JP2010075860A - Die head unit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、塗布液を塗布する装置に適用されるダイヘッドユニットに関する。 The present invention relates to a die head unit applied to an apparatus for applying a coating liquid.
反射防止用フィルム等の光学フィルムの製造には、ダイコーティング方式が採用される場合が多い。ダイヘッドでは膜厚精度の確保が可能であるものの、塗布幅の拡大に伴って、単位幅あたりの膜厚の要求精度が厳しくなっている。 In many cases, a die coating method is employed in the production of an optical film such as an antireflection film. Although the die head can ensure the film thickness accuracy, the required accuracy of the film thickness per unit width has become strict as the coating width increases.
そこで従来技術では、ダイヘッド流路形状の調整を繰返し行っていた。ダイヘッド方式においては、塗布液は入口から注入され、マニホールドによりスリットへ分配され吐出する。分配において、スリットからの流出があるためにマニホールド内において内圧が管軸方向に徐々に低下し、その結果マニホールド入口側に比べて終端側への分配量が小さくなってしまう。終端側の分配量不足を補正するために、膜厚・液粘度等に応じて、終端側のスリット間隙を広げた流路形状（直線テーパ）を形成する。実際には、平板とマニホールド板の間に金属製シムを挿入することにより、スリット間隙のテーパ率（終端側／入口側）を調整し膜厚精度を確保していた（例えば、特許文献１参照）。
しかし、調整が正しいかどうかはシム挿入後の塗布時に判明するため、精度不足時にはダイヘッドを分解して再度シム厚さを変更する必要があった。結果として、適切なシム厚さを選定するためには数回の実機検証が必要とあり、多大なコストおよび時間を要するという問題を抱えていた。 However, since whether or not the adjustment is correct is determined at the time of application after the shim is inserted, it is necessary to disassemble the die head and change the shim thickness again when the accuracy is insufficient. As a result, in order to select an appropriate shim thickness, it was necessary to verify the actual machine several times, and there was a problem that a great deal of cost and time were required.
そこで、本発明は上記事情を考慮してなされたもので、膜厚調整（スリット間隔のテーパ率の調整）のための分解が不要となるダイヘッドユニットを提供することを目的とする。特に、インラインにおける膜厚の調整においてラインを停止することなく膜厚調整ができるダイヘッドおよび液品種の変更や高速化等の塗布条件の変更における実機検証にも有効なダイヘッドユニットを提供することを目的とする。 Accordingly, the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a die head unit that does not require disassembly for film thickness adjustment (adjustment of the taper ratio of the slit interval). In particular, the purpose is to provide a die head that can adjust the film thickness without stopping the line in adjusting the film thickness in-line and a die head unit that is also effective for verification of actual equipment in changing coating conditions such as changing the liquid type and speeding up. And
上記課題を解決するため、本発明は次のような構成を採用する。 In order to solve the above problems, the present invention employs the following configuration.
すなわち、請求項１に係る発明は、塗布液が流入される塗布液流入口（１０）と前記塗布液流入口（１０）からマニホールド部（６）が形成されたマニホールド板（１）と、前記マニホールド板（１）との間に前記塗布液が押し出されるスリット部（７）が形成されるとともに前記マニホールド部（６）が覆われる平板（２）とを有するダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記塗布液が押し出される前記スリット部（７）の開口部（７ａ）と異なる面において、前記マニホールド板（１）および前記平板（２）を支持する土台板（３）と、前記平板（２）を前記土台板（３）の面上で回転可能とする回転軸（１３）とを備えることを特徴とする。
That is, the invention according to
また、請求項２に係る発明は、請求項１に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、
前記平板（２）に接し、前記スリット部（７）のスリット間隔を変更するスリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）を更に備えることを特徴とする。
The invention according to
It further comprises a slit interval changing mechanism (4, 5 and 19, 20 and 21, 22 and 23) for changing the slit interval of the slit portion (7) in contact with the flat plate (2).
さらに、請求項３に係る発明は、請求項１または２に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記回転軸（１３）は、前記平板（２）の底面の中心近辺に形成されることを特徴とする。
Further, the invention according to
さらに、請求項４に係る発明は、請求項１乃至３の何れか一項に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記土台板（３）には前記土台板（３）の長手方向と交差する方向に前記回転軸（１３）が移動可能な長穴（１８）が形成され、前記回転軸（１３）が前記長穴（１８）に沿って移動することにより前記開口部（７ａ）の開口面積およびテーパ率の少なくとも何れか一方が変更可能となることを特徴とする。
Furthermore, the invention according to
さらに、請求項５に係る発明は、請求項４に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記回転軸（１３）を有さない前記マニホールド板（１）が前記土台板（３）上を水平方向に移動可能であることを特徴とする。
Furthermore, the invention according to
さらに、請求項６に係る発明は、請求項２乃至５の何れか一項に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記平板（２）における前記回転軸（１３）の位置に対し、前記接点部分（Ｕ）とは反対側の前記平板（２）の一部にストッパ（３６）の一部が押圧され、前記ストッパ（３６）は前記土台板（３）に形成された支持部（１５、２５）に支持され、前記ストッパ（３６）と前記スリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）の前記接点部分（２４）とは前記回転軸（１３）を中心に回転する前記平板（２）を互いに押圧することを特徴とする。
Furthermore, the invention according to
さらに、請求項７に係る発明は、請求項２乃至５の何れか一項に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記平板（２）における前記回転軸（１３）の位置に対し、前記接点部分（２４）とは反対側の前記平板（２）の一部に弾性体（１４）の一端が押圧され、前記弾性体（１４）の他端は前記土台板（３）に形成された支持部（１５、２５）に押圧され、前記弾性体（１４）と前記スリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）の前記接点部分（２４）とは前記回転軸（１３）を中心に回転する前記平板（２）を互いに押圧することを特徴とする。
Furthermore, the invention according to claim 7 is the die head unit (U) according to any one of
