JP2010240517A

JP2010240517A - 流体圧力差研磨装置

Info

Publication number: JP2010240517A
Application number: JP2009089211A
Authority: JP
Inventors: Guogang Chen; 國剛陳
Original assignee: ROSACE INTERNATL CO Ltd
Current assignee: ROSACE INTERNATL CO Ltd
Priority date: 2009-04-01
Filing date: 2009-04-01
Publication date: 2010-10-28

Abstract

【課題】固体又は気体を、流体と十分に混合することができる流体圧力差研磨装置を提供する。
【解決手段】原料注入導管が連通すると共に、原料送出導管が連接する原料注入タンクと、
前記原料排出導管に連通する液体供給ユニットと、
前記原料排出導管に連通する気体供給ユニットと、
均圧筒と、加圧原料注入導管と、気液分離器と、圧力ゲージと、少なくとも１つのナノ研磨器とを有する均圧装置と、
前記ナノ研磨器に連結される後処理設備と、
を備えることを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、特に高圧研磨方法により、固体又は気体を、流体と十分に混合することができる流体圧力差研磨装置に関するものである。

一般の環境においては、物質は温度の差により、気体、液体及び固体の三つの状態を呈するが、常温において気体を呈する元素や化合物もあれば、液体を呈する元素や化合物もある。また、例えば気体または固体を呈する元素や化合物を液体を呈する元素や化合物に溶解させる場合における溶解度を向上させるためには、外力または特定の器具による補助に頼らなければならない。

現在用いられている従来の方法は、殆ど加圧の方法により、例えば、固体粉末を液体に溶解させ、又は気体を液体に溶解させるために、互いに異なる状態を呈する２つの物質の間の溶解度を向上させるものである。

しかしながら、上記の従来の技術においては未だに、固体粉末を液体に溶解させ、又は気体を液体に溶解させると同時に、固体粉末又は気体を液体に均一に分布させ、固体粉末又は気体をナノ化する器具は、案出されていない。故に前記器具は、更に開発する余地があった。

そこで、出願されたのが本発明であって、固体粉末を液体に溶解させ、又は気体を液体に溶解させると同時に、固体粉末又は気体を液体に均一に分布させ、更に固体粉末又は気体をナノ化する器具を提供する。

本願の請求項１の発明は、原料注入管が連通すると共に、加圧ポンプが設けられる原料排出管が連通する原料注入タンクと、
前記原料排出管に連通する液体供給ユニットと、
前記原料排出管に連通する気体供給ユニットと、
均圧筒と、加圧原料注入管と、気液分離器と、圧力ゲージと、少なくとも１つのナノ研磨器とを有し、
該加圧原料注入管の一端が該均圧筒に連結されると共に、前記原料排出管に連通し、該気液分離器が該均圧筒に設置されて連通し、該圧力ゲージが該均圧筒に設置され、該ナノ研磨器が該均圧筒に設置されて連通すると共に、循環管を介して前記原料注入タンクに連結される均圧装置と、
前記ナノ研磨器に連結される後処理設備と、
を備えることを特徴とする流体圧力差研磨装置、を提供する。

本願の請求項２の発明は、前記ナノ研磨器は、開放状の近端と、
開放状の遠端と、
少なくとも１つの研磨器出口管と、
環状当接部とを有し、
前記近端が前記均圧筒に結合され、前記研磨器出口管が側辺に設置され、前記環状当接部が近端において、該均圧筒と連通する流体入口を形成すると共に、前記遠端と内部空間を形成するように、内壁から内部に向かって延出し、前記内部空間が前記流体入口及び研磨器出口管と連通する中空ケーシングと、
前記中空ケーシングの遠端を封止するため、該中空ケーシングの遠端に設置されると共に、前記内部空間と連通する中央貫通孔を有する蓋と、
前記内部空間に設置されると共に、前記中空ケーシングの内壁との間に膨張空間が形成され、それぞれ中軸穴が形成され、該中軸穴の外側に、間隔を置いて環状に複数のガイド穴が形成されると共に、該中軸穴に中軸固定ロッドが挿入され、また、該中軸固定ロッドが前記中軸穴に挿入されるロッド体と、前記中軸固定ロッドの断面がＴ字形を呈するように、該ロッド体の遠端に垂直に設置される第１スペーサとを有し、該第１スペーサが最も前記蓋に近い箇所に当接される、複数の研磨プレートと、
前記蓋の中央貫通孔に挿入され、該中央貫通孔に挿入されるロッド体と、
断面がＴ字形を呈するように、該ロッド体の遠端に垂直に設置される第２スペーサとを有し、前記ロッド体が前記中空ケーシングの内部空間に設置される近端と、
前記中空ケーシングの外側に設置される遠端と、
前記中央貫通孔の内部に設置されると共に、前記ロッド体の外側に環設される少なくとも１つのゴムOリングと、
前記蓋の外側に設置されると共に、前記ロッド体の外側に環設される位置決めナットと、
前記位置決めナットの近傍におけるロッド体の外側に環設される固定ナットとを有し、
前記第２スペーサが前記複数の研磨プレートの間の密度を調整するために、前記内部空間において、前記第１スペーサに当接するように、前記ロッド体の近端に設けられる調圧ロッドと、
を有するものであることを特徴とする請求項１に記載の流体圧力差研磨装置、を提供する。

