.

(ガラスクロス)
上記ガラスクロスとしては、公知のものを用いることができ、例えば、可視光領域に吸収のないガラス繊維が用いられる。中でも、入手が容易なSガラス、Tガラス、NEガラス、石英ガラスを用いることが好ましい。また、ガラスクロスの表面をシランカップリング剤や各種界面活性剤等で処理することにより、熱可塑性樹脂との密着性を高めることが可能である。ガラスクロスの厚み、織り密度、織組織は目的とするガラスクロス含有白色フィルムに応じて選択される。また熱可塑性樹脂の含浸性を改良するために、ガラスクロスの糸束を物理的に開繊することも可能である。
(Glass cloth)
A well-known thing can be used as said glass cloth, For example, the glass fiber which does not absorb in visible region is used. Among them, it is preferable to use S glass, T glass, NE glass, and quartz glass that are easily available. Moreover, it is possible to improve adhesiveness with a thermoplastic resin by processing the surface of a glass cloth with a silane coupling agent or various surfactants. The thickness, woven density, and woven structure of the glass cloth are selected according to the target glass cloth-containing white film. Further, in order to improve the impregnation property of the thermoplastic resin, it is also possible to physically open the yarn bundle of the glass cloth.

(反射率の低下率)
本発明の白色フィルムは、200℃で4時間熱処理した後の波長470nmにおける反射率の低下率が10%以下であることを必要とし、また中でも、260℃で5分間熱処理した後の波長470nmにおける反射率の低下率が10%以下であることが好ましい。
(Reduction rate of reflectivity)
The white film of the present invention requires that the reflectance decrease rate at a wavelength of 470 nm after heat treatment at 200 ° C. for 4 hours is 10% or less, and among others, at a wavelength of 470 nm after heat treatment at 260 ° C. for 5 minutes. It is preferable that the reflectance decrease rate is 10% or less.

上記条件の根拠について以下に記載する。LED搭載基板を製造する際に、導電接着剤やエポキシ、シリコーン樹脂等の封止剤の熱硬化工程(100〜200℃、数時間)、半田付け工程(Pbフリー半田リフロー、ピーク温度260℃、数分間)やワイヤボンディング工程等、高熱負荷がかかる状況にある。また実際の使用環境下においても、高輝度LEDの開発が進み、基板への熱負荷は高まる傾向にあり、LED素子周辺温度は100℃超になる場合もある。今後このような高熱負荷環境下においても、変色することなく、高い反射率を維持することが重要になってきている。また波長470nmは青色LEDの平均波長である。   The grounds for the above conditions are described below. When manufacturing an LED mounting substrate, a thermosetting process (100 to 200 ° C., several hours) of a sealing agent such as a conductive adhesive, epoxy, or silicone resin, a soldering process (Pb-free solder reflow, peak temperature 260 ° C., (Several minutes) and wire bonding process, and so on. Further, even in an actual use environment, development of high-brightness LEDs has progressed, the thermal load on the substrate tends to increase, and the LED element ambient temperature may exceed 100 ° C. in some cases. In the future, it will be important to maintain a high reflectance without discoloration even under such a high heat load environment. The wavelength 470 nm is the average wavelength of the blue LED.

したがって、上記条件下(200℃、4時間後、260℃、5分間後)での波長470nmにおける反射率の低下率が10%以下であれば、製造工程での反射率の低下を抑制することが可能であり、また、実際の使用時の反射率の低下を抑制することが可能であるため、LED搭載基板として好適に使用できる。より好ましくは5%以下であり、さらに好ましくは3%以下であり、特に好ましくは2%以下である。   Therefore, if the rate of decrease in reflectance at a wavelength of 470 nm under the above conditions (200 ° C., 4 hours later, 260 ° C., 5 minutes later) is 10% or less, the decrease in reflectance in the manufacturing process is suppressed. In addition, since it is possible to suppress a decrease in reflectance during actual use, it can be suitably used as an LED mounting substrate. More preferably, it is 5% or less, More preferably, it is 3% or less, Especially preferably, it is 2% or less.

