JP2010209450A - Surface treatment method and surface treatment apparatus of metal wire or metal line - Google Patents

Surface treatment method and surface treatment apparatus of metal wire or metal line Download PDF

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智則 佐伯
Yoshiyuki Ando
好幸 安藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface treatment method and a surface treatment apparatus of metal wire or metal line, capable of suppressing the generation of VOC to suppress an influence on the environment, improving removing power of attached substance from metal surface, suppressing the oxidation of the metal surface and reducing the cost. <P>SOLUTION: This invention relates to the surface treatment method in which a metal wire or metal line 10 is brought into contact with gas-liquid mixed phase fluid to perform surface treatment, wherein the liquid constituting the gas-liquid mixed phase fluid is like droplet having a diameter of 1-100 μm. The metal wire or metal line 10 is a copper wire or a copper line. The liquid constituting the gas-liquid mixed phase fluid consists essentially of water. An average temperature of the gas-liquid mixed phase fluid falls into the range of 40°C to the boiling point. A molar fraction of oxygen contained in the gas-liquid mixed phase fluid is 1% or less. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、金属線または金属条の表面処理方法ならびに表面処理装置に関するものである。   The present invention relates to a surface treatment method and a surface treatment apparatus for a metal wire or a metal strip.

金属線または金属条例えば銅線または銅条の製造においては、原料銅線を冷間圧延により所定の断面形状に加工した後、銅線または銅条の表面の付着物を洗浄等により除去する表面処理が行われている。表面の付着物としては、圧延加工に用いられる潤滑油や、圧延加工の際に発生する銅粉などが含まれる。   In the production of a metal wire or a metal strip, for example, a copper wire or a copper strip, after the raw copper wire is processed into a predetermined cross-sectional shape by cold rolling, the surface of the copper wire or the surface of the copper strip is removed by washing or the like Processing is in progress. Examples of the deposit on the surface include lubricating oil used for rolling and copper powder generated during rolling.

従来の付着物の除去方法として、例えば非特許文献1に開示されているように、有機溶剤に浸漬することにより潤滑油を溶解して除去する技術(従来技術1)が知られている。また、非特許文献2に開示されているように、液中において被洗浄物に超音波を照射することにより微粒子を除去する技術(従来技術2)が知られている。これらの技術は必要に応じて組み合わせて用いられている。   As a conventional method for removing deposits, for example, as disclosed in Non-Patent Document 1, a technique (prior art 1) for dissolving and removing lubricating oil by immersing in an organic solvent is known. Further, as disclosed in Non-Patent Document 2, a technique (prior art 2) is known in which fine particles are removed by irradiating an object to be cleaned with ultrasonic waves in a liquid. These techniques are used in combination as necessary.

図6は従来の銅条の洗浄装置を概略的に示す図、図7は図6の要部を概略的に示す図である。図6において、11は洗浄前の銅条リール(洗浄前の銅条をリールに巻き取ったもの)1から銅条10を送り出すアンコイラ(送り出し装置)であり、12は洗浄後の銅条リール(洗浄後の銅条をリールに巻き取ったもの)2を形成するリコイラ(巻取装置)である。アンコイラ11とリコイラ12との間には、銅条1を送り出す送り出しローラ15と、銅条1を洗浄処理(表面処理)する洗浄処理装置(表面処理装置)を構成する洗浄処理室(表面処理室)21と、洗浄後の銅条を乾燥処理する乾燥処理装置を構成する乾燥処理室22とが順に設けられている。   FIG. 6 is a diagram schematically showing a conventional copper strip cleaning apparatus, and FIG. 7 is a diagram schematically showing the main part of FIG. In FIG. 6, 11 is an uncoiler (feeding device) for feeding a copper strip 10 from a copper strip reel 1 before cleaning (the copper strip wound before winding is wound around the reel), and 12 is a copper strip reel (after feeding) This is a recoiler (winding device) for forming a copper strip after cleaning on a reel. Between the uncoiler 11 and the recoiler 12, a feed roller 15 for feeding the copper strip 1 and a cleaning processing chamber (surface processing chamber) constituting a cleaning processing device (surface processing device) for cleaning the copper strip 1 (surface treatment) ) 21 and a drying processing chamber 22 constituting a drying processing apparatus for drying the cleaned copper strip.

図7に示すように、洗浄処理室21内には洗浄液を収容した洗浄液槽213が設けられ、洗浄処理室21には銅条を導入する導入口211と、銅条10を排出する排出口212と、銅条10を洗浄液槽213内に導くように配置されたガイドローラ214とが設けられている。前記洗浄処理室21において、前記有機溶剤による洗浄処理(従来技術1)または液中での超音波照射による洗浄処理(従来技術2)が行われることになる。   As shown in FIG. 7, a cleaning liquid tank 213 containing a cleaning liquid is provided in the cleaning processing chamber 21, and an introduction port 211 for introducing a copper strip into the cleaning processing chamber 21 and a discharge port 212 for discharging the copper strip 10. And a guide roller 214 disposed so as to guide the copper strip 10 into the cleaning liquid tank 213. In the cleaning processing chamber 21, a cleaning process using the organic solvent (conventional technique 1) or a cleaning process using ultrasonic irradiation in a liquid (conventional technique 2) is performed.

すぐ使える洗浄技術(工業調査会、2001年)、p.262Ready-to-use cleaning technology (Industry Research Committee, 2001), p. 262 すぐ使える洗浄技術(工業調査会、2001年)、p.138Ready-to-use cleaning technology (Industry Research Committee, 2001), p. 138

しかしながら、上記従来技術1にかかる問題点は、有機溶剤が揮発することに伴い作業環境や大気の汚染を引き起こす可能性があることである。平成17年改正の大気汚染防止法によれば、2010年までに揮発性有機化合物(Volatile Organic Compound; 以下VOCという。)の発生量を2000年度比で30%削減することが求められている。   However, the problem with the prior art 1 is that it may cause pollution of the working environment and the atmosphere as the organic solvent volatilizes. According to the Air Pollution Control Law revised in 2005, the amount of volatile organic compounds (hereinafter referred to as VOC) generated by 2010 is required to be reduced by 30% from the 2000 level.

銅条ならびに銅線は全長が長く、リール等に巻いてもリールの直径ならびに幅が大きいため、材料全体を密閉した装置内に収納することが困難である。そのため、一般には、装置外部にアンコイラ11やリコイラ12を設置し、銅条ないし銅線は導入口211から洗浄処理室21の内部に導入されて処理された後、排出口212から洗浄処理室21の外部に送り出され、外部に設置されたリコイラ12により新たなリールに巻き取られる。   Copper strips and copper wires have a long overall length, and even when wound on a reel or the like, the diameter and width of the reel are large, making it difficult to store the entire material in a sealed device. Therefore, in general, the uncoiler 11 and the recoiler 12 are installed outside the apparatus, and after the copper strip or the copper wire is introduced into the cleaning processing chamber 21 from the inlet 211 and processed, the cleaning processing chamber 21 is discharged from the discharge port 212. And is wound around a new reel by a recoiler 12 installed outside.

すなわち、洗浄処理室21は導入口211ならびに排出口212という少なくとも2つの開口部を介して外部の大気と通じており、密閉することが難しい。そのため、有機溶剤を回収するためには洗浄処理室21の開口部から有機溶剤が漏洩しないような大風量で吸引する設備を導入する必要があり、さらにまた、回収した有機溶剤の処理作業が発生するという、新たな課題が生じる。   That is, the cleaning chamber 21 communicates with the external atmosphere through at least two openings, namely the inlet 211 and the outlet 212, and is difficult to seal. Therefore, in order to recover the organic solvent, it is necessary to introduce equipment for sucking in a large air volume so that the organic solvent does not leak from the opening of the cleaning processing chamber 21, and further, a processing operation of the recovered organic solvent occurs. A new problem arises.

この対策として、有機溶剤を用いずに水を用いる場合があるが、この場合、金属表面が酸化するという新たな問題が生じる。銅をはじめとする金属材料の表面が酸化すると、その後の、例えば樹脂のコーティング工程において樹脂と金属との密着性が低下したり、また例えばめっき工程においてピットと呼ばれる孔が生成するなどの問題が発生する。   As a countermeasure, water may be used without using an organic solvent. In this case, a new problem arises that the metal surface is oxidized. When the surface of a metal material such as copper is oxidized, there are problems such as a decrease in adhesion between the resin and the metal in the subsequent resin coating process, or formation of holes called pits in the plating process, for example. appear.

一方、上記従来技術2にかかる問題点は、除去力が必ずしも十分高くはないことである。なお、除去力の向上を目的として超音波出力を増加させると、超音波振動子が破損する可能性が高くなり、装置管理にコストがかかるという新たな問題が生じる。   On the other hand, the problem with the prior art 2 is that the removal power is not necessarily high enough. If the ultrasonic output is increased for the purpose of improving the removal force, there is a high possibility that the ultrasonic transducer is damaged, and there is a new problem that the device management is costly.

そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、VOCの発生を抑制して環境への影響を抑制できると共に、金属表面の付着物の除去力の向上および金属表面の酸化の抑制が可能で、コストの低減が図れる金属線または金属条の表面処理方法ならびに表面処理装置を提供することにある。   Therefore, the object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, suppress the occurrence of VOC and suppress the influence on the environment, improve the removal power of deposits on the metal surface, and suppress the oxidation of the metal surface. Another object of the present invention is to provide a surface treatment method and a surface treatment apparatus for metal wires or strips that can reduce costs.

上記目的を達成するために、本発明のうちの第1の発明は、金属線または金属条を気液混相流体と接触させて表面処理を行う表面処理方法であって、前記気液混相流体を構成する液体は、直径が1マイクロメートル以上100マイクロメートル以下の液滴であることを特徴とする。   In order to achieve the above object, a first invention of the present invention is a surface treatment method for performing surface treatment by bringing a metal wire or a metal strip into contact with a gas-liquid mixed phase fluid, wherein the gas-liquid mixed phase fluid is The constituent liquid is a droplet having a diameter of 1 micrometer or more and 100 micrometers or less.

前記金属線または金属条は、例えば銅線または銅条であってもよい。前記気液混相流体を構成する液体は、水を主成分とすることが好ましい。前記気液混相流体の平均温度は、40℃以上沸点以下であることが好ましい。前記気液混相流体に含まれる酸素のモル分率は、1百分率以下であることが好ましい。   The metal wire or metal strip may be, for example, a copper wire or a copper strip. The liquid constituting the gas-liquid mixed phase fluid preferably contains water as a main component. The average temperature of the gas-liquid mixed phase fluid is preferably 40 ° C. or higher and the boiling point or lower. The mole fraction of oxygen contained in the gas-liquid mixed phase fluid is preferably 1 percent or less.

第2の発明は、気液混相流体を構成する液体を生成する流体生成工程と、金属線または金属条を前記気液混相流体と接触させて表面処理する表面処理工程と、表面処理後の前記気液混相流体を廃棄する排液工程と、を備え、前記気液混相流体を構成する液体は、直径が1マイクロメートル以上100マイクロメートル以下の液滴であり、前記流体生成工程は水を主成分とする液体を電気分解する工程を含み、該電気分解において陽極または陰極のうち選択された一方の電極近傍で生成した液体を液体A、他方の電極近傍で生成した液体を液体Bとするとき、前記流体生成工程では気液混相流体が液体Aを用いて生成され、前記排液工程は表面処理後の前記気液混相流体と液体Bを混合する混合工程とを含むことを特徴とする。   The second invention includes a fluid generation step for generating a liquid constituting the gas-liquid mixed phase fluid, a surface treatment step for bringing a metal wire or a metal strip into contact with the gas-liquid mixed phase fluid and performing a surface treatment, and the surface treatment after the surface treatment. A liquid discharging step for discarding the gas-liquid mixed phase fluid, wherein the liquid constituting the gas-liquid mixed phase fluid is a droplet having a diameter of 1 micrometer or more and 100 micrometers or less, and the fluid generating step is mainly water. Including a step of electrolyzing a liquid as a component, in which liquid generated in the vicinity of one of the anodes or cathodes selected in the electrolysis is liquid A, and liquid generated in the vicinity of the other electrode is liquid B In the fluid generating step, a gas-liquid mixed phase fluid is generated using the liquid A, and the draining step includes a mixing step of mixing the gas-liquid mixed phase fluid and the liquid B after the surface treatment.

第3の発明は、金属線または金属条の導入口と、気液混相流体の発生装置と、前記気液混相流体を前記金属線または金属条と接触させて表面処理を行う表面処理室と、金属線または金属条の排出口と、を備え、前記気液混相流体を構成する液体は、直径が1マイクロメートル以上100マイクロメートル以下の液滴であることを特徴とする。   The third invention comprises a metal wire or metal strip inlet, a gas-liquid mixed phase fluid generator, a surface treatment chamber for performing a surface treatment by bringing the gas-liquid mixed phase fluid into contact with the metal wire or metal strip, The liquid constituting the gas-liquid mixed phase fluid is a droplet having a diameter of 1 micrometer or more and 100 micrometers or less.

前記気液混相流体の温度を40℃以上沸点以下に制御する温度制御装置を備えることが好ましい。大気の蒸留により酸素のモル分率濃度が1百分率以下の窒素ガスを生成する窒素ガス生成装置と、前記窒素ガスを用いて前記気液混相流体を生成する気液混相流体生成装置と、を備えることが好ましい。水を主成分とする液体の電気分解を行う電解処理室と、電気分解により前記電解処理室の陽極または陰極のうち選択された一方の電極近傍で生成した液体を液体A、他方の電極近傍で生成した液体を液体Bとするとき、液体Aを用いて前記気液混相流体を生成する気液混相流体生成装置と、表面処理後の前記気液混相流体を前記液体Bと混合する混合装置と、を備えることが好ましい。   It is preferable to provide a temperature control device that controls the temperature of the gas-liquid mixed phase fluid to 40 ° C. or higher and the boiling point or lower. A nitrogen gas generating device that generates nitrogen gas having a molar fraction concentration of oxygen of 1 percent or less by atmospheric distillation; and a gas-liquid mixed phase fluid generating device that generates the gas-liquid mixed phase fluid using the nitrogen gas. It is preferable. An electrolysis chamber for electrolyzing a liquid containing water as a main component, and a liquid generated in the vicinity of one electrode selected from the anode or cathode of the electrolysis chamber by electrolysis is liquid A and in the vicinity of the other electrode. When the generated liquid is liquid B, a gas-liquid mixed phase fluid generating device that generates the gas-liquid mixed phase fluid using the liquid A, and a mixing device that mixes the gas-liquid mixed phase fluid after the surface treatment with the liquid B. Are preferably provided.

本発明によれば、VOCの発生を抑制でき、労働作業環境並びに大気環境への影響を抑制できる。また、金属表面の付着物の除去力が向上し、金属表面の酸化を抑制でき、有機溶剤のような回収処理を必要とせず、コストの低減が図れる。   According to the present invention, the occurrence of VOC can be suppressed, and the influence on the working environment and the atmospheric environment can be suppressed. In addition, the ability to remove deposits on the metal surface is improved, oxidation of the metal surface can be suppressed, no recovery treatment like an organic solvent is required, and the cost can be reduced.

本発明の第1実施形態に係る表面処理装置を示す図である。It is a figure which shows the surface treatment apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 第1実施形態に係る表面処理装置の効果を示す図である。It is a figure which shows the effect of the surface treatment apparatus which concerns on 1st Embodiment. 本発明の第2実施形態に係る表面処理装置を示す図である。It is a figure which shows the surface treatment apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 第2実施形態に係る表面処理装置の効果を示す図である。It is a figure which shows the effect of the surface treatment apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 本発明の第3実施形態に係る表面処理装置を示す図である。FIG. 5 is a view showing a surface treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention. 従来の銅表面処理装置を概略的に示す図である。It is a figure which shows the conventional copper surface treatment apparatus roughly. 図6の要部を概略的に示す図である。It is a figure which shows the principal part of FIG. 6 schematically.

以下に、本発明を実施するための形態を添付図面に基いて詳述する。   EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, the form for implementing this invention is explained in full detail based on an accompanying drawing.

本発明に係る金属条例えば銅条の洗浄処理方法(表面処理方法)並びに洗浄処理装置(表面処理装置)の第1実施形態について図1を参照しながら説明する。   A first embodiment of a cleaning treatment method (surface treatment method) and a washing treatment apparatus (surface treatment apparatus) for a metal strip, such as a copper strip, according to the present invention will be described with reference to FIG.

洗浄前の銅条リール1に巻かれている銅条10は、アンコイラ11から送り出しローラ15により送り出され、洗浄処理装置210を構成する洗浄処理室(表面処理室)21の導入口211より洗浄処理室21の内部に入り、排出口212より洗浄処理室21の外部に出る。上記洗浄処理室21の前壁部に導入口211が形成され、後壁部に排出口212が形成されている。洗浄処理室21内には導入口211から排出口212に向って銅条10を水平に案内するガイドローラ215が設けられている。   The copper strip 10 wound around the copper strip reel 1 before cleaning is fed from the uncoiler 11 by the feed roller 15 and cleaned from the inlet 211 of the cleaning processing chamber (surface processing chamber) 21 constituting the cleaning processing device 210. Enters the inside of the chamber 21 and exits the cleaning processing chamber 21 through the discharge port 212. An introduction port 211 is formed in the front wall portion of the cleaning treatment chamber 21, and a discharge port 212 is formed in the rear wall portion. A guide roller 215 for horizontally guiding the copper strip 10 from the introduction port 211 toward the discharge port 212 is provided in the cleaning processing chamber 21.

洗浄処理室21内には気液混相流体の発生装置ないし気液混相流体生成装置である気液混相流体生成ノズル101が配置され、気液混相流体生成ノズル101に接続されている2本の配管のうち一方の配管(液体配管)110は、流量調節バルブ111、流量計112およびポンプ113を介して液体タンク114に接続され、他方の配管(気体配管)120は流量調節バルブ121、流量計122と圧力調節器123を介してガスボンベ124に接続されている。前記気液混相流体生成ノズル101は、下方を向いた状態で銅条10の上方に配置され、気液混相流体を銅条10に向って霧状に吐出するようになっている。洗浄処理室21内の下方には洗浄廃液を受ける廃液受け部216が形成され、この廃液受け部216から図示しない廃液管により洗浄処理室21の外部に排出されるようになっている。   A gas-liquid mixed-phase fluid generating nozzle 101 which is a gas-liquid mixed-phase fluid generator or a gas-liquid mixed-phase fluid generator is disposed in the cleaning processing chamber 21, and two pipes connected to the gas-liquid mixed-phase fluid generating nozzle 101. One pipe (liquid pipe) 110 is connected to the liquid tank 114 via a flow rate adjustment valve 111, a flow meter 112 and a pump 113, and the other pipe (gas pipe) 120 is a flow rate adjustment valve 121 and a flow meter 122. And a gas cylinder 124 through a pressure regulator 123. The gas-liquid mixed phase fluid generating nozzle 101 is arranged above the copper strip 10 in a state of facing downward, and discharges the gas-liquid mixed phase fluid toward the copper strip 10 in a mist form. A waste liquid receiving portion 216 that receives the cleaning waste liquid is formed below the cleaning processing chamber 21 and is discharged from the waste liquid receiving portion 216 to the outside of the cleaning processing chamber 21 through a waste liquid pipe (not shown).

ここで、ポンプ113、圧力調整器123、および流量調節バルブ111,121を適切な値に設定することにより、気液混相流体生成ノズル101に液体とガス(気体)が供給され、気液混相流体生成ノズル101より吐出された気液混相流体を銅条10の表面と接触させることにより、銅条10の表面が洗浄処理される。   Here, by setting the pump 113, the pressure regulator 123, and the flow rate adjusting valves 111 and 121 to appropriate values, liquid and gas (gas) are supplied to the gas-liquid mixed phase fluid generating nozzle 101, and the gas-liquid mixed phase fluid is supplied. By bringing the gas-liquid mixed phase fluid discharged from the generating nozzle 101 into contact with the surface of the copper strip 10, the surface of the copper strip 10 is cleaned.

汚染が除去されるメカニズムは、本発明者らの検討の結果、以下の様である。すなわち、付着物である金属粉や加工潤滑油は、衝突する液滴から運動エネルギーを受け取り、その大きさが金属表面との付着エネルギー以上である場合、金属表面から脱離する。また加工潤滑油など水に不溶性の油性汚染を、水を主体とする気液混相流体と接触させる場合、油性汚染は気液混相流体を構成する液滴に溶解することができないため、液滴と気体の界面に集合する。しかし、金属表面は一定膜厚の液体膜に覆われているため、液滴と気体の界面に集合できなかった油性汚染は、ある確率で金属表面に再付着する。   The mechanism by which the contamination is removed is as follows as a result of the study by the present inventors. That is, the metal powder and the processing lubricant oil that are adhering matter receive kinetic energy from the colliding liquid droplets, and desorb from the metal surface when the magnitude is larger than the adhering energy with the metal surface. In addition, when oil-insoluble contamination that is insoluble in water such as processing lubricating oil is brought into contact with a gas-liquid mixed phase fluid mainly composed of water, the oily contamination cannot be dissolved in the droplets constituting the gas-liquid mixed phase fluid. Collect at the gas interface. However, since the metal surface is covered with a liquid film having a certain thickness, oily contamination that could not be collected at the interface between the droplet and the gas reattaches to the metal surface with a certain probability.

従って、気液混相流体が持つ気液界面の面積が大きいほど洗浄能力が高く、気液混相流体を形成する液体量が同一であれば液滴径が小さいほど洗浄能力が高い。本発明者らの検討によれば、適切な液滴径の上限は100μmである。一方、液滴径の下限は液滴の蒸発速度で決まる。すなわち、ノズル先端で液滴が形成しても被洗浄金属表面に到達する前に蒸発するならば洗浄には寄与しない。本発明者らの検討の結果、液滴径が1μm以上であればノズルと被洗浄金属表面との距離を適切に保つことにより、液滴が蒸発する前に洗浄処理を行うことができる。   Accordingly, the larger the area of the gas-liquid interface that the gas-liquid mixed phase fluid has, the higher the cleaning capability. If the amount of liquid forming the gas-liquid mixed phase fluid is the same, the smaller the droplet diameter, the higher the cleaning capability. According to the study by the present inventors, the upper limit of a suitable droplet diameter is 100 μm. On the other hand, the lower limit of the droplet diameter is determined by the evaporation rate of the droplet. That is, even if a droplet is formed at the tip of the nozzle, it does not contribute to cleaning if it evaporates before reaching the surface of the metal to be cleaned. As a result of the study by the present inventors, if the droplet diameter is 1 μm or more, the cleaning process can be performed before the droplets evaporate by appropriately maintaining the distance between the nozzle and the surface of the metal to be cleaned.

さらに、温度が高いほど油性汚染は粘性が低下し、金属表面から液滴の気液界面への移動がスムーズになる。本発明者らの検討の結果、気液混相流体の温度が40℃以上になると気液混相流体による洗浄除去の効率が向上し、この温度は実用に供されている加工潤滑油の多くがこの温度以上で粘性が大きく下がることと一致することを確認した。   Furthermore, the higher the temperature, the lower the viscosity of the oily contamination and the smooth movement of the droplet from the metal surface to the gas-liquid interface. As a result of the study by the present inventors, when the temperature of the gas-liquid mixed phase fluid is 40 ° C. or higher, the efficiency of cleaning and removing by the gas-liquid mixed phase fluid is improved. It was confirmed that the viscosity coincided with the drastic decrease in viscosity above the temperature.

さらにまた、気液混相流体に含まれる酸素の濃度が低いほど、金属表面の酸化を抑制することができ、1%以下であることがより望ましいことを確認した。   Furthermore, it was confirmed that the lower the concentration of oxygen contained in the gas-liquid mixed phase fluid, the more the oxidation of the metal surface can be suppressed, and it is more desirable that it be 1% or less.

実施例として金属条として圧延加工完了後の銅条10を、ガスボンベ124として空気ボンベを、液体タンク114として純水が充填された水タンクを、それぞれ用いて、銅条表面の圧延加工潤滑剤の除去性を評価した。比較例として、図7の洗浄装置を用いて、有機溶剤、純水、マイクロバブル水のそれぞれに銅条を浸漬し、銅条表面の圧延加工潤滑剤の除去性を評価した。なお、比較例に掲げた有機溶剤としては35℃に加温したデカンを、マイクロバブル水としては特許文献1(特開2003−154205号公報)に記載された方法で生成させたマイクロバブル水を、それぞれ用いた。   As an example, the copper strip 10 after completion of the rolling process as a metal strip, an air cylinder as the gas cylinder 124, and a water tank filled with pure water as the liquid tank 114 are used, respectively. The removability was evaluated. As a comparative example, using the cleaning apparatus of FIG. 7, the copper strip was immersed in each of an organic solvent, pure water, and microbubble water, and the removability of the rolling lubricant on the copper strip surface was evaluated. The organic solvent listed in the comparative example is decane heated to 35 ° C., and the microbubble water is microbubble water generated by the method described in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-154205). , Respectively.

結果を図2に示す。純水浸漬、マイクロバブル水浸漬に比較して、気液混相流体洗浄を用いると、より短時間で残留汚染濃度を低減させることができる。   The results are shown in FIG. Compared with pure water immersion and microbubble water immersion, residual contamination concentration can be reduced in a shorter time by using gas-liquid mixed phase fluid cleaning.

本発明の第2実施形態に係る洗浄処理装置を図3に示す。洗浄処理装置210を用いて、40℃以上沸点以下の気液混相流体を発生させ、第1実施形態と同様の銅条表面の洗浄処理を行った。なお、気液混相流体を沸点以下(未満)にするのは、気液混相流体の液滴が蒸発するのを防ぐためである。図3に示すように、一方の配管(液体配管)110には液体を加熱するヒータ(液体ヒータ)115が設けられ、他方の配管(気体配管)120には気体を加熱するヒータ(気体ヒータ)125が設けられている。ヒータ115,125は、気液混相流体の温度を40℃以上沸点以下に制御する温度制御装置の一部を構成している。結果を図4に示す。純水浸漬、マイクロバブル水浸漬、ならびに室温付近の気液混相流体洗浄と比較して、高温の気液混相流体洗浄が優れており、有機溶剤浸漬とほぼ同等の洗浄性能が得られている。   FIG. 3 shows a cleaning processing apparatus according to the second embodiment of the present invention. A gas-liquid mixed phase fluid having a boiling point of 40 ° C. or higher and a boiling point or lower was generated using the cleaning processing device 210, and the copper strip surface was cleaned as in the first embodiment. The reason why the gas-liquid mixed phase fluid is made below the boiling point (less than) is to prevent the vapor of the gas-liquid mixed phase fluid from evaporating. As shown in FIG. 3, one pipe (liquid pipe) 110 is provided with a heater (liquid heater) 115 for heating a liquid, and the other pipe (gas pipe) 120 is a heater (gas heater) for heating a gas. 125 is provided. The heaters 115 and 125 constitute part of a temperature control device that controls the temperature of the gas-liquid mixed phase fluid to 40 ° C. or more and the boiling point or less. The results are shown in FIG. Compared with pure water immersion, microbubble water immersion, and gas-liquid mixed-phase fluid cleaning near room temperature, high-temperature gas-liquid mixed-phase fluid cleaning is superior, and cleaning performance almost equivalent to that of organic solvent immersion is obtained.

ここで、より好適な温度範囲について検討を行った結果、表1に示すような結果が得られた。すなわち、40℃以上の液体を用いたときに残留汚染濃度は目標(5mg/m2以下)を満足することが分かる。なお、表1における洗浄剤の水は水を用いた気液混相流体を示している。洗浄時間は5秒である。表1における比較例1及び参考例1は、前記第1実施形態で説明した評価に相当するものである。表1における実施例1〜実施例3は、気液混相流体の温度を70℃、60℃、40℃にした場合の実施例であり、参考例1は気液混相流体の温度が20℃の場合である。気液混相流体の温度の上昇に伴い残留汚染濃度が減少し、洗浄力が温度に依存していることが分かる。 Here, as a result of examining a more preferable temperature range, the results shown in Table 1 were obtained. That is, it can be seen that the residual contamination concentration satisfies the target (5 mg / m 2 or less) when a liquid of 40 ° C. or higher is used. In Table 1, the cleaning agent water represents a gas-liquid mixed phase fluid using water. The cleaning time is 5 seconds. Comparative Example 1 and Reference Example 1 in Table 1 correspond to the evaluation described in the first embodiment. Examples 1 to 3 in Table 1 are examples when the temperature of the gas-liquid mixed phase fluid is set to 70 ° C, 60 ° C, and 40 ° C, and Reference Example 1 is the temperature of the gas-liquid mixed phase fluid of 20 ° C. Is the case. It can be seen that the residual contamination concentration decreases as the temperature of the gas-liquid mixed phase fluid increases, and the cleaning power depends on the temperature.

Figure 2010209450
Figure 2010209450

本発明の第3実施形態に係る洗浄処理装置について図3を参照して説明する。本実施形態では、金属条として圧延加工完了後の銅条を、ガスボンベ124として一定量の酸素を添加した窒素ボンベを、水タンク114として純水が充填されたタンクを、それぞれ用いて、70℃の気液混相流体を発生させ、銅条表面の圧延加工潤滑剤除去後の表面の酸化膜厚さを評価した。結果を表2に示す。この結果から明らかなように、酸素濃度が1.0%以下であれば酸化膜の厚さは10nm以下となり、銅条表面の酸化を抑制することができる。なお、表2の参考例2,3は、酸素濃度が2.0%と20%の場合であり、実施例4〜6は、酸素濃度が0.1%、0.5%、1.0%の場合である。   A cleaning apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, a copper strip after completion of the rolling process is used as the metal strip, a nitrogen cylinder to which a certain amount of oxygen is added as the gas cylinder 124, and a tank filled with pure water as the water tank 114, respectively. The gas-liquid mixed phase fluid was generated, and the oxide film thickness on the surface of the copper strip surface after removing the rolling lubricant was evaluated. The results are shown in Table 2. As is apparent from this result, when the oxygen concentration is 1.0% or less, the thickness of the oxide film becomes 10 nm or less, and the oxidation of the copper strip surface can be suppressed. In addition, Reference Examples 2 and 3 in Table 2 are cases where the oxygen concentration is 2.0% and 20%, and Examples 4 to 6 have an oxygen concentration of 0.1%, 0.5%, and 1.0%. %.

Figure 2010209450
Figure 2010209450

本発明の第4実施形態に係る洗浄処理装置について図5を参照して説明する。気液混相流体を構成する液体として、pH(pHは水素イオン指数である。)が9以上14以下のアルカリ性液体を用いることが付着物の除去力をさらに向上させる上で好ましい。アルカリ性液体は、水を主たる成分とする液体を電気分解することにより生成することができる。本実施形態では、水電解により陽極水ならびに陰極水を発生させ、それらを用いて気液混相流体を生成し、第1実施形態と同様の銅条表面の洗浄処理を行った。   A cleaning apparatus according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. As the liquid constituting the gas-liquid mixed phase fluid, it is preferable to use an alkaline liquid having a pH (pH is a hydrogen ion index) of 9 or more and 14 or less in order to further improve the deposit removing ability. The alkaline liquid can be generated by electrolyzing a liquid containing water as a main component. In the present embodiment, anodic water and cathodic water are generated by water electrolysis, a gas-liquid mixed phase fluid is generated using them, and the copper strip surface is cleaned similarly to the first embodiment.

図5において、アンコイラ11より送り出された銅条10は、洗浄処理室21の導入口211より洗浄処理室21の内部に入り、排出口212より洗浄処理室21の外部に出る。洗浄処理室21内には気液混相流体生成ノズル101が配置され、気液混相流体生成ノズル101に接続されている2本の配管のうち一方の配管110は、流量計112およびポンプ113を介して電解処理室である電解槽51に、他方の配管120は流量計122と圧力調節器123を介して窒素ボンベ124に、それぞれ接続されている。さらに電解槽51は、電極A521が配置されているA極室52と、電極B531が配置されているB極室53の2室に、イオンの移動を妨げない隔壁54によって分離されている。A極室52、B極室53の一方を陽極、他方を陰極として電解を行うことで、電解水を気液混相流体生成ノズル101に供給することができる。   In FIG. 5, the copper strip 10 sent out from the uncoiler 11 enters the inside of the cleaning processing chamber 21 through the introduction port 211 of the cleaning processing chamber 21, and goes out of the cleaning processing chamber 21 through the discharge port 212. A gas-liquid mixed phase fluid generating nozzle 101 is disposed in the cleaning processing chamber 21, and one of the two pipes 110 connected to the gas-liquid mixed phase fluid generating nozzle 101 is connected to the flow meter 112 and the pump 113. The other piping 120 is connected to a nitrogen cylinder 124 via a flow meter 122 and a pressure regulator 123, respectively. Furthermore, the electrolytic cell 51 is separated into two chambers, an A-pole chamber 52 in which the electrode A521 is disposed and a B-pole chamber 53 in which the electrode B531 is disposed, by a partition wall 54 that does not hinder the movement of ions. By performing electrolysis using one of the A-pole chamber 52 and the B-pole chamber 53 as an anode and the other as a cathode, electrolyzed water can be supplied to the gas-liquid mixed phase fluid generating nozzle 101.

ポンプ113、圧力調整器123、および流量調節バルブ111,121を適切な値に設定することにより、気液混相流体生成ノズル101に電解水とガスが供給され、ノズル101より吐出された気液混相流体を銅条の表面と接触させることにより、銅条の表面は洗浄処理される。銅条の表面に吐出された気液混相流体は、洗浄廃液として廃液受け部216から廃液管172により洗浄処理室21の外部に排出される。   By setting the pump 113, the pressure regulator 123, and the flow rate regulating valves 111 and 121 to appropriate values, electrolytic water and gas are supplied to the gas-liquid mixed phase fluid generation nozzle 101, and the gas-liquid mixed phase discharged from the nozzle 101. By bringing the fluid into contact with the surface of the copper strip, the surface of the copper strip is cleaned. The gas-liquid mixed phase fluid discharged to the surface of the copper strip is discharged out of the cleaning processing chamber 21 from the waste liquid receiving portion 216 through the waste liquid pipe 172 as cleaning waste liquid.

電解槽51のB極室53で生成した電解水は、ポンプ171を介して配管170によって輸送され、外部の混合部(混合装置)71で前記廃液管172により排出される洗浄廃液と混合され、最終廃液として排出される。なお、前記電解槽51のB極室53で生成した電解水は、ポンプ171を介して配管170によって輸送され、洗浄処理室21内の廃液受け部216で洗浄廃液と混合され、最終廃液として排出されるようになっていてもよい。   The electrolyzed water generated in the B electrode chamber 53 of the electrolytic cell 51 is transported by the pipe 170 via the pump 171 and mixed with the cleaning waste liquid discharged by the waste liquid pipe 172 in the external mixing unit (mixing device) 71. It is discharged as final waste liquid. The electrolyzed water generated in the B electrode chamber 53 of the electrolytic cell 51 is transported by the pipe 170 via the pump 171, mixed with the cleaning waste liquid at the waste liquid receiving portion 216 in the cleaning processing chamber 21, and discharged as the final waste liquid. You may come to be.

以上の洗浄装置を用いて、電解槽51に0.1mol/Lの硫酸カリウム水溶液を充填し、電極A521を陰極として水の電解を行い、第1実施形態と同様に銅条表面の洗浄処理を行い、最終廃液の水素イオン指数を評価した。比較例3として、図3に示す装置を用いて、ガスボンベとして窒素ボンベを用い、水タンクに0.01mol/Lの水酸化カリウム水溶液を充填して、第3実施形態と同様に銅条表面の洗浄処理を行った。   Using the above cleaning apparatus, the electrolytic bath 51 is filled with a 0.1 mol / L potassium sulfate aqueous solution, electrolysis of water is performed using the electrode A521 as a cathode, and the copper strip surface is cleaned in the same manner as in the first embodiment. And the hydrogen ion index of the final waste liquid was evaluated. As Comparative Example 3, using the apparatus shown in FIG. 3, using a nitrogen cylinder as a gas cylinder, filling a water tank with a 0.01 mol / L potassium hydroxide aqueous solution, the surface of the copper strip as in the third embodiment. A washing treatment was performed.

結果を表3に示す。本実施例7においては最終廃液の水素イオン指数は7.2であり、油水分離処理ののち下水への廃棄あるいは河川放流が可能であるが、比較例3での水素イオン指数は12と高く、油水分離処理に加えて中和処理が必要となる。   The results are shown in Table 3. In this Example 7, the hydrogen ion index of the final waste liquid is 7.2, and can be discarded into the sewage or discharged into the river after oil-water separation treatment, but the hydrogen ion index in Comparative Example 3 is as high as 12, In addition to the oil / water separation treatment, a neutralization treatment is required.

Figure 2010209450
Figure 2010209450

なお、本実施例では水電解槽に0.1mo1/Lの硫酸カリウム水溶液を充填したが、これに限定されることなく適切な濃度と電解質の水溶液を用いることができる。また、本実施例では電極Aを陰極としたが、これに限定されることなく、洗浄により除去すべき汚染物質の種類に応じて、電極Aを陽極として用いても良い。例えば除去すべき汚染がエステルを含むような圧延潤滑油を主成分とする場合は、電極A521を陰極とすることでA極室52に生成するアルカリ性の水溶液を用いると、エステルが加水分解することにより効率よく除去することができる。このときB極室53には酸性の溶液が生成している。   In this example, the water electrolysis tank was filled with a 0.1 mo1 / L potassium sulfate aqueous solution, but an aqueous solution of an appropriate concentration and electrolyte can be used without being limited thereto. In this embodiment, the electrode A is a cathode. However, the present invention is not limited to this, and the electrode A may be used as an anode according to the type of contaminant to be removed by cleaning. For example, when the contamination to be removed is mainly composed of a rolling lubricating oil containing an ester, the ester is hydrolyzed by using an alkaline aqueous solution generated in the A electrode chamber 52 by using the electrode A521 as a cathode. Can be removed more efficiently. At this time, an acidic solution is generated in the B pole chamber 53.

また、例えば除去すべき汚染が金属石鹸といわれる金属イオンとカルボン酸からなる塩を主成分とする場合は、電極A521を陽極とすることでA極室52に生成する酸性の水溶液を用いると、金属石鹸が溶解することにより効率よく除去することができる。このときB極室53にはアルカリ性の水溶液が生成している。いずれの場合も、B極室53で生成した電解水を洗浄廃液と混合することにより洗浄廃液は中和されるので、さらなる中和処理は不要となる。   Further, for example, when the contamination to be removed is mainly composed of a salt made of a metal ion called carboxylic acid and a carboxylic acid, an acidic aqueous solution generated in the A electrode chamber 52 by using the electrode A521 as an anode, It can be efficiently removed by dissolving the metal soap. At this time, an alkaline aqueous solution is generated in the B pole chamber 53. In any case, since the cleaning waste liquid is neutralized by mixing the electrolyzed water generated in the B electrode chamber 53 with the cleaning waste liquid, no further neutralization treatment is required.

以上、本発明の実施形態を図面により詳述してきたが、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の設計変更が可能である。   As mentioned above, although embodiment of this invention has been explained in full detail with drawing, this invention is not limited to the said embodiment, The various design change in the range which does not deviate from the summary of this invention is possible.

1 洗浄前の銅条リール
2 洗浄後の銅条リール
10 銅条
11 アンコイラ
12 リコイラ
15 送り出しローラ
21 洗浄処理室
22 乾燥処理室
51 電解槽(電解処理室)
52 A極室
53 B極室
54 隔壁
55 直流電源
71 混合部(混合装置)
101 気液混相流体生成ノズル
111,121 流量調節バルブ
112,122 流量計
113 ポンプ
123 圧力調整器
124 ガスボンベ
125 ヒータ
171 液体ポンプ
172 廃液管
211 導入口
212 排出口
213 洗浄液槽
214 ガイドローラ
215 ガイドローラ
216 廃液受け部
521 電極A
531 電極B
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Copper strip reel before washing | cleaning 2 Copper strip reel after washing | cleaning 10 Copper strip 11 Uncoiler 12 Recoiler 15 Feeding roller 21 Cleaning processing chamber 22 Drying processing chamber 51 Electrolytic tank (electrolytic processing chamber)
52 A pole chamber 53 B pole chamber 54 Bulkhead 55 DC power supply 71 Mixing unit (mixing device)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Gas-liquid mixed phase fluid production | generation nozzle 111,121 Flow control valve 112,122 Flowmeter 113 Pump 123 Pressure regulator 124 Gas cylinder 125 Heater 171 Liquid pump 172 Waste liquid pipe 211 Inlet 212 Outlet 213 Cleaning liquid tank 214 Guide roller 215 Guide roller 216 Waste liquid receiver 521 Electrode A
531 Electrode B

Claims (10)

金属線または金属条を気液混相流体と接触させて表面処理を行う表面処理方法であって、前記気液混相流体を構成する液体は、直径が1マイクロメートル以上100マイクロメートル以下の液滴であることを特徴とする金属線または金属条の表面処理方法。   A surface treatment method for performing a surface treatment by bringing a metal wire or a metal strip into contact with a gas-liquid mixed phase fluid, wherein the liquid constituting the gas-liquid mixed phase fluid is a droplet having a diameter of 1 micrometer or more and 100 micrometers or less. A surface treatment method for a metal wire or a metal strip, characterized in that it exists. 前記金属線または金属条は、銅線または銅条であることを特徴とする請求項1に記載の金属線または金属条の表面処理方法。   The surface treatment method for a metal wire or a metal strip according to claim 1, wherein the metal wire or the metal strip is a copper wire or a copper strip. 前記気液混相流体を構成する液体は、水を主成分とすることを特徴とする請求項1または2に記載の金属線または金属条の表面処理方法。   3. The metal wire or metal strip surface treatment method according to claim 1, wherein the liquid constituting the gas-liquid mixed phase fluid contains water as a main component. 前記気液混相流体の平均温度は、40℃以上沸点以下であることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の金属線または金属条の表面処理方法。   4. The surface treatment method for a metal wire or metal strip according to claim 1, wherein an average temperature of the gas-liquid mixed phase fluid is 40 ° C. or more and a boiling point or less. 前記気液混相流体に含まれる酸素のモル分率は、1百分率以下であることを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の金属線または金属条の表面処理方法。   5. The surface treatment method for a metal wire or metal strip according to claim 1, wherein the molar fraction of oxygen contained in the gas-liquid mixed phase fluid is 1 percent or less. 気液混相流体を構成する液体を生成する流体生成工程と、金属線または金属条を前記気液混相流体と接触させて表面処理する表面処理工程と、表面処理後の前記気液混相流体を廃棄する排液工程と、を備え、前記気液混相流体を構成する液体は、直径が1マイクロメートル以上100マイクロメートル以下の液滴であり、前記流体生成工程は水を主成分とする液体を電気分解する工程を含み、該電気分解において陽極または陰極のうち選択された一方の電極近傍で生成した液体を液体A、他方の電極近傍で生成した液体を液体Bとするとき、前記流体生成工程では気液混相流体が液体Aを用いて生成され、前記排液工程は表面処理後の前記気液混相流体と液体Bを混合する混合工程とを含むことを特徴とする金属線または金属条の表面処理方法。   A fluid generation step for generating a liquid constituting the gas-liquid mixed phase fluid, a surface treatment step for bringing a metal wire or a metal strip into contact with the gas-liquid mixed phase fluid for surface treatment, and the gas-liquid mixed phase fluid after the surface treatment are discarded. A liquid constituting the gas-liquid mixed phase fluid is a liquid droplet having a diameter of 1 micrometer or more and 100 micrometers or less, and the fluid generation process uses a liquid mainly composed of water. Including the step of decomposing, wherein the liquid generated in the vicinity of one electrode selected from the anode and the cathode in the electrolysis is liquid A, and the liquid generated in the vicinity of the other electrode is liquid B, A surface of a metal wire or metal strip, wherein a gas-liquid mixed phase fluid is generated using liquid A, and the draining step includes a mixing step of mixing the gas-liquid mixed phase fluid and liquid B after surface treatment. How to process . 金属線または金属条の導入口と、気液混相流体の発生装置と、前記気液混相流体を前記金属線または金属条と接触させて表面処理を行う表面処理室と、金属線または金属条の排出口と、を備え、前記気液混相流体を構成する液体は、直径が1マイクロメートル以上100マイクロメートル以下の液滴であることを特徴とする金属線または金属条の表面処理装置。   A metal wire or metal strip inlet, a gas-liquid mixed phase fluid generator, a surface treatment chamber for performing a surface treatment by bringing the gas-liquid mixed phase fluid into contact with the metal wire or metal strip, and a metal wire or metal strip The surface treatment apparatus for a metal wire or metal strip, characterized in that the liquid constituting the gas-liquid mixed phase fluid is a droplet having a diameter of 1 micrometer or more and 100 micrometers or less. 前記気液混相流体の温度を40℃以上沸点以下に制御する温度制御装置を備えることを特徴とする請求項7に記載の金属線または金属条の表面処理装置。   The surface treatment apparatus for a metal wire or metal strip according to claim 7, further comprising a temperature control device that controls a temperature of the gas-liquid mixed phase fluid to 40 ° C. or more and a boiling point or less. 大気の蒸留により酸素のモル分率濃度が1百分率以下の窒素ガスを生成する窒素ガス生成装置と、前記窒素ガスを用いて前記気液混相流体を生成する気液混相流体生成装置と、を備えることを特徴とする請求項7または8に記載の金属線または金属条の表面処理装置。   A nitrogen gas generating device that generates nitrogen gas having a molar fraction concentration of oxygen of 1 percent or less by atmospheric distillation; and a gas-liquid mixed phase fluid generating device that generates the gas-liquid mixed phase fluid using the nitrogen gas. The surface treatment apparatus for metal wires or strips according to claim 7 or 8. 水を主成分とする液体の電気分解を行う電解処理室と、電気分解により前記電解処理室の陽極または陰極のうち選択された一方の電極近傍で生成した液体を液体A、他方の電極近傍で生成した液体を液体Bとするとき、液体Aを用いて前記気液混相流体を生成する気液混相流体生成装置と、表面処理後の前記気液混相流体を前記液体Bと混合する混合装置と、を備えることを特徴とする請求項7乃至9の何れかに記載の金属線または金属条の表面処理装置。   An electrolysis chamber for electrolyzing a liquid containing water as a main component, and a liquid generated in the vicinity of one electrode selected from the anode or cathode of the electrolysis chamber by electrolysis is liquid A and in the vicinity of the other electrode. When the generated liquid is liquid B, a gas-liquid mixed phase fluid generating device that generates the gas-liquid mixed phase fluid using the liquid A, and a mixing device that mixes the gas-liquid mixed phase fluid after the surface treatment with the liquid B. The surface treatment apparatus for a metal wire or metal strip according to any one of claims 7 to 9.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN114250354A (en) * 2021-12-30 2022-03-29 张家港南源光电科技有限公司 Technological treatment method of copper stranded wire

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