JP2018147969A - Flexible substrate, and led edge light using the same - Google Patents

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直信 喜
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flexible substrate which has a satisfactory light reflecting performance, and which is particularly suitable for a folding/bending process in fabrication of an edge light.SOLUTION: A flexible substrate 1 comprises: a flexible resin substrate 13; a metal wiring part 12 laminated on the resin substrate 13; and an insulative protection film 11 formed in a region on the resin substrate 13 and the metal wiring part 12, excluding a partial region for mounting a light-emitting element. The insulative protection film 11 is formed from a resin composition comprising a silicone resin having an acyclic dimethylsiloxy repeating unit as a primary component, and an inorganic filler containing a titanium oxide. The insulative protection film has a thickness of 15 μm or more and 30 μm or less. The flexible substrate is 10B or more and B or less in pencil hardness according to a pencil hardness test compliant with JIS-K5600-5-4.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、フレキシブル基板、及び、それを用いたLEDエッジライトに関する。尚、本明細書における「LEDエッジライト」とは、発光ダイオード(LED)素子を光源とするエッジライト式のバックライト全般のことを言う。   The present invention relates to a flexible substrate and an LED edge light using the same. The “LED edge light” in this specification refers to all edge light type backlights that use light emitting diode (LED) elements as light sources.

近年、ブラウン管型のモニターに代わって、低消費電力化、機器の大型化と薄型化の要請に応え得るものとして、LED素子をバックライトの光源として用いた液晶テレビ等の各種のLED表示装置の普及が急速に進展している。   In recent years, instead of cathode-ray tube type monitors, various LED display devices such as liquid crystal televisions using LED elements as backlight light sources can be used to meet demands for lower power consumption, larger equipment, and thinner devices. Dissemination is progressing rapidly.

例えば、LED素子を光源とする液晶テレビにおいては、液晶パネル側面や、液晶パネルの裏面にセットされた導光板を側面、即ち、エッジ部から照らす光源として、LED素子を基板上に直線状に実装したLEDエッジライト(特許文献1及び2参照)が用いられている。   For example, in a liquid crystal television using an LED element as a light source, the LED element is linearly mounted on the substrate as a light source that illuminates the side surface of the liquid crystal panel or the back surface of the liquid crystal panel, that is, the edge. LED edge lights (see Patent Documents 1 and 2) are used.

このようなエッジライト方式の液晶テレビにおいて、LEDエッジライトは、図1に示すLEDエッジライト100の形態、即ち、LED素子2を実装したフレキシブル基板1を、パネル状又は略直方体形状のブロック体である熱伝導基材3に固定した形態で用いられることが一般的である。この場合、フレキシブル基板1は熱伝導基材3の各角部に隙間無く追従できるように任意の角度に折曲げられて用いられる。   In such an edge light type liquid crystal television, the LED edge light is an LED edge light 100 shown in FIG. 1, that is, a flexible substrate 1 on which the LED element 2 is mounted in a block shape having a panel shape or a substantially rectangular parallelepiped shape. In general, it is used in a form fixed to a certain heat conductive substrate 3. In this case, the flexible substrate 1 is used by being bent at an arbitrary angle so that it can follow each corner of the heat conducting substrate 3 without any gap.

ここで、上記のフレキシブル基板においては、通常、耐マイグレーション特性を向上させることを主たる目的として、金属配線部上に絶縁性保護膜が形成されている(特許文献3参照)。   Here, in the above flexible substrate, an insulating protective film is usually formed on the metal wiring part mainly for the purpose of improving the migration resistance (see Patent Document 3).

そして、このフレキシブル基板を用いたLEDエッジライトにおいては、これを用いた表示装置の表示品位を向上させるために、光源であるLEDエッジライトの輝度を向上させることが強く要求される。そこで、LED素子の周囲に配置される上記の絶縁性保護膜を、無機フィラー粉末の添加等により白色の光線反射膜としての機能をも発揮させるようにすることが行われている。例えば、絶縁性保護膜を、絶縁性や耐熱性に優れるシリコーン系の樹脂に白色の無機フィラーを含有させた組成物によって形成することにより、優れた光反射性能をも備える絶縁性保護膜を備えるフレキシブル基板が提案されている(特許文献4参照)。   And in LED edge light using this flexible substrate, in order to improve the display quality of the display apparatus using the same, it is strongly required to improve the luminance of the LED edge light which is a light source. Therefore, the insulating protective film arranged around the LED element is also made to exhibit a function as a white light reflecting film by adding an inorganic filler powder or the like. For example, by forming an insulating protective film with a composition containing a white inorganic filler in a silicone-based resin having excellent insulating properties and heat resistance, an insulating protective film having excellent light reflection performance is provided. A flexible substrate has been proposed (see Patent Document 4).

しかしながら、直角若しくはそれに近い角部に沿って折曲げられて用いるフレキシブル基板においては、白色の絶縁性保護膜に、折曲げに起因する亀裂が生じる場合が散見されることが問題となっていた。   However, in a flexible substrate that is bent along a right angle or a corner portion close to it, there is a problem in that cracks caused by the bending are occasionally found in the white insulating protective film.

例えば、フレキシブル基板の折曲げ加工性を改善することを企図した従来技術の一例として、フレキシブル基板を構成する金属箔と樹脂基板、及びこれらの間に介在する接着剤層の弾性率の関係を規定することで、折曲げ加工性を向上させた金属箔複合体が開示されている(特許文献5)。しかし、ここでの「折曲げ加工性」とは、繰り返される屈曲に対する基板全体の耐久性に視点が置かれたものであり、複数回の折曲げに対して、樹脂基板に接着剤を介して積層されている金属箔に亀裂が発生しないことが評価基準とされている。上記のような絶縁性保護膜の亀裂を回避する手段については、何らの解決策も示されていない。   For example, as an example of the prior art intended to improve the bending workability of a flexible substrate, the relationship between the elastic modulus of the metal foil and the resin substrate constituting the flexible substrate and the adhesive layer interposed therebetween is specified. Thus, a metal foil composite with improved bending workability is disclosed (Patent Document 5). However, “folding workability” here refers to the durability of the entire substrate against repeated bending, and with respect to multiple bendings, an adhesive is applied to the resin substrate. The evaluation criterion is that no cracks occur in the laminated metal foil. As for the means for avoiding the crack of the insulating protective film as described above, no solution is shown.

折曲げて使うことが想定されるフレキシブル基板における、折曲げに起因する絶縁性保護膜の亀裂を防止する手段として、絶縁性保護膜の折曲げ部分のみを他の部分よりも軟らかい材料としたもの(特許文献6)が提案されている。しかしながら、この基板は、折曲げ箇所が予め特定されているためフレキシブル基板本来のメリットである使用時における設置態様の自由度は失われており、又、絶縁性保護膜の材料の種類と、絶縁性保護膜形成工程数の増加によって、生産性が低下してしまう点において好ましくないものであった。   As a means to prevent cracking of the insulating protective film caused by bending in a flexible substrate that is assumed to be used, only the bent part of the insulating protective film is made of a material softer than the other parts. (Patent Document 6) has been proposed. However, this board has lost the flexibility of the installation mode at the time of use, which is a merit of the flexible board, because the bent part is specified in advance, and the type of insulating protective film material and insulation This is undesirable in that the productivity decreases due to an increase in the number of steps for forming the protective protective film.

上記のようなフレキシブル基板における絶縁性保護膜の亀裂防止の他の手段として、絶縁性保護膜を、硬度の異なる複数の層からなる構成としたフレキシブル基板も提案されている(特許文献7)。このフレキシブル基板は、相対的に軟らかい材料からなる保護層が最内層に形成される一方で、相対的に硬い材料からなる保護層が絶縁性保護膜の最外層に形成されている。しかしながら、このフレキシブル基板は、エッジライト光源とする場合に想定される、熱伝導基材等の角部に完全に隙間無く追従させるための「角付け」を伴う厳しい加工条件での折曲げは想定されておらず、最低限の屈曲性を担保した上で保護膜表面の硬度を硬くすることによって当該表面の耐擦傷性の向上に主眼が置かれた構成となっている。又、特許文献6のフレキシブル基板同様保護膜材料の種類と保護膜形成工程数の増加によって生産性が低下してしまう点においても好ましくないものであった。   As another means for preventing cracking of the insulating protective film in the flexible substrate as described above, there has also been proposed a flexible substrate in which the insulating protective film is composed of a plurality of layers having different hardnesses (Patent Document 7). In this flexible substrate, a protective layer made of a relatively soft material is formed in the innermost layer, while a protective layer made of a relatively hard material is formed in the outermost layer of the insulating protective film. However, this flexible substrate is assumed to be bent under severe processing conditions with “squaring” to follow the corners of heat-conductive substrates and the like completely without any gap, which is assumed when using an edge light source. However, the main focus is on improving the scratch resistance of the surface by increasing the hardness of the surface of the protective film while ensuring the minimum flexibility. Further, like the flexible substrate of Patent Document 6, it is not preferable in that the productivity is lowered due to an increase in the type of protective film material and the number of protective film forming steps.

国際公開第2006/027883号International Publication No. 2006/027883 特開2013−84342号公報JP 2013-84342 A 特開2016−15383号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-15383 特開2016−65230号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-65230 国際公開第2012/132814号International Publication No. 2012/132814 実開平5−38806号公報Japanese Utility Model Publication No. 5-38806 特開2011−249376号公報JP 2011-249376 A

本発明は、以上のような状況に鑑みてなされたものである。即ち、絶縁性と耐熱性に優れるシリコーン系の樹脂を用い、これに光反射性能をも付与した絶縁性保護膜を備えたLEDエッジライト用のフレキシブル基板であって、特にエッジライト作成時の折曲げ加工に適したLEDエッジライト用のフレキシブル基板を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above situation. In other words, it is a flexible substrate for LED edge lights that uses a silicone-based resin having excellent insulating properties and heat resistance, and has an insulating protective film imparted with light reflection performance. It aims at providing the flexible substrate for LED edge light suitable for a bending process.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、フレキシブル基板を構成する絶縁性保護膜を、非環状のジメチルシロキシ繰返単位を主成分とするシリコーン樹脂に、酸化チタンを含む無機フィラーが含有されている樹脂組成物からなるものとし、これを所定の厚さ範囲に成形し、この際に、当該絶縁性保護膜のJIS−K5600−5−4による鉛筆硬度が10B以上B以下となるように硬度を最適化することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的に本発明は以下のものを提供する。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have changed the insulating protective film constituting the flexible substrate into a silicone resin mainly composed of an acyclic dimethylsiloxy repeating unit and titanium oxide. The resin composition containing the inorganic filler to be contained is molded into a predetermined thickness range. At this time, the pencil hardness of the insulating protective film according to JIS-K5600-5-4 is 10B or more. The inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by optimizing the hardness so as to be B or less, and the present invention has been completed. Specifically, the present invention provides the following.

(1) 可撓性を有する樹脂基板と、前記樹脂基板上に積層されている金属配線部と、前記樹脂基板上及び前記金属配線部上における発光素子実装用の一部領域を除いた部分に形成されている絶縁性保護膜と、を備え、前記絶縁性保護膜は、非環状のジメチルシロキシ繰返単位を主成分とするシリコーン樹脂と、酸化チタンを含む無機フィラーと、を含有する樹脂組成物からなり、厚さが15μm以上30μm以下であって、JIS−K5600−5−4による鉛筆硬度が10B以上B以下である、フレキシブル基板。   (1) In a portion excluding a resin substrate having flexibility, a metal wiring portion laminated on the resin substrate, and a partial region for mounting a light emitting element on the resin substrate and the metal wiring portion. A resin composition comprising: a silicone resin mainly composed of acyclic dimethylsiloxy repeating units; and an inorganic filler containing titanium oxide. A flexible substrate made of a material, having a thickness of 15 μm or more and 30 μm or less, and a pencil hardness according to JIS-K5600-5-4 of 10 B or more and B or less.

(1)の発明によれば、フレキシブル基板1の絶縁性保護膜11を、耐熱性や絶縁性に優れるシリコーン系樹脂で形成し、更には、当該絶縁性保護膜11に、光線反射膜としての機能をも発揮させるものとしようとする場合において、絶縁性保護膜11の硬度、具体的にはJIS−K5600−5−4に準拠する鉛筆硬度試験による鉛筆硬度を、10B以上B以下の範囲となるように最適化した。これによれば、耐熱性と絶縁性に優れ、好ましい光反射性能をも備える絶縁性保護膜11に、更にLEDエッジライトへの使用に好適な優れた屈曲性を備えさせることができる。このようなフレキシブル基板1は、これを用いるLEDエッジライト100の生産性を向上させ、又、絶縁性保護膜11の亀裂を防止して、LEDエッジライト100の品質安定性と耐久性の向上に寄与することができる。   According to the invention of (1), the insulating protective film 11 of the flexible substrate 1 is formed of a silicone-based resin having excellent heat resistance and insulating properties, and further, the insulating protective film 11 is used as a light reflecting film. In the case where the function is to be exhibited, the hardness of the insulating protective film 11, specifically, the pencil hardness by a pencil hardness test in accordance with JIS-K5600-5-4 is in the range of 10B or more and B or less. Optimized to be. According to this, the insulating protective film 11 which is excellent in heat resistance and insulation and also has preferable light reflection performance can be further provided with excellent flexibility suitable for use in LED edge lights. Such a flexible substrate 1 improves the productivity of the LED edge light 100 using the flexible substrate 1 and also prevents the insulating protective film 11 from cracking, thereby improving the quality stability and durability of the LED edge light 100. Can contribute.

