JP2010186747A - 電子放出顕微分光撮像での非点収差を補正するための方法 - Google Patents
電子放出顕微分光撮像での非点収差を補正するための方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本方法は、・撮像されるべき対象とする構造を含む試料の表面上に参照構造(100b)を形成するステップと、・二次電子を用いておよび内殻準位光電子を用いて顕微分光装置によって参照構造を撮像するステップと、・二次電子を用いるおよび内殻準位光電子を用いる参照構造の撮像中に現れる非点収差欠陥を除去するステップとを含み、参照構造の材料は、内殻準位光電子撮像中に、参照構造の材料の平均強度Iaと試料の材料の平均強度Ibとの間のコントラストCが、
であるように選択される。
【選択図】図4
Description
− 撮像されるべき対象とする構造を含む試料の表面上に参照構造を形成するステップであって、互いに垂直で試料の表面に平行な面内にある2つの軸に沿う、参照構造の外側輪郭の寸法は、実質的に同様であるステップと、
− 二次電子を用いておよび内殻準位光電子を用いて顕微分光装置によって参照構造を撮像するステップと、
− 二次電子を用いるおよび内殻準位光電子を用いる参照構造の撮像中に現れる非点収差欠陥を除去するステップとを含み、
参照構造の材料は、内殻準位光電子を用いる観察中に、参照構造の材料の平均強度Iaと試料の材料の平均強度Ibとの間のコントラストCが、
3 対象とする構造
10 顕微分光装置の電子光学カラム
12 エネルギー源
14 対物レンズ
16 コントラスト開口
18 偏向器/スティグマトール
20 領域選択隔膜
22 投影レンズ
24 投影レンズ
26 検出器
28 MCP(マイクロチャンネルプレート)
30 蛍光画面
32 CCDカメラ
34 画像遅延フィルター
100a 参照構造
100b 参照構造
102 ブロック、第1の材料部分
104 リング、第2の材料部分
106 試料1の表面の部分
Claims (15)
- 電子放出顕微分光装置の電子光学カラム(10)の非点収差を補正するための方法において、
撮像されるべき対象とする構造(3)を含む試料(1)の表面上に参照構造(100a、100b)を形成するステップであって、互いに垂直で前記試料(1)の前記表面に平行な面内にある2つの軸に沿う、前記参照構造(100a、100b)の外側輪郭の寸法は、実質的に同様であるステップと、
二次電子を用いておよび内殻準位光電子を用いて前記顕微分光装置によって前記参照構造(100a、100b)を撮像するステップと、
二次電子を用いるおよび内殻準位光電子を用いる前記参照構造(100a、100b)の撮像中に現れる非点収差欠陥を除去するステップとを含み、
前記参照構造(100a、100b)の材料は、内殻準位光電子撮像中に、前記参照構造(100a、100b)の前記材料の平均強度Iaと前記試料(1)の材料の平均強度Ibとの間のコントラストCが、
- 前記参照構造(100b)は、異なる大きさで非ゼロの距離だけ互いに分離された同心状パターンを形成する前記参照構造(100b)の前記材料の複数の部分(102、104)を含む、請求項1に記載の非点収差を補正するための方法。
- 前記参照構造(100b)の材料部分(102、104)の外側輪郭は、前記参照構造(100b)の中心の周りで互いに相似でありかつ/または360°延びる、請求項2に記載の非点収差を補正するための方法。
- 前記参照構造(100b)の前記材料部分(102、104)の前記パターンは、互いの中に配置される幾何学的パターンを含むか、または格子もしくはらせんパターンを含む、請求項2または3の一項に記載の非点収差を補正するための方法。
- 前記参照構造(100b)の前記材料部分(104)の前記パターンは、リングを含む、請求項2から4の一項に記載の非点収差を補正するための方法。
- 前記参照構造(100b)の前記材料部分(102、104)間の距離および/または前記参照構造(100b)の前記材料部分(102、104)の幅は、前記対象とする構造(3)の観察中の前記顕微分光装置の最良の空間分解能の約2倍以上である、請求項2から5の一項に記載の非点収差を補正するための方法。
- 前記参照構造(100a、100b)の前記外側輪郭の前記寸法は、前記顕微分光装置の視野の大きさの少なくとも約1/25に等しい、請求項1から6の一項に記載の非点収差を補正するための方法。
- 前記参照構造(100a、100b)の前記材料の仕事関数と前記試料(1)の前記材料の仕事関数との間の差は、約0.2eV以上でありかつ/または、前記参照構造(100a、100b)および前記試料(1)の前記材料が少なくとも1つの同じ元素に基づくとき、前記参照構造(100a、100b)の前記材料内の前記元素の濃度は、前記試料(1)の前記材料内のこの成分の濃度とは異なりかつ/または、前記参照構造(100a、100b)および前記試料(1)の前記材料が同じ性質であるとき、前記材料は異なってドープされる、請求項1から7の一項に記載の非点収差を補正するための方法。
- 前記参照構造(100a、100b)の前記材料の少なくとも1つの構成元素の内殻準位光電子の断面積は、約0.1Mbarn以上である、請求項1から8の一項に記載の非点収差を補正するための方法。
- 前記参照構造(100a、100b)の前記材料の構成元素の少なくとも1つを撮像するために使用される前記内殻準位光電子の運動エネルギーは、約1000eV未満である、請求項1から9の一項に記載の非点収差を補正するための方法。
- 前記参照構造(100a、100b)の前記形成は、前記対象とする構造(3)から約100μmより大きい距離における前記試料(1)上への前記参照構造(100a、100b)の前記材料の局所的堆積の少なくとも1つのステップ、および前記堆積材料を機械加工し、前記参照構造(100a、100b)を形成するステップを含む、請求項1から10の一項に記載の非点収差を補正するための方法。
- 前記参照構造(100a、100b)の前記材料は、約15nmと200nmとの間の実質的に一様な厚さで堆積され、および/または前記機械加工は、前記堆積材料の厚さ内で約1nmまたは2nmよりも大きい深さで行われる、請求項11に記載の非点収差を補正するための方法。
- 内殻準位光電子を用いて前記顕微分光装置によって前記参照構造(100a、100b)を撮像するステップ、次いで前記参照構造(100a、100b)の前記内殻準位光電子撮像中に現れる非点収差欠陥を除去するステップの実施より前に、二次電子を用いて前記顕微分光装置によって前記参照構造(100a、100b)を撮像するステップ、次いで前記参照構造(100a、100b)の前記二次電子撮像中に現れる非点収差欠陥を除去するステップを含む、請求項1から12の一項に記載の非点収差を補正するための方法。
- 二次電子を用いるまたは内殻準位光電子を用いる前記参照構造(100a、100b)の撮像中に現れる非点収差欠陥の除去は、前記カラム(10)のスティグマトール(18)の軸の制御電圧の調節によって、次いで前記顕微分光装置の合焦電圧の調節によって行われる、請求項1から13の一項に記載の非点収差を補正するための方法。
- 請求項1から14の一項に記載の非点収差を補正するための方法の実施、ならびに二次電子を用いておよび/または内殻準位光電子を用いて前記対象とする構造(3)を撮像する1つまたは複数のステップを含む、電子放出顕微分光撮像の方法。
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