JP2010147057A - 撮像装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】開口率を維持しつつ各画素に接地電位を供給する接地線のインピーダンスを低減可能な撮像装置を提供する。
【解決手段】撮像装置に、2次元状に配置され、光を電気信号に変換する光電変換部を有する画素と、2次元状の画素の配置における各列に対応して配置され、対応する列に配置された各画素に接地電位を供給する列方向接地線と、列方向接地線とは別の配線層に配置され、各列に対応する列方向接地線を相互に接続する行方向接地線とを備える。
【選択図】 図1

Description

本発明は、撮像装置に関する。
ビデオカメラや電子カメラなどに搭載されているCMOS型の撮像装置は、入射光の光量に応じた電荷を蓄積する光電変換部を有する複数の画素がN行×M列の二次元マトリクス状に配置されている。また、撮像装置には、各画素に含まれる光電変換部に蓄積された電荷を電気信号として出力するためのトランジスタや、これらから出力される電気信号を行毎に読み出すための垂直信号線と垂直走査回路および行方向に列順に撮像装置の外部に電気信号を出力するための水平出力回路が集積されている(例えば、特許文献1参照)。
上述した各画素の光電変換部に対応して設けられたトランジスタや垂直信号線から信号を読み出すための様々な回路に接地電位を供給するために、撮像装置には、例えば、垂直信号線と平行して接地線(GND線)が設けられている。
特開平11−196331号公報
ところで、上述したように、垂直信号線と平行して設けられた接地線によって撮像装置に含まれる光電変換部やトランジスタなどに接地電位(グランドレベル)を供給する構成では、接地線がほぼN行×M列の二次元マトリクス状に配置された画素の並びの長さに匹敵する長さを持つことになる。このため、接地線の両端部の電位を接地電位に固定したとしても、接地線自体が持つ抵抗のために、例えば、接地線の中央部付近の電位がわずかながらも接地電位からずれてしまう場合がある。
そして、このようにして接地線電位と接地電位との間のずれが生じると、高輝度の被写体を撮影した際に、高輝度被写体の像の両側に白スミアを発生させてしまう場合がある。
このような接地線における位置に対応する電位の接地電位からのずれは、例えば、撮像装置を構成する集積回路において接地線の幅を広くするなどして接地線のインピーダンスを低減することで抑制することが可能である。しかしながら、単純に接地線の幅を広くしたのでは、撮像装置の受光面の面積に対して個々の画素に備えられる光電変換部で有効に光電変換が行われる部分の面積の総和が占める割合(開口率)が低下してしまう。
本発明は、開口率を維持しつつ各画素に接地電位を供給する接地線のインピーダンスを低減可能な撮像装置を提供することを目的とする。
上述した目的は、以下に開示する撮像装置によって達成することができる。
第1の観点の撮像装置は、2次元状に配置され、光を電気信号に変換する光電変換部を有する画素と、2次元状の画素の配置における各列に対応して配置され、対応する列に配置された各画素に接地電位を供給する列方向接地線と、列方向接地線とは別の配線層に配置され、各列に対応する列方向接地線を相互に接続する行方向接地線とを備える。
上述した構成の撮像装置では、列方向接地線を別の配線層に配置した行方向接地線によって互いに接続してメッシュ状の接地線を形成することにより、開口率を維持しつつ、接地線のインピーダンスを格段に低減することができる。これにより、各画素に接続される接地線の電位と接地電位とのずれを解消し、白スミアの発生を抑制することができる。
以下、図面に基づいて、本発明の実施形態について詳細に説明する。
図1に、撮像装置の一実施形態を示す。
図1に示した撮像装置101は、M×N個の画素P(i,j)(i=1〜M,j=1〜N)がM行N列のマトリクス状に配置された撮像部102と、垂直信号線VLINE(j)( j=1〜N)と、定電流源回路103と、垂直走査回路104と、読み出し回路105とを備える。
各画素P(i,j)から読み出される信号は、それぞれの列に対応する垂直信号線VLINE(j)に読み出され、読み出し回路105を介して出力される。このとき、垂直走査回路104は、画素P(i,j)の信号を行単位で各列毎に配置された垂直信号線VLINE(j)に読み出すためのタイミング信号を出力する。例えば、i行目の読み出しの際に、垂直走査回路104により、画素P(i,1)から画素P(i,N)までのN列全ての画素に、タイミング信号φSEL(i),タイミング信号φRES(i),タイミング信号φTX(i)が与えられる。
尚、各画素P(i,j)の接地は、各列毎に列方向に配置された画素接地線PGND(j)に接続される。これらの画素接地線PGND(j)は、例えば、上述した撮像部102の外側に行方向に配置された接地線(VGND)106a,106bに接続され、これらの接地線106a,106bを介して接地電位への固定が行われる。
以下、上述した各列の画素接地線PGND(j)を行方向に互いに接続してメッシュ状の接地線を形成する方法について詳細に説明する。
図2に、撮像装置の実施形態の要部構成を示す。
図2において、第i−1行の第j列および第j+1列の画素P(i−1,j),P(i−1,j+1) および第i行の第j列および第j+1列の画素P(i,j),P(i,j+1)に含まれる光電変換素子(フォトダイオード:PD) PD(i,j)を矩形で示した。
また、上述したPDの周囲に形成される第1層の金属配線パターンの輪郭を破線で示し、白抜きの四角で金属配線パターンに設けられたコンタクトホールを示した。一方、第2層の金属配線パターンとの間に形成される絶縁膜に設けられるスルーホールは、四角とバツ印を組み合わせた符号を用いて示した。
図2に示した例では、第1層の金属配線パターンでは、画素の列方向の並びに沿って垂直信号線VLINE(j)、VLINE(j+1)が配置されており、また、これらに平行して、網掛けを付して示した列方向の画素接地線PGNDv(j)、PGNDv(j+1)が配置されている。
これらの列方向の画素接地線PGNDv(j)は、対応する列に並んで配置されているM個のPDにそれぞれ対応する分岐部を備えている。図2に示した例では、PD(i,j)、PD(i,j+1),PD(i−1,j),PD(i−1,j+1)に対応して、上述した列方向の画素接地線PGNDv(j)、PGNDv(j+1)から行の並び方向に分岐し、垂直信号線VLINE(j)の手前でL字型に屈曲した形状を持つ分岐部(i,j)、分岐部(i,j+1),分岐部(i−1,j),分岐部(i−1,j+1)が配置されている。
これらの分岐部の端部と隣接する列方向の画素接地線とを結ぶように、例えば、第2層の金属配線パターンにおいて、図2に太い実線で示す概略L字型の行方向の画素接地線を配置し、この行方向の画素接地線と列方向の画素接地線とが重なり合った箇所にスルーホールを設けることにより、隣接する列方向の画素接地線を互いに接続することができる。
図2においては、列方向の画素接地線PGNDv(j)に備えられた分岐部(i,j)、分岐部(i−1,j)が、行方向の画素接地線PGNDh(i,j)、PGNDh(i−1,j)を介して、隣接する列方向の画素接地線PGNDv(j−1)に接続され、また、列方向の画素接地線PGNDv(j+1)に備えられた分岐部(i,j+1),分岐部(i−1,j+1)が、行方向の画素接地線PGNDh(i,j+1)、PGNDh(i−1,j+1) を介して、隣接する列方向の画素接地線PGNDv(j)に接続されている。
また、図3に網掛けを付して示すように、第2層の金属配線パターンにおいて、上述した形状の行方向の画素接地線PGNDh(i,j)、PGNDh(i−1,j),PGNDh(i,j+1)およびPGNDh(i−1,j+1)は、図3に細い破線で輪郭を示したPDとタイミング信号線TX(i)およびタイミング信号線RST(i)との間の領域に配置することが可能である。また、図2に示した各列方向の画素接地線(j)に設けた分岐部も、PDの配置領域およびPDから信号を取り出すために設けられる各トランジスタの端子間を接続する配線パターンが配置される領域を避けて配置することが可能である。
以上に説明したように、第1層の金属配線パターンにおいて列方向の画素接地線と平行して配置される垂直信号線VLINE(j)を跨ぐように、第2層の金属配線パターンにおいて行方向の画素接地線を配置することにより、撮像装置における配線パターンが配置される領域を増大させることなく、メッシュ状の画素接地線を実現することができる。
これにより、撮像装置における開口率を維持しつつ、画素接地線のインピーダンスの低減を図り、各画素に接続される位置での画素接地線の電位と接地電位とのずれを解消して、白スミアの発生を抑制することが可能となる。
なお、各列方向の画素接地線の形状やこれらに対応する各行方向の画素接地線の形状は、隣接する列方向の画素接地線をこれらの列方向の画素接地線が配置されている配線層とは別の配線層に配置される行方向の画素接地線を用いて接続するものであれば、如何なるものでもよい。
例えば、列方向に伸びる直線的な形状の各列方向の画素接地線を、各列の画素の配置幅に相当する長さを行方向に有する直線状の行方向の画素接地線によって互いに接続し、メッシュ状の画素接地線を形成することもできる。
撮像装置の概略構成を示す図である。 撮像装置の実施形態の要部構成を示す図である。 第2層の金属配線パターンを示す図である。
符号の説明
101…撮像装置、102…撮像部、103…定電流源回路、104…垂直走査回路、105…読み出し回路、106a,106b…接地線(VGND)。

