JP2010175598A - Photomask, method for manufacturing color filter, color filter, and liquid crystal display device - Google Patents
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Description
本発明は、マルチギャップを採用した液晶表示装置用のカラーフィルタの製造に関するものであり、特に、各色着色画素間で膜厚に差のあるカラーフィルタの透明導電膜上に、ポジ型フォトレジストを用いて近接露光にて配向制御突起を形成しても、各色着色画素上の配向制御突起間で高さ及び幅にバラツキが少ないカラーフィルタの製造を可能とするフォトマスク、カラーフィルタの製造方法、並びに、カラーフィルタに関する。 The present invention relates to the manufacture of a color filter for a liquid crystal display device employing a multi-gap, and in particular, a positive photoresist is formed on a transparent conductive film of a color filter having a difference in film thickness between colored pixels. A photomask that can produce a color filter with little variation in height and width between the orientation control protrusions on each color-colored pixel even if the alignment control protrusion is formed by proximity exposure, and a method for manufacturing the color filter. In addition, the present invention relates to a color filter.
液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上のブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を形成するといった方法が広く用いられている。 As a method of manufacturing a color filter used in a liquid crystal display device, first, a black matrix is formed on a glass substrate, and then a colored pixel is aligned with the black matrix pattern on the glass substrate on which the black matrix is formed. And a method of forming a transparent conductive film is widely used.
ブラックマトリックスは遮光性を有し、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。このブラックマトリックスの形成は、例えば、黒色フォトレジストを用いたフォトリソグラフィ法によって形成するといった方法がとられている。 The black matrix has a light-shielding property, determines the position of the colored pixels of the color filter, makes the size uniform, and shields unwanted light when used in a display device. It has a function of making a uniform image with no unevenness and improved contrast. For example, the black matrix is formed by a photolithography method using a black photoresist.
また、着色画素は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、顔料などの色素を分散させたネガ型フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜の形成は、ブラックマトリックス及び着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
The colored pixels have, for example, red, green, and blue filter functions, and a negative photoresist coating film in which pigments and other pigments are dispersed on a glass substrate on which the black matrix is formed. And a method of forming colored pixels by exposing and developing the coating film is employed.
The transparent conductive film is formed on a glass substrate on which a black matrix and colored pixels are formed by, for example, forming a transparent conductive film by sputtering using ITO (Indium Tin Oxide).
上記方法により製造されたカラーフィルタは、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。多様な液晶表示装置の実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して、例えば、１）保護層（オーバーコート層）、２）スペーサー機能を有するフォトスペーサー（突起部）、３）液晶の配向を制御する配向制御突起、４）透過表示の領域と反射表示の領域を通過する光の位相を揃えるための光路差調整層、５）反射表示の領域への光散乱層、などの種々な機能がカラーフィルタの用途、仕様にもとづき付加されるようになった。 The color filter manufactured by the above method has a basic function as a color filter used in a liquid crystal display device. With the practical use of various liquid crystal display devices, the color filters used in the liquid crystal display devices have, for example, 1) a protective layer (overcoat layer) and 2) a photomask having a spacer function in addition to the above basic functions. Spacer (protrusion part), 3) alignment control protrusion for controlling the alignment of liquid crystal, 4) optical path difference adjusting layer for aligning the phase of light passing through the transmissive display area and the reflective display area, and 5) reflective display area Various functions such as a light scattering layer are added based on the use and specifications of the color filter.
さて、液晶表示装置に電圧を印加した際に、液晶表示装置の正面、斜めにおける電圧／透過率曲線の、赤色、緑色、青色間の差を小さくし、液晶表示装置の視認性を向上させるために、赤色画素、緑色画素、青色画素の各々画素部分のセルギャップを青色画素、緑色画素、赤色画素の順に大きくする、所謂、マルチギャップが採用されている。
このマルチギャップを採用した液晶表示装置においては、３色画素間でセルギャップの大きな赤色画素のセルギャップと、小さな青色画素のセルギャップの差を、例えば、０．６〜１．２μｍ程度のものとしている。
Now, when a voltage is applied to the liquid crystal display device, the difference between red, green, and blue in the voltage / transmittance curve at the front and oblique sides of the liquid crystal display device is reduced, and the visibility of the liquid crystal display device is improved. In addition, a so-called multi-gap is adopted in which the cell gap of each pixel portion of the red pixel, the green pixel, and the blue pixel is increased in the order of the blue pixel, the green pixel, and the red pixel.
In the liquid crystal display device employing this multi-gap, the difference between the cell gap of the red pixel having a large cell gap and the cell gap of the small blue pixel among the three color pixels is, for example, about 0.6 to 1.2 μm It is said.
このセルギャップの差をカラーフィルタ側に設けるとすると、例えば、カラーフィルタの着色画素の膜厚を、赤色着色画素、緑色着色画素、青色着色画素の順に厚くする手法が容易に考えられる。
図１は、セルギャップの差をカラーフィルタ側に設けた液晶表示装置の一例を模式的に示す断面図である。図１に示すカラーフィルタ（２０）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、赤色着色画素（４２Ｒ）、緑色着色画素（４２Ｇ）、青色着色画素（４２Ｂ）、及び透明導電膜（４３）が形成されたものである。
If this cell gap difference is provided on the color filter side, for example, a method of increasing the thickness of the colored pixels of the color filter in the order of red colored pixels, green colored pixels, and blue colored pixels can be easily considered.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a liquid crystal display device in which a difference in cell gap is provided on the color filter side. A color filter (20) shown in FIG. 1 includes a black matrix (41), a red colored pixel (42R), a green colored pixel (42G), a blue colored pixel (42B), and a transparent conductive film (40) on a glass substrate (40). 43) is formed.
図１に示すように、液晶表示装置を構成するカラーフィルタ（２０）と対向基板（３０）との間のセルギャップにて、青色着色画素のセルギャップ（Ｇｐ−Ｂ）、緑色着色画素のセルギャップ（Ｇｐ−Ｇ）、赤色着色画素のセルギャップ（Ｇｐ−Ｒ）を、（Ｇｐ−Ｂ）＜（Ｇｐ−Ｇ）＜（Ｇｐ−Ｒ）の順に大きくするために、カラーフィルタ側にて、カラーフィルタの赤色着色画素の膜厚（ｔＲ）、緑色着色画素の膜厚（ｔＧ）、青色着色画素の膜厚（ｔＢ）を、（ｔＲ）＜（ｔＧ）＜（ｔＢ）の順に厚くしたものである。 As shown in FIG. 1, in the cell gap between the color filter (20) and the counter substrate (30) constituting the liquid crystal display device, the cell gap (Gp-B) of the blue colored pixel, the cell of the green colored pixel In order to increase the gap (Gp-G) and the cell gap (Gp-R) of the red colored pixel in the order of (Gp-B) <(Gp-G) <(Gp-R), on the color filter side, Thickness (tR) of red colored pixels, thickness (tG) of green colored pixels, and thickness (tB) of blue colored pixels of the color filter are increased in the order of (tR) <(tG) <(tB). It is.
このように、着色画素の膜厚を、（ｔＲ）＜（ｔＧ）＜（ｔＢ）の順に厚く形成することは、例えば、各色着色画素の形成に用いる着色フォトレジストの組成を調整することによって、着色画素の膜厚を、（ｔＲ）＜（ｔＧ）＜（ｔＢ）の順に厚く設けても、各々の着色画素が、適切な色度を有する着色画素として機能させることは可能である。 In this way, the thickness of the colored pixels is formed to be thicker in the order of (tR) <(tG) <(tB), for example, by adjusting the composition of the colored photoresist used for forming each colored pixel. Even if the thickness of the colored pixels is increased in the order of (tR) <(tG) <(tB), each colored pixel can function as a colored pixel having appropriate chromaticity.
しかし、このような、着色画素の膜厚を、（ｔＲ）＜（ｔＧ）＜（ｔＢ）の順に厚く設けたカラーフィルタに、前記液晶の配向を制御する配向制御突起を付加した際には、各色着色画素上に形成される配向制御突起（Ｍｖ）の高さ及び幅に差異が生じる。この配向制御突起（Ｍｖ）の高さ及び幅の差異は、液晶の配向を制御する機能に差が生じ、応答速度、コントラスト、透過率などが各色着色画素で異なったものとなるといった問題が発生する。 However, when an alignment control protrusion for controlling the alignment of the liquid crystal is added to the color filter in which the thickness of the colored pixel is provided in the order of (tR) <(tG) <(tB), Differences occur in the height and width of the alignment control protrusions (Mv) formed on the colored pixels. The difference in height and width of the alignment control protrusion (Mv) causes a difference in the function of controlling the alignment of the liquid crystal, resulting in a problem that the response speed, contrast, transmittance, etc. are different for each colored pixel. To do.
図２は、図１に示すカラーフィルタ（２０）に配向制御突起（Ｍｖ）を形成する方法の一例を示す断面図である。図２に示すように、ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたガラス基板（４０）上にフォトレジスト層（６０）が設けられている。図２は、配向制御突起（Ｍｖ）を形成するフォトレジストとして、ポジ型フォトレジストが用いられた例である。配向制御突起（Ｍｖ）の形成には、要求される断面形状及び電気特性の点からポジ型フォトレジストが広く用いられている。 FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a method for forming alignment control protrusions (Mv) on the color filter (20) shown in FIG. As shown in FIG. 2, a photoresist layer (60) is provided on a glass substrate (40) on which a black matrix (41), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) are sequentially formed. . FIG. 2 shows an example in which a positive photoresist is used as the photoresist for forming the alignment control protrusion (Mv). For the formation of the alignment control protrusion (Mv), a positive photoresist is widely used in view of the required cross-sectional shape and electrical characteristics.
図２中、フォトレジスト層（６０）の上方には近接露光のギャップ（Ｇ）を設けてフォトマスク（ＰＭ）が、その膜面（３１）をフォトレジスト層（６０）に対向させて配置されている。図２に示すように、このフォトマスク（ＰＭ）には、配向制御突起（Ｍｖ）の形成に対応した遮光部（３２）が設けられ、遮光部（３２）以外の部分は透光部（３３）となっている。 In FIG. 2, a gap (G) for proximity exposure is provided above the photoresist layer (60), and a photomask (PM) is disposed with its film surface (31) facing the photoresist layer (60). ing. As shown in FIG. 2, the photomask (PM) is provided with a light shielding portion (32) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv), and the portion other than the light shielding portion (32) is a light transmitting portion (33). ).
図２に示すように、配向制御突起形成用のフォトレジスト層（６０）にフォトマスク（ＰＭ）を介した露光（Ｅ）、現像処理を行って、配向制御突起（Ｍｖ）を形成する。図２においては、既に現像処理が完了し、配向制御突起（Ｍｖ）が形成された状態のものを点線で示してある。 As shown in FIG. 2, the alignment control protrusion (Mv) is formed by performing exposure (E) and development processing through a photomask (PM) on the photoresist layer (60) for forming the alignment control protrusion. In FIG. 2, a state in which the development processing has already been completed and the alignment control protrusion (Mv) is formed is indicated by a dotted line.