(ガラスクロス含有白色フィルムの厚み)
第1の本発明のガラスクロス含有白色フィルムの厚みは、3〜500μmであることが好ましい。より好ましくは、10〜300μmであり、さらには20〜100μmである。かかる範囲であれば、薄型が要求される携帯電話用バックライトや、液晶ディスプレー用バックライト用の面光源として使用されるチップLEDとして好適に使用することができる。
(Thickness of glass cloth-containing white film)
The glass cloth-containing white film of the first invention preferably has a thickness of 3 to 500 μm. More preferably, it is 10-300 micrometers, Furthermore, it is 20-100 micrometers. Within such a range, it can be suitably used as a chip LED used as a surface light source for a cellular phone backlight or a liquid crystal display backlight that is required to be thin.

(添加剤等)
第1の本発明のガラスクロス含有白色フィルムを構成する樹脂組成物には、その性質を損なわない程度に、他の樹脂や無機充填材以外の各種添加剤、例えば、熱安定剤、紫外線吸収剤、光安定剤、核剤、着色剤、滑剤、難燃剤等を適宜配合しても良い。また本発明の樹脂組成物の調製方法としては、特に制限されるものではなく、公知の方法を用いることができる。例えば、(a)各種添加剤をポリアリールケトン樹脂及び/又は非晶性ポリエーテルイミド樹脂などの適当なベース樹脂に高濃度(代表的な含有量としては10〜60重量%)に混合したマスターバッチを別途作製しておき、これを使用する樹脂に濃度を調整して混合し、ニーダーや押出機等を用いて機械的にブレンドする方法、(b)使用する樹脂に直接各種添加剤をニーダーや押出機等を用いて機械的にブレンドする方法などが挙げられる。上記混合方法の中では、(a)のマスターバッチを作製し、混合する方法が分散性や作業性の点から好ましい。さらに、フィルムの表面にはハンドリング性の改良等のために、エンボス加工やコロナ処理等を適宜施しても良い。
(Additives, etc.)
The resin composition constituting the glass cloth-containing white film of the first invention has various additives other than other resins and inorganic fillers, such as a heat stabilizer and an ultraviolet absorber, to the extent that the properties are not impaired. , Light stabilizers, nucleating agents, colorants, lubricants, flame retardants, and the like may be appropriately blended. Moreover, it does not restrict | limit especially as a preparation method of the resin composition of this invention, A well-known method can be used. For example, (a) a master obtained by mixing various additives in a suitable base resin such as a polyaryl ketone resin and / or an amorphous polyetherimide resin at a high concentration (typically 10 to 60% by weight). A batch is prepared separately, the concentration is adjusted and mixed with the resin to be used, and mechanically blended with a kneader or an extruder. (B) Various additives are directly kneaded with the resin to be used. Or a mechanical blending method using an extruder or the like. Among the above mixing methods, the method of preparing and mixing the master batch (a) is preferable from the viewpoint of dispersibility and workability. Furthermore, the surface of the film may be appropriately subjected to embossing, corona treatment or the like for improving handling properties.

(ガラスクロス含有白色フィルムの製膜方法)
第1の本発明のガラスクロス含有白色フィルムの製造方法としては、公知の方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、無機充填材を含有した熱可塑性樹脂フィルムを採取しておき、その後ガラスクロスの両側をフィルムで挟み込み、該フィルム内部にガラスクロスを含有させる方法等を採用することができる。ガラスクロスを含有させる方法としては、真空プレスを用いてもよいし、加熱、加圧した金属ロールを用いて連続で挟みこむことにより含有しても良い。また、熱可塑性樹脂フィルムの製膜方法としては、公知の方法、例えばTダイを用いる押出キャスト法やカレンダー法等を採用することができ、特に限定されるものではないが、シートの製膜性や安定生産性等の面から、Tダイを用いる押出キャスト法が好ましい。Tダイを用いる押出キャスト法での成形温度は、組成物の流動特性や製膜性等によって適宜調整されるが、概ね融点以上、430℃以下である。また、結晶性樹脂を使用した場合、耐熱性を付与するための結晶化処理方法は、特に限定されるものではないが、例えば、押出キャスト時に結晶化させる方法(キャスト結晶化法)や製膜ライン内で、熱処理ロールや熱風炉等により結晶化させる方法(インライン結晶化法)及び製膜ライン外で、熱風炉や熱プレス等により結晶化させる方法(アウトライン結晶化法) などを挙げることができる。
(Method for forming glass cloth-containing white film)
As a manufacturing method of the glass cloth containing white film of 1st this invention, if it is a well-known method, it will not specifically limit, For example, the thermoplastic resin film containing the inorganic filler is extract | collected, Then, A method of sandwiching the glass cloth on both sides with a film and incorporating the glass cloth into the film can be employed. As a method of containing the glass cloth, a vacuum press may be used, or the glass cloth may be contained by being sandwiched continuously using a heated and pressurized metal roll. In addition, as a method for forming a thermoplastic resin film, a known method, for example, an extrusion casting method using a T-die or a calendar method can be adopted, and the film forming property of the sheet is not particularly limited. From the standpoint of stability and productivity, an extrusion casting method using a T die is preferred. The molding temperature in the extrusion casting method using a T-die is appropriately adjusted depending on the flow characteristics and film forming properties of the composition, but is generally about the melting point or higher and 430 ° C. or lower. In addition, when a crystalline resin is used, a crystallization treatment method for imparting heat resistance is not particularly limited. For example, a method of crystallization at the time of extrusion casting (cast crystallization method) or film formation In-line crystallization methods using heat treatment rolls or hot-air ovens (in-line crystallization method) and out-of-film crystallization methods in hot-air ovens or hot presses (outline crystallization methods). it can.

<金属積層体>
第2の本発明である金属積層体としては、上記ガラスクロス含有白色フィルムの少なくとも片面に金属層を積層したものであれば特に制限されず、金属層としては、例えば、銅、金、銀、アルミニウム、ニッケル、錫等の、厚さ5〜70μm程度の金属箔を使用することができる。これらの中でも、金属箔としては、通常銅箔が使用され、さらに表面を黒色酸化処理等の化成処理を施したものが好適に使用される。導体箔は、接着効果を高めるために、フィルムとの接触面(重ねる面)側を予め化学的又は機械的に粗化したものを用いることが好ましい。表面粗化処理された導体箔の具体例としては、電解銅箔を製造する際に電気化学的に処理された粗化銅箔などが挙げられる。
<Metal laminate>
As a metal laminated body which is 2nd this invention, if a metal layer is laminated | stacked on the at least single side | surface of the said glass cloth containing white film, it will not restrict | limit in particular, As a metal layer, copper, gold | metal | money, silver, A metal foil having a thickness of about 5 to 70 μm, such as aluminum, nickel, or tin, can be used. Among these, as the metal foil, a copper foil is usually used, and a metal foil having a surface subjected to chemical conversion treatment such as black oxidation treatment is preferably used. In order to enhance the adhesive effect, it is preferable to use a conductor foil that has been chemically or mechanically roughened on the contact surface (surface to be overlapped) side in advance. Specific examples of the conductor foil that has been subjected to surface roughening treatment include a roughened copper foil that has been electrochemically treated when an electrolytic copper foil is produced.

上記金属箔の積層方法については、接着層を介することのない熱融着方法として、加熱、加圧による方法であれば公知の方法を採用することができ、特に限定されるものではないが、例えば、熱プレス法や熱ラミネートロール法、又はこれらを組み合わせた方法を好適に採用することができる。   As for the method for laminating the metal foil, a known method can be adopted as a heat fusion method without interposing an adhesive layer as long as it is a method by heating and pressurization, and is not particularly limited. For example, a hot pressing method, a hot laminating roll method, or a combination of these methods can be suitably employed.

<LED搭載用基板>
第3の本発明であるLED搭載用基板としては、上記金属積層体を用いてなるものであれば、特に制限されることはなく、例えば、両面基板やアルミ板との複合基板が挙げられる。
LEDの高輝度化に伴い、より放熱性が要求される場合には、アルミ板と複合化することにより放熱性を向上させることも可能である。アルミ板との複合基板の構成としては、アルミ板全面に本発明のガラスクロス含有白色フィルムからなる金属積層体を積層する場合や、本発明の白色フィルムからなる金属積層体にキャビティー(凹部)構造用の窓枠を抜き、積層する場合が挙げられる。使用するアルミについては、熱可塑性樹脂との密着性を考慮すると粗化されていることが望ましいが、キャビティー構造を考慮した場合には、LEDからの光を効率よく反射させるために鏡面アルミを用いることが好ましい。また放熱性を向上させる点においては、フィルムの厚みは薄い方が好ましい。
<LED mounting board>
The LED mounting substrate according to the third aspect of the present invention is not particularly limited as long as it uses the metal laminate, and examples thereof include a double-sided substrate and a composite substrate with an aluminum plate.
When the heat dissipation is required as the brightness of the LED increases, it is possible to improve the heat dissipation by compositing with an aluminum plate. As the structure of the composite substrate with the aluminum plate, the metal laminate made of the glass cloth-containing white film of the present invention is laminated on the entire surface of the aluminum plate, or the cavity (recess) is formed in the metal laminate made of the white film of the present invention. A case where the structural window frame is removed and laminated is mentioned. The aluminum used is preferably roughened in consideration of adhesion to the thermoplastic resin, but when considering the cavity structure, mirror aluminum is used to efficiently reflect the light from the LED. It is preferable to use it. In terms of improving heat dissipation, it is preferable that the thickness of the film is thin.

本発明のLED搭載用基板の製造方法としては、特に制限されるものではなく、両面基板の場合には、例えば、図1に示す方法にしたがって製造することができる。図1に示すように、(a)まず、白色フィルム(100)2枚と、ガラスクロス(400)と金属層となる2枚の銅箔(10)とを用意し、(b)白色フィルム(100)、ガラスクロス(400)の両面に銅箔(10)を真空プレスにより積層して金属積層体を製造し、(c)銅箔(10)をエッチング又は銅上にメッキして配線パターン(20)を形成してLED搭載用基板とする。この基板に、(d)LED(200)を実装させ、ボンディングワイヤ(30)により配線パターン(20)と接続させて使用する(LED搭載基板)。   The method for producing the LED mounting substrate of the present invention is not particularly limited, and in the case of a double-sided substrate, for example, it can be produced according to the method shown in FIG. As shown in FIG. 1, (a) First, two white films (100), a glass cloth (400) and two copper foils (10) to be a metal layer are prepared, and (b) a white film ( 100), copper foil (10) is laminated on both sides of glass cloth (400) by vacuum pressing to produce a metal laminate, and (c) copper foil (10) is etched or plated on copper to form a wiring pattern ( 20) to form an LED mounting substrate. (D) The LED (200) is mounted on this substrate, and is used by being connected to the wiring pattern (20) by the bonding wire (30) (LED mounting substrate).

