JP2010132944A - Method for producing nickel powder, and nickel powder obtained by the production method - Google Patents

Method for producing nickel powder, and nickel powder obtained by the production method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide nickel powder in which dispersibility is sufficiently secured as that of the material for electronic parts, and the contents of impurities are low, and to provide a simple production method therefor. <P>SOLUTION: The production method includes: a step (A) where a nickel salt aqueous solution is neutralized with an alkali aqueous solution, so as to produce the precipitates of nickel hydroxide; a step (B) where the nickel hydroxide is heat-treated in the air, so as to produce nickel oxide; a step (C) where the surface of the nickel oxide powder is coated or stuck with a water-soluble alkali metal halide; a step (D) where the nickel oxide whose surface is coated or stuck with the water soluble alkali metal halide is reduced in a reducing gas atmosphere, so as to be nickel powder; and a step (E) where the alkali metal halide is cleaned away. In the nickel powder obtained by the method, a grain size distribution D90 is ≤1.0 μm, a specific surface area is ≤4.6 m<SP>2</SP>/g, and the contents of chlorine, sodium and potassium are ≤100 mass ppm. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、ニッケル粉およびその製造方法に関するものである。詳しくは、電子部品用の材料として好適なニッケル粉とその製造方法に関し、具体的には、分散性に優れ、かつ、比表面積を低減させ、さらに残留する塩素やアルカリ金属元素濃度を低減したニッケル粉に関する。   The present invention relates to nickel powder and a method for producing the same. Specifically, it relates to nickel powder suitable as a material for electronic components and a method for producing the same. Specifically, nickel having excellent dispersibility, a reduced specific surface area, and a reduced concentration of residual chlorine and alkali metal elements. Regarding powder.

1.0μm以下の粒子径を有するニッケル粉は、積層セラミックコンデンサーなどの電子部品の導電体形成用材料としての主流であり広く使用されている。ニッケル粉を積層型の導電体形成材料として使用する場合、性能を向上させるためには積層数を増加させることが有効な手段となるが、積層数の増加は電子部品の大型化の原因となるため、これを防ぐためには一層あたりの厚みを薄くする必要がある。電極層を薄層化する場合、その材料となるニッケル粉には、粒子径が小さいこととともに高い分散性が要求される。例えば、多数の粒子が凝集したニッケル粉を使用した場合には、形成される電極厚みのばらつきの原因となり、電極の短絡や絶縁抵抗の低下などの原因となる。したがって、電子部品材料用のニッケル粉の製造に関しては、ニッケル粉の分散性の確保が重要な課題である。   Nickel powder having a particle size of 1.0 μm or less is a mainstream as a conductor forming material for electronic parts such as multilayer ceramic capacitors, and is widely used. When using nickel powder as a laminated conductor forming material, increasing the number of layers is an effective means to improve performance, but increasing the number of layers causes an increase in the size of electronic components. Therefore, in order to prevent this, it is necessary to reduce the thickness per layer. When the electrode layer is thinned, the nickel powder as the material is required to have a small particle size and high dispersibility. For example, when nickel powder in which a large number of particles are aggregated is used, it causes variation in the thickness of the electrode to be formed, causing short-circuiting of the electrodes and reduction in insulation resistance. Therefore, regarding the manufacture of nickel powder for electronic component materials, ensuring the dispersibility of nickel powder is an important issue.

また、電子部品材料用としてニッケル粉を使用する場合には、ニッケル粉を樹脂や溶剤などと混練してペースト化し、スクリーン印刷などの技術を利用して部品を形成する手法が一般的である。この時、使用するニッケル粉の比表面積が大きい場合、粒子の酸化などにより劣化しやすいことや、ペースト混練時の混合不良やペースト経時劣化など不具合の原因となることがあるため好ましくない。したがって、電子部品材料用のニッケル粉は、分散性が確保できていれば、比表面積が低いほど有利となる。
一般に、電子部品材料用として用いられる粒子径1.0μm以下のニッケル粉は、気相還元法、湿式還元法、噴霧熱分解法、蒸発凝集法などの公知の技術により製造されている。ただし、電子部品材料の小型化や高効率化が求められ、従来よりも粒子径が小さく、かつ、分散性が優れた粒子への要求が大きくなると、それぞれ以下のような欠点が顕在化し、その改善が求められてきた。
Further, when nickel powder is used as an electronic component material, a technique is generally used in which the nickel powder is kneaded with a resin or a solvent to form a paste, and a component is formed using a technique such as screen printing. At this time, when the specific surface area of the nickel powder to be used is large, it is not preferable because it may be easily deteriorated due to oxidation of particles, or may cause problems such as poor mixing at paste kneading and deterioration with time of paste. Therefore, the nickel powder for electronic component materials is more advantageous as the specific surface area is lower if the dispersibility is secured.
In general, nickel powder having a particle diameter of 1.0 μm or less used for electronic component materials is manufactured by a known technique such as a gas phase reduction method, a wet reduction method, a spray pyrolysis method, or an evaporation aggregation method. However, as electronic component materials are required to be smaller and more efficient, and the demand for particles with smaller particle size and better dispersibility becomes larger, the following drawbacks become apparent. Improvements have been sought.

すなわち、気相還元法、噴霧熱分解法、蒸発凝集法に代表される気相粒子合成法においては、分散性に優れた粒子を製造するためには、粒子の生成密度を小さく制御する必要があり製造コストが大きくなってしまう問題がある。一方で、生産性を重視した場合には、連結粒子や粗大粒子の発生が起こりやすく、これを除去するためには分級操作を繰り返す必要が生じるため、やはりコストの増大という問題が発生する。   That is, in the gas phase particle synthesis method represented by the gas phase reduction method, the spray pyrolysis method, and the evaporation aggregation method, it is necessary to control the particle generation density to be small in order to produce particles having excellent dispersibility. There is a problem that the manufacturing cost increases. On the other hand, when productivity is emphasized, the generation of connected particles and coarse particles is likely to occur, and in order to remove them, it is necessary to repeat the classification operation, which also causes a problem of increased cost.

また、湿式還元法によるニッケル粉の製造は、粒子径が微細で分散性に優れた粒子の製造方法として適している。しかし、湿式還元法によりニッケル粉を製造する場合には、多量の還元剤を用いるとともに表面に分散剤などを吸着させる方法が一般的であり、不純物品位の増加や製造時に発生する難処理廃液の処理コストが増大するなどの問題がある。   Also, the production of nickel powder by the wet reduction method is suitable as a method for producing particles having a fine particle diameter and excellent dispersibility. However, when nickel powder is produced by a wet reduction method, a method using a large amount of a reducing agent and adsorbing a dispersing agent on the surface is generally used. There are problems such as increased processing costs.

一方で、比較的低コストで高い生産性が得られるニッケル粉の製造プロセスとしては、酸化物粉末還元法がある。すなわち、湿式中和法によりニッケル塩を中和して水酸化ニッケルを晶析し、得られた水酸化ニッケルをそのまま用いるか、あるいは熱処理により酸化物へ変換した後、水素などの還元ガス雰囲気下で還元処理することによりニッケル粉を得る方法である。しかし、本方法によりニッケル粉を製造した場合、熱処理時、特に、還元処理時にニッケル粉が焼結して粗大粒子が発生しやすくなる問題がある。一方で、焼結を抑制するためには、比較的低温で熱処理することが有効であるが、この場合には焼結をある程度抑制できるものの、熱による表面平滑化が十分でないために比表面積が大きくなりやすく、これらの特性を調整するには厳しく条件を調整する必要がある。   On the other hand, there is an oxide powder reduction method as a manufacturing process of nickel powder that can achieve high productivity at a relatively low cost. That is, the nickel salt is neutralized by a wet neutralization method to crystallize nickel hydroxide, and the obtained nickel hydroxide is used as it is or converted into an oxide by heat treatment, and then in a reducing gas atmosphere such as hydrogen. In this method, nickel powder is obtained by reduction treatment. However, when nickel powder is produced by this method, there is a problem that the nickel powder is sintered during heat treatment, particularly during reduction treatment, and coarse particles are likely to be generated. On the other hand, in order to suppress the sintering, it is effective to perform heat treatment at a relatively low temperature. In this case, although the sintering can be suppressed to some extent, the surface smoothing by heat is not sufficient, so that the specific surface area is small. It tends to be large, and it is necessary to strictly adjust the conditions to adjust these characteristics.

こうした問題を解決する技術として、水酸化ニッケルの晶析条件を調整し、還元温度を400〜550℃に制御することで還元ニッケル粉の焼結による粗大化を防止する方法が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。しかし、この方法により得られるニッケル粉は、平均粒子径1.0μm以下のものも得られるが、粒子の分散性、比表面積あるいは不純物量に十分配慮されているとは言えず、電子部品材料用として最近要求されているレベルの粒子径や分散性を備えているとは言い難い。このように、酸化物粉末還元法において、晶析や熱処理の条件制御により、粒径が1μm以下で高分散性と低比表面積を両立することは極めて困難である。   As a technique for solving such a problem, a method of preventing coarsening due to sintering of reduced nickel powder by adjusting the crystallization conditions of nickel hydroxide and controlling the reduction temperature to 400 to 550 ° C. is disclosed ( For example, see Patent Document 1.) However, nickel powder obtained by this method can be obtained with an average particle size of 1.0 μm or less, but it cannot be said that sufficient consideration is given to particle dispersibility, specific surface area or amount of impurities. It is difficult to say that the particle size and dispersibility of the level required recently are provided. Thus, in the oxide powder reduction method, it is extremely difficult to achieve both high dispersibility and low specific surface area with a particle size of 1 μm or less by controlling the conditions of crystallization and heat treatment.

