JP2010162537A - Cleaning apparatus - Google Patents

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Hisashi Katsumata
央 勝間田
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SHANGHAI SHINMEI ELECTRIC CO L
SHANGHAI SHINMEI ELECTRIC CO Ltd
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SHANGHAI SHINMEI ELECTRIC CO L
SHANGHAI SHINMEI ELECTRIC CO Ltd
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  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning apparatus that reduces consumption of a solvent by enhancing recovery efficiency of the solvent and that is comparatively inexpensive. <P>SOLUTION: During the drying operation of a workpiece, a fully hermetically sealed state is maintained in a fan sealing part 21, a cleaning/drying tank 6, a recovery device 12, and pipes 51-53 which are completely shut off from the outside air. Also, a moisture separator 14, a liquid returning tank 16, pipes 56, 61 and other pipes are all held in a fully hermetically sealed state completely shut off from the outside air. After the completion of the drying operation of a workpiece, the air in a cleaning basket 2 and in the workpiece is cooled, in a cooling tank 5 continuously installed to the cleaning/drying tank 6, so that the slight amount of remaining solvent vapor is further reduced. In addition, the air in the drying route flowed out into the cooling tank 5 is also cooled to further reduce the solvent vapor concentration. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば電子、精密機械、自動車関連の工場で、部品製造等の際に使用される洗浄装置に関する。   The present invention relates to a cleaning apparatus used for manufacturing parts, for example, in an electronic, precision machine, or automobile-related factory.

近年、特定フロンCFC-113等が、地球環境の問題より廃止となったため、部品製造等の際に使用される洗浄装置においては、代替溶剤に置き換わろうとしている。しかし代替溶剤は様々な問題を抱えており、特に価格面では数倍から十数倍となっている。
また、フッ素系以外の代替に関しては、毒性の強い物や匂いが職場環境に適応出来ない等の理由で、使用を断念する溶剤も増加している状況である。このため溶剤の消耗量を極限まで抑える洗浄装置は待望される訳だが、現状、日本ではかなり高額な装置が出ている程度である。
In recent years, Specified CFC-113 etc. have been abolished due to global environmental problems. Therefore, in the cleaning equipment used for parts manufacturing, etc., it is going to be replaced with an alternative solvent. However, the alternative solvent has various problems, and in particular, the price is several to ten times.
As for alternatives other than fluorine-based ones, the number of solvents that are abandoned is increasing due to the fact that highly toxic substances and odors cannot be applied to the workplace environment. For this reason, there is a long-awaited cleaning device that minimizes the amount of solvent consumed, but at present, a fairly expensive device is available in Japan.

溶剤の節減対策としては、溶剤蒸気が大気にさらされる部分の冷却温度の低温化により実施されている。また、冷却部の高さを装置の槽の奥行きに比較して深くするのが常識的で有効な手段ではあるが、これらのみでは効果は限定される。
冷却温度の低減は、冷却を水による間接冷却方式よりフロン系の冷媒による直冷方式に変更することで、5℃程度より−15℃程度への低温化は容易に可能である。また、単純に低温化だけであれば、超低温の冷凍機を使用すればいくらでも可能だが、価格面や結露の問題があり実用化はされていないと思われる。
冷却部の高さに関しては、通常の装置では奥行きに対する比率が0.8倍から1倍であるのに対して、1.5倍程度のものはあり、3倍程度までは実用化されている可能性が有る。
これらの技術は一般化されており、効果もそれなりには期待できるものの、市販されている装置では本発明の洗浄装置の十倍程度の溶剤消費となり、組み合わせた技術で限界を求めても、本発明の装置の3倍程度の消耗に抑制することさえ困難と思われる。
Measures for solvent saving are implemented by lowering the cooling temperature of the portion where the solvent vapor is exposed to the atmosphere. Moreover, although it is a common-sense and effective means to make the height of the cooling part deeper than the depth of the tank of the apparatus, the effect is limited only by these means.
The cooling temperature can be reduced easily from about 5 ° C. to about −15 ° C. by changing the cooling from an indirect cooling method using water to a direct cooling method using a fluorocarbon refrigerant. In addition, if the temperature is simply reduced, it is possible to use an ultra-low temperature refrigerator as much as possible, but it seems that it has not been put into practical use due to price and condensation problems.
Regarding the height of the cooling unit, the ratio of the depth to the depth is 0.8 to 1 in a normal device, whereas there is about 1.5 times, and up to about 3 times has been put into practical use. There is a possibility.
Although these technologies are generalized and the effect can be expected as such, the commercially available apparatus consumes about ten times as much solvent as the cleaning apparatus of the present invention. It seems even difficult to suppress to about three times the consumption of the device of the invention.

更に構造を変えて、槽を完全密閉式として真空乾燥により溶剤蒸気の大部分を回収する方式も一般的である。この方式は乾燥槽内の蒸気は極限まで減らす事は可能だが、真空ポンプの排気に含まれる蒸気の回収率が99%程度しか出来ず、残りの1%程度の消耗が溶剤の消耗量としてはかなり大きい。市販されているこの方式の装置の溶剤消費は、本発明の装置の10倍以上である。   Further, it is also common to change the structure so that the tank is completely sealed, and most of the solvent vapor is recovered by vacuum drying. This method can reduce the steam in the drying tank to the limit, but the recovery rate of the steam contained in the exhaust of the vacuum pump can only be about 99%, and the remaining 1% consumption is the amount of solvent consumption Pretty big. The solvent consumption of this type of apparatus on the market is more than 10 times that of the apparatus of the present invention.

近年、真空乾燥方式で上記の欠点を補うため、排気を溜め込む方式の装置が発表されている。しかし、装置の構造が複雑なため価格は高価で同程度の装置の3倍から6倍程度となる。また、基本が真空乾燥のため、特に箱形状の液の溜まり易いワークの乾燥は難しく、乾燥時間の延長のみでは対応出来ず、別途乾燥機構が必要な場合も発生する。理論的には極限まで溶剤の消耗量を削減出来るが、そのためには真空吸引の真空度を上げる必要が有り、排気の溜め込みの場所と価格、吸引時間によるタクトタイムの問題も有り実用的ではない。   In recent years, in order to make up for the above-mentioned drawbacks by a vacuum drying method, an apparatus of a method for storing exhaust gas has been announced. However, since the structure of the device is complicated, the price is expensive and is about 3 to 6 times that of a similar device. In addition, since the basic is vacuum drying, it is difficult to dry a work in which a box-shaped liquid easily accumulates, and it is not possible to deal with only by extending the drying time, and a separate drying mechanism may be required. Theoretically, the amount of solvent consumption can be reduced to the utmost limit, but for that purpose, it is necessary to increase the vacuum degree of vacuum suction, and there is a problem of tact time due to the location and price of the exhaust reservoir and suction time, which is not practical. .

一般的な従来の開放式洗浄装置の構造の一例を図7に示す。この開放式洗浄装置は、超音波洗浄槽(第1槽)と、冷浴洗浄槽(第2槽)と、蒸気洗浄槽(第3槽)と、洗浄籠112と、冷却部(冷却コイル)121と、水分分離器114と、超音波振動子119と、加熱器120とを備えており、溶剤151が洗浄に用いられる。   An example of the structure of a general conventional open type cleaning apparatus is shown in FIG. This open type cleaning apparatus includes an ultrasonic cleaning tank (first tank), a cold bath cleaning tank (second tank), a steam cleaning tank (third tank), a cleaning basket 112, and a cooling unit (cooling coil). 121, a water separator 114, an ultrasonic vibrator 119, and a heater 120, and a solvent 151 is used for cleaning.

この開放式洗浄装置では、手作業により、第1槽、2槽、3槽の順に洗浄籠2を浸漬して完了する。最後の第3槽において、溶剤蒸気150により加熱された後、加熱状態で取り出して自然乾燥させる。そのため、ワークに付着した洗浄液はそのまま大気中に放出される。特に樹脂部品の箱型の形状のものは、中に液を溜め込むために液の消耗量も多い。
また図7中にHで示した冷却部(冷却コイル)121の高さは、洗浄籠112の移動のために余り高くはできず、最上部の蒸気濃度が低くならず上部へ抜け出る蒸気量も、無視できないレベルである。
更に、一般の装置は冷却を水で行うのが一般的で、その場合は氷結の防止のために、液温度は5〜10℃前後と高めである。直接フロン等の冷媒で冷却する装置も可能だが、それでも−15℃程度が限度で、高さHの短さもあり十分に有効とは言えない。
In this open type cleaning apparatus, the cleaning basket 2 is immersed in the order of the first tank, the second tank, and the third tank by manual work. In the final third tank, after being heated by the solvent vapor 150, it is taken out in a heated state and naturally dried. Therefore, the cleaning liquid adhering to the workpiece is released into the atmosphere as it is. In particular, the box-shaped resin part has a large amount of liquid consumption because the liquid is stored therein.
In addition, the height of the cooling part (cooling coil) 121 indicated by H in FIG. 7 cannot be so high due to the movement of the cleaning bowl 112, and the steam concentration at the top is not lowered and the amount of steam flowing out to the upper part is also low. This is a level that cannot be ignored.
Furthermore, in a general apparatus, cooling is generally performed with water. In this case, the liquid temperature is as high as about 5 to 10 ° C. in order to prevent freezing. Although an apparatus that directly cools with a refrigerant such as chlorofluorocarbon is possible, it is still not effective because it is limited to about −15 ° C. and has a short height H.