(2) 前記鉛筆硬度が10B以上6B以下である、(1)に記載のフレキシブル基板。   (2) The flexible substrate according to (1), wherein the pencil hardness is 10B or more and 6B or less.

(2)の発明によれば、絶縁性保護膜の鉛筆硬度を、更に柔らかい範囲に限定した。これにより、(1)の発明の効果をより確実に安定的に発現させることができる。   According to the invention of (2), the pencil hardness of the insulating protective film is further limited to a softer range. Thereby, the effect of invention of (1) can be expressed more reliably and stably.

(3) 前記シリコーン樹脂における、前記ジメチルシロキシ繰返単位の重合度が800以上1200以下である、(1)又は(2)に記載のフレキシブル基板。   (3) The flexible substrate according to (1) or (2), wherein the degree of polymerization of the dimethylsiloxy repeating unit in the silicone resin is 800 or more and 1200 or less.

(3)の発明によれば、絶縁性保護膜を構成するシリコーン樹脂の重合度を特定範囲のものに限定した。これにより、(1)又は(2)の発明の効果をより確実に安定的に発現させることができる。尚、上記の各重合度は、フレキシブル基板の絶縁性保護膜を、FT−IR分析して重合前後の特定波長のピーク値を分析することで、確認することができる。   According to the invention of (3), the polymerization degree of the silicone resin constituting the insulating protective film is limited to a specific range. Thereby, the effect of invention of (1) or (2) can be expressed more reliably and stably. In addition, said each polymerization degree can be confirmed by analyzing the peak value of the specific wavelength before and behind superposition | polymerization by FT-IR-analyzing the insulating protective film of a flexible substrate.

(4) 前記金属配線部が積層されている面とは反対側の外表面に粘着層が形成されていて、該粘着層を含む総厚さが200μm以下である(1)から(3)のいずれかに記載のフレキシブル基板。   (4) The adhesive layer is formed on the outer surface opposite to the surface on which the metal wiring portion is laminated, and the total thickness including the adhesive layer is 200 μm or less (1) to (3) The flexible substrate in any one.

(4)の発明においては、(1)から(3)のフレキシブル基板によってLEDエッジライトを構成する際に、フレキシブル基板を熱伝導基材に隙間無く密着させるために配置される粘着層の厚さを含めたフレキシブル基板の総厚さを特定の範囲に最適化した。これによれば、(1)から(3)のフレキシブル基板の折曲げ加工適性が更に向上する。   In the invention of (4), when the LED edge light is constituted by the flexible substrate of (1) to (3), the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer arranged for closely attaching the flexible substrate to the heat conductive substrate. The total thickness of the flexible substrate, including, was optimized to a specific range. According to this, the suitability for bending of the flexible substrate of (1) to (3) is further improved.

(5) 前記樹脂基板がポリエチレンナフタレートである(1)から(4)のいずれかに記載のフレキシブル基板。   (5) The flexible substrate according to any one of (1) to (4), wherein the resin substrate is polyethylene naphthalate.

(5)の発明においては樹脂基板としてPENを用いるものとした。アニール処理により熱収縮開始温度を100℃以上に向上させることにより、PENが使用可能となる。従来広く用いられてきたPIは、耐熱性や機械強度には優れるものの、透明性に劣り極めて高価であった。PENは、十分な耐熱性を有し、又、透明性においては、PIよりも優位である。更には、経済性の面で、PIよりも遙かに安価である。よって、(5)の発明によれば、従来品よりも遙かに低コストでありながら、十分に良質なフレキシブル基板を提供することができる。   In the invention of (5), PEN is used as the resin substrate. PEN can be used by increasing the thermal shrinkage starting temperature to 100 ° C. or higher by annealing. Conventionally widely used PI is excellent in heat resistance and mechanical strength, but is inferior in transparency and extremely expensive. PEN has sufficient heat resistance and is superior to PI in transparency. Furthermore, it is much cheaper than PI in terms of economy. Therefore, according to the invention of (5), it is possible to provide a sufficiently high-quality flexible substrate while being much cheaper than the conventional product.

(6) (1)から(5)のいずれかに記載のフレキシブル基板にLED素子が実装されてなるLED実装モジュールが、熱伝導基材に積層されてなるLEDエッジライトであって、前記フレキシブル基板は、一又は複数の折曲げ線に沿って折曲げられることにより、前記熱伝導基材における前記LED素子の配置面と、該配置面に連接する他の面に連続的に密着しているLEDエッジライト。   (6) An LED edge light in which an LED mounting module in which an LED element is mounted on the flexible substrate according to any one of (1) to (5) is laminated on a heat conductive base material, and the flexible substrate Is a LED that is continuously adhered to the arrangement surface of the LED element on the heat conducting substrate and the other surface connected to the arrangement surface by being bent along one or a plurality of bending lines. Edge light.

(6)の発明によれば、(1)から(5)のいずれかに記載のフレキシブル基板1にLED素子2が実装されてなるLED実装モジュール10を用いることにより、これらのフレキシブル基板の備える上記各効果を享受して、製造時における生産性と、完成後における品質の安定性や耐久性に優れたLEDエッジライトを得ることができる。   According to the invention of (6), by using the LED mounting module 10 in which the LED element 2 is mounted on the flexible board 1 according to any one of (1) to (5), the above-mentioned flexible board is provided. By enjoying each effect, it is possible to obtain an LED edge light that is excellent in productivity at the time of manufacture and in stability and durability of quality after completion.

(7) 前記熱伝導基材は、小口面の高さ方向の幅が、1mm以上2mm以下のパネル状又は直方体状のブロック体であって、前記LED素子が、平面視において、前記小口面の幅方向の一側辺上から0mm以上1mm以内の等距離にある直線上に、前記LED素子の前記一側辺側の外縁が並ぶように、配置されている(6)に記載のLEDエッジライト。   (7) The heat conducting substrate is a panel-shaped or rectangular parallelepiped block body having a width in the height direction of the small edge surface of 1 mm or more and 2 mm or less, and the LED element has a shape of the small edge surface in a plan view. The LED edge light according to (6), wherein the LED elements are arranged such that outer edges on the one side side of the LED elements are arranged on a straight line that is equidistant from 0 mm to 1 mm from one side side in the width direction. .

(7)の発明においては、(1)から(5)に記載のフレキシブル基板の優れた折曲げ加工適性により、パネル状の熱伝導基材の小口面の側端部又はそれに極めて近接する位置にLED素子を一直線上に精度よく実装することができる。これによれば、LEDエッジライトを表示装置に配置した際における導光板とLED素子の実装位置の配置精度が向上する。又、フレキシブル基板と熱伝導基材との間に隙間が生じることによる放熱性の低下も防ぐことができる。   In the invention of (7), due to the excellent bendability of the flexible substrate described in (1) to (5), it is located at the side edge of the small edge surface of the panel-like heat conductive substrate or at a position very close to it. LED elements can be mounted on a straight line with high accuracy. According to this, the arrangement accuracy of the mounting position of the light guide plate and the LED element when the LED edge light is arranged in the display device is improved. Further, it is possible to prevent a decrease in heat dissipation due to a gap between the flexible substrate and the heat conductive base material.

(8) (6)又は(7)に記載のLEDエッジライトが、導光板の側面の入光面に前記LED素子の発光面を正対させて配置されているLED表示装置。   (8) An LED display device in which the LED edge light according to (6) or (7) is disposed with the light emitting surface of the LED element facing the light incident surface of the side surface of the light guide plate.

(8)の発明によれば、LED素子の配置位置と発光方向を極めて高い精度で正確に実装することができるLEDエッジライトを用いることにより、エッジライト方式のLED表示装置の品質の安定性を向上させることができる。   According to the invention of (8), the stability of the quality of the edge light type LED display device can be achieved by using the LED edge light that can accurately mount the arrangement position and the light emitting direction of the LED element with extremely high accuracy. Can be improved.

本発明によれば、絶縁性と耐熱性に優れるシリコーン系の樹脂を用い、これに光反射性能をも付与した絶縁性保護膜を備えたLEDエッジライト用のフレキシブル基板であって、エッジライト作成時の折曲げ加工が容易で、尚且つ、折り曲げ後における絶縁性保護膜の耐久性にも優れるLEDエッジライト用のフレキシブル基板を提供することを目的とすることができる。   According to the present invention, there is provided a flexible substrate for an LED edge light using an insulating protective film provided with a light-reflecting performance using a silicone-based resin having excellent insulating properties and heat resistance, and producing an edge light. It is an object of the present invention to provide a flexible substrate for LED edge light that is easy to bend at the time and is excellent in durability of the insulating protective film after bending.

本発明のフレキシブル基板を用いたLEDエッジライトの斜視図である。It is a perspective view of the LED edge light using the flexible substrate of this invention. 本発明のフレキシブル基板を用いたLEDエッジライトの層構成を模式的に示す側面図である。It is a side view which shows typically the layer structure of the LED edge light using the flexible substrate of this invention. 本発明のフレキシブル基板の層構成を模式的に示す側面図である。It is a side view which shows typically the layer structure of the flexible substrate of this invention. LED素子の実装部の周辺部分におけるフレキシブル基板の層構造及び熱伝導基材への追従態様を模式的に示す本発明のLEDエッジライトの部分拡大側面図である。It is a partial expanded side view of the LED edge light of this invention which shows typically the layer structure of the flexible substrate in the peripheral part of the mounting part of an LED element, and the tracking aspect to a heat conductive base material.

以下、本発明のフレキシブル基板、及びそれを用いたLEDエッジライト等の各実施形態について説明する。尚、LEDエッジライトについては、液晶テレビのバックライトとして、特に好ましく用いることができるものであるため、以下、本発明のLEDエッジライトについては、主にこれを液晶テレビのバックライトとして用いる場合の実施形態について説明する。但し、本発明の範囲は、以下の実施形態に限定されるものではない。例えば、本発明のLEDエッジライトのLED照明部材としての使用も、本発明の構成要件を充足するLEDエッジライトの使用である限り、当然に本発明の実施の範囲内である。   Hereinafter, each embodiment of the flexible substrate of the present invention and an LED edge light using the flexible substrate will be described. Since the LED edge light can be used particularly preferably as a backlight for a liquid crystal television, the LED edge light of the present invention will be mainly used in the case of using it as a backlight for a liquid crystal television below. Embodiments will be described. However, the scope of the present invention is not limited to the following embodiments. For example, the use of the LED edge light of the present invention as an LED illumination member is naturally within the scope of the present invention as long as the LED edge light satisfies the constituent requirements of the present invention.

<フレキシブル基板>
図1〜4に示す本発明のフレキシブル基板1は、特に絶縁性保護膜の材料、厚さ、及び硬度を、独自の範囲に最適化することによって、図1、図2に示すように、エッジライト方式のLEDバックライト(LEDエッジライト)100を構成する際の加工性、特には、「角折り加工適性」を向上させ、且つ、角折り時又は角折り後における絶縁性保護膜の亀裂の発生を防止しうるものである。フレキシブル基板1は、LEDエッジライトを構成する基板として極めて好適な配線回路基板である。これにLED素子を実装してなるLED実装モジュール10をパネル状のブロック体である熱伝導基材3に積層してなるLEDエッジライト100は、大画面化と薄型化が併せて求められる液晶テレビのバックライトとして極めて好ましく用いることができる。
<Flexible substrate>
The flexible substrate 1 of the present invention shown in FIGS. 1 to 4 has an edge as shown in FIGS. 1 and 2 by optimizing the material, thickness, and hardness of the insulating protective film in a unique range. Workability when constructing a light-type LED backlight (LED edge light) 100, in particular, “corner foldability” is improved, and cracks in the insulating protective film during or after corner folding Generation can be prevented. The flexible substrate 1 is a printed circuit board that is extremely suitable as a substrate constituting an LED edge light. The LED edge light 100 formed by laminating the LED mounting module 10 on which the LED element is mounted on the heat conductive base material 3 that is a panel-like block body is a liquid crystal television that is required to have both a large screen and a reduced thickness. It can be used very preferably as a backlight.

フレキシブル基板1は、可撓性を有する樹脂基板13の表面に、金属配線部12が、接着剤層16を介して積層されている。又、樹脂基板13上、及び金属配線部12上には、絶縁性保護膜11が形成されている。又、絶縁性保護膜11上には、必要に応じて更に光線反射率の高い白色樹脂等からなる反射シートが配置される。   In the flexible substrate 1, the metal wiring part 12 is laminated on the surface of the resin substrate 13 having flexibility via an adhesive layer 16. An insulating protective film 11 is formed on the resin substrate 13 and the metal wiring portion 12. On the insulating protective film 11, a reflection sheet made of a white resin or the like having a higher light reflectance is disposed as necessary.

フレキシブル基板1は、樹脂基板13の一方の面に金属配線部12が、接着剤層16を介して積層されていて、金属配線部12の表面に、絶縁性保護膜11形成されている配線基板である。絶縁性保護膜11は、より詳しくは、金属配線部12の表面のうちLED素子2との接続部分となることが想定される部分を除く概ね全面、及び、樹脂基板13の表面のうち金属配線部12の非積層部分の概ね全面とを覆う態様で形成される。   The flexible substrate 1 is a wiring substrate in which a metal wiring portion 12 is laminated on one surface of a resin substrate 13 via an adhesive layer 16, and an insulating protective film 11 is formed on the surface of the metal wiring portion 12. It is. More specifically, the insulating protective film 11 is substantially the entire surface excluding the portion of the surface of the metal wiring portion 12 that is supposed to be a connection portion with the LED element 2 and the metal wiring of the surface of the resin substrate 13. It is formed so as to cover almost the entire surface of the non-laminated portion of the portion 12.