これに対して、ニッケル粉同士の焼結を抑制しながら熱処理を行う技術としては、焼結防止剤をニッケル粉の表面に被覆あるいはニッケル粉と混合させることにより焼結を抑制する方法が知られている。例えば、周期律表第IIA族元素、第IV族元素および希土類元素から選ばれる少なくとも1種の元素の水酸化物にて被覆する方法が示されている(例えば、特許文献2参照。)。また、アルカリ土類金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩および炭酸水素塩よりなる群から選ばれたアルカリ土類金属化合物の微粉末とを混合した後、またはニッケル粉の各粒子表面に該アルカリ土類金属化合物を被覆させた後、熱処理をする方法が開示されている(例えば、特許文献3参照。)。   On the other hand, as a technique for performing heat treatment while suppressing sintering of nickel powders, a method of suppressing sintering by coating a surface of the nickel powder with a sintering inhibitor or mixing with nickel powder is known. ing. For example, a method of coating with a hydroxide of at least one element selected from Group IIA elements, Group IV elements and rare earth elements of the periodic table is shown (for example, see Patent Document 2). In addition, after mixing with a fine powder of an alkaline earth metal compound selected from the group consisting of an alkaline earth metal oxide, hydroxide, carbonate and bicarbonate, or on the surface of each particle of nickel powder A method of heat treatment after coating with an alkaline earth metal compound is disclosed (for example, see Patent Document 3).

これらの技術は、おもにニッケル粉の熱収縮特性の改善に主眼が置かれており、あらかじめ湿式法などで製造した分散性に優れたニッケル粉を原料に、そのニッケル粉の形状や分散性、化学組成を維持しながら熱処理を施す技術である。したがって、還元反応時の焼結抑制が課題である酸化物粉末還元法の場合、粒子の組成および形状の変化を伴うため上記技術の適用は困難である可能性が高い。また、添加した焼結防止剤が不純物として電子部品材料としての特性を損なう可能性があるが、この除去の観点においても、上記技術は基本的に原料形状を維持する技術であり、形状の変化を伴う酸化物粉末還元法への適用は十分でない可能性が高い。   These technologies are mainly focused on improving the thermal shrinkage characteristics of nickel powder, and the nickel powder is manufactured using a wet powder method and has excellent dispersibility as a raw material. This is a technique for performing heat treatment while maintaining the composition. Therefore, in the case of the oxide powder reduction method in which sintering suppression during the reduction reaction is an issue, the application of the above technique is likely to be difficult because it involves changes in the composition and shape of the particles. In addition, the added sintering inhibitor may impair the properties of the electronic component material as an impurity. From the viewpoint of this removal, the above technique is basically a technique for maintaining the raw material shape, and the shape change The application to the oxide powder reduction method involving is likely to be insufficient.

化学反応を伴う系において焼結を抑制する技術としては、ニッケル水溶液に、アルカリ金属化合物を添加して中和反応に付し、ニッケル化合物と焼結防止剤を含むスラリーを形成し、それを乾燥してニッケル化合物と焼結防止剤の混合物を生成させ、混合物を還元した後、浸出処理にて焼結防止剤を除去する方法が開示されている(例えば、特許文献4参照。)。この技術によれば、走査電子顕微鏡の観察によって測定される平均粒径が0.1μm未満の粒子が得られるとされているが、粒子の分散状態を評価する測定結果が示されておらず、平均粒径が0.1μm未満の粒子は凝集しやすいため、電子部品材料用として要求されているレベルの分散性が得られない可能性が高い。さらに、残存する不純物量は示されておらず、不純物の残存量も問題となる可能性が高い。   As a technology to suppress sintering in a system involving a chemical reaction, an alkali metal compound is added to a nickel aqueous solution and subjected to a neutralization reaction to form a slurry containing the nickel compound and a sintering inhibitor, and then dried. Thus, a method is disclosed in which a mixture of a nickel compound and a sintering inhibitor is generated, the mixture is reduced, and then the sintering inhibitor is removed by leaching (see, for example, Patent Document 4). According to this technique, it is said that particles having an average particle diameter measured by observation with a scanning electron microscope of less than 0.1 μm are obtained, but the measurement results for evaluating the dispersion state of the particles are not shown, Since particles having an average particle size of less than 0.1 μm are likely to aggregate, there is a high possibility that the level of dispersibility required for electronic component materials cannot be obtained. Furthermore, the remaining amount of impurities is not shown, and the remaining amount of impurities is likely to be a problem.

また、塩化ニッケル粉末に添加剤として、ステアリン酸マグネシウムまたはステアリン酸カルシウムを添加した後、還元処理する技術が開示されている(例えば、特許文献5参照。)。この技術によれば、平均粒径が0.1〜1.0μmであり、単分散性に優れたニッケル粉末が得られるとされている。しかしながら、得られたニッケル粉末の表面にマグネシウム化合物やカルシウム化合物が生成しているとしているばかりか、塩化ニッケル由来の塩素も残留している可能性がある。ニッケル粉末の表面に生成しているマグネシウム化合物やカルシウム化合物は塩酸や酢酸等の溶液に浸漬して除去可能としているが、除去後のこれらの不純物量は示されておらず、電子部品用材料としては好ましくない量の不純物が残存している可能性が高い。   In addition, a technique is disclosed in which magnesium stearate or calcium stearate is added as an additive to nickel chloride powder, followed by reduction treatment (see, for example, Patent Document 5). According to this technique, it is said that a nickel powder having an average particle diameter of 0.1 to 1.0 μm and excellent monodispersibility can be obtained. However, not only magnesium compounds and calcium compounds are generated on the surface of the obtained nickel powder, but also chlorine derived from nickel chloride may remain. Magnesium and calcium compounds formed on the surface of nickel powder can be removed by dipping in a solution such as hydrochloric acid or acetic acid, but the amount of these impurities after removal is not shown. Is likely to leave an undesirable amount of impurities.

このように、現状においては、電子部品材料用として分散性が十分に確保され、不純物品位も低いニッケル粉は開発されていない。また、コスト面からも低コスト化が可能な簡潔な製造方法が望まれている。
特開2003−213310号公報 特開2001−192702号公報 特開2002−146401号公報 特開2004−323884号公報 特開平10−88205公報
Thus, under the present circumstances, nickel powder having sufficiently high dispersibility and low impurity quality has not been developed for use in electronic component materials. In addition, a simple manufacturing method that can reduce the cost is desired.
JP 2003-213310 A JP 2001-192702 A JP 2002-146401 A JP 2004-323984 A JP-A-10-88205

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、電子部品材料用として分散性が十分に確保され、不純物品位が低いニッケル粉と簡潔なその製造方法を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a nickel powder having a sufficiently high dispersibility for an electronic component material and having a low impurity quality and a simple manufacturing method thereof.

本発明者は、生産性が高く低コストである酸化物粉末還元法について、分散性の向上と不純物品位の低減について鋭意検討した。その結果、水酸化ニッケル粉の焙焼によって得られる酸化ニッケル表面に水溶性アルカリ金属ハロゲン化物を特定条件で被覆あるいは付着させた後に還元処理すること、および還元後にアルカリ金属ハロゲン化物を特定条件で洗浄除去することにより、分散性が良く不純物品位が低いニッケル粉が得られることを見出した。さらに、前記還元を特定温度で行うことで分散性を維持しながら比表面積を低減できることを見出し、本発明をなすに至った。   The present inventors diligently studied about improvement of dispersibility and reduction of impurity quality in the oxide powder reduction method with high productivity and low cost. As a result, the nickel oxide surface obtained by roasting nickel hydroxide powder is coated or adhered with water-soluble alkali metal halide under specific conditions, and then reduced, and after reduction, the alkali metal halide is washed under specific conditions. It has been found that nickel powder having good dispersibility and low impurity quality can be obtained by removing the nickel powder. Furthermore, the inventors have found that the specific surface area can be reduced while maintaining dispersibility by performing the reduction at a specific temperature, and the present invention has been made.

すなわち、本発明のニッケル粉の製造方法は、ニッケル塩水溶液をアルカリ水溶液で中和して水酸化ニッケルの沈殿を生成させる工程(A)と、該水酸化ニッケルを空気中で熱処理して酸化ニッケルを生成させる工程(B)と、該酸化ニッケル粉表面を水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物で被覆あるいは付着させる工程(C)と、該水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物で表面を被覆あるいは付着させた酸化ニッケルを還元ガス雰囲気中で還元してニッケル粉とする工程(D)と、前記アルカリ金属ハロゲン化物を洗浄除去する工程(E)とを備えたニッケル粉の製造方法である。   That is, the nickel powder production method of the present invention comprises a step (A) of neutralizing a nickel salt aqueous solution with an alkaline aqueous solution to form a precipitate of nickel hydroxide, and heat treating the nickel hydroxide in air to produce nickel oxide. A step (B) of forming a nickel oxide powder, a step (C) of coating or adhering the surface of the nickel oxide powder with a water-soluble alkali metal halide, and an oxidation of coating or adhering the surface with the water-soluble alkali metal halide. A nickel powder production method comprising a step (D) of reducing nickel in a reducing gas atmosphere to form nickel powder and a step (E) of washing and removing the alkali metal halide.

また、前記工程(C)において、工程(B)で得られた酸化ニッケル粉と水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物の水溶液とを混合してスラリー化した後、このスラリーを乾燥して水分を除去することによって、アルカリ金属ハロゲン化物で表面を被覆あるいは付着した酸化ニッケルを得ることが好ましい。
前記水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物は、塩化ナトリウムあるいは塩化カリウムの少なくとも一種であることが好ましく、前記工程(C)において、酸化ニッケル表面に被覆あるいは付着させるために添加する水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物の量は、酸化ニッケルの質量を100とした場合の質量比で0.05〜10とすることが好ましい。
また、前記工程(D)の還元は、430〜450℃で行うことが好ましい。
In the step (C), the nickel oxide powder obtained in the step (B) and an aqueous solution of a water-soluble alkali metal halide are mixed to form a slurry, and then the slurry is dried to remove moisture. Thus, it is preferable to obtain nickel oxide whose surface is coated or adhered with an alkali metal halide.
The water-soluble alkali metal halide is preferably at least one of sodium chloride and potassium chloride. In the step (C), the water-soluble alkali metal halide is added to coat or adhere to the nickel oxide surface. The amount of is preferably 0.05 to 10 in terms of mass ratio when the mass of nickel oxide is 100.
Moreover, it is preferable to perform the reduction | restoration of the said process (D) at 430-450 degreeC.