Claims (3)

  1. 2次元状に配置され、光を電気信号に変換する光電変換部を有する画素と、
    前記2次元状の画素の配置における各列に対応して配置され、対応する列に配置された前記各画素に接地電位を供給する列方向接地線と、
    前記列方向接地線とは別の配線層に配置され、各列に対応する前記列方向接地線を相互に接続する行方向接地線と
    を備えたことを特徴とする撮像装置。
  2. 請求項1に記載の撮像装置において、
    前記列方向接地線は、対応する列の並び方向に平行して配置される平行配線と、前記平行配線から分岐し、前記列に含まれる各画素の間に突き出した分岐部とを有し、
    前記行方向接地線は、前記各列に対応する前記列方向接地線の前記分岐部と当該列に隣接する別の列に対応する列方向接地線の前記平行配線とを接続する
    ことを特徴とする撮像装置。
  3. 請求項1に記載の撮像装置において、
    前記列方向接地線は、前記各画素の光電変換部によって生成された電気信号を読み出すために前記列方向に並ぶ各画素に接続された読み出し信号線と同一の配線層において平行して配置され、
    前記行方向接地線は、前記各列に対応する前記列方向接地線と当該列に隣接する列に対応する前記列方向接地線とを前記読み出し信号線を跨いで接続する
    ことを特徴とする撮像装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018125731A (ja) * 2017-02-01 2018-08-09 キヤノン株式会社 放射線撮像装置及び放射線撮像システム

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