フレキシブル基板1は、絶縁性保護膜11の硬度を独自の範囲に最適化することにより、直角又はそれに近い角度を有する角部の形状に隙間無く追従させる態様で折曲げることができる「角折り加工適性」に優れるものとされている。よって、図1及び図2に示すように、複数の折曲げ線に沿って折曲げられることにより、直方体状又はパネル状のブロック体である熱伝導基材3の表面、小口面、裏面に連続して密着する態様で積層されてLEDエッジライト100を構成する配線基板として特に好ましく用いることができる。   The flexible substrate 1 can be bent in such a manner that the hardness of the insulating protective film 11 is optimized within a unique range so as to follow the shape of a corner portion having a right angle or an angle close thereto without a gap. It is said to be “excellent”. Therefore, as shown in FIG.1 and FIG.2, it continues to the surface of the heat conductive base material 3 which is a rectangular parallelepiped-shaped or panel-shaped block body, a fore-edge surface, and a back surface by being bent along several bending lines. Thus, it can be particularly preferably used as a wiring board constituting the LED edge light 100 by being stacked in close contact with each other.

樹脂基板13の他方の面、即ち、金属配線部12が積層されている面と反対側の面には、金属箔層14が、接着剤層16を介して積層されていることが好ましい。又、金属箔層14の表面には、粘着層15が、更に形成されていることが好ましい。本発明のフレキシブル基板1にいて、これらの金属箔層14と粘着層15とは、必ずしも必須の構成要件ではないが、特に金属箔層14については、これを備えることにより、「角折り加工適性」は更に向上するため、LEDエッジライト100を構成する配線基板として用いる場合には、これを備えるものとすることが好ましい。フレキシブル基板1を、金属箔層14を備える実施形態として説明する。尚、金属箔層14の配置は、LEDエッジライト100を用いてなるLED表示装置の放熱性も向上にも寄与しうる。   A metal foil layer 14 is preferably laminated via an adhesive layer 16 on the other surface of the resin substrate 13, that is, the surface opposite to the surface where the metal wiring portion 12 is laminated. Further, it is preferable that an adhesive layer 15 is further formed on the surface of the metal foil layer 14. In the flexible substrate 1 of the present invention, the metal foil layer 14 and the adhesive layer 15 are not necessarily essential constituent elements. In particular, the metal foil layer 14 is provided with a “corner folding suitability”. "Is further improved, it is preferable to include this when used as a wiring board constituting the LED edge light 100. The flexible substrate 1 will be described as an embodiment including the metal foil layer 14. In addition, arrangement | positioning of the metal foil layer 14 can also contribute to the heat dissipation of the LED display apparatus which uses the LED edge light 100.

フレキシブル基板1は、必要な箇所で角折りされて、図4に示すように熱伝導基材3の表面、小口面、裏面に連続的に密着する態様でされてLEDエッジライト100を構成する状態での総厚さ、即ち、絶縁性保護膜11の表面から金属箔層14の表面までの部分の総厚さが130μm以下であることが好ましい。絶縁性保護膜11の表面から金属箔層14の表面までの厚さが130μm以下であれば、LEDエッジライト用のフレキシブル基板1に、直角若しくはそれに近い角部に沿った角折りの容易性を付与することができる。   A state in which the flexible substrate 1 is folded at a necessary portion and is continuously in close contact with the front surface, the facet surface, and the back surface of the heat conductive base 3 to form the LED edge light 100 as shown in FIG. In other words, the total thickness of the portion from the surface of the insulating protective film 11 to the surface of the metal foil layer 14 is preferably 130 μm or less. If the thickness from the surface of the insulating protective film 11 to the surface of the metal foil layer 14 is 130 μm or less, the flexible substrate 1 for LED edge light can be easily folded at a right angle or along a corner portion close thereto. Can be granted.

又、フレキシブル基板1は、図4に示すように熱伝導基材3の表面、小口面、裏面に連続して密着する態様で積層されてLEDエッジライト100を構成する状態において、全層における下記定義による曲げ強度が、0.1以下であることが好ましい。金属箔層14を有することによって、角折り可能な性状を担保する一方で、全層の曲げ強度が0.1以下となるような層構成とすることにより、角付けを行う際の折曲げの容易性が担保される。尚、本明細書における「曲げ強度」とは、25℃の環境下で20mm×200mmの短冊フィルムを作製し、長辺の端から100mmを水平に固定し、残り100mmを自然に垂直方向に垂らしたときの垂れ長さの逆数で定義されるものとする。   In addition, the flexible substrate 1 is laminated in such a manner that the flexible substrate 1 is continuously adhered to the front surface, the facet surface, and the back surface of the heat conductive base material 3 as shown in FIG. The bending strength by definition is preferably 0.1 or less. By having the metal foil layer 14, while ensuring the properties that can be folded, the layer structure is such that the bending strength of all the layers is 0.1 or less, so that the bending of the corners when bending is performed. Ease is guaranteed. In this specification, “bending strength” means that a strip of 20 mm × 200 mm is produced in an environment of 25 ° C., 100 mm is fixed horizontally from the end of the long side, and the remaining 100 mm is naturally hung vertically. It shall be defined by the reciprocal of the drooping length.

フレキシブル基板1の平面サイズについては、特段制限はない。樹脂基板が可撓性を有することによる設計の自由度の高さを活かして、様々なサイズのLEDエッジライトを容易に形成することができる。例えば、画面サイズが55インチ程度の大画面の液晶テレビに用いられるLEDエッジライトであって、1220mm程度の幅の中にLED素子が大凡160個程度直線状に配置されるLEDエッジライトとして、極めて好ましく用いることができる。   There is no particular limitation on the planar size of the flexible substrate 1. Utilizing the high degree of freedom of design due to the flexibility of the resin substrate, LED edge lights of various sizes can be easily formed. For example, an LED edge light used for a large-screen liquid crystal television having a screen size of about 55 inches, and an LED edge light in which about 160 LED elements are linearly arranged in a width of about 1220 mm, It can be preferably used.

[樹脂基板]
樹脂基板13としては、熱収縮開始温度が100℃以上である熱可塑性樹脂を溶融成型した樹脂フィルム用いることができる。このような熱可塑性樹脂として、例えば、アニール処理等の耐熱性向上処理を施すことによって耐熱性と寸法安定性を向上させた各種のポリエステル系樹脂を好ましく用いることができる。具体的には、アニール処理によって必要十分な耐熱性と寸法安定性を付与したポリエチレンナフタレート(PEN)等である。又、難燃性の無機フィラー等の添加によって難燃性を向上させたPET等も基板フィルムの材料樹脂として選択することができる。
[Resin substrate]
As the resin substrate 13, a resin film obtained by melt-molding a thermoplastic resin having a thermal shrinkage start temperature of 100 ° C. or higher can be used. As such a thermoplastic resin, for example, various polyester resins whose heat resistance and dimensional stability are improved by performing heat resistance improvement treatment such as annealing treatment can be preferably used. Specifically, polyethylene naphthalate (PEN) or the like imparted with sufficient heat resistance and dimensional stability by annealing treatment. Further, PET or the like whose flame retardancy is improved by adding a flame retardant inorganic filler or the like can be selected as a material resin for the substrate film.

ここで、本明細書における「熱収縮開始温度」とは、TMA装置に測定対象の熱可塑性樹脂からなるサンプルシートをセットし、荷重1gをかけて、昇温速度2℃/分で120℃まで昇温し、その時の収縮量(%表示)を測定し、このデータを出力して温度と収縮量を記録したグラフから、収縮によって、0%のベースラインから離れる温度を読みとり、その温度を熱収縮開始温度としたものである。又、本明細書における「熱硬化温度」とは、測定対象の熱硬化型樹脂を加熱した際の熱硬化反応の立ち上がり位置の温度を測定算出し、その温度を熱硬化温度としたものである。尚、シート状とはフィルム状を含む概念であり、いずれも可撓性を有する物である限り本発明において両者に差はない。   Here, “thermal shrinkage start temperature” in this specification refers to setting a sample sheet made of a thermoplastic resin to be measured in a TMA apparatus, applying a load of 1 g, and increasing the temperature to 120 ° C. at a rate of temperature increase of 2 ° C./min When the temperature rises, the amount of shrinkage (in%) at that time is measured, and the graph that records the temperature and the amount of shrinkage is output from this data. This is the shrinkage start temperature. In addition, the “thermosetting temperature” in the present specification is the measurement and calculation of the temperature at the rising position of the thermosetting reaction when the thermosetting resin to be measured is heated, and that temperature is the thermosetting temperature. . In addition, as long as a sheet form is a concept including a film form and both are flexible things, there is no difference in both in this invention.

樹脂基板13の材料として用いる熱可塑性樹脂には耐熱性の他に一定以上の絶縁性も求められる。この観点からも樹脂基板13の材料樹脂としては、アニール処理等の耐熱性向上処理を施すことによって耐熱性と寸法安定性を向上させた各種のポリエステル系樹脂が好ましい。   The thermoplastic resin used as the material of the resin substrate 13 is required to have a certain level of insulation in addition to heat resistance. Also from this viewpoint, as the material resin of the resin substrate 13, various polyester resins whose heat resistance and dimensional stability are improved by performing a heat resistance improving process such as an annealing process are preferable.

樹脂基板13の厚さは、10μm以上25μm以下であればよく、12μm以上15μm以下であることが好ましい。フレキシブル基板1に求められる耐熱性及び絶縁性を担保する観点から、又、ロール・トゥ・ロール方式による製造を行う場合の生産性を良好に維持する観点からも、少なくとも10μm以上であればよい。熱可塑性樹脂からなる樹脂基板13が、フレキシブル基板1における角付けや、角付後の形状保持を妨げることがないようにするために、樹脂基板13の厚さは、金属箔層14の厚さよりも相対的に小さく、且つ、25μm以下の厚さであることが好ましい。   The thickness of the resin substrate 13 should just be 10 micrometers or more and 25 micrometers or less, and it is preferable that they are 12 micrometers or more and 15 micrometers or less. From the viewpoint of ensuring the heat resistance and insulation required for the flexible substrate 1 and from the viewpoint of maintaining good productivity when manufacturing by the roll-to-roll method, it is at least 10 μm or more. In order to prevent the resin substrate 13 made of a thermoplastic resin from interfering with the squaring and holding of the shape after the squaring, the thickness of the resin substrate 13 is larger than the thickness of the metal foil layer 14. Is relatively small and preferably has a thickness of 25 μm or less.

樹脂基板13の絶縁性については、例えば液晶テレビにおけるエッジライト方式のLEDバックライトとしての一体化時に、フレキシブル基板1に必要とされる絶縁性を付与し得る体積固有抵抗率を有する樹脂であることが求められる。一般的には、樹脂基板13の体積固有抵抗率は、1014Ω・cm以上であることが好ましく、1018Ω・cm以上であることがより好ましい。 The insulating property of the resin substrate 13 is, for example, a resin having a volume resistivity that can provide the insulating property required for the flexible substrate 1 when integrated as an edge light type LED backlight in a liquid crystal television. Is required. Generally, the volume resistivity of the resin substrate 13 is preferably 10 14 Ω · cm or more, and more preferably 10 18 Ω · cm or more.

[金属配線部]
金属配線部12は、導電性基材によって形成され、フレキシブル基板1の一方の表面上に積層される配線パターンである。本発明における金属配線部12は、単線又は複線の直線状に配置される複数のLED素子2の間を導通して必要な電流を流して電気を供給する機能を有する。
[Metal wiring section]
The metal wiring portion 12 is a wiring pattern formed of a conductive base material and stacked on one surface of the flexible substrate 1. The metal wiring part 12 in the present invention has a function of supplying electricity by causing a necessary current to flow between the plurality of LED elements 2 arranged in a single-wire or double-wire straight line.

図3に示す通り、フレキシブル基板1は、樹脂フィルムからなる樹脂基板13の一方の表面に、接着剤層16を介して導電性の金属配線部12が積層されている。金属配線部12は、図1に示すような単線の直線状、或いは複線の直線状に並べて、フレキシブル基板1に実装される複数のLED素子2に、外部電源から供給される電気を供給することができる構成とされている。   As shown in FIG. 3, in the flexible substrate 1, a conductive metal wiring portion 12 is laminated on one surface of a resin substrate 13 made of a resin film via an adhesive layer 16. The metal wiring portion 12 is arranged in a single-wire straight line or a double-wire straight line as shown in FIG. 1 and supplies electricity supplied from an external power source to the plurality of LED elements 2 mounted on the flexible substrate 1. It can be configured.

金属配線部12を構成する金属は、その熱伝導率λが300W/(m・K)以上500W/(m・K)以下であり、金属配線部を構成する金属の電気抵抗率Rが2.50×10−8Ωm以下であることが好ましい。ここで、熱伝導率λの測定は、例えば、京都電子工業社製の熱伝導率計QTM−500を用いることができ、電気抵抗率Rの測定は、例えば、ケースレー社製の6517B型エレクトロメータを用いることができる。これによれば、例えば銅の場合、熱伝導率λは403W/(m・K)であり、電気抵抗率Rは1.55×10−8Ωmとなる。熱伝導率λと電気抵抗率Rを上記範囲内とすることで、金属配線部12自体の放熱性と電気伝導性の両立を図ることができる。より具体的には、LED素子からの放熱性が安定し、電気抵抗の増加を防げるので、LED素子2の間の発光バラツキが小さくなってLED素子の安定した発光が可能となり、又、LED素子の寿命も延長される。更に、熱による樹脂基板13等の周辺部材の劣化も防止できるので、フレキシブル基板1をLEDエッジライトの基板として組み込んだLED表示装置の製品寿命も延長することができる。 The metal constituting the metal wiring portion 12 has a thermal conductivity λ of 300 W / (m · K) or more and 500 W / (m · K) or less, and an electric resistivity R of the metal constituting the metal wiring portion is 2. 50 × 10 −8 Ωm or less is preferable. Here, the measurement of the thermal conductivity λ can use, for example, a thermal conductivity meter QTM-500 manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd., and the measurement of the electrical resistivity R can be performed, for example, a 6517B type electrometer manufactured by Keithley. Can be used. According to this, in the case of copper, for example, the thermal conductivity λ is 403 W / (m · K), and the electrical resistivity R is 1.55 × 10 −8 Ωm. By setting the thermal conductivity λ and the electrical resistivity R within the above ranges, it is possible to achieve both heat dissipation and electrical conductivity of the metal wiring part 12 itself. More specifically, since the heat dissipation from the LED element is stabilized and an increase in electrical resistance can be prevented, the variation in light emission between the LED elements 2 is reduced, and the LED element can emit light stably. The lifespan is extended. Further, since deterioration of peripheral members such as the resin substrate 13 due to heat can be prevented, the product life of the LED display device in which the flexible substrate 1 is incorporated as a substrate of the LED edge light can be extended.

上記範囲を満たす金属としては、金、銀、銅等が例示できる。金属配線部12の厚さは、厚さが7μm以上20μm以下であればよい。放熱性向上の観点からは、金属配線部12の厚さは、7μm以上であればよく、10μm以上であることが好ましい。又、金属層厚みが上記下限値に満たないと、樹脂基板13の熱収縮の影響が大きく、はんだリフロー処理時に処理後の反りが大きくなりやすいため、この観点からも金属配線部12の厚さは10μm以上であることが好ましい。一方、同厚さが、20μm以下であることによって、フレキシブル基板1の十分なフレキシブル性を保持することができ、直角若しくはそれに近い角部に沿って角折りする際の加工容易性を保持することができ、又、重量増大によるハンドリング性の低下等も防止できる。   Examples of the metal that satisfies the above range include gold, silver, copper, and the like. The thickness of the metal wiring part 12 should just be 7 micrometers or more and 20 micrometers or less in thickness. From the viewpoint of improving heat dissipation, the thickness of the metal wiring portion 12 may be 7 μm or more, and is preferably 10 μm or more. Further, if the thickness of the metal layer is less than the above lower limit value, the influence of the heat shrinkage of the resin substrate 13 is large, and the warp after the processing is likely to increase during the solder reflow processing. Is preferably 10 μm or more. On the other hand, when the thickness is 20 μm or less, sufficient flexibility of the flexible substrate 1 can be maintained, and the ease of processing at the time of corner folding along a right angle or a corner close thereto can be maintained. In addition, it is possible to prevent a decrease in handling properties due to an increase in weight.

又、金属配線部12は電解銅箔であり、樹脂基板13との積層面側の表面粗さRzが1.0以上10.0以下であることが好ましい。ここで、RzはJISB0601で規定される十点平均粗さである。放熱性の観点から、表面粗さを上記範囲内とすることで、特に樹脂基板13との積層面側の表面積を増大でき、放熱性を更に高めることができる。又、表面凹凸によって樹脂基板13との密着性を向上できるので、これによっても放熱性を向上できる。このようにして、表面粗さRzを有する電解銅箔の粗面側(マット面側)の表面物性を有効活用することができる。   Moreover, the metal wiring part 12 is an electrolytic copper foil, and the surface roughness Rz on the side of the laminated surface with the resin substrate 13 is preferably 1.0 or more and 10.0 or less. Here, Rz is a ten-point average roughness defined by JISB0601. From the viewpoint of heat dissipation, by setting the surface roughness within the above range, the surface area on the side of the laminated surface with the resin substrate 13 can be increased, and the heat dissipation can be further enhanced. Moreover, since the adhesiveness with the resin substrate 13 can be improved by the surface unevenness, the heat dissipation can also be improved by this. In this way, the surface physical properties on the rough surface side (mat surface side) of the electrolytic copper foil having the surface roughness Rz can be effectively utilized.

又、金属配線部12は、その末端部分において、LED実装モジュール10と外部電源4との電気的接続を行うための端子を有する。フレキシブル基板1は設計自由度が高く加工も容易な樹脂フィルムを基板材料としているため、金属配線部の設計の自由度が極めて高く、多数のLED素子2の導通の形態について直列、並列いずれの接続によることも可能であり、LED素子を実装した後のLED機材に応じて、両者を最適に組合せた配線とすることも容易に行うことができる。   Moreover, the metal wiring part 12 has a terminal for making an electrical connection between the LED mounting module 10 and the external power source 4 at the end part thereof. Since the flexible substrate 1 is made of a resin film that has a high degree of freedom in design and is easy to process, the degree of freedom in the design of the metal wiring portion is extremely high. According to the LED equipment after mounting the LED element, it is also possible to easily form a wiring that optimally combines the two.

フレキシブル基板1の表面上への金属配線部12の接合は、接着剤層16を介したドライラミネート法によって行われることが好ましい。この接着剤層を形成する接着剤は、公知の樹脂系接着剤を適宜用いることができる。それらの樹脂接着剤のうち、ウレタン系、ポリカーボネート系、又はエポキシ系の接着剤等を特に好ましく用いることができる。接着剤層16の厚さは、1μm以上15μm以下であることが好ましく、4μm以上10μm以下であることがより好ましい。   The metal wiring part 12 is preferably joined to the surface of the flexible substrate 1 by a dry laminating method with an adhesive layer 16 interposed therebetween. As the adhesive forming the adhesive layer, a known resin adhesive can be used as appropriate. Of these resin adhesives, urethane-based, polycarbonate-based, or epoxy-based adhesives can be particularly preferably used. The thickness of the adhesive layer 16 is preferably 1 μm or more and 15 μm or less, and more preferably 4 μm or more and 10 μm or less.

金属配線部12には、LED素子実装用部分から所定の距離にある領域において、他の部分よりも配線幅や配線厚さの小さい折り曲げ補助部(図示せず)が形成されていてもよい。折り曲げ補助部は、フレキシブル基板1を折曲げて、熱伝導基材3の複数の連接する面に連続的に密着させるときに、図4に示す熱伝導基材3の角部31、32に対応する部分、即ち、これらの角部の形状に追従する折り曲げ線となる線上に形成することにより、各角部31、32の表面における金属配線部12の折り曲げ容易性が更に向上し、フレキシブル基板1の熱伝導基材3に対する形状追随性が更に高まる。   The metal wiring part 12 may be formed with a bending auxiliary part (not shown) having a smaller wiring width and wiring thickness than other parts in a region at a predetermined distance from the LED element mounting part. The bending auxiliary portion corresponds to the corner portions 31 and 32 of the heat conducting substrate 3 shown in FIG. 4 when the flexible substrate 1 is bent and continuously adhered to a plurality of connected surfaces of the heat conducting substrate 3. By forming on the portion to be bent, that is, the line that becomes the bending line that follows the shape of these corner portions, the ease of bending of the metal wiring portion 12 on the surface of each corner portion 31, 32 is further improved, and the flexible substrate 1 The shape followability with respect to the heat conductive substrate 3 is further enhanced.

[金属箔層]
金属箔層14は、樹脂基板13における金属配線部12が積層される側と反対側、即ち、LED素子2の実装面とは反対側の面に積層される金属箔からなる層である。
[Metal foil layer]
The metal foil layer 14 is a layer made of metal foil that is laminated on the side opposite to the side where the metal wiring part 12 is laminated in the resin substrate 13, that is, the side opposite to the mounting surface of the LED element 2.

金属箔層14にはアルミニウム箔又は銅箔を用いることができる。金属箔層14としてアルミニウム箔を用いる場合は、その厚さを40μm以下とする。又、銅箔を用いる場合は、その厚さを20μm以下とする。但し、いずれの金属箔を用いる場合においても、それらの厚さを樹脂基板13の厚さ以上の厚さとする。尚、アルミニウム箔は、純アルミニウムでもよいし、アルミニウムと、銅、マンガン、ケイ素、マグネシウム、亜鉛、ニッケル等との合金からなるアルミニウム系の金属箔であってもよい。   Aluminum foil or copper foil can be used for the metal foil layer 14. When an aluminum foil is used as the metal foil layer 14, its thickness is set to 40 μm or less. Moreover, when using copper foil, the thickness shall be 20 micrometers or less. However, even when any metal foil is used, the thickness thereof is set to be equal to or greater than the thickness of the resin substrate 13. The aluminum foil may be pure aluminum or an aluminum-based metal foil made of an alloy of aluminum and copper, manganese, silicon, magnesium, zinc, nickel, or the like.

フレキシブル基板1の総厚さを所定範囲に調整した上で、樹脂基板13のLED素子の非実装面(樹脂基板13の背面)に、このような特定の厚さを有する金属箔層14を積層することにより、当該金属箔層14の粘性及び展性に基づく「角折り加工適性」、具体的には、直角又はそれに近い角度を有する角部の形状に追随するための角付けが容易に行える特性を、フレキシブル基板1に付与することができる。   After adjusting the total thickness of the flexible substrate 1 to a predetermined range, the metal foil layer 14 having such a specific thickness is laminated on the non-mounting surface of the LED element of the resin substrate 13 (the back surface of the resin substrate 13). By doing so, “corner folding suitability” based on the viscosity and malleability of the metal foil layer 14, specifically, cornering for following the shape of a corner having a right angle or an angle close thereto can be easily performed. Characteristics can be imparted to the flexible substrate 1.

フレキシブル基板1の背面への金属箔層14の積層は、接着剤層16を介したドライラミネート法によって行われることが好ましい。この接着剤層16を形成する接着剤は、公知の樹脂系接着剤を適宜用いることができる。それらの樹脂接着剤のうち、ウレタン系、ポリカーボネート系、又はエポキシ系の接着剤等を特に好ましく用いることができる。接着剤層16の厚さはドライラミネート法によって行う場合には、1μm以上20μm以下であることが好ましく、4μm以上15μm以下であることがより好ましい。   The metal foil layer 14 is preferably laminated on the back surface of the flexible substrate 1 by a dry laminating method with an adhesive layer 16 interposed therebetween. As the adhesive forming the adhesive layer 16, a known resin adhesive can be used as appropriate. Of these resin adhesives, urethane-based, polycarbonate-based, or epoxy-based adhesives can be particularly preferably used. The thickness of the adhesive layer 16 is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, more preferably 4 μm or more and 15 μm or less when the dry lamination method is used.

そして、本発明のフレキシブル基板1においては、この金属箔層14が、上述の通り、LED素子2から発生した熱を、熱伝導基材3へと放熱する重要な放熱経路としての機能も発揮する。   And in the flexible substrate 1 of this invention, this metal foil layer 14 also exhibits the function as an important heat dissipation path which radiates the heat generated from the LED element 2 to the heat conductive substrate 3 as described above. .

[粘着層]
フレキシブル基板1は、金属箔層14における樹脂基板13の側とは反対側の面である金属箔層14の外表面に、フレキシブル基板1の最表面に露出する態様で、予め粘着層15が形成されているものであってもよい。粘着層15は、樹脂基板13の裏面側の略全面に形成されており、好ましくは、全面に形成されている。本発明におけるこの粘着層15は、フレキシブル基板1を、一時的にLEDエッジライト100内の所定の位置(例えば図1に示すような配置)に仮固定できる程度の粘着性を少なくとも有するものであればよいが、必要に応じて粘着性のより高いものを用いてもよい。この粘着層15には、他部材への配置の前までの間、同層の表面を保護し、使用時に容易に剥離可能な公知の剥離シール等の剥離層(図示せず)が、その表面に積層されていることが好ましい。
[Adhesive layer]
The flexible substrate 1 is previously formed with an adhesive layer 15 on the outer surface of the metal foil layer 14, which is the surface opposite to the resin substrate 13 side of the metal foil layer 14, so as to be exposed on the outermost surface of the flexible substrate 1. It may be what has been done. The adhesive layer 15 is formed on substantially the entire back surface side of the resin substrate 13, and is preferably formed on the entire surface. The adhesive layer 15 in the present invention has at least an adhesive property that can temporarily fix the flexible substrate 1 to a predetermined position (for example, an arrangement as shown in FIG. 1) in the LED edge light 100. Although what is necessary is just to use, what has higher adhesiveness may be used as needed. The adhesive layer 15 is provided with a release layer (not shown) such as a known release seal that protects the surface of the same layer and is easily peelable during use until it is placed on another member. It is preferable to be laminated.

粘着層15は、汎用の両面粘着テープ(例えば、日東電工製「No.5605R」等)によって形成することができる。粘着層をこのような両面粘着テープによって形成することで、粘着層の形成がより容易となり、フレキシブル基板1の生産性も向上する。   The adhesive layer 15 can be formed of a general-purpose double-sided adhesive tape (for example, “No. 5605R” manufactured by Nitto Denko Corporation). By forming the adhesive layer with such a double-sided adhesive tape, the formation of the adhesive layer becomes easier, and the productivity of the flexible substrate 1 is improved.

このような粘着層15の厚さは30μm以上100μm以下であればよく、30μm以上80μm以下であることが好ましい。粘着層15の厚さが30μm以上であることにより、熱伝導基材3とLED実装モジュールとの十分な接着性を担保することができる。粘着層15の厚さが100μm以下であることにより、フレキシブル基板1の角折り加工の容易性を阻害することなく、同時に、金属箔層14から熱伝導基材3への熱伝導性も好ましい状態に保持してフレキシブル基板1の放熱性の向上に寄与することができる。   The thickness of the adhesive layer 15 may be 30 μm or more and 100 μm or less, and preferably 30 μm or more and 80 μm or less. When the thickness of the adhesive layer 15 is 30 μm or more, sufficient adhesiveness between the heat conducting substrate 3 and the LED mounting module can be ensured. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 15 is 100 μm or less, the thermal conductivity from the metal foil layer 14 to the heat conductive substrate 3 is also preferable without hindering the ease of corner folding of the flexible substrate 1. It is possible to contribute to the improvement of the heat dissipation of the flexible substrate 1 by being held in the substrate.

[絶縁性保護膜]
絶縁性保護膜11は、以下に詳細を説明する特定の樹脂組成物によって、金属配線部12と樹脂基板13の表面上の電気的接合が必要となる一部分を除いた他の部分に、主としてLED素子用基板の耐マイグレーション特性を向上させるために形成される。
[Insulating protective film]
The insulating protective film 11 is mainly formed of LED in other portions except for a portion where electrical connection on the surface of the metal wiring portion 12 and the resin substrate 13 is required by a specific resin composition described in detail below. It is formed in order to improve the migration resistance of the element substrate.

絶縁性保護膜11は、配線基板として用いられるフレキシブル基板1の樹脂基板13及び金属配線部12の表面上において電気的接合が必要となる一部分を除いた他の部分に形成される薄膜層である。この絶縁性保護膜11は、十分な絶縁性を有することにより、フレキシブル基板1の耐マイグレーション特性を向上させる所謂レジスト膜であって、尚且つ、LEDエッジライト100を用いたLED表示装置の表示品位の向上に寄与する光反射性をも備えた光線反射膜でもある。   The insulating protective film 11 is a thin film layer formed on the resin substrate 13 of the flexible substrate 1 used as the wiring substrate and on the surface of the metal wiring portion 12 except for a portion that requires electrical bonding. . This insulating protective film 11 is a so-called resist film that improves the migration resistance of the flexible substrate 1 by having a sufficient insulating property, and further, the display quality of the LED display device using the LED edge light 100. It is also a light reflecting film provided with light reflectivity that contributes to the improvement of the above.

絶縁性保護膜11は、主としてシリコーン系樹脂からなり、酸化チタンを含む無機フィラーを更に含有する絶縁性インキ等の樹脂組成物により形成することができる。絶縁性保護膜11を形成する絶縁性インキ等の樹脂組成物の主たる材料として用いるシリコーン樹脂として、非環状のジメチルシロキシ繰返単位〔−Si(−CH−O−〕を主成分とするシリコーン樹脂を用いることができる。より具体的には、屈折率が1.41であるポリジメチルシロキサンを含んでなるシリコーン樹脂や、主鎖にポリジメチルシロキサンとし主鎖同士が三次元架橋したシリコーン樹脂を好ましい例として挙げることができる。 The insulating protective film 11 can be formed of a resin composition such as insulating ink which is mainly made of a silicone resin and further contains an inorganic filler containing titanium oxide. As a silicone resin used as a main material of a resin composition such as an insulating ink for forming the insulating protective film 11, an acyclic dimethylsiloxy repeating unit [—Si (—CH 3 ) 2 —O—] is a main component. A silicone resin can be used. More specifically, preferred examples include a silicone resin containing polydimethylsiloxane having a refractive index of 1.41, and a silicone resin in which the main chains are polydimethylsiloxane and the main chains are three-dimensionally cross-linked. .

非環状のジメチルシロキシ繰返単位を主成分とする上記のシリコーン樹脂とは、硬質シリコーン樹脂、軟質シリコーン樹脂、シリコーンゴムを、包含するものであるが、フレキシブル基板1においては、可撓性に優れるシリコーンゴムを用いることが好ましい。   The above silicone resin mainly composed of an acyclic dimethylsiloxy repeating unit includes a hard silicone resin, a soft silicone resin, and a silicone rubber, but the flexible substrate 1 is excellent in flexibility. It is preferable to use silicone rubber.

絶縁性保護膜11は、上述のシリコーン樹脂と酸化チタンを含む無機フィラーとを含んでなる絶縁性インキが三次元架橋されて硬化したものであり、上記の繰返単位のSi原子が酸素原子又は架橋性官能基を介して次なる繰返単位のSi原子に結合して三次元架橋している構造からなるものである。   The insulating protective film 11 is obtained by three-dimensionally crosslinking and hardening an insulating ink containing the above-described silicone resin and an inorganic filler containing titanium oxide, and the above-described repeating unit Si atoms are oxygen atoms or It has a structure in which it is bonded to the Si atom of the next repeating unit via a crosslinkable functional group and three-dimensionally crosslinked.

絶縁性保護膜11を形成する上記のシリコーン樹脂として、特に、ジメチルシロキシ繰返単位の重合度が800以上1200以下であるものを好ましく用いることができる。上記の重合度が800未満であると、樹脂と樹脂との架橋反応が過剰に進行して硬度HB以上となりやすく、この場合、「角付け」を伴う厳しい加工条件での折曲げ時に、絶縁性保護膜に亀裂が生じやすくなる。一方で、この重合度が1200を超える場合、樹脂と金属配線部若しくは樹脂基材との架橋点が少ないうえ、硬化時の収縮も小さいため、金属配線部12及び樹脂基板13との間の密着強度が不足し、これらの各表面上から絶縁性保護膜11が剥離しやすくなる。   As said silicone resin which forms the insulating protective film 11, the thing whose polymerization degree of a dimethylsiloxy repeating unit is 800 or more and 1200 or less can be used preferably especially. When the degree of polymerization is less than 800, the crosslinking reaction between the resin and the resin proceeds excessively and tends to have a hardness of HB or more. In this case, the insulating property is reduced during bending under severe processing conditions with “squaring”. The protective film is liable to crack. On the other hand, when this polymerization degree exceeds 1200, since there are few crosslinking points with resin and a metal wiring part or a resin base material, and also the shrinkage | contraction at the time of hardening is small, adhesion between the metal wiring part 12 and the resin substrate 13 is sufficient. The strength is insufficient, and the insulating protective film 11 is easily peeled off from each of these surfaces.

絶縁性保護膜11を形成する樹脂組成物に含有させる無機フィラーには、酸化チタンの他、アルミナ、硫酸バリウム、マグネシア、チッ化アルミニウム、チッ化ホウ素、チタン酸バリウム、カオリン、タルク、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、シリカ、マイカ粉、粉末ガラス、粉末ニッケル及び粉末アルミニウムから選ばれる少なくとも1種の光反射剤を含ませることが好ましい。絶縁性保護膜を形成する樹脂組成物における上記の無機フィラーの含有量は、絶縁性インキ中においてシリコーン樹脂100質量部に対して50質量部以上400質量部以下であることが好ましく、100質量部以上300質量部以下であることがより好ましい。無機フィラーの含有量が上記含有量比において400質量部を超えると、絶縁性保護膜11の金属配線部12や樹脂基板13に対する密着性が低下するため好ましくなく、又、同含有量比が、50質量部未満では、50μm以下の膜厚であるときに、十分な光反射性能を保持することが困難である。   Inorganic fillers to be included in the resin composition forming the insulating protective film 11 include titanium oxide, alumina, barium sulfate, magnesia, aluminum nitride, boron nitride, barium titanate, kaolin, talc, calcium carbonate, It is preferable to include at least one light reflecting agent selected from zinc oxide, silica, mica powder, powdered glass, powdered nickel and powdered aluminum. The content of the inorganic filler in the resin composition forming the insulating protective film is preferably 50 parts by mass or more and 400 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the silicone resin in the insulating ink, and 100 parts by mass. More preferably, it is 300 parts by mass or less. If the content of the inorganic filler exceeds 400 parts by mass in the above content ratio, the adhesiveness of the insulating protective film 11 to the metal wiring part 12 and the resin substrate 13 is not preferable, and the content ratio is If it is less than 50 parts by mass, it is difficult to maintain sufficient light reflection performance when the film thickness is 50 μm or less.

絶縁性保護膜を形成する樹脂組成物には、上記のシリコーン樹脂への三次元架橋を促進する架橋剤が含有されていることが好ましい。このような架橋剤の具体例としては、ハイドロジェンオルガノポリシロキサンや白金族金属系触媒含有ポリシロキサン、各種の過酸化物等を挙げることができる。これらの架橋剤は、上記のシリコーン樹脂100質量部に対して、0.01質量部以上10質量部以下の割合で含有されていることが好ましい。   The resin composition that forms the insulating protective film preferably contains a crosslinking agent that promotes three-dimensional crosslinking to the silicone resin. Specific examples of such a crosslinking agent include hydrogen organopolysiloxane, platinum group metal catalyst-containing polysiloxane, various peroxides, and the like. These crosslinking agents are preferably contained in a proportion of 0.01 parts by mass or more and 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the silicone resin.

絶縁性保護膜11の厚さは、15μm以上30μm以下であって、好ましくは、18μm以上25μm以下である。上記厚さが、15μm未満であると、絶縁性が不十分となる場合があり、一方、折曲げ加工適性保持の観点から、同膜厚は、30μm以下であることが好ましい。   The thickness of the insulating protective film 11 is 15 μm or more and 30 μm or less, and preferably 18 μm or more and 25 μm or less. When the thickness is less than 15 μm, the insulation may be insufficient. On the other hand, from the viewpoint of maintaining suitability for bending, the thickness is preferably 30 μm or less.

又、絶縁性保護膜11は、波長420nm以上780nm以下における光線反射率が、いずれも80%以上であることが求められ、90%以上であることが好ましい。フレキシブル基板1は、上記の無機フィラーのシリコーン樹脂100質量部に対する含有量を50質量部以上とすることで、絶縁性保護膜11の厚さを50μm以下とする場合においても、光線反射率を80%以上とすることができる。又、同無機フィラーの同含有量を200質量部以上とすることにより、絶縁性保護膜11の厚さを30μmとする場合においても、光線反射率を80%以上とすることができる。尚、絶対反射率の厳密な測定は困難であるため、上記の光線反射率については、通常比較標準試料との相対反射率を使用する。本発明においては、比較標準試料として硫酸バリウムを使用している。本発明における光線反射率は、分光光度計(例えば、(株)島津製作所UV2450)に積分球付属装置(例えば、(株)島津製作所製ISR2200)を取り付け、硫酸バリウムを標準板とし、標準板を100%とした相対反射率を測定した値とする。   The insulating protective film 11 is required to have a light reflectance at a wavelength of 420 nm or more and 780 nm or less of 80% or more, and preferably 90% or more. The flexible substrate 1 has a light reflectance of 80 even when the thickness of the insulating protective film 11 is 50 μm or less by setting the content of the above inorganic filler to 100 parts by mass of the silicone resin to 50 parts by mass or more. % Or more. Further, by setting the content of the inorganic filler to 200 parts by mass or more, the light reflectance can be set to 80% or more even when the thickness of the insulating protective film 11 is 30 μm. In addition, since it is difficult to strictly measure the absolute reflectance, the relative reflectance with the reference standard sample is usually used for the above-described light reflectance. In the present invention, barium sulfate is used as a comparative standard sample. The light reflectance in the present invention is determined by attaching an integrating sphere attachment device (for example, ISR2200 manufactured by Shimadzu Corporation) to a spectrophotometer (for example, Shimadzu Corporation UV2450), using barium sulfate as a standard plate, The relative reflectance measured as 100% is a measured value.

一方で、絶縁性保護膜11は、上記の無機フィラーのシリコーン樹脂100質量部に対する含有量を、300質量部以下とすることで、上述したような絶縁性保護膜11の好ましい光反射性能を保持したまま、金属配線部12や樹脂基板13に対する密着性についても、より好ましい状態に保持することができる。   On the other hand, the insulating protective film 11 maintains the preferable light reflection performance of the insulating protective film 11 as described above by setting the content of the inorganic filler to 100 parts by mass of the silicone resin to 300 parts by mass or less. As it is, the adhesiveness to the metal wiring part 12 and the resin substrate 13 can be maintained in a more preferable state.

フレキシブル基板1において、絶縁性保護膜11は、その鉛筆硬度が10B以上B以下、好ましくは10B以上6B以下に調整されていることを特徴とする。本明細書における鉛筆硬度とは、JIS−K5600−5−4に準拠する鉛筆硬度試験による値のことを言う。絶縁性保護膜11の鉛筆硬度が、Bを超えると、LEDエッジライト100の製造時或いは完成後に、可撓性を有するフレキシブル基板1の樹脂基板13への追従性の不足から、絶縁性保護膜11については、その一部に亀裂が生じてしまう場合が多くなる。即ち、フレキシブル基板の「角折り加工適性」が不十分となる。又、同鉛筆硬度が、10B未満であると、絶縁性保護膜11の耐久性を担保することが難しい。尚、絶縁性保護膜の鉛筆硬度は、例えば、絶縁性保護膜を形成する樹脂組成物への架橋剤の添加量を調整することによって、任意の硬度に調整することが可能である。   In the flexible substrate 1, the insulating protective film 11 is characterized in that its pencil hardness is adjusted to 10B or more and B or less, preferably 10B or more and 6B or less. The pencil hardness in this specification means the value by the pencil hardness test based on JIS-K5600-5-4. When the pencil hardness of the insulating protective film 11 exceeds B, the insulating protective film is insufficient due to insufficient followability of the flexible flexible substrate 1 to the resin substrate 13 at the time of manufacturing or after the LED edge light 100 is manufactured. For 11, there are many cases in which a crack occurs in a part thereof. In other words, the “square folding processability” of the flexible substrate becomes insufficient. If the pencil hardness is less than 10B, it is difficult to ensure the durability of the insulating protective film 11. The pencil hardness of the insulating protective film can be adjusted to an arbitrary hardness, for example, by adjusting the amount of the crosslinking agent added to the resin composition forming the insulating protective film.

[フレキシブル基板の製造方法]
フレキシブル基板1は、従来公知の電子基板の製造方法の一つであるエッチング工程と、によって製造することができる。又、選択する材料樹脂によっては、必要に応じて予め当該樹脂にアニール処理による耐熱性向上処理を施すことが好ましい。
[Method for manufacturing flexible substrate]
The flexible substrate 1 can be manufactured by an etching process which is one of known methods for manufacturing an electronic substrate. Further, depending on the material resin to be selected, it is preferable to subject the resin to a heat resistance improvement treatment by an annealing treatment in advance as necessary.

(アニール処理)
アニール処理は、従来公知の熱処理手段を用いることができる。アニール処理温度の一例としては、樹脂基板13を形成する熱可塑性樹脂がPENである場合、ガラス転移温度から融点の範囲、更に具体的には160℃から260℃、より好ましくは180℃から230℃の範囲である。アニール処理時間としては、10秒から5分程度が例示できる。このような熱処理条件によれば、一般的に80℃程度であるPENの熱収縮開始温度を、100℃程度に向上させることができる。
(Annealing treatment)
For the annealing treatment, a conventionally known heat treatment means can be used. As an example of the annealing treatment temperature, when the thermoplastic resin forming the resin substrate 13 is PEN, the glass transition temperature to the melting point range, more specifically 160 ° C. to 260 ° C., more preferably 180 ° C. to 230 ° C. Range. An example of the annealing time is about 10 seconds to 5 minutes. According to such heat treatment conditions, the thermal contraction start temperature of PEN, which is generally about 80 ° C., can be improved to about 100 ° C.

(エッチング工程)
樹脂基板13の表面に、金属配線部12の材料とする銅箔等の金属配線部12を積層してフレキシブル基板1の材料とする積層体を得る。積層方法としては、金属箔を接着剤によって樹脂基板13の表面に接着する方法、或いは、樹脂基板13の表面に直接にメッキ方法や気相製膜法(スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等)により金属配線部12を蒸着させる方法を挙げることができる。コストや生産性の面からは、金属箔をウレタン系の接着剤によって樹脂基板13の表面に接着する方法が有利である。
(Etching process)
On the surface of the resin substrate 13, a metal wiring part 12 such as a copper foil used as a material for the metal wiring part 12 is laminated to obtain a laminated body used as a material for the flexible substrate 1. As a lamination method, a metal foil is adhered to the surface of the resin substrate 13 with an adhesive, or a plating method or a vapor deposition method (sputtering, ion plating, electron beam evaporation, Examples of the method include vapor deposition of the metal wiring portion 12 by vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition, or the like. From the viewpoint of cost and productivity, a method of adhering the metal foil to the surface of the resin substrate 13 with a urethane adhesive is advantageous.

次に、上記の積層体の金属箔の表面に、金属配線部12の形状にパターニングされたエッチングマスクを形成する。エッチングマスクは、将来、金属配線部12となる金属箔の配線パターン形成部分がエッチング液による腐食を免れるために設けられる。エッチングマスクを形成する方法は特に限定されず、例えば、フォトレジスト又はドライフィルムをフォトマスクを通して感光させた後で現像することにより積層シートの表面にエッチングマスクを形成してもよいし、インクジェットプリンター等の印刷技術により積層シートの表面にエッチングマスクを形成してもよい。   Next, an etching mask patterned in the shape of the metal wiring portion 12 is formed on the surface of the metal foil of the laminate. In the future, the etching mask is provided so that the wiring pattern forming portion of the metal foil to be the metal wiring portion 12 is free from corrosion by the etching solution. The method for forming the etching mask is not particularly limited. For example, the etching mask may be formed on the surface of the laminated sheet by exposing the photoresist or dry film through the photomask and then developing the ink mask. An etching mask may be formed on the surface of the laminated sheet by this printing technique.

次に、エッチングマスクに覆われていない箇所における金属箔を浸漬液により除去する。これにより、金属箔のうち、金属配線部12となる箇所以外の部分が除去される。   Next, the metal foil in a portion not covered with the etching mask is removed with an immersion liquid. Thereby, parts other than the location used as the metal wiring part 12 are removed among metal foils.

最後に、アルカリ性の剥離液を使用して、エッチングマスクを除去する。これにより、エッチングマスクが金属配線部12の表面から除去される。   Finally, the etching mask is removed using an alkaline stripping solution. As a result, the etching mask is removed from the surface of the metal wiring portion 12.

(絶縁性保護膜形成工程)
金属配線部12を積層した後、絶縁性保護膜11を金属配線部12上に形成する。これらの形成は公知の方法によって行うことができる。本発明において用いるシリコーン系の絶縁性インキは、スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター、リバースコーター、グラビアコーター、エアナイフコーター、スプレーコーター、又はカーテンコーター等の各方法により形成することができる。
(Insulating protective film formation process)
After laminating the metal wiring part 12, the insulating protective film 11 is formed on the metal wiring part 12. These formations can be performed by known methods. The silicone-based insulating ink used in the present invention can be formed by various methods such as screen printing, bar coater, roll coater, reverse coater, gravure coater, air knife coater, spray coater, or curtain coater.

尚、スクリーン印刷等は複数回に分けて行うことにより絶縁性保護膜11の膜厚を厳密に調整し易くなり、又、複数の層からなる絶縁性保護膜11とした場合に、LED素子2の実装領域の周辺部分のみの膜厚を相対的に大きくすることで、光反射性能を効率よく向上させること等も可能である。   Note that screen printing or the like is performed in a plurality of times, so that the film thickness of the insulating protective film 11 can be easily adjusted, and when the insulating protective film 11 composed of a plurality of layers is used, the LED element 2 By relatively increasing the film thickness of only the peripheral part of the mounting area, it is possible to improve the light reflection performance efficiently.

(粘着層形成工程)
金属配線部積層後、上記の通り、両面粘着テープ等を用いるか、或いは、接着剤を硬化する等して粘着層15を形成する。粘着層15上には、上記の通り、更に剥離層が配置されていることが好ましい。
(Adhesive layer forming process)
After the metal wiring portion is laminated, the pressure-sensitive adhesive layer 15 is formed by using a double-sided pressure-sensitive adhesive tape or the like or by curing an adhesive as described above. As described above, it is preferable that a release layer is further disposed on the adhesive layer 15.

<LED実装モジュール>
フレキシブル基板1の金属配線部12に、LED素子2を実装することにより、LED実装モジュール10を得ることができる。
<LED mounting module>
The LED mounting module 10 can be obtained by mounting the LED element 2 on the metal wiring part 12 of the flexible substrate 1.

LED素子2は、P型半導体とN型半導体が接合されたPN接合部での発光を利用した発光素子である。P型電極、N型電極を素子上面、下面に設けた構造と、素子片面にP型、N型電極の双方が設けられた構造が提案されている。いずれの構造のLED素子2も、本発明のLED実装モジュール10に用いることができるが、上記のうち素子片面にP型、N型電極の双方が設けられた構造のLED素子を特に好ましく用いることができる。   The LED element 2 is a light emitting element that utilizes light emission at a PN junction where a P-type semiconductor and an N-type semiconductor are joined. There are proposed a structure in which a P-type electrode and an N-type electrode are provided on the upper and lower surfaces of the element and a structure in which both the P-type and N-type electrodes are provided on one side of the element. Any structure of the LED element 2 can be used for the LED mounting module 10 of the present invention, and among the above, the LED element having a structure in which both the P-type and N-type electrodes are provided on the element single side is particularly preferably used. Can do.

LED実装モジュール10は、LED素子100個以上200個以下程度のLED素子2の実装を前提とする、対応する画面サイズとして、50インチ以上、好ましくは55インチ以上の画面サイズのLED表示装置に適用されることが好ましい。本発明のフレキシブル基板は回路設計の自由度が高いため、実装されるLED素子2の配置数や配置間隔等は自在に調整することが可能であり、大型の画像表示装置における様々な要求物性に従来よりも低コストでフレキシブルに対応することができる。   The LED mounting module 10 is applied to an LED display device having a screen size of 50 inches or more, preferably 55 inches or more as a corresponding screen size on the premise of mounting LED elements 2 of about 100 to 200 LED elements. It is preferred that Since the flexible substrate of the present invention has a high degree of freedom in circuit design, the number of LED elements 2 to be mounted, the arrangement interval, and the like can be freely adjusted. It is possible to respond flexibly at a lower cost than in the past.

LED実装モジュール10において、熱収縮率について異方性を有する樹脂フィルムが樹脂基板13に用いられている場合は、熱収縮率の小さい方向に沿って、LED素子を直線上に実装することが好ましい。具体例として、樹脂基板13を構成する熱可塑性樹脂が二軸延伸ポリエチレンナフタレートである場合であれば、当該二軸延伸ポリエチレンナフタレートのTD方向に沿って、LED素子2が直線上に配置されていることが好ましい。このようにLED素子を実装することによって、LED実装モジュール10を配置したLEDエッジライト100において、樹脂基板13のMD方向に沿っておこる相対的に大きな熱収縮によるLED素子の位置ずれや金属配線部12間の短絡のリスクを低下させることができる。   In the LED mounting module 10, when a resin film having anisotropy in terms of heat shrinkage is used for the resin substrate 13, it is preferable that the LED elements are mounted on a straight line along a direction in which the heat shrinkage is small. . As a specific example, if the thermoplastic resin constituting the resin substrate 13 is biaxially stretched polyethylene naphthalate, the LED elements 2 are arranged on a straight line along the TD direction of the biaxially stretched polyethylene naphthalate. It is preferable. By mounting the LED elements in this way, in the LED edge light 100 in which the LED mounting module 10 is arranged, the position of the LED elements and the metal wiring portion due to relatively large thermal contraction that occurs along the MD direction of the resin substrate 13. The risk of a short circuit between 12 can be reduced.

尚、二軸延伸樹脂とは、シート状に成型された樹脂に対して二軸延伸加工が施されたものである。二軸延伸加工においては、樹脂はTgよりも高い温度に加熱され、二軸延伸加工装置のロールとロールとの間の張力によってMD方向に延伸され、それと同時又はその後に、二軸延伸加工装置のテンターによってTD方向に延伸される。つまり、互いに直交する2つの方向(MD方向及びTD方向)に引き伸ばされて加工される。この一連の操作が樹脂基材を加熱しながら行われるため、樹脂基材は、その中に含まれる分子が延伸方向に沿って整列(配向)するとともに部分結晶化する。尚、本明細書では、本発明の属する技術分野で広く用いられているように、二軸延伸加工の際の長さ方向をMD(Machine Direction)方向と表示し、二軸延伸加工の際の幅方向をTD(Transverse Direction)方向と表示する。一般的に、ロールとロールとの間の張力による機械長さ方向の延伸率(MD方向への延伸率)は、テンターによる機械幅方向の延伸率(TD方向への延伸率)よりも大きいものとなる。このため、二軸延伸加工された樹脂基材においては、TD方向に比べて、MD方向の方が高延伸によるより大きな内部応力が残存する。   The biaxially stretched resin is obtained by subjecting a resin molded into a sheet shape to biaxial stretching. In the biaxial stretching process, the resin is heated to a temperature higher than Tg, stretched in the MD direction by the tension between the rolls of the biaxial stretching apparatus, and simultaneously or after that, the biaxial stretching apparatus Is stretched in the TD direction by a tenter. That is, it is stretched and processed in two directions (MD direction and TD direction) orthogonal to each other. Since this series of operations is performed while heating the resin base material, the molecules contained in the resin base material are aligned (oriented) along the stretching direction and partially crystallized. In this specification, as widely used in the technical field to which the present invention belongs, the length direction in biaxial stretching is indicated as MD (Machine Direction) direction, and in biaxial stretching. The width direction is displayed as a TD (Transverse Direction) direction. Generally, the stretch ratio in the machine length direction (stretch ratio in the MD direction) due to the tension between the rolls is larger than the stretch ratio in the machine width direction (stretch ratio in the TD direction) by the tenter. It becomes. For this reason, in the resin base material subjected to biaxial stretching, a larger internal stress remains in the MD direction due to high stretching than in the TD direction.

以上より、二軸延伸樹脂のMD方向とは、実質的には、他の方向よりも大きな内部応力が残存していることにより、加熱時の熱収縮率が、より大きくなっている一の方向のことである。本発明の実施においては、実際に樹脂基材として異方性を有する樹脂については、形成時における延伸プロセスの詳細を問わず、他の方向よりも相対的に大きな内部応力が残存していることにより、加熱時の熱収縮率が相対的に大きくなっている一の方向を「MD方向」とみなし、同熱収縮率が相対的に小さくなっている他の方向を「TD方向」とみなすものとする。   From the above, the MD direction of the biaxially stretched resin is substantially one direction in which the thermal shrinkage rate during heating is larger due to the remaining internal stress larger than in other directions. That is. In the practice of the present invention, the resin having anisotropy as the resin substrate actually has a relatively large internal stress remaining in the other direction regardless of the details of the stretching process at the time of formation. Therefore, one direction in which the heat shrinkage rate during heating is relatively large is regarded as the “MD direction”, and the other direction in which the heat shrinkage rate is relatively small is regarded as the “TD direction”. And

[LED実装モジュールの製造方法]
フレキシブル基板1を用いたLED実装モジュール10の製造方法について説明する。金属配線部12へのLED素子2の接合は、ハンダ加工により好ましく行うことができる。このハンダによる接合は、リフロー方式、或いは、レーザー方式によることができる。リフロー方式は、金属配線部12にハンダを介してLED素子2を搭載し、その後、フレキシブル基板1をリフロー炉内に搬送して、リフロー炉内で金属配線部12に所定温度の熱風を吹きつけることで、ハンダペーストを融解させ、LED素子2を金属配線部12にハンダ付けする方法である。又、レーザー方式とは、レーザーによってハンダを局所的に加熱して、LED素子2を金属配線部12にハンダ付けする手法である。
[Method for manufacturing LED mounting module]
A method for manufacturing the LED mounting module 10 using the flexible substrate 1 will be described. Bonding of the LED element 2 to the metal wiring part 12 can be preferably performed by soldering. This solder bonding can be performed by a reflow method or a laser method. In the reflow method, the LED element 2 is mounted on the metal wiring part 12 via solder, and then the flexible substrate 1 is transported into the reflow furnace and hot air at a predetermined temperature is blown to the metal wiring part 12 in the reflow furnace. Thus, the solder paste is melted, and the LED element 2 is soldered to the metal wiring portion 12. The laser method is a method of soldering the LED element 2 to the metal wiring portion 12 by locally heating the solder with a laser.

レーザー方式によって金属配線部12へのLED素子2のハンダ接合を行う場合は、樹脂基板13における裏面側からのレーザー照射によって、ハンダのリフローを行う方法とすることが好ましい。これにより、加熱によるハンダの有機成分の発火とそれに伴う基材の損傷をより確実に抑制することができる。   When solder joining of the LED element 2 to the metal wiring part 12 is performed by a laser method, it is preferable to adopt a method of performing solder reflow by laser irradiation from the back surface side of the resin substrate 13. Thereby, the ignition of the organic component of the solder by heating and the accompanying damage to the base material can be more reliably suppressed.

<LEDエッジライト>
図1、図4に示す通り、LEDエッジライト100においては、フレキシブル基板1が、熱伝導基材3におけるLED素子が配置される側の面である一側面と、当該一側面に連接する他の二面に、フレキシブル基板1が、連続的に密着している。連続的に密着しているとは、略全面に亘って概ね隙間なく密着していることを意味する。密着は粘着層15を介していることが好ましいが、補助的にその他の粘着又は接着手段が付加されることによるものであってもよい。
<LED edge light>
As shown in FIG. 1 and FIG. 4, in the LED edge light 100, the flexible substrate 1 has one side surface that is a surface on the side where the LED elements in the heat conducting base material 3 are disposed, and the other side connected to the one side surface. The flexible substrate 1 is in close contact with the two surfaces. “Continuously adhering” means adhering substantially over the entire surface with almost no gap. The adhesion is preferably via the pressure-sensitive adhesive layer 15, but may be due to the addition of other pressure-sensitive adhesive or adhesion means.

LEDエッジライト100は、フレキシブル基板1の優れた「角折り加工適性」を活かして、熱伝導基材3の表面に、粘着層15を隙間なく密着させることにより、コンパクトで放熱性能の高いエッジライト方式のLEDバックライトとして構成されている。   The LED edge light 100 is an edge light that is compact and has high heat dissipation performance by making the adhesive layer 15 adhere to the surface of the heat conductive base material 3 without any gap, making use of the excellent “corner foldability” of the flexible substrate 1. It is configured as a system LED backlight.

LEDエッジライト100の具体的な製造方法としては、以下の手順による方法を例示することができる。先ず、フレキシブル基板1にLED素子2を実装したLED実装モジュール10の一方の端部を先ず熱伝導基材3におけるLED素子2の配置面に連接する一方の面に粘着層15及び必要に応じてその他の仮固定手段によって固着させ、これに他方の端部から適切な引っ張り力をかけながら、当該一方の面とLED素子2の配置面との間の角部及びLED素子2の配置面と他方の面との間の角部に沿ってフレキシブル基板1をそれぞれ角付けしながら、熱伝導基材3にLED実装モジュール10のLED素子2の非実装面の全面を密着させこれを貼付する。これにより、複数のLED素子2は、熱伝導基材3の一側面上に単線又は複線の直線状に配置される。   As a specific manufacturing method of the LED edge light 100, a method according to the following procedure can be exemplified. First, one end portion of the LED mounting module 10 in which the LED element 2 is mounted on the flexible substrate 1 is first connected to the one surface where the LED element 2 is disposed on the heat conducting substrate 3 on the adhesive layer 15 and, if necessary. While being fixed by other temporary fixing means and applying an appropriate tensile force from the other end portion to this, the corner between the one surface and the LED element 2 arrangement surface and the arrangement surface of the LED element 2 and the other The entire surface of the non-mounting surface of the LED element 2 of the LED mounting module 10 is brought into close contact with the heat conducting base material 3 while the flexible substrate 1 is squared along the corners between the two surfaces. Thereby, the some LED element 2 is arrange | positioned on the one side of the heat conductive base material 3 in the shape of a single line or a double line.

熱伝導基材3は、熱伝導性を有する材料からなるパネル又は所望の厚さ範囲内のブロック体であって、パネルの小口面(ブロック体の場合は側面)が、LED素子2の配置領域を構成しうる形状のものである。熱伝導基材3の厚み方向の幅は、0.5mm以上4mm以下であることが好ましい。これにより、短辺が0.1mm以上2mm以下程度のLED素子を直線状に実装し、尚且つ、LED表示装置の薄型化にも寄与することできる。   The heat conductive substrate 3 is a panel made of a material having thermal conductivity or a block body within a desired thickness range, and a small edge surface (side surface in the case of a block body) of the panel is an arrangement region of the LED elements 2. It is the thing of the shape which can comprise. The width in the thickness direction of the heat conductive substrate 3 is preferably 0.5 mm or more and 4 mm or less. Thereby, LED elements having a short side of about 0.1 mm or more and 2 mm or less can be mounted in a straight line, and can contribute to the thinning of the LED display device.

熱伝導基材3の材料として、具体的には、アルミニウムや鉄等を、好ましく用いることができる。中でも熱伝導性の観点からアルミニウムを用いることが特に好ましい。   Specifically, aluminum, iron, or the like can be preferably used as the material for the heat conductive substrate 3. Of these, aluminum is particularly preferred from the viewpoint of thermal conductivity.

ここで、熱伝導基材3がパネル状のブロック体である場合、熱伝導基材3の小口面(即ち、ブロック体の側面でもあり、図2において、フレキシブル基板1を介してLED素子2が実装される面)の高さ方向の幅、即ち、パネル状のブロック体の厚さは、少なくともLED素子2の外径(短辺)以上の幅であることが必要である。しかし、LED表示装置の薄型化への寄与が求められる昨今、熱伝導基材3も、可能な限り薄いパネルであることが望ましい。この点、熱伝導基材3の形状にフレキシブルに追従させることが可能なLED実装モジュール10を用いることにより、LED素子2の実装領域となる熱伝導基材3の小口面の高さ方向の幅を、LED素子2の外径に極めて近接する大きさにまで極小化することができる。例えば、熱伝導基材3の上記の小口面の高さ方向の幅(ブロック体の厚さ)が、0.5mm以上4mm以下であり、LED素子2の外径が1mmである場合を想定すると、例えば、小口面側からの平面視において、小口面の幅方向の一側辺上、又は、同側辺上から1mm以内の等距離にある直線上に、LED素子2の当該一側辺側の外縁が並ぶように、LED素子2を実装することができる。このように、熱伝導基材3の小口面の側端部又はそれに極めて近接する位置にLED素子2を一直線上に実装することができると、導光板との位置調整の精度が高くなる点において好ましい。   Here, when the heat conductive base material 3 is a panel-like block body, the LED element 2 is connected via the flexible substrate 1 in FIG. The width of the mounting surface) in the height direction, that is, the thickness of the panel-like block body needs to be at least the width of the outer diameter (short side) of the LED element 2. However, nowadays, where the contribution to the thinning of the LED display device is required, it is desirable that the heat conductive substrate 3 is also as thin as possible. In this regard, by using the LED mounting module 10 that can flexibly follow the shape of the heat conductive base material 3, the width in the height direction of the edge surface of the heat conductive base material 3 that becomes the mounting region of the LED element 2 Can be minimized to a size very close to the outer diameter of the LED element 2. For example, assuming the case where the width in the height direction (the thickness of the block body) of the small edge surface of the heat conducting substrate 3 is 0.5 mm or more and 4 mm or less, and the outer diameter of the LED element 2 is 1 mm. For example, in a plan view from the facet side, the one side of the LED element 2 on one side in the width direction of the facet or on a straight line that is equidistant within 1 mm from the same side The LED elements 2 can be mounted such that the outer edges of the LED elements are aligned. Thus, when the LED element 2 can be mounted in a straight line at the side edge of the small edge surface of the heat conducting substrate 3 or at a position very close to it, the accuracy of position adjustment with the light guide plate is increased. preferable.

LEDエッジライト100は、エッジライト方式のバックライトとして、LED素子2の発光面が、例えば、液晶テレビ等のLED表示装置内の導光板の側面(エッジ)に対面するように配置して用いる。例えば、樹脂基板13を透明樹脂で形成しLED実装モジュール10の透明性を確保することにより、LED実装モジュール10の熱伝導基材への配置の際の正確な位置合わせの精度と作業容易性を向上させることができる。   The LED edge light 100 is used as an edge light type backlight such that the light emitting surface of the LED element 2 faces a side surface (edge) of a light guide plate in an LED display device such as a liquid crystal television. For example, by forming the resin substrate 13 with a transparent resin and ensuring the transparency of the LED mounting module 10, accurate alignment accuracy and workability when the LED mounting module 10 is placed on the heat conductive base material are improved. Can be improved.

<実施例のフレキシブル基板の製造>
実施例及び比較例のフレキシブル基板(試験用試料)を以下の通り製造した。
<Manufacturing of Flexible Substrate of Example>
The flexible substrate (sample for a test) of an Example and a comparative example was manufactured as follows.

[樹脂基板及び金属配線部]
10mm×100mmサイズのフィルム状の樹脂基板(ポリエチレンナフタレート、熱伝導率0.2W/K・m)の表面の一方の面に、金属配線部を形成するための銅箔を積層し、樹脂基板の表面の他方の面に、金属箔層(アルミニウム箔、但し、実施例2のみ銅箔)を、接着剤(ウレタン系接着剤(三井化学製)(2液型)主剤:タケラックA−1143、硬化剤:タケネートA−3)を用いて積層した。その後、金属配線用の銅層についてエッチング処理をして、全ての実施例及び比較例において同パターンの金属配線部を構成した。
[Resin substrate and metal wiring part]
A copper foil for forming a metal wiring portion is laminated on one surface of a 10 mm × 100 mm film-shaped resin substrate (polyethylene naphthalate, thermal conductivity 0.2 W / K · m), and the resin substrate A metal foil layer (aluminum foil, but only copper foil in Example 2) is attached to the other surface of the adhesive, and an adhesive (urethane-based adhesive (manufactured by Mitsui Chemicals)) (two-pack type) main agent: Takelac A-1143, Lamination was performed using a curing agent: Takenate A-3). Then, the copper layer for metal wiring was etched and the metal wiring part of the same pattern was comprised in all the Examples and the comparative examples.

