JP2010127815A - Defect detection selection correction system - Google Patents

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Ryota Masuda
良太 増田
Shinichi Egawa
慎一 江川
Daisuke Ito
大介 伊藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defect detection selection correction system including a means for selecting beforehand defects required to be corrected, because defects required actually to be corrected are few, though a considerably large number of defects on a color filter substrate are detected by an automatic defect inspection device. <P>SOLUTION: This defect detection selection correction system includes at least the automatic defect inspection device, a defect correction device, and an automatic statistical-correction system. The automatic statistical-correction system automatically determines whether each defect is to be actually corrected or not in consideration of a past correction history with respect to a defect positioned on the same portion and having a similar appearance characteristic. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、カラーフィルタ基板上の欠陥修正技術に係わり、特には、カラーフィルタ層の欠陥の位置と欠陥を特徴付ける外観情報及び該欠陥の修正に係わる情報等全ての情報の一括管理、及びこれらの情報を利用して効率的な欠陥修正を実現する欠陥検出選別修正システムに関する。   The present invention relates to a defect correction technique on a color filter substrate, and in particular, collective management of all information such as the position of defects in a color filter layer and appearance information characterizing the defects and information related to correction of the defects, and these The present invention relates to a defect detection selection correction system that realizes efficient defect correction using information.

フォトリソグラフィー法やインキジェット法を用いて基板上に形成するカラーフィルタ層、オーバーコート層、フォトスペーサ、配向制御用突起には、5μmφから500μmφ程度のピンホール(白抜け)、欠け、突起、ブリッジ、2重コート、濃度ムラ等の種々の局所的な欠陥が少なからず発生する。欠陥が存在するかどうかは、自動欠陥検査装置を使用して、カラーフィルタ基板上をくまなく観察することで行い、欠陥を検出した場合は、その後に欠陥修正装置を使用して事後的に当該欠陥を修正して、欠陥のないカラーフィルタ基板を製造する(例えば、特許文献1、2参照)。   Color filter layers, overcoat layers, photo spacers, and alignment control protrusions formed on the substrate using photolithography and ink jet methods have pinholes (white spots), chippings, protrusions, and bridges of about 5 to 500 μmφ. Various local defects such as double coating and density unevenness occur. Whether or not there is a defect is determined by observing the entire color filter substrate using an automatic defect inspection device. If a defect is detected, the defect correction device is used thereafter to detect the defect. The defect is corrected to produce a color filter substrate having no defect (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

自動欠陥検査装置は、基板搬送ユニットより搬送されたカラーフィルタ基板を、CCDラインセンサにて撮像し、取得した映像を画像処理装置にて拡大しながら、欠陥部分を検出すると同時に欠陥のサイズ、濃度、形状等の外観情報を取得する。具体的には、一定の大きさの画像を、カラーフィルタの大きさから決まるセル(例えば、赤,緑,青画素の一組)を単位として分割し、着目するセルの画像と該セルを取り囲む上下左右のセルと、濃度比較差分処理を施し、設定した閾値で2値化して、欠陥部分を特定し、欠陥情報をデータファイルとして保存している(例えば、特許文献2参照)。この欠陥探索は、機械的自動的に行われ、個々の欠陥の取得画像を目視して修正の必要性を判断するなどの処理は、どちらかと言えば非効率と考えられている。   The automatic defect inspection device picks up the color filter substrate transported from the substrate transport unit with a CCD line sensor, detects the defective portion while enlarging the acquired image with the image processing device, and simultaneously detects the defect size and density. Appearance information such as shape is acquired. Specifically, an image of a certain size is divided in units of cells (for example, a set of red, green, and blue pixels) determined by the size of the color filter, and surrounds the image of the cell of interest and the cell. Density comparison processing is performed with the upper, lower, left, and right cells, binarization is performed with a set threshold value, a defective portion is specified, and defect information is stored as a data file (see, for example, Patent Document 2). This defect search is performed mechanically automatically, and it is considered that the process of judging the necessity of correction by visually observing the acquired image of each defect is rather inefficient.

一方、欠陥修正装置は、カラーフィルタ基板を常盤上に載置し、ガントリ形状にて顕微鏡を備える修正ユニットを、2軸駆動で移動し欠陥を検出した上で、適切な手段により修正処理を施す(例えば、特許文献3参照)。通常、欠陥修正は、自動欠陥検査を終えた基板を、欠陥修正装置へ基板搬送ユニットを通じて投入し、LAN(ローカルエリアネットワーク)を用いて、自動欠陥検査装置から欠陥に関するデータファイルを読み込み、CCDラインセンサを備える顕微鏡ユニットをCCDの視野内に入る範囲で欠陥部位に移動し、自動欠陥検査装置とほぼ同一の手順で欠陥の撮像と目視確認を行い、該欠陥を修正位置に移動して所定の欠陥修正処理を行う。欠陥修正装置も、欠陥に関する情報を保持する欠陥データファイルを備えている。
特開平3−274504号公報 特開2007−327761号公報 特開2001−166129号公報
On the other hand, the defect correction apparatus places a color filter substrate on a regular board, moves a correction unit including a microscope in a gantry shape by two-axis drive, detects a defect, and performs correction processing by appropriate means. (For example, refer to Patent Document 3). Normally, defect correction is performed by loading the substrate after the automatic defect inspection into the defect correction device through the substrate transfer unit, reading a data file related to the defect from the automatic defect inspection device using a LAN (local area network), The microscope unit equipped with the sensor is moved to the defect site within the range of the CCD field of view, and the defect is imaged and visually confirmed in almost the same procedure as the automatic defect inspection apparatus. Perform defect correction processing. The defect correction apparatus also includes a defect data file that holds information about defects.
JP-A-3-274504 JP 2007-327671 A JP 2001-166129 A

