JP2010084566A - Fluid ejection device and surgical appliance - Google Patents

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JP2010084566A
JP2010084566A JP2008252679A JP2008252679A JP2010084566A JP 2010084566 A JP2010084566 A JP 2010084566A JP 2008252679 A JP2008252679 A JP 2008252679A JP 2008252679 A JP2008252679 A JP 2008252679A JP 2010084566 A JP2010084566 A JP 2010084566A
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diaphragm
fluid
deformation
piezoelectric element
fluid chamber
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Hideki Kojima
英揮 小島
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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    • A61B17/32Surgical cutting instruments
    • A61B17/3203Fluid jet cutting instruments

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fluid injection device ensuring the durability of a diaphragm. <P>SOLUTION: This fluid injection device includes: a fluid chamber 501 being changeable in volume; an inlet channel 503 and an outlet channel 511 respectively communicating with the fluid chamber 501; a fluid injection opening 212 provided on the side of the outlet channel 511; a piezoelectric element 401 being an extensible element and the diaphragm 400 as a volume changing means changing the volume of the fluid chamber 501; and a deformation suppression means 420 suppressing the deformation of the diaphragm 400. The diaphragm 400 has a periphery fixed part fixed with a periphery fixing means fixing the periphery of the diaphragm 400, and a connected part connected to the piezoelectric element 401. On the side of the diaphragm 400 with the piezoelectric element 401 arranged, the deformation suppression means 420 is arranged fixedly to the periphery fixing means. The position between the periphery fixed part of the diaphragm 400 and the connected part thereof suppresses a deformation to a side with the piezoelectric element 401 arranged. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、流体を噴射する流体噴射装置、およびそれを用いた手術用器具に関する。   The present invention relates to a fluid ejecting apparatus that ejects fluid and a surgical instrument using the fluid ejecting apparatus.

従来の流体噴射装置においては、容積変更手段として圧電素子とダイアフラムとを備え
、圧電素子の伸張または収縮による変形によってダイアフラムを変形させて流体室内の容
積を周期的に変化させる。これにより、流体室内が周期的に加圧される。そして、流体の
脈動が発生し、流体室から流動される流体の脈動が流体噴射開口部に伝わることで流体が
流体噴射開口部より噴射される(例えば、特許文献1参照)。
A conventional fluid ejecting apparatus includes a piezoelectric element and a diaphragm as volume changing means, and the diaphragm is deformed by deformation caused by expansion or contraction of the piezoelectric element to periodically change the volume in the fluid chamber. Thereby, the fluid chamber is periodically pressurized. Then, pulsation of the fluid is generated, and the pulsation of the fluid flowing from the fluid chamber is transmitted to the fluid ejection opening, so that the fluid is ejected from the fluid ejection opening (see, for example, Patent Document 1).

特開2008−82202号公報JP 2008-82202 A

このような特許文献1では、ダイアフラムを変形させるために、圧電素子とダイアフラ
ムとを固定する部位とダイアフラムの周辺部を固定するための部位との間に隙間を設ける
必要がある。しかしながら、このような隙間は流体室内が加圧されたときには流体室の外
側(以下、「伸縮素子が配置される側」とも言う。)に対して変形してしまい流体室内の
圧力を低下させる原因となる。そのため、圧力が低下してしまうと流体を強く噴射するこ
とが困難となる。
また、このような流体室の圧力の低下を避けるために隙間を小さくすると、ダイアフラ
ムの変形時に隙間部分に応力が集中してダイアフラムが破損してしまう可能性がある。特
に、容積変更手段が圧電素子の場合、伸張または収縮の変形量が微小なため、ダイアフラ
ムが変形し易いように肉薄もしくはシート状のダイアフラムを用いるため、これらの問題
が非常に起き易い。
In Patent Document 1, in order to deform the diaphragm, it is necessary to provide a gap between a portion where the piezoelectric element and the diaphragm are fixed and a portion where the peripheral portion of the diaphragm is fixed. However, such a gap is deformed with respect to the outside of the fluid chamber (hereinafter also referred to as “the side where the expansion / contraction element is disposed”) when the fluid chamber is pressurized, and causes the pressure in the fluid chamber to decrease. It becomes. Therefore, if the pressure decreases, it becomes difficult to eject the fluid strongly.
Further, if the gap is made small in order to avoid such a decrease in the pressure in the fluid chamber, stress may concentrate on the gap when the diaphragm is deformed, and the diaphragm may be damaged. In particular, when the volume changing means is a piezoelectric element, since the deformation amount of expansion or contraction is minute, a thin or sheet diaphragm is used so that the diaphragm is easily deformed. Therefore, these problems are very likely to occur.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するように、以下の形態または適用例と
して実現される。
The present invention is realized as the following forms or application examples so as to solve at least a part of the problems described above.

