JP2010192563A - Organic electroluminescence display apparatus and method for manufacturing organic the electroluminescence display apparatus - Google Patents

Organic electroluminescence display apparatus and method for manufacturing organic the electroluminescence display apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL (electroluminescence) display apparatus with an organic EL layer appropriately patterned, even when conducting a plasma processing on the surface of banks to appropriately patterning the organic EL layer. <P>SOLUTION: The organic electroluminescence display apparatus includes a first electrode 2, a conductive layer 4, a light-emitting layer 5, and a second electrode 6 laminated on a substrate 1 from the substrate 1 side in this order, and a bank 3 for surrounding the circumference of the conductive layer 4 and the light-emitting layer 6. The concentration of fluorine atom on the surface of the conductive layer 4 of the organic electroluminescence display apparatus is not more than 6 atom% with respect to all the element contents, when measurement is performed by X-ray photoelectron spectroscopy. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(EL:electroluminescence)表示装置、及び、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法に関する。より詳しくは、インクジェット法等の湿式法により有機EL層が形成された有機EL表示装置及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to an organic electroluminescence (EL) display device and a method for manufacturing an organic electroluminescence display device. More specifically, the present invention relates to an organic EL display device in which an organic EL layer is formed by a wet method such as an inkjet method and a method for manufacturing the same.

有機EL表示装置は、コントラスト、視野角等の視認性及び応答性に優れ、低消費電力化、薄型軽量化、及び、ディスプレイ本体のフレキシブル化が可能であることから、次世代のフラットパネルディスプレイ(FPD:Flat Panel Display)として注目を集めている。現在は、液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)やプラズマディスプレイパネル(PDP:Plasma Display Panel)に比べ、技術の完成度や産業インフラの水準が未だ劣っているため、有機EL表示装置の実用化は、カーオーディオや一部のモバイル情報機器等への搭載に留まっているものの、理論的には最も優れたFPDであることから、今後の市場拡大が期待されている。 The organic EL display device has excellent visibility and responsiveness such as contrast and viewing angle, and is capable of lower power consumption, thinner and lighter, and flexible display body. FPD (Flat Panel Display) is attracting attention. At present, compared to liquid crystal displays (LCDs) and plasma display panels (PDPs), the level of technical perfection and industrial infrastructure are still inferior. Although it is only mounted on car audio and some mobile information devices, it is theoretically the best FPD, so future market expansion is expected.

有機EL表示装置は、画素毎に自発光型の有機EL素子が配置された有機ELパネルを駆動させることにより画像表示を行う。有機ELパネルは、少なくとも一方が透光性を有する一対の電極と、該一対の電極間に配置された有機材料で構成される有機EL層とを有する。有機EL層としては、電圧が印加されることで光を放出する発光層、発光層の発光効率を上げるために設けられる正孔注入層等が挙げられる。 An organic EL display device displays an image by driving an organic EL panel in which a self-luminous organic EL element is arranged for each pixel. The organic EL panel includes a pair of electrodes, at least one of which has translucency, and an organic EL layer formed of an organic material disposed between the pair of electrodes. Examples of the organic EL layer include a light emitting layer that emits light when a voltage is applied, and a hole injection layer that is provided to increase the light emission efficiency of the light emitting layer.

有機EL層の材料としては、低分子有機EL材料と高分子有機EL材料とが挙げられる。低分子有機EL材料を用いる場合には、真空下で蒸着により成膜する方法が一般的に用いられるが、成膜ムラが生じやすいために、大型化が困難である。一方、高分子有機EL材料を用いる場合には、インクジェット法、ノズルコート法、印刷法等の湿式法が一般的に用いられる。なかでも、近年、インクジェット法により基板上に赤、緑及び青の色層を形成する方法が広く用いられている(例えば、特許文献1参照。)。 Examples of the material for the organic EL layer include low-molecular organic EL materials and high-molecular organic EL materials. When a low molecular organic EL material is used, a method of forming a film by vapor deposition under vacuum is generally used. However, since film formation unevenness easily occurs, it is difficult to increase the size. On the other hand, when a polymer organic EL material is used, wet methods such as an inkjet method, a nozzle coating method, and a printing method are generally used. In particular, in recent years, a method of forming red, green, and blue color layers on a substrate by an inkjet method has been widely used (see, for example, Patent Document 1).

特許文献1に記載の方法では、高分子有機EL材料を用いて以下のようにして有機EL層を形成している。まず、基板上に画素の仕切り部材として、有機材料からなるバンクを形成する。バンクの形成にはリソグラフィー法、印刷法等が用いられる。続いて、フッ素化合物等を含むガスを用いて、バンクの表面をプラズマ処理する。プラズマ処理を行うことでバンクの表面が撥液化するので、これにより、バンクで仕切られた領域内にインクジェット法等を用いて液体材料を吐出したとしても、液体材料がバンクを乗り越えにくくなり、有機EL層のパターニングの精度が向上する。 In the method described in Patent Document 1, an organic EL layer is formed as follows using a polymer organic EL material. First, a bank made of an organic material is formed as a pixel partition member on a substrate. Lithography or printing is used to form the bank. Subsequently, the surface of the bank is subjected to plasma treatment using a gas containing a fluorine compound or the like. Since the surface of the bank is made liquid-repellent by performing the plasma treatment, it is difficult for the liquid material to get over the bank even if the liquid material is ejected into the area partitioned by the bank using an ink jet method or the like. The patterning accuracy of the EL layer is improved.

特許第3328297号明細書Japanese Patent No. 3328297

しかしながら、プラズマ処理を行ってバンクの表面を撥液化する処理を行う手法を用いた場合、プロセスの条件によっては、バンクの開口部内に形成される有機EL層が適切にパターニングされないことがあった。 However, in the case of using a method of performing a plasma treatment to make the bank surface liquid repellent, the organic EL layer formed in the opening of the bank may not be appropriately patterned depending on the process conditions.

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、有機EL層を適切にパターニングするためにバンクの表面にプラズマ処理を行う場合であっても、有機EL層が適切にパターニングされた有機EL表示装置、及び、適切に有機EL層をパターニングすることが可能な有機EL表示装置の製造方法を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above-described situation, and an organic EL layer in which the organic EL layer is appropriately patterned even when performing plasma treatment on the surface of the bank in order to appropriately pattern the organic EL layer. An object of the present invention is to provide a display device and a method of manufacturing an organic EL display device capable of appropriately patterning an organic EL layer.