透明導電膜（４３）上に設けられたフォトレジスト層（６０）の厚さは、青色着色画素（４２Ｂ）上の厚さ（Ｈ−Ｂ）、緑色着色画素（４２Ｇ）上の厚さ（Ｈ−Ｇ）、赤色着色画素（４２Ｒ）上の厚さ（Ｈ−Ｒ）の順に厚いものとなっている。（（Ｈ−Ｂ）＜（Ｈ−Ｇ）＜（Ｈ−Ｒ））。
これは、フォトレジストは塗布した段階で、或いは、塗布した直後の延展により、着色画素の高さの差に追従するような膜厚になる性向を有するためである。
The thickness of the photoresist layer (60) provided on the transparent conductive film (43) is the thickness (H-B) on the blue colored pixel (42B) and the thickness (H on the green colored pixel (42G)). -G), and the thickness (HR) on the red colored pixel (42R) increases in order. ((H-B) <(HG) <(HR)).
This is because the photoresist has a tendency to become a film thickness that follows the difference in the height of the colored pixels at the stage of application or by spreading immediately after application.
図３は、現像処理が完了し、配向制御突起（Ｍｖ）が形成された状態の断面図である。図３に示すように、青色着色画素（４２Ｂ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｂ）の高さ（ｈＢ）、緑色着色画素（４２Ｇ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｇ）の高さ（ｈＧ）、赤色着色画素（４２Ｒ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ）の高さ（ｈＲ）は、（ｈＢ）＜（ｈＧ）＜（ｈＲ）の順に高いものとなっている。
また、青色着色画素（４２Ｂ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｂ）の幅（ｗＢ）、緑色着色画素（４２Ｇ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｇ）の幅（ｗＧ）、赤色着色画素（４２Ｒ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ）の幅（ｗＲ）は、（ｗＢ）＜（ｗＧ）＜（ｗＲ）の順に大きなものとなっている。
FIG. 3 is a cross-sectional view of the state in which the development processing is completed and the orientation control protrusion (Mv) is formed. As shown in FIG. 3, the height (hB) of the alignment control protrusion (Mv-B) formed on the blue colored pixel (42B) and the alignment control protrusion (Mv−) formed on the green colored pixel (42G). The height (hG) of the G) and the height (hR) of the alignment control protrusion (Mv-R) formed on the red colored pixel (42R) are in the order of (hB) <(hG) <(hR). It has become a thing.
Further, the width (wB) of the alignment control protrusion (Mv-B) formed on the blue colored pixel (42B) and the width (wG) of the alignment control protrusion (Mv-G) formed on the green colored pixel (42G). ), The width (wR) of the alignment control protrusion (Mv-R) formed on the red colored pixel (42R) increases in the order of (wB) <(wG) <(wR).
一方、図４は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、透明導電膜（４３）が順次に形成された、該透明導電膜（４３）上に配向制御突起及びフォトスペーサーが形成されたカラーフィルタの一例の平面図である。図４は、カラーフィルタの一画素を拡大し模式的に示したものである。また、図５は、図４におけるＤ−Ｄ線での断面を更に拡大して示した断面図である。このカラーフィルタ（２１）の着色画素の膜厚は、図１〜図３に示すカラーフィルタ（２０、２０’）と異なり、マルチギャップ用のカラーフィルタではなく、青色着色画素、緑色着色画素、赤色着色画素の各々の膜厚（ｔ）が同一である。３色の着色画素を総称して着色画素（４２）で表している。 On the other hand, FIG. 4 shows an alignment control protrusion on the transparent conductive film (43) in which a black matrix (41), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) are sequentially formed on the glass substrate (40). FIG. 6 is a plan view of an example of a color filter in which a photo spacer is formed. FIG. 4 is an enlarged schematic view of one pixel of the color filter. FIG. 5 is a cross-sectional view further enlarging the cross section taken along line DD in FIG. Unlike the color filters (20, 20 ′) shown in FIGS. 1 to 3, the color filter (21) has a color pixel film thickness that is not a multi-gap color filter, but a blue color pixel, a green color pixel, and a red color. The thickness (t) of each colored pixel is the same. The colored pixels of the three colors are collectively referred to as a colored pixel (42).
図４、及び図５に示すように、この一例に示すカラーフィルタは、図４中、Ｘ軸及びＹ軸方向に設けられたブラックマトリックス（４１）の交点の上方にフォトスペーサー（Ｐｓ）が形成されている。また、配向制御突起（Ｍｖ）は、平面視でストライプ状であり画素内で屈曲して形成されている。
液晶表示装置を構成する基板間の間隔を設定するフォトスペーサー（Ｐｓ）の高さ（ｈ１２）は、２〜４μｍ程度であり、液晶の配向を制御する配向制御突起（Ｍｖ）の高さ（ｈ１１）は、０．８〜１．４μｍ程度である。フォトスペーサー（Ｐｓ）の高さ（ｈ１２）と、配向制御突起（Ｍｖ）の高さ（ｈ１１）は、ｈ１２＞ｈ１１の関係にある。
As shown in FIGS. 4 and 5, the color filter shown in this example has a photo spacer (Ps) formed above the intersection of the black matrix (41) provided in the X-axis and Y-axis directions in FIG. Has been. In addition, the alignment control protrusion (Mv) is formed in a stripe shape in a plan view and bent in the pixel.
The height (h12) of the photo spacer (Ps) that sets the interval between the substrates constituting the liquid crystal display device is about 2 to 4 μm, and the height (h11) of the alignment control protrusion (Mv) that controls the alignment of the liquid crystal. ) Is about 0.8 to 1.4 μm. The height (h12) of the photo spacer (Ps) and the height (h11) of the orientation control protrusion (Mv) are in a relationship of h12> h11.
図６（ａ）は、配向制御突起（Ｍｖ）及びフォトスペーサー（Ｐｓ）を、同一のフォトレジストを用い、１工程で同時に形成する方法の一例を示す断面図である。図６（ａ）は、配向制御突起（Ｍｖ）に要求される断面形状及び電気特性を優先し、同一のフォトレジストとしてポジ型フォトレジストを用いたものである。図６（ａ）に示すように、ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたガラス基板（４０）上にポジ型フォトレジストを用いたフォトレジスト層（６０−２）が設けられている。 FIG. 6A is a cross-sectional view showing an example of a method in which the alignment control protrusion (Mv) and the photospacer (Ps) are simultaneously formed in one process using the same photoresist. FIG. 6A gives priority to the cross-sectional shape and electrical characteristics required for the alignment control protrusion (Mv) and uses a positive photoresist as the same photoresist. As shown in FIG. 6A, a photo resist using a positive photoresist on a glass substrate (40) on which a black matrix (41), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) are sequentially formed. A resist layer (60-2) is provided.
図６（ａ）中、フォトレジスト層（６０−２）の上方には近接露光のギャップ（Ｇ）を設けてフォトマスク（ＰＭ２）が、その膜面をフォトレジスト層（６０−２）に対向させて配置されている。このフォトマスク（ＰＭ２）には、フォトスペーサー（Ｐｓ）の形成に対応した遮光部（３２）と、配向制御突起（Ｍｖ）の形成に対応した半透光部（３４）が設けられている。遮光部（３２）及び半透光部（３４）以外の部分は、透光部（３３）である。 In FIG. 6A, a proximity exposure gap (G) is provided above the photoresist layer (60-2), and the photomask (PM2) faces the photoresist layer (60-2). Are arranged. The photomask (PM2) is provided with a light shielding portion (32) corresponding to the formation of the photo spacer (Ps) and a semi-transparent portion (34) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv). The part other than the light shielding part (32) and the semi-translucent part (34) is the translucent part (33).
図６（ａ）に示すように、フォトレジスト層（６０−２）にフォトマスク（ＰＭ２）を介した露光（Ｅ）、現像処理を行って、フォトスペーサー（Ｐｓ）より高さの低い配向制御突起（Ｍｖ）をフォトスペーサー（Ｐｓ）の形成と同時に形成する。
図６（ａ）においては、既に現像処理が完了し、形成された状態の配向制御突起（Ｍｖ）及びフォトスペーサー（Ｐｓ）を点線で示してある。
図６（ｂ）は、現像処理後の段階での配向制御突起（Ｍｖ）及びフォトスペーサー（Ｐｓ）の断面図である。フォトスペーサー（Ｐｓ）の高さ（ｈ４）より高さの低い（ｈ３）配
向制御突起（Ｍｖ）が形成されている。
As shown in FIG. 6A, the photoresist layer (60-2) is exposed (E) and developed through a photomask (PM2), and the orientation control is lower than the photospacer (Ps). The protrusion (Mv) is formed simultaneously with the formation of the photospacer (Ps).
In FIG. 6A, the alignment control protrusion (Mv) and the photospacer (Ps) in a state where the development process has already been completed and formed are indicated by dotted lines.
FIG. 6B is a cross-sectional view of the alignment control protrusion (Mv) and the photospacer (Ps) at the stage after the development processing. An orientation control protrusion (Mv) having a height (h3) lower than the height (h4) of the photospacer (Ps) is formed.
ところで、図７は、図４に示す配向制御突起（Ｍｖ）及びフォトスペーサー（Ｐｓ）が形成されたカラーフィルタの他の例の平面図であるが、図４、５に示すカラーフィルタ（２１）と異なり、前記図１、２に示す、着色画素の膜厚を、（ｔＲ）＜（ｔＧ）＜（ｔＢ）の順に厚く設けたカラーフィルタ（２０）の透明導電膜（４３）上に、配向制御突起（Ｍｖ）とフォトスペーサー（Ｐｓ）が形成されたカラーフィルタ（２２）である。
また、図８（ａ）は、図７のＡ−Ａ線での断面を更に拡大した断面図、図８（ｂ）は、図７のＢ−Ｂ線での断面を更に拡大した断面図、また、図８（ｃ）は、図７のＣ−Ｃ線での断面を更に拡大した断面図である。
FIG. 7 is a plan view of another example of the color filter in which the alignment control protrusion (Mv) and the photo spacer (Ps) shown in FIG. 4 are formed, but the color filter (21) shown in FIGS. 1 and 2, the colored pixel film thickness is aligned on the transparent conductive film (43) of the color filter (20) provided in the order of (tR) <(tG) <(tB). This is a color filter (22) in which a control protrusion (Mv) and a photospacer (Ps) are formed.
8A is a cross-sectional view further enlarging the cross section taken along the line AA of FIG. 7, and FIG. 8B is a cross-sectional view further enlarging the cross section taken along the line BB of FIG. FIG. 8C is a cross-sectional view further enlarging the cross section taken along the line CC in FIG.
図７、８に示すように、このカラーフィルタ（２２）は、赤色着色画素（４２Ｒ）、緑色着色画素（４２Ｇ）、青色着色画素（４２Ｂ）が図７中、Ｘ軸方向に隣接して設けられており、赤色着色画素（４２Ｒ）、緑色着色画素（４２Ｇ）、青色着色画素（４２Ｂ）の膜厚は、赤色着色画素（４２Ｒ）、緑色着色画素（４２Ｇ）、青色着色画素（４２Ｂ）の順に厚く設けられている（ｔＲ＜ｔＧ＜ｔＢ）。また、図７中、Ｘ軸及びＹ軸方向に設けられたブラックマトリックス（４１）の各交点の上方にフォトスペーサー（Ｐｓ）が設けられている。 As shown in FIGS. 7 and 8, this color filter (22) is provided with red colored pixels (42R), green colored pixels (42G), and blue colored pixels (42B) adjacent to each other in the X-axis direction in FIG. The film thickness of the red colored pixel (42R), the green colored pixel (42G), and the blue colored pixel (42B) is the same as that of the red colored pixel (42R), the green colored pixel (42G), and the blue colored pixel (42B). The thicknesses are increased in order (tR <tG <tB). In FIG. 7, a photo spacer (Ps) is provided above each intersection of the black matrix (41) provided in the X-axis and Y-axis directions.
