JP2010146854A

JP2010146854A - Organic el panel, and manufacturing method thereof

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Publication number: JP2010146854A
Application number: JP2008323015A
Authority: JP
Inventors: Yusho Shida; 有章志田; Kenji Doi; 賢治土井
Original assignee: Nippon Seiki Co Ltd
Current assignee: Nippon Seiki Co Ltd
Priority date: 2008-12-19
Filing date: 2008-12-19
Publication date: 2010-07-01

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL panel and a manufacturing method thereof wherein the display quality of the organic EL panel is improved and manufacture can be made inexpensively. <P>SOLUTION: The organic EL panel A has a translucent first electrode 2a, a functional layer 3 having at least an organic luminous layer 3c, and a second electrode 4 laminated and formed in the order on a support substrate 1. A transparent conductive film 2 is formed on the support substrate 1, and the first electrode 2a is formed in a prescribed profile by applying heat treatment partially on the transparent conductive film 2. The transparent conductive film 2 is made of indium zinc oxide. Heat treatment is carried out using laser, electron beam writing method, or ion beams. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）パネル及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to an organic EL (electroluminescence) panel and a manufacturing method thereof.

従来、有機材料によって形成される自発光素子である有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬパネルは、例えば、透光性の支持基板上に、透光性の第一電極と、少なくとも発光層を有する有機層と、非透光性の第二電極と、を順次積層形成してなるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。 2. Description of the Related Art Conventionally, an organic EL panel using an organic EL element, which is a self-luminous element formed of an organic material, is, for example, an organic having a translucent first electrode and at least a light emitting layer on a translucent support substrate. A layer formed by sequentially laminating a layer and a non-translucent second electrode is known (see, for example, Patent Document 1).

かかる有機ＥＬパネルは、前記陽極から正孔を注入し、また、前記陰極から電子を注入して正孔及び電子が前記発光層にて再結合することによって光を発するものであり、視認性及び低温環境下での高速応答性に優れているため、瞬間判読が必要な車載計器や移動通信端末に採用されている。さらに、有機ＥＬパネルは、デバイスの構成上薄く作製することが可能であり、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）においても期待され、研究開発されている。 Such an organic EL panel emits light by injecting holes from the anode and injecting electrons from the cathode and recombining the holes and electrons in the light emitting layer. Because it is excellent in high-speed response under low-temperature environment, it is used in in-vehicle instruments and mobile communication terminals that require instantaneous interpretation. Furthermore, the organic EL panel can be made thin in view of the device configuration, and is expected and researched and developed in an FPD (flat panel display).

また、有機ＥＬパネルとしては、例えば透明なガラス基板上に陰極としてＩＴＯからなる酸化物透明導電膜を形成し、前記陰極上に電子輸送層，発光層，正孔輸送層を形成し、さらに陽極として薄膜金属（例えば、金（Ａｕ）等）を積層してなる透明有機ＥＬパネルが知られている（例えば特許文献２参照）。両電極を透光性とする透明有機ＥＬパネルは、陽極及び陰極の両面から光を取り出すことが出来る点や非発光時に透明であるためその配置位置に自由度が増す点（例えば車載計器においてはアナログ計器と透明有機ＥＬパネルを重ねて配置することも可能である）で注目されている。
特開昭５９−１９４３９３号公報特開２００１−２３００７２号公報特開２０００−２１５７７号公報 As an organic EL panel, for example, an oxide transparent conductive film made of ITO is formed as a cathode on a transparent glass substrate, an electron transport layer, a light emitting layer, and a hole transport layer are formed on the cathode, and an anode A transparent organic EL panel formed by laminating a thin film metal (for example, gold (Au)) is known (for example, see Patent Document 2). The transparent organic EL panel with both electrodes being translucent is capable of extracting light from both sides of the anode and the cathode, and is transparent when not emitting light, so that the degree of freedom of the arrangement position is increased (for example, in an in-vehicle instrument) It is also possible to arrange analog instruments and transparent organic EL panels on top of each other).
JP 59-194393 A Japanese Patent Laid-Open No. 2001-230072 Japanese Patent Laid-Open No. 2000-21575

かかる有機ＥＬパネルは、前記第一，第二電極の形状に応じて所定の表示意匠が画定されるものであり、特に前記基板上に形成される前記第一電極は、フォトエッチングや絶縁膜の形成によってパターニングがなされるのが一般的である（例えば特許文献３参照）。しかしながら、フォトエッチングによって前記第一電極をパターニングする場合は、前記第一電極のエッジ部で短絡が発生するという問題点がある。また、前記絶縁膜を形成する場合は、前記絶縁膜の材料として透過率が高くパターニングが可能でありかつ屈折率が前記基板と同等であるものを使用しないと視野角によって非発光時に表示意匠が見えてしまうという問題点があった。また、これらの条件を満たす材料は非常に少なくまた高価であって製造コストが増大するという問題点があった。 In the organic EL panel, a predetermined display design is defined according to the shapes of the first and second electrodes. In particular, the first electrode formed on the substrate is formed by photoetching or an insulating film. Generally, patterning is performed by formation (see, for example, Patent Document 3). However, when the first electrode is patterned by photoetching, there is a problem that a short circuit occurs at the edge portion of the first electrode. In addition, when the insulating film is formed, if the insulating film is made of a material that has high transmittance and can be patterned and has a refractive index equivalent to that of the substrate, a display design can be obtained when light is not emitted depending on the viewing angle. There was a problem of being visible. Further, there is a problem that the material satisfying these conditions is very few and expensive, and the manufacturing cost increases.

本発明は、この問題に鑑みなされたものであり、有機ＥＬパネル及びその製造方法に関し、有機ＥＬパネルの表示品質を向上させ、また、安価に製造可能とすることを目的とするものである。 The present invention has been made in view of this problem, and relates to an organic EL panel and a method for manufacturing the same, and an object thereof is to improve display quality of the organic EL panel and to enable manufacturing at low cost.

本発明は、前記課題を解決するために、支持基板上に透光性の第一電極，少なくとも有機発光層を有する機能層及び第二電極を順次積層形成してなる有機ＥＬパネルであって、
前記支持基板上に透明導電膜を形成し、前記透明導電膜に部分的に熱処理を施して前記第一電極を所定の形状に形成することを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides an organic EL panel in which a light-transmitting first electrode, a functional layer having at least an organic light-emitting layer, and a second electrode are sequentially laminated on a support substrate,
A transparent conductive film is formed on the support substrate, and the transparent electrode is partially heat-treated to form the first electrode in a predetermined shape.

また、前記透明導電膜は、インジウム亜鉛酸化物からなることを特徴とする。 The transparent conductive film is made of indium zinc oxide.

また、前記熱処理は、レーザー，電子線描画法またはイオンビームを用いることを特徴とする。 Further, the heat treatment uses a laser, an electron beam drawing method, or an ion beam.

また、前記熱処理は、大気中で行うことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。 The organic EL panel according to claim 1, wherein the heat treatment is performed in the air.

また、前記熱処理は、前記透明導電膜の表面が２５０℃以上となるように行うことを特徴とする。 Further, the heat treatment is performed so that the surface of the transparent conductive film has a temperature of 250 ° C. or higher.

また、前記第一電極は陰極であり、前記透明導電膜のうち前記熱処理を施された個所からなることを特徴とする。 Further, the first electrode is a cathode, and is characterized in that it comprises a portion of the transparent conductive film that has been subjected to the heat treatment.

また、前記第一電極は陽極であり、前記透明導電膜のうち前記熱処理を施されない個所からなることを特徴とする。 The first electrode may be an anode, and may be a portion of the transparent conductive film that is not subjected to the heat treatment.

本発明は、前記課題を解決するために、支持基板上に透光性の第一電極，少なくとも有機発光層を有する機能層及び第二電極を順次積層形成してなる有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記支持基板上に透明導電膜を形成し、前記透明導電膜に部分的に熱処理を施して前記第一電極を所定の形状に形成する工程を有することを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, the present invention provides a method for manufacturing an organic EL panel, in which a light-transmitting first electrode, a functional layer having at least an organic light-emitting layer, and a second electrode are sequentially stacked on a support substrate. And forming a first electrode in a predetermined shape by forming a transparent conductive film on the support substrate and partially subjecting the transparent conductive film to a heat treatment.

また、前記熱処理は、大気中で行うことを特徴とする。 The heat treatment is performed in the atmosphere.

本発明は、有機ＥＬパネル及びその製造方法に関し、有機ＥＬパネルの表示品質を向上させ、また、安価に製造可能とするものである。 The present invention relates to an organic EL panel and a method for manufacturing the same, and improves display quality of the organic EL panel and enables manufacture at a low cost.

