JP2010085951A - 液晶パネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】スペーサが所定位置から外れることを抑制する液晶パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】互いに対向する一対の基板(11、12)間に配置された液晶層13およびスペーサ14を備えた液晶パネル10の製造方法であり、スペーサ本体部14Aとその表面を覆う固着層14Bとから構成されたスペーサ14を、基板60の上に配置する工程(スペーサ配置工程S110)と、固着層14Bを溶融する第1の温度でスペーサ14を加熱する工程(固着層溶融工程S120)と、第1の温度よりも高く、且つ、スペーサ本体部14Aの分解温度よりも低い範囲の第2の温度で、スペーサ14を加熱する工程(スペーサ固定工程S130)とを含む、製造方法である。
【選択図】図7
【解決手段】互いに対向する一対の基板(11、12)間に配置された液晶層13およびスペーサ14を備えた液晶パネル10の製造方法であり、スペーサ本体部14Aとその表面を覆う固着層14Bとから構成されたスペーサ14を、基板60の上に配置する工程(スペーサ配置工程S110)と、固着層14Bを溶融する第1の温度でスペーサ14を加熱する工程(固着層溶融工程S120)と、第1の温度よりも高く、且つ、スペーサ本体部14Aの分解温度よりも低い範囲の第2の温度で、スペーサ14を加熱する工程(スペーサ固定工程S130)とを含む、製造方法である。
【選択図】図7
Description
本発明は、液晶パネルの製造方法に関する。
液晶表示装置の構成部品である液晶パネルは、一対の基板を所定のギャップを確保した状態で対向させた構造を有している。その一対の基板間には、液晶およびギャップを保持するためのスペーサが配置されており、その周囲はシール材によって封止されている。
スペーサの配置方法としては、所定の溶媒中に粒状のスペーサを多数分散させるとともに、そのスペーサ分散液を基板の主面上に散布する方法がある。しかしながら、この方法では、スペーサ粒子が基板の板面のうち画素形成領域に配置される可能性があるので、光漏れや液晶の配向不良が生じるおそれがあった。
そこで、近年では、スペーサ粒子を基板中の遮光部位などの特定の位置に配置することを目的として、インクジェット装置を用いる手法が採用されている(例えば、特許文献1から3参照)。例えば基板がカラーフィルタ基板の場合、スペーサ粒子はブラックマトリックスの上に配置される。
特開2008−164938号公報
特開2007−47524号公報
特開2004−125878号公報
カラーフィルタ基板のブラックマトリックスの上に配置されるスペーサ粒子には、その表面に固着層を有しているもの(固着スペーサ)がある。この固着スペーサを用いると、よりしっかりと基板に固着して、一対の基板間のギャップを確実に保持することができる。
しかしながら、本願発明者の検討によると、固着スペーサを用いて一対の基板間のギャップを保持した場合でも、スペーサ粒子が所定位置から外れてしまう事例が存在することがわかった。これは、液晶パネルから液晶表示装置(例えば液晶テレビ)を作製する時において、液晶パネルが転倒などした際に生じる。
図8には、液晶パネル1000に、転倒によって生じた厚みムラ1500が存在している例を示している。液晶パネル1000の厚みムラ1500の範囲は、例えば、W1が20cm程度で、W2が15cm程度である。なお、図示した液晶パネル1000のL1は例えば102〜130cm程度で、L2は例えば57〜63cm程度である。
このような厚みムラ1500の存在は、液晶表示装置の不良の原因となるので好ましくない。すなわち、液晶表示装置の作製時もしくは運搬時の刺激によってスペーサ粒子が所定位置から外れることを抑制することが求められる。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、スペーサが所定位置から外れることを抑制する液晶パネルの製造方法を提供することにある。
本発明に係る液晶パネルの製造方法は、互いに対向する一対の基板間に配置された液晶層およびスペーサを備えた液晶パネルの製造方法であり、スペーサ本体部と当該スペーサ本体部の表面を覆う固着層とから構成されたスペーサを、基板の上に配置する工程(a)と、前記スペーサを、前記固着層を溶融する第1の温度で加熱する工程(b)と、前記第1の温度よりも高く、且つ、前記スペーサ本体部の分解温度よりも低い範囲の第2の温度で、前記スペーサを加熱する工程(c)とを含む。