〔適用例1〕本適用例の流体噴射装置は、容積が変更可能な流体室と、前記流体室に連
通する入口流路及び出口流路と、前記出口流路側に設けられた流体噴射開口部と、前記流
体室の容積を変更する容積変更手段として伸張または収縮する伸縮素子及びダイアフラム
と、前記ダイアフラムの変形を抑制する変形抑制手段とを有し、前記ダイアフラムは、当
該ダイアフラムの外周部を固定する外周固定手段により固定されている外周固定部位と、
前記伸縮素子と接続している接続部位とを有し、前記変形抑制手段は、前記ダイアフラム
における前記伸縮素子が配置される側に、前記外周固定手段と固着して配置され、前記ダ
イアフラムの前記外周固定部位と前記接続部位との間の部位が、前記伸縮素子が配置され
る側への変形を抑制することを特徴とする。
Application Example 1 A fluid ejection device according to this application example includes a fluid chamber whose volume can be changed, an inlet channel and an outlet channel communicating with the fluid chamber, and a fluid ejection opening provided on the outlet channel side And expansion / contraction elements that expand or contract as volume changing means for changing the volume of the fluid chamber, and deformation suppression means for suppressing deformation of the diaphragm, the diaphragm fixing the outer periphery of the diaphragm An outer periphery fixing portion fixed by an outer periphery fixing means;
A connecting portion connected to the expansion / contraction element, and the deformation suppressing means is arranged to be fixed to the outer periphery fixing means on the side of the diaphragm where the expansion / contraction element is arranged, and the outer periphery of the diaphragm A portion between the fixed portion and the connection portion suppresses deformation to the side where the expansion / contraction element is disposed.

本適用例によれば、伸縮素子が配置される側へのダイアフラムの変形を抑制する変形抑
制手段が配置されているため、流体室内が加圧されたときに、外周固定部位と接続部位と
の間の部分が流体室の外側に変形してしまうことが抑制できる。従って、流体室内の圧力
を低下させることが抑制でき、流体を強く噴射することが可能となる。また、変形抑制手
段は、当該ダイアフラムの伸縮素子が配置される側に配置されているため、対向する側の
流体室側には、外周固定部位と接続部位との間の部分が自由に変形できる。従って、ダイ
アフラムの変形時に外周固定部位と接続部位に応力が集中することを緩和でき、ダイアフ
ラムの耐久性を確保することが可能となり、また流体を強く噴射することも可能となる。
According to this application example, since the deformation suppressing unit that suppresses the deformation of the diaphragm toward the side where the expansion / contraction element is disposed is disposed, when the fluid chamber is pressurized, the outer peripheral fixed portion and the connection portion are It is possible to suppress the intermediate portion from being deformed outside the fluid chamber. Therefore, it is possible to suppress the pressure in the fluid chamber from being lowered, and it is possible to strongly eject the fluid. Moreover, since the deformation | transformation suppression means is arrange | positioned at the side by which the expansion-contraction element of the said diaphragm is arrange | positioned, the part between an outer periphery fixed site | part and a connection site | part can freely deform | transform into the fluid chamber side of the opposing side. . Therefore, it is possible to alleviate the concentration of stress on the outer periphery fixing portion and the connection portion when the diaphragm is deformed, and it is possible to ensure the durability of the diaphragm and to inject the fluid strongly.

〔適用例2〕また、上記適用例に記載の流体噴射装置であって、前記ダイアフラムが前
記伸縮素子の伸張または収縮によって変形させられていない場合、当該ダイアフラムと前
記変形抑制手段とが接していることを特徴とする。
Application Example 2 In the fluid ejecting apparatus according to the application example, when the diaphragm is not deformed by expansion or contraction of the expansion / contraction element, the diaphragm and the deformation suppressing unit are in contact with each other. It is characterized by that.

本適用例によれば、ダイアフラムが伸縮素子によって変形させられていない状態で、ダ
イアフラムと変形抑制手段とが既に接するため、伸縮素子が伸張し始めたときに効率よく
流体室内を加圧することができる。
According to this application example, the diaphragm and the deformation suppressing unit are already in contact with each other in a state where the diaphragm is not deformed by the expansion / contraction element, and therefore, the fluid chamber can be efficiently pressurized when the expansion / contraction element starts to expand. .

〔適用例3〕また、上記適用例に記載の流体噴射装置であって、前記変形抑制手段は、
環状もしくは筒状の構造体であることを特徴とする。
Application Example 3 Further, in the fluid ejecting apparatus according to the application example, the deformation suppressing unit includes:
It is an annular or cylindrical structure.

本適用例によれば、変形抑制手段から受ける抗力を均一にダイアフラムに伝えることが
できる。従って、ダイアフラムの耐久性を確保しながら流体を強く噴射することが可能と
なる。
According to this application example, the drag received from the deformation suppressing unit can be uniformly transmitted to the diaphragm. Therefore, the fluid can be strongly ejected while ensuring the durability of the diaphragm.

〔適用例4〕また、前記外周固定手段の一部と前記変形抑制手段とが一体に形成されて
いることを特徴とする。
Application Example 4 In addition, a part of the outer periphery fixing unit and the deformation suppressing unit are integrally formed.

本適用例によれば、変形手段も固定され剛性が確保される。従って、流体室内の圧力低
下を抑制し易くなる。
According to this application example, the deformation means is also fixed and the rigidity is ensured. Therefore, it becomes easy to suppress the pressure drop in the fluid chamber.

〔適用例5〕本適用例の手術用器具は、上述の流体噴射装置を有することを特徴とする
Application Example 5 A surgical instrument according to this application example has the above-described fluid ejecting apparatus.

本適用例によれば、上述の流体噴射装置の利点を有する手術用器具を提供することが可
能となる。
According to this application example, it is possible to provide a surgical instrument having the advantages of the above-described fluid ejecting apparatus.

以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好まし
い種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定
する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。また、以下の説明で参
照する図は、図示の便宜上、部材ないし部分の縦横の縮尺は実際のものとは異なる模式図
である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
The embodiment described below is a preferred specific example of the present invention, and thus various technically preferable limitations are given. However, the scope of the present invention is particularly limited in the following description. Unless otherwise stated, the present invention is not limited to these forms. The drawings referred to in the following description are schematic views in which the vertical and horizontal scales of members or parts are different from actual ones for convenience of illustration.

また、本発明による流体噴射装置は、インク等を用いた描画、細密な物体及び構造物の
洗浄、物体の切断や切除、手術用メス等様々に採用可能であるが、以下に説明する実施の
形態では、生体組織を切開または切除することに好適な流体噴射装置を例示して説明する
。従って、実施の形態にて用いる流体は、水、生理食塩水、薬液等である。
In addition, the fluid ejecting apparatus according to the present invention can be used in various ways such as drawing with ink, cleaning fine objects and structures, cutting and excision of objects, scalpels for operation, etc. In the embodiment, a fluid ejecting apparatus suitable for incising or excising living tissue will be described as an example. Therefore, the fluid used in the embodiment is water, physiological saline, chemical solution, or the like.

(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係る流体噴射装置の概略構成を示す説明図である。図1
において、流体噴射装置1は、基本構成として流体を収容する流体容器10と、圧力発生
部としてのポンプ20と、ポンプ20から供給される流体を脈動流動する脈動発生部10
0と、から構成されている。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of a fluid ejection device according to Embodiment 1 of the present invention. FIG.
The fluid ejecting apparatus 1 includes a fluid container 10 that stores fluid as a basic configuration, a pump 20 as a pressure generation unit, and a pulsation generation unit 10 that pulsates and flows the fluid supplied from the pump 20.
0.

脈動発生部100には、細いパイプ状の接続流路管200が接続され、接続流路管20
0の先端部には流路が縮小されたノズル211が挿着されている。
The pulsation generating unit 100 is connected with a thin pipe-shaped connection flow path pipe 200, and the connection flow path pipe 20.
A nozzle 211 having a reduced flow path is inserted into the zero end.

この流体噴射装置1における流体の流動を簡単に説明する。流体容器10に収容された
流体は、接続チューブ15を介してポンプ20によって吸引され、一定の圧力で接続チュ
ーブ25を介して脈動発生部100に供給する。脈動発生部100には流体室501(図
2、参照)と、この流体室501の容積変更手段とを備えており、容積変更手段を駆動さ
せることによって脈動を発生させ、接続流路管200、ノズル211を通して流体を高速
で噴射する。
The flow of fluid in the fluid ejecting apparatus 1 will be briefly described. The fluid stored in the fluid container 10 is sucked by the pump 20 through the connection tube 15 and is supplied to the pulsation generator 100 through the connection tube 25 at a constant pressure. The pulsation generating unit 100 includes a fluid chamber 501 (see FIG. 2) and a volume changing unit of the fluid chamber 501. The pulsation is generated by driving the volume changing unit, The fluid is ejected through the nozzle 211 at high speed.

次に、本実施形態による脈動発生部100の構造について説明する。図2は、本実施形
態に係る脈動発生部100の構造を示す断面図である。図2において、脈動発生部100
は、流体の脈動を発生するために、流体室501の容積変更手段として圧電素子401と
ダイアフラム400を含んで構成される。
Next, the structure of the pulsation generator 100 according to the present embodiment will be described. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of the pulsation generator 100 according to this embodiment. In FIG. 2, the pulsation generator 100
Is configured to include a piezoelectric element 401 and a diaphragm 400 as volume changing means of the fluid chamber 501 in order to generate fluid pulsation.

まず、脈動発生部100は、上ケース500と下ケース301とをそれぞれ対向する面
において接合され、4本の固定螺子600(図示は一部省略)によって螺着されている。
下ケース301は、鍔部を有する筒状部材であって、一方の端部は底板311で密閉され
ている。この下ケース301の内部空間に圧電素子401が配設される。
First, the pulsation generating unit 100 is joined to the upper case 500 and the lower case 301 on the opposing surfaces, and is screwed by four fixing screws 600 (partially omitted in the drawing).
The lower case 301 is a cylindrical member having a flange, and one end is sealed with a bottom plate 311. A piezoelectric element 401 is disposed in the internal space of the lower case 301.

伸縮素子である圧電素子401は、積層型圧電素子であってアクチュエータを構成する
。圧電素子401の一方の端部は補助板411を介してダイアフラム400に、他方の端
部は底板311の上面312に固着されている。補助板411は円盤状の金属板からなる
The piezoelectric element 401 which is an expansion / contraction element is a laminated piezoelectric element and constitutes an actuator. One end of the piezoelectric element 401 is fixed to the diaphragm 400 via the auxiliary plate 411, and the other end is fixed to the upper surface 312 of the bottom plate 311. The auxiliary plate 411 is made of a disk-shaped metal plate.

また、ダイアフラム400は、円盤状の金属薄板からなり、下ケース301の凹部30
3内において周縁部が凹部303の底面に密着固着されている。そして、圧電素子401
に駆動信号を入力することで、圧電素子401の伸張、収縮に伴いダイアフラム400を
介して流体室501の容積を変更する。なお、圧電素子401は、磁歪素子や静電アクチ
ュエータ等を利用しても構わない。
The diaphragm 400 is made of a disk-shaped thin metal plate, and the concave portion 30 of the lower case 301.
In FIG. 3, the peripheral edge is tightly fixed to the bottom surface of the recess 303. Then, the piezoelectric element 401
The volume of the fluid chamber 501 is changed via the diaphragm 400 as the piezoelectric element 401 expands and contracts by inputting a drive signal to the first and second piezoelectric elements 401. The piezoelectric element 401 may use a magnetostrictive element, an electrostatic actuator, or the like.

