JP2010270092A - Acetyl compound, method for producing the acetyl compound, and method for producing naphthol compound using the acetyl compound - Google Patents

Acetyl compound, method for producing the acetyl compound, and method for producing naphthol compound using the acetyl compound Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for improving production conditions of naphthol compounds and chromene compounds by synthesizing the naphthol compounds and the chromene compounds which are obtained by passing many processes making a precursor of high storage stability as a raw material. <P>SOLUTION: An acetyl compound of high storage stability is shown by formula (1), wherein R<SP>1</SP>, R<SP>2</SP>, R<SP>3</SP>and R<SP>4</SP>denote a hydrogen atom, an alkyl group or the like respectively, and R<SP>5</SP>and R<SP>6</SP>denote an alkyl group, a halogeno-alkyl group, an alkoxy group or the like respectively. A method of synthesizing the chromene compound comprises as follows. The acetyl compound is deacetylated by an acid or a base to produce the naphthol compound, and the obtained naphthol compound is made to react with a propargyl alcohol compound to produce the chromene compound. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、新規なアセチル化合物、及び該アセチル化合物の製造方法に関するものである。また、本発明は、該アセチル化合物を使用したナフトール化合物の新規な製造方法、および該ナフトール化合物を使用した新規なクロメン化合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a novel acetyl compound and a method for producing the acetyl compound. The present invention also relates to a novel method for producing a naphthol compound using the acetyl compound and a novel method for producing a chromene compound using the naphthol compound.

いくつかのベンゾピラン化合物(該化合物はクロメン骨格を有するのでクロメン化合物と呼ばれることもある。)は、太陽光のような紫外線を含む光を照射することによってその化学構造を変え着色し、また光の照射を止めると元の化学構造に戻り着色が消えることが知られており、現在市販されているフォトクロミックレンズの主要構成成分となっている。   Some benzopyran compounds (they are sometimes called chromene compounds because they have a chromene skeleton) are colored by changing their chemical structure by irradiating light containing ultraviolet rays such as sunlight. It is known that when the irradiation is stopped, the original chemical structure is restored and the coloring disappears, and this is the main component of the photochromic lens currently on the market.

通常、このクロメン化合物は、ナフトール化合物とプロパルギル化合物とを反応させて製造することができる。優れたフォトクロミック特性を有するクロメン化合物の原料となるナフトール化合物は、例えば、以下の方法によって製造することができる(特許文献1参照)。   Usually, this chromene compound can be produced by reacting a naphthol compound with a propargyl compound. A naphthol compound that is a raw material for a chromene compound having excellent photochromic properties can be produced, for example, by the following method (see Patent Document 1).

Figure 2010270092
Figure 2010270092

上記反応式について説明すると、先ず、前記式(A)で示されるグリニヤ試薬とα−テトラロンとを反応させて前記式(B)で示される化合物を合成し、該化合物のカルボン酸保護基の脱保護を行い、前記式(C)で示されるカルボン酸化合物とする。次いで、ポリリン酸中、加熱条件下にて該カルボン酸化合物の環化を行い、前記式(D)で示されるナフトール化合物を製造する。この方法により得られるナフトール化合物は、特許文献1に記載された通り、フォトクロミック特性の優れたクロメン化合物の原料として使用することができる。   Explaining the above reaction formula, first, a Grignard reagent represented by the above formula (A) is reacted with α-tetralone to synthesize a compound represented by the above formula (B), and the carboxylic acid protecting group of the compound is removed. Protection is performed to obtain a carboxylic acid compound represented by the formula (C). Next, the carboxylic acid compound is cyclized in polyphosphoric acid under heating conditions to produce the naphthol compound represented by the formula (D). As described in Patent Document 1, the naphthol compound obtained by this method can be used as a raw material for a chromene compound having excellent photochromic properties.

しかしながら、従来法は、上記の通り、ナフトール化合物の製造において、取り扱い難いポリリン酸を使用しており、操作性の点で改善の余地があった。   However, as described above, the conventional method uses polyphosphoric acid that is difficult to handle in the production of a naphthol compound, and there is room for improvement in terms of operability.

また、上記方法においては、前記式(A)で示されるグリニヤ試薬由来のカルボン酸化合物が副生するが、かかる副生物は、前記式(C)で示されるカルボン酸化合物と非常に類似している。そのため、該カルボン酸化合物と副生物との分離が困難であり、通常は、該副生物とカルボン酸化合物とを含む混合物を反応させた後、得られた前記式(D)で示されるナフトール化合物と該副生物を分離する必要があった。この際、弱塩基性条件下での分液操作で副生物を分離することができるが、ナフトール化合物の一部が副生物と共に分離され、ナフトール化合物の収率が低下するといった点でも、上記方法は改善の余地があった。   In the above method, a carboxylic acid compound derived from the Grignard reagent represented by the formula (A) is by-produced, and such a by-product is very similar to the carboxylic acid compound represented by the formula (C). Yes. Therefore, it is difficult to separate the carboxylic acid compound from the by-product. Usually, the naphthol compound represented by the formula (D) is obtained after reacting the mixture containing the by-product and the carboxylic acid compound. And the by-product had to be separated. At this time, the by-product can be separated by a liquid separation operation under weakly basic conditions. However, the above method is also used in that a part of the naphthol compound is separated together with the by-product and the yield of the naphthol compound is reduced. There was room for improvement.

さらに、本発明者等の検討によれば、生成したナフトール化合物は、酸化劣化しやすいために保存することが困難であり、直ぐに次反応、例えば、プロパルギル化合物と反応させなければ、クロメン化合物の生産性が低下することが分かった。   Further, according to the study by the present inventors, the produced naphthol compound is difficult to be preserved because it is prone to oxidative degradation, and if it is not immediately reacted with a next reaction, for example, a propargyl compound, production of a chromene compound It was found that the sex decreased.

以上の通り、従来法においては、操作性や物質の安定性、ナフトール化合物の収率等の点から工業的な製法として改善の余地があった。   As described above, the conventional method has room for improvement as an industrial production method in terms of operability, stability of the substance, yield of naphthol compound, and the like.

米国特許出願公開第2007/0246692US Patent Application Publication No. 2007/0246692

ナフトール化合物の原料として、副生物との分離が容易であり、保存安定性に優れ、さらに容易にナフトール化合物へと変換できる化合物があれば、ナフトール化合物の生産性を改善できるだけでなく、該ナフトール化合物を原料とするクロメン化合物の生産性をも改善できると考えられる。特に、ナフトール化合物、およびクロメン化合物は、多くの工程を経て得られるため、前駆体(原料)の保存安定性が高ければ、それらの工業的生産に非常に有利になると考えられる。   As a naphthol compound raw material, if there is a compound that can be easily separated from by-products, has excellent storage stability, and can be easily converted into a naphthol compound, not only can the productivity of the naphthol compound be improved, but also the naphthol compound It is thought that the productivity of chromene compounds made from the raw material can also be improved. In particular, naphthol compounds and chromene compounds are obtained through a number of processes. Therefore, if the storage stability of the precursor (raw material) is high, it will be very advantageous for their industrial production.

したがって、本発明の目的は、上記のようなナフトール化合物の原料化合物を提供し、操作性、及び収率の改善されたナフトール化合物の製造方法を提供することにある。さらには、得られたナフトール化合物とプロパルギル化合物とを反応させることにより、クロメン化合物の収率、製造条件の改善された製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a raw material compound of the naphthol compound as described above, and to provide a method for producing a naphthol compound with improved operability and yield. Furthermore, it is providing the manufacturing method with which the yield of chromene compound and the manufacturing conditions were improved by making the obtained naphthol compound and a propargyl compound react.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、特定の構造を有するアセチル化合物が、副生物との分離が容易であり、保存安定性に優れ、さらに容易にナフトール化合物へと変換できる化合物であることを見出し、さらに、該アセチル化合物を使用してナフトール化合物、及びクロメン化合物を製造することにより、ナフトール化合物、及びクロメン化合物の生産性を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。   The present inventors have intensively studied to solve the above problems. As a result, it has been found that an acetyl compound having a specific structure is a compound that can be easily separated from by-products, has excellent storage stability, and can be easily converted into a naphthol compound. It has been found that the productivity of naphthol compounds and chromene compounds can be improved by using them to produce naphthol compounds and chromene compounds, and the present invention has been completed.

即ち、本発明は、下記式(1)   That is, the present invention provides the following formula (1)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

(式中 R、R、R、及びRは、それぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アラルキル基、又はアリール基であり、また、R、R、R、及びRの中から選ばれる2つの基が一緒になって脂肪族炭化水素環を形成してもよく、
、及びRは、それぞれ、アルキル基、アルコキシ基、アラルコキシ基、アミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し該窒素原子で結合する複素環基、シアノ基、ハロゲン原子、アラルキル基、又はアリール基であり、
a、及びbは、それぞれ、0〜3の整数であり、a、及びbが2〜3の整数であるとき、各R、及びRは、それぞれ、同一の基であっても、互いに異なる基であってもよい。)
で示されるアセチル化合物である。
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom, an aralkyl group, or an aryl group, and R 1 , R 2 , R 3 , and R are each Two groups selected from 4 may form together an aliphatic hydrocarbon ring,
R 5 and R 6 are each an alkyl group, an alkoxy group, an aralkoxy group, an amino group, a heterocyclic group having a nitrogen atom as a hetero atom, and bonded by the nitrogen atom, a cyano group, a halogen atom, an aralkyl group, or An aryl group,
a, and b are each an integer of 0 to 3, a, and when b is 2 to 3 integer, each R 5, and R 6 each may be the same group, together Different groups may be used. )
It is an acetyl compound shown by these.

上記アセチル化合物は、下記式(2)   The acetyl compound is represented by the following formula (2)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

(式中、R、R、R、R、R、R、a、及びbは、前記式(1)におけるものと同義である。)
で示されるカルボン酸化合物を無水酢酸、及び酢酸塩存在下にて加熱することにより製造することができる。
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , a, and b have the same meanings as those in the formula (1).)
Can be produced by heating in the presence of acetic anhydride and acetate.

また、本発明は、前記アセチル化合物を、酸、又は塩基により脱アセチル化を行い、
下記式(3)
In the present invention, the acetyl compound is deacetylated with an acid or a base,
Following formula (3)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

(式中、R、R、R、R、R、R、a、及びbは、前記式(1)におけるものと同義である。)
で示されるナフトール化合物を製造する方法である。
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , a, and b have the same meanings as those in the formula (1).)
A naphthol compound represented by the formula:

さらに、本発明は、前記方法により前記式(3)で示されるナフトール化合物を製造した後、得られたナフトール化合物と下記式(4)   Furthermore, the present invention provides a naphthol compound represented by the above formula (3) by the above method, and then obtained naphthol compound and the following formula (4):

Figure 2010270092
Figure 2010270092

(式中、R、及びRは、それぞれ、アルキル基、アルコキシ基、アラルコシ基、アミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し該窒素原子で結合する複素環基、シアノ基、ハロゲン原子、アラルキル基、又はアリール基であり、
c、及びdは、それぞれ、0〜3の整数であり、c、及びdが2〜3の整数であるとき、各R、及びRは、それぞれ、同一の基であってもよく、互いに異なる基であってもよい。)で示されるプロパルギル化合物と反応させることにより、
下記式(5)
(In the formula, R 7 and R 8 are each an alkyl group, an alkoxy group, an aralkoxy group, an amino group, a heterocyclic group having a nitrogen atom as a hetero atom, and bonded by the nitrogen atom, a cyano group, a halogen atom, An aralkyl group or an aryl group,
c and d are each an integer of 0 to 3, and when c and d are an integer of 2 to 3, each R 7 and R 8 may be the same group, Different groups may be used. By reacting with a propargyl compound represented by
Following formula (5)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

(式中、R、R、R、R、R、R、a、及びbは、前記式(1)におけるものと同義であり、
、R、c、及びdは、前記式(4)におけるものと同義である。)
で示されるクロメン化合物を製造する方法である。
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , a, and b have the same meanings as those in formula (1),
R 7 , R 8 , c, and d have the same meaning as in the formula (4). )
A method for producing a chromene compound represented by the formula:

本発明のアセチル化合物(前記式(1)で示されるアセチル化合物)は、無水酢酸、及び酢酸塩存在下で容易に製造することができる。また、得られたアセチル化合物は、弱塩基性条件での分液操作、又は再結晶により副生物の除去が可能であり、その結果、高純度の化合物を容易に得ることができる。さらに、該アセチル化合物は、保存安定性にも優れ、酸または塩基条件下の加水分解により、容易にナフトール化合物とすることができる。   The acetyl compound of the present invention (acetyl compound represented by the above formula (1)) can be easily produced in the presence of acetic anhydride and acetate. Moreover, the obtained acetyl compound can remove a by-product by a liquid separation operation under a weak basic condition or by recrystallization, and as a result, a high-purity compound can be easily obtained. Furthermore, the acetyl compound is excellent in storage stability and can be easily converted into a naphthol compound by hydrolysis under acid or base conditions.