ある好適な実施形態において、前記固着層は、樹脂から構成されており、前記第1の温度は、前記固着層を構成する前記樹脂のガラス転移温度以上の温度である。
ある好適な実施形態において、前記スペーサ本体部は、樹脂から構成されており、前記スペーサの分解温度は、前記スペーサ本体部を構成する樹脂の分解温度である。
ある好適な実施形態において、前記工程(c)の後、前記一対の基板間に配置された液晶層を封止するシール材を形成する工程が実行され、前記シール材を形成する工程では、前記第2の温度以下の加熱工程が実行される。
ある好適な実施形態において、前記第1の温度は、90℃以上の温度である。
ある好適な実施形態において、前記工程(a)において、前記スペーサは、インクジェット方式によって、前記基板の遮光領域の上に配置される。
ある好適な実施形態において、前記固着層は、樹脂から構成されており、前記第1の温度は、前記固着層を構成する前記樹脂のガラス転移温度以上の温度である。
ある好適な実施形態において、前記スペーサ本体部は、樹脂から構成されており、前記スペーサの分解温度は、前記スペーサ本体部を構成する樹脂の分解温度である。
ある好適な実施形態において、前記工程(c)の後、前記一対の基板間に配置された液晶層を封止するシール材を形成する工程が実行され、前記シール材を形成する工程では、前記第2の温度以下の加熱工程が実行される。
ある好適な実施形態において、前記第1の温度は、90℃以上の温度である。
ある好適な実施形態において、前記工程(a)において、前記スペーサは、インクジェット方式によって、前記基板の遮光領域の上に配置される。
本発明の液晶パネルの製造方法によれば、スペーサ本体部と固着層とから構成されたスペーサを、基板の上に配置し、次いで、固着層を溶融する第1の温度でスペーサを加熱した後、第1の温度よりも高く且つ前記スペーサ本体部の分解温度よりも低い範囲の第2の温度で、前記スペーサを加熱するので、基板へのスペーサの固着面積が大きい状態でスペーサを基板に固定することができる。したがって、スペーサが基板の所定位置から外れることを抑制できる液晶パネルの製造方法を実現することができる。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を説明する。以下の図面においては、説明の簡潔化のため、実質的に同一の機能を有する構成要素を同一の参照符号で示す。なお、本発明は以下の実施形態に限定されない。
まず、図1から図3を参照しながら、本発明の実施形態に係る製造方法によって得られる液晶パネル10を備えた液晶表示装置100について説明する。
図1は、本実施形態の液晶パネル10を備えた液晶表示装置100の断面構成を模式的に示している。図1に示した液晶表示装置100は、液晶パネル10と、液晶パネルの裏側(図1中の下側)に配置された外部光源であるバックライト20とから構成されている。液晶パネル10とバックライト20とは、液晶パネル10の表側から被さられたベゼル30によって組み付けられて保持されている。
バックライト20は、複数本の線状光源(例えば、冷陰極管)22と、光源22を収納するケース24とから構成されている。ケース24は、表側(液晶パネル10側)に向けて開口した箱形形状を有しており、ケース24内には、線状光源22が平行に配列されている。
また、ケース24の開口には、複数枚の光学シート26が積層されて配置されている。光学シート26は、例えば、裏側から順に、拡散板、拡散シート、レンズシート、および輝度上昇シートから構成されている。さらに、光学シート26をケース24に挟んで保持するために、ケース24には、略枠状のフレーム28が設けられている。
液晶パネル10は、概して、全体として矩形の形状を有しており、一対の透光性基板(ガラス基板)11および12から構成されている。両基板11および12は、製造工程でそれぞれマザーガラスと称される大型の母材から切り出されたものを使用している。
両基板11および12は、互いに対向して配置され、その間には液晶層13が設けられている。液晶層13は、基板11および12の間の電界印加に伴って光学特定が変化する液晶材料からなる。基板11および12の外縁部には、シール材15が設けられて、液晶層13を封止している。基板11と基板12との間のギャップは、スペーサ14(図2及び図3参照)と、シール材15とによって確保される。スペーサ14は、弾性変形可能な樹脂製で、粒状(球状)を有しており、液晶層13中の所定位置に多数分散して配置されている。また、両基板の外面には、それぞれ偏光板17および18が貼り付けられている。
