JP2010274256A - Light irradiation head, exposure device, image forming apparatus, liquid droplet curing device, and liquid droplet curing method - Google Patents

Light irradiation head, exposure device, image forming apparatus, liquid droplet curing device, and liquid droplet curing method Download PDF

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明 田口
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light irradiation head which irradiates an object with light of relatively high luminous energy, at a relatively small luminous energy distribution; an exposure device; an image forming apparatus; a liquid droplet curing device; and a liquid droplet curing method. <P>SOLUTION: The light irradiation head 10 includes the first substrate 20 and a light emitting element 12 disposed on the first substrate 20. The first substrate 20 has a cooling flow channel through which a cooling medium passes provided inside. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、光照射ヘッド、露光デバイス、画像形成装置、液滴硬化装置、および液滴硬化方法に関する。   The present invention relates to a light irradiation head, an exposure device, an image forming apparatus, a droplet curing device, and a droplet curing method.

現在、照明、画像表示デバイス、画像記録装置の光プリンタヘッドなどの幅広い用途でLED素子が利用されている。近年では、感光性材料に光を照射するための光照射ヘッドの光源としても、LED素子の利用が進んでいる。例えば、紫外線硬化型の樹脂、塗料は、レジスト皮膜の形成、印刷の分野から光ピックアップなどの組立工程における小物部品の接着固定の分野まで広く使用されている。   Currently, LED elements are used in a wide range of applications such as illumination, image display devices, and optical printer heads of image recording apparatuses. In recent years, the use of LED elements has been advanced as a light source of a light irradiation head for irradiating light to a photosensitive material. For example, ultraviolet curable resins and paints are widely used from the field of resist film formation and printing to the field of adhesive fixing of small parts in an assembly process such as an optical pickup.

近年、印刷媒体の多様化、環境に対する配慮、印刷スピードの高速化などの理由から、紫外線硬化型インク(UVインク)を用いた印刷手法が注目されている。UVインクを用いた印刷では、UVインクを印刷媒体に付着させ、付着したインクに紫外光(UV光)を照射して、このUVインクを短時間で硬化させている。   In recent years, printing methods using ultraviolet curable ink (UV ink) have attracted attention because of the diversification of printing media, environmental considerations, and increased printing speed. In printing using UV ink, the UV ink is attached to a print medium, and the attached ink is irradiated with ultraviolet light (UV light) to cure the UV ink in a short time.

従来、かかる紫外線硬化型インクを硬化するための紫外線照射ヘッドの光源としては、一般に高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプなどの蛍光ランプが使用されてきた。近年、例えば特許文献1に記載されたインクジェット式記録装置のように、UV光を発するUV−LED素子が基体の一方主面に複数配列されたUV−LEDアレイを照射光源として用いた印刷装置が提案されている。   Conventionally, fluorescent lamps such as a high-pressure mercury lamp and a low-pressure mercury lamp have been used as a light source of an ultraviolet irradiation head for curing such ultraviolet-curable ink. 2. Description of the Related Art Recently, for example, an ink jet recording apparatus described in Patent Document 1 is a printing apparatus using, as an irradiation light source, a UV-LED array in which a plurality of UV-LED elements that emit UV light are arranged on one main surface of a substrate. Proposed.

特開2005−104108号公報JP 2005-104108 A

LED素子は、発光にともなう発熱が比較的大きい。かかるLED素子を用いるLEDアレイでは、複数のLED素子が配列された基体の温度が上昇し易い。従来のLEDアレイでは、特許文献1にも記載されているように、例えば金属部材からなるヒートシンクを、LED素子が配列された基体と接合している。このような構成の従来のLEDアレイでは、接合しているヒートシンクを介して基体の熱エネルギーを周囲に放射することで温度上昇を抑制していた。しかし、LEDアレイでは、照射する光強度を比較的強く、かつ強度分布を小さくするために、多数のLED素子を近接して配置する場合がある。このように多数のLED素子を近接は位置したLEDアレイでは、ヒートシンクによる放熱だけでは、温度上昇の抑制の程度が比較的小さい場合がある。結果、このように温度上昇の抑制が小さなLEDアレイでは、高温下で駆動されることになるLED素子の電気特性が低下する場合があった。   The LED element generates a relatively large amount of heat due to light emission. In an LED array using such LED elements, the temperature of a substrate on which a plurality of LED elements are arranged is likely to rise. In the conventional LED array, as described in Patent Document 1, for example, a heat sink made of a metal member is bonded to a base on which LED elements are arranged. In the conventional LED array having such a configuration, the temperature rise is suppressed by radiating the thermal energy of the substrate to the surroundings through the heat sink to which the LED array is bonded. However, in an LED array, a large number of LED elements may be arranged close to each other in order to make the intensity of light to be irradiated relatively strong and reduce the intensity distribution. Thus, in an LED array in which a large number of LED elements are located close to each other, the degree of suppression of temperature rise may be relatively small only by heat radiation by a heat sink. As a result, in such an LED array that suppresses the temperature rise, the electrical characteristics of the LED element that is driven at a high temperature may be deteriorated.

また、LED素子が実装される基体は、例えば反射率が比較的優れたセラミックス基板などの絶縁基板が用いられている。このセラミックス基板は、金属部材からなるヒートシンクと熱膨張係数などが比較的大きく相違している。基体とヒートシンクとの膨張の程度の違いに起因した内部応力が生じるので、ヒートシンクによる放熱が不十分な場合は、基体の変形、破損などに繋がる虞もあった。   For the substrate on which the LED element is mounted, an insulating substrate such as a ceramic substrate having a relatively excellent reflectance is used. This ceramic substrate is relatively different from a heat sink made of a metal member in terms of thermal expansion coefficient. Since an internal stress is generated due to the difference in the degree of expansion between the base and the heat sink, there is a possibility that the base may be deformed or damaged when heat dissipation by the heat sink is insufficient.

本発明はかかる課題を解決する目的でなされたものである。   The present invention has been made for the purpose of solving such problems.

上記課題を解決するために、本願発明は、基体と、前記基体の一方主面の側に配置された発光素子とを備え、前記基体の内部に、冷却媒体が通過するための流路が設けられていることを特徴とする光照射ヘッドを提供する。   In order to solve the above-mentioned problems, the present invention includes a base and a light emitting element disposed on the one main surface side of the base, and a flow path through which a cooling medium passes is provided inside the base. A light irradiation head is provided.

また、上記光照射ヘッドを備えて構成された露光デバイスを提供する。   Moreover, the exposure device comprised provided with the said light irradiation head is provided.

また、上記露光デバイスと、前記光照射ヘッドからの発光を、前記発光素子の発光を受けて変性する感光体材料の表面に向けて導く光学系と、入力された画像データに応じて前記光照射ヘッドに配置された発光素子の発光を制御し、前記感光体材料に前記画像データに応じた画像パターンを形成させる制御部と、を備えて構成される画像形成装置を併せて提供する。   In addition, the exposure device, an optical system that guides light emitted from the light irradiation head toward the surface of the photosensitive material that is modified by receiving light emitted from the light emitting element, and the light irradiation according to input image data. There is also provided an image forming apparatus including a control unit that controls light emission of a light emitting element disposed in a head and forms an image pattern corresponding to the image data on the photosensitive material.

また、上述の光照射ヘッドと、前記光照射ヘッドよりの発光を受けて硬化する光硬化性物質の液滴を記録媒体に吐出し、前記記録媒体の表面に前記液滴を付着させる吐出手段と、を備えることを特徴とする液滴硬化装置を、併せて提供する。   Also, the light irradiation head described above, and discharge means for discharging a droplet of a photocurable material that is cured by receiving light emitted from the light irradiation head to the recording medium, and attaching the droplet to the surface of the recording medium In addition, a droplet curing apparatus comprising:

また、記録媒体の表面に、上述の光照射ヘッドによる発光を受けて硬化する光硬化性物質を付着させ、前記対象体の表面に付着した液滴に、前記光照射ヘッドからの発光を照射し、前記液滴を硬化させることを特徴とする液滴硬化方法を、併せて提供する。   In addition, a photocurable material that is cured by receiving light emitted from the light irradiation head described above is attached to the surface of the recording medium, and light emitted from the light irradiation head is irradiated onto the droplets attached to the surface of the object. Also provided is a droplet curing method characterized by curing the droplet.

本発明の光照射ヘッド、露光デバイス、画像形成装置、液滴硬化装置は、放熱効率が比較的高く、発光の最中における温度上昇が比較的少ない。本発明の光照射ヘッド、露光デバイス、画像形成装置、液滴硬化装置は、比較的高強度でかつ強度分布のムラが比較的小さい光を、長期間に渡って安定して照射することができる。本発明の液滴硬化装置および方法によれば、対象体に付着させた液滴を、比較的短時間で硬化させることができ、対象体表面での硬化ムラも比較的少ない。   The light irradiation head, exposure device, image forming apparatus, and droplet curing apparatus of the present invention have a relatively high heat dissipation efficiency and a relatively small temperature rise during light emission. The light irradiation head, exposure device, image forming apparatus, and droplet curing apparatus of the present invention can stably irradiate light having relatively high intensity and relatively small unevenness in intensity distribution over a long period of time. . According to the droplet curing apparatus and method of the present invention, it is possible to cure a droplet attached to an object in a relatively short time, and relatively little uneven curing on the surface of the object.

本発明の光照射ヘッドの一実施形態の照射ヘッドについて説明する概略斜視図である。It is a schematic perspective view explaining the irradiation head of one Embodiment of the light irradiation head of this invention. 図1に示した照射ヘッドの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the irradiation head shown in FIG. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of other embodiment of the light irradiation head of this invention. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of other embodiment of the light irradiation head of this invention. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of other embodiment of the light irradiation head of this invention. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態について説明する概略平面図である。It is a schematic plan view explaining other embodiment of the light irradiation head of this invention. 図6に示した光照射ヘッドの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the light irradiation head shown in FIG. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of other embodiment of the light irradiation head of this invention. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of other embodiment of the light irradiation head of this invention. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of other embodiment of the light irradiation head of this invention. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態について説明する概略平面図である。It is a schematic plan view explaining other embodiment of the light irradiation head of this invention. 図11に示した光照射ヘッドの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the light irradiation head shown in FIG. 図12に示した光照射ヘッドの構成について説明する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing explaining the structure of the light irradiation head shown in FIG. 図13に示した光照射ヘッドの一部を示す概略平面図である。FIG. 14 is a schematic plan view showing a part of the light irradiation head shown in FIG. 13. 図13に示した光照射ヘッドの一部を示す概略平面図である。FIG. 14 is a schematic plan view showing a part of the light irradiation head shown in FIG. 13. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of other embodiment of the light irradiation head of this invention. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of other embodiment of the light irradiation head of this invention. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of other embodiment of the light irradiation head of this invention. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of other embodiment of the light irradiation head of this invention. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of other embodiment of the light irradiation head of this invention. 本発明の光照射ヘッドの他の実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of other embodiment of the light irradiation head of this invention. 本発明の光照射ヘッドの概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of the light irradiation head of this invention. 図22に示した光照射ヘッドが備える第1接合部材を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows the 1st joining member with which the light irradiation head shown in FIG. 22 is provided. 本発明の他の実施形態の冷媒供給デバイスを簡略化して示すブロック図である。It is a block diagram which simplifies and shows the refrigerant | coolant supply device of other embodiment of this invention. 図22に示した照射ヘッドを備えて構成される、本発明の液滴硬化装置の一例である、インクジェットプリンタについて説明する概略上面図である。It is a schematic top view explaining the inkjet printer which is an example of the droplet hardening apparatus of this invention comprised including the irradiation head shown in FIG. 図25に示したインクジェットプリンタの概略断面図である。FIG. 26 is a schematic sectional view of the ink jet printer shown in FIG. 25.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。以下の実施の形態は、例示するものであって、これらの実施の形態に本発明が限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The following embodiments are illustrative, and the present invention is not limited to these embodiments.

<光照射ヘッドの第1実施形態>
図1は、本発明の光照射ヘッドの一実施形態である光照射ヘッド10について説明する概略斜視図であり、図2は、光照射ヘッド10の一部を拡大して示す概略断面図である。
<First Embodiment of Light Irradiation Head>
FIG. 1 is a schematic perspective view illustrating a light irradiation head 10 which is an embodiment of the light irradiation head of the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged part of the light irradiation head 10. .

光照射ヘッド10は、基体としての絶縁基体11と、発光素子12と、端子電極131,132と、封止材14と、を備えている。この絶縁基体11は、例えばアルミナなどのセラミックスによって形成される。また、この絶縁基体11の第1主面には、複数の発光素子12がアレイ状に配置されている。   The light irradiation head 10 includes an insulating substrate 11 as a substrate, a light emitting element 12, terminal electrodes 131 and 132, and a sealing material 14. The insulating base 11 is made of ceramics such as alumina. A plurality of light emitting elements 12 are arranged in an array on the first main surface of the insulating substrate 11.

絶縁基体11は、第1基板20を備えている。この第1基板20は、板状の表面21aを有する支持部21の当該表面21aの上に反射部22が配置された構成となっている。この反射部22には、複数の貫通孔22aが設けられている。この貫通孔22aの開口のうち一方は、支持部21の表面21aで塞がれている。この第1基板20は、支持部21の表面21aのうち、反射部22の貫通孔22aで囲まれた領域21bに発光素子12が配置されている。この第1基板では、反射部22の貫通孔22aと、支持部21の表面21aのうち当該貫通孔22aで囲まれた領域21bと、が発光素子12の発する光を反射する反射構造として機能している。支持部21の表面21aには、発光素子12に電力を供給するとともに、これら発光素子12に接続する一対の端子電極131,132が設けられている。この一対の端子電極131,132は、貫通孔22aで囲まれた領域21bに第1端が位置しており、発光素子12に接続されている。また、この一対の端子電極131,132は、第1基板20の内部に配された配線導体23を介して、外部に設けられた入力端子に電気的に接続されている。また、反射部22の複数の貫通孔22aの内部には、発光素子12全体を覆うように、封止材14が充填されている。この封止材14としては、例えばシリコーン樹脂が挙げられる。   The insulating base 11 includes a first substrate 20. This 1st board | substrate 20 becomes a structure by which the reflection part 22 is arrange | positioned on the said surface 21a of the support part 21 which has the plate-shaped surface 21a. The reflecting portion 22 is provided with a plurality of through holes 22a. One of the openings of the through hole 22a is closed by the surface 21a of the support portion 21. In the first substrate 20, the light emitting element 12 is arranged in a region 21 b surrounded by the through hole 22 a of the reflection portion 22 in the surface 21 a of the support portion 21. In the first substrate, the through hole 22a of the reflection part 22 and the region 21b surrounded by the through hole 22a in the surface 21a of the support part 21 function as a reflection structure that reflects light emitted from the light emitting element 12. ing. On the surface 21 a of the support portion 21, a pair of terminal electrodes 131 and 132 that supply power to the light emitting elements 12 and connect to the light emitting elements 12 are provided. The pair of terminal electrodes 131 and 132 has a first end located in a region 21 b surrounded by the through hole 22 a and is connected to the light emitting element 12. The pair of terminal electrodes 131 and 132 are electrically connected to an input terminal provided outside via a wiring conductor 23 arranged inside the first substrate 20. Moreover, the sealing material 14 is filled in the plurality of through holes 22 a of the reflection portion 22 so as to cover the entire light emitting element 12. As this sealing material 14, a silicone resin is mentioned, for example.

支持部21は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、およびガラスセラミックスなどのセラミックス、ならびにエポキシ樹脂、および液晶ポリマー(LCP)などの樹脂、などによって形成される。   The support 21 is made of, for example, an aluminum oxide sintered body, an aluminum nitride sintered body, a mullite sintered body, ceramics such as glass ceramics, epoxy resin, and resin such as liquid crystal polymer (LCP). It is formed.

支持部21がセラミックスなどから成る場合の当該支持部21の製造方法では、まず、焼成することで支持部21となる複数のグリーンシートを準備する。次に、発光素子12と入力端子との電気的な接続を介する配線導体23となる金属ペーストをグリーンシートの間に配置する。この配線導体23となる金属ペーストとしては、例えばタングステン(W)、モリブデン(Mo)、マンガン(Mn)、および銅(Cu)などの金属を含有させたものが挙げられる。次に、支持部21を焼成するのと同時に、金属ペーストを併せて焼成することによって、配線導体23を有する支持部21を形成することができる。このような端子電極131,132は、上記周知のメタライズ法、メッキ法などを用いて形成すればよい。   In the manufacturing method of the support part 21 when the support part 21 is made of ceramics or the like, first, a plurality of green sheets to be the support part 21 are prepared by firing. Next, a metal paste that becomes the wiring conductor 23 through the electrical connection between the light emitting element 12 and the input terminal is disposed between the green sheets. Examples of the metal paste that becomes the wiring conductor 23 include a paste containing a metal such as tungsten (W), molybdenum (Mo), manganese (Mn), and copper (Cu). Next, simultaneously with firing the support portion 21, the support portion 21 having the wiring conductor 23 can be formed by firing together with the metal paste. Such terminal electrodes 131 and 132 may be formed using the known metallization method, plating method, or the like.

