JP2010275333A - White film, metal laminate and substrate for led loading - Google Patents

White film, metal laminate and substrate for led loading Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a white film which has high reflectance in a visible light region, substantially avoids lowering of reflectance in a high temperature thermally loaded environment, and can be used for a printed wiring board for LED mounting, and to provide a metal laminate and the like. <P>SOLUTION: The white film comprises a composition containing 25-100 pts.mass of an inorganic filler based on 100 pts.mass of a resin composition containing an amorphous polyether imide resin. An average reflectance of the white film in a wavelength range of 400-800 nm is ≥70%, and a lowering rate of a reflectance at a wavelength of 470 nm after heat treatment at 200°C for 4 h is ≤10%. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、耐熱性に優れ、異方性が低減化され、かつ高い反射率特性を備えた白色フィルム、該白色フィルムを用いた金属積層体及びLED搭載用基板に関し、より詳細には、高温熱負荷環境下においても、反射率低下が抑制され、発光ダイオード(Light Emitting diode、LED)等を実装可能とする白色フィルム等に関するものである。   The present invention relates to a white film having excellent heat resistance, reduced anisotropy, and high reflectance characteristics, a metal laminate using the white film, and an LED mounting substrate. The present invention relates to a white film or the like that is capable of mounting a light emitting diode (LED) or the like, in which a decrease in reflectance is suppressed even under a thermal load environment.

プリント配線基板のパターン上に直接素子を実装し、樹脂封止されたチップタイプLEDは小型化、薄型化に有利なことから、携帯電話のテンキー照明や、小型液晶ディスプレーのバックライトなど電子機器に幅広く使用されてきた。   Since chip-type LEDs that are mounted directly on the printed circuit board pattern and are resin-sealed are advantageous for miniaturization and thinning, they can be used in electronic devices such as numeric keypad lighting for mobile phones and backlights for small liquid crystal displays. Widely used.

近年、LEDの高輝度化技術の向上が著しく、LEDはより高輝度化しているが、それに伴いLED素子自体の発熱量も増大し、プリント配線基板等周辺にかかる熱負荷も増大しており、LED素子周辺温度は100℃超になる場合もあるのが現状である。またLED搭載基板の製造工程において、鉛(Pb)フリー半田付けが必要であれば、リフロー工程において、260〜300℃程度の温度がかかる場合もあるが、半田付けが必要ではないLED搭載基板もある。その場合においても、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂の封止樹脂の熱硬化処理や、LEDチップを基板に接着させるためのエポキシ樹脂やシリコーン樹脂の熱硬化処理、ワイヤボンディング加工時に、150〜200℃程度で数分から数時間の高温の熱環境下にさらされる。そういった熱負荷の環境下では、従来使用されてきた熱硬化系樹脂組成物からなる白色のプリント配線基板では、黄変するなど白色度が低下し、反射効率が劣る傾向が見られ、LED搭載向け基板としては、依然改良の余地があった。また、従来の白色のプリント配線板を搭載した製品は、光照射下、特に紫外線照射下で黄変するなど白色度が低下し、反射率が劣る傾向が見られ、依然改良の余地があった。それに対し、セラミック基板については、耐熱性の点では優れているものの、硬く脆い性質から大面積、薄型化には限界があり、今後の一般照明用途や、ディスプレー用途向けの基板としては対応が困難になる可能性があり、高温熱負荷下、UV照射下で、変色しない、反射率の低下しない、大面積化に対応可能な、耐熱性を有する白色プリント配線板の開発が求められていた。
また、現在主流である白色LEDは、青色LED(波長470nm)と黄色蛍光体等から構成されており、波長470nmの反射率が高いことが求められていた。
In recent years, the improvement in the technology for increasing the brightness of LEDs has been remarkably improved, and the LEDs have become more bright, but along with this, the amount of heat generated by the LED elements themselves has increased, and the thermal load on the periphery of the printed circuit board has increased, The LED element ambient temperature is sometimes over 100 ° C. In addition, if lead (Pb) -free soldering is necessary in the manufacturing process of the LED mounting board, the reflow process may take a temperature of about 260 to 300 ° C., but there are LED mounting boards that do not require soldering. is there. Even in that case, at the time of thermosetting treatment of epoxy resin or silicone resin sealing resin, epoxy resin or silicone resin thermosetting treatment for bonding the LED chip to the substrate, wire bonding processing at about 150-200 ° C. Exposed to high temperature heat environment for several minutes to several hours. Under such heat load environment, the white printed wiring board made of the thermosetting resin composition that has been used in the past tends to deteriorate in whiteness, such as yellowing, and the reflection efficiency tends to be inferior. As a substrate, there was still room for improvement. In addition, products equipped with conventional white printed wiring boards have a tendency to deteriorate in whiteness, such as yellowing under light irradiation, particularly under ultraviolet irradiation, and have a tendency to have poor reflectance, and there is still room for improvement. . On the other hand, ceramic substrates are superior in heat resistance, but they are hard and brittle, so there is a limit to reducing the area and thickness due to their hard and brittle nature, making it difficult to handle as a substrate for future general lighting and display applications. There has been a demand for the development of a white printed wiring board having heat resistance that does not change color, does not decrease reflectance, and can cope with a large area under high-temperature heat load and UV irradiation.
Further, white LEDs, which are currently mainstream, are composed of blue LEDs (wavelength 470 nm), yellow phosphors, and the like, and are required to have a high reflectance at a wavelength of 470 nm.

これらの問題に対し、特許文献1には、熱可塑性樹脂100重量部、特定の珪素化合物0.001〜10重量部、及び平均粒径0.05〜1.0μmで、アルミナ水和物、ケイ酸水和物から選ばれた少なくとも1種の化合物で表面処理された結晶形態がルチル形の酸化チタン0.05〜25重量部からなる熱可塑性樹脂組成物について記載され、該熱可塑性樹脂組成物からなる成形品(具体的には、前記熱可塑性樹脂組成物を射出成形させた100×100×2mmの角板)は、90%程度と高い反射率で、かつ分散性、表面外観、機械的強度に優れ、幅広い産業分野で好適に使用できる旨の記載がある。   In order to solve these problems, Patent Document 1 discloses that 100 parts by weight of a thermoplastic resin, 0.001 to 10 parts by weight of a specific silicon compound, and 0.05 to 1.0 μm in average particle diameter are used. A thermoplastic resin composition comprising 0.05 to 25 parts by weight of rutile titanium oxide whose surface is treated with at least one compound selected from acid hydrates is described, and the thermoplastic resin composition (Specifically, a 100 × 100 × 2 mm square plate obtained by injection-molding the thermoplastic resin composition) has a high reflectivity of about 90%, dispersibility, surface appearance, and mechanical properties. There is a description that it is excellent in strength and can be suitably used in a wide range of industrial fields.

また特許文献2には、面倒な工程を必要とせず、かつ高い反射率を有する、照明や表示装置等に使用される反射体として、結晶性樹脂に、平均粒径0.05μm〜5μmの白色顔料、及び平均粒径が0.5μm〜10mmの無機フィラーを含む樹脂組成物からなる表面粗さが0.5〜50μmである反射体が記載されており、例えば、ポリアリールケトン、酸化チタン、及びガラス繊維を含有させた樹脂組成物を射出成形させた3cm角1mmの角板が開示されている。   Patent Document 2 discloses a white material having an average particle diameter of 0.05 μm to 5 μm as a reflector used in lighting, a display device or the like that does not require a troublesome process and has a high reflectance. A reflector having a surface roughness of 0.5 to 50 μm comprising a pigment and a resin composition containing an inorganic filler having an average particle diameter of 0.5 μm to 10 mm is described, for example, polyaryl ketone, titanium oxide, In addition, a 3 cm square 1 mm square plate is disclosed in which a resin composition containing glass fiber is injection molded.

また特許文献3には、特定のポリアミド樹脂100質量部に対して、酸化チタンを5〜100質量部、水酸化マグネシウムを0.5〜30質量部、及び繊維状充填材や針状充填材等の強化剤を20〜100質量部含有するLEDリフレクター成形用ポリアミド樹脂組成物について記載されており、具体的には、前記ポリアミド樹脂組成物を射出成形させた厚さ1mm、幅40mm、長さ100mmの板が開示されている。前記樹脂組成物からなるリフレクターは、熱負荷下(170℃で2時間)でも、波長470nmの反射率が低下せずに、高い白色度が維持される。   Patent Document 3 discloses that 5 to 100 parts by mass of titanium oxide, 0.5 to 30 parts by mass of magnesium hydroxide, and fibrous fillers and needle-like fillers with respect to 100 parts by mass of a specific polyamide resin. The polyamide resin composition for molding an LED reflector containing 20 to 100 parts by mass of the reinforcing agent is described. Specifically, the polyamide resin composition is injection-molded with a thickness of 1 mm, a width of 40 mm, and a length of 100 mm. A plate is disclosed. The reflector made of the resin composition maintains high whiteness without decreasing the reflectance at a wavelength of 470 nm even under a heat load (2 hours at 170 ° C.).

さらに、特許文献4には、シアン酸エステル化合物とノボラック型エポキシ樹脂と二酸化チタンの含有する樹脂組成物と基材からなるプリプレグ及び銅張積層板が開示されている。   Further, Patent Document 4 discloses a prepreg and a copper-clad laminate comprising a resin composition containing a cyanate ester compound, a novolac-type epoxy resin and titanium dioxide, and a base material.

特許第3470730号Japanese Patent No. 3470730 特開2007−218980号公報JP 2007-218980 A 特開2006−257314号公報JP 2006-257314 A 特開2007−131842号公報JP 2007-131842 A

上記特許文献1〜3には、熱可塑性樹脂組成物に酸化チタン等を添加して、反射率を高めた成型品について開示されているものの、いずれも具体的に開示されている形態は射出成形された成型品のみであって、フィルム状に加工され、耐熱性等が改善された白色フィルムについては検討されてはいない。また、特許文献4記載の銅張積層板は、従来の基板に比べ、熱負荷下(180℃1時間)での反射率の低下は抑えられているが(80%から64%に低下)、長期間での高温環境下での耐熱性が充分とはいえない。   Although the above Patent Documents 1 to 3 disclose a molded article in which a titanium oxide or the like is added to a thermoplastic resin composition to increase the reflectance, all of the disclosed forms are injection molded. A white film that is only a molded product that has been processed into a film and has improved heat resistance or the like has not been studied. Moreover, although the copper clad laminated board of patent document 4 is suppressing the fall of the reflectance under a heat load (180 degreeC 1 hour) compared with the conventional board | substrate (it falls from 80% to 64%), It cannot be said that the heat resistance in a high temperature environment for a long time is sufficient.

そこで、本発明の課題は、耐熱性を有し、可視光領域(特に波長470nm)において反射率が高く、及び高温熱負荷環境下における反射率の低下が少ない、大面積化に対応可能な、LED実装用プリント配線基板に使用可能な白色フィルム、該白色フィルムを用いてなる金属積層体及びLED搭載用基板を提供することである。   Therefore, the problem of the present invention is that it has heat resistance, has a high reflectance in the visible light region (especially at a wavelength of 470 nm), and has a small decrease in reflectance under a high-temperature heat load environment, and can cope with a large area. It is providing the white film which can be used for the printed wiring board for LED mounting, the metal laminated body which uses this white film, and the board | substrate for LED mounting.

本発明者等は、先に耐熱性が高く、可視光領域において反射率が高く、高温熱負荷環境下における反射率の低下が少ない白色フィルム及び金属積層体等を見出している(特願2007−309035)。またUV照射下における反射率の低下が少ない白色フィルム及び金属積層体等を見出している(特願2008−151547)。これらの白色フィルムは、その特性から、Pbフリー耐熱性を有するLED実装用プリント配線基板として好適に使用することができるものであるが、いずれも反射率(特に波長470nmにおける反射率)の観点からは必ずしも満足できるものではなかった。   The present inventors have previously found a white film, a metal laminate, and the like that have high heat resistance, high reflectance in the visible light region, and little reduction in reflectance under a high-temperature heat load environment (Japanese Patent Application No. 2007- 309035). Further, a white film, a metal laminate and the like with little reduction in reflectance under UV irradiation have been found (Japanese Patent Application No. 2008-151547). Although these white films can be suitably used as a printed wiring board for LED mounting having Pb-free heat resistance due to their characteristics, both are from the viewpoint of reflectivity (particularly reflectivity at a wavelength of 470 nm). Was not always satisfactory.

そこで、反射率の問題点をさらに改良すべく鋭意検討した結果、非晶性ポリエーテルイミド樹脂を含有してなる樹脂組成物100質量部に対し、無機充填材25〜100質量部を含有する組成物を用いることによって、高い反射率(特に波長470nmにおける反射率)を有し、高温熱負荷環境下でも反射率の低下が少ない白色フィルムを得ることができること、及びこの白色フィルムがLED実装用プリント配線基板として好適に利用可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。   Therefore, as a result of intensive studies to further improve the problem of reflectance, a composition containing 25 to 100 parts by mass of an inorganic filler with respect to 100 parts by mass of a resin composition containing an amorphous polyetherimide resin. By using an object, it is possible to obtain a white film having high reflectance (especially reflectance at a wavelength of 470 nm) and having little decrease in reflectance even under a high-temperature heat load environment, and this white film can be used for LED mounting printing. It has been found that it can be suitably used as a wiring board, and the present invention has been completed.

すなわち、第1の本発明は、非晶性ポリエーテルイミド樹脂を含有してなる樹脂組成物100質量部に対し、無機充填材25〜100質量部を含有する組成物からなり、波長400〜800nmにおける平均反射率が70%以上であり、かつ200℃で4時間熱処理した後の波長470nmにおける反射率の低下率が10%以下であることを特徴とする白色フィルムである。   That is, 1st this invention consists of a composition containing 25-100 mass parts of inorganic fillers with respect to 100 mass parts of resin compositions containing an amorphous polyetherimide resin, and has a wavelength of 400-800 nm. The white film is characterized in that the average reflectance is 70% or more and the reflectance reduction rate at a wavelength of 470 nm after heat treatment at 200 ° C. for 4 hours is 10% or less.

第1の本発明において、非晶性ポリエーテルイミド樹脂は、下記構造式(1)及び/又は(2)の繰返し単位を有する樹脂であることが好ましい。

Figure 2010275333
Figure 2010275333
In 1st this invention, it is preferable that amorphous polyetherimide resin is resin which has a repeating unit of following Structural formula (1) and / or (2).
Figure 2010275333
Figure 2010275333

第1の本発明において、無機充填材は、平均粒径15μm以下、かつ平均アスペクト比30以上の充填材を少なくとも含有することが好ましく、また無機充填材は、少なくとも酸化チタンを含有することが好ましい。   In the first aspect of the present invention, the inorganic filler preferably contains at least a filler having an average particle size of 15 μm or less and an average aspect ratio of 30 or more, and the inorganic filler preferably contains at least titanium oxide. .

第1の本発明において、MD及びTDの線膨張係数の平均値は、35×10−6/℃以下であることが好ましく、フィルムの厚みは、3〜500μmであることが好ましい。 In 1st this invention, it is preferable that the average value of the linear expansion coefficient of MD and TD is 35x10 < -6 > / degrees C or less, and it is preferable that the thickness of a film is 3-500 micrometers.