[絶縁性保護膜]
更に、上記の樹脂基板及び金属配線部上に、各実施例及び比較例毎にそれぞれ異なるシリコーン樹脂を含有する絶縁性インキにより、表1記載の各膜厚で絶縁性保護膜を形成し、実施例、比較例のフレキシブル基板の試験用試料とした。シリコーン樹脂としては、各実施例、比較例毎に、以下のシリコーン樹脂1〜3をそれぞれ表1に記載の通りに使い分けた。又、各シリコーン樹脂に加えて、架橋剤(ハイドロジェンオルガノポリシロキサン)を、シリコーン樹脂100質量部に対して、表1に記載の割合(質量部)で、無機フィラー(酸化チタン粉末)を、同じくシリコーン樹脂100質量部に対して、表1に記載の割合(質量部)で含有させた。
シリコーン樹脂1:ジメチルシロキシ繰返単位の重合度が1000
シリコーン樹脂2:ジメチルシロキシ繰返単位の重合度が500
シリコーン樹脂3:ジメチルシロキシ繰返単位の重合度が100
尚、上記の各重合度は、上述の通り、FT−IR分析して重合前後の特定波長のピーク値を分析することによって、確認することができる。
[Insulating protective film]
Furthermore, an insulating protective film is formed on each of the film thicknesses described in Table 1 with an insulating ink containing a different silicone resin for each of the examples and comparative examples on the resin substrate and the metal wiring part. It was set as the sample for a test of the flexible substrate of an example and a comparative example. As the silicone resin, the following silicone resins 1 to 3 were used properly as shown in Table 1 for each Example and Comparative Example. Moreover, in addition to each silicone resin, an inorganic filler (titanium oxide powder) with a crosslinking agent (hydrogenorganopolysiloxane) at a ratio (parts by mass) shown in Table 1 with respect to 100 parts by mass of the silicone resin, Similarly, it was contained at a ratio (parts by mass) shown in Table 1 with respect to 100 parts by mass of the silicone resin.
Silicone resin 1: degree of polymerization of dimethylsiloxy repeating unit is 1000
Silicone resin 2: Degree of polymerization of dimethylsiloxy repeating unit is 500
Silicone resin 3: Degree of polymerization of dimethylsiloxy repeating unit is 100
In addition, each said degree of polymerization can be confirmed by analyzing the peak value of the specific wavelength before and behind superposition | polymerization by FT-IR analysis as above-mentioned.

<評価例1:鉛筆硬度>
実施例及び比較例の各フレキシブル基板の絶縁性保護膜の表面の鉛筆硬度をJISK5600−5−4(1999)に準ずる試験により測定して確認した。測定結果は表1に記載した通りであった。
<Evaluation Example 1: Pencil hardness>
The pencil hardness of the surface of the insulating protective film of each flexible substrate in Examples and Comparative Examples was measured and confirmed by a test according to JISK5600-5-4 (1999). The measurement results were as described in Table 1.

<評価例2:角折り加工適性>
実施例及び比較例の各フレキシブル基板について、角折り加工適性を調べる試験を行った。
厚さ1.5mmのアルミ製プレート(熱伝導基材を想定)の表面に実施例及び比較例のフレキシブル基板の側端部を固定し、各フレキシブル基板に、目視上、樹脂が延伸しない範囲での引っ張り力をかけながら、アルミ製プレートの表面と側面部の間の角部、及び側面部と裏面部との間の角部の両角部に沿って、手作業で、フレキシブル基板に角付けしながら、これを隙間なく貼着していく作業を行い、この際の角折加工適性について調べることにより試験を行った。評価基準は以下の通りとした。評価結果は「角折り」として表1に示す。
(角折り加工適性評価基準)
A:「折曲げ部分に絶縁性保護膜で被覆されている角付け部(視認可能なエッジ部分)が形成されていて、当該角付け部も含めて、絶縁性保護膜に視認可能な亀裂は存在しなかった。」
B:「折曲げ部分に絶縁性保護膜で被覆されている角付け部(視認可能なエッジ部分)が形成されていて、絶縁性保護膜の折曲げ部周辺の表面には視認可能な亀裂が生じていた。但し、亀裂は絶縁性保護膜の表層部のみに存在し、反対側の面にまで到達している亀裂は存在しなかった。
C:「絶縁性保護膜の折曲げ部周辺の表面に、その反対側の面にまで到達している亀裂が生じていた。」
<Evaluation Example 2: Suitability for corner folding>
For each of the flexible substrates of the examples and comparative examples, a test for examining corner folding processability was performed.
As long as the side ends of the flexible substrates of Examples and Comparative Examples are fixed to the surface of a 1.5 mm thick aluminum plate (assuming a heat conductive base material), the resin does not stretch on each flexible substrate visually. While applying the pulling force, the flexible plate is squared manually along the corners between the front and side surfaces of the aluminum plate and the corners between the side and back surfaces. However, a test was conducted by performing an operation of sticking this without gaps and investigating the suitability for corner folding. The evaluation criteria were as follows. The evaluation results are shown in Table 1 as “square folding”.
(Evaluation criteria for corner foldability)
A: “A beveled portion (a visible edge portion) covered with an insulating protective film is formed in the bent portion, and the crack that is visible in the insulating protective film including the squared portion is It didn't exist. "
B: “A chamfered portion (a visible edge portion) covered with an insulating protective film is formed in the bent portion, and a visible crack is formed on the surface around the bent portion of the insulating protective film. However, cracks were present only in the surface layer portion of the insulating protective film, and there were no cracks reaching the opposite surface.
C: “There was a crack reaching the surface on the opposite side of the surface around the bent portion of the insulating protective film.”

<評価例3:基板変形(反り)の抑制>
実施例及び比較例の各フレキシブル基板について、基板変形(反り)の抑制について調べる試験を行った。「反り」の測定方法は以下の通りとした。
JIS C 6471−1995(参考2 反り率及びねじれ率)によって反り率を算出した。水平な台上に試料を上が凹になるように静かに置き、特に外力を加えないようにして、試料の4隅か所の隅と台との間の垂直な隔たりを、直尺で1mmの単位まで測定し、その最大値を求める。次に試料の4辺をそれぞれ1mmの単位まで測定する。そして、次の式によって、反り率(%)を算出した。
反り率(%)=反り最大値÷(試料4辺の平均長さ)
評価基準については、評価基準は以下の通りとした。評価結果は「反り」として、表1に示す。
(「反り」の評価基準)
A:反り率が3.0%以下
B:反り率が3.0%超え
<評価例4:光線反射率>
実施例及び比較例の各フレキシブル基板について、光線反射率を測定評価した。
光線反射率は、比較標準試料として硫酸バリウムを使用し、分光光度計((株)島津製作所UV2450)に積分球付属装置((株)島津製作所製ISR2200)を取り付け、硫酸バリウムを標準板とし、標準板を100%とした相対反射率を測定して、これを光線反射率の値とした。測定は、LED表示装置の表示性能において重要な標準的な3つの波長、即ち、450nm(B)、550nm(G)、650nm(R)における上記反射率を測定した。測定結果の評価基準は以下の通りである。評価結果は「反射性」として表1に示す。
(光線反射率評価基準)
A:「上記全ての測定波長において、光線反射率が80%以上である。」
B:「450nm(B)、550nm(G)、650nm(R)の測定箇所のいずれかで光線反射率が80%以上であるが、他のいずれかの測定箇所では80%未満である。」
C:「 450nm(B)、550nm(G)、650nm(R)の全ての測定箇所において光線反射率が80%未満である」
<Evaluation Example 3: Suppression of substrate deformation (warping)>
For each of the flexible substrates of Examples and Comparative Examples, a test was conducted to examine suppression of substrate deformation (warpage). The measurement method of “warp” was as follows.
The warpage rate was calculated according to JIS C 6471-1995 (Reference 2: Warpage rate and twist rate). Gently place the sample on a horizontal table so that the top is concave, and make sure that no vertical force is applied, so that the vertical gap between the four corners of the sample and the table is 1 mm in a straight line. And measure the maximum value. Next, each of the four sides of the sample is measured to a unit of 1 mm. And the curvature rate (%) was computed by the following formula.
Warpage rate (%) = Maximum value of warpage ÷ (Average length of 4 sides of sample)
The evaluation criteria are as follows. The evaluation results are shown in Table 1 as “warping”.
(Evaluation criteria for “warp”)
A: Warpage rate is 3.0% or less B: Warpage rate is over 3.0% <Evaluation Example 4: Light reflectance>
About each flexible substrate of an Example and a comparative example, light reflectance was measured and evaluated.
The light reflectance is obtained by using barium sulfate as a comparative standard sample, attaching an integrating sphere attachment device (ISR2200 manufactured by Shimadzu Corporation) to a spectrophotometer (Shimadzu Corporation UV2450), and using barium sulfate as a standard plate. The relative reflectance with the standard plate as 100% was measured, and this was used as the value of the light reflectance. In the measurement, the reflectance was measured at three standard wavelengths important in the display performance of the LED display device, that is, 450 nm (B), 550 nm (G), and 650 nm (R). The evaluation criteria for the measurement results are as follows. The evaluation results are shown in Table 1 as “reflectivity”.
(Light reflectance evaluation criteria)
A: “At all the above measurement wavelengths, the light reflectance is 80% or more.”
B: “The light reflectance is 80% or more at any of the measurement points of 450 nm (B), 550 nm (G), and 650 nm (R), but is less than 80% at any of the other measurement points.”
C: “The light reflectance is less than 80% at all measurement points of 450 nm (B), 550 nm (G), and 650 nm (R)”

Figure 2018147969
Figure 2018147969

表1より、本発明のフレキシブル基板は、十分な光反射性能を備え、特にエッジライト作成時の折曲げ加工に適したフレキシブル基板であることが分かる。   From Table 1, it can be seen that the flexible substrate of the present invention is a flexible substrate that has a sufficient light reflection performance and is particularly suitable for bending processing when creating an edge light.

1 フレキシブル基板
11 絶縁性保護膜
12 金属配線部
13 樹脂基板
14 金属箔層
15 粘着層
16 接着剤層
2 LED素子
3 熱伝導基材
31、32 角部
10 LED実装モジュール
100 LEDエッジライト
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flexible substrate 11 Insulating protective film 12 Metal wiring part 13 Resin substrate 14 Metal foil layer 15 Adhesive layer 16 Adhesive layer 2 LED element 3 Thermal conduction base material 31 and 32 Corner | angular part 10 LED mounting module 100 LED edge light

Claims (8)

可撓性を有する樹脂基板と、
前記樹脂基板上に積層されている金属配線部と、
前記樹脂基板上及び前記金属配線部上における発光素子実装用の一部領域を除いた部分に形成されている絶縁性保護膜と、を備え、
前記絶縁性保護膜は、非環状のジメチルシロキシ繰返単位を主成分とするシリコーン樹脂と、酸化チタンを含む無機フィラーと、を含有する樹脂組成物からなり、厚さが15μm以上30μm以下であって、JIS−K5600−5−4に準拠する鉛筆硬度試験による鉛筆硬度が10B以上B以下である、フレキシブル基板。
A flexible resin substrate;
A metal wiring portion laminated on the resin substrate;
An insulating protective film formed on a portion excluding a partial region for mounting a light emitting element on the resin substrate and the metal wiring portion,
The insulating protective film is made of a resin composition containing a silicone resin mainly composed of an acyclic dimethylsiloxy repeating unit and an inorganic filler containing titanium oxide, and has a thickness of 15 μm or more and 30 μm or less. A flexible substrate having a pencil hardness of 10B or more and B or less by a pencil hardness test according to JIS-K5600-5-4.
前記鉛筆硬度が10B以上6B以下である、請求項1に記載のフレキシブル基板。   The flexible substrate according to claim 1, wherein the pencil hardness is 10B or more and 6B or less. 前記シリコーン樹脂における、前記ジメチルシロキシ繰返単位の重合度が800以上1200以下である、請求項1又は2に記載のフレキシブル基板。   The flexible substrate according to claim 1 or 2, wherein a degree of polymerization of the dimethylsiloxy repeating unit in the silicone resin is 800 or more and 1200 or less. 前記金属配線部が積層されている面とは反対側の外表面に粘着層が形成されていて、
該粘着層を含む総厚さが200μm以下である請求項1から3のいずれかに記載のフレキシブル基板。
An adhesive layer is formed on the outer surface opposite to the surface on which the metal wiring portion is laminated,
The flexible substrate according to claim 1, wherein the total thickness including the adhesive layer is 200 μm or less.
前記樹脂基板がポリエチレンナフタレートである請求項1から4のいずれかに記載のフレキシブル基板。   The flexible substrate according to claim 1, wherein the resin substrate is polyethylene naphthalate. 請求項1から5のいずれかに記載のフレキシブル基板にLED素子が実装されてなるLED実装モジュールが、熱伝導基材に積層されてなるLEDエッジライトであって、
前記フレキシブル基板は、一又は複数の折曲げ線に沿って折曲げられることにより、前記熱伝導基材における前記LED素子の配置面と、該配置面に連接する他の面に連続的に密着しているLEDエッジライト。
An LED mounting module in which an LED element is mounted on the flexible substrate according to any one of claims 1 to 5, is an LED edge light that is laminated on a heat conductive base material,
The flexible substrate is bent along one or a plurality of fold lines so as to continuously adhere to the arrangement surface of the LED element in the heat conducting substrate and another surface connected to the arrangement surface. LED edge light.
前記熱伝導基材は、小口面の高さ方向の幅が、1mm以上2mm以下のパネル状又は直方体状のブロック体であって、
前記LED素子が、平面視において、前記小口面の幅方向の一側辺上から0mm以上1mm以内の等距離にある直線上に、前記LED素子の前記一側辺側の外縁が並ぶように、配置されている請求項6に記載のLEDエッジライト。
The heat conducting substrate is a panel-shaped or rectangular parallelepiped block body having a width in the height direction of the facet of 1 mm or more and 2 mm or less,
The LED element is arranged so that the outer edge on the one side side of the LED element is aligned on a straight line at an equal distance of 0 mm or more and 1 mm or less from one side side in the width direction of the facet surface in plan view. The LED edge light according to claim 6 arranged.
請求項6又は7に記載のLEDエッジライトが、導光板の側面の入光面に前記LED素子の発光面を正対させて配置されているLED表示装置。   8. An LED display device, wherein the LED edge light according to claim 6 or 7 is disposed with the light emitting surface of the LED element facing the light incident surface of the side surface of the light guide plate.
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