一般的な従来の密閉式洗浄装置の構造の一例を図8に示す。この密閉式洗浄装置は、洗浄籠112と、洗浄槽116と、開閉蓋113と、貯液槽126と、溶剤ポンプ117と、濾過器118と、超音波振動子119と、真空ポンプ162と、凝縮器161と、冷却部(冷却パイプ)121と、回収槽122とを備えている。   An example of the structure of a general conventional hermetic cleaning apparatus is shown in FIG. This hermetic cleaning apparatus includes a cleaning basket 112, a cleaning tank 116, an open / close lid 113, a liquid storage tank 126, a solvent pump 117, a filter 118, an ultrasonic vibrator 119, a vacuum pump 162, A condenser 161, a cooling unit (cooling pipe) 121, and a recovery tank 122 are provided.

この密閉式洗浄装置では、洗浄槽116上面の開閉蓋113を開いて、ワークの挿入された洗浄籠112を洗浄槽116内に挿入する。開閉蓋113が閉じて槽内は密閉される。溶剤ポンプ117により貯液槽126の洗浄液が濾過器118を介して洗浄槽116に送られ、超音波振動子119による超音波等の手段により洗浄が行われ、完了後は溶剤ポンプ117により液は貯液槽126に戻される。その後、溶剤蒸気等の加熱手段により、ワークは十分に加熱された後、真空ポンプ162により真空乾燥が行われる。この時に真空乾燥自体は密閉された槽内で行われるため、蒸気の漏れは無い。また、真空ポンプ162の溶剤蒸気を含んだ排気は、低温の凝縮器161にて液化して回収され、蒸気の薄くなった排気は更に冷却パイプ121を有する回収槽122の溶剤内に挿入され大部分は回収される。一般にこの回収効率は95%以上、99.5%と宣伝しているメーカーも在る。
しかしながら、回収漏れの高々0.5%だが、蒸気加熱時の蒸気量が多量のために、無視できない量となる。消費量は炭化水素系溶剤の洗浄機で毎時1リットル、塩素系溶剤の洗浄機では更にその5から7倍と言われる。
In this hermetic cleaning apparatus, the opening / closing lid 113 on the upper surface of the cleaning tank 116 is opened, and the cleaning rod 112 into which the workpiece is inserted is inserted into the cleaning tank 116. The opening / closing lid 113 is closed and the inside of the tank is sealed. The cleaning liquid in the liquid storage tank 126 is sent to the cleaning tank 116 via the filter 118 by the solvent pump 117, and cleaning is performed by means such as ultrasonic waves by the ultrasonic vibrator 119. It is returned to the liquid storage tank 126. Thereafter, the work is sufficiently heated by heating means such as solvent vapor, and then vacuum drying is performed by the vacuum pump 162. At this time, since the vacuum drying itself is performed in a sealed tank, there is no leakage of steam. The exhaust gas containing the solvent vapor of the vacuum pump 162 is liquefied and recovered by the low-temperature condenser 161, and the exhaust gas whose vapor has become thinner is further inserted into the solvent of the recovery tank 122 having the cooling pipe 121. Part is recovered. In general, some manufacturers advertise this recovery efficiency as 95% or more and 99.5%.
However, the recovery leakage is at most 0.5%, but the amount of steam at the time of steam heating is so large that it cannot be ignored. The consumption is said to be 1 liter per hour for a hydrocarbon solvent washer and 5 to 7 times that for a chlorine solvent washer.

上記の密閉式洗浄装置を改良し、溶剤消費を最小限に抑えるべく、特許文献1に示すように、ガスホルダーと称する容器を備えた洗浄装置がある。
このガスホルダーを備えた洗浄装置の一例を図9に示す。この装置では、蒸気加熱時及び乾燥時の真空ポンプ162よりの排気は、凝縮器161を介して伸縮、膨張自在のガスホルダー165と称する容器に溜め込まれ、外気には一切放出されない。そのため、理論的には溶剤の消耗量は真空吸引された洗浄槽に残った蒸気のみである。
しかし、実用上はガスホルダー165の大きさを巨大化するのは不合理なため、洗浄槽の真空度を余り上げられない。また、ガスホルダー165、真空ポンプ162等の使用により、装置はかなり高価なものとなり、本発明の装置比で4倍程度となる。
In order to improve the above-described hermetic cleaning apparatus and minimize solvent consumption, there is a cleaning apparatus provided with a container called a gas holder as shown in Patent Document 1.
An example of the cleaning apparatus provided with this gas holder is shown in FIG. In this apparatus, the exhaust from the vacuum pump 162 at the time of steam heating and drying is stored in a container called a gas holder 165 that can be expanded and contracted via a condenser 161, and is not discharged to the outside at all. Therefore, theoretically, the consumption amount of the solvent is only the vapor remaining in the vacuumed cleaning tank.
However, in practice, it is unreasonable to enlarge the size of the gas holder 165, so that the degree of vacuum of the cleaning tank cannot be increased much. Further, the use of the gas holder 165, the vacuum pump 162, and the like makes the device quite expensive, and is about four times as much as the device of the present invention.

特許第3813277号公報Japanese Patent No. 3813277

上述したように、従来の密閉式洗浄装置では、真空ポンプの排気に含まれる溶剤蒸気の回収効率の問題から、溶剤の消費量がかなり大きくなってしまうという問題があった。
また、溶剤の消費量を抑えるために、従来のガスホルダーを備えた洗浄装置を用いると、かなり高価な装置となるためにコストが高くなってしまうという問題があった。
As described above, the conventional hermetic cleaning apparatus has a problem that the consumption of the solvent becomes considerably large due to the recovery efficiency of the solvent vapor contained in the exhaust of the vacuum pump.
In addition, when a conventional cleaning device equipped with a gas holder is used to reduce the consumption of the solvent, there is a problem that the cost becomes high because the device becomes quite expensive.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたもので、溶剤の回収効率を高めて、溶剤の消費量を低減させるとともに、比較的安価な洗浄装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a relatively inexpensive cleaning device while increasing the solvent recovery efficiency to reduce the consumption of the solvent.

上記目的を達成するため、本発明の洗浄装置は、
被処理物の溶剤による洗浄及び該被処理物の乾燥が行われる洗浄・乾燥槽と、
前記洗浄・乾燥槽と接続され、前記被処理物を乾燥する温風機と、
前記洗浄・乾燥槽及び前記温風機と接続され、溶剤蒸気を冷却、液化して回収する回収器とを備え、
前記被処理物の乾燥時に溶剤蒸気が流入する前記洗浄・乾燥槽、前記温風機及び前記回収器は、外気と遮断された密閉状態である洗浄装置であって、
前記洗浄・乾燥槽の上方に連設され、前記洗浄・乾燥槽において乾燥が行われた前記被処理物を冷却し、溶媒蒸気を凝縮し液化する冷却槽を備えたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the cleaning apparatus of the present invention comprises:
A cleaning / drying tank in which the object to be processed is washed with a solvent and the object to be processed is dried;
A hot air machine connected to the washing / drying tank and drying the workpiece;
Connected to the washing / drying tank and the hot air machine, and equipped with a collector for cooling, liquefying and recovering the solvent vapor,
The cleaning / drying tank into which the solvent vapor flows when the object to be processed flows, the hot air machine, and the recovery unit are cleaning apparatuses that are sealed off from outside air,
A cooling tank is provided continuously above the cleaning / drying tank, and cools the object to be processed which has been dried in the cleaning / drying tank to condense and vaporize the solvent vapor.

また、前記被処理物を収納した容器が脱着可能に下方に保持され、
少なくとも前記冷却槽内を上下方向に移動可能に設置され、
前記被処理物の洗浄及び乾燥時には、上方が開口した前記洗浄・乾燥槽に圧着して密閉し、前記被処理物の冷却時には、前記冷却槽内で滞留することが可能である昇降フレームを備えるようにしてもよい。
Further, a container storing the object to be processed is held downward so as to be detachable,
At least installed in the cooling tank so as to be movable in the vertical direction,
When cleaning and drying the object to be processed, there is provided an elevating frame capable of being crimped and sealed to the cleaning / drying tank opened at the top and capable of staying in the cooling tank when the object to be processed is cooled. You may do it.

また、前記昇降フレームは、前記冷却槽内での滞留時において前記容器を回転させる回転機構を備えるようにしてもよい。   The elevating frame may include a rotation mechanism that rotates the container when the elevating frame stays in the cooling tank.

また、圧着力が1960N以上、且つ、外気に対する圧力が0.15kg/cm以上である前記昇降フレームの圧着機構を備えるようにしてもよい。 Moreover, you may make it provide the crimping | compression-bonding mechanism of the said raising / lowering frame whose crimping force is 1960 N or more and the pressure with respect to external air is 0.15 kg / cm < 2 > or more.

また、前記回収器及び前記冷却槽に、−20℃以下の低温装置を使用するようにしてもよい。   Moreover, you may make it use the low temperature apparatus of -20 degrees C or less for the said collection | recovery device and the said cooling tank.