そのため、本発明のアセチル化合物を使用することにより、ナフトール化合物、及びクロメン化合物の収率、製造条件を改善することができる。特に、該アセチル化合物は、数多くの生産工程を経て得られるナフトール化合物、およびクロメン化合物を生産する際の前駆体(原料)として有用である。   Therefore, by using the acetyl compound of the present invention, the yield and production conditions of the naphthol compound and the chromene compound can be improved. In particular, the acetyl compound is useful as a precursor (raw material) for producing a naphthol compound obtained through a number of production steps and a chromene compound.

(アセチル化合物)
本発明は、下記式(1)
(Acetyl compound)
The present invention provides the following formula (1)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

(式中 R、R、R、及びRは、それぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アラルキル基、又はアリール基であり、
また、R、R、R、及びRの中から選ばれる2つの基が一緒になって脂肪族炭化水素環を形成していてよく、
、及びRは、それぞれ、アルキル基、アルコキシ基、アラルコキシ基、アミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し該窒素原子で結合する複素環基、シアノ基、ハロゲン原子、アラルキル基、又はアリール基であり、
a、及びbは、それぞれ、0〜3の整数であり、a、及びbが2〜3の整数であるとき、各R、及びRは、それぞれ、同一の基であっても、互いに異なる基であってもよい。)で示されるアセチル化合物である。
先ず、このアセチル化合物の置換基について説明する。
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom, an aralkyl group, or an aryl group,
Two groups selected from R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 may be combined to form an aliphatic hydrocarbon ring,
R 5, and R 6 are each an alkyl group, alkoxy group, aralkoxy group, a heterocyclic group bonded through a nitrogen atom include an amino group, a nitrogen atom as a hetero atom, a cyano group, a halogen atom, an aralkyl group, or An aryl group,
a and b are each an integer of 0 to 3, and when a and b are an integer of 2 to 3, each R 5 and R 6 may be the same group, Different groups may be used. ) Is an acetyl compound.
First, the substituent of this acetyl compound is demonstrated.

(基R、R、R、及びR
基R、R、R、及びRにおいて、アルキル基としては、特に限定されないが、一般的には炭素数1〜6のアルキル基が好ましい、好適なアルキル基を例示すると、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル、n−へキシル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基等を挙げることができる。
(Groups R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 )
In the groups R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 , the alkyl group is not particularly limited, but generally an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable. , Ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl, n-hexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を挙げることができる。   Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

アラルキル基としては、炭素数7〜11のアラルキル基が好ましい。好適なアラルキル基を例示すると、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等を挙げることができる。また、該アラルキル基は、置換基を有していてもよく、この置換基を有するアラルキル基としては、上記アラルキル基の1若しくは2以上の水素原子がアルキル基、アルコキシ基、アラルコキシ基、アミノ基、ハロゲン原子、アラルキル基、アリール基で置換されたものを挙げることができる。   As the aralkyl group, an aralkyl group having 7 to 11 carbon atoms is preferable. Examples of suitable aralkyl groups include benzyl group, phenylethyl group, phenylpropyl group, phenylbutyl group and the like. Further, the aralkyl group may have a substituent, and as the aralkyl group having this substituent, one or more hydrogen atoms of the aralkyl group are an alkyl group, an alkoxy group, an aralkoxy group, an amino group. , Substituted with a halogen atom, an aralkyl group or an aryl group.

アリール基としては、炭素数6〜10のアリール基が好ましい。好適なアリール基を例示すると、フェニル基、ナフチル基等を挙げることができる。また、該アリール基は、置換基を有していてもよく、この置換基を有するアリール基としては、上記アリール基の1若しくは2以上の水素原子がアルキル基、アルコキシ基、アラルコキシ基、アミノ基、ハロゲン原子、アラルキル基、アリール基で置換されたものを挙げることができる。   As the aryl group, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms is preferable. Examples of suitable aryl groups include phenyl and naphthyl groups. The aryl group may have a substituent, and as the aryl group having the substituent, one or more hydrogen atoms of the aryl group are an alkyl group, an alkoxy group, an aralkoxy group, an amino group. , Substituted with a halogen atom, an aralkyl group, or an aryl group.

また、R、R、R、及びRの中から選ばれる2つの基が一緒になって脂肪族炭化水素環を形成してもよい。好適な環を例示すると、炭素数4〜8の脂肪族炭化水素環であることが好ましく、炭素数4〜8のシクロアルキル環であることが好ましい。なお、該脂肪族炭化水素環は、R、R、R、及びRが結合している基本骨格の炭素原子を含むものである。具体的には、シクロブチル環、シクロペンチル環、シクロへキシル環、シクロへプチル環、又はシクロオクチル環等を挙げることができる。中でも、Rと、R又はRが一緒になるか、Rと、R又はRが一緒になって脂肪族炭化水素環を形成することが望ましく、特に好ましくは、Rと、R又はRが一緒になるか、Rと、R又はRが一緒になって炭素数4〜8のシクロアルキル環を形成することが望ましい。 Further, two groups selected from R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 may be combined to form an aliphatic hydrocarbon ring. When a suitable ring is illustrated, it is preferable that it is a C4-C8 aliphatic hydrocarbon ring, and it is preferable that it is a C4-C8 cycloalkyl ring. The aliphatic hydrocarbon ring includes a carbon atom having a basic skeleton to which R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are bonded. Specific examples include a cyclobutyl ring, a cyclopentyl ring, a cyclohexyl ring, a cycloheptyl ring, and a cyclooctyl ring. Among them, it is desirable that R 1 and R 3 or R 4 are combined, or R 2 and R 3 or R 4 are combined to form an aliphatic hydrocarbon ring, and particularly preferably R 1 and R 1 are combined. , R 3 or R 4 together, or R 2 and R 3 or R 4 together form a cycloalkyl ring having 4 to 8 carbon atoms.

中でも、上記の基R、R、R、及びRは、下記に詳述するカルボン酸化合物が副生物と類似の化合物となり、上記アセチル化合物が副生物の分離に特に効果を発揮し、さらに最終的に得られるクロメン化合物が優れた効果を発揮するためには、水素原子、アルキル基、アラルキル基、又はアリール基であることが好ましい。また、上記効果を発揮するためには、R、及びRが水素原子であり、RとRとが一緒になって炭素数4〜8のシクロアルキル環(ただし、RとRが結合している基本骨格の炭素原子を含むシクロアルキル環)を形成することが好ましい。これらの中でも、基R、R、R、及びRは、特に、水素原子、或いはアルキル基であるか、又は上記シクロアルキル環を形成することが好ましい。 Among them, in the groups R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 , the carboxylic acid compound described in detail below becomes a compound similar to the by-product, and the acetyl compound exhibits a particularly effective effect for separating the by-product. Furthermore, in order for the finally obtained chromene compound to exhibit excellent effects, it is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, or an aryl group. In order to exert the above effect, R 2 and R 4 are hydrogen atoms, and R 1 and R 3 are combined to form a cycloalkyl ring having 4 to 8 carbon atoms (provided that R 1 and R 3 It is preferable to form a cycloalkyl ring containing a carbon atom of the basic skeleton to which 3 is bonded. Among these, the groups R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are particularly preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or form the cycloalkyl ring.

(基R、及びR
前記式(1)において、基R、及びRは、それぞれ、アルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、ハロゲノアルコキシ基、アラルコキシ基、アミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し該窒素原子で結合する複素環基、シアノ基、ハロゲン原子、アラルキル基、又はアリール基である。
(Groups R 5 and R 6 )
In the formula (1), each of the groups R 5 and R 6 includes an alkyl group, a halogenoalkyl group, an alkoxy group, a halogenoalkoxy group, an aralkoxy group, an amino group, and a nitrogen atom as a heteroatom. It is a heterocyclic group, a cyano group, a halogen atom, an aralkyl group, or an aryl group to be bonded.

ここでアルキル基、アルコキシ基、アラルコキシ基、アミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し該窒素原子で結合する複素環基、シアノ基、ハロゲン原子、アラルキル基、及びアリール基は、前述の基R、R、R、及びRで説明した基と同様の基が好適な例として挙げられる。 Here, an alkyl group, an alkoxy group, an aralkoxy group, an amino group, a heterocyclic group having a nitrogen atom as a heteroatom and bonded by the nitrogen atom, a cyano group, a halogen atom, an aralkyl group, and an aryl group are the above-described groups R 1, R 2, R 3, and the same groups as described in R 4 are exemplified as preferable examples.

ハロゲノアルキル基としては、前記アルキル基の1、或いは2以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、又は臭素原子で置換されたものが挙げられる。これらの中でもフッ素原子で置換されたものが好適である。ハロゲノアルキル基として好適なものとして、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基等を挙げることができる。   Examples of the halogenoalkyl group include those in which one or two or more hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom. Among these, those substituted with fluorine atoms are preferred. Suitable examples of the halogenoalkyl group include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, and a trifluoromethyl group.

ハロゲノアルコシ基としては、前記アルコキシ基の1、或いは2以上の水素原子が、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子で置換されたものが挙げられる。これらの中でもフッ素原子で置換されたものが好適である。ハロゲノアルコキシ基として特に好適なものとして、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基等を挙げることができる。   Examples of the halogenoalkoxy group include those in which one or more hydrogen atoms of the alkoxy group are substituted with a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom. Among these, those substituted with fluorine atoms are preferred. Particularly preferred examples of the halogenoalkoxy group include a fluoromethoxy group, a difluoromethoxy group, and a trifluoromethoxy group.

中でも、前記基R、及びRは、下記に詳述するカルボン酸化合物が副生物と類似の化合物となり、上記アセチル化合物が副生物の分離に特に効果を発揮し、さらに最終的に得られるクロメン化合物が優れた効果を発揮するためには、アルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、ハロゲノアルコキシ基、アラルコキシ基、ハロゲン原子、アラルキル基、又はアリール基であることが好ましい。これらの中でも、基R、及びRは、特に、水素原子、アルキル基、ハロゲノアルキル基、又はハロゲン原子であることが好ましい。 Among them, the groups R 5 and R 6 are obtained in the following manner, in which the carboxylic acid compound described in detail below becomes a compound similar to the by-product, and the acetyl compound exerts a particularly effective effect on the separation of the by-product. In order for the chromene compound to exhibit excellent effects, it is preferably an alkyl group, a halogenoalkyl group, an alkoxy group, a halogenoalkoxy group, an aralkoxy group, a halogen atom, an aralkyl group, or an aryl group. Of these, the groups R 5 and R 6 are particularly preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a halogenoalkyl group, or a halogen atom.

(基R及びRの数a、b)
a、及びbは、RとRの置換基の数を表し、a、及びbは、0から3の整数である。a、及びbが2から3の整数である場合、各R、及びRは、それぞれ、同一の基であってもよく、互いに異なる基であってもよい。中でも、a、及びbは、本発明の効果を特に発揮するためには、0〜2の整数となることが好ましく、0〜1の整数となることが好ましい。
(Number of groups R 5 and R 6 a, b)
a and b represent the number of substituents of R 5 and R 6 , and a and b are integers of 0 to 3. When a and b are integers of 2 to 3, each R 5 and R 6 may be the same group or different from each other. Among these, a and b are preferably integers of 0 to 2 and are preferably integers of 0 to 1 in order to exhibit the effects of the present invention.

(好適なアセチル化合物)
このようなアセチル化合物は、弱塩基性条件での分液操作、又は再結晶により副生物の除去が可能であり、その結果、高純度のものを容易に得ることができる。また、該アセチル化合物は、保存安定性にも優れ、酸または塩基条件下の加水分解により、容易にナフトール化合物とすることができる。
(Preferred acetyl compound)
Such acetyl compounds can be removed by-products by liquid separation operation under weakly basic conditions or by recrystallization, and as a result, high purity compounds can be easily obtained. Further, the acetyl compound is excellent in storage stability and can be easily converted into a naphthol compound by hydrolysis under acid or base conditions.

そのため、本発明のアセチル化合物を使用することにより、生産工程の多いナフトール化合物、及びクロメン化合物の収率、製造条件を改善することができる。これらアセチル化合物の中でも、特に上記効果が発揮されるものとして、以下のアセチル化合物が挙げられる。   Therefore, the use of the acetyl compound of the present invention can improve the yield and production conditions of naphthol compounds and chromene compounds with many production steps. Among these acetyl compounds, the following acetyl compounds are particularly exemplified as those that exhibit the above effects.

Figure 2010270092
Figure 2010270092

次に、このアセチル化合物の製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of this acetyl compound is demonstrated.

(アセチル化合物の製造方法)
本発明のアセチル化合物は、下記式(2)
(Method for producing acetyl compound)
The acetyl compound of the present invention has the following formula (2)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

(式中、R、R、R、R、R、R、a、及びbは、前記式(1)におけるものと同義である。)
で示されるカルボン酸化合物を無水酢酸、及び酢酸塩存在下にて反応させることにより製造することができる。
先ず、前記式(2)で示されるカルボン酸化合物について説明する。
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , a, and b have the same meanings as those in the formula (1).)
Can be produced by reacting in the presence of acetic anhydride and acetate.
First, the carboxylic acid compound represented by the formula (2) will be described.

