JP2010147149A - Optical module and semiconductor light-emitting device - Google Patents

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JP2010147149A JP2008320992A JP2008320992A JP2010147149A JP 2010147149 A JP2010147149 A JP 2010147149A JP 2008320992 A JP2008320992 A JP 2008320992A JP 2008320992 A JP2008320992 A JP 2008320992A JP 2010147149 A JP2010147149 A JP 2010147149A
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Toshihiko Fukamachi
俊彦 深町
Takuma Saka
卓磨 坂
Toshiki Sugawara
俊樹 菅原
Yasunobu Matsuoka
康信 松岡
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical module having a monitoring function and a semiconductor light-emitting device including a reflector (mirror) arranged clockwise on the end face in one direction of an active layer formed on a distributed Bragg reflector layer (DBR layer) at an angle of about 45 degrees to the active layer. <P>SOLUTION: The optical module has a light-emitting device and a light-receiving element, wherein the light-emitting device includes a semiconductor substrate, a DBR layer formed on the substrate, a light-emitting layer, a reflector arranged clockwise at an angle of about 45 degrees to the semiconductor substrate, and a reflective film arranged on the end face of the light-emitting layer, wherein light generated on the light-emitting layer and transmitted the DBR layer is emitted from the back surface of the semiconductor substrate. The light-receiving element is arranged on the back surface side of the semiconductor substrate so that the light-receiving surface overlaps the opening of the light-emitting device on the plan view. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、光モジュール及び半導体発光素子に係り、特に、モニター機能付き光モジュール及びそれに組み込まれる半導体発光素子に関する。   The present invention relates to an optical module and a semiconductor light emitting device, and more particularly to an optical module with a monitoring function and a semiconductor light emitting device incorporated therein.

近年情報通信分野において、光を用いて大容量のデータを高速でやりとりする通信トラフィックの整備が急速に行われつつある。中でも特にインターネットの爆発的な普及に伴うアクセス回線のブロードバンド化が加速しており、FTTH(Fiber To The Home)サービスの顕著な市場立ち上がりが見られる。FTTHの光伝送方式の中で、現在需要が増えてきているのが、複数の加入者で1本の光ファイバを共有するPON(passive optical network)方式である。同方式では収容局から1本の光ファイバで送信されてきたデータを、スプリッタで16本から32本の光ファイバへ分岐し、各加入者宅まで分配することで光ファイバ敷設コストを大幅に削減可能である。   In recent years, in the information and communication field, communication traffic for exchanging large amounts of data at high speed using light has been rapidly developed. In particular, broadband access lines are accelerating due to the explosive spread of the Internet, and a remarkable market launch of FTTH (Fiber To The Home) service is seen. Among the FTTH optical transmission systems, the demand for the PON (passive optical network) system in which a single optical fiber is shared by a plurality of subscribers is increasing. In this system, the data transmitted from the accommodation station through one optical fiber is split into 16 to 32 optical fibers by a splitter and distributed to each subscriber's house, thereby significantly reducing the optical fiber installation cost. Is possible.

また、各加入者側には端末装置としてONU(Optical Network Unit)が敷設され、収容局から加入者側への下り信号(波長1.5μm)と、加入者側から収容局への上り信号(波長1.3μm)を波長多重(WDM)することにより、上りと下りの信号を同一の光ファイバを用いて伝送している。現在のPON方式の上り側には直接変調レーザが用いられており、そのビットレートはおおよそ1Gbps程度であるが、すでに10Gbps以上のビットレートを取り扱う方式が検討されている。   Further, an ONU (Optical Network Unit) is laid as a terminal device on each subscriber side, and a downstream signal (wavelength 1.5 μm) from the accommodation station to the subscriber side and an upstream signal (from the subscriber side to the accommodation station ( Wavelength multiplexing (WDM) of wavelength 1.3 μm) allows uplink and downlink signals to be transmitted using the same optical fiber. A direct modulation laser is used on the upstream side of the current PON system, and its bit rate is about 1 Gbps, but a system that handles a bit rate of 10 Gbps or higher has already been studied.

また、これとは別に20〜25Gbps以上で動作可能な直接変調レーザを4〜5個用いて100Gbps以上の速度で情報をやり取りする方法が検討され始めている。このように今後直接変調レーザの更なる高速化が必要となる。   In addition, a method for exchanging information at a speed of 100 Gbps or more using 4 to 5 direct modulation lasers operable at 20 to 25 Gbps or more is beginning to be studied. In this way, it is necessary to further increase the speed of the direct modulation laser in the future.

直接変調レーザの高速化の1つの方法として、共振器長を短くする方法がある。しかし、素子の長さを短くしていくと、特に100μm以下では通常のハンドリングが困難となるため、これまで短共振器レーザの構造として特許文献1の図3に示されたような構造が考えられていた。これは同一半導体基板上にレーザ光を放射するための活性領域と、その活性層で放射したレーザ光を導波する導波路を集積した構造となっている。この導波路領域には分布ブラッグ反射層が形成されており、活性領域で発生した光は、分布ブラッグ反射層と分布ブラッグ反射層が形成されていない端面で反射を繰り返しながら増幅して、分布ブラッグ反射層で反射されずに透過した光を導波路で導波し、レーザ光を放射する。このような構造のため、活性領域の長さが100μm以下でも、導波路領域を200μm以上にすることにより、通常の取り扱いが可能となる。さらに光モジュールへ実装する際にも、通常の200μm以上の共振器長を持つ端面発光レーザと同様な実装がそのまま適用できる利点がある。   One method for increasing the speed of the direct modulation laser is to shorten the resonator length. However, when the length of the element is shortened, normal handling becomes difficult particularly at 100 μm or less. Therefore, the structure as shown in FIG. It was done. This has a structure in which an active region for emitting laser light and a waveguide for guiding laser light emitted by the active layer are integrated on the same semiconductor substrate. A distributed Bragg reflection layer is formed in the waveguide region, and light generated in the active region is amplified while being repeatedly reflected at the end surfaces where the distributed Bragg reflection layer and the distributed Bragg reflection layer are not formed. The light transmitted without being reflected by the reflection layer is guided through the waveguide, and laser light is emitted. Due to such a structure, even if the length of the active region is 100 μm or less, normal handling becomes possible by setting the waveguide region to 200 μm or more. Further, when mounting on an optical module, there is an advantage that the same mounting as that of an edge emitting laser having a resonator length of 200 μm or more can be applied as it is.

ただし、作製には活性領域と分布ブラッグ反射層領域を別々に成長させる必要があり、成長回数が通常のレーザよりも増加する。また、分布ブラッグ反射領域で所望の反射率を得るには、目的毎に分布ブラッグ反射領域を再設計する必要があった。   However, for the production, it is necessary to separately grow the active region and the distributed Bragg reflection layer region, and the number of times of growth increases as compared with a normal laser. Moreover, in order to obtain a desired reflectance in the distributed Bragg reflection area, it is necessary to redesign the distributed Bragg reflection area for each purpose.

そこで、このような手間を省くために特許文献2の図1のような構造が考えられた。このレーザは半導体基板上に分布ブラッグ反射(DBR:Distributed Bragg Reflector)層と、そのDBR層上に活性領域として多重量子井戸(MQW:Multi Quantum Well)層が形成されており、このMQW層の一方向の端面にMQW層に対して45度の角度で傾斜したミラーをもつ構造となっている。このような構造を採用することによって成長回数が通常のレーザよりも増加することなく、また、形成するミラーの位置を変化させるだけで所望の共振器長をもつレーザを得ることができる。さらに、一度DBR層を設計すれば、その対数を変化させるだけで所望の反射率を容易に得ることができる。   Therefore, in order to save such trouble, a structure as shown in FIG. 1 of Patent Document 2 has been considered. In this laser, a distributed Bragg reflector (DBR) layer is formed on a semiconductor substrate, and a multi quantum well (MQW) layer is formed on the DBR layer as an active region. The structure has a mirror inclined at an angle of 45 degrees with respect to the MQW layer on the end face in the direction. By adopting such a structure, it is possible to obtain a laser having a desired resonator length without increasing the number of times of growth as compared with a normal laser and by simply changing the position of a mirror to be formed. Furthermore, once the DBR layer is designed, the desired reflectance can be easily obtained by simply changing the logarithm.

ただし、基板裏面に電極を形成する必要上、光はミラーの形成されていない端面からしか出射しないため、通常の200μm以上の共振器長を持つ端面発光レーザと同様な実装がそのまま適用できないという課題があった。   However, since it is necessary to form an electrode on the back surface of the substrate, light is emitted only from the end face where the mirror is not formed, so that the same mounting as that of a normal edge emitting laser having a resonator length of 200 μm or more cannot be applied as it is. was there.

なお、本発明に関連する先行技術文献としては、前述の特許文献1及び2の他に特許文献3がある。   As prior art documents related to the present invention, there is Patent Document 3 in addition to Patent Documents 1 and 2 described above.

特開2007−5594号公報JP 2007-5594 A 特開2003−324245号公報JP 2003-324245 A 特開2004−235182号公報JP 2004-235182 A

上述したような、半導体基板上にDBR層と、そのDBR層上に活性領域としてMQW層が形成されており、このMQW層の一方向の端面にMQW層に対して45度の角度で傾斜したミラーをもつ、半導体反射膜を利用した半導体発光素子では、光はミラーの形成されていない端面からしか出射しないため、通常の200μm以上の共振器長を持つ端面発光レーザと同様な実装がそのまま適用できないという課題があった。   As described above, a DBR layer is formed on a semiconductor substrate, and an MQW layer is formed as an active region on the DBR layer. One end face of the MQW layer is inclined at an angle of 45 degrees with respect to the MQW layer. In a semiconductor light emitting device using a semiconductor reflective film with a mirror, light is emitted only from the end face where the mirror is not formed. Therefore, the same mounting as that of an end face light emitting laser having a resonator length of 200 μm or more is applied as it is. There was a problem that it was not possible.

即ち、モニター機能付き光モジュールでは、信号用の光(以下、信号光と呼ぶ)とは別に半導体発光素子から出射されるモニター用の光(以下、モニター光と呼ぶ)を受光素子で受光して半導体発光素子の特性をモニタリングしているが、ミラーが形成されていない端面からしか光を出射しない半導体発光素子では信号光とは別に出射されるモニタ光を受光素子で受光して半導体発光素子の特性をモニタリングすることが出来ないため、通常の200μm以上の共振器長を持つ端面発光レーザ素子と同様な実装がそのまま適用できないという課題があった。   That is, in the optical module with a monitor function, the light for monitoring (hereinafter referred to as monitor light) emitted from the semiconductor light emitting element is received by the light receiving element separately from the signal light (hereinafter referred to as signal light). The characteristics of the semiconductor light emitting element are monitored. However, in the semiconductor light emitting element that emits light only from the end face where the mirror is not formed, the monitor light emitted separately from the signal light is received by the light receiving element. Since the characteristics cannot be monitored, there is a problem that the same mounting as that of an edge emitting laser element having a resonator length of 200 μm or more cannot be applied as it is.

本発明の目的は、分布ブラッグ反射層(DBR層)上の活性層の一方向の端面にこの活性層に対して時計回りで略45度の角度をもって反射鏡(ミラー)が配置された半導体発光素子を有するモニタリング機能付き光モジュールを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a semiconductor light emitting device in which a reflecting mirror (mirror) is arranged at an angle of approximately 45 degrees clockwise with respect to the active layer on one end face of the active layer on the distributed Bragg reflective layer (DBR layer). The object is to provide an optical module with a monitoring function having an element.

本発明の他の目的は、分布ブラッグ反射層(DBR層)上の活性層の一方向の端面にこの活性層に対して時計回りで略45度の角度をもって反射鏡(ミラー)が配置された半導体発光素子であって、信号光とは別にモニター光を出射することが可能な半導体発光素子を提供することにある。   Another object of the present invention is that a reflecting mirror (mirror) is arranged at an angle of approximately 45 degrees clockwise with respect to the active layer on one end face of the active layer on the distributed Bragg reflecting layer (DBR layer). An object of the present invention is to provide a semiconductor light emitting device capable of emitting monitor light separately from signal light.

本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
(1)本発明の光モジュールは、例えば、半導体発光素子と半導体受光素子とを有する光モジュールであって、
前記半導体発光素子は、半導体基板と、前記半導体基板の主面上に形成された少なくとも2種類の屈折率の異なる半導体層からなる分布ブラッグ反射層と、前記分布ブラッグ反射層上に形成された第1導電型の下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に形成された活性層と、前記活性層上に形成された、前記第1導電型とは逆導電型である第2導電型の上部クラッド層と、前記活性層の互いに反対側に位置する第1及び第2の端面のうちの前記第1の端面に、前記半導体基板に対して時計回りで略45度の角度をもって配置された反射鏡と、前記活性層の前記第2の端面に配置され、反射率が前記分布ブラッグ反射層の反射率以下の反射膜と、前記上部クラッド層上に形成された上部電極と、前記半導体基板の主面とは反対側の裏面に形成された下部電極と、前記活性層で発生し、前記分布ブラッグ反射層を透過した光が前記半導体基板の裏面から出射できるように、前記下部電極に形成された開口部及び前記開口部に設けられた無反射膜とを有し、
前記半導体受光素子は、前記半導体受光素子の受光面が前記半導体発光素子の前記開口部と平面的に重なるように前記半導体基板の裏面側に配置されていることを特徴とする。
(2)本発明の半導体発光素子は、例えば、半導体基板と、前記半導体基板の主面上に形成された少なくとも2種類の屈折率の異なる半導体層からなる分布ブラッグ反射層と、前記分布ブラッグ反射層上に形成された第1導電型の下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に形成された活性層と、前記活性層上に形成された、前記第1導電型とは逆導電型である第2導電型の上部クラッド層と、前記活性層の互いに反対側に位置する第1及び第2の端面のうちの前記第1の端面に、前記半導体基板に対して時計回りで略45度の角度をもって配置された反射鏡と、前記活性層の前記第2の端面に配置され、反射率が前記分布ブラッグ反射層の反射率以下の反射膜と、前記上部クラッド層上に形成された上部電極と、前記半導体基板の主面とは反対側の裏面に形成された下部電極と、前記活性層で発生し、前記分布ブラッグ反射層を透過した光が前記半導体基板の裏面から出射できるように、前記下部電極に形成された開口部及び前記開口部に設けられた無反射膜とを有することを特徴とする。
Of the inventions disclosed in this application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.
(1) The optical module of the present invention is, for example, an optical module having a semiconductor light emitting element and a semiconductor light receiving element,
The semiconductor light emitting device includes a semiconductor substrate, a distributed Bragg reflection layer formed on a main surface of the semiconductor substrate and made of at least two types of semiconductor layers having different refractive indexes, and a first Bragg reflection layer formed on the distributed Bragg reflection layer. A first conductivity type lower cladding layer, an active layer formed on the lower cladding layer, and a second conductivity type upper cladding formed on the active layer and having a conductivity type opposite to the first conductivity type Reflective mirror disposed at an angle of approximately 45 degrees in a clockwise direction with respect to the semiconductor substrate on the first end surface of the layer and the first and second end surfaces located on opposite sides of the active layer A reflective film disposed on the second end face of the active layer and having a reflectance equal to or lower than that of the distributed Bragg reflective layer; an upper electrode formed on the upper cladding layer; and a main substrate of the semiconductor substrate Formed on the back side opposite to the side And an opening formed in the lower electrode and the opening so that light generated in the active layer and transmitted through the distributed Bragg reflection layer can be emitted from the back surface of the semiconductor substrate. An anti-reflective film
The semiconductor light receiving element is arranged on the back side of the semiconductor substrate so that a light receiving surface of the semiconductor light receiving element overlaps the opening of the semiconductor light emitting element in a plane.
(2) The semiconductor light emitting device of the present invention includes, for example, a semiconductor substrate, a distributed Bragg reflection layer formed on a main surface of the semiconductor substrate, which includes at least two types of semiconductor layers having different refractive indexes, and the distributed Bragg reflection. A first conductivity type lower clad layer formed on the layer, an active layer formed on the lower clad layer, and the first conductivity type formed on the active layer are opposite in conductivity type An upper clad layer of the second conductivity type and the first end surface of the first and second end surfaces opposite to each other of the active layer are approximately 45 degrees clockwise with respect to the semiconductor substrate. Reflective mirrors disposed at an angle, a reflective film disposed on the second end face of the active layer and having a reflectance equal to or lower than that of the distributed Bragg reflective layer, and an upper electrode formed on the upper cladding layer And the main surface of the semiconductor substrate A lower electrode formed on the back surface of the opposite side, and an opening formed in the lower electrode so that light generated in the active layer and transmitted through the distributed Bragg reflection layer can be emitted from the back surface of the semiconductor substrate; And an antireflective film provided in the opening.

本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりである。   The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

本発明の実施例によれば、通常の端面発光レーザよりも成長回数を増加させることなく、容易に短共振器レーザを作製でき、さらにこのレーザを用いることによって、組立容易で、かつ部品点数を削減してコスト削減が可能となるモニター機能付き光モジュールを提供することができる。   According to the embodiment of the present invention, a short cavity laser can be easily manufactured without increasing the number of growth times compared with a normal edge emitting laser, and further, by using this laser, assembly is easy and the number of parts can be reduced. It is possible to provide an optical module with a monitor function that can be reduced in cost.

本発明によれば、分布ブラッグ反射層(DBR層)上の活性層の一方向の端面にこの活性層に対して時計回りで略45度の角度をもって反射鏡(ミラー)が配置された半導体発光素子を有するモニタリング機能付き光モジュールを提供することが可能となる。   According to the present invention, a semiconductor light emitting device in which a reflecting mirror (mirror) is arranged at an angle of approximately 45 degrees clockwise with respect to the active layer on one end face of the active layer on the distributed Bragg reflective layer (DBR layer). It becomes possible to provide an optical module with a monitoring function having an element.

本発明によれば、分布ブラッグ反射層(DBR層)上の活性層の一方向の端面にこの活性層に対して時計回りで略45度の角度をもって反射鏡(ミラー)が配置された半導体発光素子であって、信号光とは別にモニター光を出射する半導体発光素子を提供することが可能となる。   According to the present invention, a semiconductor light emitting device in which a reflecting mirror (mirror) is arranged at an angle of approximately 45 degrees clockwise with respect to the active layer on one end face of the active layer on the distributed Bragg reflective layer (DBR layer). It is possible to provide a semiconductor light emitting element that emits monitor light separately from signal light.

以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

なお、発明の実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。ただし、図は飽くまで本実施例を説明するものであって、図の大きさと本実施例記載の縮尺は必ずしも一致するものではない。   In all the drawings for explaining the embodiments of the invention, those having the same function are given the same reference numerals, and their repeated explanation is omitted. However, the drawings are only for explaining the present embodiment, and the size of the drawings and the scale described in the present embodiment do not necessarily coincide.

また、本実施例では、光モジュールに組み込まれる半導体発光素子及び半導体受光素子の実装形態として第1〜第5の実装形態について説明する。
[実施例1]
本実施例1では、パッケージ形態の一つであるCAN型と呼ばれるパッケージ構造の光モジュールに本発明を適用した例について説明する。また、本実施例1では、半導体発光素子及び半導体受光素子を実装する第1の実装形態について説明する。
In the present embodiment, first to fifth mounting forms will be described as mounting forms of the semiconductor light emitting element and the semiconductor light receiving element incorporated in the optical module.
[Example 1]
In the first embodiment, an example in which the present invention is applied to an optical module having a package structure called a CAN type which is one of package forms will be described. In the first embodiment, a first mounting form in which a semiconductor light emitting element and a semiconductor light receiving element are mounted will be described.

図1乃至図3は、本発明の実施例1である光モジュールに係る図であり、
図1は、光モジュールの概略構成を示す鳥瞰図、
図2は、光モジュールにおいて、半導体発光素子と半導体受光素子との実装状態を示す図、
図3は、図2の半導体発光素子の概略構成を示す図((a)は平面図,(b)は(a)のA−A’線に沿った断面構造を示す断面図,(c)は(a)のB−B’線に沿った断面構造を示す断面図,(d)は底面図)である。
1 to 3 are diagrams related to an optical module that is Embodiment 1 of the present invention.
FIG. 1 is a bird's-eye view showing a schematic configuration of an optical module;
FIG. 2 is a diagram showing a mounting state of the semiconductor light emitting element and the semiconductor light receiving element in the optical module;
3 is a diagram showing a schematic configuration of the semiconductor light emitting device of FIG. 2 ((a) is a plan view, (b) is a sectional view showing a sectional structure along the line AA ′ in (a)), and (c). (A) is sectional drawing which shows the cross-sectional structure along the BB 'line | wire of (a), (d) is a bottom view).

本実施例1の光モジュールは、図1に示すように、CAN型のパッケージ構造になっている。この光モジュールは、主に、ステム(ベース部材)61及びキャップ部材(蓋体)65からなる封止体60を有し、ステム61及びキャップ部材65で形成されるキャビティ内に半導体発光素子LD1及び受光素子PD等を搭載した構造(半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDを封止体60で封止した構造)になっている。   As shown in FIG. 1, the optical module of Example 1 has a CAN type package structure. This optical module has a sealing body 60 mainly composed of a stem (base member) 61 and a cap member (lid body) 65, and a semiconductor light emitting element LD1 and a light emitting element LD1 are formed in a cavity formed by the stem 61 and the cap member 65. The structure includes a light receiving element PD or the like (a structure in which the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD are sealed with a sealing body 60).

ステム61は、互いに反対側に位置する主面(第1の面)及び裏面(第2の面)を有し、数mmの厚さの円形の金属板からなり、その主面の中央から外れた部分には、素子の台座として例えばヒートシンクとも呼ばれる銅製のマウント部材30が導電性のロウ材等で固定されている。   The stem 61 has a main surface (first surface) and a back surface (second surface) located on opposite sides of each other, and is made of a circular metal plate having a thickness of several millimeters, and deviates from the center of the main surface. For example, a copper mount member 30, also called a heat sink, is fixed with a conductive brazing material or the like as a base for the element.

マウント部材30には、素子の台座として例えばシリコンカーバイト(SiC)からなるサブマウント部材40が固定されており、サブマウント部材40には半導体発光素子LD1が実装されている。また、マウント部材30には、半導体発光素子LD1から出射されたモニター用の光(以下、モニター光と呼ぶ)を受光する半導体受光素子PDが実装されている。これらのマウント部材(台座)30、サブマウント部材(台座)40、半導体発光素子LD1、半導体受光素子PD等は、ステム61及びキャップ部材65で形成されるキャビティの中に配置されている。   A submount member 40 made of, for example, silicon carbide (SiC) is fixed to the mount member 30 as an element base, and the semiconductor light emitting element LD1 is mounted on the submount member 40. The mount member 30 is mounted with a semiconductor light receiving element PD that receives monitoring light emitted from the semiconductor light emitting element LD1 (hereinafter referred to as monitor light). These mount member (pedestal) 30, submount member (pedestal) 40, semiconductor light emitting element LD 1, semiconductor light receiving element PD and the like are arranged in a cavity formed by the stem 61 and the cap member 65.

ステム61には、外部電極端子として例えば4本のリード(63a,63b,63c,63d)が固定されている。3本のリード(63a〜63c)は、絶縁体62を介してステム61に貫通状態で固定されている。残り1本のリード63dは、ステム61の裏面に突き合わせた状態で固定されている。   For example, four leads (63a, 63b, 63c, 63d) are fixed to the stem 61 as external electrode terminals. The three leads (63a to 63c) are fixed to the stem 61 through the insulator 62 in a penetrating state. The remaining one lead 63d is fixed in a state of being in contact with the back surface of the stem 61.

半導体発光素子LD1は、後で詳細に説明するが、互いに反対側に位置する主面(第1の面)及び裏面(第2の面)を有し、これらの面の各々に電極(上部電極,下部電極)を有する構成になっている。主面の上部電極1(図2参照)は、ボンディングワイヤ64を介してリード63aの一端側と電気的に接続されている。裏面の下部電極2(図2参照)は、サブマウント部材40及びボンディングワイヤ64を介してリード63bの一端側と電気的に接続されている。   As will be described in detail later, the semiconductor light emitting element LD1 has a main surface (first surface) and a back surface (second surface) located on opposite sides, and electrodes (upper electrodes) are provided on each of these surfaces. , Lower electrode). The upper electrode 1 (see FIG. 2) on the main surface is electrically connected to one end side of the lead 63a through a bonding wire 64. The lower electrode 2 (see FIG. 2) on the back surface is electrically connected to one end side of the lead 63b through the submount member 40 and the bonding wire 64.

半導体受光素子PDは、互いに反対側に位置する受光面(第1の面)及び裏面(第2の面)を有し、この受光面側に2つの電極を有する構成になっている。この2つの電極のうち、一方の電極は、ボンディングワイヤ64を介してリード63cの一端側と電気的に接続され、他方の電極は、ボンディングワイヤ64、マウント部材30及びステム61を介してリード63dの一端側と電気的に接続されている。   The semiconductor light receiving element PD has a light receiving surface (first surface) and a back surface (second surface) located on opposite sides, and has two electrodes on the light receiving surface side. Of these two electrodes, one electrode is electrically connected to one end side of the lead 63 c via the bonding wire 64, and the other electrode is a lead 63 d via the bonding wire 64, the mount member 30 and the stem 61. Is electrically connected to one end side of the.

キャップ部材65は、3方向が壁面で囲まれ、残りの1方向が開放された帽子型からなり、マウント部材30、サブマウント部材40、半導体発光素子LD1、半導体受光素子PD、及び3本のリード(36a〜63c)の各々の一端側等を覆うようにしてステム61の主面に接着固定されている。   The cap member 65 has a hat shape in which three directions are surrounded by wall surfaces and the remaining one direction is opened, and includes a mount member 30, a submount member 40, a semiconductor light emitting element LD1, a semiconductor light receiving element PD, and three leads. (36a to 63c) is adhered and fixed to the main surface of the stem 61 so as to cover one end side and the like of each.

キャップ部材65は、その中央に半導体発光素子LD1の前端面から出射された信号用の光(以下、信号光と呼ぶ)17を封止体60のキャビティの内部から外部に透過させる光透過窓66を有しており、この光透過窓66は、キャップ部材65に設けられた穴の部分に透明ガラス板を重ねて固定することによって形成される。   The cap member 65 has a light transmission window 66 that allows signal light (hereinafter referred to as signal light) 17 emitted from the front end surface of the semiconductor light emitting element LD1 to be transmitted from the inside of the cavity of the sealing body 60 to the outside at the center thereof. The light transmission window 66 is formed by stacking and fixing a transparent glass plate in a hole portion provided in the cap member 65.

本実施例の光モジュールは、半導体発光素子LD1から出射される信号光17とは別のモニター光18を半導体受光素子PDで受光して半導体発光素子LD1の特性をモニタリングするモニター機能が付加された構造になっている。   The optical module of the present embodiment is added with a monitor function for monitoring the characteristics of the semiconductor light emitting element LD1 by receiving the monitor light 18 different from the signal light 17 emitted from the semiconductor light emitting element LD1 by the semiconductor light receiving element PD. It has a structure.

次に、半導体発光素子LD1の構造について図3を用いて説明する。   Next, the structure of the semiconductor light emitting element LD1 will be described with reference to FIG.

図3に示すように、半導体発光素子LD1は、化合物半導体基板として例えばInPからなる基板1と、この基板1の主面上に形成された分布ブラッグ反射層(以下、DBR層と呼ぶ)4と、このDBR層4上に形成されたInPバッファ層5と、このInPバッファ層5上に形成された下部SCH層6と、この下部SCH層6上に活性層として形成されたMQW層7と、このMQW層7上に形成された上部SCH層8と、この上部SCH層8上に形成されたエッチング停止層9と、このエッチング停止層9上に形成されたInPクラッド層10と、このInPクラッド層10上に形成された絶縁膜からなるパッシベーション膜(保護膜)12と、このパッシベーション膜12上に形成された上部電極1及び1aと、基板1の主面とは反対側の裏面に形成された下部電極2とを有し、更に発光領域19及び非発光領域20を有している。   As shown in FIG. 3, the semiconductor light emitting element LD1 includes a substrate 1 made of, for example, InP as a compound semiconductor substrate, and a distributed Bragg reflection layer (hereinafter referred to as a DBR layer) 4 formed on the main surface of the substrate 1. InP buffer layer 5 formed on DBR layer 4, lower SCH layer 6 formed on InP buffer layer 5, MQW layer 7 formed as an active layer on lower SCH layer 6, The upper SCH layer 8 formed on the MQW layer 7, the etching stop layer 9 formed on the upper SCH layer 8, the InP clad layer 10 formed on the etch stop layer 9, and the InP clad A passivation film (protective film) 12 made of an insulating film formed on the layer 10, the upper electrodes 1 and 1 a formed on the passivation film 12, and the side opposite to the main surface of the substrate 1 And a lower electrode 2 formed on the back surface further includes a light emitting region 19 and a non-light-emitting region 20.

InPクラッド層10は、メサストライプ部10aと、このメサストライプ部10aを境にして互いに反対側に位置する一方及び他方の外側にそれぞれ形成された肩部(土手部)10bとを有している。メサストライプ部10a及び肩部10bは、InPクラッド層10に形成された2つのスリット部によって区分されている。   The InP clad layer 10 has a mesa stripe portion 10a and shoulders (bank portions) 10b formed on one and the other outer sides located on opposite sides of the mesa stripe portion 10a. . The mesa stripe portion 10a and the shoulder portion 10b are divided by two slit portions formed in the InP clad layer 10.

発光領域19と非発光領域20とは、InPクラッド層10からDBR層4の直前まで到達する溝16aによって区画されており、発光領域19は、MQW層7の一方向において互いに反対側に位置する第1及び第2の端面のうち、前記第1の端面に配置された反射膜13と、前記第2の端面に配置された反射鏡(以下、ミラーと呼ぶ)16とを有している。反射膜13の反射率(R1)は、DBR層4の反射率(R2)以下になっている。ミラー16は、MQW層7若しくは基板1に対して時計回りで略45度(反時計回りで135度)の角度をもって配置されており、発光領域19と非発光領域20とを区画する溝16aを形成することによって形成される。   The light emitting region 19 and the non-light emitting region 20 are partitioned by a groove 16a that reaches from the InP cladding layer 10 to just before the DBR layer 4, and the light emitting region 19 is located on the opposite side in one direction of the MQW layer 7. Of the first and second end faces, the reflecting film 13 is disposed on the first end face, and a reflecting mirror (hereinafter referred to as a mirror) 16 is disposed on the second end face. The reflectance (R1) of the reflective film 13 is less than or equal to the reflectance (R2) of the DBR layer 4. The mirror 16 is disposed at an angle of approximately 45 degrees clockwise (135 degrees counterclockwise) with respect to the MQW layer 7 or the substrate 1, and has a groove 16 a that partitions the light emitting area 19 and the non-light emitting area 20. It is formed by forming.

メサストライプ部10a及び肩部10bは発光領域19に設けられている。パッシベーション膜12は、発光領域19及び非活性領域20に形成されており、発光領域19においては、メサストライプ部10aの上面を除いて、メサストライプ部10aの側面、スリット部、肩部10bの上面及び側面を覆うようにして形成され、非活性領域20においては、InPクラッド層10のほぼ全面を覆うようにして形成されている。   The mesa stripe portion 10 a and the shoulder portion 10 b are provided in the light emitting region 19. The passivation film 12 is formed in the light emitting region 19 and the inactive region 20, and in the light emitting region 19, except for the upper surface of the mesa stripe portion 10a, the side surface of the mesa stripe portion 10a, the slit portion, and the upper surface of the shoulder portion 10b. The inactive region 20 is formed so as to cover almost the entire surface of the InP clad layer 10.

上部電極1は、発光領域19においてパッシベーション膜12上に形成されており、メサストライプ部10aの上面と電気的に接続され、肩部10bに対しては絶縁されている。この上部電極1には、光モジュールの製造において、半導体発光素子LD1をサブマウント部材にジャンクション・アップ方式で実装する場合はボンディングワイヤ64が接続され、半導体発光素子LD1をサブマウント部材にジャンクション・ダウン方式で実装する場合はサブマウント部材の電極が導電性接着材を介在して接続される。   The upper electrode 1 is formed on the passivation film 12 in the light emitting region 19, is electrically connected to the upper surface of the mesa stripe portion 10a, and is insulated from the shoulder portion 10b. When the semiconductor light emitting element LD1 is mounted on the submount member by the junction up method in the manufacture of the optical module, a bonding wire 64 is connected to the upper electrode 1, and the semiconductor light emitting element LD1 is junctioned down to the submount member. When mounting by a system, the electrode of a submount member is connected via a conductive adhesive.

上部電極1aは、非発光領域20においてパッシベーション膜12上に形成されており、InPクラッド層10と電気的に分離されている。この上部電極1aは、光モジュールの製造において、半導体発光素子LD1をサブマウント部材にジャンクション・ダウン方式で実装する場合にサブマウント部材の電極が例えば導電性接着材を介在して接続される。   The upper electrode 1 a is formed on the passivation film 12 in the non-light emitting region 20 and is electrically separated from the InP cladding layer 10. The upper electrode 1a is connected to the electrode of the submount member via a conductive adhesive, for example, when the semiconductor light emitting element LD1 is mounted on the submount member by a junction down method in the manufacture of the optical module.

下部電極2は、MQW層7で発生し、DBR層4を透過した光が基板3の裏面から出射できるように開口部15を有し、この開口部15には無反射膜14が形成されている。   The lower electrode 2 has an opening 15 so that light generated in the MQW layer 7 and transmitted through the DBR layer 4 can be emitted from the back surface of the substrate 3, and an antireflective film 14 is formed in the opening 15. Yes.

下部SCH層6はInGaAlAsからなり、InPバッファ層5とともに第1導電型(例えばn型)の下部クラッド層を形成している。上部SCH層8とエッチング停止層9はInGaAlAsからなり、InPからなるメサストライプ部10aとともに第1導電型とは逆導電型である第2導電型(例えばp型)の上部クラッド層を形成している。MQW層7の井戸層はInGaAsPから、障壁層はInGaAlAsからなり、1.55μm帯で発光するように材料の組成を調節している。DBR層4はInPとInGaAsPを交互に26対積層した構造をしており、光の波長1.55μm付近で良好な反射特性が得られるように層の厚さを調節している。   The lower SCH layer 6 is made of InGaAlAs, and forms a first conductivity type (for example, n-type) lower cladding layer together with the InP buffer layer 5. The upper SCH layer 8 and the etching stop layer 9 are made of InGaAlAs, and together with the mesa stripe portion 10a made of InP, a second conductivity type (for example, p-type) upper cladding layer having a conductivity type opposite to the first conductivity type is formed. Yes. The well layer of the MQW layer 7 is made of InGaAsP and the barrier layer is made of InGaAlAs, and the material composition is adjusted so that light is emitted in the 1.55 μm band. The DBR layer 4 has a structure in which 26 pairs of InP and InGaAsP are alternately laminated, and the thickness of the layer is adjusted so that good reflection characteristics can be obtained in the vicinity of a light wavelength of 1.55 μm.