さらに、前記工程(E)の洗浄除去は、ニッケル粉を有機酸水溶液中で攪拌することにより行うことが好ましく、前記有機酸は、クエン酸、グルタミン酸、アスコルビン酸から選ばれる少なくとも一種とすることが好ましい。前記工程(E)において、洗浄は30〜80℃に加熱した状態で行うことが好ましい。
また、前記水酸化ニッケルの沈殿を生成させる工程(A)の後に、工程(A)で生成した水酸化ニッケルを硫酸あるいは硫酸塩水溶液で洗浄し、さらに水洗する工程(F)を備えていることが好ましい。
Furthermore, the washing removal in the step (E) is preferably performed by stirring nickel powder in an organic acid aqueous solution, and the organic acid is at least one selected from citric acid, glutamic acid, and ascorbic acid. preferable. In the step (E), the washing is preferably performed in a state heated to 30 to 80 ° C.
Further, after the step (A) of generating the nickel hydroxide precipitate, the step (F) of washing the nickel hydroxide produced in the step (A) with sulfuric acid or a sulfate aqueous solution and further washing with water is provided. Is preferred.

本発明のニッケル粉は、上記ニッケル粉の製造方法によって得られたニッケル粉であって、レーザー散乱法で測定した粒度分布のD90が1.0μm以下であることを特徴とする。BET法で測定された前記ニッケル粉の比表面積は、4.6m/g以下であることが好ましい。
また、前記ニッケル粉は、塩素品位とナトリウム品位あるいはカリウム品位がいずれも100質量ppm以下であることが好ましい。
The nickel powder of the present invention is a nickel powder obtained by the above-described method for producing nickel powder, and is characterized in that D90 of the particle size distribution measured by a laser scattering method is 1.0 μm or less. The specific surface area of the nickel powder measured by the BET method is preferably 4.6 m 2 / g or less.
The nickel powder preferably has a chlorine quality, a sodium quality, or a potassium quality of 100 ppm by mass or less.

本発明によれば、電子部品材料用として好適な分散性に優れ、不純物品位が低いニッケル粉を得ることができる。また、比表面積も低く、ペースト化して用いる場合にも好適である。さらに、本発明の製造方法は、簡潔なプロセスで効率がよく、その工業的価値は大きい。   According to the present invention, it is possible to obtain nickel powder having excellent dispersibility and low impurity quality suitable for use in electronic component materials. Moreover, since the specific surface area is low, it is also suitable when used as a paste. Furthermore, the production method of the present invention is efficient with a simple process, and its industrial value is great.

以下に、本発明によるニッケル粉およびその製造方法について詳細に説明する。
本発明のニッケル粉の製造方法は、ニッケル塩水溶液をアルカリ水溶液で中和して水酸化ニッケルの沈殿を生成させる工程(A)と、該水酸化ニッケルを空気中で熱処理して酸化ニッケルを生成させる工程(B)と、該酸化ニッケル粉の表面を水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物で被覆あるいは付着する工程(C)と、該水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物で表面を被覆あるいは付着させた酸化ニッケルを還元ガス雰囲気中で還元してニッケル粉とする工程(D)と、前記アルカリ金属ハロゲン化物を洗浄除去する工程(E)とを備えたニッケル粉の製造方法である。
本発明のニッケル粉の製造方法においては、水酸化ニッケルに特定の水溶性アルカリ金属ハロゲン化物を付加した後に還元処理すること、および還元後にアルカリ金属ハロゲン化物を特定条件で洗浄除去することが重要である。すなわち、工程(C)において酸化ニッケル表面に被覆あるいは付着した水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物が、工程(D)の還元処理においてニッケル粉の過度の焼結による連結粒子の発生を抑制するので、分散性に優れたニッケル粉を得ることができる。さらに、還元処理後に工程(C)で付加したアルカリ金属ハロゲン化物を洗浄除去することでニッケル粉の不純物品位を電子部品用として好適な範囲に低減させることができる。
Below, the nickel powder by this invention and its manufacturing method are demonstrated in detail.
The method for producing nickel powder according to the present invention includes a step (A) in which a nickel salt aqueous solution is neutralized with an alkaline aqueous solution to form a nickel hydroxide precipitate, and the nickel hydroxide is heat-treated in air to produce nickel oxide. A step (B) of coating, a step (C) of coating or adhering the surface of the nickel oxide powder with a water-soluble alkali metal halide, and a nickel oxide having a surface coated or adhered with the water-soluble alkali metal halide Is a method for producing nickel powder, comprising a step (D) of reducing the alkali metal in a reducing gas atmosphere to a nickel powder and a step (E) of washing and removing the alkali metal halide.
In the method for producing nickel powder of the present invention, it is important to perform a reduction treatment after adding a specific water-soluble alkali metal halide to nickel hydroxide, and to wash and remove the alkali metal halide under specific conditions after the reduction. is there. That is, since the water-soluble alkali metal halide coated or adhered to the nickel oxide surface in the step (C) suppresses the generation of connected particles due to excessive sintering of the nickel powder in the reduction treatment of the step (D). Nickel powder excellent in properties can be obtained. Furthermore, the impurity quality of the nickel powder can be reduced to a range suitable for electronic parts by washing and removing the alkali metal halide added in the step (C) after the reduction treatment.

以下に、各工程毎に詳細を説明する。
[工程A]
工程(A)はニッケル塩水溶液をアルカリ水溶液で中和して水酸化ニッケルの沈殿を生成させる工程である。ニッケル塩は、廃水処理の容易さなど環境への影響とコスト面を考慮すると、塩化ニッケルを用いることが好ましい。水酸化ニッケルの沈殿を生成させる方法については、公知の技術を用いることができるが、均一な沈殿を得るためにニッケル塩水溶液とアルカリの中和は、pHを一定に保ちながら行うのが、沈殿生成速度を一定に保つことができるため好ましい。この時、均一な特性の水酸化ニッケルを得るために、十分に攪拌されている反応槽内に、ニッケル塩水溶液と水酸化ナトリウム水溶液をダブルジェット方式で添加しながら中和生成させることが有効である。反応槽内にあらかじめ入れておく液は純水を用いることができるが、中和生成に一度使用したろ液を所定のpHにアルカリで調整した液を用いることが好ましい。使用するアルカリ水溶液については、水酸化ナトリウム水溶液や水酸化カリウム水溶液などの水酸化アルカリ金属の水溶液を用いることが好ましく、入手しやすさや価格などの点で水酸化ナトリウム水溶液が好ましい。また、より分散性に優れたニッケル粉を得るために、公知の技術の利用として、水酸化ニッケルにマグネシウムなどの周期表第II属元素を添加することができ、本発明と併用することでその効果を一層高めることができる。
Details will be described below for each process.
[Step A]
Step (A) is a step in which an aqueous nickel salt solution is neutralized with an aqueous alkaline solution to produce a nickel hydroxide precipitate. As the nickel salt, it is preferable to use nickel chloride in consideration of environmental influences such as ease of wastewater treatment and cost. As a method for generating nickel hydroxide precipitate, a known technique can be used. In order to obtain a uniform precipitate, neutralization of an aqueous nickel salt solution and an alkali is performed while maintaining a constant pH. This is preferable because the production rate can be kept constant. At this time, in order to obtain nickel hydroxide with uniform characteristics, it is effective to neutralize and generate a nickel salt aqueous solution and a sodium hydroxide aqueous solution in a sufficiently stirred reaction vessel while adding them in a double jet method. is there. Pure water can be used as the liquid previously placed in the reaction tank, but it is preferable to use a liquid prepared by adjusting the filtrate once used for neutralization to a predetermined pH with an alkali. As the alkaline aqueous solution to be used, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as a sodium hydroxide aqueous solution or a potassium hydroxide aqueous solution is preferably used, and a sodium hydroxide aqueous solution is preferred from the viewpoint of availability and price. In addition, in order to obtain nickel powder with more excellent dispersibility, as a known technique, periodic table group II elements such as magnesium can be added to nickel hydroxide, The effect can be further enhanced.

生成した水酸化ニッケルをろ過により脱水し、ろ過ケーキを得る。この時、原料に塩化ニッケルを用いた場合には、十分に残留塩素濃度を下げることが好ましいため、数回のろ過・レパルプ洗浄を繰り返してもよいが、残留塩素濃度を下げながらスラリー濃度を上げていく方法としてクロスフロー方式のろ過を用いることも有効である。
また、ニッケル粉中の不純物塩素をより効果的に低減するために、硫酸あるいは硫酸塩水溶液で洗浄した後、さらに水洗する工程(F)を備えることが好ましい。
The produced nickel hydroxide is dehydrated by filtration to obtain a filter cake. At this time, if nickel chloride is used as a raw material, it is preferable to sufficiently reduce the residual chlorine concentration. Therefore, filtration and repulp washing may be repeated several times, but the slurry concentration is increased while lowering the residual chlorine concentration. It is also effective to use a cross-flow type filtration as a method for achieving this.
Moreover, in order to reduce impurity chlorine in nickel powder more effectively, it is preferable to provide a step (F) of washing with sulfuric acid or a sulfate aqueous solution and then washing with water.