本発明者は、有機EL層をバンク内にパターニングする際に、適切なパターニングがなされない原因について種々検討したところ、有機EL層の表面組成、及び、有機EL層の製造条件に着目した。本明細書において有機EL層とは、一定電圧の印加により光を放出する発光層、発光層に対してスムーズに正孔(ホール)又は電子を注入するために形成される正孔注入層、電子注入層等のバッファ層(導電層)、発光層に対して余分な電子が注入することを防ぐために形成される中間層等をいう。 The present inventor has made various studies on the reason why appropriate patterning is not performed when patterning the organic EL layer in the bank, and has focused on the surface composition of the organic EL layer and the manufacturing conditions of the organic EL layer. In this specification, the organic EL layer refers to a light emitting layer that emits light when a constant voltage is applied, a hole injection layer that is formed to smoothly inject holes or electrons into the light emitting layer, and electrons. It refers to a buffer layer (conductive layer) such as an injection layer, an intermediate layer formed to prevent extra electrons from being injected into the light emitting layer.

そして、例えば、画素内の有機EL層が適切にパターニングされるよう、まず、画素に対応する開口部を有するバンクを設け、続いてパターニングの精度を上げるためにバンクの表面に対しフッ素含有ガスを用いたプラズマ処理を行い、更に、バンクの開口部に有機EL層を塗布した後、乾燥工程等の一定条件の処理を行うと、その条件によっては、バンクの表面のフッ素が有機EL層の表面に移動し、有機EL層の表面が撥液化されてしまうことを見いだした。この場合、上記有機EL層上に更に別の材料からなる有機EL層の塗液を塗布したとしても、当該別の材料からなる有機EL層の塗液がはじかれてしまい、適切にパターニングされにくくなる。 For example, in order to appropriately pattern the organic EL layer in the pixel, first, a bank having an opening corresponding to the pixel is provided, and subsequently, a fluorine-containing gas is applied to the surface of the bank in order to increase patterning accuracy. After performing the plasma treatment used and further applying an organic EL layer to the opening of the bank and then subjecting it to a certain condition such as a drying step, depending on the condition, the fluorine on the surface of the bank may be the surface of the organic EL layer. And the surface of the organic EL layer was found to be liquid repellent. In this case, even if a coating liquid for an organic EL layer made of another material is applied onto the organic EL layer, the coating liquid for the organic EL layer made of the other material is repelled and is not easily patterned properly. Become.

また、本発明者は鋭意検討を行った結果、バンク内に一旦下層となる有機EL層を形成した後、次の有機EL層の形成工程に入る前に、有機EL層の表面に対し一定条件のリンス工程を行うことにより、有機EL層の表面のフッ素の含有量を低減させることができることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。 In addition, as a result of intensive studies, the inventor has formed a certain condition with respect to the surface of the organic EL layer after forming the lower organic EL layer in the bank and before entering the next organic EL layer forming step. It has been found that the fluorine content on the surface of the organic EL layer can be reduced by carrying out the rinsing step, and the inventors have conceived that the above problems can be solved brilliantly and have reached the present invention.

すなわち、本発明は、基板上に、第一電極、導電層、発光層及び第二電極を基板側からこの順に積層して有し、かつ導電層及び発光層の周囲を取り囲むバンクを有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、上記導電層の表面のフッ素原子の濃度は、X線光電子分光法で測定したときに、全元素量に対して6原子%以下である有機エレクトロルミネッセンス表示装置である。 In other words, the present invention provides an organic electroluminescent device having a first electrode, a conductive layer, a light emitting layer, and a second electrode laminated on a substrate in this order from the substrate side, and a bank surrounding the conductive layer and the light emitting layer. The luminescence display device is an organic electroluminescence display device in which the concentration of fluorine atoms on the surface of the conductive layer is 6 atomic% or less with respect to the total amount of elements as measured by X-ray photoelectron spectroscopy.

また、本発明は、基板上に、第一電極、導電層、発光層及び第二電極を基板側からこの順に積層して有し、かつ導電層及び発光層の周囲を取り囲むバンクを有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、上記製造方法は、第一電極の導電層側の表面を親液処理する工程と、フッ素含有ガスを用いたプラズマ処理により、バンクの表面を撥液処理する工程と、第一電極上に導電層を塗布する工程と、導電層の表面とバンクの表面とを、120℃以上の有機溶媒に浸漬処理する工程と、導電層上に発光層を塗布する工程とをこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法である。 Further, the present invention provides an organic electroluminescent device having a first electrode, a conductive layer, a light emitting layer, and a second electrode laminated on a substrate in this order from the substrate side, and a bank surrounding the conductive layer and the light emitting layer. A method of manufacturing a luminescence display device, wherein the manufacturing method performs a lyophilic process on a surface of a bank by a lyophilic process on a surface of a conductive layer side of a first electrode and a plasma process using a fluorine-containing gas. A step, a step of applying a conductive layer on the first electrode, a step of immersing the surface of the conductive layer and the surface of the bank in an organic solvent at 120 ° C. or higher, and a step of applying a light emitting layer on the conductive layer In this order.

本発明の有機EL表示装置、及び、本発明の有機EL表示装置の製造方法によって作製される有機EL表示装置は、基板上に、第一電極、導電層、発光層及び第二電極を基板側からこの順に積層して有し、かつ導電層及び発光層の周囲を取り囲むバンクを有する。上記第一電極及び上記第二電極は、一方が陽極となり、かつ他方が陰極となる。本発明の有機EL表示装置がボトムエミッション型である場合には、上記基板及び第一電極に透光性の材料が用いられ、トップエミッション型である場合には、上記第二電極に透光性の材料が用いられる。第一電極又は第二電極を通じて導電層、発光層等の各有機EL層に電流が流れることによって、発光層が光を放出し、画像表示が行われる。導電層は、発光層と比較して常温(25℃)での導電率が高いものであれば特に限定されず、一般には、バッファ層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層等と呼ばれることもある。導電層は、第一電極又は第二電極から受け取った正孔(ホール)又は電子を円滑に発光層に注入する機能や、基板面の凹凸を平坦化する機能を有する。発光層は、陽極から注入されたホールと陰極から注入された電子との再結合により発光を行う。 The organic EL display device of the present invention and the organic EL display device produced by the method of manufacturing the organic EL display device of the present invention have a first electrode, a conductive layer, a light emitting layer, and a second electrode on the substrate side. And a bank surrounding the periphery of the conductive layer and the light emitting layer. One of the first electrode and the second electrode is an anode and the other is a cathode. When the organic EL display device of the present invention is a bottom emission type, a translucent material is used for the substrate and the first electrode. When the organic EL display device is a top emission type, the second electrode is translucent. These materials are used. When a current flows through each organic EL layer such as a conductive layer and a light emitting layer through the first electrode or the second electrode, the light emitting layer emits light, and image display is performed. The conductive layer is not particularly limited as long as it has a higher electrical conductivity at room temperature (25 ° C.) than the light-emitting layer. Generally, a buffer layer, a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, Sometimes called an electron injection layer or the like. The conductive layer has a function of smoothly injecting holes or electrons received from the first electrode or the second electrode into the light emitting layer and a function of flattening the unevenness of the substrate surface. The light emitting layer emits light by recombination of holes injected from the anode and electrons injected from the cathode.

本発明の有機EL表示装置においては、上記導電層の表面のフッ素原子の濃度は、X線光電子分光法で測定したときに、全元素量に対して6原子%以下である。X線光電子分光法(XPS:X-ray Photoelectron Spectroscopy)は、Al、Mg等の特性X線をプローブとして試料に照射し、光電効果によって発生する光電子の運動エネルギーを測定することによって、試料表面の元素の定量分析(原子%,atomic%)、及び、その化学的結合状態を分析する方法である。 In the organic EL display device of the present invention, the concentration of fluorine atoms on the surface of the conductive layer is 6 atomic% or less with respect to the total amount of elements as measured by X-ray photoelectron spectroscopy. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is a technique for irradiating a sample with characteristic X-rays such as Al and Mg and measuring the kinetic energy of photoelectrons generated by the photoelectric effect. This is a method for quantitative analysis of elements (atomic%, atomic%) and analysis of their chemical bonding state.

導電層の表面のフッ素原子の濃度が、XPSで測定したときに全元素量に対して6原子%以下となっている場合には、有機材料である発光層の塗液を導電膜の表面に塗布したときに均一な層が得られやすい。これにより、例えば、発光層に穴ぬけが生じ、発光層上に形成される第二電極と導電層とが直接つながることによって発生するリーク不良の可能性を低減することができる。 When the concentration of fluorine atoms on the surface of the conductive layer is 6 atomic% or less with respect to the total amount of elements as measured by XPS, the coating solution for the light emitting layer, which is an organic material, is applied to the surface of the conductive film. When applied, it is easy to obtain a uniform layer. As a result, for example, holes in the light emitting layer are generated, and the possibility of a leak failure that occurs when the second electrode formed on the light emitting layer and the conductive layer are directly connected can be reduced.

本発明の有機EL表示装置の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素により特に限定されるものではない。 The configuration of the organic EL display device of the present invention is not particularly limited by other components as long as such components are formed as essential.

上記第一電極の表面は、親液処理されており、上記バンクの表面は、フッ素含有ガスを用いたプラズマ処理により、撥液処理されていることが好ましい。導電層の下層に位置する第一電極が親液性を有していることで、導電層の材料となる塗液は第一電極上になじみやすく、均一な層構成が得られることになる。また、バンクの表面が撥液性を有していることで、バンクの表面に導電層の材料となる塗液を残りにくくさせることができる。したがって、これらの処理を行うことで、導電層が適切にパターニングされやすくなる。 The surface of the first electrode is preferably subjected to lyophilic treatment, and the surface of the bank is preferably subjected to liquid repellent treatment by plasma treatment using a fluorine-containing gas. Since the 1st electrode located in the lower layer of a conductive layer has lyophilic property, the coating liquid used as the material of a conductive layer is easy to adjust on a 1st electrode, and a uniform layer structure is obtained. Further, since the surface of the bank has liquid repellency, it is possible to make it difficult for the coating liquid that becomes the material of the conductive layer to remain on the surface of the bank. Therefore, by performing these treatments, the conductive layer can be easily patterned appropriately.

本発明の有機EL表示装置の製造方法は、第一電極の表面を親液処理する工程と、フッ素含有ガスを用いたプラズマ処理により、バンクの表面を撥液処理する工程と、第一電極上に導電層を形成する工程と、導電層の表面とバンクの表面とを、120℃以上の有機溶媒に浸漬処理する工程と、導電層上に発光層を形成する工程とをこの順に有する。上述の本発明の好ましい形態で説明したように、第一電極の表面を親液処理し、バンクの表面を撥液処理することで、導電層が適切にパターニングされやすくなる。また、上記撥液処理としてプラズマ処理を用いることで、容易にバンクの表面を撥液処理することができる。 The method for producing an organic EL display device of the present invention includes a step of lyophilic treatment of the surface of the first electrode, a step of lyophobic treatment of the surface of the bank by plasma treatment using a fluorine-containing gas, A step of forming a conductive layer, a step of immersing the surface of the conductive layer and the surface of the bank in an organic solvent at 120 ° C. or higher, and a step of forming a light emitting layer on the conductive layer in this order. As described in the preferred embodiment of the present invention described above, the surface of the first electrode is subjected to a lyophilic process, and the surface of the bank is subjected to a liquid repellent process, whereby the conductive layer is easily patterned appropriately. Further, by using plasma treatment as the liquid repellent treatment, the surface of the bank can be easily liquid repellent treated.

本発明の有機EL表示装置の製造方法においては、導電層を形成する工程と、発光層を形成する工程との間に、導電膜の表面とバンクの表面とに対し、撥液性を低減させる処理がなされる。このとき、120℃以上の有機溶媒を用いることで、撥液性を充分に低減させることができるが、比較的低温(例えば、常温(25℃))の有機溶媒を用いた場合、充分な撥液性が得られない。 In the method for manufacturing an organic EL display device of the present invention, liquid repellency is reduced between the surface of the conductive film and the surface of the bank between the step of forming the conductive layer and the step of forming the light emitting layer. Processing is done. At this time, the liquid repellency can be sufficiently reduced by using an organic solvent at 120 ° C. or higher. However, when an organic solvent at a relatively low temperature (for example, room temperature (25 ° C.)) is used, sufficient liquid repellency is obtained. Liquid property is not obtained.

本発明の製造方法によれば、導電層の表面の撥液性が低減されるので、有機材料である発光層の塗液を導電膜の表面に塗布したときに均一な層が得られやすい。また、本発明の製造方法によれば、上述の、導電層の表面のフッ素原子の濃度が、XPSで測定したときに全元素量に対して6原子%以下である本発明の有機EL表示装置を容易に作製することができる。 According to the manufacturing method of the present invention, since the liquid repellency of the surface of the conductive layer is reduced, it is easy to obtain a uniform layer when the light emitting layer coating liquid, which is an organic material, is applied to the surface of the conductive film. Moreover, according to the manufacturing method of the present invention, the above-described organic EL display device according to the present invention in which the concentration of fluorine atoms on the surface of the conductive layer is 6 atomic% or less with respect to the total amount of elements when measured by XPS. Can be easily manufactured.

本発明の有機EL表示装置の製造方法の工程としては、このような製造工程を必須として形成されるものである限り、その他の製造工程により特に限定されるものではない。 As a process of the manufacturing method of the organic EL display device of the present invention, as long as such a manufacturing process is essential, it is not particularly limited by other manufacturing processes.

上記有機溶媒は、芳香族系溶媒であることが好ましい。芳香族系溶媒を浸漬処理の溶媒として用いることで、導電層の材料として好適な、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォン酸との混合体(PEDOT/PSS)を用いたときであっても、導電層を溶解させることなく、導電層の表面を撥液化することができる。 The organic solvent is preferably an aromatic solvent. Even when using a mixture of polyethylenedioxythiophene and polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) suitable as a material for the conductive layer by using an aromatic solvent as a solvent for the immersion treatment, the conductive layer The surface of the conductive layer can be made liquid repellent without dissolving.

上記有機溶媒は、炭化水素系溶媒であることが好ましい。炭化水素系溶媒を浸漬処理の溶媒として用いることで、導電層の材料として好適な、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォン酸との混合体(PEDOT/PSS)を用いたときであっても、導電層を溶解させることなく、導電層の表面を撥液化することができる。 The organic solvent is preferably a hydrocarbon solvent. Even when a mixture of polyethylenedioxythiophene and polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS), which is suitable as a material for the conductive layer, is used as a solvent for the immersion treatment by using a hydrocarbon solvent, the conductive layer The surface of the conductive layer can be made liquid repellent without dissolving.

本発明によれば、有機EL層を適切にパターニングするためにバンクの表面にプラズマ処理を行う場合であっても、有機EL層が適切にパターニングされた有機EL表示装置を得ることができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even when it is a case where a plasma process is performed to the surface of a bank in order to pattern an organic EL layer appropriately, the organic EL display device by which the organic EL layer was patterned appropriately can be obtained.

実施形態1の有機EL表示装置の断面模式図である。1 is a schematic cross-sectional view of an organic EL display device of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の有機EL表示装置の平面模式図である。1 is a schematic plan view of an organic EL display device according to Embodiment 1. FIG.

以下に実施形態を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。 Embodiments will be described below, and the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited only to these embodiments.

実施形態1
図1は、実施形態1の有機EL表示装置の断面模式図である。実施形態1の有機EL表示装置は、図1に示すように、基板1上に、陽極2、バッファ層4、発光層5及び陰極6を基板1側からこの順に積層して有する。また、基板1及び陽極2上に、バッファ層4及び発光層5の周囲を取り囲むようにしてバンク3が設けられている。バッファ層4は、いわゆる正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層等が該当し、これらは単層構造であっても積層構造であってもよい。
Embodiment 1
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the organic EL display device according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the organic EL display device according to Embodiment 1 has an anode 2, a buffer layer 4, a light emitting layer 5, and a cathode 6 laminated on a substrate 1 in this order from the substrate 1 side. A bank 3 is provided on the substrate 1 and the anode 2 so as to surround the periphery of the buffer layer 4 and the light emitting layer 5. The buffer layer 4 corresponds to a so-called hole transport layer, hole injection layer, electron transport layer, electron injection layer, and the like, and these may have a single layer structure or a stacked structure.

図2は、実施形態1の有機EL表示装置の平面模式図である。図2に示すように、バンク3には円形の開口部が設けられており、開口部内には発光層5が形成されている。また、図2に示すように、開口部は、縦方向及び横方向にそれぞれ行及び列をなして複数設けられている。実施形態1において開口部の形状は円形に限定されず、楕円形、小判形、矩形等であってもよい。開口部の直径は、例えば、100μmとすることができる。 FIG. 2 is a schematic plan view of the organic EL display device according to the first embodiment. As shown in FIG. 2, the bank 3 is provided with a circular opening, and a light emitting layer 5 is formed in the opening. Further, as shown in FIG. 2, a plurality of openings are provided in rows and columns in the vertical direction and the horizontal direction, respectively. In Embodiment 1, the shape of the opening is not limited to a circle, and may be an ellipse, an oval, a rectangle, or the like. The diameter of the opening can be set to 100 μm, for example.

以下に、実施形態1の有機EL表示装置の製造方法について詳述する。 Below, the manufacturing method of the organic electroluminescence display of Embodiment 1 is explained in full detail.

基板1は、例えば、ガラスや石英等の無機材料、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック、アルミナ等のセラミックスからなる絶縁性の基板を用いることができる。基板1上には、有機EL表示の駆動制御を行うための配線や薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)等のスイッチング素子が形成されていてもよい。 As the substrate 1, for example, an insulating substrate made of an inorganic material such as glass or quartz, a plastic such as polyethylene terephthalate, or a ceramic such as alumina can be used. On the substrate 1, wiring for performing drive control of organic EL display and switching elements such as thin film transistors (TFTs) may be formed.

