JP2010106009A - Method for producing epoxy compound - Google Patents

Method for producing epoxy compound Download PDF

Info

Publication number
JP2010106009A
JP2010106009A JP2009212673A JP2009212673A JP2010106009A JP 2010106009 A JP2010106009 A JP 2010106009A JP 2009212673 A JP2009212673 A JP 2009212673A JP 2009212673 A JP2009212673 A JP 2009212673A JP 2010106009 A JP2010106009 A JP 2010106009A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
compound
epoxy
tungsten
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009212673A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5497388B2 (en
Inventor
Takayuki Tashiro
貴之 田代
Yoko Sakurai
陽子 櫻井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Chemical Industries Ltd filed Critical Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority to JP2009212673A priority Critical patent/JP5497388B2/en
Publication of JP2010106009A publication Critical patent/JP2010106009A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5497388B2 publication Critical patent/JP5497388B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Epoxy Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an epoxy compound from an organic compound having one or more C=C double bonds in the molecule by using a highly versatile oxidation catalyst available at a low cost and keeping high catalytic activity. <P>SOLUTION: The method for producing the epoxy compound (A) by oxidizing all double bond sites of the organic compound (B) having one or more C=C double bonds in the molecule comprises addition and reaction of an organic phase comprising the organic compound (B) as a starting material and an onium salt (D) to an aqueous phase containing a tungsten compound (C), ammonium phosphate and hydrogen peroxide. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明はエポキシ化合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、C=C二重結合を分子内に有する有機化合物を酸化し、高収率でエポキシ化する方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an epoxy compound. More specifically, the present invention relates to a method for oxidizing an organic compound having a C═C double bond in the molecule and epoxidizing the compound in a high yield.

C=C二重結合を分子内に1個以上有する有機化合物をタングステン化合物と過酸化水素とを用いてエポキシ化する反応は、従来より種々知られている。例えば、α−アミノメチルホスホン酸及び相間移動触媒を用いてエポキシ化する方法(非特許文献1)が知られている。
また、別の手法として、タングステン化合物、85%リン酸水溶液および過酸化水素水を含む水相をC=C二重結合を分子内に有する有機化合物および第4級アンモニウム塩を含む有機相に1時間以上かけて滴下しこの有機化合物をエポキシ化する方法(特許文献1)が知られている。
Various reactions for epoxidizing an organic compound having one or more C═C double bonds in the molecule with a tungsten compound and hydrogen peroxide have been known. For example, a method of epoxidation using α-aminomethylphosphonic acid and a phase transfer catalyst (Non-Patent Document 1) is known.
As another method, an aqueous phase containing a tungsten compound, an 85% phosphoric acid aqueous solution and a hydrogen peroxide solution is replaced with an organic compound having a C═C double bond in the molecule and an organic phase containing a quaternary ammonium salt. A method (Patent Document 1) in which the organic compound is epoxidized by dropping over a period of time is known.

しかしながら、前者の方法において、活性は高いものの必須成分のα−アミノメチルホスホン酸が高価であるとの理由から、安価で汎用性が高く、且つ触媒活性の高い、新たな酸化触媒の出現が望まれていた。
また、後者の方法では、リン酸水溶液をpH調整剤として使用しているため、エポキシ化に対して活性を有するタングステン触媒が系中で安定に存在していないと考えられる。
上記のタングステン触媒はpHに対する依存性が強く、ある特定のpH領域でしか存在できない。リン酸水溶液を用いると、系中のpHが時間の経過とともに上昇していくため、エポキシ化に関する活性種は時間の経過とともに少なくなり、エポキシ化の反応速度は時間の経過とともに遅くなってくると考えられる。このことから、後者の方法では反応中にpHが上昇し、エポキシ化が十分進む前にエポキシ化反応が極端に遅くなり、エポキシ化合物収率が不十分であった。
However, in the former method, the appearance of a new oxidation catalyst that is inexpensive, highly versatile, and has high catalytic activity is desired because α-aminomethylphosphonic acid, which is an essential component, is expensive although it has high activity. It was.
In the latter method, since an aqueous phosphoric acid solution is used as a pH adjuster, it is considered that a tungsten catalyst having activity for epoxidation does not exist stably in the system.
The above tungsten catalyst is strongly dependent on pH and can exist only in a specific pH range. When an aqueous phosphoric acid solution is used, the pH in the system increases with time, so that the active species related to epoxidation decreases with time, and the reaction rate of epoxidation decreases with time. Conceivable. For this reason, in the latter method, the pH increased during the reaction, and the epoxidation reaction was extremely slow before the epoxidation sufficiently proceeded, resulting in an insufficient epoxy compound yield.

Bull.Chem.Soc.Jpn.,70,905(1997).Bull. Chem. Soc. Jpn. , 70, 905 (1997).

特開2003−192679号公報JP 2003-192679 A

本発明は、タングステン化合物のうちエポキシ化に関する触媒の活性種を系中で維持することにより、エポキシ化合物収率が優れるエポキシ化合物の製造方法を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the manufacturing method of the epoxy compound which is excellent in an epoxy compound yield by maintaining the active species of the catalyst regarding epoxidation among tungsten compounds in a system.

本発明者らは、上記の目的を達成するべく検討を行った結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、下記一般式(1)で表されるC=C二重結合を分子内に1個以上有する有機化合物(B)の二重結合部位を酸化して下記一般式(2)で表されるエポキシ化合物(A)の製造法において、タングステン化合物(C)、りん酸アンモニウムおよび過酸化水素を含む水相中に対して、該有機化合物(B)とオニウム塩(D)からなる有機相を添加し、反応させることを特徴とするエポキシ化合物(A)の製造方法である。
The inventors of the present invention have reached the present invention as a result of studies to achieve the above object.
That is, this invention oxidizes the double bond part of the organic compound (B) which has one or more C = C double bonds represented by the following general formula (1) in the molecule, and the following general formula (2) In the production method of the epoxy compound (A) represented by the formula (1), the organic compound (B) and the onium salt (D) are contained in an aqueous phase containing a tungsten compound (C), ammonium phosphate and hydrogen peroxide. It is a manufacturing method of the epoxy compound (A) characterized by adding an organic phase and making it react.

[式中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数5〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の芳香族炭化水素基を表し、それらの一部がカルボニル基、エステル基またはカルボキシル基もしくはその塩基で置換されていてもよい。R4は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数5〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の芳香族炭化水素基、C=C二重結合を1個以上有する置換されていてもよいアルケニル基(但し、基中の複数個のC=C二重結合は互いに非共役関係にあり、かつ該C=C二重結合は式中のC=C二重結合と非共役関係にある。)を表し、それらの一部がエーテル基、カルボニル基、エステル基またはカルボキシル基もしくはその塩基で置換されていてもよい。R5は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数5〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の芳香族炭化水素基、R4のC=C二重結合が反応してエポキシ基に置換された有機基を表し、それらの一部がエーテル基、カルボニル基、エステル基またはカルボキシル基もしくはその塩基で置換されていてもよい。また、R1とR3、R2とR4、R2とR5が結合して環を形成していてもよい。] [Wherein, R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a monovalent alicyclic ring having 5 to 20 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, a part of which may be substituted with a carbonyl group, an ester group, a carboxyl group or a base thereof. R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms, or an aromatic carbon atom having 4 to 20 carbon atoms. A hydrogen group, an optionally substituted alkenyl group having one or more C═C double bonds (provided that a plurality of C═C double bonds in the group are non-conjugated to each other, and the C═C The double bond is in a non-conjugated relationship with the C═C double bond in the formula), and a part of them may be substituted with an ether group, a carbonyl group, an ester group, a carboxyl group or a base thereof. . R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms, or an aromatic carbon atom having 4 to 20 carbon atoms. Represents a hydrogen group, an organic group substituted by an epoxy group by reaction of a C═C double bond of R 4 , a part of which is substituted with an ether group, a carbonyl group, an ester group, a carboxyl group or its base May be. R 1 and R 3 , R 2 and R 4 , R 2 and R 5 may be bonded to form a ring. ]

本発明のエポキシ樹脂の製造方法は、タングステン化合物、りん酸アンモニウムおよび過酸化水素を含む水相中に対して、C=C二重結合を分子内に有する有機化合物(B)とオニウム塩(D)からなる有機相を添加し、反応させるものである。この製造方法を用いることで、エポキシ化反応を安定的に高収率で行うことが可能である。   In the method for producing an epoxy resin of the present invention, an organic compound (B) having a C═C double bond in the molecule and an onium salt (D) in an aqueous phase containing a tungsten compound, ammonium phosphate and hydrogen peroxide. ) Is added and reacted. By using this production method, the epoxidation reaction can be stably performed at a high yield.

本発明は、C=C二重結合を分子内に有する有機化合物(B)の二重結合部位を酸化してエポキシ化合物(A)の製造する際に、
(i)タングステン化合物(C)、りん酸アンモニウムおよび過酸化水素を含む水相中に対して、
(ii)C=C二重結合を分子内に有する有機化合物(B)とオニウム塩(D)からなる有機相を添加し、反応させることを特徴とするエポキシ化合物(A)の製造方法である。
In the production of the epoxy compound (A) by oxidizing the double bond site of the organic compound (B) having a C═C double bond in the molecule of the present invention,
(I) For the aqueous phase containing the tungsten compound (C), ammonium phosphate and hydrogen peroxide,
(Ii) A method for producing an epoxy compound (A), characterized by adding an organic phase comprising an organic compound (B) having a C═C double bond in the molecule and an onium salt (D) and reacting them. .

本発明のエポキシ化合物の製造方法において用いられるC=C二重結合を分子内に1個または2個以上有する有機化合物(B)は、下記一般式(1)で示される有機化合物(B)である。   The organic compound (B) having one or more C═C double bonds in the molecule used in the method for producing an epoxy compound of the present invention is an organic compound (B) represented by the following general formula (1). is there.

[式中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数5〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の芳香族炭化水素基を表し、それらの一部がカルボニル基、エステル基またはカルボキシル基もしくはその塩基で置換されていてもよい。
R4は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数5〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の芳香族炭化水素基、C=C二重結合を1個以上有する置換されていてもよいアルケニル基(但し、基中の複数個のC=C二重結合は互いに非共役関係にあり、かつ該C=C二重結合は式中のC=C二重結合と非共役関係にある。)を表し、それらの一部がエーテル基、カルボニル基、エステル基またはカルボキシル基もしくはその塩基で置換されていてもよい。
また、R1とR3、R2とR4が結合して環を形成していてもよい。]
[Wherein, R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a monovalent alicyclic ring having 5 to 20 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, a part of which may be substituted with a carbonyl group, an ester group, a carboxyl group or a base thereof.
R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms, or an aromatic carbon atom having 4 to 20 carbon atoms. A hydrogen group, an optionally substituted alkenyl group having one or more C═C double bonds (provided that a plurality of C═C double bonds in the group are non-conjugated to each other, and the C═C The double bond is in a non-conjugated relationship with the C═C double bond in the formula), and a part of them may be substituted with an ether group, a carbonyl group, an ester group, a carboxyl group or a base thereof. .
Further, R 1 and R 3, R 2 and R 4 may bond together to form a ring. ]

R1、R2およびR3としては、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数5〜20の1価の脂環族炭化水素、炭素数4〜20の芳香族炭化水素を表し、それらの一部がカルボニル基、エステル基、またはカルボキシル基もしくはその塩基で置換されているものを表す。 R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a monovalent alicyclic carbonization having 5 to 20 carbon atoms. Represents hydrogen, an aromatic hydrocarbon having 4 to 20 carbon atoms, and a part of them is substituted with a carbonyl group, an ester group, a carboxyl group or a base thereof.

炭素数1〜20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基等を表す。   Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, and 2-ethylhexyl group. , Nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group, eicosyl group and the like.

炭素数1〜20のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチキシ基、ヘキシロキシ基、ヘプチロキシ基、オクチロキシ基、2-エチルヘキシロキシ基、ノニロキシ基、デシロキシ基、ウンデシロキシ基、ドデシロキシ基、トリデシロキシ基、テトラデシロキシ基、ペンタデシロキシ基、ヘキサデシロキシ基、ヘプタデシロキシ基、オクタデシロキシ基、ノナデシロキシ基、エイコシロキシ基等を表す。   Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, t-butoxy group, pentoxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, 2-ethyl Hexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, undecyloxy group, dodecyloxy group, tridecyloxy group, tetradecyloxy group, pentadecyloxy group, hexadecyloxy group, heptadecyloxy group, octadecyloxy group, nonadecyloxy group, eicosiloxy group, etc. To express.

炭素数5〜20の1価の脂環族炭化水素としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロトリデシル基、シクロテトラデシル基、シクロペンタデシル基、シクロヘキサデシル基、シクロヘプタデシル基、シクロオクタデシル基、シクロノナデシル基、シクロエイコシル基、ノルボルニル基等を表す。   Examples of the monovalent alicyclic hydrocarbon having 5 to 20 carbon atoms include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, a cyclodecyl group, a cycloundecyl group, a cyclododecyl group, and a cyclotridecyl group. , Cyclotetradecyl group, cyclopentadecyl group, cyclohexadecyl group, cycloheptadecyl group, cyclooctadecyl group, cyclononadecyl group, cycloeicosyl group, norbornyl group and the like.

炭素数4〜20の芳香族炭化水素としては、チエニル基、ピリジル基、フェニル基、ビチエニル基、ビピリジル基、ビフェニル基、フェナントリル基、ナフチル基、アントラニル基等を表す。   Examples of the aromatic hydrocarbon having 4 to 20 carbon atoms include a thienyl group, a pyridyl group, a phenyl group, a bithienyl group, a bipyridyl group, a biphenyl group, a phenanthryl group, a naphthyl group, and an anthranyl group.

R1、R2およびR3は、以上の1価の炭化水素基そのものだけでなく、それらの一部がカルボニル基、エステル基またはカルボキシル基もしくはその塩基で置換されていてもよい。
一部がカルボニル基で置換されているものとしては例えば、アセチル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
エステル基で置換されているものとしては例えば、メチルエステル基、シクロヘキシルエステル基、安息香酸エステル基等が挙げられる。
カルボキシル基で置換されているものとしては例えば、メチルカルボキシレート、シクロヘキサン酸、安息香酸の残基等が挙げられる。
また、その塩基で置換されているものとしては、置換メチルカルボキシレートのナトリウム塩、シクロヘキサン酸のナトリウム塩、安息香酸のナトリウム塩等が挙げられる。
これらのうち、好ましい例としては、水素原子、ノルボルニル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、シクロオクチル基が挙げられる。
R 1 , R 2 and R 3 are not limited to the above monovalent hydrocarbon group itself, but a part thereof may be substituted with a carbonyl group, an ester group, a carboxyl group or a base thereof.
Examples of those partially substituted with a carbonyl group include an acetyl group, a cyclohexylcarbonyl group, and a benzoyl group.
Examples of those substituted with an ester group include a methyl ester group, a cyclohexyl ester group, and a benzoic acid ester group.
Examples of those substituted with a carboxyl group include residues of methyl carboxylate, cyclohexane acid, and benzoic acid.
Examples of those substituted with the base include sodium salts of substituted methyl carboxylates, sodium salts of cyclohexane acid, sodium salts of benzoic acid, and the like.
Among these, preferred examples include a hydrogen atom, a norbornyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, an octyl group, and a cyclooctyl group.

