JP2010170605A - 基板評価方法及び記録媒体の製造方法 - Google Patents
基板評価方法及び記録媒体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010170605A JP2010170605A JP2009011256A JP2009011256A JP2010170605A JP 2010170605 A JP2010170605 A JP 2010170605A JP 2009011256 A JP2009011256 A JP 2009011256A JP 2009011256 A JP2009011256 A JP 2009011256A JP 2010170605 A JP2010170605 A JP 2010170605A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- value
- disk
- head
- bgh
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【課題】基板評価方法及び記録媒体の製造方法において、基板表面の微細な凹凸の有無を確実に検出可能とすることを目的とする。
【解決手段】基板上の2以上の領域について求めた凸部の高さの最大値Xmaxと最小値Xminの差と、凹部の深さの最大値Ymaxと最小値Yminの差の和で表されるZ値を求め、Z値に基づいて基板表面の凹凸の有無を検出して基板が良品であるか、或いは、不良品であるかを判定するようにする。
【選択図】図6
【解決手段】基板上の2以上の領域について求めた凸部の高さの最大値Xmaxと最小値Xminの差と、凹部の深さの最大値Ymaxと最小値Yminの差の和で表されるZ値を求め、Z値に基づいて基板表面の凹凸の有無を検出して基板が良品であるか、或いは、不良品であるかを判定するようにする。
【選択図】図6
Description
本発明は、基板評価方法及び記録媒体の製造方法に係り、特に基板表面を評価する基板評価方法及びそのような基板評価方法を用いる記録媒体の製造方法に関する。
磁気ディスクに代表される磁気記録媒体を用いる磁気記憶装置では、磁気ヘッドが磁気記録媒体から浮上した状態で情報を磁気記録媒体に記録し、情報を磁気記録媒体から再生する。近年の高記録密度化に伴い、磁気ヘッドの磁気ディスクからの浮上量は非常に小さくなっており、磁気記憶装置の信頼性を確保する上で浮上量を安定に保つことが求められている。
ロード・アンロード方式を採用する磁気ディスク装置では、磁気ヘッドは磁気ディスク上以外の待機領域から磁気ディスク上にロードされて情報の記録又は再生が行われ、例えば記録又は再生が終了すると磁気ディスク上から待機領域へ退避される。一般的に、磁気ヘッドは磁気ディスクの外周部分に対してロードされ、この外周部分からアンロードされる。このため、特にロード時に磁気ヘッドの磁気ディスクからの浮上量が安定に保てるように、磁気ディスクの外周部分の表面も平坦であることが望ましい。
磁気ディスクはディスク状の基板上に磁気記録層を含む各種層が積層される構造を有する。ところが、実際の基板の特に外周部分の表面には微細な凹凸が存在するので、基板上に積層される各種層では基板表面の凹凸が受け継がれてしまう。そこで、磁気ディスクに対する磁気ヘッドの所望の浮上量を維持するためには、例えば基板の内周部分における平坦な基板表面に対する凹部の深さ又は凸部の高さが許容範囲を超える凹凸を有する基板を不良品として磁気ディスクの製造工程から排除する必要がある。
図1及び図2は、従来の基板評価方法の一例を説明する図である。図1は、磁気ディスクに用いられる基板1の平面図であり、2は基板評価の対象となる基板1の外周部分の領域を示す。図2は、基板1の領域2を拡大して示す断面図である。図2では、左側が基板1の内周方向であり、右側が基板1の外周方向である。
従来の基板評価方法の一例では、基板1の外周端面から半径方向へ内周方向に向かって内側の任意の点を第1の点Aとし、第1の点Aから半径方向へ内周方向に向かって更に内側の任意の点を第2の点Bとする。第1の点Aと第2の点Bを結ぶ仮想直線ABに対して山(Peak)側、即ち、正方向に第1の垂線を引き、第1の垂線が基板表面の実測値と交わる交点を第3の点Cとする。又、仮想直線ABに対して谷(Valley)側、即ち、負方向に第2の垂線を引き、第2の垂線が基板表面の実測値と交わる交点を第4の点Dとする。仮想直線ABに対する各点C,Dの実測値の差分αを求め、差分αの最大値βを求める。例えば、点Dにおける差分α2が点Cにおける差分α1より大きければ、差分α2が最大値βとして求められる。求めたβ値は、予め求められている基準滑走高さ(BGH:Base Glide Height)とβ値の関係を参照することで、所望のBGHが確保できるか否かを判定するのに用いられ、所望のBGHが確保できないβ値を有する基板1は不良品として磁気ディスクの製造工程から排除される。