陽極2を、画素ごとに複数形成する。陽極2の材料としては、例えば、インジウムスズ酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)等の透明性を有する金属酸化物を用いることができる。陽極2は、蒸着法、EB(Electron Beam Deposition:電子ビーム蒸着)法、MBE(Molecular Beam Epitaxy:分子線エピタキシー)法、スパッタ法、スピンコート法、印刷法、インクジェット法等を用いて形成することができる。 A plurality of anodes 2 are formed for each pixel. As a material of the anode 2, for example, a transparent metal oxide such as indium tin oxide (ITO) can be used. The anode 2 is formed using a vapor deposition method, an EB (Electron Beam Deposition) method, an MBE (Molecular Beam Epitaxy) method, a sputtering method, a spin coating method, a printing method, an inkjet method, or the like. Can do.

バンク3は、バッファ層4及び発光層5を画素ごとに区切る仕切りの役割を果たすものであり、例えば、ポリイミド等の有機材料からなる絶縁性材料を用いることができる。バンク3の形成は、フォトリソグラフィー法、印刷法等によって行うことができる。フォトリソグラフィー法を用いる場合、まず、スピンコート法等によってバンク3の材料を基板1及び陽極2上に塗布し、その上にレジスト層を塗布する。続いて、バンク3の形状に合わせてマスクを作製し、レジストを露光及び現像してバンク3の形状に合わせたレジストを残す。そして最後にエッチングを行い、レジスト下以外のバンク3の材料を除去する。こうして、部分的に開口部を有するバンク3を形成することができる。 The bank 3 plays a role of partitioning the buffer layer 4 and the light emitting layer 5 for each pixel. For example, an insulating material made of an organic material such as polyimide can be used. The bank 3 can be formed by a photolithography method, a printing method, or the like. When the photolithography method is used, first, the material of the bank 3 is applied on the substrate 1 and the anode 2 by a spin coating method or the like, and a resist layer is applied thereon. Subsequently, a mask is produced in accordance with the shape of the bank 3, and the resist is exposed and developed to leave a resist in accordance with the shape of the bank 3. Finally, etching is performed to remove the material of the bank 3 other than that under the resist. In this way, the bank 3 partially having an opening can be formed.

バンク3の開口部内にバッファ層4及び発光層5が形成される。バッファ層4及び発光層5を塗布する方法としては、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ノズルコート法、スリットコート法、ダイコート法等の湿布法、オフセット印刷、凹版印刷等の印刷法、レーザー転写法等の湿式塗布法が挙げられる。バッファ層4及び発光層5を形成するにあたっては、塗布工程の前にインクジェット法を用いる場合、吐出液が均一に濡れ広がるように、陽極2の表面に親液性を、バンク3の表面には撥液性を付与する。陽極2表面に親液性を付与する親液処理や、バンク3の表面に撥液性を付与する撥液処理は、それぞれの表面に対してプラズマ処理を行うことによって容易に付与され、そうすることで陽極材料及びバンク材料の選択の幅が広がる。 A buffer layer 4 and a light emitting layer 5 are formed in the opening of the bank 3. Examples of the method for applying the buffer layer 4 and the light emitting layer 5 include inkjet methods, spin coating methods, nozzle coating methods, slit coating methods, wet coating methods such as die coating methods, printing methods such as offset printing and intaglio printing, and laser transfer. Examples thereof include wet coating methods. When the buffer layer 4 and the light emitting layer 5 are formed, when an ink jet method is used before the coating process, the surface of the anode 3 is made lyophilic and the surface of the bank 3 is made so that the discharge liquid is uniformly spread. Provides liquid repellency. The lyophilic treatment for imparting lyophilicity to the surface of the anode 2 and the lyophobic treatment for imparting liquid repellency to the surface of the bank 3 are easily performed by performing plasma treatment on the respective surfaces. This expands the range of selection of anode materials and bank materials.

親液処理及び撥液処理の具体的な方法としては、酸素プラズマで処理した後、酸素とCF混合プラズマで処理することにより、陽極2の表面に対して親液性を、バンク3の表面に対して撥液性をそれぞれ付与する方法が挙げられる。 As a specific method of lyophilic treatment and lyophobic treatment, after treatment with oxygen plasma, treatment with oxygen and CF 4 mixed plasma makes the lyophilicity to the surface of the anode 2 the surface of the bank 3. And a method of imparting liquid repellency to each.

バッファ層(正孔注入/輸送層)4は、発光層5にホール、電子等のキャリアを注入する機能と、陽極2の表面荒れを吸収する機能とをもつ。バッファ層4の材料としては、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォン酸との混合体(PEDOT/PSS)(スタルクヴィテック社製、商品名:Baytron P CH8000)を用いることができ、塗布等の手段により常圧下で製膜することができる。具体的には、以下の材料組成を有する塗液をインクジェット法で塗布したのち、常温で真空乾燥して、膜厚60nmのバッファ層4を形成する。 The buffer layer (hole injection / transport layer) 4 has a function of injecting carriers such as holes and electrons into the light emitting layer 5 and a function of absorbing surface roughness of the anode 2. As a material of the buffer layer 4, a mixture of polyethylene dioxythiophene and polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) (manufactured by Starck Vitech, trade name: Baytron P CH8000) can be used. Films can be formed under normal pressure. Specifically, a coating liquid having the following material composition is applied by an inkjet method, and then vacuum-dried at room temperature to form a buffer layer 4 having a film thickness of 60 nm.

<バッファ層4材料組成>
Baytron P CH8000 1重量部
水 3重量部
エタノール 4重量部
エチレングリコール 2重量部
<Buffer layer 4 material composition>
Baytron P CH8000 1 part by weight Water 3 parts by weight Ethanol 4 parts by weight Ethylene glycol 2 parts by weight

続いて、バッファ層4を含む基板全体を120℃以上の有機溶媒に数分間浸漬するリンス工程を行う。ここでは、バッファ層4を溶解しない有機溶媒を使用する必要がある。バッファ層としてPEDOT/PSSを用いる場合、リンス工程に用いる有機溶媒としては、例えば、トルエン、アニソール、キシレン、テトラリン等の芳香族系溶媒、デカリン等の炭化水素系溶媒が挙げられる。 Subsequently, a rinsing process is performed in which the entire substrate including the buffer layer 4 is immersed in an organic solvent at 120 ° C. or higher for several minutes. Here, it is necessary to use an organic solvent that does not dissolve the buffer layer 4. When PEDOT / PSS is used as the buffer layer, examples of the organic solvent used in the rinsing step include aromatic solvents such as toluene, anisole, xylene, and tetralin, and hydrocarbon solvents such as decalin.