[工程F]
工程(F)は、原料水酸化ニッケル粉中の不純物濃度を低減させるために、生成した水酸化ニッケルを硫酸あるいは硫酸塩水溶液で洗浄した後、さらに水洗する工程である。
工程(F)は、得られた水酸化ニッケルのゲルを解消しながらの洗浄となるため、水酸化ニッケルに残留する塩素を効率よく低減させることができる。そのため、次工程以降の塩素による負荷を下げることにもなり、得られる効果は大きい。
工程(F)を実施するときに洗浄に使用する硫酸あるいは硫酸塩水溶液濃度は、0.0004〜0.0015mol/Lであることが好ましい。硫酸あるいは硫酸塩水溶液濃度が0.0004mol/L未満であると洗浄効果が十分に得られず、濃度が0.0015mol/Lを超えた場合、残留する硫黄濃度が高くなりすぎて粒子の焼結挙動を著しく変化させるため、次工程以降の熱処理時に目的とする粒子が得られない可能性があるため好ましくない。洗浄時の水溶液の温度は常温で可能であるが、洗浄効果を高めるため加熱してもよい。
水酸化ニッケル粉に対する硫酸あるいは硫酸塩水溶液の量は特に限定されるものではなく、残留塩素が十分に低減できる量とすればよいが、水酸化ニッケル粉を良好に分散させるためには、水酸化ニッケル粉/処理液の混合比を100g/L程度とすることが好ましい。また、洗浄時間は特に限定されるものではなく、洗浄条件により残留塩素濃度が十分に低減される洗浄時間とすればよい。
[Process F]
Step (F) is a step of washing the produced nickel hydroxide with sulfuric acid or a sulfate aqueous solution and then further washing with water in order to reduce the impurity concentration in the raw material nickel hydroxide powder.
In the step (F), cleaning is performed while eliminating the obtained nickel hydroxide gel, so that chlorine remaining in the nickel hydroxide can be efficiently reduced. For this reason, the load due to chlorine after the next step is also reduced, and the obtained effect is great.
It is preferable that the sulfuric acid or sulfate aqueous solution concentration used for washing when carrying out the step (F) is 0.0004 to 0.0015 mol / L. If the sulfuric acid or sulfate aqueous solution concentration is less than 0.0004 mol / L, a sufficient cleaning effect cannot be obtained. If the concentration exceeds 0.0015 mol / L, the residual sulfur concentration becomes too high and the particles are sintered. Since the behavior is remarkably changed, the target particles may not be obtained during the heat treatment after the next step, which is not preferable. Although the temperature of the aqueous solution at the time of washing | cleaning can be normal temperature, in order to improve the washing | cleaning effect, you may heat.
The amount of sulfuric acid or sulfate aqueous solution with respect to the nickel hydroxide powder is not particularly limited, and may be an amount that can sufficiently reduce the residual chlorine. The mixing ratio of nickel powder / treatment liquid is preferably about 100 g / L. Further, the cleaning time is not particularly limited, and the cleaning time may be a time for sufficiently reducing the residual chlorine concentration depending on the cleaning conditions.

洗浄に用いる装置は特に限定されるものではなく、通常の湿式反応槽を用いることができる。洗浄中はニッケル粉を含むスラリーを攪拌することが好ましく、洗浄には、例えば、超音波攪拌を用いるか機械式攪拌を用いることができる。
工程(F)における洗浄は、あらかじめ硫酸あるいは硫酸塩濃度を調整した水溶液を準備し、これに攪拌しながら乾燥した水酸化ニッケルの粉末を加えることで行えるが、含水したままのケーキ状のものを使用する方が、均一な処理を行いやすく洗浄の効率が良くなるばかりか、工程の短縮にもなるために好ましい。ケーキ状の水酸化ニッケルを洗浄する場合には、水酸化ニッケルのろ過ケーキに少量の水を加えてスラリー状にした後、添加後に所定の濃度となるように調整した硫酸あるいは硫酸塩水溶液を攪拌しながら一度に添加することが、均一な処理のために好ましい。
水酸化ニッケルケーキの水分含有率については、10〜40質量%であることが好ましく、30質量%程度にすることがさらに好ましい。水分含有率が10質量%よりも低い場合、均一に水溶液中に分散しにくく洗浄の効率が悪くなることや、水分含有率を下げるためにより厳しい脱水処理が必要となるなどの制約があり好ましくない。一方で、水分含有率が40質量%よりも高い場合、水酸化ニッケルのハンドリング性が悪く、均一な処理を妨げる場合がある。また、一定量の水酸化ニッケルを得るために必要な処理量が増加してしまう。
洗浄後の水酸化ニッケルは、真空乾燥などの公知の方法で乾燥すればよい。
The apparatus used for washing is not particularly limited, and a normal wet reaction tank can be used. During the washing, it is preferable to stir the slurry containing nickel powder. For washing, for example, ultrasonic stirring or mechanical stirring can be used.
The washing in the step (F) can be performed by preparing an aqueous solution with sulfuric acid or sulfate concentration adjusted in advance, and adding dried nickel hydroxide powder to this while stirring. It is preferable to use it because it facilitates uniform processing and improves the cleaning efficiency, and also shortens the process. When washing cake-like nickel hydroxide, add a small amount of water to a nickel hydroxide filter cake to form a slurry, and then stir the sulfuric acid or sulfate aqueous solution adjusted to a predetermined concentration after addition. However, it is preferable to add all at once for uniform treatment.
The water content of the nickel hydroxide cake is preferably 10 to 40% by mass, and more preferably about 30% by mass. When the water content is lower than 10% by mass, it is not preferable because it is difficult to uniformly disperse in an aqueous solution and the efficiency of washing is deteriorated, and more severe dehydration is required to reduce the water content. . On the other hand, when the moisture content is higher than 40% by mass, the handling property of nickel hydroxide is poor, and uniform processing may be hindered. In addition, the amount of treatment required to obtain a certain amount of nickel hydroxide increases.
The nickel hydroxide after washing may be dried by a known method such as vacuum drying.

[工程B]
工程(B)は、工程(A)で得られた水酸化ニッケルを空気中で熱処理して酸化ニッケルとする酸化ニッケルを生成させるための熱処理工程である。熱処理工程(B)では、静置式焙焼炉、転動炉、バーナー炉、搬送式連続炉、流動焙焼炉など、一般的な焙焼炉を用いて公知の方法で行うことができるが、目的とするニッケル微粉を得るためには、ここで均一な特性の酸化ニッケルを得ることが重要である。その際の条件は、目的とする粒子径などの特性が得られるように、炉の特性に応じて任意に設定することができるが、均一な処理を行うためには、ガス気流中で行うことが好ましい。
熱処理の雰囲気は、非還元性雰囲気であれば問題なく、ガス種については不活性ガスおよび酸化性ガスであれば種類は制約されるものではないが、空気を使用することがコストや取り扱いやすさなどの点で優れている。
[Step B]
Step (B) is a heat treatment step for producing nickel oxide that is heat-treated in air in the nickel hydroxide obtained in step (A) to form nickel oxide. In the heat treatment step (B), it can be carried out by a known method using a general roasting furnace such as a stationary roasting furnace, a rolling furnace, a burner furnace, a conveying continuous furnace, a fluidized roasting furnace, In order to obtain the target nickel fine powder, it is important to obtain nickel oxide having uniform characteristics. The conditions at that time can be arbitrarily set according to the characteristics of the furnace so that the desired characteristics such as the particle size can be obtained. Is preferred.
There is no problem if the atmosphere of the heat treatment is a non-reducing atmosphere, and the type of gas is not limited as long as it is an inert gas and an oxidizing gas, but the use of air is cost and ease of handling. It is excellent in the point.

[工程C]
工程(C)は、工程(B)で得られた酸化ニッケル粉表面に水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物を被覆あるいは付着させる工程である。ここで、酸化ニッケル粉に前記アルカリ金属ハロゲン化物を付加することが重要である。工程(C)で酸化ニッケル粉表面に前記アルカリ金属ハロゲン化物を被覆あるいは付着させることで、次の工程(D)の還元処理において焼結を抑制して粒子同士の連結が防止され、高い分散性のニッケル粉を得ることができる。
本発明で採用している酸化物粉末還元法は、還元処理する際に起きる酸化ニッケル粉の粒子形状の変化を制御して目的とするニッケル粉を生成させる技術である。すなわち、形状などが均一な酸化ニッケルの還元処理を制御しながら行うことで、目的とする特性を持った均一なニッケル粉が得られるのであり、焼結防止剤の役割を果たすアルカリ金属ハロゲン化物の付加は、酸化ニッケル粉への転換後に行う必要がある。
例えば、水酸化ニッケル生成時に、添加あるいは反応生成物を利用することにより、アルカリ金属ハロゲン化物を水酸化ニッケルに付加させる方法では、その後の熱処理によって得られる酸化ニッケルが微細になり過ぎるとともに粒径が不均一になるため、最終的に得られるニッケル粉は微細で粒度分布が広いものとなってしまう。また、水酸化ニッケルは表面の一部ないし全体がゲル状になりやすいことから、均一なアルカリ金属ハロゲン化物の付加を行なうことができない。したがって、アルカリ金属ハロゲン化物の付加は酸化ニッケル粉に対して行う必要がある。
[Step C]
Step (C) is a step of coating or adhering a water-soluble alkali metal halide to the surface of the nickel oxide powder obtained in step (B). Here, it is important to add the alkali metal halide to the nickel oxide powder. By coating or adhering the alkali metal halide to the nickel oxide powder surface in the step (C), sintering is suppressed in the reduction treatment of the next step (D) to prevent the particles from being connected to each other, and high dispersibility. Nickel powder can be obtained.
The oxide powder reduction method employed in the present invention is a technique for producing the desired nickel powder by controlling the change in the particle shape of the nickel oxide powder that occurs during the reduction treatment. That is, by controlling the reduction treatment of nickel oxide having a uniform shape and the like, uniform nickel powder having the desired characteristics can be obtained, and an alkali metal halide that serves as a sintering inhibitor can be obtained. The addition needs to be done after conversion to nickel oxide powder.
For example, in the method of adding an alkali metal halide to nickel hydroxide by adding or using a reaction product at the time of nickel hydroxide production, the nickel oxide obtained by the subsequent heat treatment becomes too fine and the particle size is reduced. Because of non-uniformity, the nickel powder finally obtained is fine and has a wide particle size distribution. In addition, nickel hydroxide cannot easily add a uniform alkali metal halide because part or the whole of the surface tends to be gelled. Therefore, it is necessary to add the alkali metal halide to the nickel oxide powder.