(アセチル化合物原料であるカルボン酸化合物、及び副生物)
前記式(2)で示されるカルボン酸化合物は、特許文献1に記載されている通り、公知の化合物である。そのため、このカルボン酸化合物は、公知の方法、例えば、特許文献1に記載のグリニヤ法で製造することができる。ただし、以下にこのカルボン酸化合物の製造方法を説明するが、このカルボン酸化合物を製造する際には、類似の構造を有する副生物が生じる。
(Carboxylic acid compounds that are acetyl compound raw materials and by-products)
The carboxylic acid compound represented by the formula (2) is a known compound as described in Patent Document 1. Therefore, this carboxylic acid compound can be produced by a known method, for example, the Grignard method described in Patent Document 1. However, although the manufacturing method of this carboxylic acid compound is demonstrated below, when manufacturing this carboxylic acid compound, the by-product which has a similar structure arises.

(カルボン酸化合物の製造1 グリニヤ法)
このグリニヤ法により前記式(2)で示されるカルボン酸化合物を製造する方法をより詳細に説明する。
(Production of carboxylic acid compound 1 Grignard method)
A method for producing the carboxylic acid compound represented by the formula (2) by the Grignard method will be described in more detail.

2−ブロモフェニル酢酸誘導体を、公知の方法により下記式(6)で示されるオルトエステル誘導体へと変換した後、金属マグネシウムと反応させて下記式(7)で示されるグリニヤ試薬(7)とする。このグリニヤ試薬(7)を、50〜70℃にてテトラロン誘導体と反応させた後、酸、及び塩基を加えてオルトエステル体(8)を加水分解し、下記式(2)で示されるカルボン酸化合物を製造する。この際、副生物としてフェニル酢酸(下記式(9)の化合物)が生成される。   A 2-bromophenylacetic acid derivative is converted into an ortho ester derivative represented by the following formula (6) by a known method, and then reacted with metallic magnesium to obtain a Grignard reagent (7) represented by the following formula (7). . The Grignard reagent (7) is reacted with a tetralone derivative at 50 to 70 ° C., and then an acid and a base are added to hydrolyze the orthoester (8) to obtain a carboxylic acid represented by the following formula (2). A compound is produced. At this time, phenylacetic acid (a compound of the following formula (9)) is generated as a by-product.

Figure 2010270092
Figure 2010270092

以上のような反応によりカルボン酸化合物を製造することができる。ただし、本発明者等の検討によれば、上記方法においては、副生されるグリニヤ試薬由来の副生物(フェニル酢酸)が、全体の中、60〜70%程度生じる。この副生物は、カルボン酸化合物と構造が類似しており、また生成量も多いため、この時点での分離が困難である。   A carboxylic acid compound can be produced by the reaction as described above. However, according to the study by the present inventors, in the above method, a by-product (phenylacetic acid) derived from a Grignard reagent as a by-product is produced in about 60 to 70% in the whole. This by-product is similar in structure to the carboxylic acid compound and has a large production amount, so that separation at this point is difficult.

このような副生物をより低減するためには、以下に示す金属ハロゲン交換反応を利用する方法を採用することが好ましい。次に、この方法について説明する。   In order to further reduce such by-products, it is preferable to employ a method utilizing a metal halogen exchange reaction shown below. Next, this method will be described.

(カルボン酸化合物の製造方法2 金属ハロゲン交換反応)
前記副生物をより低減し、アセチル化合物の収率を向上するためには、前記式(2)で示されるカルボン酸化合物は、金属ハロゲン交換反応を利用する方法で製造することが好ましい。具体的には、以下の方法でカルボン酸化合物を製造することができる。
(Production Method 2 of Carboxylic Acid Compound Metal Halogen Exchange Reaction)
In order to further reduce the by-product and improve the yield of the acetyl compound, the carboxylic acid compound represented by the formula (2) is preferably produced by a method utilizing a metal halogen exchange reaction. Specifically, the carboxylic acid compound can be produced by the following method.

先ず、2−ブロモフェニル酢酸誘導体を、公知の方法により下記式(6)で示されるオルトエステル化合物へと変換する。これに、塩基(例えば、n−ブチルリチウム)存在下、0〜5℃にてテトラロン誘導体を反応させ、次いで、酸、及び塩基を加えてオルトエステル体(8)を加水分解することにより、下記式(2)で示されるカルボン酸体を製造することができる。この際、フェニル酢酸(下記式(9)で示される化合物)が副生物として生成する。   First, the 2-bromophenylacetic acid derivative is converted into an orthoester compound represented by the following formula (6) by a known method. By reacting this with a tetralone derivative at 0 to 5 ° C. in the presence of a base (for example, n-butyllithium), and then adding an acid and a base to hydrolyze the orthoester (8), A carboxylic acid compound represented by the formula (2) can be produced. At this time, phenylacetic acid (a compound represented by the following formula (9)) is generated as a by-product.

Figure 2010270092
Figure 2010270092

上記反応によれば、副生物の生成が少なく(ただし、40〜50%程度副生物が生成する)、収率良く、カルボン酸化合物を製造することができる。この反応について詳細に説明する。   According to the above reaction, the production of by-products is small (however, by-products are produced in about 40 to 50%), and the carboxylic acid compound can be produced with good yield. This reaction will be described in detail.

(金属ハロゲン交換反応 塩基)
この金属ハロゲン交換反応に用いる塩基としては、特に限定されず、n−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム、またはt−ブチルリチウムを用いることができる。ブチルリチウムの使用量は、特に制限されないが、原料であるオルトエステル体1モルに対して、1〜10モルとすることが好ましく、さらに1〜5モルとすることが好ましく、特に1〜3モルとすることが好ましい。
(Metal halogen exchange reaction base)
The base used for the metal halogen exchange reaction is not particularly limited, and n-butyllithium, s-butyllithium, or t-butyllithium can be used. The amount of butyllithium used is not particularly limited, but is preferably 1 to 10 mol, more preferably 1 to 5 mol, particularly 1 to 3 mol, relative to 1 mol of the orthoester as a raw material. It is preferable that

また、この反応は、有機溶媒中で行うことが好ましい。反応溶媒としては、反応に対して不活性で、原料を溶解するものであれば特に限定されず、例えばエーテル類、具体的にはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、又は芳香族炭素類、具体的には、トルエン、ベンゼン等の溶媒を使用することができる。反応溶媒の使用量も、特に制限されないが、釜収率を考慮すると、オルトエステル化合物の1質量部に対して、3〜200質量とすることが好ましく、さらに5〜100質量部とすることが好ましく、特に10〜50質量部とすることが好ましい。   In addition, this reaction is preferably performed in an organic solvent. The reaction solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction and dissolves the raw material. For example, ethers, specifically tetrahydrofuran, diethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, or aromatic carbon In particular, solvents such as toluene and benzene can be used. The amount of the reaction solvent used is not particularly limited, but considering the kettle yield, it is preferably 3 to 200 parts by mass, more preferably 5 to 100 parts by mass with respect to 1 part by mass of the orthoester compound. Particularly preferred is 10 to 50 parts by mass.

反応温度は、−100℃〜室温とすることが好ましく、特に−80〜10℃とすることが好ましい。また、反応時間は、目的とする化合物の収量を確認して適宜決定すればよいが、通常、0.1〜10時間とすることが好ましく、さらに0.5〜5時間とすることが好ましい。   The reaction temperature is preferably −100 ° C. to room temperature, particularly preferably −80 to 10 ° C. The reaction time may be appropriately determined by confirming the yield of the target compound, but is usually preferably 0.1 to 10 hours, and more preferably 0.5 to 5 hours.

(オルトエステル部分の加水分解)
上記反応後、オルトエステル体を加水分解するために、金属ハロゲン交換反応により得られた反応溶液と酸、及び塩基とを混合する。酸、及び塩基は、酸を混合した後、次いで、塩基を混合することが好ましい。使用する酸としては、特に制限されるものではなく、無機の酸、例えば塩酸、硫酸等を使用することができ、酸の使用量は、オルトエステル1モルに対して、5〜50倍程度である。また、使用する塩基としては、特に制限されるものではなく、無機塩基、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウムを使用することでき、塩基の使用量は、オルトエステル1モルに対して、5〜50倍程度である。
(Hydrolysis of ortho ester moiety)
After the reaction, in order to hydrolyze the orthoester, the reaction solution obtained by the metal halogen exchange reaction is mixed with an acid and a base. The acid and the base are preferably mixed after the acid is mixed. The acid to be used is not particularly limited, and an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid can be used. The amount of the acid used is about 5 to 50 times with respect to 1 mol of the ortho ester. is there. The base to be used is not particularly limited, and inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide can be used. The amount of the base used is 1 mol of orthoester. About 5 to 50 times.

以上の通り、グリニヤ法、又は金属ハロゲン交換反応の何れの方法を使用しても、上記副生物(フェニル酢酸)がカルボン酸化合物と同時に生成し、これら(カルボン酸化合物と副生物)を分離するのは構造が類似しているため困難である。精製の度合いにもよるが、前記グリニヤ法では、副生物(フェニル酢酸)が60〜70%含まれ、前記金属ハロゲン交換反応法では、副生物が40〜50%含まれる。   As described above, the above-mentioned by-product (phenylacetic acid) is produced at the same time as the carboxylic acid compound regardless of the Grignard method or the metal halogen exchange reaction, and these (carboxylic acid compound and by-product) are separated. Is difficult because of the similar structure. Depending on the degree of purification, the Grignard method contains 60 to 70% by-product (phenylacetic acid), and the metal halogen exchange reaction method contains 40 to 50% by-product.

本発明においては、前記式(2)で示されるカルボン酸化合物からアセチル化合物を製造するが、該カルボン酸化合物と前記副生物とが混在している状態でアセチル化合物を製造することができる。
次に、このカルボン酸化合物からアセチル化合物を製造する方法を説明する。
In the present invention, an acetyl compound is produced from the carboxylic acid compound represented by the formula (2), but the acetyl compound can be produced in a state where the carboxylic acid compound and the by-product are mixed.
Next, a method for producing an acetyl compound from this carboxylic acid compound will be described.

(カルボン酸化合物からアセチル化合物を製造する方法)   (Method for producing acetyl compound from carboxylic acid compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

本発明において、前記式(2)で示されるカルボン酸化合物から前記式(1)で示されるアセチル化合物を製造するには、酢酸塩、及び無水酢酸存在下にて該カルボン酸化合物を反応させればよい。この反応は攪拌下で行うことが好ましい。なお、この際、反応系には前記副生物が含まれていてもよい。この反応においては、該副生物は反応に関与しないため、前記式(2)で示されるカルボン酸化合物のみが前記式(1)で示されるアセチル化合物となる。   In the present invention, in order to produce the acetyl compound represented by the formula (1) from the carboxylic acid compound represented by the formula (2), the carboxylic acid compound can be reacted in the presence of acetate and acetic anhydride. That's fine. This reaction is preferably carried out with stirring. At this time, the by-product may be contained in the reaction system. In this reaction, since the by-product does not participate in the reaction, only the carboxylic acid compound represented by the formula (2) becomes the acetyl compound represented by the formula (1).

本発明において、無水酢酸の使用量は、特に制限されないが、前記式(2)で示されるカルボン酸化合物1モルに対して、1〜100モルであることが好ましく、さらに1〜70モルであることが好ましく、特に2〜50モルであることが好ましい。   In the present invention, the amount of acetic anhydride to be used is not particularly limited, but is preferably 1 to 100 mol, more preferably 1 to 70 mol, relative to 1 mol of the carboxylic acid compound represented by the formula (2). It is preferable that it is 2-50 mol especially.

また、酢酸塩としては、特に制限されないが、酢酸のアルカリ金属塩、具体的には、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、又は酢酸セシウム等を挙げることができる。その中でも、製造費用の面から、酢酸ナトリウム、又は酢酸カリウムを使用することが好ましい。酢酸塩の使用量も、特に制限されないが、攪拌効率の点から、カルボン酸化合物1モルに対して、0.1〜10モルとすることが好ましく、さらに0.5〜5モルとすることが好ましく、特に0.8〜1.5モルとすることが好ましい。   The acetate is not particularly limited, and examples thereof include an alkali metal salt of acetic acid, specifically sodium acetate, potassium acetate, lithium acetate, cesium acetate and the like. Among these, it is preferable to use sodium acetate or potassium acetate from the viewpoint of production cost. The amount of acetate used is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10 mol, more preferably 0.5 to 5 mol, with respect to 1 mol of the carboxylic acid compound, from the viewpoint of stirring efficiency. Particularly preferred is 0.8 to 1.5 mol.

この反応は、無溶媒、あるいは反応溶媒を用いても行うことができる。反応溶媒を使用する場合には、反応に対して不活性であり、前記式(2)で示されるカルボン酸化合物を溶解するものであれば特に限定されず、芳香族炭化水素系の溶媒、具体的にはトルエン、キシレン、ベンゼン、また ハロゲン系の溶媒、具体的にはクロロホルム、ジクロロメタン等の溶媒を使用することができる。反応溶媒の使用量も、特に制限されないが、釜収率を考慮すると、カルボン酸化合物1質量部に対して、3〜1000質量部とすることが好ましく、さらに5〜300質量部とすることが好ましく、特に10〜100質量部とすることが好ましい。   This reaction can be carried out without solvent or using a reaction solvent. When a reaction solvent is used, the reaction solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction and dissolves the carboxylic acid compound represented by the formula (2). Specifically, toluene, xylene, benzene, or halogen solvents such as chloroform or dichloromethane can be used. The amount of reaction solvent used is not particularly limited, but considering the kettle yield, it is preferably 3 to 1000 parts by mass, and more preferably 5 to 300 parts by mass with respect to 1 part by mass of the carboxylic acid compound. Particularly preferred is 10 to 100 parts by mass.

また、この反応は、加熱して行うことが好ましい。その際の反応温度は、室温以上となるように加熱すればよく、具体的には室温以上200℃以下とすることが好ましく、さらに50℃以上150℃以下とすることが好ましい。また、反応時間は、目的とする化合物の収量に応じて適宜決定すればよいが、通常、0.01〜48時間とすることが好ましく、さらに0.1〜24時間とすることが好ましい。   Further, this reaction is preferably performed by heating. What is necessary is just to heat so that the reaction temperature in that case may become room temperature or more, Specifically, it is preferable to set it as room temperature or more and 200 degrees C or less, and also it is preferable to set it as 50 degrees C or more and 150 degrees C or less. The reaction time may be appropriately determined according to the yield of the target compound, but is usually preferably 0.01 to 48 hours, and more preferably 0.1 to 24 hours.

また、カルボン酸化合物からアセチル化合物を合成する反応は、カルボン酸化合物、酢酸塩、無水酢酸、及び反応溶媒の全てを反応容器に仕込んでから攪拌混合する方法、カルボン酸化合物、無水酢酸、及び反応溶媒の混合液に、酢酸塩を加えて攪拌混合する方法、 酢酸塩、及び無水酢酸の混合溶液に、カルボン酸化合物(反応溶媒に溶解したものでもよい)を加える方法等、公知の固液反応方法が特に制限なく採用できる。   In addition, the reaction for synthesizing an acetyl compound from a carboxylic acid compound is a method in which all of the carboxylic acid compound, acetate salt, acetic anhydride, and reaction solvent are charged in a reaction vessel and then stirred and mixed. A known solid-liquid reaction, such as a method in which acetate is added to a solvent mixture and stirring and mixing, a method in which a carboxylic acid compound (which may be dissolved in a reaction solvent) is added to a mixed solution of acetate and acetic anhydride, etc. The method can be adopted without any particular limitation.

(アセチル化合物の精製、および保存安定性)
上記のような反応条件により前記式(1)で示されるアセチル化合物を製造することができる。反応終了後は、過剰の無水酢酸を留去したのち、水に相溶し難い有機溶媒、及び塩基性水溶液を加えて分液することにより、目的物(アセチル化合物)を単離することができる。また、この時、分液した有機層(水に相溶し難い有機溶媒)を弱塩基性の水溶液で洗浄することで、不純物として含まれている副生物を容易に除去できる。
(Purification and storage stability of acetyl compounds)
The acetyl compound represented by the formula (1) can be produced by the reaction conditions as described above. After completion of the reaction, after distilling off excess acetic anhydride, the target product (acetyl compound) can be isolated by adding an organic solvent that is not compatible with water and a basic aqueous solution, followed by liquid separation. . At this time, the by-product contained as impurities can be easily removed by washing the separated organic layer (an organic solvent that is hardly compatible with water) with a weakly basic aqueous solution.

具体的にこのアセチル化合物の精製について説明する。過剰の無水酢酸を留去した後、水と相溶し難い溶媒、具体的には、トルエン、ベンゼン、酢酸エチル、ジクロロメタン、クロロホルム等を無水酢酸留去後の釜残重量に対して、好ましくは10〜100倍、さらに好ましくは20〜40倍加える。次いで、塩基性の無機塩水溶液、具体的には5〜20質量%の重曹水、又は5〜20質量%の炭酸カリウム水溶液を該釜残重量に対して、好ましくは5〜50倍、さらに好ましくは10〜20倍加えて分液操作を行う。このような操作をおこなうことにより、フェニル酢酸(前記式(8)で示される副生物)を1%以下にまで低減することができる。   The purification of this acetyl compound will be specifically described. After distilling off excess acetic anhydride, it is preferable to use a solvent that is hardly compatible with water, specifically toluene, benzene, ethyl acetate, dichloromethane, chloroform, etc. Add 10 to 100 times, more preferably 20 to 40 times. Subsequently, a basic inorganic salt aqueous solution, specifically 5 to 20% by mass of sodium bicarbonate water, or 5 to 20% by mass of potassium carbonate aqueous solution is preferably 5 to 50 times, more preferably, relative to the residual weight of the kettle. Add 10 to 20 times and perform a liquid separation operation. By performing such an operation, phenylacetic acid (a by-product represented by the formula (8)) can be reduced to 1% or less.

さらに、カラムクロマトグラフ法(展開溶媒としては、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素系の溶媒、トルエン、ベンゼンのような芳香族炭化水素系の溶媒、クロロホルム、ジクロロメタンのようなハロゲン系の溶媒、又は酢酸エチル、メタノールのような極性溶媒を使用することができ、これらの混合溶媒を使用することもできる。)や、エタノール、イソプロパノールのようなアルコール系の溶媒で再結晶する方法により、目的物であるアセチル化合物を純度98%以上で得ることができる。   In addition, column chromatography (developing solvents include aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and heptane, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and benzene, and halogen solvents such as chloroform and dichloromethane. Or a polar solvent such as ethyl acetate or methanol, or a mixed solvent thereof may be used.) Or by recrystallization with an alcohol solvent such as ethanol or isopropanol. The product acetyl compound can be obtained with a purity of 98% or more.

このように、副生物(フェニル酢酸)と構造が類似している前記式(2)で示されるカルボン酸化合物を前記式(1)で示されるアセチル化合物とすることにより、分離が困難であった副生物の除去を簡単に行うことが可能となる。さらに、得られたアセチル化合物は、化合物の種類にもよるが、非常に安定な化合物であり、室温で1ヶ月以上保存しても、着色、分解は見られない。本発明者等の検討によれば、室温で3ヶ月保存しても、着色、分解は見られなかった。一方、下記の実施例にて詳述するが、前記式(3)で示されるナフトール化合物は、化合物の種類にもよるが、室温で6日放置すると着色が見られた。   Thus, it was difficult to separate the carboxylic acid compound represented by the formula (2) having a structure similar to that of the byproduct (phenylacetic acid) into the acetyl compound represented by the formula (1). By-products can be easily removed. Furthermore, although the obtained acetyl compound depends on the kind of the compound, it is a very stable compound, and even when stored at room temperature for 1 month or more, coloring and decomposition are not observed. According to the study by the present inventors, coloring and decomposition were not observed even when stored at room temperature for 3 months. On the other hand, as will be described in detail in the following examples, the naphthol compound represented by the formula (3) was colored when allowed to stand at room temperature for 6 days, depending on the type of the compound.

なお、前記方法で精製されたアセチル化合物は、プロトン核磁気共鳴スペクトル(1H−NMR)、質量分析、13C−核磁気共鳴スペクトル(13C−NMR)を測定することにより、その構造を同定することができる。
次に、このアセチル化合物からナフトール化合物を製造する方法について説明する。
The structure of the acetyl compound purified by the above method is identified by measuring proton nuclear magnetic resonance spectrum ( 1 H-NMR), mass spectrometry, and 13 C-nuclear magnetic resonance spectrum ( 13 C-NMR). can do.
Next, a method for producing a naphthol compound from this acetyl compound will be described.

(ナフトール化合物の製造方法)
前記方法で精製されたアセチル化合物は、酸、又は塩基により脱アセチル化を行い、下記式(3)
(Method for producing naphthol compound)
The acetyl compound purified by the above method is deacetylated with an acid or a base, and the following formula (3)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

(式中、R、R、R、R、R、R、a、及びbは、前記式(1)におけるものと同義である。)
で示されるナフトール化合物とすることができる。
先ず酸を使用した脱アセチル化の反応について説明する。
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , a, and b have the same meanings as those in the formula (1).)
It can be set as the naphthol compound shown by these.
First, the reaction of deacetylation using an acid will be described.

(酸を使用した脱アセチル化の反応)
使用する酸の種類は、特に制限されないが、塩酸、硫酸、燐酸、トリフルオロ酢酸等を使用することができる。中でも、経済性の理由から、塩酸を使用することが好ましい。また、酸の使用量は、特に制限されないが、アセチルナフトール体(アセチル化合物)1モルに対して、0.01〜10モルとすることが好ましく、さらに0.05〜5モルとすることが好ましい。反応の性質上、触媒量の酸で反応することから、特に0.08〜1モルとすることが好ましい。
(Deacetylation reaction using acid)
Although the kind of acid to be used is not particularly limited, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, trifluoroacetic acid and the like can be used. Among these, hydrochloric acid is preferably used for economic reasons. The amount of acid used is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 10 mol, more preferably 0.05 to 5 mol, per 1 mol of acetylnaphthol (acetyl compound). . In view of the nature of the reaction, the reaction is carried out with a catalytic amount of acid, so 0.08 to 1 mol is particularly preferred.

また、酸を用いて脱アセチル化を行う場合、有機溶媒が存在しない状態で実施することもできるが、得られるナフトール化合物の分解等を考慮すると、有機溶媒中で実施することが好ましい。有機溶媒を使用する場合、該溶媒としては、反応に対して不活性で、原料を溶解するものであれば特に限定されず、アルコール系の溶媒を用いるのが好適であり、特にメタノール、エタノール、n−プロパノール等の溶媒を使用することができる。この有機溶媒の使用量も、特に制限されないが、アセチルナフトール体(アセチル化合物)1質量部に対して、1〜100質量部とすることが好ましく、さらに2〜50質量部とすることが好ましい。   In addition, when deacetylation is performed using an acid, it can be carried out in the absence of an organic solvent, but it is preferably carried out in an organic solvent in view of decomposition of the resulting naphthol compound. When an organic solvent is used, the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction and dissolves the raw material, and it is preferable to use an alcohol-based solvent, particularly methanol, ethanol, A solvent such as n-propanol can be used. The amount of the organic solvent used is not particularly limited, but is preferably 1 to 100 parts by mass, and more preferably 2 to 50 parts by mass with respect to 1 part by mass of the acetylnaphthol compound (acetyl compound).

また、反応温度は、酸を使用する場合には、室温以上200℃以下とすることが好ましく、さらに50℃以上150℃以下とすることが好ましい。反応時間は、目的とする化合物の収量に応じて適宜決定すればよいが、通常、0.1〜72時間とすることが好ましく、さらに1〜48時間とすることが好ましい。   Moreover, when using an acid, it is preferable that reaction temperature shall be room temperature or more and 200 degrees C or less, and it is preferable to set it as 50 degrees C or more and 150 degrees C or less. The reaction time may be appropriately determined according to the yield of the target compound, but is usually preferably 0.1 to 72 hours, and more preferably 1 to 48 hours.

なお、得られるナフトール化合物の着色を低減するためには、下記に詳述する塩基を使用するよりも、前記酸を使用する方が好ましい。
次に塩基を使用した脱アセチル化の反応について説明する。
In addition, in order to reduce the coloring of the naphthol compound obtained, it is preferable to use the acid rather than the base described in detail below.
Next, the deacetylation reaction using a base will be described.

(塩基を使用した脱アセチル化の反応)
使用する塩基は、特に制限はされないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、又はナトリウムメトキシド等を使用することができる。中でも、経済性を考慮すると、水酸化ナトリウムを使用することが好ましい。塩基の使用量も、特に制限されないが、アセチルナフトール体(アセチル化合物)1モルに対して、0.1〜50モルとすることが好ましく、さらに1〜30モルとすることが好ましい。中でも、反応時間の短縮および副反応の抑制の点から、特に1〜10モルとすることが好ましい。
(Deacetylation reaction using a base)
The base to be used is not particularly limited, but sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium methoxide, or the like can be used. Among these, it is preferable to use sodium hydroxide in consideration of economy. The amount of the base used is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 50 mol, more preferably 1 to 30 mol, relative to 1 mol of the acetylnaphthol compound (acetyl compound). Especially, it is preferable to set it as 1-10 mol especially from the point of shortening of reaction time and suppression of a side reaction.

また、塩基を用いて脱アセチル化を行う場合、有機溶媒が存在しない状態で実施することもできるが、得られるナフトール化合物の分解等を考慮すると、有機溶媒中で実施することが好ましい。有機溶媒を使用する場合、該溶媒としては、反応に対して不活性で、原料を溶解するものであれば特に限定されず、水に対し親和性の高い溶媒を用いるのが好適である。具体的にはメタノール、エタノール、n−プロパノール、テトラヒドロフラン等の溶媒を使用することができる。この有機溶媒の使用量も、特に制限されないが、アセチルナフトール体(アセチル化合物)1質量部に対して、1〜100質量部とすることが好ましく、さらに2〜50質量部とすることが好ましい。   In addition, when deacetylation is performed using a base, it can be carried out in the absence of an organic solvent, but it is preferably carried out in an organic solvent in view of decomposition of the resulting naphthol compound. When an organic solvent is used, the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction and dissolves the raw material, and it is preferable to use a solvent having high affinity for water. Specifically, solvents such as methanol, ethanol, n-propanol, and tetrahydrofuran can be used. The amount of the organic solvent used is not particularly limited, but is preferably 1 to 100 parts by mass, and more preferably 2 to 50 parts by mass with respect to 1 part by mass of the acetylnaphthol compound (acetyl compound).

塩基を使用する場合、反応温度は、特に制限はされないが、−30℃以上100℃以下とすることが好ましく、さらに−10℃以上50℃以下とすることが好ましい。また、反応時間は、目的とする化合物の収量に応じて適宜決定すればよいが、0.01〜48時間とすることが好ましく、さらに0.1〜24時間とすることが好ましい。   In the case of using a base, the reaction temperature is not particularly limited, but is preferably −30 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and more preferably −10 ° C. or higher and 50 ° C. or lower. The reaction time may be appropriately determined according to the yield of the target compound, but is preferably 0.01 to 48 hours, and more preferably 0.1 to 24 hours.

(ナフトール化合物の精製)
前記の通り、酸、又は塩基を用いて脱アセチル化の反応を終了した後は、反応系を中和し、使用した溶媒を留去し、さらに、水に相溶し難い有機溶媒、例えば、トルエン、酢酸エチル、ジクロロメタン、及び水を加えて分液することにより、目的物(ナフトール化合物)を単離する。本発明においては、前記アセチル化合物の時点で副生物を除去することができるため、このナフトール化合物の単離においては、塩基性溶液を使用する必要がない。そのため、ナフトール化合物を高収率で得ることができる。また、得られたナフトール化合物は必要に応じて、カラムクロマトグラフ法や再結晶等の方法を用いることで、より精製を行うことも可能である。
(Purification of naphthol compounds)
As described above, after completion of the deacetylation reaction using an acid or a base, the reaction system is neutralized, the solvent used is distilled off, and an organic solvent that is not easily compatible with water, for example, Toluene, ethyl acetate, dichloromethane, and water are added for liquid separation, and the target product (naphthol compound) is isolated. In the present invention, since a by-product can be removed at the time of the acetyl compound, it is not necessary to use a basic solution in the isolation of the naphthol compound. Therefore, a naphthol compound can be obtained with a high yield. Further, the obtained naphthol compound can be further purified by using a method such as column chromatography or recrystallization, if necessary.

このように本発明のアセチル化合物を使用すれば、容易に高純度のナフトール化合物を収率よく製造することができる。このナフトール化合物は、化合物の性質上、酸化劣化し易いため保存安定性が低い。そのため、本発明の保存安定性の高いアセチル化合物を経てナフトール化合物を製造する方法は、工業的に非常に有利な方法である。
次に、得られたナフトール化合物からクロメン化合物を合成する方法について説明する。
Thus, if the acetyl compound of the present invention is used, a high-purity naphthol compound can be easily produced with good yield. This naphthol compound is low in storage stability because of its oxidative deterioration due to the properties of the compound. Therefore, the method for producing a naphthol compound via the highly stable acetyl compound of the present invention is an industrially very advantageous method.
Next, a method for synthesizing a chromene compound from the obtained naphthol compound will be described.

(クロメン化合物の製造)
本発明においては、前記方法によりナフトール化合物を製造した後、次いで、得られたナフトール化合物と下記式(4)
(Manufacture of chromene compounds)
In the present invention, after the naphthol compound is produced by the above method, the obtained naphthol compound and the following formula (4)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

(式中、
、及びRは、それぞれ、アルキル基、アルコキシ基、アラルコシ基、アミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し該窒素原子で結合する複素環基、シアノ基、ハロゲン原子、アラルキル基、又はアリール基であり、
c、及びdは、それぞれ、0〜3の整数であり、c、及びdが2〜3の整数であるとき、各R、及びRは、それぞれ、同一の基であってもよく、互いに異なる基であってもよい。)で示されるプロパルギル化合物を反応させることにより、下記式(5)
(Where
R 7 and R 8 are each an alkyl group, an alkoxy group, an aralkoxy group, an amino group, a heterocyclic group having a nitrogen atom as a hetero atom, and bonded by the nitrogen atom, a cyano group, a halogen atom, an aralkyl group, or An aryl group,
c and d are each an integer of 0 to 3, and when c and d are an integer of 2 to 3, each R 7 and R 8 may be the same group, Different groups may be used. By reacting a propargyl compound represented by the following formula (5):

Figure 2010270092
Figure 2010270092

(式中、R、R、R、R、R、R、a、及びbは、前記式(1)におけるものと同義であり、
、R、c、及びdは、前記式(4)におけるものと同義である。)
で示されるクロメン化合物を製造することができる。
先ず、プロパルギル化合物について説明する。
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , a, and b have the same meanings as those in formula (1),
R 7 , R 8 , c, and d have the same meaning as in the formula (4). )
The chromene compound shown by these can be manufactured.
First, the propargyl compound will be described.

(プロパルギル化合物)
前記ナフトール化合物は、前記式(4)で示されるプロパルギル化合物と反応させることにより、フトクロミック特性に優れたクロメン化合物を製造することができる。このプロパルギル化合物は、対応する構造のケトン誘導体とリチウムアセチリド等の金属アセチレン化合物とを反応させることにより合成することができる。
(Propargyl compound)
The naphthol compound can be reacted with the propargyl compound represented by the formula (4) to produce a chromene compound having excellent ftchromic properties. This propargyl compound can be synthesized by reacting a ketone derivative having a corresponding structure with a metal acetylene compound such as lithium acetylide.

(基R、及び基R
前記式(4)において、基R、及びRは、アルキル基、アルコキシ基、アラルコシ基、アミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し該窒素原子で結合する複素環基、シアノ基、ハロゲン原子、アラルキル基、又はアリール基である。具体的なこれらの基は、前述の基R、R、R、及びRで説明した基と同様の基が好適な例として挙げられる。
(Group R 7 and Group R 8 )
In the formula (4), the groups R 7 and R 8 are an alkyl group, an alkoxy group, an aralkoxy group, an amino group, a heterocyclic group having a nitrogen atom as a hetero atom, and bonded by the nitrogen atom, a cyano group, a halogen, An atom, an aralkyl group, or an aryl group. Specific examples of these groups include the same groups as those described for the groups R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 described above.

中でも、上記の基R、及びRは、前記ナフトール化合物と反応させて得られるクロメン化合物が優れた効果を発揮するためには、水素原子、メチル基、プロピル基、メトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ジメチルアミノ基、又はモルホリノ基であることが好ましい。その中でも、上記の基R、及びRは、特に、メチル基、又はメトキシ基であることが好ましい。 Among them, the above groups R 7 and R 8 are preferably a hydrogen atom, a methyl group, a propyl group, a methoxy group, a propoxy group, in order for the chromene compound obtained by reacting with the naphthol compound to exert an excellent effect. An isopropoxy group, a dimethylamino group, or a morpholino group is preferable. Among them, the groups R 7 and R 8 are particularly preferably a methyl group or a methoxy group.

(基R、及びRの数c、d)
c、及びdは、RとRの置換基の数を表し、それぞれ、0〜3の整数であり、c、及びdが2〜3の整数であるとき、各R、及びRは、それぞれ、同一の基であってもよく、互いに異なる基であってもよい。
(Number of groups R 7 and R 8 c, d)
c and d represent the number of substituents of R 7 and R 8 , each of which is an integer of 0 to 3, and when c and d are integers of 2 to 3, each R 7 and R 8 May be the same group or different groups.

(ナフトール化合物とプロパルギル化合物との反応)
前記ナフトール化合物とプロパルギル化合物とは、公知の方法、例えば、酸触媒存在下に両化合物を混合すればよい。このとき、ナフトール化合物、及びプロパルギル化合物を酸触媒に効果的に接触させるためには、有機溶媒を使用するのが好ましい。
(Reaction of naphthol compound with propargyl compound)
The naphthol compound and the propargyl compound may be mixed by a known method, for example, in the presence of an acid catalyst. At this time, in order to effectively contact the naphthol compound and the propargyl compound with the acid catalyst, it is preferable to use an organic solvent.

この反応において使用する酸触媒としては、特に限定されないが、有機及び無機の酸であればよく、具体的にはp−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、シリカゲル、酸性アルミナ等が使用できるが、反応収率の観点よりシリカゲルが好適である。   Although it does not specifically limit as an acid catalyst used in this reaction, What is necessary is just an organic and inorganic acid, Specifically, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, silica gel, acidic alumina, etc. can be used, but reaction Silica gel is preferred from the viewpoint of yield.

また、反応に使用する有機溶媒としては、反応に対して不活性で、原料を溶解するものであれば特に限定されず、芳香族炭化水素系の溶媒、具体的にはトルエン、キシレン、二トリル系の溶媒、具体的にはアセトニトリル、ハロゲン系の溶媒、具体的にはクロロホルム、ケトン系の溶媒、具体的にはメチルイソブチルケトン等の溶媒を使用することができる。反応溶媒の使用量も、特に制限されないが、釜収率を考慮すると、ナフトール化合物1質量部に対して、3〜1000質量部とすることが好ましく、さらに5〜300質量部とすることが好ましく、特に10〜100質量部とすることが好ましい。   The organic solvent used in the reaction is not particularly limited as long as it is inert to the reaction and dissolves the raw material, and is an aromatic hydrocarbon solvent, specifically toluene, xylene, nitrile. Solvents such as acetonitrile, specifically acetonitrile, halogen solvents, specifically chloroform, ketone solvents, and specifically methyl isobutyl ketone can be used. The amount of reaction solvent used is not particularly limited, but considering the yield of the kettle, it is preferably 3 to 1000 parts by mass, more preferably 5 to 300 parts by mass with respect to 1 part by mass of the naphthol compound. In particular, the content is preferably 10 to 100 parts by mass.

ナフトール化合物とプロパルギル化合物の使用量は、特に制限されないが、製造コストを考慮するとナフトール化合物1モルに対して、プロパルギル化合物を0.1〜5モル使用することが好ましく、さらに0.8〜2モル使用することが好ましく、特に0.9〜1.3モル使用することが好ましい。   The amount of the naphthol compound and propargyl compound used is not particularly limited. However, in consideration of production cost, it is preferable to use 0.1 to 5 mol of propargyl compound with respect to 1 mol of naphthol compound, and further 0.8 to 2 mol. It is preferable to use it, and it is especially preferable to use 0.9-1.3 mol.

また、ナフトール化合物とプロパルギル化合物との反応は、ナフトール化合物、プロパルギル化合物、酸触媒、及び有機溶媒の全てを反応容器に仕込んでから攪拌混合する方法、ナフトール化合物、プロパルギル化合物、及び有機溶媒の混合液に、酸触媒を加えて攪拌混合する方法、 酸触媒、反応溶媒の混合溶液に、ナフトール化合物とプロパルギル化合物(有機溶媒に溶解したものでもよい)を加える方法等、公知の固液反応方法が特に制限なく採用できる。   The reaction of the naphthol compound and the propargyl compound is carried out by mixing all of the naphthol compound, the propargyl compound, the acid catalyst, and the organic solvent in a reaction vessel and then stirring and mixing, a mixed solution of the naphthol compound, the propargyl compound, and the organic solvent. In particular, known solid-liquid reaction methods such as a method of adding an acid catalyst and stirring and mixing, a method of adding a naphthol compound and a propargyl compound (which may be dissolved in an organic solvent) to a mixed solution of an acid catalyst and a reaction solvent, etc. Can be used without restriction.

また、反応温度は、室温以上200℃以下とすることが好ましく さらに70℃以上130℃以下とすることが好ましい。反応時間は、目的とする化合物の収量に応じて適宜決定することができるが、通常、0.01〜50時間とすることが好ましく、さらに0.1〜15時間とすることが好ましい。   The reaction temperature is preferably room temperature or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 70 ° C. or higher and 130 ° C. or lower. Although reaction time can be suitably determined according to the yield of the target compound, it is usually preferably 0.01 to 50 hours, more preferably 0.1 to 15 hours.

反応終了後は、適当な有機溶媒、及び水を加えて分液することにより目的物を単離することができる。さらに、続いてカラムクロマトグラフ法や再結晶等の方法により、クロメン化合物を純度99 %以上で得ることができる。   After completion of the reaction, the desired product can be isolated by adding an appropriate organic solvent and water to separate the layers. Further, the chromene compound can be obtained with a purity of 99% or more by methods such as column chromatography and recrystallization.