本実施例の半導体発光素子LD1の大きさは、厚さ略150μm、長さ略300μm、幅略400μmとなっている。本実施例のミラー16はMQW層7に対して時計回りで略45度(反時計回りで135度)、かつ発光領域19の長さが略50μmとなるようにドライエッチング技術を用いてDBR層4の直上まで形成した。そのため、非発光領域20にはMQW層7に対して反時計回りで略135度(時計回りで45度)の傾斜面ができ、また、非発光領域20の長さは略250μmとなる。このように、共振器長が短くとも、非発光領域20が略250μmあり、素子全体として長さが略300μmあるので、真空ピンセットなどによる取り扱いが非常に容易となり、ハンドリング性を向上できる。   The semiconductor light emitting element LD1 of this example has a thickness of about 150 μm, a length of about 300 μm, and a width of about 400 μm. The mirror 16 of the present embodiment uses a dry etching technique so that the mirror 16 is approximately 45 degrees clockwise (135 degrees counterclockwise) with respect to the MQW layer 7 and the length of the light emitting region 19 is approximately 50 μm. 4 was formed immediately above. Therefore, the non-light emitting region 20 has an inclined surface of approximately 135 degrees counterclockwise (45 degrees clockwise) with respect to the MQW layer 7, and the length of the non-light emitting area 20 is approximately 250 μm. Thus, even if the resonator length is short, the non-light emitting region 20 is approximately 250 μm, and the length of the entire element is approximately 300 μm. Therefore, handling with vacuum tweezers or the like becomes very easy, and handling properties can be improved.

ここで、図3の(a)図に記載してある通り、メサストライプ部10aは、半導体発光素子LD1の反射膜13側の前端面から発光領域19内にのみに形成しており、その長さは本実施例では発光領域19よりも短い略40μmとしてある。そのため、メサストライプ部10aと肩部10bとの間に形成される段差が溝16a(ミラー16)を形成する時のエッチングの妨げとなることはなく、発光光の波長λに対してミラー16表面の段差がλ/10以下となる程度にミラー16が形成できるようになった。ただし、メサストライプ部10aとミラー16との間には横方向の閉じ込めがなく、そこでは横方向に光は拡大するが、長さが10μm程度であれば、特性上問題とならないことは本実施例の素子を用いた測定で確認済みである。   Here, as shown in FIG. 3A, the mesa stripe portion 10a is formed only in the light emitting region 19 from the front end face on the reflective film 13 side of the semiconductor light emitting element LD1, and its length. In this embodiment, it is about 40 μm shorter than the light emitting region 19. Therefore, the step formed between the mesa stripe portion 10a and the shoulder portion 10b does not hinder etching when forming the groove 16a (mirror 16), and the surface of the mirror 16 with respect to the wavelength λ of the emitted light. Thus, the mirror 16 can be formed to such an extent that the difference in level is λ / 10 or less. However, there is no lateral confinement between the mesa stripe portion 10a and the mirror 16, where the light expands in the lateral direction. However, if the length is about 10 μm, there is no problem in characteristics. It has been confirmed by measurement using the example element.

電気信号は電流として上部電極1もしくは下部電極2より注入され、その電流の大部分は発光領域19内のMQW層7で光に変換される。その光はミラー16を介して反射膜13とDBR層4で一部反射され、増幅される。このとき反射膜13の反射率R1とDBR層4の反射率R2がR1≦R2の関係にあるので、反射せずに透過した光はDBR層4よりも反射膜13の方から多く出射し、反射膜13を透過した光は信号光17となる。一方、信号光17よりも出力は小さいが、DBR層4を透過した光は基板3でほとんど損失を受けることなく、下部電極2の開口部15を透過して出射し、モニター光18として利用できる。このとき、下部電極2の開口部15には無反射膜14が施されているので、下部電極2によって反射される光は全くなく、また、基板3の底面で反射されDBR層4の方向へ戻る光はほとんどない。さらに、反射膜13より信号光17を、無反射膜14よりモニター光18を取り出すことにより、部品点数の増加やモジュールの複雑化を防ぎ、コスト上昇を抑えることができる。   The electric signal is injected as a current from the upper electrode 1 or the lower electrode 2, and most of the current is converted into light by the MQW layer 7 in the light emitting region 19. The light is partially reflected by the reflection film 13 and the DBR layer 4 through the mirror 16 and amplified. At this time, since the reflectance R1 of the reflective film 13 and the reflectance R2 of the DBR layer 4 are in a relationship of R1 ≦ R2, more light that has been transmitted without being reflected is emitted from the reflective film 13 than the DBR layer 4, The light that has passed through the reflective film 13 becomes signal light 17. On the other hand, although the output is smaller than that of the signal light 17, the light transmitted through the DBR layer 4 is transmitted through the opening 15 of the lower electrode 2 and hardly used as the monitor light 18 without receiving any loss at the substrate 3. . At this time, since the non-reflective film 14 is applied to the opening 15 of the lower electrode 2, there is no light reflected by the lower electrode 2, and the light is reflected by the bottom surface of the substrate 3 toward the DBR layer 4. There is almost no light to return. Further, by extracting the signal light 17 from the reflective film 13 and the monitor light 18 from the non-reflective film 14, it is possible to prevent an increase in the number of components and the complexity of the module and suppress an increase in cost.

非発光領域20において、上部電極1aの直下は、全体がパッシベーション膜12で覆われているので、上部電極1aから非発光領域20に電流が流れることは決してない。同様に発光領域19でも肩部10bの領域における上部電極1の直下は、パッシベーション膜12で覆われているので、電流が流れることは決してない。このように電流の流れない領域にも上部電極1と1aを形成しているのは、上部電極1及び1a側をマウント側にするジャンクション・ダウン方式で半導体発光素子LD1を実装する際、肩部10b直上の上部電極1と非発光領域20の上部電極1aもハンダ等で固定することにより、素子全体を安定させるためである。   In the non-light emitting region 20, the entire portion of the non-light emitting region 20 immediately below the upper electrode 1 a is covered with the passivation film 12, so that no current flows from the upper electrode 1 a to the non light emitting region 20. Similarly, in the light emitting region 19, since the portion immediately below the upper electrode 1 in the region of the shoulder portion 10 b is covered with the passivation film 12, current never flows. The reason why the upper electrodes 1 and 1a are formed also in the region where current does not flow is that when the semiconductor light emitting device LD1 is mounted by the junction down method in which the upper electrodes 1 and 1a are mounted. This is because the upper electrode 1 immediately above 10b and the upper electrode 1a of the non-light emitting region 20 are also fixed with solder or the like to stabilize the entire element.

次に、本実施例の半導体発光素子LD1と半導体受光素子PDとの実装形態について図2を用いて説明する。   Next, a mounting form of the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD of the present embodiment will be described with reference to FIG.

マウント部材30は、第1の面31と、この第1の面31よりも高さ位置が高い第2の面32とを有し、第1の面31と第2の面32とが非平行の関係になっている。   The mount member 30 has a first surface 31 and a second surface 32 having a height higher than that of the first surface 31, and the first surface 31 and the second surface 32 are non-parallel. It has become a relationship.

サブマウント部材40は、例えばAlNからなるベース部材41と、このベース部材41の主面に形成された電極42aと、このベース部材41の主面とは反対側の裏面に形成された電極42bとを有し、電極42aと電極42bとが略平行の関係になっている。   The submount member 40 includes, for example, a base member 41 made of AlN, an electrode 42a formed on the main surface of the base member 41, and an electrode 42b formed on the back surface opposite to the main surface of the base member 41. The electrode 42a and the electrode 42b are in a substantially parallel relationship.

半導体受光素子PDは、その受光面PDAとは反対側の裏面がマウント部材30の第1の面31側に位置する状態でマウント部材30の第1の面31に例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して実装されている。   The semiconductor light receiving element PD has a conductive adhesive material such as solder on the first surface 31 of the mount member 30 with the back surface opposite to the light receiving surface PDA positioned on the first surface 31 side of the mount member 30. 35 is interposed.

サブマウント部材40は、その裏面側の電極42bがマウント部材30の第2の面32側に位置する状態でマウント部材30の第2の面32に例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して接着固定されている。本実施例において、サブマウント部材40は、その一部がマウント部材30の第1の面31上に位置する状態でマウント部材30の第2の面32に接着固定されている。   The submount member 40 has a conductive adhesive 35 such as solder interposed on the second surface 32 of the mount member 30 in a state where the electrode 42b on the back surface side is located on the second surface 32 side of the mount member 30. Are fixed by bonding. In the present embodiment, the submount member 40 is bonded and fixed to the second surface 32 of the mount member 30 in a state where a part of the submount member 40 is located on the first surface 31 of the mount member 30.

半導体発光素子LD1は、半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2がサブマウント部材40の主面側の電極42aに例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して電気的に接続された状態で、かつ半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15がサブマウント部材40と平面的に重ならない状態で、サブマウント部材40に実装されている。また、半導体発光素子LD1は、半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15が半導体受光素子PDの受光面PDAと平面的に重なる状態でサブマウント部材40に実装されている。即ち、本実施例の半導体発光素子LD1は、その裏面側の下部電極2がサブマウント部材40側に位置するジャンクション・アップ方式でサブマウント部材40に実装されている。   In the semiconductor light emitting device LD1, the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting device LD1 is electrically connected to the electrode 42a on the main surface side of the submount member 40 through a conductive adhesive 35 such as solder. In addition, the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 is mounted on the submount member 40 so as not to overlap the submount member 40 in a planar manner. The semiconductor light emitting element LD1 is mounted on the submount member 40 in a state where the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 overlaps the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD in a plane. Yes. That is, the semiconductor light emitting element LD1 of this embodiment is mounted on the submount member 40 by a junction-up method in which the lower electrode 2 on the back side is located on the submount member 40 side.

半導体受光素子PDは、その受光面PDAが半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15と平面的に重なるように前記半導体発光素子LD1の裏面側に配置されている。   The semiconductor light receiving element PD is arranged on the back side of the semiconductor light emitting element LD1 so that the light receiving surface PDA overlaps the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back side of the semiconductor light emitting element LD1 in a plane.

即ち、本実施例において、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDは、半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15から出射したモニター光18が半導体発光素子LD1の裏面側に配置された半導体発光素子PDの受光面PDAに到達できるように実装されている。   That is, in the present embodiment, the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD are such that the monitor light 18 emitted from the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 is reflected on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1. It is mounted so as to be able to reach the light receiving surface PDA of the semiconductor light emitting device PD arranged in the above.

半導体受光素子PDの受光面PDAは、半導体発光素子LD1のMQW層7若しくは基板1に対して非平行になっている。換言すれば、半導体受光素子PDは、その受光面PDAが半導体発光素子LD1の裏面側から出射したモニター光18の光軸に対して垂直(直角)とならないように配置されている。本実施例では、半導体受光素子PDの受光面PDAと、半導体発光素子LD1のMQW層7若しくは基板1との非平行状態は、例えば、半導体発光素子LD1のMQW層7若しくは基板1に対してマウント部材30の第1の面31を非平行状態とすることによって行われている。   The light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD is not parallel to the MQW layer 7 or the substrate 1 of the semiconductor light emitting element LD1. In other words, the semiconductor light receiving element PD is arranged such that the light receiving surface PDA is not perpendicular (perpendicular) to the optical axis of the monitor light 18 emitted from the back side of the semiconductor light emitting element LD1. In this embodiment, the non-parallel state between the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD and the MQW layer 7 or the substrate 1 of the semiconductor light emitting element LD1 is mounted on, for example, the MQW layer 7 or the substrate 1 of the semiconductor light emitting element LD1. This is done by making the first surface 31 of the member 30 non-parallel.

このように構成された光モジュールにおいて、ボンディングワイヤ64を介して半導体発光素子LD1へ伝えられた電気信号は、半導体発光素子LD1にて光信号に変換され、半導体発光素子LD1の前端面側の反射膜13から出射した光は信号光17として外部へ伝えられる。一方、半導体発光素子LD1の裏面側における下部電極2の開口部15から出射したモニター光18は、半導体発光素子LD1の裏面側に配置された半導体受光素子PDの受光面PDAに入射し、この半導体受光素子PDで電気信号などに変換され、外部へ半導体発光素子LD1の状態などの情報を伝える。このとき、半導体発光素子LD1の裏面側における下部電極2の開口部15から出射し、半導体受光素子PDへ入射するモニター光18が半導体受光素子PDの受光面で反射されたとしても、この反射光18aが半導体発光素子LD1へ戻り光として戻り、半導体発光素子LD1の特性を劣化させることはない。   In the optical module configured as described above, an electrical signal transmitted to the semiconductor light emitting element LD1 through the bonding wire 64 is converted into an optical signal by the semiconductor light emitting element LD1, and reflected on the front end face side of the semiconductor light emitting element LD1. Light emitted from the film 13 is transmitted to the outside as signal light 17. On the other hand, the monitor light 18 emitted from the opening 15 of the lower electrode 2 on the back side of the semiconductor light emitting element LD1 is incident on the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD disposed on the back side of the semiconductor light emitting element LD1. The light receiving element PD converts it into an electrical signal or the like, and transmits information such as the state of the semiconductor light emitting element LD1 to the outside. At this time, even if the monitor light 18 emitted from the opening 15 of the lower electrode 2 on the back side of the semiconductor light emitting element LD1 and incident on the semiconductor light receiving element PD is reflected by the light receiving surface of the semiconductor light receiving element PD, this reflected light 18a returns to the semiconductor light emitting element LD1 as light and does not deteriorate the characteristics of the semiconductor light emitting element LD1.

このように、本実施例によれば、DBR層(分布ブラッグ反射層)4上のMQW層(活性層)7の一方向の端面にこのMQW層7に対して時計回りで略45度(反時計回りで135度)の角度をもってミラー(反射鏡)16が配置された端面発光型の半導体発光素子LD1において、MQW層7で発光し、DBR層4を透過した光が基板1の裏面から出射できるように、基板1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15及び開口部15に設けられた無反射膜14を有する構成とすることにより、信号光17とは別にモニター光18を出射することが可能となる。   Thus, according to the present embodiment, the end face in one direction of the MQW layer (active layer) 7 on the DBR layer (distributed Bragg reflection layer) 4 is approximately 45 degrees clockwise (anti-clockwise) with respect to the MQW layer 7. In the edge-emitting semiconductor light emitting device LD1 in which the mirror (reflecting mirror) 16 is arranged at an angle of 135 degrees in a clockwise direction, light emitted from the MQW layer 7 and transmitted through the DBR layer 4 is emitted from the back surface of the substrate 1. The monitor light 18 can be separated from the signal light 17 by providing the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the substrate 1 and the non-reflective film 14 provided in the opening 15 so that the monitor light 18 is separated from the signal light 17. The light can be emitted.

また、このような構造の半導体発光素子LD1を使用し、半導体受光素子PDの受光面PDAが半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15と平面的に重なるように、半導体発光素子LD1の裏面側に半導体受光素子PDを配置することにより、組み立てが容易で、かつ少ない部品点数で低コストのモニター機能付き光モジュールを提供することができる。   Further, using the semiconductor light emitting element LD1 having such a structure, the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD is planarly overlapped with the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1. By disposing the semiconductor light-receiving element PD on the back surface side of the semiconductor light-emitting element LD1, it is possible to provide an optical module with a monitor function that is easy to assemble and has a low number of parts and a low cost.

[実施例2]
本実施例2では、光モジュールにおいて、半導体発光素子及び半導体受光素子を実装する第2の実装形態について説明する。
[Example 2]
In the second embodiment, a second mounting form in which the semiconductor light emitting element and the semiconductor light receiving element are mounted in the optical module will be described.

図4は、本発明の実施例2である光モジュールにおいて、半導体発光素子と半導体受光素子との実装状態を示す図である。   FIG. 4 is a diagram illustrating a mounting state of the semiconductor light emitting element and the semiconductor light receiving element in the optical module that is Embodiment 2 of the present invention.

本実施例2の光モジュールは、基本的に前述の実施例1の光モジュールと同様の構成になっており、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDを実装する実装形態が異なっている。以下、本実施例の半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDを実装する第2の実装形態について図4を用いて説明する。   The optical module according to the second embodiment basically has the same configuration as that of the optical module according to the first embodiment described above, and the mounting form for mounting the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD is different. Hereinafter, a second mounting form for mounting the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD of the present embodiment will be described with reference to FIG.

本実施例の光モジュールは、図1に示す封止体60のキャビティ内に、図4に示すように、マウント部材30、サブマウント部材40、半導体発光素子LD1、半導体受光素子PD等を配置している。   In the optical module of this embodiment, a mount member 30, a submount member 40, a semiconductor light emitting element LD1, a semiconductor light receiving element PD, and the like are arranged in the cavity of the sealing body 60 shown in FIG. 1, as shown in FIG. ing.

マウント部材30は、第1の面31と、この第1の面31よりも高さ位置が高い第2の面32とを有しており、この第1の面31と第2の面32とは略平行の関係になっている。本実施例において、マウント部材30は凹部を有し、この凹部の底面が第1の面31であり、この凹部の外側の上面が第2の面32である。マウント部材30は、実施例1と同様に、ステム61の主面に接着固定されている。   The mount member 30 has a first surface 31 and a second surface 32 that is higher in height than the first surface 31. The first surface 31, the second surface 32, Are in a substantially parallel relationship. In this embodiment, the mount member 30 has a recess, the bottom surface of the recess is the first surface 31, and the upper surface outside the recess is the second surface 32. The mount member 30 is bonded and fixed to the main surface of the stem 61 as in the first embodiment.