ところで、自動欠陥検査装置によって検出されるカラーフィルタ層の欠陥数は相当量にのぼる。しかしながら、実際に修正の必要性が認められる欠陥は、経験的に言って検出した欠陥の5%程度である。現状の方式では、一度欠陥修正装置に投入されると、検出された欠陥ごとにCCDセンサとの位置合わせを改めて行い、欠陥映像を目視で確認しながら修正の可否を判断しなくてはならない。そのため欠陥の修正には非常に時間がかかるという問題がある。
そこで、本発明は、自動欠陥検査装置で検出された欠陥すべてを、欠陥修正装置で目視確
認するのではなく、全ての欠陥の中から、欠陥修正装置で位置合わせをして映像で確認すべき欠陥を、予め抽出する手段を備えた欠陥検出選別修正システムを提供することを課題とした。
By the way, the number of defects of the color filter layer detected by the automatic defect inspection apparatus amounts to a considerable amount. However, defects that are actually required to be corrected are about 5% of defects detected empirically. In the current system, once it is inserted into the defect correction device, it is necessary to re-align with the CCD sensor for each detected defect, and determine whether or not the defect can be corrected while visually checking the defect image. Therefore, there is a problem that it takes a very long time to correct the defect.
Therefore, according to the present invention, not all defects detected by the automatic defect inspection apparatus are visually confirmed by the defect correction apparatus, but all the defects should be aligned by the defect correction apparatus and confirmed by an image. An object of the present invention is to provide a defect detection / selection / correction system including means for extracting defects in advance.

上記課題を達成するための、請求項1に係る発明は、
少なくとも、基板上に形成された塗布皮膜を検査し、検出した欠陥の該基板上の位置に係わる情報、欠陥の特性に係わる情報及び該欠陥を修正するか否かの指示情報等を第一の欠陥データファイルとして保持し、前記第一の欠陥データファイルをLANを通して入出力する自動欠陥検査装置と、
前記修正指示のある欠陥を第一の欠陥データファイルの情報に基づき基板上で検出した上で、必要であれば該欠陥を修正し、該欠陥の該基板上の位置に係わる情報及び実際に修正したか否かの情報等を第二の欠陥データファイルとして保持し、前記第二の欠陥データファイルをLANを通して入出力する欠陥修正装置と、
前記第一の欠陥データファイルに含まれる位置に係わる情報及び欠陥の特性に係わる情報等を各々層別に区分けして構成される第三の欠陥データファイルを保持し、該第三の欠陥データファイルの該当する層に、LANを通じて入手した検査基板ごとの前記第一の欠陥データファイルの情報及び前記第二の欠陥データファイルの修正したか否かの情報を累積し、前記累積情報を用いて、取得した第一の欠陥データファイル中の欠陥を修正するか否かの指示情報を設定し、前記自動欠陥検査装置に出力する自動統計・修正システムと、を有することを特徴とする欠陥検出選別修正システムとしたものである。
In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 provides:
At least the coating film formed on the substrate is inspected, and information on the position of the detected defect on the substrate, information on the characteristics of the defect, instruction information on whether to correct the defect, etc. An automatic defect inspection apparatus that holds the first defect data file through a LAN as a defect data file;
After detecting the defect with the correction instruction on the substrate based on the information of the first defect data file, the defect is corrected if necessary, and the information regarding the position of the defect on the substrate and the actual correction are performed. A defect correction device that holds information as to whether or not the second defect data file is stored, and inputs and outputs the second defect data file through the LAN;
A third defect data file configured by categorizing the information related to the position included in the first defect data file and the information related to the characteristics of the defect, etc., by layer is stored, and the third defect data file The information on the first defect data file and the information on whether or not the second defect data file has been corrected for each inspection board obtained through the LAN is accumulated in the corresponding layer, and acquired using the accumulated information. An automatic statistics / correction system for setting instruction information as to whether or not to correct a defect in the first defect data file and outputting the instruction information to the automatic defect inspection apparatus, It is what.

