JP2010208988A - Method of producing sulfoxide compound - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、スルフィド化合物の酸化反応によりスルホキシド化合物を得る工業的に有用な製造方法に関する。 The present invention relates to an industrially useful production method for obtaining a sulfoxide compound by an oxidation reaction of a sulfide compound.
スルホキシド化合物は、化学的または生物学的に極めて有用な化合物であり、これまでに数多くの合成例が報告されている。その合成法として、スルフィド化合物の酸化による方法が一般的に知られている。酸化反応に用いられる酸化剤としては、過酸化水素、過酢酸、メタ過ヨウ素酸塩、メタクロロ過安息香酸、硝酸アシル、四酸化二窒素、ハロゲン、Ｎ−ハロゲン化合物などが挙げられる（非特許文献１〜６）。 The sulfoxide compound is a chemically or biologically extremely useful compound, and many synthetic examples have been reported so far. As a synthesis method thereof, a method by oxidation of a sulfide compound is generally known. Examples of the oxidizing agent used in the oxidation reaction include hydrogen peroxide, peracetic acid, metaperiodate, metachloroperbenzoic acid, acyl nitrate, dinitrogen tetroxide, halogen, and N-halogen compounds (non-patent literature). 1-6).
一方、スルフィド化合物を酸化しようとした場合、多くの酸化剤ではスルホンまで過剰酸化を受けてしまい、スルホキシド化合物を選択的に得ることが比較的困難である。用いられる一般的酸化剤のうちで、過ヨウ素酸ナトリウムを用いると比較的収率よくスルホキシド化合物が得られることが分かっている（非特許文献７）。しかしながら、過ヨウ素酸ナトリウムは、水には溶解するものの一般的有機溶媒には難溶であり、汎用性の低いことが欠点であった。また、消防法における危険物第一類に分類されており、有機溶媒と混合すると爆発の危険性があり工業的規模への応用が困難であった。 On the other hand, when an attempt is made to oxidize a sulfide compound, many oxidizing agents undergo excessive oxidation up to the sulfone, and it is relatively difficult to selectively obtain a sulfoxide compound. Among the general oxidizing agents used, it has been found that when sodium periodate is used, a sulfoxide compound can be obtained with a relatively high yield (Non-patent Document 7). However, sodium periodate dissolves in water, but is hardly soluble in general organic solvents, and has a disadvantage of low versatility. In addition, it is classified as the first class of dangerous goods in the Fire Service Law. When mixed with organic solvents, there is a risk of explosion, making it difficult to apply to industrial scale.
酸化剤の中で、過酸化水素は安全に貯蔵することができ、しかも安価に入手することが可能であるため、スルフィド化合物からの工業的なスルホキシド化合物合成には有用であるといえる。更に、過酸化水素は水や種々の有機溶媒への溶解性が高いうえ、反応後は水となることから、汎用性が高く環境面からも好適な酸化剤として多用されている（非特許文献８）。 Among the oxidizing agents, hydrogen peroxide can be safely stored and can be obtained at a low cost. Therefore, it can be said that it is useful for industrial sulfoxide compound synthesis from sulfide compounds. Furthermore, hydrogen peroxide has high solubility in water and various organic solvents, and becomes water after the reaction. Therefore, hydrogen peroxide is widely used as an oxidizing agent that is highly versatile and suitable from the viewpoint of the environment (non-patent literature). 8).
しかし、過酸化水素は酸化力が弱く、スルフィド化合物を効率よく酸化することが困難であるという問題がある。このため、スルフィド化合物を過酸化水素と反応させてスルホキシド化合物を製造する方法として、金属触媒を用いる方法が知られている。該金属触媒として用いられる金属種としては、バナジウム、チタン、モリブデン、テルル、タングステン、セレン、鉄、タンタル、ニオブなどが挙げられる（非特許文献９〜１１、特許文献１〜２）。 However, hydrogen peroxide has a weak oxidizing power and has a problem that it is difficult to efficiently oxidize sulfide compounds. For this reason, a method using a metal catalyst is known as a method for producing a sulfoxide compound by reacting a sulfide compound with hydrogen peroxide. Examples of the metal species used as the metal catalyst include vanadium, titanium, molybdenum, tellurium, tungsten, selenium, iron, tantalum, and niobium (Non-Patent Documents 9 to 11 and Patent Documents 1 and 2).
しかしながら、これらの方法では、スルフィド化合物を選択的にスルホキシド化合物とする酸化反応が必ずしも十分とはいえないという問題があった。また、用いる金属触媒によっては強い人体毒性が認められるものもあり、実用化の観点からすれば必ずしも満足できるものではなかった。更には、これら金属触媒は、高価であるにも関わらず一般的に均一系での反応のため、反応後回収して再利用することが極めて困難であった。また、一部の金属触媒は、反応中に分解してしまうということも再利用を困難にする要因であり、改良の余地があった。 However, these methods have a problem that the oxidation reaction selectively using a sulfide compound as a sulfoxide compound is not always sufficient. Some metal catalysts have strong human toxicity, which is not always satisfactory from a practical point of view. Furthermore, although these metal catalysts are expensive, they are generally difficult to recover and reuse after reaction because of the reaction in a homogeneous system. In addition, some metal catalysts are decomposed during the reaction, which makes it difficult to reuse, and there is room for improvement.
最近になって、毒性の少ないタンタル化合物を触媒として用い、過酸化水素酸化によりスルフィド化合物からスルホキシド化合物またはスルホン化合物を得るという報告がなされている。用いるタンタル触媒としては、五塩化タンタル、ペンタエトキシタンタルという５価のタンタル触媒が挙げられている（特許文献３、非特許文献１２）。しかし、この方法では、スルフィドあるいはスルホキシドがスルホンにまで酸化されることがあり、スルホキシドを選択的に得ようとした場合、必ずしも満足できるものではなかった。加えて、五塩化タンタル、ペンタエトキシタンタルは、反応溶媒に溶解しており均一な状態で反応が進行する。そのため、反応終了後にこれらタンタル触媒を回収して再利用することが出来ないという欠点があった。更には、五塩化タンタルやペンタエトキシタンタルは高価な化合物であるということもあり、工業的規模での利用には不利であるという欠点があった。 Recently, it has been reported that a sulfoxide compound or a sulfone compound is obtained from a sulfide compound by oxidation with hydrogen peroxide using a toxic tantalum compound as a catalyst. Examples of the tantalum catalyst used include pentavalent tantalum catalysts such as tantalum pentachloride and pentaethoxytantalum (Patent Document 3, Non-Patent Document 12). However, in this method, sulfide or sulfoxide may be oxidized to sulfone, and it was not always satisfactory when it was attempted to selectively obtain sulfoxide. In addition, tantalum pentachloride and pentaethoxytantalum are dissolved in the reaction solvent and the reaction proceeds in a uniform state. Therefore, there has been a drawback that these tantalum catalysts cannot be recovered and reused after the reaction is completed. Furthermore, tantalum pentachloride and pentaethoxy tantalum are expensive compounds, which is disadvantageous for use on an industrial scale.
従って、本発明の課題は、スルフィド化合物を過酸化水素と反応させてスルホキシド化合物を製造する方法において、毒性の少ない安価でしかも再利用可能な酸化反応触媒を用いることにより、高い選択性で安全かつ効率的にスルホキシド化合物を得る工業的製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a sulfoxide compound by reacting a sulfide compound with hydrogen peroxide to produce a sulfoxide compound by using an oxidation reaction catalyst that is less toxic and inexpensive and can be reused. An object of the present invention is to provide an industrial production method for efficiently obtaining a sulfoxide compound.