また、前記洗浄・乾燥槽に溶剤を供給する溶剤の液戻槽を備え、
前記液戻槽は、槽内に溶剤のオーバーフロー分を回収可能な機構を有するようにしてもよい。
Also, a solvent return tank for supplying the solvent to the cleaning / drying tank is provided,
The liquid return tank may have a mechanism capable of recovering the solvent overflow in the tank.

本発明によれば、溶剤の回収効率を高めて、溶剤の消費量を低減させるとともに、比較的安価な洗浄装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while improving the collection | recovery efficiency of a solvent and reducing the consumption of a solvent, a comparatively cheap cleaning apparatus can be provided.

本発明の実施の形態に係る洗浄装置の概略構成を表わす外観図である。It is an external view showing the schematic structure of the washing | cleaning apparatus which concerns on embodiment of this invention. 図1に示した洗浄装置において、昇降フレームが洗浄・乾燥槽のフレームの上端に圧着した状態を表わす外観図である。FIG. 2 is an external view showing a state in which the lifting frame is crimped to the upper end of the frame of the cleaning / drying tank in the cleaning apparatus shown in FIG. 1. (A)は本発明の実施の形態に係る洗浄装置を構成する洗浄籠の回転機構の概略構成を表わす正面図、(B)は(A)に示した回転機構の一方からの側面図、(C)は(A)に示した回転機構の他方からの側面図である。(A) is a front view showing the schematic structure of the rotation mechanism of the cleaning bowl constituting the cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention, (B) is a side view from one side of the rotation mechanism shown in (A), ( C) is a side view from the other side of the rotation mechanism shown in FIG. 本発明の実施の形態に係る洗浄装置を構成する液戻槽の概略構成を表わす外観図である。It is an external view showing the schematic structure of the liquid return tank which comprises the washing | cleaning apparatus which concerns on embodiment of this invention. (A)は本発明の実施の形態に係る洗浄装置における圧着機構の概略構成を表わす通常状態の平面図であり、(B)は(A)に示した圧着機構の圧着時における平面図である。(A) is a top view of the normal state showing schematic structure of the crimping | compression-bonding mechanism in the washing | cleaning apparatus which concerns on embodiment of this invention, (B) is a top view at the time of the crimping | compression-bonding of the crimping | compression-bonding mechanism shown to (A). . 本発明の実施の形態に係る洗浄装置における圧着機構の概略構成を表わす断面図である。It is sectional drawing showing schematic structure of the crimping | compression-bonding mechanism in the washing | cleaning apparatus which concerns on embodiment of this invention. 従来の開放式洗浄装置の一例の概略構成を表わす外観図である。It is an external view showing the schematic structure of an example of the conventional open type washing | cleaning apparatus. 従来の密閉式洗浄装置の一例の概略構成を表わす外観図である。It is an external view showing the schematic structure of an example of the conventional hermetic cleaning apparatus. 従来のガスホルダーを備えた洗浄装置の一例の概略構成を表わす外観図である。It is an external view showing the schematic structure of an example of the washing | cleaning apparatus provided with the conventional gas holder.

本発明の実施の形態に係る洗浄装置について、以下図面を参照して説明する。
本実施の形態に係る洗浄装置は、除去される油分の比較的少ない洗浄対象物を想定した簡易蒸留器付き装置であり、一般の装置では本格的な蒸留装置が追加される。この洗浄装置では、溶剤としては、例えばフロン系の沸点が低く、油分の溶解の少ない溶剤を用いる。
A cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
The cleaning device according to the present embodiment is a device with a simple still that assumes a relatively small amount of oil to be cleaned, and a full-scale distillation device is added to a general device. In this cleaning apparatus, as the solvent, for example, a solvent having a low fluorocarbon boiling point and a low oil content is used.

洗浄装置は、図1に示すように、昇降フレーム1と、洗浄籠2と、摺動蓋3a,3bと、冷却槽5と、洗浄・乾燥槽6と、冷却槽フレーム7と、洗浄・乾燥槽のフレーム8と、冷却配管11と、凝縮器(回収器)12と、送風機13と、水分分離器14と、液戻槽16と、溶剤ポンプ17と、濾過器18と、超音波発振器19と、加熱器20と、ファン密閉部21とを備えている。   As shown in FIG. 1, the cleaning apparatus includes an elevating frame 1, a cleaning basket 2, sliding lids 3 a and 3 b, a cooling tank 5, a cleaning / drying tank 6, a cooling tank frame 7, and a cleaning / drying process. Tank frame 8, cooling pipe 11, condenser (collector) 12, blower 13, moisture separator 14, liquid return tank 16, solvent pump 17, filter 18, and ultrasonic oscillator 19 And a heater 20 and a fan sealing portion 21.

昇降フレーム1は、モータ等の駆動機構により上下に移動可能なフレームで、本体の架台(図示せず)に上下方向に移動可能に保持されている。昇降フレーム1は、下降位置である1bの状態では、洗浄・乾燥槽のフレーム8の上端に圧着して、洗浄・乾燥槽6を密閉する。なお、密閉用シールとなるOリング等の弾性体(図示せず)が、昇降フレーム1の下面に固定されており、この働きで洗浄・乾燥槽6は密閉される。
また、昇降フレーム1は、中間位置である1aの状態でも停止可能で、この位置では洗浄籠2内の溶剤蒸気圧を下げるための冷却を行う。
また、洗浄籠2を回転させる必要が有る場合には、図3に示すように、駆動用のギアモータ41を昇降フレーム1の上側に垂直に固定し、この軸を昇降フレーム1の下側までOリング等で密閉を保ちながら回転可能にして貫通させる。この軸の下端部をウォームギア42として、洗浄籠2の丸籠の軸2Xに付けたウォームホイール43と勘合させる。なお、図3(B)及び図3(C)の側面図においては、理解しやすくするために一部の部材を省略して表わしている。
The elevating frame 1 is a frame that can be moved up and down by a drive mechanism such as a motor, and is held on a gantry (not shown) of the main body so as to be movable in the vertical direction. In the state of 1b which is the lowered position, the elevating frame 1 is pressure-bonded to the upper end of the frame 8 of the cleaning / drying tank to seal the cleaning / drying tank 6. An elastic body (not shown) such as an O-ring serving as a sealing seal is fixed to the lower surface of the elevating frame 1, and the cleaning / drying tank 6 is sealed by this function.
Further, the lifting frame 1 can be stopped even in the state of 1a which is an intermediate position, and at this position, cooling for lowering the solvent vapor pressure in the cleaning basket 2 is performed.
Further, when it is necessary to rotate the cleaning basket 2, as shown in FIG. 3, a driving gear motor 41 is fixed vertically to the upper side of the lifting frame 1, and this shaft is extended to the lower side of the lifting frame 1. The ring can be rotated while being sealed with a ring or the like. The lower end portion of this shaft is used as a worm gear 42 and fitted with a worm wheel 43 attached to the shaft 2X of the round basket of the cleaning basket 2. In the side views of FIGS. 3B and 3C, some members are omitted for easy understanding.

洗浄籠2は、角型或は回転可能な丸型の籠で、例えば網またはパンチングメタルで覆われ、内部に被処理物である洗浄対象品(以下、「ワーク」と称す。)を収納する容器である。洗浄籠2は、適当な機構により、昇降フレーム1に脱着可能に保持される。例えば、図3に示すように、洗浄籠2の両端より突き出た丸い棒状の軸2Xを、昇降フレーム1の下に取り付けられた、一対の設置・固定用フレーム1Xのフック状の溝に回転自在に引っ掛ける。
昇降フレーム1に洗浄籠2が図3のように固定された状態で、ギアモータ41をT方向に回転させると、ウォームギ42もT方向に回転する。これにより勘合しているウォームホイール43がS方向に回転するため、固定されている洗浄籠の軸2Xも回転し、洗浄籠2全体も回転する。
なお、洗浄籠2の回転は、洗浄籠2からワークを取り出す前の冷却槽5での滞留時間中などに行われる。
昇降フレーム1の最下降時である洗浄籠2の位置2bにおいて、ワークの浸漬洗浄及び乾燥作業を行う。
The cleaning bowl 2 is a square or rotatable round bowl, and is covered with, for example, a net or punching metal, and accommodates an object to be cleaned (hereinafter referred to as “work”) as an object to be processed. It is a container. The cleaning bowl 2 is detachably held on the lifting frame 1 by an appropriate mechanism. For example, as shown in FIG. 3, round rod-shaped shafts 2X protruding from both ends of the cleaning basket 2 are freely rotatable in hook-shaped grooves of a pair of installation / fixing frames 1X attached under the lifting frame 1. Hang on.
If the gear motor 41 is rotated in the T direction in a state where the washing basket 2 is fixed to the lifting frame 1 as shown in FIG. 3, the worm gear 42 is also rotated in the T direction. As a result, the fitted worm wheel 43 rotates in the S direction, so that the shaft 2X of the cleaning basket fixed also rotates, and the entire cleaning basket 2 also rotates.
The cleaning bowl 2 is rotated during the residence time in the cooling tank 5 before the workpiece is taken out from the washing bowl 2.
At the position 2b of the cleaning rod 2 when the elevating frame 1 is at the lowest position, the workpiece is immersed and washed and dried.

摺動蓋3a及び摺動蓋3bは、冷却槽フレーム7に各3A及び3B方向に移動可能に取付けられ、閉じた状態では冷却槽5の密閉の役目を果たす。但し、摺動蓋3a,3bの密閉は厳密な密閉ではなく、完全密閉は不要である。   The sliding lid 3a and the sliding lid 3b are attached to the cooling tank frame 7 so as to be movable in the directions of 3A and 3B, respectively, and serve to seal the cooling tank 5 in the closed state. However, the sealing of the sliding lids 3a and 3b is not a strict sealing, and a complete sealing is not necessary.

冷却槽5は、低温の冷却槽であり、冷却槽フレーム7、摺動蓋3a,3b、及び、下降位置である1bの状態にある昇降フレーム1で覆われた範囲を示す。上側の摺動蓋3a,3bを除いて、完全密閉構造となっている。   The cooling tank 5 is a low temperature cooling tank, and shows the range covered with the cooling tank frame 7, the sliding lids 3a and 3b, and the elevating frame 1 in the lowered position 1b. Except for the upper sliding lids 3a and 3b, it has a completely sealed structure.

洗浄・乾燥槽6は、下降位置である1bの状態にある昇降フレーム1及び洗浄・乾燥槽のフレーム8で囲まれた部分を示し、ワークの洗浄及び乾燥作業を行う場所である。洗浄・乾燥槽6の底面には、洗浄用の超音波発振器19と蒸留用の加熱器20が取付いている。洗浄・乾燥槽6には、各種の配管が接合されているが、それらの配管を含めて完全密閉され、外気とは遮断されている。   The cleaning / drying tank 6 indicates a portion surrounded by the elevating frame 1 in the lowered position 1b and the frame 8 of the cleaning / drying tank, and is a place where the work is cleaned and dried. An ultrasonic oscillator 19 for cleaning and a heater 20 for distillation are attached to the bottom surface of the cleaning / drying tank 6. Various pipes are joined to the cleaning / drying tank 6, but these pipes are completely sealed and shut off from the outside air.

冷却槽フレーム7は、本体の架台に固定され、冷却槽フレーム7の下部の穴には洗浄・乾燥槽のフレーム8が完全密閉状態に連設され固定されている。また、冷却槽フレーム7の底部は、洗浄・乾燥槽のフレーム8の外側とともに冷却槽5の周りを1周する溝31を構成する。   The cooling tank frame 7 is fixed to the base of the main body, and the frame 8 of the cleaning / drying tank is connected to the hole in the lower part of the cooling tank frame 7 in a completely sealed state and fixed. Further, the bottom of the cooling tank frame 7 forms a groove 31 that goes around the cooling tank 5 together with the outside of the frame 8 of the cleaning / drying tank.

洗浄・乾燥槽のフレーム8は、洗浄・乾燥槽6のフレームであり、冷却槽フレーム7のフレームを介して、本体の架台に固定される。   The frame 8 of the cleaning / drying tank is a frame of the cleaning / drying tank 6 and is fixed to the frame of the main body via the frame of the cooling tank frame 7.

冷却配管11は、冷却槽5を冷却するために巻かれた配管であり、上下方向に十分に高さを確保しており、また超低温に対応可能な構造としてある。冷却配管11には、−20℃以下の低温装置が用いられる。冷却配管11には、本体架台に取付けられた冷凍機(図示せず)より、冷媒の液が直接循環される。   The cooling pipe 11 is a pipe wound in order to cool the cooling tank 5, has a sufficient height in the vertical direction, and has a structure that can cope with ultra-low temperatures. A low temperature device of −20 ° C. or lower is used for the cooling pipe 11. A refrigerant liquid is directly circulated through the cooling pipe 11 from a refrigerator (not shown) attached to the main frame.

凝縮器(回収器)12は、配管52より送られる溶剤蒸気を冷却して、液に戻すためのものである。凝縮器12は、内部に冷却配管11と同様な冷却コイルを持ち、−20℃以下の低温装置が用いられる。
配管52により凝縮器12に流入した溶剤蒸気は、超低温で冷却され液に戻されて配管56に送られ、配管53から出る空気には極僅少の溶剤蒸気しか含まれない。凝縮器12は、冷却槽フレーム7に直接固定するか、または、配管52,53,56を介して冷却槽フレーム7に固定される。
The condenser (collector) 12 is for cooling the solvent vapor sent from the pipe 52 and returning it to the liquid. The condenser 12 has a cooling coil similar to that of the cooling pipe 11 inside, and a low temperature device of −20 ° C. or lower is used.
The solvent vapor that has flowed into the condenser 12 through the pipe 52 is cooled at ultra-low temperature, returned to the liquid, sent to the pipe 56, and the air exiting the pipe 53 contains very little solvent vapor. The condenser 12 is fixed directly to the cooling bath frame 7 or is fixed to the cooling bath frame 7 via pipes 52, 53, and 56.

送風機13は、ワークの乾燥を行うための温風乾燥機であり、温風発生のための加熱器(図示せず)も組み込まれている。送風機13は、加熱器を含めファン密閉部21の箱により完全密閉され、外気と遮断されている。   The blower 13 is a hot air dryer for drying a workpiece, and a heater (not shown) for generating hot air is also incorporated therein. The blower 13 is completely sealed by the box of the fan sealing part 21 including the heater, and is shut off from the outside air.

水分分離器14は、溶剤の液中に含まれる水分を分離するための機構で、水と溶剤の比重差により機械的に分離される。水分は原則としては全て水分分離器14の内部に収納され、配管61には入らずに弁86より適時排出される。   The moisture separator 14 is a mechanism for separating moisture contained in the solvent liquid, and is mechanically separated by the difference in specific gravity between water and the solvent. In principle, all the water is stored inside the water separator 14 and is discharged from the valve 86 in a timely manner without entering the pipe 61.

液戻槽16は、洗浄溶剤の貯蔵用のタンクで、洗浄作業時を除く通常時は常に溶剤はここに集められる。液戻槽16は、図4に示すように、液補充口101と、液量視認窓102と、オーバーフロー液取出し用配管103と、手動の弁95,96とを備えている。   The liquid return tank 16 is a tank for storing a cleaning solvent, and the solvent is always collected here in a normal time except during a cleaning operation. As shown in FIG. 4, the liquid return tank 16 includes a liquid replenishing port 101, a liquid amount visualizing window 102, an overflow liquid extraction pipe 103, and manual valves 95 and 96.

液戻槽16では、通常時にはオーバーフロー液取出し用配管103の弁96は閉じており、通常の槽と変わらない。
溶剤の消費量に関する測定を行う場合には、溶剤の液量測定時に予め弁96を開き、液補充口101より液を補充し、液量をオーバーフロー液取出し用配管103の上面に揃える。この状態で、弁96を閉じて測定を開始する。測定の終了後は、液量確認のための透明な窓である液量視認窓102で液量を確認しながら液補充口101より軽量された液を補充し、弁96を開いてオーバーフロー液取出し用配管103よりオーバーフロー分を回収する。溶剤の消費量に関しては回収量の計量により、補充量との差分として簡単に算出され、溶剤の消費量の精密測定を容易に実施できる。
In the liquid return tank 16, the valve 96 of the overflow liquid extraction pipe 103 is normally closed, and is not different from the normal tank.
When measuring the consumption amount of the solvent, the valve 96 is opened in advance at the time of measuring the liquid amount of the solvent, the liquid is replenished from the liquid replenishing port 101, and the liquid amount is aligned with the upper surface of the overflow liquid extraction pipe 103. In this state, the valve 96 is closed and measurement is started. After completion of the measurement, the liquid that has been reduced in weight is replenished through the liquid replenishment port 101 while confirming the liquid quantity in the liquid quantity visualizing window 102, which is a transparent window for confirming the liquid quantity, and the valve 96 is opened to take out the overflow liquid. The overflow is recovered from the pipe 103. The solvent consumption amount is simply calculated as a difference from the replenishment amount by measuring the recovered amount, so that precise measurement of the solvent consumption amount can be easily performed.

溶剤ポンプ17は、溶剤の循環及び供給、排出用のポンプで、以上の作業を電磁弁である弁81〜85の制御により、全てこの1台にて行う構造である。
濾過器18は、洗浄液の浄化のためのもので、洗浄作業中は溶剤ポンプ17により循環される洗浄液を常時濾過して浄化する。
The solvent pump 17 is a pump for circulating, supplying, and discharging the solvent. The solvent pump 17 has a structure in which the above operations are all performed by the control of the valves 81 to 85 that are electromagnetic valves.
The filter 18 is for purifying the cleaning liquid, and always cleans the cleaning liquid circulated by the solvent pump 17 during the cleaning operation.

超音波発振器19は、洗浄のための超音波を発振し、洗浄・乾燥槽のフレーム8の底部の上面に取付けられている。
加熱器20は、溶剤の蒸留・煮詰め用の加熱器で、洗浄・乾燥槽のフレーム8の底部の下面に取付けられ、通常作業時には使用されず必要な時(蒸留時)のみ別途手動で起動される。
ファン密閉部21は、送風機13の密閉のための箱で、送風機13を完全密閉する。
The ultrasonic oscillator 19 generates ultrasonic waves for cleaning, and is attached to the upper surface of the bottom of the frame 8 of the cleaning / drying tank.
The heater 20 is a heater for distilling and simmering the solvent, and is attached to the bottom surface of the bottom of the frame 8 of the cleaning / drying tank. It is not used during normal operation and is manually activated only when necessary (distillation). The
The fan sealing portion 21 is a box for sealing the blower 13 and completely seals the blower 13.