前記焼結抑制の効果を均一に発現させるためには、酸化ニッケル粉表面にアルカリ金属ハロゲン化物を被覆あるいは付着させることが必要である。このため、アルカリ金属ハロゲン化物の添加処理は、前記酸化ニッケル粉と水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物の水溶液とを混合してスラリー化した後、このスラリーを乾燥して水分を除去することが好ましい。アルカリ金属ハロゲン化物は、不純物の混入を防止するため、純水に溶解して水溶液とすることが好ましい。スラリーの乾燥時にろ過による脱水を行なうと、脱水とともにアルカリ金属ハロゲン化物が失われるため、スラリーはそのまま乾燥することが好ましい。このため、スラリーの濃度は0.1〜2g/Lとすることが好ましい。2g/Lを超えると、酸化ニッケル粉とアルカリ金属ハロゲン化物の水溶液との混合が均一にできない場合があり、0.1g/L未満では、蒸発させる水分量が多く経済的でない。乾燥方法は、特に限定されるものではなく、通常の乾燥に用いる方法でよいが、スプレードライヤーなどを用いることもできる。   In order to uniformly develop the effect of suppressing the sintering, it is necessary to coat or adhere an alkali metal halide to the surface of the nickel oxide powder. For this reason, the addition treatment of the alkali metal halide is preferably performed by mixing the nickel oxide powder and an aqueous solution of a water-soluble alkali metal halide into a slurry, and then drying the slurry to remove moisture. The alkali metal halide is preferably dissolved in pure water to form an aqueous solution in order to prevent contamination with impurities. If dehydration by filtration is performed when the slurry is dried, alkali metal halides are lost along with dehydration. Therefore, the slurry is preferably dried as it is. For this reason, it is preferable that the density | concentration of a slurry shall be 0.1-2 g / L. If it exceeds 2 g / L, mixing of the nickel oxide powder and the aqueous solution of the alkali metal halide may not be uniform, and if it is less than 0.1 g / L, the amount of water to be evaporated is large, which is not economical. The drying method is not particularly limited and may be a method used for normal drying, but a spray dryer or the like can also be used.

アルカリ金属ハロゲン化物は、還元処理後に洗浄除去すること、および前記被覆あるいは付着の必要性から、水溶性を示すものを使用することが必要である。水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物を使用することで、電子部品材料として使用する際の不純物となるアルカリ金属元素やハロゲン元素を効率よく除去することが可能となるとともに、酸化ニッケル粉表面への被覆あるいは付着を容易に行うことができる。
使用するアルカリ金属ハロゲン化物としては、入手しやすさやコスト、さらには除去した場合の環境への影響等を考慮すると、塩化ナトリウムあるいは塩化カリウムの少なくとも一種を用いることが好ましい。また、酸化ニッケル表面に被覆あるいは付着させるために添加するアルカリ金属ハロゲン化物の量は、酸化ニッケルの質量を100とした場合の質量比で0.05〜10とすることが好ましい。付加量比が0.05未満の場合には、焼結抑制の効果が十分に得られないことや、均一な付加処理が難しくなる場合があり、付加量比が10を超えると、工程(D)における還元を妨げる場合があるほか、不純物品位が増大するリスクが増えるので好ましくない。
As the alkali metal halide, it is necessary to use a water-soluble one because it is washed and removed after the reduction treatment, and it is necessary to coat or adhere the alkali metal halide. By using a water-soluble alkali metal halide, it becomes possible to efficiently remove alkali metal elements and halogen elements that become impurities when used as electronic component materials, and to coat the surface of nickel oxide powder or Adhesion can be performed easily.
As the alkali metal halide to be used, it is preferable to use at least one kind of sodium chloride or potassium chloride in consideration of availability, cost, and environmental influence when removed. Moreover, it is preferable that the quantity of the alkali metal halide added in order to coat | cover or adhere to the nickel oxide surface is 0.05-10 by mass ratio when the mass of nickel oxide is set to 100. When the addition ratio is less than 0.05, the effect of suppressing sintering may not be sufficiently obtained, and uniform addition treatment may be difficult. When the addition ratio exceeds 10, the process (D ) Is not preferable because it may hinder the reduction in () and the risk of an increase in impurity quality.

[工程D]
工程(D)は、得られた酸化ニッケルを還元ガス雰囲気中で還元処理してニッケル粉を生成する工程である。還元処理においても、目的とする粒子径などに応じて適宜、処理温度および時間などの処理条件を設定することができるが、工程(B)と同様にガス気流中で行うことが、均一なニッケル粉を得るために好ましい。
還元処理は一般的な熱処理炉を使用できるが、その場合1μm以下の粒子径のニッケル粉を得るためには、還元温度は300〜550℃とすることが好ましい。300℃未満では、還元が十分に行われず、酸素含有量が多くなり過ぎる場合がある。還元温度が高いほど、また、還元時間を長く設定するほど粒子径は大きくなる傾向があるため、電子部品材料用としてより好ましい0.5μm以下で酸素含有量が十分に少ない微細なニッケル粉を得るためには、還元温度は350〜500℃とすることが好ましい。特に、比表面積を低減させたい場合には、還元温度を430〜450℃とすることが好ましい。430℃未満では、比表面積を十分に低減できない場合がある。
還元時間は温度、処理量により、得ようとするニッケル粉の粒径に応じて適宜設定すればよいが、可能な限り短時間とすることが好ましい。
還元ガスは特に制約されるものではないが、入手しやすさや環境への影響を考慮すると、含水素ガスを使用することが好ましい。上記温度範囲で還元処理を行う場合には、付加したアルカリ金属ハロゲン化物は安定して存在できるため、塩化水素ガスの発生などの原因とはならない。
[Process D]
Step (D) is a step of producing nickel powder by reducing the obtained nickel oxide in a reducing gas atmosphere. In the reduction treatment, treatment conditions such as treatment temperature and time can be set as appropriate according to the target particle size, etc., but uniform nickel can be used in the gas stream as in step (B). Preferred for obtaining a powder.
For the reduction treatment, a general heat treatment furnace can be used. In that case, in order to obtain nickel powder having a particle diameter of 1 μm or less, the reduction temperature is preferably 300 to 550 ° C. If it is less than 300 degreeC, reduction | restoration cannot fully be performed but oxygen content may increase too much. As the reduction temperature is higher and the reduction time is set longer, the particle diameter tends to be larger, so that a fine nickel powder having a sufficiently low oxygen content at 0.5 μm or less, which is more preferable for electronic component materials, is obtained. For this purpose, the reduction temperature is preferably 350 to 500 ° C. In particular, when it is desired to reduce the specific surface area, the reduction temperature is preferably set to 430 to 450 ° C. If it is less than 430 degreeC, a specific surface area may not fully be reduced.
The reduction time may be appropriately set according to the particle size of the nickel powder to be obtained, depending on the temperature and the processing amount, but is preferably as short as possible.
The reducing gas is not particularly limited, but it is preferable to use a hydrogen-containing gas in consideration of availability and influence on the environment. When the reduction treatment is performed in the above temperature range, the added alkali metal halide can be present stably, and thus does not cause generation of hydrogen chloride gas.

[工程E]
工程(E)は、還元処理後に工程(C)で付加したアルカリ金属ハロゲン化物を洗浄除去する工程である。工程(E)により、不純物であるアルカリ金属品位やハロゲン品位を低下させたニッケル粉を得ることが可能となる。一方で、湿式の洗浄工程を経ることにより、乾燥時に乾燥凝集が発生してニッケル粉の分散状態が悪化することや、表面の酸化による比表面積の増加が発生する。乾燥凝集に関しては焼結による粗大粒子の発生とは異なり、乾式・湿式の解砕処理により容易に解消することができる。また、比表面積の増加に関しては、工程(E)における洗浄液を有機酸水溶液とすることで緩和できるため好ましい。前記水溶液中に含有させる有機酸は、クエン酸、グルタミン酸、アスコルビン酸から選ばれる少なくとも一種とすることが好ましい。工程(C)で付加されたアルカリ金属ハロゲン化物は水溶性のため、純水を用いた洗浄によってもかなりの部分を除去することが可能であるが、洗浄液に上記有機酸を含有させて攪拌して洗浄した場合には、付加したアルカリ金属ハロゲン化物をより効率よく除去することができる。また、アルカリ金属ハロゲン化物以外にも工程(A)で塩化ニッケルを用いた場合に残留した塩化ニッケル由来の塩素や、分散性向上のために添加した第II族元素なども除去することができる。さらに、上記有機酸はニッケル表面への吸着性が高いため、表面保護剤としてニッケル粉の過度の酸化を抑制する作用も示す。
[Step E]
Step (E) is a step of washing and removing the alkali metal halide added in step (C) after the reduction treatment. By the step (E), it is possible to obtain nickel powder having reduced alkali metal quality and halogen quality, which are impurities. On the other hand, through a wet cleaning process, dry aggregation occurs during drying, resulting in deterioration of the dispersion state of nickel powder, and an increase in specific surface area due to surface oxidation. Concerning dry aggregation, unlike the generation of coarse particles by sintering, it can be easily eliminated by dry / wet crushing treatment. Further, an increase in specific surface area is preferable because the cleaning liquid in the step (E) can be relaxed by using an organic acid aqueous solution. The organic acid contained in the aqueous solution is preferably at least one selected from citric acid, glutamic acid, and ascorbic acid. Since the alkali metal halide added in the step (C) is water-soluble, a considerable portion can be removed by washing with pure water, but the washing solution contains the above-mentioned organic acid and stirred. When washed, the added alkali metal halide can be removed more efficiently. In addition to the alkali metal halide, chlorine derived from nickel chloride remaining when nickel chloride is used in step (A), Group II elements added to improve dispersibility, and the like can also be removed. Furthermore, since the organic acid has high adsorptivity to the nickel surface, it also exhibits an action of suppressing excessive oxidation of nickel powder as a surface protective agent.