第2の本発明は、第1の本発明の白色フィルムの少なくとも片面に、金属層を積層してなる金属積層体である。   2nd this invention is a metal laminated body formed by laminating | stacking a metal layer on the at least single side | surface of the white film of 1st this invention.

第3の本発明は、第2の本発明の金属積層体を用いてなるLED搭載用基板である。   3rd this invention is a board | substrate for LED mounting formed using the metal laminated body of 2nd this invention.

本発明によると、可視光領域(特に波長470nm)において反射率が高く、寸法安定性に優れ、かつ高温熱負荷環境下における反射率の低下が少ない白色フィルム、及び該白色フィルムを用いてなる金属積層体を提供することができ、これらはその特性から、LED実装用プリント配線基板に好適に使用可能なものである。   According to the present invention, a white film having a high reflectivity in the visible light region (particularly a wavelength of 470 nm), excellent dimensional stability, and little reduction in reflectivity under a high-temperature heat load environment, and a metal using the white film A laminated body can be provided, and these can be suitably used for a printed wiring board for LED mounting because of its characteristics.

図1は、本発明のLED搭載用基板及びその製造方法の一実施形態を示した図である。FIG. 1 is a view showing an embodiment of an LED mounting substrate and a manufacturing method thereof according to the present invention. 図2は、本発明のLED搭載用基板及びその製造方法の一実施形態を示した図である。FIG. 2 is a view showing an embodiment of an LED mounting substrate and a manufacturing method thereof according to the present invention. 図3は、本発明のLED搭載用基板及びその製造方法の一実施形態を示した図である。FIG. 3 is a view showing an embodiment of the LED mounting substrate and the manufacturing method thereof according to the present invention.

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明の範囲がこの実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, although embodiment of this invention is described, the scope of the present invention is not limited to this embodiment.

<白色フィルム>
第1の本発明である白色フィルムとしては、非晶性ポリエーテルイミド樹脂を含有してなる樹脂組成物100質量部に対し、無機充填材25〜100質量部を含有する組成物からなり、波長400〜800nmにおける平均反射率が70%以上であり、かつ200℃で4時間熱処理した後の波長470nmにおける反射率の低下率が10%以下のものであれば、特に制限されず、非晶性ポリエーテルイミド樹脂を用いることで、特に波長470nmにおける反射率が高く、かつ高温熱負荷環境下における反射率の低下が極めて少ないという、優れた効果を奏することができる。
<White film>
The white film according to the first aspect of the present invention comprises a composition containing 25 to 100 parts by mass of an inorganic filler with respect to 100 parts by mass of a resin composition containing an amorphous polyetherimide resin, and has a wavelength. If the average reflectivity at 400 to 800 nm is 70% or more and the rate of decrease in reflectivity at a wavelength of 470 nm after heat treatment at 200 ° C. for 4 hours is 10% or less, it is not particularly limited and is amorphous. By using the polyetherimide resin, it is possible to obtain an excellent effect that the reflectivity is particularly high at a wavelength of 470 nm and the decrease in reflectivity under a high-temperature heat load environment is extremely small.

上記のとおり、第1の本発明である白色フィルムは、波長400〜800nmにおける平均反射率が70%以上であることを必要とするが、これは可視光領域の反射率が高いほど、搭載するLEDの輝度が高くなる傾向があり、上記範囲であれば、白色LED搭載向け基板として好適に利用可能であるからである。また、青色LEDの平均波長(470nm)に対応した470nm付近の反射率が高いほど輝度が高くなる傾向があるため、470nmにおける反射率が70%以上であることがより好ましく、反射率が75%以上であることがより好ましい。   As above-mentioned, although the white film which is 1st this invention requires that the average reflectance in wavelength 400-800nm is 70% or more, this is mounted, so that the reflectance of visible region is high. This is because the brightness of the LED tends to be high, and if it is in the above range, it can be suitably used as a substrate for mounting a white LED. Moreover, since there exists a tendency for a brightness | luminance to become high so that the reflectance of 470 nm vicinity corresponding to the average wavelength (470 nm) of blue LED is high, it is more preferable that the reflectance in 470 nm is 70% or more, and a reflectance is 75%. More preferably.

(樹脂組成物)
第1の本発明である白色フィルムを構成する樹脂組成物は、非晶性ポリエーテルイミド樹脂を含有してなるものであり、中でも下記構造式(1)及び/又は(2)の繰返し単位を有する、非晶性ポリエーテルイミド樹脂が好ましく、下記構造式(1)の市販品としては、ゼネラルエレクトリック社製の商品名「Ultem CRS5001」(Tg:226℃)、「Ultem UF5011S」(Tg226℃)等が挙げられる。

Figure 2010275333
(Resin composition)
The resin composition constituting the white film according to the first aspect of the present invention contains an amorphous polyetherimide resin. Among them, the repeating unit of the following structural formula (1) and / or (2) is included. Amorphous polyetherimide resin is preferable, and as commercial products of the following structural formula (1), trade names “Ultem CRS5001” (Tg: 226 ° C.), “Ultem UF5011S” (Tg 226 ° C.) manufactured by General Electric Co., Ltd. Etc.
Figure 2010275333

また下記構造式(2)の市販品としては、ゼネラルエレクトリック社製の商品名「Ultem 1000」(Tg:216℃)、「Ultem 1010」(Tg:216℃)等が挙げられる。

Figure 2010275333
Moreover, as a commercial item of following Structural formula (2), the brand name "Ultem 1000" (Tg: 216 degreeC) by General Electric company, "Ultem 1010" (Tg: 216 degreeC), etc. are mentioned.
Figure 2010275333

上記構造式の中でも、反射特性の観点からは、特に上記構造式(1)で表される非晶性ポリエーテルイミドを用いることが好ましい。   Among the above structural formulas, it is preferable to use amorphous polyetherimide represented by the above structural formula (1) from the viewpoint of reflection characteristics.

(無機充填材)
第1の本発明である白色フィルムに含有される無機充填材としては、例えば、タルク、マイカ、雲母、ガラスフレーク、窒化ホウ素(BN)、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、シリカ、チタン酸塩(チタン酸カリウム等)、硫酸バリウム、アルミナ、カオリン、クレー、酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、チタン酸鉛、酸化ジルコン、酸化アンチモン、酸化マグネシウム等が挙げられる。これらは1種類を単独で添加してもよく、2種類以上を組み合わせて添加してもよい。
(Inorganic filler)
Examples of the inorganic filler contained in the white film of the first invention include talc, mica, mica, glass flake, boron nitride (BN), calcium carbonate, aluminum hydroxide, silica, and titanate (titanium). Potassium oxide, etc.), barium sulfate, alumina, kaolin, clay, titanium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, lead titanate, zircon oxide, antimony oxide, magnesium oxide and the like. These may be added singly or in combination of two or more.

無機充填材は、熱可塑性樹脂への分散性を向上させるために、無機充填材の表面を、シリコーン系化合物、多価アルコール系化合物、アミン系化合物、脂肪酸、脂肪酸エステル等で表面処理されたものを使用することができる。その中でもシリコン系化合物(シランカップリング剤)で処理されたものを好適に使用することができる。   Inorganic fillers are those whose surface is treated with silicone compounds, polyhydric alcohol compounds, amine compounds, fatty acids, fatty acid esters, etc. in order to improve dispersibility in thermoplastic resins. Can be used. Among them, those treated with a silicon compound (silane coupling agent) can be preferably used.