BGHは、基板の試験に用いる試験用ヘッドの基準基板を有する基準ディスクからの基準浮上量を示し、例えば次のように求められる。基準ディスクの基準基板上には、磁気記録層を含む各種層が積層されている。先ず、予め基板表面に存在する複数のバンプの高さ(BH:Bump Height)が原子間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)により測定されて既知である基準ディスクに対してマスタヘッドを用いてテスト信号を記録して再生することで、図3に示す如き再生出力とマスタヘッドの周速度の関係を求める。マスタヘッドは、試験用ヘッドと同じ構成及び特性を有する。次に、図3に示す如き関係から再生出力がゼロとなるマスタヘッドの周速度Vbを求め、マスタヘッドの周速度Vbと基準ディスクのBHとの関係を求める。このマスタヘッドの周速度Vbと基準ディスクのBHとの関係から、マスタヘッドの所望の周速度Vbと基準ディスクに対するGH(Glide Height)との関係を求める。次に、マスタヘッドの所望の周速度Vbと基準ディスクのGHとの関係を用いて、試験用ヘッドを用いてGHが既知となった基準ディスクに対する試験用ヘッドの周速度Vbを求め、試験用ヘッドの周速度Vbと試験用ヘッドの基準ディスクに対するGHを求める。このようにして求めた試験用ヘッドの周速度Vbと基準ディスクに対するGHの関係から、試験用ヘッドの被試験基板(被試験ディスク)に対するBGHが求められる。
図4は、このようにして求められた試験用ヘッドの被試験基板に対するBGHとβ値の関係の一例を示す図である。図4中、縦軸はBGH(nm)を示し、横軸はβ値(nm)を示す。図4において、◆印、■印及び●印はいずれも実際に求められたデータを示す。
図4において◆印で示すデータが示すように、BGHが約2.7nmを超える領域ではBGHとβ値が略線形な関係にあるため、β値を基準に被試験基板の良否を判定できることがわかる。しかし、図4において破線で囲んで示す■印で示すデータは、β値が約2nm〜約9nmの比較的広い範囲にあるにもかかわらず、BGHは約2.55nm〜約2.65という比較的狭い範囲にあり、BGHが約2.7nm以下になるとβ値を基準に被試験基板の良否を判定することは非常に難しいことがわかる。尚、●印は被試験基板の平坦な中央部分でのBGHを示す。
つまり、図4の関係を用いたのでは、磁気ヘッドの磁気ディスクからの浮上量が非常に小さい場合等に使用されるディスク基板には適さない基板表面の微細な凹凸の有無を確実に検出することは難しい。
従来の基板評価方法では、基板表面の微細な凹凸の有無を確実に検出することが難しく、不良品でありながら不良品として記録媒体の製造工程から排除できない場合には、完成した記録媒体が最終的には試験工程で不良品と判定されるため、歩留まりを向上することは難しいという問題があった。
そこで、本発明は、基板表面の微細な凹凸の有無を確実に検出可能な基板評価方法及び記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
本発明の一観点によれば、基板上の2以上の領域について求めた凸部の高さの最大値Xmaxと最小値Xminの差と、凹部の深さの最大値Ymaxと最小値Yminの差との和で表されるZ値を求め、前記Z値に基づいて基板表面の凹凸の有無を検出して前記基板が良品であるか、或いは、不良品であるかを判定する基板評価方法が提供される。
本発明の一観点によれば、上記基板評価方法により前記基板が良品であるか、或いは、不良品であるかを判定し、良品と判定された基板上に磁気記録層を含む層を積層する記録媒体の製造方法が提供される。
開示の基板評価方法及び記録媒体の製造方法によれば、基板表面の微細な凹凸の有無を確実に検出することができる。
開示の基板評価方法及び記録媒体の製造方法では、基板上の2以上の領域について求めた山(又は、凸部)の高さの最大値Xmaxと最小値Xminの差と、谷(又は、凹部)の深さの最大値Ymaxと最小値Yminの差の和で表されるZ値を求め、Z値に基づいて基板表面の凹凸の有無を検出して基板が良品であるか、或いは、不良品であるかを判定する。
試験用ヘッドが基板に対して所望の基準滑走高さが確保できるか否かを、例えば予め求められている試験用ヘッドの既知のバンプの高さを有する基準基板に対する基準滑走高さとZ値の関係を参照することで前記Z値に基づいて判定することで、基板表面の微細な凹凸の有無を確実に検出することができる。
以下に、本発明の基板評価方法及び記録媒体の製造方法の各実施例を、図5以降と共に説明する。
図5及び図6は、本発明の一実施例における基板評価方法を説明する図である。図5は、磁気ディスクに用いられるディスク状の基板1の平面図であり、2は基板評価の対象となる基板1の外周部分の4つの領域を示す。基板1の直径は、例えば2.5インチである。4つの領域2は、互いに90度ずれた位置に配置されている。図6は、基板1の1つの領域2を拡大して示す断面図である。図6では、左側が基板1の内周方向であり、右側が基板1の外周方向である。
本実施例における基板評価方法では、基板1上の外周端面から半径方向へ内周方向に向かって第1の距離内側の任意の点を第1の点Aとし、第1の点Aから半径方向へ更に内周方向に向かって第2の距離内側の任意の点を第2の点Bとする。第1の距離は0より長く、例えば1.0mmである。一方、第2の距離は第1の距離より長く、例えば1.6mmである。第1の点Aと第2の点Bを結ぶ仮想直線ABに対して山(Peak)側、即ち、正方向に第1の垂線を引き、第1の垂線が基板表面の実測値と交わる交点を第3の点Cとする。又、仮想直線ABに対して谷(Valley)側、即ち、負方向に第2の垂線を引き、第2の垂線が基板表面の実測値と交わる交点を第4の点Dとする。第1の垂線の仮想直線ABとの交点C'と第3の点C間の距離をXとし、第2の垂線の仮想直線ABとの交点D'と第4の点D間の距離をYとする。距離X,Yは、各領域2に対して求められ、求められた距離Xのうち最大値Xmaxと最小値Xminを取得すると共に、求められた距離のうち最大値Ymaxと最小値Yminを取得する。例えば、図5において、左側(270度)の領域2において最大値Xmaxと最小値Yminが取得され、上側(0度)の領域2において最小値Xminが取得され、右側(90度)の領域2において最大値Ymaxが取得される。
又、本実施例では、Z=(Xmax−Xmin)+(Ymax−Ymin)で表されるZ値を求める。求めたZ値は、予め求められている基準滑走高さ(BGH:Base Glide Height)とZ値の関係を参照することで、所望のBGHが確保できるか否かを判定するのに用いられ、所望のBGHが確保できないZ値を有する基板1は不良品として磁気ディスクの製造工程から排除される。一方、所望のBGHが確保できるZ値を有する基板1は良品として基板1上の磁気記録層を含む各種層を積層する磁気ディスクの製造工程で使用される。
求められた距離X,Yからの最大値Xmax,Ymax及び最小値Xmin,Yminの取得及び上記Z値の式の計算は、汎用コンピュータにより実行するようにしても良い。
BGHは、基板の試験に用いる試験用ヘッドの基準基板を有する基準ディスクからの基準浮上量を示し、例えば次のように求められる。基準ディスクの基準基板上には、磁気記録層を含む各種層が積層されている。先ず、予め基板表面に存在する複数のバンプの高さ(BH:Bump Height)が例えば原子間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)により測定されて既知である基準ディスクに対してマスタヘッドを用いてテスト信号を記録して再生することで、図7に示す如き再生出力とマスタヘッドの周速度の関係を求める。マスタヘッドは、試験用ヘッドと同じ構成及び特性を有する。図7中、縦軸はマスタヘッドの再生出力(mV)を示し、横軸はマスタヘッドの周速度(m/s)を示す。図7において、Iはマスタヘッドの再生出力の近似線形関数y=−134.68x+1941.4,R2=0.9135を示し、Rは相関係数を表す。
図8は、バンプとマスタヘッドを有するヘッドスライダの関係の一例を示す図である。図8において、1Aは基板表面、1Bはバンプ、21はヘッドスライダを示す。図8中、(a)はマスタヘッドの再生出力が0より大きい状態、(b)はマスタヘッドの再生出力が0の状態を示す。又、図8(a)中、OLはヘッドスライダ21の端部と、ヘッドスライダ21のバンプ1Bとの対向部分との間のオーバーラップ量を示す。
次に、図7に示す如き関係から再生出力がゼロとなるマスタヘッドの周速度Vbを求め、図9に示す如きマスタヘッドの周速度Vbと基準ディスクのBHとの関係を求める。図7では、Vb=14.415(m/s)である。図9中、縦軸は基準ディスクのBH(nm)、横軸はマスタヘッドの周速度Vb(m/s)を示す。図9において、○印はBHが既知である基準ディスクに対するマスタヘッドの周速度Vbを示す。
図9に示すマスタヘッドの周速度Vbと基準ディスクのBHとの関係から、マスタヘッドの所望の周速度Vbと基準ディスクに対するGH(Glide Height)との関係IIIを求める。図9において、IIはBHの近似線形関数y=0.6347x+0.5393,R2=0.9912を示す。次に、マスタヘッドの所望の周速度Vbと基準ディスクのGHとの関係IIIを用いて、図10中IVで示すように試験用ヘッドを用いてGHが既知となった基準ディスクに対する試験用ヘッドの周速度Vbを求め、図10中Vで示すように試験用ヘッドの周速度Vbと試験用ヘッドの被試験基板を有する被試験ディスクに対するGHを求める。図10において、○印はGHが既知となった基準ディスクに対する試験用ヘッドの周速度Vbを示す。このようにして求めた試験用ヘッドの周速度Vbと被試験ディスクに対するGHの関係から、試験用ヘッドの被試験ディスクに対するBGHが求められる。
図11は、このようにして求められた試験用ヘッドの被試験ディスクに対するBGHとZ値の関係を示す図である。図11中、縦軸はBGH(nm)を示し、横軸はZ値(nm)を示す。図11において、◆印は実際に求められたデータを示し、VIは試験用ヘッドの被試験ディスクに対するBGHの近似線形関数y=0.0547x+2.1722,R2=0.8282を示し、Rは相関係数を表す。
又、図12は、図11と同じ条件下での試験用ヘッドの再生出力の落込み量とZ値の関係を示す図である。図12中、縦軸はトラック振幅平均(TAA:Track Amplitude Average)出力波形の落込み量(%)を示し、横軸はZ値(nm)を示す。TAAは、試験用ヘッドで被試験ディスク上の複数のトラックにテスト信号を記録して再生した場合の再生出力振幅の平均を示す。図12において、◆印は実際に求められたデータを示し、VIIは試験用ヘッドによるTAAの近似線形関数y=0.113x−0.3249,R2=0.8692を示し、Rは相関係数を表す。
図13は、所望のBGHが確保された場合の正常なTAA出力波形を示す図であり、図14は、所望のBGHが確保されずにネガティブモジュレーション(NM:Negative Modulation)が発生した場合のTAA出力波形を示す図である。図14及び図15中、縦軸はTAA出力波形の振幅を任意単位で示し、横軸は時間を任意単位で示す。図14に示すように、テスト信号を被試験ディスクに記録して再生し、TAAの+側、−側に対して各々に設定した+側スライス値、−側スライス値(スライス値<100%)を下回る再生ビットをNMエラーとして検出する。 スライス値は、例えば80%である。NMは、例えば数十μsec以上の比較的長い時間継続する媒体欠陥である。図14の例では、破線で囲んだ部分でのTAA出力波形の落込み量は30%以上であり、このようなNMエラーの抑制は難しい。このように、被試験ディスクの基板表面の微細な凹凸は、BGH及びリード・ライト特性に大きな影響を及ぼす。