そして、バッファ層4を含む基板全体を有機溶媒から取り出し、風乾させた後、200℃の条件下で10分間の焼成を行う。これらの処理がなされた後のバッファ層4の表面のフッ素原子の濃度は、全元素量に対して6原子%以下となっている。もし上記リンス工程を行わない、又は、120℃未満のテトラリンを用いてリンス工程を行う場合、バッファ層4の表面のフッ素含有量が充分に低減されず、バッファ層4上に更に、他の成分で構成されるバッファ層、発光層5等を形成する場合に、塗液がはじかれてしまい、適切なパターニングを行うことが難しくなる。 And after taking out the whole board | substrate containing the buffer layer 4 from an organic solvent and air-drying, baking for 10 minutes is performed on 200 degreeC conditions. The concentration of fluorine atoms on the surface of the buffer layer 4 after these treatments is 6 atomic% or less with respect to the total amount of elements. If the rinsing step is not performed or the rinsing step is performed using tetralin at a temperature lower than 120 ° C., the fluorine content on the surface of the buffer layer 4 is not sufficiently reduced, and other components are further formed on the buffer layer 4. In the case of forming the buffer layer, the light emitting layer 5 and the like, the coating liquid is repelled, making it difficult to perform appropriate patterning.

発光層5は、高分子の有機EL発光材料で形成されており、キャリアの再結合により発光する。発光層5は、真空下で蒸着で製膜する方法、常圧下で塗布や印刷で製膜する方法等を用いて形成することができる。後者の、常圧下で塗布や印刷で製膜する方法を用いる場合、インクジェットによりパターニングする方法が好適である。発光層5の材料としては、例えば、以下のような化学式(1)で表されるポリフルオレン化合物を用いることができる。 The light emitting layer 5 is made of a polymer organic EL light emitting material and emits light by recombination of carriers. The light emitting layer 5 can be formed using a method of forming a film by vapor deposition under vacuum, a method of forming a film by coating or printing under normal pressure, and the like. When using the latter method of forming a film by coating or printing under normal pressure, a method of patterning by ink jet is preferable. As a material of the light emitting layer 5, for example, a polyfluorene compound represented by the following chemical formula (1) can be used.

Figure 2010192563
Figure 2010192563

上記式(1)で示す化合物は、アルキル鎖(R、R ’)を有するフルオレン環と、少なくとも1以上のユニット(A、A ’)との共重合化合物である。l、mは1以上の整数であり、nは0又は1以上の整数である。A、A ’のユニットとしては、ジメチルベンゼン、ピリジン、ベンゼン、アントラセン、スピロビフルオレン、カルバゾールユニット、ベンゾアミン、ビピリジン、ベンゾチアジアゾール等を用いることができる。化学式(1)で表されるポリフルオレン化合物の分子量は数十万であることが好ましく、発光する色は、共重合されるユニット、及び、l、m、nの比率によって異なる。 The compound represented by the above formula (1) is a copolymer compound of a fluorene ring having an alkyl chain (R, R ') and at least one or more units (A, A'). l and m are integers of 1 or more, and n is 0 or an integer of 1 or more. As the units of A and A ′, dimethylbenzene, pyridine, benzene, anthracene, spirobifluorene, carbazole unit, benzoamine, bipyridine, benzothiadiazole and the like can be used. The molecular weight of the polyfluorene compound represented by the chemical formula (1) is preferably several hundreds of thousands, and the color of light emission varies depending on the unit to be copolymerized and the ratio of l, m, and n.

発光層5の材料組成は、以下に示すとおりである。下記の材料組成を有する塗液をインクジェット法で塗布したのち、窒素雰囲気下で200℃で60分焼成して膜厚80nmの発光層を形成する。 The material composition of the light emitting layer 5 is as shown below. A coating liquid having the following material composition is applied by an inkjet method, and then baked at 200 ° C. for 60 minutes in a nitrogen atmosphere to form a light-emitting layer having a thickness of 80 nm.

<発光層5の材料組成>
緑色発光高分子発光材料(化合物1) 1重量部
キシレン 60重量部
テトラリン 60重量部
<Material composition of the light emitting layer 5>
Green light emitting polymer light emitting material (Compound 1) 1 part by weight xylene 60 parts by weight tetralin 60 parts by weight

陰極6は、発光層5及びバンク3上に形成される電極であり、仕事関数が低い材料により形成された低仕事関数層と、比較的に化学的耐久性の強い金属層との積層(例えば、Ca/Al、Ce/Al、Cs/Al、Ba/Al等)により構成されている。陰極6は、蒸着法、EB法、MBE法、スパッタ法、スピンコート法、印刷法、インクジェット法等を用いて形成することができる。 The cathode 6 is an electrode formed on the light emitting layer 5 and the bank 3, and is a stack of a low work function layer formed of a material having a low work function and a metal layer having a relatively strong chemical durability (for example, Ca / Al, Ce / Al, Cs / Al, Ba / Al, etc.). The cathode 6 can be formed by using a vapor deposition method, an EB method, an MBE method, a sputtering method, a spin coating method, a printing method, an ink jet method, or the like.

そして最後に、窒素等の不活性ガス雰囲気下でガラスキャップ等で封止して、有機ELディスプレイが完成する。 Finally, the organic EL display is completed by sealing with a glass cap or the like in an inert gas atmosphere such as nitrogen.

実施形態1においては、一対の電極のうち、基板1により近い第一電極として透光性を有する材料が用いられ、基板1からより遠い第二電極として遮光性を有する材料が用いられたボトムエミッション型の有機EL表示装置について説明したが、本発明においては、これらがそれぞれ逆に配置された、すなわち、第一電極として遮光性を有する材料が用いられ、第二電極として透光性を有する材料が用いられたトップエミッション型の有機EL表示装置としてもよい。 In the first embodiment, a bottom emission in which a light-transmitting material is used as the first electrode closer to the substrate 1 and a light-shielding material is used as the second electrode farther from the substrate 1 in the pair of electrodes. The organic EL display device of the type has been described. In the present invention, these are arranged in reverse, that is, a light-shielding material is used as the first electrode, and a light-transmitting material is used as the second electrode. It is good also as a top emission type organic EL display device in which is used.

評価試験
本発明の有機EL表示装置の製造方法を用いて実際に実施例1〜3、及び、比較例1〜3の有機EL表示装置を作製し、各有機EL表示装置について評価試験を行った。
Evaluation Test The organic EL display devices of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were actually produced using the method for manufacturing an organic EL display device of the present invention, and an evaluation test was performed on each organic EL display device. .

実施例1では、バッファ層の表面のフッ素含有量を低減するためのリンス工程として、バッファ層を含む基板全体を150℃に加熱したテトラリンに5分間浸漬した。そして、バッファ層の表面のフッ素含有量をXPS(日本電子社製、商品名:JPS9200)で測定したところ、全元素量に対して3原子%であった。また、これらの処理を行った後に、バッファ層上に発光層の塗液をインクジェット法で吐出したところ、バッファ層上に発光層の塗液を画素内で均一に広げることができた。更に、実施例1の有機EL表示装置を用いて実際に点灯試験を行ったところ、画素内が均一に発光した。 In Example 1, as a rinsing process for reducing the fluorine content on the surface of the buffer layer, the entire substrate including the buffer layer was immersed in tetralin heated to 150 ° C. for 5 minutes. And when the fluorine content of the surface of a buffer layer was measured by XPS (The JEOL Co., Ltd. make, brand name: JPS9200), it was 3 atomic% with respect to the total element amount. In addition, after performing these treatments, when the light emitting layer coating liquid was ejected onto the buffer layer by an inkjet method, the light emitting layer coating liquid could be uniformly spread on the buffer layer within the pixel. Furthermore, when the lighting test was actually performed using the organic EL display device of Example 1, the inside of the pixels emitted light uniformly.

実施例2では、バッファ層の表面のフッ素含有量を低減するためのリンス工程として、バッファ層を含む基板全体を120℃に加熱したテトラリンに5分間浸漬した。その結果、バッファ層の表面のフッ素含有量をXPS(日本電子社製、商品名:JPS9200)で測定したところ、全元素量に対して6原子%であった。また、これらの処理を行った後に、バッファ層上に発光層の塗液をインクジェット法で吐出したところ、バッファ層上に発光層の塗液を画素内で均一に広げることができた。更に、実施例2の有機EL表示装置を用いて実際に点灯試験を行ったところ、画素内が均一に発光した。 In Example 2, as a rinsing step for reducing the fluorine content on the surface of the buffer layer, the entire substrate including the buffer layer was immersed in tetralin heated to 120 ° C. for 5 minutes. As a result, when the fluorine content on the surface of the buffer layer was measured by XPS (trade name: JPS9200, manufactured by JEOL Ltd.), it was 6 atomic% with respect to the total amount of elements. In addition, after performing these treatments, when the light emitting layer coating liquid was ejected onto the buffer layer by an inkjet method, the light emitting layer coating liquid could be uniformly spread on the buffer layer within the pixel. Furthermore, when the lighting test was actually performed using the organic EL display device of Example 2, the inside of the pixels emitted light uniformly.

実施例3では、バッファ層の表面のフッ素含有量を低減するためのリンス工程として、バッファ層を含む基板全体を150℃に加熱したデカリンに5分間浸漬した。その結果、バッファ層の表面のフッ素含有量をXPS(日本電子社製、商品名:JPS9200)で測定したところ、全元素量に対して2原子%であった。また、これらの処理を行った後に、バッファ層上に発光層の塗液をインクジェット法で吐出したところ、バッファ層上に発光層の塗液を画素内で均一に広げることができた。更に、実施例3の有機EL表示装置を用いて実際に点灯試験を行ったところ、画素内が均一に発光した。 In Example 3, as a rinsing process for reducing the fluorine content on the surface of the buffer layer, the entire substrate including the buffer layer was immersed in decalin heated to 150 ° C. for 5 minutes. As a result, when the fluorine content on the surface of the buffer layer was measured by XPS (trade name: JPS9200, manufactured by JEOL Ltd.), it was 2 atomic% with respect to the total element amount. In addition, after performing these treatments, when the light emitting layer coating liquid was ejected onto the buffer layer by an inkjet method, the light emitting layer coating liquid could be uniformly spread on the buffer layer within the pixel. Further, when the lighting test was actually performed using the organic EL display device of Example 3, the inside of the pixels emitted light uniformly.

比較例1では、バッファ層の表面のフッ素含有量を低減するためのリンス工程として、バッファ層を含む基板全体を100℃に加熱したテトラリンに5分間浸漬した。その結果、バッファ層の表面のフッ素含有量をXPS(日本電子社製、商品名:JPS9200)で測定したところ、全元素量に対して10原子%であった。また、これらの処理を行った後に、バッファ層上に発光層の塗液をインクジェット法で吐出したところ、一部バッファ層の表面が露出した部位が生じた。更に、比較例1の有機EL表示装置を用いて実際に点灯試験を行ったところ、画素内が点灯しなかった。これは、画素内の一部に、比較的抵抗の低いバッファ層と、陰極とが接触する部分が生じ、リーク電流を生じさせてしまったためと考えられる。 In Comparative Example 1, as a rinsing step for reducing the fluorine content on the surface of the buffer layer, the entire substrate including the buffer layer was immersed in tetralin heated to 100 ° C. for 5 minutes. As a result, the fluorine content on the surface of the buffer layer was measured by XPS (trade name: JPS9200, manufactured by JEOL Ltd.) and found to be 10 atomic% with respect to the total amount of elements. In addition, after performing these treatments, when the coating liquid for the light emitting layer was ejected onto the buffer layer by the ink jet method, a part of the surface of the buffer layer was exposed. Furthermore, when the lighting test was actually performed using the organic EL display device of Comparative Example 1, the inside of the pixel did not light. This is presumably because a portion where the buffer layer having a relatively low resistance and the cathode are in contact with each other is generated in a part of the pixel, thereby causing a leakage current.