このようなカラーフィルタ（２２）の、配向制御突起（Ｍｖ）及びフォトスペーサー（Ｐｓ）を、前記図６（ａ）に示すような手法、すなわち、フォトスペーサー（Ｐｓ）の形成に対応した遮光部（３２）と、配向制御突起（Ｍｖ）形成に対応した半透光部（３４）が設けられフォトマスクを同一のポジ型フォトレジストを塗膜とし、１工程で同時に形成すると、着色画素の膜厚が、赤色着色画素（４２Ｒ）、緑色着色画素（４２Ｇ）、青色着色画素（４２Ｂ）の順に厚く設けられているので（ｔＲ＜ｔＧ＜ｔＢ）、前記図１〜図３に示す手法と同様に、配向制御突起（Ｍｖ）の高さ及び幅に差異が生じ、これによる液晶の配向を制御する機能に差が生じ、応答速度、コントラスト、透過率などが各色着色画素で異なったものとなるといった問題が発生する。 In such a color filter (22), the alignment control protrusion (Mv) and the photospacer (Ps) are formed by using the method shown in FIG. 6A, that is, the light shielding portion corresponding to the formation of the photospacer (Ps). (32) and a semi-transparent portion (34) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv), and the photomask is formed of the same positive type photoresist as a coating film, and simultaneously formed in one step, a colored pixel film Since the thickness is provided in the order of the red colored pixel (42R), the green colored pixel (42G), and the blue colored pixel (42B) (tR <tG <tB), it is the same as the method shown in FIGS. In addition, the height and width of the alignment control protrusion (Mv) are different, resulting in a difference in the function of controlling the alignment of the liquid crystal, and the response speed, contrast, transmittance, etc. are different for each colored pixel. such as Problem occurs.
図８（ａ）〜（ｃ）に示すように、ポジ型フォトレジスト層（６０−２）が、青色着色画素（４２Ｂ）上、緑色着色画素（４２Ｇ）上、赤色着色画素（４２Ｒ）上の順に厚く塗布されているので、得られる配向制御突起（（Ｍｖ−Ｂ２）、（Ｍｖ−Ｇ２）、（Ｍｖ−Ｒ２））は、青色着色画素（４２Ｂ）上、緑色着色画素（４２Ｇ）上、赤色着色画素（４２Ｒ）上の順に高いものとなり（（ｈＢ−２）＜（ｈＧ−２）＜（ｈＲ−２））、また、その幅は、この順に大きなものとなる（（ｗＢ−２）＜（ｗＧ−２）＜（ｗＲ−２））。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、透明導電膜（４３）が設けられた、該透明導電膜（４３）上に配向制御突起が設けられたカラーフィルタの製造において、着色画素が、赤色着色画素、緑色着色画素、青色着色画素間で膜厚に差のあるマルチギャップを採用した液晶表示装置用のカラーフィルタであって、配向制御突起の形成にポジ型フォトレジストを用い、近接露光にて露光を与えても、青色着色画素上、緑色着色画素上、
赤色着色画素上に形成される配向制御突起間で配向制御突起の高さ及び幅のバラツキが発生することのないカラーフィルタの製造を可能とするフォトマスクを提供することを課題とするものである。
また、上記フォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法、並びに、カラーフィルタを提供することを課題とする。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems. The transparent substrate is provided with a black matrix (41), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) on a glass substrate (40). In manufacturing a color filter having alignment control protrusions on the conductive film (43), a liquid crystal display in which the colored pixels employ a multi-gap having a difference in film thickness among the red colored pixels, the green colored pixels, and the blue colored pixels A color filter for an apparatus, using a positive photoresist for forming alignment control protrusions, and even when exposed by proximity exposure, on blue colored pixels, on green colored pixels,
It is an object of the present invention to provide a photomask capable of manufacturing a color filter that does not cause variations in the height and width of alignment control protrusions between alignment control protrusions formed on red colored pixels. .
It is another object of the present invention to provide a color filter manufacturing method using the photomask and a color filter.
また、本発明は、前記透明導電膜（４３）上に配向制御突起及びフォトスペーサーが設けられたカラーフィルタの製造において、着色画素が、赤色着色画素、緑色着色画素、青色着色画素間で膜厚に差のあるマルチギャップを採用した液晶表示装置用のカラーフィルタであって、配向制御突起の及びフォトスペーサー形成にポジ型フォトレジストを用い、フォトスペーサーの形成に対応した遮光部と、配向制御突起形成に対応した半透光部が設けられフォトマスクを介した近接露光にて露光を与えても、青色着色画素上、緑色着色画素上、赤色着色画素上に形成される配向制御突起間で配向制御突起の高さ及び幅のバラツキが発生することのないカラーフィルタの製造を可能とするフォトマスクを提供することを課題とするものである。
また、上記フォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法、並びに、カラーフィルタを提供することを課題とする。
In the present invention, in the manufacture of a color filter in which an alignment control protrusion and a photospacer are provided on the transparent conductive film (43), the color pixel has a thickness between a red color pixel, a green color pixel, and a blue color pixel. A color filter for a liquid crystal display device adopting a multi-gap having a difference in the difference, using a positive photoresist for forming the alignment control protrusion and the photo spacer, and a light shielding portion corresponding to the formation of the photo spacer, and the alignment control protrusion Even if exposure is performed by proximity exposure through a photomask provided with a semi-transparent portion corresponding to the formation, alignment is performed between alignment control protrusions formed on blue colored pixels, green colored pixels, and red colored pixels. It is an object of the present invention to provide a photomask capable of manufacturing a color filter that does not cause variations in the height and width of control protrusions.
It is another object of the present invention to provide a color filter manufacturing method using the photomask and a color filter.
本発明は、膜厚に差のある複数色の着色画素上に、ポジ型フォトレジストを用い、近接露光により配向制御突起を形成する際に使用するフォトマスクにおいて、
１）前記フォトマスク上の、該配向制御突起の形成に対応したパターンは微細遮光膜（グレートーン部）であり、該微細遮光膜（グレートーン部）はストライプ状遮光膜の幅方向中央部にストライプ状透光スリットが設けられており、
２）前記複数色の着色画素の膜厚が、赤色着色画素、緑色着色画素、青色着色画素の順に厚いとき、
ａ）赤色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状遮光膜の幅（ａＲ）、緑色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状遮光膜の幅（ａＧ）、青色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状遮光膜の幅（ａＢ）を同一寸法とし、
ｂ）赤色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状透光スリットの幅（ｂＲ）、緑色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状透光スリットの幅（ｂＧ）、青色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状透光スリットの幅（ｂＢ）を、幅（ｂＢ）、幅（ｂＧ）、幅（ｂＲ）の順に大きい寸法とすることを特徴とするフォトマスクである。
The present invention relates to a photomask used when forming alignment control protrusions by proximity exposure using a positive photoresist on a plurality of colored pixels having different film thicknesses.
1) A pattern corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the photomask is a fine light-shielding film (gray tone part), and the fine light-shielding film (gray tone part) is formed at the center in the width direction of the stripe-like light shielding film. Striped translucent slits are provided,
2) When the thickness of the colored pixels of the plurality of colors is thicker in the order of red colored pixels, green colored pixels, and blue colored pixels,
a) The width (aR) of the stripe-shaped light shielding film of the fine light shielding film (gray tone portion) corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the red colored pixel, and the fine light shielding film corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the green colored pixel The width (aG) of the stripe-shaped light-shielding film of (gray-tone portion) and the width (aB) of the stripe-shaped light-shielding film of the fine light-shielding film (gray-tone portion) corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the blue colored pixel are the same size. age,
b) The width (bR) of the stripe-shaped light transmitting slit of the fine light shielding film (gray tone portion) corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the red colored pixel, and the fine light shielding corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the green colored pixel. Width (bG) of stripe-shaped light transmitting slit of film (gray tone portion), width (bB) of stripe-shaped light transmitting slit of fine light shielding film (gray tone portion) corresponding to formation of alignment control protrusion on blue colored pixel The photomask is characterized in that the size is made larger in the order of width (bB), width (bG), and width (bR).
また、本発明は、上記発明によるフォトマスクにおいて、前記ストライプ状遮光膜の幅の同一寸法が８〜１３μｍ、ストライプ状透光スリットの幅が１．５〜３．５μｍであることを特徴とするフォトマスクである。 In the photomask according to the present invention, the stripe-shaped light-shielding film has the same width of 8 to 13 μm and the stripe-shaped light transmitting slit has a width of 1.5 to 3.5 μm. It is a photomask.
また、本発明は、ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、膜厚に差のある複数色の着色画素、透明導電膜が形成され、該透明導電膜上に配向制御突起を形成するカラーフィルタの製造方法において、
１）前記ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、膜厚に差のある複数色の着色画素を順次に形成する工程、
２）該ブラックマトリックス、膜厚に差のある複数色の着色画素が形成されたガラス基板上の全面に透明導電膜を形成する工程、
３）該透明導電膜が形成されたガラス基板上に、ポジ型フォトレジストの塗膜を設け、フ
ォトマスクを介した近接露光による露光及び現像処理により配向制御突起を形成する工程を具備し、
前記フォトマスクとして請求項１又は請求項２記載のフォトマスクを用い、配向制御突起を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
Further, the present invention provides a method for producing a color filter, wherein at least a black matrix, a plurality of colored pixels having different film thicknesses and a transparent conductive film are formed on a glass substrate, and an alignment control protrusion is formed on the transparent conductive film. In
1) a step of sequentially forming at least a black matrix and a plurality of colored pixels having different film thicknesses on the glass substrate;
2) a step of forming a transparent conductive film on the entire surface of the glass substrate on which the black matrix and colored pixels having a plurality of colors having different thicknesses are formed;
3) A step of providing a positive photoresist coating film on the glass substrate on which the transparent conductive film is formed, and forming alignment control protrusions by exposure and development processing by proximity exposure through a photomask,
A color filter manufacturing method using the photomask according to
また、本発明は、請求項３記載のカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とするカラーフィルタである。
Moreover, the present invention is a color filter manufactured using the method for manufacturing a color filter according to
また、本発明は、膜厚に差のある複数色の着色画素上に、ポジ型フォトレジストを用い、近接露光により配向制御突起及びフォトスペーサーを形成する際に使用するフォトマスクにおいて、
１）前記フォトマスク上の、該フォトスペーサーの形成に対応したパターンは遮光膜であり、
２）前記フォトマスク上の、該配向制御突起の形成に対応したパターンは微細遮光膜（グレートーン部）であり、該微細遮光膜（グレートーン部）はストライプ状遮光膜の幅方向中央部にストライプ状透光スリットが設けられており、
３）前記複数色の着色画素の膜厚が、赤色着色画素、緑色着色画素、青色着色画素の順に厚いとき、
ａ）赤色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状遮光膜の幅（ａＲ）、緑色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状遮光膜の幅（ａＧ）、青色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状遮光膜の幅（ａＢ）を同一寸法とし、
ｂ）赤色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状透光スリットの幅（ｂＲ）、緑色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状透光スリットの幅（ｂＧ）、青色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状透光スリットの幅（ｂＢ）を、幅（ｂＢ）、幅（ｂＧ）、幅（ｂＲ）の順に大きい寸法とすることを特徴とするフォトマスクである。
Further, the present invention provides a photomask used for forming alignment control protrusions and photospacers by proximity exposure on a plurality of colored pixels having a difference in film thickness, using proximity exposure,
1) The pattern corresponding to the formation of the photo spacer on the photo mask is a light shielding film,
2) A pattern corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the photomask is a fine light-shielding film (gray tone part), and the fine light-shielding film (gray tone part) is formed at the center in the width direction of the stripe-like light shielding film. Striped translucent slits are provided,
3) When the thickness of the colored pixels of the plurality of colors is thicker in the order of red colored pixels, green colored pixels, and blue colored pixels,
a) The width (aR) of the stripe-shaped light shielding film of the fine light shielding film (gray tone portion) corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the red colored pixel, and the fine light shielding film corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the green colored pixel The width (aG) of the stripe-shaped light-shielding film of (gray-tone portion) and the width (aB) of the stripe-shaped light-shielding film of the fine light-shielding film (gray-tone portion) corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the blue colored pixel are the same dimension. age,
b) The width (bR) of the stripe-shaped light transmitting slit of the fine light shielding film (gray tone portion) corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the red colored pixel, and the fine light shielding corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the green colored pixel. Width (bG) of stripe-shaped light transmitting slit of film (gray tone portion), width (bB) of stripe-shaped light transmitting slit of fine light shielding film (gray tone portion) corresponding to formation of alignment control protrusion on blue colored pixel The photomask is characterized in that the size is made larger in the order of width (bB), width (bG), and width (bR).
