JP2010271740A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve enhancement of image quality by preventing generation of burning, a stain and the like; and to miniaturize a device by narrowing the area of a non-display region. <P>SOLUTION: A dummy wire electrode 501 is formed in the non-display region N so as to be arranged along a periphery of a display region D where a plurality of pixel electrodes 111 are formed. When an image is displayed in the display region D, a potential equal to the potential applied to a counter electrode 23 is applied to the dummy wire electrode 501 to eliminate potential difference applied to a liquid crystal layer 31 between the counter electrode 23 and the dummy wire electrode 501. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、特に、液晶層を透過した光を画像として表示する表示領域と、光を遮光し画像を表示しない非表示領域とが形成されている液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device in which a display region that displays light transmitted through a liquid crystal layer as an image and a non-display region that blocks light and does not display an image are formed.

液晶表示装置は、CRT(Cathode Ray Tube)よりも、薄型、軽量、低消費電力などの利点を有し、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、携帯電話などの電子機器に多く利用されている。このような液晶表示装置の表示方式として、アクティブマトリクス方式が知られている。   Liquid crystal display devices have advantages such as thinness, light weight, and low power consumption over CRT (Cathode Ray Tube), and are widely used in electronic devices such as personal computers, digital still cameras, and mobile phones. As a display method of such a liquid crystal display device, an active matrix method is known.

アクティブマトリクス方式の液晶表示装置は、表示領域にマトリクス状に形成された画素に、走査信号とデータ信号とを選択的に、順次、印加して駆動することにより、表示領域に画像を表示する。   An active matrix liquid crystal display device displays an image in a display area by selectively applying and driving a scanning signal and a data signal sequentially to pixels formed in a matrix in the display area.

しかし、アクティブマトリクス方式の液晶表示装置においては、表示領域の周囲において液晶層に印加される電位が安定化しないために、画像にシミが発生するなど画像品質が劣化する場合がある。   However, in an active matrix liquid crystal display device, the potential applied to the liquid crystal layer around the display region is not stabilized, and thus image quality may be deteriorated, for example, a spot is generated in the image.

これは、表示領域の最端部にある画素と、その他の中央部などにある画素とにおいて発生する寄生容量が異なることに、主に起因する。つまり、中央部などにある画素が周囲を別の画素で囲われるのに対し、表示領域の最端部にある画素が別の画素で周囲を囲われないために、表示領域の最端部と中央部とで寄生容量が異なり、表示領域の周囲において液晶層に印加される電位が安定化しなくなって、画像品質が低下する。   This is mainly due to the difference in parasitic capacitance generated between the pixel at the extreme end of the display area and the pixel at the other central part or the like. In other words, the pixel at the center or the like is surrounded by another pixel while the pixel at the extreme end of the display area is not surrounded by another pixel. The parasitic capacitance is different from the central portion, and the potential applied to the liquid crystal layer around the display area is not stabilized, so that the image quality is deteriorated.

このような不具合を解消するために、液晶パネルの表示領域の周囲の非表示領域にダミー画素を形成する方法が提案されている(たとえば、特許文献1参照)。   In order to solve such a problem, a method of forming dummy pixels in a non-display area around the display area of the liquid crystal panel has been proposed (for example, see Patent Document 1).

特開2004−271587号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-271587

図5,図6,図7は、液晶表示装置601aにおいて、ダミー画素が形成された液晶パネル10aを示す図である。ここで、図5は、液晶パネル10aの構成を示す断面図である。図6は、液晶パネル10aの構成を示す平面図である。そして、図7は、液晶パネル10aの回路図である。   5, 6 and 7 are diagrams showing a liquid crystal panel 10a in which dummy pixels are formed in the liquid crystal display device 601a. Here, FIG. 5 is a cross-sectional view showing a configuration of the liquid crystal panel 10a. FIG. 6 is a plan view showing the configuration of the liquid crystal panel 10a. FIG. 7 is a circuit diagram of the liquid crystal panel 10a.

図5に示すように、液晶パネル10aは、アレイ基板11aと、対向基板21aと、液晶層31aとを含む。液晶パネル10aにおいては、アレイ基板11aと対向基板21aとが間隔を隔てるように対面し、周囲がシール材51aを用いて貼り合わされており、アレイ基板11aと対向基板21aとの間隔に挟まれるように液晶層31aが配置されている。そして、液晶パネル10aにおいては、液晶層31aを透過した光を画像として表示する表示領域Dと、光を遮光し画像を表示しない非表示領域Nとが形成されている。液晶パネル10aは、光がアレイ基板11aの側から対向基板21aの側に液晶層31aを介して透過し、表示領域Dで画像を表示する。   As shown in FIG. 5, the liquid crystal panel 10a includes an array substrate 11a, a counter substrate 21a, and a liquid crystal layer 31a. In the liquid crystal panel 10a, the array substrate 11a and the counter substrate 21a face each other so as to be spaced apart, and the periphery is bonded using a sealing material 51a so that the space is sandwiched between the array substrate 11a and the counter substrate 21a. A liquid crystal layer 31a is disposed on the surface. In the liquid crystal panel 10a, a display area D that displays light transmitted through the liquid crystal layer 31a as an image and a non-display area N that blocks light and displays no image are formed. The liquid crystal panel 10a transmits light from the array substrate 11a side to the counter substrate 21a side through the liquid crystal layer 31a, and displays an image in the display region D.

各部について説明する。   Each part will be described.

アレイ基板11aには、図5と図6と図7とに示すように、表示領域Dに対応するように、画素電極101と画素スイッチング素子102と保持容量素子103と走査配線201と信号配線202と保持容量配線203とが形成されている。そして、非表示領域Nに対応するように、ダミー画素電極151とダミー画素スイッチング素子152とダミー保持容量素子153とダミー走査配線401とダミー信号配線402とダミー保持容量配線403と保持容量接続配線404とが、形成されている。ここでは、図5と図6とに示すように、複数の画素電極101が形成された表示領域Dの周囲に沿うように非表示領域Nにダミー画素電極151が形成されている。そして、保持容量配線203とダミー保持容量配線403との両者に接続している保持容量接続配線404が、そのダミー画素電極151の外部の周囲を沿うように、非表示領域Nに形成されている。   As shown in FIGS. 5, 6, and 7, the array substrate 11 a has a pixel electrode 101, a pixel switching element 102, a storage capacitor element 103, a scanning wiring 201, and a signal wiring 202 so as to correspond to the display area D. And the storage capacitor wiring 203 are formed. The dummy pixel electrode 151, the dummy pixel switching element 152, the dummy storage capacitor element 153, the dummy scanning wiring 401, the dummy signal wiring 402, the dummy storage capacitor wiring 403, and the storage capacitor connection wiring 404 are corresponding to the non-display area N. Are formed. Here, as shown in FIGS. 5 and 6, the dummy pixel electrode 151 is formed in the non-display area N along the periphery of the display area D in which the plurality of pixel electrodes 101 are formed. A storage capacitor connection wiring 404 connected to both the storage capacitor wiring 203 and the dummy storage capacitor wiring 403 is formed in the non-display region N along the periphery of the dummy pixel electrode 151. .

一方、対向基板21には、図5と図6とに示すように、液晶層31aを介して複数の画素電極101とダミー画素電極151aとに対向するように対向電極23aが形成されている。   On the other hand, as shown in FIGS. 5 and 6, a counter electrode 23a is formed on the counter substrate 21 so as to face the plurality of pixel electrodes 101 and the dummy pixel electrodes 151a with the liquid crystal layer 31a interposed therebetween.

上記の液晶パネル10aにおいて、表示領域Dにて画像を表示する際には、ゲートドライバ301とソースドライバ302a,302bとが、走査信号とデータ信号とのそれぞれを画素スイッチング素子102に供給することによって所定の電位を画素電極101に加える。そして、これと共に、各画素に共通な共通電位を対向電極23aに加え、対向電極23aと画素電極101との間の液晶層31aに電圧を印加する。そして、CSドライバ303がCS線203を介して信号を供給して所定の電位を保持容量素子103に保持させ、液晶層31aに印加された電圧を保たせる。このような動作により、表示領域Dに対応する液晶層31aの配向方向が変化するため、液晶層31aを透過する光が変調され、表示領域Dにて画像が表示される。   In the liquid crystal panel 10a, when displaying an image in the display region D, the gate driver 301 and the source drivers 302a and 302b supply the scanning signal and the data signal to the pixel switching element 102, respectively. A predetermined potential is applied to the pixel electrode 101. Along with this, a common potential common to each pixel is applied to the counter electrode 23a, and a voltage is applied to the liquid crystal layer 31a between the counter electrode 23a and the pixel electrode 101. Then, the CS driver 303 supplies a signal via the CS line 203 to hold a predetermined potential in the holding capacitor element 103 and keep the voltage applied to the liquid crystal layer 31a. By such an operation, the alignment direction of the liquid crystal layer 31a corresponding to the display area D is changed, so that light transmitted through the liquid crystal layer 31a is modulated, and an image is displayed in the display area D.