本実施例のサブマウント部材40は、ベース部材41aと、ベース部材41aの主面に形成された電極42aと、電極42aに形成された開口部43aと、開口部43aに形成された無反射膜44aと、ベース部材41の主面とは反対側の裏面に形成された電極42bと、電極42bに開口部43aと対向して形成された開口部43bと、開口部43bに形成された無反射膜44bとを有する構成になっている。本実施例のベース部材41aは、前述の実施例1のベース部材41とは異なり、光透過性材料である例えばシリコンからなる。   The submount member 40 of this embodiment includes a base member 41a, an electrode 42a formed on the main surface of the base member 41a, an opening 43a formed in the electrode 42a, and an antireflective film formed in the opening 43a. 44a, an electrode 42b formed on the back surface opposite to the main surface of the base member 41, an opening 43b formed on the electrode 42b opposite to the opening 43a, and a non-reflective formed on the opening 43b And a film 44b. Unlike the base member 41 of the first embodiment, the base member 41a of the present embodiment is made of, for example, silicon that is a light transmissive material.

半導体受光素子PDは、その受光面PDAとは反対側の裏面がマウント部材30の凹部の底面である第1の面31側に位置する状態でマウント部材30の第1の面31に例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して実装されている。   The semiconductor light receiving element PD is disposed on the first surface 31 of the mount member 30 with, for example, solder or the like, with the back surface opposite to the light receiving surface PDA positioned on the first surface 31 side which is the bottom surface of the recess of the mount member 30. The conductive adhesive 35 is mounted.

サブマウント部材40は、サブマウント部材40の裏面側の電極42bがマウント部材30の凹部の外側の上面である第2の面32側に位置し、サブマウント部材40の裏面側の電極42bに形成された開口部43bが半導体受光素子PDの受光面PDAと平面的に重なる状態でマウント部材30の第2の面32に例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して接着固定されている。本実施例において、サブマウント部材40は、マウント部材30の凹部を跨ぐ又は塞ぐようしてマウント部材30の第2の面32に接着固定されている。   In the submount member 40, the electrode 42 b on the back surface side of the submount member 40 is positioned on the second surface 32 side, which is the upper surface outside the recess of the mount member 30, and is formed on the electrode 42 b on the back surface side of the submount member 40. The formed opening 43b is bonded and fixed to the second surface 32 of the mount member 30 with a conductive adhesive 35 such as solder interposed therebetween in a state where the opening 43b overlaps the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD. In this embodiment, the submount member 40 is bonded and fixed to the second surface 32 of the mount member 30 so as to straddle or close the recess of the mount member 30.

半導体発光素子LD1は、半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2がサブマウント部材40の主面側の電極42aに例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して電気的に接続された状態で、かつ半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15がサブマウント部材40の主面側の電極42aに形成された開口部43aと平面的に重なる状態でサブマウント部材40に実装されている。   In the semiconductor light emitting device LD1, the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting device LD1 is electrically connected to the electrode 42a on the main surface side of the submount member 40 through a conductive adhesive 35 such as solder. And the submount member in a state where the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 overlaps the opening 43a formed in the electrode 42a on the main surface side of the submount member 40 in a plane. 40.

本実施例においても、半導体受光素子PDは、その受光面PDAが半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15と平面的に重なるように半導体発光素子LD1の裏面側に配置されている。   Also in the present embodiment, the semiconductor light receiving element PD is disposed on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 so that the light receiving surface PDA overlaps the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1. Has been placed.

即ち、本実施例において、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDは、半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15から出射したモニター光18がサブマウント部材40のベース部材41aを透過して半導体発光素子LD1の裏面側に配置された半導体発光素子PDの受光面PDAに到達できるように実装されている。   That is, in the present embodiment, the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD are such that the monitor light 18 emitted from the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 is the base member of the submount member 40. The semiconductor light emitting device PD is mounted so as to be able to reach the light receiving surface PDA of the semiconductor light emitting device PD disposed on the back surface side of the semiconductor light emitting device LD1.

本実施例のサブマウント部材40において、主面側の電極42aと裏面側の電極42bとは略平行の関係になっている。一方、主面側における電極42aの開口部43aに形成された無反射膜44aと、裏面側における電極42bの開口部43に形成された無反射膜44bとは、非平行の関係になっている。本実施例において、無反射膜44aと44bとの非平行の関係は、ベース部材41aの裏面の無反射膜形成部に溝45を形成することによって行われている。   In the submount member 40 of the present embodiment, the main surface side electrode 42a and the back surface side electrode 42b are in a substantially parallel relationship. On the other hand, the non-reflective film 44a formed in the opening 43a of the electrode 42a on the main surface side and the non-reflective film 44b formed on the opening 43 of the electrode 42b on the back surface side have a non-parallel relationship. . In this embodiment, the non-parallel relationship between the non-reflective films 44a and 44b is achieved by forming a groove 45 in the non-reflective film forming portion on the back surface of the base member 41a.

本実施例のサブマウント部材40において、主面側における電極42aの開口部43aに形成された無反射膜44aは、半導体受光素子PDの受光面PDAに対して略平行の関係になっている。一方、裏面側における電極42bの開口部43bに形成された無反射膜44bは、半導体受光素子PDの受光面PDAに対して非平行の関係になっている。   In the submount member 40 of the present embodiment, the non-reflective film 44a formed in the opening 43a of the electrode 42a on the main surface side has a substantially parallel relationship with the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD. On the other hand, the non-reflective film 44b formed in the opening 43b of the electrode 42b on the back side has a non-parallel relationship with the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD.

このように構成された本実施例の光モジュールにおいて、ボンディングワイヤ64を介して半導体発光素子LD1へ伝えられた電気信号は、半導体発光素子PDにて光信号に変換され、半導体発光素子LD1の前端面側の反射膜13から出射した光は信号光17として外部へ伝えられる。一方、半導体発光素子LD1の裏面側における下部電極2の開口部15から出射したモニター光18はサブマウント部材40のベース部材41aを透過して半導体受光素子PDの受光面PDAに入射し、半導体受光素子PDで電気信号などに変換され、外部へ半導体発光素子LD1の状態などの情報を伝える。このとき、サブマウント部材40にモニター光18が入射する領域には無反射膜(44a,44b)が表裏面に形成されているので、サブマウント部材40の表裏面でモニター光18が反射されることはほとんどない。また、サブマウント部材40のベース部材41aはシリコンで出来ているので、1.3μm帯および1.55μm帯の光を吸収することはないので、モニター光18がサブマウント部材40で吸収されることはない。さらに、サブマウント部材40の裏面に形成された溝45が略垂直に入射したモニター光18の進路を曲げるため、サブマウント部材40を透過して半導体受光素子PDの受光面PDAから入射するモニター光18が半導体受光素子PDの受光面PDAで反射されたとしても、反射光18aが半導体発光素子LD1へ戻り光として戻り、半導体発光素子LD1の特性を劣化させることはない。   In the optical module of the present embodiment configured as described above, the electrical signal transmitted to the semiconductor light emitting element LD1 through the bonding wire 64 is converted into an optical signal by the semiconductor light emitting element PD, and the front end of the semiconductor light emitting element LD1. Light emitted from the reflective film 13 on the surface side is transmitted to the outside as signal light 17. On the other hand, the monitor light 18 emitted from the opening 15 of the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 passes through the base member 41a of the submount member 40 and enters the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD. It is converted into an electric signal or the like by the element PD, and information such as the state of the semiconductor light emitting element LD1 is transmitted to the outside. At this time, since the antireflective films (44a, 44b) are formed on the front and back surfaces in the region where the monitor light 18 is incident on the submount member 40, the monitor light 18 is reflected on the front and back surfaces of the submount member 40. There is hardly anything. Further, since the base member 41a of the submount member 40 is made of silicon, it does not absorb light in the 1.3 μm band and 1.55 μm band, so that the monitor light 18 is absorbed by the submount member 40. There is no. Further, since the groove 45 formed on the back surface of the submount member 40 bends the path of the monitor light 18 incident substantially perpendicularly, the monitor light is transmitted through the submount member 40 and incident from the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD. Even if 18 is reflected by the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD, the reflected light 18a returns to the semiconductor light emitting element LD1 and does not deteriorate the characteristics of the semiconductor light emitting element LD1.

尚、溝45はサブマウント部材40の主面の非反射膜形成領域に設けることも可能である。また、溝45は溝でなくとも、それと同様な機能をもつものであればよい。ただし、反射光18aが信号光17と干渉し信号を劣化させないように、例えば本実施例のように反射光18aが信号光17とは逆方向に向うように溝45を形成する必要がある。例えば、実施例1のように、半導体受光素子PDの受光面PDAが半導体発光素子LD1の裏面側から出射したモニター光18の光軸に対して垂直とならないように、半導体受光素子PDが実装されるマウント部材30の第1の面31をモニター光18の光軸に対して傾斜させてもよい。   The groove 45 can also be provided in a non-reflective film forming region on the main surface of the submount member 40. Further, the groove 45 may be a groove having the same function as that of the groove 45. However, in order to prevent the reflected light 18a from interfering with the signal light 17 and degrading the signal, it is necessary to form the groove 45 so that the reflected light 18a is directed in the opposite direction to the signal light 17, as in the present embodiment. For example, as in the first embodiment, the semiconductor light receiving element PD is mounted so that the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD is not perpendicular to the optical axis of the monitor light 18 emitted from the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1. The first surface 31 of the mounting member 30 may be inclined with respect to the optical axis of the monitor light 18.

このように、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDは、半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15から出射したモニター光18がサブマウント部材40のベース部材41aを透過して半導体発光素子LD1の裏面側に配置された半導体発光素子PDの受光面PDAに到達できるように、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDを実装することにより、本実施例2においても、前述の実施例1と同様に、組み立てが容易で、かつ少ない部品点数で低コストのモニター機能付き光モジュールを提供することができる。   Thus, in the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD, the monitor light 18 emitted from the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 is transmitted through the base member 41a of the submount member 40. Then, the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD are mounted so as to reach the light receiving surface PDA of the semiconductor light emitting element PD disposed on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1. As in the first embodiment, it is possible to provide an optical module with a monitoring function that is easy to assemble and has a small number of parts and is low in cost.

[実施例3]
本実施例3では、光モジュールにおいて、半導体発光素子及び半導体受光素子を実装する第3の実装形態について説明する。
[Example 3]
In the third embodiment, a third mounting mode in which a semiconductor light emitting element and a semiconductor light receiving element are mounted in an optical module will be described.

図5は、本発明の実施例3である光モジュールにおいて、半導体発光素子と半導体受光素子との実装状態を示す図である。   FIG. 5 is a diagram illustrating a mounting state of the semiconductor light emitting element and the semiconductor light receiving element in the optical module that is Embodiment 3 of the present invention.

本実施例3の光モジュールは、基本的に前述の実施例1の光モジュールと同様の構成になっており、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDを実装する実装形態が異なっている。以下、本実施例の半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDを実装する第3の実装形態について図5を用いて説明する。   The optical module of the third embodiment has basically the same configuration as the optical module of the first embodiment described above, and the mounting form for mounting the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD is different. Hereinafter, a third mounting mode for mounting the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD of the present embodiment will be described with reference to FIG.

本実施例の光モジュールは、図1に示す封止体60のキャビティ内に、図5に示すように、マウント部材30、サブマウント部材40、半導体発光素子LD1、半導体受光素子PD等を配置している。   In the optical module of this embodiment, a mount member 30, a submount member 40, a semiconductor light emitting element LD1, a semiconductor light receiving element PD, and the like are arranged in the cavity of the sealing body 60 shown in FIG. 1, as shown in FIG. ing.

マウント部材30は、第1の面31と、この第1の面31よりも高さ位置が高い第2の面32とを有しており、この第1の面31と第2の面32とは非平行の関係になっている。本実施例において、マウント部材30は凹部を有し、この凹部の底面が第1の面31であり、この凹部の外側の上面が第2の面32である。   The mount member 30 has a first surface 31 and a second surface 32 that is higher in height than the first surface 31. The first surface 31, the second surface 32, Are non-parallel. In this embodiment, the mount member 30 has a recess, the bottom surface of the recess is the first surface 31, and the upper surface outside the recess is the second surface 32.

サブマウント部材40は、例えばAlNからなるベース部材41と、このベース部材41の主面に形成された電極42aと、このベース部材41bの主面とは反対側の裏面に形成された電極42bと、電極42aから電極42bに亘って貫通する貫通孔46とを有し、電極42aと電極42bとが略平行の関係になっている。   The submount member 40 includes, for example, a base member 41 made of AlN, an electrode 42a formed on the main surface of the base member 41, and an electrode 42b formed on the back surface opposite to the main surface of the base member 41b. The through-hole 46 penetrates from the electrode 42a to the electrode 42b, and the electrode 42a and the electrode 42b are in a substantially parallel relationship.

半導体受光素子PDは、その受光面PDAとは反対側の裏面がマウント部材30の凹部の底面である第1の面31側に位置する状態でマウント部材30の第1の面31に例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して実装されている。   The semiconductor light receiving element PD is disposed on the first surface 31 of the mount member 30 with, for example, solder or the like, with the back surface opposite to the light receiving surface PDA positioned on the first surface 31 side which is the bottom surface of the recess of the mount member 30. The conductive adhesive 35 is mounted.

サブマウント部材40は、サブマウント部材40の裏面側の電極42aがマウント部材30の第2の面32側に位置し、サブマウント部材40の貫通孔46が半導体受光素子PDの受光面PDAと平面的に重なる状態でマウント部材30の第2の面32に例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して接着固定されている。本実施例において、サブマウント部材40は、前述の実施例2と同様に、マウント部材30の凹部を跨ぐ又は塞ぐようにしてマウント部材30の第2の面32に接着固定されている。   In the submount member 40, the electrode 42 a on the back surface side of the submount member 40 is positioned on the second surface 32 side of the mount member 30, and the through hole 46 of the submount member 40 is flat with the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD. In a state of overlapping, the second surface 32 of the mount member 30 is bonded and fixed with a conductive adhesive 35 such as solder interposed therebetween. In the present embodiment, the submount member 40 is bonded and fixed to the second surface 32 of the mount member 30 so as to straddle or close the concave portion of the mount member 30 as in the second embodiment.

半導体発光素子LD1は、半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2がサブマウント部材40の主面側の電極42aに例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して電気的に接続された状態で、かつ半導体発光素子LD1の裏面側の電極2に形成された開口部15がサブマウント部材40の貫通孔46と平面的に重なる状態でサブマウント部材40に実装されている。   In the semiconductor light emitting device LD1, the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting device LD1 is electrically connected to the electrode 42a on the main surface side of the submount member 40 through a conductive adhesive 35 such as solder. In addition, the opening 15 formed in the electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 is mounted on the submount member 40 so as to overlap the through hole 46 of the submount member 40 in a planar manner.

半導体受光素子PDの受光面PDAは、半導体発光素子LD1のMQW層7若しくは基板1に対して非平行になっている。換言すれば、半導体受光素子PDは、その受光面PDAが半導体発光素子LD1の裏面側から出射したモニター光18の光軸に対して垂直(直角)とならないように配置されている。本実施例では、半導体受光素子PDの受光面PDAと、半導体発光素子LD1のMQW層7若しくは基板1との非平行状態は、例えば、半導体発光素子LD1のMQW層7若しくは基板1に対してマウント部材30の第1の面31を非平行状態とすることによって行われている。   The light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD is not parallel to the MQW layer 7 or the substrate 1 of the semiconductor light emitting element LD1. In other words, the semiconductor light receiving element PD is arranged such that the light receiving surface PDA is not perpendicular (perpendicular) to the optical axis of the monitor light 18 emitted from the back side of the semiconductor light emitting element LD1. In this embodiment, the non-parallel state between the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD and the MQW layer 7 or the substrate 1 of the semiconductor light emitting element LD1 is mounted on, for example, the MQW layer 7 or the substrate 1 of the semiconductor light emitting element LD1. This is done by making the first surface 31 of the member 30 non-parallel.

本実施例においても、半導体受光素子PDは、その受光面PDAが半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15と平面的に重なるように半導体発光素子LD1の裏面側に配置されている。   Also in the present embodiment, the semiconductor light receiving element PD is disposed on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 so that the light receiving surface PDA overlaps the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1. Has been placed.

即ち、本実施例において、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDは、半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15から出射したモニター光18がサブマウント部材40の貫通孔46を通過して半導体発光素子LD1の裏面側に配置された半導体発光素子PDの受光面PDAに到達できるように実装されている。   That is, in the present embodiment, the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD have the monitor light 18 emitted from the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1. It is mounted so that it can pass through 46 and reach the light receiving surface PDA of the semiconductor light emitting device PD disposed on the back surface side of the semiconductor light emitting device LD1.