また、本発明は、上記発明によるフォトマスクにおいて、前記ストライプ状遮光膜の幅の同一寸法が８〜１３μｍ、ストライプ状透光スリットの幅が１．５〜３．５μｍであることを特徴とするフォトマスクである。 In the photomask according to the present invention, the stripe-shaped light-shielding film has the same width of 8 to 13 μm and the stripe-shaped light transmitting slit has a width of 1.5 to 3.5 μm. It is a photomask.
また、本発明は、ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、膜厚に差のある複数色の着色画素、透明導電膜が形成され、該透明導電膜上に配向制御突起及びフォトスペーサーを形成するカラーフィルタの製造方法において、
１）前記ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、膜厚に差のある複数色の着色画素を順次に形成する工程、
２）該ブラックマトリックス、膜厚に差のある複数色の着色画素が形成されたガラス基板上の全面に透明導電膜を形成する工程、
３）該透明導電膜が形成されたガラス基板上に、ポジ型フォトレジストの塗膜を設け、フォトマスクを介した近接露光による露光及び現像処理により配向制御突起及びフォトスペーサーを形成する工程を具備し、
前記フォトマスクとして請求項５又は請求項６記載のフォトマスクを用い、配向制御突起及びフォトスペーサーを同時に形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
The present invention also provides a color filter in which at least a black matrix, a plurality of colored pixels having different film thicknesses and a transparent conductive film are formed on a glass substrate, and an alignment control protrusion and a photospacer are formed on the transparent conductive film. In the manufacturing method of
1) a step of sequentially forming at least a black matrix and a plurality of colored pixels having different film thicknesses on the glass substrate;
2) a step of forming a transparent conductive film on the entire surface of the glass substrate on which the black matrix and colored pixels having a plurality of colors having different thicknesses are formed;
3) A step of providing a positive photoresist coating film on the glass substrate on which the transparent conductive film is formed, and forming alignment control protrusions and a photo spacer by exposure and development processing by proximity exposure through a photomask. And
A method for producing a color filter, wherein the photomask according to claim 5 or 6 is used as the photomask, and the alignment control protrusion and the photospacer are formed simultaneously.
また、本発明は、請求項７記載のカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とするカラーフィルタである。 In addition, the present invention is a color filter manufactured using the method for manufacturing a color filter according to claim 7.
また、本発明は、請求項８記載のカラーフィルタを用いて製造したことを特徴とする液晶表示装置である。 The present invention also provides a liquid crystal display device manufactured using the color filter according to claim 8.
本発明は、膜厚に差のある複数色の着色画素上に、ポジ型フォトレジストを用い、近接露光により配向制御突起を形成する際に使用するフォトマスクにおいて、１）該配向制御突起の形成に対応したパターンは微細遮光膜（グレートーン部）であり、該微細遮光膜（グレートーン部）はストライプ状遮光膜の幅方向中央部にストライプ状透光スリットが設けられており、２）前記複数色の着色画素の膜厚が、赤色着色画素、緑色着色画素、青色着色画素の順に厚いとき微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状遮光膜の幅（ａＲ）、幅（ａＧ）、幅（ａＢ）を同一寸法とし、３）微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状透光スリットの幅（ｂＲ）、幅（ｂＧ）、幅（ｂＢ）を、幅（ｂＢ）、幅（ｂＧ）、幅（ｂＲ）の順に大きい寸法とするので、配向制御突起の形成にポジ型フォトレジストを用い、近接露光にて露光を与えても、赤色着色画素上、緑色着色画素上、青色着色画素上に形成される配向制御突起間で配向制御突起の高さ及び幅のバラツキを発生させないフォトマスクとなる。 The present invention relates to a photomask used for forming an alignment control protrusion on a plurality of colored pixels having different film thicknesses by using a positive photoresist and forming the alignment control protrusion by proximity exposure. 1) Formation of the alignment control protrusion The pattern corresponding to is a fine light-shielding film (gray tone part), and the fine light-shielding film (gray tone part) is provided with a stripe-shaped light transmitting slit at the center in the width direction of the stripe-like light shielding film. The width (aR), width (aG), and width of the stripe-shaped light-shielding film of the fine light-shielding film (gray-tone portion) when the film thickness of the colored pixels of the plurality of colors is thicker in the order of red colored pixels, green colored pixels, and blue colored pixels 3) The width (bR), the width (bG), and the width (bB) of the stripe-shaped light transmitting slit of the fine light-shielding film (gray tone portion) are set to the width (bB) and the width (bG). , Width (bR) in descending order Therefore, even if a positive photoresist is used to form the alignment control protrusions and exposure is performed by proximity exposure, the alignment control protrusions formed on the red colored pixels, the green colored pixels, and the blue colored pixels are formed. A photomask that does not cause variations in the height and width of the alignment control protrusions is obtained.
また、本発明は、上記フォトマスクにおいて、前記ストライプ状遮光膜の幅の同一寸法が９〜１３μｍ、ストライプ状透光スリットの幅が１．５〜１．９μｍであるので、高さ０．８〜１．４μｍ程度の配向制御突起を具備するカラーフィルタの製造を可能とするフォトマスクとなる。
また、本発明は、上記フォトマスクを用いてカラーフィルタを製造するので、ポジ型フォトレジストを用いても、配向制御突起の高さ及び幅のバラツキが大きくなることのないカラーフィルタの製造が可能となる。
また、これにより、フォトマスクは廉価なものとなり、また、廉価に、また工期を短縮しカラーフィルタを提供することが可能となる。
In the photomask according to the present invention, since the stripe-shaped light shielding film has the same width of 9 to 13 μm and the stripe-shaped light transmitting slit has a width of 1.5 to 1.9 μm, the height is 0.8. It becomes a photomask which enables manufacture of a color filter having an alignment control protrusion of about ~ 1.4 μm.
In addition, since the present invention manufactures a color filter using the above-described photomask, it is possible to manufacture a color filter that does not increase variations in the height and width of the alignment control protrusion even when a positive photoresist is used. It becomes.
As a result, the photomask is inexpensive, and it is possible to provide a color filter at a low cost and with a shortened construction period.
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図９は、本発明によるカラーフィルタの一例を示す平面図である。また、図１０（ａ）は、図９のＡ−Ａ線での断面を更に拡大した断面図、図１０（ｂ）は、図９のＢ−Ｂ線での断面を更に拡大した断面図、また、図１０（ｃ）は、図９のＣ−Ｃ線での断面を更に拡大した断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
FIG. 9 is a plan view showing an example of the color filter according to the present invention. 10A is a cross-sectional view further enlarging the cross section taken along the line AA in FIG. 9, and FIG. 10B is a cross-sectional view further enlarging the cross section taken along the line BB in FIG. Moreover, FIG.10 (c) is sectional drawing which expanded further the cross section in the CC line | wire of FIG.
図９及び図１０に示すように、このカラーフィルタ（２３）は、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、透明導電膜（４３）が設けられた、該透明導電膜（４３）上にストライプ状の配向制御突起が設けられたカラーフィルタであり、その着色画素は、赤色着色画素（４２Ｒ）、緑色着色画素（４２Ｇ）、青色着色画素（４２Ｂ）間で膜厚に差のあるマルチギャップを採用した液晶表示装置用のカラーフィルタである。 As shown in FIGS. 9 and 10, the color filter (23) includes a black matrix (41), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) provided on a glass substrate (40). The color filter is provided with stripe-shaped alignment control protrusions on the transparent conductive film (43), and the colored pixels are between the red colored pixel (42R), the green colored pixel (42G), and the blue colored pixel (42B). This is a color filter for a liquid crystal display device employing a multi-gap having a difference in film thickness.
このカラーフィルタ（２３）は、赤色着色画素（４２Ｒ）、緑色着色画素（４２Ｇ）、青色着色画素（４２Ｂ）が図９中、Ｘ軸方向に隣接して設けられており、赤色着色画素（４２Ｒ）、緑色着色画素（４２Ｇ）、青色着色画素（４２Ｂ）の膜厚は、赤色着色画素の膜厚（ｔＲ）、緑色着色画素の膜厚（ｔＧ）、青色着色画素の膜厚（ｔＢ）の順に厚く設けられている（ｔＲ＜ｔＧ＜ｔＢ）。 In this color filter (23), a red colored pixel (42R), a green colored pixel (42G), and a blue colored pixel (42B) are provided adjacent to each other in the X-axis direction in FIG. ), The green color pixel (42G), and the blue color pixel (42B) have the film thickness of the red color pixel (tR), the green color pixel (tG), and the blue color pixel (tB). The thicknesses are increased in order (tR <tG <tB).
本発明によるカラーフィルタ（２３）の配向制御突起は、着色画素の膜厚を、膜厚（ｔＲ）、膜厚（ｔＧ）、膜厚（ｔＢ）の順に厚く設けた着色画素上に、透明導電膜（４３）
を介してポジ型フォトレジストを用い、近接露光にて青色着色画素上、緑色着色画素上、赤色着色画素上に形成された配向制御突起（（Ｍｖ−Ｂ３）、（Ｍｖ−Ｇ３）、（Ｍｖ−Ｒ３））であるが、配向制御突起間での配向制御突起の高さの差は僅少なものとなっている（（ｈＢ−３）≒（ｈＧ−３）≒（ｈＲ−３））。また、配向制御突起間での配向制御突起の幅の差は僅少なものとなっている（（ｗＢ−３）≒（ｗＧ−３）≒（ｗＲ−３））。
The alignment control protrusion of the color filter (23) according to the present invention is a transparent conductive film on a colored pixel in which the thickness of the colored pixel is increased in the order of film thickness (tR), film thickness (tG), and film thickness (tB). Membrane (43)
The alignment control protrusions ((Mv-B3), (Mv-G3), (Mv) formed on the blue color pixel, the green color pixel, and the red color pixel by proximity exposure using a positive photoresist via −R3)), but the difference in height of the alignment control protrusions between the alignment control protrusions is very small ((hB-3) ≈ (hG-3) ≈ (hR-3)). Further, the difference in the width of the alignment control protrusions between the alignment control protrusions is very small ((wB-3) ≈ (wG-3) ≈ (wR-3)).
図１１は、図９及び図１０に示すカラーフィルタ（２３）の配向制御突起を形成する際に用いるフォトマスクの一例を示す断面図である。図１１（ａ）は、図１０（ａ）に示す部分、すなわち、赤色着色画素（４２Ｒ）上の配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ３）の形成に対応するフォトマスク（ＰＭ３）上の部分の断面図である。また、図１１（ｂ）は、図１０（ｂ）に示す部分、すなわち、緑色着色画素（４２Ｇ）上の配向制御突起（Ｍｖ−Ｇ３）の形成に対応するフォトマスク（ＰＭ３）上の部分の断面図、図１１（ｃ）は、図１０（ｃ）に示す部分、すなわち、青色着色画素（４２Ｂ）上の配向制御突起（Ｍｖ−Ｂ３）の形成に対応するフォトマスク（ＰＭ３）上の部分の断面図を表したものである。 FIG. 11 is a cross-sectional view showing an example of a photomask used when forming alignment control protrusions of the color filter (23) shown in FIGS. FIG. 11A is a cross-sectional view of the portion shown in FIG. 10A, that is, the portion on the photomask (PM3) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-R3) on the red colored pixel (42R). It is. FIG. 11B shows the portion shown in FIG. 10B, that is, the portion on the photomask (PM3) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-G3) on the green colored pixel (42G). FIG. 11C is a sectional view, that is, a portion shown in FIG. 10C, that is, a portion on the photomask (PM3) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-B3) on the blue colored pixel (42B). FIG.
図１１（ａ）に示すように、フォトマスク（ＰＭ３）には、赤色着色画素（４２Ｒ）上の配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ））が設けられており、微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ）以外の部分は、透光部（５３）である。
図１２（ａ）は、図１１（ａ）に示す赤色着色画素（４２Ｒ）上の配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ））を拡大して示す平面図、及び該平面図のＥ−Ｅ線での断面図である。
図１２（ａ）に示すように、配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ））は、ストライプ状遮光膜（５５Ｒ）の幅方向（図１２中、Ｘ方向）の中央部にストライプ状透光スリット（５６Ｒ）が設けられた構成である。
As shown in FIG. 11A, the photomask (PM3) has a pattern corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-R3) on the red colored pixel (42R) (a fine light shielding film (gray tone portion)). 54R)) is provided, and the portion other than the fine light-shielding film (gray tone portion) (54R) is the light transmitting portion (53).
12A shows a pattern (fine light-shielding film (gray tone portion) (54R)) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-R3) on the red colored pixel (42R) shown in FIG. 11A. It is a top view shown expanding and a sectional view in the EE line of the top view.
As shown in FIG. 12A, the pattern (fine light shielding film (gray tone portion) (54R)) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-R3) is in the width direction of the stripe light shielding film (55R) ( In FIG. 12, a stripe-shaped translucent slit (56R) is provided at the center in the X direction).
微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ）は、光を遮光する微細なストライプ状遮光膜（５５Ｒ）部分と、光を透光する微細なストライプ状透光スリット（５６Ｒ）部分で構成される微細遮光膜である。
フォトマスクを使用する際に、フォトマスクとフォトレジスト層との間に十分なギャップを与えて、この微細遮光膜を均一な透過率を有するものとして機能させた用い方をする。その透過率は、ストライプ状遮光膜（５５Ｒ）部分と、ストライプ状透光スリット（５６Ｒ）部分の面積比を調節して設定する。
ストライプ状遮光膜の材料は、例えば、Ｃｒ及びＣｒＯを用いた低反射膜である。
The fine light shielding film (gray tone portion) (54R) is a fine stripe light shielding film (55R) portion that shields light and a fine stripe light transmission slit (56R) portion that transmits light. It is a light shielding film.
When using a photomask, a sufficient gap is provided between the photomask and the photoresist layer, and this fine light-shielding film is used so as to have a uniform transmittance. The transmittance is set by adjusting the area ratio between the striped light shielding film (55R) and the striped light transmitting slit (56R).
The material of the stripe light shielding film is, for example, a low reflection film using Cr and CrO.
図１１（ｂ）に示すように、フォトマスク（ＰＭ３）には、緑色着色画素（４２Ｇ）上の配向制御突起（Ｍｖ−Ｇ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｇ））が設けられており、微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｇ）以外の部分は、透光部（５３）である。
図１２（ｂ）は、図１１（ｂ）に示す緑色着色画素（４２Ｇ）上の配向制御突起（Ｍｖ−Ｇ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｇ））を拡大して示す平面図、及び該平面図のＦ−Ｆ線での断面図である。
図１２（ｂ）に示すように、配向制御突起（Ｍｖ−Ｇ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｇ））は、ストライプ状遮光膜（５５Ｇ）の幅方向（図１２中、Ｘ方向）の中央部にストライプ状透光スリット（５６Ｇ）が設けられた構成である。
As shown in FIG. 11B, the photomask (PM3) has a pattern corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-G3) on the green colored pixel (42G) (a fine light shielding film (gray tone portion)). 54G)) is provided, and the portion other than the fine light-shielding film (gray tone portion) (54G) is the light transmitting portion (53).
FIG. 12B shows a pattern (fine light-shielding film (gray tone portion) (54G)) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-G3) on the green colored pixel (42G) shown in FIG. It is a top view shown expanding and a sectional view in the FF line of the top view.
As shown in FIG. 12B, the pattern corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-G3) (fine light shielding film (gray tone portion) (54G)) is in the width direction of the stripe light shielding film (55G) ( In FIG. 12, a stripe-shaped translucent slit (56G) is provided at the center in the X direction).
同様に、図１１（ｃ）に示すように、フォトマスク（ＰＭ３）には、緑色着色画素（４
２Ｂ）上の配向制御突起（Ｍｖ−Ｂ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｂ））が設けられており、
図１２（ｃ）に示すように、配向制御突起（Ｍｖ−Ｂ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｂ））は、ストライプ状遮光膜（５５Ｂ）の幅方向（図１２中、Ｘ方向）の中央部にストライプ状透光スリット（５６Ｂ）が設けられた構成である。
Similarly, as shown in FIG. 11C, the photomask (PM3) has a green colored pixel (4).
2B) is provided with a pattern (fine light-shielding film (gray tone part) (54B)) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-B3) on
As shown in FIG. 12C, the pattern (fine light-shielding film (gray tone portion) (54B)) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-B3) is in the width direction of the striped light-shielding film (55B) ( In FIG. 12, a stripe-shaped translucent slit (56B) is provided at the center in the X direction).
図１２において、配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ））のストライプ状遮光膜（５５Ｒ）の幅（ａＲ）と、配向制御突起（Ｍｖ−Ｇ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｇ））のストライプ状遮光膜（５５Ｇ）の幅（ａＧ）と、配向制御突起（Ｍｖ−Ｂ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｂ））のストライプ状遮光膜（５５Ｂ）の幅（ａＢ）は同一寸法である（幅（ａＲ）＝幅（ａＧ）＝幅（ａＢ））。 In FIG. 12, the width (aR) of the stripe-shaped light-shielding film (55R) of the pattern (fine light-shielding film (gray tone portion) (54R)) corresponding to the formation of the orientation control protrusion (Mv-R3) and the orientation control protrusion ( The width (aG) of the stripe-shaped light-shielding film (55G) of the pattern (fine light-shielding film (gray tone portion) (54G)) corresponding to the formation of Mv-G3) and the formation of the alignment control protrusion (Mv-B3) The width (aB) of the stripe-shaped light-shielding film (55B) of the pattern (fine light-shielding film (gray tone portion) (54B)) is the same (width (aR) = width (aG) = width (aB)).
また、配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ））のストライプ状透光スリット（５６Ｒ）の幅（ｂＲ）、配向制御突起（Ｍｖ−Ｇ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｇ））のストライプ状透光スリット（５６Ｇ）の幅（ｂＧ）、配向制御突起（Ｍｖ−Ｂ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｂ））のストライプ状透光スリット（５６Ｂ）の幅（ｂＢ）は、幅（ｂＢ）、幅（ｂＧ）、幅（ｂＲ）の順に大きい寸法である。 Further, the width (bR) of the stripe-shaped light transmitting slit (56R) of the pattern (fine light shielding film (gray tone portion) (54R)) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-R3), the alignment control protrusion (Mv− G3) The pattern corresponding to the formation of the width (bG) of the stripe-shaped light transmitting slit (56G) and the alignment control protrusion (Mv-B3) of the pattern (fine light-shielding film (gray tone portion) (54G)) corresponding to the formation of G3) The width (bB) of the stripe-shaped light-transmitting slit (56B) of the (fine light-shielding film (gray tone portion) (54B)) is larger in the order of width (bB), width (bG), and width (bR).
上記のように、各ストライプ状遮光膜（５５Ｒ、５５Ｇ、５５Ｂ）の幅は、同一寸法であり（幅（ａＲ）＝幅（ａＧ）＝幅（ａＢ））、各ストライプ状透光スリット（５６Ｒ、５６Ｇ、５６Ｂ）の幅は、幅（ｂＢ）＜幅（ｂＧ）＜幅（ｂＲ）であるので、各微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ、５４Ｇ、５４Ｂ）の透過率は、微細遮光膜（５４Ｂ）、微細遮光膜（５４Ｇ）、微細遮光膜（５４Ｒ）の順に高い値になる。 As described above, the width of each stripe-shaped light shielding film (55R, 55G, 55B) is the same dimension (width (aR) = width (aG) = width (aB)), and each stripe-shaped light transmitting slit (56R). , 56G, 56B) is such that width (bB) <width (bG) <width (bR), the transmittance of each fine light-shielding film (gray tone portion) (54R, 54G, 54B) The film (54B), the fine light-shielding film (54G), and the fine light-shielding film (54R) increase in order.
ポジ型フォトレジストを用いた際、得られる配向制御突起の高さは、透過率の高い微細遮光膜に対応した配向制御突起の方が、透過率の低い微細遮光膜に対応した配向制御突起よりも低い高さの配向制御突起となる。
従って、以下に述べるように、着色画素上に設けられた、配向制御突起形成用のフォトレジスト層の厚さが、青色着色画素上の厚さ（Ｈ−Ｂ）、緑色着色画素上の厚さ（Ｈ−Ｇ）、赤色着色画素上の厚さ（Ｈ−Ｒ）の順に厚いものとなっていても、得られる配向制御突起の高さを略同一の高さすることが可能となる。
When using a positive photoresist, the orientation control protrusion obtained is higher in the orientation control protrusion corresponding to the fine light-shielding film having a higher transmittance than the alignment control protrusion corresponding to the fine light-shielding film having a lower transmittance. Also, the orientation control protrusion has a low height.
Therefore, as will be described below, the thickness of the photoresist layer for forming alignment control protrusions provided on the colored pixel is the thickness on the blue colored pixel (HB) and the thickness on the green colored pixel. Even when the thickness is increased in the order of (HG) and the thickness (HR) on the red colored pixel, the height of the obtained alignment control protrusion can be made substantially the same.
図１３は、図１１及び図１２に示すフォトマスク（ＰＭ３）を用い、本発明における配向制御突起を形成する方法の断面図である。図１３は、図９のＨ−Ｈ線での断面に対応させて表したものである。図１３に示すように、ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたガラス基板（４０）上にフォトレジスト層（６０−３）が形成されている。着色画素の膜厚は、赤色着色画素（４２Ｒ）、緑色着色画素（４２Ｇ）、青色着色画素（４２Ｂ）の順に厚いものとなっている。 FIG. 13 is a cross-sectional view of a method for forming alignment control protrusions in the present invention using the photomask (PM3) shown in FIGS. FIG. 13 shows the cross section taken along the line H-H in FIG. As shown in FIG. 13, a photoresist layer (60-3) is formed on a glass substrate (40) on which a black matrix (41), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) are sequentially formed. ing. The thickness of the colored pixels is thicker in the order of the red colored pixel (42R), the green colored pixel (42G), and the blue colored pixel (42B).
図１３では、配向制御突起を形成するフォトレジストとして、ポジ型フォトレジストが用いられている。図１３中、フォトレジスト層（６０−３）の上方には近接露光のギャップ（Ｇ）を設けてフォトマスク（ＰＭ３）が、その膜面（３１）をフォトレジスト層（６０−３）に対向させて配置されている。このフォトマスク（ＰＭ３）には、配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ３、Ｍｖ−Ｇ３、Ｍｖ−Ｂ３）の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ、５４Ｇ、５４Ｂ）が設けられ、微細遮光膜（グレートーン部）以外の部分は透光部（５３）となっている。 In FIG. 13, a positive photoresist is used as the photoresist for forming the alignment control protrusion. In FIG. 13, a gap (G) for proximity exposure is provided above the photoresist layer (60-3), and the photomask (PM3) faces its film surface (31) to the photoresist layer (60-3). Are arranged. The photomask (PM3) is provided with a fine light-shielding film (gray tone part) (54R, 54G, 54B) corresponding to the formation of the alignment control protrusions (Mv-R3, Mv-G3, Mv-B3). The portion other than the light shielding film (gray tone portion) is a light transmitting portion (53).
図１３に示すように、配向制御突起形成用のフォトレジスト層（６０−３）にフォトマスク（ＰＭ３）を介した露光（Ｅ）、現像処理を行って、配向制御突起を形成する。図１３においては、既に現像処理が完了し、配向制御突起が形成された状態のものを点線で示してある。 As shown in FIG. 13, the alignment control protrusions are formed by performing exposure (E) and development processing through a photomask (PM3) on the photoresist layer (60-3) for forming the alignment control protrusions. In FIG. 13, a state in which the development processing has already been completed and the alignment control protrusion is formed is shown by a dotted line.
透明導電膜（４３）上に設けられたフォトレジスト層（６０−３）の厚さは、青色着色画素（４２Ｂ）上の厚さ（Ｈ−Ｂ）、緑色着色画素（４２Ｇ）上の厚さ（Ｈ−Ｇ）、赤色着色画素（４２Ｒ）上の厚さ（Ｈ−Ｒ）の順に厚いものとなっている。（（Ｈ−Ｂ）＜（Ｈ−Ｇ）＜（Ｈ−Ｒ））。 The thickness of the photoresist layer (60-3) provided on the transparent conductive film (43) is the thickness (H-B) on the blue colored pixel (42B) and the thickness on the green colored pixel (42G). (HG) and the thickness (HR) on the red colored pixel (42R) increase in this order. ((H-B) <(HG) <(HR)).
前記図１０は、現像処理が完了し、配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ３、Ｍｖ−Ｇ３、Ｍｖ−Ｂ３）が形成された状態の断面図である。図１０に示すように、青色着色画素（４２Ｂ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｂ３）の高さ（ｈＢ−３）、緑色着色画素（４２Ｇ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｇ３）の高さ（ｈＧ−３）、赤色着色画素（４２Ｒ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ３）の高さ（ｈＲ−３）は、略同一の高さとなっている（（ｈＢ−３）≒（ｈＧ−３）≒（ｈＲ−３））。
また、青色着色画素（４２Ｂ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｂ３）の幅（ｗＢ）、緑色着色画素（４２Ｇ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｇ３）の幅（ｗＧ）、赤色着色画素（４２Ｒ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ３）の幅（ｗＲ）は、略同一の大きなものとなっている（（ｗＢ−３）≒（ｗＧ−３）≒（ｗＲ−３））。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a state in which the development processing is completed and the alignment control protrusions (Mv-R3, Mv-G3, Mv-B3) are formed. As shown in FIG. 10, the height (hB-3) of the alignment control protrusion (Mv-B3) formed on the blue colored pixel (42B), the alignment control protrusion (on the green colored pixel (42G)) The height (hG-3) of the Mv-G3) and the height (hR-3) of the alignment control protrusion (Mv-R3) formed on the red colored pixel (42R) are substantially the same. ((HB-3) ≈ (hG-3) ≈ (hR-3)).
Further, the width (wB) of the alignment control protrusion (Mv-B3) formed on the blue colored pixel (42B) and the width (wG) of the alignment control protrusion (Mv-G3) formed on the green colored pixel (42G). ), The width (wR) of the alignment control protrusion (Mv-R3) formed on the red colored pixel (42R) is substantially the same large ((wB-3) ≈ (wG-3) ≈ (WR-3)).
これは、上記フォトマスク（ＰＭ３）上の、配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ３、Ｍｖ−Ｇ３、Ｍｖ−Ｂ３）の形成に対応したパターンとして、微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ、５４Ｇ、５４Ｂ）を用い、その寸法を上記の関係に保ことによって、異なる透過率を有する微細遮光膜として機能させたためにもたらされたものである。 This is because the pattern corresponding to the formation of the alignment control protrusions (Mv-R3, Mv-G3, Mv-B3) on the photomask (PM3) is a fine light-shielding film (gray tone portion) (54R, 54G, 54B). ), And maintaining the dimensions in the above relationship, this is caused by functioning as a fine light-shielding film having different transmittance.
以下に実施例により具体的に説明する。
＜実施例１＞
Ａ）ブラックマトリックスの形成
基板として無アルカリガラスを用い、該基板上に黒色フォトレジストをスリットコータにて塗布、プレベーク後に所定のフォトマスクを介した露光、現像、ポストベークを施し、１．３５μｍ厚のブラックマトリックスを形成した。
Ｂ）着色画素の形成
上記ブラックマトリックスが形成された基板上に、赤色フォトレジストをスリットコータにて塗布、プレベーク後に所定のフォトマスクを介した露光、現像、ポストベークを施し、赤色着色画素を形成した。同様にして緑色着色画素、青色着色画素を形成し、各々の膜厚を、１．７５μｍ厚、２．３５μｍ厚、２．９５μｍ厚とし、ギャップ差１．２０μｍのマルチギャップ用の着色画素とした。
Ｃ）透明導電膜の形成
上記着色画素が形成された基板上に、スパッタ法を用いて、インジュウム錫酸化物を０．１４μｍ厚に成膜、アニール処理を施し透明導電膜の形成した。
Examples will be described in detail below.
<Example 1>
A) A non-alkali glass is used as a substrate for forming a black matrix, a black photoresist is applied on the substrate with a slit coater, pre-baked, then exposed through a predetermined photomask, developed, and post-baked, 1.35 μm thick A black matrix was formed.
B) Formation of colored pixels Red photoresist is coated on the substrate on which the black matrix is formed with a slit coater, and pre-baked and then exposed, developed, and post-baked through a predetermined photomask to form red colored pixels. did. Similarly, a green color pixel and a blue color pixel are formed, and each film thickness is 1.75 μm thickness, 2.35 μm thickness, 2.95 μm thickness, and a multi-gap color pixel having a gap difference of 1.20 μm. .
C) Formation of transparent conductive film On the substrate on which the colored pixels were formed, an indium tin oxide film was formed to a thickness of 0.14 μm by sputtering and a transparent conductive film was formed.
Ｄ）配向制御突起の形成
ａ）フォトレジストとして、ローム・アンド・ハース電子材料（株）製：ノボラック樹脂ポジ型フォトレジストを用いた。上記透明導電膜上に、ポジ型フォトレジストをスリットコータにて塗布、プレベーク後に下記のフォトマスクを介した露光、現像、ポストベークを施し、配向制御突起の形成を形成した。露光は、ギャップ１３０μｍの近接露光により
、ｉ線露光量４０ｍＪ／ｃｍ2 を与えた。
ｂ）フォトマスク
配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）は、そのストライプ状遮光膜の幅の寸法、及びストライプ状透光スリットの幅の寸法を表１に示すものとした。
ｃ）得られた配向制御突起
高さ：１．２±０．２μｍ、大きさ：１０．０±２．０μｍを目標にして形成した配向制御突起の高さ、及び大きさを表２に示す。
Ｅ）図１３に示すようにして、配向制御突起を形成した結果、表２に示すように、良好な結果が得られた。すなわち、配向制御突起の高さのバラツキのレンジ：０．０４μｍ、大きさのバラツキのレンジ：０．０μｍの配向制御突起が得られている。
D) Formation of orientation control protrusions a) As a photoresist, a novolak resin positive photoresist manufactured by Rohm and Haas Electronic Materials Co., Ltd. was used. On the transparent conductive film, a positive photoresist was applied with a slit coater, pre-baked, and then exposed, developed, and post-baked through the following photomask to form alignment control protrusions. In the exposure, an i-line exposure amount of 40 mJ / cm 2 was given by proximity exposure with a gap of 130 μm.
b) The fine light-shielding film (gray tone part) corresponding to the formation of the photomask alignment control protrusions has the width dimension of the stripe-shaped light-shielding film and the width dimension of the stripe-shaped light-transmitting slit shown in Table 1. .
c) Table 2 shows the height and size of the orientation control protrusions formed with the aim of the height of the orientation control protrusions obtained: 1.2 ± 0.2 μm and the size of 10.0 ± 2.0 μm. .
E) As a result of forming the alignment control protrusions as shown in FIG. 13, good results were obtained as shown in Table 2. That is, the alignment control protrusions having a height variation range of 0.04 μm and a size variation range of 0.0 μm are obtained.
尚、実施例１に対応した比較になるものとして、フォトマスクには図２に示すような配向制御突起の形成に対応した遮光部が９μｍ幅で設けられ、遮光部以外の部分は透光部となっているフォトマスクを用いた以外は実施例１と同様にした。
実施例１と同様にして配向制御突起を形成した結果は、表３に示すように、配向制御突起の高さのバラツキのレンジ：０．２３μｍ、大きさのバラツキのレンジ：０．８μｍであり、実施例１と比較し大幅に劣るものであった。
As shown in Table 3, the result of forming the alignment control protrusions in the same manner as in Example 1 is as follows. The height variation range of the alignment control protrusions is 0.23 μm, and the size variation range is 0.8 μm. Compared with Example 1, it was significantly inferior.
図１４は、請求項８に係わるカラーフィルタの一例を示す平面図である。また、図１５（ａ）は、図１４のＡ−Ａ線での断面を更に拡大した断面図、図１５（ｂ）は、図１４のＢ−Ｂ線での断面を更に拡大した断面図、また、図１５（ｃ）は、図１４のＣ−Ｃ線での断面を更に拡大した断面図である。 FIG. 14 is a plan view showing an example of the color filter according to the eighth aspect. 15A is a cross-sectional view further enlarging the cross section taken along the line AA in FIG. 14, and FIG. 15B is a cross-sectional view further enlarging the cross section taken along the line BB in FIG. FIG. 15C is a sectional view further enlarging the section taken along the line CC of FIG.
図１４及び図１５に示すように、このカラーフィルタ（２４）は、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、透明導電膜（４３）が設けられた、該透明導電膜（４３）上にストライプ状の配向制御突起及びフォトスペーサーが設けられたカラーフィルタであり、その着色画素は、赤色着色画素の膜厚（ｔＲ）、緑色着色画素の膜厚（ｔＧ）、青色着色画素の膜厚（ｔＢ）の順に厚く設けられている（ｔＲ＜ｔＧ＜ｔＢ）マルチギャップを採用した液晶表示装置用のカラーフィルタである。 As shown in FIGS. 14 and 15, the color filter (24) includes a black matrix (41), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) provided on a glass substrate (40). It is a color filter in which stripe-shaped alignment control protrusions and photo spacers are provided on the transparent conductive film (43), and the colored pixels have a thickness of red colored pixels (tR) and a thickness of green colored pixels (tG). The color filter for a liquid crystal display device adopting a multi-gap (tR <tG <tB) provided in the order of the film thickness (tB) of blue colored pixels.
本発明によるカラーフィルタ（２４）の配向制御突起は、着色画素の膜厚を、膜厚（ｔＲ）、膜厚（ｔＧ）、膜厚（ｔＢ）の順に厚く設けた着色画素上に、透明導電膜（４３）を介してポジ型フォトレジストを用い、近接露光にて青色着色画素上、緑色着色画素上、赤色着色画素上に形成された配向制御突起（（Ｍｖ−Ｂ４）、（Ｍｖ−Ｇ４）、（Ｍｖ−Ｒ４））であるが、配向制御突起間での配向制御突起の高さの差は僅少なものとなっている（（ｈＢ−４）≒（ｈＧ−４）≒（ｈＲ−４））。また、配向制御突起間での配向制御突起の幅の差は僅少なものとなっている（（ｗＢ−４）≒（ｗＧ−４）≒（ｗＲ−４））。 The alignment control protrusion of the color filter (24) according to the present invention is a transparent conductive film on a colored pixel in which the thickness of the colored pixel is increased in the order of film thickness (tR), film thickness (tG), and film thickness (tB). Using positive photoresist through the film (43), alignment control protrusions ((Mv-B4), (Mv-G4) formed on the blue colored pixel, the green colored pixel, and the red colored pixel by proximity exposure. ), (Mv−R4)), but the difference in height of the alignment control protrusions between the alignment control protrusions is small ((hB-4) ≈ (hG-4) ≈ (hR−). 4)). Further, the difference in width of the alignment control protrusions between the alignment control protrusions is very small ((wB-4) ≈ (wG-4) ≈ (wR-4)).
図１６は、図１４及び図１５に示すカラーフィルタ（２４）の配向制御突起及びフォトスペーサーを形成する際に用いるフォトマスクの一例を示す断面図である。図１６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、各々図１５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示す部分に対応した断面図を表したものである。
図１６（ａ）に示すように、フォトマスク（ＰＭ４）には、フォトスペーサーの形成に対応したパターン（遮光膜（５２））、及び赤色着色画素（４２Ｒ）上の配向制御突起（Ｍ
ｖ−Ｒ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ））が設けられており、微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ）及び 遮光膜（５２）以外の部分は、透光部（５３）である。
FIG. 16 is a cross-sectional view showing an example of a photomask used when forming alignment control protrusions and photospacers of the color filter (24) shown in FIGS. 16A, 16B, and 16C are cross-sectional views corresponding to the portions shown in FIGS. 15A, 15B, and 15C, respectively.
As shown in FIG. 16A, the photomask (PM4) has a pattern corresponding to the formation of the photospacer (light shielding film (52)) and an alignment control protrusion (M) on the red colored pixel (42R).
v-R3) pattern (fine light-shielding film (gray tone portion) (54R)) is provided, and the portions other than the fine light-shielding film (gray tone portion) (54R) and the light shielding film (52) are , A translucent part (53).
前記図１２（ａ）は、前記図１１（ａ）に示す、フォトマスク（ＰＭ３）の、赤色着色画素（４２Ｒ）上の配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ３）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ））を拡大して示す平面図、及び該平面図のＥ−Ｅ線での断面図であるが、前記図１２（ａ）は又、図１６（ａ）に示す、フォトマスク（ＰＭ４）の、赤色着色画素（４２Ｒ）上の配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ４）の形成に対応したパターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ））を拡大して示す平面図、及び該平面図のＥ−Ｅ線での断面図を兼ねたものである。 FIG. 12A shows a pattern (a fine light-shielding film) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-R3) on the red colored pixel (42R) of the photomask (PM3) shown in FIG. 11A. (Gray tone part) (54R)) is an enlarged plan view and a sectional view taken along line EE of the plan view. FIG. 12 (a) is also shown in FIG. 16 (a). The top view which expands and shows the pattern (fine light-shielding film | membrane (gray tone part) (54R)) corresponding to formation of the orientation control protrusion (Mv-R4) on a red coloring pixel (42R) of a photomask (PM4) , And a cross-sectional view taken along line EE of the plan view.
図１２（ａ）に示すように、パターン（微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ））は、フォトマスク（ＰＭ４）の、配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ４）の形成に対応したパターンであり、ストライプ状遮光膜（５５Ｒ）の幅方向（図１２中、Ｘ方向）の中央部にストライプ状透光スリット（５６Ｒ）が設けられた構成である。
緑色着色画素（４２Ｇ）上の配向制御突起（Ｍｖ−Ｇ４）、及び青色着色画素（４２Ｂ）上の配向制御突起（Ｍｖ−Ｂ４）の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｇ）、（５４Ｂ））も同様な構成であり、また、同様な機能をもたせている。
As shown in FIG. 12A, the pattern (fine light-shielding film (gray tone portion) (54R)) is a pattern corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-R4) of the photomask (PM4). The stripe-shaped light-shielding film (55R) is provided with a stripe-shaped light transmitting slit (56R) at the center in the width direction (X direction in FIG. 12).
Fine light-shielding film (gray tone portion) (54G) corresponding to the formation of the alignment control protrusion (Mv-G4) on the green color pixel (42G) and the alignment control protrusion (Mv-B4) on the blue color pixel (42B) , (54B)) has the same configuration and has the same function.
図１６に示すフォトマスク（ＰＭ４）を用い、本発明における配向制御突起及びフォトスペーサーを形成する方法は、前記図１３に示す方法と同様である。
図１５は、現像処理が完了し、配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ４、Ｍｖ−Ｇ４、Ｍｖ−Ｂ４）が形成された状態の断面図であり、図１５に示すように、青色着色画素（４２Ｂ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｂ４）の高さ（ｈＢ−４）、緑色着色画素（４２Ｇ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｇ４）の高さ（ｈＧ−４）、赤色着色画素（４２Ｒ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ４）の高さ（ｈＲ−４）は、略同一の高さとなっている（（ｈＢ−４）≒（ｈＧ−４）≒（ｈＲ−４））。
また、青色着色画素（４２Ｂ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｂ４）の幅（ｗＢ）、緑色着色画素（４２Ｇ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｇ４）の幅（ｗＧ）、赤色着色画素（４２Ｒ）上に形成された配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ４）の幅（ｗＲ）は、略同一の大きなものとなっている（（ｗＢ−４）≒（ｗＧ−４）≒（ｗＲ−４））。
The method for forming the alignment control protrusion and the photo spacer in the present invention using the photomask (PM4) shown in FIG. 16 is the same as the method shown in FIG.
FIG. 15 is a cross-sectional view in a state in which the development processing is completed and the alignment control protrusions (Mv-R4, Mv-G4, Mv-B4) are formed. As shown in FIG. 15, the blue colored pixel (42B) The height (hB-4) of the alignment control protrusion (Mv-B4) formed on the top, the height (hG-4) of the alignment control protrusion (Mv-G4) formed on the green colored pixel (42G), The height (hR-4) of the alignment control protrusion (Mv-R4) formed on the red colored pixel (42R) is substantially the same height ((hB-4) ≈ (hG-4) ≈ (HR-4)).
Further, the width (wB) of the alignment control protrusion (Mv-B4) formed on the blue colored pixel (42B) and the width (wG) of the alignment control protrusion (Mv-G4) formed on the green colored pixel (42G). ), The width (wR) of the alignment control protrusion (Mv-R4) formed on the red colored pixel (42R) is substantially the same large ((wB-4) ≈ (wG-4) ≈ (WR-4)).
これは、上記フォトマスク（ＰＭ４）上の、配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ４、Ｍｖ−Ｇ４、Ｍｖ−Ｂ４）の形成に対応したパターンとして、微細遮光膜（グレートーン部）（５４Ｒ、５４Ｇ、５４Ｂ）を用い、その寸法を前記の関係に保ことによって、異なる透過率を有する微細遮光膜として機能させたためにもたらされたものである。 This is because a fine light-shielding film (gray tone portion) (54R, 54G, 54B) is formed as a pattern corresponding to the formation of the alignment control protrusions (Mv-R4, Mv-G4, Mv-B4) on the photomask (PM4). ) And maintaining the dimensions in the above-described relationship, this is caused by functioning as a fine light-shielding film having different transmittance.
＜実施例２＞
Ａ）フォトマスク
配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）は、そのストライプ状遮光膜の幅の寸法、及びストライプ状透光スリットの幅の寸法を表４に示すものとした。
Ｂ）フォトレジスト層の膜厚は、高さ３．２５μｍのフォトスペーサーが得られる膜厚とした。上記Ａ）、Ｂ）以外は、実施例１と同様である。
Ｃ）得られた配向制御突起
高さ：１．２±０．２μｍ、大きさ：１０．０±２．０μｍを目標にして形成した配向制御突起の高さ、及び大きさを表５に示す。得られた配向制御突起は、表５に示すように、良好な結果が得られた。すなわち、配向制御突起の高さのバラツキのレンジ：０．０４μｍ、大きさのバラツキのレンジ：０．１μｍの配向制御突起が得られている。
<Example 2>
A) The fine light-shielding film (gray tone part) corresponding to the formation of the photomask orientation control protrusions has the width dimension of the stripe-shaped light-shielding film and the width dimension of the stripe-shaped light-transmitting slit shown in Table 4. .
B) The film thickness of the photoresist layer was such that a photo spacer having a height of 3.25 μm was obtained. Except for the above A) and B), it is the same as in Example 1.