このようにして得られるクロメン化合物は、下記式(5)   The chromene compound thus obtained has the following formula (5):

Figure 2010270092
Figure 2010270092

(式中、R、R、R、R、R、R、a、及びbは、前記式(1)におけるものと同義であり、
、R、c、及びdは、前記式(4)におけるものと同義である。)
で示され、フォトクロミック特性に優れた化合物となる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , a, and b have the same meanings as those in formula (1),
R 7 , R 8 , c, and d have the same meaning as in the formula (4). )
It becomes a compound excellent in photochromic characteristics.

本発明によれば、ナフトール化合物の前駆体であるアセチル化合物を使用することにより、クロメン化合物の製造条件も改善できる。該アセチル化合物は、長期間保存でき、さらに、容易にナフトール化合物に変換できる。そのため、該アセチル化合物は、数多くの生産工程を有するクロメン化合物の工業的な生産に非常に適している。   According to the present invention, by using an acetyl compound that is a precursor of a naphthol compound, the production conditions of the chromene compound can also be improved. The acetyl compound can be stored for a long period of time and can be easily converted to a naphthol compound. Therefore, the acetyl compound is very suitable for industrial production of chromene compounds having a number of production steps.

以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

製造例1(カルボン酸化合物の合成)   Production Example 1 (Synthesis of carboxylic acid compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

オルトエステル体I(238.0g、795.6 mmol)を無水トルエン(1190 ml)に溶解させた後、氷浴にて攪拌した。窒素雰囲気下、内温0℃にて1.6M n−ブチルリチウム−ヘキサン溶液(373.8 ml、875 mmol)を滴下し、30分間攪拌した。α−テトラロン−トルエン溶液(210.0g 重量比1:1)を滴下した後、氷浴を外して2時間攪拌した。反応終了後、5質量%塩化アンモニウム水溶液(400ml)を加えて1時間攪拌し、水層をトルエンにて抽出した。得られたトルエン溶液を減圧下、濃縮した。(化合物IIとIIIの選択率を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)にて測定したところ、化合物II:化合物III = 81:19であった。)
得られた化合物IIとIIIを含む反応残渣に対し、THF(680ml)を加えた後、18質量%塩酸(566ml)を加えて、60℃で2時間攪拌した。反応終了後、有機層を15質量%食塩水(500ml)で3回洗浄した。続いてトルエン(266ml)、水(268ml)および水酸化カリウム(53.4g、954.6mmol)を加えて50℃で2時間攪拌した。反応終了後、25℃に冷却した反応液に水(270ml)を加えて分液した。有機層を除去した後、水層に新たにトルエン(250ml)を加えて水層を洗浄した。水層に36質量%塩酸(136ml)を加えて水層のpHを1とした後、トルエン(250ml)を加えて、水層よりカルボン酸体IV(カルボン酸化合物)と化合物IIIを抽出した。 水(240ml)で2回洗浄し、カルボン酸体IV(カルボン酸化合物)と化合物IIIを含むトルエン溶液(480ml)を得た(化合物IVとIIIの選択率をHPLCにて測定したところ、化合物IV : 化合物III = 81 : 19であった)。
Ortho ester I (238.0 g, 795.6 mmol) was dissolved in anhydrous toluene (1190 ml) and stirred in an ice bath. Under a nitrogen atmosphere, a 1.6M n-butyllithium-hexane solution (373.8 ml, 875 mmol) was added dropwise at an internal temperature of 0 ° C., and the mixture was stirred for 30 minutes. An α-tetralone-toluene solution (210.0 g, weight ratio 1: 1) was added dropwise, the ice bath was removed, and the mixture was stirred for 2 hours. After completion of the reaction, a 5% by mass ammonium chloride aqueous solution (400 ml) was added and stirred for 1 hour, and the aqueous layer was extracted with toluene. The obtained toluene solution was concentrated under reduced pressure. (The selectivity of compounds II and III was measured by high performance liquid chromatography (HPLC) and found to be compound II: compound III = 81: 19.)
To the reaction residue containing the obtained compounds II and III, THF (680 ml) was added, 18% by mass hydrochloric acid (566 ml) was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, the organic layer was washed 3 times with 15% by mass brine (500 ml). Subsequently, toluene (266 ml), water (268 ml) and potassium hydroxide (53.4 g, 954.6 mmol) were added and stirred at 50 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, water (270 ml) was added to the reaction solution cooled to 25 ° C. to separate the layers. After removing the organic layer, toluene (250 ml) was newly added to the aqueous layer to wash the aqueous layer. 36% by mass hydrochloric acid (136 ml) was added to the aqueous layer to adjust the pH of the aqueous layer to 1, and then toluene (250 ml) was added to extract carboxylic acid form IV (carboxylic acid compound) and compound III from the aqueous layer. After washing twice with water (240 ml), a toluene solution (480 ml) containing carboxylic acid form IV (carboxylic acid compound) and compound III was obtained (the selectivity of compounds IV and III was measured by HPLC. : Compound III = 81: 19).

実施例1(アセチル化合物の合成)   Example 1 (Synthesis of acetyl compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

製造例1で得たカルボン酸体IVと化合物III(副生物)を含むトルエン溶液(238ml)を減圧下濃縮して容量100mlとした後、この溶液を無水酢酸(545.2ml、5757.6mmol)、及び酢酸ナトリウム(18.9g、230.7mmol)中に100℃にて滴下し、110℃で2時間攪拌した。反応終了後、内温45℃にて水(244.0kg、13551.6 mmol)を滴下し、15分間攪拌した。その後、分液して水層を除去し、さらに有機層(トルエン層)を水(80ml)、及び5質量%炭酸水素化ナトリウム水溶液(80ml)にて2回洗浄して化合物IIIを除去し、さらに水(80 ml)で加え、再度、有機層を洗浄した。分液して水層を除去した後、減圧下、有機層を濃縮し、次いで、イソプロピルアルコール(333.0 ml)を加えて再結晶を行い、アセチルナフトール体(アセチル化合物)V(収量26.6g、3工程の収率23.2%)を白色固体として得た。得られたアセチルナフトール体V(アセチル化合物)の同定結果を以下に示す。
H−NMR(CDCl):2.39(s,3H), 2.70−2.82(m,4H),7.26−7.50(m,6H),7.79−7.83(m,1H),7.88−7.91(d,1H),8.49−8.54(m,1H)、 HPLC純度98.2%,
液体クロマトグラフ質量分析計(LCMS)による分子質量 289(M+1)。
The toluene solution (238 ml) containing the carboxylic acid form IV and compound III (byproduct) obtained in Production Example 1 was concentrated under reduced pressure to a volume of 100 ml, and then this solution was added to acetic anhydride (545.2 ml, 5757.6 mmol). And sodium acetate (18.9 g, 230.7 mmol) at 100 ° C. and stirred at 110 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, water (244.0 kg, 13551.6 mmol) was added dropwise at an internal temperature of 45 ° C., and the mixture was stirred for 15 minutes. Thereafter, liquid separation was performed to remove the aqueous layer, and the organic layer (toluene layer) was further washed twice with water (80 ml) and a 5% by mass aqueous sodium hydrogencarbonate solution (80 ml) to remove compound III. Further, water (80 ml) was added, and the organic layer was washed again. After liquid separation and removal of the aqueous layer, the organic layer was concentrated under reduced pressure. Then, isopropyl alcohol (333.0 ml) was added to perform recrystallization, and acetylnaphthol compound (acetyl compound) V (yield 26.26). 6 g, yield of 3 steps (23.2%) was obtained as a white solid. The identification result of the obtained acetylnaphthol body V (acetyl compound) is shown below.
1 H-NMR (CDCl 3 ): 2.39 (s, 3H), 2.70-2.82 (m, 4H), 7.26-7.50 (m, 6H), 7.79-7. 83 (m, 1H), 7.88-7.91 (d, 1H), 8.49-8.54 (m, 1H), HPLC purity 98.2%,
Molecular mass 289 (M + 1) by liquid chromatograph mass spectrometer (LCMS).

実施例2(ナフトール化合物の合成)   Example 2 (Synthesis of naphthol compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

窒素雰囲気下、実施例1で得られたアセチルナフトール体V (26.6g、92.3mmol)をメタノール(266.0 ml)に溶解し、36質量%塩酸(1.9g、 18.5mmol)を加え、還流温度で1時間攪拌した。反応終了後、25℃に冷却し、酢酸エチル(532.2 ml)、及び水(532.2 ml)を加えて分液した。有機層を5質量%塩水で洗浄後、溶媒を留去し、ナフトール体VI(ナフトール化合物)(20.7g、アセチルナフトール体Vからの収率91%、オルトエステル体Iからの収率21.1%)を得た。HPLC純度96.0%であった。   Under a nitrogen atmosphere, the acetylnaphthol compound V (26.6 g, 92.3 mmol) obtained in Example 1 was dissolved in methanol (266.0 ml), and 36 mass% hydrochloric acid (1.9 g, 18.5 mmol) was dissolved. The mixture was further stirred at reflux temperature for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to 25 ° C., and ethyl acetate (532.2 ml) and water (532.2 ml) were added for liquid separation. After the organic layer was washed with 5% by mass brine, the solvent was distilled off, and naphthol compound VI (naphthol compound) (20.7 g, 91% yield from acetylnaphthol compound V, 21% yield from orthoester compound I. 1%) was obtained. The HPLC purity was 96.0%.

実施例3(クロメン化合物の製造)   Example 3 (Production of chromene compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

窒素雰囲気下、実施例2で得られたナフトール体VI(18.6g、75.5 mmol)、およびプロパルギルアルコール体VII(18.7g、75.5 mmol)をトルエン(280ml)中に加えて攪拌し、シリカゲル(19.0g)を加えて、120℃で3時間攪拌した。水(140ml)を加えて計4回有機層を洗浄し、有機層を減圧下留去した。得られた反応残渣を再結晶(イソプロピルアルコール : アセトニトリル、10 : 2)を行って精製し、クロメン化合物VIII(15.4 g、収率44.0 %)を得た。HPLC純度99.4%であった。   Under a nitrogen atmosphere, the naphthol compound VI obtained in Example 2 (18.6 g, 75.5 mmol) and the propargyl alcohol compound VII (18.7 g, 75.5 mmol) were added to toluene (280 ml) and stirred. Silica gel (19.0 g) was added, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 3 hours. Water (140 ml) was added to wash the organic layer 4 times in total, and the organic layer was distilled off under reduced pressure. The obtained reaction residue was purified by recrystallization (isopropyl alcohol: acetonitrile, 10: 2) to obtain chromene compound VIII (15.4 g, yield 44.0%). The HPLC purity was 99.4%.

比較例1(ナフトール化合物の製造)   Comparative Example 1 (Production of naphthol compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

製造例1で得たカルボン酸体IVと化合物IIIを含むトルエン溶液(238ml、化合物IV : 化合物III = 81 : 19)に対して、トルエン(500ml)、及びポリリン酸(106.2g、596.7 mmol)を加えて、還流温度で7時間反応した。反応終了後、氷水(200ml)を加えて30分間攪拌した後、分液を行い、有機層を水(200ml)で洗浄した。有機層を5質量%炭酸水素化ナトリウム水溶液(200ml)で2回洗浄した後、水(200ml)で再度、有機層を洗浄した。減圧下、有機層を濃縮し、ナフトール体VI(ナフトール化合物)(15.5g、オルトエステル体Iからの収率15.8%)を得た。HPLC純度92.2%であった。   Toluene solution (238 ml, Compound IV: Compound III = 81: 19) containing carboxylic acid form IV and Compound III obtained in Production Example 1 was added to toluene (500 ml) and polyphosphoric acid (106.2 g, 596.7). mmol) was added and reacted at reflux temperature for 7 hours. After completion of the reaction, ice water (200 ml) was added and stirred for 30 minutes, followed by liquid separation, and the organic layer was washed with water (200 ml). The organic layer was washed twice with a 5% by mass aqueous sodium hydrogencarbonate solution (200 ml), and then washed again with water (200 ml). The organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain naphthol compound VI (naphthol compound) (15.5 g, yield from orthoester compound I 15.8%). The HPLC purity was 92.2%.

比較例2(クロメン化合物の製造)
比較例1で得られたナフトール体VIを用いた以外は実施例3と同様の操作を行い、クロメン化合物VIIIを得た(11.1g、収率38.1%、HPLC純度99.1%)。
Comparative Example 2 (Production of chromene compound)
A chromene compound VIII was obtained in the same manner as in Example 3 except that the naphthol compound VI obtained in Comparative Example 1 was used (11.1 g, yield 38.1%, HPLC purity 99.1%). .

製造例2(カルボン酸化合物の製造)
製造例1において、α−テトラロンと同じモル数の4−メチルテトラロンを使用した以外は、製造例1と同様の操作を行った。下記式のカルボン酸体X(カルボン酸化合物)と化合物IIIを含むトルエン溶液(480ml)を得た。下記式の化合物X : 化合物III = 81 : 19であった。
Production Example 2 (Production of carboxylic acid compound)
In Production Example 1, the same operation as in Production Example 1 was performed, except that 4-methyltetralone having the same number of moles as α-tetralone was used. A toluene solution (480 ml) containing a carboxylic acid form X (carboxylic acid compound) of the following formula and compound III was obtained. Compound X in the following formula: Compound III = 81: 19.

