JP2010173857A - Floating conveying device - Google Patents

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JP2010173857A
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JP2010059402A
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Japanese (ja)
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Michio Tanikai
道雄 谷貝
Masayuki Tsujimura
正之 辻村
Masayuki Tsuda
昌之 都田
Masaki Kusuhara
昌樹 楠原
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Watanabe Shoko KK
M Watanabe and Co Ltd
Original Assignee
Watanabe Shoko KK
M Watanabe and Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a floating conveying device capable of quickly centering a plate-like body by eliminating influences of the shape and the weight of the plate-like body. <P>SOLUTION: This floating conveying device includes: a base 1 including a plate-like conveying surface (a top surface 1<SB>1</SB>) to send the plate-like bodies along the conveying surface; a first injecting means for injecting gas from the conveying surface to float the plate-like bodies from the conveying surface and to move the floated plate-like bodies along the conveying surface; and a second injecting means (2F<SB>1</SB>-2H<SB>1</SB>and 2F<SB>2</SB>-2H<SB>2)</SB>for injecting gas in order to hold the plate-like bodies floated by the first injecting means in the center position I<SB>2</SB>of the conveying surface. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、浮上搬送装置に係わり、より詳細には、板状基体としてウエハやガラス板などを搬送するときに、板状基体を浮上させる浮上搬送装置に関する。   The present invention relates to a levitating and conveying apparatus, and more particularly, to a levitating and conveying apparatus that levitates a plate-like substrate when conveying a wafer, a glass plate, or the like as the plate-like substrate.

板状基体を浮上させ、この状態で板状基体を搬送するシステムとして、例えば、TFT型液晶ディスプレイ用のガラス板を搬送するものがある。この搬送システムを図20に示す。この搬送システムは、移送ユニット100と制御ユニット200との組み合わせで構成されたものである。移送ユニット100は、四角形状のガラス板300を浮上させて移動方向310に移動させる。制御ユニット200は、ガラス板300を浮上させた状態で停止、静止させると共に、転換方向311に方向転換させる。さらに、搬送システムは、図示を省略しているが、ガラス板300に対して各種の処理を行う処理ユニットを備えている。   As a system that floats a plate-like substrate and conveys the plate-like substrate in this state, for example, there is a system that conveys a glass plate for a TFT type liquid crystal display. This transport system is shown in FIG. This transport system is configured by a combination of a transfer unit 100 and a control unit 200. The transfer unit 100 floats the rectangular glass plate 300 and moves it in the movement direction 310. The control unit 200 stops and stops in a state where the glass plate 300 is floated, and changes the direction in the change direction 311. Furthermore, although not shown, the transport system includes a processing unit that performs various processes on the glass plate 300.

移送ユニット100は、ガラス板300を直線的に移動させるために、通常、連結されて用いられる。この移送ユニット100の一例を図21に示す。移送ユニット100は、基部110と囲い材120とを備えている。基部110には、ガラス板300を浮上させるための気体、例えば、ガラス板300に影響を与えない窒素ガス、アルゴンガス、乾燥空気やその他のガスを供給する供給系111が配管されている。   The transfer unit 100 is usually connected and used in order to move the glass plate 300 linearly. An example of the transfer unit 100 is shown in FIG. The transfer unit 100 includes a base 110 and an enclosure member 120. The base 110 is provided with a supply system 111 for supplying a gas for floating the glass plate 300, for example, a nitrogen gas, an argon gas, dry air, or other gas that does not affect the glass plate 300.

囲い材120が覆う、基部110の上面112が搬送路の搬送面であり、上面112には、複数の噴出孔113が空けられている。図22に示すように、噴出孔113が上面112に対して傾斜して設けられ、噴出孔113の傾斜方向がガラス板300の移動方向310の中心112Aに向かって傾斜している。中心112Aは、上面112の中心でもある。   An upper surface 112 of the base 110 covered by the enclosure member 120 is a conveyance surface of the conveyance path, and a plurality of ejection holes 113 are formed in the upper surface 112. As shown in FIG. 22, the ejection hole 113 is inclined with respect to the upper surface 112, and the inclination direction of the ejection hole 113 is inclined toward the center 112 </ b> A of the moving direction 310 of the glass plate 300. The center 112A is also the center of the upper surface 112.

また、噴出孔113とは別に、図23に示すように、推進用の噴出孔115が、ガラス板300の移動方向310と平行に並んで、かつ、上面112に対して傾斜して空けられている。   In addition to the ejection holes 113, as shown in FIG. 23, the ejection ejection holes 115 are arranged parallel to the moving direction 310 of the glass plate 300 and inclined with respect to the upper surface 112. Yes.

噴出孔113,115は、上面112から補助穴114,116に至る間に空けられている。補助穴114,116は、供給系111にそれぞれ通じている。補助穴114,116は、噴出孔113,115の径が小さいので、噴出孔113,115の形成に際して前もって基部110に空けられる、径の大きな予備的な穴である。   The ejection holes 113 and 115 are formed between the upper surface 112 and the auxiliary holes 114 and 116. The auxiliary holes 114 and 116 communicate with the supply system 111, respectively. Since the diameters of the ejection holes 113 and 115 are small, the auxiliary holes 114 and 116 are preliminary holes having a large diameter that are formed in the base 110 in advance when the ejection holes 113 and 115 are formed.

供給系111から供給される気体が、補助穴114,116を経て、噴出孔113,115から噴出する。噴出孔113,115からの気体の噴出方向は、上面112に対して斜め上方に傾斜している。かつ、移動方向310に対して、噴出孔113からの気体が直角になり、噴出孔115からの気体が平行になっている。このような気体の噴出が、図24の噴出方向113A,115Aによって、平面的に表されている。   The gas supplied from the supply system 111 is ejected from the ejection holes 113 and 115 through the auxiliary holes 114 and 116. The jet direction of the gas from the jet holes 113 and 115 is inclined obliquely upward with respect to the upper surface 112. In addition, the gas from the ejection hole 113 is perpendicular to the moving direction 310 and the gas from the ejection hole 115 is parallel. Such gas ejection is represented planarly by the ejection directions 113A and 115A in FIG.

こうして、各噴出孔113,115から噴出方向113A,115Aに噴出された気体によって、ガラス板300が浮上して移動方向310に動くと同時に、ガラス板300の中心が上面112の中心112Aに沿って移動するので、ガラス板300の側面が囲い材120の側壁に接触することがない。つまり、各噴出孔113による調芯作用によって、ガラス板300の中心が上面112の中心112Aに移動する。ガラス板300に対する調芯によって、ガラス板300が囲い材120に対して非接触の状態で移動される。   Thus, the glass plate 300 is lifted and moved in the moving direction 310 by the gas jetted in the jetting directions 113A and 115A from the jet holes 113 and 115, and at the same time, the center of the glass plate 300 is along the center 112A of the upper surface 112. Since it moves, the side surface of the glass plate 300 does not contact the side wall of the enclosure member 120. That is, the center of the glass plate 300 moves to the center 112 </ b> A of the upper surface 112 by the aligning action of each ejection hole 113. By aligning the glass plate 300, the glass plate 300 is moved in a non-contact state with respect to the enclosure member 120.

制御ユニット200は、移送ユニット100から送られてくるガラス板300を受け取り、このガラス板300の停止、静止および移動方向の変更や、ガラス板300自身の回転等を行う。制御ユニット200は、ガラス板300に対する停止、静止等の制御を気体の噴出によって行う。   The control unit 200 receives the glass plate 300 sent from the transfer unit 100, and stops the glass plate 300, changes the stationary and moving direction, rotates the glass plate 300 itself, and the like. The control unit 200 performs control such as stopping and resting on the glass plate 300 by ejecting gas.

このような移送ユニット100および制御ユニット200で構成される搬送システムと、各種の処理ユニットとを組み合わせることによって、ガラス板300の処理システムが構築される。この搬送システムの一例が特願平3−328052号公報に示されている。   A processing system for the glass plate 300 is constructed by combining such a transport system including the transfer unit 100 and the control unit 200 and various processing units. An example of this transport system is shown in Japanese Patent Application No. 3-328052.

ところで、従来の浮上搬送装置には、以下の問題点があった。つまり、移送ユニットの噴出孔113は、ガラス板300の浮上とガラス板300に対する調芯との両方を、気体の噴出で行っている。このために、ガラス板300が重くなると、ガラス板300に対して噴出孔113による調芯作用が弱くなってくる。この結果、ガラス板300が蛇行して、移動時間が増加したり、また、ガラス板300が囲い材120に衝突するという課題が発生する。   By the way, the conventional levitation transport apparatus has the following problems. That is, the ejection hole 113 of the transfer unit performs both the floating of the glass plate 300 and the alignment with respect to the glass plate 300 by gas ejection. For this reason, when the glass plate 300 becomes heavy, the alignment effect by the ejection hole 113 with respect to the glass plate 300 becomes weak. As a result, the glass plate 300 meanders and the movement time increases, and the glass plate 300 collides with the enclosure member 120.

本発明は、このような課題を解決し、板状基体の形状や重量の影響を除き、板状基体に対して迅速な調芯をすることができる浮上搬送装置を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve such a problem and to provide a levitating and conveying apparatus capable of quickly aligning a plate-like substrate, excluding the influence of the shape and weight of the plate-like substrate. .

請求項1に記載の本発明は、板状の搬送面を具備し、この搬送面に沿って板状基体を送るための基部と、前記搬送面から気体を噴出することによって、板状基体を前記搬送面から浮上させると共に浮上した板状基体を前記搬送面に沿って移動させる第1噴出手段と、前記第1噴出手段によって浮上した板状基体を前記搬送面の中心位置に保つために、気体を噴出する第2噴出手段とを備えたことを特徴とする。   The present invention according to claim 1 comprises a plate-like substrate by providing a plate-like conveying surface, a base for sending the plate-like substrate along the conveying surface, and jetting gas from the conveying surface. In order to keep the plate-like substrate levitated from the conveying surface and moved along the conveying surface along the conveying surface, and the plate-like substrate levitated by the first ejecting means at the central position of the conveying surface, And a second jetting means for jetting gas.

この構成によって、基部の上面に送られて来た板状基体が第1噴出手段からの気体で浮上する。同時に、板状基体は、第2噴出手段からの気体によって、基部の上面の中心方向に迅速に移動される。これによって、板状基体は、蛇行して基部の上面からはみ出すことなく、この上面の上を直線的に移動する。   With this configuration, the plate-like substrate sent to the upper surface of the base portion floats with the gas from the first ejection means. At the same time, the plate-like substrate is quickly moved toward the center of the upper surface of the base by the gas from the second ejection means. Thus, the plate-like substrate moves linearly on the upper surface without meandering and protruding from the upper surface of the base.

請求項2に記載の本発明は、請求項1に記載の浮上搬送装置において、前記第2噴出手段は、前記搬送面上の両側に沿って配置されている2つの側方噴出部と、これらの2つの側方噴出部に気体を供給する供給系とを備え、前記各側方噴出部は、前記搬送面の中心方向に気体を噴出する噴出孔を多数具備したことを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the levitation conveyance apparatus according to the first aspect, the second ejection means includes two side ejection portions arranged along both sides on the conveyance surface, and these And a supply system for supplying gas to the two side jetting portions, each side jetting portion having a plurality of jet holes for jetting gas in the central direction of the transport surface.

請求項3に記載の本発明は、請求項2に記載の浮上搬送装置において、前記各側方噴出部は、前記搬送面の中心方向に移動可能であることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the levitation conveyance apparatus according to the second aspect, each of the side ejection portions is movable in the central direction of the conveyance surface.

請求項4に記載の本発明は、請求項1に記載の浮上搬送装置において、前記第2噴出手段は、前記搬送面の中心を挟むように前記搬送面に配置されると共に前記搬送面の中心方向に気体を噴出する2つの面側噴出部と、これらの面側噴出部に気体を供給する供給系とを備えたことを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the levitation conveyance apparatus according to the first aspect, the second ejection unit is disposed on the conveyance surface so as to sandwich the center of the conveyance surface, and the center of the conveyance surface. It is characterized by comprising two surface side ejection portions for ejecting gas in the direction and a supply system for supplying gas to these surface side ejection portions.

請求項5に記載の本発明は、請求項4に記載の浮上搬送装置において、前記各面側噴出部は、前記搬送面に沿って少なくとも1つの噴出孔列を具備し、前記噴出孔列は、前記搬送面の中心に向かって複数列設けられ、前記各噴出孔列は、前記搬送面の中心に向けて気体を噴出すると共に前記搬送面に沿って並んでいる多数の噴出孔を具備したことを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, in the levitation conveyance apparatus according to the fourth aspect, each of the surface-side ejection portions includes at least one ejection hole array along the transport surface, and the ejection hole array includes: A plurality of ejection holes arranged toward the center of the conveying surface, each of the ejection hole rows ejecting gas toward the center of the conveying surface and having a plurality of ejection holes arranged along the conveying surface It is characterized by that.

請求項6に記載の本発明は、請求項4に記載の浮上搬送装置において、前記各面側噴出部は、前記搬送面に沿って少なくとも1つの噴出スリット列を具備し、前記噴出スリット列は、前記搬送面の中心に向かって複数列設けられ、前記各噴出スリット列は、前記搬送面の中心に向けて気体を噴出すると共に前記搬送面に沿って並んでいる複数の噴出スリットを具備したことを特徴とする。   According to a sixth aspect of the present invention, in the levitation conveyance apparatus according to the fourth aspect, each of the surface-side ejection units includes at least one ejection slit row along the transport surface, and the ejection slit row includes: A plurality of ejection slits are provided toward the center of the transport surface, and each of the ejection slit rows includes a plurality of ejection slits that eject gas toward the center of the transport surface and are arranged along the transport surface. It is characterized by that.

実施の形態1に係わる浮上搬送装置の基部を示す平面図である。2 is a plan view showing a base portion of the levitation transport apparatus according to Embodiment 1. FIG. 図1のI―I断面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the II cross section of FIG. 図1のII―II断面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the II-II cross section of FIG. 気体の噴出の様子を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the mode of the ejection of gas. 噴出された気体による調芯の様子を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the mode of the alignment by the ejected gas. 実施の形態2に係わる浮上搬送装置の基部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the base of the levitation conveyance apparatus concerning Embodiment 2. FIG. 実施の形態3に係わる浮上搬送装置の基部を示す平面図である。10 is a plan view showing a base portion of a levitation transport apparatus according to Embodiment 3. FIG. 図7のIII−III断面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the III-III cross section of FIG. 実施の形態3に係わる噴出装置を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing an ejection device according to a third embodiment. 実施の形態4に係わる噴出装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the ejection apparatus concerning Embodiment 4. 実施の形態5に係わる基部の断面を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a cross section of a base according to a fifth embodiment. 実施の形態6に係わる浮上搬送装置の基部を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing a base portion of a levitation transport apparatus according to a sixth embodiment. 図12のIV―IV断面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the IV-IV cross section of FIG. 図12のスリットの部分を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the part of the slit of FIG. 実施の形態7に用いられている噴出スリット構造を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing an ejection slit structure used in the seventh embodiment. 図15のV−V断面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the VV cross section of FIG. 図16の溝を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the groove | channel of FIG. 図16の遮蔽板の断面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the cross section of the shielding board of FIG. 図16の遮蔽板の底面を示す底面図である。It is a bottom view which shows the bottom face of the shielding board of FIG. 従来の板状基体搬送システムを示す平面図である。It is a top view which shows the conventional plate-shaped base | substrate conveyance system. 従来の移送ユニットを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the conventional transfer unit. 図21のXI−XI断面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the XI-XI cross section of FIG. 図21のXII−XII断面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the XII-XII cross section of FIG. 従来の移送ユニットによる噴出方向を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the ejection direction by the conventional transfer unit.

[実施の形態1]
次に、図1〜5を参照して、本発明の実施の形態1について述ベる。図1は、実施の形態1に係わる浮上搬送装置の基部を示す平面図である。図2は、図1のI―I断面を示す断面図である。図3は、図1のII―II断面を示す断面図である。図4は、気体の噴出の様子を説明するための説明図である。図5は、噴出された気体による調芯の様子を説明するための説明図である。
[Embodiment 1]
Next, Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a plan view showing a base portion of the levitation transport apparatus according to the first embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view showing a II cross section of FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a II-II cross section of FIG. FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining a state of gas ejection. FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining a state of alignment by the ejected gas.

実施の形態1では、図21の基部110の代わりに、図1に示される基部1が用いられている。基部1は、移動方向310に対して長い長方形をしている。かつ、基部1は、上面11が平らな板状体である。 In Embodiment 1, the base 1 shown in FIG. 1 is used instead of the base 110 of FIG. The base 1 has a long rectangle with respect to the moving direction 310. And, the base 1 has an upper surface 1 1 is a flat plate-like body.

基部1の上面11の端部付近には、設定ライン1A1,1A2が設定されている。さらに、設定ライン1A1,1A2の内側には、設定ライン1B1,1B2が設定され、その内側には、設定ライン1C1,1C2が設定されている。 In the vicinity of the end portion of the upper surface 1 1 of the base portion 1, it is set set lines 1A 1, 1A 2. Further, setting lines 1B 1 and 1B 2 are set inside the setting lines 1A 1 and 1A 2 , and setting lines 1C 1 and 1C 2 are set inside thereof.

設定ライン1A1〜1C1,1A2〜1C2は、浮上用噴出孔を配置するためのものである。つまり、設定ライン1A1,1A2には、図2に示すように、多数の噴出孔2A11,2A21と多数の補助穴2A12,2A22とが設けられ、設定ライン1B1,1B2には、多数の噴出孔2B11,2B21と多数の補助穴2B12,2B22とがそれぞれ設けられている。さらに、設定ライン1C1,1C2には、多数の噴出孔2C11,2C21と多数の補助穴2C12,2C22とが設けられている。 The setting lines 1A 1 to 1C 1 and 1A 2 to 1C 2 are for arranging the buoyant holes. That is, as shown in FIG. 2, the setting lines 1A 1 and 1A 2 are provided with a large number of ejection holes 2A 11 and 2A 21 and a large number of auxiliary holes 2A 12 and 2A 22, and the setting lines 1B 1 and 1B 2 are provided. the, a number of ejection holes 2B 11, 2B 21 and a number of auxiliary holes 2B 12, 2B 22, respectively. Further, the setting lines 1C 1 and 1C 2 are provided with a large number of ejection holes 2C 11 and 2C 21 and a large number of auxiliary holes 2C 12 and 2C 22 .

噴出孔2A11〜2C11,2A21〜2C21および補助穴2A12〜2C12,2A22〜2C22は、図22の噴出孔113および補助穴114とそれぞれ同じである。そして、噴出孔2A11と補助穴2A12、噴出孔2B11と補助穴2B12、噴出孔2C11と補助穴2C12、噴出孔2A21と補助穴2A22、噴出孔2B21と補助穴2B22および噴出孔2C21と補助穴2C22が、浮上用噴出部分2A1,2B1,2C1,2A2,2B2,2C2をそれぞれ構成する。さらに、すべての噴出孔2A11,2B11,2C11,2A21,2B21,2C21が、浮上用噴出孔列をそれぞれ形成する。 The ejection holes 2A 11 to 2C 11 , 2A 21 to 2C 21 and the auxiliary holes 2A 12 to 2C 12 , 2A 22 to 2C 22 are respectively the same as the ejection holes 113 and the auxiliary holes 114 of FIG. The ejection hole 2A 11 and the auxiliary holes 2A 12, ejection hole 2B 11 and the auxiliary hole 2B 12, ejection hole 2C 11 and the auxiliary hole 2C 12, discharge holes 2A 21 and the auxiliary holes 2A 22, discharge holes 2B 21 and the auxiliary hole 2B 22 and the ejection hole 2C 21 and the auxiliary hole 2C 22 constitutes flying jet portion 2A 1, 2B 1, 2C 1 , 2A 2, 2B 2, 2C 2 , respectively. Further, all the ejection holes 2A 11 , 2B 11 , 2C 11 , 2A 21 , 2B 21 , 2C 21 form a levitation ejection hole array, respectively.

設定ライン1C1と設定ライン1C2との間には、設定ライン1D1,1D2,1E1,1E2がそれぞれ設定されている。設定ライン1D1,1D2,1E1,1E2は、移動用噴出孔を配置するためのものである。つまり、設定ライン1D1,1D2には、多数の噴出孔2D11,2D21と多数の補助穴2D12,2D22とが設けられている。設定ライン1E1,1E2には、多数の噴出孔2E11,2E21と多数の補助穴2E12,2E22とが設けられている。 Setting lines 1D 1 , 1D 2 , 1E 1 and 1E 2 are set between the setting line 1C 1 and the setting line 1C 2 , respectively. The setting lines 1D 1 , 1D 2 , 1E 1 , 1E 2 are for arranging the moving ejection holes. That is, the setting lines 1D 1 and 1D 2 are provided with a large number of ejection holes 2D 11 and 2D 21 and a large number of auxiliary holes 2D 12 and 2D 22 . The setting lines 1E 1 and 1E 2 are provided with a large number of ejection holes 2E 11 and 2E 21 and a large number of auxiliary holes 2E 12 and 2E 22 .

各噴出孔2E11,2E21および各補助穴2E12,2E22は、図23の噴出孔115および補助穴116とそれぞれ同じであり、ガラス板を移動方向310に送る。各噴出孔2D11,2D21および各補助穴2D12,2D22は、ガラス板を移動方向310と反対方向に送る。そして、噴出孔2D11と補助穴2D12、噴出孔2D21と補助穴2D22が第1移動用噴出部分2D1,2D2をそれぞれ形成し、噴出孔2E11と補助穴2E12、噴出孔2E21と補助穴2E22が第2移動用噴出部分2E1,2E2をそれぞれ形成する。 The ejection holes 2E 11 and 2E 21 and the auxiliary holes 2E 12 and 2E 22 are the same as the ejection holes 115 and the auxiliary holes 116 in FIG. 23, respectively, and send the glass plate in the moving direction 310. Each ejection hole 2D 11 , 2D 21 and each auxiliary hole 2D 12 , 2D 22 send the glass plate in a direction opposite to the moving direction 310. The ejection hole 2D 11 and the auxiliary hole 2D 12 , and the ejection hole 2D 21 and the auxiliary hole 2D 22 form the first movement ejection parts 2D 1 and 2D 2 , respectively. The ejection hole 2E 11 , the auxiliary hole 2E 12 , and the ejection hole 2E 21 and auxiliary hole 2E 22 form second moving ejection portions 2E 1 and 2E 2 , respectively.

基部1の上面11の一方の端部と設定ライン1A1との間、および、上面11の他方の端部と設定ライン1A2との間には、設定ライン1F1,1F2がそれぞれ設定されている。設定ライン1A1,1B1,1C1の各間には、設定ライン1G1,1H1がそれぞれ設定され、設定ライン1A2,1B2,1C2の各間には、設定ライン1G2,1H2がそれぞれ設定されている。つまり、設定ライン1A1,1B1,1C1と設定ライン1F1,1G1,1H1とが交互に配置され、同様に、設定ライン1A2,1B2,1C2と設定ライン1F2,1G2,1H2とが交互に配置されている。この結果、設定ライン1F1,1G1,1H1が一定間隔で配置され、同じく、設定ライン1F2,1G2,1H2が一定間隔で配置されることになる。 Between one end of the upper surface 1 1 of the base portion 1 and the set lines 1A 1, and between the other end portion of the upper surface 1 1 and the set line 1A 2, setting the line 1F 1, 1F 2, respectively Is set. To set the line 1A 1, 1B 1, each between 1C 1 is set set line 1G 1, IH 1, respectively, between each set line 1A 2, 1B 2, 1C 2 , setting the line 1G 2, IH 2 is set for each. That is, the setting lines 1A 1 , 1B 1 , 1C 1 and the setting lines 1F 1 , 1G 1 , 1H 1 are alternately arranged. Similarly, the setting lines 1A 2 , 1B 2 , 1C 2 and the setting lines 1F 2 , 1G are arranged. 2 and 1H 2 are alternately arranged. As a result, the setting lines 1F 1 , 1G 1 , 1H 1 are arranged at regular intervals, and similarly, the setting lines 1F 2 , 1G 2 , 1H 2 are arranged at regular intervals.

設定ライン1F1,1F2には、図3に示すように、多数の噴出孔2F11,2F21と多数の補助穴2F12,2F22とが設けられている。各噴出孔2F11,2F21が、基部1の上面11に対して上方向に、かつ、上面11の中心12に向けて気体を噴出する。 As shown in FIG. 3, the setting lines 1F 1 and 1F 2 are provided with a large number of ejection holes 2F 11 and 2F 21 and a large number of auxiliary holes 2F 12 and 2F 22 . Each ejection hole 2F 11, 2F 21 is, in the upward direction relative to the upper surface 1 1 of the base 1, and ejecting a gas toward the center 1 2 of the top surface 1 1.

設定ライン1F1に位置する噴出孔2F11と補助穴2F12とが、ガラス板300の調芯をするための調芯用噴出部分2F1を構成する。図4に示すように、調芯用噴出部分2F1の噴出孔2F11が、ガラス板300の側壁301に向けて、噴出方向θ1で気体を噴出する。このときの気体の噴出方向θ1は、浮上用噴出部分2A1の噴出孔2A11が噴出する気体の噴出方向がθ2であるとき、次のように設定されている。なお、噴出方向θ1,θ2は、上面11を基準にした角度である。 The ejection hole 2F 11 and the auxiliary hole 2F 12 located on the setting line 1F 1 constitute the alignment ejection part 2F 1 for aligning the glass plate 300. As shown in FIG. 4, the ejection hole 2 </ b> F 11 of the alignment ejection portion 2 </ b> F 1 ejects gas toward the side wall 301 of the glass plate 300 in the ejection direction θ <b> 1. Ejection direction θ1 of the gas at this time, when the ejection direction of the gas ejection hole 2A 11 of flying jet portion 2A 1 is ejected is .theta.2, it is set as follows. Incidentally, ejection direction .theta.1, .theta.2 is an angle relative to the top surface 1 1.

0(ゼロ)<噴出方向θ1<噴出方向θ2
噴出方向θ1,θ2のこのような設定によって、気体の噴出で発生する力がガラス板300に働く。つまり、噴出方向θ1に噴出された気体によって、ガラス板300が受ける力W1は、上面11と平行な力である調芯力W11と、上面11に対して直角な力である浮上力W12とに分けられる。同じく、噴出方向θ2に噴出された気体によって、ガラス板300が受ける力W2は、調芯力W21と浮上力W22とに分けられる。
0 (zero) <ejection direction θ1 <ejection direction θ2
By such setting of the ejection directions θ1 and θ2, the force generated by the ejection of gas acts on the glass plate 300. That is, the jetted gas in the ejection direction .theta.1, the force W 1 of the glass plate 300 is received by a centering force W 11 is a force parallel to the upper surface 1 1 is a perpendicular force to the top surface 1 1 levitation It is divided into a force W 12. Similarly, the jetted gas in the ejection direction .theta.2, the force W 2 of the glass plate 300 is subjected is divided into a centering force W 21 and levitation force W 22.

噴出方向θ1が噴出方向θ2に比べて小さいので、推進力と浮上力との関係が次のようになる。   Since the ejection direction θ1 is smaller than the ejection direction θ2, the relationship between the propulsive force and the levitation force is as follows.

調芯力W21<調芯力W11
浮上力W22>浮上力W12
これによって、浮上用噴出部分2A1の調芯力W21に比べて、調芯用噴出部分2F1の調芯力W11が大きくなるので、主に、噴出方向θ1の気体によって、ガラス板300が上面1の中心12に移動する。
Alignment force W 21 <Alignment force W 11
Levitation force W 22 > Levitation force W 12
As a result, the alignment force W 11 of the alignment ejection portion 2F 1 becomes larger than the alignment force W 21 of the levitation ejection portion 2A 1 , so that the glass plate 300 is mainly formed by the gas in the ejection direction θ1. There moves to the center 1 2 of the top surface 1.

設定ライン1F1と同じようにして、設定ライン1F2には、多数の噴出孔2F21と多数の補助穴2F22とが設けられている。噴出孔2F21と補助穴2F22とが調芯用噴出部分2F2を構成する。調芯用噴出部分2F2が噴出する気体の噴出方向が、調芯用噴出部分2F1からの気体の噴出方向と向かい合うように、調芯用噴出部分2F2の噴出孔21と調芯用噴出部分2F1の噴出孔2F11とが配列されている。これによって、調芯用噴出部分2F2は、調芯用噴出部分2F1と対になって、ガラス板に対する調芯を行う。 In a similar manner to setting line 1F 1, the set line 1F 2, a plurality of ejection holes 2F 21 and a number of auxiliary holes 2F 22 is provided. The ejection hole 2F 21 and the auxiliary hole 2F 22 constitute a centering ejection part 2F 2 . Tone ejection direction of the gas core for ejecting portion 2F 2 is ejected is adjusted with opposing like ejection direction of the gas from the core for ejecting portion 2F 1, regulation ejection hole 21 DOO alignment for ejection of the core for jet portion 2F 2 and ejection hole 2F 11 parts 2F 1 are arranged. Thus, alignment for ejecting portion 2F 2 is paired with ejection portion 2F 1 for alignment, it performs alignment for the glass plate.

設定ライン1G1,1G2には、多数の噴出孔2G11,2G21と多数の補助穴2G12,2G22とが設けられている。噴出孔2G11と補助穴2G12とが調芯用噴出部分2G1を構成し、噴出孔2G21と補助穴2G22とが調芯用噴出部分2G2を構成する。調芯用噴出部分2G1,2G1は、調芯噴出部分2F1,2F2と同じであり、各噴出孔2G11,2G21が上面11の中心12に向けて、噴出方向θ1に気体をそれぞれ噴出する。 The setting lines 1G 1 and 1G 2 are provided with a large number of ejection holes 2G 11 and 2G 21 and a large number of auxiliary holes 2G 12 and 2G 22 . Configure the ejection hole 2G 11 and the auxiliary hole 2G ejection portion 2G 1 for 12 transgression alignment, constituting the ejection hole 2G 21 and the auxiliary hole 2G 22 transgression alignment for ejecting portion 2G 2. Ejection portion 2G 1, 2G 1 for alignment is the same as the alignment ejection portion 2F 1, 2F 2, each ejection hole 2G 11, 2G 21 is toward the center 1 2 of the top surface 1 1, the ejection direction θ1 Each gas is ejected.

設定ライン1H1,1H2には、多数の噴出孔2H11,2H21と多数の補助穴2H12,2H22とが設けられている。噴出孔2H11と補助穴2H12とが調芯用噴出部分2H1を構成し、噴出孔2H21と補助穴2H22とが調芯用噴出部分2H2を構成する。調芯用噴出部分2H1,2H1は、調芯噴出部分2F1,2F2と同じであり、各噴出孔2H11,2H21が上面11の中心12に向けて、噴出方向θ1に気体をそれぞれ噴出する。 The setting lines 1H 1 and 1H 2 are provided with a large number of ejection holes 2H 11 and 2H 21 and a large number of auxiliary holes 2H 12 and 2H 22 . Configure the ejection hole 2H 11 and the auxiliary hole 2H 12 ejection portion 2H 1 for transgressions alignment, constituting the ejection hole 2H 21 and the auxiliary hole 2H 22 transgression alignment for ejecting portion 2H 2. Ejection portion 2H 1, 2H 1 for alignment is the same as the alignment ejection portion 2F 1, 2F 2, each ejection hole 2H 11, 2H 21 is toward the center 1 2 of the top surface 1 1, the ejection direction θ1 Each gas is ejected.