また、支持部21が樹脂から成る絶縁体の場合の当該支持部21の製造方法では、まず、硬化することで支持部21となる樹脂の前駆体を準備する。次に、発光素子12と入力端子との電気的な接続を介する配線導体23となるリード端子を支持部21となる樹脂の前駆体の中に埋設する。この前駆体の中に埋設する際に、リード端子の一端を発光素子12の側に搭載部に導出して、他端を支持部21の側面、下面から露出させることによって、他の素子と電気的に接続することができる。このリード端子の形成材料としては、例えばCu、Ag、Al、鉄(Fe)−ニッケル(Ni)−コバルト(Co)合金、およびFe−Ni合金などの金属材料が挙げられる。   Moreover, in the manufacturing method of the said support part 21 in case the support part 21 is the insulator which consists of resin, first, the precursor of the resin used as the support part 21 is prepared by hardening. Next, the lead terminal that becomes the wiring conductor 23 through the electrical connection between the light emitting element 12 and the input terminal is embedded in the resin precursor that becomes the support portion 21. When embedding in this precursor, one end of the lead terminal is led out to the mounting portion on the light emitting element 12 side, and the other end is exposed from the side surface and the lower surface of the support portion 21, so that it is electrically connected to other elements. Can be connected. Examples of the material for forming the lead terminal include metal materials such as Cu, Ag, Al, iron (Fe) -nickel (Ni) -cobalt (Co) alloy, and Fe-Ni alloy.

光照射ヘッド10では、発光素子12から放射される光のうち反射部22の貫通孔22aの内周面に向かう光が、貫通孔22aの内周面で上方に反射されて、図中の上方に向けて効率的に照射されるように構成されている。本実施形態の反射部22は、白色光源の下で白色に視認される、多孔質のセラミックスからなる。このセラミックスは、例えば紫外線領域の光に対して、比較的良好な反射性を有するように選択される。この反射部22として採用されるセラミックスとしては、例えば酸化アルミニウム質焼結体、酸化ジルコニウム質焼結体、および窒化アルミニウム質焼結体などが挙げられる。また、反射部22は、エポキシ樹脂、および液晶ポリマー(LCP)などの樹脂で構成されてもよい。また、所望の反射性を達成するために、反射部22の材質、発光素子12から発する光の波長などに応じて、反射部22の貫通孔22aの内周面に金属性の反射膜が設けられていてもよい。このような金属製の反射膜は、例えば金属メッキ、蒸着などによって形成することができる。   In the light irradiation head 10, the light emitted from the light emitting element 12 toward the inner peripheral surface of the through hole 22 a of the reflecting portion 22 is reflected upward by the inner peripheral surface of the through hole 22 a, and the upper portion in FIG. It is comprised so that it may irradiate efficiently toward. The reflection part 22 of this embodiment consists of porous ceramics visually recognized by white under a white light source. This ceramic is selected so as to have a relatively good reflectivity with respect to light in the ultraviolet region, for example. Examples of the ceramic employed as the reflecting portion 22 include an aluminum oxide sintered body, a zirconium oxide sintered body, and an aluminum nitride sintered body. Moreover, the reflection part 22 may be comprised with resin, such as an epoxy resin and a liquid crystal polymer (LCP). Further, in order to achieve the desired reflectivity, a metallic reflective film is provided on the inner peripheral surface of the through hole 22a of the reflective portion 22 according to the material of the reflective portion 22, the wavelength of light emitted from the light emitting element 12, and the like. It may be done. Such a metallic reflective film can be formed by, for example, metal plating, vapor deposition, or the like.

発光素子12は、素子基板121の主面の一方の上に発光層122が設けられて構成されている。この素子基板121としては、例えばサファイアなどが挙げられる。この発光層122としては、例えばGaNなどの化合物半導体からなる公知のものが挙げられる。本実施形態では、発光素子12をフリップチップ接続すべく、素子基板121の2つの主面のうち、第1基板20の上面と対向している側の一方の主面の上に発光層122が設けられている。   The light emitting element 12 is configured by providing a light emitting layer 122 on one of the main surfaces of an element substrate 121. Examples of the element substrate 121 include sapphire. As this light emitting layer 122, the well-known thing which consists of compound semiconductors, such as GaN, is mentioned, for example. In the present embodiment, the light emitting layer 122 is formed on one main surface on the side facing the upper surface of the first substrate 20 out of the two main surfaces of the element substrate 121 so that the light emitting element 12 is flip-chip connected. Is provided.

本実施形態では、発光層122が発する光の波長のピークスペクトルが380〔nm〕以下のUV光を発するものを採用している。つまり、本実施形態では、発光素子12としてUV−LED素子を採用している。発光層122は、素子基板121の一方の主面に複数の半導体層が積層されている(なお、この半導体層は、個別に図示していない)。より具体的には、発光層122は、例えば、素子基板121の一方主面から、n型およびp型のうちの一方の導電型の第1の半導体層と、第1のコンタクト層と、第1半導体層と逆の型の第2の導電型の半導体層と、第2のコンタクト層と、がこの記載の順番で積層されて形成されている。   In the present embodiment, the light emitting layer 122 that emits UV light having a wavelength peak spectrum of 380 [nm] or less is employed. That is, in the present embodiment, a UV-LED element is employed as the light emitting element 12. In the light emitting layer 122, a plurality of semiconductor layers are stacked on one main surface of the element substrate 121 (note that this semiconductor layer is not shown individually). More specifically, for example, the light emitting layer 122 includes, from one main surface of the element substrate 121, a first semiconductor layer of one conductivity type of n-type and p-type, a first contact layer, A semiconductor layer of a second conductivity type opposite to that of the first semiconductor layer and a second contact layer are formed by being stacked in this order.

また、発光層122の第1基板20と対向する側の表面には、例えばAgを主成分とする素子電極123,124が設けられている。発光層122の表面に設けられた、これらの素子電極123,124が、第1基板20の支持部21の表面21aに設けられた一対の端子電極131,132に接続されている。本実施形態の発光素子12は、第1基板20の一方主面にフリップチップされた状態で配置されている。発光層122は、素子電極123,124に電圧が印加されることで、電圧値の大きさに応じた光量の光を発する。本実施形態の素子基板121は、サファイアによって形成されており、発光層122の発する光に対して比較的良好な透明性を有する。なお、本実施形態では、発光素子12を電圧の大きさで制御しているが、電流の大きさで制御してもよい。   In addition, element electrodes 123 and 124 mainly composed of Ag, for example, are provided on the surface of the light emitting layer 122 facing the first substrate 20. These element electrodes 123 and 124 provided on the surface of the light emitting layer 122 are connected to a pair of terminal electrodes 131 and 132 provided on the surface 21 a of the support portion 21 of the first substrate 20. The light emitting element 12 of the present embodiment is arranged in a state where it is flip-chiped on one main surface of the first substrate 20. The light emitting layer 122 emits light having a light amount corresponding to the magnitude of the voltage value when a voltage is applied to the device electrodes 123 and 124. The element substrate 121 of this embodiment is made of sapphire and has relatively good transparency with respect to the light emitted from the light emitting layer 122. In the present embodiment, the light emitting element 12 is controlled by the magnitude of the voltage, but may be controlled by the magnitude of the current.

図1に示した実施形態では、複数の発光層122がそれぞれ素子電極123,124を備えている。かかる実施形態では、発光層122のそれぞれに印加する電圧を、発光層122毎に独立して制御することができる。なお、電極の構成については特に限定されず、例えば、複数の発光層122に同時に接続する長尺の素子電極123,124を反射部22で囲まれた領域21bに配して、複数の発光層122に同じ電圧を一括して印加する構成としてもよい。また、発光層122は、それぞれを電気的に並列に接続してもよいし、電気的に直列に接続してもよい。   In the embodiment shown in FIG. 1, the plurality of light emitting layers 122 include element electrodes 123 and 124, respectively. In such an embodiment, the voltage applied to each of the light emitting layers 122 can be controlled independently for each light emitting layer 122. The configuration of the electrodes is not particularly limited. For example, the long element electrodes 123 and 124 that are simultaneously connected to the plurality of light emitting layers 122 are arranged in the region 21b surrounded by the reflecting portion 22 to form a plurality of light emitting layers. The same voltage may be applied to 122 in a lump. In addition, the light emitting layers 122 may be electrically connected in parallel or may be electrically connected in series.

封止材14は、発光層122が発する光を良好に透過する材料が選択される。この封止材14としては、例えばシリコーン樹脂が挙げられる。また、封止材14の屈折率は、空気の屈折率である約1.0と比較して、素子基板121の屈折率により近い材料が選択される。本実施形態の封止材14は、屈折率が約1.4のシリコーン樹脂で形成されており、屈折率が約1.0の空気に比べて、屈折率が1.7のサファイアで形成されている素子基板121に近い値となっている。   As the sealing material 14, a material that favorably transmits light emitted from the light emitting layer 122 is selected. As this sealing material 14, a silicone resin is mentioned, for example. Further, a material closer to the refractive index of the element substrate 121 is selected as the refractive index of the sealing material 14 than about 1.0 which is the refractive index of air. The sealing material 14 of this embodiment is formed of a silicone resin having a refractive index of about 1.4, and is formed of sapphire having a refractive index of 1.7 compared to air having a refractive index of about 1.0. The value is close to that of the element substrate 121.

本実施形態では、例えば発光層122が平面視において約0.6〔mm〕×0.6〔mm〕の大きさの発光素子12が、第1基板20の一方の主面に、約2.6〔mm〕と比較的小さな実装間隔で縦横に配列されている。光照射ヘッド10の光照射部10Xは、第1基板20の一方主面から照射される光の強度が比較的強く、また強度分布のバラツキの大きさも比較的小さくされている。この光照射部10Xは、第1基板20の支持部21の一部および反射部22と、発光素子12とを含んで構成されている。一方、複数の発光素子12が近接して配置されており、発光素子12の発光中に第1基板20に伝わる単位時間当たりの熱量の大きさも、比較的大きくされている。   In the present embodiment, for example, the light emitting element 122 having a size of about 0.6 [mm] × 0.6 [mm] in a plan view of the light emitting layer 122 is formed on the one main surface of the first substrate 20 with about 2. They are arranged vertically and horizontally at a relatively small mounting interval of 6 mm. In the light irradiation unit 10X of the light irradiation head 10, the intensity of light irradiated from the one main surface of the first substrate 20 is relatively strong, and the variation in intensity distribution is also relatively small. The light irradiation unit 10 </ b> X includes a part of the support unit 21 of the first substrate 20, the reflection unit 22, and the light emitting element 12. On the other hand, the plurality of light emitting elements 12 are arranged close to each other, and the amount of heat per unit time transmitted to the first substrate 20 during the light emission of the light emitting elements 12 is also relatively large.

第1基板20は、発光素子12の発光にともなう熱を吸収する冷却媒体が通過するための冷却流路201が内部に設けられている。冷却媒体は、液体であってもよいし、気体であってもよいし、固形成分を含む液体であってもよく、冷却流路201を流れる流体であれば特に限定されるものではない。かかる冷却媒体は、後述する冷媒供給デバイス10Yから、第1基板20の冷却流路201に供給される。この光照射ヘッド10は、絶縁基体11の第1基板20の内部に冷却流路201を備えており、この冷却流路201を流れる冷却媒体によって、発光素子12の発光にともなう熱が効率良く吸収される。このため、発光素子12からの放熱効率が比較的高く、発光の最中における温度上昇が比較的少ない。これによって、光照射ヘッド10は、比較的高強度でかつ強度分布のムラが比較的小さい光を、長期間に渡って安定して照射することができる。   The first substrate 20 is provided with a cooling flow path 201 through which a cooling medium that absorbs heat accompanying light emission of the light emitting element 12 passes. The cooling medium may be a liquid, a gas, or a liquid containing a solid component, and is not particularly limited as long as it is a fluid that flows through the cooling flow path 201. Such a cooling medium is supplied to the cooling flow path 201 of the first substrate 20 from a refrigerant supply device 10Y described later. The light irradiation head 10 includes a cooling flow path 201 inside the first substrate 20 of the insulating base 11, and heat generated by light emission of the light emitting element 12 is efficiently absorbed by the cooling medium flowing through the cooling flow path 201. Is done. For this reason, the heat dissipation efficiency from the light emitting element 12 is relatively high, and the temperature rise during light emission is relatively small. Thereby, the light irradiation head 10 can stably irradiate light having relatively high intensity and relatively small unevenness in intensity distribution over a long period of time.

なお、光照射ヘッド10は、上述の構成に限られるものではない。例えば図3〜5に示したように、第1基板20に比べて熱伝導率が高い熱伝導部材24が第1基板20の内部に配置されていてもよい。この熱伝導部材24は、例えば図3に示したように、各発光素子12と冷却流路201に挟まれた領域に全体が配置されていてもよい。また、各発光素子12と冷却流路201に挟まれた領域に熱伝導部材24の一部が配置された構成であってもよい。また、例えば図4に示したように、熱伝導部材24の少なくとも一部が、冷却流路201の内部に露出していてもよい。つまり、この場合、熱伝導部材24の一部が冷却流路201の内壁として機能している。また、熱伝導部材24は冷却流路201を貫通していてもよい。さらに、熱伝導部材24を冷却流路201が貫通していてもよい。冷却流路201の内部を通る冷却媒体に、熱伝導部材24が直接接触する場合は、この冷却媒体と熱伝導部材24との間で効率的に熱交換が行われ、発光素子12が効率的に冷却される。   In addition, the light irradiation head 10 is not restricted to the above-mentioned structure. For example, as illustrated in FIGS. 3 to 5, a heat conductive member 24 having a higher thermal conductivity than the first substrate 20 may be disposed inside the first substrate 20. For example, as illustrated in FIG. 3, the heat conducting member 24 may be entirely disposed in a region sandwiched between each light emitting element 12 and the cooling flow path 201. Further, a configuration in which a part of the heat conducting member 24 is arranged in a region sandwiched between each light emitting element 12 and the cooling flow path 201 may be employed. For example, as shown in FIG. 4, at least a part of the heat conducting member 24 may be exposed inside the cooling channel 201. That is, in this case, a part of the heat conducting member 24 functions as the inner wall of the cooling flow path 201. Further, the heat conducting member 24 may penetrate the cooling flow path 201. Further, the cooling channel 201 may penetrate the heat conducting member 24. When the heat conducting member 24 is in direct contact with the cooling medium passing through the inside of the cooling channel 201, heat exchange is efficiently performed between the cooling medium and the heat conducting member 24, and the light emitting element 12 is efficiently used. To be cooled.

また、熱伝導部材24の形状は、特に限定されない。例えば図5に示したように、熱伝導部材24が、流路に近づくにしたがって、第1基板20の主面に平行な面積が大きくなるような形状であってもよい。図5に示したような形状を有する場合、発熱源である発光素子12に近い側は、この発光素子12からの熱が十分に伝わる程度の大きさとして、熱伝導部材24の体積を比較的小さく抑えつつ、熱伝導部材24の熱容量を比較的大きくできる。加えて、熱を放出する側の面積(図3〜5に示した例では、冷却流路201に露出している側の面積)を比較的大きくし、放熱効率を比較的高くすることができる。この点で、熱伝導部材24は、一方主面に平行な断面積がそれぞれ異なる複数の部分領域を有し、一方主面の側の部分領域に比べて他方主面の側の部分領域がより大きい、拡径部を備えていることが好ましい。熱伝導部材24の配置および形状は、要求される特性に応じて適宜設定すればよく、特に限定されない。   Further, the shape of the heat conducting member 24 is not particularly limited. For example, as illustrated in FIG. 5, the heat conducting member 24 may have a shape that increases in area parallel to the main surface of the first substrate 20 as it approaches the flow path. In the case of having the shape as shown in FIG. 5, the side close to the light emitting element 12 that is a heat source is set to a size that can sufficiently transfer heat from the light emitting element 12, and the volume of the heat conducting member 24 is relatively large. The heat capacity of the heat conducting member 24 can be made relatively large while keeping it small. In addition, the area on the side from which heat is released (in the example shown in FIGS. 3 to 5, the area exposed to the cooling channel 201) can be made relatively large, and the heat radiation efficiency can be made relatively high. . In this respect, the heat conducting member 24 has a plurality of partial regions each having a different cross-sectional area parallel to the one main surface, and the partial region on the other main surface side is more than the partial region on the one main surface side. It is preferable to have a large diameter-expanded portion. The arrangement and shape of the heat conducting member 24 may be appropriately set according to required characteristics, and are not particularly limited.

