JP2010272483A - Lighting device - Google Patents

Lighting device Download PDF

Info

Publication number
JP2010272483A
JP2010272483A JP2009125641A JP2009125641A JP2010272483A JP 2010272483 A JP2010272483 A JP 2010272483A JP 2009125641 A JP2009125641 A JP 2009125641A JP 2009125641 A JP2009125641 A JP 2009125641A JP 2010272483 A JP2010272483 A JP 2010272483A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
guide plate
light guide
light
concave pattern
lighting device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009125641A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuhide Sakamoto
光秀 坂本
Tatsuya Inaba
達也 稲葉
Noboru Iwanaga
登 岩永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SKG Co Ltd
Original Assignee
SKG Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SKG Co Ltd filed Critical SKG Co Ltd
Priority to JP2009125641A priority Critical patent/JP2010272483A/en
Publication of JP2010272483A publication Critical patent/JP2010272483A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Arrangement Of Elements, Cooling, Sealing, Or The Like Of Lighting Devices (AREA)
  • Planar Illumination Modules (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a desk top linghting device coping with an optional shape in production of small quantities and various products and optical characteristics suited to the shape and greatly reducing a tact involving manufacture regardless of its relatively large size. <P>SOLUTION: The lighting device is characterized by comprising a light guide plate that machining dots are arranged in a matrix on a rectangular leading edge of an ultrasonic machining horn, the leading edge of the ultrasonic machining horn is pressed on one main surface of a substrate for the light guide plate, reflection dots reflecting the machining dots on the leading edge are formed on one main surface of the substrate for the light guide plate, the ultrasonic machining horn is moved relative to the substrate for the light guide plate in a plane of the main surface to repeat formation of the reflection dots, the reflection dots are formed in a predetermined range on one main surface of the substrate for the light guide plate, and the reflection dots are formed on opposing both main surfaces of the substrate for the light guide plate, and a support member engaging with one end of the light guide plate. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、少量多品種の比較的大型の導光板の製造に超音波マルチホーンを用いたフレキシブルなドット加工が対応可能な両面発光用の導光板を配設した照明装置に関する。   The present invention relates to an illuminating device provided with a light-emitting plate for double-sided light emission capable of flexible dot processing using an ultrasonic multihorn for manufacturing a relatively large-sized light guide plate of a small amount and a variety.

従来、LED光を用いて面光源を生成する導光板において、大画面テレビジョン受像機に内蔵して使用する導光板については、例えば、断面形状が光源から出射した光束の進行方向に向かって広がる形をした逆楔型の反射ドットを設けた導光板の構成がある(例えば、特許文献1参照。)。   2. Description of the Related Art Conventionally, in a light guide plate that uses a LED light to generate a surface light source, the cross-sectional shape of the light guide plate that is built in and used in a large-screen television receiver widens in the traveling direction of the light beam emitted from the light source. There is a configuration of a light guide plate provided with a reverse wedge-shaped reflective dot having a shape (see, for example, Patent Document 1).

特開2008−305713号公報JP 2008-305713 A

しかしながら、前述の構成では、少量多品種の生産における任意の形状や形状に適した光学特性に対応することは困難であり、且つ製造に係るタクトが掛かるという問題点があった。   However, the above-described configuration has a problem that it is difficult to cope with optical characteristics suitable for an arbitrary shape and shape in the production of a small variety of products, and a tact for manufacturing is required.

そこで、本発明は前述の技術的な課題に鑑み、比較的大型であっても、少量多品種の生産における任意の形状や形状に適した光学特性に対応可能であり、且つ製造に係るタクトを大幅に短縮させることができるデスク搭載型の照明装置を提供することを目的とする。   Therefore, in view of the above-mentioned technical problems, the present invention can cope with optical characteristics suitable for any shape and shape in the production of a small variety of products even if it is relatively large, and has a tact for manufacturing. An object of the present invention is to provide a desk-mounted illumination device that can be significantly shortened.

前述の課題を解決すべく、本発明に係る本発明の照明装置は、導光板用基板の側面から光を入射して主面から該光を導出させるための導光板であって、超音波加工用ホーンの矩形状の先端面にマトリクス状に加工ドットを配列され、前記超音波加工用ホーンの前記先端面を前記導光板用基板の一主面に押圧されて前記導光板用基板の一主面に前記先端面の前記加工ドットを反映した反射ドットを形成され、前記超音波加工用ホーンを前記導光板用基板に対して前記主面の面内で相対的に移動させて前記反射ドットの形成を繰り返され、前記導光板用基板の一主面の所定範囲に前記反射ドットを形成され、前記反射ドットが前記導光板用基板の対向する両主面の両方にそれぞれ形成される導光板と、前記導光板の一端部と係合する支持部材とを有することを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, the illumination device of the present invention according to the present invention is a light guide plate for causing light to enter from the side surface of the light guide plate substrate and to derive the light from the main surface, and to perform ultrasonic processing. The processing dots are arranged in a matrix on the rectangular front end surface of the horn for horn, and the front end surface of the ultrasonic processing horn is pressed against one main surface of the light guide plate substrate, and the main portion of the light guide plate substrate A reflective dot reflecting the processed dot on the tip surface is formed on the surface, and the ultrasonic processing horn is moved relative to the light guide plate substrate within the plane of the main surface to A light guide plate that is formed repeatedly, the reflective dots are formed in a predetermined range of one main surface of the light guide plate substrate, and the reflective dots are respectively formed on both opposing main surfaces of the light guide plate substrate; A support member engaged with one end of the light guide plate Characterized in that it.

本発明に係るデスク搭載型の照明装置によれば、比較的大型であっても、少量多品種の生産における任意の形状や形状に適した光学特性に対応可能であり、且つ製造に係るタクトを大幅に短縮させることができる。   According to the desk-mounted lighting device according to the present invention, even if it is relatively large, it can cope with optical characteristics suitable for any shape and shape in the production of a small variety of products, and the tact for manufacturing can be reduced. It can be greatly shortened.

本発明の第1の実施形態の照明装置に配設された導光板を示す模式図であり、(a)は導光板の表面部を示す模式図、(b)は導光板の側面部を示す模式図、(c)は導光板の裏面部を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the light-guide plate arrange | positioned at the illuminating device of the 1st Embodiment of this invention, (a) is a schematic diagram which shows the surface part of a light-guide plate, (b) shows the side part of a light-guide plate. A schematic diagram and (c) are schematic diagrams which show the back surface part of a light-guide plate. 本発明の第1の実施形態の照明装置に配設された導光板の表面部の一部を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows a part of surface part of the light-guide plate arrange | positioned at the illuminating device of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態の照明装置に配設された導光板に設けられた凹パターン痕を形成するエンボス加工用の加工具を示す模式図であり、(a)は加工具の支持部を示す模式図、(b)は加工具の超音波加工部を示す模式図である、It is a schematic diagram which shows the processing tool for embossing which forms the concave pattern trace provided in the light-guide plate arrange | positioned at the illuminating device of the 1st Embodiment of this invention, (a) is a support part of a processing tool (B) is a schematic diagram showing an ultrasonic processing portion of the processing tool, 本発明の第1の実施形態の照明装置に配設された導光板に設けられた凹パターン痕を形成するエンボス加工用の超音波加工装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the ultrasonic processing apparatus for embossing which forms the concave pattern trace provided in the light-guide plate arrange | positioned at the illuminating device of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態の照明装置に配設された導光板に設けられた凹パターン痕を形成するエンボス加工の状態を示す模式図であり、(a)乃至(e)はエンボス加工を行う前に加工部材の加工開始基準高さを測定し、次に該加工開始基準高さに合わせて加工部材に対してエンボス加工を行う状態を順に示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state of the embossing which forms the concave pattern trace provided in the light-guide plate arrange | positioned at the illuminating device of the 1st Embodiment of this invention, (a) thru | or (e) are embossing. It is a schematic diagram which shows the state which measures the process start reference height of a process member before performing, and performs embossing with respect to a process member next according to this process start reference height. 本発明の第1の実施形態の照明装置に配設された導光板の側面部を示す模式図であり、(a)は加工部材に湾曲や厚み斑が無い場合の導光板の側面部を示す模式図、(b)は加工部材に湾曲や厚み斑が有る場合の導光板の側面部を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the side part of the light-guide plate arrange | positioned at the illuminating device of the 1st Embodiment of this invention, (a) shows the side part of a light-guide plate in case a processing member does not have a curve and a thickness spot. (B) is a schematic diagram which shows the side part of a light-guide plate in case a process member has a curve and a thickness spot. 従来の導光板の製造において加工部材に湾曲や厚み斑が有る場合の導光板の側面部を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the side part of a light-guide plate in case the curvature or thickness spot exists in a process member in manufacture of the conventional light-guide plate. 本発明の第1の実施形態の照明装置に配設された導光板の表面部に形成された表面部凹パターン痕と裏面部に形成された裏面部凹パターン痕を透過させた状態で示す模式図であり、(a)は表面部凹パターン痕に対して裏面部凹パターン痕が対面同一に形成されている状態を示す模式図、(b)は表面部凹パターン痕に対して裏面部凹パターン痕がX方向に半ピッチ偏心して形成されている状態を示す模式図、(c)は表面部凹パターン痕に対して裏面部凹パターン痕がY方向に半ピッチ偏心して形成されている状態を示す模式図、(d)は表面部凹パターン痕に対して裏面部凹パターン痕がX,Y方向ともに半ピッチ偏心して形成されている状態を示す模式図である。The model shown in the state which permeate | transmitted the surface part concave pattern trace formed in the surface part of the light-guide plate arrange | positioned in the illuminating device of the 1st Embodiment of this invention, and the back part concave pattern trace formed in the back surface part. It is a figure, and (a) is a mimetic diagram showing the state where the back part concave pattern trace is formed in the same face to the front part concave pattern trace, and (b) is the back part concave with respect to the front part concave pattern trace. Schematic diagram showing a state in which the pattern marks are formed with a half pitch eccentricity in the X direction, (c) is a state in which the back surface concave pattern marks are formed with a half pitch eccentricity in the Y direction with respect to the front surface concave pattern marks. (D) is a schematic diagram showing a state where the back surface concave pattern trace is formed with a half-pitch eccentricity in both the X and Y directions with respect to the front surface concave pattern trace. 本発明の第1の実施形態の照明装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the illuminating device of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態の照明装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the illuminating device of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態の照明装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the illuminating device of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態の照明装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the illuminating device of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態の照明装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the illuminating device of the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態の照明装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the illuminating device of the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施形態の照明装置に配設された表面部凹パターン痕と裏面部凹パターン痕の深さをそれぞれ異ならせた導光板の側面部を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the side part of the light-guide plate which each made the depth of the surface part concave pattern trace arrange | positioned in the illuminating device of the 4th Embodiment of this invention and the back surface concave pattern trace differ. 本発明の第5の実施形態の照明装置に配設された表面部凹パターン痕と裏面部凹パターン痕の深さをそれぞれ異ならせた導光板と該導光板に接着させた反射テープの側面部を示す模式図である。A light guide plate having different depths of the front surface concave pattern trace and the back surface concave pattern trace disposed in the illumination device of the fifth embodiment of the present invention and a side surface portion of the reflective tape bonded to the light guide plate It is a schematic diagram which shows.

以下、本発明の照明装置に係る好適な実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、本発明の照明装置は、以下の記述に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、適宜変更可能である。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments according to a lighting device of the invention will be described with reference to the drawings. In addition, the illuminating device of this invention is not limited to the following description, In the range which does not deviate from the summary of this invention, it can change suitably.

