JP2010258667A - Electronic component and manufacturing method thereof, and piezoelectric vibrator and manufacturing method thereof - Google Patents

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健次 土戸
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  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic component which reliably connects a lead-out electrode to an electrode, and to provide a piezoelectric vibrator and methods for manufacturing them. <P>SOLUTION: There is provided a method for manufacturing the piezoelectric vibrator 10 formed by mounting a piezoelectric vibration piece 14 having an exciting electrode (first exciting electrode 26 and second exciting electrode 30) and a lead-out electrode (first lead-out electrode 28 and second lead-out electrode 32) on a base substrate 44. The method includes: bonding the lead-out electrode and a first face 44a of the base substrate 44 by wax material 36; digging the base substrate 44 and the wax material 36 from a second face 44b opposite to the first face 44a of the base substrate 44 toward the first face 44a; forming a hole (first hole 46 and second hole 48); and forming an electrode (first electrode 50 and second electrode 52) on inner walls 46a and 48a of the hole. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、圧電振動子や力検出素子等の積層構造を有する電子部品について、他層間の電極の電気的接続の信頼性を向上させて、歩留を向上させるとともに、コストダウンを可能とする電子部品及び製造方法に関する。   The present invention improves the reliability of electrical connection of electrodes between other layers for electronic components having a laminated structure such as a piezoelectric vibrator and a force detection element, thereby improving yield and enabling cost reduction. The present invention relates to an electronic component and a manufacturing method.

近年に代表される移動体通信機器や携帯電話は個人向け携帯電話の小型軽量化及び高周波化に伴い、それらに用いられる圧電振動子やフィルタ等も、より一層の小型化及び高周波化が求められている。この要求に応えるため、従来の圧電部品は小型化、薄型化のパッケージへの適用が急速に求められてきている。一方、水晶振動子、水晶フィルタやSAWフィルタなどの圧電素子は、周囲の温度や湿度の変化、あるいは微細な異物に影響されて特性が微妙に変化することや、機械的振動や衝撃によって破損しやすい。このため上述の素子は、パッケージに封止して使用に供されている。   As mobile communication devices and mobile phones represented in recent years have become smaller, lighter and higher in frequency for personal mobile phones, piezoelectric vibrators and filters used in them have been required to be further reduced in size and frequency. ing. In order to meet this demand, conventional piezoelectric parts have been rapidly demanded to be applied to smaller and thinner packages. On the other hand, piezoelectric elements such as crystal resonators, crystal filters, and SAW filters may be damaged by changes in ambient temperature and humidity, or by fine foreign substances, and may be damaged by mechanical vibration or impact. Cheap. For this reason, the above-mentioned element is sealed for use in a package.

従来のパッケージは、素子個別にパッケージを形成しているが、これに対し、複数の素子が同時に切り出されているウェハレベルで、封止された状態としたのち、個々の素子(チップ)に切り出してパッケージされたチップの状態とする技術も提案されている。   In the conventional package, a package is formed for each element. On the other hand, after a plurality of elements are cut out at the same time, the package is sealed and then cut into individual elements (chips). There is also proposed a technology for making a packaged chip.

第1の従来技術として、図15に示すように、特許文献1には、枠付の水晶振動子の両面をガラスからなる蓋体を直接接合で封止した3層パッケージに関して、第1電極に接続して圧電振動子102の接続部106を介しての引き出し電極形成工程と、第2電極に接続して圧電振動子102の接続部106を介しての引き出し電極形成工程と、前記引き出し電極の蓋体に当接する箇所に切欠き部のある蓋体を用意し、枠部101とこの内側に配置した圧電振動子102とが一体形成された矩形の圧電振動片と前記圧電振動片の引き出し電極の蓋体に対向する箇所に切欠き部のある第1の蓋体104と第2の蓋体105とを直接接合する工程と、前記直接接合工程を終えてから前記蓋体の切欠き部を蓋体にある貫通孔を通じて蒸着や蝋材などにより封止する工程と、からなる製造方法が開示されている。   As a first prior art, as shown in FIG. 15, Patent Document 1 discloses a three-layer package in which both sides of a crystal unit with a frame are sealed by directly bonding glass lids. Connecting and connecting the second electrode through the connecting portion 106 of the piezoelectric vibrator 102, forming the extracting electrode through the connecting portion 106 of the piezoelectric vibrator 102 and connecting the second electrode; A lid body with a notch is prepared at a location where it abuts against the lid body, a rectangular piezoelectric vibrating piece in which a frame portion 101 and a piezoelectric vibrator 102 disposed inside thereof are integrally formed, and a lead electrode of the piezoelectric vibrating piece A step of directly joining the first lid body 104 and the second lid body 105 having a notch at a position facing the lid body, and a notch portion of the lid body after the direct joining step is finished. For vapor deposition or wax material through the through hole in the lid A step of Rifutome method consisting is disclosed.

また、励振電極から引き出された引き出し電極と外部電極とを、基板を貫通する貫通電極により導通を図るという技術的思想及びこれを実現するための製造方法は、以下の複数の特許文献においても提案されている。   Further, the technical idea of conducting electrical connection between the extraction electrode extracted from the excitation electrode and the external electrode by the through electrode penetrating the substrate and the manufacturing method for realizing the same are also proposed in the following patent documents. Has been.

第2の従来技術として、図16(a)に示すように、特許文献2においては、枠部203Aと振動部203Bとが一体で形成される水晶からなる圧電基板203を、共にガラスからなる蓋201と基板202とで挟んで構成された圧電振動子200が開示されており、基板202にスルーホール204が形成されている。このスルーホール204は、特許文献3に開示されているように(図16(b))、振動部203Bに形成された励振電極に接続された中間層の引き出し電極203Cに当接するとともに、蓋201の外側面に向かって開口部の径が大きくなるようにテーパーをつけて形成されており、その表面にはスパッタリングにより、CrとAuの2層からなる外部電極205(テーパーの部分は貫通電極)が形成されている。   As a second conventional technique, as shown in FIG. 16A, in Patent Document 2, a piezoelectric substrate 203 made of crystal in which a frame portion 203A and a vibrating portion 203B are integrally formed is used as a lid made of glass. A piezoelectric vibrator 200 configured by being sandwiched between 201 and a substrate 202 is disclosed, and a through hole 204 is formed in the substrate 202. As disclosed in Patent Document 3 (FIG. 16B), the through hole 204 abuts on the extraction electrode 203C of the intermediate layer connected to the excitation electrode formed in the vibration part 203B, and the lid 201 The outer electrode 205 is formed with a taper so that the diameter of the opening increases, and the outer electrode 205 made of two layers of Cr and Au is formed on the surface by sputtering (the tapered portion is a through electrode). Is formed.

第3の従来技術として、図17に特許文献4に開示された圧電振動子の製造工程を、図18に特許文献4に開示された圧電振動子を構成する第1水晶基板を示す。図18(a)は平面図、図18(b)は図18(a)のA−A線断面図である。図17に示すように、特許文献4には、シロキサン結合による直接接合により圧電振動片302が形成された第1水晶基板301aを第2水晶基板301b及び第3水晶基板301cにより挟み込む態様で積層された3層All Quartz Packageにおいて(図17(a)、図17(b))、電極貫通孔が、フッ酸を用いたウェットエッチングや公知のドライエッチング技術を用いて第1水晶板301aに第1貫通孔306mを形成し(図17(c))、第1貫通孔306mにクロムからなる導電ペーストを充填して焼結し、ビアホールによる第1貫通電極306aを形成し(図17(d))、第1貫通電極306aは第1水晶基板301aの一主面における両端側の各電極パッド304(xy)に接続するとともに、第1水晶基板301aの他主面に露出した第1貫通電極306aに接続して外周寄りの電極パッド307(xy)を蒸着等によって形成する(図17(e))することが開示されている。   As a third prior art, FIG. 17 shows a manufacturing process of the piezoelectric vibrator disclosed in Patent Document 4, and FIG. 18 shows a first crystal substrate constituting the piezoelectric vibrator disclosed in Patent Document 4. 18A is a plan view, and FIG. 18B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 18A. As shown in FIG. 17, in Patent Document 4, the first crystal substrate 301a on which the piezoelectric vibrating piece 302 is formed by direct bonding using a siloxane bond is stacked in a manner sandwiched between the second crystal substrate 301b and the third crystal substrate 301c. In the three-layer All Quartz Package (FIGS. 17A and 17B), the electrode through-hole is first formed on the first crystal plate 301a using wet etching using hydrofluoric acid or a known dry etching technique. A through hole 306m is formed (FIG. 17C), and the first through hole 306m is filled with a conductive paste made of chromium and sintered to form a first through electrode 306a by a via hole (FIG. 17D). The first through electrode 306a is connected to the electrode pads 304 (xy) on both ends of one main surface of the first crystal substrate 301a, and the first crystal substrate It is disclosed that an electrode pad 307 (xy) near the outer periphery is formed by vapor deposition or the like (FIG. 17E) by connecting to the first through electrode 306a exposed on the other main surface of the plate 301a.

特許文献5及び6には、直接接合により積層された3層All Quartz Packageにおいて、気密封止される凹部を水晶基板からサンドブラスト加工とエッチング加工とを用いて形成することが開示されている。尚、エッチング加工はサンドブラスト加工により形成された凹部表面の応力緩和と加工変質層を除去するためになされるものであって、凹部表面をライトエッチングするだけなので、水晶基板特有のエッチチャンネルに起因したエッチトンネルが生成される問題は生じない。   Patent Documents 5 and 6 disclose that in a three-layer All Quartz Package stacked by direct bonding, a hermetically sealed recess is formed from a quartz substrate using sandblasting and etching. The etching process is performed to remove stress on the surface of the recess formed by sandblasting and to remove the work-affected layer, and only the surface of the recess is light-etched. The problem of creating an etch tunnel does not occur.

第4の従来技術として、図19(a)に示すように、蓋体412と、無アルカリガラスからなる絶縁基板413と、絶縁基板413上に導電性接着剤418で固定された圧電振動片411を有する圧電振動子401において、絶縁基板413に対して(図19(a)、(b))サンドブラスト加工を用いて、径が漸次小さくなるようにテーパーを有するスルーホール414を形成し(図19(c))、前記スルーホール414の表面(内壁)には、スパッタリング法によりクロム薄膜(厚み:0.1μm)を形成し、このクロム薄膜上に、スパッタリング法によりパラジウム薄膜(厚み:0.05μm)を形成した後、このパラジウム薄膜上に、電界メッキ法により金薄膜(厚み:0.5〜1.0μm)を形成することにより、クロム薄膜、パラジウム薄膜及び金薄膜からなる導電膜430を形成し(図19(d))、エッチングにより導電性接着剤418と接続する接続電極415a、貫通電極415b、外部電極415cを形成し(図19(e))、スルーホール414を金属部材417により封止する構成が提案されている(図19(f))。   As a fourth conventional technique, as shown in FIG. 19A, a lid 412, an insulating substrate 413 made of non-alkali glass, and a piezoelectric vibrating piece 411 fixed on the insulating substrate 413 with a conductive adhesive 418. In the piezoelectric vibrator 401 having a through hole, a through hole 414 having a taper is formed so that the diameter is gradually reduced by using sandblasting (FIGS. 19A and 19B) with respect to the insulating substrate 413 (FIG. 19). (C)) A chromium thin film (thickness: 0.1 μm) is formed on the surface (inner wall) of the through hole 414 by sputtering, and a palladium thin film (thickness: 0.05 μm) is formed on the chromium thin film by sputtering. ), A gold thin film (thickness: 0.5 to 1.0 μm) is formed on the palladium thin film by an electroplating method. A conductive film 430 made of a thin film of gold and a thin gold film is formed (FIG. 19D), and a connection electrode 415a, a through electrode 415b, and an external electrode 415c connected to the conductive adhesive 418 are formed by etching (FIG. 19E). )), A configuration in which the through hole 414 is sealed with a metal member 417 has been proposed (FIG. 19F).

特開2006−211411号公報JP 2006-211411 A 特開2007−96777号公報JP 2007-96777 A 特許第3390348号公報Japanese Patent No. 3390348 特開2008−182665号公報JP 2008-182665 A 特許第3550822号公報Japanese Patent No. 3550822 特開平9−102721号公報JP-A-9-102721 特開2006−295246号公報JP 2006-295246 A

特許文献4を除く上述の圧電振動子は、積層前に各層を形成することになるので、積層すると引き出し電極と貫通電極との間に隙間が形成され、引き出し電極と貫通電極とが点接触となるため、導通を確実に行うことが困難であった。   In the above-described piezoelectric vibrator except for Patent Document 4, each layer is formed before stacking. Therefore, when stacked, a gap is formed between the lead electrode and the through electrode, and the lead electrode and the through electrode are in point contact. Therefore, it has been difficult to reliably conduct electricity.

一方、図17に示すように、特許文献4の方法においては第1水晶基板301aと第3水晶基板301cとを直接接合により接合したのちに第1貫通孔306mをエッチングにより形成し、この第1貫通孔に導電ペーストを貫通電極として充填して、引き出し電極と貫通電極との導通を確実なものとする方法が提案されている。しかし、図18に示すように、第1水晶基板301aには圧電振動片302が形成されるとともに、圧電振動片302の外周は間隙を隔てて枠部が形成され、更に圧電振動片302は基部302aと基部302aから延出された2本の振動ビームからなる音叉腕302bとから構成されているので、音叉腕302bのスリットや圧電振動片302と枠部との間に隙間を有しているため、これらのスリットや隙間を埋めない限り第1水晶基板301aの第3水晶基板301c側及び第3水晶基板301cの内側がエッチングされてしまう問題があり、またその問題を回避する方法が開示されていない。さらに第1水晶基板301aの圧電振動片302の音叉腕302bに励振電極や側面電極等が形成されている場合において、第3水晶基板301c側に対向する励振電極をエッチングに備えてマスクすることはできず、またその反対側の励振電極はエッチングに備えてマスクすることは可能であるが、マスクを施す工程とマスクを剥がす工程が必要になるためコストアップにつながる。また仮に第1水晶基板301aの隙間が埋められていたとしても、第1水晶基板301aと第3水晶基板301cとの直接接合において、電極パッド304x(304y)は第1水晶基板301aと当接するもののシロキサン結合による接合はできないので、第1貫通孔306mを形成する際にエッチング液が電極パッド304x(304y)と第1水晶基板301aとの間から漏洩する問題がある。   On the other hand, as shown in FIG. 17, in the method of Patent Document 4, the first crystal substrate 301a and the third crystal substrate 301c are directly bonded to each other, and then the first through hole 306m is formed by etching. A method has been proposed in which a conductive paste is filled in a through hole as a through electrode to ensure conduction between the lead electrode and the through electrode. However, as shown in FIG. 18, a piezoelectric vibrating piece 302 is formed on the first quartz substrate 301a, and a frame portion is formed on the outer periphery of the piezoelectric vibrating piece 302 with a gap therebetween. 302a and the tuning fork arm 302b made of two vibration beams extending from the base 302a, there is a gap between the slit of the tuning fork arm 302b or between the piezoelectric vibrating piece 302 and the frame. Therefore, unless these slits and gaps are filled, there is a problem that the third crystal substrate 301c side of the first crystal substrate 301a and the inside of the third crystal substrate 301c are etched, and a method for avoiding the problem is disclosed. Not. Further, when an excitation electrode, a side electrode, or the like is formed on the tuning fork arm 302b of the piezoelectric vibrating piece 302 of the first crystal substrate 301a, the excitation electrode facing the third crystal substrate 301c is masked in preparation for etching. In addition, the excitation electrode on the opposite side can be masked in preparation for etching, but a process of applying a mask and a process of removing the mask are required, leading to an increase in cost. Even if the gap between the first crystal substrate 301a is filled, the electrode pad 304x (304y) is in contact with the first crystal substrate 301a in the direct bonding between the first crystal substrate 301a and the third crystal substrate 301c. Since bonding by a siloxane bond is not possible, there is a problem that an etching solution leaks from between the electrode pad 304x (304y) and the first quartz substrate 301a when forming the first through hole 306m.

さらに、貫通孔をドライエッチングで形成しようとするとエッチング時間に長時間を要す問題がある。また一般に水晶部品に使用される人工水晶は、その育成中に結晶の一部に線状の格子欠陥が生成されることが良く知られている。この線状格子欠陥は、水晶基板をウェットエッチングしたときに、エッチチャンネルと呼ばれるトンネル状の穴や貫通孔を形成するという問題がある。さらに、水晶のエッチチャンネルは、通常のエッチングの約2倍のエッチングレートで進行するので、ウェットエッチングの加工量が多くなると、それだけエッチチャンネルを生じ易くなり、圧力センサ1内部に所望の真空度を実現したり維持することが困難になる虞がある。よって、これらエッチングによる問題を回避するため、上述の貫通孔を特許文献7に示すようにサンドブラストにより形成することが提案されている。   Furthermore, when trying to form a through hole by dry etching, there is a problem that a long time is required for etching. In addition, it is well known that an artificial quartz generally used for a quartz part generates a linear lattice defect in a part of the crystal during its growth. This linear lattice defect has a problem of forming a tunnel-like hole or a through-hole called an etch channel when the quartz substrate is wet-etched. Furthermore, since the crystal etch channel progresses at an etching rate approximately twice that of normal etching, an increase in the amount of wet etching makes it easier to form an etch channel, and a desired degree of vacuum inside the pressure sensor 1 is increased. It may be difficult to implement or maintain. Therefore, in order to avoid these problems caused by etching, it has been proposed to form the above-mentioned through holes by sandblasting as shown in Patent Document 7.

しかしながら、いずれの特許文献においても貫通孔(スルーホール)をサンドブラストを用いて形成する場合、貫通孔において基板の引き出し電極に対向する側に基板材料によるチッピングが発生することになるが、貫通孔に形成すべき貫通電極の下地金属層をチッピング部に安定して形成することができず、貫通電極―引き出し電極間にギャップ(空隙)が形成されてしまうことにより断線する虞があるため、貫通電極に接続された外部電極と引き出し電極とを確実に接続することができず、その分歩留まりの低下を招く問題があった。更にチッピングにより凹凸がある表面に確実に貫通電極を形成するためには、貫通電極の膜厚が厚くなってしまうので、生産性が悪くコストアップにつながる問題があった。   However, in any patent document, when a through hole (through hole) is formed using sandblasting, chipping due to the substrate material occurs on the side of the through hole facing the extraction electrode of the substrate. Since the base metal layer of the through electrode to be formed cannot be stably formed in the chipping portion, there is a risk of disconnection due to the formation of a gap (gap) between the through electrode and the extraction electrode. There is a problem that the external electrode and the extraction electrode connected to each other cannot be reliably connected, resulting in a decrease in yield. Furthermore, in order to reliably form a through electrode on a surface with unevenness by chipping, the thickness of the through electrode is increased, resulting in a problem of poor productivity and an increase in cost.

そこで、本発明は上記問題点に着目し、圧電振動片に形成された励振電極から引き出された引き出し電極と外部電極とを基板を貫通する貫通電極により導通する構成を有する圧電振動子において、貫通電極と引き出し電極との導通を確実に行って歩留まりを向上させるとともにコストダウンを可能とする電子部品、圧電振動子及びそれらの製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention pays attention to the above-mentioned problem, and in the piezoelectric vibrator having a configuration in which the lead electrode drawn from the excitation electrode formed on the piezoelectric vibrating piece and the external electrode are electrically connected by the through electrode penetrating the substrate, It is an object of the present invention to provide an electronic component, a piezoelectric vibrator, and a method for manufacturing the same, which can reliably conduct electricity between an electrode and a lead electrode to improve yield and reduce costs.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例として実現することが可能である。
[適用例1]電極を有する電子素子片を、基板上に搭載して形成される電子部品の製造方法であって、前記電極と前記基板の第1面とを蝋材により接合し、前記基板の前記第1面の反対側の第2面から前記第1面の方向に向かって前記基板及び前記蝋材を掘り込んで孔を形成し、前記孔の内壁に電極を形成することを特徴とする電子部品の製造方法。
SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following application examples.
Application Example 1 A method of manufacturing an electronic component formed by mounting an electronic element piece having an electrode on a substrate, wherein the electrode and the first surface of the substrate are joined by a wax material, and the substrate The substrate and the wax material are dug from the second surface opposite to the first surface toward the first surface to form a hole, and an electrode is formed on the inner wall of the hole. Manufacturing method for electronic parts.

上記方法により、基板の第2面側の蝋材により接合された領域に貫通孔を形成するため、孔に形成される電極は引き出し電極と確実に電気的に接続されることになる。よって電子部品の歩留まりを高めることができる。   By the above method, since the through hole is formed in the region joined by the wax material on the second surface side of the substrate, the electrode formed in the hole is surely electrically connected to the extraction electrode. Therefore, the yield of electronic components can be increased.

[適用例2]電極を有する電子素子片を、基板上に搭載して形成される電子部品であって、前記電子部品は、前記電極と前記基板の第1面とを接続する蝋材と、前記基板の前記第1面の反対側の第2面から前記第1面の方向に向かって前記基板及び前記蝋材を掘り込んで形成された孔と、前記孔の内壁に形成された電極と、を有することを特徴とする電子部品。   Application Example 2 An electronic component formed by mounting an electronic element piece having an electrode on a substrate, the electronic component including a brazing material that connects the electrode and the first surface of the substrate; A hole formed by digging the substrate and the wax material from a second surface opposite to the first surface of the substrate toward the first surface; and an electrode formed on an inner wall of the hole; The electronic component characterized by having.

上記構成により、基板の第2面側の蝋材により接合された領域に孔を形成するため、孔に形成される貫通電極は引き出し電極と確実に電気的に接続されることになる。よって歩留まりを高めた電子部品となる。   With the above configuration, since the hole is formed in the region joined by the wax material on the second surface side of the substrate, the through electrode formed in the hole is surely electrically connected to the extraction electrode. Therefore, an electronic component with improved yield is obtained.

[適用例3]励振電極と前記励振電極に接続された引き出し電極とを有する圧電振動片を、基板上に搭載して形成される圧電振動子の製造方法であって、前記引き出し電極と前記基板の第1面とを蝋材により接合し、前記基板の前記第1面の反対側の第2面から前記第1面の方向に向かって前記基板及び前記蝋材を掘り込んで孔を形成し、前記孔の内壁に電極を形成することを特徴とする圧電振動子の製造方法。   Application Example 3 A method for manufacturing a piezoelectric vibrator formed by mounting a piezoelectric vibrating piece having an excitation electrode and an extraction electrode connected to the excitation electrode on a substrate, the extraction electrode and the substrate The first surface of the substrate is joined with a wax material, and the substrate and the wax material are dug from the second surface opposite to the first surface of the substrate toward the first surface to form a hole. A method of manufacturing a piezoelectric vibrator, comprising forming an electrode on the inner wall of the hole.

上記方法により、基板の第2面側の蝋材により接合された領域に孔を形成するため、孔に形成される電極は引き出し電極と確実に電気的に接続されることになる。よって圧電振動子の歩留まりを高めることができる。   Since the hole is formed in the region joined by the wax material on the second surface side of the substrate by the above method, the electrode formed in the hole is surely electrically connected to the extraction electrode. Therefore, the yield of the piezoelectric vibrator can be increased.

[適用例4]励振電極と前記励振電極に接続された引き出し電極とを有する圧電振動片を、基板上に搭載して形成される圧電振動子であって、前記圧電振動子は、前記引き出し電極と前記基板の第1面とを接続する蝋材と、前記基板の前記第1面の反対側の第2面から前記第1面の方向に向かって前記基板及び前記蝋材を掘り込んで形成された孔と、前記孔の内壁に形成された電極と、を有することを特徴とする圧電振動子。   Application Example 4 A piezoelectric vibrator formed by mounting a piezoelectric vibrating piece having an excitation electrode and an extraction electrode connected to the excitation electrode on a substrate, the piezoelectric oscillator being the extraction electrode And a brazing material that connects the first surface of the substrate, and the substrate and the brazing material are dug in the direction of the first surface from the second surface opposite to the first surface of the substrate. A piezoelectric vibrator having a formed hole and an electrode formed on an inner wall of the hole.

上記構成により、基板の第2面側の蝋材により接合された領域に孔を形成するため、孔に形成される電極は引き出し電極と確実に電気的に接続されることになる。よって歩留まりを高めた圧電振動子となる。   With the above configuration, since the hole is formed in the region joined by the wax material on the second surface side of the substrate, the electrode formed in the hole is surely electrically connected to the extraction electrode. Therefore, a piezoelectric vibrator having a high yield is obtained.

[適用例5]前記孔は、サンドブラストにより前記第2面から前記第1面側に向かって漸次内径が小さくなるテーパー状に形成されたことを特徴とする適用例4に記載の圧電振動子。   [Application Example 5] The piezoelectric vibrator according to Application Example 4, wherein the hole is formed in a taper shape with a gradually decreasing inner diameter from the second surface toward the first surface by sandblasting.

上記構成により、第1面と蝋材は接合され、その接合された領域に孔を形成するため、前記領域にチッピングが発生することはなく、そのまま蝋材にサンドブラストが進行する。よって、孔に形成される電極においてチッピングによる断線が発生することを回避して歩留まりを高めた圧電振動子となる。またチッピングが発生することがないので、それを補うため電極として大量の金属材料を用いる必要がないのでコストダウンが可能な圧電振動子となる。さらに孔がテーパー状に形成されたため、電極を均一に形成することができるので、製品ごとの電気的特性のばらつきを抑制することができる。   With the above configuration, the first surface and the wax material are joined, and a hole is formed in the joined region. Therefore, chipping does not occur in the region, and sandblasting proceeds to the wax material as it is. Therefore, a piezoelectric vibrator is obtained in which the yield is increased by avoiding the occurrence of disconnection due to chipping in the electrode formed in the hole. Further, since no chipping occurs, it is not necessary to use a large amount of metal material as an electrode to compensate for this, so that the piezoelectric vibrator can be reduced in cost. Furthermore, since the holes are formed in a tapered shape, the electrodes can be formed uniformly, so that variation in electrical characteristics among products can be suppressed.

[適用例6]前記孔をサンドブラストにより形成されたのち、前記内壁にエッチング処理を行うことを特徴とする適用例5に記載の圧電振動子。
これにより、孔の内壁の残留応力を低減して圧電振動子への悪影響を防止するとともに、孔の内壁を平滑化することにより電極の形成を容易に行うことができる。
[Application Example 6] The piezoelectric vibrator according to Application Example 5, wherein the hole is formed by sandblasting, and then the inner wall is etched.
Accordingly, the residual stress on the inner wall of the hole is reduced to prevent an adverse effect on the piezoelectric vibrator, and the electrode can be easily formed by smoothing the inner wall of the hole.

[適用例7]前記第2面の前記蝋材が接合する領域には凸部が形成され、前記孔は前記凸部を貫通することを特徴とする適用例4乃至6のいずれか1例に記載の圧電振動子。
これにより蝋材の基板との接触面積が増大して接合が安定するとともに、凸部を形成した分だけ蝋材を節約できるのでコストダウンを図ることができる。
Application Example 7 In any one of Application Examples 4 to 6, wherein a convex portion is formed in a region where the wax material of the second surface is joined, and the hole penetrates the convex portion. The piezoelectric vibrator as described.
This increases the contact area of the brazing material with the substrate and stabilizes the joining, and saves the brazing material as much as the convex portions are formed, thereby reducing the cost.

[適用例8]前記孔は、前記基板及び前記蝋材とともに、前記引き出し電極を掘り込んで形成されたことを特徴とする適用例4乃至7のいずれか1例に記載の圧電振動子。
これにより電極と引き出し電極とが直接的に接合するため、導電性の蝋材を用いる必要はなくコストダウンを図ることができる。
Application Example 8 The piezoelectric vibrator according to any one of Application Examples 4 to 7, wherein the hole is formed by digging the extraction electrode together with the substrate and the wax material.
As a result, since the electrode and the extraction electrode are directly joined, it is not necessary to use a conductive wax material, and the cost can be reduced.

[適用例9]基板、圧電振動片層、リッドの順に積層された圧電振動子であって、前記圧電振動片層は、励振電極を有する圧電振動片と、前記圧電振動片を支持する支持枠と、前記圧電振動片に接続された引き出し部と、前記励振電極に接続され前記引き出し部の前記基板に対向する面に引き出され、前記基板の第1面と蝋材により接合された引き出し電極と、を有し、前記圧電振動子は、前記基板の前記第1面の反対側の第2面から前記第1面の方向に向かってサンドブラストにより前記基板及び前記蝋材を掘り込んで形成された孔と、前記孔の内壁に形成された電極と、を有するとともに、前記引き出し部を前記リッドに固定する固定部を有することを特徴とする圧電振動子。   Application Example 9 A piezoelectric vibrator in which a substrate, a piezoelectric vibrating piece layer, and a lid are stacked in this order, and the piezoelectric vibrating piece layer includes a piezoelectric vibrating piece having an excitation electrode and a support frame that supports the piezoelectric vibrating piece. A lead portion connected to the piezoelectric vibrating piece; a lead electrode connected to the excitation electrode and led to a surface of the lead portion facing the substrate; and a lead electrode joined to the first surface of the substrate by a wax material; The piezoelectric vibrator is formed by digging the substrate and the wax material by sandblasting from the second surface opposite to the first surface of the substrate toward the first surface. A piezoelectric vibrator having a hole and an electrode formed on an inner wall of the hole and having a fixing portion that fixes the lead portion to the lid.

上記構成により、圧電振動子は内部空間を有する3層構造となるが、基板の第2面側の蝋材により接合された領域に孔を形成するため、サンドブラスト用の研削粒子が前記内部空間に入り込むことはない。またサンドブラストは基板の第2面側から第1面側に向かって行われ、その際引き出し部はサンドブラストによりリッド側に応力を受けることになるが、固定部により引き出し部をリッドに固定することにより、サンドブラストの衝撃による引き出し部の破損を防止し、また引き出し部と蝋材との境界にサンドブラストによる衝撃が集中することを回避して引き出し部と蝋材との剥離を防止し、孔の形成を容易に行うことができる。   With the above configuration, the piezoelectric vibrator has a three-layer structure having an internal space. However, in order to form a hole in the region joined by the wax material on the second surface side of the substrate, sandblasting grinding particles are formed in the internal space. Never get in. Sand blasting is performed from the second surface side to the first surface side of the substrate. At that time, the lead portion is subjected to stress on the lid side by sand blasting, but by fixing the lead portion to the lid by the fixing portion, , Prevents damage to the drawer due to the impact of sandblasting, prevents the impact of sandblasting from concentrating on the boundary between the drawer and the wax material, prevents peeling of the drawer and wax material, and forms a hole. It can be done easily.

[適用例10]前記固定部は、蝋材であることを特徴とする適用例9に記載の圧電振動子。これにより孔が形成される蝋材と同一材料を用いることにより材料数を増やすことなくコストダウンを図ることができる。   [Application Example 10] The piezoelectric vibrator according to Application Example 9, wherein the fixing portion is a wax material. Thus, the cost can be reduced without increasing the number of materials by using the same material as the wax material in which the holes are formed.

[適用例11]前記固定部は、バンプであることを特徴とする適用例9に記載の圧電振動子。バンプはリッドと引き出し部とを強固に接合できるのでサンドブラストによる引き出し部の振動を抑制して、サンドブラストを効果的に行うことができる。   Application Example 11 The piezoelectric vibrator according to Application Example 9, wherein the fixing portion is a bump. Since the bump can firmly bond the lid and the lead portion, the vibration of the lead portion due to sand blasting can be suppressed and sand blasting can be performed effectively.

[適用例12]前記固定部は、前記引き出し部に形成された第2凸部であることを特徴とする適用例9に記載の圧電振動子。これにより引き出し部とリッドとの相対位置がリジッドに決まるので、サンドブラストによる引き出し部の振動を抑制して、サンドブラストを効果的に行うことができるとともに、圧電振動片層を形成する材料を用いて第2凸部を形成することになるので、コストダウンを図ることができる。   [Application Example 12] The piezoelectric vibrator according to Application Example 9, wherein the fixing portion is a second convex portion formed in the drawer portion. As a result, the relative position between the lead portion and the lid is determined to be rigid, so that it is possible to effectively perform sandblasting by suppressing the vibration of the lead portion due to sandblasting, and to use the material that forms the piezoelectric vibrating piece layer. Since two convex portions are formed, the cost can be reduced.

第1実施形態に係る圧電振動子の模式図である。It is a schematic diagram of the piezoelectric vibrator according to the first embodiment. 第1実施形態に係る圧電振動子の模式図である。It is a schematic diagram of the piezoelectric vibrator according to the first embodiment. 第1実施形態に係る圧電振動子の分解斜視図である。1 is an exploded perspective view of a piezoelectric vibrator according to a first embodiment. 第1実施形態に係る圧電振動子の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the piezoelectric vibrator which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る圧電振動子の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the piezoelectric vibrator which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る圧電振動子の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the piezoelectric vibrator which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る圧電振動子の変形例の模式図である。It is a schematic diagram of the modification of the piezoelectric vibrator which concerns on 1st Embodiment. 第2実施形態に係る圧電振動子の模式図である。It is a schematic diagram of a piezoelectric vibrator according to a second embodiment. 第2実施形態に係る圧電振動子の第1の変形例の模式図である。It is a schematic diagram of the 1st modification of the piezoelectric vibrator which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る圧電振動子の第2の変形例の模式図である。It is a schematic diagram of the 2nd modification of the piezoelectric vibrator which concerns on 2nd Embodiment. 圧電振動子を構成する圧電振動片層の変形例の模式図である。It is a schematic diagram of the modification of the piezoelectric vibrating piece layer which comprises a piezoelectric vibrator. 第3実施形態に係る力検出素子の模式図である。It is a schematic diagram of the force detection element which concerns on 3rd Embodiment. 第3実施形態に係る力検出素子の基板側からみた分解斜視図である。It is the disassembled perspective view seen from the board | substrate side of the force detection element which concerns on 3rd Embodiment. 第3実施形態に係る力検出素子のダイアフラム側からみた分解斜視図である。It is the disassembled perspective view seen from the diaphragm side of the force detection element which concerns on 3rd Embodiment. 第1の従来技術に係る圧電振動子の模式図である。It is a schematic diagram of the piezoelectric vibrator according to the first prior art. 第2の従来技術に係る圧電振動子の模式図である。It is a schematic diagram of the piezoelectric vibrator which concerns on a 2nd prior art. 第3の従来技術に係る圧電振動子の模式図である。It is a schematic diagram of the piezoelectric vibrator according to the third prior art. 第3の従来技術に係る圧電振動子を構成する第1水晶基板の模式図である。It is a schematic diagram of the 1st crystal substrate which comprises the piezoelectric vibrator concerning a 3rd prior art. 第4の従来技術に係る圧電振動子の模式図である。It is a schematic diagram of the piezoelectric vibrator which concerns on a 4th prior art.

以下、本発明を図に示した実施形態を用いて詳細に説明する。但し、この実施形態に記載される構成要素、種類、組み合わせ、形状、その相対配置などは特定的な記載がない限り、この発明の範囲をそれのみに限定する主旨ではなく単なる説明例に過ぎない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments shown in the drawings. However, the components, types, combinations, shapes, relative arrangements, and the like described in this embodiment are merely illustrative examples and not intended to limit the scope of the present invention only unless otherwise specified. .

図1は本発明に係る電子部品の第1実施形態である圧電振動子であって、図1(a)に圧電振動子の側面方向から見た側面断面図、図1(b)に圧電振動子を構成する圧電振動片の平面図、図1(c)に圧電振動片の底面図、図2(a)に圧電振動子を構成する基板の平面図、図2(b)に基板の底面図、図2(c)に圧電振動子を構成するリッドの平面図を示す。また図3(a)にリッド側からみた分解斜視図、図3(b)にベース基板側からみた分解斜視図を示す。   FIG. 1 shows a piezoelectric vibrator as a first embodiment of an electronic component according to the present invention. FIG. 1A is a side sectional view of the piezoelectric vibrator viewed from the side, and FIG. FIG. 1C is a bottom view of the piezoelectric vibrating piece, FIG. 2A is a plan view of the substrate constituting the piezoelectric vibrator, and FIG. 2B is a bottom view of the substrate. FIG. 2 and FIG. 2C show a plan view of the lid constituting the piezoelectric vibrator. FIG. 3A shows an exploded perspective view seen from the lid side, and FIG. 3B shows an exploded perspective view seen from the base substrate side.

本実施形態に係る圧電振動子の製造方法は、励振電極(第1励振電極26、第2励振電極30)と前記励振電極に接続された引き出し電極(第1引き出し電極28、第2引き出し電極32)とを有する圧電振動片14を、ベース基板44の主面上に搭載して形成される圧電振動子10の製造方法であって、前記引き出し電極と前記ベース基板44の一方の主面である第1面44aとを金属製の蝋材36により接合し、前記ベース基板44の前記第1面44aの反対側の他方の主面である第2面44bから前記第1面44aの方向に向かって前記ベース基板44及び前記蝋材36を掘り込んで孔(第1孔46、第2孔48)を形成し、前記孔の内壁面46a、48aに電極(第1電極50、第2電極52)を形成するものである。   The method for manufacturing a piezoelectric vibrator according to the present embodiment includes an excitation electrode (first excitation electrode 26, second excitation electrode 30) and an extraction electrode (first extraction electrode 28, second extraction electrode 32) connected to the excitation electrode. ) Is formed on the main surface of the base substrate 44, and is a main surface of the lead electrode and the base substrate 44. The first surface 44a is joined by a metal brazing material 36, and is directed from the second surface 44b, which is the other main surface opposite to the first surface 44a, of the base substrate 44 toward the first surface 44a. The base substrate 44 and the wax material 36 are dug to form holes (first hole 46, second hole 48), and electrodes (first electrode 50, second electrode 52) are formed on the inner wall surfaces 46a, 48a of the holes. ).

よってこれを具現化する第1実施形態に係る圧電振動子10は、励振電極(第1励振電極26、第2励振電極30)と前記励振電極に接続された引き出し電極(第1引き出し電極28、第2引き出し電極32)とを有する圧電振動片14を、ベース基板44の主面上に搭載して形成される圧電振動子10であって、前記圧電振動子10は、前記引き出し電極と前記ベース基板44の第1面44aとを接続する金属製の蝋材36と、前記ベース基板44の前記第1面44aの反対側の他方の主面である第2面44bから前記第1面44aの方向に向かって前記ベース基板44及び前記蝋材36を掘り込んで形成された孔(第1孔46、第2孔48)と、前記孔の内壁面46a、48aに形成された電極(第1電極50、第2電極52)と、を有するものであり、ベース基板44、圧電振動片層12、リッド42により内部空間10aを有する3層構造となっている。なお図面を含めた以下の説明においては直交座標系(X軸、Y軸、Z軸)を用いるものとする。   Therefore, the piezoelectric vibrator 10 according to the first embodiment which embodies this is provided with an excitation electrode (first excitation electrode 26, second excitation electrode 30) and an extraction electrode (first extraction electrode 28, which is connected to the excitation electrode). The piezoelectric vibrator 10 is formed by mounting the piezoelectric vibrating piece 14 having the second lead electrode 32) on the main surface of the base substrate 44, and the piezoelectric vibrator 10 includes the lead electrode and the base. The metal brazing material 36 that connects the first surface 44a of the substrate 44 and the second surface 44b that is the other main surface opposite to the first surface 44a of the base substrate 44 to the first surface 44a. A hole (first hole 46, second hole 48) formed by digging the base substrate 44 and the brazing material 36 toward the direction, and electrodes (first holes) formed on the inner wall surfaces 46a, 48a of the holes. Electrode 50 and second electrode 52) A shall, base substrate 44, the piezoelectric vibrating piece layer 12 has a three-layer structure having an internal space 10a by lid 42. In the following description including the drawings, an orthogonal coordinate system (X axis, Y axis, Z axis) is used.

圧電振動片層12は、水晶等の圧電基板により形成され、圧電振動片14、連結部(第1連結部16、第2連結部18)、引き出し部(第1引き出し部20、第2引き出し部22)、支持枠24により形成されており、圧電振動片層12の外形はフォトリソ技法とエッチング技法を併用して形成することができる。   The piezoelectric vibrating reed layer 12 is formed of a piezoelectric substrate such as quartz, and includes the piezoelectric vibrating reed 14, a connecting portion (first connecting portion 16, second connecting portion 18), and a leading portion (first leading portion 20, second leading portion). 22) and is formed by the support frame 24, and the outer shape of the piezoelectric vibrating reed layer 12 can be formed by using both a photolithographic technique and an etching technique.

圧電振動片14は、音叉型振動片、厚みすべり振動片等として形成されたものであるが、本実施形態においては支持枠24より薄く形成された逆メサ型の厚みすべり振動片を用いている。圧電振動片14は、長手方向(±X方向)の一端の辺の両端において、支持枠内の−X方向側の2つのコーナーから延び、支持枠24の−X方向側のコーナーに接続する第1連結部16、及び第2連結部18と接続され、圧電振動片14は長手方向の一端(−X方向の一端)を片持ち支持状態で支持枠24に支持されている。   The piezoelectric vibrating piece 14 is formed as a tuning fork type vibrating piece, a thickness sliding vibrating piece, or the like, but in this embodiment, an inverted mesa type thickness sliding vibrating piece formed thinner than the support frame 24 is used. . The piezoelectric vibrating piece 14 extends from two corners on the −X direction side in the support frame at both ends of one side in the longitudinal direction (± X direction), and is connected to the −X direction corner of the support frame 24. Connected to the first connecting portion 16 and the second connecting portion 18, the piezoelectric vibrating piece 14 is supported by the support frame 24 with one end in the longitudinal direction (one end in the −X direction) being cantilevered.

また圧電振動片14の両面にはスパッタ等により励振電極(第1励振電極26、第2励振電極30)が形成され、リッド42に対向する第1励振電極26には同様にスパッタ等により第1引き出し電極28が接続され、ベース基板44に対向する第2励振電極30にもスパッタ等により第2引き出し電極32が接続されている。   Excitation electrodes (first excitation electrode 26 and second excitation electrode 30) are formed on both surfaces of the piezoelectric vibrating piece 14 by sputtering or the like, and the first excitation electrode 26 facing the lid 42 is similarly first sputtered by sputtering or the like. The extraction electrode 28 is connected, and the second extraction electrode 32 is also connected to the second excitation electrode 30 facing the base substrate 44 by sputtering or the like.

また圧電振動片層12には第1引き出し部20及び第2引き出し部22が形成されている。第1引き出し部20は支持枠24内の−X方向側のコーナーであって第1連結部16と一体となって形成されている。また第2引き出し部22は支持枠24内の+X方向側のコーナーに形成され、第1引き出し部20及び第2引き出し部22は支持枠24の対角線上に形成されている。また第2引き出し部22と第2連結部18は、支持枠24に接続した延伸部34により接続されている。よって第2引き出し部22は、延伸部34及び第2連結部18を介して圧電振動片14に接続されている。   The piezoelectric vibrating piece layer 12 is formed with a first lead portion 20 and a second lead portion 22. The first lead portion 20 is a corner on the −X direction side in the support frame 24 and is formed integrally with the first connecting portion 16. The second lead portion 22 is formed at a corner on the + X direction side in the support frame 24, and the first lead portion 20 and the second lead portion 22 are formed on a diagonal line of the support frame 24. The second lead portion 22 and the second connecting portion 18 are connected by an extending portion 34 connected to the support frame 24. Therefore, the second lead portion 22 is connected to the piezoelectric vibrating piece 14 via the extending portion 34 and the second connecting portion 18.

第1励振電極26に接続された第1引き出し電極28は、第1連結部16においてベース基板44側に引き回され、第1引き出し部20のベース基板44に対向する側にまで引き出される。一方第2励振電極30に接続された第2引き出し電極32は、第2連結部18及び延伸部34の基板に対向する側に引き出され、第2引き出し部22のベース基板44に対向する側に引き出される。   The first lead electrode 28 connected to the first excitation electrode 26 is drawn to the base substrate 44 side in the first connecting portion 16 and drawn to the side of the first lead portion 20 facing the base substrate 44. On the other hand, the second extraction electrode 32 connected to the second excitation electrode 30 is extracted to the side of the second connecting portion 18 and the extending portion 34 that faces the substrate, and to the side of the second extraction portion 22 that faces the base substrate 44. Pulled out.

そして第1引き出し部20及び第2引き出し部22は、それぞれ共晶金属で形成された導電性の蝋材36によりベース基板44の第1面44aと接合している。またベース基板44の周縁と支持枠24とは第2の蝋材38により接合され、支持枠24とリッド42の周縁も第2の蝋材38により接合されている。蝋材36及び第2の蝋材38はスパッタ等によりリッド42及びベース基板44上にパターニングされる。一方、第2の蝋材38に当接する支持枠24の両面には第2の蝋材38との接合を容易にするためメタライズ40が施され、メタライズ40は励振電極及び引き出し電極の形成と同時に行うことができる。そして、ベース基板44、圧電振動子層12、リッド42を積層したのち加熱加圧することにより蝋材36及び第2の蝋材38による接合を行うことができる。なお蝋材36及び第2の蝋材38は同一材料でも異なった材料でもよい。   The first lead portion 20 and the second lead portion 22 are joined to the first surface 44a of the base substrate 44 by a conductive wax material 36 made of eutectic metal. Further, the peripheral edge of the base substrate 44 and the support frame 24 are joined by the second wax material 38, and the peripheral edges of the support frame 24 and the lid 42 are also joined by the second wax material 38. The brazing material 36 and the second brazing material 38 are patterned on the lid 42 and the base substrate 44 by sputtering or the like. On the other hand, metallization 40 is applied to both surfaces of the support frame 24 in contact with the second brazing material 38 to facilitate the joining with the second brazing material 38, and the metallization 40 is simultaneously formed with the excitation electrode and the extraction electrode. It can be carried out. The base substrate 44, the piezoelectric vibrator layer 12, and the lid 42 are stacked and then heated and pressed to perform bonding with the wax material 36 and the second wax material 38. The wax material 36 and the second wax material 38 may be the same material or different materials.

またベース基板44の第1面44aの反対側の第2面44bから第1面44aに向かって漸次内径を小さくするテーパー状に孔(第1孔46、第2孔48)が形成され、第1孔46はベース基板44、蝋材38、第1引き出し電極28を貫通し、第1引き出し部20に達するとともに所定の深さまで及んでいる。また第2孔48はベース基板44、蝋材36、第2引き出し電極32を貫通し、第2引き出し部22に達するとともに所定の深さの位置まで及んでいる。   Also, holes (first hole 46, second hole 48) are formed in a tapered shape that gradually decreases the inner diameter from the second surface 44b opposite to the first surface 44a of the base substrate 44 toward the first surface 44a. The first hole 46 passes through the base substrate 44, the brazing material 38, and the first extraction electrode 28, reaches the first extraction portion 20, and extends to a predetermined depth. The second hole 48 penetrates through the base substrate 44, the brazing material 36, and the second lead electrode 32, reaches the second lead portion 22, and reaches a predetermined depth.

そして、孔の内壁には電極(第1電極50、第2電極52)が形成され、第1孔46には第1電極50が形成され、第2孔48には第2電極52が形成されている。よって第1電極50の側面と第1引き出し電極28の端面が接続され、第2電極52の側面と第2引き出し電極32の端面が接続される。またベース基板44の第2面44bには第1外部電極54、第2外部電極56が形成され、第1外部電極54は第1電極50と接続され、第2外部電極56は第2電極52と接続されている。   Electrodes (first electrode 50 and second electrode 52) are formed on the inner wall of the hole, the first electrode 50 is formed in the first hole 46, and the second electrode 52 is formed in the second hole 48. ing. Therefore, the side surface of the first electrode 50 and the end surface of the first extraction electrode 28 are connected, and the side surface of the second electrode 52 and the end surface of the second extraction electrode 32 are connected. A first external electrode 54 and a second external electrode 56 are formed on the second surface 44 b of the base substrate 44, the first external electrode 54 is connected to the first electrode 50, and the second external electrode 56 is the second electrode 52. Connected with.

よって、第1励振電極26は、第1引き出し電極28、第1電極50を介して第1外部電極54に接続され、第2励振電極30は、第2引き出し電極32、第2電極52を介して第2外部電極56と接続されている。したがって第1外部電極54、第2外部電極56に圧電振動片14を駆動する駆動回路(不図示)を接続することにより、圧電振動片14は固有の共振周波数により振動することができる。   Therefore, the first excitation electrode 26 is connected to the first external electrode 54 via the first extraction electrode 28 and the first electrode 50, and the second excitation electrode 30 is connected via the second extraction electrode 32 and the second electrode 52. Are connected to the second external electrode 56. Therefore, by connecting a drive circuit (not shown) for driving the piezoelectric vibrating piece 14 to the first external electrode 54 and the second external electrode 56, the piezoelectric vibrating piece 14 can vibrate at a specific resonance frequency.

上述のテーパー状の孔はサンドブラストにより形成される。サンドブラストは、被研削面において被研削箇所を残してマスクをし、直径20μm程度のSiC等の研削粒子を高速のエアーとともに研削箇所に吹き付けることにより行う。ここでサンドブラストを行うとベース基板44の第2面44bから第1面44aに向かって掘り込まれ第1面44aに到達して蝋材36を掘り込むことになるが、第1面44aと蝋材36は接合され、その接合された領域に孔を形成するため、前記領域にチッピングが発生することはなく、そのまま蝋材36にサンドブラストが進行する。よって、孔に形成される第1電極50、第2電極52においてチッピングによる断線が発生することを回避して歩留まりを高めた圧電振動子10となる。またチッピングが発生することがないので、それを補うため第1電極50、第2電極52として大量の金属材料を用いる必要がなく、コストダウンが可能な圧電振動子10となる。さらに孔がテーパー状に形成されたため、第1電極50、第2電極52を均一に形成することができるので、製品ごとの電気的特性のばらつきを抑制することができる。なお、蝋材36は引き出し電極及び第1電極50、第2電極52と面接触となるため、引き出し電極と第1電極50、第2電極52との導通を確実に行うことができる。またベース基板44、圧電振動片14、リッド42を積層した後に前記孔を形成しているので、内壁面に段差を有しない孔を形成することができる。   The tapered hole described above is formed by sandblasting. Sand blasting is performed by leaving a portion to be ground on the surface to be ground and masking, and spraying grinding particles such as SiC having a diameter of about 20 μm onto the grinding portion together with high-speed air. Here, when sandblasting is performed, the second surface 44b of the base substrate 44 is dug toward the first surface 44a and reaches the first surface 44a, and the brazing material 36 is dug. Since the material 36 is joined and a hole is formed in the joined region, no chipping occurs in the region, and sandblasting proceeds to the wax material 36 as it is. Therefore, the piezoelectric vibrator 10 is obtained in which the yield is increased by avoiding the occurrence of disconnection due to chipping in the first electrode 50 and the second electrode 52 formed in the hole. Further, since no chipping occurs, it is not necessary to use a large amount of metal material as the first electrode 50 and the second electrode 52 to compensate for this, and the piezoelectric vibrator 10 can be reduced in cost. Further, since the holes are formed in a tapered shape, the first electrode 50 and the second electrode 52 can be formed uniformly, so that variation in electrical characteristics among products can be suppressed. The brazing material 36 is in surface contact with the extraction electrode and the first electrode 50 and the second electrode 52, so that the conduction between the extraction electrode and the first electrode 50 and the second electrode 52 can be reliably performed. Further, since the hole is formed after the base substrate 44, the piezoelectric vibrating piece 14, and the lid 42 are laminated, it is possible to form a hole having no step on the inner wall surface.

また孔をサンドブラストにより形成されたのち、孔の内壁にエッチング処理(ライトエッチング)を行うことが好適である。これにより、孔の内壁の残留応力を低減して圧電振動子10への悪影響を防止するとともに、孔の内壁を平滑化することにより貫通電極の形成を容易に行うことができる。   In addition, it is preferable to perform etching (light etching) on the inner wall of the hole after the hole is formed by sandblasting. Thereby, the residual stress on the inner wall of the hole is reduced to prevent adverse effects on the piezoelectric vibrator 10, and the through-electrode can be easily formed by smoothing the inner wall of the hole.

なお蝋材36が導電性を有するため、引き出し電極と第1電極50、第2電極52との電気的接続の媒体となることができるので、孔は引き出し電極を貫通しない構成としてもよい。また孔が引き出し電極を貫通し引き出し部にまで及ぶ場合は、第1電極50、第2電極52と引き出し電極が直接的に接続するため、蝋材36は導電性を有する必要はない。   Since the brazing material 36 has conductivity, it can serve as a medium for electrical connection between the extraction electrode and the first electrode 50 and the second electrode 52, so that the hole may be configured not to penetrate the extraction electrode. In addition, when the hole extends through the extraction electrode to reach the extraction portion, the first electrode 50, the second electrode 52, and the extraction electrode are directly connected, so that the brazing material 36 does not need to have conductivity.

リッド42には封止孔(不図示)が形成され、ベース基板44、圧電振動片層12、リッド42の順に積層したのち封止孔(不図示)から真空吸引して内部空間10aを真空にしたのち封止孔(不図示)を封止することができる。   A sealing hole (not shown) is formed in the lid 42. After the base substrate 44, the piezoelectric vibrating reed layer 12, and the lid 42 are laminated in this order, the internal space 10a is evacuated by vacuum suction from the sealing hole (not shown). After that, a sealing hole (not shown) can be sealed.

なおベース基板44、圧電振動片層12、リッド42を同一材料(水晶等の圧電材料)とすることにより、線膨張係数が各層で互いに一致するため、温度変化に伴う圧電振動片14への応力の発生を抑制して圧電振動片14の発振周波数の誤差を抑制することができる。   Since the base substrate 44, the piezoelectric vibrating reed layer 12, and the lid 42 are made of the same material (piezoelectric material such as quartz), the linear expansion coefficients are the same for each layer. Can be suppressed, and an error in the oscillation frequency of the piezoelectric vibrating piece 14 can be suppressed.

図4、図5、図6に第1実施形態に係る圧電振動子10の製造工程を示す。まず図4(a)に示すように、ベース基板44の圧電振動片層12に対向する面である第1面44aにおいて、第1引き出し電極28及び第2引き出し電極32に対応する位置に蝋材36をスッパタ等により形成し、第1面44aの周縁であって圧電振動片層12の支持枠24に対向する位置に第2の蝋材38を形成する(図4(b))。ここで蝋材36と第2の蝋材38とが互いに同一の材料である場合は同時に形成することができる。一方、図5(a)に示すように、リッド42の圧電振動片層12に対向する面の周縁であって圧電振動片層12の支持枠24に対向する位置に同様に第2の蝋材38を形成する(図5(b))。   4, 5, and 6 show the manufacturing process of the piezoelectric vibrator 10 according to the first embodiment. First, as shown in FIG. 4A, a brazing material is placed at a position corresponding to the first extraction electrode 28 and the second extraction electrode 32 on the first surface 44a which is the surface facing the piezoelectric vibrating reed layer 12 of the base substrate 44. 36 is formed by a sputter or the like, and a second wax material 38 is formed at a position on the periphery of the first surface 44a and facing the support frame 24 of the piezoelectric vibrating reed layer 12 (FIG. 4B). Here, when the brazing material 36 and the second brazing material 38 are made of the same material, they can be formed simultaneously. On the other hand, as shown in FIG. 5A, the second brazing material is similarly formed at the periphery of the surface of the lid 42 facing the piezoelectric vibrating reed layer 12 and at the position facing the support frame 24 of the piezoelectric vibrating reed layer 12. 38 is formed (FIG. 5B).

次に図6(a)に示すように、圧電振動片層12用の水晶基板58を用意し、水晶基板58に支持枠24、第1連結部16(不図示)、第2連結部18(不図示)、第1引き出し部20、第2引き出し部22の外形を残して圧電振動片14の厚みまでハーフエッチングを行い(図6(b))、支持枠24、第1連結部16(不図示)、第2連結部18(不図示)、第1引き出し部20、第2引き出し部22、圧電振動片14の外形を残して水晶基板58を貫通するまでエッチングすることにより圧電振動片層12の外形を形成し(図6(c))、CrやAu等の金属を用いスパッタ等により第1励振電極26、第2励振電極30、第1引き出し電極28、第2引き出し電極32を形成し、同様に支持枠24の両面にメタライズ40を形成する(図6(d))。この状態で圧電振動片14は固有の発振周波数により発振可能となるので、第1引き出し電極28及び第2引き出し電極30に駆動回路(不図示)を接続して圧電振動片14を駆動させ、図6(e)に示すように第1励振電極26の一部を蒸着法により厚膜化またはアルゴンプラズマ照射によるドライエッチング法を用いて薄膜化することにより周波数調整を行う。   Next, as shown in FIG. 6A, a crystal substrate 58 for the piezoelectric vibrating reed layer 12 is prepared, and the support frame 24, the first connecting portion 16 (not shown), and the second connecting portion 18 ( (Not shown), half etching is performed to the thickness of the piezoelectric vibrating piece 14 while leaving the outer shapes of the first lead portion 20 and the second lead portion 22 (FIG. 6B), and the support frame 24 and the first connecting portion 16 (not shown). The piezoelectric vibrating piece layer 12 is etched by leaving the outer shape of the second connecting portion 18 (not shown), the first drawing portion 20, the second drawing portion 22, and the piezoelectric vibrating piece 14 until it penetrates the quartz crystal substrate 58. (FIG. 6C), and the first excitation electrode 26, the second excitation electrode 30, the first extraction electrode 28, and the second extraction electrode 32 are formed by sputtering or the like using a metal such as Cr or Au. Similarly, the metallization 40 is formed on both sides of the support frame 24. Figure 6 (d)). In this state, since the piezoelectric vibrating piece 14 can oscillate at a specific oscillation frequency, a driving circuit (not shown) is connected to the first extraction electrode 28 and the second extraction electrode 30 to drive the piezoelectric vibrating piece 14. As shown in FIG. 6E, a part of the first excitation electrode 26 is thickened by a vapor deposition method or thinned by a dry etching method using argon plasma irradiation to adjust the frequency.

そして図6(f)に示すように、ベース基板44、圧電振動片層12、リッド42を積層する。このときベース基板44と圧電振動片層12において、ベース基板44上に形成された蝋材36と第1引き出し電極28、蝋材36と第2引き出し電極32、第2の蝋材38とメタライズ40とを当接させる。また圧電振動片層12とリッド42において、メタライズ40と第2の蝋材38とを当接させる。そしてこのように積層した状態で圧電振動子10の±Z方向から加圧して加熱することにより蝋材36と各引き出し電極を接合させ、第2の蝋材38とメタライズ40と接合させる。   Then, as shown in FIG. 6F, the base substrate 44, the piezoelectric vibrating reed layer 12, and the lid 42 are laminated. At this time, in the base substrate 44 and the piezoelectric vibrating reed layer 12, the brazing material 36 and the first extraction electrode 28, the brazing material 36 and the second extraction electrode 32, the second brazing material 38 and the metallized 40 formed on the base substrate 44. And abut. Further, the metallized 40 and the second brazing material 38 are brought into contact with each other in the piezoelectric vibrating reed layer 12 and the lid 42. Then, the brazing material 36 and each lead-out electrode are joined by pressurizing and heating the piezoelectric vibrator 10 from the ± Z direction in such a laminated state, and the second brazing material 38 and the metallized 40 are joined.

次に図6(g)に示すように、サンドブラストにより孔(第1孔46、第2孔48)を形成する。平面視して第1引き出し部20、第2引き出し部22と重なる第2面44b上の位置にあって一定の径を有する領域を残して第2面44bをマスクし、第2面44bが露出した領域にSiC等の研削粒子を高速のエアーと共に吹きつけてベース基板44の第2面44b側から研削し、ベース基板44を貫通して蝋材36に到達するまで研削を行う、または蝋材36を貫通して引き出し電極、引き出し部に到達するまで研削を行う、このとき孔は第2面44bから第1面44aに向かって漸次内径を小さくするテーパー状に形成されるが、研削粒子が内部空間10aに入り込まないように孔の蝋材36を貫通する位置における直径は蝋材36の外形より小さくなるように調整する。こうして形成された第1孔46の内壁面46aはベース基板44、蝋材36、第1引き出し電極28、第1引き出し部20により形成され、第2孔48の内壁面48aはベース基板44、蝋材36、第2引き出し電極32、第2引き出し部22により形成される。孔を形成したのちフッ酸等を用いて内壁面46a、48aのエッチング処理(ライトエッチング)を行い、内壁面46a、48aの残留応力を除去し、平坦度を向上させる。そして孔にハンダボール(不図示)を挿入し、ハンダボール(不図示)にレーザー等を照射してハンダボール(不図示)を溶解させて電極(第1電極50、第2電極52)を形成し、最後に第2面44bの孔及び第2面44bの孔の周囲に外部電極(第1外部電極54、第2外部電極56)をスパッタ法やメッキ等により形成することにより圧電振動子10が形成される(図6(h))。   Next, as shown in FIG. 6G, holes (first hole 46, second hole 48) are formed by sandblasting. In plan view, the second surface 44b is masked by leaving a region on the second surface 44b that overlaps with the first lead portion 20 and the second lead portion 22 and having a certain diameter, and the second surface 44b is exposed. Grinding particles such as SiC together with high-speed air to grind the region from the second surface 44b side of the base substrate 44, and grinding until reaching the brazing material 36 through the base substrate 44, or brazing material Grinding is performed until the lead electrode and the lead portion are reached through the hole 36. At this time, the hole is formed in a tapered shape that gradually decreases the inner diameter from the second surface 44b toward the first surface 44a. The diameter of the hole through the brazing material 36 is adjusted to be smaller than the outer shape of the brazing material 36 so as not to enter the internal space 10a. The inner wall surface 46a of the first hole 46 formed in this way is formed by the base substrate 44, the brazing material 36, the first lead electrode 28, and the first lead portion 20, and the inner wall surface 48a of the second hole 48 is formed by the base substrate 44, the wax member. The material 36, the second extraction electrode 32, and the second extraction portion 22 are formed. After the holes are formed, the inner wall surfaces 46a and 48a are etched (light etching) using hydrofluoric acid or the like to remove the residual stress on the inner wall surfaces 46a and 48a and improve the flatness. Then, a solder ball (not shown) is inserted into the hole, and the solder ball (not shown) is melted by irradiating the solder ball (not shown) with a laser or the like to form electrodes (first electrode 50, second electrode 52). Finally, external electrodes (first external electrode 54 and second external electrode 56) are formed around the hole of the second surface 44b and the hole of the second surface 44b by a sputtering method, plating, or the like, whereby the piezoelectric vibrator 10 is formed. Is formed (FIG. 6H).

図7に第1実施形態の変形例を示す。図7(a)は正面図、図7は基板の平面図である。図7に示すように、基板45の第1面45aの蝋材36が接合する領域には凸部45cを形成し、孔が凸部45cを貫通する構成としてもよい。基板が水晶で形成されている場合は、フォトリソ加工とエッチング加工を併用して凸部45cを基板45と一体で形成することができる。すなわち、基板45の材料となる水晶素板(不図示)の第1面45aとなる側に凸部45cの外形を残して他の領域を基板45の厚みとなるまでハーフエッチングを行い、凸部45cと基板45の外形を残して基板45を抜き出すようにエッチングすることにより基板45の外形が形成される。そして、凸部45cを覆うように蝋材36をスパッタ等により形成し、基板45の周縁に第2の蝋材38を形成することにより積層用の基板45が形成される。このように凸部45cを形成することにより、蝋材36の基板45との接触面積が増大して接合が安定するとともに、凸部45cを形成した分だけ蝋材36を節約できるのでコストダウンを図ることができる。   FIG. 7 shows a modification of the first embodiment. FIG. 7A is a front view, and FIG. 7 is a plan view of the substrate. As shown in FIG. 7, a convex portion 45 c may be formed in a region where the brazing material 36 of the first surface 45 a of the substrate 45 is joined, and the hole may penetrate the convex portion 45 c. When the substrate is formed of quartz, the convex portion 45c can be formed integrally with the substrate 45 by using both photolithography and etching. That is, half-etching is performed until the thickness of the substrate 45 reaches the thickness of the substrate 45, leaving the outer shape of the projection 45c on the side of the quartz base plate (not shown) serving as the material of the substrate 45 that is the first surface 45a. The outer shape of the substrate 45 is formed by etching so as to extract the substrate 45 while leaving the outer shapes of 45c and the substrate 45. Then, the brazing material 36 is formed by sputtering or the like so as to cover the convex portions 45 c, and the second brazing material 38 is formed on the periphery of the substrate 45, thereby forming the stacking substrate 45. By forming the convex portion 45c in this manner, the contact area of the brazing material 36 with the substrate 45 is increased and the bonding is stabilized, and the brazing material 36 can be saved by the amount of the convex portion 45c formed, thereby reducing the cost. Can be planned.

第2実施形態に係る圧電振動子を図8に示す。図8(a)は圧電振動子の正面図、図8(b)は圧電振動片層の平面図である。第2実施形態に係る圧電振動子70は基本的には第1実施形態と共通するが、引き出し部(第1引き出し部74、第2引き出し部76)をリッド42に固定する固定部を有する。   A piezoelectric vibrator according to the second embodiment is shown in FIG. FIG. 8A is a front view of the piezoelectric vibrator, and FIG. 8B is a plan view of the piezoelectric vibrating piece layer. The piezoelectric vibrator 70 according to the second embodiment is basically the same as that of the first embodiment, but has a fixing portion that fixes the lead portions (the first lead portion 74 and the second lead portion 76) to the lid 42.

固定部の材料としてリッド42に形成された第3の蝋材78とすることができる。第3の蝋材78はリッド42の圧電振動片層72側に対向する面の第1引き出し部74及び第2引き出し部76に対向する位置に形成されるが、第3の蝋材78をリッド42の周縁に形成される第2の蝋材38と同一材料にすることにより第2の蝋材38と同時に形成することができる。一方、第1引き出し部74及び第2引き出し部76のリッド42に対向する面側にはメタライズ80を形成する。このメタライズ80は支持枠24に形成するメタライズ40と同時に形成することができる。そして第1実施形態で述べた積層時に他の蝋材と同様に第3の蝋材78をメタライズ80に加圧して加熱することにより、第1引き出し部74及び第2引き出し部76をリッド42に固定することができる。第2実施形態においても孔はサンドブラストにより形成するが、サンドブラストはベース基板44の第2面側44bから第1面44a側に向かって行われ、その際引き出し部はサンドブラストによりリッド42側に応力を受けることになるが、第3の蝋材78(固定部)により引き出し部をリッド42に固定することによりサンドブラストの衝撃による引き出し部の破損を防止し、また引き出し部と蝋材36との境界にサンドブラストによる衝撃が集中することを回避して引き出し部と蝋材36との剥離を防止し、貫通孔の形成を容易に行うことができる。また固定部の材料として、貫通孔が形成される蝋材36と同一材料を用いることにより材料数を増やすことなくコストダウンを図ることができる。   A third brazing material 78 formed on the lid 42 as the material of the fixing portion can be used. The third brazing material 78 is formed at a position facing the first leading portion 74 and the second leading portion 76 on the surface facing the piezoelectric vibrating piece layer 72 side of the lid 42. By using the same material as the second brazing material 38 formed on the periphery of 42, it can be formed simultaneously with the second brazing material 38. On the other hand, a metallized 80 is formed on the surface side of the first lead portion 74 and the second lead portion 76 that faces the lid 42. The metallized 80 can be formed simultaneously with the metallized 40 formed on the support frame 24. Then, the third brazing material 78 is pressed against the metallized 80 and heated in the same manner as the other brazing materials during the lamination described in the first embodiment, whereby the first lead portion 74 and the second lead portion 76 are brought into the lid 42. Can be fixed. In the second embodiment, the holes are also formed by sand blasting. Sand blasting is performed from the second surface side 44b of the base substrate 44 toward the first surface 44a. At this time, the lead portion applies stress to the lid 42 side by sand blasting. However, the third wax material 78 (fixed portion) fixes the drawer portion to the lid 42 to prevent the drawer portion from being damaged due to the impact of sandblasting, and at the boundary between the drawer portion and the wax material 36. It is possible to avoid the concentration of impact due to sand blasting, to prevent separation of the drawer portion and the wax material 36, and to easily form a through hole. Further, by using the same material as the brazing material 36 in which the through holes are formed as the material of the fixing portion, it is possible to reduce the cost without increasing the number of materials.

図9に固定部の第1の変形例を示す。図9(a)は圧電振動子70の正面図、図9(b)はリッド42の平面図であり、圧電振動片層72の平面図は図8(b)と共通である。固定部の材料として第1引き出し部74及び第2引き出し部76のリッド42側に配置されAu等で形成されたバンプ82を用いることができる。なお、バンプ82による接続を容易にするため、上述同様にメタライズ80と、上述のリッド42の第3の蝋材78を形成する位置にメタライズ84を形成する。そして第1実施形態で述べた積層時に他の蝋材と同様にバンプ82をリッド42に押し付けた状態で加熱若しくはリッド42側から超音波を当ててバンプ82を潰すことにより、各引き出し部はリッド42に固定される。   FIG. 9 shows a first modification of the fixed portion. 9A is a front view of the piezoelectric vibrator 70, FIG. 9B is a plan view of the lid 42, and a plan view of the piezoelectric vibrating piece layer 72 is the same as FIG. 8B. As a material of the fixing portion, a bump 82 formed on the lid 42 side of the first lead portion 74 and the second lead portion 76 and formed of Au or the like can be used. In addition, in order to facilitate the connection by the bumps 82, the metallized 84 is formed at the positions where the metallized 80 and the third wax material 78 of the lid 42 are formed as described above. As in the case of the other wax materials described in the first embodiment, the bumps 82 are crushed by heating or applying ultrasonic waves from the lid 42 side in a state where the bumps 82 are pressed against the lid 42 in the same manner as the other wax materials. 42 is fixed.

図10に固定部の第2の変形例を示す。図10(a)は圧電振動子の正面図、図10(b)は圧電振動片層の平面図である。固定部としては、引き出し部に形成された第2凸部86とすることができる。第2凸部86は圧電振動片層72と同一材料であり、圧電振動片層72は第2凸部86とともに一体で形成することができる。すなわち圧電振動片層72の材料となる水晶素板(不図示)上に第2凸部86の外形を残して支持枠24等と同じ厚みになるまでハーフエッチングを行い、次に第2凸部86、支持枠24、第1連結部16、第2連結部18、第1引き出し部20、第2引き出し部22の外形を残して圧電振動片14と同じ厚みになるまでハーフエッチングを行い、第2凸部86、支持枠24、第1連結部16、第2連結部18、第1引き出し部20、第2引き出し部22、圧電振動14片の外形を残して水晶素板(不図示)を貫通するまでエッチングすることにより圧電振動片層72を形成することができる。   FIG. 10 shows a second modification of the fixing portion. 10A is a front view of the piezoelectric vibrator, and FIG. 10B is a plan view of the piezoelectric vibrating piece layer. As the fixed portion, the second convex portion 86 formed in the drawer portion can be used. The second convex portion 86 is made of the same material as the piezoelectric vibrating piece layer 72, and the piezoelectric vibrating piece layer 72 can be formed integrally with the second convex portion 86. That is, half etching is performed on the quartz base plate (not shown), which is the material of the piezoelectric vibrating piece layer 72, leaving the outer shape of the second convex portion 86 until it has the same thickness as the support frame 24, and then the second convex portion. 86, half-etching is performed until the thickness of the piezoelectric vibrating piece 14 is the same, leaving the outer shapes of the support frame 24, the first connecting portion 16, the second connecting portion 18, the first drawing portion 20, and the second drawing portion 22. A crystal base plate (not shown) is left with the outer shapes of the two convex portions 86, the support frame 24, the first connecting portion 16, the second connecting portion 18, the first leading portion 20, the second leading portion 22, and the piezoelectric vibrating piece. The piezoelectric vibrating reed layer 72 can be formed by etching until it penetrates.

このように第2凸部86を形成することにより、第1実施形態で述べた積層時に第2凸部86とリッド42とが当接する。よって引き出し部とリッド42との相対位置がリジッドに決まるので、サンドブラストによる引き出し部の振動を抑制して、サンドブラストを効果的に行うことができるとともに、圧電振動片層72を形成する材料を用いて第2凸部86を形成することになるので、コストダウンを図ることができる。   By forming the second convex portion 86 in this way, the second convex portion 86 and the lid 42 come into contact with each other during the stacking described in the first embodiment. Accordingly, since the relative position between the lead portion and the lid 42 is determined to be rigid, the vibration of the lead portion due to sandblasting can be suppressed and sandblasting can be performed effectively, and a material for forming the piezoelectric vibrating piece layer 72 can be used. Since the 2nd convex part 86 will be formed, cost reduction can be aimed at.

図11に圧電振動片層の変形例を示す。図11(a)は正面図、図11(b)は圧電振動片層の平面図、図11(c)は圧電振動片層の底面図である。図11に示すように、圧電振動片層13は、圧電振動片15、連結部(第1連結部17、第2連結部19)、引き出し部(第1引き出し部21、第2引き出し部23)、支持枠25により外形が形成されている。第1引き出し部21は支持枠25内の−X方向側のコーナーであって第1連結部17と一体となって形成されている。また第2引き出し部23は支持枠25内の+X方向側のコーナーに形成され、第1引き出し部21及び第2引き出し部23は支持枠25の対角線上に形成されている。また第2引き出し部23と第2連結部19は、支持枠25に接続した延伸部35により接続されている。よって第2引き出し部23は、延伸部35及び第2連結部19を介して圧電振動片14に接続されている。   FIG. 11 shows a modification of the piezoelectric vibrating piece layer. 11A is a front view, FIG. 11B is a plan view of the piezoelectric vibrating piece layer, and FIG. 11C is a bottom view of the piezoelectric vibrating piece layer. As shown in FIG. 11, the piezoelectric vibrating piece layer 13 includes a piezoelectric vibrating piece 15, a connecting portion (first connecting portion 17, second connecting portion 19), and a drawing portion (first drawing portion 21, second drawing portion 23). The outer shape is formed by the support frame 25. The first lead portion 21 is a corner on the −X direction side in the support frame 25 and is formed integrally with the first connecting portion 17. The second lead portion 23 is formed at a corner on the + X direction side in the support frame 25, and the first lead portion 21 and the second lead portion 23 are formed on a diagonal line of the support frame 25. The second drawer portion 23 and the second connecting portion 19 are connected by an extending portion 35 connected to the support frame 25. Therefore, the second lead portion 23 is connected to the piezoelectric vibrating piece 14 via the extending portion 35 and the second connecting portion 19.

そして、第1励振電極27に接続された第1引き出し電極29は、第1連結部17においてベース基板44側に引き回され、延伸部35を介して第2引き出し部23のベース基板44側に引き出される。一方、第2励振電極31に接続された第2引き出し電極33は、圧電振動片層13のベース基板44側の面において、第2連結部19および第1引き出し部21に形成されている。   Then, the first lead electrode 29 connected to the first excitation electrode 27 is routed to the base substrate 44 side in the first connecting portion 17, and to the base substrate 44 side of the second lead portion 23 via the extending portion 35. Pulled out. On the other hand, the second lead electrode 33 connected to the second excitation electrode 31 is formed in the second connecting portion 19 and the first lead portion 21 on the surface of the piezoelectric vibrating piece layer 13 on the base substrate 44 side.

図11に示すように第1引き出し部21、第2引き出し部23は、それぞれ第1引き出し部20、第2引き出し部22に対して、支持枠25の短辺25aの中央を通る線を基準に±Y方向に反転した関係を有するため、ベース基板44に形成される第1孔47、第2孔49はベース基板44上で上述同様に反転した位置に形成される。こうして形成された圧電振動片層13は第1実施形態及び第2実施形態に適用できる。   As shown in FIG. 11, the first drawer portion 21 and the second drawer portion 23 are based on a line passing through the center of the short side 25a of the support frame 25 with respect to the first drawer portion 20 and the second drawer portion 22, respectively. Since the relationship is reversed in the ± Y direction, the first hole 47 and the second hole 49 formed in the base substrate 44 are formed on the base substrate 44 at the positions reversed as described above. The piezoelectric vibrating reed layer 13 formed in this way can be applied to the first and second embodiments.

図12、図13、図14は、本発明に係る電子部品の第3実施形態である力検出素子であって、図12(a)に力検出素子の側面方向からみた側面断面図、図12(b)に力検出素子を構成する感圧素子片の底面図、図13はベース基板側からみた分解斜視図、図14はダイアフラム側からみた分解斜視図を示す。   12, 13, and 14 are force detection elements that are the third embodiment of the electronic component according to the present invention, and FIG. 12A is a side cross-sectional view of the force detection element as viewed from the side. FIG. 13B is a bottom view of the pressure-sensitive element piece constituting the force detection element, FIG. 13 is an exploded perspective view seen from the base substrate side, and FIG. 14 is an exploded perspective view seen from the diaphragm side.

力を直接受けて撓む、例えば被測定圧力を受圧して撓む可撓部を有するダイアフラムに支持部を介して搭載された圧電振動子は、例えば、板状の圧電基板上に電極パターンが形成され、力の検出方向に検出軸を設定しており、前記検出軸の方向に直交する方向から被測定圧力がダイアフラムの受圧部で受圧すると前記可撓部が撓み、前記支持部を介して前記圧電振動子に力が加わると、前記圧電振動子は検出軸の方向に引張り応力が生じるため前記圧電振動子の共振周波数が変化し、前記共振周波数の変化から前記被測定圧力の圧力値を検出する。圧力センサー、受圧手段としてのダイアフラムと、前記ダイアフラムに形成した支持部に搭載された感圧素子(双音叉振動子)とを有し、これらを容器に収容しつつダイアフラムの受圧面を外面に臨ませるようにして真空封止した構成となっている。   For example, a piezoelectric vibrator mounted on a diaphragm having a flexible portion that bends by receiving a force directly, for example, by receiving a pressure to be measured via a support portion, has an electrode pattern on a plate-like piezoelectric substrate, for example. Formed, the detection axis is set in the direction of detecting the force, and when the pressure to be measured is received by the pressure receiving portion of the diaphragm from the direction orthogonal to the direction of the detection axis, the flexible portion bends, and via the support portion When a force is applied to the piezoelectric vibrator, a tensile stress is generated in the direction of the detection axis, so that the resonance frequency of the piezoelectric vibrator changes, and the pressure value of the pressure to be measured is determined from the change in the resonance frequency. To detect. It has a pressure sensor, a diaphragm as a pressure receiving means, and a pressure sensitive element (double tuning fork vibrator) mounted on a support portion formed on the diaphragm, and the pressure receiving surface of the diaphragm faces the outer surface while accommodating these in a container. Thus, the structure is vacuum-sealed.

第3実施形態に係る力検出素子700は、感圧素子としての双音叉振動子705の2本の柱状ビームに形成した励振電極701と、前記励振電極701に接続された引き出し電極(第1引き出し電極702、第2引き出し電極703)とを有する感圧素子片772を、ダイアフラム704の受圧面704aとは反対側の内側の主面704b上に形成した支持部706に搭載された双音叉振動子705であって、前記双音叉振動子705は、前記引き出し電極と、前記ベース基板742の前記第1面742aとを接続する接着手段(例えば、低融点ガラス等の蝋材)750と、前記ベース基板742の前記第1面742aの反対側の第2面742bから前記第1面742aの方向に向かって前記ベース基板742及び前記接着手段750を掘り込んで形成された孔(第1孔46、第2孔48)と、前記孔の内壁面46a、48a上に形成された電極(第1電極50、第2電極52)と、を有するものであり、ベース基板742、感圧素子片層772、ダイアフラム704により内部空間10aを有する3層構造となっている。   A force detection element 700 according to the third embodiment includes an excitation electrode 701 formed on two columnar beams of a double tuning fork vibrator 705 as a pressure sensitive element, and an extraction electrode (first extraction) connected to the excitation electrode 701. A double tuning fork vibrator having a pressure sensitive element 772 having an electrode 702 and a second lead electrode 703) mounted on a support portion 706 formed on an inner main surface 704 b opposite to the pressure receiving surface 704 a of the diaphragm 704. 705, the double tuning fork vibrator 705 includes an adhesive means (for example, a wax material such as low-melting glass) 750 that connects the extraction electrode and the first surface 742a of the base substrate 742, and the base The base substrate 742 and the bonding means 750 are dug from the second surface 742b opposite to the first surface 742a of the substrate 742 toward the first surface 742a. And the electrodes (first electrode 50, second electrode 52) formed on the inner wall surfaces 46a, 48a of the holes. The base substrate 742, the pressure-sensitive element piece layer 772, and the diaphragm 704 form a three-layer structure having the internal space 10a.

ダイアフラム704は、可撓部704cと前記可撓部704cの外縁を囲む厚肉部704dとを有する。
感圧素子片層772は、2本の柱状ビームからなる振動部705aと前記振動部705aの両端に位置する基部705bとから構成される双音叉振動子705と、前記双音叉振動子705を囲む矩形の支持枠部773と、前記支持枠部773と前記基部705bとを連結する梁707とを有する。なお図12において励振電極701はベース基板742側にのみ形成されたように描かれているが、実際には両面に形成されているものとする。
The diaphragm 704 has a flexible portion 704c and a thick portion 704d surrounding the outer edge of the flexible portion 704c.
The pressure-sensitive element piece layer 772 surrounds the double tuning fork vibrator 705 composed of a vibrating part 705a made up of two columnar beams and bases 705b located at both ends of the vibrating part 705a, and the double tuning fork vibrator 705. It has a rectangular support frame portion 773, and a beam 707 connecting the support frame portion 773 and the base portion 705b. In FIG. 12, the excitation electrode 701 is depicted as being formed only on the base substrate 742 side, but it is assumed that it is actually formed on both sides.

そして感圧素子片層772の支持部枠773の両面にはそれぞれ、前記ダイアフラム704の厚肉部704bとベース基板742の外縁部742aとが前記接着手段750を用いて接合されている。ベース基板742の第1面742aの反対側の第2面742bから第1面742aに向かって漸次内径を小さくするテーパー状に孔(第1孔46、第2孔48)が形成され、第1孔46はベース基板742、前記接着手段750、第1引き出し電極702を貫通し、支持枠部773に達するとともに所定の深さの位置まで及んでいる。また第2孔48は、ベース基板44、蝋材36、第2引き出し電極703を貫通し、支持部枠773に達するとともに所定の深さの位置まで及んでいる。   The thick portion 704b of the diaphragm 704 and the outer edge portion 742a of the base substrate 742 are bonded to both surfaces of the support portion frame 773 of the pressure-sensitive element piece layer 772 using the adhesive means 750, respectively. Holes (first hole 46, second hole 48) are formed in a tapered shape that gradually decreases the inner diameter from the second surface 742b opposite to the first surface 742a of the base substrate 742 toward the first surface 742a. The hole 46 passes through the base substrate 742, the bonding means 750, and the first extraction electrode 702, reaches the support frame portion 773, and reaches a position having a predetermined depth. The second hole 48 passes through the base substrate 44, the brazing material 36, and the second extraction electrode 703, reaches the support portion frame 773, and extends to a predetermined depth.

上述のテーパー状の孔は、前述の第1実施形態及び第2実施形態に係る孔と同様に形成すればよい。従って、第1面742aと前記接着手段750は接合され、その接合された領域に孔を形成するため、前記領域にチッピングが発生することはなく、そのまま前記接着手段750にサンドブラストが進行する。よって、孔に形成される第1電極50、第2電極52において、チッピングによる断線が発生することを回避して歩留を高めた力検出素子700となる。またチッピングが発生することがないので、それを補うため第1電極50、第2電極52として大量の金属材料を用いる必要がないのでコストダウンが可能な力検出素子700となる。またベース基板742、感圧素子片層772、ダイアフラム704を積層した後に前記孔(第1孔46、第2孔48)を形成しているので、内壁面に段差を有しない孔を形成することができる。また前記第1電極50、第2電極52と感圧素子である双音叉振動子705とは離間されているので、双音叉振動子705の振動を阻害することはない。   What is necessary is just to form the above-mentioned taper-shaped hole similarly to the hole concerning the above-mentioned 1st Embodiment and 2nd Embodiment. Accordingly, the first surface 742a and the bonding unit 750 are bonded to each other, and a hole is formed in the bonded region. Therefore, chipping does not occur in the region, and sandblasting proceeds to the bonding unit 750 as it is. Therefore, in the first electrode 50 and the second electrode 52 formed in the hole, the force detection element 700 is obtained in which the yield is increased by avoiding the occurrence of disconnection due to chipping. Further, since chipping does not occur, it is not necessary to use a large amount of metal material for the first electrode 50 and the second electrode 52 to compensate for this, so that the force detecting element 700 capable of reducing the cost is obtained. Further, since the holes (first hole 46, second hole 48) are formed after the base substrate 742, the pressure sensitive element piece layer 772, and the diaphragm 704 are laminated, a hole having no step is formed on the inner wall surface. Can do. Further, since the first and second electrodes 50 and 52 are separated from the double tuning fork vibrator 705 which is a pressure sensitive element, the vibration of the double tuning fork vibrator 705 is not hindered.

また孔をサンドブラストにより形成したのち、孔の内壁にエッチング処理(ライトエッチング)を行うことが好適であって、これにより孔の内壁の残留応力を低減して力検出素子700への悪影響を防止するとともに、孔の内壁を平滑化することにより電極の形成を容易に行うことができることは言うまでもない。   Further, it is preferable to perform etching processing (light etching) on the inner wall of the hole after the hole is formed by sandblasting, thereby reducing the residual stress on the inner wall of the hole and preventing an adverse effect on the force detection element 700. In addition, it goes without saying that the electrodes can be easily formed by smoothing the inner walls of the holes.

以上、実施形態として、圧電振動子、力検出素子を前提として述べてきたがこれに限定されることはなく、積層構造の電子部品において、電子部品を構成し電極を有する電子素子片を、同じく電子部品を構成する基板上に積層する場合においても、電子素子片の電極を蝋材や接着手段を用いて基板に接続し、基板の下面からサンドブラストにより基板と接着手段等とを掘り込んで孔を形成し、孔の内壁に電極を形成して電子素子片の電極と基板側の電極との電気的接続を高い信頼性で実現することができる。   As described above, the embodiment has been described on the premise of the piezoelectric vibrator and the force detection element. However, the present invention is not limited to this, and in an electronic component having a laminated structure, an electronic element piece that constitutes the electronic component and has an electrode is similarly used. Even when laminating on a substrate constituting an electronic component, the electrode of the electronic element piece is connected to the substrate using a brazing material or an adhesive means, and the substrate and the adhesive means are dug from the lower surface of the substrate by sandblasting. And an electrode is formed on the inner wall of the hole, so that the electrical connection between the electrode of the electronic element piece and the electrode on the substrate side can be realized with high reliability.

10………圧電振動子、12………圧電振動片層、14………圧電振動片、16………第1連結部、18………第2連結部、20………第1引き出し部、22………第2引き出し部、24………支持枠、26………第1励振電極、28………第1引き出し電極、30………第2励振電極、32………第2引き出し電極、34………延伸部、36………蝋材、38………第2の蝋材、40………メタライズ、42………リッド、44………ベース基板、45………基板、46………第1孔、48………第2孔、50………第1電極、52………第2電極、54………第1外部電極、56………第2外部電極、58………水晶基板、70………圧電振動子、72………圧電振動片層、74………第1引き出し部、76………第2引き出し部、78………第3の蝋材、80………メタライズ、82………バンプ、84………メタライズ、86………第2凸部、101………枠部、102………圧電振動子、104………第1の蓋体、105………第2の蓋体、106………接続部、200………圧電振動子、201………蓋、202………基板、203………圧電基板、203A………枠部、203B………振動部、203C………引き出し電極、204………スルーホール、205………外部電極、301a………第1水晶基板、301b………第2水晶基板、301c………第3水晶基板、302………圧電振動片、302a………基部、302b………音叉腕、304(xy)………電極パッド、306a………第1貫通電極、306m………第1貫通孔、307(xy)………電極パッド、401………圧電振動子、411………圧電振動片、412………蓋体、413………絶縁基板、414………スルーホール、415a………接続電極、415b………貫通電極、415c………外部電極、417………金属部材、418………導電性接着剤、430………導電膜、700………力検出素子、701………励振電極、702………第1引き出し電極、703………第2引き出し電極、704………ダイアフラム、705………双音叉振動子、706………支持部、707………梁、742………ベース基板、750………接着手段、772………感圧素子片層、773………支持枠部。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ......... Piezoelectric vibrator, 12 ......... Piezoelectric vibrating piece layer, 14 ......... Piezoelectric vibrating piece, 16 ......... First connecting portion, 18 ......... Second connecting portion, 20 ......... First drawer , 22 ......... second lead portion, 24 ......... support frame, 26 ......... first excitation electrode, 28 ......... first lead electrode, 30 ......... second excitation electrode, 32 ......... first 2 lead electrodes 34... Stretched portion 36... Wax material 38... Second wax material 40... Metallized 42... Lid 44... Base substrate 45. ... Substrate, 46 ......... First hole, 48 ......... Second hole, 50 ......... First electrode, 52 ......... Second electrode, 54 ......... First external electrode, 56 ......... Second External electrode 58... Quartz substrate 70... Piezoelectric vibrator 72... Piezoelectric vibrating piece layer 74 74 First lead portion 76 76 Second lead portion 78 ...... Third wax material, 80 ......... Metalized, 82 ......... Bump, 84 ......... Metallized, 86 ...... Second convex part, 101 ......... Frame part, 102 ......... Piezoelectric vibrator, 104 ......... First lid, 105 ......... Second lid, 106 ......... Connecting part, 200 ......... Piezoelectric vibrator, 201 ......... Lid, 202 ...... Substrate, 203 ... ... Piezoelectric substrate, 203A ......... Frame portion, 203B ......... Vibration portion, 203C ...... Extraction electrode, 204 ...... Through hole, 205 ...... External electrode, 301a ......... First crystal substrate, 301b ... ...... Second crystal substrate, 301c ......... Third crystal substrate, 302 ......... Piezoelectric vibrating piece, 302a ......... Base, 302b ......... Tuning fork arm, 304 (xy) ......... Electrode pad, 306a ... ... first through electrode, 306m ......... first through hole, 307 (xy) ......... electric Pad 401 ...... Piezoelectric vibrator 411 ...... Piezoelectric vibrating piece 412 ...... Lid body 413 ...... Insulating substrate 414 …… Through hole 415 a ...... Connection electrode 415 b ...... Through electrode, 415c ......... External electrode, 417 ......... Metal member, 418 ......... Conductive adhesive, 430 ......... Conductive film, 700 ......... Force detection element, 701 ... Excitation electrode, 702 ... …… First extraction electrode, 703 ......... Second extraction electrode, 704 ......... Diaphragm, 705 ......... Double tuning fork vibrator, 706 ......... Supporting portion, 707 ......... Beam, 742 ......... Base substrate 750... Adhesive means 772... Pressure sensitive element single layer 773.

Claims (12)

電極を有する電子素子片を、基板上に搭載して形成される電子部品の製造方法であって、
前記電極と前記基板の第1面とを蝋材により接合し、
前記基板の前記第1面の反対側の第2面から前記第1面の方向に向かって前記基板及び前記蝋材を掘り込んで孔を形成し、
前記孔の内壁に電極を形成することを特徴とする電子部品の製造方法。
A method of manufacturing an electronic component formed by mounting an electronic element piece having an electrode on a substrate,
Bonding the electrode and the first surface of the substrate with a wax material;
Forming a hole by digging the substrate and the wax material from the second surface opposite to the first surface of the substrate toward the first surface;
An electrode is formed on the inner wall of the hole.
電極を有する電子素子片を、基板上に搭載して形成される電子部品であって、
前記電子部品は、前記電極と前記基板の第1面とを接続する蝋材と、
前記基板の前記第1面の反対側の第2面から前記第1面の方向に向かって前記基板及び前記蝋材を掘り込んで形成された孔と、
前記孔の内壁に形成された電極と、を有することを特徴とする電子部品。
An electronic component formed by mounting an electronic element piece having an electrode on a substrate,
The electronic component includes a brazing material that connects the electrode and the first surface of the substrate;
A hole formed by digging the substrate and the wax material from the second surface opposite to the first surface of the substrate toward the first surface;
And an electrode formed on the inner wall of the hole.
励振電極と前記励振電極に接続された引き出し電極とを有する圧電振動片を、基板上に搭載して形成される圧電振動子の製造方法であって、
前記引き出し電極と前記基板の第1面とを蝋材により接合し、
前記基板の前記第1面の反対側の第2面から前記第1面の方向に向かって前記基板及び前記蝋材を掘り込んで孔を形成し、
前記孔の内壁に電極を形成することを特徴とする圧電振動子の製造方法。
A method of manufacturing a piezoelectric vibrator formed by mounting a piezoelectric vibrating piece having an excitation electrode and a lead electrode connected to the excitation electrode on a substrate,
Bonding the lead electrode and the first surface of the substrate with a wax material;
Forming a hole by digging the substrate and the wax material from the second surface opposite to the first surface of the substrate toward the first surface;
An electrode is formed on the inner wall of the hole.
励振電極と前記励振電極に接続された引き出し電極とを有する圧電振動片を、基板上に搭載して形成される圧電振動子であって、
前記圧電振動子は、
前記引き出し電極と前記基板の第1面とを接続する蝋材と、
前記基板の前記第1面の反対側の第2面から前記第1面の方向に向かって前記基板及び前記蝋材を掘り込んで形成された孔と、
前記孔の内壁に形成された電極と、を有することを特徴とする圧電振動子。
A piezoelectric vibrator formed by mounting on a substrate a piezoelectric vibrating piece having an excitation electrode and an extraction electrode connected to the excitation electrode,
The piezoelectric vibrator is
A brazing material connecting the extraction electrode and the first surface of the substrate;
A hole formed by digging the substrate and the wax material from the second surface opposite to the first surface of the substrate toward the first surface;
And an electrode formed on an inner wall of the hole.
前記孔は、サンドブラストにより前記第2面から前記第1面側に向かって漸次内径が小さくなるテーパー状に形成されたことを特徴とする請求項4に記載の圧電振動子。   5. The piezoelectric vibrator according to claim 4, wherein the hole is formed in a taper shape with a gradually decreasing inner diameter from the second surface toward the first surface by sandblasting. 前記孔をサンドブラストにより形成されたのち、前記内壁にエッチング処理を行うことを特徴とする請求項5に記載の圧電振動子。   The piezoelectric vibrator according to claim 5, wherein the inner wall is subjected to an etching process after the hole is formed by sandblasting. 前記第2面の前記蝋材が接合する領域には凸部が形成され、前記孔は前記凸部を貫通することを特徴とする請求項4乃至6に記載の圧電振動子。   7. The piezoelectric vibrator according to claim 4, wherein a convex portion is formed in a region of the second surface where the wax material is joined, and the hole penetrates the convex portion. 前記孔は、前記基板及び前記蝋材とともに、前記引き出し電極を掘り込んで形成されたことを特徴とする請求項4乃至7のいずれか1項に記載の圧電振動子。   The piezoelectric vibrator according to claim 4, wherein the hole is formed by digging the extraction electrode together with the substrate and the wax material. 基板、圧電振動片層、リッドの順に積層された圧電振動子であって、
前記圧電振動片層は、
励振電極を有する圧電振動片と、
前記圧電振動片を支持する支持枠と、
前記圧電振動片に接続された引き出し部と、
前記励振電極に接続され前記引き出し部の前記基板に対向する面に引き出され、前記基板の第1面と蝋材により接合された引き出し電極と、を有し、
前記圧電振動子は、
前記基板の前記第1面の反対側の第2面から前記第1面の方向に向かってサンドブラストにより前記基板及び前記蝋材を掘り込んで形成された孔と、
前記孔の内壁に形成された電極と、を有するとともに、
前記引き出し部を前記リッドに固定する固定部を有することを特徴とする圧電振動子。
A piezoelectric vibrator that is laminated in the order of a substrate, a piezoelectric vibrating piece layer, and a lid,
The piezoelectric vibrating reed layer is
A piezoelectric vibrating piece having an excitation electrode;
A support frame for supporting the piezoelectric vibrating piece;
A drawer connected to the piezoelectric vibrating piece;
An extraction electrode connected to the excitation electrode and extracted to a surface of the extraction portion facing the substrate, and joined to the first surface of the substrate by a wax material;
The piezoelectric vibrator is
A hole formed by digging the substrate and the wax material by sandblasting from the second surface opposite to the first surface of the substrate toward the first surface;
An electrode formed on the inner wall of the hole,
A piezoelectric vibrator having a fixing portion for fixing the lead portion to the lid.
前記固定部は、蝋材であることを特徴とする請求項9に記載の圧電振動子。   The piezoelectric vibrator according to claim 9, wherein the fixing portion is a wax material. 前記固定部は、バンプであることを特徴とする請求項9に記載の圧電振動子。   The piezoelectric vibrator according to claim 9, wherein the fixing portion is a bump. 前記固定部は、前記引き出し部に形成された第2凸部であることを特徴とする請求項9に記載の圧電振動子。   The piezoelectric vibrator according to claim 9, wherein the fixed portion is a second convex portion formed in the lead portion.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2016105581A (en) * 2014-11-21 2016-06-09 エスアイアイ・クリスタルテクノロジー株式会社 Piezoelectric vibration piece and piezoelectric vibrator
JP2016174328A (en) * 2015-03-18 2016-09-29 セイコーエプソン株式会社 Wafer manufacturing method and wafer
CN110113023A (en) * 2019-05-17 2019-08-09 台晶(宁波)电子有限公司 It is a kind of using novel frequency, the quartz-crystal resonator of high stability

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