ダイアフラム400の上面には、中心部に開口部を有する環状の金属薄板からなる補強
板410が積層配設される。上ケース500は、下ケース301と対向する面の中心部に
凹部が形成され、この凹部とダイアフラム400とに囲まれた空間が流体室501である
。流体室501の略中央部には出口流路511が穿設されている。
On the upper surface of the diaphragm 400, a reinforcing plate 410 made of an annular thin metal plate having an opening at the center is laminated. The upper case 500 has a recess formed at the center of the surface facing the lower case 301, and a space surrounded by the recess and the diaphragm 400 is a fluid chamber 501. An outlet channel 511 is formed in a substantially central portion of the fluid chamber 501.

出口流路511は、流体室501から上ケース500の一方の端面から突設された出口
流路管510の端部まで貫通されている。出口流路511と流体室501の封止面505
との接続部は、流体抵抗を減ずるために滑らかに丸められている。出口流路管510には
接続流路管200が接続されている。接続流路管200には接続流路201が穿設されて
おり、接続流路201の直径は出口流路511の直径より大きい。また、接続流路管20
0の管部の厚さは、流体の圧力脈動を吸収しない剛性を有する範囲に形成されている。接
続流路管200の先端部には、ノズル211が挿着されている。このノズル211には流
体噴射開口部212が穿設されている。流体噴射開口部212の直径は、接続流路201
の直径より小さい。
The outlet channel 511 is penetrated from the fluid chamber 501 to the end of the outlet channel pipe 510 projecting from one end face of the upper case 500. Outlet channel 511 and sealing surface 505 of fluid chamber 501
The connection to is smoothly rounded to reduce fluid resistance. A connection channel pipe 200 is connected to the outlet channel pipe 510. A connection channel 201 is perforated in the connection channel pipe 200, and the diameter of the connection channel 201 is larger than the diameter of the outlet channel 511. Further, the connecting flow channel pipe 20
The thickness of the tube portion of 0 is formed in a range having rigidity that does not absorb the pressure pulsation of the fluid. A nozzle 211 is inserted into the distal end portion of the connection flow channel pipe 200. The nozzle 211 is formed with a fluid ejection opening 212. The diameter of the fluid ejection opening 212 is determined by the connection flow path 201.
Is smaller than the diameter.

上ケース500の側面には、ポンプ20から流体を供給する接続チューブ25を挿着す
る入口流路管502が突設されており、入口流路管502に入口流路側の接続流路504
が穿たれている。接続流路504は入口流路503に連通されている。入口流路503は
、流体室501の封止面505の周縁部に溝状に形成され、流体室501に連通している
On the side surface of the upper case 500, an inlet channel tube 502 for inserting the connection tube 25 for supplying fluid from the pump 20 is projected, and the inlet channel tube 502 has a connection channel 504 on the inlet channel side.
Has been worn. The connection channel 504 communicates with the inlet channel 503. The inlet channel 503 is formed in a groove shape on the peripheral edge of the sealing surface 505 of the fluid chamber 501 and communicates with the fluid chamber 501.

上ケース500と下ケース301との接合面において、ダイアフラム400の外周方向
の離間した位置には、下ケース301側にパッキンボックス304、上ケース500側に
パッキンボックス506が形成されており、パッキンボックス304,506にて形成さ
れる空間にリング状のパッキン450が装着されている。
A packing box 304 is formed on the lower case 301 side, and a packing box 506 is formed on the upper case 500 side at positions separated from each other in the outer peripheral direction of the diaphragm 400 on the joint surface between the upper case 500 and the lower case 301. A ring-shaped packing 450 is mounted in a space formed by 304 and 506.

ここで、上ケース500と下ケース301とを組立てたとき、ダイアフラム400の周
縁部と補強板410の周縁部とは、上ケース500の封止面505の周縁部と下ケース3
01の凹部303の底面によって密接されている。この際、パッキン450は上ケース5
00と下ケース301によって押し圧されて、流体室501からの流体漏洩を防止してい
る。
Here, when the upper case 500 and the lower case 301 are assembled, the peripheral portion of the diaphragm 400 and the peripheral portion of the reinforcing plate 410 are the peripheral portion of the sealing surface 505 of the upper case 500 and the lower case 3.
The bottom surface of the 01 recess 303 is in close contact. At this time, the packing 450 is attached to the upper case 5.
00 and the lower case 301 are pressed to prevent fluid leakage from the fluid chamber 501.

続いて、ダイアフラム400及びその周辺部について図面を参照してさらに詳しく説明
する。図3は、図2の一部を拡大したダイアフラム400及びその周辺部の断面図である
。なお、説明に不要な部品は説明を分かり易くするために省略する。
Next, the diaphragm 400 and the periphery thereof will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 3 is a cross-sectional view of the diaphragm 400 and a peripheral portion thereof in which a part of FIG. 2 is enlarged. Parts unnecessary for the description are omitted for easy understanding.

ダイアフラム400は、円盤状の金属薄板からなり、下ケース301の凹部303内に
おいて周縁部が凹部303の底面で密着固着される。すなわち、下ケース301は、ダイ
アフラム400の外周部を固定する外周固定手段であり、下ケース301によって外周固
定部位400aが固定される。
Diaphragm 400 is formed of a disk-shaped metal thin plate, and a peripheral edge thereof is closely fixed to the bottom surface of recess 303 in recess 303 of lower case 301. That is, the lower case 301 is an outer periphery fixing unit that fixes the outer periphery of the diaphragm 400, and the outer periphery fixing portion 400 a is fixed by the lower case 301.