さらに、請求項８に係る発明は、請求項１乃至７の何れか一項に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記平板（２）と前記マニホールド板（１）との端面は、前記平板（２）または前記マニホールド板（１）から前記塗布液が漏れ出さないように前記塗布液流入口（１０）および前記開口部（７ａ）を除き、シール材（２８、２９）によってシールされていることを特徴とする。
Further, the invention according to claim 8 is the die head unit (U) according to any one of
さらに、請求項９に係る発明は、請求項１乃至７の何れか一項に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記回転軸（１３）はネジ（１６）であることを特徴とする。
The invention according to claim 9 is the die head unit (U) according to any one of
さらに、請求項１０に係る発明は、塗布液が流入される塗布液流入口（１０）と前記塗布液流入口（１０）からマニホールド部（６）が形成されたマニホールド板（１）と、前記マニホールド板（１）との間に前記塗布液が押し出されるスリット部（７）が形成されるとともに前記マニホールド部（６）が覆われる平板（２）とを有するダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記マニホールド板（１）に接し、前記スリット部（７）のスリット間隔を変更するスリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）と、前記塗布液が押し出される前記スリット部（７）の開口部（７ａ）と異なる面において、前記マニホールド板（１）および前記平板（２）を支持する土台板（３）と、前記マニホールド板（１）を前記土台板（３）の面上で回転可能とする回転軸（１３）と、を備えることを特徴とする。
Further, the invention according to
請求項１に係る発明は、塗布液が流入される塗布液流入口（１０）と前記塗布液流入口（１０）からマニホールド部（６）が形成されたマニホールド板（１）と、前記マニホールド板（１）との間に前記塗布液が押し出されるスリット部（７）が形成されるとともに前記マニホールド部（６）が覆われる平板（２）とを有するダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記塗布液が押し出される前記スリット部（７）の開口部（７ａ）と異なる面において、前記マニホールド板（１）および前記平板（２）を支持する土台板（３）と、前記平板（２）を前記土台板（３）の面上で回転可能とする回転軸（１３）とを備えることを特徴とするダイヘッドユニット（Ｕ）であるから、前記平板（２）を回転軸（１３）を中心に回転することで前記スリット部（７）のスリット間隔のテーパ率（終端側（塗布液流入終端面１１側のスリット間隔Ｈ２）／入り口側（塗布液流入口１０側のスリット部７のスリット間隔Ｈ１））を、前記マニホールド板１および前記平板２を含むダイヘッドを分解することなく任意に連続的に変更可能とすることができる（インラインにおいて前記スリット部（７）のスリット間隔のテーパ率を変更することが可能である）。従って、塗液や塗布巾等により大きくことなるものの、テーパ率の調整一回あたり、シム製作費用の削減、組立て分解時間の短縮および生産停止時間の短縮が可能となる。従ってタクトタイムを短縮することができる。また、ダイヘッドの検証時間の短縮により、ダイヘッドユニットやその製造物である光学フィルム等の開発納期の短縮が可能となる。さらに、ダイヘッド製作後にスリット間隔のテーパ率（特に直線テーパ）を変更できるため、ダイヘッド形状の初期設計時間の短縮、液物性の変更への対応や分配量以外の要因による膜厚精度不足の修正等にも応用できる。
The invention according to
また、請求項２に係る発明によれば、請求項１に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記平板（２）に接し、前記スリット部（７）のスリット間隔を変更するスリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）を更に備えることを特徴とするダイヘッドユニット（Ｕ）であるから、前記平板（２）をユーザが直接手等を用いて移動させるよりも精密に前記平板（２）を前記回転軸（１３）の周りに回転させることができ、前記スリット部（７）のスリット間隔Ｈ１およびスリット間隔Ｈ２を数ミクロン単位で変更することが可能となる。従って、前記スリット部（７）のスリット間隔のテーパ率（終端側（塗布液流入終端面１１側のスリット間隔Ｈ２）／入り口側（塗布液流入口１０側のスリット部７のスリット間隔Ｈ１））を精密に制御できるので、様々な種類（濃度の変化も含む）の塗布液に対して前記スリット部（７）から吐出される塗布液の量をマニホールド部６の長手方向（管軸方向）に対して均一な量に調節することが的確に素早くできるようになる。
Moreover, according to the invention which concerns on
請求項３に記載されるように、請求項１または２に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記回転軸（１３）は、前記平板（２）の底面の中心近辺に形成されることを特徴とするダイヘッドユニット（Ｕ）であるから、前記スリット部（７）のスリット間隔のテーパ率（終端側（塗布液流入終端面１１側のスリット間隔Ｈ２）／入り口側（塗布液流入口１０側のスリット部７のスリット間隔Ｈ１））を精密に制御できるので、様々な種類（濃度の変化も含む）の塗布液に対して前記スリット部（７）から吐出される塗布液の量をマニホールド部６の長手方向（管軸方向）に対して均一な量に調節することが的確に素早くできるようになる。
As described in
さらに、請求項４に記載されるように、請求項１乃至３の何れか一項に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記土台板（３）には前記土台板（３）の長手方向と交差する方向に前記回転軸（１３）が移動可能な長穴（１８）が形成され、前記回転軸（１３）が前記長穴（１８）に沿って移動することにより前記開口部（７ａ）の開口面積およびテーパ率の少なくとも何れか一方が変更可能であることを特徴とするダイヘッドユニット（Ｕ）であるから、前記スリット部（７）のスリット間隔のテーパ率（終端側（塗布液流入終端面１１側のスリット間隔Ｈ２）／入り口側（塗布液流入口１０側のスリット部７のスリット間隔Ｈ１））を可変にするばかりではなく、本発明のダイヘッドユニット（Ｕ）を使用して適応できる塗布液の種類が広がり、様々な種類（濃度の変化も含む）の塗布液に対して前記スリット部（７）から吐出される塗布液の量をマニホールド部６の長手方向（管軸方向）に対して均一な量に調節することが的確に素早くできるようになる。
Furthermore, as described in
さらに、請求項５に記載されるように、請求項４に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、 前記回転軸（１３）を有さない前記マニホールド板（１）が前記土台板（３）上を水平方向に移動可能であるから、本発明のダイヘッドユニット（Ｕ）を使用して適応できる塗布液の種類が広がり、様々な種類（濃度の変化も含む）の塗布液に対して前記スリット部（７）から吐出される塗布液の量をマニホールド部６の長手方向（管軸方向）に対して均一な量に調節することが的確に素早くできるようになる。
Furthermore, as described in
さらに、請求項６に記載されるように、請求項２乃至５の何れか一項に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記平板（２）における前記回転軸（１３）の位置に対し、前記接点部分（Ｕ）とは反対側の前記平板（２）の一部にストッパ（３６）の一部が押圧され、前記ストッパ（３６）は前記土台板（３）に形成された支持部（１５、２５）に支持され、前記ストッパ（３６）と前記スリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）の前記接点部分（２４）とは前記回転軸（１３）を中心に回転する前記平板（２）を互いに押圧することを特徴とするダイヘッドユニット（Ｕ）であるから、簡易な構成で前記スリット部（７）のスリット間隔のテーパ率を正確に設定することが可能である。
Furthermore, as described in
さらに、請求項７に記載されるように、請求項２乃至５の何れか一項に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記平板（２）における前記回転軸（１３）の位置に対し、前記接点部分（２４）とは反対側の前記平板（２）の一部に弾性体（１４）の一端が押圧され、前記弾性体（１４）の他端は前記土台板（３）に形成された支持部（１５、２５）に押圧され、前記弾性体（１４）と前記スリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）の前記接点部分（２４）とは前記回転軸（１３）を中心に回転する前記平板（２）を互いに押圧することを特徴とするダイヘッドユニット（Ｕ）であるから、簡易な構成で前記スリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）の動きに対して正確に素早く平板（２）が追随して回転することが可能である。従って、前記スリット部（７）のスリット間隔のテーパ率を連続的に正確に設定することが可能である。また、弾性体（１４）としてコイルバネ等のバネを使用すれば耐久性が非常に高いので、一端組み立てれば半永久的にそのまま使用し続けることが可能になる。