設定ライン1F1上の噴出孔2F11と設定ライン1G1上の噴出孔2G11と設定ライン1H1上の噴出孔2H11とが第1の面側噴出部を形成し、また、設定ライン1F2上の噴出孔2F21と設定ライン1G2上の噴出孔2G21と設定ライン1H2上の噴出孔2H21とが第2の面側噴出部を形成する。さらに、第1と第2の面側噴出部と供給系(図示を省略)とが第2噴出手段を構成する。 The ejection hole 2F 11 on setting line 1F 1 and ejection hole 2G 11 on setting line 1G 1 and ejection hole 2H 11 on setting line IH 1 forms a first surface jetting unit, also setting the line 1F the ejection hole 2F 21 on 2 settings and ejection holes 2G 21 on line 1G 2 and discharge holes 2H 21 on setting line IH 2 to form a second side ejection part. Furthermore, the first and second surface-side ejection portions and the supply system (not shown) constitute second ejection means.

次に、この実施の形態1の動作について説明する。   Next, the operation of the first embodiment will be described.

基部1に送り込まれたガラス板300は、浮上用噴出部分2A1〜2C1,2A2〜2C2から噴出される気体で浮上する。また、ガラス板300は、第1移動用噴出部分2D1,2D2から噴出される気体で移動方向310に送られる。 The glass plate 300 sent to the base 1 floats with the gas ejected from the surfacing ejection portions 2A 1 to 2C 1 and 2A 2 to 2C 2 . Moreover, the glass plate 300 is sent to the moving direction 310 by the gas ejected from the first moving ejection portions 2D 1 and 2D 2 .

同時に、ガラス板300の側壁301には、このガラス板300の幅に応じた調芯用噴出部分、例えば図5に示すように、調芯用噴出部分2F1,2F2からの気体が噴出される。噴出される気体によって、ガラス板300が中心12に移動し、ガラス板300に対する調芯が行われる。 At the same time, gas from the alignment jetting portion corresponding to the width of the glass plate 300, for example, the alignment jetting portions 2F 1 and 2F 2 is jetted to the side wall 301 of the glass plate 300 as shown in FIG. The The gas blown, glass plate 300 is moved to the center 1 2, alignment with respect to the glass plate 300 is performed.

このように、実施の形態1によれば、浮上用噴出部分2A1〜2C1,2A2〜2C2、第1移動用噴出部分2D1,2D2、第2移動用噴出部分2E1,2E2とは別に、調芯用噴出部分2F1〜2H1,2F2〜2H2が設けられている。そして、調芯用噴出部分2F1〜2H1,2F2〜2H2が噴出する気体によって、ガラス板300に対する調芯が行われるので、ガラス板300が重くなっても、調芯用に強く噴出される気体によって、ガラス板300に対する調芯を行うことができる。 As described above, according to the first embodiment, the floating ejection portions 2A 1 to 2C 1 , 2A 2 to 2C 2 , the first movement ejection portions 2D 1 and 2D 2 , and the second movement ejection portions 2E 1 and 2E. Apart from 2 , centering ejection portions 2F 1 to 2H 1 and 2F 2 to 2H 2 are provided. And since the alignment with respect to the glass plate 300 is performed by the gas ejected from the alignment jetting portions 2F 1 to 2H 1 and 2F 2 to 2H 2 , even if the glass plate 300 becomes heavy, it is strongly ejected for alignment. The alignment with respect to the glass plate 300 can be performed by the gas to be performed.

また、調芯用噴出部分2F1〜2H1と調芯用噴出部分2F2〜2H2とが、上面11の中心12に向かって順に並んでいる。この結果、ガラス板の幅に応じて調芯用噴出部分2F1〜2H1と調芯用噴出部分2F2〜2H2との中から、最適な調芯用噴出部分を選択すれば、任意の幅のガラス板に対する調芯を行うことができる。つまり、ガラス板の搬送の後、このガラス板と幅が異なるガラス板の搬送(以下、ガラス板の混載搬送という)を可能にする。 Also, adjusting the core for ejecting portion 2F 1 through 2h 1 DOO alignment for ejecting portion 2F 2 through 2h 2 it has arranged in order toward the center 1 2 of the top surface 1 1. As a result, from the ejection portion 2F 1 through 2h 1 DOO alignment for ejecting portion 2F 2 through 2h 2 for alignment in accordance with the width of the glass plate, by selecting the ejection portion for optimal alignment, any Alignment of the width glass plate can be performed. That is, after conveyance of a glass plate, conveyance of a glass plate having a width different from that of the glass plate (hereinafter referred to as mixed conveyance of glass plates) is enabled.

[実施の形態2]
次に、図6を参照して、本発明の実施の形態2について述ベる。図6は、実施の形態2に係わる浮上搬送装置の基部を示す断面図である。
[Embodiment 2]
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view showing the base of the levitation transport apparatus according to the second embodiment.

実施の形態2では、実施の形態1で用いられた浮上用噴出部分2A1〜2C1,2A2〜2C2の代わりに、図6に示す浮上用噴出部分11A1〜11C1,11A2〜11C2が用いられている。つまり、実施の形態2の浮上用噴出部分11A1,11A2は、多数の噴出孔11A11,11A21と多数の補助穴11A12,11A22とを備えている。各補助穴11A12,11A22は、実施の形態1の補助穴2A12,2A22とそれぞれ同じである。 In the second embodiment, instead of the floating ejection portions 2A 1 to 2C 1 and 2A 2 to 2C 2 used in the first embodiment, the floating ejection portions 11A 1 to 11C 1 and 11A 2 to 11 shown in FIG. 11C 2 is used. That is, the floating ejection portions 11A 1 and 11A 2 according to the second embodiment include a large number of ejection holes 11A 11 and 11A 21 and a large number of auxiliary holes 11A 12 and 11A 22 . The auxiliary holes 11A 12 and 11A 22 are the same as the auxiliary holes 2A 12 and 2A 22 of the first embodiment, respectively.

各噴出孔11A11,11A21は、実施の形態1の噴出孔2A11,2A21と異なり、基部10の上面101に対して直角方向に気体を噴出する。つまり、実施の形態2では、図5の噴出方向θ2が90度であり、各噴出孔11A11,11A21は、ガラス板の浮上専用として用いられている。 Unlike the ejection holes 2A 11 and 2A 21 of the first embodiment, the ejection holes 11A 11 and 11A 21 eject gas in a direction perpendicular to the upper surface 10 1 of the base 10. In other words, in the second embodiment, an ejection direction θ2 in Fig. 5 is 90 degrees, the jet holes 11A 11, 11A 21 is used as floating dedicated glass plate.

浮上用噴出部分11B1,11C1は、多数の噴出孔11B11,11C11と多数の補助穴11B12,11C12とを備え、浮上用噴出部分11B2,11C2は、多数の噴出孔11B21,11C21と多数の補助穴11B22,11C22とを備えている。 The floating ejection portions 11B 1 and 11C 1 include a large number of ejection holes 11B 11 and 11C 11 and a large number of auxiliary holes 11B 12 and 11C 12 , and the floating ejection portions 11B 2 and 11C 2 include a large number of ejection holes 11B. and a 21, 11C 21 and the plurality of auxiliary holes 11B 22, 11C 22.

噴出孔11B11,11C11および補助穴11B12,11C12は、噴出孔11A11および補助穴11A12とそれぞれ同じであり、噴出孔11B21,11C21および補助穴11B22,11C22は、噴出孔11A21および補助穴11A22とそれぞれ同じである。 The ejection holes 11B 11 and 11C 11 and the auxiliary holes 11B 12 and 11C 12 are the same as the ejection hole 11A 11 and the auxiliary hole 11A 12 , respectively, and the ejection holes 11B 21 and 11C 21 and the auxiliary holes 11B 22 and 11C 22 are ejected. the hole 11A 21 and the auxiliary holes 11A 22 are each identical.

また、実施の形態2では、実施の形態1と同じ第1移動用噴出部分11D1,11D2と第2移動用噴出部分11E1,11E2とを備えている。 Further, the second embodiment includes the same first moving ejection portions 11D 1 and 11D 2 and the second moving ejection portions 11E 1 and 11E 2 as in the first embodiment.

さらに、実施の形態2では、図示を省略しているが、実施の形態1と同じ調芯用噴出部分を備えている。   Further, in the second embodiment, although not shown, the same alignment jetting portion as in the first embodiment is provided.

こうして、実施の形態2によって、浮上用噴出部分11A1〜11C1,11A2〜11C2が基部10の上面101に対して直角方向に気体を噴出するので、ガラス板が重くなっても、浮上用噴出部分11A1〜11C1,11A2〜11C2と調芯用噴出部分とによって、上面101の中心に沿ってガラス板を浮上させて、移動させることができる。 Thus, according to the second embodiment, the floating ejection portions 11A 1 to 11C 1 and 11A 2 to 11C 2 eject gas in a direction perpendicular to the upper surface 10 1 of the base 10, so that even if the glass plate becomes heavy, by the levitating ejection portions 11A 1 ~11C 1, 11A 2 ~11C 2 Doo alignment for ejecting portion, it is possible by floating the glass sheet along the center of the upper surface 10 1 is moved.

また、浮上用噴出部分11A1〜11C1,11A2〜11C2が基部10の上面101に対して直角方向に気体を噴出するので、図4の噴出方向θ1を、
0<θ1<90
のように、広範囲に設定することができる。
Further, since the floating ejection portions 11A 1 to 11C 1 and 11A 2 to 11C 2 eject gas in a direction perpendicular to the upper surface 10 1 of the base 10, the ejection direction θ1 in FIG.
0 <θ1 <90
In this way, it can be set over a wide range.

[実施の形態3]
次に、図7〜9を参照して、本発明の実施の形態3について述ベる。図7は、実施の形態3に係わる浮上搬送装置の基部を示す平面図である。図8は、図7のIII−III断面を示す断面図である。図9は、実施の形態3に係わる噴出装置を示す斜視図である。
[Embodiment 3]
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is a plan view showing the base of the levitation transport apparatus according to the third embodiment. 8 is a cross-sectional view showing a cross section taken along the line III-III in FIG. FIG. 9 is a perspective view showing the ejection device according to the third embodiment.

実施の形態3による浮上搬送装置は、浮上によって板状基体を搬送する搬送システムの中の移送ユニットであり、基部21、囲い材22および側方噴出部として調芯部23,24を備えている。   The levitating and conveying apparatus according to the third embodiment is a transfer unit in a conveying system that conveys a plate-like substrate by levitating, and includes a base 21, an enclosure member 22, and alignment parts 23 and 24 as side ejection parts. .

囲い材22は、図21の囲い材120と同じである。基部21は、噴出孔21A11〜21A61と補助穴21A12〜21A62とをそれぞれ備えている浮上用噴出部分21A1〜21A6、噴出孔21B11,21B12と補助穴21B12,21B22とをそれぞれ備えている第1移動用噴出部分21B1,21B2、および、噴出孔21C11,21C12と補助穴21C12,21C22とをそれぞれ備えている第2移動用噴出部分21C1,21C2を備えている。 The enclosure material 22 is the same as the enclosure material 120 of FIG. The base portion 21 includes levitation jet portions 21A 1 to 21A 6 , jet holes 21B 11 and 21B 12, and auxiliary holes 21B 12 and 21B 22 each having jet holes 21A 11 to 21A 61 and auxiliary holes 21A 12 to 21A 62. , First moving jetting portions 21B 1 , 21B 2 , and second moving jetting portions 21C 1 , 21C 11 , 21C 12 and auxiliary holes 21C 12 , 21C 22 , respectively. 21C 2 is provided.

浮上用噴出部分21A1〜21A3,21A4〜21A6は、実施の形態1の浮上用噴出部分2A1〜2C1,2A2〜2C2とそれぞれ同じであり、第1移動用噴出部分21B1,21B2は、実施の形態1の第1移動用噴出部分2D1,2D2と同じである。また、第2移動用噴出部分21C1,21C2は、実施の形態1の第2移動用噴出部分2E1,2E2と同じである。 The floating ejection portions 21A 1 to 21A 3 and 21A 4 to 21A 6 are the same as the floating ejection portions 2A 1 to 2C 1 and 2A 2 to 2C 2 of the first embodiment, respectively, and the first moving ejection portion 21B. 1 and 21B 2 are the same as the first moving ejection portions 2D 1 and 2D 2 of the first embodiment. Further, the second moving ejection portions 21C 1 and 21C 2 are the same as the second moving ejection portions 2E 1 and 2E 2 of the first embodiment.

調芯部23,24は、駆動装置23A,24A、4つの伸縮装置23B,24Bおよび4つの噴出装置23C,24Cをそれぞれ備えている。   The alignment portions 23 and 24 include drive devices 23A and 24A, four expansion devices 23B and 24B, and four ejection devices 23C and 24C, respectively.

伸縮装置23B,24Bは、囲い材22に空けられた貫通穴22Aを通り、4つの噴出装置23C,24Cを駆動装置23A,24Aにそれぞれ接続する。伸縮装置23B,24Bは、移動方向310と直角な方向に、かつ、基部21の中心に向かって、駆動装置23A,24Aの制御でそれぞれ伸縮する。また、伸縮装置23B,24Bは、駆動装置23A,24Aからの気体を噴出装置23C,24Cにそれぞれ送る。   The telescopic devices 23B and 24B pass through the through holes 22A formed in the enclosure member 22 and connect the four ejection devices 23C and 24C to the driving devices 23A and 24A, respectively. The expansion and contraction devices 23B and 24B expand and contract in the direction perpendicular to the moving direction 310 and toward the center of the base 21 under the control of the drive devices 23A and 24A, respectively. The expansion devices 23B and 24B send the gas from the drive devices 23A and 24A to the ejection devices 23C and 24C, respectively.

駆動装置23A,24Aは、4つの伸縮装置23B,24Bをそれぞれ駆動する。つまり、駆動装置23A,24Aは、送られてくるガラス板300の幅に応じて、4つの伸縮装置23B,24Bを基部21の中心に向かってそれぞれ伸縮させる。これによって、駆動装置23A,24Aは、噴出装置23C,24Cをガラス板300の側壁付近に位置するようにする。同時に、駆動装置23A,24Aは、伸縮装置23B,24Bを経て、噴出装置23C,24Cにそれぞれ気体を送る。   The driving devices 23A and 24A drive the four telescopic devices 23B and 24B, respectively. That is, the driving devices 23A and 24A expand and contract the four expansion and contraction devices 23B and 24B toward the center of the base portion 21 according to the width of the glass plate 300 that is sent. Thus, the drive devices 23A and 24A position the ejection devices 23C and 24C in the vicinity of the side wall of the glass plate 300. At the same time, the driving devices 23A and 24A send gas to the ejection devices 23C and 24C via the expansion devices 23B and 24B, respectively.

噴出装置23Cは、図9に示すように、直方体の形状であり、ガラス板300の送り方向に長くなっている。噴出装置23Cの内部が中空である。噴出装置23Cの正面23C1、つまり、噴出装置24Cと向かい合う面には、複数の噴出孔23C2が空けられている。噴出孔23C2は、浮上したガラス板300の側面の下部に位置するように、正面23C1に空けられている。かつ、噴出孔23C2は、噴出装置23Cの長手方向に一列に並んで空けられている。これによって、噴出孔23C2は、基部21の上面に対して水平方向に、つまり、この上面に対して傾斜角度0(ゼロ)で気体を噴出する。各噴出装置24Cは、噴出装置23Cとそれぞれ同じであるので、説明を省略する。 As shown in FIG. 9, the ejection device 23 </ b> C has a rectangular parallelepiped shape and is elongated in the feeding direction of the glass plate 300. The inside of the ejection device 23C is hollow. A plurality of ejection holes 23C 2 are formed in the front surface 23C 1 of the ejection device 23C, that is, the surface facing the ejection device 24C. The ejection hole 23C 2 is formed in the front surface 23C 1 so as to be located at the lower part of the side surface of the floated glass plate 300. In addition, the ejection holes 23C 2 are opened in a row in the longitudinal direction of the ejection device 23C. Thus, the ejection hole 23C 2 ejects gas in a horizontal direction with respect to the upper surface of the base portion 21, that is, with an inclination angle of 0 (zero) with respect to the upper surface. Since each ejection device 24C is the same as the ejection device 23C, description thereof is omitted.

4つの噴出装置23C,24Cは、駆動装置23A,24Aから送られてくる気体を、基部21の中心に向けて噴出孔23C2からそれぞれ噴出する。このとき、噴出装置23C,24Cは、ガラス板300の側面の下部に気体を噴出する。この結果、実施の形態3によって、噴出装置23C,24Cは、ガラス板300の中心が基部21の中心に位置するように、ガラス板300を気体の噴出で動かすことができる。 The four ejection devices 23C and 24C eject the gas sent from the drive devices 23A and 24A from the ejection holes 23C 2 toward the center of the base portion 21, respectively. At this time, the ejection devices 23 </ b> C and 24 </ b> C eject gas to the lower part of the side surface of the glass plate 300. As a result, according to the third embodiment, the ejection devices 23C and 24C can move the glass plate 300 by gas ejection so that the center of the glass plate 300 is positioned at the center of the base portion 21.

また、噴出装置23C,24Cは、浮上したガラス板300の下部の側面に気体を噴出するので、ガラス板300の厚さが異なっても、ガラス板300を基部21の中心に動かすことができる。   Moreover, since the ejection devices 23C and 24C eject gas to the lower side surface of the floated glass plate 300, the glass plate 300 can be moved to the center of the base 21 even if the thickness of the glass plate 300 is different.

さらに、ガラス板300の側面近くから傾斜角度0(ゼロ)で気体が噴出されるので、ガラス板300に作用する調芯用の力を大きくすることができる。この結果、ガラス板300の中心を短時間で基部21の中心に移動させることができる。   Furthermore, since gas is ejected from near the side surface of the glass plate 300 at an inclination angle of 0 (zero), the alignment force acting on the glass plate 300 can be increased. As a result, the center of the glass plate 300 can be moved to the center of the base 21 in a short time.

[実施の形態4]
次に、図10を参照して、本発明の実施の形態4について述ベる。図10は、実施の形態4の噴出装置を示す斜視図である。
[Embodiment 4]
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a perspective view showing the ejection device of the fourth embodiment.

実施の形態4では、実施の形態3の噴出装置23C,24Cの代わりに、図10に示す噴出装置25が用いられている。噴出装置25は、噴出装置23C,24Cを分割型にしたものである。つまり、噴出装置25は、上部25Aと下部25Bとで構成されている。上部25Aと下部25Bとは、同じ箱型の形状をしている。下部25Bの開口25B1には、四角形状の複数の切り欠き25B2が設けられている。下部25Bの開口25B1に上部25Aの開口が覆うように、上部25Aが下部25Bに取り付け可能である。上部25Aが下部25Bに取り付けられたとき、切り欠き25B2が噴出孔になる。 In the fourth embodiment, an ejection device 25 shown in FIG. 10 is used instead of the ejection devices 23C and 24C of the third embodiment. The ejection device 25 is obtained by dividing the ejection devices 23C and 24C into a split type. That is, the ejection device 25 includes an upper part 25A and a lower part 25B. The upper portion 25A and the lower portion 25B have the same box shape. A plurality of rectangular cutouts 25B 2 are provided in the opening 25B 1 of the lower portion 25B. The opening 25B 1 of the lower 25B to cover the opening of the upper 25A, top 25A can be attached to the lower portion 25B. When the upper portion 25A is attached to the lower portion 25B, the notch 25B 2 becomes the ejection hole.

実施の形態4によって、噴出装置25の内部に塵等が付着して、気体の流れが悪くなったとき、上部25Aと下部25Bとを分離して、噴出装置25の内部を簡単に清掃することを可能にする。つまり、実施の形態4によって、噴出装置25に対する日常の保守点検が簡単化することを可能にする。   According to the fourth embodiment, when dust or the like adheres to the inside of the ejection device 25 and the gas flow deteriorates, the upper portion 25A and the lower portion 25B are separated to easily clean the inside of the ejection device 25. Enable. That is, the fourth embodiment makes it possible to simplify daily maintenance and inspection for the ejection device 25.

[実施の形態5]
次に、図11を参照して、本発明の実施の形態5について述ベる。図11は、実施の形態5に係わる基部の断面を示す断面図である。
[Embodiment 5]
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 11 is a sectional view showing a section of the base according to the fifth embodiment.

実施の形態5では、次の点が実施の形態3と異なる。つまり、実施の形態3では、噴出装置23C,24Cに対する気体供給が駆動装置23A,24Aで行われていた。実施の形態5では、基部30から気体供給が行われている。実施の形態5の基部30は、実施の形態3と同じように、浮上噴出部分31A1〜31A6、第1移動用噴出部分31B1,31B2および第2移動用噴出部分31C1,31C2を内部に備えている。 The fifth embodiment is different from the third embodiment in the following points. That is, in Embodiment 3, gas supply to the ejection devices 23C and 24C is performed by the driving devices 23A and 24A. In the fifth embodiment, gas is supplied from the base 30. As in the third embodiment, the base portion 30 of the fifth embodiment includes floating jet portions 31A 1 to 31A 6 , first moving jet portions 31B 1 and 31B 2, and second moving jet portions 31C 1 and 31C 2. Is provided inside.

また、実施の形態5の基部30は、供給装置32,33を内部に備えている。供給装置32,33は、基部30の上面30bに沿うように、かつ、基部30の両側に設けられている。供給装置32,33は、供給系(図示を省略)から気体の供給を受ける。そして、供給装置32,33は、供給された気体を上方に向けて流す。   The base 30 of the fifth embodiment includes supply devices 32 and 33 inside. The supply devices 32 and 33 are provided along the upper surface 30 b of the base 30 and on both sides of the base 30. The supply devices 32 and 33 receive gas supply from a supply system (not shown). Then, the supply devices 32 and 33 flow the supplied gas upward.

