JP2010157457A - Insulated wire - Google Patents

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JP2010157457A
JP2010157457A JP2008335814A JP2008335814A JP2010157457A JP 2010157457 A JP2010157457 A JP 2010157457A JP 2008335814 A JP2008335814 A JP 2008335814A JP 2008335814 A JP2008335814 A JP 2008335814A JP 2010157457 A JP2010157457 A JP 2010157457A
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健吾 ▲吉▼田
Kengo Yoshida
Masaaki Yamauchi
雅晃 山内
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Sumitomo Electric Wintec Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To form a coated layer, of which an adhesive property is not deteriorated even by high-temperature treatment, in an insulated wire having a resin layer with epoxy resin cured with a curing agent on the surface of a conductor. <P>SOLUTION: The resin layer curing an epoxy resin by applying and calcining a resin composition including the curing agent of 5-30 pts.wt. such as block isocyanate based on a THEIC denatured phenoxy resin (nonvolatile matter) of 100 pts.wt. wherein bisphenol substituted with a THEIC at 5% or more of the degree of denaturation and bisphenol type epoxy resin are polymerized is formed on the conductor. Then, it is preferable that a different resin layer in which at least one or more resin selected from a group of polyester imide, polyamide-imide, and polyester, and polyimide is principal is formed on an upper layer of the resin layer. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は絶縁電線に関する。   The present invention relates to an insulated wire.

モーターなどのいわゆる巻線などにおいて絶縁被膜が破損されるとレアー不足やアース不良等が発生することに鑑み、機械的強度並びに加工性の向上を図ると共に、芯線などの導体との密着性を向上させることが絶縁電線に求められている。   In light of the fact that insulation coating breaks in so-called windings of motors, etc., inadequate layering and poor grounding, etc., improve mechanical strength and workability, and improve adhesion to conductors such as core wires. It is required for insulated wires to be made.

このような状況下において、例えば特許第3766447号公報(特許文献1)には、芳香族ポリアミド系塗料、ポリイミド系塗料、ポリアミドイミド系塗料、ポリエステルイミド系塗料、ポリエステル系塗料、ポリウレタン系塗料等の被膜形成樹脂に、当該被膜形成樹脂と異なる金属不活性剤としてのアセチレン類やアルキノール類、アミン類と、前記塗料中の樹脂成分と異なる第2のフェノール樹脂、エポキシ樹脂やメラミン樹脂などの硬化性樹脂とを用いた絶縁被膜形成用の塗料が開示されている。   Under such circumstances, for example, Japanese Patent No. 3766447 (Patent Document 1) includes aromatic polyamide-based paints, polyimide-based paints, polyamide-imide-based paints, polyester-imide-based paints, polyester-based paints, polyurethane-based paints, and the like. Curability such as acetylenes, alkynols and amines as metal deactivators different from the film-forming resin, and second phenolic resin, epoxy resin and melamine resin different from the resin component in the paint. A coating material for forming an insulating film using a resin is disclosed.

また、特開平10−334735号公報(特許文献2)には、ポリイミド系樹脂にメラミンが添加されたポリイミド系樹脂を含む絶縁被膜形成用の塗料が開示されている。これらの樹脂塗料を導体の表面に塗布、焼き付けることによって、導体との密着性が高く、かつ、容易に破損されないなど機械的強度が強くしかも加工性にも優れた絶縁電線が得られる。   Japanese Patent Laid-Open No. 10-334735 (Patent Document 2) discloses a coating material for forming an insulating film containing a polyimide resin in which melamine is added to a polyimide resin. By applying and baking these resin paints on the surface of the conductor, an insulated wire having high mechanical strength such as high adhesion to the conductor and not easily damaged, and excellent workability can be obtained.

特許第3766447号公報Japanese Patent No. 3766447 特開平10−334735号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-334735

しかし、これらの絶縁塗料を用いた場合であっても、絶縁電線に大電流が流れた場合には導体が発熱し、その温度上昇によって絶縁被膜の軟化や劣化を引き起こして、レアー不足やアース不良等が発生する虞が考えられる。そこで、密着性や機械的強度が高く、加工性に優れるだけでなく、さらなる耐熱性も望まれた。   However, even when these insulating paints are used, when a large current flows through the insulated wire, the conductor generates heat, and the temperature rise causes softening and deterioration of the insulating coating, resulting in insufficient layer and poor grounding. Etc. may occur. Therefore, not only the adhesiveness and mechanical strength are high and the processability is excellent, but further heat resistance is desired.

また、いわゆる巻線においてはコイルへの巻き付け時の際に生じる摩擦や摩耗を軽減すべく、含浸ワニス処理を施したり、絶縁電線を複数本撚り合わせた後、加熱処理により線間を融着処理したりすることが行われる場合がある。この場合に、上記塗料を用いると、中でもメラミン樹脂を用いた場合には、含浸ワニス処理や融着処理時に高温下にさらされた後に、導体との密着性が低下し、被膜のみが延伸したり、導体の露出を生じる場合があった。   For so-called windings, impregnating varnish treatment is applied to reduce friction and wear that occurs when the coil is wound, or multiple insulated wires are twisted together, and then the wires are fused together by heat treatment May be done. In this case, when the above-mentioned paint is used, especially when a melamine resin is used, after being exposed to a high temperature during the impregnation varnish treatment or the fusion treatment, the adhesion with the conductor is lowered, and only the coating is stretched. In some cases, the conductor was exposed.

そこで、本願発明者らは、上記問題点を解決すべく、エポキシ樹脂に硬化剤を混合して硬化させた樹脂層を導体表面に形成させたプライマー層を形成した絶縁電線を開発し、特許出願を行っている。この樹脂層は、エポキシ樹脂、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂にこれらの硬化剤であるメラミン化合物やイソシアネート化合物を添加した樹脂組成物を導体に塗布、硬化させたものである。この結果、導体との密着性が向上するだけでなく、ワニス含浸処理時の高温処理時においても密着性が低下しない絶縁電線が得られることになった。   In order to solve the above problems, the inventors of the present application have developed an insulated wire formed with a primer layer in which a resin layer formed by mixing a curing agent with an epoxy resin and curing it is formed on a conductor surface. It is carried out. This resin layer is obtained by applying a resin composition obtained by adding a melamine compound or an isocyanate compound as a curing agent to an epoxy resin, for example, a bisphenol A type epoxy resin, and curing the resin composition. As a result, it was possible to obtain an insulated wire that not only improved the adhesion to the conductor but also did not deteriorate the adhesion even during the high temperature treatment during the varnish impregnation treatment.