また、ダイアフラム400は、円盤状の金属板からなる補助板411を介して、圧電素
子401の伸張、収縮による力が伝わるように圧電素子401と接続される。このとき、
補助板411は円盤状であるため、ダイアフラム400における圧電素子401と接続さ
れる接続部位400bは円形となり、接続部位400bの同心円状に外周固定部位400
aを位置させることで、圧電素子401の伸張、収縮によってダイアフラム400が変形
する際に、ダイアフラム400に不均等に応力が集中しないようにしている。
Further, the diaphragm 400 is connected to the piezoelectric element 401 so that a force due to expansion and contraction of the piezoelectric element 401 is transmitted via an auxiliary plate 411 made of a disk-shaped metal plate. At this time,
Since the auxiliary plate 411 has a disk shape, the connection part 400b connected to the piezoelectric element 401 in the diaphragm 400 is circular, and the outer peripheral fixing part 400 is concentrically connected to the connection part 400b.
By positioning a, when the diaphragm 400 is deformed by the expansion and contraction of the piezoelectric element 401, the stress is not concentrated unevenly on the diaphragm 400.

さらに、ダイアフラム400の圧電素子401側には、環状の変形抑制手段420が配
置され、流体の圧力脈動を吸収しない剛性を有する範囲の下ケース301に固着されてい
る。また、変形抑制手段420は、外周固定部位400aと接続部位400bの間の中間
部位400cと対向する位置にあり、中間部位400cが圧電素子401側に変形するの
を抑制している。
Further, an annular deformation suppression means 420 is disposed on the piezoelectric element 401 side of the diaphragm 400 and is fixed to the lower case 301 having a rigidity that does not absorb the pressure pulsation of the fluid. Moreover, the deformation | transformation suppression means 420 exists in the position facing the intermediate part 400c between the outer periphery fixing | fixed part 400a and the connection part 400b, and is suppressing that the intermediate part 400c deform | transforms into the piezoelectric element 401 side.

なお、図3において、圧電素子401には電圧が印加されていない状態であって、圧電
素子401は伸張または収縮していない。このとき、中間部位400cと変形抑制手段4
20は接しているが、中間部位400cと変形抑制手段420とが近接する位置関係であ
ったとしてもポンプ20により定常的に流体室501が加圧されているため、中間部位4
00cと変形抑制手段420は接していて、変形抑制手段420により変形が抑制さてい
る状態となっている。
In FIG. 3, no voltage is applied to the piezoelectric element 401, and the piezoelectric element 401 is not expanded or contracted. At this time, the intermediate portion 400c and the deformation suppressing means 4
20 is in contact, but even if the intermediate portion 400c and the deformation suppressing means 420 are close to each other, the fluid chamber 501 is constantly pressurized by the pump 20, so the intermediate portion 4
00c and the deformation suppression means 420 are in contact with each other, and the deformation is suppressed by the deformation suppression means 420.

図4にダイアフラム400側から見た変形抑制手段420の平面図を示す。変形抑制手
段420は、環状の構造体であり、接続部位400bの同心円状に対応する位置に配置さ
せることで圧電素子401の伸張、収縮によってダイアフラム400が変形する際に、ダ
イアフラム400に不均等に応力が集中しないようにできる。
FIG. 4 shows a plan view of the deformation suppressing means 420 viewed from the diaphragm 400 side. The deformation suppressing means 420 is an annular structure, and is arranged at a position corresponding to the concentric shape of the connection portion 400b, so that when the diaphragm 400 is deformed due to expansion or contraction of the piezoelectric element 401, the diaphragm 400 is unevenly distributed. Stress can be kept from concentrating.

続いて、圧電素子401の伸張、収縮によってダイアフラム400が変形する様子につ
いて図面を参照してさらに詳しく説明する。図5は、ダイアフラム400が変形する様子
を示す説明図であり、図3と同じくダイアフラム400及びその周辺部の断面図である。
Next, the manner in which the diaphragm 400 is deformed by the expansion and contraction of the piezoelectric element 401 will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 5 is an explanatory view showing a state in which the diaphragm 400 is deformed, and is a cross-sectional view of the diaphragm 400 and its peripheral portion, as in FIG.

図5(a)は、圧電素子401に電圧が印加されていない状態である。   FIG. 5A shows a state where no voltage is applied to the piezoelectric element 401.

そして、図5(b)は、圧電素子401に印加する電圧を上げて、圧電素子401が伸
張してダイアフラム400が変形する状態である。このとき、図5(a)において、中間
部位400cと変形抑制手段420は接しているため、図5(b)のように圧電素子40
1が伸張し始めたときに効率よく流体室501内を加圧することができる。
FIG. 5B shows a state where the voltage applied to the piezoelectric element 401 is increased and the piezoelectric element 401 expands to deform the diaphragm 400. At this time, in FIG. 5A, the intermediate portion 400c and the deformation suppressing means 420 are in contact with each other.
The fluid chamber 501 can be efficiently pressurized when 1 starts to expand.

