JP2010071874A - Sample analyzer - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、例えば、複合材料等の試料にエネルギ線を照射して発生する光を検出し、その光に基づいて、試料の分析を行う試料分析装置に関するものである。 The present invention relates to a sample analyzer for detecting light generated by irradiating a sample such as a composite material with energy rays and analyzing the sample based on the light.
この種の試料分析を行なう装置には、エネルギ線である電子線を試料（サンプル）に照射することにより試料から発する光（カソードルミネセンス）を用いて、試料の微小領域における物性評価や半導体素子の解析を行うカソードルミネセンス測定装置がある（特許文献１）。 This type of sample analysis apparatus uses light (cathode luminescence) emitted from a sample by irradiating the sample with an electron beam, which is an energy beam, to evaluate physical properties in a micro area of the sample or to use a semiconductor element. There is a cathodoluminescence measuring device that performs the analysis of (Patent Document 1).
このような装置では、一般的に、試料から生じた光を分光器を用いて波長毎に分光し、各単色光の強度をそれぞれ測定して生成されたスペクトルデータを分析している。分光器を用いて得られたスペクトルデータは正確であるが、波長毎に分光された複数の単色光の強度をそれぞれ測定する必要があるために測定時間が長くなるという問題がある。
そこで本発明は、上記問題点に鑑み、スペクトルデータを生成せずに試料の分析が行なえ、測定時間を短縮することができる試料分析装置を提供することを主たる課題とするものである。 In view of the above problems, the present invention has as its main object to provide a sample analyzer capable of analyzing a sample without generating spectral data and reducing the measurement time.
すなわち本発明に係る試料分析装置は、試料にエネルギ線を照射するエネルギ線照射部と、前記エネルギ線が照射された試料から発する光の強度を測定する光検出部と、分析を行う波長領域において、光の波長と当該波長における光の透過率とが１対１の対応関係にある光学特性を有する光学フィルタと、前記光検出部が受光する光の光路上に前記光学フィルタを移動可能に設置する光学フィルタ移動部、又は、前記光学フィルタを前記光検出部が受光する光の光路上に設置するよう若しくは前記光路上から除去するように指示する光学フィルタ指示部と、前記光検出部からの出力信号を受信して、前記光学フィルタを設置せずに測定された試料からの発光強度Ａを示す出力信号と、前記光学フィルタを設置して測定された試料からの発光強度Ｂを示す出力信号とから、前記光学フィルタを透過した光の強度の割合を算出する演算部と、を備えていることを特徴とする。ここで、「エネルギ線」とは、例えば、Ｘ線、電子線、イオンビーム等であり、また、「試料から発する光」とは、カソードルミネセンス（ＣＬ）、フォトルミネセンス（ＰＬ）、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）等のルミネセンスや、ラマン散乱光等である。 That is, a sample analyzer according to the present invention includes an energy beam irradiation unit that irradiates a sample with an energy beam, a light detection unit that measures the intensity of light emitted from the sample irradiated with the energy beam, and a wavelength region in which analysis is performed. An optical filter having an optical characteristic in which the wavelength of light and the transmittance of light at the wavelength have a one-to-one correspondence, and the optical filter is movably installed on an optical path of light received by the light detection unit An optical filter moving unit, an optical filter indicating unit that instructs the optical filter to be installed on or removed from the optical path of the light received by the photodetecting unit, and the photodetecting unit An output signal indicating an emission intensity A from the sample measured without receiving the optical filter upon receiving the output signal, and an emission intensity from the sample measured with the optical filter installed And an output signal indicative of the B, and characterized in that it comprises an arithmetic unit for calculating a ratio of intensity of the light transmitted through the optical filter. Here, “energy rays” are, for example, X-rays, electron beams, ion beams, and the like, and “light emitted from a sample” is cathode luminescence (CL), photoluminescence (PL), electroluminescence, and the like. Luminescence such as luminescence (EL) or Raman scattered light.
このようなものであれば、分光器に代えて、分析を行う波長領域において光の波長と当該波長における光の透過率とが１対１の対応関係にある光学特性を有する光学フィルタを備えているので、まず、前記光学フィルタを透過させずに試料からの発光強度Ａを測定し、次いで、前記光学フィルタを透過させてから試料からの発光強度Ｂを測定し、続いて、前記発光強度Ａと前記発光強度Ｂとから、前記光学フィルタに照射された光のうち前記光学フィルタを透過した光の強度の割合（透過率）を算出すれば、当該透過率はスペクトルに連動して変化するものであり、スペクトルを反映して透過率も変化するものであるので、試料から発する光を波長毎に分光して得られたスペクトルを分析しなくとも、発光強度に基づき算出された光学フィルタを透過する光の割合（透過率）からスペクトルの相違を検出することができ、この結果、測定時間を大幅に短縮することができる。 In such a case, instead of a spectroscope, an optical filter having an optical characteristic in which the wavelength of light and the transmittance of light at the wavelength have a one-to-one correspondence in the wavelength region to be analyzed is provided. Therefore, first, the emission intensity A from the sample is measured without passing through the optical filter, then the emission intensity B from the sample is measured after passing through the optical filter, and then the emission intensity A is measured. If the ratio (transmittance) of the light transmitted through the optical filter out of the light irradiated to the optical filter is calculated from the light emission intensity B, the transmittance changes in conjunction with the spectrum. Since the transmittance also changes reflecting the spectrum, the optical filter calculated based on the emission intensity can be obtained without analyzing the spectrum obtained by splitting the light emitted from the sample for each wavelength. Can detect differences in spectral from the ratio of transmitted light (transmittance), and this result, it is possible to greatly shorten the measuring time.
そして、このような分析を、エネルギ線を所定のエリアで走査させながら行い、走査した多数のポイントにおける透過率を算出して分析することにより、試料表面を分析することが可能となる。 Then, such an analysis is performed while scanning the energy beam in a predetermined area, and the transmittance of the scanned many points is calculated and analyzed, whereby the sample surface can be analyzed.
また、本発明に係る試料分析装置は、前記光検出部が受光する光の光路上に前記光学フィルタを移動可能に設置する光学フィルタ移動部、又は、前記光学フィルタを前記光検出部が受光する光の光路上に設置するよう若しくは前記光路上から除去するように指示する光学フィルタ指示部を備えているので、測定の手順が明確となり、確実に測定を行うことができるので、操作性の観点から優れている。 Moreover, in the sample analyzer according to the present invention, the optical filter moving unit that movably installs the optical filter on the optical path of the light received by the light detecting unit, or the optical detecting unit receives the optical filter. Since it is equipped with an optical filter indicating section that instructs to be installed on the optical path of light or to be removed from the optical path, the measurement procedure becomes clear and measurement can be performed reliably. Is excellent from.
試料から発する光のスペクトルに複数のピークがある場合、分析対象となるピークを択し、不要なピークをカットするカットフィルタを設置するために、本発明に係る試料分析装置は、所定の波長領域の光をカットするカットフィルタを支持するカットフィルタ支持部を備えていてもよい。 When there are a plurality of peaks in the spectrum of light emitted from the sample, the sample analyzer according to the present invention selects a peak to be analyzed and installs a cut filter for cutting unnecessary peaks. You may provide the cut filter support part which supports the cut filter which cuts the light.
試料から発する光のスペクトルの半値幅が大きい場合は一種類の光学フィルタの透過率にはスペクトルの相違が充分反映されない場合もあるので、測定精度を向上させるために、本発明に係る試料分析装置に設置する前記光学フィルタは、光学特性が異なる複数種類の光学フィルタであってもよい。 When the half width of the spectrum of light emitted from the sample is large, the difference in spectrum may not be sufficiently reflected in the transmittance of one kind of optical filter. Therefore, in order to improve measurement accuracy, the sample analyzer according to the present invention The optical filter to be installed may be a plurality of types of optical filters having different optical characteristics.
本発明に係る試料分析装置の前記光検出部は、検出器内のデータ転送時間が速い点から、光電子増倍管であることが好ましい。 The photodetecting section of the sample analyzer according to the present invention is preferably a photomultiplier tube from the viewpoint that the data transfer time in the detector is fast.
更に、試料にエネルギ線を照射して、前記試料から発する光の強度を測定するにあたり、分析を行う波長領域において光の波長と当該波長における光の透過率とが１対１の対応関係にある光学特性を有する光学フィルタを透過させずに測定した場合の発光強度Ａと、前記光学フィルタを透過させて測定した場合の発光強度Ｂと、を測定し、前記発光強度Ａと前記発光強度Ｂとから、前記光学フィルタを透過した光の強度の割合を算出する手順を、コンピュータに実行させるためのプログラムもまた、本発明の１つである。 Furthermore, when measuring the intensity of light emitted from the sample by irradiating the sample with energy rays, there is a one-to-one correspondence between the wavelength of light and the transmittance of light at the wavelength in the wavelength region to be analyzed. A light emission intensity A when measured without passing through an optical filter having optical characteristics and a light emission intensity B when measured through the optical filter are measured, and the light emission intensity A and the light emission intensity B are measured. A program for causing a computer to execute a procedure for calculating the ratio of the intensity of light transmitted through the optical filter is also one aspect of the present invention.
このように構成した本発明によれば、試料から発する光を波長毎に分光して得られたスペクトルを分析しなくとも、発光強度に基づき算出された光学フィルタを透過する光の割合（透過率）からスペクトルの相違を検出することができるので、測定時間を大幅に短縮することができる。 According to the present invention configured as described above, the ratio of the light transmitted through the optical filter calculated based on the emission intensity (transmittance) without analyzing the spectrum obtained by separating the light emitted from the sample for each wavelength. ) From the spectrum can be detected, so that the measurement time can be greatly shortened.
そして、例えば、ＩｎＧａＮ，ＡｌＧａＮ，ＩｎＡｌＧａＮ等の三元、四元混晶からなる半導体では、表面の組成バラツキが問題となることが多いので、本発明をこれら半導体の品質管理に利用することができる。 For example, in a semiconductor composed of a ternary or quaternary mixed crystal such as InGaN, AlGaN, InAlGaN, etc., the compositional variation of the surface often becomes a problem, so that the present invention can be used for quality control of these semiconductors. .
＜第一の実施形態＞
以下に、本発明の第一の実施形態について、図面を参照して説明する。本実施形態に係る試料分析装置１は、エネルギ線である電子線ＥＢを半導体ウエハ等の試料Ｗに照射することにより試料Ｗから生じるカソードルミネセンスＣＬを用いて、試料Ｗの微小領域における物性評価や半導体素子の解析を行う、いわゆるカソードルミネセンス測定装置を用いたものである。
<First embodiment>
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The sample analyzer 1 according to the present embodiment uses the cathodoluminescence CL generated from the sample W by irradiating the electron beam EB, which is an energy beam, to the sample W such as a semiconductor wafer, and evaluates the physical properties of the sample W in a minute region. And a so-called cathodoluminescence measuring device for analyzing semiconductor elements.
具体的に、試料分析装置１は、図１に示すように、試料台２と、その試料台２に載置された試料Ｗに電子線ＥＢを照射するエネルギ線照射部たる電子線照射装置３と、電子線ＥＢの照射によって試料Ｗから発生するカソードルミネセンスＣＬを集める集光部４と、集光されたカソードルミネセンスＣＬを波長毎に異なった透過率で透過する光学フィルタ５と、試料Ｗからの発光強度を測定する光検出部たる光電子増倍管（ＰＭＴ）６と、その光電子増倍管６からの出力信号を受信し、前記試料Ｗを評価するために所定の演算処理を行う情報処理装置７と、を備えている。 Specifically, as shown in FIG. 1, the sample analyzer 1 includes an electron beam irradiation device 3 as an energy beam irradiation unit that irradiates a sample stage 2 and a sample W placed on the sample stage 2 with an electron beam EB. A condensing unit 4 that collects the cathodoluminescence CL generated from the sample W by irradiation of the electron beam EB, an optical filter 5 that transmits the collected cathodoluminescence CL with different transmittance for each wavelength, and a sample A photomultiplier tube (PMT) 6 serving as a light detection unit for measuring the light emission intensity from W, and an output signal from the photomultiplier tube 6 are received, and a predetermined calculation process is performed to evaluate the sample W. And an information processing device 7.
以下に各部を説明する。試料台２は、例えばＸ軸、Ｙ軸及びＺ方向に移動可能なものであり、本実施形態では試料Ｗのスペクトルのピーク半値幅を小さくするために、図示しない冷却手段及び温度制御機構が更に設けてあり、この試料台２及び試料Ｗを数十Ｋ以下の所定温度に冷却できるようにしている。 Each part will be described below. The sample stage 2 is movable in, for example, the X axis, the Y axis, and the Z direction. In this embodiment, in order to reduce the peak half width of the spectrum of the sample W, a cooling unit and a temperature control mechanism (not shown) are further provided. The sample stage 2 and the sample W can be cooled to a predetermined temperature of several tens K or less.
電子線照射装置３は、電子銃３１と、電子銃３１から射出された電子線ＥＢを試料Ｗの所定部位に収束させるレンズ機構及び電子線ＥＢを走査させるための走査機構等からなる電子線制御機構３２と、電子銃３１及び電子線制御機構３２を内部に有する鏡筒３３と、を備えている。なお、電子銃３１としては、熱フィラメント型のものや熱電界放出型ものが用いられる。 The electron beam irradiation device 3 includes an electron gun 31, an electron beam control including a lens mechanism for converging the electron beam EB emitted from the electron gun 31 to a predetermined part of the sample W, a scanning mechanism for scanning the electron beam EB, and the like. A mechanism 32 and a lens barrel 33 having an electron gun 31 and an electron beam control mechanism 32 therein are provided. As the electron gun 31, a hot filament type or a thermal field emission type is used.
