JP2010162537A - Cleaning apparatus - Google Patents
Cleaning apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010162537A JP2010162537A JP2010004349A JP2010004349A JP2010162537A JP 2010162537 A JP2010162537 A JP 2010162537A JP 2010004349 A JP2010004349 A JP 2010004349A JP 2010004349 A JP2010004349 A JP 2010004349A JP 2010162537 A JP2010162537 A JP 2010162537A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- tank
- solvent
- drying
- cooling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Abstract
Description
本発明は、例えば電子、精密機械、自動車関連の工場で、部品製造等の際に使用される洗浄装置に関する。 The present invention relates to a cleaning apparatus used for manufacturing parts, for example, in an electronic, precision machine, or automobile-related factory.
近年、特定フロンCFC-113等が、地球環境の問題より廃止となったため、部品製造等の際に使用される洗浄装置においては、代替溶剤に置き換わろうとしている。しかし代替溶剤は様々な問題を抱えており、特に価格面では数倍から十数倍となっている。
また、フッ素系以外の代替に関しては、毒性の強い物や匂いが職場環境に適応出来ない等の理由で、使用を断念する溶剤も増加している状況である。このため溶剤の消耗量を極限まで抑える洗浄装置は待望される訳だが、現状、日本ではかなり高額な装置が出ている程度である。
In recent years, Specified CFC-113 etc. have been abolished due to global environmental problems. Therefore, in the cleaning equipment used for parts manufacturing, etc., it is going to be replaced with an alternative solvent. However, the alternative solvent has various problems, and in particular, the price is several to ten times.
As for alternatives other than fluorine-based ones, the number of solvents that are abandoned is increasing due to the fact that highly toxic substances and odors cannot be applied to the workplace environment. For this reason, there is a long-awaited cleaning device that minimizes the amount of solvent consumed, but at present, a fairly expensive device is available in Japan.
溶剤の節減対策としては、溶剤蒸気が大気にさらされる部分の冷却温度の低温化により実施されている。また、冷却部の高さを装置の槽の奥行きに比較して深くするのが常識的で有効な手段ではあるが、これらのみでは効果は限定される。
冷却温度の低減は、冷却を水による間接冷却方式よりフロン系の冷媒による直冷方式に変更することで、5℃程度より−15℃程度への低温化は容易に可能である。また、単純に低温化だけであれば、超低温の冷凍機を使用すればいくらでも可能だが、価格面や結露の問題があり実用化はされていないと思われる。
冷却部の高さに関しては、通常の装置では奥行きに対する比率が0.8倍から1倍であるのに対して、1.5倍程度のものはあり、3倍程度までは実用化されている可能性が有る。
これらの技術は一般化されており、効果もそれなりには期待できるものの、市販されている装置では本発明の洗浄装置の十倍程度の溶剤消費となり、組み合わせた技術で限界を求めても、本発明の装置の3倍程度の消耗に抑制することさえ困難と思われる。
Measures for solvent saving are implemented by lowering the cooling temperature of the portion where the solvent vapor is exposed to the atmosphere. Moreover, although it is a common-sense and effective means to make the height of the cooling part deeper than the depth of the tank of the apparatus, the effect is limited only by these means.
The cooling temperature can be reduced easily from about 5 ° C. to about −15 ° C. by changing the cooling from an indirect cooling method using water to a direct cooling method using a fluorocarbon refrigerant. In addition, if the temperature is simply reduced, it is possible to use an ultra-low temperature refrigerator as much as possible, but it seems that it has not been put into practical use due to price and condensation problems.
Regarding the height of the cooling unit, the ratio of the depth to the depth is 0.8 to 1 in a normal device, whereas there is about 1.5 times, and up to about 3 times has been put into practical use. There is a possibility.
Although these technologies are generalized and the effect can be expected as such, the commercially available apparatus consumes about ten times as much solvent as the cleaning apparatus of the present invention. It seems even difficult to suppress to about three times the consumption of the device of the invention.
更に構造を変えて、槽を完全密閉式として真空乾燥により溶剤蒸気の大部分を回収する方式も一般的である。この方式は乾燥槽内の蒸気は極限まで減らす事は可能だが、真空ポンプの排気に含まれる蒸気の回収率が99%程度しか出来ず、残りの1%程度の消耗が溶剤の消耗量としてはかなり大きい。市販されているこの方式の装置の溶剤消費は、本発明の装置の10倍以上である。 Further, it is also common to change the structure so that the tank is completely sealed, and most of the solvent vapor is recovered by vacuum drying. This method can reduce the steam in the drying tank to the limit, but the recovery rate of the steam contained in the exhaust of the vacuum pump can only be about 99%, and the remaining 1% consumption is the amount of solvent consumption Pretty big. The solvent consumption of this type of apparatus on the market is more than 10 times that of the apparatus of the present invention.
近年、真空乾燥方式で上記の欠点を補うため、排気を溜め込む方式の装置が発表されている。しかし、装置の構造が複雑なため価格は高価で同程度の装置の3倍から6倍程度となる。また、基本が真空乾燥のため、特に箱形状の液の溜まり易いワークの乾燥は難しく、乾燥時間の延長のみでは対応出来ず、別途乾燥機構が必要な場合も発生する。理論的には極限まで溶剤の消耗量を削減出来るが、そのためには真空吸引の真空度を上げる必要が有り、排気の溜め込みの場所と価格、吸引時間によるタクトタイムの問題も有り実用的ではない。 In recent years, in order to make up for the above-mentioned drawbacks by a vacuum drying method, an apparatus of a method for storing exhaust gas has been announced. However, since the structure of the device is complicated, the price is expensive and is about 3 to 6 times that of a similar device. In addition, since the basic is vacuum drying, it is difficult to dry a work in which a box-shaped liquid easily accumulates, and it is not possible to deal with only by extending the drying time, and a separate drying mechanism may be required. Theoretically, the amount of solvent consumption can be reduced to the utmost limit, but for that purpose, it is necessary to increase the vacuum degree of vacuum suction, and there is a problem of tact time due to the location and price of the exhaust reservoir and suction time, which is not practical. .