R4は、R1、R2およびR3の説明で例示した炭化水素基などの置換基に加えて、C=C二重結合を1個以上有する置換されていてもよいアルケニル基を表し、その一部がエーテル基、カルボニル基、エステル基またはカルボキシル基、もしくはその塩基で置換されているものを表す。すなわち、R4がC=C二重結合を1個以上有する置換されていてもよいアルケニル基の場合は、全体として有機化合物(B)はC=C二重結合を2個以上有する。
但し、このアルケニル基中に存在するC=C二重結合同士は共役していないものであり、上記一般式(1)中のC=C二重結合とアルケニル基に存在するC=C二重結合とも共役していないものを表す。
R 4 represents an optionally substituted alkenyl group having one or more C═C double bonds, in addition to the substituent such as the hydrocarbon group exemplified in the description of R 1 , R 2 and R 3 ; A part of which is substituted with an ether group, a carbonyl group, an ester group or a carboxyl group, or a base thereof. That is, when R 4 is optionally substituted alkenyl group having 1 or more C = C double bonds, an organic compound as a whole (B) has two or more C = C double bonds.
However, the C═C double bonds existing in the alkenyl group are not conjugated to each other, and the C═C double bond existing in the alkenyl group and the C═C double bond in the above general formula (1). It is not conjugated with a bond.

このようなアルケニル基としては、アリル基、メタリル基、プレニル基、7−オクテニル基、ネリル基、ゲラニル基等が挙げられ、他にも下記一般式(3)や一般式(4)のような有機基が挙げられる。   Examples of such an alkenyl group include an allyl group, a methallyl group, a prenyl group, a 7-octenyl group, a neryl group, and a geranyl group. In addition, the following general formula (3) and general formula (4) An organic group is mentioned.

[式(3)、(4)中、X1、X2およびX3はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数5〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の芳香族炭化水素基を表し、それらの一部がカルボニル基、エステル基またはカルボキシル基もしくはその塩基で置換されていてもよい。
Y1、Y2およびY3はそれぞれ独立して、炭素数1〜20の2価のアルキレン基、炭素数1〜20の2価のオキシアルキレン基、炭素数5〜20の2価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の2価の芳香族炭化水素基、またはカルボニル基を表す。
OAは、鎖中に−(O−R−、−[O−R−O−C(=O)]−、または−[O−C(=O)−R−を含む2価の官能基であり、1種以上の組み合わせであってもよい。Rは、炭素数2〜20の2価のアルキレン基、炭素数5〜20の2価の脂環族炭化水素基、または炭素数4〜20の2価の芳香族炭化水素基を表す。
nは0〜100の整数を表す。また、X1とX3、Y2の一部とX2、Yの一部とX2が結合して環を形成していてもよい。]
[In the formulas (3) and (4), X 1 , X 2 and X 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or 5 to 5 carbon atoms. 20 monovalent alicyclic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups having 4 to 20 carbon atoms, part of which may be substituted with a carbonyl group, an ester group, a carboxyl group or a base thereof.
Y 1 , Y 2 and Y 3 are each independently a divalent alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent oxyalkylene group having 1 to 20 carbon atoms, or a divalent alicyclic ring having 5 to 20 carbon atoms. Represents an aromatic hydrocarbon group, a divalent aromatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, or a carbonyl group.
OA is-(O-R 6 ) n -,-[O-R 6 -OC (= O)] n- , or-[O-C (= O) -R 6 ] n- in the chain. It may be a combination of one or more types. R 6 represents a divalent alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, a divalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms, or a divalent aromatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms.
n represents an integer of 0 to 100. Further, X 1 and X 3 , a part of Y 2 and X 2 , a part of Y 3 and X 2 may be bonded to form a ring. ]

X1、X2およびX3は、C=C二重結合を分子内に有する有機化合物(B)の一般式(1)中のR1、R2およびR3の説明で例示した置換基である。 X 1 , X 2 and X 3 are substituents exemplified in the description of R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (1) of the organic compound (B) having a C═C double bond in the molecule. is there.

Y1、Y2およびY3はそれぞれ独立して、炭素数1〜20の2価のアルキレン基、炭素数1〜20の2価のオキシアルキレン基、炭素数5〜20の2価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の2価の芳香族炭化水素基、または結合基としてのカルボニル基を表す。 Y 1 , Y 2 and Y 3 are each independently a divalent alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent oxyalkylene group having 1 to 20 carbon atoms, or a divalent alicyclic ring having 5 to 20 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group, a divalent aromatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, or a carbonyl group as a linking group.

炭素数1〜20のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、2-エチルヘキシレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基、ノナデシレン基、エイコシレン基等が挙げられる。   Examples of the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms include methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group, butylene group, isobutylene group, pentylene group, hexylene group, heptylene group, octylene group, 2-ethylhexylene group, and nonylene. Group, decylene group, undecylene group, dodecylene group, tridecylene group, tetradecylene group, pentadecylene group, hexadecylene group, heptadecylene group, octadecylene group, nonadecylene group, eicosylene group and the like.

炭素数1〜20の2価のオキシアルキレン基としては、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシイソプロピレン基、オキシブチレン基、オキシイソブチレン基、オキシペンチレン基、オキシヘキシレン基、オキシヘプチレン基、オキシオクチレン基、オキシ−2-エチルヘキシレン基、オキシノニレン基、オキシデシレン基、オキシウンデシレン基、オキシドデシレン基、オキシトリデシレン基、オキシテトラデシレン基、オキシペンタデシレン基、オキシヘキサデシレン基、オキシヘプタデシレン基、オキシオクタデシレン基、オキシノナデシレン基、オキシエイコシレン基等が挙げられる。   Examples of the divalent oxyalkylene group having 1 to 20 carbon atoms include oxymethylene group, oxyethylene group, oxypropylene group, oxyisopropylene group, oxybutylene group, oxyisobutylene group, oxypentylene group, oxyhexylene group, Oxyheptylene group, oxyoctylene group, oxy-2-ethylhexylene group, oxynonylene group, oxydecylene group, oxyundecylene group, oxide decylene group, oxytridecylene group, oxytetradecylene group, oxypentadecylene group, oxy Examples include a hexadecylene group, an oxyheptadecylene group, an oxyoctadecylene group, an oxynonadecylene group, and an oxyeicosylene group.

炭素数5〜20の2価の脂環族炭化水素としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロトリデシル基、シクロテトラデシル基、シクロペンタデシル基、シクロヘキサデシル基、シクロヘプタデシル基、シクロオクタデシル基、シクロノナデシル基、シクロエイコシル基、ノルボルニル基等が挙げられる。   The divalent alicyclic hydrocarbon having 5 to 20 carbon atoms includes a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, a cyclodecyl group, a cycloundecyl group, a cyclododecyl group, and a cyclotridecyl group. , Cyclotetradecyl group, cyclopentadecyl group, cyclohexadecyl group, cycloheptadecyl group, cyclooctadecyl group, cyclononadecyl group, cycloeicosyl group, norbornyl group and the like.

炭素数4〜20の2価の芳香族炭化水素としては、チエニル基、ピリジル基、フェニル基、ビチエニル基、ビピリジル基、ビフェニル基、フェナントリル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙げられる。 Examples of the divalent aromatic hydrocarbon having 4 to 20 carbon atoms include thienyl group, pyridyl group, phenyl group, bithienyl group, bipyridyl group, biphenyl group, phenanthryl group, naphthyl group, and anthranyl group.

Y1、Y2およびYの好ましい例としては、メチレン基、エチレン基、ノルボルニル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、フェニル基が挙げられる。特に好ましくはメチレン基である。
なお、X1とX3、式(3)中のY2の一部とX2、または式(4)中のY3の一部とX2が結合して環を形成してもよい。
Preferable examples of Y 1 , Y 2 and Y 3 include a methylene group, an ethylene group, a norbornyl group, a cyclohexyl group, a cyclooctyl group and a phenyl group. Particularly preferred is a methylene group.
X 1 and X 3 , a part of Y 2 in Formula (3) and X 2 , or a part of Y 3 in Formula (4) and X 2 may combine to form a ring.

このような有機基としては、例えば、シクロヘキセニル基、シクロオクテニル基、シクロドデセニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、2−メチルシクロヘキセニル基、2−イソプロピル−5−メチルシクロヘキセニル基等のシクロオレフィン環を形成しているもの;2−メトキシ−4−シクロヘキセニル基等のアルコキシシクロオレフィン環を形成しているもの;2−アセトキシ−3−シクロヘキセニル基等のエステル型シクロオレフィン環を形成しているもの;2−アセチル−3−シクロヘキセニル基等のケトン型シクロオレフィン環を形成しているもの等が挙げられる。   Examples of such an organic group include a cyclohexenyl group, a cyclooctenyl group, a cyclododecenyl group, a cyclohexadienyl group, a cyclooctadienyl group, a 2-methylcyclohexenyl group, and a 2-isopropyl-5-methylcyclohexenyl group. Forming a cycloolefin ring; Forming an alkoxycycloolefin ring such as a 2-methoxy-4-cyclohexenyl group; Forming an ester-type cycloolefin ring such as a 2-acetoxy-3-cyclohexenyl group And those that form a ketone-type cycloolefin ring such as a 2-acetyl-3-cyclohexenyl group.

OAは、鎖中に−(O−R−、−[O−R−O−C(=O)]−、または−[O−C(=O)−R−を含む2価の官能基であり、1種以上の組み合わせであってもよい。Rは、炭素数2〜20の2価のアルキレン基、炭素数5〜20の2価の脂環族炭化水素基、または炭素数4〜20の2価の芳香族炭化水素基を表す。 OA is-(O-R 6 ) n -,-[O-R 6 -OC (= O)] n- , or-[O-C (= O) -R 6 ] n- in the chain. It may be a combination of one or more types. R 6 represents a divalent alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, a divalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms, or a divalent aromatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms.

−(O−R−としては、Rが炭素数2〜20の2価のアルキレン基、炭素数5〜20の2価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の2価の芳香族炭化水素基の−(O−R−が挙げられる。
nは1〜100の整数を表す。
As-(O-R 6 ) n- , R 6 is a divalent alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, a divalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms, or 2 having 4 to 20 carbon atoms. -(O-R < 6 > ) n- of a valent aromatic hydrocarbon group is mentioned.
n represents an integer of 1 to 100.

が炭素数2〜20の2価のアルキレン基であり、nが1の場合の−(O−R−としては、例えば、オキシエチレン基、1−オキシプロピレン基、2−オキシプロピレン基、1−オキシブチレン基、1−オキシデシレン基、3−オキシデシレン基、1−オキシエイコシル等のオキシアルキレンが挙げられる。 R 6 is a divalent alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, n is in the case of 1 - (O-R 6) n - as, for example, oxyethylene group, 1-oxypropylene group, 2-oxy Examples thereof include oxyalkylene such as propylene group, 1-oxybutylene group, 1-oxydecylene group, 3-oxydecylene group, 1-oxyeicosyl.

が炭素数2〜20の2価のアルキレン基であり、nが2〜100の場合の−(O−R−としては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールの重合物、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合物や、nが1の場合に例示したオキシアルキレン単位の繰り返しより得られる重合物等より得られるポリオキシアルキレン等が挙げられる。 When R 6 is a divalent alkylene group having 2 to 20 carbon atoms and n is 2 to 100, examples of — (O—R 6 ) n — include polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol. And polyoxyalkylene obtained from a polymer, a copolymer of ethylene oxide and propylene oxide, a polymer obtained by repeating oxyalkylene units exemplified when n is 1, and the like.

が炭素数5〜20の2価の脂環族炭化水素基であり、nが1の場合の−(O−R−としては、例えば、オキシシクロペンチレン基、オキシシクロヘキシレン基、オキシシクロヘプチレン基、オキシシクロオクチレン基、オキシシクロノニレン基、オキシシクロデシレン基、オキシシクロウンデシレン基、オキシシクロドデシレン基、オキシシクロトリデシレン基、オキシシクロテトラデデシレン基、オキシシクロペンタデシレン基、2−エチル−1オキシシクロヘキシレン基、オキシシクロエイコシレン基、2,4−ブチル−1−オキシシクロヘキシレン基等のオキシシクロアルキレン基が挙げられる。 R 6 is a divalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms, n is in the case of 1 - (O-R 6) n - as, for example, oxy cyclopentylene group, oxy cyclohexylene Group, oxycycloheptylene group, oxycyclooctylene group, oxycyclononylene group, oxycyclodecylene group, oxycycloundecylene group, oxycyclododecylene group, oxycyclotridecylene group, oxycyclotetradecylene Groups, oxycyclopentadecylene groups, 2-ethyl-1oxycyclohexylene groups, oxycycloeicosylene groups, 2,4-butyl-1-oxycyclohexylene groups, and the like.

が炭素数5〜20の2価の脂環族炭化水素基であり、nが2〜100の場合の−(O−R−としては、例えば、前記オキシシクロアルキレンの繰り返し重合物;シクロヘキサンジオールへのエチレンオキサイド付加重合物、スチレンオキサイド重合物の水添物などの重合物;および下記一般式(5)で表されるオキシシクロアルキレン構造を表す In the case where R 6 is a divalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms and n is 2 to 100,-(O-R 6 ) n- is, for example, repeated polymerization of the oxycycloalkylene A polymer such as an ethylene oxide addition polymer to cyclohexanediol, a hydrogenated product of a styrene oxide polymer; and an oxycycloalkylene structure represented by the following general formula (5)

[式中、Xは、2価のメチレン基、1−メチルエタン−1,1−ジイル基[―C(CH―]、プロピレン基、スルホン基を表す。] [Wherein, X represents a divalent methylene group, 1-methylethane-1,1-diyl group [—C (CH 3 ) 2 —], propylene group, sulfone group. ]

が炭素数4〜20の2価の芳香族炭化水素基でありnが1である−(O−R−としては、例えば、Rがチエニレン基、ピリジレン基、フェニレン基、ビチエニレン基、ビピリジレン基、ビフェニレン基、フェナントリレン基、ナフチレン基、アントラニレン基由来の2価の芳香族炭化水素であるオキシアリーレン基が挙げられる。 As R 6 is a divalent aromatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms and n is 1, as — (O—R 6 ) n —, for example, R 6 is a thienylene group, a pyridylene group, a phenylene group, Examples thereof include a bithienylene group, a bipyridylene group, a biphenylene group, a phenanthrylene group, a naphthylene group, and an oxyarylene group that is a divalent aromatic hydrocarbon derived from an anthranylene group.

が炭素数5〜20の2価の脂環族炭化水素基であり、nが2〜100の場合の−(O−R−としては前記オキシアリーレン基の繰り返し重合物、スチレンオキサイドの重合物、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加重合物等の重合物;および下記一般式(6)で表される−(O−R−を表す。 In the case where R 6 is a divalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms and n is 2 to 100,-(O-R 6 ) n- is a repeating polymer of the oxyarylene group, styrene Represents a polymer of oxide, a polymer such as ethylene oxide addition polymer of bisphenol A; and — (O—R 6 ) n — represented by the following general formula (6).

[式中、Xは、2価のメチレン基、1−メチルエタン−1,1−ジイル基、プロピレン基、スルホン基を表す。]   [Wherein, X represents a divalent methylene group, 1-methylethane-1,1-diyl group, propylene group or sulfone group. ]

−(O−R−の好ましい例としては、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、上記一般式(5)または(6)のXが1−メチルエタン−1,1−ジイル基であるものが挙げられる。 Preferred examples of — (O—R 6 ) n — include an oxyethylene group, an oxypropylene group, and those in which X in the above general formula (5) or (6) is a 1-methylethane-1,1-diyl group. Can be mentioned.

−[O−R−O−C(=O)]−で表される2価の官能基としては、下記一般式(7)で表される化学構造を有する(ポリ)カーボネートジオール残基が挙げられる。 - [O-R 6 -O- C (= O)] n - in the divalent functional group represented, having a chemical structure represented by the following general formula (7) (poly) carbonate diol residues Is mentioned.