回収液用の溝31は、冷却槽フレーム7の底部に設けられた洗浄・乾燥槽6を取り巻く溝で、冷却槽5の内部で凝縮され液化した溶剤蒸気等が配管55に入るまでの経路となっている。   The groove 31 for the recovered liquid is a groove surrounding the cleaning / drying tank 6 provided at the bottom of the cooling tank frame 7, and is a path through which the solvent vapor condensed and liquefied inside the cooling tank 5 enters the pipe 55. It has become.

配管51〜53は、乾燥用の送風配管であり、配管51〜53を介して、洗浄・乾燥槽6、凝縮器12及び送風機13(ファン密閉部21)が接続されている。配管55,56は、液化した溶剤の回収用配管であり、配管61は、水分分離器14よりの回収溶剤の配管であり、配管71は、洗浄・乾燥槽6と液戻槽16とを結ぶ空気用の配管であり、その他の配管は全て溶剤用の配管である。
弁81〜85までは、自動で制御される電磁弁であり、弁86,87は、手動で動作させる手動弁である。
The pipes 51 to 53 are air blowing pipes for drying, and the cleaning / drying tank 6, the condenser 12, and the blower 13 (fan sealing portion 21) are connected through the pipes 51 to 53. The pipes 55 and 56 are pipes for recovering the liquefied solvent, the pipe 61 is a pipe for recovering the solvent from the moisture separator 14, and the pipe 71 connects the cleaning / drying tank 6 and the liquid return tank 16. It is a pipe for air, and all other pipes are pipes for solvent.
The valves 81 to 85 are automatically controlled electromagnetic valves, and the valves 86 and 87 are manually operated valves.

次に、昇降フレーム1を洗浄・乾燥槽のフレーム8の上端に圧着させる圧着機構の構成について図5及び図6を用いて説明する。
この圧着機構は、昇降フレーム1上に主に配置され、回転アーム23と、回転ストッパ24,25と、上下位置決めストッパ7aと、ブロック7bと、圧着リング26(26a,26b)と、圧着ホルダー45と、昇降シャフト46と、軸受け47と、圧縮バネ48と、圧着歯車49と、圧着軸50とを備えている。
この圧着機構は、圧着力が1960N以上であり、且つ、外気に対する圧力が0.15kg/cm以上で強力な圧着を実現できるので、ワークの乾燥時に溶剤の蒸気圧による昇降フレーム1の上昇を防止し、密閉状態を維持することができる。
Next, the structure of the crimping mechanism for crimping the lifting frame 1 to the upper end of the frame 8 of the cleaning / drying tank will be described with reference to FIGS.
This crimping mechanism is mainly disposed on the lifting frame 1, and includes a rotary arm 23, rotary stoppers 24 and 25, a vertical positioning stopper 7 a, a block 7 b, a crimp ring 26 (26 a and 26 b), and a crimp holder 45. A lifting shaft 46, a bearing 47, a compression spring 48, a crimping gear 49, and a crimping shaft 50.
This crimping mechanism can achieve strong crimping with a crimping force of 1960 N or more and a pressure against the outside air of 0.15 kg / cm 2 or more, so that the lifting frame 1 can be lifted by the vapor pressure of the solvent when the workpiece is dried. And can maintain a sealed state.

回転アーム23は、圧着リング26に内周のネジにより回転自在に保持されている4本のアームで、4本とも一体の構造となっている。
上下位置決めストッパ7aは、冷却槽フレーム7に固定された4箇所のブロック7bに、上下方向に調整可能に固定されている、回転アーム23用のストッパである。
回転ストッパ24は、冷却槽フレーム7に固定された4箇所のブロック7bの内1箇所に固定されている、回転アーム23用の回転位置決めストッパである。
回転ストッパ25は、昇降フレーム1上に固定されている、回転アーム23用の回転位置決めストッパである。
圧着リング26は、軸受け47を介して圧着ホルダー45に回転自在に保持されており、下部26aは外周がネジ構造で、上部26bは外周が歯車となっている。
圧着ホルダー45は、昇降フレーム1上に固定されたブロックで、通常は昇降シャフト46により吊り下げられた状態である。
昇降シャフト46は、本体の架台(図示せず)に上下方向に移動可能に保持されている軸である。
軸受け47は、圧着ホルダー45に回転自在に保持され、外周は圧着リング26に回転自在に勘合している。
圧縮バネ48は、圧着リング26に組み込まれ、回転アーム23を適度な荷重で下に圧着している。
圧着歯車49は、圧着軸50に固定され、圧着リング26の上部26bの外周に噛合っている。
圧着軸50は、本体の架台(図示せず)に回転自在に保持されている軸で、モータ等の駆動源に歯車等を介して連結されている。
The rotating arms 23 are four arms that are rotatably held on the crimping ring 26 by inner peripheral screws, and all of the four arms have an integral structure.
The vertical positioning stopper 7 a is a stopper for the rotating arm 23 that is fixed to the four blocks 7 b fixed to the cooling tank frame 7 so as to be adjustable in the vertical direction.
The rotation stopper 24 is a rotation positioning stopper for the rotation arm 23 that is fixed to one of the four blocks 7 b that are fixed to the cooling tank frame 7.
The rotation stopper 25 is a rotation positioning stopper for the rotation arm 23 that is fixed on the elevating frame 1.
The pressure-bonding ring 26 is rotatably held by a pressure-bonding holder 45 via a bearing 47. The lower part 26a has a screw structure on the outer periphery, and the upper part 26b has a gear on the outer periphery.
The crimping holder 45 is a block fixed on the lifting frame 1 and is normally suspended by the lifting shaft 46.
The raising / lowering shaft 46 is an axis | shaft currently hold | maintained so that the vertical movement is possible on the mount (not shown) of a main body.
The bearing 47 is rotatably held by the crimping holder 45, and the outer periphery thereof is rotatably fitted to the crimping ring 26.
The compression spring 48 is incorporated in the crimping ring 26 and crimps the rotary arm 23 downward with an appropriate load.
The crimp gear 49 is fixed to the crimp shaft 50 and meshes with the outer periphery of the upper portion 26 b of the crimp ring 26.
The crimping shaft 50 is a shaft that is rotatably supported by a gantry (not shown) of the main body, and is connected to a drive source such as a motor via a gear or the like.

次に、本実施の形態の洗浄装置の動作について説明する。 Next, the operation of the cleaning device of the present embodiment will be described.

<洗浄動作>
昇降フレーム1に、設置・固定用フレーム1X(図3)等を介して、ワークの挿入された洗浄籠2を取り付ける。作業者が装置の制御部(図示せず)に設置された、洗浄開始釦を押して自動洗浄が開始される。
<Washing action>
The cleaning rod 2 into which the workpiece is inserted is attached to the lifting frame 1 via the installation / fixing frame 1X (FIG. 3) or the like. An operator presses a cleaning start button installed in a control unit (not shown) of the apparatus to start automatic cleaning.

摺動蓋3a,3bがそれぞれ3A,3Bの方向に開き、この状態で昇降フレーム1が下降し、図2に示すように、1bの位置に到達する。昇降フレーム1の下降位置である1bの状態では、昇降フレーム1が洗浄・乾燥槽のフレーム8の上端に圧着して、洗浄・乾燥槽6を密閉する。
同時に溶剤ポンプ17が運転を開始し、液戻槽16から弁84、濾過器18、溶剤ポンプ17、弁82の経路で、洗浄・乾燥槽6へ洗浄液を供給する。この際、液は全て濾過器18を通り清浄化される。また、弁85が開き洗浄・乾燥槽6内の空気を液戻槽16へ逃がす。
なお、昇降フレーム1が洗浄・乾燥槽のフレーム8の上端に圧着する動作については後述する。
The sliding lids 3a and 3b open in the directions 3A and 3B, respectively. In this state, the elevating frame 1 is lowered and reaches the position 1b as shown in FIG. In the state 1b, which is the lowering position of the elevating frame 1, the elevating frame 1 is pressed against the upper end of the frame 8 of the cleaning / drying tank, and the cleaning / drying tank 6 is sealed.
At the same time, the solvent pump 17 starts operation, and the cleaning liquid is supplied from the liquid return tank 16 to the cleaning / drying tank 6 through the valve 84, the filter 18, the solvent pump 17, and the valve 82. At this time, all the liquid passes through the filter 18 and is cleaned. Further, the valve 85 is opened, and the air in the cleaning / drying tank 6 is released to the liquid return tank 16.
The operation in which the elevating frame 1 is crimped to the upper end of the frame 8 of the cleaning / drying tank will be described later.