本実施例の場合、図11〜図13のデータから、所望のBGH(>0)が2.5nm以下であると、この所望のBGHが確保できるZ値は図11の近似線形関数VIから望ましくは6nm以下であることが確認された。つまり、例えば被試験ディスクが内周部分における平坦な基板表面に対する凹部の深さ又は凸部の高さが許容範囲を超える凹凸を有するためにZ値が6nmを超えると、BGHが2.5nmを超えてしまうことが確認された。又、TAA出力波形の落込み量を30%未満に抑えるには、Z値は図12の近似線形関数VIIから望ましくは6nm以下であることが確認された。即ち、Z値が6nmを超えると、TAA出力波形の落込み量が30%以上になってしまうことが確認された。このようにして、Z値に基づいて被試験ディスクの基板表面の微細な凹凸の有無を確実に検出可能であることが確認された。
図15及び図16は、図11及び図12のデータを求めたのと同じ被試験ディスクに対して求められた比較例のデータを示す。図15は、求められた試験用ヘッドの被試験ディスクに対するBGHと図1〜図4と共に説明したβ値の関係を示す図である。図15中、縦軸はBGH(nm)を示し、横軸はβ値(nm)を示す。図15において、◆印は実際に求められたデータを示し、Cmp1は試験用ヘッドの被試験ディスクに対するBGHの近似線形関数y=−0.0094x+2.5627,R2=0.0506を示し、Rは相関係数を表す。
又、図16は、図15と同じ条件下での試験用ヘッドの再生出力の落込み量とβ値の関係を示す図である。図16中、縦軸はトラック振幅平均(TAA:Track Amplitude Average)出力波形の落込み量(%)を示し、横軸はβ値(nm)を示す。図16において、◆印は実際に求められたデータを示し、Cmp2は試験用ヘッドによるTAAの近似線形関数y=0.0537x+0.0444,R2=0.1174を示し、Rは相関係数を表す。
比較例の場合、図15及び図16のデータから、所望のBGH(>0)が2.5nm以下であると、この所望のBGHが確保できるβ値は図15の近似線形関数Cmp1からは一意に求めることができず、被試験ディスクの基板表面の微細な凹凸の有無を確実に検出することはできないことがわかる。
図17は、第1の被試験ディスクの基板評価の対象となる4つの領域の測定結果を示す図である。図17中、(a),(b),(c),(d)は互いに90度ずれた位置に配置された領域2、即ち、図5において上側(0度)、右側(90度)、下側(180度)及び左側(270度)の領域2におけるザイゴ社(Zygo Corporation)製の非接触光学式測定器NewView5030による実測データを示す。図17中、縦軸は図6における仮想直線ABからの距離(nm)、即ち、高さ(nm)又は深さ(nm)の絶対値を示し、横軸は第1の被試験ディスクの半径位置(mm)を示し、半径位置が0(mm)が第1の被試験ディスクの外周端面に相当する。図17中、(a)では図6におけるC点の仮想直線ABからの距離Xが0.99nm、D点の仮想直線ABからの距離Yが3.44nmであり、(b)ではC点の仮想直線ABからの距離Xが0.29nm、D点の仮想直線ABからの距離Yが6.44nmであり、(c)ではC点の仮想直線ABからの距離Xが0.00nm、D点の仮想直線ABからの距離Yが6.52nmであり、(d)ではC点の仮想直線ABからの距離Xが0.12nm、D点の仮想直線ABからの距離Yが7.63nmである。BGH(>0)が2.5nmの場合、Z値は5.18nmであり、β値は7.63nmであった。所望のBGH(>0)が2.5nm以下の場合、Z値は6.00nm以下であるため、Z値を用いることで第1の被試験ディスクは良品であると判定可能である。
図18は、第2の被試験ディスクの基板評価の対象となる4つの領域の測定結果を示す図である。第2の被試験ディスクは、所望のBGH(>0)が3.1nm以下の場合、周知の方法により予め不良品であると判定されているものである。図18中、(a),(b),(c),(d)は互いに90度ずれた等角度間隔の位置に配置された領域2、即ち、図5において上側、右側、下側及び左側の各領域2におけるザイゴ社(Zygo Corporation)製の非接触光学式測定器NewView5030による4回分の実測データを示す。図18中、縦軸は図6における仮想直線ABからの距離(nm)、即ち、高さ(nm)又は深さ(nm)の絶対値を示し、横軸は第2の被試験ディスクの半径位置(mm)を示し、半径位置が0(mm)が第2の被試験ディスクの外周端面に相当する。図18中、(a)では図6におけるC点の仮想直線ABからの距離Xが6.39nm、D点の仮想直線ABからの距離Yが0.41nmであり、(b)ではC点の仮想直線ABからの距離Xが0.14nm、D点の仮想直線ABからの距離Yが6.98nmであり、(c)ではC点の仮想直線ABからの距離Xが6.48nm、D点の仮想直線ABからの距離Yが0.35nmであり、(d)ではC点の仮想直線ABからの距離Xが4.95nm、D点の仮想直線ABからの距離Yが0.77nmである。Z値は13.40nmであり、β値は6.98nmであった。この場合、Z値は図17の場合と比べて大きく、6nmを超えているので、Z値を用いることで第2の被試験ディスクは不良品であると判定可能である。一方、β値は図17の場合の7.68nmと大きく変わらないため、β値に基づいて図17の場合の第1の被試験ディスクを良品と判定した場合には図18の場合の第2の被試験ディスクも良品と誤判定してしまう可能性が高い。