かかるシステムは、自動欠陥検査装置及び欠陥修正装置に係わる二つの欠陥データファイルに加え、第三の欠陥データファイルを備えいずれもLANで結ばれている。該ファイルは、欠陥を特徴付ける因子が取りえる範囲を細かく細分したポケット(以下、層と記す)を備えており、検出された欠陥の自動欠陥検査装置からの欠陥データファイルと、欠陥修正装置からの欠陥データファイルをつき合わせて、どのような欠陥がどのような割合で実際に修正されたかが分かるようになっている。この修正率によって、自動欠陥検査装置での欠陥認定の閾値の設定と当該欠陥の欠陥修正装置での指示情報の設定ができる。   Such a system includes a third defect data file in addition to two defect data files related to the automatic defect inspection apparatus and the defect correction apparatus, both of which are connected via a LAN. The file includes a pocket (hereinafter referred to as a layer) finely divided into a range that can be taken by a factor that characterizes the defect, a defect data file from the automatic defect inspection device of the detected defect, and a defect correction device from the defect correction device. By combining defect data files, it is possible to know what defects were actually corrected and at what rate. With this correction rate, it is possible to set a threshold value for defect recognition in the automatic defect inspection apparatus and to set instruction information for the defect correction apparatus.

請求項2に係わる発明は、前記第一の欠陥データファイルは、欠陥に係わる、少なくとも下記の情報を含むことを特徴とする請求項1に記載の欠陥検出選別修正システムとしたものである。
位置に係わる情報:欠陥発生座標X[mm],
欠陥発生座標Y[mm]
特性に係わる情報:欠陥画素数[pix]、
欠陥長辺サイズ[pix]、
欠陥短辺サイズ[pix]、
欠陥画素平均濃度[0〜255]、
欠陥画素最大濃度[0〜255]、
欠陥画素最小濃度[0〜255]、
その他として、基板シリアルナンバー、修正指示情報等。
The invention according to claim 2 is the defect detection selection correction system according to claim 1, wherein the first defect data file includes at least the following information related to the defect.
Information related to position: Defect occurrence coordinate X [mm],
Defect occurrence coordinate Y [mm]
Information on characteristics: number of defective pixels [pix],
Defect long side size [pix],
Defect short side size [pix],
Defective pixel average density [0-255],
Defective pixel maximum density [0-255],
Defective pixel minimum density [0-255],
Others include board serial number and correction instruction information.

請求項3に係わる発明は、前記第二の欠陥データファイルは、欠陥に係わる、少なくとも下記の情報を含むことを特徴とする請求項1に記載の欠陥検出選別修正システムとしたものである。
位置に係わる情報:欠陥発生座標X[mm],
欠陥発生座標Y[mm]、
その他として、修正したか否かの情報等。ここで、pixはピクセル数を示す。
The invention according to claim 3 is the defect detection selection correction system according to claim 1, wherein the second defect data file includes at least the following information related to the defect.
Information related to position: Defect occurrence coordinate X [mm],
Defect occurrence coordinate Y [mm],
Other information, such as whether or not it has been corrected. Here, pix indicates the number of pixels.

請求項4に係わる発明は、基板上で検出された欠陥を修正するか否かの指示情報は、該欠陥を規定する一つ以上のの属性を選択した上で、第三の欠陥データファイルから該属性中の当該欠陥が属する層の修正不要率を属性修正不要率として算出し、さらに、選択した全ての属性の属性修正不要率を掛け合わせたものを確定修正不要率とし、これと予め設定された、修正不要閾値とを自動的に比較し、修正不要閾値を超えたか否かで決定するアルゴリズムを有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の欠陥検出選別修正システムとしたものである。   In the invention according to claim 4, the instruction information as to whether or not to detect the defect detected on the substrate is selected from one or more attributes defining the defect, and then from the third defect data file. The correction unnecessary rate of the layer to which the defect in the attribute belongs is calculated as the attribute correction unnecessary rate, and further, the fixed correction unnecessary rate obtained by multiplying the attribute correction unnecessary rates of all the selected attributes is set in advance. The defect detection according to any one of claims 1 to 3, further comprising: an algorithm for automatically comparing with a correction unnecessary threshold and determining whether or not the correction unnecessary threshold is exceeded. This is a sorting and correction system.

以上、本発明によれば、自動統計選別システムを、自動欠陥検査装置と欠陥修正装置に加えることで、まず第一に、同一ロットに属するカラーフィルタ基板の処理枚数が少なく、欠陥データファイル上の欠陥修正データも少ない場合は、必要であれば強制的に自動統計選別システムで修正指示のフラグをONにすることによって、ソフトウエアーを変更することなしに、欠陥修正装置に投入されたカラーフィルタ基板の検出欠陥を視察し、修正したかどうかのデータを自動統計選別システムに収集し蓄積することができる。
次に、一定の修正データが蓄積された段階以降では、検査に回流してくるカラーフィルタ基板の検出欠陥ごとに、修正の必要性を、蓄積された過去の修正履歴情報に基づいて、自動的に判断して欠陥データファイルの修正指示フラグを補正することができるので、修正の必要な欠陥数を絞り込むことができる。その結果、絞り込まれた欠陥だけを再度確認して修正することになるので、修正に要する時間を大幅に低減することができる。
また、自動欠陥検査装置に対しては、修正率を考慮した閾値を再設定することで、欠陥数を絞り込むことができる。いずれにしても、欠陥修正装置の生産性が向上し自動修正装置の台数を増やす必要がないという効果を有する欠陥検出選別修正システムとすることができる。
As described above, according to the present invention, by adding the automatic statistical sorting system to the automatic defect inspection apparatus and the defect correction apparatus, first of all, the number of processed color filter substrates belonging to the same lot is small and the defect data file When there is little defect correction data, if necessary, the color filter substrate that is put into the defect correction device without changing the software by forcibly turning on the correction instruction flag in the automatic statistical sorting system It is possible to inspect the detected defects and collect and accumulate data on whether or not they have been corrected in an automatic statistical sorting system.
Next, after a certain amount of correction data has been accumulated, the necessity of correction is automatically determined based on the accumulated correction history information for each detection defect of the color filter substrate circulating in the inspection. Thus, the correction instruction flag of the defect data file can be corrected and the number of defects that need to be corrected can be narrowed down. As a result, since only the narrowed defects are checked again and corrected, the time required for correction can be greatly reduced.
Further, for the automatic defect inspection apparatus, the number of defects can be narrowed down by resetting a threshold value in consideration of the correction rate. In any case, it is possible to provide a defect detection / selection / correction system that has the effect of improving the productivity of the defect correction apparatus and eliminating the need to increase the number of automatic correction apparatuses.

以下、本発明になる欠陥検出選別修正システムの機能を詳細に説明する。   Hereinafter, the function of the defect detection selection correction system according to the present invention will be described in detail.

欠陥検出選別修正システムは、図1に示すように、少なくとも、自動欠陥検査装置1、欠陥修正装置2、自動統計・選別システム3、カラーフィルタ基板を搬送する搬送系(図示せず)、及び各装置を制御するための制御信号、装置で必要とする様々な情報とデータの相互通信用のLAN5,6,7,8からなるものである。   As shown in FIG. 1, the defect detection sorting / correcting system includes at least an automatic defect inspection apparatus 1, a defect correcting apparatus 2, an automatic statistics / sorting system 3, a transport system (not shown) for transporting a color filter substrate, and each It consists of LANs 5, 6, 7, and 8 for mutual communication of control signals for controlling the device and various information and data necessary for the device.

自動欠陥検査装置1で検出して収集する欠陥に係わる情報は、以下に示す、位置に関するものと、欠陥の外観上の特性及びその他の必要な情報で第一の欠陥データファイル10の中身となる。以下ではこの情報を保存因子あるいは因子または属性と記載する。
座標X:基準点から見た欠陥が発生した座標X[mm],
座標Y:基準点から見た欠陥が発生した座標Y[mm],
面積 :欠陥に係わる画素数[pix]、
サイズx:x方向の欠陥の長さ[pix]、
サイズy:y方向の欠陥の長さ[pix]、
サイズz:z方向の欠陥の高さ[ミクロン]
欠陥平均濃度[0〜255]:欠陥部画素の平均濃度、
欠陥最大濃度[0〜255]:欠陥部画素の最大濃度、
欠陥最小濃度[0〜255]:欠陥部画素の最小濃度、
その他:修正指示情報[ON,OFF]、シリアルナンバー、基板ID、欠陥総数等。
The information relating to the defects detected and collected by the automatic defect inspection apparatus 1 is the contents of the first defect data file 10 as shown below, with respect to the position, the appearance characteristics of the defects, and other necessary information. . Hereinafter, this information is referred to as a storage factor or a factor or attribute.
Coordinate X: Coordinate X [mm] where a defect is seen from the reference point,
Coordinate Y: Coordinate Y [mm] where a defect is seen from the reference point,
Area: Number of pixels related to defects [pix]
Size x: Defect length in the x direction [pix],
Size y: the length of the defect in the y direction [pix],
Size z: Defect height in the z direction [micron]
Defect average density [0-255]: Average density of defective pixels,
Defect maximum density [0-255]: maximum density of defective pixel,
Defect minimum density [0-255]: Minimum density of defective pixel,
Other: Correction instruction information [ON, OFF], serial number, board ID, total number of defects, etc.

ここでpixは、CCDラインセンサーで取得された画像データをディジタル化する単位のピクセルの英文字略記したものである。欠陥は、このピクセル単位で見た、当該欠陥を含む、x軸、y軸に平行な直線で囲まれた最小の4辺形の2辺のピクセル数をx、yとす
る。4辺形の中心の座標を、基準点からの欠陥の位置座標としてX,Yで表記している。欠陥面積は2辺の長さの積xyである。濃度は、欠陥に関わる各ピクセルのモノクロ画像を256階調の濃淡でどのレベルか示したものである。平均濃度は、当該欠陥に関わる全ピクセルの濃度の重み付平均である。最大最小は字義どうりの意味である。
Here, pix is an abbreviation of an English character of a unit pixel for digitizing the image data acquired by the CCD line sensor. Defects are x and y, which are the minimum four-sided pixel numbers surrounded by straight lines parallel to the x-axis and y-axis, including the defect, as viewed in this pixel unit. The coordinates of the center of the quadrilateral are represented by X and Y as the position coordinates of the defect from the reference point. The defect area is a product xy of two side lengths. The density indicates the level of the monochrome image of each pixel related to the defect with 256 gradations. The average density is a weighted average of the density of all pixels related to the defect. Maximum and minimum are literal meanings.

これらのデータは、欠陥検出装置に付属のコンピュータメモリ11に保持されるとともに、LANを通して自動統計・選別システムからアクセス5,6される。また、検出された全ての欠陥に対して、修正を要するものとして修正指示フラグにONが設定される。   These data are held in the computer memory 11 attached to the defect detection apparatus, and are accessed from the automatic statistics / sorting system 5 and 6 through the LAN. In addition, the correction instruction flag is set to ON for all detected defects that need to be corrected.

欠陥修正装置2には、修正用基板4が搬送されるとともに、基板IDをキーとして当該基板の欠陥検査情報がLAN7を通して欠陥修正装置2に伝送される。この欠陥情報の修正指示フラグに従って、欠陥部位がサーチされ当該欠陥周囲の画像表示がなされ、視察により修正が必要かどうか改めて判断される。欠陥修正装置で使用される第二の欠陥データファイル11は、第一の欠陥データファイル10とほぼ同一の保存因子を保持できるが、一般には欠陥の位置の情報と修正指示のあった欠陥を実際に修正したかどうかを示すデータだけで十分である。この保存因子のファイルもLAN8を通して自動統計・選別システム3からアクセスされる。   The correction substrate 4 is conveyed to the defect correction device 2, and defect inspection information of the substrate is transmitted to the defect correction device 2 through the LAN 7 using the substrate ID as a key. According to this defect information correction instruction flag, the defective part is searched, an image around the defect is displayed, and it is determined again by inspection whether correction is necessary. The second defect data file 11 used in the defect correction apparatus can hold almost the same storage factor as the first defect data file 10, but in general, the defect location information and the defect for which the correction instruction has been given are actually used. Only the data indicating whether or not it was corrected is sufficient. The storage factor file is also accessed from the automatic statistics / sorting system 3 through the LAN 8.

自動統計・選別システム3は、第一の欠陥データファイル10と第二の欠陥データファイル11を対応させて、検出された欠陥が実際に修正されたか否かの情報が記録された第三の欠陥データファイル12を保持している。このファイルは、上記の複数の保存因子を各因子が取りえる範囲を細かく分割(層別化)した構成を有するものである。すなわち、座標Xであれば、仮に検査対象のカラーフィルタのx方向の長さが700mmであるとすると、座標Xを100mm単位で分割した7個の層に分割される。もちろん10mm単位の70個の層に分けても構わない。検査対象に応じて適切に層数は設定される。濃度であれば、最大で256個の層に分割される。層の構成は1次元の場合もあれば、多次元の層の場合もある。例えば、欠陥面積の因子と濃度の因子を組み合わせるような場合である。この場合には、欠陥面積の因子を10層に分割し、この1層ごとに平均濃度の256層を対応させることができる。この場合には2次元のファイルを構成することになる。複数の因子で欠陥を特定する場合には、当該複数次元のファイルを用意しておくことになる。   The automatic statistics / sorting system 3 associates the first defect data file 10 with the second defect data file 11 and records the information on whether or not the detected defect is actually corrected. A data file 12 is held. This file has a structure obtained by finely dividing (stratifying) the range in which each factor can take the plurality of storage factors. That is, in the case of the coordinate X, if the length of the color filter to be inspected in the x direction is 700 mm, the color filter is divided into seven layers obtained by dividing the coordinate X in units of 100 mm. Of course, it may be divided into 70 layers of 10 mm units. The number of layers is appropriately set according to the inspection object. If it is a density | concentration, it will be divided | segmented into a maximum of 256 layers. The layer structure may be one-dimensional or multi-dimensional. For example, a combination of a defect area factor and a concentration factor. In this case, the defect area factor can be divided into 10 layers, and each layer can correspond to 256 layers having an average concentration. In this case, a two-dimensional file is formed. When a defect is specified by a plurality of factors, the multi-dimensional file is prepared.

以上3つの欠陥データファイルファイルを準備した上で、欠陥修正処理は以下の手順で行われる。
まず、何らかの皮膜が形成された基板4が自動欠陥検査装置1内に搬入される。形成された皮膜は、ブラックマトリックス、赤、青、緑の着色画素のいずれかが形成された基板、あるいは複数の皮膜が積層された基板、あるいは最終的なカラーフィルタ基板であってもも構わない。自動欠陥検査装置1は、検出した欠陥に関して、前記複数の保存因子に係わる具体的な数値を、第一の欠陥データファイル10に書き込んで自動欠陥検査装置付属のコンピュータメモリに保存するとともに、自動統計・選別システム3にLAN経由で転送される。
After preparing the above three defect data file files, the defect correction process is performed in the following procedure.
First, the substrate 4 on which some film is formed is carried into the automatic defect inspection apparatus 1. The formed film may be a substrate on which any of black matrix, red, blue, and green colored pixels is formed, a substrate on which a plurality of films are laminated, or a final color filter substrate. . The automatic defect inspection apparatus 1 writes specific numerical values related to the plurality of storage factors to the first defect data file 10 and stores them in a computer memory attached to the automatic defect inspection apparatus with respect to the detected defects, and automatic statistics. Transfer to the sorting system 3 via the LAN.

