JP2010117726A - 液晶表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】本発明は、光反射層を有する反射型又は反射透過型の液晶表示装置に関し、液晶層厚の制御性に優れた低コストの液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置は、ガラス基板3上の凹凸制御構造8に沿うように形成された皺状凹凸形状の表面を有する皺状凹凸層6を有している。また、液晶表示装置は、対向側ガラス基板5から突出して形成されて両基板3、5間を所定の間隙に保持する保持用突起部10を複数有している。ほぼ同じ長さに形成された保持用突起部10を皺状凹凸層6の凸部上に接するように所定の間隔で形成することにより、液晶層12の厚さを設計値通りの厚さに容易に制御することができる。
【選択図】図2

Description

本発明は、電子機器の表示部等に用いられる液晶表示装置に関し、特に光反射層を有する反射型又は反射透過型の液晶表示装置に関する。
室内および屋外のいずれにおいても良好な表示を実現するために、反射透過型の液晶表示装置(半透過型液晶表示装置)が開発されている。半透過型液晶表示装置では、バックライトユニット等から射出された光や太陽光又は室内灯等の周囲からの外光を利用して表示が行われる。
図6は、非特許文献1に開示されている半透過型液晶表示装置の1画素の断面を示している。図6に示すように、半透過型液晶表示装置は対向配置された2枚の基板102、104と、両基板102、104間に封止された液晶層112とを有している。基板102上には、複数(図6では2本)のソースバスライン106が形成されている。さらに、基板102の全面には、ソースバスライン106を覆って絶縁膜105が形成されている。2本のソースバスライン106のほぼ中央部の絶縁膜105上には、透明電極108が形成されている。透明電極108は基板102側に備えられたバックライトユニット(不図示)から射出された光を透過するようになっている。
透明電極108の形成領域を除く絶縁膜105上には、基板104との対向面側に凹凸部を有するアクリル樹脂層110が形成されている。アクリル樹脂層110は両基板102、104間の幅のほぼ半分の厚さに形成されている。アクリル樹脂層110上には、アクリル樹脂層110の凹凸形状に倣う反射電極114が形成されている。反射電極114は透明電極108に電気的に接続されている。反射電極114表面の凹凸部は基板104側から入射した光を散乱させて反射させるようになっている。
一方、基板102に対面する基板104表面上には、ソースバスライン106にほぼ対向する位置に形成されたブラックマトリクス116、及び全面に形成されたカラーフィルタ(CF)層118と透明電極120とが形成されている。
図6に示すように、半透過型液晶表示装置は1画素内に、凹凸部を有する反射電極114が形成された反射領域と、バックライトユニット等からの光を透過する透明電極108が形成された透過領域とを有している。このため、半透過型液晶表示装置はバックライトユニットから射出された光や太陽光や室内灯等の外光を利用して画像を表示できるようになっている。
従来の半透過型液晶表示装置では、反射領域の形成にフォトリソグラフィ法を利用するため、非常に高コストになってしまう問題を有している。本発明者らは低コスト化を図るために、フォトリソグラフィ法を使用しないで皺状凹凸の拡散反射電極を形成する技術を開発し、垂直配向型液晶と組み合わせることで高反射率かつ高コントラスト比が得られる反射型液晶表示装置を実現した(特許文献1参照)。さらに、本発明者は皺状凹凸層の下層に構造物を設けることで、皺状凹凸の方位を制御する技術を開発した(特許文献2参照)。
特開2002−221716号公報 特開2003−215574号公報
IDW’99 digest p.183
