JP2010260987A - アクリル系共重合体の製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 title description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 51
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 49
- -1 aromatic vinyl compound Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 23
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 5
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 36
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 claims description 34
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 11
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 claims description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 41
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 abstract 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 abstract 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 39
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 39
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 14
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 12
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 8
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 6
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 4
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 4
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 3
- 238000004260 weight control Methods 0.000 description 3
- OWQPOVKKUWUEKE-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-benzotriazine Chemical class N1=NN=CC2=CC=CC=C21 OWQPOVKKUWUEKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical class N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 2
- WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N butanethiol Chemical compound CCCCS WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIPYNJLMMFGZSX-UHFFFAOYSA-N (5-benzoylperoxy-2,5-dimethylhexan-2-yl) benzenecarboperoxoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 RIPYNJLMMFGZSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGSFMPRFQVLGTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-triphenylethylbenzene Chemical class C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 KGSFMPRFQVLGTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NALFRYPTRXKZPN-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane Chemical compound CC1CC(C)(C)CC(OOC(C)(C)C)(OOC(C)(C)C)C1 NALFRYPTRXKZPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenoxy)ethane Chemical compound C=COCCOC=C ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNQNXQYZMPJLQX-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CN2C(N(CC=3C=C(C(O)=C(C=3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(=O)N(CC=3C=C(C(O)=C(C=3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C2=O)=O)=C1 VNQNXQYZMPJLQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSGNYXHEPWMKSK-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane Chemical compound CC(C)(C)OOC1CCCC(OOC(C)(C)C)C1 LSGNYXHEPWMKSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGEJLLSWJCYSHK-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-2-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1C(C)=C MGEJLLSWJCYSHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C(C)=C1 OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKMDZVINHIFHLY-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3,5-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C=C)=C1 XKMDZVINHIFHLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHUZSRRCICJJCN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC(C=C)=C1 XHUZSRRCICJJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(C=C)C=C1 WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXTPWSUCILMATH-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C(C)=C IXTPWSUCILMATH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKOIESNQSHAQIW-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-2-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC=C1C(C)=C XKOIESNQSHAQIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGMSGZZPTQNTIK-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1C OGMSGZZPTQNTIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZQCRYHZKMFKDE-UHFFFAOYSA-N 1-octadecylperoxyoctadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOOCCCCCCCCCCCCCCCCCC YZQCRYHZKMFKDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICNSPHUQRZZYDE-UHFFFAOYSA-N 1-octyl-2-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC=C1C(C)=C ICNSPHUQRZZYDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFALFBSBJGMFDF-UHFFFAOYSA-N 1-pentyl-2-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CCCCCC1=CC=CC=C1C(C)=C OFALFBSBJGMFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMYIIHDQURVDRB-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethenylbenzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=C)C1=CC=CC=C1 ZMYIIHDQURVDRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQMWZHUIGYNOAL-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)C1=CC=CC=C1 BQMWZHUIGYNOAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABCFMLHXPWKTLP-UHFFFAOYSA-N 1-prop-1-en-2-yl-2-propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1C(C)=C ABCFMLHXPWKTLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAJBSGLXSREIHP-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis[(2-sulfanylacetyl)oxymethyl]butyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CS)COC(=O)CS KAJBSGLXSREIHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,4,4,5-hexamethylhexane-2-thiol Chemical compound CC(C)C(C)(C)C(C)(C)C(C)(C)S YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFGALGYVFGDXIX-UHFFFAOYSA-N 2,3-Dimethylmaleic anhydride Chemical compound CC1=C(C)C(=O)OC1=O MFGALGYVFGDXIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTFXHGBOGGGYDO-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(dodecylsulfanylmethyl)-6-methylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCSCC1=CC(C)=C(O)C(CSCCCCCCCCCCCC)=C1 VTFXHGBOGGGYDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 1
- GVJRTUUUJYMTNQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2,5-dioxofuran-3-yl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC(=O)OC1=O GVJRTUUUJYMTNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIAWAXVRXKIUQB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethenyl)pyridine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=N1 BIAWAXVRXKIUQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSYGHMBJXWRQFD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylacetyl)oxyethyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCCOC(=O)CS PSYGHMBJXWRQFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-cyano-2-methylpropyl)diazenyl]-3-methylbutanenitrile Chemical compound CC(C)C(C#N)N=NC(C#N)C(C)C MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKSAKVMRQYOFBC-UHFFFAOYSA-N 2-cyanopropan-2-yliminourea Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(N)=O CKSAKVMRQYOFBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBWWINQJTZYDFK-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C=C)=C1 DBWWINQJTZYDFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWHSTLLOZWTNTQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-sulfanylacetate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)CS OWHSTLLOZWTNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAODDBNJCKQQDY-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,6-bis(octylsulfanylmethyl)phenol Chemical compound CCCCCCCCSCC1=CC(C)=C(O)C(CSCCCCCCCC)=C1 GAODDBNJCKQQDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 2-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C=C)=CC=C21 KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-M 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC([O-])=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZXJPLGCUVUDN-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-1,2-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1C PMZXJPLGCUVUDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-TEMPO Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1[O] UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQQTZCPKNZVLFF-UHFFFAOYSA-N 4h-1,2-benzoxazin-3-one Chemical class C1=CC=C2ONC(=O)CC2=C1 HQQTZCPKNZVLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N N-ethyl-succinimide Natural products CCN1C(=O)CCC1=O GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N N-ethylmaleimide Chemical compound CCN1C(=O)C=CC1=O HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920010524 Syndiotactic polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N [3-(2-sulfanylacetyl)oxy-2,2-bis[(2-sulfanylacetyl)oxymethyl]propyl] 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCC(COC(=O)CS)(COC(=O)CS)COC(=O)CS RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006167 biodegradable resin Polymers 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLCKLZIHJQEMCU-UHFFFAOYSA-N cyano prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OC#N NLCKLZIHJQEMCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBWIZSYFQSOUFQ-UHFFFAOYSA-N cyclohexanecarbonitrile Chemical compound N#CC1CCCCC1 VBWIZSYFQSOUFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTXVGVNLYGSIAR-UHFFFAOYSA-N decane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCS VTXVGVNLYGSIAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N decanoyl decaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCC XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000010097 foam moulding Methods 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013033 iniferter Substances 0.000 description 1
- 238000010102 injection blow moulding Methods 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013008 moisture curing Methods 0.000 description 1
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- QJAOYSPHSNGHNC-UHFFFAOYSA-N octadecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCS QJAOYSPHSNGHNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 description 1
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFMFSCRSAWIWOP-UHFFFAOYSA-N phenyl(trityl)diazene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YFMFSCRSAWIWOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002215 polytrimethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1.CC(=C)C1=CC=CC=C1 FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012966 redox initiator Substances 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000006557 surface reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007666 vacuum forming Methods 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
【課題】重合時におけるモノマー残存量の低減及び、生産効率の向上を目的とする。
【解決手段】少なくとも不飽和カルボン酸エステル(a)、芳香族ビニル化合物(b)及び不飽和カルボン酸無水物(c)を、下記一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルの存在下で共重合させる、共重合体の製造方法。
【化1】
(式中、R4は、水素、ハロゲン、水酸基、アルコキシ基、ニトロ基、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜12のアルキル基を表す。mは1〜3の整数、nは0〜2の整数を示す。)
【選択図】なし
【解決手段】少なくとも不飽和カルボン酸エステル(a)、芳香族ビニル化合物(b)及び不飽和カルボン酸無水物(c)を、下記一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルの存在下で共重合させる、共重合体の製造方法。
【化1】
(式中、R4は、水素、ハロゲン、水酸基、アルコキシ基、ニトロ基、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜12のアルキル基を表す。mは1〜3の整数、nは0〜2の整数を示す。)
【選択図】なし
Description
本発明は、透明で高い耐熱性を有し、残存するモノマー量が少なく、生産性に優れたアクリル系共重合体の製造方法に関する。
ポリメタクリル酸メチル(PMMA)に代表されるアクリル系樹脂は、その高い透明性から、光学材料やレンズ、家庭用品、OA機器、照明機器等の分野で幅広く使用されている。特に近年では導光板や液晶ディスプレイ用フィルムなどの光学材料への使用が進んでおり、ディスプレイの薄型化や、高温下での使用を想定した用途にも展開されており、より高度な耐熱性や光学特性が求められている。
アクリル系樹脂の耐熱性を低下させる要因の一つとして、樹脂に残存する高揮発性成分の影響を挙げることができる。例えば沸点が150℃を下回るような高揮発性成分が多く残存する場合、耐熱性の低下が顕著であり、シルバーストークス等の外観不良が見られる恐れもある。そのため、高揮発性成分を低減することが求められている。
特にキャスト重合法や塊状重合法などの、無溶媒若しくは極少量の溶媒量で、高い重合度まで重合を進行させる方法においては、重合段階で残存する高揮発性成分をより低減する必要性がある
また、アクリル系樹脂を粉砕して用いる場合、微粉が発生することがある。粉砕物を押出機等でペレット化することがあるが(特許文献1)、粉砕物中に微粉を多く含む場合、押出機等でペレット状にする際にフィード箇所で塊となってしまい、作業性が落ちることがある。そのため、作業性改善のためにこのような微粉を取り除くことが望まれているが、そのためには篩い分けが必要となる。そのため、粉砕時の微粉の発生を低減することが望まれている。
アクリル系樹脂の耐熱性を低下させる要因の一つとして、樹脂に残存する高揮発性成分の影響を挙げることができる。例えば沸点が150℃を下回るような高揮発性成分が多く残存する場合、耐熱性の低下が顕著であり、シルバーストークス等の外観不良が見られる恐れもある。そのため、高揮発性成分を低減することが求められている。
特にキャスト重合法や塊状重合法などの、無溶媒若しくは極少量の溶媒量で、高い重合度まで重合を進行させる方法においては、重合段階で残存する高揮発性成分をより低減する必要性がある
また、アクリル系樹脂を粉砕して用いる場合、微粉が発生することがある。粉砕物を押出機等でペレット化することがあるが(特許文献1)、粉砕物中に微粉を多く含む場合、押出機等でペレット状にする際にフィード箇所で塊となってしまい、作業性が落ちることがある。そのため、作業性改善のためにこのような微粉を取り除くことが望まれているが、そのためには篩い分けが必要となる。そのため、粉砕時の微粉の発生を低減することが望まれている。
本発明は、重合時における高揮発性成分の低減及び、粉砕時の微粉の発生を低減し生産効率を向上させることを目的とする。
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、重合時に特定の芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルを存在させると、驚くべきことに、高揮発性のモノマーの残存量を低減することができ、更には、共重合体を粉砕する際に生じる微粉の量が低減でき生産効率が向上することを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、
少なくとも不飽和カルボン酸エステル(a)、芳香族ビニル化合物(b)及び不飽和カルボン酸無水物(c)を、下記一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルの存在下で共重合させる、共重合体の製造方法。
(式中、R4は、水素、ハロゲン、水酸基、アルコキシ基、ニトロ基、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜12のアルキル基を表す。mは1〜3の整数、nは0〜2の整数を示す。)
少なくとも不飽和カルボン酸エステル(a)、芳香族ビニル化合物(b)及び不飽和カルボン酸無水物(c)を、下記一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルの存在下で共重合させる、共重合体の製造方法。
本発明によれば、得られる共重合体中に残存する高揮発性のモノマー(低分子量成分)の量を低減することができ、且つ、共重合体粉砕時の微粉の発生を低減でき、生産効率の向上を図ることができる。
以下に本発明の共重合体の製造方法について詳細に説明するが、本発明はこれらの態様に限定されるものではない。
なお、本明細書においては、モノマー成分のことを「〜単量体」といい、「単量体」を省略することもある。また、共重合体を構成する構成単位のことを「〜単量体単位」という。
なお、本明細書においては、モノマー成分のことを「〜単量体」といい、「単量体」を省略することもある。また、共重合体を構成する構成単位のことを「〜単量体単位」という。
<不飽和カルボン酸エステル単量体(a)>
本発明において用いることのできる不飽和カルボン酸エステル単量体(a)としては、分子中に少なくとも1つの不飽和結合を有するカルボン酸エステルであって、一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルに該当しないものであれば特に制限されないが、好ましい例としては下記一般式(1)で示される単量体が挙げられる。
本発明において用いることのできる不飽和カルボン酸エステル単量体(a)としては、分子中に少なくとも1つの不飽和結合を有するカルボン酸エステルであって、一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルに該当しないものであれば特に制限されないが、好ましい例としては下記一般式(1)で示される単量体が挙げられる。
式中、R3は水素原子又は炭素数が1〜6のアルキル基を表し、アルキル基上に水酸基を有していてもよい。また、R4は炭素数が1〜12の基を表し、水酸基を有していてもよい。
これらのうち、R3が水素原子であるアクリル酸エステル単量体又は炭素数が1のメチル基であるメタクリル酸エステル単量体を好適に用いることができる。
好適に用いることのできるメタクリル酸エステル単量体の具体例としては、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸(2−エチルヘキシル)、メタクリル酸(t−ブチルシクロヘキシル)、メタクリル酸(2,2,2−トリフルオロエチル)などが挙げられ、代表的なものはメタクリル酸メチルである。
アクリル酸エステル単量体の具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(t−ブチルシクロヘキシル)、アクリル酸ベンジル、アクリル酸(2,2,2−トリフルオロエチル)などが挙げられる。
不飽和カルボン酸エステル単量体(a)は一種または二種以上組み合わせて使用することもできる。
好適に用いることのできるメタクリル酸エステル単量体の具体例としては、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸(2−エチルヘキシル)、メタクリル酸(t−ブチルシクロヘキシル)、メタクリル酸(2,2,2−トリフルオロエチル)などが挙げられ、代表的なものはメタクリル酸メチルである。
アクリル酸エステル単量体の具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(t−ブチルシクロヘキシル)、アクリル酸ベンジル、アクリル酸(2,2,2−トリフルオロエチル)などが挙げられる。
不飽和カルボン酸エステル単量体(a)は一種または二種以上組み合わせて使用することもできる。
<芳香族ビニル系単量体(b)>
本発明において用いることのできる芳香族ビニル系単量体(b)としては、ビニル基を少なくとも1つ以上有する芳香族化合物であって、カルボン酸エステルでないものであれば特に限定はないが、好ましい例として下記一般式(2)で示される単量体が挙げられる。
本発明において用いることのできる芳香族ビニル系単量体(b)としては、ビニル基を少なくとも1つ以上有する芳香族化合物であって、カルボン酸エステルでないものであれば特に限定はないが、好ましい例として下記一般式(2)で示される単量体が挙げられる。
式中、R6は水素原子又は炭素数が1〜6のアルキル基を表し、アルキル基上に水酸基を有していてもよい。また、nは0〜5の整数を表す。R7は水素原子、炭素数が1〜12のアルキル基、炭素数が1〜12のアルコキシ基、炭素数が1〜8のアリール基、炭素数が1〜8のアリール基から選ばれる一種の基であり、R7はすべて同じ基であっても、すべて異なる基であってもよい。また、R7同士が結合して環構造を形成してもよい。
一般式(2)で示される単量体の一例としては、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン、3,4−ジメチルスチレン、3,5−ジメチルスチレン、p−エチルスチレン、m−エチルスチレン、о−エチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、1−ビニルナフタレン、2−ビニルナフタレン、1,1−ジフェニルエチレン、イソプロペニルベンセン(α−メチルスチレン)、イソプロペニルトルエン、イソプロペニルエチルベンゼン、イソプロペニルプロピルベンゼン、イソプロペニルブチルベンゼン、イソプロペニルペンチルベンゼン、イソプロペニルヘキシルベンゼン、イソプロペニルオクチルベンゼン等が挙げられ、アクリル系共重合体に必要な特性によって適宜選ぶことができる。
中でも、スチレン、イソプロペニルベンゼンを好ましく使用することができ、より好ましくはスチレンである。
芳香族基含有ビニル系単量体(b)は、一種または二種以上組み合わせて使用することもできる。
芳香族基含有ビニル系単量体(b)は、一種または二種以上組み合わせて使用することもできる。
<不飽和カルボン酸無水物(c)>
本発明において共重合させることのできる不飽和カルボン酸無水物(c)としては、少なくとも1つの不飽和結合を有するカルボン酸無水物(2分子のカルボン酸を脱水縮合させた化合物)であれば特に限定はなく、例えば、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、ジメチル無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水アコニット酸、無水トリメリット酸等が挙げられ、無水マレイン酸が特に好適に用いられる。
不飽和カルボン酸無水物(c)は、一種または二種以上組み合わせて使用することもできる。
本発明において共重合させることのできる不飽和カルボン酸無水物(c)としては、少なくとも1つの不飽和結合を有するカルボン酸無水物(2分子のカルボン酸を脱水縮合させた化合物)であれば特に限定はなく、例えば、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、ジメチル無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水アコニット酸、無水トリメリット酸等が挙げられ、無水マレイン酸が特に好適に用いられる。
不飽和カルボン酸無水物(c)は、一種または二種以上組み合わせて使用することもできる。
<配合割合>
各単量体成分の仕込み割合は、得られる共重合体に求められる特性を考慮して適宜決定することができ、好適には、(a)、(b)及び(c)の合計100質量部に対して(a)成分の仕込み量が、10質量部以上90質量部以下、(b)成分の仕込み量が、1質量部以上89質量部以下、(c)の仕込み量成分が1質量部以上50質量部以下であるが、(a)成分が、10質量部以上70質量部以下、(b)成分が、1質量部以上40質量部以下、(c)成分が21質量部以上50質量部以下である場合、一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステル(d)を重合時に共存させることによる効果(残存高揮発性モノマーの低減、粉砕時の微粉の低減)は特に大きい。
各単量体成分の仕込み割合は、得られる共重合体に求められる特性を考慮して適宜決定することができ、好適には、(a)、(b)及び(c)の合計100質量部に対して(a)成分の仕込み量が、10質量部以上90質量部以下、(b)成分の仕込み量が、1質量部以上89質量部以下、(c)の仕込み量成分が1質量部以上50質量部以下であるが、(a)成分が、10質量部以上70質量部以下、(b)成分が、1質量部以上40質量部以下、(c)成分が21質量部以上50質量部以下である場合、一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステル(d)を重合時に共存させることによる効果(残存高揮発性モノマーの低減、粉砕時の微粉の低減)は特に大きい。
<芳香族基含有不飽和カルボン酸エステル(d)>
本発明においては、重合時に下記一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルを重合系に存在させることで、重合後に残存する高揮発性モノマー量を低減することができる。重合時に一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルを共存させることは、特に、不飽和カルボン酸エステル単量体の残存の低減に効果がある。なお、一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルは重合体に組み込まれても、組み込まれなくてもどちらでもよい。
本発明においては、重合時に下記一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルを重合系に存在させることで、重合後に残存する高揮発性モノマー量を低減することができる。重合時に一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルを共存させることは、特に、不飽和カルボン酸エステル単量体の残存の低減に効果がある。なお、一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルは重合体に組み込まれても、組み込まれなくてもどちらでもよい。
一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルは、芳香族基を有するメタクリレート単量体である。具体例としては、例えば、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸1−フェニルエチルなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。これらの単量体のうち、メタクリル酸ベンジルが特に好ましい。
前記一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルの重合系(重合液)への添加量は、高揮発性モノマーの残存の低減や微粉の発生の低減という観点からはある程度の添加量が必要となるが、あまり多量に存在させると、得られる重合体の耐熱性等の特性を低下させる傾向にあるなど、重合体本来の好ましい特性を損なう恐れがある。
したがって、一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルの重合系(重合液)への添加量は、不飽和カルボン酸エステル(a)、芳香族ビニル化合物(b)及び不飽和カルボン酸無水物(c)の合計100質量部に対して、0.1〜5質量部であることが好ましく、より好ましくは0.1〜4質量部、さらに好ましくは0.1〜3質量部である。
前記一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルの重合系(重合液)への添加量は、高揮発性モノマーの残存の低減や微粉の発生の低減という観点からはある程度の添加量が必要となるが、あまり多量に存在させると、得られる重合体の耐熱性等の特性を低下させる傾向にあるなど、重合体本来の好ましい特性を損なう恐れがある。
したがって、一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルの重合系(重合液)への添加量は、不飽和カルボン酸エステル(a)、芳香族ビニル化合物(b)及び不飽和カルボン酸無水物(c)の合計100質量部に対して、0.1〜5質量部であることが好ましく、より好ましくは0.1〜4質量部、さらに好ましくは0.1〜3質量部である。
一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルは、重合工程のいずれかの時期に存在させればよく、重合開始時から重合液中に存在させておいてもよいし、重合がある程度進行してから重合液に添加してもよい。
<その他の共重合成分>
本発明においては、本発明の効果を損わない範囲でその他の共重合成分を用いることができる。その他の共重合成分としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル類;N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類;アクリルアミド、メタクリルアミドなどのアミド類等を挙げることができる。その他の共重合成分を含有する場合、これらの仕込み量は、本発明の効果や、得られる共重合体の光学特性や耐熱性、加工性を考慮すると、(a)、(b)及び(c)の合計100質量部に対して、0.1〜100質量部であることが好ましく、より好ましくは0.1〜40質量部、更に好ましくは0.5〜70質量部、とりわけ好ましく1〜60質量部、特に好ましくは1〜50質量部である。
本発明においては、本発明の効果を損わない範囲でその他の共重合成分を用いることができる。その他の共重合成分としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル類;N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類;アクリルアミド、メタクリルアミドなどのアミド類等を挙げることができる。その他の共重合成分を含有する場合、これらの仕込み量は、本発明の効果や、得られる共重合体の光学特性や耐熱性、加工性を考慮すると、(a)、(b)及び(c)の合計100質量部に対して、0.1〜100質量部であることが好ましく、より好ましくは0.1〜40質量部、更に好ましくは0.5〜70質量部、とりわけ好ましく1〜60質量部、特に好ましくは1〜50質量部である。
<共重合体>
本発明の製造方法により製造される共重合体は、不飽和カルボン酸エステル単位、芳香族ビニル化合物単位、不飽和カルボン酸無水物単位及び、場合により下記一般式(4)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステル単位を含む。
本発明の製造方法により製造される共重合体は、不飽和カルボン酸エステル単位、芳香族ビニル化合物単位、不飽和カルボン酸無水物単位及び、場合により下記一般式(4)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステル単位を含む。
(式中、R4は、水素、ハロゲン、水酸基、アルコキシ基、ニトロ基、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜12のアルキル基を表す。mは1〜3の整数、nは0〜2の整数を示す。)
本発明の共重合体中の不飽和カルボン酸エステル単位、芳香族ビニル化合物単位、不飽和カルボン酸無水物単位、及び、一般式(4)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステル単位の共重合割合に限定はないが、共重合体に対して、不飽和カルボン酸エステル単位が10〜90質量%、芳香族ビニル化合物単位が1〜88.9質量%不飽和カルボン酸無水物単位が1〜50質量%及び、一般式(4)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステル単位が0.1〜5質量%であることが好ましい。
本発明の共重合体には、不飽和カルボン酸エステル単位、芳香族ビニル化合物単位、不飽和カルボン酸無水物単位、及び、一般式(4)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステル単位以外のその他の単位が含まれていてもよい。その他の単位の共重合割合が(共重合体に対して)50質量%未満である場合、一般式(4)で示される単位含ませたことによる微粉低減効果は特に有利となる。その他の単位の共重合割合は40質量%未満であってもよいし、30質量%未満であってもよいし、25質量%未満であってもよい。
<重合方法>
本発明において、共重合体の重合方法に限定はなく、例えば、塊状重合、溶液重合、乳化重合、懸濁重合等の従来公知の方法を用いることができる。微小異物の混入を低減することが可能であることから、懸濁剤や乳化剤を用いない塊状重合、キャスト重合、溶液重合が好ましく、重合度を高めることができることから、塊状重合やキャスト重合が特に好ましい。
本発明においては、とりわけ、塊状重合やキャスト重合により製造された共重合体の粉砕時に発生する微粉量を低減できるので、塊状重合やキャスト重合を採用する際に有利である。
本発明において、共重合体の重合方法に限定はなく、例えば、塊状重合、溶液重合、乳化重合、懸濁重合等の従来公知の方法を用いることができる。微小異物の混入を低減することが可能であることから、懸濁剤や乳化剤を用いない塊状重合、キャスト重合、溶液重合が好ましく、重合度を高めることができることから、塊状重合やキャスト重合が特に好ましい。
本発明においては、とりわけ、塊状重合やキャスト重合により製造された共重合体の粉砕時に発生する微粉量を低減できるので、塊状重合やキャスト重合を採用する際に有利である。
<重合温度、時間>
本発明において、重合温度は、重合が進行する温度であれば良いが、生産性の観点から50℃以上200℃以下であることが好ましく、より好ましくは50℃以上180℃以下である。塊状重合法やキャスト重合法を選択する場合は、50℃以上160℃以下であることが好ましい。また、重合時間は、選択した重合方法において必要な重合度を得ることができる時間であれば特に規定はされないが、生産性などの観点から0.5時間以上30時間以下であることが好ましい。溶液重合法を選択する場合は、0.5時間以上10時間以下であることが好ましく、より好ましくは0.5時間以上5時間以下である。塊状重合やキャスト重合を選択する場合、2時間以上30時間以下であることが好ましく、より好ましくは2時間以上25時間以下であることが好ましい。
本発明において、重合温度は、重合が進行する温度であれば良いが、生産性の観点から50℃以上200℃以下であることが好ましく、より好ましくは50℃以上180℃以下である。塊状重合法やキャスト重合法を選択する場合は、50℃以上160℃以下であることが好ましい。また、重合時間は、選択した重合方法において必要な重合度を得ることができる時間であれば特に規定はされないが、生産性などの観点から0.5時間以上30時間以下であることが好ましい。溶液重合法を選択する場合は、0.5時間以上10時間以下であることが好ましく、より好ましくは0.5時間以上5時間以下である。塊状重合やキャスト重合を選択する場合、2時間以上30時間以下であることが好ましく、より好ましくは2時間以上25時間以下であることが好ましい。
<溶存酸素濃度>
本発明において、重合液中の溶存酸素濃度は10ppm以下であることが好ましい。溶存酸素濃度は例えば、溶存酸素計 DOメーターB−505(飯島電子工業株式会社製)を用いて測定を行った値である。溶存酸素濃度を低下させる方法としては、重合液中に不活性ガスをバブリングする方法、重合前に重合液を含む容器中を不活性ガスで0.2MPa程度まで加圧した後に放圧する操作を繰り返す方法、重合液を含む容器中に不活性ガスを通ずる方法等の方法を適宜選択することができる。
本発明において、重合液中の溶存酸素濃度は10ppm以下であることが好ましい。溶存酸素濃度は例えば、溶存酸素計 DOメーターB−505(飯島電子工業株式会社製)を用いて測定を行った値である。溶存酸素濃度を低下させる方法としては、重合液中に不活性ガスをバブリングする方法、重合前に重合液を含む容器中を不活性ガスで0.2MPa程度まで加圧した後に放圧する操作を繰り返す方法、重合液を含む容器中に不活性ガスを通ずる方法等の方法を適宜選択することができる。
<共重合体分子量>
本発明において製造する共重合体の分子量分布範囲は、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が1.5〜3.0の範囲にあることが好ましい。より好ましくは、1.6〜2.7であり、さらに好ましくは1.6〜2.4の範囲である。
本発明でいう重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて、PMMA換算によって求めた値のことである。
GPCにより測定した重量平均分子量(Mw)は、流動性、耐熱性、延伸安定性等のバランスを考慮する必要がある場合、好ましくは5万〜30万、より好ましくは5〜25万、さらに好ましくは7〜22万、特に好ましくは8〜20万である。
本発明において製造する共重合体の分子量分布範囲は、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が1.5〜3.0の範囲にあることが好ましい。より好ましくは、1.6〜2.7であり、さらに好ましくは1.6〜2.4の範囲である。
本発明でいう重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて、PMMA換算によって求めた値のことである。
GPCにより測定した重量平均分子量(Mw)は、流動性、耐熱性、延伸安定性等のバランスを考慮する必要がある場合、好ましくは5万〜30万、より好ましくは5〜25万、さらに好ましくは7〜22万、特に好ましくは8〜20万である。
<重合開始剤>
本発明においては、製造する共重合体の重合度を調整する目的で、重合開始剤を用いても良い。本発明において、用いることができる重合開始剤の一例を挙げると、ラジカル重合を行う場合は、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアリルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシネオデカネート、t−ブチルパーオキシピバレート、ジラウロイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサンなどの有機過酸化物や、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、1,1−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)、2,2’−アゾビス−4−メトキシ−2,4−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリルなどのアゾ系の一般的なラジカル重合開始剤を挙げることができる。これらは単独でもあるいは2種類以上を併用しても良い。これらのラジカル開始剤と適当な還元剤とを組み合わせてレドックス系開始剤として実施しても良い。これらの開始剤は、使用する全単量体の総量100質量部に対して、0〜1質量部の範囲で用いるのが一般的であり、重合を行う温度と開始剤の半減期を考慮して適宜選ぶことができる。
塊状重合法やキャスト重合法を選択する場合、樹脂の着色性や耐水性の観点から、過酸化系開始剤のラウロイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、及びt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート等を特に好適に用いることができる。
また、90℃以上の高温下で溶液重合法を行う場合には、10時間半減期温度が80℃以上で、かつ用いる有機溶媒に可溶である過酸化物、アゾビス開始剤などが好ましい。具体的には、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、1,1−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)、2−(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル等を挙げることができる。これらの開始剤は、例えば、使用する全単量体の総量100質量部に対して、0〜1質量部の範囲で用いることが好ましい。
本発明においては、製造する共重合体の重合度を調整する目的で、重合開始剤を用いても良い。本発明において、用いることができる重合開始剤の一例を挙げると、ラジカル重合を行う場合は、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアリルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシネオデカネート、t−ブチルパーオキシピバレート、ジラウロイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサンなどの有機過酸化物や、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、1,1−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)、2,2’−アゾビス−4−メトキシ−2,4−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリルなどのアゾ系の一般的なラジカル重合開始剤を挙げることができる。これらは単独でもあるいは2種類以上を併用しても良い。これらのラジカル開始剤と適当な還元剤とを組み合わせてレドックス系開始剤として実施しても良い。これらの開始剤は、使用する全単量体の総量100質量部に対して、0〜1質量部の範囲で用いるのが一般的であり、重合を行う温度と開始剤の半減期を考慮して適宜選ぶことができる。
塊状重合法やキャスト重合法を選択する場合、樹脂の着色性や耐水性の観点から、過酸化系開始剤のラウロイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、及びt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート等を特に好適に用いることができる。
また、90℃以上の高温下で溶液重合法を行う場合には、10時間半減期温度が80℃以上で、かつ用いる有機溶媒に可溶である過酸化物、アゾビス開始剤などが好ましい。具体的には、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、1,1−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)、2−(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル等を挙げることができる。これらの開始剤は、例えば、使用する全単量体の総量100質量部に対して、0〜1質量部の範囲で用いることが好ましい。
<分子量制御>
本発明においては、本発明の目的を損わない範囲で、製造する共重合体の分子量の制御を行うことができる。例えば、アルキルメルカプタン類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、トリエチルアミン等の連鎖移動剤、ジチオカルバメート類、トリフェニルメチルアゾベンゼン、テトラフェニルエタン誘導体等のイニファータ等を用いることによって分子量の制御を行うことができる。これらの添加量を調整することにより、分子量を調整することが可能である。これらの添加剤を用いる場合、取扱性や安定性の点からアルキルメルカプタン類が好適に用いられ、例えば、n−ブチルメルカプタン、n−オクチルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、t−ドデシルメルカプタン、n−テトラデシルメルカプタン、n−オクタデシルメルカプタン、2−エチルヘキシルチオグリコレート、エチレングリコールジチオグリコレート、トリメチロールプロパントリス(チオグリコート)、ペンタエリスリトールテトラキス(チオグリコレート)等が挙げられる。
これらは、要求される分子量に応じて適宜添加することができるが、一般的には使用する全単量体の総量100質量部に対して0.001質量部〜3質量部の範囲で用いられる。
また、その他の分子量制御方法としては重合方法を変える方法、重合開始剤の量を調整する方法、重合温度を変更する方法などが挙げられる。
これらの分子量制御方法は、一種の方法だけ用いてもよいし、二種以上の方法を併用しても良い。
本発明においては、本発明の目的を損わない範囲で、製造する共重合体の分子量の制御を行うことができる。例えば、アルキルメルカプタン類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、トリエチルアミン等の連鎖移動剤、ジチオカルバメート類、トリフェニルメチルアゾベンゼン、テトラフェニルエタン誘導体等のイニファータ等を用いることによって分子量の制御を行うことができる。これらの添加量を調整することにより、分子量を調整することが可能である。これらの添加剤を用いる場合、取扱性や安定性の点からアルキルメルカプタン類が好適に用いられ、例えば、n−ブチルメルカプタン、n−オクチルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、t−ドデシルメルカプタン、n−テトラデシルメルカプタン、n−オクタデシルメルカプタン、2−エチルヘキシルチオグリコレート、エチレングリコールジチオグリコレート、トリメチロールプロパントリス(チオグリコート)、ペンタエリスリトールテトラキス(チオグリコレート)等が挙げられる。
これらは、要求される分子量に応じて適宜添加することができるが、一般的には使用する全単量体の総量100質量部に対して0.001質量部〜3質量部の範囲で用いられる。
また、その他の分子量制御方法としては重合方法を変える方法、重合開始剤の量を調整する方法、重合温度を変更する方法などが挙げられる。
これらの分子量制御方法は、一種の方法だけ用いてもよいし、二種以上の方法を併用しても良い。
<他の樹脂との組合せ>
本発明により製造される共重合体は、従来公知の樹脂と組み合わせて使用することができる。使用に供される樹脂は何等規定されるものではなく、公知の硬化性樹脂、熱可塑性樹脂が好適に使用される。一例を挙げると、熱可塑性樹脂としては、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、シンジオタクテックポリスチレン系樹脂、ABS系樹脂、アクリル系樹脂、AS系樹脂、BAAS系樹脂、MBS樹脂、AAS樹脂、生分解性樹脂、ポリカーボネート−ABS樹脂のアロイ、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリアルキレンアリレート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。特にAS樹脂、BAAS樹脂は流動性を向上させるのに好ましく、ABS樹脂、MBS樹脂は耐衝撃性を向上させるのに好ましく、また、ポリエステル樹脂は耐薬品性を向上させるのに好ましい。また、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、フェノール系樹脂等は難燃性を向上させる効果が期待できる。
また、硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、キシレン樹脂、トリアジン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ウレタン樹脂、オキセタン樹脂、ケトン樹脂、アルキド樹脂、フラン樹脂、スチリルピリジン樹脂、シリコン樹脂、合成ゴム等が挙げられる。
これらの樹脂は、一種単独で用いても、二種以上の樹脂を組み合わせて用いても良い。
本発明により製造される共重合体は、従来公知の樹脂と組み合わせて使用することができる。使用に供される樹脂は何等規定されるものではなく、公知の硬化性樹脂、熱可塑性樹脂が好適に使用される。一例を挙げると、熱可塑性樹脂としては、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、シンジオタクテックポリスチレン系樹脂、ABS系樹脂、アクリル系樹脂、AS系樹脂、BAAS系樹脂、MBS樹脂、AAS樹脂、生分解性樹脂、ポリカーボネート−ABS樹脂のアロイ、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリアルキレンアリレート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。特にAS樹脂、BAAS樹脂は流動性を向上させるのに好ましく、ABS樹脂、MBS樹脂は耐衝撃性を向上させるのに好ましく、また、ポリエステル樹脂は耐薬品性を向上させるのに好ましい。また、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、フェノール系樹脂等は難燃性を向上させる効果が期待できる。
また、硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、キシレン樹脂、トリアジン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ウレタン樹脂、オキセタン樹脂、ケトン樹脂、アルキド樹脂、フラン樹脂、スチリルピリジン樹脂、シリコン樹脂、合成ゴム等が挙げられる。
これらの樹脂は、一種単独で用いても、二種以上の樹脂を組み合わせて用いても良い。
<添加剤>
本発明において製造される共重合体には、剛性や寸法安定性等の他の特性を付与するため、本発明の効果を損なわない範囲で各種の添加剤、例えば可塑剤、酸化防止剤、及び紫外線吸収剤、熱安定剤、光安定剤等の安定剤、難燃剤、難燃助剤、硬化剤、硬化促進剤、帯電防止剤、導電性付与剤、応力緩和剤、離型剤、結晶化促進剤、加水分解抑制剤、潤滑剤、衝撃付与剤、摺動性改良剤、相溶化剤、核剤、強化剤、補強剤、流動調整剤、染料、増感材、着色用顔料、ゴム質重合体、増粘剤、沈降防止剤、タレ防止剤、充填剤、消泡剤、カップリング剤、防錆剤、抗菌・防黴剤、防汚剤、導電性高分子等を添加することも可能である。
本発明において製造される共重合体には、剛性や寸法安定性等の他の特性を付与するため、本発明の効果を損なわない範囲で各種の添加剤、例えば可塑剤、酸化防止剤、及び紫外線吸収剤、熱安定剤、光安定剤等の安定剤、難燃剤、難燃助剤、硬化剤、硬化促進剤、帯電防止剤、導電性付与剤、応力緩和剤、離型剤、結晶化促進剤、加水分解抑制剤、潤滑剤、衝撃付与剤、摺動性改良剤、相溶化剤、核剤、強化剤、補強剤、流動調整剤、染料、増感材、着色用顔料、ゴム質重合体、増粘剤、沈降防止剤、タレ防止剤、充填剤、消泡剤、カップリング剤、防錆剤、抗菌・防黴剤、防汚剤、導電性高分子等を添加することも可能である。
本発明において製造される共重合体に添加することができる熱安定剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系加工安定剤等の酸化防止剤等が挙げられ、好ましくはヒンダードフェノール系酸化防止剤である。具体的には、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’−ヘキサン−1,6−ジイルビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド、3,3’,3’’,5,5’,5’’−ヘキサ−tert−ブチル−a,a’,a’’−(メシチレン−2,4,6−トリイル)トリ−p−クレゾール、4,6−ビス(オクチルチオメチル)−o−クレゾール、4,6−ビス(ドデシルチオメチル)−o−クレゾール、エチレンビス(オキシエチレン)ビス[3−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−m−トリル)プロピオネート、ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、1,3,5−トリス[(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−キシリン)メチル]−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、2,6−ジ−tert−ブチル−4−(4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イルアミン)フェノール等が挙げられ、より好ましくは、ペンタエリスリトールテラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートである。
本発明において製造される共重合体に添加することができる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾトリアジン系化合物、ベンゾエート系化合物、ベンゾフェノン系化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、フェノール系化合物、オキサゾール系化合物、マロン酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物、ラクトン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンズオキサジノン系化合物等が挙げられ、好ましくはベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾトリアジン系化合物である。これらを単独で用いても、2種以上併用して用いても構わない。
また、本発明において製造される共重合体に紫外線吸収剤を添加する場合、成型加工性の観点から、20℃における蒸気圧(P)が1.0×10-4Pa以下であるものが好ましく、さらに好ましくは1.0×10-6Pa以下であり、特に好ましくは1.0×10-8Pa以下である。成型加工性に優れるとは、例えばフィルム成形時に、紫外線吸収剤のロールへの付着が少ないことなどを示す。ロールへ付着すると、例えば成形体表面へ付着し外観、光学特性を悪化させる恐れがあるため、成形体を光学用材料として使用する場合は好ましくない。
また、紫外線吸収剤の融点(Tm)は80℃以上であることが好ましく、更に好ましくは100℃以上、より好ましくは130℃以上、特に好ましくは160℃以上である。
本発明において添加することができる紫外線吸収剤は、23℃から260℃まで20℃/minの速度で昇温した場合の重量減少率が50%以下であることが好ましく、より好ましくは30%以下、さらに好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下、特に好ましくは5%以下である。
また、紫外線吸収剤の融点(Tm)は80℃以上であることが好ましく、更に好ましくは100℃以上、より好ましくは130℃以上、特に好ましくは160℃以上である。
本発明において添加することができる紫外線吸収剤は、23℃から260℃まで20℃/minの速度で昇温した場合の重量減少率が50%以下であることが好ましく、より好ましくは30%以下、さらに好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下、特に好ましくは5%以下である。
<添加剤、他の樹脂の混練方法>
本発明により製造される共重合体を加工したり、種々の添加剤や他の樹脂と混合する場合の混練方法としては、従来公知の方法用いればよく、特に規定するものではない。例えば、押出機、加熱ロール、ニーダー、ローラミキサー、バンバリーミキサー等の混練機を用いて混練製造することができる。その中でも押出機による混練が、生産性の面で好ましい。混練温度は、本発明により製造される共重合体や混合する他の樹脂の好ましい加工温度に従えばよく、目安としては140〜300℃の範囲、好ましくは180〜280℃の範囲である。
本発明により製造される共重合体を加工したり、種々の添加剤や他の樹脂と混合する場合の混練方法としては、従来公知の方法用いればよく、特に規定するものではない。例えば、押出機、加熱ロール、ニーダー、ローラミキサー、バンバリーミキサー等の混練機を用いて混練製造することができる。その中でも押出機による混練が、生産性の面で好ましい。混練温度は、本発明により製造される共重合体や混合する他の樹脂の好ましい加工温度に従えばよく、目安としては140〜300℃の範囲、好ましくは180〜280℃の範囲である。
<成型方法>
また、本発明により製造される共重合体を単独で又はこれを含む樹脂組成物を成形することにより成形体とすることができる。
本発明により製造される共重合体又はこれを含む樹脂組成物は、射出成形、シート成形、ブロー成形、インジェクションブロー成形、インフレーション成形、Tダイ成型、プレス成形、押出成形、発泡成形、流延法によるフィルム成形等、公知の方法で成形することが可能であり、圧空成形、真空成形等の二次加工成形法も用いることができる。
また、本発明により製造される共重合体を単独で又はこれを含む樹脂組成物を成形することにより成形体とすることができる。
本発明により製造される共重合体又はこれを含む樹脂組成物は、射出成形、シート成形、ブロー成形、インジェクションブロー成形、インフレーション成形、Tダイ成型、プレス成形、押出成形、発泡成形、流延法によるフィルム成形等、公知の方法で成形することが可能であり、圧空成形、真空成形等の二次加工成形法も用いることができる。
また、本発明により製造される共重合体に硬化性樹脂を配合した樹脂組成物を用いる場合には、樹脂組成物を製造するための成分を、無溶媒で、若しくは、必要に応じて均一に混合できる溶媒を用いて混合した後、溶媒を除去して樹脂組成物を得て、これを金型内へ注形し硬化させた後冷却し、型から取り出すことにより成型品を得ることができる。また、型に注型し、熱プレスにより硬化させることもできる。各成分を溶解させる為の溶媒は各種材料を均一に混合することができ、且つ、使用することによって本発明の効果を損なわないものであれば特に限定されるものではない。一例としてはトルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、メチルセルソルブ、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、シクロヘキサノール、n−ヘキサン、n−ペンタン等が挙げられる。
また、加熱ロール、ニーダー、バンバリーミキサー、押出機等の混練機を用いて樹脂組成物を混練製造した後、冷却、粉砕し、さらにトランスファー成形、射出成形、圧縮成形等により成形を行う方法も一例として挙げることができる。また、硬化方法は使用する硬化剤により異なるが、特に限定はされない。例としては、熱硬化、光硬化、UV硬化、圧力による硬化、湿気による硬化等が挙げられる。各成分を混合させる順序は、本発明の効果が達成できる方法であれば特に規定するものではない。
また、加熱ロール、ニーダー、バンバリーミキサー、押出機等の混練機を用いて樹脂組成物を混練製造した後、冷却、粉砕し、さらにトランスファー成形、射出成形、圧縮成形等により成形を行う方法も一例として挙げることができる。また、硬化方法は使用する硬化剤により異なるが、特に限定はされない。例としては、熱硬化、光硬化、UV硬化、圧力による硬化、湿気による硬化等が挙げられる。各成分を混合させる順序は、本発明の効果が達成できる方法であれば特に規定するものではない。
<用途>
本発明により製造される共重合体を用いた成型体の用途としては、家庭用品、OA機器、AV機器、電池電装用、照明機器、自動車部品用途、ハウジング用途、サニタリー用途や、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、リアプロジェクションテレビ等のディスプレイに用いられる導光板、拡散板、偏光板保護フィルム、1/4波長板、1/2波長板、視野角制御フィルム、液晶光学補償フィルム等の位相差フィルム、ディスプレイ前面板、ディスプレイ基盤、レンズ、タッチパネル等が挙げられ、また、太陽電池に用いられる透明基盤等に好適に用いることができる。その他にも、光通信システム、光交換システム、光計測システムの分野において、導波路、レンズ、光ファイバー、光ファイバーの被覆材料、LEDのレンズ、レンズカバーなどにも用いることができる。また、他の樹脂の改質材として用いることもできる。
本発明により製造される共重合体を用いた成形体nは、例えいば反射防止処理、透明導電処理、電磁波遮蔽処理、ガスバリア処理等の表面機能化処理をすることもできる。
本発明により製造される共重合体を用いた成型体の用途としては、家庭用品、OA機器、AV機器、電池電装用、照明機器、自動車部品用途、ハウジング用途、サニタリー用途や、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、リアプロジェクションテレビ等のディスプレイに用いられる導光板、拡散板、偏光板保護フィルム、1/4波長板、1/2波長板、視野角制御フィルム、液晶光学補償フィルム等の位相差フィルム、ディスプレイ前面板、ディスプレイ基盤、レンズ、タッチパネル等が挙げられ、また、太陽電池に用いられる透明基盤等に好適に用いることができる。その他にも、光通信システム、光交換システム、光計測システムの分野において、導波路、レンズ、光ファイバー、光ファイバーの被覆材料、LEDのレンズ、レンズカバーなどにも用いることができる。また、他の樹脂の改質材として用いることもできる。
本発明により製造される共重合体を用いた成形体nは、例えいば反射防止処理、透明導電処理、電磁波遮蔽処理、ガスバリア処理等の表面機能化処理をすることもできる。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。
[実施例1]
攪拌装置の付いた容器で、メチルメタクリレート(MMA)60質量%、スチレン(St)12質量%、無水マレイン酸25質量%及びベンジルメタクリレート3質量%を混合し、これにラウロイルパーオキサイド0.05g及びn−オクチルメルカプタン0.3gを加えて溶解し、モノマー配合液を調製した。
大きさが250×300mm、厚さが6mmの2枚のガラス板の外周近辺を、柔軟性のある塩化ビニル製ガスケットで張りまわし、2枚のガラス板の距離が3.5mmになるようにして、セルを組み立てた。前記のモノマー配合液を50torrの減圧下で攪拌を続けながら、2分間の脱揮操作を行い、減圧を解いて常圧に戻した後、直ちに準備したガラスセルに注入して満たした。
次いで、モノマー配合液で満たしたガラスセルを60〜65℃に温調した温水槽中で20時間保持し、その後、110℃に温調した熱風循環オーブン内に3時間保持した後、室内で静置放冷し、ガラスセルを分解してガラス板を除去し、シート状樹脂を得た。得られたシート状樹脂を、10mmメッシュの網を取り付けたセイシン企業(株)製粗粉砕機オリエントミルVM−42D型機で粉砕後、粉砕物を500μmの篩にかけて、微粉を取り除いて粉砕組成物を得た。粉砕物の回収率は94.4%であった。
粉砕物の残存モノマー量を定法によりGCにより測定したところ、残存MMA量が0.49%、残存St量が0.01%以下であった。
[実施例1]
攪拌装置の付いた容器で、メチルメタクリレート(MMA)60質量%、スチレン(St)12質量%、無水マレイン酸25質量%及びベンジルメタクリレート3質量%を混合し、これにラウロイルパーオキサイド0.05g及びn−オクチルメルカプタン0.3gを加えて溶解し、モノマー配合液を調製した。
大きさが250×300mm、厚さが6mmの2枚のガラス板の外周近辺を、柔軟性のある塩化ビニル製ガスケットで張りまわし、2枚のガラス板の距離が3.5mmになるようにして、セルを組み立てた。前記のモノマー配合液を50torrの減圧下で攪拌を続けながら、2分間の脱揮操作を行い、減圧を解いて常圧に戻した後、直ちに準備したガラスセルに注入して満たした。
次いで、モノマー配合液で満たしたガラスセルを60〜65℃に温調した温水槽中で20時間保持し、その後、110℃に温調した熱風循環オーブン内に3時間保持した後、室内で静置放冷し、ガラスセルを分解してガラス板を除去し、シート状樹脂を得た。得られたシート状樹脂を、10mmメッシュの網を取り付けたセイシン企業(株)製粗粉砕機オリエントミルVM−42D型機で粉砕後、粉砕物を500μmの篩にかけて、微粉を取り除いて粉砕組成物を得た。粉砕物の回収率は94.4%であった。
粉砕物の残存モノマー量を定法によりGCにより測定したところ、残存MMA量が0.49%、残存St量が0.01%以下であった。
[実施例2]
攪拌装置の付いた容器で、メチルメタクリレート43質量%、スチレン35質量%、無水マレイン酸21質量%及びベンジルメタクリレート1質量%を混合し、これにラウロイルパーオキサイド0.05g及びn−オクチルメルカプタン0.3gを加えて溶解し、モノマー配合液を調製した以外は実施例1と同様にして共重合体を製造し、さらにこれを実施例1と同様にして粉砕組成物を得た。粉砕物の回収率は93.6%であった。
粉砕物の残存モノマー量を定法によりGCにより測定したところ、残存MMA量が0.22%、残存St量が0.01%以下であった。
得られた粉砕品を、テクノベル製Tダイ装着押出機(KZW15TW−25MG−NH型/幅150mmTダイ装着/リップ厚0.5mm)を用いて、押出機のシリンダー内樹脂温度が257℃、Tダイの温度が257℃になるように条件に調整し押出成形をすることにより、厚さ200μmの未延伸フィルムを得た。得られたフィルムの気泡の有無を目視で確認したところ、ほとんど見られず、共重合体中に高揮発性成分がほとんど残存していないことが確認できた。
攪拌装置の付いた容器で、メチルメタクリレート43質量%、スチレン35質量%、無水マレイン酸21質量%及びベンジルメタクリレート1質量%を混合し、これにラウロイルパーオキサイド0.05g及びn−オクチルメルカプタン0.3gを加えて溶解し、モノマー配合液を調製した以外は実施例1と同様にして共重合体を製造し、さらにこれを実施例1と同様にして粉砕組成物を得た。粉砕物の回収率は93.6%であった。
粉砕物の残存モノマー量を定法によりGCにより測定したところ、残存MMA量が0.22%、残存St量が0.01%以下であった。
得られた粉砕品を、テクノベル製Tダイ装着押出機(KZW15TW−25MG−NH型/幅150mmTダイ装着/リップ厚0.5mm)を用いて、押出機のシリンダー内樹脂温度が257℃、Tダイの温度が257℃になるように条件に調整し押出成形をすることにより、厚さ200μmの未延伸フィルムを得た。得られたフィルムの気泡の有無を目視で確認したところ、ほとんど見られず、共重合体中に高揮発性成分がほとんど残存していないことが確認できた。
[比較例1]
攪拌装置の付いた容器で、メチルメタクリレート60質量%、スチレン13質量%、及び無水マレイン酸27質量%を混合し、これにラウロイルパーオキサイド0.05g及びn−オクチルメルカプタン0.3gを加えて溶解し、モノマー調製した以外は実施例1と同様にして共重合体を製造し、さらにこれを実施例1と同様にして粉砕組成物を得た。粉砕物の回収率は92.2%であった。
粉砕物の残存モノマー量をGCにより測定したところ、残存MMA量が1.22%、残存St量が0.04%であった。
得られた粉砕品を用いて、実施例2と同様にして厚さ200μmの未延伸フィルムを得た。得られたフィルムの気泡の有無を目視で確認したところ、気泡が多数見られた。
攪拌装置の付いた容器で、メチルメタクリレート60質量%、スチレン13質量%、及び無水マレイン酸27質量%を混合し、これにラウロイルパーオキサイド0.05g及びn−オクチルメルカプタン0.3gを加えて溶解し、モノマー調製した以外は実施例1と同様にして共重合体を製造し、さらにこれを実施例1と同様にして粉砕組成物を得た。粉砕物の回収率は92.2%であった。
粉砕物の残存モノマー量をGCにより測定したところ、残存MMA量が1.22%、残存St量が0.04%であった。
得られた粉砕品を用いて、実施例2と同様にして厚さ200μmの未延伸フィルムを得た。得られたフィルムの気泡の有無を目視で確認したところ、気泡が多数見られた。
[比較例2]
攪拌装置の付いた容器で、メチルメタクリレート65質量%、スチレン20質量%、及び無水マレイン酸15質量%を混合し、これにラウロイルパーオキサイド0.05g及びn−オクチルメルカプタン0.3gを加えて溶解し、モノマー配合液を調製した以外は実施例1と同様にして共重合体を製造し、さらにこれを実施例1と同様にして粉砕組成物を得た。粉砕物の回収率は88.2%であった。
粉砕物の残存モノマー量をGCにより測定したところ、残存MMA量が0.78%、残存St量が0.02%であった。
攪拌装置の付いた容器で、メチルメタクリレート65質量%、スチレン20質量%、及び無水マレイン酸15質量%を混合し、これにラウロイルパーオキサイド0.05g及びn−オクチルメルカプタン0.3gを加えて溶解し、モノマー配合液を調製した以外は実施例1と同様にして共重合体を製造し、さらにこれを実施例1と同様にして粉砕組成物を得た。粉砕物の回収率は88.2%であった。
粉砕物の残存モノマー量をGCにより測定したところ、残存MMA量が0.78%、残存St量が0.02%であった。
本発明による共重合体の製造方法によって得られた共重合体は、残存モノマー量が少ない上、粉砕時に微粉が発生しにくい。
本発明の製造方法により得られる共重合体は、透明性が高く、高い耐熱性を有しており、家庭用品、OA機器、AV機器、電池電装用、照明機器、自動車部品用途、ハウジング用途や、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、リアプロジェクションテレビ等のディスプレイに用いられる導光板、拡散板、偏光板保護フィルム、1/4波長板、1/2波長板、視野角制御フィルム、液晶光学補償フィルム等の位相差フィルム、ディスプレイ前面板、ディスプレイ基盤、レンズ、タッチパネル等、また、太陽電池に用いられる透明基盤、光通信システム、光交換システム、光計測システムの分野における、導波路、レンズ、光ファイバー、光ファイバーの被覆材料、LEDのレンズ、レンズカバーなどにも好適に使用できる。
本発明の製造方法により得られる共重合体は、透明性が高く、高い耐熱性を有しており、家庭用品、OA機器、AV機器、電池電装用、照明機器、自動車部品用途、ハウジング用途や、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、リアプロジェクションテレビ等のディスプレイに用いられる導光板、拡散板、偏光板保護フィルム、1/4波長板、1/2波長板、視野角制御フィルム、液晶光学補償フィルム等の位相差フィルム、ディスプレイ前面板、ディスプレイ基盤、レンズ、タッチパネル等、また、太陽電池に用いられる透明基盤、光通信システム、光交換システム、光計測システムの分野における、導波路、レンズ、光ファイバー、光ファイバーの被覆材料、LEDのレンズ、レンズカバーなどにも好適に使用できる。
Claims (8)
- 少なくとも不飽和カルボン酸エステル(a)、芳香族ビニル化合物(b)及び不飽和カルボン酸無水物(c)を、下記一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルの存在下で共重合させる、共重合体の製造方法。
- 前記一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルを、不飽和カルボン酸エステル(a)、芳香族ビニル化合物(b)及び不飽和カルボン酸無水物(c)の合計100質量部に対して、0.1質量部以上5質量部以下存在させる、請求項1に記載の共重合体の製造方法。
- 前記(a)成分の仕込み量が、(a)、(b)及び(c)の合計100質量部に対して10質量部以上90質量部以下であり、前記(b)成分の仕込み量が、(a)、(b)及び(c)の合計100質量部に対して1質量部以上89質量部以下であり、及び、前記(c)成分の仕込み量が(a)、(b)及び(c)の合計100質量部に対して1質量部以上50質量部以下である、請求項1に記載の共重合体の製造方法。
- 重合温度が50℃以上160℃以下である、請求項1〜3いずれか一項に記載のアクリル系共重合体の製造方法。
- 重合方法が、塊状重合法又はキャスト重合法である、請求項1〜4いずれか一項に記載の共重合体の製造方法。
- 請求項1〜5いずれか一項の製造方法で製造される共重合体。
- 請求項6記載の共重合体を含む成形体。
- 請求項6記載の共重合体を含むフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009114192A JP2010260987A (ja) | 2009-05-11 | 2009-05-11 | アクリル系共重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010260987A true JP2010260987A (ja) | 2010-11-18 |
Family
ID=43359350
Family Applications (1)
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JP2009114192A Pending JP2010260987A (ja) | 2009-05-11 | 2009-05-11 | アクリル系共重合体の製造方法 |
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---|---|---|---|---|
JP2012229421A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Korea Kumho Petrochemical Co Ltd | 有機反射防止膜用共重合体、単量体、及びその共重合体を含む組成物 |
JP2014047278A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 高分子化合物、及び該高分子化合物を含む絶縁層材料 |
CN114456304A (zh) * | 2020-12-28 | 2022-05-10 | 海南必凯水性新材料有限公司 | 高阻隔和高耐水的水性丙烯酸乳液及其制备方法 |
-
2009
- 2009-05-11 JP JP2009114192A patent/JP2010260987A/ja active Pending
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