式中、ZおよびZはそれぞれ独立して、2価の炭化水素基を表し、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、2-エチルヘキシレン基等のアルキル基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン基等のシクロアルキレン基、チエニレン基、ピリジレン基、フェニレン基、4,4’−(プロパン−2,2−ジイル)ジフェニレン基等の芳香族炭化水素基等を表す。 In the formula, Z 1 and Z 2 each independently represent a divalent hydrocarbon group, for example, methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group, butylene group, isobutylene group, pentylene group, hexylene group, Alkyl group such as heptylene group, octylene group, 2-ethylhexylene group, cycloalkylene group such as cyclopentylene group, cyclohexylene group, cycloheptylene group, cyclooctylene group, thienylene group, pyridylene group, phenylene group, 4, Represents an aromatic hydrocarbon group such as a 4 ′-(propane-2,2-diyl) diphenylene group;

−[O−C(=O)−R−で表される2価の官能基としては、下記一般式(8)で表される化学構造を有する(ポリ)エステルジオール残基が挙げられる。 Examples of the divalent functional group represented by — [O—C (═O) —R 6 ] n — include a (poly) ester diol residue having a chemical structure represented by the following general formula (8). It is done.

式中、Z1およびZ2はそれぞれ独立して、2価の炭化水素基を表し、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、2-エチルヘキシレン基等のアルキレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン基等のシクロアルキレン基、チエニレン基、ピリジレン基、フェニレン基、4,4’−(プロパン−2,2−ジイル)ジフェニレン基等の芳香族基を表す。 Wherein, Z 1 and Z 2 each independently represents a divalent hydrocarbon group such as methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group, butylene group, isobutylene group, pentylene group, hexylene group, Alkylene groups such as heptylene group, octylene group, 2-ethylhexylene group, cycloalkylene groups such as cyclopentylene group, cyclohexylene group, cycloheptylene group, cyclooctylene group, thienylene group, pyridylene group, phenylene group, 4, An aromatic group such as 4 ′-(propane-2,2-diyl) diphenylene group is represented.

OAの好ましい例としては、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、1,4−オキシブチレン基、前述の一般式(5)のXが1−メチルエタン−1,1−ジイル基またはプロピレン基、前述の一般式(6)のXが1−メチルエタン−1,1−ジイル基またはプロピレン基であるもの、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、アジピン酸とエチレングリコールから得られるポリエステルジオール残基、ジメチルカーボネートの1,5−ペンタンジオールをエステル交換により得られるポリカーボネートジオール残基が挙げられる。特に好ましくはオキシエチレン基、オキシプロピル基、オキシブチレン基、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレンである。   Preferable examples of OA include oxyethylene group, oxypropylene group, 1,4-oxybutylene group, X in the above general formula (5) is 1-methylethane-1,1-diyl group or propylene group, X in formula (6) is a 1-methylethane-1,1-diyl group or propylene group, polyoxyethylene, polyoxypropylene, a polyester diol residue obtained from adipic acid and ethylene glycol, dimethyl carbonate 1, Examples include polycarbonate diol residues obtained by transesterification of 5-pentanediol. Particularly preferred are oxyethylene group, oxypropyl group, oxybutylene group, polyoxyethylene and polyoxypropylene.

また、C=C二重結合を分子内に有する有機化合物(B)を表す化学式(1)中のRとしてのアルケニル基に関して、前述の一般式(3)や一般式(4)で表すことのできる有機基が挙げられることは既に例示したが、このようなアルケニル基を含む化合物としては、
例えば、ビスフェノールAのジアリルエーテル化物、水素化ビスフェノールAのジアリルエーテル化物、ビスフェノールFのジアリルエーテル化物、水素化ビスフェノールFのジアリルエーテル化物、ビスフェノールSのジアリルエーテル化物及び水素化ビスフェノールSのジアリルエーテル化物等;
(1)ポリエチレングリコールのジアリルエーテル化物、ポリプロピレングリコールのジアリルエーテル化物、及びポリテトラメチレングリコールのジアリルエーテル化物等;
アジピン酸とエチレングリコールから得られるポリエステルジオールのジアリルエーテル化物及びテレフタル酸と1,4−ブタンジオールから得られるポリエステルジオールのジアリルエーテル化物等;
(2)ジメチルカーボネートの1,5−ペンタンジオールをエステル交換により得られるポリカーボネートジオールのジアリルエーテル化物、トリシクロデカンジメタノールとプロピレンカーボネートより得られるポリカーボネートジオールのジアリルエーテル化物及びポリカプロラクトンジオールと炭酸ジメチルのエステル交換により得られるポリカーボネートジオールのジアリルエーテル化物等;
(3)エチレングリコール−ビス(2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5(6)−イル)エーテル及びプロピレングリコール−ビス(2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5(6)−イル)エーテル等が挙げられる。
In addition, the alkenyl group as R 4 in the chemical formula (1) representing the organic compound (B) having a C═C double bond in the molecule is represented by the above general formula (3) or general formula (4). As an example of the compound containing such an alkenyl group, an organic group capable of
For example, bisphenol A diallyl etherate, hydrogenated bisphenol A diallyl etherate, bisphenol F diallyl etherate, hydrogenated bisphenol F diallyl etherate, bisphenol S diallyl etherate, hydrogenated bisphenol S diallyl etherate, etc. ;
(1) diallyl etherified product of polyethylene glycol, diallyl etherified product of polypropylene glycol, diallyl etherified product of polytetramethylene glycol, etc .;
Diallyl etherified product of polyester diol obtained from adipic acid and ethylene glycol, and diallyl etherified product of polyester diol obtained from terephthalic acid and 1,4-butanediol;
(2) Diallyl etherified product of polycarbonate diol obtained by transesterification of 1,5-pentanediol of dimethyl carbonate, diallyl etherified product of polycarbonate diol obtained from tricyclodecane dimethanol and propylene carbonate, and polycaprolactone diol and dimethyl carbonate Diallyl etherified product of polycarbonate diol obtained by transesterification;
(3) Ethylene glycol-bis (2-vinylbicyclo [2.2.1] hept-5 (6) -yl) ether and propylene glycol-bis (2-vinylbicyclo [2.2.1] hept-5 ( 6) -yl) ether and the like.

これらのR4のうち、好ましい例としては、水素原子、ノルボルニル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、シクロオクチル基、アリル基、前述の一般式(5)で表される基、一般式(6)で表される基が挙げられる。 Among these R 4 , preferred examples include a hydrogen atom, a norbornyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, an octyl group, a cyclooctyl group, an allyl group, a group represented by the above general formula (5), a general formula ( And the group represented by 6).

また、式(1)中のR1とR3、R2とR4が結合して環を形成していてもよい。
このような環状不飽和化合物としては、例えば、シクロヘキセン、シクロオクテン、シクロドデセン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、1−メチルシクロヘキセン、4−イソプロピル−1−メチルシクロヘキセン、1,5−ジメチルシクロオクテン、1,2,3,3−テトラメチルシクロヘキセン等のシクロオレフィン類;1−メトキシ−3−シクロヘキセン等のアルコキシシクロオレフィン;1−アセトキシ−2−シクロヘキセン等のエステル型シクロオレフィン;1−アセチル−2−シクロヘキセン等のケトン型シクロオレフィン等が挙げられる。
Further, R 1 and R 3 , R 2 and R 4 in formula (1) may be bonded to form a ring.
Examples of such cyclic unsaturated compounds include cyclohexene, cyclooctene, cyclododecene, cyclohexadiene, cyclooctadiene, 1-methylcyclohexene, 4-isopropyl-1-methylcyclohexene, 1,5-dimethylcyclooctene, 1, Cycloolefins such as 2,3,3-tetramethylcyclohexene; alkoxycycloolefins such as 1-methoxy-3-cyclohexene; ester-type cycloolefins such as 1-acetoxy-2-cyclohexene; 1-acetyl-2-cyclohexene And ketone type cycloolefin.

一般式(1)で示されるC=C二重結合を分子内に1個または2個以上有する有機化合物(B)としては、直鎖状モノオレフィン、分岐状モノオレフィン、エーテル型オレフィン、エステル型オレフィン、直鎖状非共役ジエン、芳香族系オレフィン、ケトン系オレフィン、シクロオレフィンのジアリルエーテル化合物、ポリオキシアルキレングリコールのアリル化物、ポリエステルジオールのアリル化物、ポリカーボネートジオールのアリル化物、シクロオレフィンのジビニル化合物、ジエン系のシクロオレフィン、アルコキシシクロアルケン、エステル型シクロアルケンおよびケトン型シクロアルケン等が挙げられる。   Examples of the organic compound (B) having one or more C═C double bonds in the molecule represented by the general formula (1) include linear monoolefin, branched monoolefin, ether type olefin, ester type Olefins, linear non-conjugated dienes, aromatic olefins, ketone olefins, cycloolefin diallyl ether compounds, polyoxyalkylene glycol allylates, polyester diol allylates, polycarbonate diol allylates, cycloolefin divinyl compounds , Diene-based cycloolefin, alkoxycycloalkene, ester-type cycloalkene, and ketone-type cycloalkene.

直鎖状モノオレフィンとしては、例えば1−へキセン、2−へキセン、3−へキセン、1−ヘプテン、2−ヘプテン、3−ヘプテン、1−オクテン、2−オクテン、3−オクテンおよび4−オクテンなどが挙げられる。   Examples of the linear monoolefin include 1-hexene, 2-hexene, 3-hexene, 1-heptene, 2-heptene, 3-heptene, 1-octene, 2-octene, 3-octene and 4-octene. Examples include octene.

分岐状モノオレフィンとしては、3,3−ジメチル−1−ブテン、4−メチル−2−ペンテン、2−メチル−2−ペンテン、3−メチル−2−ペンテン、2,3−ジメチル−2−ブテン、2,4,4−トリメチル−2−ペンテンおよび2−メチル−2−ヘプテン、2,3,4−トリメチル−2−ペンテンなどが挙げられる。   Examples of branched monoolefins include 3,3-dimethyl-1-butene, 4-methyl-2-pentene, 2-methyl-2-pentene, 3-methyl-2-pentene, and 2,3-dimethyl-2-butene. 2,4,4-trimethyl-2-pentene and 2-methyl-2-heptene, 2,3,4-trimethyl-2-pentene, and the like.

エーテル型オレフィンとしては、ゲラニオール、ネロール、リナロール、シトロネロール、ラバンジュロール、フィトール、イソフィトールなどのアルコール型オレフィン;
ジプレニルエーテル、ジイソプレニルエーテルおよびメチルゲラニルエーテルなどが挙げられる。
As ether type olefins, alcohol type olefins such as geraniol, nerol, linalool, citronellol, lavandulol, phytol, and isophytol;
Examples include diprenyl ether, diisoprenyl ether and methylgeranyl ether.

エステル型オレフィンとしては、ゲラニルアセテート、ネリルアセテート、シトロネリルアセテート、ラバンジュリルアセテート、イソフィトールアセテート、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、酢酸ゲラニル、酢酸ネリル、酢酸シトロネリル、酢酸ファルネシル、酢酸イソフィチルおよび桂皮酸メチルなどが挙げられる。   Ester olefins include geranyl acetate, neryl acetate, citronellyl acetate, lavandulyl acetate, isophytol acetate, methyl acrylate, methyl methacrylate, geranyl acetate, neryl acetate, citronellyl acetate, farnesyl acetate, isophytyl acetate and cinnamic acid And methyl.

直鎖状非共役ジエンとしては、1,5−ヘキサジエン、1,7−オクタジエンおよび1,9−デカジエンンなどが挙げられる。   Examples of the linear non-conjugated diene include 1,5-hexadiene, 1,7-octadiene and 1,9-decadiene.

芳香族系オレフィンとしては、スチレンおよび1−フェニル−1−プロペンなどが挙げられる。   Examples of aromatic olefins include styrene and 1-phenyl-1-propene.

ケトン系オレフィンとしては、メチルビニルケトン、エチルプロペニルケトンおよびメチルアリルケトンなどが挙げられる。   Examples of the ketone-based olefin include methyl vinyl ketone, ethyl propenyl ketone, and methyl allyl ketone.

シクロオレフィンのジアリルエーテル化物としては、シクロヘキサンジアリルエーテル、ビスフェノールAのジアリルエーテル化物、水素化ビスフェノールAのジアリルエーテル化物、ビスフェノールFのジアリルエーテル化物、水素化ビスフェノールFのジアリルエーテル化物、ビスフェノールSのジアリルエーテル化物および水素化ビスフェノールSのジアリルエーテル化物   Examples of cycloolefin diallyl ethers include cyclohexane diallyl ether, bisphenol A diallyl etherate, hydrogenated bisphenol A diallyl etherate, bisphenol F diallyl etherate, hydrogenated bisphenol F diallyl etherate, bisphenol S diallyl ether And diallyl etherified products of hydrogenated bisphenol S

ポリオキシアルキレングリコールのアリル化合物としては、ポリエチレングリコールのジアリルエーテル化物、ポリプロピレングリコールのジアリルエーテル化物および及びポリテトラメチレングリコールのジアリルエーテル化物が挙げられる。   Examples of the allyl compound of polyoxyalkylene glycol include diallyl etherified product of polyethylene glycol, diallyl etherified product of polypropylene glycol, and diallyl etherified product of polytetramethylene glycol.

ポリエステルジオールのアリル化物としては、アジピン酸とエチレングリコールから得られるポリエステルジオールのジアリルエーテル化物およびテレフタル酸と1,4−ブタンジオールから得られるポリエステルジオールのジアリルエーテル化物などが挙げられる。   Examples of the allylated product of polyester diol include diallyl etherified product of polyester diol obtained from adipic acid and ethylene glycol, and diallyl etherified product of polyester diol obtained from terephthalic acid and 1,4-butanediol.

ポリカーボネートジオールのアリル化物としては、ジメチルカーボネートの1,5−ペンタンジオールをエステル交換により得られるポリカーボネートジオールのジアリルエーテル化物、トリシクロデカンジメタノールとプロピレンカーボネートより得られるポリカーボネートジオールのジアリルエーテル化物およびポリカプロラクトンジオールと炭酸ジメチルのエステル交換により得られるポリカーボネートジオールのジアリルエーテル化物などが挙げられる。   Polyallyldiol allylic compounds include diol carbonate diallyl etherate obtained by transesterification of 1,5-pentanediol of dimethyl carbonate, diallyl etherate of polycarbonate diol obtained from tricyclodecane dimethanol and propylene carbonate, and polycaprolactone. Examples thereof include diallyl etherified products of polycarbonate diol obtained by transesterification of diol and dimethyl carbonate.

シクロオレフィンのジビニル化合物としては、エチレングリコール−ビス(2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5(6)−イル)エーテルおよびプロピレングリコール−ビス(2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5(6)−イル)エーテルなどが挙げられる。   Divinyl compounds of cycloolefin include ethylene glycol-bis (2-vinylbicyclo [2.2.1] hept-5 (6) -yl) ether and propylene glycol-bis (2-vinylbicyclo [2.2.1]. And hept-5 (6) -yl) ether.

ジエン系のシクロオレフィンとしては、シクロヘキセン、シクロオクテン、シクロドデセン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、1−メチルシクロヘキセン、4−イソプロピル−1−メチルシクロヘキセン、1,5−ジメチルシクロオクテンおよび1,2,3,3−テトラメチルシクロヘキセンなどが挙げられる。   Examples of the diene-based cycloolefin include cyclohexene, cyclooctene, cyclododecene, cyclohexadiene, cyclooctadiene, 1-methylcyclohexene, 4-isopropyl-1-methylcyclohexene, 1,5-dimethylcyclooctene and 1,2,3,3. Examples include 3-tetramethylcyclohexene.