C) Table 5 shows the height and size of the orientation control protrusions formed with the aim of the obtained orientation control protrusion height: 1.2 ± 0.2 μm and size: 10.0 ± 2.0 μm. . As shown in Table 5, good results were obtained for the obtained alignment control protrusions. That is, an alignment control protrusion having a height variation range of the alignment control protrusion of 0.04 μm and a size variation range of 0.1 μm is obtained.
＜実施例３＞
実際に用いられる配向制御突起は、〔高さ０．８μｍ、幅７．０μｍ〕〜〔高さ１．４μｍ、幅１２．０μｍ〕の範囲のものであるので、実施例３においては、上記範囲の配向制御突起を形成するための条件を見出した。
表６に示すように、上記範囲の配向制御突起を形成できることが確認された。上記範囲の、ある高さを、例えば、緑色着色画素上の配向制御突起としたとき、赤色着色画素上の配向制御突起の高さ、及び青色着色画素上の配向制御突起の高さの補正は、前記ストライプ状透光スリットの幅を調節することによって行うことになる。
<Example 3>
Since the alignment control protrusions actually used are in the range of [height 0.8 μm, width 7.0 μm] to [height 1.4 μm, width 12.0 μm], in Example 3, the above range is used. The conditions for forming the alignment control protrusions were found.
As shown in Table 6, it was confirmed that alignment control protrusions in the above range could be formed. When a certain height in the above range is, for example, an alignment control protrusion on a green colored pixel, the height of the alignment control protrusion on the red colored pixel and the height of the alignment control protrusion on the blue colored pixel are corrected. This is done by adjusting the width of the stripe-shaped translucent slit.
＜実施例４＞
また、実際に用いられるフォトスペーサーは、高さ２．０μｍ〜４．０μｍの範囲のものであるので、実施例４においては、上記範囲のフォトスペーサーを形成する場合においても、同時に形成する配向制御突起を良好に形成するための条件を見出した。結果を表７に示す。
各色着色画素上の各配向制御突起間の高さの補正は、前記ストライプ状透光スリットの幅を調節することによって行うことになる。
<Example 4>
In addition, since the photospacer actually used has a height in the range of 2.0 μm to 4.0 μm, in Example 4, even when forming the photospacer in the above range, the orientation control formed simultaneously. The inventors have found conditions for forming the protrusions satisfactorily. The results are shown in Table 7.
The height correction between the alignment control protrusions on each color-colored pixel is performed by adjusting the width of the stripe-shaped light transmitting slit.
２０、２０’、２１、２２・・・カラーフィルタ
２３、２４・・・本発明によるカラーフィルタ
３１・・・膜面
３２・・・遮光部
３３・・・透光部
３４・・・半透光部
４０・・・ガラス基板
４１・・・ブラックマトリックス
４２・・・着色画素
４３・・・透明導電膜
５２・・・フォトスペーサーの形成に対応したパターン（遮光膜）
５４・・・本発明における微細遮光膜（グレートーン部）
５５・・・微細遮光膜（グレートーン部）を構成するストライプ状遮光膜
５６・・・微細遮光膜（グレートーン部）を構成するストライプ状透光スリット６０、６０−２、６０−３、６０−４・・・フォトレジスト層
Ｅ・・・露光光
Ｇ・・・近接露光のギャップ
Ｍｖ・・・配向制御突起
Ｐｓ・・・フォトスペーサー
ＰＭ、ＰＭ２・・・フォトマスク
ＰＭ３、ＰＭ４・・・本発明によるフォトマスク
20, 20 ′, 21, 22...
54 ... Fine light-shielding film (gray tone part) in the present invention
55... Striped light shielding film constituting a fine light shielding film (gray tone portion) 56... Striped light transmitting slits 60, 60-2, 60-3, 60 constituting a fine light shielding film (gray tone portion) -4 ... Photoresist layer E ... Exposure light G ... Proximity exposure gap Mv ... Alignment control protrusion Ps ... Photo spacer PM, PM2 ... Photomask PM3, PM4 ... Book Photomask according to the invention
Claims (9)
１）前記フォトマスク上の、該配向制御突起の形成に対応したパターンは微細遮光膜（グレートーン部）であり、該微細遮光膜（グレートーン部）はストライプ状遮光膜の幅方向中央部にストライプ状透光スリットが設けられており、
２）前記複数色の着色画素の膜厚が、赤色着色画素、緑色着色画素、青色着色画素の順に厚いとき、
ａ）赤色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状遮光膜の幅（ａＲ）、緑色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状遮光膜の幅（ａＧ）、青色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状遮光膜の幅（ａＢ）を同一寸法とし、
ｂ）赤色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状透光スリットの幅（ｂＲ）、緑色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状透光スリットの幅（ｂＧ）、青色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状透光スリットの幅（ｂＢ）を、幅（ｂＢ）、幅（ｂＧ）、幅（ｂＲ）の順に大きい寸法とすることを特徴とするフォトマスク。 In a photomask used when forming alignment control projections by proximity exposure using a positive photoresist on colored pixels of different colors with different thicknesses,
1) A pattern corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the photomask is a fine light-shielding film (gray tone part), and the fine light-shielding film (gray tone part) is formed at the center in the width direction of the stripe-like light shielding film. Striped translucent slits are provided,
2) When the thickness of the colored pixels of the plurality of colors is thicker in the order of red colored pixels, green colored pixels, and blue colored pixels,
a) The width (aR) of the stripe-shaped light shielding film of the fine light shielding film (gray tone portion) corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the red colored pixel, and the fine light shielding film corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the green colored pixel The width (aG) of the stripe-shaped light-shielding film of (gray-tone portion) and the width (aB) of the stripe-shaped light-shielding film of the fine light-shielding film (gray-tone portion) corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the blue colored pixel are the same size. age,
b) The width (bR) of the stripe-shaped light transmitting slit of the fine light shielding film (gray tone portion) corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the red colored pixel, and the fine light shielding corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the green colored pixel. Width (bG) of stripe-shaped light transmitting slit of film (gray tone portion), width (bB) of stripe-shaped light transmitting slit of fine light shielding film (gray tone portion) corresponding to formation of alignment control protrusion on blue colored pixel Is a dimension that increases in the order of width (bB), width (bG), and width (bR).
１）前記ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、膜厚に差のある複数色の着色画素を順次に形成する工程、
２）該ブラックマトリックス、膜厚に差のある複数色の着色画素が形成されたガラス基板上の全面に透明導電膜を形成する工程、
３）該透明導電膜が形成されたガラス基板上に、ポジ型フォトレジストの塗膜を設け、フォトマスクを介した近接露光による露光及び現像処理により配向制御突起を形成する工程を具備し、
前記フォトマスクとして請求項１又は請求項２記載のフォトマスクを用い、配向制御突起を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 In a method for producing a color filter, wherein at least a black matrix, a plurality of colored pixels having a difference in film thickness, a transparent conductive film are formed on a glass substrate, and an alignment control protrusion is formed on the transparent conductive film,
1) a step of sequentially forming at least a black matrix and a plurality of colored pixels having different film thicknesses on the glass substrate;
2) a step of forming a transparent conductive film on the entire surface of the glass substrate on which the black matrix and colored pixels having a plurality of colors having different thicknesses are formed;
3) A step of providing a positive photoresist coating film on the glass substrate on which the transparent conductive film is formed, and forming alignment control protrusions by exposure and development processing by proximity exposure through a photomask,
A method for producing a color filter, wherein the photomask according to claim 1 or 2 is used as the photomask to form alignment control protrusions.
１）前記フォトマスク上の、該フォトスペーサーの形成に対応したパターンは遮光膜であり、
２）前記フォトマスク上の、該配向制御突起の形成に対応したパターンは微細遮光膜（グレートーン部）であり、該微細遮光膜（グレートーン部）はストライプ状遮光膜の幅方向中央部にストライプ状透光スリットが設けられており、
３）前記複数色の着色画素の膜厚が、赤色着色画素、緑色着色画素、青色着色画素の順に厚いとき、
ａ）赤色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のス
トライプ状遮光膜の幅（ａＲ）、緑色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状遮光膜の幅（ａＧ）、青色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状遮光膜の幅（ａＢ）を同一寸法とし、
ｂ）赤色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状透光スリットの幅（ｂＲ）、緑色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状透光スリットの幅（ｂＧ）、青色着色画素上の配向制御突起の形成に対応した微細遮光膜（グレートーン部）のストライプ状透光スリットの幅（ｂＢ）を、幅（ｂＢ）、幅（ｂＧ）、幅（ｂＲ）の順に大きい寸法とすることを特徴とするフォトマスク。 In a photomask used when forming alignment control protrusions and photospacers by proximity exposure using a positive photoresist on a plurality of colored pixels having different thicknesses,
1) The pattern corresponding to the formation of the photo spacer on the photo mask is a light shielding film,
2) A pattern corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the photomask is a fine light-shielding film (gray tone part), and the fine light-shielding film (gray tone part) is formed at the center in the width direction of the stripe-like light shielding film. Striped translucent slits are provided,
3) When the thickness of the colored pixels of the plurality of colors is thicker in the order of red colored pixels, green colored pixels, and blue colored pixels,
a) The width (aR) of the stripe-shaped light shielding film of the fine light shielding film (gray tone portion) corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the red colored pixel, and the fine light shielding film corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the green colored pixel The width (aG) of the stripe-shaped light-shielding film of (gray-tone portion) and the width (aB) of the stripe-shaped light-shielding film of the fine light-shielding film (gray-tone portion) corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the blue colored pixel are the same size. age,
b) The width (bR) of the stripe-shaped light transmitting slit of the fine light shielding film (gray tone portion) corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the red colored pixel, and the fine light shielding corresponding to the formation of the alignment control protrusion on the green colored pixel. Width (bG) of stripe-shaped light transmitting slit of film (gray tone portion), width (bB) of stripe-shaped light transmitting slit of fine light shielding film (gray tone portion) corresponding to formation of alignment control protrusion on blue colored pixel Is a dimension that increases in the order of width (bB), width (bG), and width (bR).
１）前記ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、膜厚に差のある複数色の着色画素を順次に形成する工程、
２）該ブラックマトリックス、膜厚に差のある複数色の着色画素が形成されたガラス基板上の全面に透明導電膜を形成する工程、
３）該透明導電膜が形成されたガラス基板上に、ポジ型フォトレジストの塗膜を設け、フォトマスクを介した近接露光による露光及び現像処理により配向制御突起及びフォトスペーサーを形成する工程を具備し、
前記フォトマスクとして請求項５又は請求項６記載のフォトマスクを用い、配向制御突起及びフォトスペーサーを同時に形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 In a method for producing a color filter, wherein at least a black matrix, a plurality of colored pixels having a difference in film thickness, a transparent conductive film are formed on a glass substrate, and an alignment control protrusion and a photo spacer are formed on the transparent conductive film.
1) a step of sequentially forming at least a black matrix and a plurality of colored pixels having different film thicknesses on the glass substrate;
2) a step of forming a transparent conductive film on the entire surface of the glass substrate on which the black matrix and colored pixels having a plurality of colors having different thicknesses are formed;
3) A step of providing a positive photoresist coating film on the glass substrate on which the transparent conductive film is formed, and forming alignment control protrusions and a photo spacer by exposure and development processing by proximity exposure through a photomask. And
A method for producing a color filter, wherein the photomask according to claim 5 or 6 is used as the photomask, and the alignment control protrusion and the photospacer are formed simultaneously.
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