洗浄液中の有機酸の濃度は5〜50g/Lとすることが好ましい。濃度が5g/L未満の場合には洗浄効果が十分でなく、アルカリ金属ハロゲン化物や残留塩素が低減できない可能性がある。濃度が50g/Lよりも大きくしても特に問題はないが、洗浄効果に向上が見られず経済的でない。
上記洗浄の温度は任意の温度で行うことが可能であるが、30〜80℃に加熱して行うことが好ましく、40〜60℃とすることがさらに好ましい。洗浄温度を高くする方が不純物の除去という点においては優れているが、洗浄温度が高いほどニッケル粉が酸化されやすくなるほか、温度を上げるためのエネルギーが必要になるなどの問題点がある。したがって、その影響を加味すると上記範囲が好ましい。
The concentration of the organic acid in the cleaning liquid is preferably 5 to 50 g / L. When the concentration is less than 5 g / L, the cleaning effect is not sufficient, and the alkali metal halide and residual chlorine may not be reduced. Even if the concentration is higher than 50 g / L, there is no particular problem, but the cleaning effect is not improved and it is not economical.
The washing temperature can be any temperature, but it is preferably carried out by heating to 30-80 ° C, more preferably 40-60 ° C. A higher cleaning temperature is superior in terms of removing impurities, but there are problems such that the higher the cleaning temperature, the easier the nickel powder is oxidized and the energy required to raise the temperature. Therefore, the above range is preferable considering the influence.

ニッケル粉と洗浄液の混合比は特に限定されるものではなく、実施する規模に応じて適宜変化させることができるが、ニッケル粉/洗浄液の混合比を50〜500g/Lとすることが好ましい。この混合比が500g/Lを超える場合には、ニッケル粉の分散が悪化して洗浄が十分に行えなくなる可能性がある。一方で混合比が50g/L未満の場合には、洗浄のために大量の薬液が必要となり、経済性や操作性に問題がある。また、洗浄時間は特に限定されるものではなく、スラリー中のニッケル粉濃度、有機酸の濃度、洗浄条件によりアルカリ金属ハロゲン化物および残留塩素濃度が十分に低減される洗浄時間とすればよい。
洗浄に用いる装置は特に限定されるものではなく、通常の湿式反応槽を用いることができる。洗浄中はニッケル粉を含むスラリーを攪拌することが好ましく、洗浄には例えば超音波攪拌を用いるか機械式攪拌を用いることができる
The mixing ratio of the nickel powder and the cleaning liquid is not particularly limited and can be appropriately changed according to the scale to be implemented, but the mixing ratio of the nickel powder / cleaning liquid is preferably 50 to 500 g / L. When this mixing ratio exceeds 500 g / L, the dispersion of the nickel powder may be deteriorated and cleaning may not be performed sufficiently. On the other hand, when the mixing ratio is less than 50 g / L, a large amount of chemical solution is required for cleaning, and there is a problem in economical efficiency and operability. Further, the cleaning time is not particularly limited, and may be a cleaning time in which the alkali metal halide concentration and the residual chlorine concentration are sufficiently reduced depending on the nickel powder concentration in the slurry, the concentration of the organic acid, and the cleaning conditions.
The apparatus used for washing is not particularly limited, and a normal wet reaction tank can be used. It is preferable to stir the slurry containing nickel powder during washing, and for example, ultrasonic stirring or mechanical stirring can be used for washing.

以上の方法により製造されたニッケル粉は分散性に優れており、電子部品用の材料として好適である。具体的には、レーザー散乱法で測定される粒度分布のD90が1.0μm以下である。粒度分布のD90は、平均粒径が小さくなれば小さい値となるが、本発明のニッケル粉における最小値は0.5μm程度である。また、BET法で測定された比表面積が4.6m/g以下であることが好ましい。比表面積は平均粒径が大きくなれば小さい値となるが、電子部品用材料として好ましい平均粒径である1.0μm以下を考慮すると、本発明のニッケル粉における最小値は3.0m/g程度である。不純物品位は、塩素品位とナトリウム品位あるいはカリウム品位がいずれも100質量ppm以下であることが好ましい。
本発明のニッケル粉の製造方法は、湿式法により製造した水酸化ニッケルを還元処理するため、複雑な工程を備えておらず、さらに簡便な方法で不純物品位を低減させることができるので、その製造コストも低く抑えることができる。
The nickel powder produced by the above method has excellent dispersibility and is suitable as a material for electronic components. Specifically, D90 of the particle size distribution measured by a laser scattering method is 1.0 μm or less. D90 of the particle size distribution becomes smaller as the average particle size becomes smaller, but the minimum value in the nickel powder of the present invention is about 0.5 μm. Moreover, it is preferable that the specific surface area measured by BET method is 4.6 m < 2 > / g or less. The specific surface area decreases as the average particle diameter increases, but considering the average particle diameter of 1.0 μm or less, which is a preferable average particle diameter for materials for electronic components, the minimum value in the nickel powder of the present invention is 3.0 m 2 / g. Degree. The impurity grade is preferably 100 ppm by mass or less for both chlorine grade, sodium grade and potassium grade.
Since the nickel powder production method of the present invention reduces nickel hydroxide produced by a wet method, it does not have a complicated process, and the impurity quality can be reduced by a simpler method. Cost can be kept low.

以下に、本発明の実施例及び比較例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例によってなんら限定されるものではない。なお、本実施例および比較例で用いている塩素品位の評価は、ニッケル粉を硝酸で溶解した後に硝酸銀を加えて塩化銀を沈殿させ、沈殿物中の塩素を蛍光X線定量分析の検量線法により測定した。また、ナトリウム品位は原子吸光分析法で測定し、マグネシウム品位はICP発光分光分析法により測定した。酸素品位は、不活性ガス溶融−赤外線吸収法で測定した。比表面積は、窒素ガス吸着によるBET一点法により測定した。粒子の分散性の評価は、レーザー光回折・散乱型粒度分布測定により粒度分布を測定し、10%体積径(以下、D10と表記)、50%体積径(以下、D50と表記)、90%体積径(以下、D90と表記)を求めて分散状態の指標とした。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples and comparative examples of the present invention, but the present invention is not limited to these examples. The evaluation of the chlorine quality used in this example and the comparative example was carried out by dissolving silver powder with nitric acid and then adding silver nitrate to precipitate silver chloride. The calibration curve of fluorescent X-ray quantitative analysis of chlorine in the precipitate Measured by the method. The sodium quality was measured by atomic absorption spectrometry, and the magnesium quality was measured by ICP emission spectroscopy. The oxygen quality was measured by an inert gas melting-infrared absorption method. The specific surface area was measured by the BET single point method by nitrogen gas adsorption. The particle dispersibility was evaluated by measuring the particle size distribution by laser diffraction / scattering particle size distribution measurement, 10% volume diameter (hereinafter referred to as D10), 50% volume diameter (hereinafter referred to as D50), 90%. The volume diameter (hereinafter referred to as D90) was determined and used as an indicator of the dispersion state.

(実施例1)
還元時の融着抑制剤となるマグネシウムを0.04g/L含んだニッケル濃度60g/Lの塩化ニッケル水溶液と、24質量%の水酸化ナトリウム水溶液をpH=8.3となるように調整しながら連続的に添加することで水酸化ニッケルの沈殿を生成させた。その後、ろ過と30分の純水レパルプを3回繰り返して水分含有率30質量%の水酸化ニッケルろ過ケーキを得た。さらに、このろ過ケーキ3kgに少量の水を加えた後、先に加えた水との合計で0.0015mol/Lの硫酸10Lとなるように濃度調整した硫酸を加え、30分間攪拌して洗浄した。洗浄後にろ過し、再度、純水でレパルプ洗浄し、乾燥して水酸化ニッケル微粉末を得た。
Example 1
While adjusting a nickel chloride aqueous solution containing 604 g / L of nickel containing 0.04 g / L of magnesium serving as a fusion inhibitor during reduction and a 24% by mass aqueous sodium hydroxide solution while adjusting the pH to 8.3. A nickel hydroxide precipitate was formed by continuous addition. Thereafter, filtration and pure water repulp for 30 minutes were repeated three times to obtain a nickel hydroxide filter cake having a water content of 30% by mass. Furthermore, after adding a small amount of water to 3 kg of this filter cake, sulfuric acid whose concentration was adjusted to 10 L of 0.0015 mol / L sulfuric acid in total with the previously added water was added and stirred for 30 minutes for washing. . After washing, the mixture was filtered, washed again with pure water and dried to obtain nickel hydroxide fine powder.

得られた水酸化ニッケル粉末1500gを、搬送式連続焼成炉により一加熱帯あたり27L/minの流量で、空気を導入しながら480℃で2時間熱処理して酸化ニッケル粉を得た。得られた酸化ニッケル粉100gと10g/Lの塩化ナトリウム水溶液100mLを混合し、超音波分散装置により分散処理をすることで、酸化ニッケル100に対する質量比(以下、NaCl比と表記)が1となる量の塩化ナトリウムを含む均一な酸化ニッケルスラリーを作製した。このスラリーをそのまま120℃で真空乾燥し、乳鉢で解砕することにより塩化ナトリウムで表面を被覆あるいは付着させた酸化ニッケル粉(以下、被覆酸化ニッケル粉)を得た。   1500 g of the obtained nickel hydroxide powder was heat-treated at 480 ° C. for 2 hours while introducing air at a flow rate of 27 L / min per heating zone in a conveying continuous firing furnace to obtain nickel oxide powder. By mixing 100 g of the obtained nickel oxide powder and 100 mL of a 10 g / L sodium chloride aqueous solution and carrying out dispersion treatment with an ultrasonic dispersing device, the mass ratio to the nickel oxide 100 (hereinafter referred to as NaCl ratio) becomes 1. A uniform nickel oxide slurry containing an amount of sodium chloride was made. The slurry was vacuum-dried at 120 ° C. as it was and crushed in a mortar to obtain nickel oxide powder (hereinafter referred to as coated nickel oxide powder) whose surface was coated or adhered with sodium chloride.

得られた被覆酸化ニッケル粉80gを雰囲気焼成炉により25L/minの流量で窒素80%−水素20%の混合ガスを導入しながら、420℃で2時間還元処理して還元ニッケル粉を得た。得られた還元ニッケル粉に対して、粒度分布と比表面積の測定を行ったところ、D10が0.31μm、D50が0.49μm、D90が0.77μmであり、比表面積が4.8m/gであった。また、酸素と塩素、ナトリウム、マグネシウムの品位を測定したところ、酸素品位は1.1質量%であり、塩素品位は5300質量ppmであり、ナトリウム品位は7100質量ppmであり、マグネシウム品位は580質量ppmであった。 80 g of the obtained coated nickel oxide powder was subjected to reduction treatment at 420 ° C. for 2 hours while introducing a mixed gas of 80% nitrogen and 20% hydrogen at a flow rate of 25 L / min in an atmosphere firing furnace to obtain reduced nickel powder. When the particle size distribution and specific surface area of the obtained reduced nickel powder were measured, D10 was 0.31 μm, D50 was 0.49 μm, D90 was 0.77 μm, and the specific surface area was 4.8 m 2 / g. Further, when the grades of oxygen, chlorine, sodium, and magnesium were measured, the oxygen grade was 1.1 mass%, the chlorine grade was 5300 mass ppm, the sodium grade was 7100 mass ppm, and the magnesium grade was 580 mass. ppm.

次に、前記還元ニッケル粉10gを濃度10g/Lのクエン酸水溶液80mL中に分散し、60℃に加熱しながら30分間機械的に攪拌して洗浄処理を行った。洗浄後のニッケル粉スラリーを固液分離した後、得られたニッケル粉ケーキに純水80mLを加えて分散してニッケル粉スラリーとし、室温で30分間攪拌しながら洗浄し、余分な酸を除去した。洗浄後のニッケル粉スラリーを固液分離し、乾燥処理してとする目標とするニッケル粉を得た。得られたニッケル粉の粒度分布と比表面積の測定を行ったところ、D10が0.31μm、D50が0.50μm、D90が0.80μmであり、比表面積が5.2m/gであった。得られたニッケル粉の比表面積、粒度分布の測定結果を表1に示す。また、塩素とナトリウム、マグネシウムの分析を行ったところ、塩素品位は30質量ppm未満であり、ナトリウム品位は30質量ppm未満であり、マグネシウム品位は60質量ppmであった。洗浄前後の塩素、ナトリウム、マグネシウムの分析結果を表2に併記して示す。 Next, 10 g of the reduced nickel powder was dispersed in 80 mL of an aqueous citric acid solution having a concentration of 10 g / L, and washed with mechanical stirring for 30 minutes while heating to 60 ° C. After solid-liquid separation of the washed nickel powder slurry, 80 ml of pure water was added to the obtained nickel powder cake to disperse it into a nickel powder slurry, which was washed with stirring at room temperature for 30 minutes to remove excess acid. . The nickel powder slurry after washing was subjected to solid-liquid separation, and a target nickel powder to be dried was obtained. When the particle size distribution and specific surface area of the obtained nickel powder were measured, D10 was 0.31 μm, D50 was 0.50 μm, D90 was 0.80 μm, and the specific surface area was 5.2 m 2 / g. . Table 1 shows the measurement results of specific surface area and particle size distribution of the obtained nickel powder. When chlorine, sodium, and magnesium were analyzed, the chlorine quality was less than 30 mass ppm, the sodium quality was less than 30 mass ppm, and the magnesium quality was 60 mass ppm. The analysis results of chlorine, sodium and magnesium before and after washing are shown together in Table 2.

Figure 2010132944
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Figure 2010132944
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(実施例2)
NaCl比が0.1となるように調整した以外は実施例1と同様にしてニッケル粉を得なお、還元ニッケル粉の粒度分布の測定を行ったところ、D10が0.31μm、D50が0.49μm、D90が0.80μmであり、比表面積が4.5m/g であった。また、酸素と塩素、ナトリウム、マグネシウムを測定したところ、酸素品位は1.1質量%であり、塩素品位は1200質量ppmであり、ナトリウム品位は520質量ppmであり、マグネシウム品位は590質量ppmであった。
また、還元処理後に洗浄して最終的に得られたニッケル粉の粒度分布の測定を行ったところ、D10が0.31μm、D50が0.50μm、D90が0.83mであり、比表面積が5.1m/g であった。
また、塩素とナトリウム、マグネシウムの品位を測定したところ、塩素品位は30質量ppm未満であり、ナトリウム品位は30質量ppm未満であり、マグネシウム品位は60質量ppmであった。得られたニッケル粉の比表面積、粒度分布の測定結果を表1に、洗浄前後の塩素、ナトリウム、マグネシウムの分析結果をそれぞれ表2に示す。
(Example 2)
Nickel powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that the NaCl ratio was adjusted to 0.1. When the particle size distribution of the reduced nickel powder was measured, D10 was 0.31 μm and D50 was 0.00. It was 49 μm, D90 was 0.80 μm, and the specific surface area was 4.5 m 2 / g. When oxygen, chlorine, sodium, and magnesium were measured, the oxygen quality was 1.1 mass%, the chlorine quality was 1200 mass ppm, the sodium quality was 520 mass ppm, and the magnesium quality was 590 mass ppm. there were.
Moreover, when the particle size distribution of the nickel powder finally obtained by washing after the reduction treatment was measured, D10 was 0.31 μm, D50 was 0.50 μm, D90 was 0.83 m, and the specific surface area was 5 It was 1 m 2 / g.
Moreover, when the quality of chlorine, sodium, and magnesium was measured, the chlorine quality was less than 30 mass ppm, the sodium quality was less than 30 mass ppm, and the magnesium quality was 60 mass ppm. The measurement results of specific surface area and particle size distribution of the obtained nickel powder are shown in Table 1, and the analysis results of chlorine, sodium and magnesium before and after cleaning are shown in Table 2, respectively.

(実施例3)
NaCl比が10となるように調整した以外は実施例1と同様にしてニッケル粉を得た。なお、還元ニッケル粉の粒度分布の測定を行ったところ、D10が0.32μm、D50が0.48μm、D90が0.75μmであり、比表面積が4.3m/gであった。また、酸素品位は、1.4質量%であった。
また、還元処理後に洗浄して、最終的に得られたニッケル粉の粒度分布の測定を行ったところ、D10が0.32μm、D50が0.47μm、D90が0.77μmであり、比表面積が6.6m/g であった。得られたニッケル粉の比表面積、粒度分布の測定結果を表1に示す。
(Example 3)
Nickel powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that the NaCl ratio was adjusted to 10. When the particle size distribution of the reduced nickel powder was measured, D10 was 0.32 μm, D50 was 0.48 μm, D90 was 0.75 μm, and the specific surface area was 4.3 m 2 / g. The oxygen quality was 1.4% by mass.
Further, the particle size distribution of the nickel powder finally obtained after washing after the reduction treatment was measured. As a result, D10 was 0.32 μm, D50 was 0.47 μm, D90 was 0.77 μm, and the specific surface area was It was 6.6 m 2 / g. Table 1 shows the measurement results of specific surface area and particle size distribution of the obtained nickel powder.

(比較例1)
前記被覆酸化ニッケル粉とする処理を行わなかったこと、還元ニッケル粉に対する洗浄処理を行わなかった以外は実施例1と同様にしてニッケル粉を得た。得られたニッケル粉の粒度分布の測定を行ったところ、D10が0.45μm、D50が0.73μm、D90が1.13μmであり、比表面積が4.2m/g であった。また、酸素濃度の測定を行ったところ、0.88質量%であった。得られたニッケル粉の比表面積、粒度分布の測定結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
Nickel powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that the treatment for forming the coated nickel oxide powder was not performed and the cleaning treatment for the reduced nickel powder was not performed. When the particle size distribution of the obtained nickel powder was measured, D10 was 0.45 μm, D50 was 0.73 μm, D90 was 1.13 μm, and the specific surface area was 4.2 m 2 / g. Moreover, it was 0.88 mass% when the oxygen concentration was measured. Table 1 shows the measurement results of specific surface area and particle size distribution of the obtained nickel powder.

(比較例2)
前記被覆酸化ニッケル粉とする処理に変えて、同量の塩化ナトリウムと酸化ニッケル粉を混合した以外は実施例1と同様にして還元ニッケル粉を得た。得られた還元ニッケル粉の粒度分布の測定を行ったところ、D10が0.35μm、D50が0.60μm、D90が1.04μmであり、比表面積が4.0m/g であった。洗浄前の還元ニッケル粉でD90が1.0μmを越えており、塩化ナトリウムと酸化ニッケル粉を混合するのみでは、分散性を改善する効果が十分でないことが分かる。
(Comparative Example 2)
A reduced nickel powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that the same amount of sodium chloride and nickel oxide powder were mixed in place of the treatment of coating nickel oxide powder. When the particle size distribution of the obtained reduced nickel powder was measured, D10 was 0.35 μm, D50 was 0.60 μm, D90 was 1.04 μm, and the specific surface area was 4.0 m 2 / g. It can be seen that the D90 of the reduced nickel powder before washing exceeds 1.0 μm, and the effect of improving the dispersibility is not sufficient only by mixing sodium chloride and nickel oxide powder.