図19は、第3の被試験ディスクの基板評価の対象となる4つの領域の測定結果を示す図である。第3の被試験ディスクは、所望のBGH(>0)が2.5nm以下の場合、TAA出力波形を用いる周知の方法により予め不良品であると判定されているものである。図19中、(a),(b),(c),(d)は互いに90度ずれた等角度間隔の位置に配置された領域2、即ち、図5において上側、右側、下側及び左側の各領域2におけるザイゴ社(Zygo Corporation)製の非接触光学式測定器NewView5030による4回分の実測データを示す。図19中、縦軸は図6における仮想直線ABからの距離(nm)、即ち、高さ(nm)又は深さ(nm)の絶対値を示し、横軸は第3の被試験ディスクの半径位置(mm)を示し、半径位置が0(mm)が第3の被試験ディスクの外周端面に相当する。図19中、(a)では図6におけるC点の仮想直線ABからの距離Xが4.29nm、D点の仮想直線ABからの距離Yが2.13nmであり、(b)ではC点の仮想直線ABからの距離Xが0.05nm、D点の仮想直線ABからの距離Yが5.38nmであり、(c)ではC点の仮想直線ABからの距離Xが3.66nm、D点の仮想直線ABからの距離Yが1.77nmであり、(d)ではC点の仮想直線ABからの距離Xが0.10nm、D点の仮想直線ABからの距離Yが6.74nmである。Z値は11.03nmであり、β値は6.74nmであった。この場合、Z値は図17の場合と比べて大きく、6nmを超えているので、Z値を用いることで第3の被試験ディスクは不良品であると判定可能である。一方、β値は図17の場合の7.68nmと大きく変わらないため、β値に基づいて図17の場合の第1の被試験ディスクを良品と判定した場合には図19の場合の第3の被試験ディスクも良品と誤判定してしまう可能性が高い。
つまり、Z値は、面内形状のバラツキが比較的少ない第1の被試験ディスクの場合は比較的小さい値となるが、面内形状のバラツキが比較的大きい第2及び第3の被試験ディスクの場合は比較的大きい値となり、Z値に基づいて第1の被試験ディスクが良品であり第2及び第3の被試験ディスクが不良品であることが確実に判定可能である。一方、β値は、面内形状のバラツキが比較的少ない第1の被試験ディスクの場合は比較的大きい値となり、面内形状のバラツキが比較的大きい第2及び第3の被試験ディスクの場合は第1の被試験ディスクの場合より小さい値となり、β値に基づいて第1の被試験ディスクが良品であり第2及び第3の被試験ディスクが不良品であることを確実に判定することは難しい。
図20は、試験用ヘッドにより第1の被試験ディスクから再生された正常なTAA出力波形を示す図であり、図21は、試験用ヘッドにより第3の被試験ディスクから再生されたNMが発生した場合のTAA出力波形を示す図である。図20及び図21中、縦軸はTAA出力波形の振幅を任意単位で示し、横軸は時間を任意単位で示す。テスト信号を第1及び第3の被試験ディスクに記録して再生し、TAAの+側、−側に対して各々に設定した+側スライス値、−側スライス値(例えば、80%)を下回る再生ビットをNMエラーとして検出すると、図20に示すように第1の被試験ディスクの場合のTAA出力波形の落込み量は10%以下で非常に少ないが、図21に示すように第3の被試験ディスクの場合のTAA出力波形の落込み量は30%以上であり、このようなNMエラーの抑制は難しい。従って、Z値に基づいて良品として判定された第1の被試験ディスクは良品であり、Z値に基づいて不良品として判定された第3の被試験ディスクは抑制の難しいNMエラーが発生する不良品であることが確認され、Z値に基づいて被試験ディスクが良品であるか、或いは、不良品であるかを正しく判定可能であることが確認された。
ところで、本発明者らによる実験結果によれば、BGHとZ値の相関は、Z値を基板(被試験ディスク)1の4つの領域2に対して求めた場合に限らず、基板1上の2以上の領域2に対して求めた場合にも成立することが確認された。
図22は、磁気ディスクに用いられる基板1の平面図であり、2は基板評価の対象となる2つの領域を示す。2つの領域2は、互いに180度ずれた等角度間隔の位置に配置されている。図23は、試験用ヘッドの図22の基板1を有する被試験ディスクに対するBGHとZ値の関係を示す図である。図23及び後述する図26、図28及び図30中、縦軸はBGH(nm)を示し、横軸はZ値(nm)を示す。図23において、◆印は実際に求められたデータを示し、実線は試験用ヘッドの被試験ディスクに対するBGHの近似線形関数y=0.0412x+2.3506,R2=0.5037を示し、Rは相関係数を表す。
一方、図24は、図22の基板1を有する試験用ヘッドの被試験ディスクに対するBGHとβ値の関係を示す図である。図24中、縦軸はBGH(nm)を示し、横軸はβ値(nm)を示す。図24において、◆印は実際に求められたデータを示し、実線は試験用ヘッドの被試験ディスクに対するBGHの近似線形関数y=−0.0077x+2.5455,R2=0.0386を示し、Rは相関係数を表す。図24と図23の比較からもわかるように、BGHと基板1上の2つの領域2について求められたβ値は相関性を有さないが、BGHと基板1上の2つの領域2について求められたZ値は相関性を有することが確認された。
図25は、磁気ディスクに用いられる基板1の平面図であり、2は基板評価の対象となる3つの領域を示す。3つの領域2は、0度、90度及び180度の位置に配置されている。図26は、試験用ヘッドの図25の基板1を有する被試験ディスクに対するBGHとZ値の関係を示す図である。図26において、◆印は実際に求められたデータを示し、実線は試験用ヘッドの被試験ディスクに対するBGHの近似線形関数y=0.0406x+2.3239,R2=0.6158を示し、Rは相関係数を表す。図26からもわかるように、BGHと基板1上の3つの領域2について求められたZ値は相関性を有する。又、3つの領域2が互いに120度ずれた等角度間隔の位置に配置されている場合も、BGHと基板1上の3つの領域2について求められたZ値は相関性を有することが確認された。
図27は、磁気ディスクに用いられる基板1の平面図であり、2は基板評価の対象となる2つの領域を示す。4つの領域2は、互いに90度ずれた等角度間隔の位置に配置されている。図28は、試験用ヘッドの図27の基板1を有する被試験ディスクに対するBGHとZ値の関係を示す図である。図28において、◆印は実際に求められたデータを示し、実線は試験用ヘッドの被試験ディスクに対するBGHの近似線形関数y=0.0504x+2.2438,R2=0.7999を示し、Rは相関係数を表す。図28からもわかるように、BGHと基板1上の4つの領域2について求められたZ値は相関性を有することが確認された。
図29は、磁気ディスクに用いられる基板1の平面図であり、2は基板評価の対象となる2つの領域を示す。8つの領域2は、互いに45度ずれた等角度間隔の位置に配置されている。図30は、試験用ヘッドの図29の基板1を有する被試験ディスクに対するBGHとZ値の関係を示す図である。図30において、◆印は実際に求められたデータを示し、実線は試験用ヘッドの被試験ディスクに対するBGHの近似線形関数y=0.0569x+2.1732,R2=0.8413を示し、Rは相関係数を表す。図30からもわかるように、BGHと基板1上の8つの領域2について求められたZ値は相関性を有することが確認された。図23、図26、図28及び図30からもわかるように、Z値に基づいて被試験ディスクが良品であるか、或いは、不良品であるかを判定する際の精度は、基板1上の基板評価の対象となる領域2の数が4以上に設定されていると更に向上することが確認された。
又、基板評価方法は、Z値を基板1上の2以上の領域2に対して求めることで、BGH及びリード・ライト特性に大きな影響を及ぼす基板表面の微細な凹凸の有無を確実に検出可能となる。従って、基板評価方法で不良品と判定された基板1を磁気ディスクの製造工程から排除し、良品と判定された基板1のみを磁気記録媒体(磁気ディスク)の製造工程で用いることで、磁気記録媒体の製造方法における磁気記録媒体の歩留まりを向上すると共に、信頼性の高い磁気記録媒体を製造可能となる。磁気記録媒体は、水平磁気記録方式を採用する媒体であっても、ディスクリートトラック媒体(DTM:Discrete Track Medium)やビットパターンド媒体(BPM:Bit Patterned Medium)等の垂直磁気記録方式を採用する媒体であっても良い。
以上の実施例を含む実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。
(付記1)
基板上の2以上の領域について求めた凸部の高さの最大値Xmaxと最小値Xminの差と、凹部の深さの最大値Ymaxと最小値Yminの差との和で表されるZ値を求め、
前記Z値に基づいて基板表面の凹凸の有無を検出して前記基板が良品であるか、或いは、不良品であるかを判定する、基板評価方法。
(付記2)
ディスク状の基板上の外周端面から内周方向に向かって0より長い第1の距離内側の任意の点を第1の点Aとし、第1の点Aから更に内周方向に向かって前記第1の距離より長い第2の距離内側の任意の点を第2の点Bとし、前記第1及び第2の点A,Bを結ぶ仮想直線ABに対して山に第1の垂線を引き前記第1の垂線が基板表面の実測値と交わる交点を第3の点Cとし、前記仮想直線ABに対して谷側に第2の垂線を引き前記第2の垂線が前記基板表面の実測値と交わる交点を第4の点Dとし、前記第1の垂線の前記仮想直線ABとの交点C'と前記第3の点C間の距離をXとし、前記第2の垂線の前記仮想直線ABとの交点D'と前記第4の点D間の距離をYとした場合、前記距離X,Yを、前記基板上の外周部分の2以上の領域に対して求め、
求められた距離Xのうち最大値Xmaxと最小値Xmin、及び、求められた距離のうち最大値Ymaxと最小値Yminを取得し、
Z=(Xmax−Xmin)+(Ymax−Ymin)で表される前記Z値を求める、付記1記載の基板評価方法。
(付記3)
試験用ヘッドが前記基板に対して所望の基準滑走高さが確保できるか否かを、予め求められている試験用ヘッドの既知のバンプの高さを有する基準基板に対する基準滑走高さとZ値の関係を参照することで前記Z値に基づいて判定する、付記1又は2記載の基板評価方法。
(付記4)
前記関係は近似線形関数で表される、付記3記載の基板評価方法。
(付記5)
前記基板上の外周部分の2以上の領域は、互いに等角度間隔の位置に配置されている、付記3又は4記載の基板評価方法。
(付記6)
前記基板上の外周部分の2以上の領域は、互いに等角度間隔の4以上の位置に配置されている、付記3又は4記載の基板評価方法。
(付記7)
前記基板の直径は2.5インチであり、前記Z値は6.0nm以下である、付記3乃至6のいずれか1項記載の基板評価方法。
(付記8)
前記所望の基準滑走高さは2.5nm以下、且つ、0より高い、付記7記載の基板評価方法。
(付記9)
付記1乃至8のいずれか1項記載の基板評価方法により前記基板が良品であるか、或いは、不良品であるかを判定し、
良品と判定された基板上に磁気記録層を含む層を積層する、記録媒体の製造方法。
(付記1)
基板上の2以上の領域について求めた凸部の高さの最大値Xmaxと最小値Xminの差と、凹部の深さの最大値Ymaxと最小値Yminの差との和で表されるZ値を求め、
前記Z値に基づいて基板表面の凹凸の有無を検出して前記基板が良品であるか、或いは、不良品であるかを判定する、基板評価方法。
(付記2)
ディスク状の基板上の外周端面から内周方向に向かって0より長い第1の距離内側の任意の点を第1の点Aとし、第1の点Aから更に内周方向に向かって前記第1の距離より長い第2の距離内側の任意の点を第2の点Bとし、前記第1及び第2の点A,Bを結ぶ仮想直線ABに対して山に第1の垂線を引き前記第1の垂線が基板表面の実測値と交わる交点を第3の点Cとし、前記仮想直線ABに対して谷側に第2の垂線を引き前記第2の垂線が前記基板表面の実測値と交わる交点を第4の点Dとし、前記第1の垂線の前記仮想直線ABとの交点C'と前記第3の点C間の距離をXとし、前記第2の垂線の前記仮想直線ABとの交点D'と前記第4の点D間の距離をYとした場合、前記距離X,Yを、前記基板上の外周部分の2以上の領域に対して求め、
求められた距離Xのうち最大値Xmaxと最小値Xmin、及び、求められた距離のうち最大値Ymaxと最小値Yminを取得し、
Z=(Xmax−Xmin)+(Ymax−Ymin)で表される前記Z値を求める、付記1記載の基板評価方法。
(付記3)
試験用ヘッドが前記基板に対して所望の基準滑走高さが確保できるか否かを、予め求められている試験用ヘッドの既知のバンプの高さを有する基準基板に対する基準滑走高さとZ値の関係を参照することで前記Z値に基づいて判定する、付記1又は2記載の基板評価方法。
(付記4)
前記関係は近似線形関数で表される、付記3記載の基板評価方法。
(付記5)
前記基板上の外周部分の2以上の領域は、互いに等角度間隔の位置に配置されている、付記3又は4記載の基板評価方法。
(付記6)
前記基板上の外周部分の2以上の領域は、互いに等角度間隔の4以上の位置に配置されている、付記3又は4記載の基板評価方法。
(付記7)
前記基板の直径は2.5インチであり、前記Z値は6.0nm以下である、付記3乃至6のいずれか1項記載の基板評価方法。
(付記8)
前記所望の基準滑走高さは2.5nm以下、且つ、0より高い、付記7記載の基板評価方法。
(付記9)
付記1乃至8のいずれか1項記載の基板評価方法により前記基板が良品であるか、或いは、不良品であるかを判定し、
良品と判定された基板上に磁気記録層を含む層を積層する、記録媒体の製造方法。
以上、本発明を実施例により説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変形及び改良が可能であることは言うまでもない。
1 基板
1A 基板表面
1B バンプ
2 領域
21 ヘッドスライダ
1A 基板表面
1B バンプ
2 領域
21 ヘッドスライダ
Claims (5)
- 基板上の2以上の領域について求めた凸部の高さの最大値Xmaxと最小値Xminの差と、凹部の深さの最大値Ymaxと最小値Yminの差との和で表されるZ値を求め、
前記Z値に基づいて基板表面の凹凸の有無を検出して前記基板が良品であるか、或いは、不良品であるかを判定する、基板評価方法。 - 試験用ヘッドが前記基板に対して所望の基準滑走高さが確保できるか否かを、予め求められている試験用ヘッドの既知のバンプの高さを有する基準基板に対する基準滑走高さとZ値の関係を参照することで前記Z値に基づいて判定する、請求項1記載の基板評価方法。
- 前記基板上の外周部分の2以上の領域は、互いに等角度間隔の4以上の位置に配置されている、請求項2記載の基板評価方法。
- 前記基板の直径は2.5インチであり、前記Z値は6.0nm以下である、請求項2又は3記載の基板評価方法。
- 請求項1乃至4のいずれか1項記載の基板評価方法により前記基板が良品であるか、或いは、不良品であるかを判定し、
良品と判定された基板上に磁気記録層を含む層を積層する、記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009011256A JP2010170605A (ja) | 2009-01-21 | 2009-01-21 | 基板評価方法及び記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009011256A JP2010170605A (ja) | 2009-01-21 | 2009-01-21 | 基板評価方法及び記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010170605A true JP2010170605A (ja) | 2010-08-05 |
Family
ID=42702628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009011256A Pending JP2010170605A (ja) | 2009-01-21 | 2009-01-21 | 基板評価方法及び記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010170605A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013016214A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-24 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | Hdd用ガラス基板、hdd用ガラス基板の製造方法、及びhdd用磁気記録媒体 |