アルコキシシクロアルケンとしては、1−メトキシ−3−シクロヘキセンおよび3−メトキシ−5−メチル−3−シクロヘキセンなどが挙げられる。   Examples of the alkoxycycloalkene include 1-methoxy-3-cyclohexene and 3-methoxy-5-methyl-3-cyclohexene.

エステル型シクロアルケンとしては、1−アセトキシ−2−シクロヘキセンおよび1−プロポキシ−3−シクロヘキセンなどが挙げられる。   Examples of the ester type cycloalkene include 1-acetoxy-2-cyclohexene and 1-propoxy-3-cyclohexene.

ケトン型シクロアルケンとしては、1−アセチル−2−シクロヘキセンおよび1−ブチリル−5−ノルボルネンなどが挙げられる。   Examples of the ketone type cycloalkene include 1-acetyl-2-cyclohexene and 1-butyryl-5-norbornene.

以上のC=C二重結合を分子内に1個以上有する有機化合物(B)の好ましい例としては、1−オクテン、2−オクテン、シクロオクテン、シクロオクタジエン、ビスフェノールAのジアリルエーテル化物、水素化ビスフェノールAのジアリルエーテル化物、ポリエチレングリコールのジアリルエーテル化物及びエチレングリコール−ビス(2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5(6)−イル)エーテル及びプロピレングリコール−ビス(2−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5(6)−イル)エーテルである。   Preferable examples of the organic compound (B) having one or more C═C double bonds in the molecule include 1-octene, 2-octene, cyclooctene, cyclooctadiene, diallyl etherate of bisphenol A, hydrogen Diallyl etherate of bisphenol A, diallyl etherate of polyethylene glycol and ethylene glycol-bis (2-vinylbicyclo [2.2.1] hept-5 (6) -yl) ether and propylene glycol-bis (2-vinyl) Bicyclo [2.2.1] hept-5 (6) -yl) ether.

本発明でのエポキシ化合物の製造方法で製造されるエポキシ化合物(A)は、下記一般式(2)で示される分子内に1個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(A)である。   The epoxy compound (A) produced by the method for producing an epoxy compound in the present invention is an epoxy compound (A) having one or more epoxy groups in the molecule represented by the following general formula (2).

[式中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数5〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の芳香族炭化水素基を表し、それらの一部がカルボニル基、エステル基またはカルボキシル基もしくはその塩基で置換されていてもよい。
R5は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数5〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の芳香族炭化水素基、R4のC=C二重結合が反応してエポキシ基に置換された有機基を表し、それらの一部がカルボニル基、エステル基またはカルボキシル基もしくはその塩基で置換されていてもよい。
また、R1とR3、R2とR5が結合して環を形成していてもよい。]
[Wherein, R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a monovalent alicyclic ring having 5 to 20 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, a part of which may be substituted with a carbonyl group, an ester group, a carboxyl group or a base thereof.
R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms, or an aromatic carbon atom having 4 to 20 carbon atoms. hydrogen group, an organic group of C = C double bond R 4 is substituted with an epoxy group reacts, some of them are carbonyl group, it may be substituted by an ester group or a carboxyl group or its bases .
R 1 and R 3 , R 2 and R 5 may be bonded to form a ring. ]

R1、R2およびR3は、原料となるC=C二重結合を分子内に有する有機化合物(B)の一般式(1)の説明で例示したものと同じ置換基である。 R 1 , R 2 and R 3 are the same substituents as those exemplified in the description of the general formula (1) of the organic compound (B) having a C═C double bond as a raw material in the molecule.

R5は、R1、R2およびR3の説明で例示した炭化水素基などの置換基に加えて、一般式(1)中のR4の説明で例示したアルケニル基中のC=C二重結合がエポキシ化されてエポキシ基に置換された有機基を表す。
R5において、R4の説明に用いた一般式(3)および一般式(4)についても置換基や繰り返し単位であるX1、X2、X3、Y1、Y2、Y3、AOおよびnは同じであり、一般式(3)および一般式(4)中に存在するC=C二重結合がエポキシ化されてエポキシ基に置換された有機基を表す。
R 5 represents C═C 2 in the alkenyl group exemplified in the description of R 4 in the general formula (1) in addition to the substituent such as the hydrocarbon group exemplified in the description of R 1 , R 2 and R 3. An organic group in which a heavy bond is epoxidized and substituted with an epoxy group.
In R 5 , X 1 , X 2 , X 3 , Y 1 , Y 2 , Y 3 , AO which are the substituents and repeating units in the general formula (3) and the general formula (4) used in the description of R 4 And n are the same and represent an organic group in which the C═C double bond present in the general formula (3) and the general formula (4) is epoxidized and substituted with an epoxy group.

このようなアルケニル基のC=C二重結合がエポキシ化されてエポキシ基に置換された有機基を含む目的のエポキシ化合物としては、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、ビスフェノールFのジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールFのジグリシジルエーテル、ビスフェノールSのジグリシジルエーテル及び水素化ビスフェノールSのジグリシジルエーテル等のジアリルエーテルから製造されるエポキシ樹脂;
ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、及びポリテトラメチレングリコールのジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールジアリルエーテルから製造されるエポキシ樹脂;
アジピン酸とエチレングリコールから得られるポリエステルジオールのジグリシジルエーテル及びテレフタル酸と1,4−ブタンジオールから得られるポリエステルジオールのジグリシジルエーテル等のポリエステルジアリルエーテルから製造されるエポキシ樹脂;
ジメチルカーボネートの1,5−ペンタンジオールをエステル交換により得られるポリカーボネートジオールのジグリシジルエーテル、トリシクロデカンジメタノールとプロピレンカーボネートより得られるポリカーボネートジオールのジグリシジルエーテル及びポリカプロラクトンジオールと炭酸ジメチルのエステル交換により得られるポリカーボネートジオールのジグリシジルエーテル等のポリカーボネートジアリルエーテルから製造されるエポキシ樹脂;
エチレングリコール−ビス(2−エポキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−5(6)−イル)エーテル及びプロピレングリコール−ビス(2−エポキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−5(6)−イル)エーテルなどが挙げられる。
Examples of the target epoxy compound containing an organic group in which the C═C double bond of the alkenyl group is epoxidized and substituted with the epoxy group include diglycidyl ether of bisphenol A, diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol A, Epoxy resins produced from diallyl ethers such as diglycidyl ether of bisphenol F, diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol F, diglycidyl ether of bisphenol S and diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol S;
Epoxy resins made from polyalkylene glycol diallyl ethers such as diglycidyl ether of polyethylene glycol, diglycidyl ether of polypropylene glycol, and diglycidyl ether of polytetramethylene glycol;
Epoxy resins produced from polyester diallyl ethers such as diglycidyl ether of polyester diol obtained from adipic acid and ethylene glycol and diglycidyl ether of polyester diol obtained from terephthalic acid and 1,4-butanediol;
Diglycidyl ether of polycarbonate diol obtained by transesterification of 1,5-pentanediol of dimethyl carbonate, diglycidyl ether of polycarbonate diol obtained from tricyclodecane dimethanol and propylene carbonate, and transesterification of polycaprolactone diol with dimethyl carbonate An epoxy resin produced from polycarbonate diallyl ether such as diglycidyl ether of polycarbonate diol obtained;
Ethylene glycol-bis (2-epoxybicyclo [2.2.1] hept-5 (6) -yl) ether and propylene glycol-bis (2-epoxybicyclo [2.2.1] hept-5 (6)- Yl) ether.

一般式(2)中のR5の好ましい例としては、水素原子、ノルボルニル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、シクロオクチル基、2−エポキシプロピル基、前述の一般式(7)で表されたカーボネート基、一般式(8)で表されたエステル基カーボネート基が挙げられる。 Preferred examples of R 5 in the general formula (2) include a hydrogen atom, a norbornyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, an octyl group, a cyclooctyl group, a 2-epoxypropyl group, and the above-described general formula (7). Carbonate groups, and ester group carbonate groups represented by the general formula (8).

また、R1とR3、R2とR5が結合して環を形成していてもよい。
このような環状エポキシ化合物としては、例えば、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロオクタン、エポキシシクロドデカン、ジエポキシシクロヘキサン、ジエポキシシクロオクタン、1−メチルエポキシシクロヘキサン、4−イソプロピル−1−メチルエポキシシクロヘキサン、1,5−ジメチルエポキシシクロオクタン、1,2,3,3−テトラメチルエポキシシクロヘキサン等のシクロオレフィン類から製造されるエポキシ化合物;1−メトキシ−3−エポキシシクロヘキサン等のアルコキシシクロオレフィンから製造されるエポキシ化合物;1−アセトキシ−2−シクロヘキセン等のエステル型シクロオレフィンから製造されるエポキシ化合物;1−アセチル−2−シクロヘキセン等のケトン型シクロオレフィンから製造されるエポキシ化合物等が挙げられる。
R 1 and R 3 , R 2 and R 5 may be bonded to form a ring.
Examples of such cyclic epoxy compounds include epoxycyclohexane, epoxycyclooctane, epoxycyclododecane, diepoxycyclohexane, diepoxycyclooctane, 1-methylepoxycyclohexane, 4-isopropyl-1-methylepoxycyclohexane, 1,5 An epoxy compound produced from a cycloolefin such as dimethyl epoxycyclooctane or 1,2,3,3-tetramethylepoxycyclohexane; an epoxy compound produced from an alkoxycycloolefin such as 1-methoxy-3-epoxycyclohexane; Epoxy compound produced from ester type cycloolefin such as 1-acetoxy-2-cyclohexene; produced from ketone type cycloolefin such as 1-acetyl-2-cyclohexene Epoxy compounds and the like.

一般式(2)で示されるエポキシ化合物(A)としては、例えば
(1)1−エポキシへキサン、2−エポキシへキサン、3−エポキシへキサン、1−エポキシヘプタン、2−エポキシヘプタン、3−エポキシヘプタン、1−エポキシオクタン、2−エポキシオクタン、3−エポキシオクタン、4−エポキシオクタンなどの直鎖状オレフィンから製造されるエポキシ化合物;
(2)3,3−ジメチル−1−エポキシブタン、2−エポキシ−4−メチルペンタン、2−エポキシ−2−メチルペンタン、2−エポキシ−3−メチルペンタン、2,3−ジメチル−2−エポキシブタン、2−エポキシ−2,4,4−トリメチルペンタン、2−エポキシ−2−メチルヘプタン、2−エポキシ−2,3,4−トリメチルペンタンなどの分岐状オレフィンから製造されるエポキシ化合物;
(3)エポキシゲラニオール、エポキシネロール、エポキシリナロール、エポキシシトロネロール、エポキシラバンジュロール、エポキシフィトール、エポキシイソフィトールなどのアルコール型オレフィンから製造されるエポキシ化合物;
(4)ジエポキシプロピルエーテル、ジエポキシイソプロピルエーテル、エポキシメチルゲラニルエーテルなどのエーテル型オレフィンから製造されるエポキシ化合物;エポキシゲラニルアセテート、エポキシネリルアセテート、エポキシシトロネリルアセテート、エポキシラバンジュリルアセテート、エポキシイソフィトールアセテートなどのエステル型オレフィンから製造されるエポキシ化合物;
(5)1,5−ジエポキシヘキサン、1,7−ジエポキシオクタン、1,9−ジエポキシデカンなどの直鎖状非共役ジエンから製造されるジエポキシ化合物;
(6)スチレンオキシド、1−フェニル−1−エポキシプロパン等の芳香族系オレフィンから製造されるエポキシ化合物;
(7)アクリル酸メチルのエポキシ化物、メタクリル酸メチルのエポキシ化物、酢酸ゲラニルのエポキシ化物、酢酸ネリルのエポキシ化物、酢酸シトロネリルのエポキシ化物、酢酸ファルネシルのエポキシ化物、酢酸イソフィチルのエポキシ化物、桂皮酸メチルのエポキシ化物等のエステル型オレフィンから製造されるエポキシ化合物;
(8)メチル−エポキシエチルケトン等のケトン型オレフィンから製造されるエポキシ化合物;
(9)ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、ビスフェノールFのジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールFのジグリシジルエーテル、ビスフェノールSのジグリシジルエーテル及び水素化ビスフェノールSのジグリシジルエーテル等のジアリルエーテルから製造されるエポキシ樹脂;
(10)ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、及びポリテトラメチレングリコールのジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールジアリルエーテルから製造されるエポキシ樹脂;
(11)アジピン酸とエチレングリコールから得られるポリエステルジオールのジグリシジルエーテル及びテレフタル酸と1,4−ブタンジオールから得られるポリエステルジオールのジグリシジルエーテル等のポリエステルジアリルエーテルから製造されるエポキシ樹脂;
(12)ジメチルカーボネートの1,5−ペンタンジオールをエステル交換により得られるポリカーボネートジオールのジグリシジルエーテル、トリシクロデカンジメタノールとプロピレンカーボネートより得られるポリカーボネートジオールのジグリシジルエーテル及びポリカプロラクトンジオールと炭酸ジメチルのエステル交換により得られるポリカーボネートジオールのジグリシジルエーテル等のポリカーボネートジアリルエーテルから製造されるエポキシ樹脂;
(13)エチレングリコール−ビス(2−エポキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−5(6)−イル)エーテル及びプロピレングリコール−ビス(2−エポキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−5(6)−イル)エーテルなどが挙げられる。
Examples of the epoxy compound (A) represented by the general formula (2) include (1) 1-epoxyhexane, 2-epoxyhexane, 3-epoxyhexane, 1-epoxyheptane, 2-epoxyheptane, 3- Epoxy compounds produced from linear olefins such as epoxyheptane, 1-epoxyoctane, 2-epoxyoctane, 3-epoxyoctane, 4-epoxyoctane;
(2) 3,3-dimethyl-1-epoxybutane, 2-epoxy-4-methylpentane, 2-epoxy-2-methylpentane, 2-epoxy-3-methylpentane, 2,3-dimethyl-2-epoxy Epoxy compounds produced from branched olefins such as butane, 2-epoxy-2,4,4-trimethylpentane, 2-epoxy-2-methylheptane, 2-epoxy-2,3,4-trimethylpentane;
(3) Epoxy compounds produced from alcohol-type olefins such as epoxygeraniol, epoxynerol, epoxylinalool, epoxycitronellol, epoxylavandolol, epoxyphytol and epoxyisophytol;
(4) Epoxy compounds produced from ether type olefins such as diepoxypropyl ether, diepoxy isopropyl ether, epoxy methylgeranyl ether; epoxy geranyl acetate, epoxy neryl acetate, epoxy citronellyl acetate, epoxy lavandulyl acetate, epoxy iso Epoxy compounds produced from ester-type olefins such as phytoacetate;
(5) a diepoxy compound produced from a linear non-conjugated diene such as 1,5-diepoxyhexane, 1,7-diepoxyoctane, 1,9-diepoxydecane;
(6) Epoxy compounds produced from aromatic olefins such as styrene oxide and 1-phenyl-1-epoxypropane;
(7) Methyl acrylate epoxide, methyl methacrylate epoxidation, geranyl acetate epoxidation, neryl acetate epoxidation, citronellyl acetate epoxidation, farnesyl acetate epoxidation, isophytyl acetate epoxidation, methyl cinnamate An epoxy compound produced from an ester-type olefin such as an epoxidized product of
(8) Epoxy compounds produced from ketone-type olefins such as methyl-epoxy ethyl ketone;
(9) Diglycidyl ether of bisphenol A, diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol A, diglycidyl ether of bisphenol F, diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol F, diglycidyl ether of bisphenol S and diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol S Epoxy resins produced from diallyl ethers such as
(10) Epoxy resins produced from polyalkylene glycol diallyl ethers such as polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, and polytetramethylene glycol diglycidyl ether;
(11) An epoxy resin produced from polyester diallyl ether such as diglycidyl ether of polyester diol obtained from adipic acid and ethylene glycol and diglycidyl ether of polyester diol obtained from terephthalic acid and 1,4-butanediol;
(12) Diglycidyl ether of polycarbonate diol obtained by transesterification of 1,5-pentanediol of dimethyl carbonate, diglycidyl ether of polycarbonate diol obtained from tricyclodecane dimethanol and propylene carbonate, and polycaprolactone diol and dimethyl carbonate An epoxy resin produced from polycarbonate diallyl ether such as diglycidyl ether of polycarbonate diol obtained by transesterification;
(13) Ethylene glycol-bis (2-epoxybicyclo [2.2.1] hept-5 (6) -yl) ether and propylene glycol-bis (2-epoxybicyclo [2.2.1] hept-5 ( 6) -yl) ether and the like.