さらに、基部30の上面30Bに、かつ、供給装置32,33の上端に、噴出装置34,35が置かれている。噴出装置34,35は、噴出装置23C,24Cと同じように、内部が中空の直方体である。噴出装置34,35が互いに向かい合う面である正面には、複数の噴出孔が噴出装置23C,24Cと同じように設けられている。このような噴出装置34,35は、実施の形態3の噴出装置23C,24Cと同じように、ガラス板300の側面の下部に向けて気体を噴出する。   Further, jetting devices 34 and 35 are placed on the upper surface 30 </ b> B of the base 30 and on the upper ends of the feeding devices 32 and 33. The ejection devices 34 and 35 are rectangular parallelepipeds having a hollow interior, similar to the ejection devices 23C and 24C. A plurality of ejection holes are provided in the same manner as the ejection devices 23C and 24C on the front surface where the ejection devices 34 and 35 face each other. Such ejection devices 34 and 35 eject gas toward the lower part of the side surface of the glass plate 300 in the same manner as the ejection devices 23C and 24C of the third embodiment.

こうして、実施の形態5によって、基部30や囲い材30Aの外側に気体供給をする装置を不要にすることができる。   Thus, according to the fifth embodiment, a device for supplying gas to the outside of the base 30 and the enclosure 30A can be eliminated.

[実施の形態6]
次に、図12〜14を参照して、本発明の実施の形態6について述ベる。図12は、実施の形態6に係わる浮上搬送装置の基部を示す平面図である。図13は、図12のIV―IV断面を示す断面図である。図14は、図12のスリットの部分を示す斜視図である。
[Embodiment 6]
Next, Embodiment 6 of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 12 is a plan view showing the base of the levitation transport apparatus according to the sixth embodiment. 13 is a cross-sectional view showing a cross section taken along the line IV-IV in FIG. FIG. 14 is a perspective view showing a slit portion of FIG.

実施の形態6による浮上搬送装置は、浮上によって板状基体を搬送する搬送システムの中の移送ユニットである。実施の形態6では、実施の形態1の基部1の代わりに、図12に示す基部40が用いられている。基部40の上面401には、調芯用スリット列411〜41n,421〜42n、浮上用スリット列431〜43n,441〜44n、多数の噴出孔4511,4521を具備する第1移動用噴出孔列451,452、および、多数の噴出孔4531,4541を具備する第2移動用噴出孔列452,454が設けられている。第1移動用噴出孔列451,452と第2移動用噴出孔列452,454とは、図1の第1移動用噴出孔列2D11,2D21と第2移動用噴出孔列2E11,2E21とそれぞれ同じであるので、これらの説明を省略する。調芯用スリット列411〜41nと調芯用スリット列421〜42nとが面側噴出部をそれぞれ形成し、これらの2つの面側噴出部が第2噴出手段を形成する。 The levitation conveyance apparatus according to the sixth embodiment is a transfer unit in a conveyance system that conveys a plate-like substrate by levitation. In the sixth embodiment, a base 40 shown in FIG. 12 is used instead of the base 1 of the first embodiment. On the upper surface 40 1 of the base 40, alignment slit rows 41 1 to 41 n , 42 1 to 42 n , levitation slit rows 43 1 to 43 n , 44 1 to 44 n , and a large number of ejection holes 45 11 , 45 are provided. First moving ejection hole arrays 45 1 , 45 2 having 21 and second moving ejection hole arrays 45 2 , 45 4 having a large number of ejection holes 45 31 , 45 41 are provided. The first movement ejection hole arrays 45 1 and 45 2 and the second movement ejection hole arrays 45 2 and 45 4 are the first movement ejection hole arrays 2D 11 and 2D 21 and the second movement ejection holes in FIG. Since they are the same as the columns 2E 11 and 2E 21 , their descriptions are omitted. The alignment slit rows 41 1 to 41 n and the alignment slit rows 42 1 to 42 n form surface-side ejection portions, respectively, and these two surface-side ejection portions form second ejection means.

調芯用スリット列411〜41nは、上面401の中心に向かって等間隔に並んで設けられている。調芯用スリット列411〜41nは、複数の噴出スリット4111〜41n1をそれぞれ備える。噴出スリット4111は、次のように形成されている。つまり、図14に示すように、噴出スリット4111は、基部40の内部の補助穴4112に設けられている。補助穴4112は、基部40の長手方向に延びた中空の穴であり、供給系(図示を省略)から気体の供給を受ける。基部40の上面401に向かい合う補助穴4112の部分が、三角柱の形状をしている。補助穴4112の三角柱の部分から基部40の上面401までの間に設けられたスリットが、噴出スリット4111である。 The alignment slit rows 41 1 to 41 n are provided at equal intervals toward the center of the upper surface 40 1 . The alignment slit rows 41 1 to 41 n include a plurality of ejection slits 41 11 to 41 n1 , respectively. Jetting slit 41 11 is formed as follows. That is, as shown in FIG. 14, the ejection slit 41 11 is provided in the auxiliary hole 41 12 inside the base portion 40. Auxiliary hole 41 12 is a hollow bore extending in the longitudinal direction of the base 40 supplied with gas from the supply system (not shown). Auxiliary hole 41 12 parts of the facing on the upper surface 40 1 of the base portion 40 has a triangular prism shape. A slit provided between the triangular prism portion of the auxiliary hole 41 12 and the upper surface 40 1 of the base portion 40 is an ejection slit 41 11 .

噴出スリット4111は、上面401に対して、角度θ3の方向に空けられている。角度θ3は、実施の形態1の噴出方向θ1と同じである。これによって、噴出スリット4111は、上面401から角度θ3つまり噴出方向θ1で、かつ、上面401の中心に向かって、調芯用の気体を噴出する。 The ejection slit 41 11 is opened in the direction of the angle θ3 with respect to the upper surface 40 1 . The angle θ3 is the same as the ejection direction θ1 of the first embodiment. Thus, the ejection slit 41 11 ejects the alignment gas from the upper surface 40 1 at the angle θ 3, that is, the ejection direction θ 1 and toward the center of the upper surface 40 1 .

噴出スリット4111〜41n1の中の他のものも、噴出スリット4111と同様である。 Others in the ejection slits 41 11 to 41 n1 are the same as the ejection slit 41 11 .

調芯用スリット列421〜42nは、調芯用スリット列411〜41nと同じように、上面401の中心向かって等間隔に並んで設けられている。調芯用スリット列421〜42nは、調芯用スリット列411〜41nと同じように、複数の噴出スリット4211〜42n1をそれぞれ備える。そして、噴出スリット4211は、補助穴4212〜42n2と上面401との間に設けられている。噴出スリット4211〜42n1は、調芯用スリット列411〜41nと同じように、上面401から角度θ3つまり噴出方向θ1に、かつ、上面401の中心に向かって、調芯用の気体を噴出する。 As with the alignment slit rows 41 1 to 41 n , the alignment slit rows 42 1 to 42 n are provided side by side at equal intervals toward the center of the upper surface 40 1 . As with the alignment slit rows 41 1 to 41 n , the alignment slit rows 42 1 to 42 n include a plurality of ejection slits 42 11 to 42 n1 , respectively. The ejection slit 42 11 is provided between the auxiliary holes 42 12 to 42 n2 and the upper surface 40 1 . The ejection slits 42 11 to 42 n1 are used for alignment, similar to the alignment slit rows 41 1 to 41 n , from the upper surface 40 1 to the angle θ 3, that is, the ejection direction θ 1 and toward the center of the upper surface 40 1 . Of gas.

これらの調芯用スリット列411〜41nと調芯用スリット列421〜42nとによって、搬送されるガラス板の中心を基部40の上面401の中心に合うようにする。 By the these alignment slit rows 41 1 to 41 n and the alignment slit column 42 1 through 42 n, to fit the center of the glass plate to be transported to the center of the upper surface 40 1 of the base portion 40.

浮上用スリット列431〜43nは、噴出スリット4311〜43n1と補助穴4312〜43n2とをそれぞれ備える。また、浮上用スリット列441〜44nは、噴出スリット4411〜44n1と補助穴4412〜44n2とをそれぞれ備える。浮上用スリット列431〜43nおよび浮上用スリット列441〜44nは、次の点を除いて、調芯用スリット列411〜41nおよび調芯用スリット列421〜42nとそれぞれ同じような構造をしている。つまり、浮上用スリット列431〜43nの噴出スリット4311〜43n1と、浮上用スリット列441〜44nの噴出スリット4411〜44n1とが空けられている角度が、実施の形態1の噴出方向θ2と同じである。これによって、浮上用スリット列431〜43n,441〜44nは、実施の形態1と同じようにガラス板を浮上させる。 The levitation slit rows 43 1 to 43 n include ejection slits 43 11 to 43 n1 and auxiliary holes 43 12 to 43 n2 , respectively. The levitation slit rows 44 1 to 44 n are respectively provided with ejection slits 44 11 to 44 n1 and auxiliary holes 44 12 to 44 n2 . The levitation slit row 43 1 to 43 n and the levitation slit row 44 1 to 44 n are aligned with the alignment slit row 41 1 to 41 n and the alignment slit row 42 1 to 42 n except for the following points. Each has the same structure. In other words, a floating slit rows 43 1 ~ 43 n jetting slit 43 11 ~ 43 n1 of the angle of the jetting slit 44 11 ~ 44 n1 is spaced of flying slit matrix 44 1 ~ 44 n, Embodiment 1 is the same as the ejection direction θ2. As a result, the levitation slit rows 43 1 to 43 n and 44 1 to 44 n float the glass plate in the same manner as in the first embodiment.

こうして、実施の形態6によれば、浮上用と調芯用とに用いられる噴出スリットが細長形状であるので、上面401を斜めに切る加工だけで、噴出スリットを形成することができる。また、1つの噴出スリットが複数の噴出孔に対応するので、調芯用や浮上用の気体を噴出するための構造を、少ない工数で形成することができる。 Thus, according to the sixth embodiment, since the ejection slit used in the for levitation and alignment is an elongated shape, just working off the upper surface 40 1 obliquely, it is possible to form the ejection slit. In addition, since one ejection slit corresponds to a plurality of ejection holes, a structure for ejecting a gas for alignment or levitation can be formed with a small number of man-hours.

[実施の形態7]
次に、図15〜19を参照して、本発明の実施の形態7について説明する。図15は、実施の形態7に用いられている噴出スリット構造を示す平面図である。図16は、図15のV−V断面を示す断面図である。図17は、図16の溝を示す斜視図である。図18は、図16の遮蔽板の断面を示す断面図である。図19は、図16の遮蔽板の底面を示す底面図である。
[Embodiment 7]
Next, a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 15 is a plan view showing the ejection slit structure used in the seventh embodiment. 16 is a cross-sectional view showing a VV cross section of FIG. FIG. 17 is a perspective view showing the groove of FIG. 18 is a cross-sectional view showing a cross section of the shielding plate of FIG. FIG. 19 is a bottom view showing the bottom surface of the shielding plate of FIG.

実施の形態7では、実施の形態6の噴出スリットが異なる構造をしている。つまり、図15,16に示すように、実施の形態7の噴出スリットを形成するための噴出スリット構造50は、遮蔽板51、溝52および供給穴53によって形成される。   In the seventh embodiment, the ejection slit of the sixth embodiment has a different structure. That is, as shown in FIGS. 15 and 16, the ejection slit structure 50 for forming the ejection slit of the seventh embodiment is formed by the shielding plate 51, the groove 52 and the supply hole 53.

溝52は、基部40の上面401に設けられている。溝52は、図17に示すように、底面52Aを備えている。底面52Aは、幅がL1である長方形であり、基部の上面401に沿って長くなっている。底面52Aの一方の端には、この底面52Aと直交するように、側面52Bが形成されている。側面52Bの上端が上面401と直角に交差し、側面52Bの幅が溝52の深さになっている。底面52Aの他方の端には、斜面52Cが形成されている。斜面52Cは、上面401に対して角度がθ4になるように、傾斜している。斜面52Cの上端は、上面401と交差している。このように、溝52は、角度θ4で傾斜した斜面52Cを持ち、開口の最大が幅L2である台形をしている。 Groove 52 is provided on the upper surface 40 1 of the base portion 40. As shown in FIG. 17, the groove 52 includes a bottom surface 52A. The bottom surface 52A is a rectangle having a width L1, and is long along the top surface 40 1 of the base. A side surface 52B is formed at one end of the bottom surface 52A so as to be orthogonal to the bottom surface 52A. The upper end of the side surface 52B is at right angles with the upper surface 40 1, the width of the side surface 52B is in the depth of the groove 52. A slope 52C is formed at the other end of the bottom surface 52A. The inclined surface 52C is inclined so that the angle is θ4 with respect to the upper surface 40 1 . The upper end of the slope 52C intersects the upper surface 40 1 . Thus, the groove 52 has a slope 52C inclined at an angle θ4, and has a trapezoidal shape with the maximum opening being the width L2.

供給穴53は、基部40に空けられた丸穴であり、底面52Aが斜面52Cと交差する部分に一定間隔で設けられている。供給穴53には、供給系(図示を省略)から気体が供給される。   The supply holes 53 are round holes formed in the base 40, and are provided at regular intervals at portions where the bottom surface 52A intersects the inclined surface 52C. Gas is supplied to the supply hole 53 from a supply system (not shown).

遮蔽板51は、溝52内に置かれるものである。遮蔽板51は、図18に示すように、断面形状が台形をした板である。つまり、遮蔽板51の側面51Aが溝52の側面52Bと同じ形状をしている。遮蔽板51が溝52に置かれたとき、側面51Aが側面52Bに接触する。遮蔽板51の上面51Bおよび下面51Cの一方の端が、側面51Aの上下の両端になっている。そして、上面51Bおよび下面51Cは、側面51Aに対して直角になっている。上面51Bの幅が遮蔽板51の幅L2より所定長だけ短く、同じく、下面51Cの幅が遮蔽板51の幅L1より所定長だけ短くなっている。遮蔽板51が溝52に置かれたとき、下面51Cが溝52の底面52Aに接触する。   The shielding plate 51 is placed in the groove 52. As shown in FIG. 18, the shielding plate 51 is a plate having a trapezoidal cross section. That is, the side surface 51 </ b> A of the shielding plate 51 has the same shape as the side surface 52 </ b> B of the groove 52. When the shielding plate 51 is placed in the groove 52, the side surface 51A contacts the side surface 52B. One end of the upper surface 51B and the lower surface 51C of the shielding plate 51 is the upper and lower ends of the side surface 51A. The upper surface 51B and the lower surface 51C are perpendicular to the side surface 51A. The width of the upper surface 51B is shorter than the width L2 of the shielding plate 51 by a predetermined length. Similarly, the width of the lower surface 51C is shorter than the width L1 of the shielding plate 51 by a predetermined length. When the shielding plate 51 is placed in the groove 52, the lower surface 51 </ b> C contacts the bottom surface 52 </ b> A of the groove 52.

上面51Bおよび下面51Cの他方の端間に形成される面が、斜面51Dである。斜面51Dは、溝52の斜面52Cと同じ形状をしている。上面51Bの幅が幅L2より所定長だけ短く、下面51Cの幅が幅L1より所定長だけ短くなっているので、遮蔽板51が溝52に置かれたとき、斜面51Dが溝52の斜面52Cから離れる。このとき、斜面51Dは、斜面52Cと向かい合うように、かつ、斜面52Cに対して一定の間隔を保つ。この結果、気体を噴出する角度がθ4である噴出スリット50Aが形成される。   A surface formed between the other ends of the upper surface 51B and the lower surface 51C is an inclined surface 51D. The slope 51D has the same shape as the slope 52C of the groove 52. Since the width of the upper surface 51B is shorter than the width L2 by a predetermined length and the width of the lower surface 51C is shorter than the width L1 by a predetermined length, when the shielding plate 51 is placed in the groove 52, the inclined surface 51D becomes the inclined surface 52C of the groove 52. Get away from. At this time, the inclined surface 51D faces the inclined surface 52C and keeps a certain distance from the inclined surface 52C. As a result, an ejection slit 50A having a gas ejection angle of θ4 is formed.

遮蔽板51の斜面51Dには、スペーサ51Eが設けられている。スペーサ51Eの厚さは、斜面51Dと斜面52Cとの距離に等しい。また、スペーサ51Eは、図19に示すように、供給穴53を覆わないように、かつ、気体の流れを良好に保つために等間隔で斜面51Dに配置されている。スペーサ51Eによって、遮蔽板51が溝52に置かれたときに、側面51Aが側面52Bに密着する。つまり、スペーサ51Eによって、遮蔽板51を溝52に置くだけで、位置決め等を不要にして、確実に噴出スリット50Aを形成することができる。   A spacer 51E is provided on the slope 51D of the shielding plate 51. The thickness of the spacer 51E is equal to the distance between the slope 51D and the slope 52C. Further, as shown in FIG. 19, the spacers 51E are arranged on the inclined surfaces 51D at equal intervals so as not to cover the supply holes 53 and to maintain a good gas flow. When the shielding plate 51 is placed in the groove 52 by the spacer 51E, the side surface 51A comes into close contact with the side surface 52B. That is, by simply placing the shielding plate 51 in the groove 52 by the spacer 51E, positioning or the like is unnecessary, and the ejection slit 50A can be reliably formed.

こうして形成された噴出スリット50Aは、実施の形態6と同じように、浮上用と調芯用とに用いることができる。このとき、浮上用と調芯用とでは、角度θ4を変えればよい。   The ejection slit 50A formed in this way can be used for levitation and alignment as in the sixth embodiment. At this time, the angle θ4 may be changed between the ascent and the alignment.

また、噴出スリット50Aを形成する場合、カッター等を用いて基部40の上面401に対する加工が不要になる。この結果、噴出スリット50Aの形成を簡単化することができ、かつ、角度θ4の設定を簡単にすることができる。 Further, when the ejection slit 50A is formed, it is not necessary to process the upper surface 40 1 of the base 40 using a cutter or the like. As a result, the formation of the ejection slit 50A can be simplified, and the setting of the angle θ4 can be simplified.

以上、説明したように、本発明は、板状の搬送面を具備し、この搬送面に沿って板状基体を送るための基部と、前記搬送面から気体を噴出することによって、板状基体を前記搬送面から浮上させると共に浮上した板状基体を前記搬送面に沿って移動させる第1噴出手段と、前記第1噴出手段によって浮上した板状基体を前記搬送面の中心位置に保つために、気体を噴出する第2噴出手段とを備えたことを特徴とする。   As described above, the present invention comprises a plate-shaped substrate by providing a plate-shaped conveyance surface, a base for sending the plate-shaped substrate along the conveyance surface, and jetting gas from the conveyance surface. In order to keep the plate-like substrate levitated from the conveying surface and the plate-like substrate levitated from the conveying surface along the conveying surface, and the plate-like substrate levitated by the first ejecting means at the center position of the conveying surface And a second jetting means for jetting gas.

これによって、第2噴出手段がガイド用および調芯専用として設けられているので、板状基体が重くなっても、気体の噴出による調芯のための強い力を板状基体に加えることができる。これによって、板状基体の蛇行を防いで、板状基体を基部の中心位置に迅速に移動させることができ、板状基体の非接触による搬送を可能にする。   Accordingly, since the second ejection means is provided exclusively for the guide and alignment, a strong force for alignment by gas ejection can be applied to the plate substrate even when the plate substrate becomes heavy. . As a result, the meandering of the plate-like substrate can be prevented, the plate-like substrate can be quickly moved to the center position of the base, and the plate-like substrate can be conveyed without contact.

本発明では、前記第2噴出手段は、前記搬送面上の両側に沿って配置されている2つの側方噴出部と、これらの2つの側方噴出部に気体を供給する供給系とを備え、前記各側方噴出部は、前記搬送面の中心方向に気体を噴出する噴出孔を多数具備したことを特徴とする。また、本発明では、前記各側方噴出部は、前記搬送面の中心方向に移動可能であることを特徴とする。   In the present invention, the second ejection means includes two side ejection portions arranged along both sides on the transport surface, and a supply system that supplies gas to these two side ejection portions. Each of the lateral ejection portions is provided with a number of ejection holes for ejecting gas in the central direction of the transport surface. Moreover, in this invention, each said side ejection part is movable to the center direction of the said conveyance surface, It is characterized by the above-mentioned.

これによって、各側方噴出部として例えば管状のものを用いると、各側方噴出部を簡単な材料を用いて形成することができる。さらに、各側方噴出部を移動可能にすることによって、幅の異なる板状基体に対応することができる。   Accordingly, when, for example, a tubular member is used as each side ejection portion, each side ejection portion can be formed using a simple material. Furthermore, by making each side ejection part movable, it is possible to deal with plate-like substrates having different widths.

本発明では、前記第2噴出手段は、前記搬送面の中心を挟むように前記搬送面に配置されると共に前記搬送面の中心方向に気体を噴出する2つの面側噴出部と、これらの面側噴出部に気体を供給する供給系とを備えたことを特徴とする。また、本発明では、前記各面側噴出部は、前記搬送面に沿って少なくとも1つの噴出孔列を具備し、前記噴出孔列は、前記搬送面の中心に向かって複数列設けられ、前記各噴出孔列は、前記搬送面の中心に向けて気体を噴出すると共に前記搬送面に沿って並んでいる多数の噴出孔を具備したことを特徴とする。   In the present invention, the second ejection means is arranged on the conveyance surface so as to sandwich the center of the conveyance surface, and two surface-side ejection portions that eject gas in the central direction of the conveyance surface, and these surfaces And a supply system for supplying gas to the side ejection portion. In the present invention, each of the surface-side ejection portions includes at least one ejection hole array along the transport surface, and the ejection hole array is provided in a plurality of rows toward the center of the transport surface, Each of the ejection hole arrays includes a plurality of ejection holes that eject gas toward the center of the transport surface and are arranged along the transport surface.

これによって、第2噴出手段が搬送面に設けられているので、気体を噴出するための機構を搬送面上に設けることを不要にすることができる。また、ガラス板の幅に応じて第2噴出手段が自動的に選択されるから、任意の幅のガラス板の混載搬送を可能にする。この結果、装置が簡単になるので、装置の信頼性を向上させることができる。   Thereby, since the 2nd ejection means is provided in the conveyance surface, it can make unnecessary to provide the mechanism for ejecting gas on a conveyance surface. Moreover, since the 2nd ejection means is automatically selected according to the width | variety of a glass plate, the mixed conveyance of the glass plate of arbitrary width is enabled. As a result, the apparatus becomes simple, and the reliability of the apparatus can be improved.

本発明では、前記各面側噴出部は、前記搬送面に沿って少なくとも1つの噴出スリット列を具備し、前記噴出スリット列は、前記搬送面の中心に向かって複数列設けられ、前記各噴出スリット列は、前記搬送面の中心に向けて気体を噴出すると共に前記搬送面に沿って並んでいる複数の噴出スリットを具備したことを特徴とする。   In the present invention, each of the surface side ejection portions includes at least one ejection slit row along the transport surface, and the ejection slit rows are provided in a plurality of rows toward the center of the transport surface, The slit row includes a plurality of ejection slits that eject gas toward the center of the transport surface and are arranged along the transport surface.

これによって、1つの噴出スリットが複数の噴出孔に対応するので、第2噴出手段の形成を簡単化することができる。   Thus, since one ejection slit corresponds to a plurality of ejection holes, the formation of the second ejection means can be simplified.

1,10,21,30,40,110 基部
1,101,30B,401,112,51B, 上面
2 中心
1A1〜1H1,1A2〜1H2 設定ライン
2A1〜2C1,2A2〜2C2,11A1〜11C1,11A2〜11C2
21A1〜21A6,31A1〜31A6 浮上用噴出部分
2D1,2D2,11D1,11D2,21B1,21B2,31B1
31B2 第1移動用噴出部分
2E1,2E2,11E1,11E2,21C1,21C2,31C1
31C2 第2移動用噴出部分
2F1〜2H1,2F2〜2H2 調芯用噴出部分
2A11〜2H11,2A21〜2H21,11A11〜11E11
11A21〜11E21,21A11〜21A61,21B11,21C11
23C2,4511〜4541,113,115 噴出孔
2A12〜2H12,2A22〜2H22,11A12〜11E12
11A22〜11E22,21A12〜21A62,21B12,21B22
21C12,21C22,114,116,4112〜41n2
4212〜42n2,4312〜43n2,4412〜44n2 補助穴
22,120,30A 囲い材
22A 貫通穴
23,24 調芯部
23C1 正面
23A,24A 駆動装置
23B,24B 伸縮装置
23C,24C,25,34,35 噴出装置
23C1 正面
25A 上部
25B 下部
25B1 開口
25B2 切り欠き
32,33 供給装置
411〜41n 調芯用スリット列
4111〜41n1,4211〜42n1,4311〜43n1,4411〜44n1
50A 噴出スリット
421〜42n 調芯用スリット列
431〜43n,441〜44n 浮上用スリット列
451,452 第1移動用噴出孔列
453,454 第2移動用噴出孔列
50 噴出スリット構造
51 遮蔽板
51A 側面
51C 下面
51D 斜面
51E スペーサ
52 溝
52A 底面
52B 側面
52C 斜面
53 供給穴
130 加工板
100 移送ユニット
111 供給系
112A 中心
113A,115A 噴出方向
140 封止板
200 制御ユニット
300 ガラス板
310 移動方向
311 転換方向
L1,L2 幅
11,W21 調芯力
12,W22 浮上力
θ1,θ2 噴出方向
θ3,θ4 角度
1 , 10, 21, 30, 40, 110 Base 1 1 , 10 1 , 30B, 40 1 , 112, 51B, upper surface 1 2 center 1A 1 to 1H 1 , 1A 2 to 1H 2 setting line 2A 1 to 2C 1 , 2A 2 to 2C 2 , 11A 1 to 11C 1 , 11A 2 to 11C 2 ,
21A 1 to 21A 6 , 31A 1 to 31A 6 Levitating jet part 2D 1 , 2D 2 , 11D 1 , 11D 2 , 21B 1 , 21B 2 , 31B 1 ,
31B 2 first moving ejection portion 2E 1 , 2E 2 , 11E 1 , 11E 2 , 21C 1 , 21C 2 , 31C 1 ,
31C 2 second ejection part 2F 1 to 2H 1 , 2F 2 to 2H 2 centering ejection part 2A 11 to 2H 11 , 2A 21 to 2H 21 , 11A 11 to 11E 11 ,
11A 21 to 11E 21 , 21A 11 to 21A 61 , 21B 11 , 21C 11 ,
23C 2 , 45 11 to 45 41 , 113, 115 ejection holes 2A 12 to 2H 12 , 2A 22 to 2H 22 , 11A 12 to 11E 12 ,
11A 22 to 11E 22 , 21A 12 to 21A 62 , 21B 12 , 21B 22 ,
21C 12, 21C 22, 114,116,41 12 ~41 n2,
42 12 to 42 n2 , 43 12 to 43 n2 , 44 12 to 44 n2 Auxiliary hole 22, 120, 30A Enclosure 22A Through hole 23, 24 Centering portion 23C 1 Front 23A, 24A Drive device 23B, 24B Extending device 23C, 24C, 25, 34, 35 Ejection device 23C 1 front surface 25A upper part 25B lower part 25B 1 opening 25B 2 notch 32, 33 supply device 41 1 to 41 n alignment slit row 41 11 to 41 n1 , 42 11 to 42 n1 , 43 11 to 43 n1 , 44 11 to 44 n1 ,
50A ejection slits 42 1 to 42 n alignment slit rows 43 1 to 43 n and 44 1 to 44 n floating slit rows 45 1 and 45 2 first movement ejection hole rows 45 3 and 45 4 second movement ejection Hole array 50 Ejection slit structure 51 Shield plate 51A Side surface 51C Lower surface 51D Slope 51E Spacer 52 Groove 52A Bottom surface 52B Side surface 52C Slope 53 Supply hole 130 Processing plate 100 Transfer unit 111 Supply system 112A Center 113A, 115A Ejection direction 140 Sealing plate 200 unit 300 glass plate 310 moving direction 311 turning direction L1, L2 the width W 11, W 21 aligning force W 12, W 22 levitation force .theta.1, .theta.2 ejection direction .theta.3, .theta.4 angle

Claims (6)

板状の搬送面を具備し、この搬送面に沿って板状基体を送るための基部と、
前記搬送面から気体を噴出することによって、板状基体を前記搬送面から浮上させると共に浮上した板状基体を前記搬送面に沿って移動させる第1噴出手段と、
前記第1噴出手段によって浮上した板状基体を前記搬送面の中心位置に保つために、気体を噴出する第2噴出手段とを備えたことを特徴とする浮上搬送装置。
A base for providing a plate-shaped transport surface, and for feeding the plate-shaped substrate along the transport surface;
A first jetting means for floating a plate-like substrate from the carrying surface and moving the floated plate-like substrate along the carrying surface by jetting gas from the carrying surface;
A levitating and conveying apparatus comprising: a second ejecting means for ejecting gas in order to keep the plate-like substrate levitated by the first ejecting means at the center position of the conveying surface.
前記第2噴出手段は、前記搬送面上の両側に沿って配置されている2つの側方噴出部と、これらの2つの側方噴出部に気体を供給する供給系とを備え、前記各側方噴出部は、前記搬送面の中心方向に気体を噴出する噴出孔を多数具備したことを特徴とする請求項1に記載の浮上搬送装置。 The second ejection means includes two side ejection portions arranged along both sides on the transport surface, and a supply system that supplies gas to the two side ejection portions, The levitation conveyance apparatus according to claim 1, wherein the side ejection portion includes a plurality of ejection holes for ejecting gas toward the center of the conveyance surface. 前記各側方噴出部は、前記搬送面の中心方向に移動可能であることを特徴とする請求項2に記載の浮上搬送装置。 The levitation conveyance apparatus according to claim 2, wherein each of the side ejection parts is movable in a central direction of the conveyance surface. 前記第2噴出手段は、前記搬送面の中心を挟むように前記搬送面に配置されると共に前記搬送面の中心方向に気体を噴出する2つの面側噴出部と、これらの面側噴出部に気体を供給する供給系とを備えたことを特徴とする請求項1に記載の浮上搬送装置。 The second ejection means is disposed on the conveyance surface so as to sandwich the center of the conveyance surface, and is provided with two surface-side ejection portions that eject gas in the center direction of the conveyance surface, and these surface-side ejection portions. The levitation conveyance apparatus according to claim 1, further comprising a supply system that supplies gas. 前記各面側噴出部は、前記搬送面に沿って少なくとも1つの噴出孔列を具備し、前記噴出孔列は、前記搬送面の中心に向かって複数列設けられ、前記各噴出孔列は、前記搬送面の中心に向けて気体を噴出すると共に前記搬送面に沿って並んでいる多数の噴出孔を具備したことを特徴とする請求項4に記載の浮上搬送装置。 Each of the surface-side ejection portions includes at least one ejection hole array along the transport surface, and the ejection hole array is provided in a plurality of rows toward the center of the transport surface. The levitation conveyance apparatus according to claim 4, further comprising a plurality of ejection holes that eject gas toward the center of the conveyance surface and are arranged along the conveyance surface. 前記各面側噴出部は、前記搬送面に沿って少なくとも1つの噴出スリット列を具備し、前記噴出スリット列は、前記搬送面の中心に向かって複数列設けられ、前記各噴出スリット列は、前記搬送面の中心に向けて気体を噴出すると共に前記搬送面に沿って並んでいる複数の噴出スリットを具備したことを特徴とする請求項4に記載の浮上搬送装置。 Each of the surface-side ejection parts includes at least one ejection slit row along the transport surface, and the ejection slit row is provided in a plurality of rows toward the center of the transport surface, and each of the ejection slit rows is The levitation conveyance apparatus according to claim 4, further comprising a plurality of ejection slits that eject gas toward the center of the conveyance surface and are arranged along the conveyance surface.
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