しかしながら、この絶縁電線は、耐熱性、特に過酷な条件下でテストが行われるJIS2倍荷重耐軟化温度試験において、汎用されているポリエステルイミド樹脂ワニスや高密着タイプのポリエステルイミド樹脂ワニスを用いた場合よりも劣るものであった。   However, this insulated wire uses heat-resistant, especially polyester imide resin varnish or high adhesion type polyester imide resin varnish in JIS double load softening temperature resistance test, which is tested under severe conditions. It was inferior to.

本願発明は、このような状況下に鑑みてなされたものであって、本願発明は、導体表面にエポキシ樹脂を硬化剤により硬化させた樹脂層を有する絶縁電線において、高温処理によっても密着性が低下しない樹脂層を形成させることを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and the present invention is an insulated wire having a resin layer obtained by curing an epoxy resin with a curing agent on a conductor surface, and adhesion is also achieved by high-temperature treatment. It aims at forming the resin layer which does not fall.

そこで、本願発明者は鋭意努力したところ、上記エポキシ樹脂として、THEIC変性フェノキシ樹脂を用いることにより上記目的が達成されることを見いだし、本願発明を完成するに至った。   The inventors of the present application have made diligent efforts and found that the above object can be achieved by using a THEIC-modified phenoxy resin as the epoxy resin, and have completed the present invention.

すなわち、本発明の絶縁電線は、導体と当該導体表面を被覆する、エポキシ樹脂が硬化剤により硬化された樹脂層を有する絶縁電線であって、前記エポキシ樹脂は、THEIC変性フェノキシ樹脂であることを特徴とする。   That is, the insulated wire of the present invention is an insulated wire having a resin layer that covers a conductor and the surface of the conductor and in which an epoxy resin is cured by a curing agent, and the epoxy resin is a THEIC-modified phenoxy resin. Features.

本発明によると、ワニス含浸処理や融着処理などのように高温にさらされることによっても導体との密着性が低下せず、機械的強度や可とう性などの加工性にも優れた絶縁電線が提供される。   According to the present invention, an insulated wire excellent in workability such as mechanical strength and flexibility is not deteriorated even when exposed to a high temperature such as varnish impregnation treatment or fusion treatment. Is provided.

本発明は、導体と当該導体表面を被覆する、THEIC変性エポキシ樹脂が硬化剤により硬化された樹脂層を有する絶縁電線である。本発明の絶縁電線に用いられる導体としては、従来から絶縁電線に用いられている導体と同様な導体が用いられ、銅線やアルミニウム線などが例示される。   The present invention is an insulated wire having a resin layer in which a THEIC-modified epoxy resin is cured with a curing agent, covering the conductor and the surface of the conductor. As a conductor used for the insulated wire of the present invention, a conductor similar to the conductor conventionally used for the insulated wire is used, and examples thereof include a copper wire and an aluminum wire.

本発明において、導体表面を被覆する樹脂層に用いられるエポキシ樹脂はTHEIC変性フェノキシ樹脂であって、THEIC(トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート)によって変性されたフェノキシ樹脂である。本願においてTHEIC変性フェノキシ樹脂とは、重量平均分子量が約30000以下の低分子量ビスフェノール型エポキシ樹脂とビスフェノール類とTHEICを用いて重合されたビスフェノール型エポキシ樹脂であって、この中でも分子量が大きなエポキシ樹脂、具体的には重量平均分子量が20000以上のビスフェノール型エポキシ樹脂を意味する。言い換えると、THEIC変性とは、エポキシ樹脂をビスフェノール類を用いて重合する際、重合に必要なビスフェノール類の一部をTHEICに置き換えて重合したことを意味する。   In the present invention, the epoxy resin used for the resin layer covering the conductor surface is a THEIC-modified phenoxy resin, which is a phenoxy resin modified with THEIC (tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate). In this application, the THEIC-modified phenoxy resin is a low molecular weight bisphenol type epoxy resin having a weight average molecular weight of about 30000 or less, a bisphenol type epoxy resin polymerized by using bisphenols and THEIC, and among them, an epoxy resin having a large molecular weight, Specifically, it means a bisphenol type epoxy resin having a weight average molecular weight of 20000 or more. In other words, the THEIC modification means that when an epoxy resin is polymerized using bisphenols, a part of the bisphenols necessary for the polymerization is replaced with THEIC.

本発明において、ビスフェノール型エポキシ樹脂とはビスフェノール類とエピクロルヒドリンとから得られるビスフェノール型エポキシ樹脂を意味する。このビスフェノールとしては、例えば、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、3,4,5,6−ジベンゾ−1,2−オキサホスファン−2−オキサイドヒドロキノンなどが例示される。   In the present invention, the bisphenol type epoxy resin means a bisphenol type epoxy resin obtained from bisphenols and epichlorohydrin. Examples of the bisphenol include 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) sulfide, 2,2- Examples thereof include bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, 3,4,5,6-dibenzo-1,2-oxaphosphane-2-oxide hydroquinone and the like.

好ましいビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールAとエピハロヒドリンとから得られるビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールFとエピハロヒドリンとから得られるビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールSとエピハロヒドリンとから得られるビスフェノールS型エポキシ樹脂が例示される。また、これらの各種エポキシ樹脂は、単独で用いるだけでなく、2種以上のエポキシ樹脂を混合して用いることも可能である。   Preferred examples of the bisphenol type epoxy resin include a bisphenol A type epoxy resin obtained from bisphenol A and epihalohydrin, a bisphenol F type epoxy resin obtained from bisphenol F and epihalohydrin, and a bisphenol S type epoxy obtained from bisphenol S and epihalohydrin. Resins are exemplified. Moreover, these various epoxy resins can be used not only independently but also by mixing two or more kinds of epoxy resins.

このビスフェノール型エポキシ樹脂と重合されるビスフェノールも特に限定されることなく、上記ビスフェノール型エポキシ樹脂の製造に用いられる各種のビスフェノール類が用いられる。ビスフェノールA型のビスフェノールに限られず、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型のビスフェノール類を用いることも可能である。また、エポキシ樹脂を構成するビスフェノール類と、エポキシ樹脂と重合するビスフェノール類は同一又は同型のビスフェノールを用いるのが好ましいが、異なる型に属するビスフェノールを用いることも可能である。   The bisphenol polymerized with the bisphenol-type epoxy resin is not particularly limited, and various bisphenols used for the production of the bisphenol-type epoxy resin are used. It is not limited to bisphenol A type bisphenol, and bisphenol F type and bisphenol S type bisphenols can also be used. The bisphenol constituting the epoxy resin and the bisphenol polymerized with the epoxy resin preferably use the same or the same type of bisphenol, but bisphenols belonging to different types can also be used.

本発明のTHEIC変性フェノキシ樹脂は、ビスフェノール型エポキシ樹脂とビスフェノール類及びTHEICの重合により製造される。つまり、これらの成分を下記に述べるような各種の有機溶媒に溶解させ、重合用触媒(重合促進剤、重合開始剤など)を用いて重合させる。重合の方法として特別な方法を用いる必要はなく、溶解液を攪拌しながら適宜加熱すればよい。用いられる重合用触媒として、例えば、トリエチルアミンなどのモノアミンやテトラメチルエチレンジアミンなどのジアミン、トリエチレンジアミンなど環状アミンに代表される各種第三級アミンやスタナスオクトエートなどの有機金属触媒などが例示される。また、原則としてビスフェノール型エポキシ樹脂1当量に対して、ビスフェノール類とTHEICの両者の合計として1当量が重合される。   The THEIC-modified phenoxy resin of the present invention is produced by polymerization of a bisphenol type epoxy resin, bisphenols and THEIC. That is, these components are dissolved in various organic solvents as described below, and polymerized using a polymerization catalyst (polymerization accelerator, polymerization initiator, etc.). It is not necessary to use a special method as a polymerization method, and the solution may be heated appropriately while stirring. Examples of the polymerization catalyst used include monoamines such as triethylamine, diamines such as tetramethylethylenediamine, various tertiary amines typified by cyclic amines such as triethylenediamine, and organometallic catalysts such as stannous octoate. . In principle, 1 equivalent is polymerized as the total of both bisphenols and THEIC for 1 equivalent of bisphenol-type epoxy resin.

本発明はTHEICによって変性されたフェノキシ樹脂を用いることにより、変性していないフェノキシ樹脂を用いた場合に比べて、耐熱性に良好な樹脂層が形成されることが見いだされたことにより完成されたものである。フェノキシ樹脂の変性度、すなわちTHEICの使用量に対応して耐熱性の指標の一つであるJIS2倍耐軟化温度が変化し、THEICの変性度が高くなれば耐軟化温度が上昇する。本発明においては、例えばTHEICの変性度を10%以上とすることにより、JIS2倍耐軟化温度を370℃以上にすることができる。従って、本発明においては、THEIC変性度の下限値は5%、好ましくは10%である。また、その上限値は30%、好ましくは20%である。30%を超える場合には、樹脂層の強度が低下する虞があり、配合量に応じた耐軟化温度の上昇が見込めないからでもある。なお、フェノキシ樹脂のTHEIC変性度とは、ビスフェノール類と置き換えられるTHEIC量を意味し、重合に用いられるTHEIC(A当量)とビスフェノール類(B当量)の合計量に対して用いられるTHEIC量(A当量)の割合(=A/(A+B)×100%)で示される。   The present invention has been completed by finding that by using a phenoxy resin modified by THEIC, a resin layer having better heat resistance can be formed compared to the case of using an unmodified phenoxy resin. Is. Corresponding to the degree of modification of the phenoxy resin, that is, the amount of THEIC used, the JIS double-fold softening temperature, which is one of the heat resistance indexes, changes. If the degree of modification of THEIC increases, the softening temperature increases. In the present invention, for example, by setting the degree of modification of THEIC to 10% or more, the JIS 2 times softening resistance can be made 370 ° C. or more. Therefore, in the present invention, the lower limit of the degree of THEIC modification is 5%, preferably 10%. The upper limit is 30%, preferably 20%. If it exceeds 30%, the strength of the resin layer may be lowered, and an increase in the softening temperature according to the blending amount cannot be expected. The THEIC modification degree of the phenoxy resin means the THEIC amount to be replaced with bisphenols, and the THEIC amount (A equivalent) used for the total amount of THEIC (A equivalent) and bisphenols (B equivalent) used for polymerization. Equivalent)) (= A / (A + B) × 100%).

本発明においては、エポキシ樹脂だけを導体表面に塗布、焼き付けしたり、或いはポリエステルイミドやポリアミドイミド、ポリエステルやポリイミド樹脂などにエポキシ樹脂を混合するだけでは不十分であって、硬化剤を用いて硬化させることが必要である。この点において、特許文献1に記載されているように単にエポキシ樹脂などの硬化性樹脂を配合した樹脂層とは全く異なるものである。本発明における硬化剤はエポキシ樹脂と反応して3次元的な網状構造を形成させる機能を果たし、この機能を果たすことができるものであれば硬化剤も特に限定されるものでもない。エポキシ樹脂の硬化剤として汎用されている各種の硬化剤が用いられ、例えば、尿素やメラミン化合物、イソシアネート系化合物、アミノポリアミド樹脂、メチルテトラヒドロ無水フタル酸などの脂環式酸無水物の他、脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物などが例示される。これらの硬化剤は、目的とする絶縁電線の特性に合わせて適宜選択されるが、本発明の目的を考慮する上では、これらの中でも、イソシアネート系化合物やメラミン化合物の硬化剤が好適に用いられる。   In the present invention, it is not sufficient to apply and bake only the epoxy resin on the conductor surface, or to mix the epoxy resin with polyester imide, polyamide imide, polyester or polyimide resin, and the like. It is necessary to make it. In this respect, as described in Patent Document 1, it is completely different from a resin layer in which a curable resin such as an epoxy resin is simply blended. The curing agent in the present invention functions to form a three-dimensional network by reacting with an epoxy resin, and the curing agent is not particularly limited as long as it can perform this function. Various curing agents widely used as curing agents for epoxy resins are used. For example, urea, melamine compounds, isocyanate compounds, aminopolyamide resins, alicyclic acid anhydrides such as methyltetrahydrophthalic anhydride, fats Examples thereof include aromatic acid anhydrides and aromatic acid anhydrides. These curing agents are appropriately selected according to the characteristics of the target insulated wire, but in consideration of the object of the present invention, among these, curing agents of isocyanate compounds and melamine compounds are preferably used. .

メラミン化合物としては、例えばメチル化メラミン、ブチル化メラミン、メチロール化メラミン、ブチロール化メラミンなどが例示される。   Examples of the melamine compound include methylated melamine, butylated melamine, methylolated melamine, and butyrololized melamine.

イソシアネート系化合物としては、トリレンジイソシアネート(TDI)、ジフェニルメタンイソシアネート(MDI)、p−フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートなどの芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、2,2,4−トリメチルヘキサンジイソシアネート、リジンジイソシアネートなどの炭素数3〜12の脂肪族ジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート(CDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(水添MDI)、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、イソプロピリデンジシクロヘキシル−4,4’−ジイソシアネート、1,3−ジイソシアナトメチルシクロヘキサン(水添XDI)、水添TDI、2,5−ビス(イソシアナートメチル)−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン、2,6−ビス(イソシアナートメチル)−ビシクロ[2,2,1]ヘプタンなどの炭素数5〜18の脂環式イソシアネート、キシリレインジイソシアネート(XDI)、テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)などの芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、これらの変性物などが例示される。上記の硬化剤は、それぞれ単独で用いても、また2以上の化合物を混合して用いることもできる。   As isocyanate compounds, aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate (TDI), diphenylmethane isocyanate (MDI), p-phenylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), 2,2,4-trimethylhexane diisocyanate, lysine C3-C12 aliphatic diisocyanate such as diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate (CDI), isophorone diisocyanate (IPDI), 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI), methylcyclohexane diisocyanate, isopropylidene dicyclohexyl -4,4'-diisocyanate, 1,3-diisocyanatomethylcyclohexane (hydrogenated XDI) 5 carbon atoms such as hydrogenated TDI, 2,5-bis (isocyanatomethyl) -bicyclo [2,2,1] heptane, 2,6-bis (isocyanatomethyl) -bicyclo [2,2,1] heptane Examples include aliphatic diisocyanates having an aromatic ring such as -18 cycloaliphatic isocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI), and modified products thereof. The above curing agents can be used alone or in admixture of two or more compounds.

また、本発明においては、導体への塗布を考慮し、後述するように有機溶媒にエポキシ樹脂などを混合した樹脂組成物として使用されることが一般的である。この際の安定性を考慮して、ブロックイソシアネートタイプの硬化剤が好適に用いられる。   In the present invention, considering application to a conductor, it is generally used as a resin composition in which an epoxy resin or the like is mixed in an organic solvent as described later. In view of the stability at this time, a blocked isocyanate type curing agent is preferably used.

ブロックイソシアネートは、前記イソシアネート化合物がブロック剤で保護されたものである。ブロック剤は、イソシアネート基に付加し、常温では安定であるが、その解離温度以上に加熱すると遊離のイソシアネート基を再生しうる化合物である。ブロック剤としては、例えば、アルコール類、フェノール類、ε−カプロラクタム、ブチルセロソルブなどが例示されるが、これらに限定されるものではない。アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなど炭素数1〜4程度の脂肪族アルコールやベンジルアルコールなどの芳香族アルコール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコールが例示される。また、フェノール類としては、フェノール、クレゾール、キシレノールなどが例示されるが、取り扱い性などの観点からアルコール類をブロック剤として用いるのが好ましい。また、ブロックイソシアネートは、解離温度が好ましくは80〜160℃、より好ましくは90〜130℃のものが好適である。   The blocked isocyanate is obtained by protecting the isocyanate compound with a blocking agent. A blocking agent is a compound that is added to an isocyanate group and is stable at room temperature, but can regenerate a free isocyanate group when heated above its dissociation temperature. Examples of the blocking agent include alcohols, phenols, ε-caprolactam, butyl cellosolve and the like, but are not limited thereto. Examples of alcohols include aliphatic alcohols having about 1 to 4 carbon atoms such as methanol, ethanol, propanol and butanol, aromatic alcohols such as benzyl alcohol, and alicyclic alcohols such as cyclohexanol. Examples of phenols include phenol, cresol, xylenol, and the like, but alcohols are preferably used as a blocking agent from the viewpoint of handleability. The blocked isocyanate preferably has a dissociation temperature of preferably 80 to 160 ° C, more preferably 90 to 130 ° C.

本発明においては、このような硬化剤とエポキシ樹脂を硬化させる必要があるが、得られた樹脂層の特性を考慮して、エポキシ樹脂と硬化剤の量比が適宜決定される。つまり、硬化剤の量が少なければ機械的強度や耐熱性が不足するなどの事態が考えられ、多ければ加工性が低下するなど好ましない樹脂層となる虞がある。このため、本発明においては、THEIC変性エポキシ樹脂(不揮発分として)100質量部に対して少なくとも硬化剤が5質量部以上、より好ましくは10質量部以上、さらに望ましくは20質量部以上でありる。また、その上限は多くても200質量部以下、好ましくは150質量部以下、さらに望ましくは100質量部以下であり、さらに50質量部以下でも良い。   In the present invention, it is necessary to cure such a curing agent and an epoxy resin, but the amount ratio of the epoxy resin and the curing agent is appropriately determined in consideration of the characteristics of the obtained resin layer. That is, if the amount of the curing agent is small, the mechanical strength and heat resistance may be insufficient, and if the amount is large, there is a possibility that the resin layer becomes unfavorable because processability decreases. Therefore, in the present invention, the curing agent is at least 5 parts by mass, more preferably at least 10 parts by mass, and even more preferably at least 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the THEIC-modified epoxy resin (as a non-volatile component). . Further, the upper limit is at most 200 parts by mass, preferably 150 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass or less, and further 50 parts by mass or less.

本発明においては、上記成分は有機溶媒に均一に分散させた樹脂組成物として提供され、当該樹脂組成物を導体表面に塗布、硬化させることにより樹脂層が形成される。このときに用いられる有機溶媒も特に限定されるものではない。有機溶媒として、例えば、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ヘキサエチルリン酸トリアミド、γ−ブチロラクトンなどの極性有機溶媒をはじめ、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シュウ酸ジエチルなどのエステル類、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類、ジクロロメタン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、クレゾール、クロルフェノールなどのフェノール類、ピリジンなどの第三級アミン類などが例示され、これらの有機溶媒はそれぞれ単独であるいは2種以上を混合して用いられる。   In this invention, the said component is provided as a resin composition uniformly disperse | distributed to the organic solvent, and a resin layer is formed by apply | coating and hardening the said resin composition on the conductor surface. The organic solvent used at this time is not particularly limited. Examples of the organic solvent include polar organic solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, tetramethylurea, hexaethylphosphoric triamide, and γ-butyrolactone. First, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, diethyl oxalate, diethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve) ), Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether and tetrahydrofuran, charcoal such as hexane, heptane, benzene, toluene and xylene Examples include hydrogen, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chlorobenzene, phenols such as cresol and chlorophenol, and tertiary amines such as pyridine. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. Used.

有機溶媒の量は特に限定されるものではなく、エポキシ樹脂と硬化剤を均一に分散させることができる量であればよい。通常、エポキシ樹脂100質量部に対し、好ましくは5質量部以上、より好ましくは10質量部以上、さらに好ましくは30質量部以上であるが、多すぎると適切な塗膜を形成することができず、この観点からは多くても200質量部以下、好ましくは150質量部以下、さらに好ましくは100質量部以下である。   The amount of the organic solvent is not particularly limited as long as the epoxy resin and the curing agent can be uniformly dispersed. Usually, it is preferably 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more, and even more preferably 30 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin, but if it is too much, an appropriate coating film cannot be formed. From this viewpoint, it is at most 200 parts by mass, preferably 150 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass or less.

この樹脂組成物には、本発明の目的が阻害されない範囲内で、必要に応じて、シリカ、酸化マグネシウム、炭化ケイ素、炭化チタンなどのフィラー、絶縁塗料の流動性を改善するために、例えばテトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、テトラヘキシルチタネートなどのチタン系化合物、ナフテン酸亜鉛、オクテン酸亜鉛などの亜鉛化合物、硬化促進剤、酸化防止剤、レベリング剤などの添加剤を配合しても差し支えない。   In order to improve the fluidity of fillers and insulating paints such as silica, magnesium oxide, silicon carbide, titanium carbide and the like within the range that does not impair the object of the present invention, this resin composition is, for example, tetra Additives such as titanium compounds such as isopropyl titanate, tetrabutyl titanate, and tetrahexyl titanate, zinc compounds such as zinc naphthenate and zinc octenoate, curing accelerators, antioxidants, and leveling agents may be added.

この樹脂組成物は導体表面に塗布、硬化されて樹脂層に形成される。塗布の方法も特に制約されるものではなく、例えば浸漬法などの常法が用いられる。塗布後は、常温〜300℃の温度で塗膜を自然乾燥又は加熱乾燥させることにより、樹脂層を形成する。   This resin composition is applied to the conductor surface and cured to form a resin layer. The coating method is not particularly limited, and for example, a conventional method such as a dipping method is used. After the application, the resin layer is formed by naturally drying or heat drying the coating film at a temperature of room temperature to 300 ° C.

なお、エポキシ樹脂と硬化剤とを十分に反応させる観点からは、自然乾燥ではなく、樹脂組成物を導体上に塗布した後、焼き付けることが好ましい。焼き付けは、常法によって行うことができる。焼き付け温度は、エポキシ樹脂と硬化剤との反応や、高温処理による樹脂層の劣化を防止する観点から、150〜400℃、好ましくは200〜400℃である。また、硬化剤としてブロックイソシアネートを用いる場合には、ブロック剤を解離させて硬化剤として機能させるために、その解離温度以上の温度に加熱するのが好ましい。また、焼き付けは1回だけでもよく、2回以上行っても良い。   In addition, from the viewpoint of sufficiently reacting the epoxy resin and the curing agent, it is preferable not to dry naturally but to bake after applying the resin composition on the conductor. Baking can be performed by a conventional method. The baking temperature is 150 to 400 ° C., preferably 200 to 400 ° C. from the viewpoint of preventing the reaction between the epoxy resin and the curing agent and the deterioration of the resin layer due to the high temperature treatment. Moreover, when using blocked isocyanate as a hardening | curing agent, in order to make a blocking agent dissociate and to function as a hardening | curing agent, it is preferable to heat to the temperature more than the dissociation temperature. Moreover, baking may be performed only once or may be performed twice or more.

こうして得られた樹脂層はそのまま外皮として用いることもできるが、巻線としての利用の観点や耐熱性、耐摩耗性、機械的強度、耐油性、耐薬品性、絶縁性の観点などからプライマー層として用いられ、この樹脂層上に1乃至複数の別な樹脂層が形成される。このような観点から、エポキシ樹脂を硬化させた樹脂層の膜厚は、従来のエステルイミド樹脂などをプライマー層とした場合と同様な厚みに設定される。具体的には、樹脂層(焼き付け後の厚み)の厚みが0.5〜5μm、好ましくは1〜5μmとなるように前記樹脂組成物が塗布される。   The resin layer obtained in this way can be used as a skin as it is, but it is a primer layer from the viewpoint of use as a winding, heat resistance, wear resistance, mechanical strength, oil resistance, chemical resistance, insulation, etc. And one or more other resin layers are formed on the resin layer. From such a viewpoint, the film thickness of the resin layer obtained by curing the epoxy resin is set to the same thickness as when a conventional esterimide resin or the like is used as the primer layer. Specifically, the resin composition is applied so that the thickness of the resin layer (thickness after baking) is 0.5 to 5 μm, preferably 1 to 5 μm.

この樹脂層(プライマー層)の上に積層される樹脂層としては、ポリエステルイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルやポリイミドなど、従来から絶縁電線などの被覆に用いられる公知である種々の樹脂を含む絶縁塗料が用いられる。これらの樹脂は単独で用いることもできるし、2以上の樹脂を混合して用いてもよい。また、積層される樹脂層はこれらの樹脂を主体として用いていればよく、これらの樹脂以外に、耐熱性の向上や耐摩耗性や滑り性を改良する目的などでその他の樹脂や添加剤を配合した樹脂層を排除する意味ではない。また、これらの樹脂層の上層に、潤滑性を付与すべく、公知である種々の潤滑層を設けることも可能である。なお、本発明においてはこれらの樹脂層はエポキシ樹脂を硬化した樹脂層の上層に設けられるが、その形成方法は従来の方法と何ら変わるところがない。積層される樹脂層は1層に限られず、複数の層を積層してもよいのは言うまでもない。   As the resin layer laminated on the resin layer (primer layer), there are insulating paints including various known resins conventionally used for coating insulated wires, such as polyesterimide, polyamideimide, polyester and polyimide. Used. These resins can be used alone or in combination of two or more resins. In addition, the resin layer to be laminated only needs to use these resins as a main component. In addition to these resins, other resins and additives are added for the purpose of improving heat resistance, improving wear resistance and slipperiness. It does not mean to exclude the blended resin layer. Moreover, it is also possible to provide various known lubricating layers on top of these resin layers in order to impart lubricity. In the present invention, these resin layers are provided on the upper layer of a resin layer obtained by curing an epoxy resin, but the formation method is not different from the conventional method. Needless to say, the laminated resin layer is not limited to one layer, and a plurality of layers may be laminated.

また、上層に設けられる樹脂層の膜厚も適宜定めることができるが、絶縁電線の樹脂層全体(プライマー層を含めて)として、通例20〜200μm程度、好ましくは20μm〜100μm程度の膜厚に形成される。   Moreover, although the film thickness of the resin layer provided in an upper layer can also be determined suitably, it is about 20-200 micrometers normally as a whole resin layer (including a primer layer) of an insulated wire, Preferably it is about 20 micrometers-100 micrometers in film thickness. It is formed.

このように、本発明の絶縁電線は、THEIC変性フェノキシ樹脂を硬化剤にて硬化した樹脂層を有するために、被膜と導体の密着性がよく、ワニス含浸処理や融着処理などの高温処理時においても導体からの遊離等がなく、汎用されている高密着エステルイミド樹脂を被覆したときと同程度の耐軟化性を有する絶縁電線が提供される。   As described above, the insulated wire of the present invention has a resin layer obtained by curing a THEIC-modified phenoxy resin with a curing agent, so that the adhesion between the coating and the conductor is good, and during high-temperature treatment such as varnish impregnation treatment or fusion treatment In this case, there is provided an insulated wire that is free from the conductor and has the same degree of softening resistance as when coated with a widely used highly adhesive esterimide resin.

次に実施例に基づき、本発明についてさらに詳細に説明する。
まず、プライマー層を形成するTHEIC変性フェノキシ樹脂を製造した。
Next, based on an Example, this invention is demonstrated still in detail.
First, a THEIC-modified phenoxy resin for forming a primer layer was produced.

(製造例1)
THEIC7.86質量部(0.1当量)、ビスフェノールA(2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)プロパン)92.59質量部(0.9当量)、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(YD−128:東都化成(株)社製)169.56質量(1.0当量)及び触媒としてのトリエチルアミン1.37質量部(0.015当量)を、シクロヘキサノン270質量部に混合し、攪拌しながら80℃に昇温した。その後、4時間かけて140℃にまで昇温し、その後150℃にまで昇温した後、150℃で10時間保持した。そこに、シクロヘキサノン460質量部を加えて希釈し、変性度10%のTHEIC変性フェノキシ樹脂ワニス(不揮発分27%)を得た。
(Production Example 1)
THEIC 7.86 parts by mass (0.1 equivalent), bisphenol A (2,2-bis (4′-hydroxyphenyl) propane) 92.59 parts by mass (0.9 equivalent), bisphenol A type epoxy resin (YD-128) : Toto Kasei Co., Ltd.) 169.56 parts by mass (1.0 equivalent) and 1.37 parts by mass (0.015 equivalents) of triethylamine as a catalyst were mixed with 270 parts by mass of cyclohexanone and stirred at 80 ° C. The temperature was raised to. Thereafter, the temperature was raised to 140 ° C. over 4 hours, and then the temperature was raised to 150 ° C., and then held at 150 ° C. for 10 hours. Thereto, 460 parts by mass of cyclohexanone was added and diluted to obtain a THEIC modified phenoxy resin varnish (nonvolatile content 27%) having a modification degree of 10%.

(製造例2)
THEICを11.84質量部(0.15当量)、ビスフェノールAを87.84質量部(0.85当量)、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(YD−128:東都化成(株)社製)170.33質量(1.0当量)及び触媒としてのトリエチルアミン1.38質量部(0.015当量)を用いた以外は、製造例1と同様にして、変性度15%のTHEIC変性フェノキシ樹脂ワニス(不揮発分27%)を得た。
(Production Example 2)
THEIC 11.84 parts by mass (0.15 equivalent), bisphenol A 87.84 parts by mass (0.85 equivalent), bisphenol A type epoxy resin (YD-128: manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) 170.33 A THEIC-modified phenoxy resin varnish (nonvolatile content) having a modification degree of 15% was prepared in the same manner as in Production Example 1, except that the mass (1.0 equivalent) and 1.38 parts by mass (0.015 equivalent) of triethylamine as a catalyst were used. 27%).

(製造例3)
THEICを15.86質量部(0.2当量)、ビスフェノールAを83.04質量部(0.8当量)、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成(株)社製、商品名YD−128)171.10質量(1.0当量)及び触媒としてトリエチルアミン1.38質量部(0.015当量)を用いた以外は、製造例1と同様にして、変性度20%のTHEIC変性フェノキシ樹脂ワニス(不揮発分27%)を得た。
(Production Example 3)
THEIC 15.86 parts by mass (0.2 equivalents), bisphenol A 83.04 parts by mass (0.8 equivalents), bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., trade name YD-128) 171 A THEIC-modified phenoxy resin varnish (nonvolatile) having a modification degree of 20% was prepared in the same manner as in Production Example 1, except that .10 mass (1.0 equivalent) and 1.38 parts by mass (0.015 equivalent) of triethylamine were used as the catalyst. 27%).

上記で得た製造例1〜製造例3の各THEIC変性フェノキシ樹脂ワニス1000質量部(不揮発分270質量部)に対して、それぞれクレゾールで27%に溶解した硬化剤であるブロック型イソシアネート(日本ポリウレタン工業(株)社製、商品名MS−50)を200質量部(不揮発分54質量部)を加え、樹脂組成物を得た。   Block type isocyanate (Nippon Polyurethane) which is a curing agent dissolved in cresol at 27% with respect to 1000 parts by mass (270 parts by mass of nonvolatile content) of each THEIC modified phenoxy resin varnish of Production Example 1 to Production Example 3 obtained above. 200 mass parts (54 mass parts of non-volatile matters) of the product made by Kogyo Co., Ltd., brand name MS-50) was added, and the resin composition was obtained.

この樹脂組成物を焼き付け後の膜厚が3μmとなるように直径1.0mmの銅線表面に塗布し、炉内温度300〜400℃に設定した焼付炉内で数秒間焼き付けて硬化したエポキシ樹脂の樹脂層を形成した。   An epoxy resin obtained by applying this resin composition to a copper wire surface having a diameter of 1.0 mm so that the film thickness after baking is 3 μm, and baking and curing for several seconds in a baking furnace set at a furnace temperature of 300 to 400 ° C. The resin layer was formed.

次に、汎用ポリエステルイミド樹脂(汎用EsI:日立化成工業(株)社製、商品名Isomid40SM−45)の樹脂溶液を、焼き付け後の膜厚が25μmとなるように塗布し、炉内温度300〜400℃に設定した焼付炉内で数秒間焼き付け、第2層目の樹脂層を形成した。   Next, a resin solution of general-purpose polyesterimide resin (general-purpose EsI: manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name Isomid 40SM-45) is applied so that the film thickness after baking is 25 μm, and the furnace temperature is 300 to 300 ° C. The second resin layer was formed by baking for several seconds in a baking oven set at 400 ° C.

さらに、汎用PAIを焼き付け後の膜厚が5μmとなるように塗布し、上記汎用EsIの焼き付けと同様の条件で、第3層目の樹脂層を形成した。なお、汎用PAIは下記方法により得られたものを使用した。   Furthermore, a general-purpose PAI was applied so that the film thickness after baking was 5 μm, and a third resin layer was formed under the same conditions as in the general-purpose EsI baking. In addition, the general purpose PAI used what was obtained by the following method.

(汎用PAIの製造)
窒素ガス環境下において、無水トリメリット酸176.9g、トリメリット酸1.95g及びメチレンジイソシアネート233.2gをフラスコ内に投入し、溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン536gを添加し、撹拌しながら80℃で3時間加熱した後、約4時間かけてフラスコ内の温度を120℃まで昇温し、同温度で3時間加熱した。その後、加熱をやめ、フラスコ内にキシレン134gを添加した後放冷し、不揮発分35質量%であるポリアミドイミド樹脂ワニス(汎用PAI)を得た。
(Manufacture of general-purpose PAI)
Under a nitrogen gas environment, 176.9 g of trimellitic anhydride, 1.95 g of trimellitic acid and 233.2 g of methylene diisocyanate were charged into the flask, and 536 g of N-methyl-2-pyrrolidone was added as a solvent while stirring. After heating at 80 ° C. for 3 hours, the temperature in the flask was raised to 120 ° C. over about 4 hours and heated at the same temperature for 3 hours. Thereafter, the heating was stopped, 134 g of xylene was added to the flask, and then allowed to cool to obtain a polyamideimide resin varnish (general-purpose PAI) having a nonvolatile content of 35% by mass.

そして最後に潤滑性を高める自己潤滑PAIを焼き付け後の膜厚が2μmとなるように塗布し、上記汎用EsIと同様の条件で、表面層となる第4層目の樹脂層を形成した。なお、自己潤滑PAIは下記方法により得られたものを使用した。   Finally, a self-lubricating PAI for improving lubricity was applied so that the film thickness after baking was 2 μm, and a fourth resin layer serving as a surface layer was formed under the same conditions as in the general-purpose EsI. The self-lubricating PAI was obtained by the following method.

(自己潤滑PAIの製造)
上記で得られた汎用PAIの不揮発分100質量部に対し、ポリエチレンワックス1.5質量部の割合で混合し、ポリアミドイミド樹脂ワニス(自己潤滑PAI)を得た。
(Manufacture of self-lubricating PAI)
Polyamide wax 1.5 (self-lubricating PAI) was obtained by mixing 1.5 parts by mass of polyethylene wax with respect to 100 parts by mass of the non-volatile content of the general-purpose PAI obtained above.

また、比較例として、上記エポキシ樹脂の樹脂層の代替として、上記汎用ポリエステルイミドワニス(汎用EsI:日立化成工業(株)社製、商品名Isomid40SM−45)と、高密着タイプのポリエステルイミドワニス(高密着EsI:大日精化工業(株)社製、商品名EH402−45No.3)を用いて第1の樹脂層(プライマー層に相当)を形成した絶縁電線(比較例1及び比較例2)を作製した。そして、各実施例及び各比較例の絶縁電線について、可とう性、ヒートショック、一方向摩耗、膜浮き、耐軟化温度について試験を行った。その結果を表1にまとめた。なお、各試験において各実施例、各比較例共に6本の絶縁電線を用意し、数値で評価できる項目については得られた測定値の平均値を示した。   In addition, as a comparative example, as an alternative to the resin layer of the epoxy resin, the above-mentioned general-purpose polyesterimide varnish (general-purpose EsI: manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name Isomid 40SM-45) and a highly adhesive polyesterimide varnish ( Highly-adhesive EsI: Insulated wire (Comparative Example 1 and Comparative Example 2) in which a first resin layer (corresponding to a primer layer) is formed using Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., trade name EH402-45No.3) Was made. And about the insulated wire of each Example and each comparative example, it tested about the flexibility, the heat shock, the unidirectional wear, the film floating, and the softening resistance. The results are summarized in Table 1. In each test, six insulated wires were prepared in each example and each comparative example, and the average value of the obtained measured values was shown for items that can be evaluated numerically.

〔可とう性〕
JIS C3003 7.可とう性 A法に準じて試験を行った。その結果、比較例1では2倍の倍率(2d)において、本実施例をはじめ比較例2を含めて肉眼での観察(1d)において亀裂等は観察されなかった。
[Flexibility]
JIS C3003 7. Flexibility A test was conducted in accordance with Method A. As a result, in Comparative Example 1, no cracks or the like were observed in the visual observation (1d) including the present Example and Comparative Example 2 at a magnification (2d) of 2 times.

〔ヒートショック〕
JIS C3003 12.耐熱衝撃 A法に準じて試験を行った。その結果、比較例1では2倍の倍率(2d)において、本実施例をはじめ比較例2を含めて肉眼での観察(1d)において亀裂等は観察されなかった。
〔heat shock〕
JIS C3003 12. Thermal shock A test was conducted in accordance with Method A. As a result, in Comparative Example 1, no cracks or the like were observed in the visual observation (1d) including the present Example and Comparative Example 2 at a magnification (2d) of 2 times.

〔一方向摩耗〕
JIS C3003 9.耐摩耗に準じて試験を行った。
[One-way wear]
JIS C3003 9. The test was conducted according to wear resistance.

〔膜浮き試験〕
JIS C3003 8.密着性の8.1 a)急激伸長の項に準じて測定した。膜浮き試験については、加熱前(初期)と、160℃の恒温槽内で6時間加熱した場合(160℃×6h)と、180℃の恒温槽内で6時間加熱した場合(180℃×6h)について試験を行った。
(Film float test)
JIS C3003 8. Adhesiveness 8.1 a) Measured according to the term of rapid elongation. Regarding the film floating test, before heating (initial stage), when heated in a 160 ° C. constant temperature bath for 6 hours (160 ° C. × 6 h), and when heated in a 180 ° C. constant temperature bath for 6 hours (180 ° C. × 6 h) ) Was tested.

〔耐軟化温度試験〕
JIS C3003 11.1 A法に準じて、耐軟化温度を測定した。なお、試験はJISに規定された荷重及びJISに規定された荷重の2倍(JIS2倍)を加えた場合の双方について行った。
[Softening temperature test]
According to JIS C3003 11.1 A method, the softening resistance temperature was measured. In addition, the test was done about both the case where the load prescribed | regulated to JIS and 2 times the load prescribed | regulated to JIS (JIS 2 times) were added.

Figure 2010157457
Figure 2010157457

以上の結果から、THEIC変性フェノキシ樹脂を用いることによって、非変性フェノキシ樹脂を用いた場合に比べて、耐熱性の指標である耐軟化特性を向上させることができた。具体的には、THEIC変性フェノキシ樹脂を用いることによって、JIS2倍耐軟化温度が非変性フェノキシ樹脂を用いた場合のJIS2倍耐軟化温度よりも高い350℃以上である絶縁電線を得ることができた。そして、高密着ポリエステルイミドを第1層目(プライマー層)の樹脂層とした場合と比べ、本発明の絶縁電線では、これとほぼ遜色のない機械的強度(一方向摩擦)や耐軟化特性が得られた。また、密着性の指標を示す膜浮き試験では、汎用エステルイミドよりもやや劣化する傾向にあるものの、高密着ポリエステルイミドよりも良好な結果が得られ、密着性にも優れたものであった。   From the above results, it was possible to improve the softening resistance, which is an index of heat resistance, by using the THEIC-modified phenoxy resin as compared with the case of using the non-modified phenoxy resin. Specifically, by using a THEIC-modified phenoxy resin, an insulated wire having a JIS double softening temperature higher than the JIS double softening temperature when using a non-modified phenoxy resin was 350 ° C. or higher could be obtained. . And compared with the case where a highly adhesive polyesterimide is used as the resin layer of the first layer (primer layer), the insulated wire of the present invention has mechanical strength (unidirectional friction) and softening resistance that are almost the same as this. Obtained. Moreover, in the film | membrane floating test which shows the parameter | index of adhesiveness, although it exists in the tendency to deteriorate a little rather than general purpose ester imide, a better result was obtained than highly adhesive polyesterimide, and it was also excellent in adhesiveness.

このように、本発明の絶縁電線は、機械的強度が高く、ワニス含浸処理などのように高温に加熱した場合にでも密着性や軟化性が良好に維持されるので、モーターの小型化や高出力モーターに対応可能な絶縁電線が提供される。   As described above, the insulated wire of the present invention has high mechanical strength and maintains good adhesion and softness even when heated to a high temperature such as varnish impregnation treatment. An insulated wire that can accommodate an output motor is provided.

なお、上記に示された実施形態や実施例は例示であって、本発明は上記の実施形態や実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲の範囲及びこれと均等に含まれるすべての変更が本発明に含まれることが意図される。   The embodiments and examples shown above are exemplifications, and the present invention is not limited to the embodiments and examples described above, and is included in the scope of the claims and all equivalents thereto. Are intended to be included in the present invention.

Claims (7)

導体と、当該導体表面を被覆する、エポキシ樹脂が硬化剤により硬化された樹脂層を有する絶縁電線であって、
前記エポキシ樹脂はTHEIC変性フェノキシ樹脂である絶縁電線。
An insulated electric wire having a conductor and a resin layer covering the conductor surface, the epoxy resin being cured by a curing agent,
The epoxy resin is an insulated wire which is a THEIC-modified phenoxy resin.
JIS2倍耐軟化温度が350℃以上である請求項1に記載の絶縁電線。   The insulated wire according to claim 1, wherein the JIS double softening temperature is 350 ° C or higher. 前記エポキシ樹脂のTHEIC変性度が5%以上である請求項1又は2に記載の絶縁電線。   The insulated wire according to claim 1 or 2, wherein the epoxy resin has a THEIC modification degree of 5% or more. 前記樹脂層が、エポキシ樹脂100質量部に対して5質量部以上30質量部以下の硬化剤を含む樹脂組成物の硬化物である請求項1〜3の何れか1項に記載の絶縁電線。   The insulated wire according to any one of claims 1 to 3, wherein the resin layer is a cured product of a resin composition containing a curing agent of 5 parts by mass or more and 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin. 前記硬化剤がイソシアネートである請求項1〜4の何れか1項に記載の絶縁電線。   The insulated wire according to any one of claims 1 to 4, wherein the curing agent is isocyanate. 前記樹脂層上に少なくとも1層以上の他の樹脂からなる樹脂層を有する請求項1〜5の何れか1項に記載の絶縁電線。   The insulated wire according to any one of claims 1 to 5, further comprising a resin layer made of at least one other resin on the resin layer. 前記他の樹脂からなる樹脂層は、ポリエステルイミド、ポリアミドイミド、ポリエステル及びポリイミドからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の樹脂を主体とする請求項6に記載の絶縁電線。   The insulated wire according to claim 6, wherein the resin layer made of the other resin mainly includes at least one resin selected from the group consisting of polyesterimide, polyamideimide, polyester, and polyimide.
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