本実施形態では、両基板11および12のうち、表側がカラーフィルタ基板(CF基板)11であり、一方、裏側がアレイ基板12である。図2は、アレイ基板12の上面の一部を拡大して示している。また、図3は、両基板11および12の断面の一部を拡大して示している。
図2に示すように、アレイ基板12の内面側(液晶層13側)には、ソース配線41と、ソース配線41に直交して延びるゲート配線42とが形成されている。そして、複数のソース配線41と複数のゲート配線42とによって格子状のパターンが形成されている。両配線41および42の端部は、画像信号などを供給可能な外部回路(不図示)に接続されている。両配線41および42に囲まれた矩形の各領域には、スイッチング素子(例えばTFT素子)44および透明な画素電極46が設けられている。
また、図3に示すように、アレイ基板12の表面とゲート配線42の表面には、絶縁膜43が形成されている。絶縁膜43の表面には、画素電極46が形成されており、さらに、画素電極46の表面には、配向膜47が形成されている。画素電極46は、典型的にはITO(Indium Tin Oxide)からなり、縦長の矩形形を有している。
一方、CF基板11には、アレイ基板12側の各画素電極46に対応した位置にカラーフィルタ51が設けられている。カラーフィルタ51は、R、G、Bの三色が並ぶ配置にされる。隣接するカラーフィルタ51間には、遮光膜(ブラックマトリックス)52が形成されており、そのブラックマトリックス52によって各カラーフィルタ51は区画される。本実施形態の構成では、ブラックマトリックス52は、アレイ基板12側の両配線41および42に対応して形成され、格子状のパターンを有している。
カラーフィルタ51およびブラックマトリックス52の表面には、ITOからなる透明な共通電極54が形成されている。さらに、共通電極54の表面には、配向膜56が形成されている。CF基板11の配向膜56と、アレイ基板12の配向膜47との間には、両基板11および12のギャップを規定するスペーサ14が設けられており、本実施形態では、スペーサ14はブラックマトリックス52が位置する領域に配置されている。
本実施形態のスペーサ14は、スペーサ分散液の中に分散された形態で、インクジェット装置のノズルから吐出されることによって基板の表面に配置される。図4(a)および(b)は、本実施形態のスペーサ14の配置工程を説明するための工程図である。
図4(a)に示すように、スペーサ14はスペーサ分散液70に分散された形態にされ、そして、その分散液70をインクジェット装置72のノズル71から基板60へ吐出することによって基板60の表面に配置される。本実施形態では、スペーサ14を含む分散液70は、画素領域61以外の遮光領域62に配置される。
なお、基板60がCF基板11の場合、遮光領域62はブラックマトリックス52である。その場合、画素領域61はカラーフィルタ51であり、そして、基板60の表面には、共通電極(透明電極)54および配向膜56が形成される。この例では、スペーサ14を含む分散液70は、ブラックマトリックス52が位置する領域の配向膜56の上に吐出される。一方、基板60がアレイ基板12の場合、遮光領域62は、配線領域(41、42)となる。その場合、基板60の表面には、絶縁膜43および配向膜47が形成される。また、図2では、スペーサ14を含む分散液70が遮光領域(42)の範囲内に配置された状態の例を示している。
次いで、図4(b)に示すように、分散液70の分散媒を揮発させた後に、基板60を加熱して、スペーサ14を基板60の表面66に固定させる。本実施形態では、図5に示すように、スペーサ14は、スペーサ本体部14Aと、スペーサ本体部14Aの表面を覆う固着層14Bからなる固着スペーサである。スペーサ14を基板60の表面に固定するには、基板60の加熱によって、図6に示すように、スペーサ14の固着層14Bを溶融させて溶融固着部14Cを形成された状態にし、その状態で、さらに加熱を加えて、スペーサ14を基板に固定する。
したがって、本実施形態の製造方法では、図7に示すように、まず、インクジェット方式によってスペーサ14は基板60上に配置され(工程S110)、次に、基板60を加熱することによって固着層14Bを溶融させる(工程S120)。その後、固着層14Bが溶融して形成された溶融固着部14Cが存在する状態で加熱を行うことによって、スペーサ14を基板60上に固定する(工程S130)。
ここで、本実施形態では、工程S120における第1の加熱工程と、工程S130における第2の加熱工程からなる2段階加熱を実施するが、両者の加熱温度に特徴がある。第1の加熱工程(S120)では、固着層14Bを構成する樹脂のガラス転移温度(Tg)以上の第1温度(例えば、90℃から100℃)で加熱して、固着層14Bを溶融させる。次の第2の加熱工程(S130)では、第1の加熱工程の温度よりも高い温度で、スペーサ本体部14Aを構成する樹脂の分解温度よりも低い温度の範囲の第2温度(例えば、150℃から200℃)で加熱する。
本願発明者の検討によれば、本実施形態の第2温度(例えば、150℃から200℃)で、固着層溶融工程(S120)とスペーサ固定工程(S130)とを一括して実行した場合(すなわち、一段階加熱)、次のようなことが生じることがわかった。すなわち、溶融固着部14Cの形成が十分でなく固着面積が小さいままで、スペーサ14の固定が完了してしまうために、十分な固着強度が得られないという結果が生じることがわかった。つまり、図5に示した状態に近い形で、スペーサ14の固定が完了して、固着強度が小さくなる例が生じることがわかった。
スペーサ14の固着強度が小さい場合には、スペーサ14が所定位置から外れることにより、図8に示したように、液晶パネル1000に厚みムラ1500が存在することが生じてしまう。また、本願発明者の更なる検討によれば、固着層溶融工程(S120)に適した温度(例えば、90℃から100℃)で、固着層溶融工程(S120)とスペーサ固定工程(S130)とを一括して実行した場合(すなわち、一段階加熱)、スペーサ固定工程(S130)よりも後に実行されるシール材15(図1参照)の形成時の加熱工程の際に溶融固着部14Cの固着面積が低減してしまうおそれも見出された。その場合にも、スペーサ14が外れることにより、図8に示したような厚みムラ1500の発生の可能性が生じる。
本実施形態では、スペーサ14の固着層14Bを溶融する第1の温度で加熱工程(S120)を実行した後、スペーサ本体部14Aの分解温度よりも低い範囲内で、第1の温度よりも高い温度(高温焼結温度)でスペーサ14を焼き固めるので、スペーサ14(特に、固着層14Bの)固着面積を大きくした状態で、スペーサ14を十分な固着強度で基板に固定することができる。その結果、液晶パネル完成後、あるいはスペーサ固定工程後の液晶パネル製造工程中のスペーサ14の脱落を抑制することができ、液晶パネルの厚みムラの発生を防止することできる。
本実施形態のスペーサ14の条件などを例示すると、次の通りである。例えば、スペーサ本体部14Aは、直径:2.8μm、材料:ジビニルベンゼンポリマー、分解温度:210℃であり、そして、固着層14Bは、厚さ:5〜10nm、ガラス転移温度:95℃である。また、固着層溶融工程(S120)の加熱条件は、温度120℃、加熱時間15分である。スペーサ固定工程(S130)の)加熱条件は、温度200℃、加熱時間15分である。スペーサ分散液70の分散剤は、主成分がエチレングリコールである。なお、上述のスペーサ14の条件などは、適用する製造工程に合わせて各種好適なものを適宜選択することができる。
スペーサ分散液70を吐出するためのインクジェット装置としては、ピエゾ方式、サーマル方式、バブルジェット(登録商標)方式の装置が用いられる。インクジェット装置72が有するノズル71のノズル口径は、典型的には、20〜150μm程度である。また、ブラックマトリックス52の線幅は、典型的には、20〜120μm程度である。
図4(a)に示した工程の後におけるスペーサ分散液70の分散剤を揮発させる際に、加熱を行ってもよいが、配向膜などのダメージを低減させる上で常温で行うことも可能である。また、分散剤の揮発の時間を短縮させるために、基板の周囲を減圧にすることも可能である。
スペーサ固定工程(S130)が完了した後は、次のように製造工程は進行する。スペーサ14をCF基板11に配置した場合、スペーサ14が配置されたCF基板11は、周囲部にシール材15を設けた後、アレイ基板12を積層して加圧および加熱される。これにより、CF基板11とアレイ基板12との間にギャップが形成される。このギャップは、スペーサ14とシール材15とによって一定の間隔で保持されている。