比較例2では、バッファ層の表面のフッ素含有量を低減するためのリンス工程として、バッファ層を含む基板全体を25℃に加熱したテトラリンに5分間浸漬した。その結果、バッファ層の表面のフッ素含有量をXPS(日本電子社製、商品名:JPS9200)で測定したところ、全元素量に対して14原子%であった。また、これらの処理を行った後に、バッファ層上に発光層の塗液をインクジェット法で吐出したところ、一部バッファ層の表面が露出した部位が生じた。更に、比較例2の有機EL表示装置を用いて実際に点灯試験を行ったところ、画素内が点灯しなかった。これは、画素内の一部に、比較的抵抗の低いバッファ層と、陰極とが接触する部分が生じ、リーク電流を生じさせてしまったためと考えられる。 In Comparative Example 2, as a rinsing step for reducing the fluorine content on the surface of the buffer layer, the entire substrate including the buffer layer was immersed in tetralin heated to 25 ° C. for 5 minutes. As a result, the fluorine content on the surface of the buffer layer was measured by XPS (trade name: JPS9200, manufactured by JEOL Ltd.) and found to be 14 atomic% with respect to the total amount of elements. In addition, after performing these treatments, when the coating liquid for the light emitting layer was ejected onto the buffer layer by the ink jet method, a part of the surface of the buffer layer was exposed. Furthermore, when the lighting test was actually performed using the organic EL display device of Comparative Example 2, the inside of the pixel did not light. This is presumably because a portion where the buffer layer having a relatively low resistance and the cathode are in contact with each other is generated in a part of the pixel, thereby causing a leakage current.

比較例3では、バッファ層の表面のフッ素含有量を低減するためのリンス工程を行わなかった。その結果、バッファ層の表面のフッ素含有量をXPS(日本電子社製、商品名:JPS9200)で測定したところ、全元素量に対して15原子%であった。また、これらの処理を行った後に、バッファ層上に発光層の塗液をインクジェット法で吐出したところ、一部バッファ層の表面が露出した部位が生じた。更に、比較例3の有機EL表示装置を用いて実際に点灯試験を行ったところ、画素内が点灯しなかった。これは、画素内の一部に、比較的抵抗の低いバッファ層と、陰極とが接触する部分が生じ、リーク電流を生じさせてしまったためと考えられる。 In Comparative Example 3, the rinsing process for reducing the fluorine content on the surface of the buffer layer was not performed. As a result, the fluorine content on the surface of the buffer layer was measured by XPS (trade name: JPS9200, manufactured by JEOL Ltd.) and found to be 15 atomic% with respect to the total amount of elements. In addition, after performing these treatments, when the coating liquid for the light emitting layer was ejected onto the buffer layer by the ink jet method, a part of the surface of the buffer layer was exposed. Furthermore, when the lighting test was actually performed using the organic EL display device of Comparative Example 3, the inside of the pixel did not light. This is presumably because a portion where the buffer layer having a relatively low resistance and the cathode are in contact with each other is generated in a part of the pixel, thereby causing a leakage current.

1:基板
2:陽極(第一電極)
3:バンク
4:バッファ層(導電層)
5:発光層
6:陰極(第二電極)
1: Substrate 2: Anode (first electrode)
3: Bank 4: Buffer layer (conductive layer)
5: Light emitting layer 6: Cathode (second electrode)

Claims (5)

基板上に、第一電極、導電層、発光層及び第二電極を基板側からこの順に積層して有し、かつ導電層及び発光層の周囲を取り囲むバンクを有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
該導電層の表面のフッ素原子の濃度は、X線光電子分光法で測定したときに、全元素量に対して6原子%以下である
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
An organic electroluminescence display device having a first electrode, a conductive layer, a light emitting layer, and a second electrode laminated on a substrate in this order from the substrate side, and having a bank surrounding the conductive layer and the light emitting layer. ,
An organic electroluminescence display device, wherein the concentration of fluorine atoms on the surface of the conductive layer is 6 atomic% or less with respect to the total amount of elements as measured by X-ray photoelectron spectroscopy.
前記第一電極の表面は、親液処理されており、
前記バンクの表面は、フッ素含有ガスを用いたプラズマ処理により、撥液処理されている
ことを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
The surface of the first electrode is lyophilic treated,
The organic electroluminescence display device according to claim 1, wherein the surface of the bank is subjected to a liquid repellent treatment by a plasma treatment using a fluorine-containing gas.
基板上に、第一電極、導電層、発光層及び第二電極を基板側からこの順に積層して有し、かつ導電層及び発光層の周囲を取り囲むバンクを有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
該製造方法は、第一電極の導電層側の表面を親液処理する工程と、
フッ素含有ガスを用いたプラズマ処理により、バンクの表面を撥液処理する工程と、
第一電極上に導電層を塗布する工程と、
導電層の表面とバンクの表面とを、120℃以上の有機溶媒に浸漬処理する工程と、
導電層上に発光層を塗布する工程とをこの順に有する
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
A method for manufacturing an organic electroluminescence display device, comprising: a first electrode, a conductive layer, a light emitting layer, and a second electrode laminated on a substrate in this order from the substrate side; and a bank surrounding the conductive layer and the light emitting layer. Because
The manufacturing method includes a step of lyophilic treatment of the surface of the first electrode on the conductive layer side;
A step of performing a liquid repellent treatment on the surface of the bank by a plasma treatment using a fluorine-containing gas;
Applying a conductive layer on the first electrode;
A step of immersing the surface of the conductive layer and the surface of the bank in an organic solvent at 120 ° C. or higher;
And a step of coating a light emitting layer on the conductive layer in this order.
前記有機溶媒は、芳香族系溶媒であることを特徴とする請求項3記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 4. The method of manufacturing an organic electroluminescence display device according to claim 3, wherein the organic solvent is an aromatic solvent. 前記有機溶媒は、炭化水素系溶媒であることを特徴とする請求項3記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 4. The method of manufacturing an organic electroluminescence display device according to claim 3, wherein the organic solvent is a hydrocarbon solvent.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012212828A (en) * 2011-03-31 2012-11-01 Japan Aviation Electronics Industry Ltd Electrode antioxidation organic device and manufacturing method therefor

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