集光部４は、試料Ｗから発生するカソードルミネセンスＣＬを最小限の損失で集め光電子増倍管６に導くものであり、例えば楕円面鏡４１等からなる。楕円面鏡４１はそれ自体が受光と集光の作用をし、球面収差や色収差が発生しないという利点を有する。 The condensing unit 4 collects the cathodoluminescence CL generated from the sample W with a minimum loss and guides it to the photomultiplier tube 6, and includes, for example, an ellipsoidal mirror 41. The ellipsoidal mirror 41 itself has the advantages of receiving light and collecting light, and does not generate spherical aberration or chromatic aberration.
光学フィルタ５は、分析を行う波長領域で、光の波長と当該波長における光の透過率とが１対１の対応関係にある光学特性を有するものであり、集光部４で集光されたカソードルミネセンスＣＬの一部を当該光学特性に従い透過するものである。このような光学フィルタ５の光学特性は、例えば、図２（ａ）に示すように、波長が大きくなるに従いその透過率が単純増加するものであるか、又は、図２（ｂ）に示すように、波長が大きくなるに従いその透過率が単純減少するものである。なお、図２では波長と透過率とは一次関数の関係にあるが、波長と透過率とが１対１の対応関係にあればよく、一次関数の関係には限定されず、例えば、指数関数、対数関数等の関係にあってもよい。 The optical filter 5 has an optical characteristic in which the wavelength of light has a one-to-one correspondence between the light wavelength and the light transmittance at the wavelength in the wavelength region to be analyzed, and the light is collected by the light collecting unit 4. A part of the cathodoluminescence CL is transmitted in accordance with the optical characteristics. The optical characteristics of such an optical filter 5 are such that, for example, as shown in FIG. 2 (a), the transmittance simply increases as the wavelength increases, or as shown in FIG. 2 (b). In addition, the transmittance simply decreases as the wavelength increases. In FIG. 2, the wavelength and the transmittance have a linear function relationship, but the wavelength and the transmittance need only have a one-to-one correspondence, and the relationship is not limited to the linear function. Or a logarithmic function or the like.
例えば、光学フィルタ５が、図２（ａ）に示すような光学特性を有していると、図３に示すように、試料Wの表面上の所定ポイントから発したカソードルミネセンスＣＬのスペクトルＳ、Ｓ´に依存して、光学フィルタ５を透過したカソードルミネセンスＣＬの発光強度の割合（透過率）もＹ及びＹ´と異なる。ここで、光学フィルタ５を透過したカソードルミネセンスＣＬの発光強度の割合（透過率）Ｙ、Ｙ´は、光学フィルタ５を透過したカソードルミネセンスＣＬの発光強度（図３においてハッチングが施してある領域の面積に相当）を、分析を行った波長領域におけるカソードルミネセンスＣＬの発光強度（図３においてスペクトルＳ、Ｓ´を示す曲線で囲まれた領域の面積に相当）で除することにより求められる。 For example, if the optical filter 5 has optical characteristics as shown in FIG. 2A, the spectrum S of the cathodoluminescence CL emitted from a predetermined point on the surface of the sample W as shown in FIG. , S ′, the ratio (transmittance) of the emission intensity of the cathodoluminescence CL transmitted through the optical filter 5 is also different from Y and Y ′. Here, the ratios (transmittances) Y and Y ′ of the emission intensity of the cathode luminescence CL that has passed through the optical filter 5 are the emission intensity of the cathode luminescence CL that has passed through the optical filter 5 (hatching is applied in FIG. 3). (Corresponding to the area of the region) is divided by the emission intensity of the cathodoluminescence CL in the analyzed wavelength region (corresponding to the area of the region surrounded by the curves S and S ′ in FIG. 3). It is done.
なお、図３に示す実施例では、分析を行う波長領域はｘ０〜ｘαであるが、例えば、測定対象となるスペクトルのピークが試料Ｗの組成や試料Ｗにかかる応力等によってどの程度移動するかが予め判明している場合は、当該ピークの波長に移動分を加えた波長領域を分析を行う波長領域として選択すればよい。 In the embodiment shown in FIG. 3, the wavelength region to be analyzed is x 0 to x α . For example, how much the peak of the spectrum to be measured moves depending on the composition of the sample W, the stress applied to the sample W, etc. If it is known in advance, a wavelength region obtained by adding a moving amount to the peak wavelength may be selected as a wavelength region for analysis.
光学フィルタ５は、レール部材を備えた光学フィルタ移動部（図示しない）によってスライド可能に支持されて、光電子増倍管６が受光するカソードルミネセンスＣＬの光路上に設置されているが、光学フィルタ５が不要である場合はレール上をスライドさせて前記光路上から除去可能であるように構成してある。 The optical filter 5 is slidably supported by an optical filter moving unit (not shown) provided with a rail member, and is installed on the optical path of the cathode luminescence CL received by the photomultiplier tube 6. When 5 is not required, it can be removed from the optical path by sliding on the rail.
光電子増倍管６は、受光部に入射した光の強度に応じた値の電流値（又は電圧値）を有する出力信号を発するものである。 The photomultiplier tube 6 emits an output signal having a current value (or voltage value) corresponding to the intensity of light incident on the light receiving unit.
試料台２及び試料Ｗを数十Ｋ以下の所定温度に冷却しても試料Ｗの状態は刻一刻と変動（ドリフト）し、また、本実施形態では光学フィルタ５の有無に応じて少なくとも２回測定が行われるが、光検出部として光電子増倍管６を用いることにより、測定を迅速に行うことができ、試料Ｗの変動による影響を受けにくくすることができる。 Even if the sample stage 2 and the sample W are cooled to a predetermined temperature of several tens of K or less, the state of the sample W changes (drifts) every moment, and in this embodiment, at least twice according to the presence or absence of the optical filter 5. Although the measurement is performed, by using the photomultiplier tube 6 as the light detection unit, it is possible to perform the measurement quickly and to be less affected by the fluctuation of the sample W.
また、従来、光検出部としては、光−電子変換効率、ダイナミックレンジ、Ｓ／Ｎに優れているといったことからＣＣＤが用いられることも多いが、ＣＣＤの感度の限界に起因して装置の受光感度が制限されるとともに、ＣＣＤエリア内でのデータ転送速度が遅いため測定時間が長くなる傾向にあり、とりわけ、試料の表面分析等で多数のポイントを測定しデータ収集数が多くなると測定時間の長さが顕著になる。この点からも、光電子増倍管６が好適である。 Conventionally, a CCD is often used as the photodetection unit because of its excellent photoelectric conversion efficiency, dynamic range, and S / N ratio. The sensitivity is limited and the data transfer speed in the CCD area is slow, so the measurement time tends to be long. In particular, when many points are measured by surface analysis of the sample and the number of data collection increases, The length becomes remarkable. Also from this point, the photomultiplier tube 6 is suitable.