そして、この画像表示の際には、上記の動作の他に、ダミー走査配線401a,401bを介して、ゲートドライバ301が走査信号をダミー画素スイッチング素子152に供給すると共に、CSドライバ303がダミー信号配線402a,402bを介して所定の電位をダミー画素スイッチング素子152に供給し、対向電極23aに印加される電位と同じ電位をダミー画素電極151に印加する。これにより、対向電極23aとダミー画素電極151との間において液晶層31aに印加される電位差を無くし、液晶層31aに直流電圧が印加されることを防止している。   In this image display, in addition to the above operation, the gate driver 301 supplies the scanning signal to the dummy pixel switching element 152 via the dummy scanning wirings 401a and 401b, and the CS driver 303 outputs the dummy signal. A predetermined potential is supplied to the dummy pixel switching element 152 via the wirings 402a and 402b, and the same potential as the potential applied to the counter electrode 23a is applied to the dummy pixel electrode 151. This eliminates a potential difference applied to the liquid crystal layer 31a between the counter electrode 23a and the dummy pixel electrode 151, thereby preventing a DC voltage from being applied to the liquid crystal layer 31a.

以上のように、上記の液晶パネル10aにおいては、ダミー画素を形成することによって、表示領域の最端部にある画素と、その他の中央部などにある画素とにおいての寄生容量が互いに同じになるように調整し、表示領域の周囲において液晶層に印加される電位を安定化して画像品質を向上させている。   As described above, in the liquid crystal panel 10a described above, by forming the dummy pixels, the parasitic capacitances in the pixels at the extreme end of the display area and the pixels at the other central part are the same. Thus, the image quality is improved by stabilizing the potential applied to the liquid crystal layer around the display area.

また、上記の液晶パネル10aにおいては、対向電極23aとダミー画素電極151との間において液晶層31aに印加される電位差を無くすことによって、液晶層31aに直流電圧が印加されることを防止している。そして、表示領域Dと非表示領域Nとの境界で液晶層31aの配向方向を安定に制御して、焼き付きやシミなどの不具合を防止し、画像品質を向上させている。   Further, in the liquid crystal panel 10a described above, by eliminating the potential difference applied to the liquid crystal layer 31a between the counter electrode 23a and the dummy pixel electrode 151, it is possible to prevent a DC voltage from being applied to the liquid crystal layer 31a. Yes. The alignment direction of the liquid crystal layer 31a is stably controlled at the boundary between the display area D and the non-display area N to prevent defects such as burn-in and stains, and improve the image quality.

しかしながら、上記のように、表示領域Dの周囲の非表示領域Nに、アレイ基板11にダミー画素を形成しているために、配線や回路のレイアウトが制限され、非表示領域Nの面積を小さくできず、装置を小型化することが困難になっていた。   However, since the dummy pixels are formed on the array substrate 11 in the non-display area N around the display area D as described above, the layout of wiring and circuits is limited, and the area of the non-display area N is reduced. Therefore, it has been difficult to downsize the apparatus.

したがって、本発明は、焼き付き、シミなどの発生を防止して画像品質の向上を実現すると共に、非表示領域の面積を小さくすることができ、装置を小型化することが容易な液晶表示装置を提供することにある。   Therefore, the present invention realizes an improvement in image quality by preventing the occurrence of burn-in, stains, etc., and the liquid crystal display device that can reduce the area of the non-display area and can be easily downsized. It is to provide.

上記目的の達成のため、本発明の液晶表示装置は、第1基板と、前記第1基板に間隔を隔てて配置されている第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に挟持されている液晶層とを有し、前記液晶層を透過した光を用いて画像を表示する表示領域と、光を遮光し画像を表示しない非表示領域とが形成されている液晶表示装置であって、前記第1基板は、前記表示領域に対応するように、マトリクス状に形成された複数の画素電極と、前記複数の画素電極が形成された前記表示領域の周囲に沿うように、前記非表示領域に形成された導電体層とを含み、前記第2基板は、前記液晶層を介して前記複数の画素電極と前記導電体層とに対向するように形成された対向電極を含み、前記表示領域にて画像を表示する際には、前記対向電極と前記画素電極との間の前記液晶層に印加する電圧を制御すると共に、前記対向電極と前記導電体層との間の前記液晶層に印加する電圧が無くなるように、前記対向電極に印加する電位と同じ電位を前記導電体層に印加する。   In order to achieve the above object, a liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate, a second substrate that is spaced apart from the first substrate, and a space between the first substrate and the second substrate. A liquid crystal layer sandwiched between the liquid crystal layer, and a display region for displaying an image using light transmitted through the liquid crystal layer, and a non-display region for blocking light and displaying no image The first substrate may be provided along a plurality of pixel electrodes formed in a matrix so as to correspond to the display area and a periphery of the display area in which the plurality of pixel electrodes are formed. A conductive layer formed in the non-display region, and the second substrate includes a counter electrode formed to face the plurality of pixel electrodes and the conductive layer through the liquid crystal layer. When displaying an image in the display area, the counter electrode and the The voltage applied to the liquid crystal layer between the element electrode and the electric potential applied to the counter electrode so that the voltage applied to the liquid crystal layer between the counter electrode and the conductor layer is eliminated. The same potential is applied to the conductor layer.

本発明によれば、焼き付き、シミなどの発生を防止して画像品質の向上を実現すると共に、非表示領域の面積を小さくすることができ、装置を小型化することが容易な液晶表示装置を提供することができる。   According to the present invention, an image quality can be improved by preventing the occurrence of burn-in, spots, etc., and the area of the non-display area can be reduced, and the liquid crystal display device can be easily downsized. Can be provided.

図1は、本発明に係る実施形態の液晶表示装置において、液晶パネルの構成を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a liquid crystal panel in a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図2は、本発明に係る実施形態の液晶表示装置において、液晶パネルの構成を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the liquid crystal panel in the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図3は、本発明に係る実施形態の液晶表示装置において、液晶パネルの回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram of a liquid crystal panel in the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図4は、本発明に係る実施形態の液晶表示装置において、保持容量接続配線が形成されている部分を拡大して示す断面図である。FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a portion where the storage capacitor connection wiring is formed in the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. 図5は、アクティブマトリクス方式の液晶パネルの構成を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a configuration of an active matrix liquid crystal panel. 図6は、アクティブマトリクス方式の液晶パネルの構成を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a configuration of an active matrix liquid crystal panel. 図7は、アクティブマトリクス方式の液晶パネルの回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram of an active matrix liquid crystal panel.

以下より、本発明にかかる実施形態の一例について説明する。   Hereinafter, an example of an embodiment according to the present invention will be described.

図1,図2,図3は、本実施形態の液晶表示装置601において、液晶パネル10を示す図である。ここで、図1は、液晶パネル10の構成を示す断面図である。そして、図2は、液晶パネル10の構成を示す平面図である。そして、図3は、液晶パネル10の回路図である。   1, FIG. 2 and FIG. 3 are diagrams showing the liquid crystal panel 10 in the liquid crystal display device 601 of the present embodiment. Here, FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of the liquid crystal panel 10. FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the liquid crystal panel 10. FIG. 3 is a circuit diagram of the liquid crystal panel 10.

本実施形態の液晶表示装置601は、アクティブマトリクス方式であり、液晶表示装置601における液晶パネル10は、図1に示すように、アレイ基板11と対向基板21と液晶層31とを有する。   The liquid crystal display device 601 of this embodiment is an active matrix system, and the liquid crystal panel 10 in the liquid crystal display device 601 includes an array substrate 11, a counter substrate 21, and a liquid crystal layer 31, as shown in FIG.