そして、図5(c)は、圧電素子401に印加する電圧をさらに上げて、圧電素子40
1がさらに伸張してダイアフラム400が変形する状態である。このとき、流体室501
は加圧され、中間部位400cが圧電素子401側に変形しようとするが、変形抑制手段
420により変形が抑制される。また、変形抑制手段420がダイアフラム400の圧電
素子401側に配置され、そして中間部位400cは変形抑制手段420とは固着されて
いないため、対向する側の流体室501側には比較的自由に変形が可能で、中間部位40
0cへの引っ張り応力が発生しても、ダイアフラム400の耐久性を確保することが容易
となっている。つまり、補助板411と変形抑制手段420との間の隙間を小さくするこ
とで、中間部位400cが流体室501の外側に変形してしまうのをさらに抑制でき、ダ
イアフラム400に過度な応力は発生しにくい。
In FIG. 5C, the voltage applied to the piezoelectric element 401 is further increased to increase the piezoelectric element 40.
In this state, 1 further expands and the diaphragm 400 is deformed. At this time, the fluid chamber 501
Is pressed and the intermediate portion 400 c tends to deform toward the piezoelectric element 401, but deformation is suppressed by the deformation suppressing means 420. Further, since the deformation suppressing means 420 is disposed on the piezoelectric element 401 side of the diaphragm 400, and the intermediate portion 400c is not fixed to the deformation suppressing means 420, the deformation is relatively freely deformed on the opposite fluid chamber 501 side. The intermediate part 40 can be
Even if tensile stress to 0c occurs, it is easy to ensure the durability of the diaphragm 400. That is, by reducing the gap between the auxiliary plate 411 and the deformation suppressing means 420, the intermediate portion 400c can be further prevented from being deformed outside the fluid chamber 501, and excessive stress is generated in the diaphragm 400. Hateful.

そして、図5(d)は、圧電素子401に印加する電圧を下げて、圧電素子401が収
縮してダイアフラム400が変形する状態である。
FIG. 5D shows a state in which the voltage applied to the piezoelectric element 401 is lowered, the piezoelectric element 401 contracts, and the diaphragm 400 is deformed.

そして、図5(e)は、圧電素子401に印加する電圧をさらに下げて、圧電素子40
1がさらに収縮してダイアフラム400が変形する状態である。
In FIG. 5E, the voltage applied to the piezoelectric element 401 is further lowered to reduce the piezoelectric element 40.
1 is a state in which the diaphragm 400 is further contracted and the diaphragm 400 is deformed.

そして、図5(a)に戻り、図5(a)から図5(e)を繰り返すことで、脈動を発生
して、流体を噴射する。
Then, returning to FIG. 5 (a), by repeating FIG. 5 (a) to FIG. 5 (e), pulsation is generated and fluid is ejected.

従って、前述した実施形態1によれば、圧電素子401が配置される側へのダイアフラ
ム400の変形を抑制する変形抑制手段420が配置されているため、流体室501内が
加圧されたときに、中間部位400cが流体室501の外側に変形してしまうことを抑制
できる。従って、流体室501内の圧力が低下することを抑制でき、流体を強く噴射する
ことが可能となる。
Therefore, according to the first embodiment described above, the deformation suppressing means 420 that suppresses the deformation of the diaphragm 400 toward the side where the piezoelectric element 401 is disposed is disposed, so that when the inside of the fluid chamber 501 is pressurized. The intermediate portion 400c can be prevented from being deformed outside the fluid chamber 501. Therefore, it is possible to suppress the pressure in the fluid chamber 501 from decreasing, and the fluid can be strongly ejected.

また、変形抑制手段420は、ダイアフラム400の圧電素子401が配置される側に
配置されているため、対向する側の流体室501側には、中間部位400cが自由に変形
でき、ダイアフラム400の変形時に中間部位400cに応力が集中することを緩和でき
るのでダイアフラム400の耐久性を確保することが可能になり、流体を強く噴射するこ
とも可能となる。
Further, since the deformation suppressing means 420 is disposed on the side of the diaphragm 400 where the piezoelectric element 401 is disposed, the intermediate portion 400c can be freely deformed on the opposite fluid chamber 501 side, and the deformation of the diaphragm 400 is prevented. Since it is possible to alleviate stress concentration at the intermediate portion 400c at times, it is possible to ensure the durability of the diaphragm 400 and to strongly inject the fluid.

また、ダイアフラム400が圧電素子401の伸張または収縮によって変形させられて
いない状態において、ダイアフラム400と変形抑制手段420とが接しているため、圧
電素子401が伸張し始めたときに効率よく流体室501内を加圧することができる。
Further, since the diaphragm 400 and the deformation suppressing means 420 are in contact with each other when the diaphragm 400 is not deformed by expansion or contraction of the piezoelectric element 401, the fluid chamber 501 can be efficiently used when the piezoelectric element 401 starts to expand. The inside can be pressurized.

また、変形抑制手段420が環状の構造体であるため、ダイアフラム400が変形抑制
手段420から受ける抗力を均一にすることができる。従って、ダイアフラム400の耐
久性を確保し、また流体を強く噴射することも可能となる。
Further, since the deformation suppressing unit 420 is an annular structure, the drag force that the diaphragm 400 receives from the deformation suppressing unit 420 can be made uniform. Therefore, it is possible to ensure the durability of the diaphragm 400 and to eject the fluid strongly.