Furthermore, as described in claim 7, in the die head unit (U) according to any one of
さらに、請求項８に記載されるように、請求項１乃至７の何れか一項に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記平板（２）と前記マニホールド板（１）との端面は、前記平板（２）または前記マニホールド板（１）から前記塗布液が漏れ出さないように前記塗布液流入口（１０）および前記開口部（７ａ）を除き、シール材（２８、２９）によってシールされていることを特徴とするダイヘッドユニット（Ｕ）である。本発明のダイヘッドの基本構成は、平板（２）、マニホールド板（１）および土台板（３）からなり、板の組み合わせは、土台板（３）上にマニホールド板をねじにて数点を固定し、平板（２）も支点となる回転軸（１３）（好ましくは中央部）のみ固定する。次に、微動送り装置（微動装置）である前記スリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）を土台板（３）の片側端部に固定しもう一方側端部にはバネ等の弾性体（１４）を設置する。微動送り装置により平板のうち片側端部を微動させ、平板の支点を中心に回転させる。マニホールド板と平行な位置をゼロ点として微動量から形成したスリット間隙のテーパ率を確認できる。確認後、平板は土台板の長孔を用いて固定されシール材（２８、２９）によってシールされているので、塗布液の液漏れは完全に解消される。
Furthermore, as described in claim 8, in the die head unit (U) according to any one of
さらに、請求項９に記載されるように、請求項１乃至７の何れか一項に記載のダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記回転軸（１３）はネジ（１６）であることを特徴とするダイヘッドユニット（Ｕ）であるから、簡易な構成で前記スリット部（７）のスリット間隔のテーパ率を連続的に正確に設定することが可能である。
Furthermore, as described in claim 9, in the die head unit (U) according to any one of
さらに、請求項１０記載されるように、塗布液が流入される塗布液流入口（１０）と前記塗布液流入口（１０）からマニホールド部（６）が形成されたマニホールド板（１）と、前記マニホールド板（１）との間に前記塗布液が押し出されるスリット部（７）が形成されるとともに前記マニホールド部（６）が覆われる平板（２）とを有するダイヘッドユニット（Ｕ）において、前記マニホールド板（１）に接し、前記スリット部（７）のスリット間隔を変更するスリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）と、前記塗布液が押し出される前記スリット部（７）の開口部（７ａ）と異なる面において、前記マニホールド板（１）および前記平板（２）を支持する土台板（３）と、前記マニホールド板（１）を前記土台板（３）の面上で回転可能とする回転軸（１３）とを備えることを特徴とするダイヘッドユニット（Ｕ）であるから、前記マニホールド板（１）を回転軸（１３）を中心に回転することで前記スリット部（７）のスリット間隔のテーパ率（終端側（塗布液流入終端面１１側のスリット間隔Ｈ２）／入り口側（塗布液流入口１０側のスリット部７のスリット間隔Ｈ１））を、前記マニホールド板１および前記平板２を含むダイヘッドを分解することなく任意に連続的に変更可能とすることができる（インラインにおいて前記スリット部（７）のスリット間隔のテーパ率を変更することが可能である）。従って、塗液や塗布巾等により大きくことなるものの、テーパ率の調整一回あたり、シム製作費用の削減、組立て分解時間の短縮および生産停止時間の短縮が可能となる。従ってタクトタイムを短縮することができる。また、ダイヘッドの検証時間の短縮により、開発納期の短縮が可能となる。さらに、ダイヘッド製作後にスリット間隔のテーパ率（特に直線テーパ）を変更できるため、ダイヘッド形状の初期設計時間の短縮、液物性の変更への対応や分配量以外の要因による膜厚精度不足の修正等にも応用できる。
Furthermore, as described in
以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
＜実施の形態１＞
図１は、本実施形態に係わるダイヘッドユニットの正面を示す正面図である。
<
FIG. 1 is a front view showing the front of the die head unit according to the present embodiment.
本実施形態に係わるダイヘッドユニットは、マニホールド板１、平板２、土台板３およびスリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）である微動装置（４、２０、２２）と駆動軸（５、２１、２３）を含んで構成される。
The die head unit according to this embodiment includes a
マニホールド板１と平板２は土台板３と接触している。マニホールド板１と平板２および土台板３とは金属であることが好ましいがこれに限定されるわけではない。
The
マニホールド板１は土台板３上においてネジにて固定されている。土台板３とマニホールド板１との位置関係がずれないようにネジは複数であることが好ましい。
The
また、マニホールド板１の底面（土台板３との接触面である）および土台板３の表面（マニホールド板１との接触面である）は互いに鏡面加工されているので接触面の密着度が非常に高くなりマニホールド板１と土台板３とは密封された状態となる。従って、マニホールド部６に注入された塗布液はマニホールド板１と土台板３との界面から外部に漏れることなくスリット部７から外部に吐出される。
In addition, since the bottom surface of the manifold plate 1 (which is a contact surface with the base plate 3) and the surface of the base plate 3 (which is a contact surface with the manifold plate 1) are mirror-finished, the degree of contact between the contact surfaces is extremely high. The
平板２は土台板３と、回転軸１３においてネジにて固定されている（押さえつけられている。）。従って、平板２は回転軸１３を中心にして土台板３の表面を水平方向に回転する。
The
また、平板２の土台板３との接触面および土台板３の平板２との接触面は互いに鏡面加工されているので接触面の密着度は高いが、前述したように平板２が回転軸１３を中心に土台板３の上を水平方向に回転することができる程度の密着度となっている。従って、平板２と土台板３との界面の密着度が高いので、マニホールド部６に注入された塗布液は平板２と土台板３との界面から外部に漏れることなくスリット部７から外部に吐出される。
Further, since the contact surface of the
マニホールド板１と平板２とは向かい合っており、マニホールド部６はマニホールド板１に形成された凹部を平板２が覆うようになっている。また、図１のＦ方向へマニホールド部６に注入された塗布液（ニュートン流体および非ニュートン流体(擬塑性(pseudo-plastic)流体、ダイラタント(dilatant)流体、ビンガム(Bingham)流体等を含む)）を吐出するためのスリット部７が、向かい合ったマニホールド板１と平板２との間に形成されている。
The
マニホールド部６には図１の手前側から塗布液が注入され、塗布液はマニホールド部６を図１の奥に向かって（マニホールド部６の長手方向（管軸方向）に）流れ、スリット部７からＦ方向に向かって（図１の奥方向（マニホールド部６の長手方向（管軸方向））に沿って）均一な流量の分布となる塗布液が吐出される。
A coating solution is injected into the
スリット部７は、平板２が回転軸１３を中心に水平方向に回転することによりスリット間隔のテーパ率が変化する（詳細は図２において説明する）。
In the slit portion 7, the taper rate of the slit interval changes as the
スリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）の一部である微動装置４はネジ等の固定具によって土台板３に固定されている。従って、微動装置４の駆動機構によって平板２に接触する駆動軸５を平板２方向（Ｄ１方向）へ押し出し、または引き込む（Ｄ２方向）ことによって平板２を、回転軸１３を中心に土台板３の表面上を水平方向に回転させる。微動装置４の構成については後述する。
The
また、図１においては図示されていないが、マニホールド板１と平板２との境界面を含む端面は、塗布液が注入されるマニホールド部６の図１における手前側の塗布液流入口１０（図２参照）を除いてゴム等の弾性体（シール材２８、２９）および金属等のカバー（シール材２８を覆うフタ材３３、シール材２９を覆うフタ材３４）で覆われて（シールされて）おり、マニホールド部６に注入された塗布液がマニホールド板１と平板２との境界面から外部に漏れることなくスリット部７から外部に吐出される構造となっている。
Although not shown in FIG. 1, the end surface including the boundary surface between the
次にマニホールド部６の詳細について図２を用いて説明する。
Next, details of the
図２はマニホールド部６の詳細を示す概略斜視図であり、図２の上部がマニホールド板１であり図２の下部が平板２である。塗布液は１２方向からマニホールド部６の塗布液流入口１０を通ってマニホールド部６内に注入される。マニホールド部６のもう一端である塗布液流入終端面１１は前述したようにゴム等の弾性体で覆われ密閉されているので、マニホールド部６に注入された塗布液は、スリット部７から外部に吐出される。
FIG. 2 is a schematic perspective view showing details of the
塗布液流入口１０に近い位置の塗布液は１２ａ方向からスリット部７を通って１２ｂ方向に向かって外部に吐出される。１２ｃ方向からスリット部７に流入した塗布液はスリット部７を通って１２ｄ方向に向かって外部に吐出される。１２ｂ方向に向かって外部に吐出される塗布液の量と１２ｄ方向に向かって外部に吐出される塗布液の量とは均一になるようにスリット部７のスリット間隔が調整される（調整方法は後述する。）。
The coating liquid at a position close to the
また、１２ｅ方向からスリット部７に流入した塗布液はスリット部７を通って１２ｆ方向に向かって外部に吐出され、１２ｇ方向からスリット部７に流入した塗布液はスリット部７を通って１２ｈ方向に向かって外部に吐出される。１２ｆ方向に向かって外部に吐出される塗布液の量と１２ｈ方向に向かって外部に吐出される塗布液の量とは均一になるようにスリット部７のスリット間隔が調整される。従って、１２ｂ方向に向かって外部に吐出される塗布液の量、１２ｄ方向に向かって外部に吐出される塗布液の量、１２ｆ方向に向かって外部に吐出される塗布液の量、および１２ｈ方向に向かって外部に吐出される塗布液の量とは均一になるように（均一吐出）スリット部７のスリット間隔が調整される。 Further, the coating liquid flowing into the slit portion 7 from the 12e direction is discharged to the outside through the slit portion 7 toward the 12f direction, and the coating liquid flowing into the slit portion 7 from the 12g direction passes through the slit portion 7 in the 12h direction. Toward the outside. The slit interval of the slit portion 7 is adjusted so that the amount of the coating liquid discharged to the outside in the 12f direction and the amount of the coating liquid discharged to the outside in the 12h direction are uniform. Therefore, the amount of the coating liquid discharged to the outside in the 12b direction, the amount of the coating liquid to be discharged to the outside in the 12d direction, the amount of the coating liquid to be discharged to the outside in the 12f direction, and the 12h direction The slit interval of the slit portion 7 is adjusted so as to be uniform with the amount of the coating liquid discharged toward the outside (uniform discharge).
塗布液流入口１０側のスリット部７のスリット間隔Ｈ１と塗布液流入終端面１１側のスリット部７のスリット間隔Ｈ２とは、回転軸１３を中心に図２の下部の平板２が回転することによりスリット間隔が連続的に自由に変化する。平板２は微動装置４の駆動軸５に押されまたは引かれることにより回転軸１３を中心に回転する（矢印Ｌ）ので、スリット間隔のテーパ率（終端側（塗布液流入終端面１１側のスリット間隔Ｈ２）／入り口側（塗布液流入口１０側のスリット部７のスリット間隔Ｈ１））をマニホールド板１および平板２を含むダイヘッドを分解することなく任意に連続的に変更可能とすることができる。スリット部７の任意の開口部７ａにおいてテーパ率が一定となるがこれを直線テーパと呼ぶ。
The
スリット間隔Ｈ１とスリット間隔Ｈ２はおおよそ数ミクロンから数１００ミクロンの間で変化する。通常、塗布液流入口１０側のスリット部７のスリット間隔Ｈ１よりも塗布液流入終端面１１側のスリット間隔Ｈ２の値の方が大きく、塗布液の液粘度・塗布液が塗布される面の塗布液の膜圧等に応じて変化するが、塗布液流入終端面１１側のスリット部７のスリット間隔Ｈ２は数１００ミクロンとなる。好ましくは１００ミクロン前後となる。
The slit interval H1 and the slit interval H2 vary between approximately several microns and several hundred microns. Usually, the value of the slit interval H2 on the coating liquid
微動装置４の駆動軸５に押されまたは引かれることにより回転軸１３を中心に回転する平板２は、ミクロン単位またはサブミクロン単位で連続的にスリット間隔Ｈ１およびスリット間隔Ｈ２を変化させることができる。
The
次に図３のダイヘッドユニットの平面図を用いてスリット部７のスリット間隔が変化する機構について説明する。 Next, a mechanism for changing the slit interval of the slit portion 7 will be described using the plan view of the die head unit of FIG.
平板２は回転軸である回転軸１３を中心にＬ方向（図３における紙面上（土台板３の表面とほぼ平行な面上）に回転する。
The
微動装置４に駆動されて図３において上下方向（Ｄ２方向およびＤ１方向）に移動する駆動軸５は平面２と接点（接点部分）２４において接触し、平板２をＬ方向（Ｌ４方向およびＬ３方向）に回転させる。
The
支持部１５は土台板３上に形成され、バネ等の弾性体１４を介して平板２と結合している（詳細は後述する）。平板２とマニホールド板１とで形成されるスリット部７の塗布液流入口１０側のスリット間隔Ｈ１が広い場合に（一例として数百ミクロンの場合に）、支持部１５と平板２との間に設置された弾性体１４が縮んだ状態である場合には、スリット部７における通常のテーパ率の範囲内において、弾性体１４は平板２をＤ３方向に押圧し続ける。従って、回転軸１３の反対側にある接点（接点部分）２４には常にＤ２方向（微動装置４側）に押す力が平板２を介して働くので、駆動軸５と平板２とを結合させるための構造体を形成する必要がない。
The
次に、駆動軸５がＤ１方向に移動すると、駆動軸５は接点（接点部分）２４において平面２を押圧し、回転軸１３から図３において左側（回転軸１３から微動装置４側）にある平板２をＬ３方向へ回転させる。一方、駆動軸５が接点（接点部分）２４において平面２を押圧することで、回転軸１３から図３において右側（回転軸１３から微動装置４と反対側）にある平板２をＬ１方向へ回転させる。
Next, when the
従って、平板２は図３を上側から見て、反時計方向に回転するので微動装置４に近い側（塗布液流入口１０側）のスリット間隔Ｈ１は小さく（狭まく）なり、微動装置４から遠い側（塗布液流入終端面１１側）のスリット間隔Ｈ２は大きく（広く）なる。このように平板２のスリット間隔Ｈ１を狭くすることで、スリット部７における塗布液流入口１０に近い開口部７ａ（マニホールド部６の長手方向（管軸方向）における塗布液流入口１０に近いスリット部の開口部７ａ）から外部に吐出される塗布液の量を少なくするように調整できる。また、塗布液流入終端面１１に近い開口部７ａ（マニホールド部６の長手方向（管軸方向）における塗布液流入終端面１１に近いスリット部７の開口部７ａ）から外部に吐出される塗布液の量を多くするように調整できる。
Accordingly, the
駆動軸５がＤ２方向に移動すると、駆動軸５は接点（接点部分）２４において弾性体１４の弾性力（伸びる力）によって平面２から押圧されるので、回転軸１３から図３において左側（回転軸１３から微動装置４側）にある平板２は弾性体１４の弾性力によってＬ４方向に回転する。一方、回転軸１３から図３において右側（回転軸１３から微動装置４と反対側）にある平板２はＬ２方向に回転する。
When the
従って、平板２は図３を上側から見て、時計方向に回転するので微動装置４に近い側（塗布液流入口１０側）のスリット間隔Ｈ１は大きく（広く）、微動装置４から遠い側（塗布液流入終端面１１側）のスリット間隔Ｈ２は小さく（狭まく）なる。このように平板２のスリット間隔Ｈ１を広くすることで、スリット部７における塗布液流入口１０に近い開口部７ａ（マニホールド部６の長手方向（管軸方向）における塗布液流入口１０に近いスリット部の開口部７ａ）から外部に吐出される塗布液の量を大きくするように調整できる。また、塗布液流入終端面１１に近い開口部７ａ（マニホールド部６の長手方向（管軸方向）における塗布液流入終端面１１に近いスリット部の開口部７ａ）から外部に吐出される塗布液の量を少なくするように調整できる。