液晶パネル10においては、アレイ基板11と対向基板21とが間隔を隔てるように対面し、周囲がシール材51により貼り合わされている。そして、アレイ基板11と対向基板21との間隔に挟まれるように液晶層31が配置されている。そして、液晶パネル10においては、液晶層31を透過した光を画像として表示する表示領域Dと、光を遮光し画像を表示しない非表示領域Nとが形成されている。液晶パネル10は、たとえば、透過型と反射型とを併用する併用型であり、たとえば、太陽光などの外部からの光やバックライト(図示無し)などの照明部からの光が液晶層31を介してアレイ基板11の側から対向基板21の側に透過し、その液晶層31を透過した光によって表示領域Dで画像が表示される。   In the liquid crystal panel 10, the array substrate 11 and the counter substrate 21 face each other with a space therebetween, and the periphery is bonded by a sealing material 51. A liquid crystal layer 31 is disposed so as to be sandwiched between the array substrate 11 and the counter substrate 21. And in the liquid crystal panel 10, the display area D which displays the light which permeate | transmitted the liquid crystal layer 31 as an image, and the non-display area N which light-shields and does not display an image are formed. The liquid crystal panel 10 is, for example, a combined type in which a transmission type and a reflection type are used together. For example, light from the outside such as sunlight or light from an illumination unit such as a backlight (not shown) passes through the liquid crystal layer 31. The image is displayed in the display area D by the light transmitted through the liquid crystal layer 31 from the array substrate 11 side to the counter substrate 21 side.

液晶パネル10の各部について、説明する。   Each part of the liquid crystal panel 10 will be described.

アレイ基板11は、たとえば、光を透過する絶縁体の基板であり、石英により形成されている。アレイ基板11は、図1,図2,図3に示すように、画素電極111と、画素スイッチング素子112と、保持容量素子113と、走査配線211と、信号配線212と、保持容量配線213とが、表示領域Dに対応するように形成されている。そして、非表示領域Nに対応するように、ダミー走査配線411と保持容量接続配線414とダミー配線電極501とが形成されている。各部の詳細については、後述する。   The array substrate 11 is, for example, an insulating substrate that transmits light, and is made of quartz. As shown in FIGS. 1, 2, and 3, the array substrate 11 includes a pixel electrode 111, a pixel switching element 112, a storage capacitor element 113, a scanning wiring 211, a signal wiring 212, and a storage capacitor wiring 213. Are formed so as to correspond to the display area D. A dummy scanning wiring 411, a storage capacitor connection wiring 414, and a dummy wiring electrode 501 are formed so as to correspond to the non-display area N. Details of each part will be described later.

対向基板21は、アレイ基板11と同様に、たとえば、光を透過する絶縁体の基板であり、石英により形成されている。そして、対向基板21には、図1と図2とに示すように、液晶層31を介して、複数の画素電極111とダミー配線電極501とに対向するように対向電極23が形成されている。対向電極23は、たとえば、ITO(Indium Tin Oxide)を用いて、複数の画素電極111とダミー配線電極501とに対向する対向基板21の全面に一体的に形成されている。対向電極23は、共通電位印加部(図示無し)が接続されており、共通電位印加部から共通電位Vcomが印加される。   Similar to the array substrate 11, the counter substrate 21 is, for example, an insulating substrate that transmits light and is made of quartz. As shown in FIGS. 1 and 2, a counter electrode 23 is formed on the counter substrate 21 so as to face the plurality of pixel electrodes 111 and the dummy wiring electrodes 501 through the liquid crystal layer 31. . The counter electrode 23 is integrally formed on the entire surface of the counter substrate 21 facing the plurality of pixel electrodes 111 and the dummy wiring electrodes 501 using, for example, ITO (Indium Tin Oxide). The counter electrode 23 is connected to a common potential application unit (not shown), and a common potential Vcom is applied from the common potential application unit.

液晶層31は、アレイ基板11の画素電極111と、対向基板21の対向電極23との間に挟まれるように配置されている。液晶層31は、たとえば、ツイストネマティック型であり、アレイ基板11と対向基板21とのそれぞれに形成された配向膜(図示なし)によって、配向されている。液晶層31は、画素電極111と対向電極23とにより印加される電圧に基づいて配向状態が変化して光学特性が変わり、光を制御して画像表示を実施する。   The liquid crystal layer 31 is disposed so as to be sandwiched between the pixel electrode 111 of the array substrate 11 and the counter electrode 23 of the counter substrate 21. The liquid crystal layer 31 is, for example, a twisted nematic type, and is aligned by alignment films (not shown) formed on the array substrate 11 and the counter substrate 21, respectively. The liquid crystal layer 31 changes its alignment state based on the voltage applied by the pixel electrode 111 and the counter electrode 23, changes its optical characteristics, and controls light to display an image.

アレイ基板11に形成されている各部について、順次、説明する。   Each part formed in the array substrate 11 will be described sequentially.

画素電極111は、表示領域Dに対応するように、複数がマトリクス状にアレイ基板11に形成されている。具体的には、画素電極111は、行方向xと、その行方向xに直交する列方向yとに、複数が並ぶように間隔を隔てて形成されている。画素電極111は、たとえば、ITOを用いて形成されており、光を透過する。そして、画素電極111は、図2に示すように、互いが交差するように形成された走査配線211と信号配線212とによって区切られる領域に対応するように、行方向xにm個、列方向yにn個ずつ、形成されている。複数の画素電極111は、図3に示すように、それぞれに対応するように画素スイッチング素子112が形成されており、画素スイッチング素子112である薄膜トランジスタ(TFT)のドレイン電極に接続している。画素電極111は、走査信号が供給されオン状態となった画素スイッチング素子112を介して、信号配線212によって供給されるデータ信号による電位を液晶層31に印加する。   A plurality of pixel electrodes 111 are formed on the array substrate 11 in a matrix so as to correspond to the display region D. Specifically, the pixel electrodes 111 are formed at intervals so that a plurality of pixel electrodes 111 are arranged in a row direction x and a column direction y orthogonal to the row direction x. The pixel electrode 111 is formed using, for example, ITO and transmits light. As shown in FIG. 2, the pixel electrodes 111 are m in the row direction x and in the column direction so as to correspond to the regions separated by the scanning wirings 211 and the signal wirings 212 formed to cross each other. n is formed for each y. As shown in FIG. 3, the pixel switching elements 112 are formed so as to correspond to the plurality of pixel electrodes 111 and are connected to the drain electrodes of the thin film transistors (TFTs) that are the pixel switching elements 112. The pixel electrode 111 applies a potential based on the data signal supplied from the signal wiring 212 to the liquid crystal layer 31 through the pixel switching element 112 that is turned on by the supply of the scanning signal.

画素スイッチング素子112は、図3に示すように、複数の画素電極111のそれぞれに対応するように、複数がマトリクス状にアレイ基板11の表示領域Dに形成されており、画素電極111をスイッチング制御する。画素スイッチング素子112は、たとえば、チャネル領域が多結晶のシリコン半導体により形成されたボトムゲート型のTFTであり、行方向xにm個、列方向yにn個ずつ形成されている。そして、画素スイッチング素子112は、ゲート電極が走査配線211に接続されており、走査配線211を介してゲートドライバ311からゲート電極に入力される走査信号によって、駆動動作が制御される。また、画素スイッチング素子112は、ソース電極が信号配線212に接続されており、信号配線212を介してソースドライバ312から画素スイッチング素子112にデータ信号が供給される。また、さらに、画素スイッチング素子112は、ドレイン電極が画素電極111に接続されており、ゲートがオン状態の場合には、ソース電極から受けたデータ信号を画素電極111に印加する。   As shown in FIG. 3, a plurality of pixel switching elements 112 are formed in the display area D of the array substrate 11 in a matrix so as to correspond to each of the plurality of pixel electrodes 111, and the pixel electrodes 111 are subjected to switching control. To do. The pixel switching element 112 is, for example, a bottom-gate TFT whose channel region is formed of a polycrystalline silicon semiconductor, and is formed in m pieces in the row direction x and n pieces in the column direction y. The pixel switching element 112 has a gate electrode connected to the scanning wiring 211, and a driving operation is controlled by a scanning signal input from the gate driver 311 to the gate electrode via the scanning wiring 211. The pixel switching element 112 has a source electrode connected to the signal wiring 212, and a data signal is supplied from the source driver 312 to the pixel switching element 112 via the signal wiring 212. Further, the pixel switching element 112 has a drain electrode connected to the pixel electrode 111 and applies a data signal received from the source electrode to the pixel electrode 111 when the gate is on.