以上のエポキシ化合物のうち、好ましい例としては、1−エポキシオクタン、2−エポキシオクタン、エポキシシクロオクタン、ジエポキシシクロオクタン、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、エチレングリコール−ビス(2−エポキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−5(6)−イル)エーテル及びプロピレングリコール−ビス(2−エポキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−5(6)−イル)エーテルである。   Among the above epoxy compounds, preferable examples include 1-epoxyoctane, 2-epoxyoctane, epoxycyclooctane, diepoxycyclooctane, diglycidyl ether of bisphenol A, diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol A, and polyethylene glycol. Diglycidyl ether, ethylene glycol-bis (2-epoxybicyclo [2.2.1] hept-5 (6) -yl) ether and propylene glycol-bis (2-epoxybicyclo [2.2.1] hept-5 (6) -yl) ether.

本発明の製造方法で必須の触媒であるタングステン化合物(C)としては、タングステン酸化合物及び酸化タングステンからなるタングステン化合物(C1)、タングステン酸塩(C2)及び2種以上のポリ原子(W,Mo,V)を有する複合タングステン化合物(C3)等が挙げられる。   The tungsten compound (C), which is an essential catalyst in the production method of the present invention, includes a tungsten compound (C1) composed of a tungstic acid compound and tungsten oxide, a tungstate (C2), and two or more polyatoms (W, Mo). , V), and the like.

タングステン化合物(C1)としては、タングステン酸化合物;タングステン酸(HWO)、リンタングステン酸 (H3[PW1240].xH2O)、ケイタングステン酸(H4[SiW1240].xH2O)、ホウタングステン酸(H5[BW1240].xH2O)、(ただし、xは1以上の整数を示す。)、酸化タングステン(WO)が挙げられる。
これらのうち好ましいのはタングステン酸(HWO)、リンタングステン酸(H3[PW1240].xH2O)である。
Examples of the tungsten compound (C1) include tungstic acid compounds; tungstic acid (H 2 WO 4 ), phosphotungstic acid (H 3 [PW 12 O 40 ] .xH 2 O), silicotungstic acid (H 4 [SiW 12 O 40). ] .XH 2 O), borotungstic acid (H 5 [BW 12 O 40 ] .xH 2 O), where x represents an integer of 1 or more, and tungsten oxide (WO 3 ).
Preferred among these tungstic acid (H 2 WO 4), a phosphotungstic acid (H 3 [PW 12 O 40 ] .xH 2 O).

タングステン酸塩(C2)としては、上記タングステン酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、銅塩、金塩、ガリウム塩及びアンモニウム塩が挙げられる。   Examples of the tungstate (C2) include alkali metal salts, alkaline earth metal salts, copper salts, gold salts, gallium salts and ammonium salts of the above tungstic acid.

アルカリ金属塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウム塩が挙げられる。アルカリ土類金属塩としては、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム及びバリウム塩が挙げられる。その他の塩としては、銅、金、ガリウム及びアンモニウム塩が挙げられる。   Alkali metal salts include lithium, sodium, potassium, rubidium and cesium salts. Alkaline earth metal salts include beryllium, magnesium, calcium, strontium and barium salts. Other salts include copper, gold, gallium and ammonium salts.

タングステン酸塩(C2)の好ましい例としては、上記の好ましいタングステン酸のナトリウム塩、カリウム塩、バリウム塩、セシウム塩、カルシウム塩、アンモニウム等が挙げられる。特に好ましくはケイタングステン酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、リンタングステン酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩である。   Preferable examples of tungstate (C2) include sodium salts, potassium salts, barium salts, cesium salts, calcium salts, ammonium, and the like of the above preferable tungstic acid. Particularly preferred are sodium, potassium and ammonium salts of silicotungstic acid, sodium, potassium and ammonium salts of phosphotungstic acid.

複合タングステン化合物(C3)とはタングステンとさらにもう1種のポリ原子(Mo、V)を有するタングステン化合物であり、これらの例としては、リンバナドタングステン酸、ケイモリブドタングステン酸、リンモリブドタングステン酸等の複合タングステン化合物;及び上記複合タングステン化合物の塩等が挙げられる。   The composite tungsten compound (C3) is a tungsten compound having tungsten and yet another kind of poly atom (Mo, V). Examples thereof include phosphovanadotungstic acid, silico-molybdotungstic acid, and phosphomolybdo-tungsten. And complex tungsten compounds such as acids; and salts of the above complex tungsten compounds.

複合タングステン化合物の塩としては、上記タングステン酸塩で例示したものと同じアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、銅塩、金塩、ガリウム塩、アンモニウム塩等が挙げられる。 Examples of the salt of the composite tungsten compound include the same alkali metal salts, alkaline earth metal salts, copper salts, gold salts, gallium salts, ammonium salts and the like as those exemplified for the tungstate.

複合タングステン化合物(C3)の好ましい例としては、リンモリブドタングステン酸である。   A preferred example of the composite tungsten compound (C3) is phosphomolybdotungstic acid.

これらのタングステン化合物(C)は単独化合物で使用してもよいし、タングステン化合物(C1)同士、タングステン酸塩(C2)同士、複合タングステン化合物(C3)同士、またはタングステン化合物(C1)とタングステン酸塩(C2)を混合して使用してもよいし、タングステン化合物(C1)とタングステン酸塩(C2)及び複合タングステン化合物(C3)を混合してもよい。
好ましくは、タングステン化合物(C1)とタングステン酸塩(C2)を混合して使用することが触媒活性の点から好ましい。
These tungsten compounds (C) may be used as single compounds, or between tungsten compounds (C1), between tungstates (C2), between composite tungsten compounds (C3), or between tungsten compounds (C1) and tungstic acid. A salt (C2) may be mixed and used, or a tungsten compound (C1), a tungstate (C2), and a composite tungsten compound (C3) may be mixed.
Preferably, the tungsten compound (C1) and the tungstate (C2) are mixed and used from the viewpoint of catalytic activity.

タングステン化合物(C)の使用量は、二重結合に対してタングステン原子の当量が0.001〜0.1当量であり、好ましくは0.01〜0.05当量である。   As for the usage-amount of a tungsten compound (C), the equivalent of a tungsten atom is 0.001-0.1 equivalent with respect to a double bond, Preferably it is 0.01-0.05 equivalent.

本発明の製造方法で必須の過酸化水素は、酸化剤として用いる。通常、過酸化水素は水溶液として用い、その濃度は安全性の観点から1〜60重量%で使用する。好ましい濃度範囲としては、5〜40重量%であり、さらに好ましくは10〜30重量%である。   Hydrogen peroxide essential in the production method of the present invention is used as an oxidizing agent. Usually, hydrogen peroxide is used as an aqueous solution, and its concentration is 1 to 60% by weight from the viewpoint of safety. A preferable concentration range is 5 to 40% by weight, and more preferably 10 to 30% by weight.

本発明の製造方法では、リン酸アンモニウムを併用することで、活性の高いタングステン化合物が反応系中に得られ、エポキシ化反応に対して活性を有するタングステン触媒をリン酸アンモニウムの働きにより維持できるため必須成分として用いる。   In the production method of the present invention, by using ammonium phosphate in combination, a highly active tungsten compound can be obtained in the reaction system, and a tungsten catalyst having activity for the epoxidation reaction can be maintained by the action of ammonium phosphate. Used as an essential component.

ここでいうエポキシ化反応に対して活性を有するタングステン触媒の構造を維持するように働くリン酸アンモニウムは他のリン酸類とは異なる。
たとえば、リン酸を用いたとき、反応時間の経過につれてpHが上昇する。これによりタングステン化合物において、エポキシ化に活性を有するタングステン触媒の構造が変化し、エポキシ化に関して活性のない構造になる。しかし、リン酸アンモニウムを用いるとpHの上昇をおさえることができ、反応時間が経過してもエポキシ化に活性を有するタングステン触媒の構造を維持できる。これにより、他のリン化合物にはない特徴を見出すことができる。
The ammonium phosphate that works to maintain the structure of the tungsten catalyst having activity for the epoxidation reaction here is different from other phosphoric acids.
For example, when phosphoric acid is used, the pH increases as the reaction time elapses. As a result, in the tungsten compound, the structure of the tungsten catalyst having activity in epoxidation changes, and the structure becomes inactive with respect to epoxidation. However, when ammonium phosphate is used, the increase in pH can be suppressed, and the structure of a tungsten catalyst having activity in epoxidation can be maintained even if the reaction time elapses. This makes it possible to find characteristics that are not found in other phosphorus compounds.

本発明の製造方法では、タングステン化合物(C)、リン酸アンモニウムおよび過酸化水素を含む水相中にオレフィン(B)とオニウム塩(D)からなる有機相を添加し、エポキシ化させるものである。
タングステン化合物(C)、リン酸アンモニウムおよび過酸化水素水溶液からなる水相の調製において、反応槽に仕込む順序は、どの順序で投入してもよい。ただし、過酸化水素水溶液より先にタングステン化合物を投入しておくことは好ましくない。好ましくは、過酸化水素水溶液、タングステン化合物、リン酸アンモニウムの順で投入するのがよい。
なお、過酸化水素水溶液とタングステン化合物を同時に投入することは好ましくない。
In the production method of the present invention, an organic phase composed of an olefin (B) and an onium salt (D) is added to an aqueous phase containing a tungsten compound (C), ammonium phosphate and hydrogen peroxide, and epoxidized. .
In the preparation of the aqueous phase composed of the tungsten compound (C), the ammonium phosphate, and the hydrogen peroxide aqueous solution, the order in which the reaction vessel is charged may be any order. However, it is not preferable to put the tungsten compound before the aqueous hydrogen peroxide solution. Preferably, hydrogen peroxide solution, tungsten compound, and ammonium phosphate are added in this order.
It is not preferable to add the hydrogen peroxide solution and the tungsten compound simultaneously.

本発明の製造方法では、有機相はC=C二重結合を分子内に有する有機化合物(B)とオニウム塩(D)からなる。
オニウム塩(D)は、反応収率を向上させるために、相間移動触媒として作用する。
本発明のオニウム塩(D)は、第四級アンモニウム塩(D1)およびホスホニウム塩(D2)が挙げられる。
In the production method of the present invention, the organic phase is composed of an organic compound (B) having a C═C double bond in the molecule and an onium salt (D).
The onium salt (D) acts as a phase transfer catalyst in order to improve the reaction yield.
Examples of the onium salt (D) of the present invention include a quaternary ammonium salt (D1) and a phosphonium salt (D2).

第四級アンモニウム塩(D1)としては、
(1)塩化トリオクチルメチルアンモニウム、塩化トリオクチルエチルアンモニウム、塩化ジラウリルジメチルアンモニウム、塩化ラウリルトリメチルアンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化ラウリルジメチルベンジルアンモニウム、塩化ステアリルジメチルアンモニウム、塩化トリカプリルメチルアンモニウム、塩化ジデシルジメチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム等の塩化物;
(2)臭化トリオクチルメチルアンモニウム、臭化トリオクチルエチルアンモニウム、臭化ジラウリルジメチルアンモニウム、臭化ラウリルトリメチルアンモニウム、臭化ステアリルトリメチルアンモニウム、臭化ラウリルジメチルベンジルアンモニウム、臭化ステアリルジメチルアンモニウム、臭化トリカプリルメチルアンモニウム、臭化ジデシルジメチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、臭化ベンジルトリエチルアンモニウム等の臭化物;
(3)ヨウ化トリオクチルメチルアンモニウム、ヨウ化トリオクチルエチルアンモニウム、ヨウ化ジラウリルジメチルアンモニウム、ヨウ化ラウリルトリメチルアンモニウム、ヨウ化ステアリルトリメチルアンモニウム、ヨウ化ラウリルジメチルベンジルアンモニウム、ヨウ化ステアリルジメチルアンモニウム、ヨウ化トリカプリルメチルアンモニウム、ヨウ化ジデシルジメチルアンモニウム、ヨウ化テトラブチルアンモニウム、ヨウ化ベンジルトリメチルアンモニウム、ヨウ化ベンジルトリエチルアンモニウム等のヨウ化物;
(4)リン酸水素化トリオクチルメチルアンモニウム、リン酸水素化トリオクチルエチルアンモニウム、リン酸水素化ジラウリルジメチルアンモニウム、リン酸水素化ラウリルトリメチルアンモニウム、リン酸水素化ステアリルトリメチルアンモニウム、リン酸水素化ラウリルジメチルベンジルアンモニウム、リン酸水素化ステアリルジメチルアンモニウム、リン酸水素化トリカプリルメチルアンモニウム、リン酸水素化ジデシルジメチルアンモニウム、リン酸水素化テトラブチルアンモニウム、リン酸水素化ベンジルトリメチルアンモニウム、リン酸水素化ベンジルトリエチルアンモニウム等のリン酸水素化物;
(1)硫酸水素化トリオクチルメチルアンモニウム、硫酸水素化トリオクチルエチルアンモニウム、硫酸水素化ジラウリルジメチルアンモニウム、硫酸水素化ラウリルトリメチルアンモニウム、硫酸水素化ステアリルトリメチルアンモニウム、硫酸水素化ラウリルジメチルベンジルアンモニウム、硫酸水素化ステアリルジメチルアンモニウム、硫酸水素化トリカプリルメチルアンモニウム、硫酸水素化ジデシルジメチルアンモニウム、硫酸水素化テトラブチルアンモニウム、硫酸水素化ベンジルトリメチルアンモニウム、硫酸水素化ベンジルトリエチルアンモニウム等の硫酸水素化物等が挙げられる。
As the quaternary ammonium salt (D1),
(1) Trioctylmethylammonium chloride, trioctylethylammonium chloride, dilauryldimethylammonium chloride, lauryltrimethylammonium chloride, stearyltrimethylammonium chloride, lauryldimethylbenzylammonium chloride, stearyldimethylammonium chloride, tricaprylmethylammonium chloride, dichloride Chlorides such as decyldimethylammonium chloride, tetrabutylammonium chloride, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltriethylammonium chloride;
(2) Trioctylmethylammonium bromide, trioctylethylammonium bromide, dilauryldimethylammonium bromide, lauryltrimethylammonium bromide, stearyltrimethylammonium bromide, lauryldimethylbenzylammonium bromide, stearyldimethylammonium bromide, odor Bromides such as tricaprylmethylammonium bromide, didecyldimethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltriethylammonium bromide;
(3) Trioctylmethylammonium iodide, trioctylethylammonium iodide, dilauryldimethylammonium iodide, lauryltrimethylammonium iodide, stearyltrimethylammonium iodide, lauryldimethylbenzylammonium iodide, stearyldimethylammonium iodide, iodine Iodides such as tricaprylmethylammonium iodide, didecyldimethylammonium iodide, tetrabutylammonium iodide, benzyltrimethylammonium iodide, benzyltriethylammonium iodide;
(4) Hydrogenated trioctylmethylammonium phosphate, trioctylethylammonium phosphate, dilauryldimethylammonium phosphate, lauryltrimethylammonium phosphate, stearyltrimethylammonium phosphate, hydrogenated hydrogen phosphate Lauryldimethylbenzylammonium phosphate, stearyldimethylammonium phosphate, tricaprylmethylammonium phosphate, didecyldimethylammonium phosphate, tetrabutylammonium phosphate, benzyltrimethylammonium phosphate, hydrogen phosphate Hydrogen phosphates such as benzyltriethylammonium fluoride;
(1) Trioctylmethyl ammonium hydrogen sulfate, trioctyl ethyl ammonium hydrogen sulfate, dilauryl dimethyl ammonium hydrogen sulfate, lauryl trimethyl ammonium hydrogen sulfate, stearyl trimethyl ammonium hydrogen sulfate, lauryl dimethyl benzyl ammonium hydrogen sulfate, sulfuric acid Examples include hydrogen sulfates such as stearyldimethylammonium hydrogenate, tricaprylmethylammonium hydrogensulfate, didecyldimethylammonium hydrogensulfate, tetrabutylammonium hydrogensulfate, benzyltrimethylammonium hydrogensulfate, and benzyltriethylammonium hydrogensulfate. It is done.

ホスホニウム塩(D2)としては、例えば
(1)テトラブチルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド等の臭化物;
(2)テトラブチルホスホニウムクロリド、テトラフェニルホスホニウムクロリド等の塩化物;
テトラブチルホスホニウムアイオダイド、テトラフェニルホスホニウムアイオダイド等のヨウ化物;
(3)テトラブチルホスホニウムハイドロホスフェート、テトラフェニルホスホニウムアハイドロホスフェートのリン酸水素化物;
(4)テトラブチルホスホニウムハイドロサルフェート、テトラフェニルホスホニウムアハイドロサルフェート等の硫酸水素化物が挙げられる。
Examples of the phosphonium salt (D2) include (1) bromides such as tetrabutylphosphonium bromide and tetraphenylphosphonium bromide;
(2) Chlorides such as tetrabutylphosphonium chloride and tetraphenylphosphonium chloride;
Iodides such as tetrabutylphosphonium iodide and tetraphenylphosphonium iodide;
(3) Phosphoric acid hydrides such as tetrabutylphosphonium hydrophosphate and tetraphenylphosphonium ahydrophosphate;
(4) Hydrogen sulfate such as tetrabutylphosphonium hydrosulfate and tetraphenylphosphonium ahydrosulfate.

これらのオニウム塩(D)の好ましい例としては、硫酸水素化トリオクチルメチルアンモニウム、硫酸水素化ジラウリルジメチルアンモニウム、硫酸水素化ラウリルトリメチルアンモニウム、硫酸水素化ステアリルトリメチルアンモニウム、硫酸水素化ラウリルジメチルベンジルアンモニウム、硫酸水素化ステアリルジメチルアンモニウム、硫酸水素化トリカプリルメチルアンモニウム、硫酸水素化ジデシルジメチルアンモニウム、硫酸水素化テトラブチルアンモニウム、硫酸水素化ベンジルトリメチルアンモニウム、硫酸水素化ベンジルトリエチルアンモニウムが挙げられる。特に好ましくは硫酸水素化トリオクチルメチルアンモニウム、硫酸水素化ジラウリルジメチルアンモニウムである。 Preferred examples of these onium salts (D) include trioctylmethylammonium hydrogen sulfate, dilauryldimethylammonium hydrogensulfate, lauryltrimethylammonium hydrogensulfate, stearyltrimethylammonium hydrogensulfate, lauryldimethylbenzylammonium hydrogensulfate. , Stearyldimethylammonium hydrogen sulfate, tricaprylmethylammonium hydrogensulfate, didecyldimethylammonium hydrogensulfate, tetrabutylammonium hydrogensulfate, benzyltrimethylammonium hydrogensulfate, and benzyltriethylammonium hydrogensulfate. Particularly preferred are trioctylmethylammonium hydrogensulfate and dilauryldimethylammonium hydrogensulfate.

本発明の有機相は、C=C二重結合を分子内に有する有機化合物(B)とオニウム塩(D)以外に溶媒を含んでも良い。
溶媒は、有機化合物(B)及び目的生成物の種類等により適当に選択できる。
溶媒として、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素;
ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素;
シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素;
四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1、2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素;
シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン;
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド;
アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル;
ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノブチルエーテルなどの鎖状または環状エーテルなどが挙げられる。これらの溶媒は一種で、又は二種以上混合して用いられる。
The organic phase of the present invention may contain a solvent in addition to the organic compound (B) having an C═C double bond in the molecule and the onium salt (D).
The solvent can be appropriately selected depending on the kind of the organic compound (B) and the target product.
As a solvent, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene;
Aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane;
Cycloaliphatic hydrocarbons such as cyclopentane and cyclohexane;
Halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane;
Ketones such as cyclopentanone and cyclohexanone;
Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide;
Nitriles such as acetonitrile, propionitrile, benzonitrile;
Examples thereof include linear or cyclic ethers such as diethyl ether, dibutyl ether, dimethoxyethane, dioxane, tetrahydrofuran, and ethylene glycol monobutyl ether. These solvents are used alone or in combination of two or more.

本発明の製造方法では、水相に有機相を添加し、C=C二重結合を分子内に有する有機化合物(B)をエポキシ化する。
有機相を水相に加える方法としては、一括投入、滴下、連続投入などが挙げられる。好ましくは、反応温度の観点から、滴下により有機相を投入する方法である。なお、好ましくない添加方法としては、反応温度の観点から、一括投入する方法である。
In the production method of the present invention, an organic phase is added to an aqueous phase, and an organic compound (B) having a C═C double bond in the molecule is epoxidized.
Examples of the method for adding the organic phase to the aqueous phase include batch charging, dropping, and continuous charging. Preferably, from the viewpoint of reaction temperature, the organic phase is added dropwise. In addition, as an unpreferable addition method, it is the method of batch injection from a viewpoint of reaction temperature.

水相を有機相に加える方法は、(1)過酸化水素水溶液、タングステン化合物およびリン酸またはリン酸塩の三種の混合物を投入する、もしくは、(2)タングステン化合物とリン酸またはリン酸塩の水溶液と過酸化水素水溶液を同じ時間をかけて投入する方法が挙げられる。   The method of adding the aqueous phase to the organic phase is as follows: (1) charging a hydrogen peroxide aqueous solution, a tungsten compound and a mixture of three kinds of phosphoric acid or phosphate; or (2) adding a tungsten compound and phosphoric acid or phosphate. There is a method in which an aqueous solution and an aqueous hydrogen peroxide solution are added over the same time.

(1)の場合は、過酸化水素水濃度がタングステン化合物との接触によって水へと分解し、滴下初期と滴下後期で過酸化水素濃度が異なるので、無駄な過酸化水素を消費することとなり好ましくない。
(2)の場合は、有機相中に2つの水溶液を混合せずに滴下するので、過酸化水素の寿命は長いが、肝心のエポキシ化に活性を有するタングステン触媒であるタングステン化合物が生成しにくい。したがって、反応時間が長くなったり、収率が悪くなったりするので好ましくない。
In the case of (1), the hydrogen peroxide concentration is decomposed into water by contact with the tungsten compound, and the concentration of hydrogen peroxide is different between the initial stage of dropping and the latter stage of dropping. Absent.
In the case of (2), since two aqueous solutions are dropped in the organic phase without mixing, the lifetime of hydrogen peroxide is long, but it is difficult to produce a tungsten compound that is a tungsten catalyst having an activity for epoxidation. . Accordingly, the reaction time becomes long and the yield becomes unfavorable.

有機相を水相に滴下して加えるときの時間は、1〜5時間で滴下を行う。好ましくは1.5〜2.5時間である。   The time for adding the organic phase dropwise to the aqueous phase is 1-5 hours. Preferably it is 1.5 to 2.5 hours.

エポキシ化の反応温度は、有機化合物(B)や反応の種類などに応じ、反応速度及び反応選択性を考慮して適宜選択できるが、例えば、0〜100℃、好ましくは50〜80℃程度である。エポキシ化は常圧で行ってもよく、加圧下に行ってもよい。また、バッチ式、セミバッチ式、連続式などの何れの方法で行ってもよい。   The reaction temperature of epoxidation can be appropriately selected in consideration of the reaction rate and reaction selectivity according to the organic compound (B), the type of reaction, and the like. is there. Epoxidation may be performed at normal pressure or under pressure. Moreover, you may carry out by any methods, such as a batch type, a semibatch type, and a continuous type.

得られたエポキシ化合物(A)は、抽出、分液、ろ過、遠心分離、蒸留などの通常の方法によって精製分離される。本発明の酸化反応用触媒は、水に対する溶解性が高く、疎水性の有機溶媒への溶解性が低いため、抽出、分液による方法が好ましい。   The obtained epoxy compound (A) is purified and separated by a usual method such as extraction, liquid separation, filtration, centrifugation, and distillation. Since the oxidation reaction catalyst of the present invention has high solubility in water and low solubility in a hydrophobic organic solvent, a method using extraction and liquid separation is preferable.

有機化合物の酸化によるエポキシ化合物の製造方法において、エポキシ化合物収率が高いことが望まれる。エポキシ化合物収率は、反応基質であるC=C二重結合を分子内に有する有機化合物(B)に対しエポキシ化合物(A)がどれだけ効率よく生成したかを表す。   In the method for producing an epoxy compound by oxidation of an organic compound, it is desired that the epoxy compound yield is high. The epoxy compound yield represents how efficiently the epoxy compound (A) is produced with respect to the organic compound (B) having a C═C double bond in the molecule as a reaction substrate.

エポキシ化合物の反応率と選択性は、有機相中の酸化反応生成物をガスクロマトグラフィ(GC)で定量分析し、モノエポキシ化合物、および出発物質がジエンの場合のジエポキシ化合物以外に、反応系中の水によるエポキシ化合物の開環物(ジオール、テトラオールなど)などの目的物以外のその他の副生物成分の含有比率(%)を求める。
後述の実施例においてはそれらの分析値(%)を表1に示した。
The reaction rate and selectivity of the epoxy compound are determined by quantitatively analyzing the oxidation reaction product in the organic phase by gas chromatography (GC), in addition to the monoepoxy compound and the diepoxy compound in the case where the starting material is diene. The content ratio (%) of other by-product components other than the target product such as a ring-opened product (diol, tetraol, etc.) of the epoxy compound with water is obtained.
In the examples described later, the analysis values (%) are shown in Table 1.

以上詳述した本発明によれば、目的のエポキシ化合物収率が高く、タングステン触媒を高活性に保ったままエポキシ化合物を製造することができる。   According to the present invention described in detail above, the target epoxy compound yield is high, and the epoxy compound can be produced while keeping the tungsten catalyst highly active.

以下、実施例及び比較例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に定めない限り、%は重量%、部は重量部を示す。   Hereinafter, although an example and a comparative example explain the present invention further, the present invention is not limited to these. Hereinafter, unless otherwise specified, “%” represents “% by weight” and “parts” represents “parts by weight”.

[製造例1]<原料の水添ビスフェノールAのジアリルエーテル(B−1)の製造例1>
撹拌装置、温度制御装置及びコンデンサーを設置した反応槽に、メチルエチルケトンを200部、水添ビスフェノールA(新日本理化社製、「リカビノールHB」)を234部(1モル部)仕込み、300rpmで撹拌しながら、50℃に加熱した。そこにアリルクロライドを161部(2.1モル部)滴下した。滴下終了後、50℃で3時間熟成し、水500gを加えた後、室温で静置した。分液後メチルエチルケトンを50℃10Torrで減圧除去し、水添ビスフェノールAのジアリルエーテル(B−1)を得た。
[Production Example 1] <Production Example 1 of Raw Material Hydrogenated Bisphenol A Diallyl Ether (B-1)>
A reaction vessel equipped with a stirrer, a temperature controller and a condenser was charged with 200 parts of methyl ethyl ketone and 234 parts (1 mol part of hydrogenated bisphenol A (“Rikabinol HB” manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.)) and stirred at 300 rpm. The mixture was heated to 50 ° C. 161 parts (2.1 mole parts) of allyl chloride was added dropwise thereto. After completion of dropping, the mixture was aged at 50 ° C. for 3 hours, added with 500 g of water, and allowed to stand at room temperature. After separation, methyl ethyl ketone was removed under reduced pressure at 50 ° C. and 10 Torr to obtain hydrogenated bisphenol A diallyl ether (B-1).

[製造例2]<原料のエチレングリコール−ビス(5−ビニルシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン)エーテル(B−2)の製造例2>
撹拌装置、温度制御装置及びコンデンサーを設置した反応槽に、エチレングリコールを62部(1モル部)仕込み、300rpmで撹拌しながら、60℃に加熱した。5−ビニルシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン(サンペトロケミカル社製)を240部(2モル部)滴下した。滴下終了後、60℃で3時間熟成後、150℃1Torrで未反応物及びエチレングリコールを減圧除去し、エチレングリコール−ビス(5−ビニルシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン)エーテル(B−2)を得た。
[Production Example 2] <Production Example 2 of Raw Material Ethylene Glycol-bis (5-vinylcyclo [2,2,1] hept-2-ene) ether (B-2)>
A reaction vessel equipped with a stirrer, a temperature controller and a condenser was charged with 62 parts (1 mol part) of ethylene glycol and heated to 60 ° C. while stirring at 300 rpm. 240 parts (2 mole parts) of 5-vinylcyclo [2,2,1] hept-2-ene (manufactured by San Petrochemical Co., Ltd.) was added dropwise. After completion of the dropping, the mixture was aged at 60 ° C. for 3 hours, and unreacted substances and ethylene glycol were removed under reduced pressure at 150 ° C. and 1 Torr, and ethylene glycol-bis (5-vinylcyclo [2,2,1] hept-2-ene) ether ( B-2) was obtained.

[実施例1]
攪拌装置、温度制御装置及び還流冷却器を設置した反応槽に、タングステン酸(C−1)、タングステン酸ナトリウム(C−2)、30%過酸化水素水溶液およびリン酸アンモニウムを表1に示した重量比率で仕込み、水相を調製した。300rpmで撹拌しながら、80℃に温調した。
表1に記載した量の1−オクテン、硫酸水素化ジラウリルジメチルアンモニウム(D−1)およびトルエンを混合し、有機相を調製した。この有機相を、先に反応槽に調製していた水相に2時間かけて滴下した。滴下後の水相のpHは2.8であった。
滴下終了後、温度を80℃に保ちながら、3時間反応させた。反応後のpHは3.0であった。室温まで冷却、静置後、2相に分離した反応混合物から生成物を含む上層(有機相)を分液した。この製造方法における有機相中の酸化反応生成物のGCによる分析値(%)を表1に示した。
[Example 1]
Table 1 shows tungstic acid (C-1), sodium tungstate (C-2), 30% aqueous hydrogen peroxide, and ammonium phosphate in a reaction vessel equipped with a stirrer, a temperature controller, and a reflux condenser. An aqueous phase was prepared by charging at a weight ratio. The temperature was adjusted to 80 ° C. while stirring at 300 rpm.
The amount of 1-octene, dilauryldimethylammonium hydrogen sulfate (D-1) and toluene described in Table 1 were mixed to prepare an organic phase. This organic phase was added dropwise to the aqueous phase previously prepared in the reaction vessel over 2 hours. The pH of the aqueous phase after the dropwise addition was 2.8.
After completion of dropping, the reaction was allowed to proceed for 3 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. The pH after the reaction was 3.0. After cooling to room temperature and allowing to stand, the upper layer (organic phase) containing the product was separated from the reaction mixture separated into two phases. Table 1 shows the analytical value (%) by GC of the oxidation reaction product in the organic phase in this production method.

[実施例2]
実施例1において、1−オクテンをシクロオクテンとした以外は、実施例1と同様な操作を行い、エポキシシクロオクタンを得た。なお、仕込量および得られた酸化反応生成物の分析値は表1に記載の通りである(以下の実施例でも同様。)。
滴下後の水相のpHは2.8であり、反応後のpHは3.1であった。
[Example 2]
In Example 1, except that 1-octene was changed to cyclooctene, the same operation as Example 1 was performed and epoxy cyclooctane was obtained. In addition, the amount of preparation and the analytical value of the obtained oxidation reaction product are as shown in Table 1 (the same applies to the following examples).
The pH of the aqueous phase after the dropwise addition was 2.8, and the pH after the reaction was 3.1.

[実施例3]
実施例1において、1−オクテンをシクロオクタジエンとした以外は、実施例1と同様な操作を行い、ジエポキシシクロオクタンを得た。
滴下後の水相のpHは2.8であり、反応後のpHは3.1であった。
[Example 3]
In Example 1, except that 1-octene was changed to cyclooctadiene, the same operation as in Example 1 was performed to obtain diepoxycyclooctane.
The pH of the aqueous phase after the dropwise addition was 2.8, and the pH after the reaction was 3.1.

[実施例4]
実施例1において、1−オクテンを、製造例1の水添ビスフェノールAジアリルエーテル(B−1)とした以外は、実施例1と同様な操作を行い、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルを得た。
滴下後の水相のpHは2.8であり、反応後のpHは3.1であった。
[Example 4]
In Example 1, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1-octene was changed to hydrogenated bisphenol A diallyl ether (B-1) of Production Example 1. .
The pH of the aqueous phase after the dropwise addition was 2.8, and the pH after the reaction was 3.1.

[実施例5]
実施例1において、1−オクテンを、製造例2のエチレングリコール−ビス(5−ビニルシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン)エーテル(B−2)とした以外は、実施例1と同様な操作を行い、エチレングリコール−ビス(5−エポキシシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン)エーテルを得た。
滴下後の水相のpHは2.8であり、反応後のpHは3.0であった。
[Example 5]
Example 1 and Example 1 except that 1-octene was changed to ethylene glycol-bis (5-vinylcyclo [2,2,1] hept-2-ene) ether (B-2) of Production Example 2. The same operation was performed to obtain ethylene glycol-bis (5-epoxycyclo [2,2,1] hept-2-ene) ether.
The pH of the aqueous phase after the dropwise addition was 2.8, and the pH after the reaction was 3.0.

[実施例6]
実施例1において、タングステン酸(C−1)とタングステン酸ナトリウム(C−2)の組合せを、タングステン酸ナトリウム(C−2)とリンタングステン酸(C−3)の組合せとした以外は、実施例1と同様な操作を行い、1−エポキシオクタンを得た。
滴下後の水相のpHは2.7であり、反応後のpHは3.0であった。
[Example 6]
In Example 1, except that the combination of tungstic acid (C-1) and sodium tungstate (C-2) was changed to a combination of sodium tungstate (C-2) and phosphotungstic acid (C-3). The same operation as in Example 1 was performed to obtain 1-epoxyoctane.
The pH of the aqueous phase after the dropping was 2.7, and the pH after the reaction was 3.0.

[実施例7]
実施例1において、過酸化水素水溶液の濃度を30%から6%とした以外は、実施例1と同様な操作を行い、1−エポキシオクタンを得た。
滴下後の水相のpHは3.0であり、反応後のpHは3.0であった。
[Example 7]
In Example 1, except that the concentration of the aqueous hydrogen peroxide solution was changed from 30% to 6%, the same operation as in Example 1 was performed to obtain 1-epoxyoctane.
The pH of the aqueous phase after dropping was 3.0, and the pH after reaction was 3.0.

[実施例8]
実施例1において、オニウム塩の硫酸水素化ジラウリルジメチルアンモニウム(D−1)を硫酸水素化トリオクチルメチルアンモニウム(D−2)とした以外は、実施例1と同様な操作を行い、1−エポキシオクタンを得た。
滴下後の水相のpHは2.8であり、反応後のpHは3.2であった。
[Example 8]
In Example 1, the same operation as in Example 1 was performed, except that dilauryldimethylammonium hydrogensulfate (D-1) onium salt was changed to trioctylmethylammonium hydrogensulfate (D-2). Epoxy octane was obtained.
The pH of the aqueous phase after the dropwise addition was 2.8, and the pH after the reaction was 3.2.

[実施例9]
実施例1において、タングステン化合物としてタングステン酸(C−1)のみを使用する以外は、実施例1と同様な操作を行い、1−エポキシオクタンを得た。
滴下後の水相のpHは2.5であり、反応後のpHは3.8であった。
[Example 9]
In Example 1, except for using only tungstic acid (C-1) as a tungsten compound, the same operation as Example 1 was performed and 1-epoxyoctane was obtained.
The pH of the aqueous phase after the dropping was 2.5, and the pH after the reaction was 3.8.

[比較例1]
攪拌装置、温度制御装置及び還流冷却器を設置した反応槽に、1−オクテン、硫酸水素化ジラウリルジメチルアンモニウム(D−1)およびトルエンを表2に示した重量比率で仕込み、有機相を調製した。300rpmで撹拌しながら、80℃に温調した。
表2に記載した量のタングステン酸(C−1)、30%過酸化水素水溶液および85%リン酸水溶液を混合し、水相を調製した。実施例とは異なり、この水相を反応槽に先に調製していた有機相に2時間かけて滴下した。滴下後の水相のpHは2.5であった。
滴下終了後、温度を80℃に保ちながら、3時間反応させた。反応後の水相のpHは6.6であった。室温まで冷却、静置後、2相に分離した反応混合物から生成物を含む上層(有機相)を分液した。この比較のための製造方法における有機相中の酸化反応生成物の分析値を表2に示した。
1−エポキシオクタン(A)以外に未反応の1−オクテン及び1−エポキシオクタンの開環副反応物などの副生物が12%存在していた。
[Comparative Example 1]
A reaction vessel equipped with a stirrer, a temperature controller and a reflux condenser was charged with 1-octene, dilauryldimethylammonium hydrogensulfate (D-1) and toluene in the weight ratio shown in Table 2 to prepare an organic phase. did. The temperature was adjusted to 80 ° C. while stirring at 300 rpm.
The amount of tungstic acid (C-1) described in Table 2, 30% aqueous hydrogen peroxide solution and 85% aqueous phosphoric acid solution were mixed to prepare an aqueous phase. Unlike the Example, this aqueous phase was dripped at the organic phase previously prepared to the reaction tank over 2 hours. The pH of the aqueous phase after dropping was 2.5.
After completion of dropping, the reaction was allowed to proceed for 3 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. The pH of the aqueous phase after the reaction was 6.6. After cooling to room temperature and allowing to stand, the upper layer (organic phase) containing the product was separated from the reaction mixture separated into two phases. The analytical values of the oxidation reaction product in the organic phase in the production method for comparison are shown in Table 2.
In addition to 1-epoxyoctane (A), 12% of by-products such as unreacted 1-octene and 1-epoxyoctane ring-opening by-products were present.

[比較例2]
比較例1において、タングステン化合物をタングステン酸ナトリウム(C−2)とした以外は、比較例1と同様な操作を行い、1−エポキシオクタンを得た。なお、仕込量および有機相中の酸化反応生成物の分析値は表2に記載の通りである(以下の比較例でも同様。)。
1−エポキシオクタン以外に、未反応の1−オクテンと1−エポキシオクタンの開環副反応物などの副生物が合計量で25%存在していた。
滴下後の水相のpHは3.8であり、反応後のpHは6.3であった。
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 1, except that the tungsten compound was sodium tungstate (C-2), the same operation as in Comparative Example 1 was performed to obtain 1-epoxyoctane. In addition, the analytical value of the charged amount and the oxidation reaction product in the organic phase is as shown in Table 2 (the same applies to the following comparative examples).
In addition to 1-epoxyoctane, 25% of byproducts such as unreacted 1-octene and 1-epoxyoctane ring-opening side reaction products were present.
The pH of the aqueous phase after the dropwise addition was 3.8, and the pH after the reaction was 6.3.

[比較例3]
比較例1において、85%リン酸水溶液をリン酸ナトリウムとした以外は、比較例1と同様な操作を行った。1−エポキシオクタン以外に、未反応の1−オクテンと1−エポキシオクタンの開環副反応物などの副生物が合計量で29%存在していた。
滴下後の水相のpHは3.0であり、反応後のpHは6.5であった。
[Comparative Example 3]
In Comparative Example 1, the same operation as in Comparative Example 1 was performed except that the 85% aqueous phosphoric acid solution was changed to sodium phosphate. In addition to 1-epoxyoctane, there were 29% by-products such as unreacted 1-octene and 1-epoxyoctane ring-opening by-products.
The pH of the aqueous phase after the dropping was 3.0, and the pH after the reaction was 6.5.

[比較例4]
比較例1において、1−オクテンをシクロオクテンとした以外は、比較例1と同様な操作を行った。1−エポキシシクロオクタン以外に、未反応のシクロオクテンと1−エポキシシクロオクタンの開環副反応物などの副生物が合計量で10%存在していた。
滴下後の水相のpHは2.5であり、反応後のpHは6.5であった。
[Comparative Example 4]
In Comparative Example 1, the same operation as in Comparative Example 1 was performed except that 1-octene was changed to cyclooctene. In addition to 1-epoxycyclooctane, by-products such as unreacted cyclooctene and 1-epoxycyclooctane ring-opening by-reactant were present in a total amount of 10%.
The pH of the aqueous phase after the dropping was 2.5, and the pH after the reaction was 6.5.

[比較例5]
比較例1において、1−オクテンをシクロオクタジエンとした以外は、比較例1と同様な操作を行った。ジエポキシシクロオクタン以外に、未反応のシクロオクタジエンやエポキシ開環副反応物などの副生物などが合計量で3%と、C=C二重結合が1個しか酸化されていないモノエポキシシクロオクテンが15%も存在していた。
滴下後の水相のpHは2.5であり、反応後のpHは6.5であった。
[Comparative Example 5]
In Comparative Example 1, the same operation as in Comparative Example 1 was performed except that 1-octene was changed to cyclooctadiene. In addition to diepoxycyclooctane, the total amount of unreacted cyclooctadiene and by-products such as epoxy ring-opening side reaction products is 3%, and monoepoxycyclohexane in which only one C = C double bond is oxidized. There was 15% octene.
The pH of the aqueous phase after the dropping was 2.5, and the pH after the reaction was 6.5.

[比較例6]
比較例1において、1−オクテンを水添ビスフェノールAジアリルエーテル(B−1)とした以外は、比較例1と同様な操作を行った。水添ビスフェノールAジアリルエーテル以外に、未反応の水添ビスフェノールAジアリルエーテルやエポキシ化合物の開環副反応物などの副生物などが合計量で15%と、C=C二重結合が1個しか酸化されていない水添ビスAジアリルエーテルのモノエポキシ化合物が15%も存在していた。
滴下後の水相のpHは2.5であり、反応後のpHは6.6であった。
[Comparative Example 6]
In Comparative Example 1, the same operation as in Comparative Example 1 was performed except that 1-octene was replaced with hydrogenated bisphenol A diallyl ether (B-1). In addition to hydrogenated bisphenol A diallyl ether, by-products such as unreacted hydrogenated bisphenol A diallyl ether and epoxy compound ring-opening by-products are 15% in total, and there is only one C = C double bond. 15% of the monoepoxy compound of hydrogenated bis A diallyl ether which was not oxidized was present.
The pH of the aqueous phase after the dropping was 2.5, and the pH after the reaction was 6.6.

[比較例7]
攪拌装置、温度制御装置及び還流冷却器を設置した反応槽に、1−オクテン(B)、硫酸水素化ジラウリルジメチルアンモニウム(D)およびトルエンを表2に示した比率で仕込み、有機相を調製した。300rpmで撹拌しながら、80℃に温調した。
表2に記載した量のタングステン酸(C−1)、30%過酸化水素水溶液および85%リン酸水溶液を混合し、水相を調製した。水相のpHは、pH調整剤である硫酸を用いて、2.5から3.0に調整した。比較例1と同様に、この水相を反応槽に先に調製していた有機相に2時間かけて滴下した。滴下後の水相のpHは2.5であった。滴下終了後、温度を80℃に保ちながら、24時間反応させた。
比較例1とは異なり、反応系中のpHを調整するために、30分毎に水相のpHを分析し、その都度pH調整剤である硫酸を用いてpHを2.5から3.5の領域内に入るように調整した。反応後の水相のpHは3.3であった。室温まで冷却、静置後、2相に分離した反応混合物から生成物を含む上層(有機相)を分液した。この製造方法における有機相中の酸化反応生成物の分析を行った。
1−エポキシシクロオクタンが97%と高収率で得られるが、このためには上記のような煩雑なpH調整と長時間(24時間)の反応が必要であった。
[Comparative Example 7]
1-octene (B), dilauryldimethylammonium hydrogensulfate (D) and toluene are charged in a reaction tank equipped with a stirrer, a temperature controller and a reflux condenser to prepare an organic phase. did. The temperature was adjusted to 80 ° C. while stirring at 300 rpm.
The amount of tungstic acid (C-1) described in Table 2, 30% aqueous hydrogen peroxide solution and 85% aqueous phosphoric acid solution were mixed to prepare an aqueous phase. The pH of the aqueous phase was adjusted from 2.5 to 3.0 using sulfuric acid as a pH adjuster. As in Comparative Example 1, this aqueous phase was added dropwise to the organic phase previously prepared in the reaction vessel over 2 hours. The pH of the aqueous phase after dropping was 2.5. After completion of dropping, the reaction was allowed to proceed for 24 hours while maintaining the temperature at 80 ° C.
Unlike Comparative Example 1, in order to adjust the pH in the reaction system, the pH of the aqueous phase was analyzed every 30 minutes, and the pH was adjusted to 2.5 to 3.5 using sulfuric acid as a pH adjuster each time. It adjusted so that it might enter in the area of. The pH of the aqueous phase after the reaction was 3.3. After cooling to room temperature and allowing to stand, the upper layer (organic phase) containing the product was separated from the reaction mixture separated into two phases. The oxidation reaction product in the organic phase in this production method was analyzed.
Although 1-epoxycyclooctane is obtained in a high yield of 97%, this requires complicated pH adjustment as described above and a long-time (24 hours) reaction.

<GCによる酸化反応生成物の分析条件>
下記のGC装置と分析条件により反応生成物を分析した。
機器:島津製作所製 GC−2014
検出器:FID
カラム:キャピラリカラム Rtx−5(長さ30m、内径0.25mm ID、液相
の膜厚:0.25μM、Restek社製)
サンプル注入量:1.0μL
INJ温度:200℃
キャリアーガスHe圧力:129kPa
キャリアーガスHe全流量:23.0mL/min
キャリアーガスHeカラム流量:1.8mL/min
線速度:37.8cm/sec
スプリット比:10.0
DET温度:300℃
メイクアップガスHe圧力:10.0kPa
H2圧力:60kPa
Air圧力:50kPa
カラム温度:50℃〜10℃/min昇温;最高到達温度300℃、保持時間5分
<Analysis conditions for oxidation reaction products by GC>
The reaction product was analyzed by the following GC apparatus and analysis conditions.
Equipment: GC-2014 manufactured by Shimadzu Corporation
Detector: FID
Column: Capillary column Rtx-5 (length 30 m, inner diameter 0.25 mm ID, liquid phase film thickness: 0.25 μM, manufactured by Restek)
Sample injection volume: 1.0 μL
INJ temperature: 200 ° C
Carrier gas He pressure: 129 kPa
Carrier gas He total flow rate: 23.0 mL / min
Carrier gas He column flow rate: 1.8 mL / min
Linear velocity: 37.8 cm / sec
Split ratio: 10.0
DET temperature: 300 ° C
Make-up gas He pressure: 10.0 kPa
H2 pressure: 60 kPa
Air pressure: 50kPa
Column temperature: 50 ° C. to 10 ° C./min.

表1と表2の結果から明らかなように、実施例1〜9の製造方法は、比較例1〜6の製造方法に比べ、いずれも酸化反応生成物中の未反応のC=C二重結合を分子内に有する有機化合物やその他の成分の含有率が少なく、目的のエポキシ化合物の比率が高い。特に、実施例3,4,5のようなC=C二重結合を分子内に2個有する有機化合物からの酸化反応によるエポキシ化の場合でも、比較例5、6と違って、モノエポキシ化合物の比率が極度に少なく、効率よくジエポキシ化合物が得られている。また、本発明の実施例は、比較例7のように反応をとめてpH分析をし、pH調整するなどの煩雑な操作も一切必要なく、反応時間も長くかからない。したがって実施例1〜9の製造方法は、比較例1〜7の製造方法に比べて簡便であり優れていることがわかる。   As is clear from the results of Tables 1 and 2, the production methods of Examples 1 to 9 are both unreacted C = C doubles in the oxidation reaction product as compared with the production methods of Comparative Examples 1 to 6. The content of the organic compound or other component having a bond in the molecule is small, and the ratio of the target epoxy compound is high. In particular, even in the case of epoxidation by an oxidation reaction from an organic compound having two C═C double bonds in the molecule as in Examples 3, 4, and 5, unlike the comparative examples 5 and 6, the monoepoxy compound Thus, the diepoxy compound is obtained efficiently. Moreover, the Example of this invention does not require complicated operation, such as carrying out reaction, pH analysis, and pH adjustment like the comparative example 7, and reaction time does not take long. Therefore, it turns out that the manufacturing method of Examples 1-9 is simple and excellent compared with the manufacturing method of Comparative Examples 1-7.

本発明のエポキシ化合物の製造方法は、酸化反応収率が高く製造方法も簡便であるため、工業的に製造する際にとても有用である。また、本発明の製造方法によって得られたエポキシ樹脂は、安価で、電気特性が重視される電子材料用途に使用できる。
The method for producing an epoxy compound of the present invention is very useful for industrial production because of its high oxidation reaction yield and simple production method. In addition, the epoxy resin obtained by the production method of the present invention is inexpensive and can be used for electronic material applications where electrical characteristics are important.

Claims (5)

下記一般式(1)で表されるC=C二重結合を分子内に少なくとも1個有する有機化合物(B)の二重結合部位を酸化して下記一般式(2)で表されるエポキシ化合物(A)の製造法において、タングステン化合物(C)、りん酸アンモニウムおよび過酸化水素を含む水相中に対して、該有機化合物(B)とオニウム塩(D)からなる有機相を添加し、反応させることを特徴とするエポキシ化合物(A)の製造方法。
[式中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数5〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の芳香族炭化水素基を表し、それらの一部がカルボニル基、エステル基またはカルボキシル基もしくはその塩基で置換されていてもよい。R4は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数5〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の芳香族炭化水素基、C=C二重結合を1個以上有する置換されていてもよいアルケニル基(但し、基中の複数個のC=C二重結合は互いに非共役関係にあり、かつ該C=C二重結合は式中の炭素−炭素二重結合と非共役関係にある。)を表し、それらの一部がエーテル基、カルボニル基、エステル基またはカルボキシル基もしくはその塩基で置換されていてもよい。R5は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数5〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数4〜20の芳香族炭化水素基、R4のC=C二重結合が反応してエポキシ基に置換された有機基を表し、それらの一部がエーテル基、カルボニル基、エステル基またはカルボキシル基もしくはその塩基で置換されていてもよい。また、R1とR3、R2とR4、R2とR5が結合して環を形成していてもよい。]
An epoxy compound represented by the following general formula (2) by oxidizing the double bond site of the organic compound (B) having at least one C = C double bond in the molecule represented by the following general formula (1) In the production method of (A), an organic phase composed of the organic compound (B) and the onium salt (D) is added to the aqueous phase containing the tungsten compound (C), ammonium phosphate and hydrogen peroxide, The manufacturing method of the epoxy compound (A) characterized by making it react.
[Wherein, R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a monovalent alicyclic ring having 5 to 20 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, a part of which may be substituted with a carbonyl group, an ester group, a carboxyl group or a base thereof. R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms, or an aromatic carbon atom having 4 to 20 carbon atoms. A hydrogen group, an optionally substituted alkenyl group having one or more C═C double bonds (provided that a plurality of C═C double bonds in the group are non-conjugated to each other, and the C═C The double bond is in a non-conjugated relationship with the carbon-carbon double bond in the formula), and a part of them may be substituted with an ether group, a carbonyl group, an ester group, a carboxyl group or a base thereof. . R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms, or an aromatic carbon atom having 4 to 20 carbon atoms. Represents a hydrogen group, an organic group substituted by an epoxy group by reaction of a C═C double bond of R 4 , a part of which is substituted with an ether group, a carbonyl group, an ester group, a carboxyl group or its base May be. R 1 and R 3 , R 2 and R 4 , R 2 and R 5 may be bonded to form a ring. ]
該タングステン化合物(C)が、タングステン酸、リンタングステン酸、ケイタングステン酸、ホウタングステン酸および酸化タングステンからなる群より選ばれる1種以上のタングステン化合物(C1)である請求項1記載のエポキシ化合物(A)の製造方法。   The epoxy compound according to claim 1, wherein the tungsten compound (C) is one or more tungsten compounds (C1) selected from the group consisting of tungstic acid, phosphotungstic acid, silicotungstic acid, borotungstic acid and tungsten oxide. A) production method. 請求項2記載の該タングステン化合物(C1)と、タングステン酸塩(C2)を組み合わせて使用する請求項2記載のエポキシ化合物(A)の製造方法。   The method for producing an epoxy compound (A) according to claim 2, wherein the tungsten compound (C1) according to claim 2 and the tungstate (C2) are used in combination. 該タングステン酸塩(C2)が、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸アンモニウムおよびタングステン酸カリウムからなる群より選ばれる1種以上のタングステン酸塩 である請求項3記載のエポキシ化合物(A)の製造方法。   The method for producing an epoxy compound (A) according to claim 3, wherein the tungstate (C2) is at least one tungstate selected from the group consisting of sodium tungstate, ammonium tungstate and potassium tungstate. 該オニウム塩(D)が第四級アンモニウム塩である請求項1〜4いずれか記載のエポキシ化合物(A)の製造方法。   The method for producing an epoxy compound (A) according to any one of claims 1 to 4, wherein the onium salt (D) is a quaternary ammonium salt.
JP2009212673A 2008-09-30 2009-09-15 Method for producing epoxy compound Expired - Fee Related JP5497388B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009212673A JP5497388B2 (en) 2008-09-30 2009-09-15 Method for producing epoxy compound

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008252042 2008-09-30
JP2008252042 2008-09-30
JP2009212673A JP5497388B2 (en) 2008-09-30 2009-09-15 Method for producing epoxy compound

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010106009A true JP2010106009A (en) 2010-05-13
JP5497388B2 JP5497388B2 (en) 2014-05-21

Family

ID=42295816

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009212673A Expired - Fee Related JP5497388B2 (en) 2008-09-30 2009-09-15 Method for producing epoxy compound

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5497388B2 (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011084558A (en) * 2009-09-16 2011-04-28 Nippon Kayaku Co Ltd Process for producing epoxy compound
WO2011152251A1 (en) * 2010-06-03 2011-12-08 昭和電工株式会社 Alicyclic monoallyl ether-monoglycidyl ether compound
JP5606327B2 (en) * 2008-12-26 2014-10-15 昭和電工株式会社 Method for producing epoxy compound
WO2014175152A1 (en) * 2013-04-23 2014-10-30 株式会社ダイセル Recovery method and reuse method of oxo acid catalyst
JP2015091788A (en) * 2013-10-02 2015-05-14 三菱化学株式会社 Method for producing epoxy compound
JP2015091789A (en) * 2013-10-02 2015-05-14 三菱化学株式会社 Method for producing epoxy compound
WO2016076112A1 (en) * 2014-11-12 2016-05-19 昭和電工株式会社 Process for producing polyvalent glycidyl compound
US9650353B2 (en) 2012-03-30 2017-05-16 Mitsubishi Chemical Corporation Method for producing epoxy compound and catalyst composition for epoxidation reaction
WO2017213265A1 (en) * 2016-06-09 2017-12-14 三菱ケミカル株式会社 Transparent neutron shielding material

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0559033A (en) * 1991-08-27 1993-03-09 Nippon Shokubai Co Ltd Epoxysuccinic acid derivative and its production
JPH11349579A (en) * 1998-06-08 1999-12-21 Ube Ind Ltd Production of epoxycyclododecadiene
JP2002179663A (en) * 2000-12-12 2002-06-26 Nissan Chem Ind Ltd Method for producing oxirane compound
JP2004059575A (en) * 2002-06-03 2004-02-26 Sumitomo Chem Co Ltd Method for producing epoxides
WO2007075214A1 (en) * 2005-12-20 2007-07-05 Lyondell Chemical Technology, L.P. Process for oxidizing organic compounds
JP2008524214A (en) * 2004-12-17 2008-07-10 ライオンデル ケミカル テクノロジー、 エル.ピー. Epoxidation process for pretreatment of titanium or vanadium zeolite catalyst with aminopolybasic acid
JP2010053348A (en) * 2008-07-30 2010-03-11 Sanyo Chem Ind Ltd Method of producing epoxy compound

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0559033A (en) * 1991-08-27 1993-03-09 Nippon Shokubai Co Ltd Epoxysuccinic acid derivative and its production
JPH11349579A (en) * 1998-06-08 1999-12-21 Ube Ind Ltd Production of epoxycyclododecadiene
JP2002179663A (en) * 2000-12-12 2002-06-26 Nissan Chem Ind Ltd Method for producing oxirane compound
JP2004059575A (en) * 2002-06-03 2004-02-26 Sumitomo Chem Co Ltd Method for producing epoxides
JP2008524214A (en) * 2004-12-17 2008-07-10 ライオンデル ケミカル テクノロジー、 エル.ピー. Epoxidation process for pretreatment of titanium or vanadium zeolite catalyst with aminopolybasic acid
WO2007075214A1 (en) * 2005-12-20 2007-07-05 Lyondell Chemical Technology, L.P. Process for oxidizing organic compounds
JP2010053348A (en) * 2008-07-30 2010-03-11 Sanyo Chem Ind Ltd Method of producing epoxy compound

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5606327B2 (en) * 2008-12-26 2014-10-15 昭和電工株式会社 Method for producing epoxy compound
JP2011084558A (en) * 2009-09-16 2011-04-28 Nippon Kayaku Co Ltd Process for producing epoxy compound
WO2011152251A1 (en) * 2010-06-03 2011-12-08 昭和電工株式会社 Alicyclic monoallyl ether-monoglycidyl ether compound
US10730846B2 (en) 2012-03-30 2020-08-04 Mitsubishi Chemical Corporation Method of producing epoxy compound and catalyst composition for epoxidation reaction
US9650353B2 (en) 2012-03-30 2017-05-16 Mitsubishi Chemical Corporation Method for producing epoxy compound and catalyst composition for epoxidation reaction
WO2014175152A1 (en) * 2013-04-23 2014-10-30 株式会社ダイセル Recovery method and reuse method of oxo acid catalyst
JP2015091788A (en) * 2013-10-02 2015-05-14 三菱化学株式会社 Method for producing epoxy compound
JP2015091789A (en) * 2013-10-02 2015-05-14 三菱化学株式会社 Method for producing epoxy compound
WO2016076112A1 (en) * 2014-11-12 2016-05-19 昭和電工株式会社 Process for producing polyvalent glycidyl compound
US10160737B2 (en) 2014-11-12 2018-12-25 Showa Denko K.K. Process for producing polyvalent glycidyl compound
JPWO2016076112A1 (en) * 2014-11-12 2017-08-24 昭和電工株式会社 Method for producing polyvalent glycidyl compound
WO2017213265A1 (en) * 2016-06-09 2017-12-14 三菱ケミカル株式会社 Transparent neutron shielding material
JPWO2017213265A1 (en) * 2016-06-09 2019-04-04 三菱ケミカル株式会社 Transparent neutron shielding material
RU2737784C2 (en) * 2016-06-09 2020-12-03 Мицубиси Кемикал Корпорейшн Transparent material for protection against neutrons
US11211178B2 (en) 2016-06-09 2021-12-28 Mitsubishi Chemical Corporation Transparent neutron shielding material

Also Published As

Publication number Publication date
JP5497388B2 (en) 2014-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5497388B2 (en) Method for producing epoxy compound
TWI440631B (en) Method for manufacturing aliphatic diepoxy compound, method for manufacture epoxy resin composition and method for manufacture cured material
JP2010235649A (en) Method for producing purified epoxy resin
CN109806911A (en) A kind of highly selective catalyst for preparing linear chain aldehyde and its preparation and application
US11794178B2 (en) Catalyst for ring expansion metathesis polymerization of cyclic monomers
CN108430627A (en) Including nickel, the catalyst composition of phosphine type ligand and lewis base and its purposes in alkene oligomerization process
CA2896007A1 (en) Catalytic composition and selective dimerization process of ethylene into butene-1
Karier et al. Metathesis at an Implausible Site: A Formal Total Synthesis of Rhizoxin D
CN102325594B (en) Alkoxylating method and the catalyzer for the method
Mutlu et al. On the Polymerization Behavior of Telomers: Metathesis versus Thiol–Ene Chemistry
JPWO2015041325A1 (en) Silicone-modified epoxy resin and composition and cured product thereof
KR20070108370A (en) High-purity alicyclic diepoxy compound and process for producing the same
Balcar et al. Metathesis of cardanol over ammonium tagged Hoveyda-Grubbs type catalyst supported on SBA-15
CN102666518B (en) The manufacture method of glycidyl etherified compound and the glycidyl etherified compound of monoallyl list
El-Qisairi et al. Oxidation of olefins by palladium (II). 18. Effect of reaction conditions, substrate structure and chiral ligand on the bimetallic palladium (II) catalyzed asymmetric chlorohydrin synthesis
Jiang et al. A Novel Approval for Degradation of Polybutadiene and Synthesis of Diene‐Based Telechelic Oligomers via Olefin Cross Metathesis
JP2010053348A (en) Method of producing epoxy compound
Mahamat Ahmat et al. Stepwise and microemulsions epoxidation of limonene by dimethyldioxirane: A comparative study
JP5226223B2 (en) Transparent encapsulant and transparent encapsulant
JP2002060367A (en) Method for producing 2-vinylcyclododecanone
WO2015151957A1 (en) Silicone-modified epoxy resin, composition containing said epoxy resin, and cured product of same
Dupé et al. Stepwise catalytic transformations of renewable feedstock arising from plant oils
TW201509964A (en) Ionic vinyl ether copolymer, and method for producing organic compound using same
Schitter et al. Novel routes to polyelectrolytes and reactive polymers via ROMP
CN102317298A (en) Thermally switchable ruthenium initiators

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120423

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131224

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140304

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140306

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5497388

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees