JP2010151798A - 表面形状測定方法、表面形状測定装置および位置合わせ装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 測定対象物の表面形状を非接触で測定するための表面形状測定方法、表面形状測定装置、位置合わせ装置に関し、光源の種類に拘わらず高精度な測定を行うことを目的とする。
【解決手段】 被対象物の表面像を結像する結像光学系と、被対象物の基準面と共役関係にある像面との間に、電界の付与により屈折率を変化可能な電気光学素子を配置し、電気光学素子の屈折率を電界の付与により変化して像面上で被対象物の表面像が形成されるようにし、この時に電気光学素子に付与した電界値に基づいて、被対象物の表面の基準面からの変位量を求める。
【選択図】 図1
【解決手段】 被対象物の表面像を結像する結像光学系と、被対象物の基準面と共役関係にある像面との間に、電界の付与により屈折率を変化可能な電気光学素子を配置し、電気光学素子の屈折率を電界の付与により変化して像面上で被対象物の表面像が形成されるようにし、この時に電気光学素子に付与した電界値に基づいて、被対象物の表面の基準面からの変位量を求める。
【選択図】 図1
Description
本発明は、測定対象物の表面形状を非接触で測定するための表面形状測定方法、表面形状測定装置に関する。また、これを利用した位置合わせ装置に関する。
従来、複数の単波長を被対象物に照射し、被対象物で反射した反射光の干渉縞を測定し、波長の違いから生じる各干渉縞間の差異情報を用いて変位量の分解能を向上するようにした表面形状測定装置が知られている。
しかしながら、このような表面形状測定装置では、干渉現象を利用しているため、光源にレーザ光のようなコヒーレント光源を使用する必要があるという問題があった。また、使用する光の波長により計測精度が大きく影響されるため、計測精度を高めるためには、紫外線等の波長の短い光を用いる必要があるという問題があった。
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、光源の種類に拘わらず高精度な測定を行うことができる表面形状測定方法、表面形状測定装置、および、これを利用した位置合わせ装置を提供することを目的とする。
本発明を例示する第1の態様に従えば、被対象物の表面像を結像する結像光学系と、前記被対象物の基準面と共役関係にある像面との間に、電界の付与により屈折率を変化可能な電気光学素子を配置し、前記電気光学素子の屈折率を電界の付与により変化して前記像面上で前記被対象物の表面像が形成されるようにし、この時に前記電気光学素子に付与した電界値に基づいて、前記被対象物の表面の前記基準面からの変位量を求めることを特徴とする表面形状測定方法が提供される。
本発明を例示する第2の態様に従えば、被対象物の表面に斜入射で局所的に照明光を照射する照明光学系と、前記被対象物の照射部分で発生する散乱光を集光して結像する結像光学系と、前記結像光学系と前記被対象物の基準面と共役関係にある像面との間に配置され電界の付与により屈折率を変化可能な電気光学素子と、前記像面上に配置されたエッジ部材と、前記エッジ部材を通過した前記散乱光の空間分布を検出する光検出器と、前記光検出器で検出される空間分布が前記被対象物の表面像が前記像面と一致する時に得られる空間分布となるように前記電気光学素子に付与する電界を調整する制御手段と、前記制御手段が前記電気光学素子に付与している電界値から、前記被対象物の前記基準面からの変位量を計算する演算手段とを有することを特徴とする表面形状測定装置が提供される。