Figure 2010270092
Figure 2010270092

実施例4(アセチル化合物の製造)   Example 4 (Production of acetyl compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

製造例2で得られたカルボン酸体Xと化合物IIIとを含むトルエン溶液(238ml)を使用した以外は、実施例1と同様の操作を行い、アセチルナフトール体XI(アセチル化合物)(収量27.4g、3工程の収率22.5%)を白色固体として得た。得られたアセチルナフトール体XI(アセチル化合物)の同定結果を以下に示す。
H−NMR(CDCl):1.40(s,3H),2.39(s,3H), 2.70−2.82(m,3H),7.26−7.50(m,6H),7.79−7.83(m,1H),7.88−7.91(d,1H),8.49−8.54(m,1H)、HPLC純度98.4%、
LCMSによる分子質量 303(M+1)。
The same operation as in Example 1 was carried out except that the toluene solution (238 ml) containing the carboxylic acid form X obtained in Production Example 2 and Compound III was used, and acetylnaphthol form XI (acetyl compound) (yield 27.27). 4 g, yield of 3 steps, 22.5%) was obtained as a white solid. The identification results of the obtained acetylnaphthol XI (acetyl compound) are shown below.
1 H-NMR (CDCl 3 ): 1.40 (s, 3H), 2.39 (s, 3H), 2.70-2.82 (m, 3H), 7.26-7.50 (m, 6H), 7.79-7.83 (m, 1H), 7.88-7.91 (d, 1H), 8.49-8.54 (m, 1H), HPLC purity 98.4%,
Molecular mass by LCMS 303 (M + 1).

実施例5(ナフトール化合物の製造)   Example 5 (Production of naphthol compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

窒素雰囲気下、実施例4で得たアセチルナフトール体XI(27.4g、 90.6mmol)をメタノール(270.0ml)に溶解し、36質量%塩酸(1.9 g、 18.5 mmol)を加え、還流温度で1時間攪拌した。反応終了後、25℃に冷却し、酢酸エチル(535.0 ml)及び水(535.0 ml)を加えて分液した。有機層を5質量%塩水で洗浄後、溶媒を留去し、ナフトール体XII(ナフトール化合物)(21.5g、アセチルナフトール体XIからの収率88.0%、オルトエステル体Iからの収率19.8%)を得た。HPLCの純度は95.3%であった。   Under a nitrogen atmosphere, the acetylnaphthol XI (27.4 g, 90.6 mmol) obtained in Example 4 was dissolved in methanol (270.0 ml), and 36 mass% hydrochloric acid (1.9 g, 18.5 mmol) was added. The mixture was further stirred at reflux temperature for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to 25 ° C., and ethyl acetate (535.0 ml) and water (535.0 ml) were added for liquid separation. After the organic layer was washed with 5% by mass brine, the solvent was distilled off, and naphthol XII (naphthol compound) (21.5 g, yield 88.0% from acetylnaphthol XI, yield from orthoester I 19.8%). The purity of HPLC was 95.3%.

実施例6(クロメン化合物の製造)   Example 6 (Production of chromene compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

窒素雰囲気下、実施例5で得られたナフトール体XII(10.0g、38.4mmol)、及びプロパルギルアルコール体XIII(10.3g、38.4mmol)をトルエン(150ml)中に加えて攪拌し、シリカゲル(10.0g)を加えて、110℃で2時間攪拌した。水(120ml)を加えて計4回有機層を洗浄し、有機層を減圧下留去した。得られた反応残渣をシリカゲルカラム(溶媒クロロホルム)にて精製し、クロメン化合物IX(9.4g、収率47.9%)を得た。   Under a nitrogen atmosphere, the naphthol compound XII (10.0 g, 38.4 mmol) obtained in Example 5 and the propargyl alcohol compound XIII (10.3 g, 38.4 mmol) were added to toluene (150 ml) and stirred. Silica gel (10.0 g) was added and stirred at 110 ° C. for 2 hours. Water (120 ml) was added to wash the organic layer 4 times in total, and the organic layer was distilled off under reduced pressure. The obtained reaction residue was purified with a silica gel column (solvent chloroform) to obtain a chromene compound IX (9.4 g, yield 47.9%).

製造例3(カルボン酸化合物の製造)
製造例1において、α−テトラロンと同じモル数の6−メトキシテトラロンを使用した以外は、製造例1と同様の操作を行った。下記式のカルボン酸体XV(カルボン酸化合物)と化合物IIIを含むトルエン溶液(480ml)を得た。下記式の化合物XV : 化合物III = 79 : 21であった。
Production Example 3 (Production of carboxylic acid compound)
In Production Example 1, the same operation as in Production Example 1 was performed except that 6-methoxytetralone having the same number of moles as α-tetralone was used. A toluene solution (480 ml) containing a carboxylic acid form XV (carboxylic acid compound) of the following formula and compound III was obtained. Compound XV of the following formula: Compound III = 79: 21.

Figure 2010270092
Figure 2010270092

実施例7(アセチル化合物の製造)   Example 7 (Production of acetyl compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

製造例3で得られたカルボン酸体XVと化合物IIIとを含むトルエン溶液(238ml)を使用した以外は、実施例1と同様の操作を行い、アセチルナフトール体XVI(アセチル化合物)(収量32.1g、3工程収率25.4%)を白色個体として得た。アセチルナフトール体XVI(アセチル化合物)の同定結果を以下に示す。
H−NMR(CDCl):2.40(s,3H),2.70−2.82(m,4H),3.83(s,3H),6.64−6.69(m,2H),7.27−7.40(m,4H),7.69−7.90(m,2H)、HPLC純度98.1%、
LCMSによる分子量 319(M+1)。
The same procedure as in Example 1 was carried out except that the toluene solution (238 ml) containing the carboxylic acid compound XV obtained in Production Example 3 and Compound III was used, and the acetylnaphthol compound XVI (acetyl compound) (yield 32. 1 g, 3 step yield 25.4%) was obtained as a white solid. The identification results of acetylnaphthol XVI (acetyl compound) are shown below.
1 H-NMR (CDCl 3 ): 2.40 (s, 3H), 2.70-2.82 (m, 4H), 3.83 (s, 3H), 6.64-6.69 (m, 2H), 7.27-7.40 (m, 4H), 7.69-7.90 (m, 2H), HPLC purity 98.1%,
Molecular weight by LCMS 319 (M + 1).

実施例8(ナフトール化合物の製造)   Example 8 (Production of naphthol compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

窒素雰囲気下、アセチルナフトール体XVI(13.8g、47.0 mmol)をメタノール(135.0ml)に溶解し、36質量%塩酸(0.95g、9.3 mmol)を加え、還流温度で1時間攪拌した。反応終了後、25℃に冷却し、酢酸エチル(270.0ml)及び水(270.0ml)を加えて分液した。有機層を5質量%塩水で洗浄後、溶媒を留去し、ナフトール体XVII (ナフトール化合物)(9.4g、アセチルナフトール体XVIからの収率72.3%、オルトエステル体Iからの収率20.4%)を得た。HPLC純度95.3%であった。   Under a nitrogen atmosphere, acetylnaphthol XVI (13.8 g, 47.0 mmol) was dissolved in methanol (135.0 ml), 36% by mass hydrochloric acid (0.95 g, 9.3 mmol) was added, and the mixture was refluxed at 1 Stir for hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to 25 ° C., and ethyl acetate (270.0 ml) and water (270.0 ml) were added for liquid separation. After the organic layer was washed with 5% by mass brine, the solvent was distilled off, and naphthol XVII (naphthol compound) (9.4 g, yield 72.3% from acetylnaphthol XVI, yield from orthoester I 20.4%). The HPLC purity was 95.3%.

実施例9(クロメン化合物の製造)   Example 9 (Production of chromene compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

窒素雰囲気下、実施例8で得られたナフトール体XVI( 3.0g、10.8mmol)、及びプロパルギルアルコール体XVII( 3.0g、10.8mmol)をトルエン(50ml)中に加えて攪拌し、シリカゲル(3.0g)を加えて、110℃で2時間攪拌した。水(40ml)を加えて計4回有機層を洗浄し、有機層を減圧下留去した。得られた反応残渣をシリカゲルカラム(溶媒クロロホルム)にて精製し、クロメン化合物XIX( 2.1 g、収率36.0%)を得た。HPLC純度99.4%であった。   Under a nitrogen atmosphere, naphthol XVI (3.0 g, 10.8 mmol) obtained in Example 8 and propargyl alcohol XVII (3.0 g, 10.8 mmol) were added to toluene (50 ml), and the mixture was stirred. Silica gel (3.0 g) was added and stirred at 110 ° C. for 2 hours. Water (40 ml) was added to wash the organic layer 4 times in total, and the organic layer was distilled off under reduced pressure. The obtained reaction residue was purified with a silica gel column (solvent chloroform) to obtain a chromene compound XIX (2.1 g, yield 36.0%). The HPLC purity was 99.4%.

製造例4(カルボン酸化合物の製造)
製造例1において、α−テトラロンと同じモル数の6−トリフルオロメチルテトラロンを使用した以外は、製造例1と同様の操作を行った。下記式のカルボン酸体XX(カルボン酸化合物)と化合物IIIを含むトルエン溶液(475ml)を得た。下記式の化合物XX : 化合物III = 78 : 22であった。
Production Example 4 (Production of carboxylic acid compound)
In Production Example 1, the same operation as in Production Example 1 was performed, except that 6-trifluoromethyltetralone having the same number of moles as α-tetralone was used. A toluene solution (475 ml) containing a carboxylic acid form XX (carboxylic acid compound) of the following formula and compound III was obtained. Compound XX of the following formula: Compound III = 78: 22.

Figure 2010270092
Figure 2010270092

実施例10(アセチル化合物の製造)   Example 10 (Production of acetyl compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

製造例4で得られたカルボン酸体XXと化合物IIIとを含むトルエン溶液(230ml)を使用した以外は、実施例1と同様の操作を行い、アセチルナフトール体XXI(アセチル化合物)(収量31.6g、3工程収率22.3%)を淡黄色固体として得た。アセチルナフトール体XXI(アセチル化合物)の同定結果を以下に示す。
H−NMR(CDCl):2.40(s,3H),2.70−2.83(m,4H),7.27−7.40(m,6H),7.70−7.80(m,2H)、HPLC純度98.1%、
LCMSによる分子量 357(M+1)。
The same operation as in Example 1 was carried out except that the toluene solution (230 ml) containing the carboxylic acid form XX obtained in Production Example 4 and Compound III was used, and the acetylnaphthol form XXI (acetyl compound) (yield 31. 6 g, 3 step yield 22.3%) was obtained as a pale yellow solid. The identification result of acetyl naphthol form XXI (acetyl compound) is shown below.
1 H-NMR (CDCl 3 ): 2.40 (s, 3H), 2.70-2.83 (m, 4H), 7.27-7.40 (m, 6H), 7.70-7. 80 (m, 2H), HPLC purity 98.1%,
Molecular weight by LCMS 357 (M + 1).

実施例11(ナフトール化合物の製造)   Example 11 (Production of naphthol compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

窒素雰囲気下、アセチルナフトール体XXI(12.3g、34.5 mmol)をメタノール(130.0ml)に溶解し、36質量%塩酸(0.88g、8.7 mmol)を加え、還流温度で1時間攪拌した。反応終了後、25℃に冷却し、酢酸エチル(260.0ml)及び水(260.0ml)を加えて分液した。有機層を5%塩水で洗浄後、溶媒を留去し、ナフトール体XXII (ナフトール化合物)(9.4g、アセチルナフトール体XXIからの収率86.5%、オルトエステル体Iからの収率19.3%)を得た。HPLC純度は95.6%であった。   Under a nitrogen atmosphere, acetylnaphthol XXI (12.3 g, 34.5 mmol) was dissolved in methanol (130.0 ml), and 36% by mass hydrochloric acid (0.88 g, 8.7 mmol) was added. Stir for hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to 25 ° C., and ethyl acetate (260.0 ml) and water (260.0 ml) were added for liquid separation. After the organic layer was washed with 5% brine, the solvent was distilled off, and naphthol XXII (naphthol compound) (9.4 g, yield 86.5% from acetylnaphthol XXI, yield 19 from orthoester I) .3%) was obtained. The HPLC purity was 95.6%.

実施例12(クロメン化合物の製造)   Example 12 (Production of chromene compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

窒素雰囲気下、実施例11で得られたナフトール体XXII( 3.0g、9.55mmol)およびプロパルギルアルコール体XVIII( 3.0g、10.8mmol)をトルエン(50ml)中に加えて攪拌し、シリカゲル(3.0g)を加えて、110℃で2時間攪拌した。水(40ml)を加えて計4回有機層を洗浄し、有機層を減圧下留去した。得られた反応残渣をシリカゲルカラム(溶媒クロロホルム)にて精製し、クロメン化合物XXIV( 2.4g、収率43.3%)を得た。HPLC純度99.2%であった。   Under a nitrogen atmosphere, naphthol form XXII (3.0 g, 9.55 mmol) and propargyl alcohol form XVIII (3.0 g, 10.8 mmol) obtained in Example 11 were added to toluene (50 ml), and the mixture was stirred. (3.0 g) was added and stirred at 110 ° C. for 2 hours. Water (40 ml) was added to wash the organic layer 4 times in total, and the organic layer was distilled off under reduced pressure. The obtained reaction residue was purified with a silica gel column (solvent chloroform) to obtain a chromene compound XXIV (2.4 g, yield 43.3%). The HPLC purity was 99.2%.

製造例5(カルボン酸化合物の製造)
製造例1において、オルトエステル体Iと同じモル数のオルトエステルXXVを使用した以外は、製造例1と同様の操作を行った。下記式のカルボン酸体XXVI(カルボン酸化合物)と化合物XXVIIを含むトルエン溶液(482ml)を得た。下記式の化合物XXV : 化合物XXVI = 79 : 21であった。
Production Example 5 (Production of carboxylic acid compound)
In Production Example 1, the same operation as in Production Example 1 was performed except that ortho ester XXV having the same number of moles as ortho ester I was used. A toluene solution (482 ml) containing a carboxylic acid form XXVI (carboxylic acid compound) of the following formula and a compound XXVII was obtained. Compound XXV of the following formula: Compound XXVI = 79: 21.

Figure 2010270092
Figure 2010270092

実施例13(アセチル化合物の製造)   Example 13 (Production of acetyl compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

製造例5で得られたカルボン酸体XXVIと化合物XXVIIとを含むトルエン溶液(230ml)を使用した以外は、実施例1と同様の操作を行い、アセチルナフトール体XXVIII(アセチル化合物)(収量27.9g、3工程収率23.2%)を淡黄色個体として得た。アセチルナフトール体XXVIII(アセチル化合物)の同定結果を以下に示す。
H−NMR(CDCl):2.39(s,3H),2.45(s,3H),2.70−2.82(m,4H),7.26−7.50(m,6H),7.79−7.83(m,1H),8.49−8.54(m,1H)、 HPLC純度98.2%,
LCMSによる分子量 303(M+1)。
The same operation as in Example 1 was carried out except that the toluene solution (230 ml) containing the carboxylic acid form XXVI and the compound XXVII obtained in Production Example 5 was used, and the acetylnaphthol form XXVIII (acetyl compound) (yield 27. 9 g, yield of 3 steps (23.2%) was obtained as a pale yellow solid. The identification results of acetylnaphthol form XXVIII (acetyl compound) are shown below.
1 H-NMR (CDCl 3 ): 2.39 (s, 3H), 2.45 (s, 3H), 2.70-2.82 (m, 4H), 7.26-7.50 (m, 6H), 7.79-7.83 (m, 1H), 8.49-8.54 (m, 1H), HPLC purity 98.2%,
Molecular weight by LCMS 303 (M + 1).

実施例14(ナフトール化合物の製造)   Example 14 (Production of naphthol compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

窒素雰囲気下、アセチルナフトール体XXVIII(10.4g, 34.5mmol)をメタノール(130.0ml)に溶解し、36質量%塩酸(0.88g, 8.7mmol)を加え、還流温度で1時間攪拌した。反応終了後、25℃に冷却し、酢酸エチル(260.0ml)及び水(260.0ml)を加えて分液した。有機層を5質量%塩水で洗浄後、溶媒を留去し、ナフトール体XXIX (ナフトール化合物)(9.4g、アセチルナフトール体XVIIIからの収率86.5%、オルトエステル体XXVからの収率19.3%)を得た。HPLC純度は95.8%であった。   Under a nitrogen atmosphere, acetylnaphthol XXVIII (10.4 g, 34.5 mmol) was dissolved in methanol (130.0 ml), 36 mass% hydrochloric acid (0.88 g, 8.7 mmol) was added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 1 hour. did. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to 25 ° C., and ethyl acetate (260.0 ml) and water (260.0 ml) were added for liquid separation. After the organic layer was washed with 5% by mass brine, the solvent was distilled off, and naphthol form XXIX (naphthol compound) (9.4 g, yield from acetylnaphthol form XVIII 86.5%, yield from orthoester form XXV 19.3%) was obtained. The HPLC purity was 95.8%.

実施例14(クロメン化合物の製造)   Example 14 (Production of chromene compound)

Figure 2010270092
Figure 2010270092

窒素雰囲気下、実施例13で得られたナフトール体XXIX(3.0g、11.5 mmol)およびプロパルギルアルコール体VII( 3.3g、13.3mmol)をトルエン(50ml)中に加えて攪拌し、シリカゲル(3.0g)を加えて、110℃で2時間攪拌した。反応終了後、水(40ml)を加えて、計4回有機層を洗浄し、有機層を減圧下濃縮した。反応残渣をシリカゲルカラム(溶媒クロロホルム)にて精製し、クロメン化合物XXX( 2.1 g、収率43.8%)を得た。HPLC純度99.4%であった。   Under a nitrogen atmosphere, the naphthol form XXIX (3.0 g, 11.5 mmol) and propargyl alcohol form VII (3.3 g, 13.3 mmol) obtained in Example 13 were added to toluene (50 ml) and stirred. Silica gel (3.0 g) was added and stirred at 110 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, water (40 ml) was added to wash the organic layer 4 times in total, and the organic layer was concentrated under reduced pressure. The reaction residue was purified by a silica gel column (solvent chloroform) to obtain a chromene compound XXX (2.1 g, yield 43.8%). The HPLC purity was 99.4%.

実施例15(保存安定性の評価)
上記実施例で得られたアセチルナフトール体(アセチル化合物)とナフトール体(ナフトール化合物)の保存安定性を検討した。室温にて1週間、室温にて3ヶ月保存した化合物を、TLC(薄層クロマトグラフィー)による確認、HPLC(高速液クロマトグラフィー)の純度の確認、目視により評価した。結果を表1に示す。表1のTLCスポットの評価は、1週間、3ヶ月保存した化合物をTLCで展開させた際、該当化合物以外の化合物(分解物)のスポットが確認されたものを「有り」、確認されなかったものを「無し」と記載した。
Example 15 (Evaluation of storage stability)
The storage stability of the acetylnaphthol compound (acetyl compound) and naphthol compound (naphthol compound) obtained in the above examples was examined. The compounds stored for 1 week at room temperature and 3 months at room temperature were evaluated by TLC (thin layer chromatography), HPLC (high performance liquid chromatography) purity, and visual evaluation. The results are shown in Table 1. Evaluation of the TLC spot in Table 1 was “Yes” when a spot of a compound (decomposed product) other than the corresponding compound was confirmed when a compound stored for 1 week and 3 months was developed by TLC, and was not confirmed. The thing was described as “none”.

Figure 2010270092
Figure 2010270092

室温保存1週間後、各アセチルナフトール体(アセチル化合物)には分解は認められなかった。一方、各ナフトール体(ナフトール化合物)は、透明オイル状物質から赤褐色のオイル状物質に変化した。また、TLC上でナフトール体(ナフトール化合物)のスポットの下に分解物のスポットが確認された。   One week after storage at room temperature, no decomposition was observed for each acetylnaphthol compound (acetyl compound). On the other hand, each naphthol body (naphthol compound) changed from a transparent oily substance to a reddish brown oily substance. Moreover, the spot of the decomposition product was confirmed under the spot of the naphthol body (naphthol compound) on TLC.

さらに、各アセチルナフトール体(アセチル化合物)は、室温で3ヶ月間保存しても安定であったが、ナフトール体は、茶褐色のオイル状物質に変化した。   Furthermore, each acetyl naphthol compound (acetyl compound) was stable even when stored at room temperature for 3 months, but the naphthol compound was changed to a brown oily substance.

実施例16
実施例15において3ケ月間保存したアセチルナフトール体Vを使用して、実施例2と同様の操作を行い、ナフトール体VIを得た(収率92.0%、HPLC純度96.2%)。反応収率、HPLC純度とも実施例2と同様の結果を得た。
Example 16
Using the acetyl naphthol compound V stored for 3 months in Example 15, the same operation as in Example 2 was performed to obtain naphthol compound VI (yield 92.0%, HPLC purity 96.2%). Both the reaction yield and HPLC purity were the same as in Example 2.

実施例17
実施例16において得られたナフトール体VIを使用して実施例3と同様の操作を行い、クロメン化合物VIIIを得た。(収率42.0 %、HPLC純度99.5%)。
反応収率、HPLC純度とも実施例3と同様の結果を得た。
Example 17
Using the naphthol compound VI obtained in Example 16, the same operation as in Example 3 was performed to obtain a chromene compound VIII. (Yield 42.0%, HPLC purity 99.5%).
The same results as in Example 3 were obtained for both the reaction yield and HPLC purity.

Claims (4)

下記式(1)
Figure 2010270092
(式中 R、R、R、及びRは、それぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アラルキル基、又はアリール基であり、
また、R、R、R、及びRの中から選ばれる2つの基が一緒になって脂肪族炭化水素環を形成してもよく、
、及びRは、それぞれ、アルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、アラルコキシ基、ハロゲノアルコキシ基、アラルコキシ基、アミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し該窒素原子で結合する複素環基、シアノ基、ハロゲン原子、アラルキル基、又はアリール基であり、
a、及びbは、それぞれ、0〜3の整数であり、a、及びbが2〜3の整数であるとき、各R、及びRは、それぞれ、同一の基であっても、互いに異なる基であってもよい。)
で示されるアセチル化合物。
Following formula (1)
Figure 2010270092
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom, an aralkyl group, or an aryl group,
Two groups selected from R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 may be combined to form an aliphatic hydrocarbon ring,
R 5 and R 6 are each an alkyl group, a halogenoalkyl group, an alkoxy group, an aralkoxy group, a halogenoalkoxy group, an aralkoxy group, an amino group, a nitrogen atom as a hetero atom, and a heterocyclic group bonded by the nitrogen atom. , A cyano group, a halogen atom, an aralkyl group, or an aryl group,
a and b are each an integer of 0 to 3, and when a and b are an integer of 2 to 3, each R 5 and R 6 may be the same group, Different groups may be used. )
An acetyl compound represented by
下記式(2)
Figure 2010270092
(式中、R、R、R、R、R、R、a、及びbは、前記式(1)におけるものと同義である。)
で示されるカルボン酸化合物を、無水酢酸、及び酢酸塩存在下にて反応させることを特徴とする請求項1に記載のアセチル化合物の製造方法。
Following formula (2)
Figure 2010270092
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , a, and b have the same meanings as those in the formula (1).)
The method for producing an acetyl compound according to claim 1, wherein the carboxylic acid compound represented by the formula is reacted in the presence of acetic anhydride and acetate.
請求項1に記載のアセチル化合物を、酸、又は塩基により脱アセチル化することを特徴とする
下記式(3)
Figure 2010270092
(式中、R、R、R、R、R、R、a、及びbは、前記式(1)におけるものと同義である。)
で示されるナフトール化合物の製造方法。
The acetyl compound according to claim 1 is deacetylated with an acid or a base, the following formula (3)
Figure 2010270092
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , a, and b have the same meanings as those in the formula (1).)
The manufacturing method of the naphthol compound shown by these.
請求項3に記載の方法により前記式(3)で示されるナフトール化合物を製造した後、得られたナフトール化合物と
下記式(4)
Figure 2010270092
(式中、R、及びRは、それぞれ、アルキル基、アルコキシ基、アラルコシ基、アミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し該窒素原子で結合する複素環基、シアノ基、ハロゲン原子、アラルキル基、又はアリール基であり、
c、及びdは、それぞれ、0〜3の整数であり、c、及びdが2〜3の整数であるとき、各R、及びRは、それぞれ、同一の基であってもよく、互いに異なる基であってもよい。)
で示されるプロパルギル化合物とを反応させることを特徴とする
下記式(5)
Figure 2010270092
(式中、R、R、R、R、R、R、a、及びbは、前記式(1)におけるものと同義であり、
、R、c、及びdは、前記式(4)におけるものと同義である。)
で示されるクロメン化合物の製造方法。
The naphthol compound represented by the formula (3) is produced by the method according to claim 3, and then the naphthol compound obtained and the following formula (4)
Figure 2010270092
(In the formula, R 7 and R 8 are each an alkyl group, an alkoxy group, an aralkoxy group, an amino group, a heterocyclic group having a nitrogen atom as a hetero atom, and bonded by the nitrogen atom, a cyano group, a halogen atom, An aralkyl group or an aryl group,
c and d are each an integer of 0 to 3, and when c and d are an integer of 2 to 3, each R 7 and R 8 may be the same group, Different groups may be used. )
A reaction with a propargyl compound represented by the following formula (5):
Figure 2010270092
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , a, and b have the same meanings as those in formula (1),
R 7 , R 8 , c, and d have the same meaning as in the formula (4). )
The manufacturing method of the chromene compound shown by these.
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