[第1の実施形態]
最初に本願発明に係るデスク搭載型の照明装置に配設された導光板の構成について説明し、次に導光板の加工具及び加工装置について説明し、さらに導光板の製造方法及び導光板の光学的な仕様について説明し、最後に本願発明に係る照明装置について説明する。
[First Embodiment]
First, the configuration of the light guide plate disposed in the desk-mounted illumination device according to the present invention will be described, then the light guide plate processing tool and processing device will be described, and the light guide plate manufacturing method and light guide plate optics The general specifications will be described, and finally the lighting device according to the present invention will be described.

まず、本願発明に係る照明装置50及び照明装置60に配設された導光板10の製造方法により製造された導光板10の構成について、図1及び図2を参照しながら説明する。   First, the structure of the light guide plate 10 manufactured by the method for manufacturing the light guide plate 10 disposed in the illumination device 50 and the illumination device 60 according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

なお、図1は後述する照明装置50及び照明装置60に配設された導光板10を示す模式図であり、さらに図1(a)は導光板10の表面部10A、同様に図1(b)は導光板10の側面部10C、同様に図1(c)は導光板10の裏面部10Dを示す模式図である。また、図2は導光板10の表面部10Aの一部を拡大して示す模式図である。   FIG. 1 is a schematic diagram showing a light guide plate 10 disposed in the illumination device 50 and the illumination device 60 described later, and FIG. 1A shows a surface portion 10A of the light guide plate 10 as well as FIG. ) Is a schematic view showing a side surface portion 10C of the light guide plate 10, and similarly, FIG. FIG. 2 is a schematic view showing a part of the surface portion 10A of the light guide plate 10 in an enlarged manner.

導光板10は、例えばメタクリル樹脂(Polymethylmethacrylate)板から成る、複数の凹パターン痕が形成された所定の大きさの板状部から構成される。具体的には、該板状部の大きさは、例えば100mm×100mmからB0版サイズ相当の1450mm×1030mmの長方形状で、4mmから12mmの厚みに対応する。ここで、図1に示すように、導光板10の表面部10Aには表面部凹パターン痕10Bが形成され、導光板10の裏面部10Dには裏面部凹パターン痕10Eが形成されている。また、その凹パターン痕は、例えば長径0.6mm及び深さ0.4mmの四角錐形状痕から形成されてピッチパターンとして、例えば1.2、1.5、2.0、及び8.0mmピッチ等で構成されたマトリクス状の成形痕にて形成されている。   The light guide plate 10 is composed of a plate-shaped portion having a predetermined size and having a plurality of concave pattern marks formed of, for example, a methacrylic resin (Polymethylmethacrylate) plate. Specifically, the size of the plate-like portion is, for example, a rectangular shape of 100 mm × 100 mm to 1450 mm × 1030 mm corresponding to the B0 plate size, and corresponds to a thickness of 4 mm to 12 mm. Here, as shown in FIG. 1, a front surface concave pattern mark 10 </ b> B is formed on the front surface part 10 </ b> A of the light guide plate 10, and a back surface concave pattern mark 10 </ b> E is formed on the back surface part 10 </ b> D of the light guide plate 10. The concave pattern trace is formed from a square pyramid-shaped trace having a major axis of 0.6 mm and a depth of 0.4 mm, for example, as a pitch pattern, for example, 1.2, 1.5, 2.0, and 8.0 mm pitch. It is formed with a matrix-shaped molding mark composed of the like.

次に、導光板10の加工具及び加工装置について説明する。具体的には、導光板10に設けられた凹パターン痕を形成する加工具20、及び超音波加工装置30について、図3及び図4を参照しながら説明する。   Next, the processing tool and processing apparatus of the light guide plate 10 will be described. Specifically, the processing tool 20 and the ultrasonic processing apparatus 30 that form the concave pattern marks provided on the light guide plate 10 will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

なお、図3は後述する照明装置50及び照明装置60に配設された導光板10に設けられた凹パターン痕を形成するエンボス加工用の加工具20を示す模式図であり、さらに図3(a)は加工具20の支持部20B、同様に図3(b)は加工具20の超音波加工部20Aを示す模式図である、また、図4は後述する照明装置50及び照明装置60に配設された導光板10に設けられた凹パターン痕を形成するエンボス加工用の超音波加工装置30を示す斜視図である。   FIG. 3 is a schematic diagram showing an embossing processing tool 20 for forming concave pattern marks provided on the light guide plate 10 disposed in the lighting device 50 and the lighting device 60 described later, and FIG. FIG. 3B is a schematic view showing the ultrasonic processing section 20A of the processing tool 20, and FIG. 4 shows a lighting device 50 and a lighting device 60 described later. It is a perspective view which shows the ultrasonic processing apparatus 30 for embossing which forms the concave pattern trace provided in the arrange | positioned light-guide plate 10. FIG.

加工具20は、超音波加工用ホーンであり、超音波加工用ホーンの矩形状の先端面にマトリクス状に加工ドットを配列させた超音波加工部20A、及び該超音波加工部20Aを支持する支持部20Bから構成される。また、超音波加工部20Aにおいて、各加工ドットは四角錐形状に形成されている。なお、図2(b)においては、一例として4行4列のマトリクス状に加工ドットを配列させた超音波加工部20Aを記載している。   The processing tool 20 is an ultrasonic processing horn, and supports the ultrasonic processing unit 20A in which processing dots are arranged in a matrix on the rectangular front end surface of the ultrasonic processing horn, and the ultrasonic processing unit 20A. It is comprised from the support part 20B. In the ultrasonic processing section 20A, each processing dot is formed in a quadrangular pyramid shape. FIG. 2B shows an ultrasonic processing unit 20A in which processing dots are arranged in a matrix of 4 rows and 4 columns as an example.

超音波加工装置30は、機台31、作業台32、移動機構33、真空ポンプ34、及び超音波発振器35等から構成される。なお、超音波加工装置30には、例えば本願発明と同一の出願人により実用新案登録出願され、登録3140292号として登録済みの超音波加工装置を用いることができる。この様な超音波加工装置30に、加工具20の支持部20Bを装着して、加工具20の超音波加工部20Aに超音波振動を印加することにより、加工部材5の表面又は裏面、もしくは両面に凹パターン痕を形成して導光板10を製造する。   The ultrasonic processing apparatus 30 includes a machine base 31, a work table 32, a moving mechanism 33, a vacuum pump 34, an ultrasonic oscillator 35, and the like. As the ultrasonic machining apparatus 30, for example, an ultrasonic machining apparatus that has been filed for a utility model registration by the same applicant as the present invention and has been registered as registration No. 3140292 can be used. By attaching the support portion 20B of the processing tool 20 to such an ultrasonic processing device 30 and applying ultrasonic vibration to the ultrasonic processing portion 20A of the processing tool 20, the front surface or the back surface of the processing member 5, or The light guide plate 10 is manufactured by forming concave pattern marks on both sides.

具体的には、超音波加工装置30において、加工具20の超音波加工部20Aを加工部材5の一主面に押圧させることにより、加工部材5の一主面に超音波加工部20Aに設けられた加工ドットを反映した反射ドットを形成させる。なお、加工具20を加工部材5に対して相対的に移動させて反射ドットの形成を繰り返すことにより、加工部材5の一主面の所定範囲に反射ドットを形成する。また、加工ドットの四角錐形状の稜線の延長方向の少なくとも一方向は加工部材5を加工することにより形成された導光板10の側面から入射する光の入射方向と実質的に略平行とされる様に、加工具20の超音波加工部20Aを加工部材5の一主面に押圧させる。なお、加工部材5の形状誤差を考慮した、より具体的な凹パターン痕の形成方法については、図5を参照しながら後述する。   Specifically, in the ultrasonic processing apparatus 30, the ultrasonic processing unit 20 </ b> A of the processing tool 20 is pressed against one main surface of the processing member 5, thereby providing the ultrasonic processing unit 20 </ b> A on one main surface of the processing member 5. Reflective dots reflecting the processed dots are formed. In addition, the reflective dot is formed in the predetermined range of one main surface of the processing member 5 by moving the processing tool 20 relative to the processing member 5 and repeating the formation of the reflective dots. Further, at least one direction of the extending direction of the quadrangular pyramid ridge line of the processing dots is substantially parallel to the incident direction of the light incident from the side surface of the light guide plate 10 formed by processing the processing member 5. Similarly, the ultrasonic processing portion 20 </ b> A of the processing tool 20 is pressed against one main surface of the processing member 5. Note that a more specific method for forming the concave pattern trace in consideration of the shape error of the processed member 5 will be described later with reference to FIG.

次に、導光板10の製造方法について説明する。具体的には、加工部材5の形状誤差を考慮した、導光板10に設けられた凹パターン痕の形成について、図5を参照しながら具体的に説明する。   Next, a method for manufacturing the light guide plate 10 will be described. Specifically, the formation of the concave pattern marks provided on the light guide plate 10 in consideration of the shape error of the processed member 5 will be specifically described with reference to FIG.

なお、図5は後述する照明装置50及び照明装置60に配設された導光板10に設けられた凹パターン痕を形成するエンボス加工の状態を示す模式図であり、さらに図5(a)乃至(e)はエンボス加工を行う前に加工部材5の加工開始基準高さを測定し、次に該加工開始基準高さに合わせて加工部材5に対してエンボス加工を行う状態を順に示す模式図である。   FIG. 5 is a schematic diagram showing an embossing state for forming a concave pattern mark provided on the light guide plate 10 provided in the illumination device 50 and the illumination device 60 described later, and FIG. (E) is a schematic diagram showing, in order, the state in which the machining start reference height of the machining member 5 is measured before embossing, and then the machining member 5 is embossed according to the machining start reference height. It is.

図5(a)に示すように、加工部材5の表面の加工開始基準高さH1を、超音波加工装置30の図示せぬ測定部に配設された可動式のプローブDを加工部材5の表面に接触させることにより検出する。また該加工部材5には、例えば所定の形状で透明なメタクリル樹脂板を用いる。なお、プローブDは、機械的な構成に限定されることはなく、例えば超音波加工装置30の図示せぬ測定部から測定光を照射して、加工部材5の表面からの反射光を受光する構成としても良い。   As shown in FIG. 5 (a), the processing start reference height H 1 of the surface of the processing member 5 is set to the movable probe D disposed in a measurement unit (not shown) of the ultrasonic processing apparatus 30. Detect by contacting the surface. For the processed member 5, for example, a transparent methacrylic resin plate having a predetermined shape is used. The probe D is not limited to a mechanical configuration. For example, the probe D emits measurement light from a measurement unit (not shown) of the ultrasonic processing apparatus 30 and receives reflected light from the surface of the processing member 5. It is good also as a structure.

同様に、図5(b)に示すように、超音波加工装置30に装着された加工具20を、加工開始基準高さH1を検出した表面部10Aの上方の位置まで移動させた後、該加工開始基準高さH1を基準として、加工具20の先端に設けられた超音波加工部20Aに超音波振動を印加し、表面部10Aの加工開始基準高さH1から所定の深さまで超音波加工部20Aを降下させる。また、次の超音加工箇所である加工部材5の表面の加工開始基準高さH2を、超音波加工装置30の測定部に配設された可動式のプローブDにより検出する。   Similarly, as shown in FIG. 5B, after the processing tool 20 mounted on the ultrasonic processing apparatus 30 is moved to a position above the surface portion 10A where the processing start reference height H1 is detected, With reference to the processing start reference height H1, ultrasonic vibration is applied to the ultrasonic processing portion 20A provided at the tip of the processing tool 20, and ultrasonic processing is performed from the processing start reference height H1 of the surface portion 10A to a predetermined depth. Lower part 20A. Further, the processing start reference height H2 of the surface of the processing member 5 which is the next ultrasonic processing location is detected by the movable probe D disposed in the measurement unit of the ultrasonic processing apparatus 30.

同様に、図5(c)に示すように、超音波加工装置30に装着された加工具20を、加工開始基準高さH2を検出した表面部10Aの上方の位置まで移動させた後、該加工開始基準高さH2を基準として、加工具20の先端に設けられた超音波加工部20Aに超音波振動を印加し、表面部10Aの加工開始基準高さH2から所定の深さまで超音波加工部20Aを降下させる。また、次の超音加工箇所である加工部材5の表面の加工開始基準高さH3を、超音波加工装置30の測定部に配設された可動式のプローブDにより検出する。   Similarly, as shown in FIG. 5C, after moving the processing tool 20 mounted on the ultrasonic processing apparatus 30 to a position above the surface portion 10A where the processing start reference height H2 is detected, Using the processing start reference height H2 as a reference, ultrasonic vibration is applied to the ultrasonic processing portion 20A provided at the tip of the processing tool 20, and ultrasonic processing is performed from the processing start reference height H2 of the surface portion 10A to a predetermined depth. Lower part 20A. Further, the machining start reference height H3 of the surface of the machining member 5 which is the next ultrasonic machining location is detected by the movable probe D disposed in the measurement unit of the ultrasonic machining apparatus 30.

同様に、図5(d)に示すように、超音波加工装置30に装着された加工具20を、加工開始基準高さH3を検出した表面部10Aの上方の位置まで移動させた後、該加工開始基準高さH3を基準として、加工具20の先端に設けられた超音波加工部20Aに超音波振動を印加し、表面部10Aの加工開始基準高さH3から所定の深さまで超音波加工部20Aを降下させる。また、次の超音加工箇所である加工部材5の表面の加工開始基準高さH4を、超音波加工装置30の測定部に配設された可動式のプローブDにより検出する。   Similarly, as shown in FIG. 5D, after moving the processing tool 20 mounted on the ultrasonic processing apparatus 30 to a position above the surface portion 10A where the processing start reference height H3 is detected, Using the processing start reference height H3 as a reference, ultrasonic vibration is applied to the ultrasonic processing portion 20A provided at the tip of the processing tool 20, and ultrasonic processing is performed from the processing start reference height H3 of the surface portion 10A to a predetermined depth. Lower part 20A. Further, the machining start reference height H4 of the surface of the machining member 5 which is the next ultrasonic machining location is detected by the movable probe D disposed in the measurement unit of the ultrasonic machining apparatus 30.

さらに、図5(e)に示すように、超音波加工装置30に装着された加工具20を、加工開始基準高さH4を検出した表面部10Aの上方の位置まで移動させた後、該加工開始基準高さH4を基準として、加工具20の先端に設けられた超音波加工部20Aに超音波振動を印加し、表面部10Aの加工開始基準高さH4から所定の深さまで超音波加工部20Aを降下させる。   Further, as shown in FIG. 5E, the processing tool 20 mounted on the ultrasonic processing apparatus 30 is moved to a position above the surface portion 10A where the processing start reference height H4 is detected, and then the processing is performed. With reference to the start reference height H4, ultrasonic vibration is applied to the ultrasonic processing unit 20A provided at the tip of the processing tool 20, and the ultrasonic processing unit from the processing start reference height H4 of the surface portion 10A to a predetermined depth. Lower 20A.

次に、上述した導光板10に設けられた凹パターン痕の形成に係る効果について、図6及び図7を参照しながら具体的に説明する。   Next, the effect relating to the formation of the concave pattern marks provided on the light guide plate 10 described above will be specifically described with reference to FIGS. 6 and 7.

なお、図6は本願発明に係る照明装置50及び照明装置60に配設された導光板10の側面部10Cを示す模式図であり、さらに図6(a)は加工部材5に湾曲や厚み斑が無い場合の導光板10の側面部10Cを示す模式図、同様に図6(b)は加工部材5に湾曲や厚み斑が有る場合の導光板10の側面部10Cを示す模式図である。また、図7は従来の導光板40の製造において加工部材5に湾曲や厚み斑が有る場合の導光板40の側面部40Aを示す模式図である。   6 is a schematic diagram showing the lighting device 50 according to the present invention and the side surface portion 10C of the light guide plate 10 disposed in the lighting device 60. Further, FIG. FIG. 6B is a schematic diagram showing the side surface portion 10C of the light guide plate 10 when the processed member 5 has a curvature or unevenness in thickness. FIG. 7 is a schematic view showing the side surface portion 40A of the light guide plate 40 when the processed member 5 has a curve or thickness unevenness in the manufacture of the conventional light guide plate 40.

図6(a)に示すように、加工部材5に湾曲や厚み斑が無い場合には、加工毎に表面部10Aの加工開始基準高さを検出しなくても、導光板10の表面部10Aの位置に寄らず、表面部10Aに対して一定深さの表面部凹パターン痕10Bを形成できる。同様に、導光板10の裏面部10Dの位置に寄らず、裏面部10Dに対して一定深さの裏面部凹パターン痕10Eを形成できる。   As shown in FIG. 6A, when the processed member 5 has no curvature or unevenness in thickness, the surface portion 10A of the light guide plate 10 can be detected without detecting the processing start reference height of the surface portion 10A for each processing. Regardless of the position, the surface portion concave pattern mark 10B having a constant depth can be formed with respect to the surface portion 10A. Similarly, the back surface concave pattern mark 10E having a certain depth can be formed on the back surface portion 10D regardless of the position of the back surface portion 10D of the light guide plate 10.

しかし、図6(b)に示すように、加工部材5に湾曲や厚み斑が有る場合には、加工毎に表面部10Aの加工開始基準高さを検出しなければ、表面部10Aに対して一定深さの表面部凹パターン痕10Bを形成できない。同様に、加工毎に裏面部10Dの加工開始基準高さを検出しなければ、裏面部10Dに対して一定深さの裏面部凹パターン痕10Eを形成できない。   However, as shown in FIG. 6 (b), when the processed member 5 has a curve or thickness unevenness, if the processing start reference height of the surface portion 10A is not detected for each processing, the surface portion 10A is not detected. The surface portion concave pattern mark 10B having a certain depth cannot be formed. Similarly, unless the processing start reference height of the back surface portion 10D is detected for each processing, the back surface concave pattern mark 10E having a certain depth cannot be formed on the back surface portion 10D.

ここで、導光板10用の基板となる加工部材5には、例えば樹脂板であって、具体的にはメタクリル樹脂板等を用いる。メタクリル樹脂板は、押し出し製法により製造されることから、メタクリル樹脂板の厚みの個体差は、基準値が厚み8mmのもので約±1mmもある。また、一枚のメタクリル樹脂板においても厚み斑が大きく、具体的には最大厚みと最少厚みの差分は約0.4mmもある。なお、メタクリル樹脂板は、水分を吸収することにより反り返るように変形することがある。この様に、メタクリル樹脂板は、厚みの個体差、厚み斑、及び反り返り等に起因する厚み成分の誤差が大きい。一方、導光板10の表面部10Aに形成する表面部凹パターン痕10Bの深さ、及び導光板10の裏面部10Dに形成する裏面部凹パターン痕10Eの深さは、それぞれ0.3mmから0.5mmに設定する場合が多い。   Here, the processing member 5 that becomes the substrate for the light guide plate 10 is, for example, a resin plate, specifically, a methacrylic resin plate or the like. Since the methacrylic resin plate is manufactured by an extrusion manufacturing method, the individual difference in the thickness of the methacrylic resin plate is about ± 1 mm when the standard value is 8 mm. Further, even in a single methacrylic resin plate, the thickness unevenness is large. Specifically, the difference between the maximum thickness and the minimum thickness is about 0.4 mm. In addition, a methacrylic resin board may deform | transform so that it may warp by absorbing a water | moisture content. As described above, the methacrylic resin plate has a large error in the thickness component due to individual differences in thickness, thickness unevenness, warping, and the like. On the other hand, the depth of the front surface concave pattern mark 10B formed on the front surface part 10A of the light guide plate 10 and the depth of the back surface concave pattern mark 10E formed on the back surface part 10D of the light guide plate 10 are 0.3 mm to 0 respectively. Often set to 5 mm.

したがって、導光板10用の基板となる加工部材5のメタクリル樹脂板の加工において、超音波加工装置30の測定部に装着された可動式のプローブDにより検出した後に、該加工開始基準高さを基準として、加工具20先端の設けられた超音波加工部20Aに超音波振動を印加しながら、メタクリル樹脂板の表面から所定の深さまで超音波加工部20Aを降下させて、加工することは必須である。   Therefore, in the processing of the methacrylic resin plate of the processing member 5 serving as the substrate for the light guide plate 10, the processing start reference height is detected after being detected by the movable probe D attached to the measurement unit of the ultrasonic processing apparatus 30. As a reference, it is essential to lower the ultrasonic processing unit 20A from the surface of the methacrylic resin plate to a predetermined depth while applying ultrasonic vibration to the ultrasonic processing unit 20A provided at the tip of the processing tool 20. It is.

なお、メタクリル樹脂板の表面の加工開始基準高さを検出しない場合には、図7に示す従来の導光板40の様に、導光板40の表面部40Aにおいて一定深さの表面部凹パターン痕40Bを形成することができない。同様に、導光板40の裏面部40Dにおいて一定深さの裏面部凹パターン痕40Eを形成することができない。   When the processing start reference height of the surface of the methacrylic resin plate is not detected, the surface portion concave pattern trace having a certain depth in the surface portion 40A of the light guide plate 40 as in the conventional light guide plate 40 shown in FIG. 40B cannot be formed. Similarly, the back surface concave pattern mark 40E having a certain depth cannot be formed on the back surface portion 40D of the light guide plate 40.

次に、導光板10の製造方法により製造された導光板10の光学的な仕様について説明する。具体的には、導光板10の両面に形成された凹パターン痕に係る光学的な仕様について、図8を参照しながら具体的に説明する。   Next, optical specifications of the light guide plate 10 manufactured by the method for manufacturing the light guide plate 10 will be described. Specifically, the optical specifications relating to the concave pattern marks formed on both surfaces of the light guide plate 10 will be specifically described with reference to FIG.