(実施形態2)
続いて、本発明の実施形態2に係る脈動発生部について図面を参照して説明する。実施
形態2は、外周固定手段である下ケース301の一部と変形抑制手段とが一体となってい
る特徴を有している。変形抑制手段以外は、前述した実施形態1と同じ構造であるので説
明を省略し、同じ機能部位には実施形態1と同じ符号を附して説明する。図6は、ダイア
フラム400及びその周辺部の断面図である。
(Embodiment 2)
Next, a pulsation generator according to Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to the drawings. The second embodiment has a feature in which a part of the lower case 301 serving as the outer periphery fixing means and the deformation suppressing means are integrated. Except for the deformation suppression means, the structure is the same as that of the first embodiment described above, and therefore the description thereof will be omitted. FIG. 6 is a cross-sectional view of the diaphragm 400 and its peripheral part.

ダイアフラム400は、円盤状の金属薄板からなり、下ケース301の凹部303内に
おいて周縁部が凹部303の底面で密着固着される。すなわち、下ケース301は、ダイ
アフラム400の外周部を固定する外周固定手段であり、下ケース301によって外周固
定部位400aが固定される。
Diaphragm 400 is formed of a disk-shaped metal thin plate, and a peripheral edge thereof is closely fixed to the bottom surface of recess 303 in recess 303 of lower case 301. That is, the lower case 301 is an outer periphery fixing unit that fixes the outer periphery of the diaphragm 400, and the outer periphery fixing portion 400 a is fixed by the lower case 301.

また、ダイアフラム400は、円盤状の金属板からなる補助板411を介して、圧電素
子401の伸張、収縮による力が伝わるように圧電素子401と接続される。このとき、
補助板411は円盤状であるため、ダイアフラム400における圧電素子401と接続さ
れる接続部位400bは円形となり、接続部位400bの同心円状に外周固定部位400
aを位置させることで、圧電素子401の伸張、収縮によってダイアフラム400が変形
する際に、ダイアフラム400に不均等に応力が集中しないようにしている。
Further, the diaphragm 400 is connected to the piezoelectric element 401 so that a force due to expansion and contraction of the piezoelectric element 401 is transmitted via an auxiliary plate 411 made of a disk-shaped metal plate. At this time,
Since the auxiliary plate 411 has a disk shape, the connection part 400b connected to the piezoelectric element 401 in the diaphragm 400 is circular, and the outer peripheral fixing part 400 is concentrically connected to the connection part 400b.
By positioning a, when the diaphragm 400 is deformed by the expansion and contraction of the piezoelectric element 401, the stress is not concentrated unevenly on the diaphragm 400.

さらに、ダイアフラム400の圧電素子401側には、環状の変形抑制手段421が外
周固定手段である下ケース301と一体となって配置されている。また、変形抑制手段4
21は、外周固定部位400aと接続部位400bの間の中間部位400cと対向する位
置にあり、中間部位400cが圧電素子401側に変形するのを抑制している。ただし、
中間部位400cにおいて、ダイアフラム400と変形抑制手段421とは固着されてい
ない。
Further, on the piezoelectric element 401 side of the diaphragm 400, an annular deformation suppressing means 421 is disposed integrally with a lower case 301 that is an outer periphery fixing means. Further, the deformation suppressing means 4
21 is located at a position facing the intermediate portion 400c between the outer periphery fixing portion 400a and the connection portion 400b, and suppresses the deformation of the intermediate portion 400c to the piezoelectric element 401 side. However,
In the intermediate part 400c, the diaphragm 400 and the deformation suppressing means 421 are not fixed.

従って、前述した実施形態2によれば、外周固定手段である下ケース301の一部と変
形抑制手段421とが一体となっているため、変形抑制手段421も固定され剛性が確保
される。従って、流体室501内の圧力低下を抑制し易くなる。
Therefore, according to the second embodiment described above, a part of the lower case 301 that is the outer periphery fixing means and the deformation suppressing means 421 are integrated, so that the deformation suppressing means 421 is also fixed and rigidity is ensured. Therefore, it becomes easy to suppress the pressure drop in the fluid chamber 501.

なお、実施形態2の変形例として、図7に示した脈動発生部102のように、環状の構
造体の変形抑制手段ではなく、変形抑制手段422を筒状の構造体として下ケース301
と一体にして形成しても構わない。
As a modification of the second embodiment, as in the pulsation generation unit 102 shown in FIG. 7, the lower case 301 has a deformation suppressing means 422 as a cylindrical structure instead of an annular structure deformation suppressing means.
And may be formed integrally.

尚、本発明では、変形抑制手段がダイアフラムの圧電素子が配置される側に配置されて
いるため、圧電素子が収縮する場合には、変形抑制手段がダイアフラムの変形を抑制する
効果は少ない。しかし、生体組織を切開または切除することを考えた場合、圧電素子を伸
張して流体を強く噴射することが重要となるため、このような構成であっても問題ない。
In the present invention, since the deformation suppressing means is disposed on the side where the piezoelectric element of the diaphragm is disposed, when the piezoelectric element contracts, the deformation suppressing means has little effect of suppressing the deformation of the diaphragm. However, considering the incision or excision of the living tissue, it is important to extend the piezoelectric element and strongly eject the fluid.

また、実施の形態のように、脈動発生部に流体を供給する圧力発生部としてのポンプを
備える場合には、ポンプにより流体室内が加圧された状態となるため、変形抑制手段がダ
イアフラムの圧電素子が配置される側に配置されていることにより、ダイアフラムの変形
を緩和することに有効である。
Further, when a pump as a pressure generating unit that supplies fluid to the pulsation generating unit is provided as in the embodiment, the fluid chamber is pressurized by the pump. Arranging on the side where the element is disposed is effective in alleviating the deformation of the diaphragm.