すると、自動統計・選別システムは、特定の因子に係わる数値データに基づき、該数値が含まれる特定因子に属する層の一つを選択して、例えば、この層のカウント数を定法にしたがい+1とする(ロットの初期状態ではゼロとする)。これを全ての因子について行う。次いで、基板4は欠陥修正装置2に搬送されるが、修正指示情報がON(修正用)である欠陥について、欠陥修正装置は視察により修正が必要かどうか判断する。必要と判断して修正処理を施した場合は、第二の欠陥データファイル11の修正すみフラグをONにする。修正指示フラグがONであったが、修正をしなかった場合は修正すみフラグをOFFとする。こうして得られ情報は、第二の欠陥データファイル11として欠陥修正装置のコンピュータに保持されるとともに、自動統計・選別システム3からLANを通じてアク
セスされる。
Then, the automatic statistics / sorting system selects one of the layers belonging to the specific factor including the numerical value based on the numerical data related to the specific factor, and, for example, according to a regular method of the count number of this layer + 1 (In the initial state of the lot, it is set to zero). This is done for all factors. Next, the substrate 4 is transported to the defect correction apparatus 2, but the defect correction apparatus determines whether or not correction is necessary by inspection for a defect whose correction instruction information is ON (for correction). If it is determined that it is necessary and correction processing is performed, the correction flag of the second defect data file 11 is set to ON. If the correction instruction flag is ON but not corrected, the correction flag is turned OFF. The information thus obtained is held in the computer of the defect correction apparatus as the second defect data file 11 and is accessed from the automatic statistics / sorting system 3 through the LAN.

自動統計・選別システム3は、この情報に基づいて、当該欠陥に対応する修正数を保持するファイル内エリアのカウント数を+1することになる。このようにして、層別することで具体的に特定される欠陥に関し、修正がなされたかどうかが記録され、投入された基板についてこれが繰り返されると、修正データが累積していくことになる。
自動欠陥検査装置においては、修正指示フラグは通常ONにセットされるが、自動統計・選別システムでは、修正指示フラグを強制的に、又は蓄積データに基づくあるアルゴリズムによって自動的に再設定することが可能である。
例えば、欠陥ではあるが、害がないような部位・特性である場合で修正が不要な場合である。投入数が少ないような場合には、自動的に再設定する仕組みが働かないようにして、全て欠陥修正装置の視察判断に委ねて、データ蓄積に励むことなどが考えられる。これらは、コンピュータ上でソフトウエアー的に実行可能である。
Based on this information, the automatic statistics / sorting system 3 increments the count number of the area in the file holding the number of corrections corresponding to the defect. In this way, whether or not a defect specifically identified by layering has been corrected is recorded, and when this is repeated for a substrate that has been input, correction data will accumulate.
In an automatic defect inspection device, the correction instruction flag is normally set to ON. However, in the automatic statistics / sorting system, the correction instruction flag can be automatically reset by a certain algorithm based on accumulated data. Is possible.
For example, it is a case where the part is a defect but has no harm and no correction is required. In the case where the number of inputs is small, it is conceivable that the automatic resetting mechanism does not work, and all of them are left to the inspection judgment of the defect correcting device to make efforts to accumulate data. These can be executed by software on a computer.

自動欠陥検査装置1から伝送された第一の欠陥データファイル10は、修正指示フラグが再設定された後、自動欠陥検査装置1に送り返されて、この情報とカラーフィルタ基板4が欠陥修正装置2に送られることになる。ただし、自動欠陥検査装置1に送り出されるということは、実質的に欠陥修正装置2に送られると言っても構わない。   The first defect data file 10 transmitted from the automatic defect inspection apparatus 1 is sent back to the automatic defect inspection apparatus 1 after the correction instruction flag is reset, and this information and the color filter substrate 4 are transferred to the defect correction apparatus 2. Will be sent to. However, sending to the automatic defect inspection apparatus 1 may be said to be substantially sent to the defect correction apparatus 2.

第三の欠陥データファイルは、閾値の設定の参考とすることもできる。例えば、特定の位置の特定の外観の欠陥の修正割合が極端に低い場合には、この欠陥は修正する必要がないものと考えられる。したがって、自動欠陥検査装置1側で、修正指示情報を自動的にOFF設定するようにすることもできる。   The third defect data file can be used as a reference for setting a threshold. For example, if the correction rate of a defect of a specific appearance at a specific position is extremely low, it is considered that this defect does not need to be corrected. Accordingly, the correction instruction information can be automatically set to OFF on the automatic defect inspection apparatus 1 side.