一般的な従来の開放式洗浄装置の構造の一例を図7に示す。この開放式洗浄装置は、超音波洗浄槽(第1槽)と、冷浴洗浄槽(第2槽)と、蒸気洗浄槽(第3槽)と、洗浄籠112と、冷却部(冷却コイル)121と、水分分離器114と、超音波振動子119と、加熱器120とを備えており、溶剤151が洗浄に用いられる。
An example of the structure of a general conventional open type cleaning apparatus is shown in FIG. This open type cleaning apparatus includes an ultrasonic cleaning tank (first tank), a cold bath cleaning tank (second tank), a steam cleaning tank (third tank), a
この開放式洗浄装置では、手作業により、第1槽、2槽、3槽の順に洗浄籠2を浸漬して完了する。最後の第3槽において、溶剤蒸気150により加熱された後、加熱状態で取り出して自然乾燥させる。そのため、ワークに付着した洗浄液はそのまま大気中に放出される。特に樹脂部品の箱型の形状のものは、中に液を溜め込むために液の消耗量も多い。
また図7中にHで示した冷却部(冷却コイル)121の高さは、洗浄籠112の移動のために余り高くはできず、最上部の蒸気濃度が低くならず上部へ抜け出る蒸気量も、無視できないレベルである。
更に、一般の装置は冷却を水で行うのが一般的で、その場合は氷結の防止のために、液温度は5〜10℃前後と高めである。直接フロン等の冷媒で冷却する装置も可能だが、それでも−15℃程度が限度で、高さHの短さもあり十分に有効とは言えない。
In this open type cleaning apparatus, the cleaning basket 2 is immersed in the order of the first tank, the second tank, and the third tank by manual work. In the final third tank, after being heated by the
In addition, the height of the cooling part (cooling coil) 121 indicated by H in FIG. 7 cannot be so high due to the movement of the
Furthermore, in a general apparatus, cooling is generally performed with water. In this case, the liquid temperature is as high as about 5 to 10 ° C. in order to prevent freezing. Although an apparatus that directly cools with a refrigerant such as chlorofluorocarbon is possible, it is still not effective because it is limited to about −15 ° C. and has a short height H.
一般的な従来の密閉式洗浄装置の構造の一例を図8に示す。この密閉式洗浄装置は、洗浄籠112と、洗浄槽116と、開閉蓋113と、貯液槽126と、溶剤ポンプ117と、濾過器118と、超音波振動子119と、真空ポンプ162と、凝縮器161と、冷却部(冷却パイプ)121と、回収槽122とを備えている。
An example of the structure of a general conventional hermetic cleaning apparatus is shown in FIG. This hermetic cleaning apparatus includes a
この密閉式洗浄装置では、洗浄槽116上面の開閉蓋113を開いて、ワークの挿入された洗浄籠112を洗浄槽116内に挿入する。開閉蓋113が閉じて槽内は密閉される。溶剤ポンプ117により貯液槽126の洗浄液が濾過器118を介して洗浄槽116に送られ、超音波振動子119による超音波等の手段により洗浄が行われ、完了後は溶剤ポンプ117により液は貯液槽126に戻される。その後、溶剤蒸気等の加熱手段により、ワークは十分に加熱された後、真空ポンプ162により真空乾燥が行われる。この時に真空乾燥自体は密閉された槽内で行われるため、蒸気の漏れは無い。また、真空ポンプ162の溶剤蒸気を含んだ排気は、低温の凝縮器161にて液化して回収され、蒸気の薄くなった排気は更に冷却パイプ121を有する回収槽122の溶剤内に挿入され大部分は回収される。一般にこの回収効率は95%以上、99.5%と宣伝しているメーカーも在る。
しかしながら、回収漏れの高々0.5%だが、蒸気加熱時の蒸気量が多量のために、無視できない量となる。消費量は炭化水素系溶剤の洗浄機で毎時1リットル、塩素系溶剤の洗浄機では更にその5から7倍と言われる。
In this hermetic cleaning apparatus, the opening /
However, the recovery leakage is at most 0.5%, but the amount of steam at the time of steam heating is so large that it cannot be ignored. The consumption is said to be 1 liter per hour for a hydrocarbon solvent washer and 5 to 7 times that for a chlorine solvent washer.
上記の密閉式洗浄装置を改良し、溶剤消費を最小限に抑えるべく、特許文献1に示すように、ガスホルダーと称する容器を備えた洗浄装置がある。
このガスホルダーを備えた洗浄装置の一例を図9に示す。この装置では、蒸気加熱時及び乾燥時の真空ポンプ162よりの排気は、凝縮器161を介して伸縮、膨張自在のガスホルダー165と称する容器に溜め込まれ、外気には一切放出されない。そのため、理論的には溶剤の消耗量は真空吸引された洗浄槽に残った蒸気のみである。
しかし、実用上はガスホルダー165の大きさを巨大化するのは不合理なため、洗浄槽の真空度を余り上げられない。また、ガスホルダー165、真空ポンプ162等の使用により、装置はかなり高価なものとなり、本発明の装置比で4倍程度となる。
In order to improve the above-described hermetic cleaning apparatus and minimize solvent consumption, there is a cleaning apparatus provided with a container called a gas holder as shown in Patent Document 1.
An example of the cleaning apparatus provided with this gas holder is shown in FIG. In this apparatus, the exhaust from the
However, in practice, it is unreasonable to enlarge the size of the
上述したように、従来の密閉式洗浄装置では、真空ポンプの排気に含まれる溶剤蒸気の回収効率の問題から、溶剤の消費量がかなり大きくなってしまうという問題があった。
また、溶剤の消費量を抑えるために、従来のガスホルダーを備えた洗浄装置を用いると、かなり高価な装置となるためにコストが高くなってしまうという問題があった。
As described above, the conventional hermetic cleaning apparatus has a problem that the consumption of the solvent becomes considerably large due to the recovery efficiency of the solvent vapor contained in the exhaust of the vacuum pump.
In addition, when a conventional cleaning device equipped with a gas holder is used to reduce the consumption of the solvent, there is a problem that the cost becomes high because the device becomes quite expensive.
本発明は、上記実情に鑑みてなされたもので、溶剤の回収効率を高めて、溶剤の消費量を低減させるとともに、比較的安価な洗浄装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a relatively inexpensive cleaning device while increasing the solvent recovery efficiency to reduce the consumption of the solvent.
上記目的を達成するため、本発明の洗浄装置は、
被処理物の溶剤による洗浄及び該被処理物の乾燥が行われる洗浄・乾燥槽と、
前記洗浄・乾燥槽と接続され、前記被処理物を乾燥する温風機と、
前記洗浄・乾燥槽及び前記温風機と接続され、溶剤蒸気を冷却、液化して回収する回収器とを備え、
前記被処理物の乾燥時に溶剤蒸気が流入する前記洗浄・乾燥槽、前記温風機及び前記回収器は、外気と遮断された密閉状態である洗浄装置であって、
前記洗浄・乾燥槽の上方に連設され、前記洗浄・乾燥槽において乾燥が行われた前記被処理物を冷却し、溶媒蒸気を凝縮し液化する冷却槽を備えたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the cleaning apparatus of the present invention comprises:
A cleaning / drying tank in which the object to be processed is washed with a solvent and the object to be processed is dried;
A hot air machine connected to the washing / drying tank and drying the workpiece;
Connected to the washing / drying tank and the hot air machine, and equipped with a collector for cooling, liquefying and recovering the solvent vapor,
The cleaning / drying tank into which the solvent vapor flows when the object to be processed flows, the hot air machine, and the recovery unit are cleaning apparatuses that are sealed off from outside air,
A cooling tank is provided continuously above the cleaning / drying tank, and cools the object to be processed which has been dried in the cleaning / drying tank to condense and vaporize the solvent vapor.
また、前記被処理物を収納した容器が脱着可能に下方に保持され、
少なくとも前記冷却槽内を上下方向に移動可能に設置され、
前記被処理物の洗浄及び乾燥時には、上方が開口した前記洗浄・乾燥槽に圧着して密閉し、前記被処理物の冷却時には、前記冷却槽内で滞留することが可能である昇降フレームを備えるようにしてもよい。
Further, a container storing the object to be processed is held downward so as to be detachable,
At least installed in the cooling tank so as to be movable in the vertical direction,
When cleaning and drying the object to be processed, there is provided an elevating frame capable of being crimped and sealed to the cleaning / drying tank opened at the top and capable of staying in the cooling tank when the object to be processed is cooled. You may do it.
また、前記昇降フレームは、前記冷却槽内での滞留時において前記容器を回転させる回転機構を備えるようにしてもよい。 The elevating frame may include a rotation mechanism that rotates the container when the elevating frame stays in the cooling tank.
また、圧着力が1960N以上、且つ、外気に対する圧力が0.15kg/cm2以上である前記昇降フレームの圧着機構を備えるようにしてもよい。 Moreover, you may make it provide the crimping | compression-bonding mechanism of the said raising / lowering frame whose crimping force is 1960 N or more and the pressure with respect to external air is 0.15 kg / cm < 2 > or more.
また、前記回収器及び前記冷却槽に、−20℃以下の低温装置を使用するようにしてもよい。 Moreover, you may make it use the low temperature apparatus of -20 degrees C or less for the said collection | recovery device and the said cooling tank.
また、前記洗浄・乾燥槽に溶剤を供給する溶剤の液戻槽を備え、
前記液戻槽は、槽内に溶剤のオーバーフロー分を回収可能な機構を有するようにしてもよい。
Also, a solvent return tank for supplying the solvent to the cleaning / drying tank is provided,
The liquid return tank may have a mechanism capable of recovering the solvent overflow in the tank.
本発明によれば、溶剤の回収効率を高めて、溶剤の消費量を低減させるとともに、比較的安価な洗浄装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while improving the collection | recovery efficiency of a solvent and reducing the consumption of a solvent, a comparatively cheap cleaning apparatus can be provided.
本発明の実施の形態に係る洗浄装置について、以下図面を参照して説明する。
本実施の形態に係る洗浄装置は、除去される油分の比較的少ない洗浄対象物を想定した簡易蒸留器付き装置であり、一般の装置では本格的な蒸留装置が追加される。この洗浄装置では、溶剤としては、例えばフロン系の沸点が低く、油分の溶解の少ない溶剤を用いる。
A cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
The cleaning device according to the present embodiment is a device with a simple still that assumes a relatively small amount of oil to be cleaned, and a full-scale distillation device is added to a general device. In this cleaning apparatus, as the solvent, for example, a solvent having a low fluorocarbon boiling point and a low oil content is used.
洗浄装置は、図1に示すように、昇降フレーム1と、洗浄籠2と、摺動蓋3a,3bと、冷却槽5と、洗浄・乾燥槽6と、冷却槽フレーム7と、洗浄・乾燥槽のフレーム8と、冷却配管11と、凝縮器(回収器)12と、送風機13と、水分分離器14と、液戻槽16と、溶剤ポンプ17と、濾過器18と、超音波発振器19と、加熱器20と、ファン密閉部21とを備えている。
As shown in FIG. 1, the cleaning apparatus includes an elevating frame 1, a cleaning basket 2, sliding
昇降フレーム1は、モータ等の駆動機構により上下に移動可能なフレームで、本体の架台(図示せず)に上下方向に移動可能に保持されている。昇降フレーム1は、下降位置である1bの状態では、洗浄・乾燥槽のフレーム8の上端に圧着して、洗浄・乾燥槽6を密閉する。なお、密閉用シールとなるOリング等の弾性体(図示せず)が、昇降フレーム1の下面に固定されており、この働きで洗浄・乾燥槽6は密閉される。
また、昇降フレーム1は、中間位置である1aの状態でも停止可能で、この位置では洗浄籠2内の溶剤蒸気圧を下げるための冷却を行う。
また、洗浄籠2を回転させる必要が有る場合には、図3に示すように、駆動用のギアモータ41を昇降フレーム1の上側に垂直に固定し、この軸を昇降フレーム1の下側までOリング等で密閉を保ちながら回転可能にして貫通させる。この軸の下端部をウォームギア42として、洗浄籠2の丸籠の軸2Xに付けたウォームホイール43と勘合させる。なお、図3(B)及び図3(C)の側面図においては、理解しやすくするために一部の部材を省略して表わしている。
The elevating frame 1 is a frame that can be moved up and down by a drive mechanism such as a motor, and is held on a gantry (not shown) of the main body so as to be movable in the vertical direction. In the state of 1b which is the lowered position, the elevating frame 1 is pressure-bonded to the upper end of the frame 8 of the cleaning / drying tank to seal the cleaning / drying tank 6. An elastic body (not shown) such as an O-ring serving as a sealing seal is fixed to the lower surface of the elevating frame 1, and the cleaning / drying tank 6 is sealed by this function.
Further, the lifting frame 1 can be stopped even in the state of 1a which is an intermediate position, and at this position, cooling for lowering the solvent vapor pressure in the cleaning basket 2 is performed.
Further, when it is necessary to rotate the cleaning basket 2, as shown in FIG. 3, a
洗浄籠2は、角型或は回転可能な丸型の籠で、例えば網またはパンチングメタルで覆われ、内部に被処理物である洗浄対象品(以下、「ワーク」と称す。)を収納する容器である。洗浄籠2は、適当な機構により、昇降フレーム1に脱着可能に保持される。例えば、図3に示すように、洗浄籠2の両端より突き出た丸い棒状の軸2Xを、昇降フレーム1の下に取り付けられた、一対の設置・固定用フレーム1Xのフック状の溝に回転自在に引っ掛ける。
昇降フレーム1に洗浄籠2が図3のように固定された状態で、ギアモータ41をT方向に回転させると、ウォームギ42もT方向に回転する。これにより勘合しているウォームホイール43がS方向に回転するため、固定されている洗浄籠の軸2Xも回転し、洗浄籠2全体も回転する。
なお、洗浄籠2の回転は、洗浄籠2からワークを取り出す前の冷却槽5での滞留時間中などに行われる。
昇降フレーム1の最下降時である洗浄籠2の位置2bにおいて、ワークの浸漬洗浄及び乾燥作業を行う。
The cleaning bowl 2 is a square or rotatable round bowl, and is covered with, for example, a net or punching metal, and accommodates an object to be cleaned (hereinafter referred to as “work”) as an object to be processed. It is a container. The cleaning bowl 2 is detachably held on the lifting frame 1 by an appropriate mechanism. For example, as shown in FIG. 3, round rod-shaped shafts 2X protruding from both ends of the cleaning basket 2 are freely rotatable in hook-shaped grooves of a pair of installation / fixing
If the
The cleaning bowl 2 is rotated during the residence time in the cooling tank 5 before the workpiece is taken out from the washing bowl 2.
At the position 2b of the cleaning rod 2 when the elevating frame 1 is at the lowest position, the workpiece is immersed and washed and dried.