洗浄・乾燥槽6内に設置された液面センサー(図示せず)にて、適切な液量状態で洗浄液の供給を終了し、以後バルブ操作にて循環状態となる。即ち、弁81を開き、弁84を閉じることにより、液は洗浄・乾燥槽6より供給されて濾過器18を経由して洗浄・乾燥槽6へ戻る循環濾過を行う。この状態は洗浄終了まで継続する。洗浄籠2(2bの位置)のワークはこの状態で図2の如く、完全に液中に浸漬された状態となる。   The liquid level sensor (not shown) installed in the cleaning / drying tank 6 terminates the supply of the cleaning liquid in an appropriate liquid amount state, and thereafter circulates by valve operation. That is, by opening the valve 81 and closing the valve 84, the liquid is supplied from the cleaning / drying tank 6 and is circulated and filtered back to the cleaning / drying tank 6 via the filter 18. This state continues until the end of cleaning. In this state, the work of the cleaning bowl 2 (position 2b) is completely immersed in the liquid as shown in FIG.

次に、洗浄開始となり、超音波発振器19の起動により超音波洗浄が開始される。洗浄液は循環濾過状態で液を清浄に保つ。タイマー等により所定時間この状態を維持し洗浄工程を終了し、以後排液工程に移行する。   Next, cleaning is started, and ultrasonic cleaning is started by activation of the ultrasonic oscillator 19. The cleaning liquid is kept clean in a circulating filtration state. This state is maintained for a predetermined time by a timer or the like to end the cleaning process, and then the process proceeds to the draining process.

洗浄終了後はバルブ操作にて直ちに排液作業に移行する。即ち、弁83を開き、弁82を閉じることにより、液は洗浄・乾燥槽6より供給されて濾過器18を経由して液戻槽16へ戻る。この際、液は全て濾過器18を通り清浄化される。また、弁85が開き液戻槽16内の空気を洗浄・乾燥槽6へ逃がす。タイマーによる所定時間の作業後、溶剤ポンプ17が停止し、弁は全て閉じられる。   Immediately after the cleaning, the operation of draining is started by valve operation. That is, by opening the valve 83 and closing the valve 82, the liquid is supplied from the cleaning / drying tank 6 and returns to the liquid return tank 16 via the filter 18. At this time, all the liquid passes through the filter 18 and is cleaned. Further, the valve 85 is opened to let the air in the liquid return tank 16 escape to the cleaning / drying tank 6. After a predetermined period of time by the timer, the solvent pump 17 is stopped and all the valves are closed.

上記の排液作業の後半に温風乾燥が開始される。また、送風機13は、排液作業開始時より、内蔵の加熱器により予備加熱されている。送風機13が起動し、温風が洗浄・乾燥槽6へ送られる。
配管51を経由して、2bの位置の洗浄籠2に温風が吹き付けられ、洗浄籠2内のワークより溶剤を蒸発させ、配管52を経由して回収器12に送られる。回収器12により超低温で凝縮された溶剤蒸気を含む温風は、ほぼ完全乾燥された冷風となって、配管53経由で送風機13に戻り循環する。
また、この時凝縮され液化した溶剤蒸気は、配管56を経由して水分分離器14に送られ、比重分離により溶剤のみ配管61を経由して、液戻槽16に戻る。
以上の乾燥作業は配管52内に設置された溶剤濃度センサー(図示せず)又はタイマー設定により終了する。この時、ワークは勿論の事、洗浄籠2及び洗浄・乾燥槽6及び配管51〜53の内部まで、溶剤の液は皆無の状態に完全乾燥される。
この作業中に於いてはファン密閉部21、洗浄・乾燥槽6、回収器12及び配管51〜53(以下、これ等の部分を「乾燥経路」と称す。)は、外気とは完全に遮断された完全密閉状態を保持している。また、水分分離器14、液戻槽16、配管56,61及びその他配管も全て外気とは遮断された完全密閉状態であり、この間の溶剤蒸気の流出は皆無である。
乾燥終了時に於いて、ワーク及び洗浄籠2は温風により暖められているが、乾燥経路内の空気は回収器12により溶剤蒸気は極めて少ない乾燥状態に保たれる。また、乾燥終了前には、タイマーにより送風機13の加熱器がオフし、回収器12の働きにより冷風をワークに吹き付けて、適温まで冷却される。温度の調整は可能だが、例えば、25℃程度で冷却をおこなう。
Hot air drying is started in the latter half of the above drainage operation. The blower 13 is preheated by a built-in heater from the start of the drainage operation. The blower 13 is activated and warm air is sent to the cleaning / drying tank 6.
Warm air is blown to the cleaning bowl 2 at the position 2b through the pipe 51, and the solvent is evaporated from the work in the cleaning bowl 2 and sent to the collector 12 through the pipe 52. The warm air containing the solvent vapor condensed at an ultra-low temperature by the recovery device 12 becomes cold air that is almost completely dried and returns to the blower 13 via the pipe 53 and circulates.
Further, the solvent vapor condensed and liquefied at this time is sent to the water separator 14 via the pipe 56, and returns to the liquid return tank 16 via the pipe 61 only by the specific gravity separation.
The above drying operation is completed by setting a solvent concentration sensor (not shown) installed in the pipe 52 or a timer. At this time, the solvent is completely dried to the inside of the cleaning tub 2, the cleaning / drying tank 6, and the pipes 51 to 53 as well as the work.
During this operation, the fan sealing part 21, the cleaning / drying tank 6, the collector 12 and the pipes 51 to 53 (hereinafter referred to as "drying path") are completely blocked from the outside air. The fully sealed state is maintained. Further, the water separator 14, the liquid return tank 16, the pipes 56 and 61, and other pipes are all completely sealed off from the outside air, and no solvent vapor flows out during this period.
At the end of drying, the work and the cleaning bowl 2 are warmed by warm air, but the air in the drying path is kept in a dry state by the collector 12 so that the solvent vapor is very little. Further, before the drying is completed, the heater of the blower 13 is turned off by the timer, and cool air is blown onto the work by the action of the collecting device 12 to cool to an appropriate temperature. The temperature can be adjusted, but cooling is performed at about 25 ° C., for example.

乾燥作業終了後はワークの排出作業に移行する。この時冷却槽5内は、冷却配管11により超低温状態となっている。昇降フレーム1が洗浄籠2を伴って上昇し、1bの位置より1aの位置に移動、洗浄籠2も2bの位置より2aに移動、この位置で所定時間滞留し冷却される。上下移動は洗浄・乾燥槽6を含む乾燥経路内の僅かに残存する溶剤蒸気を、出来るだけ上面へ運ばないように制御してゆっくりと行う。
昇降フレーム1を1aの位置で所定時間停止し、洗浄籠2及びワーク内の空気を冷却し、残存する僅かな溶剤蒸気を更に低減させる。また、冷却槽5内に流出した乾燥経路内の空気も冷却され、溶剤蒸気濃度は更に低減される。
なお、この際に、洗浄籠2を回転させることにより、洗浄籠2及びワーク内の空気は効率よく冷却され、溶剤蒸気をより低減させることができる。
洗浄籠2内の空気を低温空気と入れ替えて、ワークと同伴する蒸気量を削減しながら、冷却槽5内での滞留時間を調整することにより、取り出し時のワーク温度を結露しない状態に調整する。
冷却配管11により凝縮され液化した溶剤蒸気は、冷却槽5の底部に設置された溝31と連通する配管55に誘導されて水分分離器14へ送られる。水分分離器14に送られた回収溶剤は、比重分離により溶剤のみが配管61を経由して、液戻槽16に戻る。
After the drying operation is completed, the operation shifts to the work discharging operation. At this time, the inside of the cooling tank 5 is in an ultra-low temperature state by the cooling pipe 11. The elevating frame 1 moves up with the cleaning bowl 2 and moves from the position 1b to the position 1a, and the washing basket 2 also moves from the position 2b to 2a, where it stays for a predetermined time and is cooled. The up and down movement is performed slowly by controlling so that the slightly remaining solvent vapor in the drying path including the cleaning / drying tank 6 is not transported to the upper surface as much as possible.
The elevating frame 1 is stopped at a position 1a for a predetermined time to cool the cleaning basket 2 and the air in the work, and further reduce the remaining solvent vapor. Further, the air in the drying path that has flowed into the cooling tank 5 is also cooled, and the solvent vapor concentration is further reduced.
At this time, by rotating the cleaning bowl 2, the cleaning bowl 2 and the air in the work are efficiently cooled, and the solvent vapor can be further reduced.
By replacing the air in the cleaning bowl 2 with low-temperature air and reducing the amount of steam accompanying the work, adjusting the residence time in the cooling bath 5, the work temperature at the time of taking out is adjusted to a state where condensation does not occur. .
The solvent vapor condensed and liquefied by the cooling pipe 11 is guided to the pipe 55 communicating with the groove 31 provided at the bottom of the cooling tank 5 and sent to the moisture separator 14. Of the recovered solvent sent to the water separator 14, only the solvent returns to the liquid return tank 16 via the pipe 61 by specific gravity separation.

所定時間後、摺動蓋3a,3bがそれぞれ3A,3B方向に移動して冷却槽5が開く。この状態で昇降フレーム1が洗浄籠2を伴って最上部まで移動し、洗浄籠2は脱着可能となる。摺動蓋3a,3bが逆方向へ戻り、冷却槽5が閉じた状態となり1サイクルの洗浄作業が完了する。   After a predetermined time, the sliding lids 3a and 3b move in the directions 3A and 3B, respectively, and the cooling tank 5 is opened. In this state, the elevating frame 1 moves to the top with the cleaning basket 2 so that the cleaning basket 2 can be detached. The sliding lids 3a and 3b return in the opposite direction, the cooling tank 5 is closed, and one cycle of cleaning operation is completed.

<蒸留動作>
蒸留作業は液戻槽16の液を、洗浄・乾燥槽6内で煮詰める事で実施する。
手動作業により、液戻槽16内の液を全て洗浄・乾燥槽6へ移動させる。この状態で煮詰め釦を押す事により、煮詰作業が開始される。加熱器20がONして液を加熱し、送風機13が起動して乾燥作業の状態となり、溶剤蒸気を回収器12に送る。
回収器12で溶剤蒸気は凝縮され液化し、水分分離器14で水分除去された後、液戻槽16に回収される。
煮詰作業は洗浄・乾燥槽6の液面が所定位置に降下する事で終了し、排液は弁87より取り出される。残りの排液は別の蒸留器(別の装置)にて更に油分と溶剤回収液に分離が可能である。
<Distillation operation>
The distillation operation is performed by boiling the liquid in the liquid return tank 16 in the washing / drying tank 6.
All the liquid in the liquid return tank 16 is moved to the cleaning / drying tank 6 by manual operation. In this state, the cooking operation is started by pressing the cooking button. The heater 20 is turned on to heat the liquid, the blower 13 is activated to be in a drying operation state, and the solvent vapor is sent to the collector 12.
The solvent vapor is condensed and liquefied by the recovery unit 12, and after the water is removed by the water separator 14, it is recovered in the liquid return tank 16.
The boiling operation is completed when the liquid level in the cleaning / drying tank 6 is lowered to a predetermined position, and the drained liquid is taken out from the valve 87. The remaining effluent can be further separated into oil and solvent recovery liquid by another distiller (another apparatus).

次に、昇降フレーム1を洗浄・乾燥槽のフレーム8の上端に圧着させる圧着機構の動作について説明する。   Next, the operation of the crimping mechanism for crimping the lifting frame 1 to the upper end of the frame 8 of the cleaning / drying tank will be described.

<通常状態>
昇降フレーム1の昇降時を含めた圧着状態以外の時は、図5(A)に示すように、回転アーム23は昇降フレーム1内で、回転ストッパ25に接触した状態を保持する。
昇降フレーム1は、昇降シャフト46の突起部46aにより、圧着ホルダー45の内側の小径部45aを介して吊り下げられた状態で、小径部45aの下面と突起部46aの上面は隙間無く接触している。
<Normal state>
When the lifting frame 1 is not in a crimped state including when the lifting frame 1 is lifted, the rotating arm 23 maintains a state of contacting the rotation stopper 25 in the lifting frame 1 as shown in FIG.
The lift frame 1 is suspended by the protrusion 46a of the lift shaft 46 via the small diameter portion 45a inside the crimping holder 45, and the lower surface of the small diameter portion 45a and the upper surface of the protrusion 46a are in contact with each other without a gap. Yes.

<昇降フレーム1の下降状態>
モータ等の駆動機構(図示せず)により昇降シャフト46が下降し、昇降フレーム1も一体で下降する。昇降フレーム1が洗浄・乾燥槽6の上面に到達すると昇降フレーム1は停止するが、昇降シャフト46は更に所定位置まで降下し、圧着ホルダー45の小径部45aと昇降シャフト46の突起部46aには上下方向に隙間が発生し、図6に示す上下位置の状態となり停止する。
また、この状態では圧着ストッパ7aと回転アーム23の上下位置関係は、図6に示すように隙間が発生している状態である。
<Descent state of lifting frame 1>
The elevating shaft 46 is lowered by a driving mechanism (not shown) such as a motor, and the elevating frame 1 is also lowered integrally. When the elevating frame 1 reaches the upper surface of the cleaning / drying tank 6, the elevating frame 1 stops, but the elevating shaft 46 is further lowered to a predetermined position, and the small diameter portion 45a of the crimping holder 45 and the protruding portion 46a of the elevating shaft 46 are A gap is generated in the vertical direction, and the vertical position shown in FIG.
Further, in this state, the vertical positional relationship between the crimp stopper 7a and the rotary arm 23 is such that a gap is generated as shown in FIG.

<圧着動作>
回転機構が起動し圧着軸50が回転すると、圧着歯車49の回転により圧着リング26が回転し、圧縮バネ48の摩擦力により回転アーム23が図5(B)のP方向に回転し、回転ストッパ24に圧着され図5(B)に示した状態となり停止する。
圧着軸50はその後も回転を継続し、圧着リング26も回転を継続、下部26aの回転により外周のネジが回転する状態となり回転アーム23を上方に押し上げる。
回転アーム23が上昇し、上下位置決めストッパ7aに到達すると上昇は停止するが、圧着リング26の下部26aのネジは回転を続け上下位置決めストッパ7aを押し上げる力が発生する。
この力の反作用により回転アーム23は、上下位置決めストッパ7aより下向きの圧着力を受け、圧着リング26、軸受け47、圧着ホルダー45と伝達されて昇降フレーム1を下方向に圧着する。
圧着軸50の回転は所定時間継続するが、駆動機構側にクラッチ等のトルクリミッター(図示せず)を設置するため、これにより所定の力以上の圧着力は負荷されない。
<Crimping operation>
When the rotation mechanism is activated and the crimping shaft 50 is rotated, the crimping ring 49 is rotated by the rotation of the crimping gear 49, and the rotating arm 23 is rotated in the direction P of FIG. 5B by the frictional force of the compression spring 48. It is crimped to 24 and stops in the state shown in FIG.
The crimping shaft 50 continues to rotate thereafter, and the crimping ring 26 also continues to rotate. The rotation of the lower portion 26a causes the outer peripheral screw to rotate, and pushes the rotating arm 23 upward.
When the rotary arm 23 rises and reaches the vertical positioning stopper 7a, the raising stops, but the screw of the lower portion 26a of the crimping ring 26 continues to rotate and generates a force that pushes up the vertical positioning stopper 7a.
Due to the reaction of this force, the rotary arm 23 receives a downward pressing force from the vertical positioning stopper 7a and is transmitted to the pressing ring 26, the bearing 47, and the pressing holder 45 to press the elevating frame 1 downward.
Although the rotation of the crimping shaft 50 continues for a predetermined time, since a torque limiter (not shown) such as a clutch is installed on the drive mechanism side, a crimping force exceeding a predetermined force is not applied.

<圧着解除動作>
回転機構が逆方向に起動し圧着軸50が逆回転すると圧着動作の逆の動作で、最初に圧着力を緩めて圧着を解除し、その後回転アーム23が図5(B)のR方向に回転し、回転ストッパ25に到達して図5(A)の状態で停止する。この時に回転アーム23用の昇降フレーム1上の位置センサー(図示せず)の検知により、タイマーの所定時間後に圧着軸50が停止し圧着解除動作が終了する。
<Press release operation>
When the rotation mechanism starts in the reverse direction and the crimping shaft 50 rotates in the reverse direction, the crimping operation is reversed. First, the crimping force is released to release the crimping, and then the rotating arm 23 rotates in the R direction in FIG. 5 (B). Then, it reaches the rotation stopper 25 and stops in the state of FIG. At this time, when a position sensor (not shown) on the lifting frame 1 for the rotating arm 23 is detected, the crimping shaft 50 is stopped after a predetermined time of the timer, and the crimp release operation is completed.

このように本実施の形態の洗浄装置では、ワークの乾燥作業時において、送風機13(ファン密閉部21)、洗浄・乾燥槽6、回収器12及び配管51〜53は、外気とは完全に遮断された完全密閉状態を保持しており、また、水分分離器14、液戻槽16、配管56,61及びその他配管も全て外気とは遮断された完全密閉状態であるようにしたので、この間の溶剤蒸気の流出は皆無となり、溶剤の回収効率が向上する。
加えて、ワークの乾燥作業終了後に、洗浄・乾燥槽6の上方に洗浄・乾燥槽6を覆うように連設された冷却槽5内で、洗浄籠2及びワーク内の空気を冷却し、残存する僅かな溶剤蒸気を更に低減させ、また、冷却槽5内に流出した乾燥経路内の空気も冷却されるようにしたので、溶剤蒸気濃度は更に低減され、液化した溶剤蒸気は回収されるので、溶剤の回収効率は更に向上する。
As described above, in the cleaning apparatus of the present embodiment, the blower 13 (fan sealing portion 21), the cleaning / drying tank 6, the recovery device 12, and the pipes 51 to 53 are completely shut off from the outside air during the work drying operation. Since the water separator 14, the liquid return tank 16, the pipes 56 and 61, and other pipes are all completely sealed off from the outside air. There is no outflow of solvent vapor and the solvent recovery efficiency is improved.
In addition, after the work is dried, the cleaning tub 2 and the air in the work are cooled in the cooling tank 5 continuously provided so as to cover the washing / drying tank 6 above the cleaning / drying tank 6 and remain. The amount of solvent vapor is further reduced, and the air in the drying path that has flowed into the cooling tank 5 is also cooled, so that the concentration of the solvent vapor is further reduced and the liquefied solvent vapor is recovered. The solvent recovery efficiency is further improved.