図6に示すように、半透過型液晶表示装置では、透過領域と反射領域の液晶層112を透過する光の光学的距離を等しくするために、液晶層112の厚さを異ならせるマルチギャップ構造にする必要がある。これを実現するために、アクリル樹脂層110は両基板102、104間の幅のほぼ半分の厚さに形成され、透過領域と反射領域の液晶層112を透過する光の経路がほぼ等しくなるようになっている。ところが、同一基板内に厚さの異なる液晶層112を有する半透過型液晶表示装置の両基板102、104間の液晶層112の厚さを制御する方法は示されていない。
本発明の目的は、液晶層厚の制御性に優れた低コストの液晶表示装置を提供することにある。
上記目的は、基板上に形成され、皺状凹凸形状の表面を有する皺状凹凸層と、前記基板の前記皺状凹凸層側に対向配置された対向基板と、前記基板と前記対向基板との間に封止された液晶と、前記基板上の前記皺状凹凸層の下層に形成され、前記皺状凹凸層の凹凸の方位を制御する凹凸制御構造部と、前記皺状凹凸層の凹部上又は凸部上のいずれか一方に形成され、前記基板と前記対向基板との間を所定の間隙に保持する保持用突起部とを有することを特徴とする液晶表示装置によって達成される。
本発明によれば、液晶層厚の制御性に優れた低コストの液晶表示装置が実現できる。
本発明の一実施の形態による液晶表示装置の一例としての半透過型液晶表示装置の概略の構成を示す図である。 本発明の一実施の形態による液晶表示装置の表示画面に垂直な方向に切断した断面図である。 本発明の一実施の形態による液晶表示装置の実施例1であって、反射型液晶表示装置の1画素及びその周囲の構成を示す図である。 本発明の一実施の形態による液晶表示装置の実施例2であって、半透過型液晶表示装置の表示画面に垂直な方向に切断した断面図である。 本発明の一実施の形態による液晶表示装置の実施例3であって、n型VA液晶を用いた半透過型液晶表示装置の表示画面に垂直な方向に切断した断面図である。 従来の半透過型液晶表示装置の表示画面に垂直な方向に切断した断面図である。
本発明の一実施の形態による液晶表示装置を図1乃至図5を用いて説明する。まず、本実施の形態による液晶表示装置の一例としての半透過型液晶表示装置の概略の構成について図1を用いて説明する。図1に示すように、半透過型液晶表示装置は、光反射性材料からなる反射電極や薄膜トランジスタ(TFT)等が画素領域毎に形成されたTFT基板2と、樹脂CF層や共通電極等が形成された対向基板4とを対向させて貼り合わせ、その間に液晶を封止した液晶表示パネルを有している。
TFT基板2には、複数のゲートバスラインを駆動するドライバICが実装されたゲートバスライン駆動回路80と、複数のドレインバスラインを駆動するドライバICが実装されたドレインバスライン駆動回路82とが設けられている。両駆動回路80、82は、制御回路84から出力された所定の信号に基づいて、走査信号やデータ信号を所定のゲートバスラインあるいはドレインバスラインに出力するようになっている。
対向基板4は、画素領域毎にR、G、Bのいずれか1色が形成された樹脂CF層を有している。両基板2、4の対向面には、液晶分子を所定方向に配向させる配向膜が形成されている。
TFT基板2の素子形成面と反対側の表面には、偏光板87が貼り付けられている。偏光板87のTFT基板2と反対側には、例えば線状の一次光源と面状導光板とからなるバックライトユニット88が配置されている。一方、対向基板4のCF形成面と反対側の表面には、偏光板86が貼り付けられている。
図2は、本実施の形態による液晶表示装置を表示画面に垂直な方向に切断した断面の一部を示している。図2に示すように、液晶表示装置は不図示のTFT等が形成されたTFT基板2のガラス基板3と、TFT基板2に対向配置された対向基板4の対向側ガラス基
板5と、両基板3、5間に封止された液晶層12とを有している。ガラス基板3上には、表面が皺状凹凸形状の皺状凹凸層6が形成されている。皺状凹凸層6は、例えばノボラック系ポジ型レジスト等の感光性樹脂で形成されている。
また、ガラス基板3上であって皺状凹凸層6の下層には、皺状凹凸層6の凹凸の方位を制御する凹凸制御構造部8が複数(図2では5つ)形成されている。凹凸制御構造部8は皺状凹凸層6と熱的変形特性の異なる材料で所定の形状に形成されている。凹凸制御構造部8をガラス基板3上に形成することによって、皺状凹凸層6の熱収縮に伴って表面に形成される皺状凹凸形状は凹凸制御構造8に沿うように形成される。皺状凹凸層6の皺状凹凸形状によって最適な反射用凹凸による傾斜面分布を得ることにより、液晶表示装置の反射率を向上させることができる。
一方、ガラス基板3に対向する対向側ガラス基板5側には、対向側ガラス基板5から突出して両基板3、5間を所定の間隙に保持する保持用突起部10が形成されている。凹凸制御構造部8の形成パターンによって、皺状凹凸層6の凹部と凸部とがガラス基板3面内のどの位置にどの程度の高さに形成されるかを制御できる。このため、例えば図2に示すように、ガラス基板3上からの皺状凹凸層6の凸部の高さが均一になるように凹凸制御構造部8を形成し、皺状凹凸層6の凸部上に接するようにほぼ同じ長さの保持用突起部10を所定の間隔で形成することにより、液晶層12の厚さを設計値通りの厚さに容易に制御することができる。液晶層12の厚さを一定に制御するために、保持用突起部10を皺状凹凸層6の凹部上に接するように形成したり、皺状凹凸層6上の凹部又は凸部から突出させて対向側ガラス基板5に接するように形成したりしてもよい。
以上説明したように、本実施の形態によれば、液晶表示装置はガラス基板3上に形成された凹凸制御構造部8によって、皺状凹凸層6表面に生じる皺状凹凸形状の凹部又は凸部のそれぞれの高さをほぼ均一に制御することができる。このため、ほぼ同じ長さに形成された保持用突起部10を皺状凹凸層6の凹部又は凸部のいずれかに接するように所定の間隔で形成することにより、液晶層12の厚さを設計値通りの厚さに容易に制御することができる。また、フォトリソグラフィ法を用いずに皺状凹凸層6表面に皺状凹凸形状を形成できるので、液晶表示装置の低コスト化を図ることができる。
以下実施例を用いてより具体的に説明する。
(実施例1)
図3は、反射型液晶表示装置に用いられる液晶表示パネルの1画素及びその周囲の構成を示している。図3(a)は、表示画面の法線方向に見た1画素及びその周囲の構成を示している。図3(b)は、図3(a)のA−A線で切断した断面を示している。図3(a)及び図3(b)に示すように、TFT基板2のガラス基板3上には、図3(a)の左右方向に延びるゲートバスライン14が形成されている。ゲートバスライン14上の基板全面には、絶縁膜26が形成されている。絶縁膜26を介してゲートバスライン14に交差し、図3(a)の上下方向に延びるドレインバスライン16が形成されている。ゲートバスライン14とドレインバスライン16との交差位置近傍には、TFT18が形成されている。TFT18は、例えばa−Si層からなる動作半導体層(不図示)を絶縁膜26上に有している。動作半導体層上にはチャネル保護膜(不図示)が形成されている。チャネル保護膜上には、隣接するドレインバスライン16から引き出されたドレイン電極20と、ソース電極22とが、所定の間隙を介して互いに対向して形成されている。このような構成において、チャネル保護膜直下のゲートバスライン14がTFT18のゲート電極として機能するようになっている。絶縁膜26上には最終保護膜28が形成されている。
最終保護膜28上には、例えばノボラック系ポジ型レジストの感光性樹脂からなる皺状凹凸層6が形成されている。皺状凹凸層6の表面には、ガラス基板3上に形成された凹凸
制御構造部8の形状に沿うように皺状凹凸形状が形成されている。凹凸制御構造部8はゲートバスライン14にほぼ平行に所定の間隔を設けてドレインバスライン16間に複数形成されている。凹凸制御構造部8はゲートバスライン14と同層に同材料で同時に形成されている。皺状凹凸層6上には、光反射材料からなる光反射層の反射電極30が画素領域毎に形成されている。反射電極30の表面には、皺状凹凸層6の表面形状に倣う皺状の凹凸が形成されている。反射電極30は、表面に形成された皺状の凹凸により光散乱特性が向上し、入射した外光を各方向に散乱させて反射するようになっている。反射電極30は、TFT18のソース電極22上の層間絶縁膜28を開口して形成されたコンタクトホール22を介して、ソース電極22に電気的に接続されている。
一方、対向基板4は、対向側ガラス基板5上に不図示のCF層を有している。CF層上の基板全面には、透明電極32が形成されている。透明電極32は例えばインジウム・ティン・オキサイド(ITO)で形成されている。透明電極32から突出して形成された保持用突起部10は、反射電極30の凸部まで延びて形成されている。このため、反射電極30は保持用突起部10と皺状凹凸層6との間にも形成されている。皺状凹凸層6の凹部又は凸部のそれぞれの高さは、凹凸制御構造部8によってほぼ均一に形成されている。従って、ほぼ同じ長さの保持用突起部10を反射電極30の凸部上に所定の間隔で複数形成することにより、TFT基板2と対向基板4との間隙は所定幅に保持されて液晶層12の厚さをほぼ一定に制御することができる。
凹凸制御構造部8はゲートバスライン14を形成する際に同時に形成できるので、特別な製造工程を必要とせず低コスト化を図ることができる。また、凹凸制御構造部8はドレインバスライン16と同材料で同層に同時に形成したり、ゲートバスライン14及びドレインバスライン16と同材料で同層に同時にそれぞれ形成された2層構造に形成したりしてももちろんよい。この場合も、皺状凹凸層6の皺状凹凸形状を所定形状に形成できるので、液晶層12の厚さをほぼ一定に制御することができる。
以上説明したように本実施例によれば、反射型液晶表示装置に用いる液晶表示パネルの液晶層12の厚さを設計値通りの厚さに容易に制御することができる。また、凹凸制御構造部8はゲートバスライン14等と同材料で同層に同時に形成できるので、製造工程数は増加せず、液晶表示装置の低コスト化を図ることができる。
(実施例2)
次に、本実施の形態による液晶表示装置の実施例2について図4を用いて説明する。図4は、半透過型液晶表示装置に用いられる液晶表示パネルの1画素の断面構成を示している。図4に示すように、液晶表示パネルは、TFT基板2と対向基板4と両基板2、4間に封止された液晶層12とを有している。TFT基板2のガラス基板3上の反射領域Rには、凹凸制御構造部8が形成されている。さらに、反射領域Rには、凹凸制御構造部8を覆って絶縁膜26、最終保護膜28、皺状凹凸層6及び反射電極30がこの順に形成されている。反射電極30表面には、下層の皺状凹凸層6の表面形状に倣い、複数の凹凸が形成されている。反射電極30は、表面に形成された複数の凹凸により光散乱特性が向上し、入射した外光を各方向に散乱させて反射させるようになっている。
また、ガラス基板3上の透過領域Tには、絶縁膜26、最終保護膜28及び透明電極34がこの順に形成されている。透明電極34は、図中下方に配置されたバックライトユニット(不図示)から射出された光を透過するようになっている。透明電極34は、チタン(Ti)、モリブデン(Mo)等からなるバリアメタル層35を介して、同一画素の反射電極30に電気的に接続されている。
一方、対向基板4は、対向側ガラス基板5上に不図示のCF層を有している。CF層上
の基板全面には、透明電極32が形成されている。透明電極32から突出して形成された保持用突起部10は、反射電極30の凸部まで延びて形成されている。皺状凹凸層6の凹部又は凸部のそれぞれの高さは、凹凸制御構造部8によってほぼ均一に形成されている。従って、ほぼ同じ長さの保持用突起部10を反射電極30の凸部上に所定の間隔で複数形成することにより、TFT基板2と対向基板4との間隙は所定幅に保持されて液晶層12の厚さをほぼ一定に制御することができる。
以上説明したように、各画素に反射領域Rと透過領域Tとを有する半透過型液晶表示装置においても、反射領域Rの反射電極30の凸部まで延びる保持用突起部10で液晶表示パネルの基板間隔を所定幅に維持することにより、反射領域R及び透過領域Tのそれぞれの液晶層12の厚さをほぼ一定に制御することができる。
(実施例3)
次に、本実施の形態による液晶表示装置の実施例3について図5を用いて説明する。図5は、負の誘電異方性を有する垂直配向型液晶(n型VA液晶)を用いた半透過型液晶表示装置に備えられる液晶表示パネルの1画素の断面構成を示している。図5に示すように、本実施例の液晶表示パネルは反射領域Rに形成されて液晶層12厚を所定の幅に保持する保持用突起物10で液晶分子36の配向を制御している点に特徴を有している。透過領域Tには、液晶分子36の配向を制御する配向制御用突起物38が形成されている。配向制御用突起物38は対向側ガラス基板5から突出して形成されており、保持用突起物10とほぼ同じ長さに形成されている。このため、配向制御用突起物8は透明電極34に接触していない。なお、本実施例の液晶表示パネルの断面構造は透過領域Tに配向制御用突起物38を有していることを除いては上記実施例2と同様であるため、説明は省略する。
上記実施例2と同様に、ほぼ同じ長さの保持用突起部10を反射電極30の凸部上に所定の間隔で複数形成することにより、TFT基板2と対向基板4との間隙は所定幅に保持されて液晶層12の厚さをほぼ一定に制御することができる。さらに、配向制御用突起物38及び保持用突起物10を用いてVA型液晶の液晶分子36の倒れる方向を制御できるので、広視野角かつ高コントラスト比の液晶表示装置が得られる。
以上説明した実施の形態による液晶表示装置は、以下のようにまとめられる。
(付記1)
基板上に形成され、皺状凹凸形状の表面を有する皺状凹凸層と、
前記基板の前記皺状凹凸層側に対向配置された対向基板と、
前記基板と前記対向基板との間に封止された液晶と、
前記基板上の前記皺状凹凸層の下層に形成され、前記皺状凹凸層の凹凸の方位を制御する凹凸制御構造部と、
前記皺状凹凸層の凹部上又は凸部上のいずれか一方に形成され、前記基板と前記対向基板との間を所定の間隙に保持する保持用突起部と
を有することを特徴とする液晶表示装置。
(付記2)
付記1記載の液晶表示装置において、
前記保持用突起部は、前記対向基板から突出して形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
(付記3)
付記1記載の液晶表示装置において、
前記保持用突起部は、前記皺状凹凸層から突出して形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
(付記4)
付記1乃至3のいずれか1項に記載の液晶表示装置において、
前記保持用突起部は、前記液晶の配向を制御することを特徴とする液晶表示装置。
(付記5)
付記1乃至4のいずれか1項に記載の液晶表示装置において、
前記皺状凹凸層は、ノボラック系ポジ型レジストの感光性樹脂で形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
(付記6)
付記1乃至5のいずれか1項に記載の液晶表示装置において、
前記皺状凹凸層上に前記凹凸に倣って形成され、前記対向基板側から入射した光を反射する光反射層をさらに有することを特徴とする液晶表示装置。
(付記7)
付記6記載の液晶表示装置において、
前記光反射層は、前記保持用突起部と前記皺状凹凸層との間にも形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
(付記8)
付記1乃至7のいずれか1項に記載の液晶表示装置において、
前記基板上に形成されたゲートバスラインと、前記ゲートバスラインに絶縁膜を介して交差して形成されたドレインバスラインと、前記ゲートバスラインと前記ドレインバスラインとの交差部毎に形成された画素領域とをさらに有し、
前記凹凸制御構造部は、前記ゲートバスライン及び/又は前記ドレインバスラインと同材料で形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
(付記9)
付記8記載の液晶表示装置において、
前記凹凸制御構造部は、前記ゲートバスライン及び/又は前記ドレインバスラインと同層に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
(付記10)
付記8又は9に記載の液晶表示装置において、
前記基板側に光源をさらに有し、
前記画素領域は、前記光反射層が形成された反射領域と、前記光源から射出された光を透過する透過領域とを有することを特徴とする液晶表示装置。
(付記11)
付記1乃至10のいずれか1項に記載の液晶表示装置において、
前記液晶は、負の誘電率異方性を有し電圧無印加時に垂直配向することを特徴とする液晶表示装置。
2 TFT基板
3 ガラス基板
4 対向基板
5 対向側ガラス基板
6 皺状凹凸層
8 凹凸制御構造部
10 保持用突起部
12、112 液晶層
14 ゲートバスライン
16 ドレインバスライン
18 TFT
20 ドレイン電極
22 ソース電極
24 コンタクトホール
26、105 絶縁膜
28 最終保護膜
30、114 反射電極
32、34、108、120 透明電極
36 液晶分子
38 配向制御用突起物
80 ゲートバスライン駆動回路
82 ドレインバスライン駆動回路
84 制御回路
86、87 偏光板
88 バックライトユニット
102、104 基板
106 ソースバスライン
110 アクリル樹脂層
116 ブラックマトリクス
118 カラーフィルタ
R 反射領域
T 透過領域

Claims (10)

  1. 基板上に形成され、皺状凹凸形状の表面を有する皺状凹凸層と、
    前記基板の前記皺状凹凸層側に対向配置された対向基板と、
    前記基板と前記対向基板との間に封止された液晶と、
    前記基板上の前記皺状凹凸層の下層に形成され、前記皺状凹凸層の凹凸の方位を制御する凹凸制御構造部と、
    前記皺状凹凸層の凹部上又は凸部上のいずれか一方に形成され、前記基板と前記対向基板との間を所定の間隙に保持する保持用突起部と
    を有することを特徴とする液晶表示装置。
  2. 請求項1記載の液晶表示装置において、
    前記保持用突起部は、前記対向基板から突出して形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
  3. 請求項1記載の液晶表示装置において、
    前記保持用突起部は、前記皺状凹凸層から突出して形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
  4. 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液晶表示装置において、
    前記保持用突起部は、前記液晶の配向を制御することを特徴とする液晶表示装置。
  5. 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の液晶表示装置において、
    前記皺状凹凸層上に前記凹凸に倣って形成され、前記対向基板側から入射した光を反射する光反射層をさらに有することを特徴とする液晶表示装置。
  6. 請求項5記載の液晶表示装置において、
    前記光反射層は、前記保持用突起部と前記皺状凹凸層との間にも形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
  7. 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の液晶表示装置において、
    前記基板上に形成されたゲートバスラインと、前記ゲートバスラインに絶縁膜を介して交差して形成されたドレインバスラインと、前記ゲートバスラインと前記ドレインバスラインとの交差部毎に形成された画素領域とをさらに有し、
    前記凹凸制御構造部は、前記ゲートバスライン及び/又は前記ドレインバスラインと同材料で形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
  8. 請求項7記載の液晶表示装置において、
    前記凹凸制御構造部は、前記ゲートバスライン及び/又は前記ドレインバスラインと同層に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
  9. 請求項7又は8に記載の液晶表示装置において、
    前記基板側に光源をさらに有し、
    前記画素領域は、前記光反射層が形成された反射領域と、前記光源から射出された光を透過する透過領域とを有することを特徴とする液晶表示装置。
  10. 請求項1乃至9のいずれか1項に記載の液晶表示装置において、
    前記液晶は、負の誘電率異方性を有し電圧無印加時に垂直配向することを特徴とする液晶表示装置。
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