第1の本発明である白色フィルムは、MD(フィルムの流れ方向)及びTD(流れ方向と直交する方向)の線膨張係数の平均値を35×10−6/℃以下とすることが好ましい。線膨張係数をこのような範囲内とすることで、寸法安定性に優れ、かつ反射率が高く、また高温熱負荷環境下における反射率の低下が極めて少ないという、優れた効果を奏することができる。 The white film according to the first aspect of the present invention preferably has an average value of linear expansion coefficients of MD (film flow direction) and TD (direction orthogonal to the flow direction) of 35 × 10 −6 / ° C. or less. By setting the linear expansion coefficient within such a range, it is possible to achieve an excellent effect that the dimensional stability is excellent, the reflectance is high, and the reflectance is hardly reduced under a high-temperature heat load environment. .

反射率及び線膨張係数の値を前記範囲内にする具体的方法としては、樹脂組成物100質量部に対して、平均粒径15μm以下、かつ平均アスペクト比(平均粒径/平均厚み)30以上の充填材1と、ベース樹脂となる非晶性ポリエーテルイミド樹脂との屈折率差の大きい充填材2(概ね充填材2の屈折率が1.6以上)とを少なくとも含有する無機充填材を25〜100質量部用いる方法を挙げることができる。無機充填材が25質量部より少ないと、反射率と線膨張係数のバランスを取ることが困難になり好ましくなく、100質量部を超えると、無機充填材の分散性不良や、フィルムの成形時に破断するといった成形性に問題が生じる場合があり好ましくない。このように、無機充填材として、上記で特定された物性値を有する各種充填材(充填材1及び充填材2)を含有させることによって、良好な反射率と異方性のない寸法安定性に優れた白色フィルムを得ることができる。   As a specific method for setting the values of the reflectance and the linear expansion coefficient within the above ranges, the average particle size is 15 μm or less and the average aspect ratio (average particle size / average thickness) is 30 or more with respect to 100 parts by mass of the resin composition. An inorganic filler containing at least a filler 2 having a large refractive index difference between the filler 1 and an amorphous polyetherimide resin serving as a base resin (the refractive index of the filler 2 is approximately 1.6 or more). The method of using 25-100 mass parts can be mentioned. When the amount of the inorganic filler is less than 25 parts by mass, it is difficult to balance the reflectance and the linear expansion coefficient, and when it exceeds 100 parts by mass, the inorganic filler is poorly dispersible or breaks when the film is formed. This may cause problems in moldability, and is not preferable. Thus, by including various fillers (filler 1 and filler 2) having the physical property values specified above as inorganic fillers, good reflectivity and dimensional stability without anisotropy are achieved. An excellent white film can be obtained.

上記平均粒径15μm以下、かつ平均アスペクト比(平均粒径/平均厚み)30以上の充填材1としては、例えば、合成マイカ、天然マイカ(マスコバイト、フロゴパイト、セリサイト、スゾライト等)、焼成された天然又は合成のマイカ、ベーマイト、タルク、イライト、カオリナイト、モンモリロナイト、バーミキュライト、スメクタイト、及び板状アルミナ等の無機鱗片状(板状)充填材や、鱗片状チタン酸塩を挙げることができる。これらの充填材1によれば、平面方向と厚み方向の線膨張係数比を低く抑えることができる。また、光反射性を考慮した場合には、鱗片状チタン酸塩が、屈折率が高いためより好ましい。なお、前記充填材は単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。アスペクト比の高い鱗片状充填材を用いることにより、フィルムへの透湿(吸湿)を抑えることができ、熱可塑性樹脂の高熱環境下での酸化劣化を防止し、反射率の低下を抑えることが可能であり、また、フィルムの剛性も向上し、より薄型の基板に使用することが可能である。   Examples of the filler 1 having an average particle size of 15 μm or less and an average aspect ratio (average particle size / average thickness) of 30 or more are, for example, synthetic mica, natural mica (mascobite, phlogopite, sericite, szolite, etc.), fired. In addition, inorganic scale-like (plate-like) fillers such as natural or synthetic mica, boehmite, talc, illite, kaolinite, montmorillonite, vermiculite, smectite, and plate-like alumina, and scale-like titanates can be mentioned. According to these fillers 1, the linear expansion coefficient ratio in the plane direction and the thickness direction can be kept low. In consideration of light reflectivity, scaly titanate is more preferable because of its high refractive index. In addition, the said filler can be used individually or in combination of 2 or more types. By using a scaly filler with a high aspect ratio, moisture permeation (moisture absorption) to the film can be suppressed, oxidation deterioration of the thermoplastic resin in a high heat environment can be prevented, and reduction in reflectance can be suppressed. In addition, the rigidity of the film is improved and the film can be used for a thinner substrate.

上記充填材1の含有量は、樹脂組成物100質量部に対し、10質量部以上であることが好ましく、20質量部以上であることがより好ましく、さらには30質量部以上であることが好ましい。上記範囲であれば、得られる白色フィルムの線膨張係数を所望の範囲にまで低下させることが可能である。   The content of the filler 1 is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 20 parts by mass or more, and further preferably 30 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin composition. . If it is the said range, it is possible to reduce the linear expansion coefficient of the white film obtained to a desired range.

上記充填材2は、上記ベース樹脂との屈折率差が大きい無機充填材である。すなわち、無機充填材として屈折率が大きいもの、基準としては1.6以上の無機充填材が好ましい。具体的には、屈折率が1.6以上である炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化亜鉛、酸化チタン、チタン酸塩等を用いることが好ましく、特に酸化チタンを用いることが好ましい。   The filler 2 is an inorganic filler having a large refractive index difference from the base resin. That is, an inorganic filler having a large refractive index and a reference inorganic filler of 1.6 or more are preferable. Specifically, calcium carbonate, barium sulfate, zinc oxide, titanium oxide, titanate, or the like having a refractive index of 1.6 or more is preferably used, and titanium oxide is particularly preferably used.

酸化チタンは、他の無機充填材に比べて、顕著に屈折率が高く、上記ベース樹脂との屈折率差を大きくすることができるため、他の充填材を使用した場合よりも、少ない配合量で優れた反射性を得ることができる。またフィルムを薄くしても、高い反射性を有する白色フィルムを得ることができる。   Titanium oxide has a significantly higher refractive index than other inorganic fillers, and can increase the difference in refractive index from the base resin. Therefore, the amount of titanium oxide is smaller than when other fillers are used. Excellent reflectivity can be obtained. Even if the film is thinned, a white film having high reflectivity can be obtained.

酸化チタンは、アナターゼ型やルチル型のような結晶型の酸化チタンが好ましく、その中でもベース樹脂との屈折率差が大きくなるといった観点から、ルチル型の酸化チタンが好ましい。   The titanium oxide is preferably a crystalline titanium oxide such as anatase type or rutile type. Among them, a rutile type titanium oxide is preferable from the viewpoint of a large difference in refractive index from the base resin.

また酸化チタンの製造方法は、塩素法と硫酸法があるが、白色度の点からは、塩素法で製造された酸化チタンを使用することが好ましい。   Moreover, although the manufacturing method of a titanium oxide has a chlorine method and a sulfuric acid method, it is preferable to use the titanium oxide manufactured by the chlorine method from the point of whiteness.

酸化チタンは、その表面が不活性無機酸化物で被覆処理されたものが好ましい。酸化チタンの表面を不活性無機酸化物で被覆処理することにより、酸化チタンの光触媒活性を抑制することができ、フィルムが劣化することを防ぐことができる。不活性無機酸化物としては、シリカ、アルミナ、及びジルコニアからなる群から選ばれる少なくとも1種類を用いることが好ましい。これらの不活性無機酸化物を用いれば、高い反射性を損なうことなく、高温溶融時に、熱可塑性樹脂の分子量低下や、黄変を抑制することができる。   The titanium oxide is preferably one whose surface is coated with an inert inorganic oxide. By coating the surface of titanium oxide with an inert inorganic oxide, the photocatalytic activity of titanium oxide can be suppressed, and deterioration of the film can be prevented. As the inert inorganic oxide, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of silica, alumina, and zirconia. When these inert inorganic oxides are used, a decrease in the molecular weight of the thermoplastic resin and yellowing can be suppressed during high temperature melting without impairing high reflectivity.