-
2009
- 2009-01-21 JP JP2009011256A patent/JP2010170605A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013016214A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-24 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | Hdd用ガラス基板、hdd用ガラス基板の製造方法、及びhdd用磁気記録媒体 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8619529B1 (en) | Methods and devices for enhanced adaptive margining based on channel threshold measure | |
US7016131B2 (en) | Method and implementation of in-situ absolute head medium spacing measurement | |
US6408677B1 (en) | Calibration disk having discrete bands of composite roughness | |
US7522360B2 (en) | Flying height measurement apparatus and method therefor | |
KR100540107B1 (ko) | 자기 디스크 장치 | |
US20070127147A1 (en) | Contact detecting apparatus, and method for detecting contact | |
US6771453B2 (en) | Glide slider fly height calibration method using disk spin down and slider dynamic scan | |
US6968731B2 (en) | High speed glide test for screening magnetic disc micro-waviness and a system therefor | |
JP5244656B2 (ja) | 複合磁気ヘッドの書込幅及び/又は読出幅の測定方法および測定装置 | |
JP2010170605A (ja) | 基板評価方法及び記録媒体の製造方法 | |
JP3246403B2 (ja) | 情報記録再生装置の検査方法及び情報記録再生装置の検査装置 | |
US6437930B1 (en) | Method of estimating the clearance between a read/write transducer head and a magnetic recording medium | |
JP5302806B2 (ja) | 複合磁気ヘッドにおけるヘッド間のオフセット量測定方法および測定装置 | |
JP3439693B2 (ja) | 磁気ヘッドのトラックピッチの測定方法と検査方法および測定装置と検査装置 | |
US6842257B2 (en) | Method for inspection of magnetic disc edge roll-off | |
US9123386B2 (en) | Data storage system and a method for measuring a change in a spacing between a head and a storage medium of a data storage system | |
JPH11339414A (ja) | 突起検出センサ及び突起検出方法 | |
US20020131187A1 (en) | Evaluation system for magnetic disk medium | |
JP2012014795A (ja) | 磁気記録装置、および磁気記録装置の検査方法 | |
JP2004303318A (ja) | 磁気ディスク装置 | |
Li | Write-induced pole-tip-protrusion and its effect on head-disk interface clearance | |
JP5536548B2 (ja) | 磁気記録再生装置の制御方法、磁気記録再生装置、磁気記録媒体の検査方法および磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2009087442A (ja) | パターンド磁気ディスク媒体の製造方法 | |
Suzuki et al. | Effect of radial curvature of magnetic media on glide avalanche | |
US8457926B2 (en) | Disk protrusion detection/flatness measurement circuit and disk glide tester |