また、光照射ヘッド10は、図6,7に示したように、絶縁基体11の他方主面に、発光素子12に電力を供給する駆動素子15が配置されていてもよい。かかる構成によって、光照射ヘッド10を比較的コンパクトに構成することができる。また、光照射ヘッド10は、駆動素子15が第1基板20の内部に配された配線導体23(図6,7に図示せず)を介して一方主面に設けられた発光素子12に電気的に接続されていてもよく、この場合、光照射ヘッド10をよりコンパクトに形成することができる。発光素子12に比較的大きな電流を流すための駆動回路150は、発光素子12の発光に際して発熱し、温度も比較的上昇しやすい。図6,7に示した実施形態では、第1基板20に設けられた冷却流路201を通過する冷却媒体によって、この駆動回路150も比較的高い効率で冷却することができる。   In the light irradiation head 10, as shown in FIGS. 6 and 7, a driving element 15 that supplies power to the light emitting element 12 may be disposed on the other main surface of the insulating base 11. With this configuration, the light irradiation head 10 can be configured relatively compact. Further, the light irradiation head 10 is electrically connected to the light emitting element 12 provided on one main surface via a wiring conductor 23 (not shown in FIGS. 6 and 7) in which the driving element 15 is disposed inside the first substrate 20. In this case, the light irradiation head 10 can be formed more compactly. The drive circuit 150 for causing a relatively large current to flow through the light emitting element 12 generates heat when the light emitting element 12 emits light, and the temperature is likely to rise relatively. In the embodiment shown in FIGS. 6 and 7, the drive circuit 150 can also be cooled with relatively high efficiency by the cooling medium passing through the cooling flow path 201 provided in the first substrate 20.

また、光照射ヘッド10は、例えば図8〜10に示したように、第1基板20の内部の、駆動回路150と冷却流路201とに挟まれた領域に、第1基板20に比べて熱伝導率が高い第2の熱伝導部材25が配置されていてもよい。例えば図8に示したように、駆動回路150と冷却流路201とに挟まれた領域のみに第2の熱伝導部材25が配置されていてもよいし、例えば図9に示すように、駆動回路150と冷却流路201とに挟まれた領域に第2の熱伝導部材25が配置されており、発光素子12冷却流路201との間に熱伝導部材24が設けられていてもよい。また、第2の熱伝導部材25が、冷却流路201の内面に露出した形態であってもよい。また、第2の熱伝導部材25が第1基板20の他方主面に露出し、絶縁膜(図示せず)などを介して、この駆動回路150が第2の熱伝導部材25に載置されていてもよい。   Further, as shown in FIGS. 8 to 10, for example, the light irradiation head 10 is compared with the first substrate 20 in a region between the drive circuit 150 and the cooling flow path 201 inside the first substrate 20. The 2nd heat conductive member 25 with high heat conductivity may be arrange | positioned. For example, as shown in FIG. 8, the second heat conducting member 25 may be disposed only in a region sandwiched between the drive circuit 150 and the cooling channel 201. For example, as shown in FIG. The second heat conducting member 25 may be disposed in a region sandwiched between the circuit 150 and the cooling channel 201, and the heat conducting member 24 may be provided between the light emitting element 12 and the cooling channel 201. Further, the second heat conducting member 25 may be exposed on the inner surface of the cooling channel 201. The second heat conducting member 25 is exposed on the other main surface of the first substrate 20, and the drive circuit 150 is placed on the second heat conducting member 25 via an insulating film (not shown). It may be.

なお、図3〜5,8,9においては、1つの発光素子12に対して、一本の柱状の熱伝導部材24,第2の熱伝導部材25が配置されている例を示している。この熱伝導部材24,25の形状、配置位置などについては特に限定されず、例えば図10に示したように、1つの発光素子12に対して、柱状の複数の熱伝導部材24,第2の熱伝導部材25が配置されていてもよい。   3, 5, 8, and 9 illustrate an example in which one columnar heat conductive member 24 and a second heat conductive member 25 are arranged for one light emitting element 12. The shape and arrangement position of the heat conducting members 24 and 25 are not particularly limited. For example, as shown in FIG. 10, the plurality of columnar heat conducting members 24 and the second heat conducting members 24 and the second light conducting elements 12 are arranged. A heat conducting member 25 may be disposed.

熱伝導部材24,第2の熱伝導部材25は、例えばタングステン(W)、モリブデン(Mo)、マンガン(Mn)、および銅(Cu)などの金属、ならびに銅(Cu)−タングステン(W)などの合金など、熱伝導性が比較的高い材料で構成されていればよい。この熱伝導部材24,第2の熱伝導部材25の材質、製造方法などについては、特に限定されない。例えば、セラミックグリーンシートの貫通孔に、上述の金属、合金などを含有する金属ペーストを配置して、グリーンシートを積層して焼成すると同時に、金属ペーストを併せて焼成することによって、熱伝導部材24,第2の熱伝導部材25が内部に配置された第1基板20を形成することができる。また、周知のメタライズ法、メッキ法などを用い形成してもよい。また、第1基板20の表面に設けられた凹部に、銅(Cu)−タングステン(W)などからなるブロック体を配置して形成してもよい。   The heat conductive member 24 and the second heat conductive member 25 are, for example, metals such as tungsten (W), molybdenum (Mo), manganese (Mn), and copper (Cu), and copper (Cu) -tungsten (W). As long as it is made of a material having a relatively high thermal conductivity, such as an alloy of There are no particular limitations on the material, manufacturing method, and the like of the heat conducting member 24 and the second heat conducting member 25. For example, a metal paste containing the above-described metal, alloy, or the like is disposed in the through hole of the ceramic green sheet, and the green sheet is laminated and fired. The first substrate 20 having the second heat conductive member 25 disposed therein can be formed. Further, a well-known metallizing method, plating method, or the like may be used. Further, a block body made of copper (Cu) -tungsten (W) or the like may be disposed in a recess provided on the surface of the first substrate 20.

図1〜10に示した例では、冷却流路201は、第1基板20の主面に垂直な平面視において、発光素子12の配置位置と重なるように、冷却流路201が配置されている。光照射ヘッド10における冷却流路201の配置状態は特に限定されず、図11,12に示したように、発光素子12の周囲を迂回するように配置されていてもよい。例えばこの場合、冷却流路201の内部の冷却媒体が、1つ1つの発光素子12の周囲を流れる距離が比較的長くなり、かつ、1つ1つの発光素子12の周囲を流れる時間も比較的長くなる。この点で、冷却流路201は、熱伝導部材24,第2の熱伝導部材25の外面に沿って曲がる曲部を、少なくとも1つ備えていることが好ましい。例えば、熱伝導部材24,第2の熱伝導部材25の下面側を迂回するように屈曲していてもよく(図示せず)、熱伝導部材24,第2の熱伝導部材25の上面側を迂回していてもよい(図示せず)。冷却流路201の配置、形状など、特に限定されない。   In the example shown in FIGS. 1 to 10, the cooling flow path 201 is arranged so that the cooling flow path 201 overlaps with the arrangement position of the light emitting element 12 in a plan view perpendicular to the main surface of the first substrate 20. . The arrangement state of the cooling flow path 201 in the light irradiation head 10 is not particularly limited, and may be arranged so as to bypass the periphery of the light emitting element 12 as shown in FIGS. For example, in this case, the cooling medium in the cooling flow path 201 has a relatively long distance to flow around each light emitting element 12 and the time to flow around each light emitting element 12 is also relatively long. become longer. In this respect, it is preferable that the cooling flow path 201 includes at least one bent portion that bends along the outer surfaces of the heat conducting member 24 and the second heat conducting member 25. For example, you may bend so that the lower surface side of the heat conductive member 24 and the 2nd heat conductive member 25 may be bypassed (not shown), and the upper surface side of the heat conductive member 24 and the 2nd heat conductive member 25 may be It may be bypassed (not shown). The arrangement and shape of the cooling channel 201 are not particularly limited.

また、発光素子12の直下に冷却流路201が配置されないので、図12に示したように、発光素子12の直下に、比較的大きな体積(すなわち比較的大きな熱容量)の熱伝導部材24を配置することができる。図12に示した形態では、熱伝導部材24は、第1基板20の一方主面および他方主面の双方に露出しており、冷却流路201が熱伝導部材24の周囲を回り込むように配置されている。第1基板20の他方主面の側には、駆動回路150が載置され、一方主面の側は、例えば金属、合金からなる熱接続部材26を介して発光素子12が載置され、駆動回路150、発光素子12からの熱が効率良く熱伝導部材24に伝わる。   In addition, since the cooling flow path 201 is not disposed directly under the light emitting element 12, a heat conducting member 24 having a relatively large volume (that is, a relatively large heat capacity) is disposed immediately under the light emitting element 12, as shown in FIG. can do. In the form shown in FIG. 12, the heat conductive member 24 is exposed on both one main surface and the other main surface of the first substrate 20, and the cooling flow path 201 is arranged so as to go around the heat conductive member 24. Has been. A driving circuit 150 is placed on the other main surface side of the first substrate 20, and the light emitting element 12 is placed on the one main surface side via a thermal connection member 26 made of, for example, a metal or an alloy to drive the first substrate 20. Heat from the circuit 150 and the light emitting element 12 is efficiently transmitted to the heat conducting member 24.

図13は、図12に示した実施形態の光照射ヘッド10の構成について説明する図である。図5に示した光照射ヘッド10は、例えば、酸化アルミニウムとガラス粉末などの原料粉末をシート状に形成したグリーンシートを複数枚積層して、積層したグリーンシートを焼成することによって形成されている。図14は、図11〜13に示した光照射ヘッド10における冷却流路201に対応する部分を構成するためのグリーンシート21Xを示した平面図である。図15は、図11〜13に示した光照射ヘッド10における熱伝導部材24に対応する部分を構成するためのグリーンシート22Xを示した平面図である。なお、図15においては、配線導体23に対応する部位については図示していない。光照射ヘッド10は、このように、シート状に形成したグリーンシート21X,22Xを複数枚積層して、積層したグリーンシート21X,22Xを焼成することによって形成することができ、冷却流路201、熱伝導部材24,第2の熱伝導部材25の配置、形状を、要求性能などに応じて比較的自由に設計することができる。   FIG. 13 is a diagram illustrating the configuration of the light irradiation head 10 according to the embodiment illustrated in FIG. 12. The light irradiation head 10 shown in FIG. 5 is formed, for example, by laminating a plurality of green sheets in which raw material powders such as aluminum oxide and glass powder are formed in a sheet shape and firing the laminated green sheets. . FIG. 14 is a plan view showing a green sheet 21X for constituting a portion corresponding to the cooling flow path 201 in the light irradiation head 10 shown in FIGS. FIG. 15 is a plan view showing a green sheet 22X for constituting a portion corresponding to the heat conducting member 24 in the light irradiation head 10 shown in FIGS. In FIG. 15, the part corresponding to the wiring conductor 23 is not shown. Thus, the light irradiation head 10 can be formed by laminating a plurality of green sheets 21X and 22X formed in a sheet shape and firing the laminated green sheets 21X and 22X. The arrangement and shape of the heat conducting member 24 and the second heat conducting member 25 can be designed relatively freely according to the required performance.

図12に示した実施形態の光照射ヘッド10では、発光素子12がフリップチップして実装されているが、例えば図16に示したように素子電極123,124が端子電極131,132にボンディングワイヤで電気的に接続されていてもよい。   In the light irradiation head 10 of the embodiment shown in FIG. 12, the light emitting element 12 is mounted in a flip chip. For example, the element electrodes 123 and 124 are bonded to the terminal electrodes 131 and 132 as shown in FIG. May be electrically connected.

図17,18は、光照射ヘッド10の断面図であり、冷却流路201への冷却媒体の流入口201aおよび流出口201bを含む範囲で示している。図17,18では、冷却流路201の流入口201aおよび流出口201bの双方が図中の下側面である他方主面の側に設けられている。しかし、この流入口201aおよび流出口201bの位置は、特に限定されるものではない。また、図18に示したように、冷却流路201は、複数に分岐した構成とされていてもよく、冷却流路201の立体的な配置形態について特に限定されない。   17 and 18 are cross-sectional views of the light irradiation head 10 and show a range including a cooling medium inlet 201a and an outlet 201b for the cooling flow path 201. FIG. 17 and 18, both the inlet 201a and the outlet 201b of the cooling channel 201 are provided on the other main surface side which is the lower surface in the drawing. However, the positions of the inlet 201a and the outlet 201b are not particularly limited. Further, as shown in FIG. 18, the cooling flow path 201 may be configured to be branched into a plurality, and the three-dimensional arrangement form of the cooling flow path 201 is not particularly limited.

図19〜21は、冷却流路201への冷却媒体の流入口201aおよび流出口201bを含む範囲で示した、光照射ヘッド10の平面図である。図19に示したように、流入口201a、流出口201bを複数備えていてもよく、図20に示したように、1つの流入口201aに対し、冷却流路201が複数に分岐した構成とされていてもよい。また、図21に示したように(断面視は図18参照)、1つの大きな主配管部201cから、複数の支流配管部201dが分岐した構成とされていてもよい。冷却流路201の立体的な配置形態について特に限定されず、要求性能などに応じて、適宜設定すればよい。   19 to 21 are plan views of the light irradiation head 10 shown in a range including the inlet 201a and the outlet 201b of the cooling medium to the cooling channel 201. FIG. As shown in FIG. 19, a plurality of inlets 201a and outlets 201b may be provided. As shown in FIG. 20, the cooling channel 201 is divided into a plurality of branches for one inlet 201a. May be. Further, as shown in FIG. 21 (see FIG. 18 for a cross-sectional view), a plurality of branch pipe parts 201d may be branched from one large main pipe part 201c. The three-dimensional arrangement form of the cooling channel 201 is not particularly limited, and may be set as appropriate according to required performance.

光照射ヘッド10は、上記実施形態に限定されず、要求性能などに応じて、形状、材質などを適宜設定すればよい。光照射ヘッド10には、流入口201aから冷却媒体が流入される。光照射ヘッド10に冷却媒体を流入させる冷媒供給デバイス10Yは、特に限定されない。   The light irradiation head 10 is not limited to the above embodiment, and the shape, material, and the like may be appropriately set according to required performance. A cooling medium flows into the light irradiation head 10 from the inlet 201a. The refrigerant supply device 10Y that causes the cooling medium to flow into the light irradiation head 10 is not particularly limited.

<光照射ヘッドの第2実施形態>
以下、セラミック積層技術を用いて形成される、比較的小型の冷媒供給デバイス10Yを備える光照射ヘッド10について、図22,23を参照しつつ説明するが、冷媒供給デバイスについては下記実施形態に限定されない。なお、下記に示す冷媒供給デバイス10Yの材質、製造方法については、上記の各実施形態、および他の実施形態の光照射ヘッド10にも、適宜用いることができる。また、上述の第1実施形態と同じ構成については説明を省略する。
<Second Embodiment of Light Irradiation Head>
Hereinafter, although the light irradiation head 10 provided with the comparatively small refrigerant | coolant supply device 10Y formed using a ceramic lamination technique is demonstrated referring FIG. 22, 23, it is limited to the following embodiment about a refrigerant | coolant supply device. Not. In addition, about the material and manufacturing method of the refrigerant | coolant supply device 10Y shown below, it can use suitably also for each said embodiment and the light irradiation head 10 of other embodiment. The description of the same configuration as that of the first embodiment is omitted.

冷媒供給デバイス10Yは、第1構成体11Xと、第2構成体11Yとを含んでいる。冷媒供給デバイス10Yは、第1構成体11Xおよび第2構成体11Yが機械的に接続されて構成されている。   The refrigerant supply device 10Y includes a first structure 11X and a second structure 11Y. The refrigerant supply device 10Y is configured by mechanically connecting the first structural body 11X and the second structural body 11Y.

第1構成体11Xは、第1基板20の支持部21の一部と、第2基板30とを含んで構成されている。この第2基板30は、第1流路301が設けられており、一方主面30aに第1流路301に連通する開口部301a,301bを有している。   The first structure 11 </ b> X includes a part of the support portion 21 of the first substrate 20 and the second substrate 30. The second substrate 30 is provided with a first flow path 301, and has openings 301 a and 301 b communicating with the first flow path 301 on one main surface 30 a.

第2構成体11Yは、実装基板40を含んで構成されている。この実装基板40は、第2流路401が設けられており、一方主面40aに第2流路401に連通する開口部401a,401bを有している。この第2構成体11Yは、冷却媒体を貯蔵する貯蔵部51を有しており、この貯蔵部51から供給される冷却媒体が第2流路401の内部を流れるように構成されている。第1流路301の開口部301a,301bは、第2流路401の開口部401a,401bに接続されている。第1流路301および第2流路401が接続されて、冷媒供給デバイス10Yの内部に供給流路が形成されている。ここで「主面」は、厚み方向に垂直に交わる2つの表面を意味する。   The second structural body 11Y includes the mounting substrate 40. The mounting substrate 40 is provided with a second flow path 401, and has openings 401 a and 401 b communicating with the second flow path 401 on one main surface 40 a. The second structure 11 </ b> Y includes a storage unit 51 that stores a cooling medium, and the cooling medium supplied from the storage unit 51 is configured to flow inside the second flow path 401. The openings 301 a and 301 b of the first channel 301 are connected to the openings 401 a and 401 b of the second channel 401. The first flow path 301 and the second flow path 401 are connected to form a supply flow path inside the refrigerant supply device 10Y. Here, “main surface” means two surfaces that intersect perpendicularly in the thickness direction.

実装基板40、第1基板20、および第2基板30は、実装基板40および第1基板20の間に第2基板30を挟むように積層されている。つまり、第2基板30は、一方主面30aに実装基板40の一方主面40aが対向し、他方主面40bに第1基板20が対向するように配置されている。   The mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30 are stacked so that the second substrate 30 is sandwiched between the mounting substrate 40 and the first substrate 20. That is, the second substrate 30 is disposed such that the one main surface 40a of the mounting substrate 40 faces the one main surface 30a and the first substrate 20 faces the other main surface 40b.

実装基板40は、冷媒供給デバイス10Yのベースとなる基板である。この実装基板40として、例えば配線基板、ボードなどとも呼ばれるプリント基板が採用される。この実装基板40の一方主面40aは、第2構成体11Yの一方主面に相当している。実装基板40に設けられている第2流路401は、第2構成体11Yの流路として設けられている。   The mounting substrate 40 is a substrate serving as a base of the refrigerant supply device 10Y. As the mounting board 40, for example, a printed board called a wiring board or a board is adopted. One main surface 40a of the mounting substrate 40 corresponds to one main surface of the second component 11Y. The second flow path 401 provided in the mounting substrate 40 is provided as a flow path for the second component 11Y.

本実施形態の実装基板40には、貯蔵部51が設けられている。この貯蔵部51は、実装基板40に形成される凹所または内部空間などによって構成されていてもよいし、実装基板40に搭載されるタンクなどの容器によって構成されてもよい。この貯蔵部51に第2流路401が接続されており、貯蔵部51から第2流路401に冷却媒体が供給される。この実装基板40としては、例えばエポキシ樹脂などの絶縁材料からなる本体に、導電性材料からなる配線が形成されている構成が挙げられる。   A storage unit 51 is provided in the mounting substrate 40 of the present embodiment. The storage unit 51 may be configured by a recess or an internal space formed in the mounting substrate 40, or may be configured by a container such as a tank mounted on the mounting substrate 40. A second flow path 401 is connected to the storage section 51, and a cooling medium is supplied from the storage section 51 to the second flow path 401. An example of the mounting substrate 40 is a structure in which a wiring made of a conductive material is formed on a main body made of an insulating material such as an epoxy resin.

第1基板20および第2基板30は、互いに機械的に接続されている。これら第1基板20および第2基板30のうち、第2基板30の一方主面30aが、第1構成体11Xの一方主面に相当している。   The first substrate 20 and the second substrate 30 are mechanically connected to each other. Of the first substrate 20 and the second substrate 30, one main surface 30a of the second substrate 30 corresponds to one main surface of the first component 11X.

第1構成体11Xをなす第1基板20および第2基板30のうち、少なくとも第2基板30の内部に、第1流路301が形成されている。本実施形態では、第2基板30の内部および第1基板20の内部の両方に、第1流路301および冷却流路201が形成されている。この第1流路301および冷却流路201は、互いに接続されて、第1構成体11Xの流路として機能している。このように第1構成体11Xの流路が、第1基板20の冷却流路201および第2基板30の第1流路を接続して構成されているので、第2流路401の構成を高い自由度で選択することができる。   A first flow path 301 is formed at least inside the second substrate 30 among the first substrate 20 and the second substrate 30 constituting the first structure 11X. In the present embodiment, the first flow path 301 and the cooling flow path 201 are formed both inside the second substrate 30 and inside the first substrate 20. The first flow path 301 and the cooling flow path 201 are connected to each other and function as the flow path of the first structural body 11X. Thus, the flow path of the first structural body 11X is configured by connecting the cooling flow path 201 of the first substrate 20 and the first flow path of the second substrate 30. Can be selected with a high degree of freedom.

第2基板30は、一方主面30aに第1流路301に連通する開口部301a,301bを有しており、他方主面30bに第1流路301に連通する開口部301c,301dを有している。第1基板20は、一方主面20aに冷却流路201に連通する開口部として流入口201aおよび流出口201bを有している。第2基板30の他方主面30bにおける開口部301c,301dと、第1基板20の一方主面20aにおける開口部201a,201bとが接続され、第1基板20の冷却流路201および第2基板30の第1流路301が接続されて構成されている第1構成体11Xの流路が形成されている。第2基板30の一方主面30aにおける開口部301a,301bは、第1構成体11Xの一方主面における開口部に相当している。これらの開口部301a,301bは、実装基板40における開口部401a,401bに接続されている。   The second substrate 30 has openings 301a and 301b communicating with the first flow path 301 on one main surface 30a, and openings 301c and 301d communicating with the first flow path 301 on the other main surface 30b. is doing. The first substrate 20 has an inflow port 201a and an outflow port 201b as openings that communicate with the cooling channel 201 on one main surface 20a. The openings 301c and 301d in the other main surface 30b of the second substrate 30 and the openings 201a and 201b in the one main surface 20a of the first substrate 20 are connected, and the cooling channel 201 and the second substrate of the first substrate 20 are connected. A flow path of the first structural body 11X formed by connecting 30 first flow paths 301 is formed. The openings 301a and 301b on the one main surface 30a of the second substrate 30 correspond to the openings on the one main surface of the first structure 11X. These openings 301 a and 301 b are connected to the openings 401 a and 401 b in the mounting substrate 40.

なお、開口部301a,301dは、第1導入開口部および第2導入開口部をなし、開口部301b,301cは、第1排出開口部および第2排出開口部をなす。後述する冷却流路201の開口部201a,201bは、第3導入開口部および第3排出開口部をなし、第2流路401の開口部401a,401bは、第4排出開口部および第4導入開口部をなす。   The openings 301a and 301d form a first introduction opening and a second introduction opening, and the openings 301b and 301c form a first discharge opening and a second discharge opening. Openings 201a and 201b of the cooling flow path 201 described later form a third introduction opening and a third discharge opening, and openings 401a and 401b of the second flow path 401 correspond to a fourth discharge opening and a fourth introduction. Make an opening.

第1基板20および第2基板30は、共に単層構造であってもよいし、共に多層構造であってもよいし、いずれか一方が単層構造でいずれか他方が多層構造であってもよい。また、第1基板20および第2基板30は、絶縁材料、例えばセラミックス材料、有機樹脂材料、および複合材料などからなる。第1基板20および第2基板30は、同一の材料からなってもよいし、異なる材料からなってもよい。   Both the first substrate 20 and the second substrate 30 may have a single layer structure, or both may have a multilayer structure, or either one may have a single layer structure and the other may have a multilayer structure. Good. The first substrate 20 and the second substrate 30 are made of an insulating material such as a ceramic material, an organic resin material, and a composite material. The first substrate 20 and the second substrate 30 may be made of the same material or different materials.

セラミックス材料としては、例えば酸化アルミニウム質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、炭化珪素質焼結体、窒化珪素質焼結体、およびガラスセラミックス焼結体などが挙げられる。有機樹脂材料としては、例えばポリイミド、ガラスエポキシ樹脂、およびフェノール樹脂などが挙げられる。複合材料としては、例えばセラミックスおよびガラスなどの無機粉末をエポキシ樹脂などの有機樹脂で結合してなる材料が挙げられる。また、第1基板20および第2基板30は、シリコンなどの半導体材料からなってもよいし、ガラスからなってもよい。   Examples of the ceramic material include an aluminum oxide sintered body, an aluminum nitride sintered body, a mullite sintered body, a silicon carbide sintered body, a silicon nitride sintered body, and a glass ceramic sintered body. . Examples of the organic resin material include polyimide, glass epoxy resin, and phenol resin. Examples of the composite material include a material obtained by bonding inorganic powders such as ceramics and glass with an organic resin such as an epoxy resin. The first substrate 20 and the second substrate 30 may be made of a semiconductor material such as silicon or glass.

例えば、第1基板20および第2基板30が酸化アルミニウム質焼結体からなる場合であれば、酸化アルミニウムとガラス粉末などの原料粉末をシート状に形成したグリーンシートを複数枚積層して、この積層したグリーンシートを焼成することによって形成される。第1基板20および第2基板30は、酸化アルミニウム質焼結体で形成するものに限らず、用途などに応じて適したものを選択することが好ましい。第1基板20は、光照射部10Xの一部としても機能している。   For example, if the first substrate 20 and the second substrate 30 are made of an aluminum oxide sintered body, a plurality of green sheets in which raw powders such as aluminum oxide and glass powder are formed in a sheet shape are laminated, It is formed by firing the laminated green sheets. The first substrate 20 and the second substrate 30 are not limited to those formed of an aluminum oxide sintered body, and it is preferable to select a suitable one according to the application. The first substrate 20 also functions as a part of the light irradiation unit 10X.

また、実装基板40、第1基板20、および第2基板30の材料は、第1流路301および第2流路401を流れる冷却媒体の特性に応じて、耐食性などの点で適した材料を選択することが好ましい。また、実装基板40、第1基板20、および第2基板30は、互いに機械的に接続されており、電気的にも接続されている。これらの実装基板40、第1基板20、および第2基板30の熱膨張係数の差異に起因して生じる熱応力が小さくなるように、実装基板40、第1基板20、および第2基板30の材料を選択することが好ましく、互いに接続される基板同士の熱膨張係数の差が小さくなるように、実装基板40、第1基板20、および第2基板30の材料を選択することが好ましい。   In addition, the material of the mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30 is a material suitable in terms of corrosion resistance or the like according to the characteristics of the cooling medium flowing through the first flow path 301 and the second flow path 401. It is preferable to select. In addition, the mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30 are mechanically connected to each other and are also electrically connected. The mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30 are reduced so that the thermal stress caused by the difference in thermal expansion coefficient between the mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30 is reduced. It is preferable to select materials, and it is preferable to select materials for the mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30 so that the difference in thermal expansion coefficient between the substrates connected to each other is reduced.

例えば、実装基板40、第1基板20、および第2基板30に配線が形成される場合、当該配線により伝送される電気信号の遅延を防止するために、ポリイミド、ガラスエポキシ樹脂、およびフェノール樹脂などの有機樹脂材料と、セラミックスおよびガラスなどの無機粉末と、をエポキシ樹脂などの有機樹脂で結合してなる複合材、ならびに酸化アルミニウム−ホウ珪酸ガラス系および酸化リチウム系などのガラスセラミックス焼結体などのような比誘電率の小さい材料で形成することが好ましい。また、例えば、実装基板40、第1基板20、および第2基板30に発熱源となる構成が設けられている場合、この発熱源で発生する熱の外部への放散性を良好とするために、窒化アルミニウム質焼結体、フィラーを多量に含んだ樹脂材料などのような熱伝導率の大きな材料で形成することが好ましい。   For example, when wiring is formed on the mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30, polyimide, glass epoxy resin, phenol resin, or the like is used in order to prevent delay of electrical signals transmitted through the wiring. Composite materials made by bonding organic resin materials and inorganic powders such as ceramics and glass with organic resins such as epoxy resins, and sintered glass ceramics such as aluminum oxide-borosilicate glass systems and lithium oxide systems It is preferable to form with a material having a small relative dielectric constant. For example, when the mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30 are provided with a structure serving as a heat generation source, the heat generated by the heat generation source can be dissipated to the outside. It is preferable to form a material having a high thermal conductivity such as a sintered body of aluminum nitride and a resin material containing a large amount of filler.

実装基板40は、第2構成体11Yの一方主面としての一方主面40aにおける開口部401a,401bとして、第2流路401から冷却媒体を排出する第4排出開口部401aと、第2流路401に冷却媒体を導入する第4導入開口部401bとを有している。第2流路401は、供給流路部分401xと回収流路部分401yとを有している。供給流路部分401xの一端部は、貯蔵部51に接続されている。実装基板40は、一方主面40aにおいて供給流路部分401xに連通する開口部401aを有し、この開口部が第4排出開口部である。回収流路部分401yの一端部は、回収部52に接続されている。実装基板40は、一方主面40aにおいて回収流路部分401yに連通する開口部401bを有し、この開口部が第4導入開口部である。   The mounting substrate 40 includes, as openings 401a and 401b on one main surface 40a as one main surface of the second structure 11Y, a fourth discharge opening 401a that discharges the cooling medium from the second flow path 401, and a second flow. The passage 401 has a fourth introduction opening 401b for introducing the cooling medium. The second flow path 401 has a supply flow path portion 401x and a recovery flow path portion 401y. One end of the supply flow path portion 401 x is connected to the storage unit 51. The mounting substrate 40 has an opening 401a communicating with the supply flow path portion 401x on the one main surface 40a, and this opening is a fourth discharge opening. One end portion of the recovery flow path portion 401y is connected to the recovery portion 52. The mounting substrate 40 has an opening 401b communicating with the recovery flow path portion 401y on the one main surface 40a, and this opening is a fourth introduction opening.

回収部52は、第1流路301から排出された冷却媒体を回収するための構成である。貯蔵部51が回収部52をも兼ねる構成とし、貯蔵部51から供給された冷却媒体を、第1流路301および第2流路401によって冷媒供給デバイス10Yの内を循環させて、再び貯蔵部51に回収するようにしてもよいし、回収部52を貯蔵部51とは異なる構成としてもよい。   The collection unit 52 is configured to collect the cooling medium discharged from the first flow path 301. The storage unit 51 also serves as the recovery unit 52, and the cooling medium supplied from the storage unit 51 is circulated through the refrigerant supply device 10 </ b> Y by the first flow path 301 and the second flow path 401, and is stored again. The recovery unit 52 may be configured to be different from the storage unit 51.

第2基板30は、第1構成体11Xの一方主面としての一方主面30aにおける開口部301a,301bとして、第1流路301に冷却媒体を導入する第3導入開口部301aと、第1流路301から冷却媒体を排出する第3排出開口部301bとを有している。第2基板30には、2つの第1流路301x,301yが形成されている。この第1流路301x,301yは、第2基板30を厚み方向に貫通してそれぞれ形成されている。   The second substrate 30 includes, as openings 301a and 301b on one main surface 30a as one main surface of the first structure 11X, a third introduction opening 301a that introduces a cooling medium into the first flow path 301, and a first A third discharge opening 301b for discharging the cooling medium from the flow path 301; Two first flow paths 301 x and 301 y are formed in the second substrate 30. The first flow paths 301x and 301y are formed through the second substrate 30 in the thickness direction.

第2基板30の一方主面30aにおける開口部301aが、第1流路301の一方301xに冷却媒体を導入する第1導入開口部となる。第2基板30の他方主面30bにおける開口部301cが、第1流路301の一方301xから冷却媒体を排出する第1排出開口部となる。第2基板30の一方主面30aにおける開口部301bが、第1流路301の他方301yから冷却媒体を排出する第2排出開口部となる。第2基板30の他方主面30bにおける開口部301dが、第1流路301の他方301yに冷却媒体を導入する第2導入開口部となる。   The opening 301 a in the one main surface 30 a of the second substrate 30 becomes a first introduction opening for introducing the cooling medium into the one 301 x of the first flow path 301. The opening 301c in the other main surface 30b of the second substrate 30 serves as a first discharge opening for discharging the cooling medium from the one 301x of the first flow path 301. The opening 301b in the one main surface 30a of the second substrate 30 serves as a second discharge opening for discharging the cooling medium from the other 301y of the first flow path 301. The opening 301 d in the other main surface 30 b of the second substrate 30 serves as a second introduction opening for introducing the cooling medium into the other 301 y of the first flow path 301.

第1基板20は、一方主面20aにおいて2つの開口部201a,201bを有する。冷却流路201に連通する2つの開口部201a,201bのうち、一方側の開口部201aが冷却流路201に冷却媒体を導入する第3導入開口部となり、他方側の開口部201bが冷却流路201から冷却媒体を排出する第3排出開口部となる。   The first substrate 20 has two openings 201a and 201b on one main surface 20a. Of the two openings 201a and 201b communicating with the cooling flow path 201, the opening 201a on one side serves as a third introduction opening for introducing the cooling medium into the cooling flow path 201, and the opening 201b on the other side serves as a cooling flow. It becomes a third discharge opening for discharging the cooling medium from the path 201.