本願の請求項３の発明は、前記研磨プレートのガイド穴の軸線が、水平面に対して０度乃至６０度であることを特徴とする請求項２に記載の流体圧力差研磨装置、を提供する。

本願の請求項４の発明は、前記後処理設備は、瓶詰め機を有し、該瓶詰め機は、瓶詰め原料注入管を介して前記ナノ研磨器に連結され、該瓶詰め原料注入管に電磁弁が設けられることを特徴とする請求項１に記載の流体圧力差研磨装置、を提供する。

本願の請求項５の発明は、前記後処理設備は、圧力解放タンクを有し、該圧力解放タンクの下部には、圧力解放管が設けられ、該圧力解放タンクは、圧力解放タンク原料注入管を介して前記ナノ研磨器に連結され、該圧力解放タンク原料注入管に電磁弁が設けられることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載の流体圧力差研磨装置、を提供する。

本願の請求項６の発明は、前記液体供給ユニットは、液体添加原料管を介して原料排出管に連結され、該液体添加原料管に液体流量ゲージが設けられることを特徴とする請求項５に記載の流体圧力差研磨装置、を提供する。

本願の請求項７の発明は、前記気体供給ユニットは、気体添加原料管を介して原料排出管に連結され、該気体添加原料管に気体流量ゲージが設けられることを特徴とする請求項５に記載の流体圧力差研磨装置、を提供する。

本願の請求項８の発明は、前記気体供給ユニットは、気体添加原料管を介して原料排出管に連結され、該気体添加原料管に気体流量ゲージが設けられることを特徴とする請求項６に記載の流体圧力差研磨装置、を提供する。

本願の請求項９の発明は、前記原料注入タンクの原料注入管は、該原料注入タンクの上部近傍と連通するものであり、該原料注入タンクの原料排出管は、該原料注入タンクの下部に設置されることを特徴とする請求項５に記載の流体圧力差研磨装置、を提供する。

本願の請求項１０の発明は、前記均圧装置は、第１ナノ研磨器と、第２ナノ研磨器とを有し、前記循環管は、該第１ナノ研磨器と連通し、前記後処理設備は、該第２ナノ研磨器と連通することを特徴とする請求項５に記載の流体圧力差研磨装置、を提供する。

本発明は、液体を主な原料とし、加圧の工程において、適当な固体、液体又は気体を加え、ナノ研磨することにより、固体粉末を液体にナノ化させると共に、気体をナノ気泡を生成させるように、強制的に液体に溶解させるのみならず、無機液体と有機液体とを乳化させることができるので、本発明は、異なる状態を呈する物質を均一に混合させる効果を有するものである。

本発明に係る流体圧力差研磨装置の構成図である。本発明に係る流体圧力差研磨装置の均圧装置の斜視図である。本発明に係る流体圧力差研磨装置の均圧装置の平面図である。本発明に係る流体圧力差研磨装置のナノ研磨器の平面断面図である。本発明に係る流体圧力差研磨装置のナノ研磨器の前部の平面断面図である。本発明に係る流体圧力差研磨装置のナノ研磨器の研磨プレートの正面図である。本発明に係る流体圧力差研磨装置のナノ研磨器の研磨プレートが正回転している状態を示す側面断面図である。本発明に係る流体圧力差研磨装置のナノ研磨器の研磨プレートが逆回転している状態を示す側面断面図である。本発明に係る流体圧力差研磨装置のナノ研磨器の後部の平面断面図である。

以下、添付図面を参照して本発明の好適な実施の形態を詳細に説明する。

図１は本発明に係る流体圧力差研磨装置の構成図であり、図２は本発明に係る流体圧力差研磨装置の均圧装置の斜視図であり、図３は本発明に係る流体圧力差研磨装置の均圧装置の平面図であり、図４は本発明に係る流体圧力差研磨装置のナノ研磨器の平面断面図であり、図５は本発明に係る流体圧力差研磨装置のナノ研磨器の前部の平面断面図であり、図６は本発明に係る流体圧力差研磨装置のナノ研磨器の研磨プレートの正面図であり、図７は本発明に係る流体圧力差研磨装置のナノ研磨器の研磨プレートが正回転している状態を示す側面断面図であり、図８は本発明に係る流体圧力差研磨装置のナノ研磨器の研磨プレートが逆回転している状態を示す側面断面図であり、図９は本発明に係る流体圧力差研磨装置のナノ研磨器の後部の平面断面図である。

図１に示すように、本発明に係る流体圧力差研磨装置は、原料注入タンク（１０）と、液体供給ユニット（２０）と、気体供給ユニット（３０）と、均圧装置（４０）と、後処理設備（５０）とを備えるものである。

前記原料注入タンク（１０）は、液体原料を収容するものであり、該原料注入タンク（１０）の側辺の上部近傍において、弁（１１１）を有する原料注入管（１１）が連通し、前記原料投入タンク（１０）の下部には、原料排出管（１２）が連結され、該原料排出管（１２）に加圧ポンプ（１３）が設けられると共に、間隔を置いて複数の弁（１２１）（１２２）が設けられる。

前記液体供給ユニット（２０）は、液体添加原料管（２１）を介して原料排出管（１２）における、前記原料注入タンク（１０）と加圧ポンプ（１３）との間に連結されると共に、該液体添加原料管（２１）には液体流量ゲージ（２２）が設けられ、該液体供給ユニット（２０）は、液体又は固体粉末を含有する液体を提供するものである。

前記気体供給ユニット（３０）は、気体添加原料管（３１）を介して原料排出管（１２）における、前記原料注入タンク（１０）と加圧ポンプ（１３）との間に連結されると共に、該気体添加原料管（３１）には気体流量ゲージ（３２）が設けられる。

図２及び図３に示すように、均圧装置（４０）は、均圧筒（４１）と、加圧原料注入管（４２）と、気液分離器（４３）と、圧力ゲージ（４４）と、第１ナノ研磨器（４５）と、第２ナノ研磨器（４６）とを有するものである。

前記均圧筒（４１）の下部には、原料注入連結部（４１１）が設けられ、前記加圧原料注入管（４２）の一端が該均圧筒（４１）の原料注入連結部（４１１）に連結されると共に、前記原料排出管（１２）と連通することにより、原料排出管（１２）中の流体を均圧筒（４１）に流入させることができる。

前記気液分離器（４３）は排気口（４３１）を有すると共に、前記均圧筒（４１）に設置され、該均圧筒（４１）の上部と連通する。また、前記圧力ゲージ（４４）は、前記均圧装置（４０）の圧力を監視し調整するため、前記均圧筒（４１）に設置される。

前記第１ナノ研磨器（４５）は前記均圧筒（４１）に設置されると共に、前記均圧筒（４１）の側辺と連通し、該研磨器出口管（４５１１）を有するものである。前記研磨器出口管（４５１１）には、前記原料投入タンク（１０）の側辺に連結するための循環管（４５１）が連結されると共に、該循環管（４５１）には、電磁弁（４５２）が設けられ、前記第２ナノ研磨器（４６）は、前記第１ナノ研磨器（４５）の反対する側において、前記均圧筒（４１）に設置され、尚且つ該均圧筒（４１）の側辺と連通し、前記第２ナノ研磨器（４６）には、２つの研磨器出口管（４６１１ａ）（４６１１ｂ）が設けられる。

さらに図１に示すように、後処理設備（５０）は、瓶詰め機（５１）と、圧力解放タンク（５３）とを有し、該瓶詰め機（５１）は、瓶詰め原料注入管（５２）を介して前記第２ナノ研磨器（４６）に連結されると共に、該瓶詰め原料注入管（５２）には電磁弁（５２１）が設けられる。

前記圧力解放タンク（５３）の下部には、圧力解放管（５５）が設けられ、該圧力解放管（５５）には制御弁（５５１）が設けられると共に、該圧力解放タンク（５３）は、圧力解放タンク原料注入管（５４）を介して前記第２ナノ研磨器（４６）に連結され、該圧力解放タンク原料注入管（５４）には電磁弁（５４１）が設けられる。

前記均圧装置（４０）の第１ナノ研磨器（４５）と、第２ナノ研磨器（４６）とは、同様の構成を成すものであるので、以下においては、第２ナノ研磨器（４６）を例として説明する。

図４に示すように、第２ナノ研磨器（４６）は、中空ケーシング（４６１）と、蓋（４６２）と、複数の研磨プレート（４６３）と、調圧ロッド（４６５）とを有するものである。

図５に示すように、中空ケーシング（４６１）は、開放状の近端（４６１２）と、開放状の遠端（４６１３）と、研磨器出口管（４６１１ａ）（４６１１ｂ）と、環状当接部（４６１６）とを有するものであり、
該中空ケーシング（４６１）の近端（４６１２）は、前記均圧筒（４１）に接触し結合され、該研磨器出口管（４６１１ａ）（４６１１ｂ）は、該中空ケーシング（４６１）の側辺に設置される。

前記環状当接部（４６１６）は、前記中空ケーシング（４６１）の内壁から内部に向かって延出し、また、該環状当接部（４６１６）は、該中空ケーシング（４６１）の近端（４６１２）において、前記均圧筒（４１）と連通する流体入口（４６１４）を形成すると共に、該中空ケーシング（４６１）の遠端（４６１３）及び内部空間（４６１５）を形成し、該内部空間（４６１５）は、該流体入口（４６１４）及び研磨器出口管（４６１１ａ）（４６１１ｂ）と連通する。

前記蓋（４６２）は、前記中空ケーシング（４６１）の遠端（４６１３）を封止するため、該中空ケーシング（４６１）の遠端（４６１３）に設置され、また、該蓋（４６２）には、前記内部空間（４６１５）と連通する中央貫通孔（４６２１）を有する。

図６に示すように、複数の研磨プレート（４６３）は、前記内部空間（４６１５）に設置されると共に、前記中空ケーシング（４６１）の内壁との間に膨張空間（符号なし）が形成される。

前記各研磨プレート（４６３）には、中軸穴（４６３１）が形成され、該中軸穴（４６３１）の外側には、間隔を置いて環状に複数のガイド穴（４６３２）が形成されると共に、該中軸穴（４６３１）には、中軸固定ロッド（４６４）が挿入される。

前記中軸固定ロッド（４６４）は、ロッド体（４６４１）と、第１スペーサ（４６４２）とを有し、該中軸固定ロッド（４６４）のロッド体（４６４１）は、前記中軸穴（４６３１）に挿入される。
また、前記第１スペーサ（４６４２）が前記ロッド体（４６４１）の遠端に垂直に設置されることにより、前記中軸固定ロッド（４６４）の断面がＴ字形を呈し、該第１スペーサ（４６４２）は、前記研磨プレート（４６３）の内、前記蓋（４６２）に最も近い研磨プレート（４６３）に当接される。

前記研磨プレート（４６３）のガイド穴（４６３２）の軸線は、水平面に対して０度乃至６０度を呈する。即ち、該研磨プレート（４６３）のガイド穴（４６３２）は水平面と平行であり、或いは該研磨プレートは、正回転研磨プレート（４６３ａ）又は逆回転研磨プレート（４６３ｂ）である。

図７に示すように、研磨プレートが正回転研磨プレート（４６３ａ）である場合は、該正回転研磨プレート（４６３ａ）のガイド穴（４６３２ａ）が前記流体入口（４６１４）の入口から他端へ向って前記中軸穴（４６３１）に対して近づくように傾斜している。

一方、図８に示すように、前記研磨プレートが逆回転研磨プレート（４６３ｂ）である場合は、該逆回転研磨プレート（４６３ｂ）のガイド穴（４６３２ｂ）が前記流体入口（４６１４）の入口から、他端へ向って前記中空ケーシング（４６１）の内壁に対して近づくように傾斜している。

このように、処理しようとする流体に応じて、異なる傾斜角度のガイド穴（４６３２）を有する研磨プレート（４６３）を組み合わせることができることから、流体が該研磨プレート（４６３）を通過する時、該研磨プレート（４６３）が回転するので、研磨効果を提供することができる。また、処理された流体は、膨張空間に流入する。

図９に示すように、調圧ロッド（４６５）は、蓋（４６２）の中央貫通孔（４６２１）に挿入されると共に、該中央貫通孔（４６２１）に挿入されるロッド体（４６５１）と、該調圧ロッド（４６５）の断面がＴ字状を呈するように、該ロッド体（４６５１）の遠端に垂直に設置される第２スペーサ（４６５２）を有するものである。

前記ロッド体（４６５１）は、前記中空ケーシング（４６１）の内部空間（４６１５）に設置される近端と、前記中空ケーシング（４６１）の外側に設置される遠端と、少なくとも１つのゴムOリング（４６６）と、位置決めナット（４６７）と、固定ナット（４６８）とを有し、該ゴムOリング（４６６）は、前記中央穿孔（４６２１）の内部に設置されると共に、前記ロッド体（４６５１）の外側に環設されるものであり、該位置決めナット（４６７）は、前記蓋（４６２）の外側に設置されると共に、該ロッド体（４６５１）の外側に環設されるものであり、該固定ナット（４６８）は、該位置決めナット（４６７）の近傍におけるロッド体（４６５１）の外側に環設されるものである。

前記第２スペーサ（４６５２）は、前記ロッド体（４６５１）の近端に設けられるものであり、該第２スペーサ（４６５２）は、前記複数の研磨プレート（４６３）の間の緊密度を調整するため、前記内部空間（４６１５）において、前記第１スペーサ（４６４２）に当接することができるので、異なる研磨効果を提供することができる。

また、本発明を使用する時は、前記原料タンク（１０）の液体原料を、原料排出管（１２）を介して前記加圧ポンプ（１３）により前記加圧原料注入管（４２）に流入させると共に、前記原料を前記原料注入連結部（４１１）を介して前記均圧筒（４１）に流入させ、さらに、前記第１ナノ研磨器（４５）の研磨器出口管（４５１１）及び循環管（４５１）を介して前記液体原料を、前記原料注入管（１１）に回送させ、前記原料を循環させる。前記液体原料に微小な有機物が存在する場合、前記液体原料を前記第１ナノ研磨器（４５）で処理することにより、前記微小な有機物を前記液体原料において均一に分布させることができる。

また、前記液体供給ユニット（２０）又は気体供給ユニット（３０）により、液体、固体又は気体を、前記原料との混合流体とするために、前記原料排出管（１２）に供給し、その後、該混合流体を、前記加圧原料注入管（４２）を介して前記均圧筒（４１）に流入させる。そして、前記第２ナノ研磨器（４６）に流入させる前に、前記混合流体から余分な気体を、前記気液分離器（４３）のフロートスイッチ（図示せず）により、前記排気口（４３１）から排出させる。

また、前記混合流体を、前記第２ナノ研磨器（４６）の流体入口（４６１４）を介して前記第２ナノ研磨器（４６）に流入させる時には、前記圧力ゲージ（４４）を観察し、前記調整ロッド（４６５）を調整することにより、前記研磨プレート（４６３）の間の緊密度を制御し、前記混合流体が前記研磨プレート（４６３）のガイド穴（４６３２）を通って前記研磨プレート（４６３）を回転させることにより、研磨効果を提供することができる。

研磨された混合流体は、前記膨張空間に流入し、また、研磨された混合流体は、前記１つの研磨器出口管（４６１１ａ）により、前記圧力解放タンク原料注入管（５４）を介して前記圧力解放タンク（５３）に流入する。

更に、前記圧力ゲージ（４４）を観察して瓶詰め圧力を調整し、他の研磨器出口管（４６１１ａ）により、混合液体を前記瓶詰め原料注入管（５２）を介して前記瓶詰め機（５１）に流入させることにより、圧力充填工程及び封緘工程などを行うことができる。

本発明は上記の構成を有し、原料注入タンクに使用する原料は液体のものであり、本発明に係る流体圧力差研磨装置は、用途により気体液体システム、固体液体システム及び液体液体システム等の分野に使い分けることができるものである。

前記気体液体システムにおいて使用される気体は、気体供給ユニットにより供給するものであり、前記気体は、例えば空気、窒素ガス、酸素ガス、オゾン、水素ガス、一酸化炭素、二酸化炭素、二酸化硫黄、二酸化窒素などの気体であることが好ましいが、上記に開示された種類の気体に制限されるものではない。

前記気体液体システムの使用例としては、適量の空気及び凝集剤を廃水に溶解させ、高圧により微小気泡を放出させて、例えばＣＯＤ、ＢＯＤ又は固体浮遊物など、廃水の不純物の殆どを空気により浮上させ、排除するものである。さらに、オゾンを加えることにより水道水を処理したり、窒素ガスを清涼飲料やアルコール飲料に加えることにより鮮度を維持させたり、ミネラルウォーターに酸素ガスを添加することにより酸素量を向上させたり、プールにオゾンや酸素ガス、或いは工業用漂白剤として二酸化硫黄やオゾン、或いは養殖用水に酸素ガスを加えることにより溶存酸素量を向上させたりすることができる。

また、前記固体液体システムにおいては、前記液体供給ユニットの液体に適量の固体粉末を添加し、該固体粉末を有する液体を前記原料排出管に流入させ、混合後の流体により前記ナノ研磨器を駆動することにより、固体粉末を研磨して固体粉末をナノスケールの粉末材料にし、さらに脱水乾燥工程を行えば、製品を得ることができる。また、藻類、花粉などを研磨すると共に、迅速に圧力開放する工程を行えば、細胞壁の破壊やナノ化することができ、さらには、セラミック原料の緻密研磨や、化粧品の有機添加物の乳化及び緻密化も行うことができる。

更に、前記液体液体システムにおいては、使用される一方の液体が、前記原料注入タンク（１０）より供給されるものであり、もう一方の液体は、前記液体供給ユニット（２０）より供給されるものであるので、有機油に適量の水又は有機溶剤を加えれば、油と水とを互いに溶解させることができる。即ち、本発明に係る流体圧力差研磨装置によれば、使用上の利便性を高めるために、限られた溶解度の物質を互いに溶解させることができる。例えば、空気汚染を低減させるために、燃焼効率を向上させて燃料油に水を溶解させることや、高熱値の燃料にアルコールを添加することや、低熱値のアルコール燃料に高熱値油を添加することなどを行うことができる。

上述した通り、本発明により混合できる物質は非常に多いことから、本発明に係る流体圧力差研磨装置は幅広い産業に適用することができるので、本発明は、実用性に優れるものである。

１０原料注入タンク
１１原料注入管
１１１弁
１２原料排出管
１２１弁
１２２弁
１３加圧ポンプ
２０液体供給ユニット
２１液体添加原料管
２２液体流量ゲージ
３０気体供給ユニット
３１気体添加原料管
３２気体流量ゲージ
４０均圧装置
４１均圧筒
４１１原料注入連結部
４２加圧原料注入管
４３気液分離器具
４３１排気口
４４圧力ゲージ
４５第１ナノ研磨器
４５１循環管
４５１１研磨器出口管
４５２電磁弁
４６第２ナノ研磨器
４６１中空ケーシング
４６１１ａ研磨器出口管
４６１１ｂ研磨器出口管
４６１２近端
４６１３遠端
４６１４流体入口
４６１５内部空間
４６１６環状当接部
４６２蓋
４６２１中央貫通孔
４６３研磨プレート
４６３１中軸穴
４６３２ガイド穴
４６３ａ正回転研磨プレート
４６３ｂ逆回転研磨プレート
４６４中軸固定ロッド
４６４１ロッド体
４６４２第１スペーサ
４６５調圧ロッド
４６５１ロッド体
４６５２第２スペーサ
４６６ゴムOリング
４６７位置決めナット
４６８固定ナット
５０後処理設備
５１瓶詰め機
５２瓶詰め原料注入管
５２１電磁弁
５３圧力解放タンク
５４圧力解放タンク原料注入管
５４１電磁弁
５５圧力解放管
５５１制御弁

Claims

原料注入管が連通すると共に、加圧ポンプが設けられる原料排出管が連通する原料注入タンクと、
前記原料排出管に連通する液体供給ユニットと、
前記原料排出管に連通する気体供給ユニットと、
均圧筒と、加圧原料注入管と、気液分離器と、圧力ゲージと、少なくとも１つのナノ研磨器とを有し、
該加圧原料注入管の一端が該均圧筒に連結されると共に、前記原料排出管に連通し、該気液分離器が該均圧筒に設置されて連通し、該圧力ゲージが該均圧筒に設置され、該ナノ研磨器が該均圧筒に設置されて連通すると共に、循環管を介して前記原料注入タンクに連結される均圧装置と、
前記ナノ研磨器に連結される後処理設備と、
を備えることを特徴とする流体圧力差研磨装置。
前記ナノ研磨器は、開放状の近端と、
開放状の遠端と、
少なくとも１つの研磨器出口管と、
環状当接部とを有し、
前記近端が前記均圧筒に結合され、前記研磨器出口管が側辺に設置され、前記環状当接部が近端において、該均圧筒と連通する流体入口を形成すると共に、前記遠端と内部空間を形成するように、内壁から内部に向かって延出し、前記内部空間が前記流体入口及び研磨器出口管と連通する中空ケーシングと、
前記中空ケーシングの遠端を封止するため、該中空ケーシングの遠端に設置されると共に、前記内部空間と連通する中央貫通孔を有する蓋と、
前記内部空間に設置されると共に、前記中空ケーシングの内壁との間に膨張空間が形成され、それぞれ中軸穴が形成され、該中軸穴の外側に、間隔を置いて環状に複数のガイド穴が形成されると共に、該中軸穴に中軸固定ロッドが挿入され、また、該中軸固定ロッドが前記中軸穴に挿入されるロッド体と、前記中軸固定ロッドの断面がＴ字形を呈するように、該ロッド体の遠端に垂直に設置される第１スペーサとを有し、該第１スペーサが最も前記蓋に近い箇所に当接される、複数の研磨プレートと、
前記蓋の中央貫通孔に挿入され、該中央貫通孔に挿入されるロッド体と、
断面がＴ字形を呈するように、該ロッド体の遠端に垂直に設置される第２スペーサとを有し、前記ロッド体が前記中空ケーシングの内部空間に設置される近端と、
前記中空ケーシングの外側に設置される遠端と、
前記中央貫通孔の内部に設置されると共に、前記ロッド体の外側に環設される少なくとも１つのゴムOリングと、
前記蓋の外側に設置されると共に、前記ロッド体の外側に環設される位置決めナットと、
前記位置決めナットの近傍におけるロッド体の外側に環設される固定ナットとを有し、
前記第２スペーサが前記複数の研磨プレートの間の密度を調整するために、前記内部空間において、前記第１スペーサに当接するように、前記ロッド体の近端に設けられる調圧ロッドと、
を有するものであることを特徴とする請求項１に記載の流体圧力差研磨装置。
前記研磨プレートのガイド穴の軸線が、水平面に対して０度乃至６０度であることを特徴とする請求項２に記載の流体圧力差研磨装置。
前記後処理設備は、瓶詰め機を有し、該瓶詰め機は、瓶詰め原料注入管を介して前記ナノ研磨器に連結され、該瓶詰め原料注入管に電磁弁が設けられることを特徴とする請求項１に記載の流体圧力差研磨装置。
前記後処理設備は、圧力解放タンクを有し、該圧力解放タンクの下部には、圧力解放管が設けられ、該圧力解放タンクは、圧力解放タンク原料注入管を介して前記ナノ研磨器に連結され、該圧力解放タンク原料注入管に電磁弁が設けられることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載の流体圧力差研磨装置。
前記液体供給ユニットは、液体添加原料管を介して原料排出管に連結され、該液体添加原料管に液体流量ゲージが設けられることを特徴とする請求項５に記載の流体圧力差研磨装置。
前記気体供給ユニットは、気体添加原料管を介して原料排出管に連結され、該気体添加原料管に気体流量ゲージが設けられることを特徴とする請求項５に記載の流体圧力差研磨装置。
前記気体供給ユニットは、気体添加原料管を介して原料排出管に連結され、該気体添加原料管に気体流量ゲージが設けられることを特徴とする請求項６に記載の流体圧力差研磨装置。
前記原料注入タンクの原料注入管は、該原料注入タンクの上部近傍と連通するものであり、該原料注入タンクの原料排出管は、該原料注入タンクの下部に設置されることを特徴とする請求項５に記載の流体圧力差研磨装置。
前記均圧装置は、第１ナノ研磨器と、第２ナノ研磨器とを有し、前記循環管は、該第１ナノ研磨器と連通し、前記後処理設備は、該第２ナノ研磨器と連通することを特徴とする請求項５に記載の流体圧力差研磨装置。