情報処理装置７は、ＣＰＵやメモリ、Ａ／Ｄ変換器、Ｄ／Ａ変換器等を有したデジタル乃至アナログ電気回路で構成されたもので、専用のものであってもよいし、一部又は全部にパソコン等の汎用コンピュータを利用するようにしたものであってもよい。また、ＣＰＵを用いず、アナログ回路のみで前記各部としての機能を果たすように構成してもよいし、物理的に一体である必要はなく、有線乃至無線によって互いに接続された複数の機器からなるものであってもよい。また、キーボード等の入力手段、ディスプレイ等の出力手段等を有していてもよい。 The information processing apparatus 7 is configured by a digital or analog electric circuit having a CPU, a memory, an A / D converter, a D / A converter, and the like, and may be a dedicated one or a part or A general-purpose computer such as a personal computer may be used for all. Further, it may be configured such that the functions of the respective units are achieved by using only an analog circuit without using a CPU, and need not be physically integrated, but includes a plurality of devices connected to each other by wire or wirelessly. It may be a thing. Moreover, you may have input means, such as a keyboard, output means, such as a display.
そして前記メモリに所定のプログラムを格納し、そのプログラムにしたがってＣＰＵやその周辺機器を協働動作させることによって、この情報処理装置７が、図２に示すように、演算部７１、波長算出部７２、光学フィルタ移動部制御部７３としての機能を少なくとも発揮するように構成している。 Then, by storing a predetermined program in the memory and causing the CPU and its peripheral devices to cooperate in accordance with the program, the information processing apparatus 7 has a calculation unit 71 and a wavelength calculation unit 72 as shown in FIG. The optical filter moving unit control unit 73 is configured to exhibit at least the function.
演算部７１は、光電子増倍管６からの出力信号を受信して、光学フィルタ５を透過せずに測定された発光強度Ａを示す出力信号と、光学フィルタ５を透過してから測定された発光強度Ｂを示す出力信号とから、光学フィルタ５を透過したカソードルミネセンスＣＬの発光強度の割合（透過率）を算出する。 The calculation unit 71 receives the output signal from the photomultiplier tube 6, the output signal indicating the emission intensity A measured without passing through the optical filter 5, and the measurement after passing through the optical filter 5. From the output signal indicating the emission intensity B, the ratio (transmittance) of the emission intensity of the cathodoluminescence CL that has passed through the optical filter 5 is calculated.
波長算出部７２は、演算部７１で算出された透過率データを取得して、光学フィルタ５の光学特性に基づく所定の演算処理を行うことにより、図３に示すように、前記透過率に対応する波長を算出する。算出された波長は試料Wの表面上の前記所定ポイントのスペクトルを反映するものである。 The wavelength calculation unit 72 acquires the transmittance data calculated by the calculation unit 71 and performs a predetermined calculation process based on the optical characteristics of the optical filter 5 to cope with the transmittance as shown in FIG. The wavelength to be calculated is calculated. The calculated wavelength reflects the spectrum of the predetermined point on the surface of the sample W.
光学フィルタ移動部制御部７３は、必要に応じて光学フィルタ５を光電子増倍管６が受光する光の光路上に設置し、又は、前記光路上から除去するよう、光学フィルタ移動部を制御するものである。 The optical filter moving unit control unit 73 controls the optical filter moving unit so that the optical filter 5 is installed on the optical path of the light received by the photomultiplier tube 6 or removed from the optical path as necessary. Is.
次に試料分析装置１を用いて試料Ｗの表面を分析する方法を図４のフローチャートを参照して説明する。 Next, a method for analyzing the surface of the sample W using the sample analyzer 1 will be described with reference to the flowchart of FIG.
まず、電子線照射装置３が試料Ｗの所定ポイントに電子線ＥＢを照射する（ステップＳ１）。 First, the electron beam irradiation apparatus 3 irradiates a predetermined point of the sample W with the electron beam EB (step S1).
この電子線ＥＢの照射により発生したカソードルミネセンスＣＬは、集光部４を経て、光電子増倍管６に導かれる（ステップＳ２）。このとき、光電子増倍管６が受光するカソードルミネセンスＣＬの光路上に光学フィルタ５は設置されておらず、カソードルミネセンスＣＬは光学フィルタ５を透過していない。 The cathodoluminescence CL generated by the irradiation with the electron beam EB is guided to the photomultiplier tube 6 through the condensing unit 4 (step S2). At this time, the optical filter 5 is not installed on the optical path of the cathodoluminescence CL received by the photomultiplier tube 6, and the cathodoluminescence CL does not pass through the optical filter 5.
カソードルミネセンスＣＬを受光した光電子増倍管６は、その強度Ａを測定し、強度Ａを示す出力信号を演算部７１に送信する（ステップＳ３）。 The photomultiplier tube 6 that has received the cathodoluminescence CL measures its intensity A and transmits an output signal indicating the intensity A to the computing unit 71 (step S3).
次いで、演算部７１から１回目の測定が終了したことを示す信号が送られた光学フィルタ移動部制御部７３が制御信号を発し、当該制御信号を受信した光学フィルタ移動部が、光電子増倍管６が受光するカソードルミネセンスＣＬの光路上に光学フィルタ５を設置する（ステップＳ４）。 Next, the optical filter moving unit control unit 73 to which a signal indicating that the first measurement is completed is sent from the calculation unit 71, and the optical filter moving unit that has received the control signal receives the photomultiplier tube. The optical filter 5 is installed on the optical path of the cathodoluminescence CL received by the light 6 (step S4).
そして再び、電子線照射装置３が試料Ｗの前記所定ポイントに電子線ＥＢを照射する（ステップＳ５）。 Again, the electron beam irradiation device 3 irradiates the predetermined point of the sample W with the electron beam EB (step S5).
この電子線ＥＢの照射により発生したカソードルミネセンスＣＬは、集光部４を経て、光学フィルタ５に至り、カソードルミネセンスＣＬのうち光学フィルタ５を透過した光が、光電子増倍管６により受光される（ステップＳ６）。 The cathodoluminescence CL generated by the irradiation with the electron beam EB reaches the optical filter 5 through the condensing unit 4, and the light transmitted through the optical filter 5 in the cathodoluminescence CL is received by the photomultiplier tube 6. (Step S6).
光学フィルタ５を透過した光を受光した光電子増倍管６は、その強度Ｂを測定し、強度Ｂを示す出力信号を演算部７１に送信する（ステップＳ７）。 The photomultiplier tube 6 that has received the light transmitted through the optical filter 5 measures the intensity B and transmits an output signal indicating the intensity B to the computing unit 71 (step S7).