保持容量素子113は、図3に示すように、複数の画素電極111のそれぞれに対応するように、複数がマトリクス状に表示領域Dに形成されており、画素電極111へ印加する電位を保持する。具体的には、保持容量素子113は、行方向xにm個、列方向yにn個ずつ、複数が形成されている。保持容量素子113は、誘電体膜(図示なし)を第1電極(図示なし)と第2電極(図示なし)とで挟むように構成されている。そして、保持容量素子113は、一方の電極が画素スイッチング素子112のドレイン電極に接続され、他方の電極が保持容量配線213に接続されている。保持容量素子113は、液晶層31による静電容量と並列になるように形成され、液晶層31に印加されるデータ信号による電荷を保持する。   As shown in FIG. 3, the storage capacitor element 113 is formed in a matrix in the display region D so as to correspond to each of the plurality of pixel electrodes 111, and holds the potential applied to the pixel electrode 111. . Specifically, a plurality of storage capacitor elements 113 are formed, m in the row direction x and n in the column direction y. The storage capacitor element 113 is configured to sandwich a dielectric film (not shown) between a first electrode (not shown) and a second electrode (not shown). The storage capacitor element 113 has one electrode connected to the drain electrode of the pixel switching element 112 and the other electrode connected to the storage capacitor wiring 213. The storage capacitor element 113 is formed in parallel with the electrostatic capacitance of the liquid crystal layer 31, and holds charge due to a data signal applied to the liquid crystal layer 31.

走査配線211は、図3に示すように、複数の画素スイッチング素子112において行方向xに並ぶ複数の画素スイッチング素子112に沿うように行方向xに延在しており、複数が表示領域Dに形成されている。そして、複数の走査配線211のそれぞれは、行方向xに並ぶ画素スイッチング素子112のそれぞれに接続しており、その行方向xに並ぶ画素スイッチング素子112に走査信号を供給する。また、複数の走査配線211のそれぞれは、図2に示すように、表示領域Dの列方向yの一端部から他端部まで、それぞれが間隔を隔てて並ぶように形成されている。ここでは、図3に示すように、複数の走査配線211は、互いが等しい間隔になるように列方向yに並んで形成されている。具体的には、列方向yにn個並ぶ画素電極111に対応するように、n本の走査配線211が形成されており、第1走査配線211a、第2走査配線211b、・・・第n−1走査配線211n−1,第n走査配線を含む。複数の走査配線211のそれぞれは、ゲートドライバ311に接続されており、ゲートドライバ311からの走査信号を、画素電極111の行を順次選択するように画素スイッチング素子112に供給する。つまり、列方向yにおいて一端部から他端部に並ぶ画素電極111を、その一端部から他端部へ順次選択して、行方向xに並ぶ画素スイッチング素子112に、順次、走査信号を供給する。たとえば、1行目の第1走査配線211aは、第1走査配線211a自身が接続している第1行目の画素スイッチング素子112のそれぞれに、走査信号を供給して、画素スイッチング素子112に画素をスイッチング制御させる。そして、ここでは、第1走査配線211a、第2走査配線211b、・・・第n−1走査配線211n−1,第n走査配線の順のように、表示領域Dの列方向yにおける一端から他端へ、順次、走査信号を供給する。   As shown in FIG. 3, the scanning wiring 211 extends in the row direction x along the plurality of pixel switching elements 112 arranged in the row direction x in the plurality of pixel switching elements 112. Is formed. Each of the plurality of scanning wirings 211 is connected to each of the pixel switching elements 112 arranged in the row direction x, and supplies a scanning signal to the pixel switching elements 112 arranged in the row direction x. Further, as shown in FIG. 2, each of the plurality of scanning wirings 211 is formed so as to be arranged at intervals from one end to the other end in the column direction y of the display region D. Here, as shown in FIG. 3, the plurality of scanning wirings 211 are formed side by side in the column direction y so as to have an equal interval. Specifically, n scanning wirings 211 are formed so as to correspond to n pixel electrodes 111 arranged in the column direction y. The first scanning wiring 211a, the second scanning wiring 211b,. -1 scan wiring 211n-1 and the nth scan wiring. Each of the plurality of scanning wirings 211 is connected to the gate driver 311, and supplies a scanning signal from the gate driver 311 to the pixel switching element 112 so as to sequentially select the rows of the pixel electrodes 111. That is, the pixel electrodes 111 arranged from one end to the other end in the column direction y are sequentially selected from the one end to the other end, and scanning signals are sequentially supplied to the pixel switching elements 112 arranged in the row direction x. . For example, the first scanning wiring 211a in the first row supplies a scanning signal to each of the pixel switching elements 112 in the first row to which the first scanning wiring 211a itself is connected, and the pixel switching elements 112 are supplied with pixels. The switching is controlled. Here, from one end in the column direction y of the display region D, the first scanning line 211a, the second scanning line 211b,..., The n-1th scanning line 211n-1, the nth scanning line in this order. Scan signals are sequentially supplied to the other end.

信号配線212は、図3に示すように、複数の画素スイッチング素子112において列方向yに並ぶ複数の画素スイッチング素子112に沿うように延在しており、複数が表示領域Dに形成されている。そして、信号配線212は、列方向yに並ぶ複数の画素スイッチング素子112のそれぞれに接続し、列方向yに並ぶ複数の画素スイッチング素子112を介して画素電極111にデータ信号を供給する。そして、信号配線212は、行方向xにm個並ぶ画素スイッチング素子112に対応するように、m本が行方向xに間隔を隔てて並んで形成されている。具体的には、信号配線212は、図3に示すように、第1信号配線212a、第2信号配線212b、・・・第m−1信号配線212m−1,第m信号配線212mを含む。そして、各信号配線212は、走査信号が供給された画素スイッチング素子112を介してデータ信号を画素電極111に供給する。   As shown in FIG. 3, the signal wiring 212 extends along the plurality of pixel switching elements 112 arranged in the column direction y in the plurality of pixel switching elements 112, and a plurality of signal lines 212 are formed in the display region D. . The signal wiring 212 is connected to each of the plurality of pixel switching elements 112 arranged in the column direction y, and supplies a data signal to the pixel electrode 111 via the plurality of pixel switching elements 112 arranged in the column direction y. Then, m signal lines 212 are formed side by side in the row direction x so as to correspond to the m pixel switching elements 112 arranged in the row direction x. Specifically, as shown in FIG. 3, the signal wiring 212 includes a first signal wiring 212a, a second signal wiring 212b,..., An m−1th signal wiring 212m−1 and an mth signal wiring 212m. Each signal wiring 212 supplies a data signal to the pixel electrode 111 via the pixel switching element 112 to which the scanning signal is supplied.

保持容量配線213は、図3に示すように、複数の画素電極111において行方向xに並ぶ複数の画素電極111に沿うように延在しており、複数が表示領域Dに形成されている。そして、複数の保持容量配線213のそれぞれは、行方向xに並ぶ画素電極111のそれぞれに接続している。また、保持容量配線213は、列方向yにn個並ぶ保持容量素子113に対応するようにn本有し、それぞれが列方向yに間隔を隔てて並んで形成されている。具体的には、図3に示すように、保持容量配線213は、第1保持容量配線213a、第2保持容量配線213b、・・・第n−1保持容量配線213n−1,第n保持容量配線213nを含む。そして、それぞれの保持容量配線213は、保持容量接続配線414を介してCSドライバ313に接続されており、CSドライバ313からの信号に基づいて、保持容量素子113に電荷を保持させ、その行方向xに並ぶ画素電極111と対向電極23との間の電位差を保持させる。   As shown in FIG. 3, the storage capacitor line 213 extends along the plurality of pixel electrodes 111 arranged in the row direction x in the plurality of pixel electrodes 111, and a plurality of storage capacitor lines 213 are formed in the display region D. Each of the plurality of storage capacitor wirings 213 is connected to each of the pixel electrodes 111 arranged in the row direction x. Further, n storage capacitor lines 213 are provided so as to correspond to n storage capacitor elements 113 arranged in the column direction y, and each of them is formed side by side in the column direction y with an interval. Specifically, as shown in FIG. 3, the storage capacitor line 213 includes a first storage capacitor line 213a, a second storage capacitor line 213b,..., An (n-1) storage capacitor line 213n-1, an nth storage capacitor. A wiring 213n is included. Each storage capacitor line 213 is connected to the CS driver 313 via the storage capacitor connection line 414. Based on the signal from the CS driver 313, the storage capacitor element 113 stores charges, and the row direction The potential difference between the pixel electrode 111 and the counter electrode 23 arranged in x is held.

ダミー走査配線411は、図2に示すように、複数の走査配線211において表示領域Dの列方向yの他端部に位置する第n走査配線211nに沿って行方向xに延在するように、非表示領域Nに形成されている。そして、ダミー走査配線411は、複数の走査配線411のそれぞれに順次供給される走査信号が、第n走査配線211nの次に供給される。   As shown in FIG. 2, the dummy scanning wiring 411 extends in the row direction x along the nth scanning wiring 211 n located at the other end in the column direction y of the display region D in the plurality of scanning wirings 211. The non-display area N is formed. The dummy scanning wiring 411 is supplied with a scanning signal sequentially supplied to each of the plurality of scanning wirings 411 next to the nth scanning wiring 211n.

そして、ダミー走査配線411は、複数の画素スイッチング素子112および複数の画素電極111において第n走査配線211nに接続している画素スイッチング素子112および画素電極111にて発生する第1寄生容量C1が、第n走査配線211n以外の走査配線211に接続している画素スイッチング素子112および画素電極111にて発生する第2寄生容量C2と同じになるように、非表示領域Nに配置されている。複数の画素スイッチング素子112および複数の画素電極111において、第n走査配線211nに接続している画素スイッチング素子112と画素電極111とのそれぞれと、第n走査配線211nと当該ダミー走査配線411とのそれぞれとの間では、第1寄生容量C1が発生する。一方、第n走査配線211n以外のたとえば、第n−1走査配線211n−1に接続している画素スイッチング素子112と画素電極111とのそれぞれと、当該画素スイッチング素子および当該画素電極を第n−1走査配線211n−1との間で挟むように形成されている第n−2走査配線211n−2と第n−1走査配線211n−1とのそれぞれとの間では、第2寄生容量C2が発生する。このため、ダミー走査配線411は、第1寄生容量C2と第2寄生容量C2とを略同じになるように、複数の走査配線211が互いに等しい間隔になるように列方向yに並んで形成されているのと同様に、その複数の走査配線211の間と同じ間隔を第n走査配線211nから隔てるように、非表示領域Dに形成されている。   The dummy scanning wiring 411 includes a first parasitic capacitance C1 generated in the pixel switching element 112 and the pixel electrode 111 connected to the nth scanning wiring 211n in the plurality of pixel switching elements 112 and the plurality of pixel electrodes 111. It is arranged in the non-display area N so as to be the same as the second parasitic capacitance C2 generated in the pixel switching element 112 and the pixel electrode 111 connected to the scanning wiring 211 other than the nth scanning wiring 211n. Among the plurality of pixel switching elements 112 and the plurality of pixel electrodes 111, each of the pixel switching element 112 and the pixel electrode 111 connected to the nth scanning wiring 211n, the nth scanning wiring 211n, and the dummy scanning wiring 411 A first parasitic capacitance C1 is generated between them. On the other hand, for example, each of the pixel switching element 112 and the pixel electrode 111 connected to the n-1th scanning wiring 211n-1 other than the nth scanning wiring 211n, and the pixel switching element and the pixel electrode are connected to the n−th scanning wiring 211n−1. Between each of the (n-2) th scanning wiring 211n-2 and the (n-1) th scanning wiring 211n-1 formed so as to be sandwiched between the first scanning wiring 211n-1, a second parasitic capacitance C2 is present. appear. For this reason, the dummy scanning wiring 411 is formed side by side in the column direction y so that the plurality of scanning wirings 211 are equally spaced from each other so that the first parasitic capacitance C2 and the second parasitic capacitance C2 are substantially the same. Similarly, the non-display area D is formed so that the same interval as the plurality of scan lines 211 is separated from the n-th scan line 211n.

保持容量接続配線414は、図2に示すように、表示領域Dの周囲を沿うように非表示領域Nに帯状に一体で形成されている。そして、保持容量接続配線414は、複数の保持容量配線213に接続すると共に、その保持容量配線213を介して保持容量素子113に接続している。   As shown in FIG. 2, the storage capacitor connection wiring 414 is integrally formed in a strip shape in the non-display area N along the periphery of the display area D. The storage capacitor connection wiring 414 is connected to the plurality of storage capacitor wirings 213 and is connected to the storage capacitor element 113 via the storage capacitor wiring 213.

図4は、保持容量接続配線414が形成されている部分を拡大して示す断面図である。   FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a portion where the storage capacitor connection wiring 414 is formed.

図4に示すように、保持容量接続配線414は、層間絶縁層13を介してダミー配線電極501と対向するように非表示領域Dに形成されている。ここでは、保持容量接続配線414は、ダミー配線電極501とアレイ基板11との間で挟まれるように形成されている。   As shown in FIG. 4, the storage capacitor connection wiring 414 is formed in the non-display region D so as to face the dummy wiring electrode 501 with the interlayer insulating layer 13 interposed therebetween. Here, the storage capacitor connection wiring 414 is formed so as to be sandwiched between the dummy wiring electrode 501 and the array substrate 11.

ダミー配線電極501は、保持容量接続配線414と同様に、複数の画素電極111が形成された表示領域Dの周囲に沿うように、非表示領域Nに形成されている。ダミー配線電極501は、表示領域Dの周囲を帯状に囲うように一体で形成されている。ここでは、ダミー配線電極501は、画素電極111と同じ導電材料であるITOを用いて形成されている。そしてダミー配線電極501は、表示領域Dの周囲に沿って形成されている画素電極111の幅以下の幅になるように、表示領域Dの周囲に沿って形成されている。たとえば、ダミー配線電極501は、40μm幅で形成されている。   The dummy wiring electrode 501 is formed in the non-display area N along the periphery of the display area D where the plurality of pixel electrodes 111 are formed, like the storage capacitor connection wiring 414. The dummy wiring electrode 501 is integrally formed so as to surround the display area D in a strip shape. Here, the dummy wiring electrode 501 is formed using ITO which is the same conductive material as the pixel electrode 111. The dummy wiring electrode 501 is formed along the periphery of the display region D so as to have a width equal to or smaller than the width of the pixel electrode 111 formed along the periphery of the display region D. For example, the dummy wiring electrode 501 is formed with a width of 40 μm.

具体的には、ダミー配線電極501は、図2に示すように、第1信号配線212aと第n信号配線212nとのそれぞれに近接して平行に並んで列方向yに延在するように、帯状に非表示領域Nに形成されている。ここでは、第1信号配線212aと第n信号配線212nとのそれぞれが列方向yに延在する幅と同じ幅で、ダミー配線電極501が列方向yに延在して形成されている。また、これと共に、第1走査配211aと第n走査配線211nとのそれぞれに近接し平行に並んで行方向xに延在するように、帯状に非表示領域Nに形成されている。ここでは、第1走査配線211aと第n走査配線211nとのそれぞれが行方向xに延在する幅と同じ幅で、ダミー配線電極501が行方向xに延在して形成されている。つまり、ダミー配線電極501は、画素電極111のサイズに対応する幅で矩形形状の表示領域Dの境界を帯状に囲って矩形を作るように設けられている。なお、表示領域Dにて画像が表示される際には、ゲートドライバ311からの走査信号とソースドライバ312a,312bからのデータ信号と共通電位印加部により印加される共通電位Vcomとによって、対向電極23と画素電極111との間の液晶層23に印加する電圧が制御されるが、ダミー配線電極501には、対向電極23との間の液晶層23に印加する電圧が無くなるように、対向電極23に印加される共通電位Vcomと同じ電位が印加される。本実施形態においては、ダミー配線電極501は、対向電極23と同様に、共通電位印加部に接続されており、共通電位印加部によって共通電位Vcomが印加される。   Specifically, as shown in FIG. 2, the dummy wiring electrode 501 extends in the column direction y so as to be parallel to each other in close proximity to each of the first signal wiring 212a and the nth signal wiring 212n. It is formed in the non-display area N in a band shape. Here, each of the first signal wiring 212a and the nth signal wiring 212n has the same width as the width extending in the column direction y, and the dummy wiring electrode 501 extends in the column direction y. Along with this, the non-display region N is formed in a strip shape so as to extend in the row direction x alongside and parallel to the first scanning line 211a and the nth scanning line 211n. Here, each of the first scanning wiring 211a and the n-th scanning wiring 211n has the same width as the width extending in the row direction x, and the dummy wiring electrode 501 extends in the row direction x. That is, the dummy wiring electrode 501 is provided so as to form a rectangle with a width corresponding to the size of the pixel electrode 111 and surrounding the border of the rectangular display region D in a strip shape. When an image is displayed in the display area D, the counter electrode is generated by the scanning signal from the gate driver 311, the data signal from the source drivers 312 a and 312 b, and the common potential Vcom applied by the common potential applying unit. The voltage applied to the liquid crystal layer 23 between the pixel electrode 111 and the pixel electrode 111 is controlled, but the dummy electrode 501 does not have the voltage applied to the liquid crystal layer 23 between the counter electrode 23 and the counter electrode. The same potential as the common potential Vcom applied to 23 is applied. In the present embodiment, the dummy wiring electrode 501 is connected to the common potential application unit similarly to the counter electrode 23, and the common potential Vcom is applied by the common potential application unit.