摺動蓋3a及び摺動蓋3bは、冷却槽フレーム7に各3A及び3B方向に移動可能に取付けられ、閉じた状態では冷却槽5の密閉の役目を果たす。但し、摺動蓋3a,3bの密閉は厳密な密閉ではなく、完全密閉は不要である。
The sliding lid 3a and the sliding
冷却槽5は、低温の冷却槽であり、冷却槽フレーム7、摺動蓋3a,3b、及び、下降位置である1bの状態にある昇降フレーム1で覆われた範囲を示す。上側の摺動蓋3a,3bを除いて、完全密閉構造となっている。
The cooling tank 5 is a low temperature cooling tank, and shows the range covered with the
洗浄・乾燥槽6は、下降位置である1bの状態にある昇降フレーム1及び洗浄・乾燥槽のフレーム8で囲まれた部分を示し、ワークの洗浄及び乾燥作業を行う場所である。洗浄・乾燥槽6の底面には、洗浄用の超音波発振器19と蒸留用の加熱器20が取付いている。洗浄・乾燥槽6には、各種の配管が接合されているが、それらの配管を含めて完全密閉され、外気とは遮断されている。
The cleaning / drying tank 6 indicates a portion surrounded by the elevating frame 1 in the lowered position 1b and the frame 8 of the cleaning / drying tank, and is a place where the work is cleaned and dried. An
冷却槽フレーム7は、本体の架台に固定され、冷却槽フレーム7の下部の穴には洗浄・乾燥槽のフレーム8が完全密閉状態に連設され固定されている。また、冷却槽フレーム7の底部は、洗浄・乾燥槽のフレーム8の外側とともに冷却槽5の周りを1周する溝31を構成する。
The
洗浄・乾燥槽のフレーム8は、洗浄・乾燥槽6のフレームであり、冷却槽フレーム7のフレームを介して、本体の架台に固定される。
The frame 8 of the cleaning / drying tank is a frame of the cleaning / drying tank 6 and is fixed to the frame of the main body via the frame of the
冷却配管11は、冷却槽5を冷却するために巻かれた配管であり、上下方向に十分に高さを確保しており、また超低温に対応可能な構造としてある。冷却配管11には、−20℃以下の低温装置が用いられる。冷却配管11には、本体架台に取付けられた冷凍機(図示せず)より、冷媒の液が直接循環される。
The cooling
凝縮器(回収器)12は、配管52より送られる溶剤蒸気を冷却して、液に戻すためのものである。凝縮器12は、内部に冷却配管11と同様な冷却コイルを持ち、−20℃以下の低温装置が用いられる。
配管52により凝縮器12に流入した溶剤蒸気は、超低温で冷却され液に戻されて配管56に送られ、配管53から出る空気には極僅少の溶剤蒸気しか含まれない。凝縮器12は、冷却槽フレーム7に直接固定するか、または、配管52,53,56を介して冷却槽フレーム7に固定される。
The condenser (collector) 12 is for cooling the solvent vapor sent from the
The solvent vapor that has flowed into the condenser 12 through the
送風機13は、ワークの乾燥を行うための温風乾燥機であり、温風発生のための加熱器(図示せず)も組み込まれている。送風機13は、加熱器を含めファン密閉部21の箱により完全密閉され、外気と遮断されている。
The
水分分離器14は、溶剤の液中に含まれる水分を分離するための機構で、水と溶剤の比重差により機械的に分離される。水分は原則としては全て水分分離器14の内部に収納され、配管61には入らずに弁86より適時排出される。
The
液戻槽16は、洗浄溶剤の貯蔵用のタンクで、洗浄作業時を除く通常時は常に溶剤はここに集められる。液戻槽16は、図4に示すように、液補充口101と、液量視認窓102と、オーバーフロー液取出し用配管103と、手動の弁95,96とを備えている。
The
液戻槽16では、通常時にはオーバーフロー液取出し用配管103の弁96は閉じており、通常の槽と変わらない。
溶剤の消費量に関する測定を行う場合には、溶剤の液量測定時に予め弁96を開き、液補充口101より液を補充し、液量をオーバーフロー液取出し用配管103の上面に揃える。この状態で、弁96を閉じて測定を開始する。測定の終了後は、液量確認のための透明な窓である液量視認窓102で液量を確認しながら液補充口101より軽量された液を補充し、弁96を開いてオーバーフロー液取出し用配管103よりオーバーフロー分を回収する。溶剤の消費量に関しては回収量の計量により、補充量との差分として簡単に算出され、溶剤の消費量の精密測定を容易に実施できる。
In the
When measuring the consumption amount of the solvent, the
溶剤ポンプ17は、溶剤の循環及び供給、排出用のポンプで、以上の作業を電磁弁である弁81〜85の制御により、全てこの1台にて行う構造である。
濾過器18は、洗浄液の浄化のためのもので、洗浄作業中は溶剤ポンプ17により循環される洗浄液を常時濾過して浄化する。
The
The
超音波発振器19は、洗浄のための超音波を発振し、洗浄・乾燥槽のフレーム8の底部の上面に取付けられている。
加熱器20は、溶剤の蒸留・煮詰め用の加熱器で、洗浄・乾燥槽のフレーム8の底部の下面に取付けられ、通常作業時には使用されず必要な時(蒸留時)のみ別途手動で起動される。
ファン密閉部21は、送風機13の密閉のための箱で、送風機13を完全密閉する。
The
The
The
回収液用の溝31は、冷却槽フレーム7の底部に設けられた洗浄・乾燥槽6を取り巻く溝で、冷却槽5の内部で凝縮され液化した溶剤蒸気等が配管55に入るまでの経路となっている。
The
配管51〜53は、乾燥用の送風配管であり、配管51〜53を介して、洗浄・乾燥槽6、凝縮器12及び送風機13(ファン密閉部21)が接続されている。配管55,56は、液化した溶剤の回収用配管であり、配管61は、水分分離器14よりの回収溶剤の配管であり、配管71は、洗浄・乾燥槽6と液戻槽16とを結ぶ空気用の配管であり、その他の配管は全て溶剤用の配管である。
弁81〜85までは、自動で制御される電磁弁であり、弁86,87は、手動で動作させる手動弁である。
The
The
次に、昇降フレーム1を洗浄・乾燥槽のフレーム8の上端に圧着させる圧着機構の構成について図5及び図6を用いて説明する。
この圧着機構は、昇降フレーム1上に主に配置され、回転アーム23と、回転ストッパ24,25と、上下位置決めストッパ7aと、ブロック7bと、圧着リング26(26a,26b)と、圧着ホルダー45と、昇降シャフト46と、軸受け47と、圧縮バネ48と、圧着歯車49と、圧着軸50とを備えている。
この圧着機構は、圧着力が1960N以上であり、且つ、外気に対する圧力が0.15kg/cm2以上で強力な圧着を実現できるので、ワークの乾燥時に溶剤の蒸気圧による昇降フレーム1の上昇を防止し、密閉状態を維持することができる。
Next, the structure of the crimping mechanism for crimping the lifting frame 1 to the upper end of the frame 8 of the cleaning / drying tank will be described with reference to FIGS.
This crimping mechanism is mainly disposed on the lifting frame 1, and includes a
This crimping mechanism can achieve strong crimping with a crimping force of 1960 N or more and a pressure against the outside air of 0.15 kg / cm 2 or more, so that the lifting frame 1 can be lifted by the vapor pressure of the solvent when the workpiece is dried. And can maintain a sealed state.
回転アーム23は、圧着リング26に内周のネジにより回転自在に保持されている4本のアームで、4本とも一体の構造となっている。
上下位置決めストッパ7aは、冷却槽フレーム7に固定された4箇所のブロック7bに、上下方向に調整可能に固定されている、回転アーム23用のストッパである。
回転ストッパ24は、冷却槽フレーム7に固定された4箇所のブロック7bの内1箇所に固定されている、回転アーム23用の回転位置決めストッパである。
回転ストッパ25は、昇降フレーム1上に固定されている、回転アーム23用の回転位置決めストッパである。
圧着リング26は、軸受け47を介して圧着ホルダー45に回転自在に保持されており、下部26aは外周がネジ構造で、上部26bは外周が歯車となっている。
圧着ホルダー45は、昇降フレーム1上に固定されたブロックで、通常は昇降シャフト46により吊り下げられた状態である。
昇降シャフト46は、本体の架台(図示せず)に上下方向に移動可能に保持されている軸である。
軸受け47は、圧着ホルダー45に回転自在に保持され、外周は圧着リング26に回転自在に勘合している。
圧縮バネ48は、圧着リング26に組み込まれ、回転アーム23を適度な荷重で下に圧着している。
圧着歯車49は、圧着軸50に固定され、圧着リング26の上部26bの外周に噛合っている。
圧着軸50は、本体の架台(図示せず)に回転自在に保持されている軸で、モータ等の駆動源に歯車等を介して連結されている。
The rotating
The
The
The
The pressure-
The crimping holder 45 is a block fixed on the lifting frame 1 and is normally suspended by the lifting
The raising / lowering
The bearing 47 is rotatably held by the crimping holder 45, and the outer periphery thereof is rotatably fitted to the crimping
The
The
The crimping
次に、本実施の形態の洗浄装置の動作について説明する。 Next, the operation of the cleaning device of the present embodiment will be described.
<洗浄動作>
昇降フレーム1に、設置・固定用フレーム1X(図3)等を介して、ワークの挿入された洗浄籠2を取り付ける。作業者が装置の制御部(図示せず)に設置された、洗浄開始釦を押して自動洗浄が開始される。
<Washing action>
The cleaning rod 2 into which the workpiece is inserted is attached to the lifting frame 1 via the installation /
摺動蓋3a,3bがそれぞれ3A,3Bの方向に開き、この状態で昇降フレーム1が下降し、図2に示すように、1bの位置に到達する。昇降フレーム1の下降位置である1bの状態では、昇降フレーム1が洗浄・乾燥槽のフレーム8の上端に圧着して、洗浄・乾燥槽6を密閉する。
同時に溶剤ポンプ17が運転を開始し、液戻槽16から弁84、濾過器18、溶剤ポンプ17、弁82の経路で、洗浄・乾燥槽6へ洗浄液を供給する。この際、液は全て濾過器18を通り清浄化される。また、弁85が開き洗浄・乾燥槽6内の空気を液戻槽16へ逃がす。
なお、昇降フレーム1が洗浄・乾燥槽のフレーム8の上端に圧着する動作については後述する。
The sliding
At the same time, the
The operation in which the elevating frame 1 is crimped to the upper end of the frame 8 of the cleaning / drying tank will be described later.
洗浄・乾燥槽6内に設置された液面センサー(図示せず)にて、適切な液量状態で洗浄液の供給を終了し、以後バルブ操作にて循環状態となる。即ち、弁81を開き、弁84を閉じることにより、液は洗浄・乾燥槽6より供給されて濾過器18を経由して洗浄・乾燥槽6へ戻る循環濾過を行う。この状態は洗浄終了まで継続する。洗浄籠2(2bの位置)のワークはこの状態で図2の如く、完全に液中に浸漬された状態となる。
The liquid level sensor (not shown) installed in the cleaning / drying tank 6 terminates the supply of the cleaning liquid in an appropriate liquid amount state, and thereafter circulates by valve operation. That is, by opening the
次に、洗浄開始となり、超音波発振器19の起動により超音波洗浄が開始される。洗浄液は循環濾過状態で液を清浄に保つ。タイマー等により所定時間この状態を維持し洗浄工程を終了し、以後排液工程に移行する。
Next, cleaning is started, and ultrasonic cleaning is started by activation of the
洗浄終了後はバルブ操作にて直ちに排液作業に移行する。即ち、弁83を開き、弁82を閉じることにより、液は洗浄・乾燥槽6より供給されて濾過器18を経由して液戻槽16へ戻る。この際、液は全て濾過器18を通り清浄化される。また、弁85が開き液戻槽16内の空気を洗浄・乾燥槽6へ逃がす。タイマーによる所定時間の作業後、溶剤ポンプ17が停止し、弁は全て閉じられる。
Immediately after the cleaning, the operation of draining is started by valve operation. That is, by opening the
上記の排液作業の後半に温風乾燥が開始される。また、送風機13は、排液作業開始時より、内蔵の加熱器により予備加熱されている。送風機13が起動し、温風が洗浄・乾燥槽6へ送られる。
配管51を経由して、2bの位置の洗浄籠2に温風が吹き付けられ、洗浄籠2内のワークより溶剤を蒸発させ、配管52を経由して回収器12に送られる。回収器12により超低温で凝縮された溶剤蒸気を含む温風は、ほぼ完全乾燥された冷風となって、配管53経由で送風機13に戻り循環する。
また、この時凝縮され液化した溶剤蒸気は、配管56を経由して水分分離器14に送られ、比重分離により溶剤のみ配管61を経由して、液戻槽16に戻る。
以上の乾燥作業は配管52内に設置された溶剤濃度センサー(図示せず)又はタイマー設定により終了する。この時、ワークは勿論の事、洗浄籠2及び洗浄・乾燥槽6及び配管51〜53の内部まで、溶剤の液は皆無の状態に完全乾燥される。
この作業中に於いてはファン密閉部21、洗浄・乾燥槽6、回収器12及び配管51〜53(以下、これ等の部分を「乾燥経路」と称す。)は、外気とは完全に遮断された完全密閉状態を保持している。また、水分分離器14、液戻槽16、配管56,61及びその他配管も全て外気とは遮断された完全密閉状態であり、この間の溶剤蒸気の流出は皆無である。
乾燥終了時に於いて、ワーク及び洗浄籠2は温風により暖められているが、乾燥経路内の空気は回収器12により溶剤蒸気は極めて少ない乾燥状態に保たれる。また、乾燥終了前には、タイマーにより送風機13の加熱器がオフし、回収器12の働きにより冷風をワークに吹き付けて、適温まで冷却される。温度の調整は可能だが、例えば、25℃程度で冷却をおこなう。
Hot air drying is started in the latter half of the above drainage operation. The
Warm air is blown to the cleaning bowl 2 at the position 2b through the
Further, the solvent vapor condensed and liquefied at this time is sent to the
The above drying operation is completed by setting a solvent concentration sensor (not shown) installed in the
During this operation, the
At the end of drying, the work and the cleaning bowl 2 are warmed by warm air, but the air in the drying path is kept in a dry state by the collector 12 so that the solvent vapor is very little. Further, before the drying is completed, the heater of the
乾燥作業終了後はワークの排出作業に移行する。この時冷却槽5内は、冷却配管11により超低温状態となっている。昇降フレーム1が洗浄籠2を伴って上昇し、1bの位置より1aの位置に移動、洗浄籠2も2bの位置より2aに移動、この位置で所定時間滞留し冷却される。上下移動は洗浄・乾燥槽6を含む乾燥経路内の僅かに残存する溶剤蒸気を、出来るだけ上面へ運ばないように制御してゆっくりと行う。
昇降フレーム1を1aの位置で所定時間停止し、洗浄籠2及びワーク内の空気を冷却し、残存する僅かな溶剤蒸気を更に低減させる。また、冷却槽5内に流出した乾燥経路内の空気も冷却され、溶剤蒸気濃度は更に低減される。
なお、この際に、洗浄籠2を回転させることにより、洗浄籠2及びワーク内の空気は効率よく冷却され、溶剤蒸気をより低減させることができる。
洗浄籠2内の空気を低温空気と入れ替えて、ワークと同伴する蒸気量を削減しながら、冷却槽5内での滞留時間を調整することにより、取り出し時のワーク温度を結露しない状態に調整する。
冷却配管11により凝縮され液化した溶剤蒸気は、冷却槽5の底部に設置された溝31と連通する配管55に誘導されて水分分離器14へ送られる。水分分離器14に送られた回収溶剤は、比重分離により溶剤のみが配管61を経由して、液戻槽16に戻る。
After the drying operation is completed, the operation shifts to the work discharging operation. At this time, the inside of the cooling tank 5 is in an ultra-low temperature state by the cooling
The elevating frame 1 is stopped at a position 1a for a predetermined time to cool the cleaning basket 2 and the air in the work, and further reduce the remaining solvent vapor. Further, the air in the drying path that has flowed into the cooling tank 5 is also cooled, and the solvent vapor concentration is further reduced.
At this time, by rotating the cleaning bowl 2, the cleaning bowl 2 and the air in the work are efficiently cooled, and the solvent vapor can be further reduced.
By replacing the air in the cleaning bowl 2 with low-temperature air and reducing the amount of steam accompanying the work, adjusting the residence time in the cooling bath 5, the work temperature at the time of taking out is adjusted to a state where condensation does not occur. .
The solvent vapor condensed and liquefied by the cooling
所定時間後、摺動蓋3a,3bがそれぞれ3A,3B方向に移動して冷却槽5が開く。この状態で昇降フレーム1が洗浄籠2を伴って最上部まで移動し、洗浄籠2は脱着可能となる。摺動蓋3a,3bが逆方向へ戻り、冷却槽5が閉じた状態となり1サイクルの洗浄作業が完了する。
After a predetermined time, the sliding
<蒸留動作>
蒸留作業は液戻槽16の液を、洗浄・乾燥槽6内で煮詰める事で実施する。
手動作業により、液戻槽16内の液を全て洗浄・乾燥槽6へ移動させる。この状態で煮詰め釦を押す事により、煮詰作業が開始される。加熱器20がONして液を加熱し、送風機13が起動して乾燥作業の状態となり、溶剤蒸気を回収器12に送る。
回収器12で溶剤蒸気は凝縮され液化し、水分分離器14で水分除去された後、液戻槽16に回収される。
煮詰作業は洗浄・乾燥槽6の液面が所定位置に降下する事で終了し、排液は弁87より取り出される。残りの排液は別の蒸留器(別の装置)にて更に油分と溶剤回収液に分離が可能である。
<Distillation operation>
The distillation operation is performed by boiling the liquid in the
All the liquid in the
The solvent vapor is condensed and liquefied by the recovery unit 12, and after the water is removed by the
The boiling operation is completed when the liquid level in the cleaning / drying tank 6 is lowered to a predetermined position, and the drained liquid is taken out from the
次に、昇降フレーム1を洗浄・乾燥槽のフレーム8の上端に圧着させる圧着機構の動作について説明する。 Next, the operation of the crimping mechanism for crimping the lifting frame 1 to the upper end of the frame 8 of the cleaning / drying tank will be described.
<通常状態>
昇降フレーム1の昇降時を含めた圧着状態以外の時は、図5(A)に示すように、回転アーム23は昇降フレーム1内で、回転ストッパ25に接触した状態を保持する。
昇降フレーム1は、昇降シャフト46の突起部46aにより、圧着ホルダー45の内側の小径部45aを介して吊り下げられた状態で、小径部45aの下面と突起部46aの上面は隙間無く接触している。
<Normal state>
When the lifting frame 1 is not in a crimped state including when the lifting frame 1 is lifted, the
The lift frame 1 is suspended by the
<昇降フレーム1の下降状態>
モータ等の駆動機構(図示せず)により昇降シャフト46が下降し、昇降フレーム1も一体で下降する。昇降フレーム1が洗浄・乾燥槽6の上面に到達すると昇降フレーム1は停止するが、昇降シャフト46は更に所定位置まで降下し、圧着ホルダー45の小径部45aと昇降シャフト46の突起部46aには上下方向に隙間が発生し、図6に示す上下位置の状態となり停止する。
また、この状態では圧着ストッパ7aと回転アーム23の上下位置関係は、図6に示すように隙間が発生している状態である。
<Descent state of lifting frame 1>
The elevating
Further, in this state, the vertical positional relationship between the
<圧着動作>
回転機構が起動し圧着軸50が回転すると、圧着歯車49の回転により圧着リング26が回転し、圧縮バネ48の摩擦力により回転アーム23が図5(B)のP方向に回転し、回転ストッパ24に圧着され図5(B)に示した状態となり停止する。
圧着軸50はその後も回転を継続し、圧着リング26も回転を継続、下部26aの回転により外周のネジが回転する状態となり回転アーム23を上方に押し上げる。
回転アーム23が上昇し、上下位置決めストッパ7aに到達すると上昇は停止するが、圧着リング26の下部26aのネジは回転を続け上下位置決めストッパ7aを押し上げる力が発生する。
この力の反作用により回転アーム23は、上下位置決めストッパ7aより下向きの圧着力を受け、圧着リング26、軸受け47、圧着ホルダー45と伝達されて昇降フレーム1を下方向に圧着する。
圧着軸50の回転は所定時間継続するが、駆動機構側にクラッチ等のトルクリミッター(図示せず)を設置するため、これにより所定の力以上の圧着力は負荷されない。
<Crimping operation>
When the rotation mechanism is activated and the crimping
The crimping
When the
Due to the reaction of this force, the
Although the rotation of the crimping
<圧着解除動作>
回転機構が逆方向に起動し圧着軸50が逆回転すると圧着動作の逆の動作で、最初に圧着力を緩めて圧着を解除し、その後回転アーム23が図5(B)のR方向に回転し、回転ストッパ25に到達して図5(A)の状態で停止する。この時に回転アーム23用の昇降フレーム1上の位置センサー(図示せず)の検知により、タイマーの所定時間後に圧着軸50が停止し圧着解除動作が終了する。
<Press release operation>
When the rotation mechanism starts in the reverse direction and the crimping
このように本実施の形態の洗浄装置では、ワークの乾燥作業時において、送風機13(ファン密閉部21)、洗浄・乾燥槽6、回収器12及び配管51〜53は、外気とは完全に遮断された完全密閉状態を保持しており、また、水分分離器14、液戻槽16、配管56,61及びその他配管も全て外気とは遮断された完全密閉状態であるようにしたので、この間の溶剤蒸気の流出は皆無となり、溶剤の回収効率が向上する。
加えて、ワークの乾燥作業終了後に、洗浄・乾燥槽6の上方に洗浄・乾燥槽6を覆うように連設された冷却槽5内で、洗浄籠2及びワーク内の空気を冷却し、残存する僅かな溶剤蒸気を更に低減させ、また、冷却槽5内に流出した乾燥経路内の空気も冷却されるようにしたので、溶剤蒸気濃度は更に低減され、液化した溶剤蒸気は回収されるので、溶剤の回収効率は更に向上する。
As described above, in the cleaning apparatus of the present embodiment, the blower 13 (fan sealing portion 21), the cleaning / drying tank 6, the recovery device 12, and the
In addition, after the work is dried, the cleaning tub 2 and the air in the work are cooled in the cooling tank 5 continuously provided so as to cover the washing / drying tank 6 above the cleaning / drying tank 6 and remain. The amount of solvent vapor is further reduced, and the air in the drying path that has flowed into the cooling tank 5 is also cooled, so that the concentration of the solvent vapor is further reduced and the liquefied solvent vapor is recovered. The solvent recovery efficiency is further improved.
また、本実施の形態の洗浄装置では、ガスホルダー165、真空ポンプ16等を用いないので、コストを低減することができ、洗浄装置を安価で提供することができる。
Further, in the cleaning device of this embodiment, the
また、本実施の形態の洗浄装置では、ワークが収納された洗浄籠2を下方に保持した昇降フレーム1を上下方向に移動可能にして、ワークの洗浄または乾燥時には、昇降フレーム1を上方が開口した洗浄・乾燥槽6に圧着して密閉させ、ワークの冷却時には、冷却槽5内でワークを滞留させることができるようにしたので、洗浄、乾燥、冷却等の作業を効率的に行うことができる。 Further, in the cleaning apparatus of the present embodiment, the lifting frame 1 holding the cleaning basket 2 in which the workpiece is stored is movable downward, and the lifting frame 1 is opened upward when cleaning or drying the workpiece. Since the work can be retained in the cooling tank 5 when the work is cooled, the work such as washing, drying, and cooling can be efficiently performed. it can.
また、本実施の形態の洗浄装置では、冷却槽5内でのワークの冷却時において、洗浄籠2を回転させることにより、洗浄籠2及びワーク内の空気を効率よく冷却し、溶剤蒸気をより低減させることができる。 Further, in the cleaning apparatus of the present embodiment, when the workpiece is cooled in the cooling tank 5, the cleaning rod 2 is rotated to efficiently cool the cleaning rod 2 and the air in the workpiece, thereby further reducing the solvent vapor. Can be reduced.
また、本実施の形態の洗浄装置では、圧着機構により、昇降フレーム1を洗浄・乾燥槽のフレーム8の上端に強力な圧着力で圧着できるので、ワークの乾燥時に溶剤の蒸気圧による昇降フレーム1の上昇を防止し、密閉状態を維持することができる。
この圧着機構を用いない場合の本実施の形態の洗浄装置の試作機の実験結果では、フッ素系溶剤を使用して、洗浄1回当たりの溶剤消耗量は22.64ccとなり、従来の開放式洗浄機を使用した場合と比べて1/12程度に削減された。この圧着機構を用いた場合には、更に1/2から1/5程度の削減を見込んでいる。
Further, in the cleaning apparatus of the present embodiment, the lifting frame 1 can be crimped to the upper end of the frame 8 of the cleaning / drying tank with a strong crimping force by the crimping mechanism, so that the lifting frame 1 due to the vapor pressure of the solvent when the workpiece is dried. Can be prevented and the sealed state can be maintained.
According to the experimental results of the prototype of the cleaning apparatus of the present embodiment when this crimping mechanism is not used, the amount of solvent consumption per cleaning is 22.64 cc using a fluorinated solvent, and the conventional open cleaning is performed. It was reduced to about 1/12 compared with the case where the machine was used. When this crimping mechanism is used, a further reduction of about 1/2 to 1/5 is expected.
本実施の形態の洗浄装置では、溶剤の消耗量が無視出来るレベルとなるため、溶剤の価格問題や毒性等の環境問題も発生せずに、目的に適した溶剤の選定を自由にできるとともに、溶剤の消費を抑えることで全世界的な問題である、環境問題にも大いに貢献できるものである。 In the cleaning apparatus of the present embodiment, the amount of consumption of the solvent is negligible, so that environmental problems such as solvent price problems and toxicity do not occur, and it is possible to freely select a solvent suitable for the purpose, Suppressing solvent consumption can greatly contribute to environmental problems, which are global problems.
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、本実施の形態では、ワークの洗浄を溶剤液中に浸漬された状態となるようにして洗浄作業を行ったが、溶剤の噴流を浴びせるようにしてもよい。 While the present invention has been described with reference to the embodiment, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made. For example, in the present embodiment, the cleaning operation is performed in such a manner that the workpiece is immersed in the solvent liquid. However, the workpiece may be sprayed with a jet of solvent.
1 昇降フレーム
1X 設置・固定用フレーム
2 洗浄籠
5 冷却槽
6 洗浄・乾燥槽
7 冷却槽フレーム
7a 上下位置止めストッパ
8 洗浄・乾燥槽のフレーム
11 冷却配管
12 回収器(凝縮器)
13 温風機
14 水分分離器
16 液戻槽
17 溶剤ポンプ
21 ファン密閉部
23 回転アーム
24,25 回転ストッパ
26 圧着リング
31 回収液用の溝
41 ギアモータ
42 ウォームギア
43 ウォームホイール
45 圧着ホルダー
46 昇降シャフト
47 軸受け
48 圧縮バネ
49 圧縮歯車
50 圧縮軸
51〜53,55,56,71 配管
103 オーバーフロー液取出し用配管
1 Lifting
13
Claims (6)
前記洗浄・乾燥槽と接続され、前記被処理物を乾燥する温風機と、
前記洗浄・乾燥槽及び前記温風機と接続され、溶剤蒸気を冷却、液化して回収する回収器とを備え、
前記被処理物の乾燥時に溶剤蒸気が流入する前記洗浄・乾燥槽、前記温風機及び前記回収器は、外気と遮断された密閉状態である洗浄装置であって、
前記洗浄・乾燥槽の上方に連設され、前記洗浄・乾燥槽において乾燥が行われた前記被処理物を冷却し、溶媒蒸気を凝縮し液化する冷却槽を備えたことを特徴とする洗浄装置。 A cleaning / drying tank in which the object to be processed is washed with a solvent and the object to be processed is dried;
A hot air machine connected to the washing / drying tank and drying the workpiece;
Connected to the washing / drying tank and the hot air machine, and equipped with a collector for cooling, liquefying and recovering the solvent vapor,
The cleaning / drying tank into which the solvent vapor flows when the object to be processed flows, the hot air machine, and the recovery unit are cleaning apparatuses that are sealed off from outside air,
A cleaning apparatus provided with a cooling tank that is continuously provided above the cleaning / drying tank and that cools the object to be processed and dried in the cleaning / drying tank and condenses and liquefies the solvent vapor. .
少なくとも前記冷却槽内を上下方向に移動可能に設置され、
前記被処理物の洗浄及び乾燥時には、上方が開口した前記洗浄・乾燥槽に圧着して密閉し、前記被処理物の冷却時には、前記冷却槽内で滞留することが可能である昇降フレームを備えたことを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。 A container containing the object to be processed is held downward so as to be detachable,
At least installed in the cooling tank so as to be movable in the vertical direction,
When cleaning and drying the object to be processed, an elevating frame is provided that is pressure-bonded to the cleaning / drying tank opened upward and sealed, and can be retained in the cooling tank when the object to be processed is cooled. The cleaning apparatus according to claim 1, wherein:
前記液戻槽は、槽内に溶剤のオーバーフロー分を回収可能な機構を有することを特徴とする請求項1乃至5いずれか1項に記載の洗浄装置。 A solvent return tank for supplying the solvent to the washing / drying tank;
The said liquid return tank has a mechanism which can collect | recover the overflow of a solvent in a tank, The washing | cleaning apparatus of any one of Claim 1 thru | or 5 characterized by the above-mentioned.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 200910045205 CN101776374B (en) | 2009-01-13 | 2009-01-13 | Closed type drying device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010162537A true JP2010162537A (en) | 2010-07-29 |
Family
ID=42512897
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010004349A Pending JP2010162537A (en) | 2009-01-13 | 2010-01-12 | Cleaning apparatus |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010162537A (en) |
CN (1) | CN101776374B (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017090215A1 (en) * | 2015-11-26 | 2017-06-01 | ジャパン・フィールド株式会社 | Method and apparatus for removing moisture from moisture-deposited component |
CN108273801A (en) * | 2017-12-29 | 2018-07-13 | 中信戴卡股份有限公司 | A kind of immersion vehicle wheel cleaning device |
CN110496818A (en) * | 2019-08-28 | 2019-11-26 | 黄枚香 | A kind of agricultural machining Wheat cleaning apparatus |
CN110793313A (en) * | 2019-12-20 | 2020-02-14 | 福州大学 | Drying rack supporting device for dryer and using method |
CN112268419A (en) * | 2020-10-22 | 2021-01-26 | 黄桂荣 | Non-woven fabric production is with wasing drying equipment |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113865317B (en) * | 2021-09-17 | 2022-09-27 | 温州市万荣电镀有限公司 | Cleaning and drying device for electroplated parts |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5143103A (en) * | 1991-01-04 | 1992-09-01 | International Business Machines Corporation | Apparatus for cleaning and drying workpieces |
JP2000055547A (en) * | 1998-08-17 | 2000-02-25 | Tokyo Gas Co Ltd | Centrifugal separator/dryer |
CN2717548Y (en) * | 2004-06-25 | 2005-08-17 | 上海卫邦环保科技发展有限公司 | Vacuum ultrasonic cleaning and drying apparatus |
CN2760123Y (en) * | 2004-10-22 | 2006-02-22 | 张馨元 | Paralleled water saving cleaner |
CN201074258Y (en) * | 2007-08-29 | 2008-06-18 | 山东爱地高分子材料有限公司 | Super-high molecular weight polyethylene fibre pre-drawing hot water solvent withdrawer |
CN201140186Y (en) * | 2007-12-18 | 2008-10-29 | 唐江明 | Vertical cleaning machine |
-
2009
- 2009-01-13 CN CN 200910045205 patent/CN101776374B/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-01-12 JP JP2010004349A patent/JP2010162537A/en active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017090215A1 (en) * | 2015-11-26 | 2017-06-01 | ジャパン・フィールド株式会社 | Method and apparatus for removing moisture from moisture-deposited component |
CN108273801A (en) * | 2017-12-29 | 2018-07-13 | 中信戴卡股份有限公司 | A kind of immersion vehicle wheel cleaning device |
CN108273801B (en) * | 2017-12-29 | 2023-11-17 | 中信戴卡股份有限公司 | Immersed wheel cleaning device |
CN110496818A (en) * | 2019-08-28 | 2019-11-26 | 黄枚香 | A kind of agricultural machining Wheat cleaning apparatus |
CN110793313A (en) * | 2019-12-20 | 2020-02-14 | 福州大学 | Drying rack supporting device for dryer and using method |
CN110793313B (en) * | 2019-12-20 | 2023-09-22 | 福州大学 | Drying rack supporting device for dryer and using method |
CN112268419A (en) * | 2020-10-22 | 2021-01-26 | 黄桂荣 | Non-woven fabric production is with wasing drying equipment |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101776374A (en) | 2010-07-14 |
CN101776374B (en) | 2013-04-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2010162537A (en) | Cleaning apparatus | |
US9005403B2 (en) | Rotary evaporator | |
KR950702708A (en) | Liquid / supercritical carbon dioxide dry cleaning system | |
US6026588A (en) | Superheated vapor dryer system | |
JP4121822B2 (en) | Dry cleaning device | |
US6260390B1 (en) | Dry cleaning process using rotating basket agitation | |
TW413725B (en) | Superheated vapor dryer system | |
JP2006141546A (en) | Distillation apparatus for dry cleaner | |
JP7170336B2 (en) | cleaning equipment | |
JP3828303B2 (en) | Organic solvent recovery equipment | |
JP4029845B2 (en) | Electric washing machine | |
JP4786601B2 (en) | Electric washing machine | |
JP3448009B2 (en) | Cleaning equipment | |
CN220478166U (en) | Water vapor condensation recovery tank | |
CN2540431Y (en) | Solvent distillation device in dry-cleaning machine using petroleum solvent | |
RU32783U1 (en) | Degreaser | |
JP2004358330A (en) | Washing facility | |
JPH02251285A (en) | Washing apparatus | |
JPS62273089A (en) | Automatic washer | |
KR940004787B1 (en) | Drying method and apparatus therefore | |
JPH0691102A (en) | Evaporation concentrating device in vacuum heat pump system | |
JP2881346B2 (en) | Aqueous solution evaporator | |
JP4782154B2 (en) | Solvent recovery device and cleaning device | |
JP2003028570A (en) | Drying apparatus | |
JPS6318403Y2 (en) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120613 |