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、酸化反応触媒に炭化タンタルを用いることで、スルフィド化合物から選択的にスルホキシド化合物が得られることを見出した。また、この反応系は完全なる中性条件であり、反応基質の構造中に酸あるいはアルカリに影響を受けやすい官能基が存在していても、本技術を問題なく応用できることを見出した。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a sulfoxide compound can be selectively obtained from a sulfide compound by using tantalum carbide as an oxidation reaction catalyst. Further, the present inventors have found that this reaction system is completely neutral, and that the present technology can be applied without any problem even if a functional group susceptible to acid or alkali is present in the structure of the reaction substrate.
炭化タンタルは、超硬合金の原料として用いられるのが一般的であり、高温時の硬度低下が少なく、非常に摩耗しにくいことから、主にドリル、エンドミル、ホブ、フライス、旋盤、ピニオンカッターなど金属加工用切削工具の材料として使用されている。それゆえ、過去に有機合成反応における反応触媒として用いられた前例がない。それは、炭化タンタルが水や有機溶媒に不溶であり、しかも酸、アルカリにも安定であることから反応触媒として作用するという着眼がなかったことを意味する。発明者らは、炭化タンタルのスルフィド化合物に対する酸化触媒活性を見出し、更には炭化タンタルが不均一の状態で触媒として作用しており、反応終了後は反応混合物から分離して再び触媒として利用可能である事実を見出し、本発明を完成させるに至った。 Tantalum carbide is generally used as a raw material for cemented carbide, and since it has a low hardness drop at high temperatures and is very difficult to wear, it is mainly used for drills, end mills, hobbings, milling machines, lathes, pinion cutters, etc. It is used as a material for cutting tools for metal processing. Therefore, there is no precedent used as a reaction catalyst in organic synthesis reactions in the past. That means that tantalum carbide is insoluble in water and organic solvents, and is stable to acids and alkalis, so it has not been noticed that it acts as a reaction catalyst. The inventors have found that tantalum carbide has an oxidation catalytic activity for sulfide compounds. Further, tantalum carbide acts as a catalyst in a heterogeneous state, and after the reaction is completed, it can be separated from the reaction mixture and used again as a catalyst. A certain fact was found and the present invention was completed.
すなわち、本発明は次の方法により達成された。
一般式（１）で表されるスルフィド化合物を過酸化水素により酸化して、下記一般式（２）で表されるスルホキシド化合物を製造する方法において、炭化タンタルを触媒に用いることを特徴とするスルホキシド化合物の製造方法。
That is, the present invention has been achieved by the following method.
A sulfoxide characterized by using tantalum carbide as a catalyst in a method for producing a sulfoxide compound represented by the following general formula (2) by oxidizing a sulfide compound represented by the general formula (1) with hydrogen peroxide. Compound production method.
本発明によれば、過酸化水素によるスルフィド化合物の酸化反応において、毒性のない炭化タンタルを酸化反応の触媒として用いることにより、スルホキシド化合物を容易に得ることができる。また、所望の反応を終えた後に、使用した炭化タンタルは回収して再利用することが可能で、廃棄物の極めて少ない、工業的に有利なスルホキシド化合物の製造方法を提供することができる。 According to the present invention, a sulfoxide compound can be easily obtained by using non-toxic tantalum carbide as a catalyst for an oxidation reaction in an oxidation reaction of a sulfide compound with hydrogen peroxide. In addition, after the desired reaction is completed, the used tantalum carbide can be recovered and reused, and an industrially advantageous method for producing a sulfoxide compound that is extremely low in waste and can be provided.
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳述するが、本発明はこれにより限定されるものではない。 Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited thereto.
本発明において、用いられるスルフィド化合物は、一般式（１）中のＲ1およびＲ2が、同一でも異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアラルキル基及び置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。また、Ｒ1とＲ２が結合して環構造の一部を形成していてもよい。 In the present invention, in the sulfide compound used, R 1 and R 2 in the general formula (1) may be the same or different, and may have an alkyl group or a substituent which may have a substituent. An aryl group that may be substituted, a heterocyclic group that may have a substituent, an aralkyl group that may have a substituent, and an alkenyl group that may have a substituent. R 1 and R 2 may be bonded to form a part of the ring structure.
一般式（１）中のＲ1およびＲ2が、置換基を有しても良いアルキル基の場合、その具体的例としては、炭素数１〜３２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、トリデシル等を挙げることができる。それらアルキル基は置換基を有していてもよく、その置換基の具体例としてはハロゲン原子、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルファモイルオキシ基、アルカンスルホニルオキシ基、アレーンスルホニルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、アニリノ基、複素環アミノ基、カルボンアミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ウレイド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、イミド基等を挙げることができる。 In the case where R 1 and R 2 in the general formula (1) are an alkyl group which may have a substituent, specific examples thereof include a linear or branched alkyl group having 1 to 32 carbon atoms. Examples thereof include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, s-butyl, t-butyl, n-octyl, tridecyl and the like. These alkyl groups may have a substituent. Specific examples of the substituent include a halogen atom, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, and an alkoxy group. , Aryloxy group, heterocyclic oxy group, silyloxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, cycloalkyloxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfamoyloxy group, alkanesulfonyloxy group, arene Sulfonyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, cycloalkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, amino group, anilino group, heterocyclic amino group, carbonamido group, alkoxycarbonylamino group, aryl Alkoxycarbonylamino group, a ureido group, a sulfonamido group, a sulfamoylamino group, and imide group.
一般式（１）中のＲ1およびＲ2が、置換基を有してもいてもよいアリール基の場合、その具体的例としては、炭素数６〜３２のアリール基であり、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられる。それらアリール基は置換基を有していてもよく、その置換基の具体例としては前記アルキル基の置換基と同様の基を挙げることができる。 In the case where R 1 and R 2 in the general formula (1) are aryl groups which may have a substituent, specific examples thereof include aryl groups having 6 to 32 carbon atoms, such as phenyl Group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group and the like. These aryl groups may have a substituent, and specific examples of the substituent include the same groups as the substituents of the alkyl group.
一般式（１）中のＲ1およびＲ2が、置換基を有していてもよい複素環基の場合、その具体例としては炭素数１〜３２の、５〜８員環の複素環基で、例えば、２−チエニル基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−フリル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基、２−ピペラジル基、２−ピペリジル基、１−イミダゾリル基、１−ピラゾリル基、モルホリノ基、２−ベンゾイミダゾリル基、ベンゾトリアゾール−２−イル基等が挙げられる。それら複素環基は置換基を有していてもよく、その置換基の具体例としては前記アルキル基の置換基と同様の基を挙げることができる。 When R 1 and R 2 in the general formula (1) are an optionally substituted heterocyclic group, specific examples thereof include a 5- to 8-membered heterocyclic group having 1 to 32 carbon atoms. For example, 2-thienyl group, 2-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-furyl group, 2-pyrimidinyl group, 2-benzothiazolyl group, 2-piperazyl group, 2-piperidyl group, 1-imidazolyl group, 1 -A pyrazolyl group, a morpholino group, a 2-benzimidazolyl group, a benzotriazol-2-yl group and the like can be mentioned. These heterocyclic groups may have a substituent, and specific examples of the substituent include the same groups as the substituents of the alkyl group.
一般式（１）中のＲ1およびＲ2が、置換基を有していてもよいアラルキル基の場合、前記置換基を有してもよいアルキル基と前記置換基を有してもよいアリール基とから構成されるものが挙げられ、その具体例としては、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルブチル基等が挙げられる。それらアラルキル基は置換基を有していてもよく、その置換基の具体例としては前記アルキル基の置換基と同様の基を挙げることができる。 When R 1 and R 2 in the general formula (1) are an aralkyl group which may have a substituent, an alkyl group which may have the substituent and an aryl which may have the substituent Examples thereof include benzyl group, phenylethyl group, phenylbutyl group and the like. These aralkyl groups may have a substituent, and specific examples of the substituent include the same groups as the substituents of the alkyl group.
一般式（１）中のＲ1およびＲ2が、置換基を有していてもよいアルケニル基の場合、その具体例としてはエテニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−メチルエテニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−デセニル基、２−シクロペンテニル基、２−シクロヘキセニル基等の直鎖状、分枝鎖状または環状のアルケニル基が挙げられる。それらアルケニル基は置換基を有していてもよく、その置換基の具体例としては前記アルキル基の置換基と同様の基を挙げることができる。 When R 1 and R 2 in the general formula (1) are alkenyl groups which may have a substituent, specific examples thereof include ethenyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 1-methylethenyl group. 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 1-pentenyl group, 2- Examples thereof include linear, branched or cyclic alkenyl groups such as a pentenyl group, a 3-pentenyl group, a 1-hexenyl group, a 1-decenyl group, a 2-cyclopentenyl group, and a 2-cyclohexenyl group. These alkenyl groups may have a substituent, and specific examples of the substituent include the same groups as the substituents of the alkyl group.
本発明において得られるスルホキシド化合物は、一般式（２）中のＲ1およびＲ2が、同一でも異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアラルキル基及び置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。また、Ｒ1とＲ２が結合して環構造の一部を形成していてもよい。アルキル基、アリール基、複素環基、アラルキル基及びアルケニル基の具体例としては、前記一般式（１）のスルフィド化合物で挙げたものを同様に挙げることができ、またそれらに有していてもよい置換基としても前記一般式（１）のスルフィド化合物で挙げたものと同様の置換基を挙げることができる。 In the sulfoxide compound obtained in the present invention, R 1 and R 2 in the general formula (2) may be the same or different, and may have an alkyl group or a substituent which may have a substituent. An aryl group that may be substituted, a heterocyclic group that may have a substituent, an aralkyl group that may have a substituent, and an alkenyl group that may have a substituent. R 1 and R 2 may be bonded to form a part of the ring structure. As specific examples of the alkyl group, aryl group, heterocyclic group, aralkyl group and alkenyl group, those exemplified for the sulfide compound of the general formula (1) can be mentioned in the same manner. Examples of the good substituent include the same substituents as those mentioned for the sulfide compound of the general formula (1).
本発明において用いられる炭化タンタルは、市販されているものを前処理することなくそのまま用いることができる。炭化タンタルの使用量としては、基質であるスルフィド化合物に対して、０．００１〜１．０当量の範囲で用いることが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．５当量の範囲である。 The tantalum carbide used in the present invention can be used as it is without pretreatment of a commercially available one. The amount of tantalum carbide to be used is preferably in the range of 0.001 to 1.0 equivalent, more preferably in the range of 0.01 to 0.5 equivalent, relative to the sulfide compound as the substrate.
本発明において反応に用いられた炭化タンタルは、反応混合物からろ過などの操作により分離し回収して、何度でも再利用することが可能である。炭化タンタルは、それ自体は反応によって変性や分解を生じることがなく、しかもほとんどの反応溶媒に不溶であるためほぼ完全に回収可能であることが、本発明における極めて有利な点である。 The tantalum carbide used for the reaction in the present invention can be separated and recovered from the reaction mixture by an operation such as filtration and reused any number of times. It is a very advantageous point in the present invention that tantalum carbide itself is not denatured or decomposed by the reaction and is almost completely recoverable because it is insoluble in most reaction solvents.
本発明において用いられる過酸化水素水の濃度は、３〜５０％の濃度が好ましい。ただし、過酸化水素の濃度が高くなるにしたがい爆発の危険性が高まることから、３〜３５％の濃度範囲がより好ましい。また、過酸化水素の使用量は、基質であるスルフィド化合物に対して、０．９〜３０．０当量の範囲が好ましく、より好ましくは１．０〜２０．０当量の範囲である。 The concentration of the hydrogen peroxide solution used in the present invention is preferably 3 to 50%. However, since the risk of explosion increases as the concentration of hydrogen peroxide increases, a concentration range of 3 to 35% is more preferable. Moreover, the usage-amount of hydrogen peroxide has the preferable range of 0.9-30.0 equivalent with respect to the sulfide compound which is a substrate, More preferably, it is the range of 1.0-20.0 equivalent.
本発明において用いられる反応溶媒は、特に限定されるものではないが、好まし溶媒としては、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、アルコール類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、エーテル類、カルボン酸類、ハロゲン系溶媒、アミド系溶媒及び水を挙げることができる。また、先に例示した反応溶媒は、任意の組み合わせによる混合系でも用いることができる。この中で特に好ましい溶媒としては、アルコール類、ニトリル類及び脂肪族炭化水素類である。その具体例として、アルコール類としてはメタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、ターシャリーブタノール、ニトリル類ではアセトニトリル、脂肪族炭化水素類としてはノルマルヘキサンを挙げることができ、それら反応溶媒を用いると特に高い反応成績を得ることができる。 The reaction solvent used in the present invention is not particularly limited, but preferred solvents include aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, alcohols, esters, ketones, nitriles, ethers. , Carboxylic acids, halogen solvents, amide solvents and water. Moreover, the reaction solvent illustrated previously can be used also in the mixed system by arbitrary combinations. Among these, particularly preferred solvents are alcohols, nitriles and aliphatic hydrocarbons. Specific examples thereof include methanol, ethanol, 1-propanol, isopropanol, tertiary butanol, nitriles as acetonitrile, and aliphatic hydrocarbons as normal hexane. Especially when these reaction solvents are used. High response results can be obtained.
本発明において、反応温度は特に限定されないが、−５０〜１２０℃の範囲が好ましく、−１０〜８０℃の範囲が特に好ましい。 In the present invention, the reaction temperature is not particularly limited, but is preferably in the range of −50 to 120 ° C., particularly preferably in the range of −10 to 80 ° C.
本発明において、反応時間はスルフィド化合物の構造、炭化タンタルの使用量、過酸化水素の使用量ならびに濃度、反応温度などによって様々であり特に限定されるものではないが、1分間〜６０時間の範囲が好ましく、5分間〜４８時間の範囲が特に好ましい。 In the present invention, the reaction time varies depending on the structure of the sulfide compound, the amount of tantalum carbide used, the amount and concentration of hydrogen peroxide used, the reaction temperature, and the like, and is not particularly limited, but ranges from 1 minute to 60 hours. The range of 5 minutes to 48 hours is particularly preferable.
前記した反応系によって、単純かつ安全な試薬を用いて、工業的にしかも容易に実施可能な方法で、スルフィド化合物から対応するスルホキシド化合物を極めて効率的に得ることが出来る。 With the reaction system described above, the corresponding sulfoxide compound can be obtained very efficiently from the sulfide compound by a method that can be carried out industrially and easily using a simple and safe reagent.
本発明によって製造されたスルホキシド化合物は、副生する不純物等が少なく、精製も容易である。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製できることは勿論のこと、反応を終えた反応混合物から、蒸留によってスルホキシド化合物を取り出すことが可能である。また、反応混合物から炭化タンタルをろ過などの操作で分離して、その後用いた反応溶媒を留去した後、適当な有機溶媒あるいは水で再結晶して取り出すことも可能である。あるいは、反応混合物の状態でスルホキシド化合物が晶析する場合、固液分離を行い、次いでスルホキシド化合物を適当な溶媒で溶解させた後、炭化タンタルをろ過などの操作で分離して、その後適当な有機溶媒あるいは水に置き換えて再結晶して取り出すこともできる。但し、本発明は前述した蒸留の有無、再結晶の有無、固液分離操作の有無及び用いる装置等に何ら限定されるものではない。 The sulfoxide compound produced by the present invention has few by-produced impurities and is easily purified. Of course, it is possible to extract the sulfoxide compound by distillation from the reaction mixture after the reaction, which can be purified by silica gel column chromatography. It is also possible to separate tantalum carbide from the reaction mixture by an operation such as filtration and then distill off the reaction solvent used, and then recrystallize it with an appropriate organic solvent or water. Alternatively, when the sulfoxide compound is crystallized in the state of the reaction mixture, solid-liquid separation is performed, then the sulfoxide compound is dissolved in an appropriate solvent, and then the tantalum carbide is separated by an operation such as filtration, and then an appropriate organic It can be recrystallized by replacing with a solvent or water. However, the present invention is not limited to the above-described presence / absence of distillation, presence / absence of recrystallization, presence / absence of solid-liquid separation operation, and apparatus used.