そして、その他に、本実施形態の液晶表示装置601は、液晶パネル10の両面に偏光板(図示なし)が設けられている。そして、さらに、アレイ基板11の液晶層31が配置された側と反対側に、バックライト(図示なし)が偏光板を介して設けられている。   In addition, in the liquid crystal display device 601 of this embodiment, polarizing plates (not shown) are provided on both surfaces of the liquid crystal panel 10. Further, a backlight (not shown) is provided on the opposite side of the array substrate 11 from the side where the liquid crystal layer 31 is disposed via a polarizing plate.

なお、上記の本実施形態において、アレイ基板11は、本発明の第1基板に相当する。また、本実施形態の対向基板21は、本発明の第2基板に相当する。また、本実施形態の対向電極23は、本発明の対向電極に相当する。また、本実施形態の液晶層31は、本発明の液晶層に相当する。また、本実施形態の画素電極111は、本発明の画素電極に相当する。また、本実施形態の画素スイッチング素子112は、本発明の画素スイッチング素子に相当する。また、本実施形態の保持容量素子113は、本発明の保持容量素子に相当する。また、本実施形態の走査配線211は、本発明の走査配線に相当する。また、本実施形態の信号配線212は、本発明の信号配線に相当する。また、本実施形態の第n走査配線211nは、本発明の第1走査配線に相当する。また、本実施形態のダミー走査配線411は、本発明のダミー走査配線に相当する。また、本実施形態の保持容量接続配線414は、本発明の保持容量接続配線に相当する。また、本実施形態のダミー配線電極501は、本発明の導電体層に相当する。また、本実施形態の液晶表示装置601は、本発明の液晶表示装置に相当する。また、本実施形態の表示領域Dは、本発明の表示領域に相当する。また、本実施形態の非表示領域Nは、本発明の非表示領域に相当する。また、本実施形態の第1寄生容量C1は、本発明の第1寄生容量に相当する。また、本実施形態の第2寄生容量C2は、本発明の第2寄生容量に相当する。   In the present embodiment, the array substrate 11 corresponds to the first substrate of the present invention. Further, the counter substrate 21 of the present embodiment corresponds to a second substrate of the present invention. Further, the counter electrode 23 of the present embodiment corresponds to the counter electrode of the present invention. Further, the liquid crystal layer 31 of the present embodiment corresponds to the liquid crystal layer of the present invention. Further, the pixel electrode 111 of this embodiment corresponds to the pixel electrode of the present invention. Further, the pixel switching element 112 of the present embodiment corresponds to the pixel switching element of the present invention. Further, the storage capacitor element 113 of this embodiment corresponds to the storage capacitor element of the present invention. Further, the scanning wiring 211 of this embodiment corresponds to the scanning wiring of the present invention. Further, the signal wiring 212 of this embodiment corresponds to the signal wiring of the present invention. In addition, the nth scanning wiring 211n of the present embodiment corresponds to the first scanning wiring of the present invention. Further, the dummy scanning wiring 411 of this embodiment corresponds to the dummy scanning wiring of the present invention. Further, the storage capacitor connection wiring 414 of the present embodiment corresponds to the storage capacitor connection wiring of the present invention. Further, the dummy wiring electrode 501 of the present embodiment corresponds to a conductor layer of the present invention. Further, the liquid crystal display device 601 of the present embodiment corresponds to the liquid crystal display device of the present invention. Further, the display area D of the present embodiment corresponds to the display area of the present invention. Further, the non-display area N of the present embodiment corresponds to the non-display area of the present invention. Further, the first parasitic capacitance C1 of the present embodiment corresponds to the first parasitic capacitance of the present invention. The second parasitic capacitance C2 of the present embodiment corresponds to the second parasitic capacitance of the present invention.

上記の液晶表示装置601を駆動する際の動作について説明する。   An operation when driving the liquid crystal display device 601 will be described.

上記の液晶表示装置601を駆動する際においては、走査配線211を介してゲートドライバ311が走査信号を画素スイッチング素子112に供給すると共に、信号配線212を介してソースドライバ312a,312bがデータ信号を画素スイッチング素子112に供給する。そして、この時、共通電位印加部が対向電極23に共通電位Vcomを加え、対向電極23と画素電極111との間の液晶層23に電位差を発生させる。これにより、液晶層31の光学特性が変化し、画像の表示が実施される。   When driving the liquid crystal display device 601, the gate driver 311 supplies a scanning signal to the pixel switching element 112 via the scanning wiring 211, and the source drivers 312 a and 312 b receive the data signal via the signal wiring 212. The pixel switching element 112 is supplied. At this time, the common potential applying unit applies the common potential Vcom to the counter electrode 23 to generate a potential difference in the liquid crystal layer 23 between the counter electrode 23 and the pixel electrode 111. As a result, the optical characteristics of the liquid crystal layer 31 change, and an image is displayed.

具体的には、ゲートドライバ311が列方向yに並ぶ複数の走査配線211に、走査信号を時間分割して順次走査して供給し、画素スイッチング素子112をオン状態にする。ここでは、列方向yにおいて一端部から他端部に並ぶ画素電極111を、その一端部から他端部へ順次選択するように、列方向に並ぶ走査配線211に、順次、走査信号を供給する。たとえば、第1走査配線211a、第2走査配線211b、・・・第n−1走査配線211n−1,第n走査配線の順のように、表示領域Dの列方向yにおける一端から他端へ、順次、走査信号を供給する。また、さらに、ここでは、第n走査配線の後に、ダミー走査配線411に、走査信号を供給する。   Specifically, the gate driver 311 supplies the scanning signals to the plurality of scanning wirings 211 arranged in the column direction y by time-dividing and sequentially scanning the pixel switching element 112. Here, the scanning electrodes are sequentially supplied to the scanning wirings 211 arranged in the column direction so that the pixel electrodes 111 arranged from one end to the other end in the column direction y are sequentially selected from the one end to the other end. . For example, from the one end to the other end in the column direction y of the display region D, as in the order of the first scan line 211a, the second scan line 211b,..., The (n-1) th scan line 211n-1, and the nth scan line. The scanning signal is sequentially supplied. Further, here, a scanning signal is supplied to the dummy scanning wiring 411 after the nth scanning wiring.

そして、この走査信号の供給のタイミングに合わせて、ソースドライバ312がデータ信号を信号配線202に供給し、オン状態の画素スイッチング素子112を介して画素電極111にデータ信号を印加する。これにより、対向電極23と画素電極111との間の液晶層23に電位差が発生する。つまり、液晶層31に電圧が印加されたことになる。そして、これにより、液晶層31の配向方向が変化して、光透過率などの光学特性が変わり、画像の表示が実施される。   In synchronization with the supply timing of the scanning signal, the source driver 312 supplies the data signal to the signal wiring 202 and applies the data signal to the pixel electrode 111 through the pixel switching element 112 in the on state. As a result, a potential difference is generated in the liquid crystal layer 23 between the counter electrode 23 and the pixel electrode 111. That is, a voltage is applied to the liquid crystal layer 31. As a result, the alignment direction of the liquid crystal layer 31 is changed, the optical characteristics such as light transmittance are changed, and an image is displayed.

このように、表示領域Dにて画像が表示される際には、ゲートドライバ311からの走査信号とソースドライバ312a,312bからのデータ信号と共通電位印加部により印加される共通電位Vcomとによって、対向電極23と画素電極111との間の液晶層23に印加する電圧が制御される。   As described above, when an image is displayed in the display area D, the scanning signal from the gate driver 311, the data signal from the source drivers 312 a and 312 b, and the common potential Vcom applied by the common potential application unit, The voltage applied to the liquid crystal layer 23 between the counter electrode 23 and the pixel electrode 111 is controlled.

この一方で、表示領域Dで画像を表示する際には、対向電極23に印加される共通電位Vcomと同じ電位をダミー配線電極501に印加し、ダミー配線電極501と対向電極23との間の液晶層23に印加される電位差を無くす。ここでは、共通電位印加部が対向電極23と同様な電位の共通電位を、ダミー配線電極501に印加する。   On the other hand, when displaying an image in the display area D, the same potential as the common potential Vcom applied to the counter electrode 23 is applied to the dummy wiring electrode 501, and the gap between the dummy wiring electrode 501 and the counter electrode 23 is applied. The potential difference applied to the liquid crystal layer 23 is eliminated. Here, the common potential applying unit applies a common potential similar to that of the counter electrode 23 to the dummy wiring electrode 501.

以上のように、本実施形態においては、複数の画素電極111が形成された表示領域Dの周囲に沿うように、ダミー配線電極501が非表示領域Nに形成されている。そして、表示領域Dにて画像を表示する際には、対向電極23と画素電極111との間の液晶層31に印加する電圧を制御すると共に、対向電極23に印加する電位と同じ電位をダミー配線電極501に印加し、対向電極23とダミー配線電極501との間において液晶層31に印加される電位差を無くしている。このようにして、本実施形態は、液晶層31に直流電圧が印加されることを防止し、表示領域Dと非表示領域Nとの境界で液晶層31の配向方向が安定化している。このため、画像表示時に、焼き付きやシミなどの不具合が発生することを防止し、画像品質を向上することができる。また、前述したようなダミー画素を駆動させるためのダミースイッチング素子などを形成せずに、ダミー配線電極501で液晶層31への直流電圧の印加を防止しているために、配線や駆動回路などのレイアウトの自由度が高まるため、非表示領域が占有する面積を小さくすることができ、装置を小型化することが容易にできる。また、構成が単純化されるために、容易に製造することができ、製造効率を向上することができる。   As described above, in the present embodiment, the dummy wiring electrode 501 is formed in the non-display area N along the periphery of the display area D where the plurality of pixel electrodes 111 are formed. When an image is displayed in the display area D, the voltage applied to the liquid crystal layer 31 between the counter electrode 23 and the pixel electrode 111 is controlled, and the same potential as the potential applied to the counter electrode 23 is set as a dummy. The potential difference applied to the liquid crystal layer 31 between the counter electrode 23 and the dummy wiring electrode 501 is eliminated by being applied to the wiring electrode 501. In this way, the present embodiment prevents a DC voltage from being applied to the liquid crystal layer 31 and stabilizes the alignment direction of the liquid crystal layer 31 at the boundary between the display region D and the non-display region N. For this reason, it is possible to prevent the occurrence of defects such as burn-in and stains at the time of image display, and to improve the image quality. Further, since the dummy wiring electrode 501 prevents the application of a DC voltage to the liquid crystal layer 31 without forming a dummy switching element or the like for driving the dummy pixel as described above, wiring, a driving circuit, etc. Since the degree of freedom in layout increases, the area occupied by the non-display area can be reduced, and the apparatus can be easily downsized. In addition, since the configuration is simplified, it can be easily manufactured and the manufacturing efficiency can be improved.

また、本実施形態においては、ダミー配線電極501は、画素電極111と同じ導電材料によって形成されている。このため、ダミー配線電極501と画素電極111とを同じ工程で形成可能になるため、製造効率を向上することができる。   In this embodiment, the dummy wiring electrode 501 is made of the same conductive material as that of the pixel electrode 111. For this reason, since the dummy wiring electrode 501 and the pixel electrode 111 can be formed in the same process, manufacturing efficiency can be improved.

また、本実施形態においては、ダミー配線電極501は、表示領域Dの周囲に沿って形成されている画素電極111の幅以下の幅になるように、表示領域Dの周囲に沿って形成されている。このため、表示領域Dの最端部にある画素と、その他の中央部などにある画素とにおいて発生する寄生容量が同じになるように調整でき、画像表示時に焼き付きやシミなどの不具合が発生することを防止し、画像品質を向上することができる。   Further, in the present embodiment, the dummy wiring electrode 501 is formed along the periphery of the display region D so as to have a width equal to or smaller than the width of the pixel electrode 111 formed along the periphery of the display region D. Yes. For this reason, it is possible to adjust the parasitic capacitance generated in the pixel at the extreme end of the display area D and the other pixel at the center to be the same, and problems such as burn-in and stain occur at the time of image display. Can be prevented and the image quality can be improved.

また、本実施形態においては、保持容量接続配線414は、層間絶縁膜13を介して、ダミー配線電極501と対向するように非表示領域Dに形成されている。このため、本実施形態は、非表示領域が占有する面積を小さくすることができ、装置を小型化することが容易にできる。また、保持容量接続配線414とダミー配線電極501との間の寄生容量によって、表示領域の最端部にある画素と、その他の中央部などにある画素とにおいて発生する寄生容量が同じになるように調整でき、画像表示時に焼き付きやシミなどの不具合が発生することを防止し、画像品質を向上することができる。   In the present embodiment, the storage capacitor connection wiring 414 is formed in the non-display region D so as to face the dummy wiring electrode 501 with the interlayer insulating film 13 interposed therebetween. For this reason, this embodiment can reduce the area occupied by the non-display region, and can easily reduce the size of the apparatus. In addition, the parasitic capacitance between the storage capacitor connection wiring 414 and the dummy wiring electrode 501 causes the parasitic capacitance generated in the pixel at the extreme end of the display area to be the same as the pixel at the other central portion or the like. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of defects such as burn-in and stains at the time of image display, and to improve the image quality.

また、本実施形態においては、複数の走査配線211において表示領域Dの列方向yの他端部に位置する第n走査配線211nに沿って、行方向xに延在するようにダミー走査配線411が非表示領域Nに形成されている。そして、表示領域Dの列方向yにおける一端部から他端部に並ぶ画素電極111を、一端部から他端部へ順次選択するように、順次、走査信号を複数の走査配線211に供給すると共に、複数の走査配線に順次供給される前記走査信号が、第n走査配線211nの次にダミー走査配線411へ供給する。ここでは、ダミー走査配線411は、第n走査配線211nに接続している画素スイッチング素子112および画素電極111にて発生する第1寄生容量C1が、第n走査配線211n以外の、たとえば、第n−1走査配線211n−1に接続している画素スイッチング素子112および画素電極111にて発生する第2寄生容量C2と同じになるように、非表示領域Dに形成されている。このため、ダミー走査配線411によって、表示領域の最端部にある画素と、その他の中央部などにある画素とにおいて発生する寄生容量が同じになるように調整できるため、画像表示時に焼き付きやシミなどの不具合が発生することを防止し、画像品質を向上することができる。   Further, in the present embodiment, the dummy scanning wiring 411 extends in the row direction x along the nth scanning wiring 211n located at the other end in the column direction y of the display region D in the plurality of scanning wirings 211. Is formed in the non-display area N. The pixel electrodes 111 arranged from one end to the other end in the column direction y of the display region D are sequentially supplied to the plurality of scanning wirings 211 so as to be sequentially selected from the one end to the other end. The scanning signals sequentially supplied to the plurality of scanning wirings are supplied to the dummy scanning wiring 411 next to the nth scanning wiring 211n. Here, the dummy scanning wiring 411 has a first parasitic capacitance C1 generated in the pixel switching element 112 and the pixel electrode 111 connected to the nth scanning wiring 211n, for example, the nth scanning wiring 211n. -1 is formed in the non-display region D so as to be the same as the second parasitic capacitance C2 generated in the pixel switching element 112 and the pixel electrode 111 connected to the scanning wiring 211n-1. For this reason, the dummy scanning wiring 411 can be adjusted so that the parasitic capacitance generated in the pixel at the extreme end of the display area and the pixel at the other central part is the same. It is possible to prevent the occurrence of problems such as and improve the image quality.