この一対の基板11、12の間のギャップに液晶が注入されて、液晶層13が形成される。次いで、液晶の注入口を封止剤で封入すると、基板11、12の間に液晶層13が介在する液晶パネル10が形成される。また、液晶パネル10の基板11、12の外面には偏光板17、18が貼り付けられる。このようにして液晶パネル10が得られる。加えて、液晶パネル10に、図1に示したようなバックライト20などを組み合わせると、液晶表示装置100が完成する。
以上、本発明を好適な実施形態により説明してきたが、こうした記述は限定事項ではなく、勿論、種々の改変が可能である。
なお、本発明の実施形態の内容と本質的に異にするものであるが、関連する文献として、上述した特許文献3(特開2004−125878)に開示された技術がある。しかしながら、この技術は、スペーサを固定する加熱の工程の前に、スペーサを所定範囲内に凝集させ配置させるために基板温度を30〜60℃に加熱する工程(凝集用加熱工程)を実行するものであり、本発明の実施形態の2段階加熱の技術とは異なるものが開示されているにすぎない。
本発明によれば、スペーサが所定位置から外れることを抑制する液晶パネルの製造方法を提供することができる。
10 液晶パネル
11 カラーフィルタ基板
12 アレイ基板
13 液晶層
14 スペーサ
14A スペーサ本体部
14B 固着層
14C 溶融固着部
15 シール材
17,18 偏光板
20 バックライト
22 線状光源
24 ケース
26 光学シート
28 フレーム
30 ベゼル
41 ソース配線
42 ゲート配線
43 絶縁膜
46 画素電極
47 配向膜
50 液晶パネル
51 カラーフィルタ
52 ブラックマトリックス
54 共通電極
56 配向膜
60 基板
61 画素領域
62 遮光領域
70 スペーサ分散液
71 ノズル
72 インクジェット装置
100 液晶表示装置
1000 液晶パネル
1500 厚みムラ
11 カラーフィルタ基板
12 アレイ基板
13 液晶層
14 スペーサ
14A スペーサ本体部
14B 固着層
14C 溶融固着部
15 シール材
17,18 偏光板
20 バックライト
22 線状光源
24 ケース
26 光学シート
28 フレーム
30 ベゼル
41 ソース配線
42 ゲート配線
43 絶縁膜
46 画素電極
47 配向膜
50 液晶パネル
51 カラーフィルタ
52 ブラックマトリックス
54 共通電極
56 配向膜
60 基板
61 画素領域
62 遮光領域
70 スペーサ分散液
71 ノズル
72 インクジェット装置
100 液晶表示装置
1000 液晶パネル
1500 厚みムラ
Claims (6)
- 互いに対向する一対の基板間に配置された液晶層およびスペーサを備えた液晶パネルの製造方法であって、
スペーサ本体部と当該スペーサ本体部の表面を覆う固着層とから構成されたスペーサを、基板の上に配置する工程(a)と、
前記スペーサを、前記固着層を溶融する第1の温度で加熱する工程(b)と、
前記第1の温度よりも高く、且つ、前記スペーサ本体部の分解温度よりも低い範囲の第2の温度で、前記スペーサを加熱する工程(c)と
を含む、液晶パネルの製造方法。 - 前記固着層は、樹脂から構成されており、
前記第1の温度は、前記固着層を構成する前記樹脂のガラス転移温度以上の温度である、請求項1に記載の液晶パネルの製造方法。 - 前記スペーサ本体部は、樹脂から構成されており、
前記スペーサの分解温度は、前記スペーサ本体部を構成する樹脂の分解温度である、請求項1に記載の液晶パネルの製造方法。 - 前記工程(c)の後、前記一対の基板間に配置された液晶層を封止するシール材を形成する工程が実行され、
前記シール材を形成する工程では、前記第2の温度以下の加熱工程が実行される、請求項1から3の何れか一つに記載の液晶パネルの製造方法。 - 前記第1の温度は、90℃以上の温度である、請求項1から4の何れか一つに記載の液晶パネルの製造方法。
- 前記工程(a)において、前記スペーサは、インクジェット方式によって、前記基板の遮光領域の上に配置される、請求項1から5の何れか一つに記載の液晶パネルの製造方法。
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