Accordingly, since the
以上述べてきたように、平板２を回転させることによって、スリット間隔のテーパ率（終端側（塗布液流入終端面１１側のスリット間隔Ｈ２）／入り口側（塗布液流入口１０側のスリット部７のスリット間隔Ｈ１））を精密に制御することが可能となる。
As described above, by rotating the
なお、図３においてシール材２８を覆うフタ材３３はネジ３４がマニホールド板１の取り付け穴（図示せず）に挿入され、シール材２８を押圧してマニホールド板１に固定される。また、同様に、シール材２９を覆うフタ材３２はネジ３５がマニホールド板１の取り付け穴（図示せず）に挿入されることによってシール材２９を押圧してマニホールド板１に固定される。
In FIG. 3, the
この場合、フタ材３３に設けられるネジは一つとは限らず、複数のネジが（例えば、マニホールド板１の高さ方向に）フタ材３３からシール材２８を介してマニホールド板１に取り付けられることによって、マニホールド板１とフタ材３３がしっかりと固定され、シール材２８による密閉性が高まる。同様に、複数のネジが（例えば、マニホールド板１の高さ方向に）フタ材３２からシール材２９を介してマニホールド板１に取り付けられることによって、マニホールド板１とフタ材３２がしっかりと固定され、シール材２９による密閉性が高まる。
In this case, the number of screws provided in the
次に図４を用いて、回転軸１３を土台板３の表面におおよそ水平な方向（管軸方向）に移動させる方法について説明する。
Next, a method of moving the
図４（Ａ）は図３のＡ−Ａ線における断面図である。図４（Ｂ）はダイヘッドユニットの底面図である。 4A is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. FIG. 4B is a bottom view of the die head unit.
図４（Ａ）において、回転軸１３にはネジ１６が設置され、平板２はネジ１６を回転の中心として土台板３の表面をＬ方向に回転する。土台板３にはネジ１６のネジ部分の直径よりも大きい長穴１８が形成されており、土台部３の長穴１８と平板２とをネジ１６で止める。またネジ１６と長穴１８との間にワッシャー１７を備えてもよく、この場合にはワッシャー１７が回転による摩擦力を軽減するのでネジ１６だけを用いて平板２と土台板３とを固定した場合よりも、平板２は土台板３上において滑らかに回転することが可能となる。
In FIG. 4A, a
長穴１８は、スリット部７の長手方向（管軸方向）（マニホールド部６の長手方向（管軸方向））と交差する方向（好ましくは直交する方向）に形成されており、長穴１８の任意の位置においてネジ１６を用いて平板２と土台板３とを固定することが可能である。
The
長穴１８は、平板２の底面における長手方向（管軸方向）の中心点近辺を含み、長手方向（管軸方向）と交差する方向（好ましくは直交する方向）に形成されている。平板２を長穴１８の長穴方向に移動させ（回転軸１３が長穴１８に沿って移動する）、平板２と土台板３とをネジ１６を用いて押し合わせると、スリット部７の開口部７ａの面積が変化する。従って、ネジ１６の長穴１８における取り付け位置は、塗布液の種類、濃度、粘度、および膜厚等によって変化し、スリット部７から吐出される塗布液の量がマニホールド部６の長手方向（管軸方向）において均一になるようにスリット間隔のテーパ率とともに調節される。
The
例えば、スリット部７の長手方向の各位置における塗布液の排出量は、マニホールド部６の塗布液の内圧とスリット部７の開口部７ａにおける塗布液の圧力との差で決定されるが、粘度が高い塗布液の場合には開口部７ａのスリットギャップを広げる（開口部７ａの面積が大きくなる）ことによって塗布量を大きくすることができる。
For example, the discharge amount of the coating liquid at each position in the longitudinal direction of the slit part 7 is determined by the difference between the internal pressure of the coating liquid in the
一方、この場合にはスリット部７において発生する壁面せん断による圧力損失が減少することになる。スリット部７において発生する壁面せん断による圧力損失が減少すると、スリット部７の長手方向の圧力偏差が大きくなり、吐出分布が悪化するが、テーパ率を高めることによって吐出分布の悪化を防ぐことができる。 On the other hand, in this case, the pressure loss due to the wall shear generated in the slit portion 7 is reduced. When the pressure loss due to the wall shear generated in the slit portion 7 decreases, the pressure deviation in the longitudinal direction of the slit portion 7 increases and the discharge distribution deteriorates. However, by increasing the taper rate, the deterioration of the discharge distribution can be prevented. .
また、長穴１８は平板２の重心から平板２の底面へ下ろした垂線と平板２の底面とが交差する点またはその近辺を含むように形成してもよい。
Further, the
図４（Ｂ）はダイヘッドユニットの底面図であり、長穴１８がマニホールド部６の長手方向（管軸方向）と交差する方向（好ましくは直交する方向）に形成されていることを示している。またネジ１６がマニホールド部６の長手方向（管軸方向）と交差する方向（方向Ｄ５）に形成されている長穴１８の任意の位置で平板２と土台板３とを締め込んで固定される（押圧される）ことが可能であることが示されている。
FIG. 4B is a bottom view of the die head unit, and shows that the
なお、長穴１８を、マニホールド板１の底面における長手方向（管軸方向）の中心点近辺を含み、長手方向（管軸方向）と交差する方向（好ましくは直交する方向）に形成することも可能である（図示せず）。この場合にはマニホールド板１を長穴１８の長穴方向に移動させ（回転軸１３が長穴１８に沿って移動する）、マニホールド板１と土台板３とをネジ１６を用いて押し合わせ、スリット部７の開口部７ａの面積を変化させる。
The
次に図５（Ａ）および（Ｂ）を用いて、コイルバネ等の弾性体１４が土台板３に形成された支持部１５と平板２とに押圧される実施例について、ダイヘッドユニットの背面図を用いて説明する。
Next, with reference to FIGS. 5A and 5B, a rear view of the die head unit will be described with respect to an embodiment in which the
図５（Ａ）に示す実施例１では、支持部１５は土台板３の上面に形成された金属等の壁板であり、土台板３とはネジ等の固定具によって固定される。弾性体１４はその両端において平板２および支持部１５とに押圧されることで固定される。
In Example 1 shown in FIG. 5A, the
この場合、平板２の側面には弾性体１４の一端１４ａの内側に挿入されるバネガイドとなる凸部２ａを形成し、支持部１５の側面には弾性体１４の一端１４ｂの内側に挿入されるバネガイドとなる凸部１５ａを形成する。そして、弾性体１４の一端１４ａの内側に平板２に形成されたバネガイドとなる凸部２ａを挿入し、弾性体１４の他端１４ｂの内側に支持部１５に形成されたバネガイドとなる凸部１５ａを挿入して平板２と支持部１５との間で弾性体１４を押圧して固定する。弾性体１４の一端１４ａにおけるバネの円周の中心位置と他端１４ｂにおけるバネの円周の中心位置とを結ぶ線が平板２の移動方向Ｄ３およびＤ４とおおよそ平行に近づくと弾性体１４の伸縮力を効率良く利用することができる。また、凸部２ａおよび凸部１５ａの長さは弾性体１４がはずれない程度の任意の値とすることができる。また、平板２に形成された凸部２ａおよび支持部１５に形成された凸部１５ａに弾性体１４の一端１４ａと弾性体１４の他端１４ｂとをそれぞれ嵌合させてもよい。
In this case, a
図５（Ｂ）における実施例２においても、弾性体１４はその両端において平板２および支持部１５とに押圧されることで固定される。
Also in Example 2 in FIG. 5B, the
図５（Ｂ）では、平板２の側面に弾性体１４の一端１４ａをそのまま挿入するためのバネガイドとなる凹部２ｂを形成し、支持部１５の側面に弾性体１４の一端１４ｂをそのまま挿入するためのバネガイドとなる凹部１５ｂを形成する。
In FIG. 5B, a
弾性体１４の一端１４ａを平板２に形成されたバネガイドとなる凹部２ｂに挿入し、弾性体１４の他端１４ｂを支持部１５に形成されたバネガイドとなる凹部１５ｂに挿入して平板２と支持部１５との間で弾性体１４を押圧して固定する。図５（Ａ）における実施例１と同様に図５（Ｂ）における実施例の場合にも弾性体１４の一端１４ａにおける円周の中心位置と他端１４ｂにおける円周の中心位置とを結ぶ線が平板２の移動方向Ｄ３およびＤ４とおおよそ平行に近づくと弾性体１４の伸縮力を効率良く用いることができる。また、弾性体１４が支持される凹部２ａおよび凹部１５ａの長さは弾性体１４がずれない程度の任意の深さとすることができる。
One
また、弾性体１４の引っ張り力を利用する場合には、平板２および支持部１５にフック部（図示せず）を形成して、弾性体１４の一端１４ａと他端１４ｂのバネの先端を引っかけて弾性体１４を平板２と支持部１５との間で固定することも可能である。
Further, when the tensile force of the
また、弾性体１４の固定の仕方はこれらに限定されるわけではなく、図示しないが、弾性体１４の弾性力を失うことなく弾性体１４の一端１４ａが平板２に、弾性体１４の他端１４ｂが支持部１５に固定されればどのような止め方でも可能である。
Further, the method of fixing the
また、弾性体１４の伸縮方向が土台板３の上面とおおよそ平行（平板２および支持部１５とおおよそ垂直方向）になるように固定されれば、弾性体１４の伸縮力が効率的に平板２の回転方向に伝わるが、平板２を回転することが可能であれば弾性体１４の伸縮方向は土台板３の上面との角度を任意に設定して取り付けることができる。すなわち、土台板３から弾性体１４の一端１４ａが固定される平板２側の固定点および他端１４ｂが固定される支持部１５側の固定点までの高さをそれぞれ独立して任意に設定することが可能である。
Further, if the
さらに、支持部１５を土台板３と一体化して形成し、弾性体１４を固定する構成とすることも可能である。
Further, the
次に図５（Ｃ）では、弾性体１４の代わりに、ネジ等のストッパ３６を使用して平板２を押圧する構成を示す。
Next, FIG. 5C shows a configuration in which the
ストッパ３６は、土台板３に形成された支持部１５に支持され、ストッパ３６の一部が平板２に押圧されるので、ストッパ３６とスリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）の接点部分２４とで回転軸１３を中心に回転する前記平板２を互いに押圧する。例えば、支持部１５にネジ穴を形成し、ストッパ３６としてのネジを嵌入させる。
The stopper 36 is supported by the
図５（Ｃ）に示すように、ストッパ３６としてネジを使用した場合には、ネジを回転させることによって土台板３上をＤ４方向またはＤ３方向にネジが移動するので、ネジに接触する平板２もネジの移動に伴って回転軸１３を中心に回転することが可能になる。
As shown in FIG. 5C, when a screw is used as the stopper 36, the screw moves on the
この場合、ネジに対して、平板２の回転軸１３の反対側にスリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）があるので、ネジを回転させて平板２の位置を決定することで、ネジとスリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）とで平板２を押圧し、平板２の位置を固定することができる。
In this case, since there is a slit interval changing mechanism (4, 5 and 19, 20 and 21, 22 and 23) on the opposite side of the
次に図６を用いて、微動装置４の実施例について説明する。
Next, an embodiment of the
図６（Ａ）は、微動装置４にモータ１９を使用した場合の実施例３を示す。モータ１９の回転軸に螺合するように歯車１９の溝が形成され、さらに歯車１９は駆動軸５の一端５ａに形成された螺旋溝と螺合し、モータ１９の回転運動が駆動軸５の直線運動に変換される。
FIG. 6A shows a third embodiment in which the
駆動軸５がＤ１方向に移動した場合には、駆動軸５と平板２とが接する接点（接点部分）２４は駆動軸５に押圧され、平板２をＤ１方向に移動させる。その結果、平板２は回転軸１３を中心に図３におけるＬ３方向に回転する。
When the
また、モータ１９が逆転し、駆動軸５がＤ２方向に移動した場合には、駆動軸５と平板２とが接する接点（接点部分）２４では弾性体１４の伸びる力（図３におけるＤ３方向の力）が回転軸１３を介して平板２を押圧している（図３において平板２をＬ２方向およびＬ４方向に回転させる力が働いている）ので、平板２をＤ２方向に移動させる。
Further, when the
また、歯車１９は円形状でも楕円形状でもよく、特に楕円形状の場合にはカムとして機能し、曲率の小さい面を駆動軸５と螺合させることによって、駆動軸５の直線運動を細かく制御することが可能である。
The
このようにして微動装置４におけるモータ１９が正方向または反対方向に回転することにより駆動軸５を直線運動させ、回転軸１３を中心に平板２を回転させる。
In this way, the
図５（Ｂ）はマイクロメータヘッド２１と等価な機構を簡略化して示した微動装置４に係る実施例４である。
FIG. 5B is a fourth embodiment of the
つば部２１ａおよび２１ｂはマイクロメータヘッド２１の回転軸に対して同心円上に形成されているので、マイクロメータヘッド２１を回転させるとマイクロメータヘッド２１のつば部２１ａおよび２１ｂも同時に回転する。つば部２１ａおよびつば部２１ｂの周囲にはカバー部２６が、つば部２１ａおよびつば部２１ｂに接合するように形成されている。カバー部２６は土台板３とネジ等の固定具で固定されている。また、カバー部の図６（Ｂ）における上方部分２６ａの内側面がつば部２１ａと嵌合し、カバー部の図６（Ｂ）における下方部分２６ｂの内側面がつば部２１ｂと嵌合しているので、マイクロメータヘッド２１が回転してもマイクロメータヘッド２１は土台板３上をＤ１方向またはＤ２方向に移動することなくその場で回転する。
Since the
また、マイクロメータヘッド２１の内周に設けられたネジ溝２１ｃは、駆動軸２０に形成されたネジ山２０ａと係合するようになっている。従って、マイクロメータヘッド２１を回転させると駆動軸２０はＤ１方向またはＤ２方向に移動する。
A
このように微動装置４としてマイクロメータヘッド２１を用いたので、平板２をミクロン単位またはサブミクロン単位で移動させることが可能となり、マニホールド部６のスリット間隔Ｈ１およびスリット間隔Ｈ２（スリット間隔のテーパ率）を精密に制御することが可能となる。
Since the
また、図５（Ｃ）は微動装置４としてネジによる作動装置２３を用いた実施例５である。ネジによる作動装置２３はカバー部２７の上カバー部２７ａと下カバー部２７ｂによって土台部３へネジ等の固定具で固定されている。またネジによる作動装置２３の回転軸には駆動軸２２が設けられているので、駆動軸２２をＤ１方向またはＤ２方向に精密に移動することが可能となる。ネジによる作動装置２３を用いれば平板２をミクロン単位またはサブミクロン単位で移動することが可能となるので、マニホールド部６のスリット間隔Ｈ１およびスリット間隔Ｈ２（スリット間隔のテーパ率）を精密に制御することが可能となる。
FIG. 5C shows a fifth embodiment in which a
また、上記実施の形態１において、実機検証の間にもスリット間隙のテーパ率を調整できる機構を設けるべく、本発明のダイヘッドでは平板とマニホールド板の両底面を、新たに設置する土台板により支持して、その平板の底面には回転軸を一点設けているので、平板は、支点を中心にして水平方向に回転するため、実機検証中でもスリット間隙のテーパ率を調整できる（液漏れ量は最小限）。また、調整にはダイヘッドの分解が必要なく、実機検証中であれば膜厚測定装置の出力値をモニタしながらスリット間隙のテーパ率を調整（調整のインライン化）できるため、本発明のダイヘッドは従来に比べて実機運転開始までの検証費用の節約および検証時間の短縮に優れる。また、本ダイヘッドは、調整のインライン化に限らずに、液品種の変更や高速化等の塗布条件の変更における実機検証にも有効である。 In the first embodiment, in order to provide a mechanism capable of adjusting the taper ratio of the slit gap even during actual machine verification, in the die head of the present invention, both the bottom surfaces of the flat plate and the manifold plate are supported by newly installed base plates. Since the flat plate has a single axis of rotation on the bottom surface, the flat plate rotates horizontally around the fulcrum, so the taper ratio of the slit gap can be adjusted even during actual machine verification (the amount of liquid leakage is minimized). Limit). In addition, the die head does not need to be disassembled for adjustment, and the taper ratio of the slit gap can be adjusted (in-line adjustment) while monitoring the output value of the film thickness measurement device during actual machine verification. Compared to the conventional system, it saves verification costs and shortens verification time until the start of actual operation. In addition, the die head is effective not only for in-line adjustment but also for actual machine verification in changing coating conditions such as changing the liquid type and speeding up.
＜実施の形態２＞
図７は本発明の実施の形態２に係るダイヘッドユニットの平面を示す平面図である。なお、前記実施の形態１と同一又は対応する部分には、同一の符号を付して説明をする。
<
FIG. 7 is a plan view showing a plane of the die head unit according to
本実施形態に係わるダイヘッドユニットは、マニホールド板１、平板２、土台板３およびスリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）の一部である微動装置４を含んで構成される。
The die head unit according to this embodiment includes a
マニホールド板１と平板２は土台板３と接触している。マニホールド板１と平板２および土台板３とは金属であることが好ましいがこれに限定されるわけではない。
The
平板２は土台板３上とネジ等の固定具を使用して固定されている。土台板３と平板２との位置関係がずれないようにネジは複数であることが好ましい。
The
また、平板２の底面（土台板３との接触面である）および土台板３の表面（平板２との接触面である）は互いに鏡面加工されているので接触面の密着度が非常に高くなり平板２と土台板３とは密封された状態となる。従って、マニホールド部６に注入された塗布液は平板２と土台板３との界面から外部に漏れることなくスリット部７（図２参照）の開口部７ａから外部に吐出される。
Further, since the bottom surface of the flat plate 2 (which is a contact surface with the base plate 3) and the surface of the base plate 3 (which is a contact surface with the flat plate 2) are mirror-finished, the contact surface has a very high degree of adhesion. The
マニホールド板１は土台板３と、回転軸１３の一点においてネジ（ネジ）にて固定されている。従って、マニホールド板１は回転軸１３を中心にして土台板３の表面を水平方向に回転する。
The
また、マニホールド板１の土台板３との接触面および土台板３のマニホールド板１との接触面は互いに鏡面加工されているので接触面の密着度は高いが、前述したようにマニホールド板１が回転軸１３を中心に土台板３の上を水平方向に回転することができる程度の密着度となっている。従って、マニホールド板１と土台板３との界面の密着度が高いので、マニホールド部６に注入された塗布液はマニホールド板１と土台板３との界面から外部に漏れることなくスリット部７（図２参照）の開口部７ａから外部に吐出される。
Further, since the contact surface of the
マニホールド板１と平板２とは向かい合っており、マニホールド部６はマニホールド板１に形成された凹部を平板２が覆うようになっている。また、図７の紙背から紙面へマニホールド部６に注入された塗布液を吐出するためのスリット部７（図２参照）が、向かい合ったマニホールド板１と平板２との間に形成されている。
The
マニホールド部６には図７中左側から塗布液が注入され、塗布液はマニホールド部６を図７中左側から右側に向かって（マニホールド部６の長手方向（管軸方向）に）流れ、スリット部７（図２参照）を通り開口部７ａから（図７中左側から右側（マニホールド部６の長手方向（管軸方向））に沿って）均一な流量の分布となる塗布液が吐出される。
The coating liquid is injected into the
スリット部７（図２参照）は、平板２が回転軸１３を中心に水平方向に回転することによりスリット間隔のテーパ率が変化する。
As for the slit part 7 (refer FIG. 2), the taper rate of a slit space | interval changes when the
スリット間隔変更機構（４、５および１９、２０および２１、２２および２３）の一部である微動装置４はネジ等の固定具によって土台板３に固定されている。従って、微動装置４の駆動機構によってマニホールド板１に（接点（接点部分）３０において）接触する駆動軸５をマニホールド板１方向（Ｄ１方向）へ押し出し、または引き込む（Ｄ２方向）ことによって、マニホールド板１を回転軸１３を中心に土台板３の表面上を水平方向に回転させる。
The
また、図７においては図示されていないが、マニホールド板１と平板２との境界面を含む端面は、塗布液が注入されるマニホールド部６の図７中左側における塗布液流入口１０（図２参照）を除いてゴム等の弾性体（シール材２８、２９）で覆われて（シールされて）おり、マニホールド部６に注入された塗布液がマニホールド板１と平板２との境界面から外部に漏れることなくスリット部７（図２参照）の開口部７ａから外部に吐出される構造となっている。
Although not shown in FIG. 7, the end surface including the boundary surface between the
その他、図７において実施の形態１の場合と同じ構成及び作用効果についてはその説明を省略する。
In addition, in FIG. 7, the description about the same structure and effect as the case of
また、上記実施の形態２においても、実機検証の間にもスリット間隙のテーパ率を調整できる機構を設けるべく、本発明のダイヘッドでは平板とマニホールド板の両底面を、新たに設置する土台板により支持して、そのマニホールド板の底面には回転軸を一点設けているので、マニホールド板は、支点を中心にして水平方向に回転するため、実機検証中でもスリット間隙のテーパ率を調整できる（液漏れ量は最小限）。また、調整にはダイヘッドの分解が必要なく、実機検証中であれば膜厚測定装置の出力値をモニタしながらスリット間隙のテーパ率を調整（調整のインライン化）できるため、本発明のダイヘッドは従来に比べて実機運転開始までの検証費用の節約および検証時間の短縮に優れる。また、本ダイヘッドは、調整のインライン化に限らずに、液品種の変更や高速化等の塗布条件の変更における実機検証にも有効である。 In the second embodiment as well, in order to provide a mechanism capable of adjusting the taper ratio of the slit gap during the verification of the actual machine, both the bottom surfaces of the flat plate and the manifold plate are provided by newly installed base plates in the die head of the present invention. In addition, since a single rotation axis is provided on the bottom surface of the manifold plate, the manifold plate rotates horizontally around the fulcrum, so that the taper ratio of the slit gap can be adjusted even during actual machine verification (liquid leakage). The amount is minimal). In addition, the die head does not need to be disassembled for adjustment, and the taper ratio of the slit gap can be adjusted (in-line adjustment) while monitoring the output value of the film thickness measurement device during actual machine verification. Compared to the conventional system, it saves verification costs and shortens verification time until the start of actual operation. In addition, the die head is effective not only for in-line adjustment but also for actual machine verification in changing coating conditions such as changing the liquid type and speeding up.