なお、図8は後述する照明装置50及び照明装置60に配設された導光板の表面部10AにピッチP1で形成された表面部凹パターン痕10Bと裏面部10DにピッチP1で形成された裏面部凹パターン痕10Eとを透過させた状態で示す模式図であり、さらに図8(a)は表面部凹パターン痕10Bに対して裏面部凹パターン痕10Eが対面同一に形成されている状態、同様に図8(b)は表面部凹パターン痕10Bに対して裏面部凹パターン痕10EがX方向に半ピッチP2偏心して形成されている状態、同様に図8(c)は表面部凹パターン痕10Bに対して裏面部凹パターン痕10EがY方向に半ピッチP2偏心して形成されている状態、同様に図8(d)は表面部凹パターン痕10Bに対して裏面部凹パターン痕10EがX,Y方向ともに半ピッチP2偏心して形成されている状態を示す。   Note that FIG. 8 illustrates a back surface formed with a pitch P1 on the back surface portion 10D and a front surface concave pattern mark 10B formed on the surface portion 10A of the light guide plate disposed in the lighting device 50 and the lighting device 60 described later with a pitch P1. FIG. 8 (a) is a schematic diagram showing a state in which the concave / dent pattern mark 10E is transmitted, and FIG. 8 (a) shows a state in which the concave pattern mark 10E on the back surface is formed on the same surface as the concave pattern mark 10B on the front surface, Similarly, FIG. 8B shows a state in which the back surface concave pattern mark 10E is formed eccentrically by a half pitch P2 in the X direction with respect to the front surface concave pattern mark 10B. Similarly, FIG. FIG. 8D shows a state in which the back surface concave pattern mark 10E is formed with respect to the front surface concave pattern mark 10B. X, Y direction Both showing the condition being formed eccentrically half pitch P2.

ここで、導光板の表面部10Aに形成された表面部凹パターン痕10Bと、裏面部10Dに形成された裏面部凹パターン痕10Eに対して、それぞれLED光が照射される。具体的には、図8(a)乃至(d)の各図において、凹パターン痕に対して図8の水平方向XからLED光の入射光L1が照射される。同様に、図8(a)乃至(d)の各図において、凹パターン痕に対して図8の垂直方向YからLED光の入射光L2が照射される。以下、凹パターン痕の仕様に係る光学特性に関し、図8(a)に示す表面部凹パターン痕10Bと裏面部凹パターン痕10Eが対面同一に形成されている状態を基準の条件として、図8(b)乃至(d)に示す表面部凹パターン痕10Bに対し裏面部凹パターン痕10Eが半ピッチP2偏心している3つの条件における光学特性についてそれぞれ説明する。   Here, LED light is irradiated to the front surface concave pattern mark 10B formed on the front surface part 10A of the light guide plate and the back surface concave pattern mark 10E formed on the back surface part 10D, respectively. Specifically, in each of FIGS. 8A to 8D, the incident light L1 of LED light is irradiated from the horizontal direction X of FIG. Similarly, in each of FIGS. 8A to 8D, the incident light L2 of LED light is irradiated from the vertical direction Y of FIG. Hereinafter, with respect to the optical characteristics related to the specification of the concave pattern mark, the condition that the front surface concave pattern mark 10B and the back surface concave pattern mark 10E shown in FIG. Optical characteristics under three conditions in which the back surface concave pattern mark 10E is decentered by a half pitch P2 with respect to the front surface concave pattern mark 10B shown in FIGS.

まず、図8(b)に示す様に表面部凹パターン痕10Bに対して裏面部凹パターン痕10EがX方向に半ピッチP2偏心して形成されている条件での光学特性について、図8(a)と比較しながら説明する。この条件において、導光板10の表面部10A側から視認できるX方向での導光板10に形成された凹パターン痕の視認できる密度は、図8(a)の場合と比較して2倍である。このため、図8(a)の場合と比較して、導光板10の表面部10A側から視認できる凹パターン痕による輝点がX方向では2倍になるため光の明暗の差が小さくなる。また、導光板10の表面部10A側から視認できるY方向での導光板10に形成された凹パターン痕の密度は、図8(a)の場合と同一である。このため、図8(a)の場合と比較して、Y方向においては光の明暗の差は同一である。   First, as shown in FIG. 8B, the optical characteristics under the condition that the back surface concave pattern mark 10E is formed by decentering by a half pitch P2 in the X direction with respect to the front surface concave pattern mark 10B. ) And explain. Under this condition, the density at which the concave pattern marks formed on the light guide plate 10 in the X direction visible from the surface portion 10A side of the light guide plate 10 can be seen is twice that in the case of FIG. . For this reason, compared with the case of FIG. 8A, the bright spot due to the concave pattern trace visible from the surface portion 10A side of the light guide plate 10 is doubled in the X direction, so the difference in light brightness is small. Further, the density of the concave pattern marks formed in the light guide plate 10 in the Y direction that can be visually recognized from the surface portion 10A side of the light guide plate 10 is the same as in the case of FIG. For this reason, compared with the case of Fig.8 (a), the difference of the brightness of light is the same in the Y direction.

また、図8(c)に示す様に表面部凹パターン痕10Bに対して裏面部凹パターン痕10EがY方向に半ピッチP2偏心して形成されている条件での光学特性について、図8(a)と比較しながら説明する。この条件において、導光板10の表面部10A側から視認できるY方向での導光板10に形成された凹パターン痕の密度は、図8(a)の場合と比較して2倍である。このため、図8(a)の場合と比較して、導光板10の表面部10A側から視認できる凹パターン痕による拡散光がY方向では2倍になるため光の明暗の差が小さくなる。また、導光板10の表面部10A側から視認できるX方向での導光板10に形成された凹パターン痕の密度は、図8(a)の場合と同一である。このため、図8(a)の場合と比較して、X方向では光の明暗の差は同一である。   Further, as shown in FIG. 8C, the optical characteristics under the condition that the back surface concave pattern mark 10E is formed by decentering by a half pitch P2 in the Y direction with respect to the front surface concave pattern mark 10B. ) And explain. Under this condition, the density of the concave pattern marks formed on the light guide plate 10 in the Y direction visible from the surface portion 10A side of the light guide plate 10 is twice that in the case of FIG. For this reason, compared with the case of FIG. 8A, since the diffused light by the concave pattern trace visually recognizable from the surface portion 10A side of the light guide plate 10 is doubled in the Y direction, the difference in light brightness is reduced. Further, the density of the concave pattern marks formed on the light guide plate 10 in the X direction visible from the surface portion 10A side of the light guide plate 10 is the same as in the case of FIG. For this reason, compared with the case of Fig.8 (a), the difference of the brightness of light is the same in the X direction.

同様に、図8(d)に示す様に表面部凹パターン痕10Bに対して裏面部凹パターン痕10EがX,Y方向ともに半ピッチP2偏心して形成されている条件での光学特性について、図8(a)と比較しながら説明する。この条件において、導光板10の表面部10A側から視認できるX,Y方向での導光板10に形成された凹パターン痕の密度は、図8(a)の場合と比較してそれぞれ2倍である。このため、図8(a)の場合と比較して、導光板10の表面部10A側から視認できる凹パターン痕による拡散光がX,Y方向ともに2倍になるため光の明暗の差がそれぞれ小さくなる。   Similarly, as shown in FIG. 8D, the optical characteristics under the condition that the back surface concave pattern mark 10E is formed with the half pitch P2 decentered in the X and Y directions with respect to the front surface concave pattern mark 10B. This will be described in comparison with 8 (a). Under these conditions, the density of the concave pattern marks formed on the light guide plate 10 in the X and Y directions visible from the surface portion 10A side of the light guide plate 10 is twice as high as that in the case of FIG. is there. For this reason, compared with the case of FIG. 8A, the diffused light due to the concave pattern traces visible from the surface portion 10A side of the light guide plate 10 is doubled in both the X and Y directions, so the difference in light brightness is different. Get smaller.

以上、図8(a)乃至(d)を参照しながら上述した通り、表面部凹パターン痕10Bに対する裏面部凹パターン痕10Eの位置をX,Y方向に偏心して形成することにより、光学特性を任意に選択することができる。なお、特に図8(d)に示した条件においては、図8(a)に示した条件と比較して、X,Y方向ともに光の明暗の差がそれぞれ小さくなるため、良好な光学特性が得られる。   As described above with reference to FIGS. 8A to 8D, by forming the position of the back surface concave pattern mark 10E with respect to the front surface concave pattern mark 10B eccentrically in the X and Y directions, the optical characteristics can be improved. Can be arbitrarily selected. In particular, in the condition shown in FIG. 8D, since the difference in light brightness in the X and Y directions is smaller than in the condition shown in FIG. can get.

次に、本施形態の導光板10を配設した照明装置60の構成例について、図9を参照しながら具体的に説明する。なお、図9は照明装置60を示す斜視図である。   Next, a configuration example of the lighting device 60 provided with the light guide plate 10 of the present embodiment will be specifically described with reference to FIG. FIG. 9 is a perspective view showing the lighting device 60.

照明装置60において、導光板10の例えば上面部に対向するように1個以上の白色LEDから構成されたLEDユニット51が配設されている。ここで、白色LEDに駆動電流を印加することにより白色LED光を導光板10に入射させると、該白色LED光が導光板10の表面部10A及び裏面部10Dに形成された凹パターン痕に照射されてそれぞれ拡散光が発生する。また、その拡散光は表面部10A及び裏面部10Dに放出される。   In the illumination device 60, an LED unit 51 composed of one or more white LEDs is disposed so as to face, for example, the upper surface portion of the light guide plate 10. Here, when white LED light is incident on the light guide plate 10 by applying a drive current to the white LED, the white LED light is irradiated to the concave pattern marks formed on the front surface portion 10A and the back surface portion 10D of the light guide plate 10. As a result, diffused light is generated. Further, the diffused light is emitted to the front surface portion 10A and the back surface portion 10D.

また、照明装置60において、フレーム52は、導光板10とLEDユニット51を側面部からそれぞれ一体に保持するための、略コの字型で板状部から成る部材である。また、照明装置60において、デスク50の本体部50Aは、例えば書類等を載置して事務処理を行う作業スペースである。なお、導光板10は本体部50Aの一端部に略板状部から形成されたパーテーションとしての機能も有する。   In the lighting device 60, the frame 52 is a substantially U-shaped plate-shaped member for holding the light guide plate 10 and the LED unit 51 integrally from the side surfaces. Further, in the lighting device 60, the main body 50A of the desk 50 is a work space in which, for example, documents are placed and business processing is performed. The light guide plate 10 also has a function as a partition formed from a substantially plate-like portion at one end of the main body 50A.

次に、本施形態の導光板10を配設した照明装置70の構成例について、図10を参照しながら具体的に説明する。なお、図10は照明装置70を示す斜視図である。   Next, a configuration example of the illumination device 70 provided with the light guide plate 10 of the present embodiment will be specifically described with reference to FIG. FIG. 10 is a perspective view showing the lighting device 70.

照明装置70においては、照明装置70に設けられた導光板10の表面部10A及び裏面部10Dに対向するように、拡散板53A及び拡散板53Bがそれぞれ配設されている。ここで、照明装置70では、導光板10の表面部10Aから放出された拡散光が表面部10Aに対向して配設された拡散板53Aに入射され、該拡散光が拡散板53Aで更に拡散される。同様に、導光板10の裏面部10Dから放出された拡散光が裏面部10Dに対向して配設された拡散板53Bに入射され、該拡散光が拡散板53Bで更に拡散される。その結果、点在する輝点が不明瞭となり、拡散板53A、拡散板53Bが共に均一な発光面となる。なお、拡散板53A及び拡散板53Bには例えば乳半板を用いる。また、フレーム54は、導光板10、LEDユニット51、拡散板53A、及び拡散板53Bを側面部からそれぞれ一体に保持するための、略コの字型で板状部から成る部材である。   In the illuminating device 70, the diffusion plate 53A and the diffusing plate 53B are disposed so as to face the front surface portion 10A and the back surface portion 10D of the light guide plate 10 provided in the illuminating device 70, respectively. Here, in the illuminating device 70, the diffused light emitted from the surface portion 10A of the light guide plate 10 enters the diffuser plate 53A disposed so as to face the surface portion 10A, and the diffused light is further diffused by the diffuser plate 53A. Is done. Similarly, the diffused light emitted from the back surface portion 10D of the light guide plate 10 is incident on the diffusion plate 53B disposed to face the back surface portion 10D, and the diffused light is further diffused by the diffusion plate 53B. As a result, scattered bright spots become unclear, and both the diffusion plate 53A and the diffusion plate 53B become uniform light emitting surfaces. For example, a milk half plate is used for the diffusion plate 53A and the diffusion plate 53B. The frame 54 is a substantially U-shaped plate-shaped member for integrally holding the light guide plate 10, the LED unit 51, the diffusion plate 53A, and the diffusion plate 53B from the side surfaces.

なお、照明装置において、導光板10の裏面部10Dに対向するように反射シートを配設し、裏面部10D側から放出された拡散光が、反射シートにより反射され導光板10に入射した後に、該入射光が表面部10A側から放出される構成としても良い。この様な構成とすることにより、デスク50の本体部50A側に放出される光量を向上させることができる。同様に、照明装置50において、導光板10の表面部10A又は裏面部10Dのいずれか一面にのみ対向するように拡散板を配設する構成としても良い。   In the lighting device, a reflection sheet is disposed so as to face the back surface portion 10D of the light guide plate 10, and diffused light emitted from the back surface portion 10D is reflected by the reflection sheet and enters the light guide plate 10. The incident light may be emitted from the surface portion 10A side. By setting it as such a structure, the light quantity discharge | released to the main-body part 50A side of the desk 50 can be improved. Similarly, in the illuminating device 50, it is good also as a structure which arrange | positions a diffusion plate so that only one surface of the surface part 10A or the back surface part 10D of the light-guide plate 10 may be opposed.

以上、第1の実施形態に係るパーテーションとしての機能を有するデスク搭載型の照明装置60及び照明装置70によれば、加工具20の超音波加工部20Aを加工部材5の一主面に押圧させることにより、加工部材5の一主面に対してマトリクス状の加工ドットを反映した複数の反射ドットを1度に形成した導光板10を用いる。この様にマトリクス状の加工ドットを設けた超音波加工部20Aによる少量多品種の比較的大型の導光板10において、超音波マルチホーンを用いたフレキシブルなドット加工が対応可能であり、且つ製造に係るタクトを大幅に短縮させることができる。   As described above, according to the desk-mounted illumination device 60 and the illumination device 70 having a function as a partition according to the first embodiment, the ultrasonic processing unit 20 </ b> A of the processing tool 20 is pressed against one main surface of the processing member 5. Thus, the light guide plate 10 in which a plurality of reflective dots reflecting the matrix-like processed dots are formed at one time on one main surface of the processed member 5 is used. In this way, in the relatively small and large-sized light guide plate 10 by the ultrasonic processing section 20A provided with matrix-shaped processing dots, flexible dot processing using an ultrasonic multihorn can be handled, and in manufacturing. Such a tact can be greatly shortened.

また、第1の実施形態に係るパーテーションとしての機能を有するデスク搭載型の照明装置60及び照明装置70によれば、導光板10の表面部凹パターン痕10Bに対する裏面部凹パターン痕10Eの位置をX,Y方向に偏心して形成することにより、光の明暗の差に係る光学特性を任意に選択することができる。例えば、表面部凹パターン痕10Bに対する裏面部凹パターン痕10Eの位置をX,Y方向に半ピッチP2偏心して形成することにより、X,Y方向ともに光の明暗の差をそれぞれ小さくすることができる。   Further, according to the desk-mounted illumination device 60 and the illumination device 70 having a function as a partition according to the first embodiment, the position of the back surface concave pattern mark 10E with respect to the front surface concave pattern mark 10B of the light guide plate 10 is determined. By forming it decentered in the X and Y directions, it is possible to arbitrarily select the optical characteristics related to the difference in light brightness. For example, by forming the position of the back surface concave pattern mark 10E with respect to the front surface concave pattern mark 10B so as to be eccentric by a half pitch P2 in the X and Y directions, it is possible to reduce the difference in light intensity in both the X and Y directions. .

[第2の実施形態]
次に、第2の実施形態に係るデスク搭載型の照明装置80及び照明装置90の構成について、図11及び図12を参照しながら説明する。なお、図11及び図12はそれぞれ本発明の第2の実施形態の照明装置を示す斜視図である。
[Second Embodiment]
Next, configurations of the desk-mounted lighting device 80 and the lighting device 90 according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 12. 11 and 12 are perspective views showing a lighting device according to the second embodiment of the present invention.

なお、第2の実施形態の照明装置80及び照明装置90は、第1の実施形態の照明装置60及び照明装置70の応用例に相当する。そこで、第2の実施形態の照明装置80及び照明装置90においては、第1の実施形態の照明装置60及び照明装置70と異なる構造及び効果等について具体的に説明する。   Note that the illumination device 80 and the illumination device 90 of the second embodiment correspond to application examples of the illumination device 60 and the illumination device 70 of the first embodiment. Therefore, in the illumination device 80 and the illumination device 90 of the second embodiment, the structure and effects that are different from those of the illumination device 60 and the illumination device 70 of the first embodiment will be specifically described.

本願発明に係る導光板10を配設した照明装置80において、図11に示すように、導光板10はデスク50に対して回動可能に係合している。この様なデスク50は、本体部50A、側壁部50B、回動部50C、及び回動ノブ50Dから構成される。以下、デスク50を構成する各構成部材について説明する。本体部50Aは、例えば書類等を載置して事務処理を行う作業スペースである。また、側壁部50Bは、導光板10を回動可能に支持する支持部材であり、例えば本体部50Aの一端部に略板状部から形成されたパーテーションである。   In the illumination device 80 provided with the light guide plate 10 according to the present invention, the light guide plate 10 is rotatably engaged with the desk 50 as shown in FIG. Such a desk 50 includes a main body portion 50A, a side wall portion 50B, a rotation portion 50C, and a rotation knob 50D. Hereinafter, each component which comprises the desk 50 is demonstrated. The main unit 50A is a work space for carrying out paperwork by placing documents or the like, for example. Further, the side wall portion 50B is a support member that rotatably supports the light guide plate 10, and is, for example, a partition formed from a substantially plate-like portion at one end portion of the main body portion 50A.

同様に、照明装置80において、回動部50Cは、側壁部50Bの上面部の両端にそれぞれ1個ずつ設けられる。この様な回動部50Cは、略矩形状部から形成され、後述する回動ノブ50Dの回転軸を通すための貫通孔が設けられている。また、回動ノブ50Dは、突出した回転軸を有する円筒形状部から形成され、回動ノブ50Dの回転軸が回動部50Cを貫通してフレーム55の凹部に挿入されている。なお、フレーム55は、導光板10とLEDユニット51を側面部からそれぞれ一体に保持するための、略コの字型で板状部から成る部材である。ここで、回動ノブ50Dは、回動部50Cに対して一定圧力で付勢した状態で回動可能に保持されている。   Similarly, in the illuminating device 80, the rotation part 50C is provided one each at the both ends of the upper surface part of the side wall part 50B. Such a rotation part 50C is formed of a substantially rectangular part, and is provided with a through hole for passing a rotation shaft of a rotation knob 50D described later. The rotation knob 50D is formed of a cylindrical portion having a protruding rotation shaft, and the rotation shaft of the rotation knob 50D passes through the rotation portion 50C and is inserted into the recess of the frame 55. The frame 55 is a substantially U-shaped and plate-shaped member for holding the light guide plate 10 and the LED unit 51 integrally from the side surfaces. Here, the rotation knob 50D is rotatably held in a state where the rotation knob 50D is biased with a constant pressure with respect to the rotation portion 50C.

また、本願発明に係る導光板10を配設した照明装置90において、図12に示すように、照明装置90に設けられた導光板10の表面部10A及び裏面部10Dに対向するように、拡散板53A及び拡散板53Bがそれぞれ配設されている。ここで、照明装置90では、導光板10の表面部10Aから放出された拡散光が表面部10Aに対向して配設された拡散板53Aに入射され、該拡散光が拡散板53Aで更に拡散される。同様に、導光板10の裏面部10Dから放出された拡散光が裏面部10Dに対向して配設された拡散板53Bに入射され、該拡散光が拡散板53Bで更に拡散される。その結果、点在する輝点が不明瞭となり、拡散板53A、拡散板53Bが共に均一な発光面となる。なお、拡散板53A及び拡散板53Bには例えば乳半板を用いる。また、フレーム56は、導光板10、LEDユニット51、拡散板53A、及び拡散板53Bを側面部からそれぞれ一体に保持するための、略コの字型で板状部から成る部材である。なお、第2の実施形態の照明装置80及び照明装置90は、既存のデスックトップパネルに備え付けて用いる構成にすることが可能である。また、第2の実施形態の照明装置80及び照明装置90は、既存のデスックトップパネルに対して着脱可能に配設して用いる構成にすることも可能である。   Moreover, in the illuminating device 90 provided with the light guide plate 10 according to the present invention, as shown in FIG. 12, the diffusion is performed so as to face the front surface portion 10A and the back surface portion 10D of the light guide plate 10 provided in the illuminating device 90. A plate 53A and a diffusion plate 53B are provided. Here, in the illuminating device 90, the diffused light emitted from the surface portion 10A of the light guide plate 10 enters the diffuser plate 53A disposed so as to face the surface portion 10A, and the diffused light is further diffused by the diffuser plate 53A. Is done. Similarly, the diffused light emitted from the back surface portion 10D of the light guide plate 10 is incident on the diffusion plate 53B disposed to face the back surface portion 10D, and the diffused light is further diffused by the diffusion plate 53B. As a result, scattered bright spots become unclear, and both the diffusion plate 53A and the diffusion plate 53B become uniform light emitting surfaces. For example, a milk half plate is used for the diffusion plate 53A and the diffusion plate 53B. The frame 56 is a substantially U-shaped and plate-shaped member for integrally holding the light guide plate 10, the LED unit 51, the diffusion plate 53A, and the diffusion plate 53B from the side surfaces. In addition, the illuminating device 80 and the illuminating device 90 of 2nd Embodiment can be set as the structure equipped and used for the existing desk top panel. In addition, the lighting device 80 and the lighting device 90 of the second embodiment can be configured to be detachably disposed with respect to an existing desk top panel.

以上、第2の実施形態に係るパーテーションの上部に角度可変の面光源を配設したデスク搭載型の照明装置80及び照明装置90においても、加工具20の超音波加工部20Aを加工部材5の一主面に押圧させることにより、加工部材5の一主面に対してマトリクス状の加工ドットを反映した複数の反射ドットを1度に形成した導光板10を用いる。この様にマトリクス状の加工ドットを設けた超音波加工部20Aによる少量多品種の比較的大型の導光板10において、超音波マルチホーンを用いたフレキシブルなドット加工が対応可能であり、且つ製造に係るタクトを大幅に短縮させることができる。   As described above, also in the desk-mounted illumination device 80 and illumination device 90 in which the angle-variable surface light source is arranged on the upper part of the partition according to the second embodiment, the ultrasonic processing unit 20A of the processing tool 20 is used as the processing member 5. The light guide plate 10 in which a plurality of reflective dots reflecting matrix-like processed dots are formed at one time on one main surface of the processing member 5 by being pressed against one main surface is used. In this way, in the relatively small and large-sized light guide plate 10 by the ultrasonic processing section 20A provided with matrix-shaped processing dots, flexible dot processing using an ultrasonic multihorn can be handled, and in manufacturing. Such a tact can be greatly shortened.