以下、本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において用いた炭化タンタルは、株式会社高純度化学研究所製のものである。また、ＮＭＲデータは、日本電子株式会社製ＪＮＭ−ＥＸ４００（４００ＭＨｚ）を用いて測定した。マススペクトルデータは、株式会社島津製作所製ＧＣＭＳ−ＱＰ１１００ＥＸを用い、ＥＩ法で測定した。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The tantalum carbide used in the examples is manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd. The NMR data was measured using JNM-EX400 (400 MHz) manufactured by JEOL Ltd. Mass spectrum data was measured by the EI method using GCMS-QP1100EX manufactured by Shimadzu Corporation.
（実施例１ メチルフェニルスルホキシドの合成）
室温下、チオアニソール１２３．１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）をメタノール２ｍｌに溶解し、炭化タンタル３．９ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を加えた後に、３０％過酸化水素水５６８．１ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）を加え、４５℃ に加温して１０分間攪拌を行なった。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液６ｍｌを加え、水層と有機層を分離し、酢酸エチル３mlで3回抽出した。有機層をプールし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物１３７．０mgを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製し、メチルフェニルスルホキシド１３６．２mg、収率９７．０％で得た。外観は、無色油状物であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）δ：２．７３（３Ｈ，ｓ），７．４２−７．５５（３Ｈ，ｍ），７．６６−７．６８（２Ｈ，ｍ）．
ＭＳ（ｍ／ｚ）：１４０（Ｍ＋）．
Example 1 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
At room temperature, 123.1 mg (1.0 mmol) of thioanisole was dissolved in 2 ml of methanol, 3.9 mg (0.02 mmol) of tantalum carbide was added, and 568.1 mg (5.0 mmol) of 30% hydrogen peroxide solution was added. In addition, the mixture was heated to 45 ° C. and stirred for 10 minutes. Thereafter, 6 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, the aqueous layer and the organic layer were separated, and extracted three times with 3 ml of ethyl acetate. The organic layers were pooled, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Ethyl acetate was concentrated by a rotary evaporator to obtain 137.0 mg of a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain 136.2 mg of methylphenyl sulfoxide in a yield of 97.0%. The appearance was a colorless oil.
1 H-NMR (CDCl 3) δ: 2.73 (3H, s), 7.42-7.55 (3H, m), 7.66-7.68 (2H, m).
MS (m / z): 140 (M <+> ).
（実施例２ アリルフェニルスルホキシドの合成）
室温下、アリルフェニルスルフィド１５１．２ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）をメタノール２ｍｌに溶解し、炭化タンタル３．８ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を加えた後に、３０％過酸化水素水５６２．７ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）を加え、４５℃ に加温して１時間４５分攪拌を行なった。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液６ｍｌを加え、水層と有機層を分離し、酢酸エチル３mlで3回抽出した。有機層をプールし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物１６３．０mgを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製し、アリルフェニルスルホキシド１６３．１mg、収率９７．６％で得た。外観は、無色油状物であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）δ：３．５０−３．６１（２Ｈ，m），５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），５．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ），５．６０−５．６８（１Ｈ，ｍ），７．２６−７．６１（５Ｈ，ｍ）．
ＭＳ（ｍ／ｚ）：１６６（Ｍ＋）．
Example 2 Synthesis of Allylphenyl Sulfoxide
At room temperature, 151.2 mg (1.0 mmol) of allyl phenyl sulfide was dissolved in 2 ml of methanol, 3.8 mg (0.02 mmol) of tantalum carbide was added, and then 562.7 mg (5.0 mmol) of 30% hydrogen peroxide solution. The mixture was heated to 45 ° C. and stirred for 1 hour and 45 minutes. Thereafter, 6 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, the aqueous layer and the organic layer were separated, and extracted three times with 3 ml of ethyl acetate. The organic layers were pooled, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Ethyl acetate was concentrated with a rotary evaporator to obtain 163.0 mg of a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain allylphenyl sulfoxide 163.1 mg, yield 97.6%. The appearance was a colorless oil.
1 H-NMR (CDCl 3) δ: 3.50-3.61 (2H, m), 5.17 (1H, d, J = 17.1 Hz), 5.32 (1H, d, J = 10.0 Hz) ), 5.60-5.68 (1H, m), 7.26-7.61 (5H, m).
MS (m / z): 166 (M <+> ).
（実施例３ ｐ−メトキシフェニルメチルスルホキシドの合成）
室温下、ｐ−メトキシチオアニソール１５５．７ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）をメタノール２ｍｌに溶解し、炭化タンタル４．１ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を加えた後に、３０％過酸化水素水５７０．８ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）を加え、４５℃ に加温して３０分間攪拌を行なった。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液６ｍｌを加え、水層と有機層を分離し、酢酸エチル３mlで3回抽出した。有機層をプールし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物１６２．０mgを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製し、ｐ−メトキシフェニルメチルスルホキシド１６０．２mg、収率９４．６％で得た。外観は、無色油状物であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）δ：２．７０（３Ｈ，ｓ），３．８６（３Ｈ，ｓ），７．０２−７．０４（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５８−７．６０（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ．
ＭＳ（ｍ／ｚ）：１７０（Ｍ＋）．
Example 3 Synthesis of p-methoxyphenylmethyl sulfoxide
At room temperature, 155.7 mg (1.0 mmol) of p-methoxythioanisole was dissolved in 2 ml of methanol, 4.1 mg (0.02 mmol) of tantalum carbide was added, and then 570.8 mg (5. 0 mmol) was added, and the mixture was heated to 45 ° C. and stirred for 30 minutes. Thereafter, 6 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, the aqueous layer and the organic layer were separated, and extracted three times with 3 ml of ethyl acetate. The organic layers were pooled, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Ethyl acetate was concentrated by a rotary evaporator to obtain 162.0 mg of a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain 160.2 mg of p-methoxyphenylmethyl sulfoxide in a yield of 94.6%. The appearance was a colorless oil.
1 H-NMR (CDCl 3) δ: 2.70 (3H, s), 3.86 (3H, s), 7.02-7.04 (2H, dt, J = 9.0 Hz), 7.58- 7.60 (2H, dt, J = 8.7 Hz.
MS (m / z): 170 (M <+> ).
（実施例４ ｐ−アセチルフェニルメチルスルホキシドの合成）
室温下、ｐ−（メチルチオ）アセトフェノン１６７．１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）をメタノール２ｍｌに溶解し、炭化タンタル３．９ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を加えた後に、３０％過酸化水素水５６６．７ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）を加え、４５℃ に加温して５時間３０分攪拌を行なった。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液６ｍｌを加え、水層と有機層を分離し、酢酸エチル３mlで3回抽出した。有機層をプールし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物１７４．４mgを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製し、ｐ−アセチルフェニルメチルスルホキシド１５１．２mg、収率８２．９％で得た。外観は、白色固形物であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）δ：２．６５（３Ｈ，ｓ），２．７６（３Ｈ，ｓ），７．７３−７．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），８．０９−８．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）．
ＭＳ（ｍ／ｚ）：１８２（Ｍ＋）．
Example 4 Synthesis of p-acetylphenylmethyl sulfoxide
At room temperature, 167.1 mg (1.0 mmol) of p- (methylthio) acetophenone was dissolved in 2 ml of methanol, 3.9 mg (0.02 mmol) of tantalum carbide was added, and then 566.7 mg (5% 0.0 mmol), and the mixture was heated to 45 ° C. and stirred for 5 hours and 30 minutes. Thereafter, 6 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, the aqueous layer and the organic layer were separated, and extracted three times with 3 ml of ethyl acetate. The organic layers were pooled, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Ethyl acetate was concentrated by a rotary evaporator to obtain 174.4 mg of a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain 151.2 mg of p-acetylphenylmethyl sulfoxide in a yield of 82.9%. The appearance was a white solid.
1 H-NMR (CDCl 3) δ: 2.65 (3H, s), 2.76 (3H, s), 7.73-7.75 (2H, d, J = 8.3 Hz), 8.09- 8.11 (2H, d, J = 8.3 Hz).
MS (m / z): 182 (M <+> ).
（実施例５ ベンジルフェニルスルホキシドの合成）
室温下、ベンジルフェニルスルフィド２００．０ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）をメタノール２ｍｌに溶解し、炭化タンタル３．９ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を加えた後に、３０％過酸化水素水５６９．０ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）を加え、４５℃ に加温して１時間２０分攪拌を行なった。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液６ｍｌを加え、水層と有機層を分離し、酢酸エチル３mlで3回抽出した。有機層をプールし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物２１１．１mgを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製し、ベンジルフェニルスルホキシド１９７．７mg、収率９１．６％で得た。外観は、白色固形物であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）δ：３．９８−４．１１（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．４，１２．７Ｈｚ），６．９７−６．９９（２Ｈ，ｍ），７．２２−７．４４（８Ｈ，ｍ）．
ＭＳ（ｍ／ｚ）：２１６（Ｍ＋）．
Example 5 Synthesis of benzylphenyl sulfoxide
At room temperature, 200.0 mg (1.0 mmol) of benzyl phenyl sulfide was dissolved in 2 ml of methanol, 3.9 mg (0.02 mmol) of tantalum carbide was added, and then 569.0 mg (5.0 mmol) of 30% aqueous hydrogen peroxide. The mixture was heated to 45 ° C. and stirred for 1 hour and 20 minutes. Thereafter, 6 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, the aqueous layer and the organic layer were separated, and extracted three times with 3 ml of ethyl acetate. The organic layers were pooled, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Ethyl acetate was concentrated by a rotary evaporator to obtain 211.1 mg of a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain 197.7 mg of benzylphenyl sulfoxide in a yield of 91.6%. The appearance was a white solid.
1 H-NMR (CDCl 3) δ: 3.98-4.11 (2H, dd, J = 12.4, 12.7 Hz), 6.97-6.99 (2H, m), 7.22-7 .44 (8H, m).
MS (m / z): 216 (M <+> ).
（実施例６ ベンジルメチルスルホキシドの合成）
室温下、ベンジルメチルスルフィド１３９．１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）をメタノール２ｍｌに溶解し、炭化タンタル３．９ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を加えた後に、３０％過酸化水素水５６５．２ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）を加え、４５℃ に加温して１０分間攪拌を行なった。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液６ｍｌを加え、水層と有機層を分離し、酢酸エチル３mlで3回抽出した。有機層をプールし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物１４７．０mgを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製し、ベンジルメチルスルホキシド１４０．０mg、収率９０．９％で得た。外観は、無色油状物であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）δ：２．４５（３Ｈ，ｓ），３．９０−３．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．７Ｈｚ），４．０４−４．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．７Ｈｚ），７．３４−７．３８（５Ｈ，ｍ）．
ＭＳ（ｍ／ｚ）：１５４（Ｍ＋）．
Example 6 Synthesis of benzylmethyl sulfoxide
At room temperature, 139.1 mg (1.0 mmol) of benzyl methyl sulfide was dissolved in 2 ml of methanol, 3.9 mg (0.02 mmol) of tantalum carbide was added, and then 565.2 mg (5.0 mmol) of 30% aqueous hydrogen peroxide. The mixture was heated to 45 ° C. and stirred for 10 minutes. Thereafter, 6 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, the aqueous layer and the organic layer were separated, and extracted three times with 3 ml of ethyl acetate. The organic layers were pooled, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Ethyl acetate was concentrated by a rotary evaporator to obtain 147.0 mg of a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain 140.0 mg of benzylmethyl sulfoxide in a yield of 90.9%. The appearance was a colorless oil.
1 H-NMR (CDCl 3) δ: 2.45 (3H, s), 3.90-3.93 (1H, d, J = 12.7 Hz), 4.04-4.07 (1H, d, J = 12.7 Hz), 7.34-7.38 (5H, m).
MS (m / z): 154 (M <+> ).
（実施例７ ジベンジルスルホキシドの合成）
室温下、ジベンジルスルフィド２１５．２ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）をメタノール２ｍｌに溶解し、炭化タンタル３．９ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を加えた後に、３０％過酸化水素水５７０．６ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）を加え、４５℃ に加温して３５分間攪拌を行なった。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液６ｍｌを加え、水層と有機層を分離し、酢酸エチル３mlで3回抽出した。有機層をプールし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物２２０．８mgを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製し、ジベンジルスルホキシド２１４．３mg、収率９３．０％で得た。外観は、白色固形物であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）δ：３．８５−３．９４（４Ｈ，dｄ，Ｊ＝１２．９、１３．１Ｈｚ），７．２８−７．３８（１０Ｈ，ｍ）．
ＭＳ（ｍ／ｚ）：２３０（Ｍ＋）．
Example 7 Synthesis of dibenzyl sulfoxide
At room temperature, 215.2 mg (1.0 mmol) of dibenzyl sulfide was dissolved in 2 ml of methanol, 3.9 mg (0.02 mmol) of tantalum carbide was added, and then 570.6 mg (5.0 mmol) of 30% aqueous hydrogen peroxide. The mixture was heated to 45 ° C. and stirred for 35 minutes. Thereafter, 6 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, the aqueous layer and the organic layer were separated, and extracted three times with 3 ml of ethyl acetate. The organic layers were pooled, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Ethyl acetate was concentrated by a rotary evaporator to obtain 220.8 mg of a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain 214.3 mg of dibenzyl sulfoxide in a yield of 93.0%. The appearance was a white solid.
1 H-NMR (CDCl 3) δ: 3.85-3.94 (4H, dd, J = 12.9, 13.1 Hz), 7.28-7.38 (10H, m).
MS (m / z): 230 (M <+> ).
（実施例８ ジフェニルスルホキシドの合成）
室温下、ジフェニルスルフィド１８７．０ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）をメタノール６ｍｌに溶解し、炭化タンタル１９．２ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加えた後に、３０％過酸化水素水１７１５．０ｍｇ（１５．０ｍｍｏｌ）を加え、４５℃ に加温して9時間攪拌を行なった。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液８ｍｌを加え、水層と有機層を分離し、酢酸エチル５mlで3回抽出した。有機層をプールし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物１９７．２mgを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製し、ジフェニルスルホキシド１７４．１mg、収率８６．１％で得た。外観は、白色固形物であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）δ：７．３９−７．４６（６Ｈ，m），７．６１−７．６７（４Ｈ，ｍ）．
ＭＳ（ｍ／ｚ）：２０２（Ｍ＋）．
Example 8 Synthesis of diphenyl sulfoxide
At room temperature, 187.0 mg (1.0 mmol) of diphenyl sulfide was dissolved in 6 ml of methanol, 19.2 mg (0.1 mmol) of tantalum carbide was added, and 1715.0 mg (15.0 mmol) of 30% hydrogen peroxide solution was added. In addition, the mixture was heated to 45 ° C. and stirred for 9 hours. Thereafter, 8 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, the aqueous layer and the organic layer were separated, and extracted with 5 ml of ethyl acetate three times. The organic layers were pooled, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Ethyl acetate was concentrated by a rotary evaporator to obtain 197.2 mg of a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain 174.1 mg of diphenyl sulfoxide in a yield of 86.1%. The appearance was a white solid.
< 1 > H-NMR (CDCl3) [delta]: 7.39-7.46 (6H, m), 7.61-7.67 (4H, m).
MS (m / z): 202 (M <+> ).
（実施例９ ビス（４−メトキシフェニル）スルホキシドの合成）
室温下、ビス（４−メトキシフェニル）スルフィド２４７．１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）をメタノール６ｍｌに溶解し、炭化タンタル１９．４ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加えた後に、３０％過酸化水素水１７２０．０ｍｇ（１５．０ｍｍｏｌ）を加え、４５℃ に加温して４時間攪拌を行なった。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液８ｍｌを加え、水層と有機層を分離し、酢酸エチル５mlで3回抽出した。有機層をプールし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物２５０．７mgを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製し、ビス（４−メトキシフェニル）スルホキシド２３１．４mg、収率８８．１％で得た。外観は、白色固形物であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）δ：３．８１（６Ｈ，ｓ），６．９４−６．９６（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．５２−７．５４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）．
ＭＳ（ｍ／ｚ）：２６２（Ｍ＋）．
Example 9 Synthesis of bis (4-methoxyphenyl) sulfoxide
At room temperature, 247.1 mg (1.0 mmol) of bis (4-methoxyphenyl) sulfide was dissolved in 6 ml of methanol, 19.4 mg (0.1 mmol) of tantalum carbide was added, and then 1720.0 mg of 30% hydrogen peroxide solution was added. (15.0 mmol) was added, and the mixture was heated to 45 ° C. and stirred for 4 hours. Thereafter, 8 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, the aqueous layer and the organic layer were separated, and extracted with 5 ml of ethyl acetate three times. The organic layers were pooled, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Ethyl acetate was concentrated with a rotary evaporator to obtain 250.7 mg of a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain 231.4 mg of bis (4-methoxyphenyl) sulfoxide in a yield of 88.1%. The appearance was a white solid.
1 H-NMR (CDCl 3) δ: 3.81 (6H, s), 6.94-6.96 (4H, d, J = 8.8 Hz), 7.52-7.54 (4H, d, J = 9.0 Hz).
MS (m / z): 262 (M <+> ).
（実施例１０ メチルフェニルスルホキシドの合成）
室温下、チオアニソール１２３．１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）をメタノール２ｍｌに溶解し、炭化タンタル１９．５ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加えた後に、３０％過酸化水素水５６８．１ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１時間２０分攪拌を行なった。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液６ｍｌを加え、水層と有機層を分離し、酢酸エチル３mlで3回抽出した。有機層をプールし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物１３７．０mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９１：９（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 10 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
At room temperature, 123.1 mg (1.0 mmol) of thioanisole was dissolved in 2 ml of methanol, 19.5 mg (0.1 mmol) of tantalum carbide was added, and 568.1 mg (5.0 mmol) of 30% aqueous hydrogen peroxide was added. In addition, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour and 20 minutes. Thereafter, 6 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, the aqueous layer and the organic layer were separated, and extracted three times with 3 ml of ethyl acetate. The organic layers were pooled, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Ethyl acetate was concentrated by a rotary evaporator to obtain 137.0 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 91: 9 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例１１ メチルフェニルスルホキシドの合成）
炭化タンタルを１５．８ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）、攪拌時間を１時間３０分とした以外は、実施例１０と同様の操作を行い、粗生成物１３７．０mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９６：４（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 11 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
The same operation as in Example 10 was carried out except that 15.8 mg (0.08 mmol) of tantalum carbide and the stirring time was 1 hour 30 minutes, to obtain 137.0 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methylphenylsulfoxide: methylphenylsulfone = 96: 4 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例１２ メチルフェニルスルホキシドの合成）
炭化タンタルを１１．７ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）、攪拌時間を１時間３０分とした以外は、実施例１０と同様の操作を行い、粗生成物１３６．０mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９４：６（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 12 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
Except for 11.7 mg (0.06 mmol) of tantalum carbide and a stirring time of 1 hour and 30 minutes, the same operation as in Example 10 was performed to obtain 136.0 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 94: 6 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例１３ メチルフェニルスルホキシドの合成）
炭化タンタルを７．８ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ）、攪拌時間を１時間３０分とした以外は、実施例１０と同様の操作を行い、粗生成物１３７．０mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９３：７（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 13 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
Except for 7.8 mg (0.04 mmol) of tantalum carbide and a stirring time of 1 hour 30 minutes, the same operation as in Example 10 was performed to obtain 137.0 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 93: 7 (based on molar ratio). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例１４ メチルフェニルスルホキシドの合成）
炭化タンタルを７．８ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ）、反応温度を４５℃、攪拌時間を１時間とした以外は、実施例１０と同様の操作を行い、粗生成物１３６．０mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９８：２（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 14 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
Except for 7.8 mg (0.04 mmol) of tantalum carbide, a reaction temperature of 45 ° C., and a stirring time of 1 hour, the same operation as in Example 10 was performed to obtain 136.0 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methylphenylsulfoxide: methylphenylsulfone = 98: 2 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例１５ メチルフェニルスルホキシドの合成）
炭化タンタルを３．９ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）、攪拌時間を２時間３０分とした以外は、実施例１０と同様の操作を行い、粗生成物１３５．０mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９７：３（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 15 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
Except for 3.9 mg (0.02 mmol) of tantalum carbide and a stirring time of 2 hours 30 minutes, the same operation as in Example 10 was performed to obtain 135.0 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 97: 3 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例１６ メチルフェニルスルホキシドの合成）
室温下、チオアニソール１２３．１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）をメタノール２ｍｌに溶解し、炭化タンタル１９．５ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加えた後に、３０％過酸化水素水１７０４．０ｍｇ（１５．０ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１５分間攪拌を行なった。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液１２ｍｌを加え、水層と有機層を分離し、酢酸エチル３mlで3回抽出した。有機層をプールし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物１３５．５mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９６：４（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 16 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
At room temperature, 123.1 mg (1.0 mmol) of thioanisole was dissolved in 2 ml of methanol, 19.5 mg (0.1 mmol) of tantalum carbide was added, and 1704.0 mg (15.0 mmol) of 30% hydrogen peroxide solution was added. In addition, the mixture was stirred at room temperature for 15 minutes. Thereafter, 12 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, the aqueous layer and the organic layer were separated, and extracted with 3 ml of ethyl acetate three times. The organic layers were pooled, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Ethyl acetate was concentrated on a rotary evaporator to obtain 135.5 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methylphenylsulfoxide: methylphenylsulfone = 96: 4 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例１７ メチルフェニルスルホキシドの合成）
３０％過酸化水素水１１３６．０ｍｇ（１０．０ｍｍｏｌ）、攪拌時間を２5分間、反応後に加える飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を１０ｍｌとした以外は、実施例１０と同様の操作を行い、粗生成物１３６．０mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９７：３（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 17 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
The crude product 136 was treated in the same manner as in Example 10 except that 1136.0 mg (10.0 mmol) of 30% aqueous hydrogen peroxide, the stirring time was 25 minutes, and the saturated sodium thiosulfate aqueous solution added after the reaction was 10 ml. 0.0 mg was obtained. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 97: 3 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例１８ メチルフェニルスルホキシドの合成）
３０％過酸化水素水９０９．０ｍｇ（８．０ｍｍｏｌ）、攪拌時間を５5分間とした以外は、実施例１０と同様の操作を行い、粗生成物１３６．０mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９９：１（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 18 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
The same operation as in Example 10 was carried out except that 909.0 mg (8.0 mmol) of 30% aqueous hydrogen peroxide and the stirring time was 55 minutes, to obtain 136.0 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 99: 1 (based on molar ratio). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例１９ メチルフェニルスルホキシドの合成）
３０％過酸化水素水７９５．４ｍｇ（７．０ｍｍｏｌ）、攪拌時間を１時間１０分とした以外は、実施例１０と同様の操作を行い、粗生成物１３５．５mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９８：２（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 19 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
The same operation as in Example 10 was carried out except that 795.4 mg (7.0 mmol) of 30% aqueous hydrogen peroxide and the stirring time was 1 hour and 10 minutes, to obtain 135.5 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methylphenylsulfoxide: methylphenylsulfone = 98: 2 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例２０ メチルフェニルスルホキシドの合成）
３０％過酸化水素水６８２．０ｍｇ（６．０ｍｍｏｌ）、攪拌時間を１時間１０分とした以外は、実施例１０と同様の操作を行い、粗生成物１３５．０mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシド、メチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン：＝９７：３（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 20 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
The same operation as in Example 10 was carried out except that 682.0 mg (6.0 mmol) of 30% aqueous hydrogen peroxide and the stirring time was 1 hour and 10 minutes to obtain 135.0 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio with methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, it was methylphenylsulfoxide: methylphenylsulfone: = 97: 3 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例２１ メチルフェニルスルホキシドの合成）
３０％過酸化水素水２２７．０ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）、攪拌時間を4時間１５分とした以外は、実施例１０と同様の操作を行い、粗生成物１３６．５mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９３：７（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 21 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
The same operation as in Example 10 was performed except that 227.0 mg (2.0 mmol) of 30% aqueous hydrogen peroxide and the stirring time was changed to 4 hours and 15 minutes to obtain 136.5 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 93: 7 (based on molar ratio). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例２２ メチルフェニルスルホキシドの合成）
３０％過酸化水素水１１４．０ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、攪拌時間を１２時間とした以外は、実施例１０と同様の操作を行い、粗生成物１３５．２mgを得た。得られた粗成生物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９４：６（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 22 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
The same operation as in Example 10 was performed except that 114.0 mg (1.0 mmol) of 30% aqueous hydrogen peroxide and the stirring time was 12 hours, to obtain 135.2 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenyl sulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 94: 6 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例２３ メチルフェニルスルホキシドの合成）
反応溶媒をエタノール、攪拌時間を３５分間とした以外は、実施例１６と同様の操作を行い、粗生成物１３７．２mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９６：４（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 23 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
Except that the reaction solvent was ethanol and the stirring time was 35 minutes, the same operation as in Example 16 was performed to obtain 137.2 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methylphenylsulfoxide: methylphenylsulfone = 96: 4 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例２４ メチルフェニルスルホキシドの合成）
反応溶媒をイソプロパノール、攪拌時間を４０分間とした以外は、実施例１６と同様の操作を行い、粗生成物１３６．０mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９５：５（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 24 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
Except that the reaction solvent was isopropanol and the stirring time was 40 minutes, the same operation as in Example 16 was performed to obtain 136.0 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 95: 5 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例２５ メチルフェニルスルホキシドの合成）
反応溶媒をターシャリーブタノール、攪拌時間を５０分間とした以外は、実施例１６と同様の操作を行い、粗生成物１３８．８mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９７：３（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 25 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
The same operation as in Example 16 was carried out except that the reaction solvent was tertiary butanol and the stirring time was 50 minutes, to obtain 138.8 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 97: 3 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例２６ メチルフェニルスルホキシドの合成）
反応溶媒をアセトニトリル、攪拌時間を２５分間とした以外は、実施例１６と同様の操作を行い、粗生成物１３５．５mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９５：５（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 26 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
The same operation as in Example 16 was carried out except that the reaction solvent was acetonitrile and the stirring time was 25 minutes to obtain 135.5 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 95: 5 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例２７ メチルフェニルスルホキシドの合成）
反応溶媒を酢酸エチル、攪拌時間を２時間３０分とした以外は、実施例１６と同様の操作を行い、粗生成物１３８．５mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝７５：２５（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 27 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
Except that the reaction solvent was ethyl acetate and the stirring time was 2 hours and 30 minutes, the same operation as in Example 16 was performed to obtain 138.5 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 75: 25 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例２８ メチルフェニルスルホキシドの合成）
反応溶媒をノルマルヘキサン、攪拌時間を４時間とした以外は、実施例１６と同様の操作を行い、粗生成物１３５．５mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝１００：０（モル比基準）であり、メチルフェニルスルホン由来のシグナルは観測されなかった。また、原料であるチオアニソールも１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 28 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
The same operation as in Example 16 was carried out except that the reaction solvent was normal hexane and the stirring time was 4 hours to obtain 135.5 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methylphenylsulfoxide: methylphenylsulfone = 100: 0 (based on molar ratio), and no signal derived from methylphenylsulfone was observed. Further, thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例２９ メチルフェニルスルホキシドの合成）
反応溶媒をトルエン、攪拌時間を３時間１０分とした以外は、実施例１６と同様の操作を行い、粗生成物１３８．０mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝８２：１８（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 29 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
The same operation as in Example 16 was carried out except that the reaction solvent was toluene and the stirring time was 3 hours and 10 minutes to obtain 138.0 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenylsulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 82: 18 (molar ratio basis). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例３０ メチルフェニルスルホキシドの合成）
反応溶媒をジクロロメタン、攪拌時間を４時間１０分とした以外は、実施例１６と同様の操作を行い、粗生成物１３６．５mgを得た。得られた粗成生物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、メチルフェニルスルホキシドとメチルフェニルスルホンとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、メチルフェニルスルホキシド：メチルフェニルスルホン＝９９：１（モル比基準）であった。なお、原料であるチオアニソールは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
Example 30 Synthesis of methylphenyl sulfoxide
The same operation as in Example 16 was carried out except that the reaction solvent was dichloromethane and the stirring time was 4 hours and 10 minutes to obtain 136.5 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of methylphenyl sulfoxide and methylphenylsulfone. As a result, methyl phenyl sulfoxide: methyl phenyl sulfone = 99: 1 (based on molar ratio). Note that thioanisole as a raw material was not detected on 1 H-NMR.
（実施例３１ メチルフェニルスルホキシドの合成、炭化タンタルの分離・回収）
室温下、チオアニソール６２０．９ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）をメタノール１０ｍｌに溶解し、炭化タンタル１９．２ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加えた後に、３０％過酸化水素水２８６１．２ｍｇ（２５．０ｍｍｏｌ）を加え、４５℃ に加温して４０分間攪拌を行なった。その後、反応混合物をろ紙を付した桐山ロートでろ過し、ろ紙上に炭化タンタルを分離した。分離ろ別した炭化タンタルは、減圧乾燥した後に重量を計測したところ１９．２mg（回収率１００％）であった。この一連の操作で回収した炭化タンタルは、後記の実施例３２で繰り返し反応に使用した。
(Example 31 Synthesis of methylphenyl sulfoxide, separation and recovery of tantalum carbide)
At room temperature, 620.9 mg (5.0 mmol) of thioanisole was dissolved in 10 ml of methanol, 19.2 mg (0.1 mmol) of tantalum carbide was added, and 2861.2 mg (25.0 mmol) of 30% aqueous hydrogen peroxide was added. In addition, the mixture was heated to 45 ° C. and stirred for 40 minutes. Thereafter, the reaction mixture was filtered through a Kiriyama funnel with a filter paper to separate tantalum carbide on the filter paper. The tantalum carbide separated and separated was measured for weight after drying under reduced pressure, and it was 19.2 mg (recovery rate 100%). The tantalum carbide recovered by this series of operations was repeatedly used for the reaction in Example 32 described later.
一方、ろ過した後の反応混合物は室温まで冷却し、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液２０mlを加えた。その後、酢酸エチル１５mlで3回抽出した。有機層をプールし、水１０mlで3回、次いで飽和食塩水１０mlで３回洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。その後、酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物６３５．０mgを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製し、メチルフェニルスルホキシド６２７．０mg、収率８９．６％で得た。外観は、無色油状物であった。１Ｈ−ＮＭＲスペクトルならびにＭＳスペクトルは、実施例１のデータと完全に一致した。 On the other hand, the reaction mixture after filtration was cooled to room temperature, and 20 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added. Thereafter, the mixture was extracted 3 times with 15 ml of ethyl acetate. The organic layers were pooled, washed 3 times with 10 ml of water and then 3 times with 10 ml of saturated brine, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Thereafter, ethyl acetate was concentrated by a rotary evaporator to obtain 635.0 mg of a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain 627.0 mg of methylphenyl sulfoxide in a yield of 89.6%. The appearance was a colorless oil. 1 H-NMR spectrum and MS spectrum were completely in agreement with the data of Example 1.
（実施例３２ 炭化タンタルの再利用によるメチルフェニルスルホキシドの合成）
実施例３１で回収した炭化タンタル１９．２mgを用いて、実施例３１と同様の操作を繰り返し３回行い、メチルフェニルスルホキシドを得た。それぞれの取得量と収率は以下の通りであった。
再利用１回目 取得量６４１．８mg、収率９１．７％
再利用2回目 取得量６３５．１mg、収率９０．７％
再利用3回目 取得量６３４．０mg 収率９０．６％
なお、上記いずれも１Ｈ−ＮＭＲスペクトルならびにＭＳスペクトルは、実施例１のデータと完全に一致した。
Example 32 Synthesis of methylphenyl sulfoxide by reusing tantalum carbide
Using 19.2 mg of tantalum carbide recovered in Example 31, the same operation as in Example 31 was repeated three times to obtain methylphenyl sulfoxide. Each acquisition amount and yield were as follows.
Reuse 1st Acquisition amount 641.8mg, Yield 91.7%
Second reuse: Acquired 635.1 mg, 90.7% yield
3rd reuse Acquisition amount 634.0mg Yield 90.6%
In all cases, the 1 H-NMR spectrum and the MS spectrum completely coincided with the data of Example 1.
（参考例１ 炭化タンタル不使用時の反応成績、メチルフェニルスルホキシドの合成）
室温下、チオアニソール１２３．１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）をメタノール２ｍｌに溶解し、３０％過酸化水素水５６８．１ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間３０分攪拌を行なった。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液６ｍｌを加え、水層と有機層を分離し、酢酸エチル３mlで3回抽出した。有機層をプールし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物１３４．０mgを得た。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）を測定し、原料のチオアニソールとメチルフェニルスルホキシドとのプロトン積分強度比から生成比率を算出した。その結果、チオアニソール：メチルフェニルスルホキシド：＝２０：８０（モル比基準）であった。なお、メチルフェニルスルホンは１Ｈ−ＮＭＲ上検出されなかった。
(Reference Example 1 Reaction results when tantalum carbide is not used, synthesis of methylphenyl sulfoxide)
At room temperature, 123.1 mg (1.0 mmol) of thioanisole was dissolved in 2 ml of methanol, 568.1 mg (5.0 mmol) of 30% aqueous hydrogen peroxide was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours and 30 minutes. Thereafter, 6 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, the aqueous layer and the organic layer were separated, and extracted three times with 3 ml of ethyl acetate. The organic layers were pooled, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Ethyl acetate was concentrated by a rotary evaporator to obtain 134.0 mg of a crude product. 1 H-NMR (CDCl3) of the obtained crude product was measured, and the production ratio was calculated from the proton integral intensity ratio of the raw material thioanisole and methylphenyl sulfoxide. As a result, it was thioanisole: methylphenyl sulfoxide: = 20: 80 (based on molar ratio). Methylphenylsulfone was not detected on 1 H-NMR.
（参考例２ 炭化タンタル不使用時の反応成績、ジフェニルスルホキシドの合成）
室温下、ジフェニルスルフィド１８６．３ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）をメタノール６ｍｌに溶解し、３０％過酸化水素水１７００．４ｍｇ（１５．０ｍｍｏｌ）を加え、４５℃ に加温して9時間攪拌を行なった。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液８ｍｌを加え、水層と有機層を分離し、酢酸エチル５mlで3回抽出した。有機層をプールし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。酢酸エチルをロータリーエバポレーターで濃縮し、粗生成物１８９．１mgを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製し、原料であるジフェニルスルフィドならびに生成物であるジフェニルスルホキシドをそれぞれ単離した。その結果、ジフェニルスルフィド１０２．４mg、収率５５．０％、ジフェニルスルホキシド７６．９ｍｇ、収率３８．０％で得られた。なお、ジフェニルスルホンは生成していなかった。
(Reference Example 2 Reaction results when tantalum carbide is not used, synthesis of diphenyl sulfoxide)
At room temperature, 186.3 mg (1.0 mmol) of diphenyl sulfide was dissolved in 6 ml of methanol, 1700.4 mg (15.0 mmol) of 30% hydrogen peroxide was added, and the mixture was heated to 45 ° C. and stirred for 9 hours. . Thereafter, 8 ml of a saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, the aqueous layer and the organic layer were separated, and extracted with 5 ml of ethyl acetate three times. The organic layers were pooled, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Ethyl acetate was concentrated by a rotary evaporator to obtain 189.1 mg of a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to isolate diphenyl sulfide as a raw material and diphenyl sulfoxide as a product. As a result, diphenyl sulfide 102.4 mg, yield 55.0%, diphenyl sulfoxide 76.9 mg, yield 38.0% were obtained. Diphenylsulfone was not produced.
（参考例３ 炭化タンタル不使用時の反応成績、ジフェニルスルホキシドの合成）
反応時間を２４時間とした以外は、参考例２と同様の操作を行い、粗生成物１９２．７mgを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製し、原料であるジフェニルスルフィド、生成物であるジフェニルスルホキシド及びジフェニルスルホンをそれぞれ単離した。その結果、ジフェニルスルフィド２２．４mg、収率１２．０％、ジフェニルスルホキシド１３９．６ｍｇ、収率６９．０％、ジフェニルスルホン１０．９ｍｇ、収率５．０％で得られた。
ジフェニルスルホンの１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）δ：７．４８−７．５８（６Ｈ，m），７．９０−７．９４（４Ｈ，ｍ）．
ジフェニルスルホンのＭＳ（ｍ／ｚ）：２１８（Ｍ＋）．
(Reference Example 3 Reaction results when tantalum carbide is not used, synthesis of diphenyl sulfoxide)
The same operation as in Reference Example 2 was carried out except that the reaction time was 24 hours, to obtain 192.7 mg of a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to isolate diphenyl sulfide as a raw material and diphenyl sulfoxide and diphenyl sulfone as products. As a result, 22.4 mg of diphenyl sulfide, 12.0% yield, 139.6 mg diphenyl sulfoxide, 69.0% yield, 10.9 mg diphenyl sulfone, 5.0% yield were obtained.
1 H-NMR (CDCl 3) δ of diphenyl sulfone: 7.48-7.58 (6H, m), 7.90-7.94 (4H, m).
MS (m / z) of diphenylsulfone: 218 (M + ).
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