両面基板の場合には、例えば、図2に示す方法にしたがっても製造することができる。図2に示すように、(a)まず、片面に銅箔(10)を白色フィルム(100)に積層した片面銅張りフィルム2枚と、ガラスクロス(400)とを用意し、(b)ガラスクロス(400)の両面に片面銅張りフィルムを真空プレスにより積層して金属積層体を製造し、(c)銅箔(10)をエッチング又は銅上にメッキして配線パターン(20)を形成してLED搭載用基板とする。この基板に、(d)LED(200)を実装させ、ボンディングワイヤ(30)により配線パターン(20)と接続させて使用する(LED搭載基板)。   In the case of a double-sided substrate, for example, it can also be manufactured according to the method shown in FIG. As shown in FIG. 2, (a) First, two single-sided copper-clad films in which a copper foil (10) is laminated on a white film (100) on one side and a glass cloth (400) are prepared, and (b) glass A metal laminate is manufactured by laminating a single-sided copper-clad film on both sides of the cloth (400) by vacuum pressing, and (c) a copper foil (10) is etched or plated on copper to form a wiring pattern (20). LED mounting board. (D) The LED (200) is mounted on this substrate, and is used by being connected to the wiring pattern (20) by the bonding wire (30) (LED mounting substrate).

また、アルミ板(金属放熱部)との複合基板の場合には、例えば、図3に示す方法にしたがって製造することができる。図3に示すように、(a)片面に銅箔(10)を白色フィルム(100)に積層した片面銅張りフィルムをエッチング加工し配線パターン(20)を形成し、(b)配線パターンを形成した片面銅張りフィルムとガラスクロス(400)と白色フィルム(100)を準備し、(c)配線パターン(20)が形成された面とは反対面にアルミ板(300)を真空プレスにより積層してLED搭載用基板とする。この基板に、(d)LED(200)を実装させ、ボンディングワイヤ(30)により配線パターン(20)と接続させて使用する(LED搭載基板)。
[実施例]
Moreover, in the case of a composite substrate with an aluminum plate (metal radiating part), it can be manufactured, for example, according to the method shown in FIG. As shown in FIG. 3, (a) etching a single-sided copper-clad film in which a copper foil (10) is laminated on a white film (100) on one side to form a wiring pattern (20), and (b) forming a wiring pattern Prepared a single-sided copper-clad film, a glass cloth (400), and a white film (100), and (c) laminated an aluminum plate (300) on the surface opposite to the surface on which the wiring pattern (20) was formed by vacuum pressing. LED mounting board. (D) The LED (200) is mounted on this substrate, and is used by being connected to the wiring pattern (20) by the bonding wire (30) (LED mounting substrate).
[Example]

以下、実施例及び比較例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate in more detail, this invention is not limited to these.

なお、本明細書中に示されるフィルム等についての種々の測定値及び評価は以下のようにして求めた。   In addition, the various measured values and evaluation about the film etc. which are shown in this specification were calculated | required as follows.

[結晶融解ピーク温度(Tm)]
示差走査熱量計「DSC−7」(パーキンエルマー製)を用いて、JIS K7121に準じて、試料10mgを加熱速度10℃/分で昇温したときのサーモグラフから求めた。
[Crystal melting peak temperature (Tm)]
Using a differential scanning calorimeter “DSC-7” (manufactured by Perkin Elmer), the temperature was determined from a thermograph when 10 mg of a sample was heated at a heating rate of 10 ° C./min according to JIS K7121.

[平均反射率]
分光光度計(「U−4000」、株式会社日立製作所製)に積分球を取りつけ、アルミナ白板の反射率が100%としたときの反射率を、波長400nm〜800nmにわたって、0.5nm間隔で測定した。得られた測定値の平均値を計算し、この値を平均反射率とした。
[Average reflectance]
An integrating sphere is attached to a spectrophotometer ("U-4000", manufactured by Hitachi, Ltd.), and the reflectance when the reflectance of the alumina white plate is 100% is measured at intervals of 0.5 nm over a wavelength range of 400 nm to 800 nm. did. The average value of the measured values obtained was calculated, and this value was taken as the average reflectance.

[加熱処理後の反射率]
熱風循環式オーブンに、200℃で4時間、260℃で5分間加熱処理し、加熱処理後の反射率を上記の方法と同様に測定して、470nmにおける反射率を読みとった。
[Reflectance after heat treatment]
The hot air circulation oven was heat-treated at 200 ° C. for 4 hours and 260 ° C. for 5 minutes. The reflectance after the heat treatment was measured in the same manner as described above, and the reflectance at 470 nm was read.

[線膨張係数測定]
セイコーインスツルメンツ(株)製の熱応力歪み測定装置TMA/SS6100を用いて、フィルムから切り出した短冊状の試験片(長さ10mm)を引張荷重0.1gで固定し、30℃から5℃/分の割合で300℃まで昇温させ、MD(α1(MD))とTD(α1(TD))の熱膨張量の降温時の30℃〜140℃の温度依存性を求めた。
[Measurement of linear expansion coefficient]
Using a thermal stress strain measuring device TMA / SS6100 manufactured by Seiko Instruments Inc., a strip-shaped test piece (length: 10 mm) cut out from the film is fixed with a tensile load of 0.1 g, and from 30 ° C. to 5 ° C./min. The temperature dependence was raised to 300 ° C. at a rate of 30 ° C. to 140 ° C. when the thermal expansion amounts of MD (α1 (MD)) and TD (α1 (TD)) were lowered.

[平均粒径]
(株)島津製作所製の型式「SS−100」の粉体比表面測定器(透過法)を用い、断面積2cm、高さ1cmの試料筒に試料3gを充填して、500mm水柱で20ccの空気透過時間を計測し、これより酸化チタンの平均粒径を算出した。
[貯蔵弾性率測定]
得られたサンプルを4mmx60mmの大きさに切り出し、粘弾性スペクトロメーター(アイティー計測(株)製:DVA−200)を用い、振動周波数1Hz、ひずみ0.1%、チャック間2.5cm、昇温速度3℃/分で−50℃から400℃までの範囲でTDについて測定し、260℃における貯蔵弾性率を測定した。
[Average particle size]
Using a powder specific surface measuring instrument (transmission method) of model “SS-100” manufactured by Shimadzu Corporation, a sample tube having a cross-sectional area of 2 cm 2 and a height of 1 cm was filled with 3 g of sample, and 20 cc with a 500 mm water column. The air permeation time was measured, and the average particle size of titanium oxide was calculated from this.
[Storage modulus measurement]
The obtained sample was cut into a size of 4 mm x 60 mm, and using a viscoelastic spectrometer (made by IT Measurement Co., Ltd .: DVA-200), the vibration frequency was 1 Hz, the strain was 0.1%, the chuck was 2.5 cm, and the temperature was raised. TD was measured in the range from −50 ° C. to 400 ° C. at a rate of 3 ° C./min, and the storage elastic modulus at 260 ° C. was measured.