最後に、蓄積された第三の欠陥データファイルを使用して、当該欠陥Zを修正するか否かの指示情報を、第一の欠陥データファイルに書き込む際に使用するアルゴリズムについて述べる。
先ず、欠陥を規定する属性(因子)を決める。どの属性を使用するかは検査する人間がシステム上で選択して設定する。予め、欠陥の特性により設定しておくこともできる。
仮に、属性Aとして、欠陥のX座標と欠陥サイズを選択し、次のように層別する。
層1:X座標;0〜9mm サイズ;0〜9mm□
層2:X座標;0〜9mm サイズ;10〜19mm□
層3:X座標;10〜19mm サイズ;0〜9mm□
層4:X座標;10〜19mm サイズ;10〜19mm□
この層ごとに、修正不要率が第三の欠陥データファイルに保存されているか、容易に計算される。その値を、層1→A1%、層2→A2%、層3→A3%、層4→A4%とする。
Finally, an algorithm used when writing the instruction information on whether or not to correct the defect Z to the first defect data file using the accumulated third defect data file will be described.
First, an attribute (factor) that defines a defect is determined. Which attribute is used is selected and set on the system by the person to be inspected. It can also be set in advance according to the defect characteristics.
As the attribute A, the defect X coordinate and the defect size are selected and stratified as follows.
Layer 1: X coordinate; 0-9mm Size; 0-9mm □
Layer 2: X coordinate; 0-9 mm Size; 10-19 mm □
Layer 3: X coordinate; 10-19 mm Size; 0-9 mm □
Layer 4: X coordinate; 10-19 mm Size; 10-19 mm □
For each layer, it is easily calculated whether the correction unnecessary rate is stored in the third defect data file. The values are layer 1 → A1%, layer 2 → A2%, layer 3 → A3%, layer 4 → A4%.

属性Bとして、欠陥平均濃度と欠陥サイズを選択し、次のように層別する。
層1:平均濃度;0〜19 サイズ;0〜9mm□
層2:平均濃度;0〜19 サイズ;10〜19mm□
層3:平均濃度;20〜29 サイズ;0〜9mm□
層4:平均濃度;20〜29 サイズ;10〜19mm□
この層ごとに、修正不要率が第三の欠陥データファイルに保存されているか、容易に計算される。その値を、層1→B1%、層2→B2%、層3→B3%、層4→B4%とする。
As the attribute B, the average defect density and the defect size are selected and stratified as follows.
Layer 1: Average concentration; 0-19 Size; 0-9 mm □
Layer 2: Average concentration; 0-19 Size; 10-19 mm □
Layer 3: Average concentration; 20 to 29 Size; 0 to 9 mm
Layer 4: Average concentration; 20 to 29 Size; 10 to 19 mm □
For each layer, it is easily calculated whether the correction unnecessary rate is stored in the third defect data file. The values are layer 1 → B1%, layer 2 → B2%, layer 3 → B3%, layer 4 → B4%.

属性Cとして、欠陥のY座標と欠陥サイズを選択し、次のように層別する。
層1:Y座標;0〜9mm サイズ;0〜9mm□
層2:Y座標;0〜9mm サイズ;10〜19mm□
層3:Y座標;10〜19mm サイズ;0〜9mm□
層4:Y座標;10〜19mm サイズ;10〜19mm□
この層ごとに、修正不要率が第三の欠陥データファイルに保存されているか、容易に計算される。その値を、層1→C1%、層2→C2%、層3→C3%、層4→C4%とする。
As the attribute C, the Y coordinate of the defect and the defect size are selected and stratified as follows.
Layer 1: Y coordinate; 0-9mm Size; 0-9mm □
Layer 2: Y coordinate; 0-9 mm Size; 10-19 mm □
Layer 3: Y coordinate; 10-19 mm Size; 0-9 mm □
Layer 4: Y coordinate; 10-19 mm Size; 10-19 mm □
For each layer, it is easily calculated whether the correction unnecessary rate is stored in the third defect data file. The values are layer 1 → C1%, layer 2 → C2%, layer 3 → C3%, and layer 4 → C4%.

欠陥Zの第三の欠陥データファイル上の属性Aで該当する層が1であるなら属性修正不要率はA1となる。同様に、属性Bでは属性修正不要率はB3、属性Cでは属性修正不要率はC4となったとする。この3個の属性修正不要率の積として、確定修正不要率KをK=A1×B3×C4と算出する。
この確定修正不要率を予め経験的に設定できる修正不要閾値と比較して、修正するか否かを決定し第一の欠陥データファイル上の指示情報を設定する。当然、自動的に比較して設定するようにすることができる。
If the layer corresponding to the attribute A on the third defect data file of the defect Z is 1, the attribute correction unnecessary rate is A1. Similarly, in attribute B, the attribute correction unnecessary rate is B3, and in attribute C, the attribute correction unnecessary rate is C4. As a product of the three attribute correction unnecessary rates, a fixed correction unnecessary rate K is calculated as K = A1 × B3 × C4.
This fixed correction unnecessary rate is compared with a correction unnecessary threshold that can be set empirically in advance, and it is determined whether or not to correct, and instruction information on the first defect data file is set. Of course, it is possible to automatically compare and set.

本発明になる欠陥検出選別修正システムの概念を説明する図面である。It is drawing explaining the concept of the defect detection selection correction system which becomes this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1、自動欠陥検査装置
2、欠陥修正装置
3、自動統計・選別システム
4、検査基板
5、6、7、8、データ転送用LAN
10、11,12、欠陥データファイル
1. Automatic defect inspection device 2, defect correction device 3, automatic statistics / sorting system 4, inspection board 5, 6, 7, 8, data transfer LAN
10, 11, 12, defect data file

Claims (4)

少なくとも、基板上に形成された塗布皮膜を検査し、検出した欠陥の該基板上の位置に係わる情報、欠陥の特性に係わる情報及び該欠陥を修正するか否かの指示情報等を第一の欠陥データファイルとして保持し、前記第一の欠陥データファイルをLANを通して入出力する自動欠陥検査装置と、
前記修正指示のある欠陥を第一の欠陥データファイルの情報に基づき基板上で検出した上で、必要であれば該欠陥を修正し、該欠陥の該基板上の位置に係わる情報及び実際に修正したか否かの情報等を第二の欠陥データファイルとして保持し、前記第二の欠陥データファイルをLANを通して入出力する欠陥修正装置と、
前記第一の欠陥データファイルに含まれる位置に係わる情報及び欠陥の特性に係わる情報他を各々層別に区分けして構成される第三の欠陥データファイルを保持し、該第三の欠陥データファイルの該当する層に、LANを通じて入手した検査基板ごとの前記第一の欠陥データファイルの情報及び前記第二の欠陥データファイルの修正したか否かの情報を累積し、前記累積情報を用いて、取得した第一の欠陥データファイル中の欠陥を修正するか否かの指示情報を設定し、前記自動欠陥検査装置に出力する自動統計・修正システムと、を有することを特徴とする欠陥検出選別修正システム。
At least the coating film formed on the substrate is inspected, and information on the position of the detected defect on the substrate, information on the characteristics of the defect, instruction information on whether to correct the defect, etc. An automatic defect inspection apparatus that holds the first defect data file through a LAN as a defect data file;
After detecting the defect with the correction instruction on the substrate based on the information of the first defect data file, the defect is corrected if necessary, and the information regarding the position of the defect on the substrate and the actual correction are performed. A defect correction device that holds information as to whether or not the second defect data file is stored, and inputs and outputs the second defect data file through the LAN;
A third defect data file configured by dividing information relating to the position included in the first defect data file and information relating to the characteristics of the defect, etc., into respective layers is held, and the third defect data file The information on the first defect data file and the information on whether or not the second defect data file has been corrected for each inspection board obtained through the LAN is accumulated in the corresponding layer, and acquired using the accumulated information. An automatic statistics / correction system for setting instruction information as to whether or not to correct a defect in the first defect data file and outputting the instruction information to the automatic defect inspection apparatus, .
前記第一の欠陥データファイルは、欠陥に係わる、少なくとも下記の情報を含むことを特徴とする請求項1に記載の欠陥検出選別修正システム。
位置に係わる情報:欠陥発生座標X[mm],
欠陥発生座標Y[mm]
特性に係わる情報:欠陥画素数[pix]、
欠陥長辺サイズ[pix]、
欠陥短辺サイズ[pix]、
欠陥画素平均濃度[0〜255]、
欠陥画素最大濃度[0〜255]、
欠陥画素最小濃度[0〜255]、
その他として、基板シリアルナンバー、修正指示情報、総欠陥数等。
2. The defect detection / selection / correction system according to claim 1, wherein the first defect data file includes at least the following information related to the defect.
Information related to position: Defect occurrence coordinate X [mm],
Defect occurrence coordinate Y [mm]
Information on characteristics: number of defective pixels [pix],
Defect long side size [pix],
Defect short side size [pix],
Defective pixel average density [0-255],
Defective pixel maximum density [0-255],
Defective pixel minimum density [0-255],
Others include board serial number, correction instruction information, total number of defects, etc.
前記第二の欠陥データファイルは、欠陥に係わる、少なくとも下記の情報を含むことを特徴とする請求項1に記載の欠陥検出選別修正システム。
位置に係わる情報:欠陥発生座標X[mm],
欠陥発生座標Y[mm]、
その他として、欠陥を修正したか否かの情報等。ここで、[pix]はピクセルを単位とすることを示す。
2. The defect detection / selection / correction system according to claim 1, wherein the second defect data file includes at least the following information relating to the defect.
Information related to position: Defect occurrence coordinate X [mm],
Defect occurrence coordinate Y [mm],
Other information, such as whether or not the defect has been corrected. Here, [pix] indicates that the unit is a pixel.
基板上で検出された欠陥を修正するか否かの指示情報は、該欠陥を規定する一つ以上のの属性を選択した上で、第三の欠陥データファイルから該属性中の当該欠陥が属する層の修正不要率を属性修正不要率として算出し、さらに、選択した全ての属性の属性修正不要率を掛け合わせたものを確定修正不要率とし、これと予め設定された、修正不要閾値とを自動的に比較し、修正不要閾値を超えたか否かで決定するアルゴリズムを有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の欠陥検出選別修正システム。   The instruction information on whether or not to correct the defect detected on the substrate is selected from one or more attributes that define the defect, and the defect in the attribute belongs from the third defect data file. The layer correction unnecessary rate is calculated as the attribute correction unnecessary rate, and further, the value obtained by multiplying the attribute correction unnecessary rate of all the selected attributes is set as the fixed correction unnecessary rate, and this is set with the preset correction unnecessary threshold. The defect detection selection correction system according to any one of claims 1 to 3, further comprising an algorithm that automatically compares and determines whether or not a correction unnecessary threshold has been exceeded.
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