なお、本発明の実施に際しては、上記した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形形態を採用することができる。   In implementing the present invention, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be employed.

10:液晶パネル
11:アレイ基板(第1基板)
21:対向基板(第2基板)
23:対向電極(対向電極)
31:液晶層(液晶層)
111:画素電極(画素電極)、
112:画素スイッチング素子(画素スイッチング素子)、
113:保持容量素子(保持容量素子)、
211:走査配線(走査配線)、
212:信号配線(信号配線)、
213:保持容量配線
411:ダミー走査配線(ダミー走査配線)
414:保持容量接続配線(保持容量接続配線)、
501:ダミー配線電極(導電体層)
601:液晶表示装置(液晶表示装置)
D:表示領域(表示領域)
N:非表示領域(非表示領域)
C1:第1寄生容量(第1寄生容量))
C2:第2寄生容量第2寄生容量)
10: Liquid crystal panel 11: Array substrate (first substrate)
21: Counter substrate (second substrate)
23: Counter electrode (counter electrode)
31: Liquid crystal layer (liquid crystal layer)
111: Pixel electrode (pixel electrode),
112: Pixel switching element (pixel switching element),
113: Retention capacitive element (retention capacitive element),
211: Scanning wiring (scanning wiring)
212: signal wiring (signal wiring),
213: Retention capacitance wiring 411: Dummy scanning wiring (dummy scanning wiring)
414: Retention capacitance connection wiring (retention capacitance connection wiring),
501: Dummy wiring electrode (conductor layer)
601: Liquid crystal display device (liquid crystal display device)
D: Display area (display area)
N: non-display area (non-display area)
C1: first parasitic capacitance (first parasitic capacitance))
C2: second parasitic capacitance second parasitic capacitance)

Claims (5)

第1基板と、前記第1基板に間隔を隔てて配置されている第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に挟持されている液晶層とを有し、前記液晶層を透過した光を用いて画像を表示する表示領域と、光を遮光し画像を表示しない非表示領域とが形成されている液晶表示装置であって、
前記第1基板は、
前記表示領域に対応するように、マトリクス状に形成された複数の画素電極と、
前記複数の画素電極が形成された前記表示領域の周囲に沿うように、前記非表示領域に形成された導電体層と
を含み、
前記第2基板は、
前記液晶層を介して前記複数の画素電極に対向するように形成された対向電極
を含み、
前記導電体層は、前記液晶層を介して前記対向電極に対向するように形成されており、
前記表示領域にて画像を表示する際には、前記対向電極と前記画素電極との間の前記液晶層に印加する電圧を制御すると共に、前記対向電極に印加する電位と同じ電位を前記導電体層に印加する
液晶表示装置。
A first substrate; a second substrate disposed at a distance from the first substrate; and a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, wherein the liquid crystal layer A liquid crystal display device in which a display region that displays an image using light transmitted through the light source and a non-display region that blocks light and does not display an image are formed,
The first substrate is
A plurality of pixel electrodes formed in a matrix so as to correspond to the display region;
A conductor layer formed in the non-display area so as to extend along the periphery of the display area in which the plurality of pixel electrodes are formed, and
The second substrate is
A counter electrode formed to face the plurality of pixel electrodes through the liquid crystal layer,
The conductor layer is formed to face the counter electrode through the liquid crystal layer,
When displaying an image in the display region, the voltage applied to the liquid crystal layer between the counter electrode and the pixel electrode is controlled, and the same potential as the potential applied to the counter electrode is controlled by the conductor. Liquid crystal display device applied to the layer.
前記導電体層は、前記画素電極と同じ導電材料によって形成されている
請求項1に記載の液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the conductor layer is formed of the same conductive material as that of the pixel electrode.
前記導電体層は、前記表示領域の周囲に沿って形成されている前記画素電極の幅以下の幅になるように、前記表示領域の周囲に沿って形成されている
請求項2に記載の液晶表示装置。
The liquid crystal according to claim 2, wherein the conductor layer is formed along the periphery of the display region so as to have a width equal to or smaller than the width of the pixel electrode formed along the periphery of the display region. Display device.
前記第1基板は、
前記複数の画素電極のそれぞれに対応するように複数がマトリクス状に前記表示領域に形成され、前記画素電極をスイッチング制御する画素スイッチング素子と、
前記複数の画素スイッチング素子において行方向に並ぶ複数の画素スイッチング素子に沿って延在するように前記表示領域に形成されており、前記行方向に並ぶ複数の画素スイッチング素子のそれぞれに接続し、前記行方向に並ぶ複数の画素スイッチング素子に走査信号を供給する複数の走査配線と、
前記複数の画素スイッチング素子において列方向に並ぶ複数の画素スイッチング素子に沿って延在するように前記表示領域に形成されており、前記列方向に並ぶ複数の画素スイッチング素子のそれぞれに接続し、前記列方向に並ぶ複数の画素スイッチング素子を介して前記画素電極にデータ信号を供給する複数の信号配線と、
を有し、
前記複数の走査配線は、前記列方向の一端部から他端部まで間隔を隔てて並ぶように形成されており、前記一端部から前記他端部に並ぶ前記画素電極を前記一端部から前記他端部へ順次選択するように前記走査信号を供給し、
前記複数の信号配線は、前記行方向に間隔を隔てて並ぶように形成されており、
さらに、当該第1基板の前記非表示領域には、
前記複数の走査配線において前記表示領域の前記列方向の他端部に位置する第1走査配線に沿って前記行方向に延在するようにダミー走査配線が形成されており、
前記ダミー走査配線は、前記複数の走査配線に順次供給される前記走査信号が前記第1走査配線の次に供給される
請求項3に記載の液晶表示装置。
The first substrate is
A plurality of pixel switching elements that are formed in the display region in a matrix so as to correspond to each of the plurality of pixel electrodes, and that perform switching control of the pixel electrodes;
The plurality of pixel switching elements are formed in the display region so as to extend along a plurality of pixel switching elements arranged in a row direction, and connected to each of the plurality of pixel switching elements arranged in the row direction, A plurality of scanning lines for supplying a scanning signal to a plurality of pixel switching elements arranged in a row direction;
The plurality of pixel switching elements are formed in the display region so as to extend along the plurality of pixel switching elements arranged in the column direction, and connected to each of the plurality of pixel switching elements arranged in the column direction, A plurality of signal lines for supplying data signals to the pixel electrodes via a plurality of pixel switching elements arranged in a column direction;
Have
The plurality of scanning lines are formed so as to be arranged at an interval from one end to the other end in the column direction, and the pixel electrodes arranged from the one end to the other end are arranged from the one end to the other. Supplying the scanning signal to sequentially select the end,
The plurality of signal wirings are formed so as to be arranged at intervals in the row direction,
Furthermore, in the non-display area of the first substrate,
A dummy scanning line is formed so as to extend in the row direction along a first scanning line located at the other end in the column direction of the display region in the plurality of scanning lines,
The liquid crystal display device according to claim 3, wherein the scanning signal sequentially supplied to the plurality of scanning wirings is supplied to the dummy scanning wiring next to the first scanning wiring.
前記ダミー走査配線は、前記複数の画素スイッチング素子および前記複数の画素電極において前記第1走査配線に接続している第1画素スイッチング素子および第1画素電極にて発生する第1寄生容量が、前記複数の画素スイッチング素子および前記複数の画素電極において前記第1走査配線以外の第2走査配線に接続している第2画素スイッチング素子および第2画素電極にて発生する第2寄生容量と同じになるように、前記非表示領域に形成されている
請求項4に記載の液晶表示装置。
The dummy scanning line has a first parasitic capacitance generated in the first pixel switching element and the first pixel electrode connected to the first scanning line in the plurality of pixel switching elements and the plurality of pixel electrodes, The same as the second parasitic capacitance generated in the second pixel switching element and the second pixel electrode connected to the second scanning wiring other than the first scanning wiring in the plurality of pixel switching elements and the plurality of pixel electrodes. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the liquid crystal display device is formed in the non-display area.
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