以下、添付図面に基づいて本発明の実施形態について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図１は、本発明の第一の実施形態を示す図である。第一の実施形態である有機ＥＬパネルＡは、支持基板１と、陰極となる第一電極２ａを有する透明導電膜２と、機能層３と、陽極となる第二電極４と、を有するものである。 FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention. The organic EL panel A according to the first embodiment includes a support substrate 1, a transparent conductive film 2 having a first electrode 2a serving as a cathode, a functional layer 3, and a second electrode 4 serving as an anode. It is.

支持基板１は、例えば透光性のガラス材料からなる矩形状の基板である。支持基板１上には、第一電極２ａ，機能層３及び第二電極４が順に積層形成される。 The support substrate 1 is a rectangular substrate made of a translucent glass material, for example. On the support substrate 1, a first electrode 2a, a functional layer 3, and a second electrode 4 are sequentially stacked.

透明導電膜２は、支持基板１上にインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）をスパッタリング法等の手段によって層状に形成してなり、後で詳述するように熱処理を施される個所からなる第一電極２ａと熱処理を施さない個所からなる非電極部２ｂと、を有する。 The transparent conductive film 2 is formed by forming indium zinc oxide (IZO) in layers on the support substrate 1 by means of a sputtering method or the like, and a first electrode composed of a portion subjected to heat treatment as will be described in detail later. 2a and the non-electrode part 2b which consists of the part which does not heat-process.

機能層３は、少なくとも有機発光層を含む多層からなり、透明導電膜２上に形成されるものである。本実施形態においては、透明導電膜２側から順に電子注入層３ａ，電子輸送層３ｂ，発光層３ｃ，正孔輸送層３ｄ及び正孔注入層３ｅが順に積層形成されてなる。 The functional layer 3 is formed of a multilayer including at least an organic light emitting layer, and is formed on the transparent conductive film 2. In the present embodiment, an electron injection layer 3a, an electron transport layer 3b, a light emitting layer 3c, a hole transport layer 3d, and a hole injection layer 3e are sequentially stacked from the transparent conductive film 2 side.

電子注入層３ａは、第一電極２ａからの電子を取り込む機能を有し、透明導電膜２上に例えばフッ化リチウム（ＬｉＦ）を蒸着法等の手段によって層状に形成してなる。 The electron injection layer 3a has a function of taking in electrons from the first electrode 2a, and is formed by layering, for example, lithium fluoride (LiF) on the transparent conductive film 2 by means such as vapor deposition.

電子輸送層３ｂは、電子を発光層３ｃへ伝達する機能を有し、例えばＢＣＰ等の電子輸送材料を蒸着法等の手段によって層状に形成してなる。 The electron transport layer 3b has a function of transmitting electrons to the light emitting layer 3c, and is formed by layering an electron transport material such as BCP by means such as vapor deposition.

発光層３ｃは、正孔及び電子の輸送が可能であり、正孔及び電子が輸送されて再結合することで所定色の発光を示す機能を有し、所望の発光色に応じて種々の有機材料を蒸着法等の手段によって層状に形成してなるものである。なお、発光層３ｃは単一材料からなるものであってもよく、また、ホスト材料に発光ドーパントを添加してなるものであってもよい。 The light-emitting layer 3c is capable of transporting holes and electrons, has a function of emitting light of a predetermined color by transporting and recombining holes and electrons, and various organic materials depending on a desired light-emitting color. The material is formed in layers by means such as vapor deposition. The light emitting layer 3c may be made of a single material, or may be formed by adding a light emitting dopant to the host material.

正孔輸送層３ｄは、正孔を発光層３ｃへ伝達する機能を有し、例えばα−ＮＰＤ等の正孔輸送材料を蒸着法等の手段によって層状に形成してなる。 The hole transport layer 3d has a function of transmitting holes to the light emitting layer 3c, and is formed by layering a hole transport material such as α-NPD by means such as vapor deposition.

正孔注入層３ｅは、第二電極４から正孔を取り込む機能を有し、例えば酸化モリブデン（ＭｏＯ３）を蒸着法等の手段によって層状に形成してなるものである。 The hole injection layer 3e has a function of taking holes from the second electrode 4, and is formed by layering, for example, molybdenum oxide (MoO3) by means such as vapor deposition.

第二電極４は、正孔を注入する陽極となるものであり、正孔注入層３ｅ上に例えば金（Ａｕ）やＩＺＯ等の導電材料を蒸着法等の手段によって層状に形成した透明導電膜からなるものである。 The second electrode 4 serves as an anode for injecting holes, and a transparent conductive film formed by layering a conductive material such as gold (Au) or IZO on the hole injection layer 3e by means such as vapor deposition. It consists of

また、有機ＥＬパネルＡは、その製造工程において、透明導電膜２形成後に大気中で透明導電膜２に部分的に熱処理を行うものである。かかる熱処理はレーザー，電子線描画法あるいはイオンビームを用いるのが好適である。かかる熱処理によって、透明導電膜２のうち熱処理を施した個所のみが機能層３へ電子注入が可能な陰極として機能し、熱処理を施さない個所は陰極として機能しない。したがって、透明導電膜２を部分的に熱処理することによって絶縁膜を設けることなく陰極となる第一電極２ａを所望の形状で形成することができる。ここで、第一電極２ａと非電極部２ｂとは同一材料からなるため有機ＥＬパネルＡの発光部と非発光部との透過率や屈折率は同等であり、従来のように絶縁膜を用いて表示意匠を画定する方法のように非発光時に表示意匠が視認されることがなく表示品質を向上させることができる。また、絶縁膜をパターニングする工程が不要となるため、有機ＥＬパネルＡをより安価に製造することが可能となる。なお、第一電極２ａの形状は任意であり、有機ＥＬパネルＡを暗い背景に明るい表示意匠で表示するいわゆるネガ表示パネル及び明るい背景に暗い表示意匠で表示するいわゆるポジ表示パネルのいずれにも製造可能である。 In the manufacturing process of the organic EL panel A, the transparent conductive film 2 is partially heat-treated in the air after the transparent conductive film 2 is formed. For this heat treatment, it is preferable to use a laser, an electron beam drawing method, or an ion beam. Only the portion of the transparent conductive film 2 that has been subjected to the heat treatment functions as a cathode capable of injecting electrons into the functional layer 3, and the portion that is not subjected to the heat treatment does not function as a cathode. Therefore, the first electrode 2a serving as a cathode can be formed in a desired shape without providing an insulating film by partially heat-treating the transparent conductive film 2. Here, since the first electrode 2a and the non-electrode portion 2b are made of the same material, the light-emitting portion and the non-light-emitting portion of the organic EL panel A have the same transmittance and refractive index, and an insulating film is used as in the prior art. Thus, unlike the method of defining the display design, the display design is not visually recognized at the time of non-light emission, and the display quality can be improved. Moreover, since the process of patterning the insulating film is not necessary, the organic EL panel A can be manufactured at a lower cost. The shape of the first electrode 2a is arbitrary, and the first electrode 2a is manufactured for both a so-called negative display panel for displaying the organic EL panel A with a bright display design on a dark background and a so-called positive display panel for displaying with a dark display design on a bright background. Is possible.

次に、本発明の第二の実施形態について説明する。なお、前述の第一の実施形態と同一あるいは相当個所には同一の符号を付してその詳細な説明は省略する。 Next, a second embodiment of the present invention will be described. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the part same as the above-mentioned 1st embodiment, or an equivalent part, and the detailed description is abbreviate | omitted.

図２は、本発明の第二の実施形態である有機ＥＬパネルＢを示す図である。有機ＥＬパネルＢは、支持基板１と、陽極となる第一電極５ａを有する透明導電膜５と、機能層３と、陰極となる第二電極６と、を有するものである。 FIG. 2 is a view showing an organic EL panel B according to the second embodiment of the present invention. The organic EL panel B includes a support substrate 1, a transparent conductive film 5 having a first electrode 5a serving as an anode, a functional layer 3, and a second electrode 6 serving as a cathode.

透明導電膜５は、支持基板１上にＩＺＯをスパッタリング法等の手段によって層状に形成してなり、後で詳述するように熱処理を施される個所からなる非電極部５ｂと熱処理を施さない個所からなる第一電極５ａと、を有する。 The transparent conductive film 5 is formed by laminating IZO on the support substrate 1 by means of a sputtering method or the like, and is not subjected to heat treatment with the non-electrode portion 5b that is subjected to heat treatment as will be described in detail later. And a first electrode 5a made of a part.