ポリエーテルエーテルケトン樹脂(PEEK450G、Tm=335℃)40質量%と、非晶性ポリエーテルイミド樹脂(Ultem UF5011S)60質量%とからなる樹脂混合物100質量部に対して、塩素法で製造された酸化チタン(平均粒径0.23μm、アルミナ処理、シランカップリング剤処理)を67質量部混合して得られた樹脂組成物を溶融混練し、Tダイを備えた押出機を用いて設定温度380℃で、厚さ50μmの白色フィルムを作製した。その後、ガラスクロス(旭化成エレクトロニクス製 3313AW 厚み70μm)の両側に上記フィルムを真空プレス器にて350℃、5MPa、30分の条件下で積層し、厚さ130μmのガラスクロス含有白色フィルムを作製した。その評価結果を表1に示す。   Produced by the chlorine method with respect to 100 parts by mass of a resin mixture consisting of 40% by mass of polyetheretherketone resin (PEEK450G, Tm = 335 ° C.) and 60% by mass of amorphous polyetherimide resin (Ultem UF5011S). A resin composition obtained by mixing 67 parts by mass of titanium oxide (average particle size 0.23 μm, alumina treatment, silane coupling agent treatment) was melt-kneaded, and set temperature 380 using an extruder equipped with a T die. A white film having a thickness of 50 μm was prepared at a temperature of 0 ° C. Thereafter, the above film was laminated on both sides of a glass cloth (Asahi Kasei Electronics 3313AW 70 μm thick) with a vacuum press at 350 ° C., 5 MPa for 30 minutes to produce a 130 μm thick glass cloth-containing white film. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例1において、厚さ30μmの白色フィルムを作製し、ガラスクロス(旭化成エレクトロニクス製 1027MS 厚み19μm)を使用し、白色フィルム/ガラスクロス/白色フィルム/ガラスクロス/白色フィルムの順に真空プレス器にて同様の条件下で積層し、厚さ100μmのガラスクロス含有白色フィルムを作製した。その評価結果を表1に示す。   In Example 1, a white film having a thickness of 30 μm was prepared, a glass cloth (1027MS, thickness 19 μm manufactured by Asahi Kasei Electronics) was used, and a white film / glass cloth / white film / glass cloth / white film were sequentially used in a vacuum press. Lamination was performed under the same conditions to produce a glass cloth-containing white film having a thickness of 100 μm. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例1と同様の熱可塑性樹脂組成物を溶融混練し、押し出すと同時に、片側から銅箔(12μ)をラミネーションして、片面銅箔12μm、樹脂厚さ50μmの片面銅箔フィルムを作製し、その後、実施例1と同様のガラスクロスを用いて、両側から片面銅箔フィルムを真空プレス器にて同様の条件で積層し両面銅箔フィルムを作製した。その評価結果を表1に示す。測定は両面銅箔を全面エッチングし、その後実施例1と同様に測定した。なお反射率はエッチング面を測定した。
[比較例1]
The thermoplastic resin composition similar to Example 1 is melt-kneaded and extruded, and at the same time, a copper foil (12 μm) is laminated from one side to produce a single-sided copper foil film having a single-sided copper foil of 12 μm and a resin thickness of 50 μm, Then, using the glass cloth similar to Example 1, the single-sided copper foil film was laminated | stacked on the same conditions from the both sides with the vacuum press device, and the double-sided copper foil film was produced. The evaluation results are shown in Table 1. The measurement was performed in the same manner as in Example 1 after etching the entire surface of the double-sided copper foil. The reflectance was measured on the etched surface.
[Comparative Example 1]

実施例1において、ガラスクロスを含有せず、厚さ100μmの白色フィルムを製造し、その後真空プレス器にて260℃30分間の条件下で熱処理した後に実施例1と同様に測定した。
[比較例2]
In Example 1, a white film having a thickness of 100 μm was produced without containing glass cloth, and then heat treatment was performed in a vacuum press at 260 ° C. for 30 minutes, followed by measurement in the same manner as in Example 1.
[Comparative Example 2]

三菱瓦斯化学社製の両面銅張り積層板(CCL−HL820WDB、樹脂厚100μm)の両面の銅箔を全面エッチングし、その後実施例1と同様の方法で測定した。その評価結果を表1に示す。
[比較例3]
The copper foil on both sides of a double-sided copper-clad laminate (CCL-HL820WDB, resin thickness 100 μm) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. was etched on the entire surface, and then measured in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
[Comparative Example 3]

利昌工業社製の両面銅張り積層板(CS−3965、樹脂厚100μm)の両面の銅箔を全面エッチングし、その後実施例1と同様の方法で測定した。その評価結果を表1に示す。   The copper foil on both sides of a double-sided copper-clad laminate (CS-3965, resin thickness 100 μm) manufactured by Risho Kogyo Co., Ltd. was etched on the entire surface, and then measured in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

表1の結果より、実施例1〜3においては、反射率及び加熱処理後の反射率、寸法安定性に優れ、また、260℃における剛性(貯蔵弾性率)が高いため、LED搭載用基板としての実装工程(260℃)に対する耐熱性が優れることも確認された。
一方、比較例1においては、加熱処理後の反射率の低下に優れているが、寸法安定性、実装工程に対する耐熱性に劣り、比較例2〜3においては、初期反射率は高いものの、加熱処理後の反射率の低下が大きいことが確認された。
From the results in Table 1, in Examples 1 to 3, the reflectance, the reflectance after heat treatment, and the dimensional stability are excellent, and the rigidity (storage elastic modulus) at 260 ° C. is high. It was also confirmed that the heat resistance to the mounting process (260 ° C.) was excellent.
On the other hand, in Comparative Example 1, although the reflectance after heat treatment is excellent, the dimensional stability and heat resistance to the mounting process are inferior. In Comparative Examples 2-3, although the initial reflectance is high, the heating is It was confirmed that the decrease in reflectance after the treatment was large.

Figure 2010275404
Figure 2010275404

10 銅箔
20 導体パターン、配線パターン
30 ボンディングワイヤ
100 白色フィルム
200 LED
300 アルミ板
400 ガラスクロス
10 Copper foil 20 Conductor pattern, wiring pattern 30 Bonding wire 100 White film 200 LED
300 Aluminum plate 400 Glass cloth

Claims (7)

熱可塑性樹脂及び無機充填材を含有する樹脂組成物と、ガラスクロスとからなり、波長400〜800nmにおける平均反射率が70%以上であって、かつ200℃で4時間熱処理した後の波長470nmにおける反射率の低下率が10%以下であることを特徴とするガラスクロス含有白色フィルム。   It consists of a resin composition containing a thermoplastic resin and an inorganic filler, and glass cloth. The average reflectance at a wavelength of 400 to 800 nm is 70% or more, and the heat treatment is performed at 200 ° C. for 4 hours at a wavelength of 470 nm. A glass cloth-containing white film having a reflectance reduction rate of 10% or less. 前記熱可塑性樹脂が、結晶融解ピーク温度が260℃以上の結晶性熱可塑性樹脂、ガラス転移温度が260℃以上の非晶性熱可塑性樹脂及び液晶転移温度が260℃以上の液晶ポリマーから選択されるいずれか1種以上である、請求項1記載のガラスクロス含有白色フィルム。   The thermoplastic resin is selected from a crystalline thermoplastic resin having a crystal melting peak temperature of 260 ° C. or higher, an amorphous thermoplastic resin having a glass transition temperature of 260 ° C. or higher, and a liquid crystal polymer having a liquid crystal transition temperature of 260 ° C. or higher. The glass cloth containing white film of Claim 1 which is any 1 type or more. 前記無機充填材が、少なくとも酸化チタンを含有する、請求項1又は2記載のガラスクロス含有白色フィルム。   The glass cloth-containing white film according to claim 1 or 2, wherein the inorganic filler contains at least titanium oxide. フィルムの厚みが、3〜500μmである、請求項1〜3のいずれか記載のガラスクロス含有白色フィルム。   The glass cloth containing white film in any one of Claims 1-3 whose thickness of a film is 3-500 micrometers. 260℃で5分間熱処理した後の波長470nmにおける反射率の低下率が、10%以下である、請求項1〜4のいずれか記載のガラスクロス含有白色フィルム。   The glass cloth-containing white film according to any one of claims 1 to 4, wherein a reduction rate of reflectance at a wavelength of 470 nm after heat treatment at 260 ° C for 5 minutes is 10% or less. 請求項1〜5のいずれか記載のガラスクロス含有白色フィルムの少なくとも片面に、金属層を積層してなる金属積層体。   The metal laminated body formed by laminating | stacking a metal layer on the at least single side | surface of the glass cloth containing white film in any one of Claims 1-5. 請求項6記載の金属積層体を用いてなるLED搭載用基板。   The board | substrate for LED mounting formed using the metal laminated body of Claim 6.
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