第4排出開口部としての開口部401aと第1導入開口部としての開口部301aとが接続され、第2排出開口部としての開口部301bと第4導入開口部としての開口部401bとが接続され、第1排出開口部としての開口部301cと第3導入開口部としての開口部201aとが接続され、第3排出開口部としての開口部201bと第2導入開口部としての開口部301dとが接続されている。このように供給流路部分401x、回収流路部分401y、2つの第1流路301x,301y、および冷却流路201が接続され、冷媒供給デバイス10Yの流路が形成されている。   The opening 401a as the fourth discharge opening and the opening 301a as the first introduction opening are connected, and the opening 301b as the second discharge opening and the opening 401b as the fourth introduction opening are connected. The opening 301c as the first discharge opening and the opening 201a as the third introduction opening are connected, and the opening 201b as the third discharge opening and the opening 301d as the second introduction opening Is connected. In this way, the supply flow path portion 401x, the recovery flow path portion 401y, the two first flow paths 301x and 301y, and the cooling flow path 201 are connected to form the flow path of the refrigerant supply device 10Y.

冷媒供給デバイス10Yは、前述のような冷却流路201、第1流路301、および第2流路401の各流路が形成されている実装基板40、第1基板20、および第2基板30が接合されて構成されている複合基板と、貯蔵部51と、回収部52と、を含んで構成されている。   The coolant supply device 10Y includes the mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30 in which the cooling channel 201, the first channel 301, and the second channel 401 are formed as described above. Is configured to include a composite substrate configured by bonding, a storage unit 51, and a recovery unit 52.

本構成の冷媒供給デバイス10Yの第2構成体11Yをなす実装基板40には、貯蔵部51および回収部52が設けられており、流体が流れる系全体を設けられている。そのため、冷媒供給デバイス10Yの外部には、冷却媒体を供給する構成を設けなくてもよく、小型化を実現することができる。また、貯蔵部51および回収部52と、第1流路301および第2流路401と、の間で、冷却媒体が外気に晒されるのを低減して、冷却媒体への異物の混入によって当該冷却媒体が汚濁するのを低減することができる。ここで「流体が流れる系」とは、貯蔵部51、回収部52、第1流路301、および第2流路401を有する系である。   The mounting substrate 40 that forms the second structure 11Y of the refrigerant supply device 10Y having this configuration is provided with a storage unit 51 and a recovery unit 52, and the entire system through which fluid flows is provided. Therefore, it is not necessary to provide a configuration for supplying the cooling medium outside the refrigerant supply device 10Y, and downsizing can be realized. Further, the exposure of the cooling medium to the outside air is reduced between the storage unit 51 and the recovery unit 52 and the first flow path 301 and the second flow path 401, and the foreign matter is mixed into the cooling medium. It is possible to reduce the contamination of the cooling medium. Here, the “system in which the fluid flows” is a system including the storage unit 51, the recovery unit 52, the first flow path 301, and the second flow path 401.

また、本構成の冷媒供給デバイス10Yでは、流体が流れる系を小さくすることによって、必要な冷却媒体の体積を小さくなり、扱う冷却媒体の量を少なくすることができる。したがって、本構成の冷媒供給デバイス10Yでは、冷却媒体を流すための動力も小さくてすみ、少量の冷却媒体を少流量で流すことが可能であり、効率の高い冷媒供給デバイス10Yを実現することができる。さらに、第1構成体11Xの流路が、第1基板20および第2基板30の各基板の内部に形成されている冷却流路201および第1流路301によって構成されるので、第1構成体11Xの流路全体の容積を小さく抑えて、冷却媒体の体積をより小さくすることができる。   Further, in the refrigerant supply device 10Y of this configuration, by reducing the system through which the fluid flows, the volume of the necessary cooling medium can be reduced and the amount of the cooling medium to be handled can be reduced. Therefore, in the refrigerant supply device 10Y of this configuration, the power for flowing the cooling medium can be small, and a small amount of the cooling medium can be flowed at a small flow rate, thereby realizing the highly efficient refrigerant supply device 10Y. it can. Furthermore, since the flow path of the first structure 11X is constituted by the cooling flow path 201 and the first flow path 301 formed inside each of the first substrate 20 and the second substrate 30, the first structure The volume of the cooling medium can be further reduced by reducing the volume of the entire flow path of the body 11X.

また、第1流路301および第2流路401によって、貯蔵部51から供給される冷却媒体が、第2流路401の供給流路部分401xから第2基板30の内部の第1流路301の一方301xを経て、第1基板20の内部の冷却流路201に至り、この第1基板20の内部の冷却流路201から第2基板30の内部の第1流路301の他方301yを経て第2流路401の回収流路部分401yに戻り、回収部52に回収される流路が構成されている。このように貯蔵部51から第2流路401に供給され、冷却流路201、第1流路301、および第2流路401を流れた後に、回収部52に戻るように、実装基板40から第2基板30を経由して第1基板20に送り、第1基板20から第2基板30を経由して再び実装基板40に戻るように、冷却媒体を流すことができる。本構成の冷媒供給デバイス10Yでは、このように冷却媒体を一方向に流すことができ、第1基板20、第2基板30、および実装基板40の内部を冷却媒体が円滑に流れるため、効率を高くすることができる。   Further, the first flow path 301 and the second flow path 401 allow the cooling medium supplied from the storage unit 51 to be supplied from the supply flow path portion 401 x of the second flow path 401 to the first flow path 301 inside the second substrate 30. One of the first substrate 20 passes through the cooling passage 201 inside the first substrate 20, and passes from the cooling passage 201 inside the first substrate 20 to the other passage 301 y of the first passage 301 inside the second substrate 30. A flow path that returns to the recovery flow path portion 401 y of the second flow path 401 and is recovered by the recovery unit 52 is configured. After being supplied from the storage unit 51 to the second flow path 401 and flowing through the cooling flow path 201, the first flow path 301, and the second flow path 401, the mounting substrate 40 returns to the recovery unit 52. The cooling medium can be flowed so as to be sent to the first substrate 20 via the second substrate 30 and to return to the mounting substrate 40 again from the first substrate 20 via the second substrate 30. In the refrigerant supply device 10Y of the present configuration, the cooling medium can flow in one direction as described above, and the cooling medium smoothly flows inside the first substrate 20, the second substrate 30, and the mounting substrate 40. Can be high.

冷媒供給デバイス10Yは、実装基板40と第2基板30とを接合する第1基板間接合部60として、第1接合部材61および第2接合部材62を備える。第1接合部材61および第2接合部材62は、第1構成体11Xと第2構成体11Yとを接合する接合部材であり、実装基板40の一方主面40aと、第2基板30の一方主面30aとを接合する。   The coolant supply device 10 </ b> Y includes a first bonding member 61 and a second bonding member 62 as the first inter-substrate bonding portion 60 that bonds the mounting substrate 40 and the second substrate 30. The first bonding member 61 and the second bonding member 62 are bonding members that bond the first structural body 11X and the second structural body 11Y. The first main surface 40a of the mounting substrate 40 and the one main surface of the second substrate 30. The surface 30a is joined.

第1接合部材61および第2接合部材62は、円筒状の形状を有し、第1流路301と、第2流路401とを接続する第1接続流路611および第2接続流路621をそれぞれ有する。第1接合部材61は、第1接続流路611によって、第4排出開口部401aと、第3導入開口部301aとを接続する。第2接合部材62は、第2接続流路621によって、第4導入開口部401bと、第3排出開口部301bとを接続する。   The first joining member 61 and the second joining member 62 have a cylindrical shape, and a first connection channel 611 and a second connection channel 621 that connect the first channel 301 and the second channel 401. Respectively. The first joining member 61 connects the fourth discharge opening 401a and the third introduction opening 301a by the first connection channel 611. The second joining member 62 connects the fourth introduction opening 401b and the third discharge opening 301b by the second connection channel 621.

また、冷媒供給デバイス10Yでは、第1基板20と、第2基板30とを接合する第2基板間接合部70として、第3接合部材71および第4接合部材74を備える。第3接合部材71および第4接合部材72は、第1基板20の一方主面20aと第2基板30の他方主面30bとを接合する接合部材である。   The refrigerant supply device 10 </ b> Y includes a third bonding member 71 and a fourth bonding member 74 as the second inter-substrate bonding portion 70 that bonds the first substrate 20 and the second substrate 30. The third bonding member 71 and the fourth bonding member 72 are bonding members that bond the one main surface 20 a of the first substrate 20 and the other main surface 30 b of the second substrate 30.

第3接合部材71および第4接合部材72は、円筒状の形状を有し、第2基板の内の第1流路の一方301x,他方301yと、冷却流路201とを接続する第3接続流路711および第4接続流路721をそれぞれ有する。第3接合部材71は、第3接続流路711によって、第2排出開口部301cと、流入口201aとを接続する。第4接合部材72は、第4接続流路721によって、第2導入開口部301dと、流出口201bとを接続する。   The third joint member 71 and the fourth joint member 72 have a cylindrical shape, and a third connection that connects one of the first flow paths 301x and the other 301y of the second substrate to the cooling flow path 201. Each has a flow path 711 and a fourth connection flow path 721. The 3rd junction member 71 connects the 2nd discharge opening 301c and inflow mouth 201a by the 3rd connection channel 711. The fourth joining member 72 connects the second introduction opening 301d and the outlet 201b through the fourth connection flow path 721.

このように実装基板40および第2基板30を機械的に接続する第1接合部材61および第2接合部材62に、第1接続流路611および第2接続流路621がそれぞれ形成されている。これによって、実装基板40および第2基板30の機械的な接続と、第2流路401に対する第1流路301の接続とが、同一の部材によって達成される。また、第1基板20および第2基板30を機械的に接続する第3接合部材71および第4接合部材72に、第3接続流路711および第4接続流路721がそれぞれ形成されている。これによって第1基板20および第2基板30の機械的な接続と、第1流路301に対する冷却流路201の接続とが、同一の部材によって達成される。このようにして部品点数を少なくし、冷媒供給デバイス10Yの構成を簡素にするとともに、接続作業の工程数を少なくして、冷媒供給デバイス10Yを容易に製造することができる。また、第1流路301と、冷却流路201とが第3接合部材71および第4接合部材72の第3接続流路711および第4接続流路721によって接続されるため、第1基板20と第2基板30との間で、冷却媒体が外気に晒されることを防ぐことができ、冷却媒体へ異物が混入することによる冷却媒体の汚濁を防ぐことができる。   In this way, the first connection channel 611 and the second connection channel 621 are formed in the first bonding member 61 and the second bonding member 62 that mechanically connect the mounting substrate 40 and the second substrate 30, respectively. Thereby, the mechanical connection of the mounting substrate 40 and the second substrate 30 and the connection of the first flow path 301 to the second flow path 401 are achieved by the same member. Further, a third connection channel 711 and a fourth connection channel 721 are respectively formed in the third bonding member 71 and the fourth bonding member 72 that mechanically connect the first substrate 20 and the second substrate 30. As a result, the mechanical connection between the first substrate 20 and the second substrate 30 and the connection of the cooling channel 201 to the first channel 301 are achieved by the same member. In this way, the number of parts can be reduced, the configuration of the refrigerant supply device 10Y can be simplified, and the number of connection work steps can be reduced to easily manufacture the refrigerant supply device 10Y. In addition, since the first flow path 301 and the cooling flow path 201 are connected by the third connection flow path 711 and the fourth connection flow path 721 of the third bonding member 71 and the fourth bonding member 72, the first substrate 20. It is possible to prevent the cooling medium from being exposed to the outside air between the second substrate 30 and the second substrate 30, and to prevent the cooling medium from being contaminated by foreign matters mixed into the cooling medium.

実装基板40の一方主面40aと、第2基板30の一方主面30aおよび他方主面30bと、第1基板20の一方主面20aとには、図示を省略する配線導体が形成されている。第2基板30の一方主面30aおよび他方主面30bの配線導体は、第2基板30を厚み方向に貫通する貫通配線31によって、互いに電気的に接続されている。第1基板20の一方主面20aの配線導体には、第1基板20の内部に形成される配線導体23によって、第1基板20の外部に設けられた入力端子と電気的に接続されている。   A wiring conductor (not shown) is formed on one main surface 40a of the mounting substrate 40, one main surface 30a and the other main surface 30b of the second substrate 30, and one main surface 20a of the first substrate 20. . The wiring conductors on the one main surface 30a and the other main surface 30b of the second substrate 30 are electrically connected to each other by through wirings 31 that penetrate the second substrate 30 in the thickness direction. The wiring conductor on the one main surface 20a of the first substrate 20 is electrically connected to an input terminal provided outside the first substrate 20 by a wiring conductor 23 formed inside the first substrate 20. .

このように、実装基板40、第1基板20、および第2基板30に配線導体が設けられ、これら配線導体を電気的に接続する第1電気接続部63および第2電気接続部73が設けられ、実装基板40、第1基板20、および第2基板30が電気的に接続されている。これによって、実装基板40、第1基板20、および第2基板30を、冷媒供給デバイス10Yの外部に設けられる外部回路に電気的に接続することが可能である。外部回路は、例えば実装基板40の一方主面40aに搭載される構成としてもよい。   In this way, wiring conductors are provided on the mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30, and a first electrical connection portion 63 and a second electrical connection portion 73 that electrically connect these wiring conductors are provided. The mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30 are electrically connected. Thus, the mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30 can be electrically connected to an external circuit provided outside the refrigerant supply device 10Y. An external circuit is good also as a structure mounted in the one main surface 40a of the mounting board | substrate 40, for example.

第1電気接続部63によって接続される実装基板40の配線導体は、実装基板40の供給流路部分401xおよび回収流路部分401yの開口部40a,40bが設けられる一方主面40aに形成されている。各第1電気接続部63によって接続されている第2基板30の配線導体は、開口部301a,301bが設けられる一方主面30aに形成されている。   The wiring conductor of the mounting substrate 40 connected by the first electrical connection portion 63 is formed on one main surface 40a provided with the openings 40a and 40b of the supply flow path portion 401x and the recovery flow path portion 401y of the mounting substrate 40. Yes. The wiring conductor of the second substrate 30 connected by each first electrical connection portion 63 is formed on the one main surface 30a where the openings 301a and 301b are provided.

したがって、第1接合部材61および第2接合部材62による実装基板40および第2基板30の機械的な接続、および実装基板40の第2流路401の供給流路部分401xおよび回収流路部分401yと、第2基板30の第1流路301の一方301xおよび他方301yとの接続と同時に、実装基板40および第2基板30を電気的に接続することが可能である。しかも、いわゆる表面実装などと呼ばれる接続形態によって接続することが可能であり、実装基板40の第2流路401および第2基板30の第1流路301の接続、ならびに実装基板40および第2基板30の機械的および電気的な接続を容易に実行することができる。   Therefore, the mechanical connection of the mounting substrate 40 and the second substrate 30 by the first bonding member 61 and the second bonding member 62, and the supply flow path portion 401 x and the recovery flow path portion 401 y of the second flow path 401 of the mounting substrate 40. The mounting substrate 40 and the second substrate 30 can be electrically connected simultaneously with the connection of the one 301x and the other 301y of the first flow path 301 of the second substrate 30. In addition, it is possible to connect by a so-called surface mounting method or the like, the connection of the second flow path 401 of the mounting substrate 40 and the first flow path 301 of the second substrate 30, and the mounting substrate 40 and the second substrate. Thirty mechanical and electrical connections can be easily performed.

第2電気接続部73によって接続される第2基板30の配線導体は、第2基板30の開口部301c,301dが設けられる他方主面30bに形成されている。第2電気接続部73によって接続されている第1基板20の配線導体は、第1基板20の一方主面20aに形成されている。   The wiring conductor of the second substrate 30 connected by the second electrical connection portion 73 is formed on the other main surface 30b where the openings 301c and 301d of the second substrate 30 are provided. The wiring conductor of the first substrate 20 connected by the second electrical connection portion 73 is formed on the one main surface 20 a of the first substrate 20.

したがって、第3接合部材71および第4接合部材72による第1基板20および第2基板30の機械的な接続、および第2基板30の第1流路301の一方301x,他方301yと、第1基板20の冷却流路201との接続と同時に、第1基板20および第2基板30を電気的に接続することが可能である。しかも、いわゆる表面実装などと呼ばれる接続形態によって接続することが可能であり、第1基板20の冷却流路201および第2基板30の第1流路301の接続、ならびに第1基板20および第2基板30の機械的および電気的な接続を容易に実行することができる。   Therefore, the mechanical connection of the first substrate 20 and the second substrate 30 by the third bonding member 71 and the fourth bonding member 72, the one 301x and the other 301y of the first flow path 301 of the second substrate 30, and the first The first substrate 20 and the second substrate 30 can be electrically connected simultaneously with the connection of the substrate 20 to the cooling channel 201. In addition, it is possible to connect by a so-called surface mounting or the like, the connection of the cooling flow path 201 of the first substrate 20 and the first flow path 301 of the second substrate 30, and the first substrate 20 and the second substrate 20. The mechanical and electrical connection of the substrate 30 can be easily performed.

各配線導体、貫通配線31、および配線導体は、導電性材料、例えば銅、銀、金、パラジウム、タングステン、モリブデン、マンガン、ニッケルなどの金属材料によって形成されている。また、導電性材料は、それらの金属材料を1種以上含む材料であってよい。各配線導体、貫通配線31、および配線導体23は、金属薄膜によって実現され、例えば、めっき、もしくは蒸着などの薄膜法、厚膜法、および同時焼成法を含むメタライズ法によって、金属の薄膜を被着させて形成することができる。例えば、タングステンの薄膜を配線導体として、メタライズ法によって形成する場合であれば、タングステンのペーストを第1基板20、第2基板30、および実装基板40となるグリーンシートに印刷し、これをグリーンシートとともに焼成することにより形成される。   Each wiring conductor, the through wiring 31, and the wiring conductor are formed of a conductive material, for example, a metal material such as copper, silver, gold, palladium, tungsten, molybdenum, manganese, or nickel. In addition, the conductive material may be a material containing one or more of those metal materials. Each wiring conductor, the through wiring 31, and the wiring conductor 23 are realized by a metal thin film. For example, the metal thin film is coated by a metallization method including a thin film method such as plating or vapor deposition, a thick film method, and a simultaneous firing method. It can be formed by wearing. For example, when a tungsten thin film is used as a wiring conductor and is formed by a metallization method, a tungsten paste is printed on a green sheet to be the first substrate 20, the second substrate 30, and the mounting substrate 40. It is formed by baking together.

第1電気接続部63および第2電気接続部73は、導電性材料によって形成されている。この導電性材料としては、例えば錫−銀系および錫−銀−銅系、錫−アンチモン系などの半田、金−錫ろうなどの低融点ろう材、銀−ゲルマニウム系などの高融点ろう材、導電性有機樹脂ならびにシーム溶接および電子ビーム溶接などの溶接法による接合が可能な金属材料などが挙げられる。   The first electrical connection portion 63 and the second electrical connection portion 73 are formed of a conductive material. As this conductive material, for example, solder such as tin-silver and tin-silver-copper, tin-antimony, low-melting solder such as gold-tin solder, high-melting solder such as silver-germanium, Examples thereof include conductive organic resins and metal materials that can be joined by welding methods such as seam welding and electron beam welding.

冷却流路201、第1流路301、および第2流路401は、冷却媒体が流れる方向に垂直な流路断面の形状が円形状であってもよいし、長方形状であってもよく特に限定されない。また冷却流路201、第1流路301、および第2流路401は、平面視において、蛇行する構成であってもよい。特に冷却流路201が蛇行する構成とすることによって、冷却媒体と第1基板20の接触面積を大きくする構成であってもよい。   The cooling flow path 201, the first flow path 301, and the second flow path 401 may have a circular cross-sectional shape perpendicular to the direction in which the cooling medium flows, or may be rectangular. It is not limited. Further, the cooling channel 201, the first channel 301, and the second channel 401 may be configured to meander in plan view. In particular, a configuration in which the contact area between the cooling medium and the first substrate 20 is increased by adopting a configuration in which the cooling flow path 201 meanders.

第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72は、導電性材料および絶縁材料のいずれから成ってもよい。第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72は、例えば金属材料、非金属無機系材料、樹脂材料などから成る。第1接合部材61および第2接合部材62と、第3接合部材71および第4接合部材72とは、同一の材料から成ってもよいし、異なる材料から成ってもよい。また第1接合部材61および第2接合部材62が、互いに同一の材料から成ってもよく、異なる材料から成ってもよい。また第3接合部材71および第4接合部材72が、互いに同一の材料から成ってもよく、異なる材料から成ってもよい。   The 1st joining member 61, the 2nd joining member 62, the 3rd joining member 71, and the 4th joining member 72 may consist of either an electroconductive material and an insulating material. The first joining member 61, the second joining member 62, the third joining member 71, and the fourth joining member 72 are made of, for example, a metal material, a non-metallic inorganic material, a resin material, or the like. The first joining member 61 and the second joining member 62 and the third joining member 71 and the fourth joining member 72 may be made of the same material or different materials. Moreover, the 1st joining member 61 and the 2nd joining member 62 may consist of the mutually same material, and may consist of a different material. The third joining member 71 and the fourth joining member 72 may be made of the same material or different materials.

上述の金属材料としては、例えば鉄−ニッケル−コバルト合金および鉄−ニッケル合金などの鉄−ニッケル系合金、無酸素銅、アルミニウム、ステンレス鋼、銅−タングステン合金ならびに銅−モリブデン合金などである。金属材料は、導電性材料である。   Examples of the metal material include iron-nickel alloys such as iron-nickel-cobalt alloy and iron-nickel alloy, oxygen-free copper, aluminum, stainless steel, copper-tungsten alloy, and copper-molybdenum alloy. The metal material is a conductive material.

上述の非金属無機系材料としては、例えば酸化アルミニウム質焼結体およびガラスセラミックス焼結体などである。樹脂材料は、例えばポリテトラフルオロエチレン(PTFE)およびガラスエポキシ樹脂などの有機樹脂系材料ならびにその他の樹脂である。樹脂材料は、例えばベンゾシクロブテンおよび液晶ポリマーであってもよい。ここでいう非金属無機系材料および樹脂系材料は、電気絶縁性を有する絶縁材料でもある。   Examples of the non-metallic inorganic material include an aluminum oxide sintered body and a glass ceramic sintered body. Examples of the resin material include organic resin materials such as polytetrafluoroethylene (PTFE) and glass epoxy resin, and other resins. The resin material may be, for example, benzocyclobutene and a liquid crystal polymer. The non-metallic inorganic material and resin-based material here are also insulating materials having electrical insulating properties.

また、第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72を、実装基板40、第1基板20、および第2基板30に接合する方法としては、錫−銀系などの半田、金−錫ろうなどの低融点ろう材、銀−ゲルマニウム系などの高融点ろう材、導電性有機樹脂などの接合材を介して接合する方法、ならびにシーム溶接、電子ビーム溶接などの溶接法を用いることができる。   In addition, as a method of bonding the first bonding member 61, the second bonding member 62, the third bonding member 71, and the fourth bonding member 72 to the mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30, tin is used. -Solder such as silver solder, low melting point solder such as gold-tin solder, high melting point solder such as silver-germanium, joining method such as conductive organic resin, seam welding, electron beam A welding method such as welding can be used.

第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72が金属材料から成る場合、第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72による接合強度を高くすることができる。また内部の第1接続流路611、第2接続流路621、第3接続流路711、および第4接続流路721を、良好に封止して、冷却流路201、第1流路301、および第2流路401を接続することができる。また、簡易かつ低温度での処理操作による接合が可能である。また、リフロープロセスなどによって連続的に接合することができる。また、第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72による、実装基板40、第1基板20、および第2基板30の電気的な接続も可能である。   When the first joining member 61, the second joining member 62, the third joining member 71, and the fourth joining member 72 are made of a metal material, the first joining member 61, the second joining member 62, the third joining member 71, and The bonding strength by the fourth bonding member 72 can be increased. Further, the internal first connection flow path 611, second connection flow path 621, third connection flow path 711, and fourth connection flow path 721 are well sealed, and the cooling flow path 201 and the first flow path 301 are sealed. , And the second flow path 401 can be connected. Further, it is possible to perform joining by a simple and low temperature processing operation. Moreover, it can join continuously by a reflow process etc. In addition, the mounting substrate 40, the first substrate 20, and the second substrate 30 can be electrically connected by the first bonding member 61, the second bonding member 62, the third bonding member 71, and the fourth bonding member 72. is there.

また、第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72が絶縁材料から成る場合、第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72の耐熱性および耐薬品性を高くすることができる。特に、絶縁材料として、樹脂材料であるポリテトラフルオロエチレン(PTFE)などのフッ素系樹脂を用いることによって、高耐熱性および高耐薬品性が同時に得られる。またその他にも、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミドなども、高耐熱性および高耐薬品性が同時に得られる。また第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72が、石英ガラスなどの高純度ガラス、高シリカガラス、結晶性ガラスなどから成る場合、高耐薬品性が得られる。   Moreover, when the 1st joining member 61, the 2nd joining member 62, the 3rd joining member 71, and the 4th joining member 72 consist of insulating materials, the 1st joining member 61, the 2nd joining member 62, the 3rd joining member 71 And the heat resistance and chemical resistance of the fourth joining member 72 can be increased. In particular, by using a fluororesin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), which is a resin material, as the insulating material, high heat resistance and high chemical resistance can be obtained simultaneously. In addition, acrylic resin, epoxy resin, polyimide, and the like can simultaneously obtain high heat resistance and high chemical resistance. When the first joining member 61, the second joining member 62, the third joining member 71, and the fourth joining member 72 are made of high-purity glass such as quartz glass, high silica glass, crystalline glass, etc., high chemical resistance Sex is obtained.

さらに、第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72が絶縁材料から成る場合、内部配線を有する構成としてもよい。このように内部配線を有することによって、第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72の耐熱性および耐薬品性を高くしたうえで、第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72による電気的接続も可能にすることができる。   Furthermore, when the 1st joining member 61, the 2nd joining member 62, the 3rd joining member 71, and the 4th joining member 72 consist of insulating materials, it is good also as a structure which has internal wiring. By having the internal wiring in this way, the first bonding member 61, the second bonding member 62, the third bonding member 71, and the fourth bonding member 72 are made to have high heat resistance and chemical resistance, and then the first bonding member Electrical connection by the member 61, the second joining member 62, the third joining member 71, and the fourth joining member 72 can also be made possible.

第1接合部材61および第2接合部材62に設けられる内部配線は、第1電気接続部63として機能し、第3接合部材71および第4接合部材72に設けられる内部配線は、第2電気接続部として機能する。第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72に内部配線を設ける場合、前述の第1電気接続部63および第2電気接続部73に加えて設けられる構成でもよく、前述の第1電気接続部63および第2電気接続部73に代えて設けられる構成でもよい。   The internal wiring provided in the first joining member 61 and the second joining member 62 functions as the first electrical connection portion 63, and the internal wiring provided in the third joining member 71 and the fourth joining member 72 is the second electrical connection. It functions as a part. When providing internal wiring in the first joining member 61, the second joining member 62, the third joining member 71, and the fourth joining member 72, it is provided in addition to the first electrical connection portion 63 and the second electrical connection portion 73 described above. The structure provided may be sufficient instead of the above-mentioned 1st electrical connection part 63 and the 2nd electrical connection part 73 mentioned above.

また、第1接合部材61および第2接合部材62と、第3接合部材71および第4接合部材72とは、互いに異なる材料から成ってもよく、一方が金属材料から成り、他方が絶縁材料から成るであってもよい。このように第1基板間接合部60と第2基板間接合部70とが異なる材料によって形成される場合、第1基板間接合部60と第2基板間接合部70とで、接合時の処理温度を異ならせることができる。例えば第2基板間接合部70による接合の処理温度が、第1基板間接合部60による接合の処理温度よりも高くなるように設定し、第1基板20および第2基板30を接合して、内部流路を有する第1構成体11Xを形成した後、実装基板40および第2基板30を接合して、第1構成体11Xおよび第2構成体11Yを接合することができる。   Further, the first joining member 61 and the second joining member 62 and the third joining member 71 and the fourth joining member 72 may be made of different materials, one of which is made of a metal material and the other is made of an insulating material. It may consist of. Thus, when the 1st board | substrate junction part 60 and the 2nd board | substrate junction part 70 are formed with a different material, in the 1st board | substrate junction part 60 and the 2nd board | substrate junction part 70, the process at the time of joining The temperature can be varied. For example, the bonding processing temperature by the second inter-substrate bonding unit 70 is set to be higher than the bonding processing temperature by the first inter-substrate bonding unit 60, and the first substrate 20 and the second substrate 30 are bonded. After forming the first structural body 11X having the internal flow path, the mounting substrate 40 and the second substrate 30 can be joined, and the first structural body 11X and the second structural body 11Y can be joined.

このように、第2基板間接合部70による接合の処理温度が、第1基板間接合部60による接合の処理温度よりも高くなるようにするにあたっては、例えば、第1接合部材61および第2接合部材62が錫−鉛系半田から成り、第3接合部材71および第4接合部材72が錫―鉛系半田よりも接合温度が高いフリットガラスから成るように組み合わせてよいし、第1接合部材61および第2接合部材62がエポキシ樹脂から成り、第3接合部材71および第4接合部材72がエポキシ樹脂よりも融点が高い錫−銀−銅系半田から成るように組み合わせてよい。   Thus, in order to make the processing temperature of the bonding by the second inter-substrate bonding unit 70 higher than the processing temperature of the bonding by the first inter-substrate bonding unit 60, for example, the first bonding member 61 and the second bonding member The joining member 62 may be made of tin-lead solder, and the third joining member 71 and the fourth joining member 72 may be made of frit glass having a joining temperature higher than that of the tin-lead solder, or the first joining member. 61 and the second joining member 62 may be made of an epoxy resin, and the third joining member 71 and the fourth joining member 72 may be made of a tin-silver-copper solder having a melting point higher than that of the epoxy resin.

また、第1接合部材61および第2接合部材62の冷却媒体に接触する表面部となる内周部が、耐食性を有する円筒状の第1耐食性部材64から成る構成であってもよい。さらに第3接合部材71および第4接合部材72の冷却媒体に接触する表面部となる内周部が、耐食性を有する円筒状の第1耐食性部材64および第2耐食性部材74から成る構成であってもよい。第1耐食性部材64および第2耐食性部材74は、耐酸性および耐薬品性などを有し、冷却媒体に対する耐性を有し、冷却媒体によって侵食されない部材である。第1耐食性部材64および第2耐食性部材74は、例えばポリテトラフルオロエチレン(PTFE)などから成る。このように耐食性部材が樹脂から成る場合には、簡便に耐食性部材を形成することができる。このように第1耐食性部材64および第2耐食性部材74を用いることによって、第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72の冷却媒体に対する耐酸性および耐薬品性を高くし、耐食性を高くすることができる。   Moreover, the structure which the inner peripheral part used as the surface part which contacts the cooling medium of the 1st joining member 61 and the 2nd joining member 62 consists of the cylindrical 1st corrosion-resistant member 64 which has corrosion resistance may be sufficient. Furthermore, the inner peripheral part which becomes the surface part which contacts the cooling medium of the 3rd joining member 71 and the 4th joining member 72 is the structure which consists of the cylindrical 1st corrosion-resistant member 64 and the 2nd corrosion-resistant member 74 which have corrosion resistance. Also good. The first corrosion-resistant member 64 and the second corrosion-resistant member 74 are members that have acid resistance and chemical resistance, have resistance to a cooling medium, and are not eroded by the cooling medium. The first corrosion resistant member 64 and the second corrosion resistant member 74 are made of, for example, polytetrafluoroethylene (PTFE). Thus, when a corrosion-resistant member consists of resin, a corrosion-resistant member can be formed simply. By using the first corrosion-resistant member 64 and the second corrosion-resistant member 74 in this way, the acid resistance against the cooling medium of the first joining member 61, the second joining member 62, the third joining member 71, and the fourth joining member 72 and Chemical resistance can be increased and corrosion resistance can be increased.

図23は、第1接合部材61を拡大して示す断面図である。第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72のうち少なくともいずれか1つに、その接合部材内の接続流路の冷却媒体を泳動して流す駆動部530が設けられてもよい。駆動部530は、第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72のうち、1つだけに設けられてもよいし、2つに設けられてもよいし、3つに設けられてもよいし、4つ全てに設けられてもよい。駆動部530を設ける接合部材は、適宜選択することができる。   FIG. 23 is an enlarged cross-sectional view of the first joining member 61. Drive that causes the cooling medium of the connection flow path in the joining member to migrate and flow through at least one of the first joining member 61, the second joining member 62, the third joining member 71, and the fourth joining member 72 A part 530 may be provided. The drive unit 530 may be provided in only one of the first joining member 61, the second joining member 62, the third joining member 71, and the fourth joining member 72, or may be provided in two. It may be provided in three, or may be provided in all four. The joining member provided with the drive unit 530 can be appropriately selected.

駆動部530は、電気浸透流型ポンプによって実現される。電気浸透流型ポンプは、第1接続流路611に露出させて、内壁面に設けられる一対の電極531,532を有し、電極531,532は、第1接続流路611で互いに間隔をあけて配置されている。電極531,532は、内部配線533,534によって、実装基板40および第2基板30のいずれかの配線導体に電気的に接続されている。   The drive unit 530 is realized by an electroosmotic flow type pump. The electroosmotic pump has a pair of electrodes 531 and 532 that are exposed to the first connection channel 611 and provided on the inner wall surface, and the electrodes 531 and 532 are spaced apart from each other by the first connection channel 611. Are arranged. The electrodes 531 and 532 are electrically connected to one of the wiring conductors of the mounting substrate 40 and the second substrate 30 by internal wirings 533 and 534.

電気浸透流型ポンプは、電極531,532の間に駆動電圧が印加されると、第1接合部材61の内壁面の表面電位によって、第1接続流路611内の液体を帯電する。このように液体に電界を印加することにより、液体を泳動することができる。このような電気浸透流型ポンプを駆動部530として設ける場合、第1接合部材61の内壁面は、表面積の大きい材料、例えば多孔質材料(ポーラス部材)によって形成することによって、効率良く冷却媒体を泳動して流すことができる。   When a driving voltage is applied between the electrodes 531 and 532, the electroosmotic pump pumps the liquid in the first connection channel 611 by the surface potential of the inner wall surface of the first bonding member 61. Thus, the liquid can be electrophoresed by applying the electric field to the liquid. When such an electroosmotic pump is provided as the drive unit 530, the inner wall surface of the first joining member 61 is formed of a material having a large surface area, for example, a porous material (porous member), so that a cooling medium can be efficiently provided. Electrophoresis can be performed.

第1接合部材61および第2接合部材62に駆動部530を設けることによって、第1流路301に近い位置で冷却媒体に動力を与えて流すことができる。また第3接合部材71および第4接合部材72に駆動部530を設けることによって、第1流路301において冷却媒体に動力を与えて流すことができる。第1接合部材61、第2接合部材62、第3接合部材71、および第4接合部材72に駆動部530が設けられる場合、必ずしも別途に冷却媒体を供給する流体供給手段を設ける必要がなくなる。   By providing the driving unit 530 in the first joining member 61 and the second joining member 62, it is possible to supply power to the cooling medium at a position close to the first flow path 301 to flow. In addition, by providing the third joining member 71 and the fourth joining member 72 with the drive unit 530, power can be supplied to the cooling medium in the first flow path 301 to flow. When the drive unit 530 is provided in the first joining member 61, the second joining member 62, the third joining member 71, and the fourth joining member 72, it is not always necessary to provide a fluid supply means for supplying a cooling medium separately.

また、駆動部530として、電気浸透流型ポンプを用いることによって、冷媒供給デバイス10Yを大形化させることなく、冷却媒体を流す手段を組み込むことができ、小形化に寄与することができる。   Further, by using an electroosmotic flow type pump as the drive unit 530, a means for flowing a cooling medium can be incorporated without increasing the size of the refrigerant supply device 10Y, which can contribute to downsizing.

なお、上述の説明では、実装基板40および第2基板30を第1接合部材61および第2接合部材62で接合するとともに、第1基板20および第2基板30を第3接合部材71および第4接合部材72で接合する構成としたが、実装基板40および第2基板30の熱膨張係数に差がない場合などは、第1接合部材61および第2接合部材62を用いずに、第1流路301の開口部301aと第2流路401の開口部401aとを対向させ、開口部301bと第2流路401の開口部401bとを対向させて、実装基板40と第2基板30とを直接接合してもよい。また、同様に、第1基板20および第2基板30の熱膨張係数に差がない場合などは、第3接合部材71および第4接合部材72を用いずに、第1流路301の開口部301cと冷却流路201の開口部201aとを対向させ、第1流路301の開口部301dと冷却流路201の開口部201bとを対向させて、第1基板20と第2基板30とを直接接合してもよい。   In the above description, the mounting substrate 40 and the second substrate 30 are joined by the first joining member 61 and the second joining member 62, and the first substrate 20 and the second substrate 30 are joined by the third joining member 71 and the fourth joining member. The bonding member 72 is used for bonding, but when there is no difference in the thermal expansion coefficient between the mounting substrate 40 and the second substrate 30, the first flow without using the first bonding member 61 and the second bonding member 62 is used. The mounting substrate 40 and the second substrate 30 are disposed such that the opening 301a of the path 301 and the opening 401a of the second flow path 401 are opposed to each other, and the opening 301b and the opening 401b of the second flow path 401 are opposed to each other. You may join directly. Similarly, when there is no difference in thermal expansion coefficient between the first substrate 20 and the second substrate 30, the opening of the first flow path 301 is used without using the third bonding member 71 and the fourth bonding member 72. 301c and the opening part 201a of the cooling flow path 201 are made to oppose, the opening part 301d of the 1st flow path 301 and the opening part 201b of the cooling flow path 201 are made to oppose, and the 1st board | substrate 20 and the 2nd board | substrate 30 are made. You may join directly.

図24は、本発明の他の実施形態の冷媒供給デバイス10Yを簡略化して示すブロック図である。図24では、冷媒供給デバイス10Yを平面視し、各構成をブロック化して示す。   FIG. 24 is a block diagram schematically illustrating a refrigerant supply device 10Y according to another embodiment of the present invention. In FIG. 24, the refrigerant supply device 10 </ b> Y is viewed in plan, and each component is shown as a block.

冷媒供給デバイス10Yは、第1流路301に冷却媒体を供給する流体供給手段として、ポンプ53を備える。ポンプ53は、第2流路401に、例えば供給流路部分401xに介在されるように、実装基板40に搭載して設けられる。ポンプ53は、冷却媒体を送液する場合に用いられる。特に、小形のポンプ53が求められる場合には、例えば図23を参照して説明した電気泳動型のポンプが望まれる。また、流量が大きいことが望まれる場合には、例えばピエゾ駆動型のポンプが望まれる。電気泳動型ポンプの場合は、ポンプ内に電極が形成されており、耐食性の観点から電極表面の材質は、金・白金などの材質であることが望まれる。また、電極が形成される部位は、メタライズ法により電極の形成が可能なガラスエポキシ系材料などの樹脂材料、各種ガラス、又は積層セラミック材料などからなることが好ましい。このようなポンプ53を介して、貯蔵部51の中の液体を第1構成体11X内に流入させることができる。冷却媒体は第1構成体11Xの内で所望の役割を果たし、その後に、回収部52で回収される。このポンプ53は、図23に示すように第1基板間接合部60および第2基板間接合部70の少なくとも一方に駆動部530が組み込まれている場合、この駆動部530をポンプ53として代用することができる。なお、比較的大きな流量を必要とする場合など、例えば公知のベローズポンプなどを用いてもよく、ポンプの種類についても特に限定されない。   The refrigerant supply device 10Y includes a pump 53 as fluid supply means for supplying a cooling medium to the first flow path 301. The pump 53 is mounted on the mounting substrate 40 so as to be interposed in the second flow path 401, for example, in the supply flow path portion 401x. The pump 53 is used when feeding a cooling medium. In particular, when a small pump 53 is required, for example, the electrophoresis type pump described with reference to FIG. 23 is desired. Further, when a high flow rate is desired, for example, a piezoelectric drive type pump is desired. In the case of an electrophoretic pump, an electrode is formed in the pump, and the material of the electrode surface is desirably a material such as gold or platinum from the viewpoint of corrosion resistance. Moreover, it is preferable that the site | part in which an electrode is formed consists of resin materials, such as a glass epoxy-type material which can form an electrode with a metallizing method, various glass, or a laminated ceramic material. Through such a pump 53, the liquid in the storage part 51 can be flowed into the 1st structure 11X. The cooling medium plays a desired role in the first structure 11 </ b> X, and is then recovered by the recovery unit 52. As shown in FIG. 23, when the drive unit 530 is incorporated in at least one of the first inter-substrate junction 60 and the second inter-substrate junction 70 as shown in FIG. be able to. In addition, when a relatively large flow rate is required, for example, a known bellows pump or the like may be used, and the type of pump is not particularly limited.

また、冷媒供給デバイス10Yは、冷媒供給デバイス10Yにおける第1流路301内の冷却媒体に関する状態量を検出する検出手段として、センサ54を有する。センサ54は、実装基板40に搭載して設けられる。このセンサ54は、ペーハ(pH)、温度、成分、圧力など、冷却媒体の物理的状態および化学的状態の少なくともいずれか一方を表す状態量を検出する。また、センサ54は、温度・湿度などを検出し、システム外部の外気温など環境の変化を数量的に出力してもよい。その環境の変化は、第1構成体11Xの電気的動作若しくは第1構成体11Xの内部の冷却媒体の動作にフィードバックされる。   Further, the refrigerant supply device 10Y includes a sensor 54 as detection means for detecting a state quantity related to the cooling medium in the first flow path 301 in the refrigerant supply device 10Y. The sensor 54 is provided on the mounting board 40. The sensor 54 detects a state quantity representing at least one of a physical state and a chemical state of the cooling medium, such as pH (pH), temperature, component, and pressure. The sensor 54 may detect temperature, humidity, and the like, and may quantitatively output environmental changes such as outside air temperature outside the system. The change in the environment is fed back to the electrical operation of the first structure 11X or the operation of the cooling medium inside the first structure 11X.

さらに、冷媒供給デバイス10Yは、センサ54によって検出される状態量に基づいてポンプを制御する制御手段として、制御IC55を備える。制御IC55は、実装基板40に搭載して設けられる。ポンプ53、センサ54および制御IC55は、実装基板40の一方主面40aに形成される配線導体の一部から成る接続配線56,57,58によって、互いに電気的に接続されている。   Furthermore, the refrigerant supply device 10Y includes a control IC 55 as control means for controlling the pump based on the state quantity detected by the sensor 54. The control IC 55 is provided on the mounting board 40. The pump 53, the sensor 54, and the control IC 55 are electrically connected to each other by connection wirings 56, 57, and 58 that are part of a wiring conductor formed on the one main surface 40 a of the mounting substrate 40.

制御IC55は、例えばセンサ54によって検出される状態量に基づいて、第1流路301に流すべき冷却媒体の流量を演算し、その流量で冷却媒体が流れるように、ポンプ53を制御する。このように制御IC55は、例えば第1流路301を流れる冷却媒体の流量を制御する。制御IC55は、流量制御のための構成に限定されるものではなく、センサ54の検出結果に応答してポンプ53を制御し、第1流路301を流れる冷却媒体の状態量を制御するための構成であり、例えば第1流路301を流れる冷却媒体の圧力を制御する構成であってもよい。このようにして、小形で冷却効率が比較的高い好適な冷媒供給デバイス10Yを実現することができる。   The control IC 55 calculates the flow rate of the cooling medium that should flow through the first flow path 301 based on the state quantity detected by the sensor 54, for example, and controls the pump 53 so that the cooling medium flows at that flow rate. Thus, the control IC 55 controls the flow rate of the cooling medium flowing through the first flow path 301, for example. The control IC 55 is not limited to the configuration for controlling the flow rate, and controls the pump 53 in response to the detection result of the sensor 54 to control the state quantity of the cooling medium flowing through the first flow path 301. For example, the configuration may be such that the pressure of the cooling medium flowing through the first flow path 301 is controlled. In this way, a suitable refrigerant supply device 10Y that is small and has a relatively high cooling efficiency can be realized.

上述の光照射ヘッド、および冷媒供給デバイスは、例えば一般照明や、画像表示装置など、各種用途に用いることができる。例えば、半導体製造装置における露光装置の光源を構成する露光デバイスの発光源として用いてもよい。例えば水銀ランプなどの従来のランプに比べ、LEDなどを露光光源に用いた場合、立ち上がり時間や立下り時間が比較的少なく、発光強度の安定性も比較的高い。また、露光デバイスにおいて、発光素子の発光を受けて変性する感光体材料(例えばフォトレジスト材料など)の表面に向けて導く、レンズや反射鏡などからなる光学系と、入力された画像データに応じて光照射ヘッドに配置された発光素子の発光を制御し、感光体材料に画像データに応じた画像パターンを形成させる制御部と、を設け、フォトレジスト材料の感光性材料に画像パターンを形成する画像形成装置を構成することもできる。この場合、制御部として、データ入出力手段を備える公知のコンピュータなどを用いればよい。光学系は、縮小光学系でも、当倍像を投射する光学系でもよい。かかる構成によれば、高価なフォトマスクなどを用いることなく、例えばフォトレジストなどの感光性材料に画像パターンを形成することができる。本願発明は、かかる露光デバイス、および画像形成装置も、あわせて提供する。   The light irradiation head and the refrigerant supply device described above can be used for various applications such as general illumination and an image display device. For example, you may use as a light emission source of the exposure device which comprises the light source of the exposure apparatus in a semiconductor manufacturing apparatus. For example, compared to a conventional lamp such as a mercury lamp, when an LED or the like is used as an exposure light source, the rise time and fall time are relatively short, and the stability of the emission intensity is relatively high. Also, in the exposure device, an optical system consisting of a lens, a reflecting mirror, and the like that guides toward the surface of a photosensitive material (for example, a photoresist material) that is modified by receiving light emitted from the light emitting element, and depending on input image data And a control unit that controls the light emission of the light emitting element disposed in the light irradiation head and forms an image pattern corresponding to the image data on the photosensitive material, and forms the image pattern on the photosensitive material of the photoresist material. An image forming apparatus can also be configured. In this case, a known computer equipped with data input / output means may be used as the control unit. The optical system may be a reduction optical system or an optical system for projecting this magnification image. According to this configuration, an image pattern can be formed on a photosensitive material such as a photoresist without using an expensive photomask or the like. The present invention also provides such an exposure device and an image forming apparatus.

本発明の光照射ヘッド10は、放熱効率が比較的高く、発光の最中における温度上昇が比較的少ない。本発明の光照射ヘッド10は、比較的高強度でかつ強度分布のムラが比較的小さい光を、長期間に渡って安定して照射することができる。   The light irradiation head 10 of the present invention has a relatively high heat dissipation efficiency and a relatively small temperature rise during light emission. The light irradiation head 10 of the present invention can stably irradiate light having relatively high intensity and relatively small intensity distribution unevenness over a long period of time.

以下、光照射ヘッドを用いた装置の一例である液滴硬化装置の一実施形態について、図面を参照し説明する。   Hereinafter, an embodiment of a droplet curing apparatus, which is an example of an apparatus using a light irradiation head, will be described with reference to the drawings.

図25,26は、光照射ヘッド10を備えて構成される、本発明の液滴硬化装置の一例である、インクジェットプリンタ90について説明する図であり、図25は、インクジェットプリンタ90の概略上面図である。また、図26は、インクジェットプリンタ90の概略断面図である。   FIGS. 25 and 26 are diagrams for explaining an ink jet printer 90 that is an example of the droplet curing apparatus of the present invention that includes the light irradiation head 10, and FIG. 25 is a schematic top view of the ink jet printer 90. It is. FIG. 26 is a schematic cross-sectional view of the ink jet printer 90.

インクジェットプリンタ90は、一方向(図中X方向)に搬送される、例えば紙などの記録媒体99の表面に、インクジェットヘッド91からインク滴を吐出するとともに、記録媒体99の表面に付着させたインク滴に所定の波長分布の光を照射して、記録媒体99に付着したインク滴を硬化させる。インクジェットプリンタ90は、記録媒体99が載置されるプラテン92と、送りローラ931と押さえローラ932とを有して構成された搬送手段93と、インクジェットヘッド91をプラテン92に対して相対移動させる移動機構94と、光照射ヘッド10と、を有して構成されている。   The ink jet printer 90 ejects ink droplets from the ink jet head 91 onto the surface of the recording medium 99 such as paper, which is transported in one direction (X direction in the figure), and is attached to the surface of the recording medium 99. The ink droplets attached to the recording medium 99 are cured by irradiating the droplets with light having a predetermined wavelength distribution. The ink jet printer 90 includes a platen 92 on which the recording medium 99 is placed, a transport unit 93 having a feed roller 931 and a pressing roller 932, and a movement for moving the ink jet head 91 relative to the platen 92. It has a mechanism 94 and a light irradiation head 10.

インクジェットヘッド91は、プラテン92に載置されて搬送される記録媒体99の表面に、外部から入力される画像信号に応じて光硬化性のインク滴を吐出する。インクジェットヘッド91は、従来公知の、いわゆるサーマル型やバブル型などの、公知のインクジェットヘッドである。インクジェットヘッド91は、移動機構94が備えるガイドレール941に沿って、図中Y方向に沿って往復移動される。   The ink jet head 91 ejects photocurable ink droplets onto the surface of the recording medium 99 that is mounted on the platen 92 and conveyed in accordance with an image signal input from the outside. The inkjet head 91 is a known inkjet head such as a so-called thermal type or bubble type. The inkjet head 91 is reciprocated along the Y direction in the drawing along a guide rail 941 provided in the moving mechanism 94.

記録媒体99は、搬送手段93によって、例えば図中X方向に沿って搬送される。記録媒体99の移動にともない、インクジェットヘッド91も図中Y方向に沿って移動される。インクジェットヘッド91には、これら記録媒体99やインクジェットヘッド91の移動にともない、図示しない制御部から画像信号が送られる。インクジェットヘッド91では、この画像信号に応じて、記録媒体に向けて光硬化性のインク滴を吐出し、記録媒体99の表面に画像信号に応じた画像パターン(インク滴のパターン)を形成する。   The recording medium 99 is conveyed by the conveying means 93, for example, along the X direction in the figure. As the recording medium 99 moves, the inkjet head 91 is also moved along the Y direction in the drawing. An image signal is sent to the inkjet head 91 from a control unit (not shown) as the recording medium 99 and the inkjet head 91 move. In the ink jet head 91, in response to the image signal, photocurable ink droplets are ejected toward the recording medium, and an image pattern (ink droplet pattern) corresponding to the image signal is formed on the surface of the recording medium 99.

光照射ヘッド10は、インクジェットヘッド91に対し、記録媒体99よりも下流側に配置されている。すなわち、インクジェットプリンタ90では、インクジェットヘッド91から吐出されて記録媒体99の表面に付着したインク滴に、光照射ヘッド10からの光が照射されるよう構成されている。上述のように、光照射ヘッド10によれば、光の光量分布のバラツキが比較的小さい、比較的高い光量の光を照射することができる。すなわち、インクジェットヘッド91から吐出されて記録媒体99の表面に、比較的高い光量の光を比較的均一に照射することができる。本実施形態のインクジェットプリンタ90によれば、記録媒体99の表面に付着したインク滴を比較的短時間で硬化させることができ、記録媒体99表面におけるインクの硬化ムラも比較的少ない。例えば、図中Y方向に沿った特定箇所において、インクの硬化が局所的に遅い場合など、この特定箇所では周囲に比べてインクの滲みや拡がりが大きくなる。この場合、記録媒体に記録された画像において、この特定箇所に対応する位置に現れる、記録媒体の搬送方向(X方向)に沿った線状の画像ムラが視認されることもある。本実施形態のインクジェットプリンタ90では、かかる画像ムラの発生も抑制される。   The light irradiation head 10 is disposed on the downstream side of the recording medium 99 with respect to the inkjet head 91. That is, the ink jet printer 90 is configured to irradiate light from the light irradiation head 10 to ink droplets ejected from the ink jet head 91 and attached to the surface of the recording medium 99. As described above, according to the light irradiation head 10, it is possible to irradiate light having a relatively high light amount with relatively small variations in the light amount distribution of light. That is, it is possible to irradiate the surface of the recording medium 99 ejected from the inkjet head 91 with a relatively high amount of light relatively uniformly. According to the ink jet printer 90 of the present embodiment, ink droplets attached to the surface of the recording medium 99 can be cured in a relatively short time, and ink curing unevenness on the surface of the recording medium 99 is also relatively small. For example, in a specific location along the Y direction in the figure, ink spreading or spreading is greater than the surroundings at this specific location, such as when the ink is locally hardened. In this case, in the image recorded on the recording medium, linear image unevenness along the recording medium conveyance direction (X direction) appearing at a position corresponding to the specific portion may be visually recognized. In the ink jet printer 90 of this embodiment, the occurrence of such image unevenness is also suppressed.

また、光照射ヘッド10は放熱性が比較的高く、熱に起因した素子の劣化や、構造体の破損などが抑制されている。インクジェットプリンタ90は、比較的高い光量の光を、長期間に渡って安定して照射することができる。   In addition, the light irradiation head 10 has a relatively high heat dissipation property, so that deterioration of elements due to heat, damage to the structure, and the like are suppressed. The ink jet printer 90 can stably emit a relatively high amount of light over a long period of time.

なお、本実施形態のインクジェットプリンタ90では、光照射ヘッド10の制御部95の図示しないメモリには、インクジェットヘッド91から吐出されるインク滴を硬化するのに比較的良好な光の特徴を示すデータ、具体的には、吐出するインク滴を硬化するのに適した波長分布特性および発光強度(各波長域の発光強度)を表すデータが入力されている。光照射ヘッド10では、制御部95が、予め入力されているこの入力データに基づいて、複数の発光層122に入力する駆動電流の大きさを調整することもできる。インクジェットヘッド91によれば、使用するインクの特性に応じた適正な光量で光を照射することができ、比較的低エネルギーの光で、インク滴を硬化させることができる。   In the inkjet printer 90 of the present embodiment, the memory (not shown) of the control unit 95 of the light irradiation head 10 stores data indicating light characteristics that are relatively good for curing the ink droplets ejected from the inkjet head 91. Specifically, data representing wavelength distribution characteristics and emission intensity (emission intensity in each wavelength region) suitable for curing the ejected ink droplet is input. In the light irradiation head 10, the control unit 95 can also adjust the magnitude of the drive current input to the plurality of light emitting layers 122 based on the input data input in advance. According to the inkjet head 91, light can be irradiated with an appropriate amount of light according to the characteristics of the ink used, and ink droplets can be cured with relatively low energy light.

なお、インクジェットプリンタの形態は、以上の実施形態に限定されない。例えば、軸支されたローラを回転させ、このローラ表面に沿って記録媒体を搬送する、いわゆるオフセット印刷型のプリンタであってもよく、同様の効果を奏する。   The form of the ink jet printer is not limited to the above embodiment. For example, a so-called offset printing type printer that rotates a shaft-supported roller and conveys a recording medium along the roller surface may exhibit the same effect.

本実施形態では、インクジェットヘッドを用いたインクジェットプリンタに、照射ヘッドを適用した例を示している。本発明の照射ヘッドは、例えば対象体表面にスピンコートした光硬化樹脂を硬化させる専用装置など、各種類の光硬化樹脂の硬化に適用することができる。また、例えば、露光装置における照射光源などに用いてもよい、この場合も、比較的高い光量の光を、比較的少ない光量分布で照射することができる点で好ましい。また、複数の発光素子からの発光を各々独立して制御し、例えば感光性材料の表面に選択的に光を照射し、照射した光に応じた画像を形成する画像形成装置にも用いることもできる。   In the present embodiment, an example in which an irradiation head is applied to an ink jet printer using an ink jet head is shown. The irradiation head of the present invention can be applied to the curing of various types of photo-curing resins such as a dedicated device for curing a photo-curing resin spin-coated on the surface of an object. Further, for example, it may be used as an irradiation light source in an exposure apparatus. This case is also preferable in that a relatively high light amount can be irradiated with a relatively small light amount distribution. Further, the light emission from a plurality of light emitting elements can be controlled independently, and for example, it can also be used for an image forming apparatus that selectively irradiates light on the surface of a photosensitive material and forms an image corresponding to the irradiated light. it can.

以上、本発明の照射ヘッド、液滴硬化装置、および液滴効果方法について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良および変更を行ってもよいのはもちろんである。   The irradiation head, the droplet curing device, and the droplet effect method of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various improvements can be made without departing from the gist of the present invention. Of course, changes may be made.

10・・・光照射ヘッド
10X・・・光照射部
10Y・・・冷媒供給デバイス
11・・・絶縁基体
11X・・・第1構成体
11Y・・・第2構成体
12・・・発光素子
121・・・素子基板
122・・・発光層(発光体)
123,124・・・素子電極
131,132・・・端子電極
14・・・封止材
15・・・駆動素子
20・・・第1基板(絶縁基板)
201・・・冷却流路
201a・・・流入口(開口部)
201b・・・流出口(開口部)
201c・・・主配管部
201d・・・支流配管部
21・・・支持部
21a・・・表面
21b・・・反射部で囲まれた領域
22・・・反射部
22a・・・貫通孔
23・・・配線導体
24・・・熱伝導部材
25・・・第2の熱伝導部材
26・・・熱接続部材
30・・・第2基板
30a・・・一方主面
30b・・・他方主面
301・・・第1流路
301x・・・第1流路の一方
301y・・・第1流路の他方
301a・・・(第3導入)開口部
301b・・・(第3排出)開口部
301c・・・(第2排出)開口部
301d・・・(第2導入)開口部
31・・・貫通配線
40・・・実装基板
401・・・第2流路
401a・・・(第4排出)開口部
401b・・・(第4導入)開口部
401x・・・供給流路部分
401y・・・回収流路部分
51・・・貯蔵部
52・・・回収部
53・・・ポンプ
530・・・駆動部
531,532・・・電極
533,534・・・内部配線
54・・・センサ
55・・・制御IC
56,57,58・・・接続配線
60・・・第1基板間接合部
61・・・第1接合部材
611・・・第1接続流路
62・・・第2接合部材
621・・・第2接続流路
63・・・第1電気接続部
64・・・第1耐食性部材
70・・・第2基板間接合部
71・・・第3接合部材
711・・・第3接続流路
72・・・第4接合部材
721・・・第4接続流路
73・・・第2電気接続部
74・・・第2耐食性部材
90・・・インクジェットプリンタ
91・・・インクジェットヘッド
92・・・プラテン
93・・・搬送手段
931・・・送りローラ
932・・・押さえローラ
94・・・移動機構
941・・・ガイドレール
95・・・制御部
99・・・記録媒体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Light irradiation head 10X ... Light irradiation part 10Y ... Refrigerant supply device 11 ... Insulation base | substrate 11X ... 1st structure 11Y ... 2nd structure 12 ... Light emitting element 121 ... Element substrate 122 ... Light emitting layer (light emitter)
123, 124 ... Device electrodes 131, 132 ... Terminal electrodes 14 ... Sealing material 15 ... Drive device 20 ... First substrate (insulating substrate)
201 ... Cooling channel 201a ... Inlet (opening)
201b ... Outlet (opening)
201c ... Main piping part 201d ... Tributary piping part 21 ... Supporting part 21a ... Surface 21b ... Region 22 surrounded by reflecting part ... Reflecting part 22a ... Through hole 23 ..Wiring conductor 24... Thermal conduction member 25... Second thermal conduction member 26... Thermal connection member 30 .. second substrate 30 a. ... first flow path 301x ... one first flow path 301y ... the other first flow path 301a (third introduction) opening 301b (third discharge) opening 301c ... (second discharge) opening 301d ... (second introduction) opening 31 ... penetrating wiring 40 ... mounting substrate 401 ... second flow path 401a ... (fourth discharge) Opening 401b (fourth introduction) opening 401x ... supply flow path portion 401y ... recovery flow path portion 51 · Reservoir 52 ... recovery unit 53 ... pump 530 ... driving unit 531, 532 ... electrode 533 ... internal wiring 54 ... sensor 55 ... control IC
56, 57, 58... Connection wiring 60... First inter-substrate joint 61... First joint member 611... First connection flow path 62. 2 connection flow path 63 ... 1st electrical connection part 64 ... 1st corrosion-resistant member 70 ... 2nd board | substrate joining part 71 ... 3rd joining member 711 ... 3rd connection flow path 72- ··· Fourth joining member 721 ··· Fourth connection flow path 73 ··· Second electrical connection portion 74 ··· Second corrosion resistant member 90 · · · Inkjet printer 91 · · · Inkjet head 92 · · · Platen 93 ... Conveying means 931 ... Feeding roller 932 ... Pressing roller 94 ... Moving mechanism 941 ... Guide rail 95 ... Control unit 99 ... Recording medium

Claims (15)

基体と、該基体の第1主面の上に配置されている発光素子と、を備えており、
前記基体は、冷却媒体が通過する流路が内部に設けられている、光照射ヘッド。
A substrate and a light emitting element disposed on the first main surface of the substrate;
The said base | substrate is a light irradiation head by which the flow path through which a cooling medium passes is provided in the inside.
前記基体は、前記発光素子と前記流路との間に、当該基体に比べて熱伝導率が高い熱伝導部材が配置されている、請求項1に記載の光照射ヘッド。   The light irradiation head according to claim 1, wherein the base is provided with a heat conductive member having a higher thermal conductivity than the base between the light emitting element and the flow path. 前記流路は、前記熱伝導部材の外面に沿って曲がる曲部を少なくとも1つ備えている、請求項2に記載の光照射ヘッド。   The light irradiation head according to claim 2, wherein the flow path includes at least one bent portion that bends along the outer surface of the heat conducting member. 前記熱伝導部材は、少なくとも一部が前記流路に露出している、請求項2または請求項3に記載の光照射ヘッド。   The light irradiation head according to claim 2, wherein at least a part of the heat conducting member is exposed to the flow path. 前記熱伝導部材は、前記流路を貫通している、請求項4に記載の光照射ヘッド。   The light irradiation head according to claim 4, wherein the heat conducting member passes through the flow path. 前記流路は、熱伝導部材を貫通している、請求項4に記載の光照射ヘッド。   The light irradiation head according to claim 4, wherein the flow path penetrates the heat conducting member. 前記熱伝導部材は、前記第1主面に平行な断面積がそれぞれ異なる複数の部分領域を有しており、
前記複数の部分領域は、前記第1主面の側の前記断面積に比べて第1主面と対となる第2主面の側の前記断面積がより大きい、拡径部を備えている、請求項2から請求項6のいずれかに記載の光照射ヘッド。
The heat conducting member has a plurality of partial regions each having a different cross-sectional area parallel to the first main surface,
The plurality of partial regions include an enlarged-diameter portion having a larger cross-sectional area on the second main surface side that is paired with the first main surface than the cross-sectional area on the first main surface side. The light irradiation head according to any one of claims 2 to 6.
前記熱伝導部材は、前記基体の前記第1主面から露出している露出面を有しており、
前記発光素子は、前記熱伝導部材の前記露出面の上に載置されている、請求項2から請求項7のいずれかに記載の光照射ヘッド。
The heat conducting member has an exposed surface exposed from the first main surface of the base;
The light emitting head according to claim 2, wherein the light emitting element is placed on the exposed surface of the heat conducting member.
前記基体の前記第1主面と対となる第2主面の側に配されている、前記発光素子に電力を供給する駆動素子を備えている、請求項1から請求項8のいずれかに記載の光照射ヘッド。   9. The device according to claim 1, further comprising a drive element that is disposed on a side of the second main surface that is paired with the first main surface of the base body and that supplies power to the light emitting element. The light irradiation head of description. 前記基体は、前記駆動素子と前記流路との間に、当該基体に比べて熱伝導率が高い第2の熱伝導部材が配置されている、請求項9に記載の光照射ヘッド。   The light irradiation head according to claim 9, wherein the base is provided with a second heat conductive member having a higher thermal conductivity than the base between the drive element and the flow path. 前記第2の熱伝導部材は、前記基体の前記第2主面から露出している第2の露出面を有しており、
前記駆動素子は、前記熱伝導部材の前記第2の露出面の上に載置されている、請求項8または請求項10に記載の光照射ヘッド。
The second heat conducting member has a second exposed surface exposed from the second main surface of the base;
11. The light irradiation head according to claim 8, wherein the driving element is placed on the second exposed surface of the heat conducting member.
請求項1から請求項11のいずれかに記載の光照射ヘッドを備えて構成されている、露光デバイス。   An exposure device comprising the light irradiation head according to any one of claims 1 to 11. 請求項1から請求項11のいずれかに記載の光照射ヘッドと、
前記発光素子の発光を受けて変性する感光体材料の表面に向けて、前記光照射ヘッドからの発光を導く光学系と、
入力された画像データに応じて前記光照射ヘッドに配置された前記発光素子の発光を制御して、前記感光体材料に前記画像データに応じた画像パターンを形成する制御部と、
を備えて構成されている、画像形成装置。
The light irradiation head according to any one of claims 1 to 11,
An optical system that guides light emitted from the light irradiation head toward the surface of the photosensitive material that is modified by receiving light emitted from the light emitting element;
A controller that controls light emission of the light emitting element disposed in the light irradiation head according to input image data, and forms an image pattern according to the image data on the photosensitive material;
An image forming apparatus comprising:
請求項1から請求項11のいずれかに記載の光照射ヘッドと、
前記光照射ヘッドの発する光を受けて硬化する光硬化性物質の液滴を記録媒体に吐出し、前記記録媒体の表面に前記液滴を付着させる吐出手段と、
を備える、液滴硬化装置。
The light irradiation head according to any one of claims 1 to 11,
Discharging means for discharging a droplet of a photocurable material that is cured by receiving light emitted from the light irradiation head to a recording medium, and attaching the droplet to the surface of the recording medium;
A droplet curing apparatus comprising:
記録媒体の表面に、請求項1から請求項11のいずれかに記載の光照射ヘッドの発する光を受けて硬化する光硬化性物質を付着させ、
前記記録媒体の表面に付着した前記光硬化性物質に、前記光照射ヘッドの発する光を照射し、当該硬化性物質を硬化する、液滴硬化方法。
A photocurable material that is cured by receiving light emitted from the light irradiation head according to any one of claims 1 to 11 is attached to the surface of the recording medium,
A droplet curing method in which the photocurable material attached to the surface of the recording medium is irradiated with light emitted from the light irradiation head to cure the curable material.
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