機能層３は、少なくとも有機発光層を含む多層からなり、透明導電膜５上に形成されるものである。本実施形態においては、透明導電膜５側から順に正孔注入層３ｅ，正孔輸送層３ｄ，発光層３ｃ，電子輸送層３ｂ及び電子注入層３ａが順に積層形成されてなる。 The functional layer 3 is formed of a multilayer including at least an organic light emitting layer, and is formed on the transparent conductive film 5. In the present embodiment, the hole injection layer 3e, the hole transport layer 3d, the light emitting layer 3c, the electron transport layer 3b, and the electron injection layer 3a are sequentially stacked from the transparent conductive film 5 side.

第二電極６は、電子を注入する陰極となるものであり、電子注入層３ａ上に例えばアルミニウム（Ａｌ），マグネシウム（Ｍｇ），リチウム（Ｌｉ），金（Ａｕ），銅（Ｃｕ），亜鉛（Ｚｎ）あるいはこれらの合金等の導電材料を蒸着法等の手段によって層状に形成した導電膜からなるものである。なお、前述の第一の実施形態のように透明導電材料を用いることで透明有機ＥＬパネルを得ることも可能である。 The second electrode 6 serves as a cathode for injecting electrons. For example, aluminum (Al), magnesium (Mg), lithium (Li), gold (Au), copper (Cu), zinc is formed on the electron injection layer 3a. It is made of a conductive film formed by layering a conductive material such as (Zn) or an alloy thereof by means such as vapor deposition. In addition, it is also possible to obtain a transparent organic EL panel by using a transparent conductive material as in the first embodiment described above.

また、有機ＥＬパネルＢは、その製造工程において、透明導電膜５形成後に大気中で透明導電膜５に部分的に熱処理を行うものである。かかる熱処理はレーザー，電子線描画法あるいはイオンビームを用いるのが好適である。かかる熱処理によって、透明導電膜５のうち熱処理を施した個所のみが電子注入性を示すために機能層３に正孔を注入可能な陽極として機能せず、熱処理を施さない個所は陽極として機能する。したがって、透明導電膜５を部分的に熱処理することによって絶縁膜を設けることなく陽極となる第一電極５ａを所望の形状で形成することができる。ここで、第一電極５ａと非電極部５ｂとは同一材料からなるため有機ＥＬパネルＢの発光部と非発光部との透過率や屈折率は同等であり、従来のように絶縁膜を用いて表示意匠を画定する方法のように非発光時に表示意匠が視認されることがなく表示品質を向上させることができる。また、絶縁膜をパターニングする工程が不要となるため、有機ＥＬパネルＢをより安価に製造することが可能となる。なお、第一電極５ａの形状は任意であり、有機ＥＬパネルＢを暗い背景に明るい表示意匠で表示するいわゆるネガ表示パネル及び明るい背景に暗い表示意匠で表示するいわゆるポジ表示パネルのいずれにも製造可能である。 In the manufacturing process of the organic EL panel B, the transparent conductive film 5 is partially heat-treated in the air after the transparent conductive film 5 is formed. For this heat treatment, it is preferable to use a laser, an electron beam drawing method, or an ion beam. As a result of such heat treatment, only the portion of the transparent conductive film 5 that has undergone the heat treatment exhibits electron injecting properties, so that it does not function as an anode that can inject holes into the functional layer 3, and the portion that does not undergo heat treatment functions as an anode. . Therefore, the first electrode 5a serving as an anode can be formed in a desired shape without providing an insulating film by partially heat-treating the transparent conductive film 5. Here, since the first electrode 5a and the non-electrode portion 5b are made of the same material, the light-emitting portion and the non-light-emitting portion of the organic EL panel B have the same transmittance and refractive index, and an insulating film is used as in the prior art. Thus, unlike the method of defining the display design, the display design is not visually recognized at the time of non-light emission, and the display quality can be improved. Moreover, since the process of patterning an insulating film becomes unnecessary, the organic EL panel B can be manufactured at a lower cost. The shape of the first electrode 5a is arbitrary, and the first electrode 5a is manufactured for both a so-called negative display panel for displaying the organic EL panel B with a bright display design on a dark background and a so-called positive display panel for displaying with a dark display design on a bright background. Is possible.

以下、さらに本発明の実施例について説明する。実施例１として、図１に示す有機ＥＬパネルＡを作製した。すなわち、ガラス材料からなる支持基板１上に、透明導電膜２としてＩＺＯをスパッタ法で形成した。さらに形成した透明導電膜２をフォトエッチングにより所定のパターンに形成した。具体的には、透明導電膜２全面にフォトレジストを塗布し、所定のパターンに露光・現像処理を行い、シュウ酸にてパターンに不要なＩＺＯをエッチングした。その後、アセトン超音波洗浄，セミコクリーン超音波洗浄及びオゾンクリーニングを行い支持基板１の洗浄を行った。さらに、洗浄した支持基板１上の透明導電膜２に対して大気中で部分的な熱処理を行った。本実施例では、熱処理にスポットサイズ２０μｍのＮｄ：ＹＡＧレーザー（波長１．０６４μｍ）を使用し、透明導電膜２のレーザー照射個所の表面が３００℃となる条件でレーザー照射した。また、レーザー種としては炭酸ガスレーザー，一酸化炭素レーザー，ＨＦレーザー，ヨウ素レーザー，ＹＡＧレーザー，ＨｅＣｄレーザー，ガラスレーザー，ＹＬＦレーザー，アレクサンドライトレーザー，半導体レーザー，色素レーザー，窒素レーザー，エキシマレーザー，Ｘ線レーザーあるいは自由電子レーザー等を用いてもよい。また、非線形光学結晶を用いて得られる高調波を放射するレーザーを使用することもできる。これらの中でも、安定性の観点から産業用として用いられているレーザーが好ましい。活性媒体としてＫｒＦを用いるエキシマレーザー（発振波長２４８ｎｍ）で照射する場合は、４３０ｍＪ〜５００ｍＪ、ＰＰＳ（パルス／秒）が２５〜２００で実施することが望ましい。熱処理を行なうレーザー種によって照射エネルギー条件は異なるが、透明導電膜２のレーザー照射個所の表面温度が少なくとも２５０℃以上となるように熱処理を施せばよい。また照射エネルギー強度が高く、照射個所近傍の表面温度が２５０℃以上を超えると表示意匠がボケるため、望ましくは照射個所が２５０℃から３５０℃となる条件で熱処理を行うことが望ましい。この部分的な熱処理の結果、透明導電膜２のうちのレーザー照射個所だけが機能層３へ電子注入可能な第一電極２ａとして機能し、レーザー照射していない個所は非電極部２ｂとなる。その後、支持基板１を蒸着装置に導入し、電子注入層３ａとしてＬｉＦを抵抗加熱真空蒸着法により１ｎｍ形成し、電子輸送層３ｂとしてＢＣＰを抵抗加熱真空蒸着法により２０ｎｍ形成し、発光層３ｃとしてＡｌｑ３を抵抗加熱真空蒸着法により３０ｎｍ積層し、さらに正孔輸送層３ｄとしてα―ＮＰＤを抵抗加熱真空蒸着法で５０ｎｍ形成し、正孔注入層３ｅとしてＭｏＯ３を抵抗加熱真空蒸着法により３０ｎｍ形成した。そして最後に第二電極（陽極）４としてＩＺＯをスパッタ法により１００ｎｍ形成して有機ＥＬパネルＡを作製した。 Examples of the present invention will be further described below. As Example 1, an organic EL panel A shown in FIG. That is, IZO was formed by sputtering as the transparent conductive film 2 on the support substrate 1 made of a glass material. Further, the formed transparent conductive film 2 was formed into a predetermined pattern by photoetching. Specifically, a photoresist was applied to the entire surface of the transparent conductive film 2, a predetermined pattern was exposed and developed, and IZO unnecessary for the pattern was etched with oxalic acid. Thereafter, acetone support cleaning, semi-clean clean ultrasound cleaning, and ozone cleaning were performed to clean the support substrate 1. Further, the transparent conductive film 2 on the cleaned support substrate 1 was partially heat-treated in the atmosphere. In the present example, an Nd: YAG laser (wavelength: 1.064 μm) having a spot size of 20 μm was used for the heat treatment, and laser irradiation was performed under the condition that the surface of the laser irradiation portion of the transparent conductive film 2 was 300 ° C. Laser types include carbon dioxide laser, carbon monoxide laser, HF laser, iodine laser, YAG laser, HeCd laser, glass laser, YLF laser, Alexandrite laser, semiconductor laser, dye laser, nitrogen laser, excimer laser, X A line laser, a free electron laser, or the like may be used. It is also possible to use a laser that emits harmonics obtained using a nonlinear optical crystal. Among these, a laser used for industrial use is preferable from the viewpoint of stability. When irradiating with an excimer laser (oscillation wavelength: 248 nm) using KrF as an active medium, it is desirable that the irradiation be performed at 430 mJ to 500 mJ and PPS (pulse / second) at 25 to 200. Irradiation energy conditions vary depending on the type of laser to be heat-treated, but heat treatment may be performed so that the surface temperature of the laser irradiation portion of the transparent conductive film 2 is at least 250 ° C. Further, since the display design is blurred when the irradiation energy intensity is high and the surface temperature in the vicinity of the irradiation site exceeds 250 ° C. or higher, it is desirable to perform the heat treatment under conditions where the irradiation site is 250 ° C. to 350 ° C. As a result of this partial heat treatment, only the laser irradiated portion of the transparent conductive film 2 functions as the first electrode 2a capable of injecting electrons into the functional layer 3, and the portion not irradiated with the laser becomes the non-electrode portion 2b. Thereafter, the support substrate 1 is introduced into a vapor deposition apparatus, LiF is formed as the electron injection layer 3a by 1 nm by resistance heating vacuum deposition, BCP is formed as the electron transport layer 3b by 20 nm by resistance heating vacuum deposition, and the light emitting layer 3c is formed. Alq3 was laminated by 30 nm by resistance heating vacuum deposition, α-NPD was formed by 50 nm by resistance heating vacuum deposition as hole transport layer 3d, and MoO3 was formed by 30 nm by resistance heating vacuum deposition as hole injection layer 3e. . Finally, IZO was formed as a second electrode (anode) 4 to a thickness of 100 nm by a sputtering method, and an organic EL panel A was produced.

以上の製造方法によって実施例１は、所望の表示意匠に発光するセグメント型の有機ＥＬパネルＡを得ることができた。 With the above manufacturing method, Example 1 was able to obtain a segment type organic EL panel A that emits light with a desired display design.

実施例２として、図２に示す有機ＥＬパネルＢを作製した。すなわち、支持基板１上に透明導電膜５としてＩＺＯをスパッタ法で形成した。さらに形成した透明導電膜５をフォトエッチングにより所定のパターンに形成した。具体的には、透明導電膜５全面にフォトレジストを塗布し、所定のパターンに露光・現像処理を行い、シュウ酸にてパターンに不要なＩＺＯをエッチングした。その後、アセトン超音波洗浄，セミコクリーン超音波洗浄及びオゾンクリーニングを行い支持基板１の洗浄を行った。さらに、洗浄した支持基板１上の透明導電膜５に対して大気中で部分的な熱処理を行った。熱処理の条件は前述の実施例１と同様である。実施例２においては、透明導電膜５のうちのレーザー照射個所が非電極部５ｂとなり、レーザー照射していない個所だけが機能層３に正孔注入が可能な陽極となる第一電極５ａとなる。その後、支持基板１を蒸着装置に導入し、正孔注入層３ｅとしてＭｏＯ３を抵抗加熱真空蒸着法により３０ｎｍ形成し、正孔輸送層３ｄとしてα―ＮＰＤを抵抗加熱真空蒸着法で５０ｎｍ形成し、発光層３ｃとしてＡｌｑ３を抵抗加熱真空蒸着法により３０ｎｍ積層し、電子輸送層３ｂとしてＢＣＰを抵抗加熱真空蒸着法により２０ｎｍ形成し、さらに電子注入層３ａとしてＬｉＦを抵抗加熱真空蒸着法により１ｎｍ形成した。そして最後に第二電極（陰極）６としてＡｌを抵抗加熱真空蒸着法により１００ｎｍ形成して有機ＥＬパネルＢを作製した。 As Example 2, an organic EL panel B shown in FIG. That is, IZO was formed as a transparent conductive film 5 on the support substrate 1 by sputtering. Further, the formed transparent conductive film 5 was formed into a predetermined pattern by photoetching. Specifically, a photoresist was applied to the entire surface of the transparent conductive film 5, a predetermined pattern was exposed and developed, and IZO unnecessary for the pattern was etched with oxalic acid. Thereafter, acetone support cleaning, semi-clean clean ultrasound cleaning, and ozone cleaning were performed to clean the support substrate 1. Further, the transparent conductive film 5 on the cleaned support substrate 1 was partially heat-treated in the atmosphere. The conditions for the heat treatment are the same as in Example 1 described above. In Example 2, the laser irradiation portion of the transparent conductive film 5 becomes the non-electrode portion 5b, and only the portion not irradiated with the laser becomes the first electrode 5a serving as an anode capable of injecting holes into the functional layer 3. . Thereafter, the support substrate 1 is introduced into a vapor deposition apparatus, MoO3 is formed as a hole injection layer 3e by 30 nm by resistance heating vacuum deposition, and α-NPD is formed as a hole transport layer 3d by 50 nm by resistance heating vacuum deposition, As the light emitting layer 3c, Alq3 was stacked by 30 nm by resistance heating vacuum deposition, BCP was formed by 20 nm by resistance heating vacuum deposition as the electron transport layer 3b, and LiF was formed by 1 nm by resistance heating vacuum deposition as the electron injection layer 3a. . Finally, 100 nm of Al was formed as a second electrode (cathode) 6 by resistance heating vacuum deposition to produce an organic EL panel B.

以上の製造方法によって実施例２は、所望の表示意匠に発光するセグメント型の有機ＥＬパネルＢを得ることができた。 According to the above manufacturing method, Example 2 was able to obtain a segment type organic EL panel B that emits light with a desired display design.

本発明の第一の実施形態である有機ＥＬパネルを示す図。The figure which shows the organic electroluminescent panel which is 1st embodiment of this invention. 本発明の第二の実施形態である有機ＥＬパネルを示す図。The figure which shows the organic electroluminescent panel which is 2nd embodiment of this invention.

Explanation of symbols

Ａ，Ｂ有機ＥＬパネル
１支持基板
２，５透明導電膜
２ａ，５ａ第一電極
２ｂ，５ｂ非電極部
３有機層
３ａ電子注入層
３ｂ電子輸送層
３ｃ発光層
３ｄ正孔輸送層
３ｅ正孔注入層
４，６第二電極 A, B Organic EL panel 1 Support substrate 2, 5 Transparent conductive film 2a, 5a First electrode 2b, 5b Non-electrode part 3 Organic layer 3a Electron injection layer 3b Electron transport layer 3c Light emitting layer 3d Hole transport layer 3e Hole injection Layer 4,6 Second electrode

Claims

An organic EL panel formed by sequentially laminating a translucent first electrode, a functional layer having at least an organic light emitting layer, and a second electrode on a support substrate,
An organic EL panel comprising: forming a transparent conductive film on the support substrate; and subjecting the transparent conductive film to a partial heat treatment to form the first electrode in a predetermined shape.

The organic EL panel according to claim 1, wherein the transparent conductive film is made of indium zinc oxide.

The organic EL panel according to claim 1, wherein the heat treatment uses a laser, an electron beam drawing method, or an ion beam.

The organic EL panel according to claim 1, wherein the heat treatment is performed in the atmosphere.

The organic EL panel according to claim 1, wherein the heat treatment is performed so that a surface of the transparent conductive film becomes 250 ° C. or higher.

2. The organic EL panel according to claim 1, wherein the first electrode is a cathode and is formed of the transparent conductive film that has been subjected to the heat treatment.

2. The organic EL panel according to claim 1, wherein the first electrode is an anode and includes a portion of the transparent conductive film that is not subjected to the heat treatment.

A method for producing an organic EL panel comprising a light-transmitting first electrode, a functional layer having at least an organic light-emitting layer, and a second electrode sequentially stacked on a support substrate,
A method of manufacturing an organic EL panel, comprising: forming a transparent conductive film on the support substrate; and subjecting the transparent conductive film to partial heat treatment to form the first electrode in a predetermined shape.

The method for manufacturing an organic EL panel according to claim 8, wherein the transparent conductive film is made of indium zinc oxide.

The method of manufacturing an organic EL panel according to claim 8, wherein the heat treatment uses a laser, an electron beam drawing method, or an ion beam.

The method of manufacturing an organic EL panel according to claim 8, wherein the heat treatment is performed in the atmosphere.

The method of manufacturing an organic EL panel according to claim 8, wherein the heat treatment is performed so that a surface of the transparent conductive film becomes 250 ° C. or higher.

The method of manufacturing an organic EL panel according to claim 8, wherein the first electrode is a cathode, and is formed of the transparent conductive film that has been subjected to the heat treatment.

The method of manufacturing an organic EL panel according to claim 8, wherein the first electrode is an anode and is formed of a portion of the transparent conductive film that is not subjected to the heat treatment.