また、第2の実施形態に係るパーテーションの上部に角度可変の面光源を配設したデスク搭載型の照明装置80及び照明装置90においても、導光板10の表面部凹パターン痕10Bに対する裏面部凹パターン痕10Eの位置をX,Y方向に偏心して形成することにより、光の明暗の差に係る光学特性を任意に選択することができる。例えば、表面部凹パターン痕10Bに対する裏面部凹パターン痕10Eの位置をX,Y方向に半ピッチP2偏心して形成することにより、X,Y方向ともに光の明暗の差をそれぞれ小さくすることができる。   Further, in the desk-mounted illumination device 80 and illumination device 90 in which the angle light source is arranged on the upper part of the partition according to the second embodiment, the back surface concave portion with respect to the front surface concave pattern mark 10B of the light guide plate 10 is also provided. By forming the pattern mark 10E eccentrically in the X and Y directions, it is possible to arbitrarily select the optical characteristics related to the difference in light brightness. For example, by forming the position of the back surface concave pattern mark 10E with respect to the front surface concave pattern mark 10B so as to be eccentric by a half pitch P2 in the X and Y directions, it is possible to reduce the difference in light intensity in both the X and Y directions. .

[第3の実施形態]
次に、第3の実施形態に係るデスク搭載型の照明装置100及び照明装置110の構成について、図13及び図14を参照しながら説明する。なお、図13及び図14はそれぞれ本発明の第3の実施形態の照明装置を示す斜視図である。
[Third Embodiment]
Next, configurations of the desk-mounted lighting device 100 and the lighting device 110 according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. 13 and 14. FIGS. 13 and 14 are perspective views showing a lighting device according to the third embodiment of the present invention.

なお、第3の実施形態の照明装置100及び照明装置110は、第2の実施形態の照明装置80及び照明装置90の応用例に相当する。そこで、第3の実施形態の照明装置100及び照明装置110においては、第2の実施形態の照明装置80及び照明装置90と異なる構造及び効果等について具体的に説明する。   Note that the illumination device 100 and the illumination device 110 according to the third embodiment correspond to application examples of the illumination device 80 and the illumination device 90 according to the second embodiment. Therefore, in the lighting device 100 and the lighting device 110 according to the third embodiment, the structure and effects that are different from those of the lighting device 80 and the lighting device 90 according to the second embodiment will be specifically described.

本願発明に係る導光板10を配設した照明装置80において、図13に示すように、導光板10はデスク50に対して回動可能に係合している。この様なデスク50は、第2の実施形態と同様の構成部材である本体部50A、回動部50C、及び回動ノブ50Dと、第3の実施形態に特有の構成部材である側壁部50E、支持部50F、及び昇降部50Gから構成される。このため、デスク50を構成する側壁部50E、支持部50F、及び昇降部50Gについて説明する。   In the lighting device 80 provided with the light guide plate 10 according to the present invention, the light guide plate 10 is rotatably engaged with the desk 50 as shown in FIG. Such a desk 50 includes a main body portion 50A, a rotating portion 50C, and a rotating knob 50D that are the same constituent members as those in the second embodiment, and a side wall portion 50E that is a constituent member unique to the third embodiment. , A support part 50F, and an elevating part 50G. For this reason, the side wall part 50E, the support part 50F, and the raising / lowering part 50G which comprise the desk 50 are demonstrated.

照明装置80において、側壁部50Eは、本体部50Aの一端部に略板状部から形成されたパーテーションである。また、支持部50Fは、導光板10を上下に移動可能に支持する支持部材であり、側壁部50Eの上方に設けられる。なお、支持部50Fに係る導光板10の回動機構は、第2の実施形態に係る回動機構と同様である。また、昇降部50Gは、側壁部50Eの両側であって側壁部50Eの内部に各1個ずつ設けられた、略棒状部から成る昇降部材である。この様な昇降部50Gの上端は支持部50Fの下部に接続されており、図示せぬ制御装置又は手動機器により支持部50Fを上下に移動させる。   In the lighting device 80, the side wall 50E is a partition formed from a substantially plate-like portion at one end of the main body 50A. The support portion 50F is a support member that supports the light guide plate 10 so as to be movable up and down, and is provided above the side wall portion 50E. Note that the rotation mechanism of the light guide plate 10 according to the support portion 50F is the same as the rotation mechanism according to the second embodiment. Moreover, the raising / lowering part 50G is a raising / lowering member which consists of a substantially rod-shaped part each provided in the both sides of the side wall part 50E and inside the side wall part 50E. The upper end of such an elevating part 50G is connected to the lower part of the support part 50F, and the support part 50F is moved up and down by a control device or a manual device (not shown).

また、本願発明に係る導光板10を配設した照明装置110において、図14に示すように、照明装置110に設けられた導光板10の表面部10A及び裏面部10Dに対向するように、拡散板53A及び拡散板53Bがそれぞれ配設されている。ここで、照明装置110では、導光板10の表面部10Aから放出された拡散光が表面部10Aに対向して配設された拡散板53Aに入射され、該拡散光が拡散板53Aで更に拡散される。同様に、導光板10の裏面部10Dから放出された拡散光が裏面部10Dに対向して配設された拡散板53Bに入射され、該拡散光が拡散板53Bで更に拡散される。その結果、点在する輝点が不明瞭となり、拡散板53A、拡散板53Bが共に均一な発光面となる。なお、拡散板53A及び拡散板53Bには例えば乳半板を用いる。   Moreover, in the illuminating device 110 provided with the light guide plate 10 according to the present invention, as shown in FIG. 14, diffusion is performed so as to face the front surface portion 10A and the back surface portion 10D of the light guide plate 10 provided in the illuminating device 110. A plate 53A and a diffusion plate 53B are provided. Here, in the illumination device 110, the diffused light emitted from the surface portion 10A of the light guide plate 10 is incident on the diffusion plate 53A disposed opposite to the surface portion 10A, and the diffused light is further diffused by the diffusion plate 53A. Is done. Similarly, the diffused light emitted from the back surface portion 10D of the light guide plate 10 is incident on the diffusion plate 53B disposed to face the back surface portion 10D, and the diffused light is further diffused by the diffusion plate 53B. As a result, scattered bright spots become unclear, and both the diffusion plate 53A and the diffusion plate 53B become uniform light emitting surfaces. For example, a milk half plate is used for the diffusion plate 53A and the diffusion plate 53B.

以上、第3の実施形態に係るパーテーションの上部に昇降可能且つ角度可変の面光源を配設したデスク搭載型の照明装置100及び照明装置110においても、加工具20の超音波加工部20Aを加工部材5の一主面に押圧させることにより、加工部材5の一主面に対してマトリクス状の加工ドットを反映した複数の反射ドットを1度に形成した導光板10を用いる。この様にマトリクス状の加工ドットを設けた超音波加工部20Aによる少量多品種の比較的大型の導光板10において、超音波マルチホーンを用いたフレキシブルなドット加工が対応可能であり、且つ製造に係るタクトを大幅に短縮させることができる。   As described above, the ultrasonic processing unit 20A of the processing tool 20 is also processed in the desk-mounted lighting device 100 and the lighting device 110 in which the up-and-down movable angle light source is arranged on the upper part of the partition according to the third embodiment. The light guide plate 10 in which a plurality of reflective dots reflecting matrix-like processed dots are formed at one time on one main surface of the processing member 5 by pressing the main surface of the member 5 is used. In this way, in the relatively small and large-sized light guide plate 10 by the ultrasonic processing section 20A provided with matrix-shaped processing dots, flexible dot processing using an ultrasonic multihorn can be handled, and in manufacturing. Such a tact can be greatly shortened.

また、第3の実施形態に係るパーテーションの上部に昇降可能且つ角度可変の面光源を配設したデスク搭載型の照明装置100及び照明装置110においても、導光板10の表面部凹パターン痕10Bに対する裏面部凹パターン痕10Eの位置をX,Y方向に偏心して形成することにより、光の明暗の差に係る光学特性を任意に選択することができる。例えば、表面部凹パターン痕10Bに対する裏面部凹パターン痕10Eの位置をX,Y方向に半ピッチP2偏心して形成することにより、X,Y方向ともに光の明暗の差をそれぞれ小さくすることができる。   Further, in the desk-mounted illumination device 100 and the illumination device 110 in which the up-and-down movable angle light source is arranged on the upper part of the partition according to the third embodiment, the surface portion concave pattern mark 10B of the light guide plate 10 is also protected. By forming the position of the back surface concave pattern mark 10E eccentrically in the X and Y directions, it is possible to arbitrarily select the optical characteristics related to the difference in light brightness. For example, by forming the position of the back surface concave pattern mark 10E with respect to the front surface concave pattern mark 10B so as to be eccentric by a half pitch P2 in the X and Y directions, it is possible to reduce the difference in light intensity in both the X and Y directions. .

[第4の実施形態]
次に、第4の実施形態に係るデスク搭載型の照明装置に配設された導光板120の構成について、図15を参照しながら説明する。図15は表面部凹パターン痕120Bと裏面部凹パターン痕120Eの深さをそれぞれ異ならせた導光板120の側面部120を示す模式図である。なお、第4の実施形態に係るデスク搭載型の照明装置は、導光板120に特徴を有し、それ以外の構成は第1乃至第3のいずれかの照明装置と同様である。
[Fourth Embodiment]
Next, the configuration of the light guide plate 120 disposed in the desk-mounted illumination device according to the fourth embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 15 is a schematic diagram showing the side surface portion 120 of the light guide plate 120 in which the depths of the front surface concave pattern mark 120B and the back surface concave pattern mark 120E are different. The desk-mounted illumination device according to the fourth embodiment is characterized by the light guide plate 120, and the other configuration is the same as any one of the first to third illumination devices.

なお、第4の実施形態の照明装置に配設された導光板120は、第1乃至第3に係る照明装置に配設された導光板10に形成された略均一な深さの表面部凹パターン痕10B及び裏面部凹パターン痕10Eと異なり、表面部及び裏面部の凹パターン痕の深さを段階的に異ならせていることに特徴を有している。なお、それ以外の導光板120に係る構成は、第1乃至第3に係る実施形態で述べた導光板10の構成と同様である。そこで、第4の実施形態の照明装置に配設された導光板120においては、第1乃至第3に係る導光板10と異なる凹パターン痕の深さに係る構造及び効果等について具体的に説明する。   Note that the light guide plate 120 disposed in the illumination device of the fourth embodiment has a substantially uniform depth surface portion recess formed in the light guide plate 10 disposed in the first to third illumination devices. Unlike the pattern mark 10B and the back surface concave pattern mark 10E, the depth of the concave pattern marks on the front surface part and the back surface part is different in stages. The other configurations related to the light guide plate 120 are the same as the configurations of the light guide plate 10 described in the first to third embodiments. Therefore, in the light guide plate 120 disposed in the illumination device of the fourth embodiment, the structure and effects relating to the depth of the concave pattern marks different from those of the first to third light guide plates 10 are specifically described. To do.