このように構成された本実施例の光モジュールにおいて、ボンディングワイヤ64を介して半導体発光素子LD1へ伝えられた電気信号は、半導体発光素子LD1にて光信号に変換され、半導体発光素子LD1の前端面側の反射膜13から出射した光は信号光17として外部へ伝えられる。一方、半導体発光素子LD1の裏面側における下部電極2の開口部15から出射したモニター光18は、サブマウント部材40に設けられた貫通孔(ビアホール)46を通過して半導体受光素子PDの受光面PDAに入射し、半導体受光素子PDで電気信号などに変換され、外部へ半導体発光素子LD1の状態などの情報を伝える。このとき、マウント部材30の第2の面32に対して第1の面31は略傾斜させてあるので、半導体受光素子PDの受光面PDAへ入射するモニター光18が半導体受光素子PDの受光面PDAで反射されたとしても、反射光18aが半導体発光素子LD1へ戻り光として戻り、半導体発光素子LD1の特性を劣化させることはない。ただし、傾斜の方向は、反射光18aが信号光17と干渉し信号を劣化させないように、例えば本実施例のように反射光18aが信号光17と逆方向に向うように傾斜させる必要がある。   In the optical module of the present embodiment configured as described above, the electrical signal transmitted to the semiconductor light emitting element LD1 through the bonding wire 64 is converted into an optical signal by the semiconductor light emitting element LD1, and the front end of the semiconductor light emitting element LD1. Light emitted from the reflective film 13 on the surface side is transmitted to the outside as signal light 17. On the other hand, the monitor light 18 emitted from the opening 15 of the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 passes through a through hole (via hole) 46 provided in the submount member 40, and the light receiving surface of the semiconductor light receiving element PD. The light enters the PDA, is converted into an electric signal or the like by the semiconductor light receiving element PD, and transmits information such as the state of the semiconductor light emitting element LD1 to the outside. At this time, since the first surface 31 is substantially inclined with respect to the second surface 32 of the mount member 30, the monitor light 18 incident on the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD is received by the light receiving surface of the semiconductor light receiving element PD. Even if the light is reflected by the PDA, the reflected light 18a returns to the semiconductor light emitting element LD1 as light and does not deteriorate the characteristics of the semiconductor light emitting element LD1. However, the direction of the inclination needs to be inclined so that the reflected light 18a is directed in the opposite direction to the signal light 17 as in the present embodiment, for example, so that the reflected light 18a does not interfere with the signal light 17 and deteriorate the signal. .

このように、半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15から出射したモニター光18がサブマウント部材40の貫通孔46を通過して半導体発光素子LD1の裏面側に配置された半導体発光素子PDの受光面PDAに到達できるように、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDを実装することにより、本実施例3においても、前述の実施例1と同様に、組み立てが容易で、かつ少ない部品点数で低コストのモニター機能付き光モジュールを提供することができる。   As described above, the monitor light 18 emitted from the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 passes through the through hole 46 of the submount member 40 and is disposed on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1. By mounting the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD so that they can reach the light receiving surface PDA of the manufactured semiconductor light emitting element PD, the assembly can be easily performed in the third embodiment as in the first embodiment. In addition, a low-cost optical module with a monitoring function can be provided with a small number of parts.

[実施例4]
本実施例4では、光モジュールにおいて、半導体発光素子及び半導体受光素子を実装する第4の実装形態について説明する。
[Example 4]
In the fourth embodiment, a fourth mounting mode in which a semiconductor light emitting element and a semiconductor light receiving element are mounted in an optical module will be described.

図6は、本発明の実施例4である光モジュールにおいて、半導体発光素子と半導体受光素子との実装状態を示す図である。   FIG. 6 is a diagram illustrating a mounting state of the semiconductor light emitting element and the semiconductor light receiving element in the optical module that is Embodiment 4 of the present invention.

本実施例4の光モジュールは、基本的に前述の実施例1の光モジュールと同様の構成になっており、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDを実装する実装形態が異なっている。以下、本実施例の半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDを実装する第4の実装形態について図6を用いて説明する。   The optical module according to the fourth embodiment has basically the same configuration as the optical module according to the first embodiment described above, and the mounting form for mounting the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD is different. Hereinafter, a fourth mounting mode for mounting the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD of the present embodiment will be described with reference to FIG.

本実施例の光モジュールは、図1に示す封止体60のキャビティ内に、図6に示すように、マウント部材30、サブマウント部材40及び50、半導体発光素子LD1、半導体受光素子PD等を配置している。   As shown in FIG. 6, the optical module of this embodiment includes a mount member 30, submount members 40 and 50, a semiconductor light emitting element LD1, a semiconductor light receiving element PD, and the like in the cavity of the sealing body 60 shown in FIG. It is arranged.

マウント部材30は、第1の面31と、この第1の面31よりも高さ位置が高い第2の面32とを有しており、この第1の面31と第2の面32とは略平行の関係になっている。   The mount member 30 has a first surface 31 and a second surface 32 that is higher in height than the first surface 31. The first surface 31, the second surface 32, Are in a substantially parallel relationship.

サブマウント部材50は、例えばAlNからなるベース部材51と、このベース部材51の主面に形成された電極52aと、このベース部材51の主面とは反対側の裏面に形成された電極52bとを有し、電極52aと電極52bとが略平行になっている。   The submount member 50 includes, for example, a base member 51 made of AlN, an electrode 52a formed on the main surface of the base member 51, and an electrode 52b formed on the back surface opposite to the main surface of the base member 51. The electrode 52a and the electrode 52b are substantially parallel to each other.

本実施例のサブマウント部材40は、前述の実施例2と同様に、光透過性材料である例えばシリコンからなるベース部材41aと、このベース部材41aの主面に形成された電極42aと、この電極42aに形成された開口部43aと、この開口部43aに形成された無反射膜44aと、ベース部材41aの主面とは反対側の裏面に形成された電極42bと、この電極42bに開口部43aと対向して形成された開口部43bと、この開口部43bに形成された無反射膜44bとを有する構成になっている。   As in the second embodiment, the submount member 40 of the present embodiment includes a base member 41a made of, for example, silicon, which is a light transmissive material, an electrode 42a formed on the main surface of the base member 41a, An opening 43a formed in the electrode 42a, an antireflective film 44a formed in the opening 43a, an electrode 42b formed on the back surface opposite to the main surface of the base member 41a, and an opening in the electrode 42b The structure has an opening 43b formed facing the portion 43a and a non-reflective film 44b formed in the opening 43b.

サブマウント部材50は、サブマウント部材50の裏面側の電極52bがマウント部材30の第1の面31側に位置する状態でマウント部材30の第1の面31に例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して接着固定されている。   The submount member 50 has a conductive adhesive such as solder on the first surface 31 of the mount member 30 with the electrode 52b on the back surface side of the submount member 50 positioned on the first surface 31 side of the mount member 30. 35 is bonded and fixed.

半導体発光素子LD1は、半導体発光素子LD1の主面側の上部電極1がサブマウント部材50の主面側の電極52a側と例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して電気的に接続された状態でサブマウント部材50に実装されている。即ち、本実施例の半導体発光素子LD1は、その主面側の上部電極1がサブマウント部材50側に位置するジャンクション・ダウン方式でサブマウント部材50に実装されている。   In the semiconductor light emitting element LD1, the upper electrode 1 on the main surface side of the semiconductor light emitting element LD1 is electrically connected to the electrode 52a side on the main surface side of the submount member 50 via a conductive adhesive 35 such as solder. In this state, it is mounted on the submount member 50. That is, the semiconductor light emitting element LD1 of the present embodiment is mounted on the submount member 50 by a junction down method in which the upper electrode 1 on the main surface side is located on the submount member 50 side.

本実施例のサブマウント部材40は、前述の実施例2とは異なり、サブマウント部材40の主面側の電極42aがマウント部材30の第2の面32側に位置し、サブマウント部材40の主面側の電極42aに形成された開口部43aが半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15と平面的に重なる状態でマウント部材30の第2の面32aに例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して接着固定されている。本実施例において、サブマウント部材40は、前述の実施例1と同様に、その一部がマウント部材30の第1の面31上に位置する状態でマウント部材30の第2の面32に接着固定されている。   Unlike the above-described second embodiment, the submount member 40 of the present embodiment has an electrode 42a on the main surface side of the submount member 40 located on the second surface 32 side of the mount member 30, and For example, the opening 43a formed in the main surface side electrode 42a overlaps the second surface 32a of the mount member 30 with the opening 15 formed in the lower electrode 2 formed on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 in plan view. The conductive adhesive 35 such as solder is interposed and fixed. In the present embodiment, the submount member 40 is bonded to the second surface 32 of the mount member 30 in a state where a part of the submount member 40 is located on the first surface 31 of the mount member 30 as in the first embodiment. It is fixed.

半導体受光素子PDは、半導体受光素子PDの受光面PDA側の電極がサブマウント部材40の裏面側の電極42bに例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して電気的に接続された状態で、かつ半導体受光素子PDの受光面PDAがサブマウント部材40の裏面側の電極42bに形成された開口部43bと平面的に重なる状態でサブマウント部材40に実装されている。   In the semiconductor light receiving element PD, the electrode on the light receiving surface PDA side of the semiconductor light receiving element PD is electrically connected to the electrode 42b on the back surface side of the submount member 40 with a conductive adhesive 35 such as solder interposed therebetween. The light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD is mounted on the submount member 40 in a state where the light receiving surface PDA overlaps the opening 43b formed in the electrode 42b on the back surface side of the submount member 40 in a plane.

本実施例においても、半導体受光素子PDは、その受光面PDAが半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15と平面的に重なるように半導体発光素子LD1の裏面側に配置されている。   Also in the present embodiment, the semiconductor light receiving element PD is disposed on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 so that the light receiving surface PDA overlaps the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1. Has been placed.

即ち、本実施例において、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDは、半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15から出射したモニター光18がサブマウント部材40のベース部材41aを透過して半導体発光素子LD1の裏面側に配置された半導体発光素子PDの受光面PDAに到達できるように実装されている。   That is, in the present embodiment, the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD are such that the monitor light 18 emitted from the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 is the base member of the submount member 40. The semiconductor light emitting device PD is mounted so as to be able to reach the light receiving surface PDA of the semiconductor light emitting device PD disposed on the back surface side of the semiconductor light emitting device LD1.

本実施例のサブマウント部材40において、主面側の電極42aと裏面側の電極42bとは略平行の関係になっている。一方、主面側における電極42aの開口部43aに形成された無反射膜44aと、裏面側における電極42bの開口部43bに形成された無反射膜44bとは、非平行の関係になっている。本実施例において、無反射膜44aと44bとの非平行の関係は、ベース部材41aの裏面の無反射膜形成部に溝45を形成することによって行われている。   In the submount member 40 of the present embodiment, the main surface side electrode 42a and the back surface side electrode 42b are in a substantially parallel relationship. On the other hand, the non-reflective film 44a formed in the opening 43a of the electrode 42a on the main surface side and the non-reflective film 44b formed on the opening 43b of the electrode 42b on the back surface side have a non-parallel relationship. . In this embodiment, the non-parallel relationship between the non-reflective films 44a and 44b is achieved by forming a groove 45 in the non-reflective film forming portion on the back surface of the base member 41a.

ここで、半導体発光素子LD1は、その主面側の上部電極1及び1aがサブマウント部材40側に位置する状態(ジャンクション・ダウン方式)でサブマウント部材40に実装されているが、発光領域19の上部電極1と非発光領域20の上部電極1aとが略同一高さになっているので、上部電極1と上部電極1aともに導電性接着材35で固定することができ、素子全体を安定させて実装することができる。特に、本実施例の半導体発光素子LD1は、共振器長(発光領域19)が短くとも、非発光領域20が略250μmあり、素子全体として長さが略300μmあるので、より安定させて実装することができる。   Here, the semiconductor light emitting element LD1 is mounted on the submount member 40 in a state in which the upper electrodes 1 and 1a on the main surface side are located on the submount member 40 side (junction down method). Since the upper electrode 1 and the upper electrode 1a of the non-light-emitting region 20 have substantially the same height, both the upper electrode 1 and the upper electrode 1a can be fixed by the conductive adhesive 35, and the entire device is stabilized. Can be implemented. In particular, the semiconductor light emitting device LD1 of the present embodiment is mounted more stably because the non-light emitting region 20 is approximately 250 μm and the overall length is approximately 300 μm even though the resonator length (light emitting region 19) is short. be able to.

このように構成された光モジュールにおいて、ボンディングワイヤ64を介して半導体発光素子LD1へ伝えられた電気信号は、半導体発光素子LD1にて光信号に変換され、半導体発光素子LD1の前端面側の反射膜13から出射した光は信号光17として外部へ伝えられる。一方、半導体発光素子LD1の裏面側における下部電極2の開口部15から出射したモニター光18はサブマウント部材40のベース部材41aを透過して半導体受光素子PDの受光面PDAに入射し、半導体受光素子PDで電気信号などに変換され、外部へ半導体発光素子LD1の状態などの情報を伝える。このとき、サブマウント部材40にモニター光18が入射する領域には無反射膜(44a,44b)が主面及び裏面(表裏面)に形成されているので、サブマウント部材40の表裏面でモニター光18が反射されることはほとんどない。また、サブマウント部材40はシリコンで出来ているので、1.3μm帯および1.55μm帯の光を吸収することはないので、モニター光18がサブマウント部材40で吸収されることはない。さらに、サブマウント部材40の裏面に形成された溝45が略垂直に入射したモニター光18の進路を曲げるため、サブマウント部材40を透過して半導体受光素子PDの受光面PDAから入射するモニター光18が半導体受光素子PDの受光面PDAで反射されたとしても、反射光18aが半導体発光素子LD1へ戻り光として戻り、半導体発光素子LD1の特性を劣化させることはない。   In the optical module configured as described above, an electrical signal transmitted to the semiconductor light emitting element LD1 through the bonding wire 64 is converted into an optical signal by the semiconductor light emitting element LD1, and reflected on the front end face side of the semiconductor light emitting element LD1. Light emitted from the film 13 is transmitted to the outside as signal light 17. On the other hand, the monitor light 18 emitted from the opening 15 of the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 passes through the base member 41a of the submount member 40 and enters the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD. It is converted into an electric signal or the like by the element PD, and information such as the state of the semiconductor light emitting element LD1 is transmitted to the outside. At this time, since the non-reflective films (44a, 44b) are formed on the main surface and the back surface (front and back surfaces) in the region where the monitor light 18 enters the submount member 40, monitoring is performed on the front and back surfaces of the submount member 40. The light 18 is hardly reflected. Further, since the submount member 40 is made of silicon, it does not absorb light in the 1.3 μm band and 1.55 μm band, so that the monitor light 18 is not absorbed by the submount member 40. Further, since the groove 45 formed on the back surface of the submount member 40 bends the path of the monitor light 18 incident substantially perpendicularly, the monitor light is transmitted through the submount member 40 and incident from the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD. Even if 18 is reflected by the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD, the reflected light 18a returns to the semiconductor light emitting element LD1 and does not deteriorate the characteristics of the semiconductor light emitting element LD1.

尚、溝45は、サブマウント部材40の主面の非反射膜形成領域に設けることも可能である。また、溝45は溝でなくとも、それと同様な機能をもつものであればよい。ただし、反射光18aが信号光17と干渉し信号を劣化させないように、例えば本実施例のように反射光18aが信号光17と逆方向に向うように溝45を形成する必要がある。   The groove 45 can also be provided in a non-reflective film forming region on the main surface of the submount member 40. Further, the groove 45 may be a groove having the same function as that of the groove 45. However, in order to prevent the reflected light 18a from interfering with the signal light 17 and degrading the signal, it is necessary to form the groove 45 so that the reflected light 18a is directed in the opposite direction to the signal light 17, as in the present embodiment.

このように、半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15から出射したモニター光18がサブマウント部材40のベース部材41aを透過して半導体発光素子LD1の裏面側に配置された半導体発光素子PDの受光面PDAに到達できるように、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDを実装することにより、本実施例4においても、前述の実施例1と同様に、組み立てが容易で、かつ少ない部品点数で低コストのモニター機能付き光モジュールを提供することができる。   As described above, the monitor light 18 emitted from the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 passes through the base member 41a of the submount member 40 and is disposed on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1. By mounting the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD so that they can reach the light receiving surface PDA of the manufactured semiconductor light emitting element PD, the fourth embodiment can be easily assembled as in the first embodiment. In addition, a low-cost optical module with a monitoring function can be provided with a small number of parts.

また、本実施例4では、半導体発光素子LD1は、サブマウント部材40にジャンクション・ダウン方式で実装されているが、半導体発光素子LD1の発光領域19における上部電極1と非発光領域20における上部電極1aとが略同一高さにあるので、上部電極1と上部電極1aともに導電性接着材35でサブマウント部材50の主面側の電極52aに接着固定することができるので、素子全体を安定させて実装することができる。   In the fourth embodiment, the semiconductor light emitting element LD1 is mounted on the submount member 40 by the junction down method, but the upper electrode 1 in the light emitting region 19 and the upper electrode in the non-light emitting region 20 of the semiconductor light emitting element LD1. Since the upper electrode 1 and the upper electrode 1a can be bonded and fixed to the electrode 52a on the main surface side of the submount member 50 with the conductive adhesive 35, the entire device is stabilized. Can be implemented.

[実施例5]
本実施例5では、光モジュールにおいて、半導体発光素子及び半導体受光素子を実装する第5の実装形態について説明する。
[Example 5]
In the fifth embodiment, a fifth mounting mode in which a semiconductor light emitting element and a semiconductor light receiving element are mounted in an optical module will be described.

図7は、本発明の実施例5である光モジュールにおいて、半導体発光素子と半導体受光素子との実装状態を示す図である。   FIG. 7 is a diagram illustrating a mounting state of a semiconductor light emitting element and a semiconductor light receiving element in an optical module that is Embodiment 5 of the present invention.

本実施例5の光モジュールは、基本的に前述の実施例1の光モジュールと同様の構成になっており、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDを実装する実装形態が異なっている。以下、本実施例の半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDを実装する第5の実装形態について図7を用いて説明する。   The optical module of the fifth embodiment basically has the same configuration as the optical module of the first embodiment described above, and the mounting form for mounting the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD is different. Hereinafter, a fifth mounting form for mounting the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD of the present embodiment will be described with reference to FIG.

本実施例の光モジュールは、図1に示す封止体60のキャビティ内に、図7に示すように、マウント部材30、サブマウント部材40及び50、半導体発光素子LD1、半導体受光素子PD等を配置している。   As shown in FIG. 7, the optical module of this embodiment includes a mount member 30, submount members 40 and 50, a semiconductor light emitting element LD1, a semiconductor light receiving element PD, and the like in the cavity of the sealing body 60 shown in FIG. It is arranged.

マウント部材30は、第1の面31と、この第1の面31よりも高さ位置が高い第2の面32とを有しており、この第1の面31と第2の面32とは略平行の関係になっている。   The mount member 30 has a first surface 31 and a second surface 32 that is higher in height than the first surface 31. The first surface 31, the second surface 32, Are in a substantially parallel relationship.

サブマウント部材50は、例えばAlNからなるベース部材51と、このベース部材51の主面に形成された電極52aと、このベース部材51の主面とは反対側の裏面に形成された電極52bとを有し、電極52aと電極52bとが略平行になっている。   The submount member 50 includes, for example, a base member 51 made of AlN, an electrode 52a formed on the main surface of the base member 51, and an electrode 52b formed on the back surface opposite to the main surface of the base member 51. The electrode 52a and the electrode 52b are substantially parallel to each other.

本実施例のサブマウント部材40は、前述の実施例3のサブマウント部材40と同様に、例えばAlNからなるベース部材41と、このベース部材41の主面に形成された電極42aと、このベース部材41bの主面とは反対側の裏面に形成された電極42bと、電極42aから電極42bに亘って貫通する貫通孔46とを有する構成になっているが、前述の実施例3とは異なり、電極42aと電極42bとが非平行の関係になっている。本実施例において、主面側の電極42aは貫通孔46の延在方向に対して略垂直になっており、裏面側の電極42bは貫通孔の延在方向に対して傾斜する非垂直になっている。   Similar to the submount member 40 of the third embodiment, the submount member 40 of the present embodiment includes a base member 41 made of, for example, AlN, an electrode 42a formed on the main surface of the base member 41, and the base. Although it has the structure which has the electrode 42b formed in the back surface on the opposite side to the main surface of the member 41b, and the through-hole 46 penetrated from the electrode 42a to the electrode 42b, it differs from the above-mentioned Example 3. The electrode 42a and the electrode 42b are in a non-parallel relationship. In the present embodiment, the main surface side electrode 42a is substantially perpendicular to the extending direction of the through hole 46, and the back surface side electrode 42b is non-vertically inclined with respect to the extending direction of the through hole. ing.

サブマウント部材50は、サブマウント部材50の裏面側の電極42bがマウント部材30の第1の面31側に位置する状態でマウント部材30の第1の面31に例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して接着固定されている。   The submount member 50 has a conductive adhesive material such as solder on the first surface 31 of the mount member 30 in a state where the electrode 42b on the back surface side of the submount member 50 is positioned on the first surface 31 side of the mount member 30. 35 is bonded and fixed.

半導体発光素子LD1は、半導体発光素子LD1の主面側の上部電極1がサブマウント部材50の主面側の電極52a側と例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して電気的に接続された状態でサブマウント部材50に実装されている。即ち、本実施例の半導体発光素子LD1は、その主面側の上部電極1がサブマウント部材50側に位置するジャンクション・ダウン方式でサブマウント部材50に実装されている。   In the semiconductor light emitting element LD1, the upper electrode 1 on the main surface side of the semiconductor light emitting element LD1 is electrically connected to the electrode 52a side on the main surface side of the submount member 50 via a conductive adhesive 35 such as solder. In this state, it is mounted on the submount member 50. That is, the semiconductor light emitting element LD1 of the present embodiment is mounted on the submount member 50 by a junction down method in which the upper electrode 1 on the main surface side is located on the submount member 50 side.

本実施例のサブマウント部材40は、前述の実施例3と同様に、サブマウント部材40の主面側の電極42aがマウント部材30の第2の面32側に位置し、サブマウント部材40の主面側の電極42aに形成された開口部43aが半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15と平面的に重なる状態でマウント部材30の第2の面32に例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して接着固定されている。本実施例において、サブマウント部材40は、前述の実施例1と同様に、その一部がマウント部材30の第1の面31上に位置する状態でマウント部材30の第2の面32に接着固定されている。   In the submount member 40 of this embodiment, the electrode 42a on the main surface side of the submount member 40 is located on the second surface 32 side of the mount member 30 in the same manner as in the third embodiment described above. For example, the opening 43a formed in the electrode 42a on the main surface side overlaps the second surface 32 of the mount member 30 with the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 in plan view, for example. The conductive adhesive 35 such as solder is interposed and fixed. In the present embodiment, the submount member 40 is bonded to the second surface 32 of the mount member 30 in a state where a part of the submount member 40 is located on the first surface 31 of the mount member 30 as in the first embodiment. It is fixed.

半導体受光素子PDは、半導体受光素子PDの受光面PDA側の電極がサブマウント部材40の裏面側の電極42bに例えばハンダ等の導電性接着材35を介在して電気的に接続された状態で、かつ半導体受光素子PDの受光面PDAがサブマウント部材40の裏面側の電極42bに形成された開口部43bと平面的に重なる状態でサブマウント部材40に実装されている。   In the semiconductor light receiving element PD, the electrode on the light receiving surface PDA side of the semiconductor light receiving element PD is electrically connected to the electrode 42b on the back surface side of the submount member 40 with a conductive adhesive 35 such as solder interposed therebetween. The light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD is mounted on the submount member 40 in a state where the light receiving surface PDA overlaps the opening 43b formed in the electrode 42b on the back surface side of the submount member 40 in a plane.

本実施例においても、半導体受光素子PDは、その受光面PDAが半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15と平面的に重なるように半導体発光素子LD1の裏面側に配置されている。   Also in the present embodiment, the semiconductor light receiving element PD is disposed on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 so that the light receiving surface PDA overlaps the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1. Has been placed.

半導体受光素子PDの受光面PDAは、半導体発光素子LD1のMQW層7若しくは基板1に対して非平行になっている。換言すれば、半導体受光素子PDは、その受光面PDAが半導体発光素子LD1の裏面側から出射したモニター光18の光軸に対して垂直(直角)とならないように配置されている。本実施例では、半導体受光素子PDの受光面PDAと、半導体発光素子LD1のMQW層7若しくは基板1との非平行状態は、例えば、半導体発光素子LD1のMQW層7若しくは基板1に対してサブマウント部材40の裏面側の電極42bを非平行状態とすることによって行われている。   The light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD is not parallel to the MQW layer 7 or the substrate 1 of the semiconductor light emitting element LD1. In other words, the semiconductor light receiving element PD is arranged such that the light receiving surface PDA is not perpendicular (perpendicular) to the optical axis of the monitor light 18 emitted from the back side of the semiconductor light emitting element LD1. In the present embodiment, the non-parallel state between the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD and the MQW layer 7 or the substrate 1 of the semiconductor light emitting element LD1 is, for example, a sub-level with respect to the MQW layer 7 or the substrate 1 of the semiconductor light emitting element LD1. This is done by bringing the electrode 42b on the back side of the mount member 40 into a non-parallel state.

本実施例において、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDは、半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15から出射したモニター光18がサブマウント部材40の貫通孔46を通過して半導体発光素子LD1の裏面側に配置された半導体発光素子PDの受光面PDAに到達できるように実装されている。   In the present embodiment, in the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD, the monitor light 18 emitted from the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 passes through the through hole 46 of the submount member 40. It is mounted so as to be able to pass through and reach the light receiving surface PDA of the semiconductor light emitting element PD disposed on the back side of the semiconductor light emitting element LD1.

このように構成された本実施例の光モジュールにおいて、ボンディングワイヤ64を介して半導体発光素子LD1へ伝えられた電気信号は、半導体発光素子LD1にて光信号に変換され、半導体発光素子LD1の前端面側の反射膜13から出射した光は信号光17として外部へ伝えられる。一方、半導体発光素子LD1の裏面側における下部電極2の開口部15から出射したモニター光18は、サブマウント部材40に設けられた貫通孔46を通過して半導体受光素子PDの受光面PDAに入射し、半導体受光素子PDで電気信号などに変換され、外部へ半導体発光素子LD1の状態などの情報を伝える。このとき、サブマウント部材40の裏面側が略傾斜しており、このサブマウント部材40の裏面側に実装された半導体受光素子PDの受光面PDAは、半導体発光素子LDの裏面側から出射されたモニター光18の光軸に対して非垂直となっているので、半導体受光素子PDの受光面PDAへ入射するモニター光18が半導体受光素子PDの受光面PDAで反射されたとしても、反射光18aが半導体発光素子LD1へ戻り光として戻り、半導体発光素子LD1の特性を劣化させることはない。ただし、前記傾斜の方向は、反射光18aが信号光17と干渉し信号を劣化させないように、例えば本実施例のように反射光318aが信号光17と逆方向に向うように傾斜させる必要がある。   In the optical module of the present embodiment configured as described above, the electrical signal transmitted to the semiconductor light emitting element LD1 through the bonding wire 64 is converted into an optical signal by the semiconductor light emitting element LD1, and the front end of the semiconductor light emitting element LD1. Light emitted from the reflective film 13 on the surface side is transmitted to the outside as signal light 17. On the other hand, the monitor light 18 emitted from the opening 15 of the lower electrode 2 on the back side of the semiconductor light emitting element LD1 passes through the through hole 46 provided in the submount member 40 and enters the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD. Then, it is converted into an electrical signal or the like by the semiconductor light receiving element PD, and information such as the state of the semiconductor light emitting element LD1 is transmitted to the outside. At this time, the back surface side of the submount member 40 is substantially inclined, and the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD mounted on the back surface side of the submount member 40 is a monitor emitted from the back surface side of the semiconductor light emitting element LD. Since it is non-perpendicular to the optical axis of the light 18, even if the monitor light 18 incident on the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving device PD is reflected by the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving device PD, the reflected light 18a is not reflected. The light returns to the semiconductor light emitting element LD1 as light and does not deteriorate the characteristics of the semiconductor light emitting element LD1. However, the direction of the inclination needs to be inclined so that the reflected light 318a is directed in the opposite direction to the signal light 17 so that the reflected light 18a does not interfere with the signal light 17 and deteriorate the signal. is there.

このように、半導体発光素子LD1の裏面側の下部電極2に形成された開口部15から出射したモニター光18がサブマウント部材40の貫通孔46を通過して半導体発光素子LD1の裏面側に配置された半導体発光素子PDの受光面PDAに到達できるように、半導体発光素子LD1及び半導体受光素子PDを実装することにより、本実施例5においても、前述の実施例1と同様に、組み立てが容易で、かつ少ない部品点数で低コストのモニター機能付き光モジュールを提供することができる。   As described above, the monitor light 18 emitted from the opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1 passes through the through hole 46 of the submount member 40 and is disposed on the back surface side of the semiconductor light emitting element LD1. By mounting the semiconductor light emitting element LD1 and the semiconductor light receiving element PD so that they can reach the light receiving surface PDA of the manufactured semiconductor light emitting element PD, also in the fifth embodiment, assembling is easy as in the first embodiment. In addition, a low-cost optical module with a monitoring function can be provided with a small number of parts.

また、本実施例5では、前述の実施例4と同様に、半導体発光素子LD1は、サブマウント部材40にジャンクション・ダウン方式で実装されているが、半導体発光素子LD1の発光領域19における上部電極1と非発光領域20における上部電極1aとが略同一高さにあるので、上部電極1と上部電極1aともに導電性接着材35でサブマウント部材50の主面側の電極52aに接着固定することができるので、素子全体を安定させて実装することができる。   In the fifth embodiment, similarly to the fourth embodiment, the semiconductor light emitting element LD1 is mounted on the submount member 40 by the junction down method, but the upper electrode in the light emitting region 19 of the semiconductor light emitting element LD1. 1 and the upper electrode 1a in the non-light emitting region 20 are substantially at the same height, both the upper electrode 1 and the upper electrode 1a are bonded and fixed to the electrode 52a on the main surface side of the submount member 50 with the conductive adhesive 35. Therefore, the entire device can be stably mounted.

[実施例6]
本実施例6では、光モジュールに半導体受光素子と共に組み込まれる半導体発光素子において、前述の実施例1乃至5の半導体発光素子とは構造が異なる他の半導体発光素子について説明する。
[Example 6]
In the sixth embodiment, a description will be given of another semiconductor light emitting device having a structure different from that of the semiconductor light emitting devices of the first to fifth embodiments described above in the semiconductor light emitting device incorporated in the optical module together with the semiconductor light receiving device.

図8は、本発明の実施例の光モジュールに半導体受光素子と共に組み込まれる他の半導体発光素子の概略構成を示す図((a)は平面図,(b)は(a)のA−A’線に沿った断面構造を示す断面図,(c)は(a)のB−B’線に沿った断面構造を示す断面図,(d)は底面図)である。   FIG. 8 is a diagram showing a schematic configuration of another semiconductor light emitting element incorporated in the optical module of the embodiment of the present invention together with the semiconductor light receiving element ((a) is a plan view, and (b) is AA ′ of (a)). FIG. 6C is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure along the line, FIG. 5C is a cross-sectional view showing the cross-sectional structure along the line BB ′ in FIG.

本実施例の半導体発光素子LD2は、図8に示すように、上部電極1、下部電極2、基板3、DBR層4、InPバッファ層5、下部SCH層6、MQW層7、上部SCH層8、エッチング停止層9、パッシベーション膜12、反射膜13、無反射膜14、開口部(電極穴)15、ミラー(反射鏡)16、埋め込み層23、DFB層24、上部InP層26、メサストライプ部27等を有している。   As shown in FIG. 8, the semiconductor light emitting device LD2 of this example includes an upper electrode 1, a lower electrode 2, a substrate 3, a DBR layer 4, an InP buffer layer 5, a lower SCH layer 6, an MQW layer 7, and an upper SCH layer 8. Etching stop layer 9, passivation film 12, reflective film 13, non-reflective film 14, opening (electrode hole) 15, mirror (reflecting mirror) 16, buried layer 23, DFB layer 24, upper InP layer 26, mesa stripe portion 27 etc.

下部SCH層6はInGaAlAsからなり、InPバッファ層5とともに第1導電型(例えばn型)の下部クラッド層を形成している。上部SCH層8とエッチング停止層9はInGaAlAsからなり、DFB層24はInGaAsPとInPからなり、ピッチは約202nm、デューティーは5:5となるように作製し、InPからなるInP層26と共に第1導電型とは逆導電型である第2導電型(例えばp型)の上部クラッド層を形成している。本実施例では、InPバッファ層5と、下部SCH層6と、MQW層7と、上部SCH層8と、エッチング停止層9と、DFB層24と、上部InP層26とがメサストライプ部27を形成している。MQW層7の井戸層と障壁層はともにInGaAlAsからなり、1.31μm帯で発光するように材料の組成を調節している。DBR層4はInPとInGaAsPを交互に26対積層した構造をしており、光の波長1.31μm付近で良好な反射特性が得られるよう層の厚さを調節している。   The lower SCH layer 6 is made of InGaAlAs, and forms a first conductivity type (for example, n-type) lower cladding layer together with the InP buffer layer 5. The upper SCH layer 8 and the etching stop layer 9 are made of InGaAlAs, the DFB layer 24 is made of InGaAsP and InP, the pitch is about 202 nm, the duty is 5: 5, and the first P is formed together with the InP layer 26 made of InP. An upper clad layer of a second conductivity type (for example, p-type) that is opposite to the conductivity type is formed. In this embodiment, the InP buffer layer 5, the lower SCH layer 6, the MQW layer 7, the upper SCH layer 8, the etching stop layer 9, the DFB layer 24, and the upper InP layer 26 form the mesa stripe portion 27. Forming. Both the well layer and the barrier layer of the MQW layer 7 are made of InGaAlAs, and the material composition is adjusted so that light is emitted in the 1.31 μm band. The DBR layer 4 has a structure in which 26 pairs of InP and InGaAsP are alternately stacked, and the thickness of the layer is adjusted so that good reflection characteristics can be obtained in the vicinity of a light wavelength of 1.31 μm.

本実施例の半導体素子の大きさは厚さ略150μm、長さ略300μm、幅略400μmとなっている。ドライエッチング技術もしくはウェットエッチングを用いて、図8に示すようにメサストライプ部27を形成し、その後、メサストライプ部27が形成されている領域以外をInPやFe−InP、Ru−InPで埋め込むことによって埋め込み層23を形成し、素子全体の表面を概平坦化した。本実施例のミラー16はMQW層7に対して時計回りで略45度、かつ発光領域19の長さが略50μmとなるようにウェットエッチングを用いてDBR層4の直上まで形成した。このとき、図8の非発光領域20にもMQW層7に対して反時計回りで略45度の傾斜ができ、かつ非発光領域20の長さが略250μmとなるようにした。このように、共振器長が短くとも、非発光領域20が略250μmあり、素子全体として長さが略300μmあるので、真空ピンセットなどによる取り扱いが非常に容易となる。また、非発光領域20にもウェットエッチされない領域を形成することによって、ジャンクション・ダウン方式で半導体発光素子LD2を実装するときに役に立つようにした。   The semiconductor element of this example has a thickness of about 150 μm, a length of about 300 μm, and a width of about 400 μm. Using a dry etching technique or wet etching, the mesa stripe portion 27 is formed as shown in FIG. 8, and then the region other than the region where the mesa stripe portion 27 is formed is filled with InP, Fe—InP, or Ru—InP. As a result, the buried layer 23 was formed, and the entire surface of the device was roughly planarized. The mirror 16 of this example was formed up to just above the DBR layer 4 by wet etching so that the clockwise direction with respect to the MQW layer 7 was about 45 degrees and the length of the light emitting region 19 was about 50 μm. At this time, the non-light-emitting region 20 of FIG. 8 is also inclined approximately 45 degrees counterclockwise with respect to the MQW layer 7 and the length of the non-light-emitting region 20 is about 250 μm. Thus, even if the resonator length is short, the non-light emitting region 20 is approximately 250 μm, and the length of the entire element is approximately 300 μm. Therefore, handling by vacuum tweezers or the like is very easy. Further, by forming a region that is not wet-etched in the non-light emitting region 20, it is useful when mounting the semiconductor light emitting element LD2 by the junction down method.

ここで、図8の(a)図に記載してある通り、メサストライプ部27は、反射膜13が形成された前端面から発光領域19内にのみに形成しており、その長さは本実施例では発光領域19よりも短い略40μmとしてある。そのため、メサストライプ部27を形成する下部クラッド層やMQW層7、上部クラッド層のエッチングレートなどの違いによってウェットエッチング時に表面が荒れることを防ぎ、発光光の波長λに対してミラー16表面の段差がλ/10以下となる程度にミラー16が形成できるようになった。このように、ウェットエッチングを用いても、きれいにミラー16形成が出来るのが本実施例の特徴の1つである。ただし、非導波領域25では横方向および縦方向に光の閉じ込めがなく、光は拡散するが、MQW層7の端からミラー16を介してDBR層4の表面までの距離が10μm程度ならほとんど特性に影響がないことは本実施例の素子を用いた測定で確認済みである。   Here, as shown in FIG. 8A, the mesa stripe portion 27 is formed only in the light emitting region 19 from the front end surface on which the reflective film 13 is formed, and the length thereof is In the embodiment, it is approximately 40 μm shorter than the light emitting region 19. Therefore, the surface of the mirror 16 is prevented from being roughened during wet etching due to the difference in etching rates of the lower cladding layer, the MQW layer 7 and the upper cladding layer forming the mesa stripe portion 27, and the surface of the mirror 16 with respect to the wavelength λ of the emitted light. Thus, the mirror 16 can be formed to such an extent that λ / 10 or less. As described above, one feature of the present embodiment is that the mirror 16 can be formed cleanly even when wet etching is used. However, in the non-waveguide region 25, there is no light confinement in the horizontal direction and the vertical direction, and the light diffuses. However, if the distance from the end of the MQW layer 7 to the surface of the DBR layer 4 via the mirror 16 is about 10 μm It has been confirmed by measurement using the element of this example that there is no influence on the characteristics.

電気信号は電流として上部電極1もしくは下部電極2より注入され、その電流の大部分は発光領域19内のMQW層7で光に変換される。その光はDFB層24および反射膜13、ミラー16を介してDBR層4で反射されながら増幅していく。このとき、反射膜13の反射率R1とDBR層4の反射率R2がR1≦R2の関係にあるので、反射せずに透過した光はDBR層4よりも反射膜13の方から多く出射し、反射膜13を透過した光は信号光17となる。一方、信号光17よりも出力は小さいが、DBR層4を透過した光は基板3でほとんど損失を受けることなく、下部電極1の開口部15を透過して出射し、モニター光18として利用できる。このとき、下部電極1の開口部15には無反射膜14が施されているので、下部電極2によって反射される光は全くなく、また、基板3の底面で反射されDBR層4の方向へ戻る光はほとんどない。さらに、反射膜13より信号光17を、無反射膜14よりモニター光18をそれぞれ取り出すことにより、部品点数の増加やモジュールの複雑化を防ぎ、コスト上昇を抑えることができる。   The electric signal is injected as a current from the upper electrode 1 or the lower electrode 2, and most of the current is converted into light by the MQW layer 7 in the light emitting region 19. The light is amplified while being reflected by the DBR layer 4 via the DFB layer 24, the reflective film 13, and the mirror 16. At this time, since the reflectance R1 of the reflective film 13 and the reflectance R2 of the DBR layer 4 are in a relationship of R1 ≦ R2, more light that is transmitted without being reflected is emitted from the reflective film 13 than the DBR layer 4. The light transmitted through the reflection film 13 becomes signal light 17. On the other hand, although the output is smaller than that of the signal light 17, the light transmitted through the DBR layer 4 is transmitted through the opening 15 of the lower electrode 1 and is used as the monitor light 18 with almost no loss at the substrate 3. . At this time, since the non-reflective film 14 is applied to the opening 15 of the lower electrode 1, no light is reflected by the lower electrode 2, and the light is reflected by the bottom surface of the substrate 3 toward the DBR layer 4. There is almost no light to return. Further, by extracting the signal light 17 from the reflective film 13 and the monitor light 18 from the non-reflective film 14, it is possible to prevent an increase in the number of components and the complexity of the module, thereby suppressing an increase in cost.

非発光領域20において、上部電極1aの直下は、全体がパッシベーション膜12で覆われているので、上部電極1aから非発光領域20に電流が流れることは決してない。同様に発光領域19でも埋め込み層23における上部電極1の直下は、パッシベーション膜12で覆われているので、電流が流れることは決してない。このように、電流の流れない領域にも上部電極1と1aを形成しているのは、上部電極1及び1a側をマウント側にするジャンクション・ダウン方式で半導体発光素子LD2を実装をする際、埋め込み層23直上の上部電極1と非発光領域20の上部電極1aもハンダ等で固定することにより、素子全体を安定させるためである。   In the non-light emitting region 20, the entire portion of the non-light emitting region 20 immediately below the upper electrode 1 a is covered with the passivation film 12, so that no current flows from the upper electrode 1 a to the non light emitting region 20. Similarly, in the light emitting region 19, since the portion of the buried layer 23 immediately below the upper electrode 1 is covered with the passivation film 12, no current flows. As described above, the upper electrodes 1 and 1a are formed also in the region where no current flows, when the semiconductor light emitting element LD2 is mounted by the junction down method in which the upper electrodes 1 and 1a are mounted. This is because the upper electrode 1 immediately above the buried layer 23 and the upper electrode 1a of the non-light emitting region 20 are also fixed with solder or the like, thereby stabilizing the entire device.

このように構成された半導体発光素子LD2においても、前述の実施例1〜5で説明した実装形態で半導体受光素子PDとともに光モジュールに組み込むことにより、前述の実施例1〜5と同様の効果が得られる。   Also in the semiconductor light emitting element LD2 configured in this way, the same effects as in the above-described Examples 1 to 5 can be obtained by incorporating the semiconductor light-receiving element PD together with the semiconductor light receiving element PD in the mounting form described in the above Examples 1 to 5. can get.

なお、上記の特許文献1〜3には、本実施例の「前端面から信号光17を出射し、基板3の裏面側の電極2に形成された開口部15からモニター光18を出射する端発光型の半導体発光素子(LD1,LD2)」については記載されておらず、また、本実施例の「半導体発光素子(LD1,LD2)の裏面側の下部電極2に形成された開口部15から出射したモニター光18が半導体発光素子(LD1,LD2)の裏面側に配置された半導体受光素子PDの受光面PDAに到達できるように、半導体発光素子(LD1,LD2)及び半導体受光素子PDを実装する光モジュール」についても記載されていない。   In the above Patent Documents 1 to 3, “the end from which the signal light 17 is emitted from the front end face and the monitor light 18 is emitted from the opening 15 formed in the electrode 2 on the back surface side of the substrate 3 is described in this embodiment. The light-emitting semiconductor light-emitting elements (LD1, LD2) are not described, and from the “opening 15 formed in the lower electrode 2 on the back side of the semiconductor light-emitting elements (LD1, LD2)” of this example. The semiconductor light emitting elements (LD1, LD2) and the semiconductor light receiving element PD are mounted so that the emitted monitor light 18 can reach the light receiving surface PDA of the semiconductor light receiving element PD disposed on the back side of the semiconductor light emitting elements (LD1, LD2). There is also no description about "optical module to perform".

以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論である。   As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the above embodiments. However, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Of course.

本発明の実施例1である光モジュールの概略構成を示す鳥瞰図である。It is a bird's-eye view which shows schematic structure of the optical module which is Example 1 of this invention. 図1の光モジュールにおいて、半導体発光素子と半導体受光素子との実装状態を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a mounting state of a semiconductor light emitting element and a semiconductor light receiving element in the optical module of FIG. 1. 図2の半導体発光素子の概略構成を示す図((a)は平面図,(b)は(a)のA−A’線に沿った断面構造を示す断面図,(c)は(a)のB−B’線に沿った断面構造を示す断面図,(d)は底面図)である。2A is a plan view, FIG. 2B is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure along the line AA ′ in FIG. 2A, and FIG. FIG. 6B is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure along the line BB ′ of FIG. 本発明の実施例2である光モジュールにおいて、半導体発光素子と半導体受光素子との実装状態を示す図である。In the optical module which is Example 2 of this invention, it is a figure which shows the mounting state of a semiconductor light-emitting device and a semiconductor light-receiving device. 本発明の実施例3である光モジュールにおいて、半導体発光素子と半導体受光素子との実装状態を示す図である。In the optical module which is Example 3 of this invention, it is a figure which shows the mounting state of a semiconductor light-emitting device and a semiconductor light-receiving device. 本発明の実施例4である光モジュールにおいて、半導体発光素子と半導体受光素子との実装状態を示す図である。In the optical module which is Example 4 of this invention, it is a figure which shows the mounting state of a semiconductor light-emitting device and a semiconductor light-receiving device. 本発明の実施例5である光モジュールにおいて、半導体発光素子と半導体受光素子との実装状態を示す図である。In the optical module which is Example 5 of this invention, it is a figure which shows the mounting state of a semiconductor light-emitting device and a semiconductor light-receiving device. 本発明の実施例の光モジュールに半導体発光素子と共に組み込まれる他の半導体発光素子の概略構成を示す図((a)は平面図,(b)は(a)のA−A'線に沿った断面構造を示す断面図,(c)は(a)のB−B'線に沿った断面構造を示す断面図,(d)は底面図)である。The figure which shows schematic structure of the other semiconductor light-emitting device incorporated in the optical module of the Example of this invention with a semiconductor light-emitting device ((a) is a top view, (b) followed the AA 'line of (a). FIG. 4C is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure, FIG. 3C is a cross-sectional view showing the cross-sectional structure along the line BB ′ in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1、1a…上部電極、2…下部電極、3…基板、4…DBR層(分布ブラッグ層)、5…InPバッファ層、6…下部SCH層、7…MQW層(活性層)、8…上部SCH層、9…エッチング停止層、10…InPクラッド層、10a…メサストライプ部、10b…肩部(土手部)、12…パッシベーション膜、13…反射膜、14…無反射膜、15…開口部(電極穴)、16…ミラー(反射鏡)、17…信号光、18…モニター光、18a…反射光、19…発光領域、20…非発光領域、
23…埋め込み層、24…DFB層、25…非導波領域、26…上部InP層、27…メサストライプ部、
30…マウント部材(台座)、31…第1の面、32…第2の面、35…導電性接着材、
40…サブマウント部材(台座)、41,41a…ベース部材、42a,42b…電極、43a,43b…開口部(電極穴)、44a,44b…無反射膜、45…溝、46…貫通孔(ビアホール)、
50…サブマウント部材(台座)、51…ベース部材、52a,52b…電極、
60…封止体、61…ステム、62…絶縁体、63a,63b,63c,63d…リード、64…ボンディングワイヤ、65…キャップ部材、66…光透過窓。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1a ... Upper electrode, 2 ... Lower electrode, 3 ... Substrate, 4 ... DBR layer (distributed Bragg layer), 5 ... InP buffer layer, 6 ... Lower SCH layer, 7 ... MQW layer (active layer), 8 ... Upper SCH layer, 9 ... etching stop layer, 10 ... InP clad layer, 10a ... mesa stripe portion, 10b ... shoulder portion (bank portion), 12 ... passivation film, 13 ... reflection film, 14 ... non-reflection film, 15 ... opening (Electrode hole), 16 ... mirror (reflecting mirror), 17 ... signal light, 18 ... monitor light, 18a ... reflected light, 19 ... light emitting region, 20 ... non-light emitting region,
23 ... buried layer, 24 ... DFB layer, 25 ... non-waveguide region, 26 ... upper InP layer, 27 ... mesa stripe part,
30 ... Mount member (pedestal), 31 ... First surface, 32 ... Second surface, 35 ... Conductive adhesive,
40 ... Submount member (pedestal), 41, 41a ... Base member, 42a, 42b ... Electrode, 43a, 43b ... Opening (electrode hole), 44a, 44b ... Non-reflective film, 45 ... Groove, 46 ... Through-hole ( Beer hall),
50 ... Submount member (base), 51 ... Base member, 52a, 52b ... Electrode,
60 ... Sealing body, 61 ... Stem, 62 ... Insulator, 63a, 63b, 63c, 63d ... Lead, 64 ... Bonding wire, 65 ... Cap member, 66 ... Light transmission window.

Claims (21)

半導体発光素子と半導体受光素子とを有する光モジュールであって、
前記半導体発光素子は、
半導体基板と、
前記半導体基板の主面上に形成された少なくとも2種類の屈折率の異なる半導体層からなる分布ブラッグ反射層と、
前記分布ブラッグ反射層上に形成された第1導電型の下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に形成された活性層と、
前記活性層上に形成された、前記第1導電型とは逆導電型である第2導電型の上部クラッド層と、
前記活性層の互いに反対側に位置する第1及び第2の端面のうちの前記第1の端面に、前記半導体基板に対して時計回りで略45度の角度をもって配置された反射鏡と、
前記活性層の前記第2の端面に配置され、反射率が前記分布ブラッグ反射層の反射率以下の反射膜と、
前記上部クラッド層上に形成された上部電極と、
前記半導体基板の主面とは反対側の裏面に形成された下部電極と、
前記活性層で発生し、前記分布ブラッグ反射層を透過した光が前記半導体基板の裏面から出射できるように、前記下部電極に形成された開口部及び前記開口部に設けられた無反射膜とを有し、
前記半導体受光素子は、前記半導体受光素子の受光面が前記半導体発光素子の前記開口部と平面的に重なるように前記半導体基板の裏面側に配置されていることを特徴とする光モジュール。
An optical module having a semiconductor light emitting element and a semiconductor light receiving element,
The semiconductor light emitting element is
A semiconductor substrate;
A distributed Bragg reflection layer comprising at least two types of semiconductor layers having different refractive indexes formed on the main surface of the semiconductor substrate;
A lower clad layer of a first conductivity type formed on the distributed Bragg reflective layer;
An active layer formed on the lower cladding layer;
An upper cladding layer of a second conductivity type formed on the active layer and having a conductivity type opposite to the first conductivity type;
A reflecting mirror disposed at an angle of approximately 45 degrees clockwise with respect to the semiconductor substrate on the first end face of the first and second end faces located on opposite sides of the active layer;
A reflective film disposed on the second end face of the active layer and having a reflectance equal to or lower than that of the distributed Bragg reflective layer;
An upper electrode formed on the upper cladding layer;
A lower electrode formed on the back surface opposite to the main surface of the semiconductor substrate;
An opening formed in the lower electrode and a non-reflective film provided in the opening so that light generated in the active layer and transmitted through the distributed Bragg reflection layer can be emitted from the back surface of the semiconductor substrate; Have
The optical module, wherein the semiconductor light receiving element is disposed on the back side of the semiconductor substrate such that a light receiving surface of the semiconductor light receiving element overlaps the opening of the semiconductor light emitting element in a plane.
請求項1に記載の光モジュールにおいて、
第1の台座と、第2の台座とを有し、
前記第1の台座は、第1の面と、前記第1の面よりも高さ位置が高い第2の面とを有し、
前記第2の台座は、互いに反対側に位置する主面及び裏面と、前記主面に形成された電極とを有し、
前記半導体受光素子は、前記第1の台座の前記第1の面に実装され、
前記第2の台座は、前記第2の台座の裏面が前記第1の台座の前記第2の面側に位置する状態で前記第1の台座の前記第2の面に固定され、
前記半導体発光素子は、前記半導体発光素子の前記下部電極が前記第2の台座の前記電極に導電性接着材を介在して電気的に接続され、かつ前記半導体発光素子の前記開口部が前記第2の台座と平面的に重ならない状態で前記第2の台座に実装されていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 1,
A first pedestal and a second pedestal;
The first pedestal has a first surface and a second surface having a height position higher than the first surface;
The second pedestal has a main surface and a back surface located on opposite sides of each other, and an electrode formed on the main surface,
The semiconductor light receiving element is mounted on the first surface of the first pedestal,
The second pedestal is fixed to the second surface of the first pedestal in a state where the back surface of the second pedestal is located on the second surface side of the first pedestal,
In the semiconductor light emitting device, the lower electrode of the semiconductor light emitting device is electrically connected to the electrode of the second pedestal with a conductive adhesive interposed therebetween, and the opening of the semiconductor light emitting device is connected to the first electrode. An optical module, wherein the optical module is mounted on the second pedestal so as not to overlap the two pedestals.
請求項2に記載の光モジュールにおいて、
前記第2の台座は、前記第2の台座の一部が前記第1の台座の前記第1の面上に位置する状態で前記第1の台座の第2の面に固定されていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 2,
The second pedestal is fixed to the second surface of the first pedestal in a state where a part of the second pedestal is located on the first surface of the first pedestal. A featured optical module.
請求項2に記載の光モジュールにおいて、
前記半導体受光素子の受光面は、前記半導体発光素子の前記活性層に対して非平行になっていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 2,
The light receiving surface of the semiconductor light receiving element is non-parallel to the active layer of the semiconductor light emitting element.
請求項1に記載の光モジュールにおいて、
第1の台座と、第2の台座とを有し、
前記第1の台座は、第1の面と、前記第1の面よりも高さ位置が高い第2の面とを有し、
前記第2の台座は、光透過性材料からなるベース部材と、前記ベース部材の主面に形成された第1の電極と、前記第1の電極に形成された第1の開口部と、前記第1の開口部に形成された第1の無反射膜と、前記ベース部材の主面とは反対側の裏面に形成された第2の電極と、前記第2の電極に前記第1の開口部と対向して形成された第2の開口部と、前記第2の開口部に形成された第2の無反射膜とを有し、
半導体受光素子は、前記第1の台座の前記第1の面に実装され、
前記第2の台座は、前記第2の台座の前記第2の電極が前記第1の台座の前記第2の面側に位置し、前記第2の台座の前記第2の開口部が前記半導体受光素子の受光面と平面的に重なる状態で前記第1の台座の前記第2の面に固定され、
前記半導体発光素子は、前記半導体発光素子の前記下部電極が前記第2の台座の前記第1の電極に導電性接着材を介在して電気的に接続され、かつ前記半導体発光素子の前記開口部が前記第2の台座の前記第1の開口部と平面的に重なる状態で前記第2の台座に実装されていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 1,
A first pedestal and a second pedestal;
The first pedestal has a first surface and a second surface having a height position higher than the first surface;
The second pedestal includes a base member made of a light transmissive material, a first electrode formed on a main surface of the base member, a first opening formed in the first electrode, A first antireflective film formed in the first opening; a second electrode formed on the back surface opposite to the main surface of the base member; and the first opening in the second electrode. A second opening formed opposite to the portion, and a second non-reflective film formed in the second opening,
The semiconductor light receiving element is mounted on the first surface of the first pedestal,
In the second pedestal, the second electrode of the second pedestal is positioned on the second surface side of the first pedestal, and the second opening of the second pedestal is the semiconductor. Fixed to the second surface of the first pedestal in a state of overlapping with the light receiving surface of the light receiving element,
In the semiconductor light emitting device, the lower electrode of the semiconductor light emitting device is electrically connected to the first electrode of the second pedestal via a conductive adhesive, and the opening of the semiconductor light emitting device Is mounted on the second pedestal in a state of overlapping with the first opening of the second pedestal in a plane.
請求項5に記載の光モジュールにおいて、
前記第2の無反射膜は、前記半導体受光素子の受光面に対して非平行になっていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 5,
The optical module, wherein the second non-reflective film is non-parallel to the light receiving surface of the semiconductor light receiving element.
請求項5に記載の光モジュールにおいて、
前記半導体受光素子の受光面は、前記半導体発光素子の前記活性層に対して非平行になっていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 5,
The light receiving surface of the semiconductor light receiving element is non-parallel to the active layer of the semiconductor light emitting element.
請求項5に記載の光モジュールにおいて、
前記第1の台座の前記第1の面は、前記第1の台座に形成された凹部の底面であり、
前記第2の台座は、前記第1の台座の前記凹部を跨ぐようにして前記第2の面に固定されていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 5,
The first surface of the first pedestal is a bottom surface of a recess formed in the first pedestal;
The optical module, wherein the second pedestal is fixed to the second surface so as to straddle the concave portion of the first pedestal.
請求項1に記載の光モジュールにおいて、
第1の台座と、第2の台座とを有し、
前記第1の台座は、第1の面と、前記第1の面よりも高さ位置が高い第2の面とを有し、
前記第2の台座は、ベース部材と、前記ベース部材の主面に形成された第1の電極と、前記ベース部材の主面とは反対側の裏面に形成された第2の電極と、前記第1の電極から前記第2の電極に亘って貫通する貫通孔とを有し、
半導体受光素子は、前記第1の台座の前記第1の面に実装され、
前記第2の台座は、前記第2の台座の前記第2の電極が前記第1の台座の前記第2の面側に位置し、前記第2の台座の前記貫通孔が前記半導体受光素子の受光面と平面的に重なる状態で前記第1の台座の前記第2の面に固定され、
前記半導体発光素子は、前記半導体発光素子の前記下部電極と前記第2の台座の前記電極との間に導電性接着材を介在し、前記半導体発光素子の前記開口部が前記第2の台座の前記貫通孔と平面的に重なる状態で前記第2の台座に実装されていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 1,
A first pedestal and a second pedestal;
The first pedestal has a first surface and a second surface having a height position higher than the first surface;
The second pedestal includes a base member, a first electrode formed on a main surface of the base member, a second electrode formed on a back surface opposite to the main surface of the base member, A through-hole penetrating from the first electrode to the second electrode,
The semiconductor light receiving element is mounted on the first surface of the first pedestal,
In the second pedestal, the second electrode of the second pedestal is positioned on the second surface side of the first pedestal, and the through hole of the second pedestal is formed on the semiconductor light receiving element. Fixed to the second surface of the first pedestal in a state overlapping with the light receiving surface,
In the semiconductor light emitting device, a conductive adhesive is interposed between the lower electrode of the semiconductor light emitting device and the electrode of the second pedestal, and the opening of the semiconductor light emitting device is formed on the second pedestal. An optical module, wherein the optical module is mounted on the second pedestal so as to overlap the through hole in a planar manner.
請求項9に記載の光モジュールにおいて、
前記半導体受光素子の受光面は、前記半導体発光素子の前記活性層に対して非平行になっていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 9,
The light receiving surface of the semiconductor light receiving element is non-parallel to the active layer of the semiconductor light emitting element.
請求項6に記載の光モジュールにおいて、
前記第1の台座の前記第1の面は、前記第1の台座に形成された凹部の底面であり、
前記第2の台座は、前記第1の台座の前記凹部を跨ぐようにして前記第1の台座の前記第2の面に固定されていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 6,
The first surface of the first pedestal is a bottom surface of a recess formed in the first pedestal;
The optical module, wherein the second pedestal is fixed to the second surface of the first pedestal so as to straddle the concave portion of the first pedestal.
請求項1に記載の光モジュールにおいて、
第1の台座と、第2の台座と、第3の台座とを有し、
前記第1の台座は、第1の面と、前記第1の面よりも高さ位置が高い第2の面とを有し、
前記第2の台座は、第1のベース部材と、前記第1のベース部材の主面に形成された第1の電極と、前記第1のベース部材の主面とは反対側の裏面に形成された第2の電極とを有し、
前記第3の台座は、光透過性材料からなる第2のベース部材と、前記第2のベース部材の主面に形成された第3の電極と、前記第3の電極に形成された第1の開口部と、前記第1の開口部に形成された第1の無反射膜と、前記第2のベース部材の主面とは反対側の裏面に形成された第4の電極と、前記第4の電極に前記第1の開口部と対向して形成された第2の開口部と、前記第2の開口部に形成された第2の無反射膜とを有し、
前記第2の台座は、前記第2の台座の前記第2の電極が前記第1の台座の前記第1の面側に位置する状態で前記第1の台座の前記第1の面に固定され、
前記半導体発光素子は、前記半導体発光素子の前記上部電極が前記第2の台座の前記第1の電極と導電性接着材を介在して電気的接続された状態で前記第2の台座に実装され、
前記第3の台座は、前記第3の台座の前記第3の電極が前記第1の台座の第2の面側に位置し、かつ前記第3の台座の前記第1の開口部が前記半導体発光素子の前記開口部と平面的に重なる状態で前記第1の台座の前記第2の面に固定され、
前記半導体受光素子は、前記半導体受光素子の受光面が前記第3の台座側に位置し、かつ前記半導体受光素子の受光面が前記第3の台座の前記第2の開口部と平面的に重なる状態で前記第3の台座に実装されていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 1,
A first pedestal, a second pedestal, and a third pedestal;
The first pedestal has a first surface and a second surface having a height position higher than the first surface;
The second pedestal is formed on the first base member, the first electrode formed on the main surface of the first base member, and the back surface opposite to the main surface of the first base member. A second electrode formed,
The third pedestal includes a second base member made of a light transmissive material, a third electrode formed on a main surface of the second base member, and a first electrode formed on the third electrode. The first non-reflective film formed in the first opening, the fourth electrode formed on the back surface opposite to the main surface of the second base member, and the first electrode A second opening formed on the four electrodes facing the first opening, and a second non-reflective film formed on the second opening,
The second pedestal is fixed to the first surface of the first pedestal in a state where the second electrode of the second pedestal is located on the first surface side of the first pedestal. ,
The semiconductor light emitting element is mounted on the second pedestal in a state where the upper electrode of the semiconductor light emitting element is electrically connected to the first electrode of the second pedestal via a conductive adhesive. ,
In the third pedestal, the third electrode of the third pedestal is located on the second surface side of the first pedestal, and the first opening of the third pedestal is the semiconductor. Fixed to the second surface of the first pedestal in a state of planarly overlapping the opening of the light emitting element,
In the semiconductor light receiving element, the light receiving surface of the semiconductor light receiving element is positioned on the third pedestal side, and the light receiving surface of the semiconductor light receiving element overlaps the second opening of the third pedestal in a plane. An optical module mounted on the third pedestal in a state.
請求項12に記載の光モジュールにおいて、
前記第2の無反射膜は、前記半導体受光素子の受光面に対して非平行になっていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 12,
The optical module, wherein the second non-reflective film is non-parallel to the light receiving surface of the semiconductor light receiving element.
請求項12に記載の光モジュールにおいて、
前記半導体受光素子の受光面は、前記半導体発光素子の前記活性層に対して非平行になっていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 12,
The light receiving surface of the semiconductor light receiving element is non-parallel to the active layer of the semiconductor light emitting element.
請求項1に記載の光モジュールにおいて、
第1の台座と、第2の台座と、第3の台座とを有し、
前記第1の台座は、第1の面と、前記第1の面よりも高さ位置が高い第2の面とを有し、
前記第2の台座は、第1のベース部材と、前記第1のベース部材の主面に形成された第1の電極と、前記第1のベース部材の主面とは反対側の裏面に形成された第2の電極とを有し、
前記第3の台座は、第2のベース部材と、前記第2のベース部材の主面に形成された第3の電極と、前記第2のベース部材の主面とは反対側の裏面に形成された第4の電極と、前記第3の電極から前記第4の電極に亘って貫通する貫通孔とを有し、
前記第2の台座は、前記第2の台座の前記第2の電極が前記第1の台座の前記第1の面側に位置する状態で前記第1の台座の前記第1の面に固定され、
前記半導体発光素子は、前記半導体発光素子の前記上部電極が前記第2の台座の前記第1の電極に導電性接着材を介在して電気的に接続された状態で前記第2の台座に実装され、
前記第3の台座は、前記第3の台座の前記第3の電極が前記第1の台座の第2の面側に位置し、前記第3の台座の前記貫通孔が前記半導体発光素子の前記開口部と平面的に重なる状態で前記第1の台座の前記第2の面に固定され、
前記半導体受光素子は、前記半導体受光素子の前記受光面が前記第3の台座の前記第4の電極側に位置し、前記半導体受光素子の受光面が前記第3の台座の前記貫通孔と平面的に重なる状態で前記第3の台座に実装されていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 1,
A first pedestal, a second pedestal, and a third pedestal;
The first pedestal has a first surface and a second surface having a height position higher than the first surface;
The second pedestal is formed on the first base member, the first electrode formed on the main surface of the first base member, and the back surface opposite to the main surface of the first base member. A second electrode formed,
The third pedestal is formed on a second base member, a third electrode formed on the main surface of the second base member, and a back surface opposite to the main surface of the second base member. And a through hole penetrating from the third electrode to the fourth electrode,
The second pedestal is fixed to the first surface of the first pedestal in a state where the second electrode of the second pedestal is located on the first surface side of the first pedestal. ,
The semiconductor light emitting element is mounted on the second pedestal in a state where the upper electrode of the semiconductor light emitting element is electrically connected to the first electrode of the second pedestal via a conductive adhesive. And
In the third pedestal, the third electrode of the third pedestal is positioned on the second surface side of the first pedestal, and the through hole of the third pedestal is formed on the semiconductor light emitting element. Fixed to the second surface of the first pedestal in a state of overlapping with the opening in a plane,
In the semiconductor light receiving element, the light receiving surface of the semiconductor light receiving element is positioned on the fourth electrode side of the third pedestal, and the light receiving surface of the semiconductor light receiving element is planar with the through hole of the third pedestal. The optical module is mounted on the third pedestal so as to overlap each other.
請求項15に記載の光モジュールにおいて、
前記半導体受光素子の受光面は、前記半導体発光素子の前記活性層に対して非平行になっていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 15,
The light receiving surface of the semiconductor light receiving element is non-parallel to the active layer of the semiconductor light emitting element.
請求項1に記載の光モジュールにおいて、
前記半導体発光素子は、前記反射鏡と重ならないように、少なくとも前記上部クラッド層にメサストライプ部が形成されていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 1,
The semiconductor light emitting device is characterized in that a mesa stripe portion is formed at least in the upper clad layer so as not to overlap the reflecting mirror.
請求項1に記載の光モジュールにおいて、
前記半導体発光素子は、前記反射膜及び前記反射鏡を含む発光領域と、前記発光領域の前記反射膜側とは反対側に設けられ、かつ前記発光領域から溝によって分離された非発光領域とを有し、
前記非発光領域は、前記発光領域と略同一高さとなっていることを特徴とする光モジュール。
The optical module according to claim 1,
The semiconductor light emitting element includes a light emitting region including the reflective film and the reflecting mirror, and a non-light emitting region provided on the opposite side of the light emitting region from the reflective film side and separated from the light emitting region by a groove. Have
The optical module, wherein the non-light-emitting area has substantially the same height as the light-emitting area.
半導体基板と、
前記半導体基板の主面上に形成された少なくとも2種類の屈折率の異なる半導体層からなる分布ブラッグ反射層と、
前記分布ブラッグ反射層上に形成された第1導電型の下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に形成された活性層と、
前記活性層上に形成された、前記第1導電型とは逆導電型である第2導電型の上部クラッド層と、
前記活性層の互いに反対側に位置する第1及び第2の端面のうちの前記第1の端面に、前記半導体基板に対して時計回りで略45度の角度をもって配置された反射鏡と、
前記活性層の前記第2の端面に配置され、反射率が前記分布ブラッグ反射層の反射率以下の反射膜と、
前記上部クラッド層上に形成された上部電極と、
前記半導体基板の主面とは反対側の裏面に形成された下部電極と、
前記活性層で発生し、前記分布ブラッグ反射層を透過した光が前記半導体基板の裏面から出射できるように、前記下部電極に形成された開口部及び前記開口部に設けられた無反射膜とを有することを特徴とする半導体光発光素子。
A semiconductor substrate;
A distributed Bragg reflection layer comprising at least two types of semiconductor layers having different refractive indexes formed on the main surface of the semiconductor substrate;
A lower clad layer of a first conductivity type formed on the distributed Bragg reflective layer;
An active layer formed on the lower cladding layer;
An upper cladding layer of a second conductivity type formed on the active layer and having a conductivity type opposite to the first conductivity type;
A reflecting mirror disposed at an angle of approximately 45 degrees clockwise with respect to the semiconductor substrate on the first end face of the first and second end faces located on opposite sides of the active layer;
A reflective film disposed on the second end face of the active layer and having a reflectance equal to or lower than that of the distributed Bragg reflective layer;
An upper electrode formed on the upper cladding layer;
A lower electrode formed on the back surface opposite to the main surface of the semiconductor substrate;
An opening formed in the lower electrode and a non-reflective film provided in the opening so that light generated in the active layer and transmitted through the distributed Bragg reflection layer can be emitted from the back surface of the semiconductor substrate; A semiconductor light emitting device comprising:
請求項19に記載の半導体発光素子において、
前記半導体発光素子は、前記反射鏡と重ならないように、少なくとも前記上部クラッド層にメサストライプが形成されていることを特徴とする半導体発光素子。
The semiconductor light emitting device according to claim 19,
The semiconductor light emitting device is characterized in that a mesa stripe is formed at least in the upper clad layer so as not to overlap the reflecting mirror.
請求項19に記載の半導体発光素子において、
前記半導体発光素子は、前記反射膜及び前記反射鏡を含む発光領域と、前記発光領域の前記反射膜側とは反対側に設けられ、かつ前記発光領域から溝によって分離された非発光領域とを有し、
前記非発光領域は、前記発光領域と略同一高さとなっていることを特徴とする半導体発光素子。
The semiconductor light emitting device according to claim 19,
The semiconductor light emitting element includes a light emitting region including the reflective film and the reflecting mirror, and a non-light emitting region provided on the opposite side of the light emitting region from the reflective film side and separated from the light emitting region by a groove. Have
The non-light emitting region is substantially the same height as the light emitting region.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2013183666A1 (en) 2012-06-07 2013-12-12 三菱樹脂株式会社 Polyolefin resin porous film
JPWO2017007015A1 (en) * 2015-07-08 2018-02-22 株式会社東芝 Nonaqueous electrolyte battery and battery pack

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