なお、本発明は上記実施の形態１及び２に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において種々変更可能である。 The present invention is not limited to the first and second embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.
本明細書に記載および図示されている実施形態は具体例としてのものであるに過ぎず、本発明の範囲を限定するものと考えるべきではないと理解すべきである。本発明の精神および範囲にしたがって上述以外の変更および修正を施すことも可能である。 It should be understood that the embodiments described and illustrated herein are exemplary only and should not be considered as limiting the scope of the invention. Other changes and modifications may be made in accordance with the spirit and scope of the invention.
１…マニホールド板
２…平板
３…土台板
４、２１、２３…微動装置
５、２０、２２…駆動軸
６…マニホールド部
７…スリット部
１０…塗布液流入口
１１…塗布液流入終端面
１４…弾性体
１５…支持部
１８…長穴
２４…接点
DESCRIPTION OF
Claims (10)
前記塗布液が押し出される前記スリット部の開口部と異なる面において、前記マニホールド板および前記平板を支持する土台板と、
前記平板を前記土台板の面上で回転可能とする回転軸と、
を備えることを特徴とするダイヘッドユニット。 A coating liquid inlet into which the coating liquid flows in, a manifold plate in which a manifold portion is formed from the coating liquid inlet, and a slit portion through which the coating liquid is pushed out are formed between the manifold plate and the manifold section In a die head unit having a flat plate covered with
In a different surface from the opening of the slit portion through which the coating liquid is extruded, a base plate that supports the manifold plate and the flat plate,
A rotating shaft that allows the flat plate to rotate on the surface of the base plate;
A die head unit comprising:
前記平板に接し、前記スリット部のスリット間隔を変更するスリット間隔変更機構を更に備えることを特徴とするダイヘッドユニット。 The die head unit according to claim 1,
A die head unit, further comprising a slit interval changing mechanism that contacts the flat plate and changes the slit interval of the slit portion.
前記回転軸は、前記平板の底面の中心近辺に形成されることを特徴とするダイヘッドユニット。 In the die head unit according to claim 1 or 2,
The rotary shaft is formed near the center of the bottom surface of the flat plate.
前記土台板には前記土台板の長手方向と交差する方向に前記回転軸が移動可能な長穴が形成され、前記回転軸が前記長穴に沿って移動することにより前記開口部の開口面積およびテーパ率の少なくとも何れか一方が変更可能となることを特徴とするダイヘッドユニット。 In the die head unit according to any one of claims 1 to 3,
The base plate is formed with a long hole in which the rotation shaft can move in a direction intersecting with the longitudinal direction of the base plate, and the rotation shaft moves along the long hole so that the opening area of the opening and A die head unit characterized in that at least one of the taper ratios can be changed.
前記回転軸を有さない前記マニホールド板が前記土台板上を水平方向に移動可能であることを特徴とするダイヘッドユニット。 In the die head unit according to claim 4,
The die head unit according to claim 1, wherein the manifold plate having no rotating shaft is movable in a horizontal direction on the base plate.
前記平板における前記回転軸の位置に対し、前記接点部分とは反対側の前記平板の一部にストッパの一部が押圧され、前記ストッパは前記土台板に形成された支持部に支持され、前記ストッパと前記スリット間隔変更機構の前記接点部分とは前記回転軸を中心に回転する前記平板を互いに押圧することを特徴とするダイヘッドユニット。 In the die head unit according to any one of claims 2 to 5,
A part of the stopper is pressed against a part of the flat plate opposite to the contact portion with respect to the position of the rotating shaft on the flat plate, the stopper is supported by a support portion formed on the base plate, The die head unit, wherein the stopper and the contact portion of the slit interval changing mechanism press the flat plate rotating around the rotation axis.
前記平板における前記回転軸の位置に対し、前記接点部分とは反対側の前記平板の一部に弾性体の一端が押圧され、前記弾性体の他端は前記土台板に形成された支持部に押圧され、前記弾性体と前記スリット間隔変更機構の前記接点部分とは前記回転軸を中心に回転する前記平板を互いに押圧することを特徴とするダイヘッドユニット。 In the die head unit according to any one of claims 2 to 5,
One end of the elastic body is pressed against a part of the flat plate opposite to the contact portion with respect to the position of the rotating shaft on the flat plate, and the other end of the elastic body is supported on a support portion formed on the base plate. The die head unit, wherein the elastic body and the contact portion of the slit interval changing mechanism are pressed against each other and press the flat plate rotating around the rotation axis.
前記平板と前記マニホールド板との端面は、前記平板または前記マニホールド板から前記塗布液が漏れ出さないように前記塗布液流入口および前記開口部を除き、シール材によってシールされていることを特徴とするダイヘッドユニット。 In the die head unit according to any one of claims 1 to 7,
End faces of the flat plate and the manifold plate are sealed by a sealing material except for the coating liquid inlet and the opening so that the coating liquid does not leak from the flat plate or the manifold plate. Die head unit.
前記回転軸は平板と土台板とを押さえるネジであることを特徴とするダイヘッドユニット。 In the die head unit according to any one of claims 1 to 7,
The die head unit according to claim 1, wherein the rotating shaft is a screw that holds the flat plate and the base plate.
前記塗布液が押し出される前記スリット部の開口部と異なる面において、前記マニホールド板および前記平板を支持する土台板と、
前記マニホールド板を前記土台板の面上で回転可能とする回転軸と、
を備えることを特徴とするダイヘッドユニット。 A coating liquid inlet into which the coating liquid flows, a manifold plate in which a manifold portion is formed from the coating liquid inlet, and a slit portion for forming the coating liquid to be extruded between the manifold plate and the manifold section In a die head unit having a flat plate covered with
In a different surface from the opening of the slit portion through which the coating liquid is extruded, a base plate that supports the manifold plate and the flat plate,
A rotating shaft that allows the manifold plate to rotate on the surface of the base plate;
A die head unit comprising:
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH06121953A (en) * | 1992-09-16 | 1994-05-06 | Mitsubishi Kasei Corp | Die for coating having ceramics coating layer |
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-
2008
- 2008-09-26 JP JP2008247794A patent/JP5293051B2/en active Active
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