また、酸化チタンは、ベース樹脂への分散性を高めるために、その表面がシロキサン化合物、シランカップリング剤等からなる群から選ばれる少なくとも1種類の無機化合物や、ポリオール、ポリエチレングリコール等からなる群から選ばれる少なくとも1種類の有機化合物で表面されたものが好ましい。特に耐熱性の点からは、シランカップリング剤で処理されたものが好ましい。   In addition, in order to enhance dispersibility in the base resin, titanium oxide has a surface made of at least one inorganic compound selected from the group consisting of siloxane compounds, silane coupling agents, etc., a group consisting of polyol, polyethylene glycol, and the like. Those which are surfaced with at least one organic compound selected from In particular, those treated with a silane coupling agent are preferable from the viewpoint of heat resistance.

酸化チタンの粒径は、0.1〜1.0μmであることが好ましく、より好ましくは0.2〜0.5μmである。酸化チタンの粒径が上記範囲であれば、熱可塑性樹脂への分散性が良好で、それとの界面が緻密に形成され、高い反射性を付与することができる。   The particle size of titanium oxide is preferably 0.1 to 1.0 μm, more preferably 0.2 to 0.5 μm. When the particle size of titanium oxide is in the above range, the dispersibility in the thermoplastic resin is good, the interface with it is densely formed, and high reflectivity can be imparted.

酸化チタンの含有量は、樹脂組成物100質量部に対し、15質量部以上であることが好ましく、20質量部以上であることがより好ましく、さらには25質量部以上であることが最も好ましい。上記範囲内であれば、良好な反射特性を得られ、またフィルムの厚みが薄くなっても良好な反射特性を得ることが可能である。   The content of titanium oxide is preferably 15 parts by mass or more, more preferably 20 parts by mass or more, and most preferably 25 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin composition. Within the above range, good reflection characteristics can be obtained, and good reflection characteristics can be obtained even when the film is thin.

上記充填材1と充填材2の組み合わせとしては、反射率と線膨張係数のバランスを取る上で、上記酸化チタンと鱗片状の無機充填材を適宜配合することが好ましい。   As a combination of the filler 1 and the filler 2, it is preferable that the titanium oxide and the scale-like inorganic filler are appropriately blended in order to balance the reflectance and the linear expansion coefficient.

(反射率の低下率)
本発明の白色フィルムは、200℃で4時間熱処理した後の波長470nmにおける反射率の低下率が10%以下であることを必要とする。
(Reduction rate of reflectivity)
The white film of the present invention requires that the reflectance decrease rate at a wavelength of 470 nm after heat treatment at 200 ° C. for 4 hours is 10% or less.

上記条件の根拠について以下に記載する。LED搭載基板を製造する際に、導電接着剤やエポキシ、シリコーン樹脂等の封止剤の熱硬化工程(100〜200℃、数時間)や、ワイヤボンディング工程等、高熱負荷がかかる状況にある。また実際の使用環境下においても、高輝度LEDの開発が進み、基板への熱負荷は高まる傾向にあり、LED素子周辺温度は100℃超になる場合もある。今後このような高熱負荷環境下においても、変色することなく、高い反射率を維持することが重要になってきている。また波長470nmは青色LEDの平均波長である。   The grounds for the above conditions are described below. When manufacturing an LED mounting substrate, a high thermal load is applied, such as a thermosetting process (100 to 200 ° C., several hours) of a sealing agent such as a conductive adhesive, epoxy, or silicone resin, or a wire bonding process. Further, even in an actual use environment, development of high-brightness LEDs has progressed, the thermal load on the substrate tends to increase, and the LED element ambient temperature may exceed 100 ° C. in some cases. In the future, it will be important to maintain a high reflectance without discoloration even under such a high heat load environment. The wavelength 470 nm is the average wavelength of the blue LED.

したがって、上記条件下(200℃、4時間後)での波長470nmにおける反射率の低下率が10%以下であれば、製造工程での反射率の低下を抑制することが可能であり、また、実際の使用時の反射率の低下を抑制することが可能であるため、LED搭載基板として好適に使用できる。より好ましくは5%以下であり、さらに好ましくは3%以下であり、特に好ましくは2%以下である。   Therefore, if the rate of decrease in reflectance at a wavelength of 470 nm under the above conditions (200 ° C., 4 hours later) is 10% or less, it is possible to suppress the decrease in reflectance in the manufacturing process, Since it is possible to suppress a decrease in reflectance during actual use, it can be suitably used as an LED mounting substrate. More preferably, it is 5% or less, More preferably, it is 3% or less, Especially preferably, it is 2% or less.

(白色フィルムの厚み)
第1の本発明の白色フィルムの厚みは、3〜500μmであることが好ましい。より好ましくは、10〜300μmであり、さらには20〜100μmである。かかる範囲であれば、薄型が要求される携帯電話用バックライトや、液晶ディスプレー用バックライト用の面光源として使用されるチップLEDとして好適に使用することができる。
(White film thickness)
The thickness of the white film of the first invention is preferably 3 to 500 μm. More preferably, it is 10-300 micrometers, Furthermore, it is 20-100 micrometers. Within such a range, it can be suitably used as a chip LED used as a surface light source for a cellular phone backlight or a liquid crystal display backlight that is required to be thin.

(添加剤等)
第1の本発明の白色フィルムを構成する組成物には、その性質を損なわない程度に、他の樹脂や無機充填材以外の各種添加剤、例えば、熱安定剤、紫外線吸収剤、光安定剤、核剤、着色剤、滑剤、難燃剤等を適宜配合しても良い。また本発明の樹脂組成物の調製方法としては、特に制限されるものではなく、公知の方法を用いることができる。例えば、(a)各種添加剤を非晶性ポリエーテルイミド樹脂に高濃度(代表的な含有量としては10〜60重量%)に混合したマスターバッチを別途作製しておき、これを使用する樹脂に濃度を調整して混合し、ニーダーや押出機等を用いて機械的にブレンドする方法、(b)使用する樹脂に直接各種添加剤をニーダーや押出機等を用いて機械的にブレンドする方法などが挙げられる。上記混合方法の中では、(a)のマスターバッチを作製し、混合する方法が分散性や作業性の点から好ましい。さらに、フィルムの表面にはハンドリング性の改良等のために、エンボス加工やコロナ処理等を適宜施しても良い。
(Additives, etc.)
In the composition constituting the white film of the first invention, various additives other than other resins and inorganic fillers, such as heat stabilizers, ultraviolet absorbers, and light stabilizers, are added to such an extent that the properties are not impaired. Further, a nucleating agent, a coloring agent, a lubricant, a flame retardant and the like may be appropriately blended. Moreover, it does not restrict | limit especially as a preparation method of the resin composition of this invention, A well-known method can be used. For example, (a) A resin is prepared by separately preparing a master batch in which various additives are mixed in an amorphous polyetherimide resin at a high concentration (typically 10 to 60% by weight). (B) A method of mechanically blending various additives directly into the resin to be used using a kneader or an extruder. Etc. Among the above mixing methods, the method of preparing and mixing the master batch (a) is preferable from the viewpoint of dispersibility and workability. Furthermore, the surface of the film may be appropriately subjected to embossing, corona treatment or the like for improving handling properties.

(白色フィルムの製膜方法)
第1の本発明の白色フィルムの製膜方法としては、公知の方法、例えばTダイを用いる押出キャスト法やカレンダー法等を採用することができ、特に限定されるものではないが、シートの製膜性や安定生産性等の面から、Tダイを用いる押出キャスト法が好ましい。Tダイを用いる押出キャスト法での成形温度は、組成物の流動特性や製膜性等によって適宜調整されるが、概ね融点以上、430℃以下である。また、結晶性樹脂を使用した場合、耐熱性を付与するための結晶化処理方法は、特に限定されるものではないが、例えば、押出キャスト時に結晶化させる方法(キャスト結晶化法)や製膜ライン内で、熱処理ロールや熱風炉等により結晶化させる方法(インライン結晶化法)及び製膜ライン外で、熱風炉や熱プレス等により結晶化させる方法(アウトライン結晶化法) などを挙げることができる。
(Method for forming white film)
As a method for forming the white film of the first present invention, a known method such as an extrusion casting method using a T-die or a calendar method can be employed, and although not particularly limited, From the viewpoint of film properties and stable productivity, an extrusion casting method using a T die is preferable. The molding temperature in the extrusion casting method using a T-die is appropriately adjusted depending on the flow characteristics and film forming properties of the composition, but is generally about the melting point or higher and 430 ° C. or lower. In addition, when a crystalline resin is used, a crystallization treatment method for imparting heat resistance is not particularly limited. For example, a method of crystallization at the time of extrusion casting (cast crystallization method) or film formation In-line crystallization methods using heat treatment rolls or hot-air ovens (in-line crystallization method) and out-of-film crystallization methods in hot-air ovens or hot presses (outline crystallization methods). it can.

<金属積層体>
第2の本発明である金属積層体としては、上記白色フィルムの少なくとも片面に金属層を積層したものであれば特に制限されず、金属層としては、例えば、銅、金、銀、アルミニウム、ニッケル、錫等の、厚さ5〜70μm程度の金属箔を使用することができる。これらの中でも、金属箔としては、通常銅箔が使用され、さらに表面を黒色酸化処理等の化成処理を施したものが好適に使用される。導体箔は、接着効果を高めるために、フィルムとの接触面(重ねる面)側を予め化学的又は機械的に粗化したものを用いることが好ましい。表面粗化処理された導体箔の具体例としては、電解銅箔を製造する際に電気化学的に処理された粗化銅箔などが挙げられる。
<Metal laminate>
The metal laminate according to the second invention is not particularly limited as long as a metal layer is laminated on at least one surface of the white film. Examples of the metal layer include copper, gold, silver, aluminum, nickel. A metal foil having a thickness of about 5 to 70 μm, such as tin, can be used. Among these, as the metal foil, a copper foil is usually used, and a metal foil having a surface subjected to chemical conversion treatment such as black oxidation treatment is preferably used. In order to enhance the adhesive effect, it is preferable to use a conductor foil that has been chemically or mechanically roughened on the contact surface (surface to be overlapped) side in advance. Specific examples of the conductor foil that has been subjected to surface roughening treatment include a roughened copper foil that has been electrochemically treated when an electrolytic copper foil is produced.

上記金属箔の積層方法については、接着層を介することのない熱融着方法として、加熱、加圧による方法であれば公知の方法を採用することができ、特に限定されるものではないが、例えば、熱プレス法や熱ラミネートロール法、押出した樹脂にキャストロールで積層する押出ラミネート法、又はこれらを組み合わせた方法を好適に採用することができる。   As for the method for laminating the metal foil, a known method can be adopted as a heat fusion method without interposing an adhesive layer as long as it is a method by heating and pressurization, and is not particularly limited. For example, a hot pressing method, a hot laminating roll method, an extrusion laminating method in which the extruded resin is laminated with a cast roll, or a method combining these can be suitably employed.

<LED搭載用基板>
本発明のLED搭載用基板としては、上記金属積層体を用いてなるものであれば、特に制限されることはなく、例えば、両面基板やアルミ板との複合基板が挙げられる。従来の熱硬化系樹脂からなる白色基板は、ガラスクロスを含有しているため、製造工程において、ボイド(気泡)が残りやすい等の問題が生じたり、薄型化は難しく、またセラミック基板においても、硬く脆い性質から薄型化は困難であるが、本発明の白色フィルム及びそれからなる金属積層体を使用することにより、より薄型化が可能であり、薄型化の要求が激しい携帯電話のバックライト用基板として好適に使用可能である。また、充填材として、特定の物性値を有する各種充填材(充填材1及び充填材2)を含有させることにより、反射特性、寸法安定性、剛性のバランスの取れた両面基板を提供することが可能である。
<LED mounting board>
The substrate for mounting LED according to the present invention is not particularly limited as long as it uses the metal laminate, and examples thereof include a double-sided substrate and a composite substrate with an aluminum plate. The conventional white substrate made of thermosetting resin contains glass cloth, so problems such as voids (bubbles) tend to remain in the manufacturing process, thinning is difficult, and even in ceramic substrates, Although it is difficult to reduce the thickness due to its hard and brittle nature, it is possible to reduce the thickness by using the white film of the present invention and a metal laminate comprising the same. Can be preferably used. In addition, by including various fillers (filler 1 and filler 2) having specific physical properties as fillers, it is possible to provide a double-sided substrate with a balance of reflection characteristics, dimensional stability, and rigidity. Is possible.

また、LEDの高輝度化に伴い、より放熱性が要求される場合には、アルミ板と複合化することにより放熱性を向上させることも可能である。アルミ板との複合基板の構成としては、アルミ板全面に本発明の白色フィルムからなる金属積層体を積層する場合や、本発明の白色フィルムからなる金属積層体にキャビティー(凹部)構造用の窓枠を抜き、積層する場合が挙げられる。使用するアルミについては、熱可塑性樹脂との密着性を考慮すると粗化されていることが望ましいが、キャビティー構造を考慮した場合には、LEDからの光を効率よく反射させるために鏡面アルミを用いることが好ましい。また放熱性を向上させる点においては、フィルムの厚みは薄い方が好ましい。   In addition, in the case where more heat dissipation is required with the increase in luminance of the LED, it is possible to improve the heat dissipation by combining with an aluminum plate. As a structure of the composite substrate with the aluminum plate, when the metal laminate made of the white film of the present invention is laminated on the entire surface of the aluminum plate, or for the cavity (concave) structure on the metal laminate made of the white film of the present invention. The case where a window frame is extracted and laminated | stacked is mentioned. The aluminum to be used is preferably roughened in consideration of adhesion to the thermoplastic resin, but when considering the cavity structure, mirror surface aluminum is used to efficiently reflect the light from the LED. It is preferable to use it. In terms of improving heat dissipation, it is preferable that the thickness of the film is thin.

本発明のLED搭載用基板の製造方法としては、特に制限されるものではなく、両面基板の場合には、例えば、図1に示す方法にしたがって製造することができる。図1に示すように、(a)まず、白色フィルム(100)と、金属層となる2枚の銅箔(10)とを用意し、(b)白色フィルム(100)の両面に銅箔(10)を真空プレスにより積層して金属積層体を製造し、(c)銅箔(10)をエッチング又は銅上にメッキして配線パターン(20)を形成してLED搭載用基板とする。この基板に、(d)LED(200)を実装させ、ボンディングワイヤ(30)により導体パターン(20)と接続させて使用する(LED搭載基板)。   The method for producing the LED mounting substrate of the present invention is not particularly limited, and in the case of a double-sided substrate, for example, it can be produced according to the method shown in FIG. As shown in FIG. 1, (a) First, a white film (100) and two copper foils (10) to be a metal layer are prepared, and (b) a copper foil (100) on both sides of the white film (100). 10) is laminated by a vacuum press to produce a metal laminate, and (c) a copper foil (10) is etched or plated on copper to form a wiring pattern (20) to form an LED mounting substrate. (D) The LED (200) is mounted on this substrate, and is used by being connected to the conductor pattern (20) by the bonding wire (30) (LED mounting substrate).

また、アルミ板(金属放熱部)との複合基板の場合には、例えば、図2及び3に示す方法にしたがって製造することができる。図2に示すように、(a)白色フィルム(100)の片面に銅箔(10)を積層して金属積層体を製造し、(b)銅箔(10)をエッチングして配線パターン(20)を形成し、(c)配線パターン(20)が形成された面とは反対面にアルミ板(300)を真空プレスにより積層してLED搭載用基板とする。この基板に、(d)LED(200)を実装させ、ボンディングワイヤ(30)により導体パターン(20)と接続させて使用する(LED搭載基板)。なお、前記アルミ板との積層方法については、真空プレス法に制限されず、例えば、上述した金属箔との積層方法と同様の方法を挙げることができる。   Moreover, in the case of a composite substrate with an aluminum plate (metal radiating part), it can be manufactured, for example, according to the method shown in FIGS. As shown in FIG. 2, (a) a copper foil (10) is laminated on one side of a white film (100) to produce a metal laminate, and (b) the copper foil (10) is etched to form a wiring pattern (20 And (c) an aluminum plate (300) is laminated on the surface opposite to the surface on which the wiring pattern (20) is formed by vacuum pressing to form an LED mounting substrate. (D) The LED (200) is mounted on this substrate, and is used by being connected to the conductor pattern (20) by the bonding wire (30) (LED mounting substrate). In addition, about the lamination | stacking method with the said aluminum plate, it is not restrict | limited to a vacuum press method, For example, the method similar to the lamination | stacking method with the metal foil mentioned above can be mentioned.

さらに、図3に示すように、(a)白色フィルム(100)の片面に銅箔(10)を積層して金属積層体を製造し、(b)銅箔(10)をエッチングして配線パターン(20)を形成し、さらに白色フィルム(100)をビク型を用いてキャビティー枠に打ち抜き(40)、(c)配線パターン(20)が形成された面とは反対面にアルミ板(300)を真空プレスにより積層してLED搭載用基板とする。この基板に、(d)LED(200)を実装させ、ボンディングワイヤ(30)により導体パターン(20)と接続させて使用する(LED搭載基板)。なお、キャビティー枠に打ち抜く方法としては、上記ビク型を用いる方法に制限されるものではなく、例えば、レーザーを用いて形成することもできる。
[実施例]
Furthermore, as shown in FIG. 3, (a) a copper laminate (10) is laminated on one side of the white film (100) to produce a metal laminate, and (b) the copper foil (10) is etched to form a wiring pattern. (20) is formed, and the white film (100) is punched into the cavity frame using a big die (40). (C) The aluminum plate (300) is formed on the surface opposite to the surface on which the wiring pattern (20) is formed. ) Are laminated by a vacuum press to obtain an LED mounting substrate. (D) The LED (200) is mounted on this substrate, and is used by being connected to the conductor pattern (20) by the bonding wire (30) (LED mounting substrate). Note that the method of punching into the cavity frame is not limited to the method using the Bic die, and for example, it can be formed using a laser.
[Example]

以下、実施例及び比較例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate in more detail, this invention is not limited to these.

なお、本明細書中に示されるフィルム等についての種々の測定値及び評価は以下のようにして求めた。   In addition, the various measured values and evaluation about the film etc. which are shown in this specification were calculated | required as follows.

[平均反射率]
分光光度計(「U−4000」、株式会社日立製作所製)に積分球を取りつけ、アルミナ白板の反射率が100%としたときの反射率を、波長400nm〜800nmにわたって、0.5nm間隔で測定した。得られた測定値の平均値を計算し、この値を平均反射率とした。また、波長460nm、470nm、480nmでの反射率も表1に示した。
[Average reflectance]
An integrating sphere is attached to a spectrophotometer ("U-4000", manufactured by Hitachi, Ltd.), and the reflectance when the reflectance of the alumina white plate is 100% is measured at intervals of 0.5 nm over a wavelength range of 400 nm to 800 nm. did. The average value of the measured values obtained was calculated, and this value was taken as the average reflectance. Table 1 also shows the reflectance at wavelengths of 460 nm, 470 nm, and 480 nm.

[加熱処理後の反射率]
得られた白色フィルムを熱風循環式オーブンに、200℃で4時間加熱処理し、加熱処理後の反射率を上記の方法と同様に測定して、460nm、470nm、480nmにおける反射率を読みとった。結果を表1に示した。
[Reflectance after heat treatment]
The obtained white film was heat-treated in a hot air circulation oven at 200 ° C. for 4 hours, and the reflectance after the heat treatment was measured in the same manner as described above, and the reflectance at 460 nm, 470 nm, and 480 nm was read. The results are shown in Table 1.

[線膨張係数測定]
セイコーインスツルメンツ(株)製の熱応力歪み測定装置TMA/SS6100を用いて、フィルムから切り出した短冊状の試験片(長さ10mm)を引張荷重0.1gで固定し、30℃から5℃/分の割合で220℃まで昇温させ、MD(α1(MD))とTD(α1(TD))の熱膨張量の30℃〜140℃の温度依存性を求めた。
[Measurement of linear expansion coefficient]
Using a thermal stress strain measuring device TMA / SS6100 manufactured by Seiko Instruments Inc., a strip-shaped test piece (length: 10 mm) cut out from the film is fixed with a tensile load of 0.1 g, and from 30 ° C. to 5 ° C./min. The temperature was increased to 220 ° C. at a rate of 30 ° C. to 140 ° C. of the thermal expansion amounts of MD (α1 (MD)) and TD (α1 (TD)).

[平均粒径]
(株)島津製作所製の型式「SS−100」の粉体比表面測定器(透過法)を用い、断面積2cm、高さ1cmの試料筒に試料3gを充填して、500mm水柱で20ccの空気透過時間を計測し、これより酸化チタンの平均粒径を算出した。
[Average particle size]
Using a powder specific surface measuring instrument (transmission method) of model “SS-100” manufactured by Shimadzu Corporation, a sample tube having a cross-sectional area of 2 cm 2 and a height of 1 cm was filled with 3 g of sample, and 20 cc with a 500 mm water column. The air permeation time was measured, and the average particle size of titanium oxide was calculated from this.

非晶性ポリエーテルイミド樹脂(Ultem UF5011S)からなる樹脂組成物100質量部に対して、塩素法で製造された酸化チタン(平均粒径0.23μm、アルミナ処理、シランカップリング剤処理)を30質量部、平均粒径5μm、平均アスペクト比50の合成マイカを21質量部混合して得られた組成物を溶融混練し、Tダイを備えた押出機を用いて設定温度380℃で、厚さ100μmのフィルムを作製した。その評価結果を表1に示す。   30 parts of titanium oxide (average particle size 0.23 μm, alumina treatment, silane coupling agent treatment) produced by the chlorine method is applied to 100 parts by mass of a resin composition made of an amorphous polyetherimide resin (Ultem UF5011S). A composition obtained by mixing 21 parts by mass of synthetic mica having a mass part, an average particle diameter of 5 μm, and an average aspect ratio of 50 was melt-kneaded, and the thickness was set at 380 ° C. using an extruder equipped with a T die. A 100 μm film was prepared. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例1において、酸化チタンを67質量部に変更した以外は実施例1と同様にして、厚さ100μmのフィルムを作製した。その評価結果を表1に示す。   A film having a thickness of 100 μm was produced in the same manner as in Example 1 except that titanium oxide was changed to 67 parts by mass in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例1と同様の組成物を溶融混練し、押し出すと同時に、片側から銅箔(12μ)をラミネーションして、片面銅箔12μm、樹脂厚さ100μmの片面銅箔フィルムを作製した。その評価結果を表1に示す。測定は片面銅箔を全面エッチングし、その後実施例1と同様に測定した。なお反射率はエッチング面を測定した。   A composition similar to that of Example 1 was melt-kneaded and extruded, and at the same time, a copper foil (12 μm) was laminated from one side to prepare a single-sided copper foil film having a single-sided copper foil of 12 μm and a resin thickness of 100 μm. The evaluation results are shown in Table 1. The measurement was performed in the same manner as in Example 1 after etching the entire surface of the single-sided copper foil. The reflectance was measured on the etched surface.

実施例1と同様に100μmのフィルムを作製し、その後、真空プレス器にて、250℃ピーク温度、保持時間30分、5MPaの条件下で、フィルムの両面に銅箔12μmを積層し、樹脂厚さ100μmの両面銅箔フィルムを作製した。その評価結果を表1に示す。測定は、両面銅箔を全面エッチングし、その後実施例1と同様に測定した。   A film having a thickness of 100 μm was prepared in the same manner as in Example 1. Thereafter, 12 μm of copper foil was laminated on both sides of the film under a condition of 250 ° C. peak temperature, holding time 30 minutes, 5 MPa in a vacuum press, and the resin thickness A double-sided copper foil film having a thickness of 100 μm was prepared. The evaluation results are shown in Table 1. The measurement was performed in the same manner as in Example 1 after etching the entire surface of the double-sided copper foil.

実施例3で製造された金属積層体(片面銅張フィルム)をエッチング後、キャビティー枠に打ち抜いてキャビティー用穴を形成し、鏡面アルミと250℃5MPa30分で真空プレスにて積層して、LED搭載用基板を製造した。   After etching the metal laminate (single-sided copper-clad film) produced in Example 3, it is punched into a cavity frame to form a cavity hole, and laminated with mirror surface aluminum at 250 ° C. and 5 MPa for 30 minutes by vacuum press, An LED mounting substrate was manufactured.

実施例1において、非晶性ポリエーテルイミド樹脂(Ultem 1000)を変更した以外は実施例1と同様にして厚さ100μmのフィルムを作製した。その評価結果を表1に示す。   A film having a thickness of 100 μm was produced in the same manner as in Example 1 except that the amorphous polyetherimide resin (Ultem 1000) was changed in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例2において、非晶性ポリエーテルイミド樹脂(Ultem 1000)を変更した以外は実施例1と同様にして厚さ100μmのフィルムを作製した。その評価結果を表1に示す。
[比較例1]
A film having a thickness of 100 μm was produced in the same manner as in Example 1 except that the amorphous polyetherimide resin (Ultem 1000) was changed in Example 2. The evaluation results are shown in Table 1.
[Comparative Example 1]

三菱瓦斯化学社製の両面銅張り積層板(CCL−HL820WDB、樹脂厚100μm)の両面の銅箔を全面エッチングし、その後実施例1と同様の方法で測定した。その評価結果を表1に示す。
[比較例2]
The copper foil on both sides of a double-sided copper-clad laminate (CCL-HL820WDB, resin thickness 100 μm) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. was etched on the entire surface, and then measured in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
[Comparative Example 2]

利昌工業社製の両面銅張り積層板(CS−3965、樹脂厚100μm)の両面の銅箔を全面エッチングし、その後実施例1と同様の方法で測定した。その評価結果を表1に示す。

Figure 2010275333
The copper foil on both sides of a double-sided copper-clad laminate (CS-3965, resin thickness 100 μm) manufactured by Risho Kogyo Co., Ltd. was etched on the entire surface, and then measured in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
Figure 2010275333

表1の結果より、実施例1〜7においては、反射率及び加熱処理後の反射率に優れることが確認された。さらに実施例1、3及び4では、線膨張係数が低く寸法安定性にも優れることが確認された。
加えて、非晶性ポリエーテルイミド樹脂として、上記構造式(1)で表される樹脂を用いた場合には、上記構造式(2)で表される樹脂を用いた場合に比べて、反射率が優れることが確認された。特に実施例1及び2と、実施例6及び7との比較から分かるように、上記構造式(1)で表される樹脂を用いた場合においては、青色LEDの平均波長である470nm付近での反射率が高いことが確認された。
一方、比較例1〜2においては、初期反射率は高いものの、加熱処理後の反射率の低下が大きいことが確認された。
From the result of Table 1, in Examples 1-7, it was confirmed that it is excellent in the reflectance and the reflectance after heat processing. Furthermore, in Examples 1, 3 and 4, it was confirmed that the linear expansion coefficient was low and the dimensional stability was excellent.
In addition, when the resin represented by the structural formula (1) is used as the amorphous polyetherimide resin, it is more reflective than when the resin represented by the structural formula (2) is used. The rate was confirmed to be excellent. In particular, as can be seen from the comparison between Examples 1 and 2 and Examples 6 and 7, when the resin represented by the structural formula (1) is used, the average wavelength of blue LEDs is around 470 nm. It was confirmed that the reflectance was high.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, although the initial reflectance was high, it was confirmed that the decrease in reflectance after the heat treatment was large.

10 銅箔
20 導体パターン
30 ボンディングワイヤ
100 白色フィルム
200 LED
300 アルミ板
10 Copper foil 20 Conductor pattern 30 Bonding wire 100 White film 200 LED
300 Aluminum plate

Claims (8)

非晶性ポリエーテルイミド樹脂を含有してなる樹脂組成物100質量部に対し、無機充填材25〜100質量部を含有する組成物からなり、
波長400〜800nmにおける平均反射率が70%以上であり、かつ200℃で4時間熱処理した後の波長470nmにおける反射率の低下率が10%以下であることを特徴とする白色フィルム。
It consists of a composition containing 25 to 100 parts by mass of an inorganic filler with respect to 100 parts by mass of a resin composition containing an amorphous polyetherimide resin,
A white film having an average reflectance at a wavelength of 400 to 800 nm of 70% or more and a reduction rate of the reflectance at a wavelength of 470 nm after heat treatment at 200 ° C. for 4 hours is 10% or less.
非晶性ポリエーテルイミド樹脂が、下記構造式(1)及び/又は(2)の繰返し単位を有する樹脂である、請求項1記載の白色フィルム。
Figure 2010275333
Figure 2010275333
The white film of Claim 1 whose amorphous polyetherimide resin is resin which has a repeating unit of following Structural formula (1) and / or (2).
Figure 2010275333
Figure 2010275333
無機充填材が、平均粒径15μm以下、かつ平均アスペクト比30以上の充填材を少なくとも含有する、請求項1又は2記載の白色フィルム。   The white film according to claim 1 or 2, wherein the inorganic filler contains at least a filler having an average particle size of 15 µm or less and an average aspect ratio of 30 or more. 無機充填材が、少なくとも酸化チタンを含有する、請求項1〜3のいずれか記載の白色フィルム。   The white film according to claim 1, wherein the inorganic filler contains at least titanium oxide. MD及びTDの線膨張係数の平均値が、35×10−6/℃以下である、請求項1〜5のいずれか記載の白色フィルム。 The white film in any one of Claims 1-5 whose average value of the linear expansion coefficient of MD and TD is 35 * 10 < -6 > / degrees C or less. フィルムの厚みが、3〜500μmである、請求項1〜4のいずれか記載の白色フィルム。   The white film in any one of Claims 1-4 whose thickness of a film is 3-500 micrometers. 請求項1〜6のいずれか記載の白色フィルムの少なくとも片面に、金属層を積層してなる金属積層体。   The metal laminated body formed by laminating | stacking a metal layer on the at least single side | surface of the white film in any one of Claims 1-6. 請求項7記載の金属積層体を用いてなるLED搭載用基板。   The board | substrate for LED mounting formed using the metal laminated body of Claim 7.
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