表1より本発明のニッケル粉の製造方法に従って得られた実施例1〜3は、D90が1.0μm以下であり分散性に優れていることが分かる。一方、塩化ナトリウムを添加せず被覆酸化ニッケル粉とする処理を行わなかった比較例1は、D90が1.13μmであり、十分な分散性が得られていないことが分かる。
さらに、表2より実施例1および2は還元ニッケル粉を洗浄することで塩素品位、ナトリウム品位、カリウム品位がいずれも100質量ppm以下のニッケル粉となり、残留する塩素やアルカリ金属元素濃度が十分に低減されていることがわかる。
It can be seen from Table 1 that Examples 1 to 3 obtained according to the method for producing nickel powder of the present invention have a D90 of 1.0 μm or less and excellent dispersibility. On the other hand, in Comparative Example 1 in which sodium chloride was not added and the treatment to form the coated nickel oxide powder was not performed, D90 was 1.13 μm, indicating that sufficient dispersibility was not obtained.
Further, from Table 2, Examples 1 and 2 were cleaned with reduced nickel powder, so that the chlorine quality, sodium quality, and potassium quality were all 100 mass ppm or less, and the residual chlorine and alkali metal element concentrations were sufficient. It can be seen that it has been reduced.

(実施例4)
前記還元処理時の温度を420℃から430℃とした以外は実施例1と同様にしてニッケル粉を得た。得られたニッケル粉の粒度分布の測定を行ったところ、D10が0.33μm、D50が0.53μm、D90が0.82μmであり、比表面積が4.6m/g であった。また、酸素濃度の測定を行ったところ、0.88質量%であった。得られたニッケル粉の比表面積、粒度分布の測定結果を表3に示す。
Example 4
Nickel powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature during the reduction treatment was changed from 420 ° C to 430 ° C. When the particle size distribution of the obtained nickel powder was measured, D10 was 0.33 μm, D50 was 0.53 μm, D90 was 0.82 μm, and the specific surface area was 4.6 m 2 / g. Moreover, it was 0.88 mass% when the oxygen concentration was measured. Table 3 shows the measurement results of specific surface area and particle size distribution of the obtained nickel powder.

(実施例5)
前記還元処理時の温度を440℃とした以外は実施例1と同様にしてニッケル粉を得た。得られたニッケル粉の粒度分布の測定を行ったところ、D10が0.32μm、D50が0.53μm、D90が0.88μmであり、比表面積が4.2m/gで あった。また、酸素濃度の測定を行ったところ、0.87質量%であった。得られたニッケル粉の比表面積、粒度分布の測定結果を表3に示す。
(Example 5)
Nickel powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature during the reduction treatment was 440 ° C. When the particle size distribution of the obtained nickel powder was measured, D10 was 0.32 μm, D50 was 0.53 μm, D90 was 0.88 μm, and the specific surface area was 4.2 m 2 / g. Moreover, it was 0.87 mass% when the oxygen concentration was measured. Table 3 shows the measurement results of specific surface area and particle size distribution of the obtained nickel powder.

(実施例6)
前記還元処理時の温度を450℃とした以外は実施例1と同様にしてニッケル粉を得た。得られたニッケル粉の粒度分布の測定を行ったところ、D10が0.32μm、D50が0.55μm、D90が0.94μmであり、比表面積が4.1m/g であった。また、酸素濃度の測定を行ったところ、0.80質量%であった。得られたニッケル粉の比表面積、粒度分布の測定結果を表3に示す。
(Example 6)
Nickel powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature during the reduction treatment was set to 450 ° C. When the particle size distribution of the obtained nickel powder was measured, D10 was 0.32 μm, D50 was 0.55 μm, D90 was 0.94 μm, and the specific surface area was 4.1 m 2 / g. Moreover, it was 0.80 mass% when the oxygen concentration was measured. Table 3 shows the measurement results of specific surface area and particle size distribution of the obtained nickel powder.

Figure 2010132944
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表3より、還元処理の温度を高くすることで、比表面積を低減できることが分かる。特に、還元処理温度を430〜450℃とした実施例4〜6では、比表面積が4.6m/g以下であり、ペースト化して用いる電子部品用材料としてより好適なものであることがわかる。 From Table 3, it can be seen that the specific surface area can be reduced by increasing the temperature of the reduction treatment. In particular, in Examples 4 to 6 in which the reduction treatment temperature is set to 430 to 450 ° C., the specific surface area is 4.6 m 2 / g or less, and it is understood that the material is more suitable as a material for electronic parts used by pasting. .

本発明のニッケル粉の製造方法により、分散性および比表面積が良好で、かつ塩素品位やナトリウムなどの不純物品位を低減したニッケル粉が得られる。得られたニッケル粉は、電子部品材料として好適であり、特に配線材料、電極材料等として好適である。さらに、樹脂や溶剤などと混練してペーストとしても安定して用いることができ、スクリーン印刷などの技術を利用した部品の形成にも好適である。   By the nickel powder manufacturing method of the present invention, nickel powder having good dispersibility and specific surface area, and having reduced chlorine and sodium impurity grades can be obtained. The obtained nickel powder is suitable as an electronic component material, and particularly suitable as a wiring material, an electrode material, and the like. Furthermore, it can be stably used as a paste by kneading with a resin, a solvent, or the like, and is also suitable for forming parts using techniques such as screen printing.

Claims (12)

ニッケル塩水溶液をアルカリ水溶液で中和して水酸化ニッケルの沈殿を生成させる工程(A)と、該水酸化ニッケルを空気中で熱処理して酸化ニッケルを生成させる工程(B)と、該酸化ニッケル粉表面を水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物で被覆あるいは付着させる工程(C)と、該水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物を表面を被覆あるいは付着させた酸化ニッケルを還元ガス雰囲気中で還元してニッケル粉とする工程(D)と、前記アルカリ金属ハロゲン化物を洗浄除去する工程(E)とを備えることを特徴とするニッケル粉の製造方法。   A step (A) of producing a nickel hydroxide precipitate by neutralizing an aqueous nickel salt solution with an alkaline aqueous solution; a step (B) of producing a nickel oxide by heat-treating the nickel hydroxide in air; and the nickel oxide A step (C) of coating or adhering the surface of the powder with a water-soluble alkali metal halide, and nickel powder obtained by reducing the nickel oxide coated or adhered to the surface of the water-soluble alkali metal halide in a reducing gas atmosphere And a step (E) of washing and removing the alkali metal halide. A method for producing nickel powder, comprising: 前記工程(C)において、工程(B)で得られた酸化ニッケル粉と水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物の水溶液とを混合してスラリー化した後、このスラリーを乾燥して水分を除去することによってアルカリ金属ハロゲン化物で表面を被覆あるいは付着させた酸化ニッケルを得ることを特徴とする請求項1に記載のニッケル粉の製造方法。   In step (C), the nickel oxide powder obtained in step (B) and an aqueous solution of a water-soluble alkali metal halide are mixed to form a slurry, and then the slurry is dried to remove moisture. The method for producing nickel powder according to claim 1, wherein nickel oxide having a surface coated or adhered with an alkali metal halide is obtained. 前記水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物が、塩化ナトリウムあるいは塩化カリウムの少なくとも一種であることを特徴とする請求項1または2に記載のニッケル粉の製造方法。   The method for producing nickel powder according to claim 1 or 2, wherein the water-soluble alkali metal halide is at least one of sodium chloride and potassium chloride. 前記工程(C)において、水溶性のアルカリ金属ハロゲン化物の量を、酸化ニッケルの質量を100とした場合の質量比で0.05〜10とすることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のニッケル粉の製造方法。   4. The method according to claim 1, wherein in the step (C), the amount of the water-soluble alkali metal halide is 0.05 to 10 in terms of mass ratio when the mass of nickel oxide is 100. 5. The manufacturing method of the nickel powder of Claim 1. 前記工程(D)の還元を、430〜450℃で行うことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のニッケル粉の製造方法。   The method for producing nickel powder according to any one of claims 1 to 3, wherein the reduction in the step (D) is performed at 430 to 450 ° C. 前記工程(E)の洗浄除去を、ニッケル粉を有機酸水溶液中で攪拌することにより行うことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のニッケル粉の製造方法。   The method for producing nickel powder according to any one of claims 1 to 5, wherein the cleaning removal in the step (E) is performed by stirring the nickel powder in an organic acid aqueous solution. 前記有機酸をクエン酸、グルタミン酸、アスコルビン酸から選ばれる少なくとも一種とすることを特徴とする請求項6に記載のニッケル粉の製造方法。   The method for producing nickel powder according to claim 6, wherein the organic acid is at least one selected from citric acid, glutamic acid, and ascorbic acid. 前記工程(E)において、洗浄を30〜80℃に加熱した状態で行うことを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載のニッケル粉の製造方法。   In the said process (E), washing | cleaning is performed in the state heated at 30-80 degreeC, The manufacturing method of the nickel powder of any one of Claim 1 to 8 characterized by the above-mentioned. 前記水酸化ニッケルの沈殿を生成させる工程(A)の後に、工程(A)で生成した水酸化ニッケルを硫酸あるいは硫酸塩水溶液で洗浄し、さらに水洗する工程(F)を備えていることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載のニッケル粉の製造方法。   After the step (A) of generating the nickel hydroxide precipitate, the step (F) includes washing the nickel hydroxide produced in the step (A) with sulfuric acid or a sulfate aqueous solution and further washing with water. The manufacturing method of the nickel powder of any one of Claim 1 to 8. 請求項1から9のいずれか1項に記載のニッケル粉の製造方法によって得られたニッケル粉であって、レーザー散乱法で測定した粒度分布のD90が1.0μm以下であることを特徴とするニッケル粉。   It is nickel powder obtained by the manufacturing method of nickel powder of any one of Claim 1 to 9, Comprising: D90 of the particle size distribution measured by the laser scattering method is 1.0 micrometer or less, It is characterized by the above-mentioned. Nickel powder. BET法で測定された比表面積が4.6m/g以下であることを特徴とする請求項10に記載のニッケル粉。 The nickel powder according to claim 10, wherein the specific surface area measured by the BET method is 4.6 m 2 / g or less. 塩素品位とナトリウム品位あるいはカリウム品位がいずれも100質量ppm以下であることを特徴とする請求項10または11に記載のニッケル粉。   The nickel powder according to claim 10 or 11, wherein the chlorine quality and the sodium quality or potassium quality are both 100 ppm by mass or less.
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