また、本実施の形態の洗浄装置では、ガスホルダー165、真空ポンプ16等を用いないので、コストを低減することができ、洗浄装置を安価で提供することができる。   Further, in the cleaning device of this embodiment, the gas holder 165, the vacuum pump 16, and the like are not used, so that the cost can be reduced and the cleaning device can be provided at low cost.

また、本実施の形態の洗浄装置では、ワークが収納された洗浄籠2を下方に保持した昇降フレーム1を上下方向に移動可能にして、ワークの洗浄または乾燥時には、昇降フレーム1を上方が開口した洗浄・乾燥槽6に圧着して密閉させ、ワークの冷却時には、冷却槽5内でワークを滞留させることができるようにしたので、洗浄、乾燥、冷却等の作業を効率的に行うことができる。   Further, in the cleaning apparatus of the present embodiment, the lifting frame 1 holding the cleaning basket 2 in which the workpiece is stored is movable downward, and the lifting frame 1 is opened upward when cleaning or drying the workpiece. Since the work can be retained in the cooling tank 5 when the work is cooled, the work such as washing, drying, and cooling can be efficiently performed. it can.

また、本実施の形態の洗浄装置では、冷却槽5内でのワークの冷却時において、洗浄籠2を回転させることにより、洗浄籠2及びワーク内の空気を効率よく冷却し、溶剤蒸気をより低減させることができる。   Further, in the cleaning apparatus of the present embodiment, when the workpiece is cooled in the cooling tank 5, the cleaning rod 2 is rotated to efficiently cool the cleaning rod 2 and the air in the workpiece, thereby further reducing the solvent vapor. Can be reduced.

また、本実施の形態の洗浄装置では、圧着機構により、昇降フレーム1を洗浄・乾燥槽のフレーム8の上端に強力な圧着力で圧着できるので、ワークの乾燥時に溶剤の蒸気圧による昇降フレーム1の上昇を防止し、密閉状態を維持することができる。
この圧着機構を用いない場合の本実施の形態の洗浄装置の試作機の実験結果では、フッ素系溶剤を使用して、洗浄1回当たりの溶剤消耗量は22.64ccとなり、従来の開放式洗浄機を使用した場合と比べて1/12程度に削減された。この圧着機構を用いた場合には、更に1/2から1/5程度の削減を見込んでいる。
Further, in the cleaning apparatus of the present embodiment, the lifting frame 1 can be crimped to the upper end of the frame 8 of the cleaning / drying tank with a strong crimping force by the crimping mechanism, so that the lifting frame 1 due to the vapor pressure of the solvent when the workpiece is dried. Can be prevented and the sealed state can be maintained.
According to the experimental results of the prototype of the cleaning apparatus of the present embodiment when this crimping mechanism is not used, the amount of solvent consumption per cleaning is 22.64 cc using a fluorinated solvent, and the conventional open cleaning is performed. It was reduced to about 1/12 compared with the case where the machine was used. When this crimping mechanism is used, a further reduction of about 1/2 to 1/5 is expected.

本実施の形態の洗浄装置では、溶剤の消耗量が無視出来るレベルとなるため、溶剤の価格問題や毒性等の環境問題も発生せずに、目的に適した溶剤の選定を自由にできるとともに、溶剤の消費を抑えることで全世界的な問題である、環境問題にも大いに貢献できるものである。   In the cleaning apparatus of the present embodiment, the amount of consumption of the solvent is negligible, so that environmental problems such as solvent price problems and toxicity do not occur, and it is possible to freely select a solvent suitable for the purpose, Suppressing solvent consumption can greatly contribute to environmental problems, which are global problems.

以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、本実施の形態では、ワークの洗浄を溶剤液中に浸漬された状態となるようにして洗浄作業を行ったが、溶剤の噴流を浴びせるようにしてもよい。   While the present invention has been described with reference to the embodiment, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made. For example, in the present embodiment, the cleaning operation is performed in such a manner that the workpiece is immersed in the solvent liquid. However, the workpiece may be sprayed with a jet of solvent.

1 昇降フレーム
1X 設置・固定用フレーム
2 洗浄籠
5 冷却槽
6 洗浄・乾燥槽
7 冷却槽フレーム
7a 上下位置止めストッパ
8 洗浄・乾燥槽のフレーム
11 冷却配管
12 回収器(凝縮器)
13 温風機
14 水分分離器
16 液戻槽
17 溶剤ポンプ
21 ファン密閉部
23 回転アーム
24,25 回転ストッパ
26 圧着リング
31 回収液用の溝
41 ギアモータ
42 ウォームギア
43 ウォームホイール
45 圧着ホルダー
46 昇降シャフト
47 軸受け
48 圧縮バネ
49 圧縮歯車
50 圧縮軸
51〜53,55,56,71 配管
103 オーバーフロー液取出し用配管
1 Lifting frame 1X Installation / fixing frame 2 Washing bowl 5 Cooling tank 6 Washing / drying tank 7 Cooling tank frame 7a Up / down position stopper 8 Washing / drying tank frame 11 Cooling pipe 12 Collector (condenser)
13 Hot Air Machine 14 Moisture Separator 16 Liquid Return Tank 17 Solvent Pump 21 Fan Sealing Unit 23 Rotating Arms 24 and 25 Rotating Stopper 26 Crimp Ring 31 Groove 41 for Collected Liquid Gear Motor 42 Warm Gear 43 Warm Wheel 45 Crimp Holder 46 Lifting Shaft 47 Bearing 48 compression spring 49 compression gear 50 compression shaft 51 to 53, 55, 56, 71 piping 103 piping for taking out overflow liquid

Claims (6)

被処理物の溶剤による洗浄及び該被処理物の乾燥が行われる洗浄・乾燥槽と、
前記洗浄・乾燥槽と接続され、前記被処理物を乾燥する温風機と、
前記洗浄・乾燥槽及び前記温風機と接続され、溶剤蒸気を冷却、液化して回収する回収器とを備え、
前記被処理物の乾燥時に溶剤蒸気が流入する前記洗浄・乾燥槽、前記温風機及び前記回収器は、外気と遮断された密閉状態である洗浄装置であって、
前記洗浄・乾燥槽の上方に連設され、前記洗浄・乾燥槽において乾燥が行われた前記被処理物を冷却し、溶媒蒸気を凝縮し液化する冷却槽を備えたことを特徴とする洗浄装置。
A cleaning / drying tank in which the object to be processed is washed with a solvent and the object to be processed is dried;
A hot air machine connected to the washing / drying tank and drying the workpiece;
Connected to the washing / drying tank and the hot air machine, and equipped with a collector for cooling, liquefying and recovering the solvent vapor,
The cleaning / drying tank into which the solvent vapor flows when the object to be processed flows, the hot air machine, and the recovery unit are cleaning apparatuses that are sealed off from outside air,
A cleaning apparatus provided with a cooling tank that is continuously provided above the cleaning / drying tank and that cools the object to be processed and dried in the cleaning / drying tank and condenses and liquefies the solvent vapor. .
前記被処理物を収納した容器が脱着可能に下方に保持され、
少なくとも前記冷却槽内を上下方向に移動可能に設置され、
前記被処理物の洗浄及び乾燥時には、上方が開口した前記洗浄・乾燥槽に圧着して密閉し、前記被処理物の冷却時には、前記冷却槽内で滞留することが可能である昇降フレームを備えたことを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。
A container containing the object to be processed is held downward so as to be detachable,
At least installed in the cooling tank so as to be movable in the vertical direction,
When cleaning and drying the object to be processed, an elevating frame is provided that is pressure-bonded to the cleaning / drying tank opened upward and sealed, and can be retained in the cooling tank when the object to be processed is cooled. The cleaning apparatus according to claim 1, wherein:
前記昇降フレームは、前記冷却槽内での滞留時において前記容器を回転させる回転機構を備えたことを特徴とする請求項2に記載の洗浄装置。   The cleaning apparatus according to claim 2, wherein the elevating frame includes a rotation mechanism that rotates the container when the elevating frame stays in the cooling tank. 圧着力が1960N以上、且つ、外気に対する圧力が0.15kg/cm以上である前記昇降フレームの圧着機構を備えたことを特徴とする請求項2または3に記載の洗浄装置。 The cleaning apparatus according to claim 2 or 3, further comprising a pressure-bonding mechanism for the elevating frame having a pressure-bonding force of 1960 N or more and a pressure against the outside air of 0.15 kg / cm 2 or more. 前記回収器及び前記冷却槽に、−20℃以下の低温装置を使用したことを特徴とする請求項1乃至4いずれか1項に記載の洗浄装置。   The cleaning apparatus according to claim 1, wherein a low temperature apparatus of −20 ° C. or lower is used for the recovery unit and the cooling tank. 前記洗浄・乾燥槽に溶剤を供給する溶剤の液戻槽を備え、
前記液戻槽は、槽内に溶剤のオーバーフロー分を回収可能な機構を有することを特徴とする請求項1乃至5いずれか1項に記載の洗浄装置。
A solvent return tank for supplying the solvent to the washing / drying tank;
The said liquid return tank has a mechanism which can collect | recover the overflow of a solvent in a tank, The washing | cleaning apparatus of any one of Claim 1 thru | or 5 characterized by the above-mentioned.
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