図15に示す導光板120においては、表面部120Aの表面部凹パターン痕120Bの深さと、裏面部120Dの裏面部凹パターン痕120Eの深さが、導光板120の中央部に進むごとに相対的に深く、すなわち、導光板120の両端面側では浅く中央部では深くなるように形成されている。ここで、側面部120Cの図15左側からLED光の入射光L5が照射されると、図15左側から右側に光学特性から光源に近くなれば光密度が高く、遠くなれば光密度が低くなることから、図15左側の凹パターン痕での拡散光は、図15中央部に至る凹パターン痕の反射面積を小から大へ変化させることにより拡散光の取り出しが平均化する。同様に、側面部120Cの図15右側からLED光の入射光L6が照射されると、図15右側から左側に光学特性から光源に近くなれば光密度が高く、遠くなれば光密度が低くなることから、図15右側の凹パターン痕での拡散光は、図15中央部に至る左側の凹パターン痕の反射面積を小から大へ変化させることにより拡散光の取り出しが平均化する。したがって、全体の拡散光の取り出しが平均化する。すなわち、この凹パターン痕加工は両側光源使用時に有効な加工方法となる。   In the light guide plate 120 shown in FIG. 15, the depth of the front surface concave pattern mark 120 </ b> B of the front surface part 120 </ b> A and the depth of the back surface concave pattern mark 120 </ b> E of the back surface part 120 </ b> D are In other words, the light guide plate 120 is formed so as to be shallow at both end surfaces and deep at the center. Here, when the incident light L5 of the LED light is irradiated from the left side of FIG. 15 of the side surface portion 120C, the light density increases from the left side to the right side of FIG. Accordingly, the diffused light from the concave pattern trace on the left side of FIG. 15 is averaged out of the diffused light by changing the reflection area of the concave pattern trace reaching the center of FIG. 15 from small to large. Similarly, when the incident light L6 of LED light is irradiated from the right side of FIG. 15 of the side surface portion 120C, the light density increases from the right side to the left side of FIG. Therefore, the diffused light from the concave pattern trace on the right side of FIG. 15 is averaged out of the diffused light by changing the reflection area of the left concave pattern trace reaching the center of FIG. 15 from small to large. Therefore, extraction of the entire diffused light is averaged. That is, this concave pattern trace processing is an effective processing method when using both-side light sources.

以上、第4の実施形態に係るデスク搭載型の照明装置に配設された導光板120によれば、加工具20の超音波加工部20Aを、加工部材5の一主面に段階的に深く又は浅く押圧させることにより、加工部材5の一主面に対して、複数の任意の深さを有する反射ドットを形成させる。この様な導光板120によれば、必要とされる発光面サイズに対応した拡散光の取出しが可能になり、任意の仕様に合わせて最適化することができる。   As described above, according to the light guide plate 120 disposed in the desk-mounted illumination device according to the fourth embodiment, the ultrasonic processing unit 20A of the processing tool 20 is deeply stepped on one main surface of the processing member 5. Alternatively, the reflective dots having a plurality of arbitrary depths are formed on one main surface of the processed member 5 by pressing it shallowly. According to such a light guide plate 120, it is possible to take out diffused light corresponding to a required light emitting surface size, and it can be optimized according to an arbitrary specification.

[第5の実施形態]
次に、第5の実施形態に係る照明装置に配設された導光板130の構成について、図16を参照しながら説明する。図16は表面部凹パターン痕130Bと裏面部凹パターン痕130Eの深さをそれぞれ異ならせた導光板130と該導光板130に接着させた反射テープ131の側面部を示す模式図である。なお、第5の実施形態に係るデスク搭載型の照明装置は、導光板130に特徴を有し、それ以外の構成は第1乃至第3のいずれかの照明装置と同様である。
[Fifth Embodiment]
Next, the configuration of the light guide plate 130 disposed in the illumination device according to the fifth embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 16 is a schematic view showing the light guide plate 130 in which the depths of the front surface concave pattern mark 130B and the back surface concave pattern mark 130E are different, and the side surface part of the reflective tape 131 bonded to the light guide plate 130. The desk-mounted illumination device according to the fifth embodiment is characterized by the light guide plate 130, and the other configuration is the same as any one of the first to third illumination devices.

なお、第5の実施形態の照明装置に配設された導光板130は、第1乃至第3に係る照明装置に配設された導光板10に形成された略均一な深さの表面部凹パターン痕10B及び裏面部凹パターン痕10Eと異なり、表面部及び裏面部の凹パターン痕の深さを段階的に異ならせ、且つ導光板130の側面部の片側に反射テープ131を接着させていることに特徴を有している。なお、それ以外の導光板130に係る構成は、第1乃至第3に係る導光板10の構成と同様である。そこで、第5の実施形態の照明装置に配設された導光板130においては、第1の実施形態の導光板10と異なる凹パターン痕の深さに係る構造及び効果等について具体的に説明する。   The light guide plate 130 disposed in the lighting device of the fifth embodiment is a concave portion of the surface portion having a substantially uniform depth formed in the light guide plate 10 disposed in the first to third lighting devices. Unlike the pattern mark 10B and the back surface concave pattern mark 10E, the depth of the concave pattern marks on the front surface and the back surface is changed stepwise, and the reflective tape 131 is adhered to one side of the side surface of the light guide plate 130. It has a special feature. The other configurations related to the light guide plate 130 are the same as the configurations of the light guide plate 10 according to the first to third. Therefore, in the light guide plate 130 disposed in the illumination device of the fifth embodiment, the structure and effect relating to the depth of the concave pattern marks different from the light guide plate 10 of the first embodiment will be specifically described. .

導光板130の構造に関し、表面部130Aの表面部凹パターン痕130Bの深さと、裏面部130Dの裏面部凹パターン痕130Eの深さは、図16左側の側面部130C'から右側の側面部130C''に対して、それぞれ段階的に深くなるように形成されている。但し、図16右端の側面部130C''では、表面部130Aの表面部凹パターン痕130Bの深さと、裏面部130Dの裏面部凹パターン痕130Eの深さともに、相対的に浅くなるように形成されている。具体的には、例えば図16に示す表面部130Aの表面部凹パターン痕130Bにおいて、凹パターン痕の深さは、凹パターン痕T1が一番浅く、凹パターン痕T5が一番深く、且つ凹パターン痕T1<T2<T3<T4<T5の関係にある。   Regarding the structure of the light guide plate 130, the depth of the front surface concave pattern mark 130B of the front surface part 130A and the depth of the back surface concave pattern mark 130E of the back surface part 130D are determined from the side surface part 130C ′ on the left side in FIG. '' Is formed so as to become deeper in stages. However, in the right side surface portion 130C '' of FIG. 16, both the depth of the front surface concave pattern mark 130B of the front surface portion 130A and the depth of the back surface concave pattern mark 130E of the back surface portion 130D are relatively shallow. Has been. Specifically, for example, in the surface portion concave pattern mark 130B of the surface portion 130A shown in FIG. 16, the depth of the concave pattern mark is the shallowest at the concave pattern mark T1, the deepest at the concave pattern mark T5, and the concave. The pattern mark T1 <T2 <T3 <T4 <T5.

導光板130の光学特性に係る効果に関し、図16左側の側面部130C'からLED光の入射光L7が照射されると、光学特性から光源に近くなれば光密度が高く、遠くなれば光密度が低くなることから、図16左側から凹パターン痕の反射面積を小から大へ変化させることにより、表面部130A及び裏面部130Dにおいて、拡散光の取り出しが平均化する。ここで、導光板130の側面部130C''に接着された反射テープ131により、LED光の入射光L7が側面部130C''で反射されて反射光L8が発生する。該反射光L8は、凹パターン痕により拡散光に変換されることから、LED光が拡散光に変換される割合が増加する。この様な反射光L8は、側面部130C''近傍の凹パターン痕において拡散光に影響を及ぼしている。したがって、側面部130C''では、表面部130Aの表面部凹パターン痕130Bの深さと、裏面部130Dの裏面部凹パターン痕130Eの深さともに、相対的に浅くなるように形成される。   Regarding the effect relating to the optical characteristics of the light guide plate 130, when the incident light L7 of the LED light is irradiated from the side surface portion 130C ′ on the left side of FIG. Accordingly, by changing the reflection area of the concave pattern trace from the small side to the large side from the left side of FIG. 16, the extraction of diffused light is averaged at the front surface portion 130A and the back surface portion 130D. Here, the incident light L7 of the LED light is reflected by the side surface portion 130C ″ by the reflective tape 131 bonded to the side surface portion 130C ″ of the light guide plate 130, and the reflected light L8 is generated. Since the reflected light L8 is converted into diffused light by the concave pattern trace, the rate at which the LED light is converted into diffused light increases. Such reflected light L8 affects the diffused light at the concave pattern marks in the vicinity of the side surface portion 130C ″. Accordingly, the side surface portion 130C ″ is formed so that both the depth of the front surface concave pattern mark 130B of the front surface portion 130A and the depth of the back surface concave pattern mark 130E of the back surface portion 130D are relatively shallow.

以上、第5の実施形態に係る照明装置に配設された導光板130によれば、加工具20の超音波加工部20Aを、加工部材5の一主面に段階的に深く又は浅く押圧させることにより、加工部材5の一主面に対して、複数の任意の深さを有する反射ドットを形成させる。この様な導光板130によれば、導光板130の側面部の片側に反射テープ131を接着させる構成においても、必要とされる発光面サイズに対応した均一な拡散光の取出しが可能になり、任意の仕様に合わせて最適化することができる。   As described above, according to the light guide plate 130 disposed in the illumination device according to the fifth embodiment, the ultrasonic processing unit 20A of the processing tool 20 is pressed stepwise deeply or shallowly onto one main surface of the processing member 5. Thus, a plurality of reflective dots having an arbitrary depth are formed on one main surface of the processed member 5. According to such a light guide plate 130, even in the configuration in which the reflective tape 131 is adhered to one side of the side surface portion of the light guide plate 130, it becomes possible to extract uniform diffused light corresponding to the required light emitting surface size. It can be optimized for any specification.

なお、上述した第1乃至第5の実施形態においては、デスク用の照明装置としてそれぞれ説明したが、このような形態に限定されることはなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。また、LEDユニットに配設するLEDは、白色のLEDに限定されるものではなく、例えば白色、赤色、青色、及び緑色の中の一色からなるLED、若しくはそれら各色のLEDの組み合わせとしても良い。   In the first to fifth embodiments described above, the lighting devices for desks have been described. However, the present invention is not limited to such forms, and can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. It is. Moreover, LED arrange | positioned in an LED unit is not limited to white LED, For example, it is good also as LED which consists of one color in white, red, blue, and green, or the combination of these LED of each color.

5 加工部材
10 導光板
10A 表面部
10B 表面部凹パターン痕
10C 側面部
10D 裏面部
10E 裏面部凹パターン痕
10F 回動部
20 加工具
20A 超音波加工部
20B 支持部
30 超音波加工装置
31 機台
32 作業台
33 移動機構
34 真空ポンプ
35 超音波発振器
40 導光板
40A 表面部
40B 表面部凹パターン痕
40C 側面部
40D 裏面部
40E 裏面部凹パターン痕
50 デスク
50A 本体部
50B 側壁部
50C 回動部
50D 回動ノブ
50E 側壁部
50F 支持部
50G 昇降部
51 LEDユニット
52 フレーム
53A,53B 拡散板
54 フレーム
55 フレーム
56 フレーム
60 照明装置
70 照明装置
80 照明装置
90 照明装置
100 照明装置
110 照明装置
120 導光板
120A 表面部
120B 表面部凹パターン痕
120C 側面部
120D 裏面部
120E 裏面部凹パターン痕
130 導光板
130A 表面部
130B 表面部凹パターン痕
130C', 130C'' 側面部
130D 裏面部
130E 裏面部凹パターン痕
131 反射テープ
D プローブ
H1,H2,H3,H4 加工開始基準高さ
P1 ピッチ
P2 半ピッチ
L1,L2,L3,L4,L5,L6,L7 入射光
L8 反射光
T1,T2,T3,T4,T5 凹パターン痕
5 Processing member 10 Light guide plate 10A Surface portion 10B Surface portion concave pattern mark 10C Side surface portion 10D Back surface portion 10E Back surface portion concave pattern mark 10F Turning portion 20 Processing tool 20A Ultrasonic processing portion 20B Support portion 30 Ultrasonic processing device 31 Machine base 32 Work table 33 Moving mechanism 34 Vacuum pump 35 Ultrasonic oscillator 40 Light guide plate 40A Surface portion 40B Surface portion concave pattern mark 40C Side surface portion 40D Back surface portion 40E Back surface portion concave pattern mark 50 Desk 50A Main body portion 50B Side wall portion 50C Rotating portion 50D Rotating knob 50E Side wall part 50F Support part 50G Elevating part 51 LED unit 52 Frame 53A, 53B Diffusion plate 54 Frame 55 Frame 56 Frame 60 Lighting device 70 Lighting device 80 Lighting device 90 Lighting device 100 Lighting device 110 Lighting device 120 Light guide plate 120A Surface part 120B Surface part concave pattern Trace 120C Side surface portion 120D Back surface portion 120E Back surface portion concave pattern mark 130 Light guide plate 130A Surface portion 130B Surface portion concave pattern mark 130C ′, 130C ″ Side surface portion 130D Back surface portion 130E Back surface concave pattern mark 131 Reflective tape D Probes H1, H2 , H3, H4 Processing start reference height P1 Pitch P2 Half pitch L1, L2, L3, L4, L5, L6, L7 Incident light L8 Reflected light T1, T2, T3, T4, T5 Concave pattern trace

Claims (9)

導光板用基板の側面から光を入射して主面から該光を導出させるための導光板であって、
超音波加工用ホーンの矩形状の先端面にマトリクス状に加工ドットを配列され、
前記超音波加工用ホーンの前記先端面を前記導光板用基板の一主面に押圧されて前記導光板用基板の一主面に前記先端面の前記加工ドットを反映した反射ドットを形成され、
前記超音波加工用ホーンを前記導光板用基板に対して前記主面の面内で相対的に移動させて前記反射ドットの形成を繰り返され、前記導光板用基板の一主面の所定範囲に前記反射ドットを形成され、
前記反射ドットが前記導光板用基板の対向する両主面の両方にそれぞれ形成される導光板と、
前記導光板の一端部と係合する支持部材とを有すること
を特徴とする照明装置。
A light guide plate for causing light to enter from the side surface of the light guide plate substrate and to derive the light from the main surface,
The processing dots are arranged in a matrix on the rectangular tip of the ultrasonic processing horn,
The front end surface of the ultrasonic processing horn is pressed against one main surface of the light guide plate substrate to form a reflective dot reflecting the processed dots on the front end surface on one main surface of the light guide plate substrate,
The ultrasonic processing horn is moved relatively in the plane of the main surface with respect to the light guide plate substrate, and the formation of the reflective dots is repeated, so that the predetermined range of one main surface of the light guide plate substrate is reached. The reflective dots are formed,
A light guide plate in which the reflective dots are respectively formed on both opposing main surfaces of the light guide plate substrate;
An illumination device comprising: a support member that engages with one end of the light guide plate.
前記導光板の前記反射ドットは対面同一又は対面同一とならないように前記導光板用基板の対向する両主面の両方にそれぞれ形成されること
を特徴とする請求項1に記載の照明装置。
The lighting device according to claim 1, wherein the reflective dots of the light guide plate are formed on both opposing main surfaces of the light guide plate substrate so as not to face each other or to face each other.
前記導光板の前記加工ドットは四角錐形状であること
を特徴とする請求項1に記載の照明装置。
The lighting device according to claim 1, wherein the processed dots of the light guide plate have a quadrangular pyramid shape.
前記導光板の前記加工ドットの四角錐形状の稜線の延長方向の少なくとも一方向は前記導光板用基板の側面から入射する光の入射方向と略平行とされること
を特徴とする請求項1に記載の照明装置。
The at least one direction of the extending direction of the quadrangular pyramid ridge line of the processed dot of the light guide plate is substantially parallel to the incident direction of light incident from the side surface of the light guide plate substrate. The lighting device described.
前記導光板用基板は透明樹脂製平板であること
を特徴とする請求項1に記載の照明装置。
The lighting device according to claim 1, wherein the light guide plate substrate is a transparent resin flat plate.
前記導光板の前記反射ドットは前記導光板用基板の対向する両主面の一方若しくは両方に形成されること
を特徴とする請求項1に記載の照明装置。
The lighting device according to claim 1, wherein the reflective dots of the light guide plate are formed on one or both of the opposing main surfaces of the light guide plate substrate.
前記導光板の前記反射ドットは前記導光板用基板の対向する両主面の一方若しくは両方に前記反射ドットの深さを段階的に異ならせて形成されること
を特徴とする請求項1に記載の照明装置。
The reflective dot of the light guide plate is formed by gradually changing the depth of the reflective dot on one or both of the opposing main surfaces of the light guide plate substrate. Lighting equipment.
前記導光板の一端部は前記支持部材に対して回動可能に支持されていること
を特徴とする請求項1に記載の照明装置。
The lighting device according to claim 1, wherein one end of the light guide plate is rotatably supported with respect to the support member.
前記導光板の一端部は前記支持部材に対して上下に移動可能に支持されていること
を特徴とする請求項1に記載の照明装置。
The lighting device according to claim 1, wherein one end portion of the light guide plate is supported so as to be vertically movable with respect to the support member.
JP2009125641A 2009-05-25 2009-05-25 Lighting device Pending JP2010272483A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009125641A JP2010272483A (en) 2009-05-25 2009-05-25 Lighting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009125641A JP2010272483A (en) 2009-05-25 2009-05-25 Lighting device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010272483A true JP2010272483A (en) 2010-12-02

Family

ID=43420333

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009125641A Pending JP2010272483A (en) 2009-05-25 2009-05-25 Lighting device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010272483A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013025306A (en) * 2012-06-12 2013-02-04 Skg:Kk Light guide plate and wall face guide plate including the same
JP2013025008A (en) * 2011-07-20 2013-02-04 Skg:Kk Light guide plate and wall face guide plate including the same
JP2013051219A (en) * 2012-12-13 2013-03-14 Skg:Kk Light guide plate, and on-wall guide display board equipped with the same
JP2014529864A (en) * 2011-09-06 2014-11-13 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ Luminescent panel with transparent breathable support panel

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08314570A (en) * 1995-05-15 1996-11-29 Canon Inc Information device and desk for mounting it
JPH09159831A (en) * 1995-12-08 1997-06-20 Taiho Ind Co Ltd Light transmission plate and its production
JP2002022964A (en) * 2000-07-04 2002-01-23 Enplas Corp Light guide plate, surface light source device and liquid crystal display device
JP2002297072A (en) * 2001-03-30 2002-10-09 Okaya Electric Ind Co Ltd Light spot type display device
JP2003164344A (en) * 2002-03-29 2003-06-10 Itoki Crebio Corp Gear for guiding and connecting desk top plate
JP2005286149A (en) * 2004-03-30 2005-10-13 Tokyo Seimitsu Co Ltd Table for operation
JP2006122645A (en) * 2004-09-29 2006-05-18 Kokuyo Co Ltd Table
JP2007080559A (en) * 2005-09-12 2007-03-29 Skg:Kk Light guide plate and backlight device
JP2008311179A (en) * 2007-06-18 2008-12-25 Rohm Co Ltd Surface light source device

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08314570A (en) * 1995-05-15 1996-11-29 Canon Inc Information device and desk for mounting it
JPH09159831A (en) * 1995-12-08 1997-06-20 Taiho Ind Co Ltd Light transmission plate and its production
JP2002022964A (en) * 2000-07-04 2002-01-23 Enplas Corp Light guide plate, surface light source device and liquid crystal display device
JP2002297072A (en) * 2001-03-30 2002-10-09 Okaya Electric Ind Co Ltd Light spot type display device
JP2003164344A (en) * 2002-03-29 2003-06-10 Itoki Crebio Corp Gear for guiding and connecting desk top plate
JP2005286149A (en) * 2004-03-30 2005-10-13 Tokyo Seimitsu Co Ltd Table for operation
JP2006122645A (en) * 2004-09-29 2006-05-18 Kokuyo Co Ltd Table
JP2007080559A (en) * 2005-09-12 2007-03-29 Skg:Kk Light guide plate and backlight device
JP2008311179A (en) * 2007-06-18 2008-12-25 Rohm Co Ltd Surface light source device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013025008A (en) * 2011-07-20 2013-02-04 Skg:Kk Light guide plate and wall face guide plate including the same
JP2014529864A (en) * 2011-09-06 2014-11-13 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ Luminescent panel with transparent breathable support panel
US9459399B2 (en) 2011-09-06 2016-10-04 Koninklijke Philips N.V. Light-emitting panel with transparent cellular support panel
JP2013025306A (en) * 2012-06-12 2013-02-04 Skg:Kk Light guide plate and wall face guide plate including the same
JP2013051219A (en) * 2012-12-13 2013-03-14 Skg:Kk Light guide plate, and on-wall guide display board equipped with the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4481348B1 (en) Manufacturing method of light guide plate, light guide plate, backlight device, and illumination device.
WO2011067871A1 (en) Manufacturing method of light guide plate, light guide plate, backlight apparatus, illumination apparatus, and partition board apparatus
JP4825165B2 (en) Display device
TWI570480B (en) A display device
JP4392445B2 (en) Light guide plate manufacturing method, light guide plate, and light-emitting signboard using the light guide plate
KR101273958B1 (en) manufacturing method for light-guiding plate, light-guiding plate, backlight device, lighting device
EP1947491A3 (en) Surface Light Source Device, Diffusion Plate and Liquid Crystal Display Device
KR101419369B1 (en) Backlight unit
CN104620046B (en) Optical component and display device with the optical component
JP2011003367A (en) Lighting device
KR101188451B1 (en) Light guide plate and manufacturing method thereof
JP2012253030A (en) Lighting system
JP2010272483A (en) Lighting device
JP5349190B2 (en) Lighting device
KR20050121864A (en) Light guide panel for backlight unit and manufacturing method thereof
JP4528888B1 (en) Light guide plate manufacturing method, light guide plate, backlight device, and illumination device
KR20170005893A (en) Illumination device
JP4530428B1 (en) Manufacturing method of light guide plate, light guide plate, backlight device, and illumination device.
JP4528887B1 (en) Light guide plate manufacturing method, light guide plate, backlight device, and illumination device
JP2010287445A (en) Lighting device
JP2011134455A (en) Backlighting apparatus
WO2010125603A1 (en) Method for manufacturing a light guide plate
JP2010287444A (en) Lighting device
JP2013218965A (en) Lighting fixture
JP3126944U (en) Surface emitting device

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111206

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111206

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130205

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130220

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130312

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130702