本発明の実施形態1に係る流体噴射装置の概略構成を示す説明図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 本発明の実施形態1に係る脈動発生部の構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the pulsation generating part which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態1に係るダイアフラム及びその周辺部を示す断面図。Sectional drawing which shows the diaphragm which concerns on Embodiment 1 of this invention, and its periphery part. 本発明の実施形態1に係る変形抑制手段を示す平面図。The top view which shows the deformation | transformation suppression means which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態1に係るダイアフラムの変形の様子を示す説明図。Explanatory drawing which shows the mode of a deformation | transformation of the diaphragm which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態2に係るダイアフラム及びその周辺部を示す断面図。Sectional drawing which shows the diaphragm which concerns on Embodiment 2 of this invention, and its peripheral part. 本発明の実施形態2の変形例に係る脈動発生部の構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the pulsation generating part which concerns on the modification of Embodiment 2 of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…流体噴射装置、15,25…接続チューブ、20…ポンプ、100…脈動発生部、
200…接続流路管、201…接続流路、211…ノズル、212…流体噴射開口部、3
01…下ケース、303…凹部、304,506…パッキンボックス、311…底面、3
12…上面、400…ダイアフラム、401…伸縮素子としての圧電素子、400a…外
周固定部位、400b…接続部位、400c…中間部位、411…補助板、420,42
1,422…変形抑制手段、450…パッキン、501…流体室、502…入口流路管、
503…入口流路、504…接続流路、505…封止面、510…出口流路管、511…
出口流路。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Fluid injection apparatus, 15, 25 ... Connection tube, 20 ... Pump, 100 ... Pulsation generation | occurrence | production part,
DESCRIPTION OF SYMBOLS 200 ... Connection channel pipe, 201 ... Connection channel, 211 ... Nozzle, 212 ... Fluid ejection opening part, 3
01 ... Lower case, 303 ... Recess, 304, 506 ... Packing box, 311 ... Bottom, 3
DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 ... Upper surface, 400 ... Diaphragm, 401 ... Piezoelectric element as an expansion / contraction element, 400a ... Outer periphery fixed part, 400b ... Connection part, 400c ... Intermediate part, 411 ... Auxiliary plate, 420, 42
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,422 ... Deformation suppression means, 450 ... Packing, 501 ... Fluid chamber, 502 ... Inlet channel pipe,
503 ... Inlet channel, 504 ... Connection channel, 505 ... Sealing surface, 510 ... Outlet channel tube, 511 ...
Outlet channel.

Claims (5)

容積が変更可能な流体室と、
前記流体室に連通する入口流路及び出口流路と、
前記出口流路側に設けられた流体噴射開口部と、
前記流体室の容積を変更する容積変更手段として伸張または収縮する伸縮素子及びダイ
アフラムと、
前記ダイアフラムの変形を抑制する変形抑制手段とを有し、
前記ダイアフラムは、当該ダイアフラムの外周部を固定する外周固定手段により固定さ
れている外周固定部位と、前記伸縮素子と接続している接続部位とを有し、
前記変形抑制手段は、前記ダイアフラムにおける前記伸縮素子が配置される側に、前記
外周固定手段と固着して配置され、前記ダイアフラムの前記外周固定部位と前記接続部位
との間の部位が、前記伸縮素子が配置される側への変形を抑制することを特徴とする流体
噴射装置。
A fluid chamber with a variable volume;
An inlet channel and an outlet channel communicating with the fluid chamber;
A fluid ejection opening provided on the outlet channel side;
A telescopic element and a diaphragm that expand or contract as volume changing means for changing the volume of the fluid chamber;
Deformation suppression means for suppressing deformation of the diaphragm,
The diaphragm has an outer peripheral fixing portion fixed by an outer peripheral fixing means for fixing an outer peripheral portion of the diaphragm, and a connection portion connected to the expansion / contraction element,
The deformation suppressing means is arranged to be fixed to the outer periphery fixing means on the diaphragm on the side where the expansion and contraction element is disposed, and a portion between the outer periphery fixing portion and the connection portion of the diaphragm is the extension and contraction. A fluid ejecting apparatus which suppresses deformation to a side where an element is arranged.
請求項1に記載の流体噴射装置において、
前記ダイアフラムが前記伸縮素子の伸張または収縮によって変形させられていない場合
、当該ダイアフラムと前記変形抑制手段とが接していることを特徴とする流体噴射装置。
The fluid ejection device according to claim 1,
When the diaphragm is not deformed by expansion or contraction of the expansion / contraction element, the diaphragm and the deformation suppressing unit are in contact with each other.
請求項1に記載の流体噴射装置において、
前記変形抑制手段は、環状もしくは筒状の構造体であることを特徴とする流体噴射装置
The fluid ejection device according to claim 1,
The fluid ejecting apparatus according to claim 1, wherein the deformation suppressing means is an annular or cylindrical structure.
請求項1に記載の流体噴射装置において、
前記外周固定手段の一部と前記変形抑制手段とが一体に形成されていることを特徴とす
る流体噴射装置。
The fluid ejection device according to claim 1,
A fluid ejecting apparatus, wherein a part of the outer periphery fixing means and the deformation suppressing means are integrally formed.
請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の流体噴射装置を有することを特徴とする
手術用器具。
A surgical instrument comprising the fluid ejection device according to any one of claims 1 to 4.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN108215501A (en) * 2016-12-09 2018-06-29 船井电机株式会社 Fluid distributing apparatus

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