本発明を例示する第3の態様に従えば、被対象物の位置合わせ部に斜入射で局所的に照明光を照射する照明光学系と、前記位置合わせ部で発生する散乱光を集光して結像する結像光学系と、前記結像光学系と前記被対象物の基準面と共役関係にある像面との間に配置され電界の付与により屈折率を変化可能な電気光学素子と、前記像面上に配置されたエッジ部材と、前記エッジ部材を通過した前記散乱光の空間分布を検出する光検出器と、前記被対象物を前記結像光学系の光軸方向に移動する移動手段と、前記電気光学素子に電界を付与して目標位置を設定する位置設定手段と、前記光検出器で検出される空間分布が前記被対象物の位置合わせ部の像が前記像面と一致する時に得られる空間分布となるように前記移動手段を移動する制御手段とを有することを特徴とする位置合わせ装置が提供される。
本発明では、光源の種類に拘わらず高精度な測定を行うことができる。
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
(第1の実施形態)
図1は、本発明の表面形状測定装置の一実施形態を示している。
(第1の実施形態)
図1は、本発明の表面形状測定装置の一実施形態を示している。
この表面形状測定装置は、X−Yステージ11、照明光学系13、結像光学系15、電気光学素子17、エッジ部材19、光検出器21、制御装置23、出力装置25を有している。
X−Yステージ11は、水平方向であるX−Y方向に微細移動可能とされている。X−Yステージ11上には、被対象物Wが載置される。この実施形態では、被対象物Wの表面形状が測定される。図2は、被対象物Wの表面を拡大して示しており、被対象物Wの基準面Kからの変位量H(H1,H2…)が測定される。この変位量Hは、非常に小さく、例えばナノメータのレベルである。
照明光学系13は、被対象物Wの表面に斜入射で局所的に照明光S1を照射する。照明光学系13は、図示しない光源およびレンズを備えている。光源には、ハロゲンランプ、キセノンランプ等の可視光を用いることができる。また、レーザ光を用いても良い。
結像光学系15は、被対象物Wの照射部分で発生する散乱光S2を集光して結像する。結像光学系15は、複数のレンズにより構成されているが1枚のレンズで示している。
電気光学素子17は、結像光学系15と被対象物Wの基準面Kと共役関係にある像面との間に配置されている。電気光学素子17は、電界の付与により屈折率を変化可能とされている。電気光学素子17は、KTN結晶平板17aと電極17bとを有している。なお、電気光学素子17の結晶には、KTN結晶17aの他にBBO結晶、LiTaO3結晶、KTB結晶等を使用できる。また、LiNbO3、MjO:LiNbO3、Fe:LiNbO3の混合物等の結晶を使用できる。
エッジ部材19は、基準面Kと共役関係にある像面上に配置されている。この実施形態では、エッジ部材19にはナイフエッジが用いられている。
光検出器21は、エッジ部材19を通過した散乱光S2の空間分布を検出する。光検出器21には、例えばCCD素子が使用される。
制御装置23は、光検出器21からの出力信号を入力する。また、電気光学素子17に付与する電界値を調整する。さらに、X−Yステージ11を駆動する。制御装置23は、CPU23a、メモリ23bを有している。CPU23aは、各種制御を行う。そして、光検出器21で検出される空間分布がメモリ23bに記憶される空間分布と一致するように電気光学素子17に付与する電界を調整する。メモリ23bには、後述するように、散乱光S2がエッジ部材19上で最も集光している際に得られる空間分布が記憶されている。CPU23aは、電気光学素子17に付与している電界値から、被対象物Wの基準面Kからの変位量Hを計算する。出力装置25は、CPU23aで演算された変位量Hを出力する。
上述した表面形状測定装置では、被対象物Wの表面上で集光するように、被対象物Wに対して照明光S1を照射する。このとき、被対象物Wの表面で反射した照明光S1が結像光学系15に入射しないように斜入射させる。
局所的に照明された被対象物Wの表面から発生する散乱光S2は、結像光学系15によって被対象物Wの表面の像を結像光学系15の像界に形成する。ここで、被対象物Wの基準面Kを結像光学系15の前側主点から距離aの位置とし、結像光学系15の焦点距離をfとする。このとき、被対象物Wの基準面Kの像は結像光学系15の後側主点からbの位置に形成され、bは次の関係で表される。
b=a×f/(a−f)
結像光学系15と基準面Kに共役な像面との間には、電気光学素子17が配置される。KTN結晶平板17aの両側は電極17bにより挟まれ、KTN結晶平板17aに対して電界を付与可能にされている。KTN結晶平板17aの厚みをtとする。また測定の初期状態で所定の電界を与えておくが、この電界下でのKTN結晶17aの屈折率をnとする。初期状態で与える電界は、電界強度を強弱させることで、屈折率nの値を増減できる範囲にとる。
結像光学系15と基準面Kに共役な像面との間には、電気光学素子17が配置される。KTN結晶平板17aの両側は電極17bにより挟まれ、KTN結晶平板17aに対して電界を付与可能にされている。KTN結晶平板17aの厚みをtとする。また測定の初期状態で所定の電界を与えておくが、この電界下でのKTN結晶17aの屈折率をnとする。初期状態で与える電界は、電界強度を強弱させることで、屈折率nの値を増減できる範囲にとる。
結像光学系15と像面との間にKTN結晶平板17aを配置することで、基準面Kに共役な像面は、結像光学系15の後側主点から、
b+t×(1−1/n)
の位置になる。
b+t×(1−1/n)
の位置になる。
この位置に結像位置の検出精度を高めるために、フーコーテストのようにナイフエッジからなるエッジ部材19を配置し、エッジ部材19よりも後方に配置した光検出器21で散乱光S2を検出する。光検出器21は検出面上での散乱光S2の空間分布を取得できる。散乱光S2の空間分布は、エッジ部材19上での光束の集中度に依存した回折分布を形成するため、検出した散乱光S2の空間分布から実際に表面像のできている位置と、基準面Kに共役な像面との一致具合を確認できる。従って、検出される空間分布がエッジ部材19上で最も集光している際に得られる空間分布となるように、KTN結晶平板17aに付与する電界を変化させて屈折率を制御し、光路を調整する。
図3は、光検出器21で検出されたエッジ部材19を通過した散乱光S2の空間分布を示している。図3の(a)は鳥瞰図であり、(b)は等高線図である。なお、この空間分布は、光源の波長がd線(587.56nm)、f=50mm、物体側開口数0.05、a=100mm、t=1mm、光検出器21の検出面がエッジ部材19の後方1mmの位置にある条件で行ったシミュレーション結果である。
被対象物Wの照明された表面部分の基準面Kからの変位量Hに応じて、散乱光S2の発生地点は結像光学系15の光軸方向に前後するが、散乱光S2の発生地点の基準面Kからの変位量HをΔaとする(結像光学系15と表面が離れる方の変位量Hが+)。Δaに応じて照明された被対象物Wの表面の像ができる像面は像界で前後するが、基準面Kと共役関係にある像面からの変位量H’をΔbとする(結像光学系15と像面が離れる方の変位量H’が+)と、
Δb=−(b/a)2×Δa
となる。
Δb=−(b/a)2×Δa
となる。
被対象物Wの表面の変位量Hに応じて像面がΔbだけ前後するのを、KTN結晶平板17aに与える電界を調整して屈折率を変化させ、Δb=0、つまり、常に基準面Kと共役関係にある像面上に被対象物Wの表面像ができるように光路を調整する。
像面位置が変化する分を打ち消すために必要なKTN結晶平板17aの屈折率の変化量は次のようになる。散乱光S2の発生地点が光軸方向にΔaだけ基準面Kからずれているとき、基準面Kに共役な像面に像を結像するために必要なKTN結晶平板17aの屈折率をn’とすると、
となる。
例えばKTN結晶平板17aの厚みを1mm、横倍率b/a=3の条件で結像光学系15を像形成に利用する場合、Δa=+1nmの表面の変位量Hに対応する屈折率の変化量(n’−n)は、可視光域から遠赤外線域でのKTN結晶17aの屈折率nは約2.29なので、
n’−n≒+5×10−5
であり、この程度の屈折率変化を得るためには、KTN結晶平板17aにΔ20V/mm程度の電界変化を与えてやれば良い。被対象物Wの表面の変位量Hに対応する電界変化の感度は、結像光学系15の使用倍率を変えることで変更できる。上記の例で、横倍率b/aを等倍にした場合は、同じΔa=+1nmのずれに対応するのに屈折率変化は+5×10−6程度で良く、電界変化はΔ2V/mm程度で済む。
n’−n≒+5×10−5
であり、この程度の屈折率変化を得るためには、KTN結晶平板17aにΔ20V/mm程度の電界変化を与えてやれば良い。被対象物Wの表面の変位量Hに対応する電界変化の感度は、結像光学系15の使用倍率を変えることで変更できる。上記の例で、横倍率b/aを等倍にした場合は、同じΔa=+1nmのずれに対応するのに屈折率変化は+5×10−6程度で良く、電界変化はΔ2V/mm程度で済む。
図4は、上述した表面形状測定装置の制御装置23の動作を示すフローチャートである。
ステップS1:制御装置23のCPU23aは、被対象物Wの基準点が結像光学系15の光軸上に位置するようにX−Yステージ11を移動する。基準点は、必ずしも特別な箇所でなくても良い。例えば図2の基準面Kの1箇所が基準点Pとされる。
ステップS2:CPU23aは、光検出器21で検出された散乱光S2の空間分布が、予め記憶された空間分布になるように電気光学素子17に付与する電界を調整し、調整した電界値D1を記憶する。この実施形態では、メモリ23bには、散乱光S2がエッジ部材19上で最も集光している際に得られる空間分布が記憶されている。CPU23aは、空間分布が記憶されている空間分布になるように電界を調整する。そして、調整した電界値D1をメモリ23bに記憶する。
なお、この実施形態では、ステージの構造を簡単にするため、X−Yステージ11は被対象物Wを光軸方向に移動する機能を有していない。従って、被対象物Wを基準点Pの高さに合わせるために加える電界値が比較的大きな影響を受ける。その結果、無駄に高い電界を与えなければならず、電力を多く浪費したり、屈折率の増減できる調整可能範囲に偏りが生じるおそれがある。そこで、ステージに光軸方向にも移動可能な3軸移動ステージを用い、結像光学系15に関してエッジ部材19のエッジ端と共役な物界面に被対象物Wの基準点Pの高さがおおよそ合うように調整できるようにするのが望ましい。これにより、電気光学素子17に加える電界の初期設定値を、屈折率を増減する幅が均等にできる適当な電界値にすることが可能になり変位量の検出範囲に偏りが生じることを防止することができる。
ステップS3:CPU23aは、被対象物Wの測定点が結像光学系15の光軸上に位置するようにX−Yステージ11を移動する。測定点は、予め決められており、例えば図2の点P1、P2、P3等が測定点とされる。例えば、測定点P1が光軸上に位置するようにX−Yステージ11を移動する。
ステップS4:CPU23aは、光検出器21で検出された散乱光S2の空間分布が、予め記憶された空間分布になるように電気光学素子17に付与する電界を調整し、調整した電界値D2を記憶する。この調整はステップS2と同様にして行われる。
ステップS5:CPU23aは、変位量Hを演算する。CPU23aは、ステップS2でメモリ23bに記憶された電界値D1と、ステップS4でメモリ23bに記憶された電界値D2を読み込み、電界値D1,D2に基づいて変位量Hを計算する。なお、この実施形態では、変位量Hを演算するために基準点Pにおける電界値D1、および測定点における電界値D2に基づいて変位量Hを計算している。しかしながら、結像光学系に対してエッジ部材と光学的に共役な物体面を基準面とし、各測定点の電界値のみに基づいて基準面からの変位量Hを計算するようにしても良い。
ステップS6:CPU23aは、全ての測定点P1,P2,…が測定されたか否かを判断する。測定されていない場合には、ステップS3からステップS5を繰り返し全ての測定点を測定する。
ステップS7:CPU23aは、全ての測定点が測定された場合には、測定点の変位量H1,H2,…を出力装置25に出力する。なお、この実施形態では、被対象物Wの全体的な変位量を見るために全ての測定点が測定された後に測定点の変位量を一括して出力している。しかしながら、リアルタイムな情報を得るために各測定点での測定直後にその点の変位量を出力するようにしても良い。
上述した実施形態では、電気光学素子17の屈折率を電界の付与により変化してエッジ部材19の位置で被対象物Wの表面像が形成されるようにし、この時に電気光学素子17に付与した電界値に基づいて、被対象物Wの表面の基準面Kからの変位量Hを求めるようにしたので、変位量Hを容易,確実に求めることができる。
そして、干渉現象を利用していないため、光源がレーザ光のようなコヒーレント光源である必要がない。また使用する光の波長も計測精度に本質的な影響を与えないので、KTN結晶17aを透過する可視光域から遠赤外線域の広範囲の光源を用いて被検体の表面形状を高い分解能で精密に測定することができる。また、表面形状の検出のために機械的に稼動する部分がないため、一度精度よく装置を設定すれば、高い再現性のあるデータを取得することができる。
(第2の実施形態)
図5は、本発明の位置合わせ装置の一実施形態を示している。なお、この実施形態において第1の実施形態と同一の要素には同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
(第2の実施形態)
図5は、本発明の位置合わせ装置の一実施形態を示している。なお、この実施形態において第1の実施形態と同一の要素には同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
この実施形態では、位置合わせ対象となる被対象物W2が3軸移動ステージ27上に載置される。3軸移動ステージ27は、水平方向(X−Y方向)、垂直方向(Z方向)の3軸方向に移動可能とされている。被対象物W2の上端には点とみなせる位置合わせ部Iが設けられている。この位置合わせ部Iは、3軸移動ステージ27の移動により結像光学系15の光軸上の所定位置に移動される。
この実施形態では、エッジ部材19に代えてマスク部材29が配置されている。マスク部材29は、光軸と直交する方向の偏りが検出可能な開口形状を有している。マスク部材29の開口形状は、例えば図6に示すように、結像光学系15の光軸とマスク部材29の中心Oが一致する直交座標系の第一象限部分が開口29aとなるような形状とされている。
この実施形態では、制御装置31は、光検出器21からの出力信号を入力する。また、電気光学素子17に付与する電界値を調整する、さらに、3軸移動ステージ27を駆動する。制御装置31は、CPU31a、メモリ31bを有している。CPU31aは、各種制御を行う。そして、光検出器21で検出される空間分布がメモリ31bに記憶される空間分布と一致するように3軸移動ステージ27を駆動する。メモリ31bには、散乱光S2がマスク部材29の中心Oで最も集光している際に得られる空間分布が記憶されている。制御装置31は、電気光学素子17に電界を付与して目標位置を設定する。
図7は、上述した位置合わせ装置の制御装置31の動作を示すフローチャートである。
ステップS1:制御装置31のCPU31aは、目標位置を設定する。CPU31aは、被対象物W2の位置合わせ部Iを位置合わせすべき目標位置が入力装置33から入力されると、目標位置を設定する。この目標位置は、結像光学系15の光軸上の位置でありZ方向の位置として入力される。例えば図5において結像光学系15の位置からa+Δaの位置が目標位置として入力されると、この位置に被対象物W2の位置合わせ部Iが位置した時に、位置合わせ部Iの像がマスク部材29の位置に結像するように電気光学素子17に付与する電界を調整する。
ステップS2:CPU31aは、光検出器21で検出される空間分布が予め記憶された空間分布となるように3軸移動ステージ27を移動する。これにより被対象物W2の位置合わせ部Iを結像光学系15の目標位置に位置させることができる。
すなわち、位置合わせ部Iを照明することで発生した散乱光S2が、結像光学系15を通りマスク部材29を通過する際に、散乱光S2は回折の影響を受ける。この回折の影響は、マスク部材29より後方に配置された光検出器21の検出面上にできる散乱光S2の空間分布として捉えることができる。この散乱光S2の空間分布は位置合わせ部Iの位置に敏感に反応する。この実施形態では、メモリ31bには、予め散乱光S2がマスク部材29の中心O上で最も集光している際に得られる空間分布が記憶されている。この空間分布は、位置合わせ部Iが目標位置に存在し、かつ結像光学系15の光軸上にある場合に、光検出器21で検出される空間分布と同じである。従って、実際に光検出器21で検出される空間分布が、記憶された空間分布と一致するように3軸移動ステージ27を動かし、被対象物W2の位置合わせ部Iの位置を調整することにより、被対象物W2の位置合わせ部Iを目標位置に位置合わせすることができる。
この実施形態の位置合わせ装置では、被対象物W2の位置合わせ部Iを設定された位置に高い精度で位置合わせすることができる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
(1)上述した第1の実施形態では、エッジ部材19にナイフエッジを用いた例について説明したが、例えば第2の実施形態と同様なマスク部材29を用いても良い。
11…X−Yステージ、13…照明光学系、15…結像光学系、17…電気光学素子、19…エッジ部材、21…光検出器、23,31…制御装置、27…3軸移動ステージ、29…マスク部材、W,W2…被対象物。
Claims (3)
- 被対象物の表面像を結像する結像光学系と、前記被対象物の基準面と共役関係にある像面との間に、電界の付与により屈折率を変化可能な電気光学素子を配置し、前記電気光学素子の屈折率を電界の付与により変化して前記像面上で前記被対象物の表面像が形成されるようにし、この時に前記電気光学素子に付与した電界値に基づいて、前記被対象物の表面の前記基準面からの変位量を求めることを特徴とする表面形状測定方法。
- 被対象物の表面に斜入射で局所的に照明光を照射する照明光学系と、
前記被対象物の照射部分で発生する散乱光を集光して結像する結像光学系と、
前記結像光学系と前記被対象物の基準面と共役関係にある像面との間に配置され電界の付与により屈折率を変化可能な電気光学素子と、
前記像面上に配置されたエッジ部材と、
前記エッジ部材を通過した前記散乱光の空間分布を検出する光検出器と、
前記光検出器で検出される空間分布が前記被対象物の表面像が前記像面と一致する時に得られる空間分布となるように前記電気光学素子に付与する電界を調整する制御手段と、
前記制御手段が前記電気光学素子に付与している電界値から、前記被対象物の前記基準面からの変位量を計算する演算手段と、
を有することを特徴とする表面形状測定装置。 - 被対象物の位置合わせ部に斜入射で局所的に照明光を照射する照明光学系と、
前記位置合わせ部で発生する散乱光を集光して結像する結像光学系と、
前記結像光学系と前記被対象物の基準面と共役関係にある像面との間に配置され電界の付与により屈折率を変化可能な電気光学素子と、
前記像面上に配置されたエッジ部材と、
前記エッジ部材を通過した前記散乱光の空間分布を検出する光検出器と、
前記被対象物を前記結像光学系の光軸方向に移動する移動手段と、
前記電気光学素子に電界を付与して目標位置を設定する位置設定手段と、
前記光検出器で検出される空間分布が前記被対象物の位置合わせ部の像が前記像面と一致する時に得られる空間分布となるように前記移動手段を移動する制御手段と、
を有することを特徴とする位置合わせ装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018235223A1 (ja) * | 2017-06-22 | 2018-12-27 | オリンパス株式会社 | 照明付き撮像システム、内視鏡及び内視鏡システム |
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