演算部７１は、カソードルミネセンスＣＬの強度Ａと、光学フィルタ５を透過した光の強度Ｂとから、光学フィルタ５を透過したカソードルミネセンスＣＬの発光強度の割合（透過率）を算出する（ステップＳ８）。 The computing unit 71 calculates the ratio (transmittance) of the emission intensity of the cathodoluminescence CL that has passed through the optical filter 5 from the intensity A of the cathodoluminescence CL and the intensity B of light that has passed through the optical filter 5 ( Step S8).
波長算出部７２は、演算部７１で算出された透過率データを取得して、光学フィルタ５の光学特性に基づく所定の演算処理を行うことにより、前記透過率に対応する波長を算出する（ステップＳ９）。 The wavelength calculation unit 72 calculates the wavelength corresponding to the transmittance by acquiring the transmittance data calculated by the calculation unit 71 and performing predetermined calculation processing based on the optical characteristics of the optical filter 5 (step) S9).
必要な場合は、試料台２を移動し（ステップＳ１０）、電子線照射装置３が電子線ＥＢを照射する試料Ｗのポイントを変えて、ステップＳ１から繰り返す。 If necessary, the sample stage 2 is moved (step S10), the point of the sample W to which the electron beam irradiation device 3 irradiates the electron beam EB is changed, and the process is repeated from step S1.
すなわち、光学フィルタ５がない状態で得られたカソードルミネセンスＣＬの強度ＡをＩとし、光学フィルタ５の透過率をＴ（λ）とし、光学フィルタ５がある状態で得られた透過光の強度ＢをＩｆとすると、下記式（１）が成り立つ。
Ｔ（λ）＝Ｉｆ／Ｉ （１）
That is, the intensity A of the cathodoluminescence CL obtained without the optical filter 5 is I, the transmittance of the optical filter 5 is T (λ), and the intensity of the transmitted light obtained with the optical filter 5 is present. When B is If, the following formula (1) is established.
T (λ) = If / I (1)
更に、上記式（１）を変形すると、前記透過率Ｔに対応する波長λが算出される。
λ＝Ｔ−１（Ｉｆ／Ｉ） （２）
Further, when the equation (1) is modified, the wavelength λ corresponding to the transmittance T is calculated.
λ = T −1 (If / I) (2)
更に上記式（２）を一般化すると、試料Ｗの表面上の座標（ｉ，ｊ）のポイントにおいて、下記式（３）が成立する。
λ（ｉ，ｊ）＝Ｔ−１（Ｉｆ（ｉ，ｊ）／Ｉ（ｉ，ｊ）） （３）
Furthermore, when the above equation (2) is generalized, the following equation (3) is established at the point of the coordinates (i, j) on the surface of the sample W.
λ (i, j) = T −1 (If (i, j) / I (i, j) ) (3)
従って、電子線ＥＢを試料Ｗの表面上で走査させて、多数のポイント（ｉ，ｊ）において、少なくともＩｆ（ｉ，ｊ）／Ｉ（ｉ，ｊ）（透過率）、好ましくはこの透過率から光学フィルタ５の特性を用いてλ（ｉ，ｊ）を測定することにより、試料Ｗの表面上のスペクトルの相違を反映した試料の分布状態を測定することができる。 Therefore, the electron beam EB is scanned on the surface of the sample W, and at a number of points (i, j), at least If (i, j) / I (i, j) (transmittance), preferably this transmittance. Thus , by measuring λ (i, j) using the characteristics of the optical filter 5, it is possible to measure the distribution state of the sample reflecting the spectral difference on the surface of the sample W.
このように構成した試料分析装置１によれば、試料Wから発する光を波長毎に分光して得られたスペクトルを分析しなくとも、光学フィルタ５を透過した光の強度の割合（透過率）を算出し、更に、その透過率に対応する波長を算出して、当該波長からスペクトルの相違を検出することができるので、測定時間を大幅に短縮することができるようになる。 According to the sample analyzer 1 configured as described above, the intensity ratio (transmittance) of the light transmitted through the optical filter 5 without analyzing the spectrum obtained by separating the light emitted from the sample W for each wavelength. Further, the wavelength corresponding to the transmittance can be calculated, and the difference in spectrum can be detected from the wavelength, so that the measurement time can be greatly shortened.
また、試料分析装置１では光検出部として光電子増倍管６を用いているので、分光器のようにミラー・グレーティングの反射によって光の強度が減衰することにより受光感度が低下するという問題も起こらず、感度に優れている。また、光電子増倍管６はエリアセンサではなく、単一面で受光するので検出器内でのデータ転送が短時間で済む。なお、１０２４×２５６ｃｈの画素で、垂直転送速度１６．２５μｓ、読み出し速度１００ｋＨｚの場合、ＣＣＤでは１スペクトル収集についての内部での電荷転送時間がおよそ１５ｍｓ程度であるので応答速度もその程度となる。これに対して、光電子増倍管６の応答時間はナノ秒オーダである。 In addition, since the sample analyzer 1 uses the photomultiplier tube 6 as the light detection unit, there arises a problem that the light receiving sensitivity is lowered due to the attenuation of the light intensity due to the reflection of the mirror / grating like a spectroscope. It has excellent sensitivity. Further, since the photomultiplier tube 6 receives light on a single surface rather than an area sensor, data transfer in the detector can be completed in a short time. In the case of a 1024 × 256 ch pixel, a vertical transfer speed of 16.25 μs, and a readout speed of 100 kHz, the CCD has an internal charge transfer time of about 15 ms for collecting one spectrum, and the response speed is also about that. On the other hand, the response time of the photomultiplier tube 6 is on the order of nanoseconds.
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。 The present invention is not limited to the above embodiment.
＜第二の実施形態＞
例えば、本発明に係る試料分析装置は、図５に示すように、集光部４で集光されたカソードルミネセンスＣＬがビームスプリッター８で二つに分割され、反射光又は透過光のいずれか一方は光学フィルタ５に向かい、他方は直接光電子増倍管６に向かうように構成してあってもよい。この際、ビームスプリッター８で分割される反射光と透過光の強度は１：１に限られず、ビームスプリッター８はハーフミラーでなくともよく、分割の割合が判明しているものであればいずれのものであってもよい。例えば、ビームスプリッター８により、光学フィルタ５に向かう光と直接光電子増倍管６に向かう光とが、２：１に分けられた場合、光学フィルタ５を経て受光された光の強度を１／２にするか、又は、直接光電子増倍管６に向かった光の強度を２倍にすることにより、第一の実施形態と同様な演算処理を適用することができる。
<Second Embodiment>
For example, in the sample analyzer according to the present invention, as shown in FIG. 5, the cathodoluminescence CL collected by the light collecting unit 4 is divided into two by the beam splitter 8 and either reflected light or transmitted light is obtained. One may be configured to face the optical filter 5 and the other directly to the photomultiplier tube 6. At this time, the intensity of the reflected light and transmitted light divided by the beam splitter 8 is not limited to 1: 1, and the beam splitter 8 does not have to be a half mirror, and any one can be used as long as the division ratio is known. It may be a thing. For example, when the light toward the optical filter 5 and the light directly toward the photomultiplier tube 6 are divided into 2: 1 by the beam splitter 8, the intensity of the light received through the optical filter 5 is halved. Or, by double the intensity of light directed directly to the photomultiplier tube 6, the same arithmetic processing as in the first embodiment can be applied.
すなわち、このような第二の実施形態に係る試料分析装置は、試料にエネルギ線を照射するエネルギ線照射部と、前記エネルギ線が照射された試料から発する光を分割するビームスプリッターと、前記ビームスプリッターで分割されたそれぞれの光の強度を測定する複数の光検出部と、分析を行う波長領域において、光の波長と当該波長における光の透過率とが１対１の対応関係にある光学特性を有する光学フィルタと、前記光検出部の少なくともいずれか１つが受光する光の光路上に前記光学フィルタを設置する光学フィルタ保持部と、前記光検出部からの出力信号を受信して、前記ビームスプリッターから直接に前記光検出部に入射した光の強度Ａを示す出力信号と、前記光学フィルタを透過した光の強度Ｂを示す出力信号とから、前記光学フィルタを透過した光の強度の割合を算出する演算部と、を備えていることを特徴とする。 That is, the sample analyzer according to the second embodiment includes an energy beam irradiation unit that irradiates a sample with an energy beam, a beam splitter that splits light emitted from the sample irradiated with the energy beam, and the beam. Optical characteristics in which there is a one-to-one correspondence between the wavelength of light and the transmittance of light at the wavelength in the wavelength region in which the analysis is performed, and a plurality of light detection units that measure the intensity of each light divided by the splitter An optical filter having at least one of the optical detection unit, an optical filter holding unit that installs the optical filter on an optical path of light received by the optical detection unit, an output signal from the optical detection unit, and the beam From the output signal indicating the intensity A of the light directly incident on the light detection unit from the splitter and the output signal indicating the intensity B of the light transmitted through the optical filter, Characterized in that it and a calculation unit for calculating a ratio of intensity of the light transmitted through the academic filter.
＜第三の実施形態＞
また、本発明に係る試料分析装置は、光学フィルタ５へ入射するカソードルミネセンスＣＬの割合を異ならしめて複数回の測定を行うものであってもよい。具体的に説明すると、最初の測定では、光電子増倍管６が受光するカソードルミネセンスＣＬの光路上に光学フィルタ５は設置せずにカソードルミネセンスＣＬの発光強度Ａを測定し、次の測定では、図６に示すように、カソードルミネセンスＣＬのうち５０％の光が光学フィルタ５に入射し、残りの５０％は直接光電子増倍管６に受光されるように光学フィルタ５の設置位置を調整して発光強度Ｂを測定し、発光強度Ａと発光強度Ｂとから光学フィルタ５を透過したカソードルミネセンスＣＬの発光強度の割合（透過率）を算出してもよい。この場合、発光強度Ａを１／２にして発光強度Ｂから引くことにより、発光強度Ｂのうち光学フィルタ５を透過した光強度がわかる。そして、Ａ／２と（Ｂ−Ａ／２）とを比較することにより、光学フィルタ５を透過した光の強度の割合を算出することができる。なお、本実施形態において、光学フィルタ５への入射割合は５０％に限られず、入射割合が明確であればいずれの割合であってもよい。また、最初の測定時にもカソードルミネセンスＣＬの光路上に光学フィルタ５が設置してあってもよく、最初の測定と次の測定とにおいて、カソードルミネセンスＣＬの光学フィルタ５への入射割合が異なっていればよい。
<Third embodiment>
In addition, the sample analyzer according to the present invention may perform a plurality of measurements with different ratios of cathodoluminescence CL incident on the optical filter 5. More specifically, in the first measurement, the emission intensity A of the cathode luminescence CL is measured without installing the optical filter 5 on the optical path of the cathode luminescence CL received by the photomultiplier tube 6, and the next measurement is performed. Then, as shown in FIG. 6, the installation position of the optical filter 5 is such that 50% of the cathodoluminescence CL is incident on the optical filter 5 and the remaining 50% is directly received by the photomultiplier tube 6. May be adjusted to measure the emission intensity B, and the emission intensity ratio (transmittance) of the cathodoluminescence CL that has passed through the optical filter 5 may be calculated from the emission intensity A and the emission intensity B. In this case, the light intensity transmitted through the optical filter 5 in the light emission intensity B can be determined by subtracting the light emission intensity A from 1/2 and the light emission intensity B. And the ratio of the intensity | strength of the light which permeate | transmitted the optical filter 5 is computable by comparing A / 2 with (B-A / 2). In the present embodiment, the incident ratio to the optical filter 5 is not limited to 50%, and any ratio may be used as long as the incident ratio is clear. Further, the optical filter 5 may be installed on the optical path of the cathode luminescence CL at the time of the first measurement, and the incidence ratio of the cathodoluminescence CL to the optical filter 5 in the first measurement and the next measurement is the same. It only has to be different.
すなわち、このような第三の実施形態に係る試料分析装置は、試料にエネルギ線を照射するエネルギ線照射部と、前記エネルギ線が照射された試料から発する光の強度を測定する光検出部と、分析を行う波長領域において、光の波長と当該波長における光の透過率とが１対１の対応関係にある光学特性を有する光学フィルタと、前記光検出部が受光する光の光路上に前記光学フィルタを移動可能に設置する光学フィルタ移動部、又は、前記光検出部が受光する光の光路上に当該光が異なる割合で入射するように前記光学フィルタの位置を変えて設置するよう指示する光学フィルタ指示部と、前記光検出部からの出力信号を受信して、前記エネルギ線が照射された試料から発する光の前記光学フィルタへの入射割合を変えて前記光検出部においてそれぞれ測定された発光強度Ａを示す出力信号と発光強度Ｂを示す出力信号とから、前記光学フィルタを透過した光の強度の割合を算出する演算部と、を備えていることを特徴とする。 That is, the sample analyzer according to the third embodiment includes an energy beam irradiation unit that irradiates a sample with an energy beam, and a light detection unit that measures the intensity of light emitted from the sample irradiated with the energy beam. In the wavelength region where analysis is performed, the optical filter having an optical characteristic in which the wavelength of light and the transmittance of light at the wavelength have a one-to-one correspondence, and the optical path of the light received by the light detection unit An optical filter moving unit for movably installing the optical filter, or an instruction to change the position of the optical filter so that the light is incident on the optical path of the light received by the light detection unit at a different rate. An optical filter instructing unit and an output signal from the light detection unit are received, and the incident rate to the optical filter of light emitted from the sample irradiated with the energy beam is changed in the light detection unit. From the output signal indicating the emission intensity A measured respectively and the output signal indicating the emission intensity B, and characterized in that it comprises an arithmetic unit for calculating a ratio of intensity of the light transmitted through the optical filter.
＜その他の実施形態＞
例えば、光学フィルタ５の設置・除去をオペレータが手動で行う場合は、オペレータに対して光電子増倍管６が受光する光の光路上に設置された差し込み式のフィルタホルダに光学フィルタ５を挿入するよう、又は、光学フィルタ５を前記フィルタホルダから取り出して前記光路上から除去するように、指示する光学フィルタ指示部を備えていてもよい。当該光学フィルタ指示部は、情報処理力装置７の１機能として発揮されて、ディスプレイに表示した文字や画像によってオペレータに指示するものであってもよいし、光、音、振動等によってオペレータに指示するものであってもよい。
<Other embodiments>
For example, when the operator manually installs and removes the optical filter 5, the optical filter 5 is inserted into a plug-in type filter holder installed on the optical path of light received by the photomultiplier tube 6 with respect to the operator. Alternatively, an optical filter instructing unit may be provided to instruct the optical filter 5 to be taken out from the filter holder and removed from the optical path. The optical filter instruction unit may be used as one function of the information processing device 7 and may instruct the operator by characters or images displayed on the display, or may instruct the operator by light, sound, vibration, or the like. You may do.
また、図７に示すように、試料Ｗから発するカソードルミネセンスＣＬのスペクトルに複数のピークがあり、いずれかのピークについて分析を行えばよい場合、分析対象となるピークを選択し、不要なピークをカットするために、当該ピーク波長の光をカットするカットフィルタを光路上に設置してもよい。そして、この場合、本発明に係る試料分析装置は、当該カットフィルタを支持するカットフィルタ支持部を備えていてもよい。なお、図７に示す実施例では、波長領域ｘ０〜ｘβにおいて分析を行い、ｘβより高波長領域はカットフィルタによりカットしている。 In addition, as shown in FIG. 7, when there are a plurality of peaks in the spectrum of the cathodoluminescence CL emitted from the sample W and it is sufficient to analyze any of the peaks, the peak to be analyzed is selected and an unnecessary peak is selected. In order to cut the light, a cut filter for cutting the light having the peak wavelength may be installed on the optical path. In this case, the sample analyzer according to the present invention may include a cut filter support portion that supports the cut filter. In the embodiment shown in FIG. 7 was analyzed in the wavelength region x 0 ~x beta, the high wavelength region than x beta is cut by cut filter.
更に、試料から発するカソードルミネセンスＣＬのスペクトルの半値幅が大きい場合は一種類の光学フィルタ５の透過率及び対応する波長にはスペクトルの相違が充分反映されない場合もあるので、光学特性が異なる複数種類の光学フィルタを用いて、それぞれの光学フィルタについて、上記のステップＳ４〜ステップＳ７を行い、測定精度を向上させることが好ましい。 Furthermore, when the half-value width of the spectrum of the cathodoluminescence CL emitted from the sample is large, the difference in spectrum may not be sufficiently reflected in the transmittance and the corresponding wavelength of one type of optical filter 5, so that a plurality of optical characteristics differ. It is preferable to perform the above steps S4 to S7 for each optical filter using different types of optical filters to improve the measurement accuracy.
この場合、光学特性が異なる複数種類の光学フィルタを用いて、複数回測定を行い、その結果を比較することにより、測定の正確性を評価することができるので、測定結果の信頼性をより担保することができる。また、分析を行う波長領域を更に分割して、細分化した波長領域ごとに最適な光学フィルタを組み合わせて使用してもよい。なお、波長に対する透過率の傾きが急な光学フィルタを使用したほうがより正確な測定結果を得ることができる。 In this case, it is possible to evaluate the accuracy of the measurement by measuring multiple times using multiple types of optical filters with different optical characteristics and comparing the results. can do. Further, the wavelength region to be analyzed may be further divided, and an optimal optical filter may be used in combination for each subdivided wavelength region. A more accurate measurement result can be obtained by using an optical filter having a steep slope of transmittance with respect to the wavelength.
また、電子線照射装置３に代えて、Ｘ線、イオンビーム等を照射するものを用いてもよい。 Further, instead of the electron beam irradiation apparatus 3, an apparatus that emits X-rays, ion beams, or the like may be used.
更に、光電子増倍管６が検出する光はカソードルミネセンスＣＬに限定されず、例えば、フォトルミネセンス（ＰＬ）、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）等のルミネセンスであってもよく、ラマン散乱光であってもよい。 Furthermore, the light detected by the photomultiplier tube 6 is not limited to cathodoluminescence CL, and may be luminescence such as photoluminescence (PL), electroluminescence (EL), etc., and Raman scattered light. There may be.
また、光電子増倍管６に変えて同様に応答速度の速いフォトダイオードが用いられてもよい。もちろん、応答速度が遅いＣＣＤ等のものであっても、光検出器として使用できる。 Further, instead of the photomultiplier tube 6, a photodiode having a high response speed may be used. Of course, even a CCD with a slow response speed can be used as a photodetector.
更に、楕円面鏡４１で集光したカソードルミネセンスＣＬを、光ファイバを用いて、光電子増倍管６に転送するようにしてもよい。 Further, the cathodoluminescence CL collected by the ellipsoidal mirror 41 may be transferred to the photomultiplier tube 6 using an optical fiber.
また、前記実施形態では、まず、光学フィルタ５が設置されていない状態で試料Ｗから発したカソードルミネセンスＣＬの強度Ａが測定され、次いで、光学フィルタ５が設置された状態でカソードルミネセンスＣＬのうち光学フィルタ５を透過した光の強度Ｂが測定されたが、発光強度Ａと発光強度Ｂの測定順序は逆であってもよく、まず、発光強度Ｂが測定され、次いで、発光強度Ａが測定されてもよい。 In the embodiment, first, the intensity A of the cathodoluminescence CL emitted from the sample W is measured without the optical filter 5 installed, and then the cathodoluminescence CL is installed with the optical filter 5 installed. Although the intensity B of the light transmitted through the optical filter 5 was measured, the measurement order of the emission intensity A and the emission intensity B may be reversed. First, the emission intensity B is measured, and then the emission intensity A May be measured.
前述の実施例では、ピークのシフトを概算する例を示した。これは、測定対象となるピークの半値幅が略変化しない場合に有効である。しかし、ピークの位置は略変化しないものの半値幅が変化するサンプルでは、例えば、半値幅が広がると、光学フィルタ５を透過した光の強度（図３においてハッチングが施してある領域の面積に相当）も増加し、全発光強度に対する透過光の発光強度の割合が変化するので、当該割合から、半値幅を概算することもできる。 In the above-described embodiment, an example in which the peak shift is estimated is shown. This is effective when the half width of the peak to be measured does not change substantially. However, in the sample in which the half-value width changes although the peak position does not substantially change, for example, when the half-value width increases, the intensity of light transmitted through the optical filter 5 (corresponding to the area of the hatched region in FIG. 3) Since the ratio of the emission intensity of transmitted light to the total emission intensity changes, the half width can be estimated from the ratio.
その他、前述した実施形態や変形実施形態の一部又は全部を適宜組み合わせてよいし、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。 In addition, it is needless to say that some or all of the above-described embodiments and modified embodiments may be combined as appropriate, and various modifications may be made without departing from the spirit thereof.
１・・・試料分析装置
Ｗ・・・試料
ＥＢ・・・エネルギ線（電子線）
ＣＬ・・・光（カソードルミネセンス）
３・・・エネルギ線照射部（電子線照射装置）
５・・・光学フィルタ
６・・・光検出部（光電子増倍管）
７１・・・演算部
1 ... Sample analyzer W ... Sample EB ... Energy beam (electron beam)
CL: Light (Cathodeluminescence)
3. Energy beam irradiation unit (electron beam irradiation device)
5 ... Optical filter 6 ... Photodetector (photomultiplier tube)
71 ... Calculation unit
Claims (7)
前記エネルギ線が照射された試料から発する光の強度を測定する光検出部と、
分析を行う波長領域において、光の波長と当該波長における光の透過率とが１対１の対応関係にある光学特性を有する光学フィルタと、
前記光検出部が受光する光の光路上に前記光学フィルタを移動可能に設置する光学フィルタ移動部、又は、前記光学フィルタを前記光検出部が受光する光の光路上に設置するよう若しくは前記光路上から除去するように指示する光学フィルタ指示部と、
前記光検出部からの出力信号を受信して、前記光学フィルタを設置せずに測定された試料からの発光強度Ａを示す出力信号と、前記光学フィルタを設置して測定された試料からの発光強度Ｂを示す出力信号とから、前記光学フィルタを透過した光の強度の割合を算出する演算部と、を備えている試料分析装置。 An energy beam irradiation unit for irradiating the sample with an energy beam;
A light detector for measuring the intensity of light emitted from the sample irradiated with the energy beam;
An optical filter having an optical characteristic in which the wavelength of light and the transmittance of light at the wavelength have a one-to-one correspondence in the wavelength region for analysis;
An optical filter moving unit that movably installs the optical filter on an optical path of light received by the light detection unit, or an optical filter moving unit that installs the optical filter on an optical path of light received by the light detection unit or the light An optical filter indicating unit for instructing removal from the road;
An output signal indicating the emission intensity A from the sample received without receiving the optical filter after receiving the output signal from the light detection unit, and light emission from the sample measured with the optical filter installed A sample analyzer comprising: an arithmetic unit that calculates a ratio of the intensity of light transmitted through the optical filter from an output signal indicating intensity B.
前記エネルギ線が照射された試料から発する光の強度を測定する光検出部と、
前記光検出部が受光する光の光路上に、分析を行う波長領域において光の波長と当該波長における光の透過率とが１対１の対応関係にある光学特性を有する光学フィルタを移動可能に設置する光学フィルタ移動部、又は、前記光学フィルタを前記光検出部が受光する光の光路上に設置するよう若しくは前記光路上から除去するように指示する光学フィルタ指示部と、
前記光検出部からの出力信号を受信して、前記光学フィルタを設置せずに測定された試料からの発光強度Ａを示す出力信号と、前記光学フィルタを設置して測定された試料からの発光強度Ｂを示す出力信号とから、前記光学フィルタを透過した光の強度の割合を算出する演算部と、を備えている試料分析装置。 An energy beam irradiation unit that irradiates the sample with energy beam;
A light detector for measuring the intensity of light emitted from the sample irradiated with the energy beam;
An optical filter having an optical characteristic in which the wavelength of light and the transmittance of light at the wavelength have a one-to-one correspondence in the wavelength region to be analyzed can be moved on the optical path of the light received by the light detection unit. An optical filter moving unit to be installed, or an optical filter instructing unit that instructs the optical filter to be installed on or removed from the optical path of the light received by the light detection unit;
An output signal indicating the emission intensity A from the sample measured without receiving the optical filter upon receiving an output signal from the light detection unit, and light emission from the sample measured with the optical filter installed A sample analyzer comprising: an arithmetic unit that calculates a ratio of the intensity of light transmitted through the optical filter from an output signal indicating intensity B.
前記発光強度Ａと前記発光強度Ｂとから、前記光学フィルタを透過した光の強度の割合を算出する手順を、コンピュータに実行させるためのプログラム。 When measuring the intensity of light emitted from the sample by irradiating the sample with energy rays, the optical wavelength has a one-to-one correspondence between the light wavelength and the light transmittance at the wavelength in the wavelength region to be analyzed. Measuring the emission intensity A when measured without passing through the optical filter and the emission intensity B measured when passing through the optical filter,
A program for causing a computer to execute a procedure for calculating a ratio of the intensity of light transmitted through the optical filter from the light emission intensity A and the light emission intensity B.
前記エネルギ線が照射された試料から発する光を、分析を行う波長領域において光の波長と当該波長における光の透過率とが１対１の対応関係にある光学特性を有する光学フィルタを透過させずに、その発光強度Ａを測定する工程と、
前記エネルギ線が照射された試料から発する光を、前記光学フィルタを透過させてから、その発光強度Ｂを測定する工程と、
前記発光強度Ａと前記発光強度Ｂとから、前記光学フィルタを透過した光の強度の割合を算出する工程と、を備えている試料分析方法。 Irradiating the sample with energy rays;
The light emitted from the sample irradiated with the energy beam is not transmitted through an optical filter having an optical characteristic in which the wavelength of light and the transmittance of light at the wavelength have a one-to-one correspondence in the wavelength region for analysis. And measuring the emission intensity A;
A step of transmitting light emitted from the sample irradiated with the energy beam through the optical filter and measuring the emission intensity B;
Calculating the ratio of the intensity of the light transmitted through the optical filter from the light emission intensity A and the light emission intensity B.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008241229A JP5117966B2 (en) | 2008-09-19 | 2008-09-19 | Sample analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2008241229A JP5117966B2 (en) | 2008-09-19 | 2008-09-19 | Sample analyzer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010071874A true JP2010071874A (en) | 2010-04-02 |
| JP5117966B2 JP5117966B2 (en) | 2013-01-16 |
Family
ID=42203792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008241229A Expired - Fee Related JP5117966B2 (en) | 2008-09-19 | 2008-09-19 | Sample analyzer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5117966B2 (en) |
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|---|---|
| JP5117966B2 (en) | 2013-01-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110610 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121018 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151026 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |