JP2010062290A - 露光装置、露光システム及び露光装置用のプログラム - Google Patents

Abstract

【課題】露光装置での露光処理の不具合の原因を迅速に突き止めることが可能な技術を提供する。
【解決手段】露光装置１は、露光用のマスクを使用せずに露光処理を行うマスクレス露光装置である。露光装置１は、装置制御部２と、露光パターンを示す描画データ１００を使用して当該露光パターンを基板上に露光する露光処理部３とを備えている。装置制御部２は、露光処理部３において露光パターンを露光するためには直接必要ではない描画データ１００に関する情報である不必要関連情報を記憶するハードディスクを備えている。露光装置１では、露光処理に直接必要な情報だけでなく、不必要関連情報も記憶しているので、不具合の原因を追究するために不必要関連情報を利用することができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、光や電子ビームを使用して基板上に露光パターンを露光する露光装置、当該露光装置を備える露光システム及び当該露光装置用のプログラムに関する。

光や電子ビームを使用して基板上に露光パターンを露光する露光装置に関して従来から様々な技術が提案されている。例えば特許文献１及び２には、露光装置におけるデータの管理方法に関する技術が開示されている。また特許文献３には、露光装置のスループットの向上を図ることが可能な技術が提案されている。

特開２００７−１０３７５２号公報 特開平７−２１２７１号公報 特開平１０−７４６７５号公報

さて、露光装置において露光処理に不具合が発生した場合には、その不具合を早急に解消するために、その原因を迅速に突き止める必要がある。

そこで、本発明は上記の点に鑑みて成されたものであり、露光装置での露光処理の不具合の原因を迅速に突き止めることが可能な技術を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、請求項１の発明は、露光用のマスクを使用せずに露光処理を行う露光装置であって、露光パターンを示す描画データを使用して当該露光パターンを基板上に露光する露光処理部と、前記描画データに関する情報であって、前記露光処理部において前記露光パターンを露光するためには直接必要ではない情報である不必要関連情報を記憶する記憶部とを備える。

また、請求項２の発明は、露光用のマスクを使用して露光処理を行う露光装置であって、前記マスクを使用して基板上に露光パターンを露光する露光処理部と、前記マスクに関する情報であって、前記露光処理部において前記露光パターンを露光するためには直接必要ではない情報である不必要関連情報を記憶する記憶部とを備える。

また、請求項３の発明は、請求項１及び請求項２のいずれか一つに記載の露光装置であって、前記不必要関連情報を表示する表示部をさらに備える。

また、請求項４の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれか一つに記載の露光装置であって、前記記憶部は、基板単位で、前記露光処理部において前記露光パターンを露光するために直接必要な情報である露光関連情報と、前記不必要関連情報とを互いに関連付けてそれらを基板単位情報として記憶する。

また、請求項５の発明は、請求項４に記載の露光装置であって、前記記憶部は、基板単位で、前記露光処理部での露光処理の結果を示す露光処理結果情報と、前記露光関連情報と、前記不必要関連情報とを互いに関連付けてそれらを基板単位情報として記憶する。

また、請求項６の発明は、請求項４及び請求項５のいずれか一つに記載の露光装置であって、前記記憶部は、少なくとも一つの基板から成るグループの単位で前記基板単位情報を記憶する。

また、請求項７の発明は、露光用のマスクを使用せずに露光処理を行う露光システムであって、露光パターンを示す描画データを使用して当該露光パターンを基板上に露光する露光装置と、前記描画データに関する情報であって、前記露光装置において前記露光パターンを露光するためには直接必要ではない情報である不必要関連情報を記憶し、前記露光装置がアクセス可能な記憶装置とを備える。

また、請求項８の発明は、露光用のマスクを使用して露光処理を行う露光システムであって、前記マスクを使用して基板上に露光パターンを露光する露光装置と、前記マスクに関する情報であって、前記露光装置において前記露光パターンを露光するためには直接必要ではない情報である不必要関連情報を記憶し、前記露光装置がアクセス可能な記憶装置とを備える。

また、請求項９の発明は、請求項７及び請求項８のいずれか一つに記載の露光システムであって、前記露光装置は、前記不必要関連情報を表示する表示部を備える。

また、請求項１０の発明は、請求項７乃至請求項９のいずれか一つに記載の露光システムであって、前記記憶装置は、基板単位で、前記露光処理装置において前記露光パターンを露光するために直接必要な情報である露光関連情報と、前記不必要関連情報とを互いに関連付けてそれらを基板単位情報として記憶する。

また、請求項１１の発明は、請求項１０に記載の露光システムであって、前記記憶装置は、基板単位で、前記露光処理装置での露光処理の結果を示す露光処理結果情報と、前記露光関連情報と、前記不必要関連情報とを互いに関連付けてそれらを基板単位情報として記憶する。

また、請求項１２の発明は、請求項１０及び請求項１１のいずれか一つに記載の露光システムあって、前記記憶装置は、少なくとも一つの基板から成るグループの単位で前記基板単位情報を記憶する。

また、請求項１３の発明は、露光用のマスクを使用せずに露光パターンを示す描画データを使用して当該露光パターンを基板上に露光する露光装置のためのプログラムであって、コンピュータのＣＰＵがメモリにおいて前記プログラムを実行することによって、前記コンピュータに、前記描画データに関する情報であって、前記露光パターンを露光するためには直接必要ではない情報の入力を受け付ける入力ステップと、前記入力ステップで入力された情報を記憶する記憶ステップとを実行させる。

また、請求項１４の発明は、露光用のマスクを使用して基板上に露光パターンを露光する露光装置のためのプログラムであって、コンピュータのＣＰＵがメモリにおいて前記プログラムを実行することによって、前記コンピュータに、前記マスクに関する情報であって、前記露光パターンを露光するためには直接必要ではない情報の入力を受け付ける入力ステップと、前記入力ステップで入力された情報を記憶する記憶ステップとを実行させる。

請求項１、請求項７及び請求項１３の発明によれば、露光処理に不具合が生じた場合には、その原因を突き止めるために、露光処理には直接必要ではない描画データに関する情報である不必要関連情報をすぐに利用することができる。したがって、露光処理の不具合の原因を迅速に突き止めることができる。

また、請求項２、請求項８及び請求項１４の発明によれば、露光処理に不具合が生じた場合には、その原因を突き止めるために、露光処理には直接必要ではないマスクに関する情報である不必要関連情報をすぐに利用することができる。したがって、露光処理の不具合の原因を迅速に突き止めることができる。

また、請求項３及び請求項９の発明によれば、不必要関連情報が表示されるため、不必要関連情報を利用し易くなる。

また、請求項４及び請求項１０の発明によれば、基板単位で、露光に必要な露光関連情報と、露光に必要ではない不必要関連情報とが互いに関連付けられて記憶されるため、ある基板についての露光関連情報と不必要関連情報をすぐに利用することができる。したがって、ある基板に対する露光処理に不具合が発生した際に、その原因を突き止めるために、当該基板についての露光関連情報及び不必要関連情報をすぐに利用することができる。よって、露光処理の不具合の原因をさらに迅速に突き止めることができる。

また、請求項５及び請求項１１の発明によれば、基板単位で、露光処理結果情報と、露光関連情報と、不必要関連情報とが互いに関連付けられて記憶されるため、ある基板についての露光処理結果情報を参照して、当該基板に対する露光処理に不具合が発生していると判明した場合には、その原因を突き止めるために、当該基板についての露光関連情報及び不必要関連情報をすぐに利用することができる。よって、露光処理の不具合の原因をさらに迅速に突き止めることができる。

また、請求項６及び請求項１２の発明によれば、グループ単位で基板単位情報が記憶されるため、あるグループに属するすべての基板についての基板単位情報をすぐに利用することができる。

実施の形態１．
図１は本発明の実施の形態１に係る露光装置１の構成を示すブロック図である。本実施の形態１に係る露光装置１は、例えば、露光処理に光あるいは電子ビームを使用するマスクレス露光装置であって、半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板上に所定の露光パターンを露光する。本実施の形態１に係る露光装置１は、例えば、処理対象の基板が複数の基板処理装置に順に搬送されていく基板処理システムにおいて、基板処理装置の一つとして他の基板処理装置にインライン接続される。また、本実施の形態１に係る露光装置１において、カセットステージ及び搬送ロボットを有する機構を搬送Ｉ／Ｆ部として設けて、この搬送Ｉ／Ｆ部を利用して露光装置１を他の基板処理装置に接続しても良い。

図１に示されるように、本実施の形態１に係る露光装置１は、装置制御部２と、基板上に露光パターンを露光する露光処理部３と、記憶部４とを備えており、これらの構成要素は例えば一つの筺体内に収納されている。装置制御部２は、露光処理部３及び記憶部４を制御して、装置全体の動作を統括的に管理する。記憶部４は、例えばハードディスクであって、露光処理部３において基板上に露光される露光パターンを示す描画データ１００を記憶している。装置制御部２は、記憶部４から描画データ１００を読み出して露光処理部３に入力する。露光処理部３は、基板を支持する支持台や基板に対して光や電子ビームを照射する照射部等を備えており、入力された描画データ１００を使用して、基板上に形成されたレジスト等に、描画データ１００が示す露光パターンをマスクレスで露光する。

図２は装置制御部２の構成を示すブロック図である。装置制御部２は、一般的なコンピュータで構成されている。図２に示されるように、装置制御部２は、ＣＰＵ２１と、表示部２２と、入力部２３と、ハードディスク２４と、メモリ２５と、外部Ｉ／Ｆ部２６とを備えている。

ＣＰＵ２１は、装置の他の要素を制御して、装置全体の動作を統括的に管理する。装置制御部２の各種機能は、ＣＰＵ２１が、ハードディスク２４に記憶されている動作プログラムＰを実行することによって実現される。表示部２２は、例えば液晶表示装置であって、ＣＰＵ２１で生成された情報や、外部Ｉ／Ｆ部２６が外部装置から受信した情報を表示する。入力部２３は、マウスやキーボート等で構成されており、外部からの装置制御部２への情報の入力を受け付ける。入力部２３に入力された情報はＣＰＵ２１に入力され、ＣＰＵ２１は、その情報に応じた動作を行う。外部Ｉ／Ｆ部２６は、露光処理部３及び記憶部４に接続されており、ＣＰＵ２１は外部Ｉ／Ｆ部２６を通じて露光処理部３及び記憶部４を制御する。また外部Ｉ／Ｆ部２６は、ＬＡＮ（Local Area Network）やインターネット等のネットワークに接続されており、当該ネットワークを通じて外部装置との通信を行うことが可能である。外部Ｉ／Ｆ部２６は、ＣＰＵ２１からの情報を外部に出力したり、外部装置から入力される情報をＣＰＵ２１に入力する。ハードディスク２４は、ＣＰＵ２１が実行する動作プログラムＰなどの各種情報を記憶する。ハードディスク２４に記憶される動作プログラムＰは、図示しないメディアドライバによって記憶媒体より取得される。メモリ２５は、ＣＰＵ２１が動作する際のワークメモリ等として使用される。

次に、描画データ１００の設計から、描画データ１００を使用した露光処理の結果が得られるまでの一連の処理について説明する。図３は当該一連の処理を示すフローチャートである。

図３に示されるように、ますステップｓ１において、露光処理部３で使用される描画データ１００が設計される。描画データ１００が設計される際には、まず最初に、ＣＡＤ（Computer Aided Design）装置において露光パターンの設計が行われて、当該露光パターンを示すＣＡＤデータが生成される。次に、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）装置において、生成されたＣＡＤデータに対する、露光処理に影響を与えるデータ変更が行われたり、当該ＣＡＤデータに対して露光処理に必要なデータが付加される。そして、ＣＡＭ装置において処理されたＣＡＤデータに対してＲＩＰ（Raster Image Processor）処理が行われて、ラスタ形式の描画データ１００が生成される。なお、ＣＡＭ装置からはＣＡＤデータに付加されるデータが出力され、その後、当該データがＣＡＤデータに付加されてＲＩＰ処理が行われることもある。以後、ＲＩＰ処理が行われる直前のＣＡＤデータを「ＣＡＭデータ」と呼び、「ＣＡＤデータ」と言えばＣＡＤ装置で生成された直後のＣＡＤデータを意味するものとする。

次にステップｓ２において、ステップｓ１で生成された描画データ１００と当該描画データ１００に関する情報である描画データ関連情報１１０とが露光装置１にインポートされる。露光装置１にインポートされた描画データ１００及び描画データ関連情報１１０は、記憶部４及びハードディスク２４にそれぞれ記憶される。

本実施の形態１では、基板上に形成する露光パターンの種類に応じて、描画データ１００とそれに対応した描画データ関連情報１１０とがそれぞれ複数生成される。したがって、記憶部４には複数種類の露光パターンをそれぞれ示す複数の描画データ１００が記憶され、当該複数の描画データ１００にそれぞれ対応する複数の描画データ関連情報１１０がハードディスク２４に記憶される。

図４は描画データ関連情報１１０の構成例を示す図である。図４に示されるように、描画データ関連情報１１０は、必要関連情報１１１と不必要関連情報１１２とで構成されている。必要関連情報１１１は、露光処理部３において基板上に露光パターンを露光するために直接必要な描画データ１００に関する情報であって、不必要関連情報１１２は、露光処理部３において基板上に露光パターンを露光するためには直接必要ではない描画データ１００に関する情報である。ここで、「露光するために直接必要な情報」とは、露光処理において直接使用される情報である。したがって、「露光するために直接必要な情報」には、露光パターンや露光の条件を変更する際に使用された結果、露光処理において間接的に利用される情報は含まれない。これに対して、「露光するためには直接必要ではない情報」とは、露光処理において直接使用されない情報である。したがって、「露光するためには直接必要ではない情報」には、露光パターンや露光の条件を変更する際に使用された結果、露光処理において間接的に利用される情報は含まれる。

必要関連情報１１１には、例えば、描画データ識別情報１１１ａと、アライメントマーク情報１１１ｂとが含まれている。不必要関連情報１１２には、例えば、ネガ／ポジ情報１１２ａと、露光パターンサイズ情報１１２ｂと、描画データサイズ情報１１２ｃと、描画データ格納情報１１２ｄと、ＣＡＤデータ情報１１２ｅと、ＣＡＭデータ情報１１２ｆと、ＣＡＤ処理情報１１２ｇと、ＣＡＭ処理情報１１２ｈと、ＲＩＰ処理情報１１２ｉとが含まれている。

必要関連情報１１１に含まれる描画データ識別情報１１１ａは、描画データ１００を識別するための情報であって、例えばＩＤである。アライメントマーク情報１１１ｂは、アライメントマークの種類と座標を示す情報である。描画データ１００には、露光処理部３において照射部と基板との位置合わせを行うためのアライメントマークを示すデータが含まれており、アライメントマーク情報１１１ｂは、このアライメントマークの種類と座標とを示している。描画データ識別情報１１１ａやアライメントマーク情報１１１ｂは、今から露光処理を実行しようとする際には必ず利用される。

不必要関連情報１１２に含まれるネガ／ポジ情報１１２ａは、描画データ１００が示す露光パターンがネガ型かポジ型かを示す情報である。露光パターンサイズ情報１１２ｂは、描画データ１００が示す露光パターンの大きさを示す情報である。描画データサイズ情報１１２ｃは、描画データ１００のデータ量を示す情報である。描画データ格納情報１１２ｄは、描画データ１００の記憶部４への記憶（格納）に関する情報であって、描画データ１００が記憶部４のどの記憶領域に記憶されているかを特定するための情報や、描画データ１００が記憶部４に記憶された日時などが含まれている。

また、ＣＡＤデータ情報１１２ｅは、描画データ１００の元になるＣＡＤデータに関する情報であって、ＣＡＤデータのファイル名やそのデータ量などが含まれている。ＣＡＭデータ情報１１２ｆは、描画データ１００の元になるＣＡＭデータに関する情報であって、ＣＡＭデータのファイル名やそのデータ量などが含まれている。ＣＡＤ処理情報１１２ｇは、ＣＡＤデータを生成するＣＡＤ処理に関する情報であって、ＣＡＤ処理での設計ルールなどが含まれている。ＣＡＭ処理情報１１２ｈは、ＣＡＭデータを生成するＣＡＭ処理に関する情報である。ＣＡＭ処理情報１１２ｈには、ＣＡＤデータに対してどのようなデータを付加したかなどのＣＡＭ処理の具体的内容を示すＣＡＭレシピ、ＣＡＭレシピを特定するためのＣＡＭレシピ番号、ＣＡＭ処理を特定するためのＣＡＭ処理ジョブＩＤ、ＣＡＭ処理を行った日時などが含まれている。ＲＩＰ処理情報１１２ｉは、ＣＡＭデータを描画データ１００に変換するＲＩＰ処理に関する情報である。ＲＩＰ処理情報１１２ｉには、ＣＡＤデータを描画データ１００に変換する際の変換ルールなどのＲＩＰ処理の具体的内容を示すＲＩＰレシピ、ＲＩＰレシピを特定するためのＲＩＰレシピ番号、ＲＩＰ処理を特定するためのＲＩＰ処理ジョブＩＤ、ＲＩＰ処理を実行した日時などが含まれている。不必要関連情報１１２に含まれる各種情報は、露光パターンの修正等に利用されることはあっても、今から露光処理を行おうとする際には利用されることはない。

描画データ１００を露光装置１にインポートする方法として種々考えられる。例えば、ＣＡＭデータに対してＲＩＰ処理を行って描画データ１００を生成するコンピュータを、露光装置１における装置制御部２の外部Ｉ／Ｆ部２６にネットワークを通じて接続し、当該コンピュータから、ネットワークを通じて外部Ｉ／Ｆ部２６に描画データ１００を転送する。その後、ＣＰＵ２１が外部Ｉ／Ｆ部２６に入力された描画データ１００をハードディスク２４に記憶する。また、外部Ｉ／Ｆ部２６を可搬性の記憶媒体を接続できるように構成し、描画データ１００を記憶した可搬性の記憶媒体を外部Ｉ／Ｆ部２６に接続し、当該記憶媒体から、ＣＰＵ２１を通じて描画データ１００をハードディスク２４に転送しても良い。

一方で、描画データ関連情報１１０を露光装置１にインポートする際には、例えば、オペレータが装置制御部２の入力部２３を操作し、描画データ関連情報１１０を入力部２３から露光装置１に入力する。ＣＰＵ２１は入力された描画データ関連情報１１０をハードディスク２４に記憶する。また、描画データ１００の場合と同様に、描画データ関連情報１１０を記憶したコンピュータを、外部Ｉ／Ｆ部２６にネットワークを通じて接続し、当該コンピュータから、ネットワークを通じて外部Ｉ／Ｆ部２６に描画データ関連情報１１０を転送し、ＣＰＵ２１が外部Ｉ／Ｆ部２６に入力された描画データ関連情報１１０をハードディスク２４に記憶しても良い。また、外部Ｉ／Ｆ部２６を可搬性の記憶媒体を接続できるように構成し、描画データ関連情報１１０を記憶した可搬性の記憶媒体を外部Ｉ／Ｆ部２６に接続し、当該記憶媒体から、ＣＰＵ２１を通じて描画データ１００をハードディスク２４に転送しても良い。

以上の説明から理解できるように、ハードディスク２４に記憶されている、ＣＰＵ２１が実行する動作プログラムＰは、コンピュータである装置制御部２に、描画データ関連情報１１０の入力を受け付けるステップと、入力された描画データ関連情報１１０を記憶するステップとを実行させるプログラムとして機能する。

描画データ１００と描画データ関連情報１１０の露光装置１へのインポートが完了し、その後、ステップｓ３において、本露光装置１の前段に配置された基板処理装置のコンピュータからネットワークを通じてグループ露光処理命令が外部Ｉ／Ｆ部２６に入力されると、当該グループ露光処理命令はＣＰＵ２１に入力される。グループ露光処理命令が入力されたＣＰＵ２１は、ステップｓ４において露光ジョブ情報２００を生成し、それをハードディスク２４に記憶する。

ここで、グループ露光処理命令とは、少なくと一つの基板から成る露光グループの単位で発行される命令であって、基板ごとの露光処理命令が露光グループを構成するすべての基板についてまとめられたものである。グループ露光処理命令は、例えば、基板のロット単位で発行される。また、本露光装置１が組み込まれる基板処理システムでは、少なくとも一つの基板を収納することが可能な複数のカセットが設けられており、当該複数のカセットのうちのいずれか一つのカセットに収納されている一つの基板が処理対象として、当該カセットから取り出されて、複数の基板処理装置を巡回して再び元のカセットに戻ってきて収納される。グループ露光処理命令は、このカセットの単位で発行されることもある。なお、本露光装置１において、カセットステージ及び搬送ロボットを有する搬送Ｉ／Ｆ部を設ける場合には、当該搬送Ｉ／Ｆ部からグループ露光処理命令がＣＰＵ２１に入力される。また、複数の露光グループの間では基板の数は必ずも一致しない。

露光ジョブ情報２００は、基板単位で記憶される情報である基板単位情報であって、ある露光グループについてグループ露光処理命令が発行されると、露光装置１では、当該露光グループを構成する各基板についての露光ジョブ情報２００が生成される。図５はある基板についての露光ジョブ情報２００の構成例を示す図である。

図５に示されるように、露光ジョブ情報２００は、基板の厚みや大きさなどを含む、基板に関する情報である基板情報１２０と、光や電子ビームの照射強度、露光時間及び光や電子ビームを照射する照射部と基板との設定距離などを含む露光条件１３０と、上述の描画データ関連情報１１０とを含んでおり、基板情報１２０と、露光条件１３０と、描画データ関連情報１１０とは互いに関連付けられている。基板情報１２０と、露光条件１３０と、描画データ関連情報１１０の必要関連情報１１１とは、露光処理部３において基板上に露光パターンを露光するために直接必要な情報である露光関連情報１４０を構成している。

露光条件１３０は、同じグループ内の基板の間では共通に使用される露光条件で構成された露光処理パラメータ１３１と、基板ごとに個別に設定される露光条件で構成された装置レシピ１３２とで構成されている。装置レシピ１３２には、それが属する露光ジョブ情報２００に対応する基板についての情報だけではなく、当該基板と同じ露光グループ（ロットやカセット）に属する他の基板のそれぞれについての情報も含まれている。露光処理パラメータ１３１は、例えば、オペレータが装置制御部２の入力部２３を操作することによって、入力部２３から露光装置１に入力されて、ハードディスク２４に記憶される。装置レシピ１３２は、例えば、本露光装置１が組み込まれる基板処理システム全体の動作を管理するホストコンピュータからネットワークを通じて外部Ｉ／Ｆ部２６に入力されて、ハードディスク２４に記憶される。なお、一枚の基板で構成された露光グループについては、露光条件１３０は、必要な条件をすべて含む装置レシピ１３２のみで構成されることになる。

ステップｓ４において、ＣＰＵ２１は、前段の基板処理装置から通知された処理対象の露光グループに含まれる各基板について、基板情報１２０、露光条件１３０及び描画データ関連情報１１０をハードディスク２４から読み出し、それらを関連付けて露光ジョブ情報２００を生成し、生成した露光ジョブ情報２００をハードディスク２４に記憶する。

次にステップｓ５において、ＣＰＵ２１は、処理対象の露光グループについてのグループ管理情報３００を生成する。図６はグループ管理情報３００の構成例を示す図である。図６に示されるように、グループ管理情報３００は、それに対応する露光グループに含まれる各基板についての露光ジョブ情報２００を含んでいる。複数の基板で構成された露光グループについてのグループ管理情報３００では、当該複数の基板についての露光ジョブ情報２００が互いに関連付けられている。本実施の形態１では、一つの露光グループはｎ（≧１）枚の基板で構成されているものとする。ＣＰＵ２１は、処理対象の露光グループを構成する１番からｎ番までの基板のそれぞれについての露光ジョブ情報２００をハードディスク２４から読み出し、読み出した露光ジョブ情報２００を含むグループ管理情報３００を生成し、それをハードディスク２４に記憶する。

次にステップｓ６において、処理対象の露光グループにおける一枚の基板が露光処理部３に搬入されると、ステップｓ７において、露光処理部３が、搬入された基板に対して露光処理を行う。ステップｓ７では、まず、装置制御部２のＣＰＵ２１がハードディスク２４からグループ管理情報３００を読み出して、読み出したグループ管理情報３００から、処理対象の一つの基板についての露光ジョブ情報２００を取り出す。そして、ＣＰＵ２１は、取り出した露光ジョブ情報２００の描画データ関連情報１１０に含まれる必要関連情報１１１を取り出し、それに含まれる描画データ識別情報１１１ａに基づいて、記憶部４から処理対象の基板についての描画データ１００を読み出す。記憶部４では、描画データ１００と、それを識別するための描画データ識別情報１１１ａとが互いに対応付けられて記憶されているため、ＣＰＵ２１は、必要関連情報１１１に含まれる描画データ識別情報１１１ａを使用して、処理対象の基板についての描画データ１００を記憶部４から外部Ｉ／Ｆ部２６を通じて取得することができる。

ＣＰＵ２１は、取得した描画データ１００と、取得した露光ジョブ情報２００に含まれる露光関連情報１４０とを外部Ｉ／Ｆ部２６を通じて露光処理部３に出力する。露光処理部３は、露光関連情報１４０に基づいて、描画データ１００が示す露光パターンを基板上のレジスト等に露光する。そして、露光処理部３は、ステップｓ８において、露光処理の結果を示す露光処理結果情報２１０を生成し、それを装置制御部２のＣＰＵ２１に出力する。ＣＰＵ２１は受け取った露光処理結果情報２１０をハードディスク２４に記憶されているグループ管理情報３００に登録する。ＣＰＵ２１は、ある基板についての露光処理結果情報２１０を、当該基板についての露光ジョブ情報２００に対応付けてグループ管理情報３００に登録する。露光処理結果情報２１０には、例えば、露光処理が正常に行われたかどうかを示す情報、アライメントの結果を示す情報、基板に対するフォーカスの結果を示す情報、露光精度を示す情報などが含まれている。本実施の形態１では、グループ管理情報３００に、それが対応する露光グループの各基板についての露光処理結果情報２１０が含められることによって、グループ処理結果情報４００が生成される。ステップｓ８が実行されると、ステップｓ９において、露光処理が終了した基板が露光処理部３から搬出される。

次にステップｓ１０において、装置制御部２のＣＰＵ２１は、処理対象の露光グループにおいて、露光処理が行われていない基板が存在するかどうかを判定する。ステップｓ１０において、露光処理が行われていない基板が存在すると判定されると、再度ステップｓ６が実行されて、未処理の基板が露光処理部３に搬入される。その後、同様にして、ステップｓ７〜ｓ１０が実行される。

処理対象の露光グループのすべての基板について露光処理が行われると、グループ処理結果情報４００が得られる。図７はグループ処理結果情報４００の構成例を示す図である。図７に示されるように、グループ処理結果情報４００は、グループ管理情報３００に対して、それに対応する露光グループに含まれる各基板についての露光処理結果情報２１０を含めたものである。グループ処理結果情報４００では、基板単位で、露光ジョブ情報２００と露光処理結果情報２１０とが関連付けられている。例えば、基板１の露光ジョブ情報２００と露光処理結果情報２１０とが関連付けられ、基板２の露光ジョブ情報２００と露光処理結果情報２１０とが関連付けられている。

このように、本実施の形態１では、基板に対して露光処理が完了するたびに露光処理結果情報２１０がグループ管理情報３００に登録され、処理対象の露光グループのすべての基板についての露光処理結果情報２１０の登録が終了すると、グループ処理結果情報４００が得られる。

ステップｓ１０において、露光処理が行われていない基板は存在しないと判定され、未処理の露光グループが存在する場合には（ステップｓ１１の“Ｙｅｓ”）、再度ステップｓ３が実行されて、露光処理が行われていない露光グループについてのグループ露光処理命令がＣＰＵ２１に入力される。その後、同様の処理が実行されて、新たな露光グループについてのグループ処理結果情報４００が生成される。

ステップｓ１０において、露光処理が行われていない基板は存在しないと判定され、未処理の露光グループが存在しない場合には（ステップｓ１１の“Ｎｏ”）、ステップｓ１２において、ＣＰＵ２１は、得られた複数の露光グループについてのグループ処理結果情報４００を互いに関連付けて、それらを装置処理結果情報５００としてハードディスク２４に記憶する。図８は装置処理結果情報５００の構成例を示す図である。図８に示される装置処理結果情報５００では、露光グループ１から露光グループｍ（≧２）についてのグループ処理結果情報４００が互いに関連付けられている。

ここで、ｍの数、つまり互いに対応付けるグループ処理結果情報４００の数は、ハードディスク２４の記憶容量に応じて決定される。また、新たな露光グループについてのグループ処理結果情報４００が生成された場合には、最も古く生成されたグループ処理結果情報４００を装置処理結果情報５００から削除し、装置処理結果情報５００に新たに生成されたグループ処理結果情報４００を追加しても良いし、オペレータが入力部２３を操作して露光装置１に入力した個数のグループ処理結果情報４００を装置処理結果情報５００から削除して、新たに生成されたグループ処理結果情報４００を装置処理結果情報５００に追加しても良い。

このように、本実施の形態１に係る露光装置１では、露光ジョブ情報２００とそれに対応する露光処理結果情報２１０とが基板単位で記憶される。つまり、露光ジョブ情報２００とそれに対応する露光処理結果情報２１０とから成る情報は、露光ジョブ情報２００と同様に、基板単位で記憶される情報である基板単位情報である。そして、本実施の形態１に係る露光装置１では、露光グループ単位で基板単位情報が記憶される。特に、複数の基板で露光グループが構成される場合には、当該複数の基板についての基板単位情報は互いに対応付けられて記憶されることになる。

本実施の形態１に係る露光装置１では、オペレータが装置制御部２の入力部２３に対して所定の操作を行うと、表示部２２に露光ジョブ情報２００と露光処理結果情報２１０とが表示されるようになっている。ここで、１枚の基板に対する露光処理を「ジョブ」と呼び、あるジョブについての露光ジョブ情報２００とそれに対応する露光処理結果情報２１０とをまとめて「ジョブ情報」と呼ぶ。本実施の形態１に係る露光装置１では、表示部２２に表示させるジョブ情報の選択方法として、露光グループの一覧を示すグループ一覧画面を利用して選択する方法と、ジョブの一覧を示すジョブ一覧画面を利用して選択する方法とが存在する。

＜グループ一覧画面を利用したジョブ情報の表示＞
まず、グループ一覧画面を利用して所望のジョブ情報を表示させる場合の本露光装置１の動作について説明する。オペレータが入力部２３に対して所定の操作を行うと、その操作情報がＣＰＵ２１に入力され、ＣＰＵ２１は、装置処理結果情報５００に含まれる複数のグループ処理結果情報４００にそれぞれ対応した複数の露光グループの一覧を示すグループ一覧画面を表示部２２に表示させる。グループ一覧画面では露光グループの一覧がリスト形式で示されている。例えば、露光グループをロット単位で構成し、本露光装置１のハードディスク２４で管理できるジョブ情報の数が６０００件であって、１ロットが２０枚で構成されている場合には、グループ一覧画面で表示できる露光グループの数は３００グループが上限となる。また、１ロットが１枚で構成されている場合には、グループ一覧画面で表示できる露光グループの数は６０００グループが上限となる。

本露光装置１では、表示対象の露光グループの数が多く、表示部２２において、露光グループの一覧を一度で表示できない場合には、オペレータは入力部２３を操作して表示部２２の画面をスクロールすることが可能となっており、表示部２２の画面がスクロールされることによって、露光グループの一覧がすべて表示できるようになっている。

グループ一覧画面では、行方向の一つのレコードが一つの露光グループに対応するようにリストが構成されている。そして、グループ一覧画面では、リストの列方向の項目として、露光グループに関する代表的な情報が示されている。例えば、露光グループの番号、露光グループのタイトル、露光グループの管理情報、露光グループを構成する基板の枚数、露光グループに対する露光処理の開始日時及び終了日時、露光グループを構成する基板のカセットでの位置などが、列方向の項目として示されている。なお、これらの露光グループに関する情報は、ハードディスク２４に記憶されている。

また、グループ一覧画面においては、示されている複数の項目のうち、どの項目についても、入力部２３を利用して、文字列による検索あるいは条件選択による検索が可能となっている。ＣＰＵ２１は、入力部２３に入力された検索条件と合致する項目を検索し、合致した項目を含むレコードを別のリストとして表示部２２にポップアップ表示させたり、あるいは検索条件に合致した項目を含むレコードを、表示部２２に露光グループの一覧を示すリスト上でマークさせる。

オペレータが入力部２３を操作して、検索条件に合致した項目を含むレコードの中から所望のレコードを選択し、その後、オペレータが操作部２３を操作して表示部２２に表示された詳細表示ボタンを押下すると、ＣＰＵ２１は、選択されたレコードに対応する露光グループについてのジョブの一覧がリスト形式で示されたグループ詳細画面を表示部２２に表示させる。このグループ詳細画面では、露光グループの番号やタイトルなど、リスト一覧画面で表示されていた露光グループに関する情報も表示される。なお、検索を実行せずに、オペレータが入力部２３を利用して、リストから所望のレコードを直接選択できるようにしても良い。

グループ詳細画面では、行方向の一つのレコードは一つのジョブに対応するようにリストが構成されている。そして、リストの列方向の項目として、ジョブの内容が概観できるような情報が示されている。例えば、ジョブの番号、装置レシピ１３２の番号、露光条件１３０に含まれるパラメータの名称、必要関連情報１１１や不必要関連情報１１２に含まれる代表的な情報の名称などが、列方向の項目として示される。これらの情報はハードディスク２４に記憶されている。

グループ詳細画面においては、グループ一覧画面と同様に、リストに示されている複数の項目のうち、どの項目についても、入力部２３を操作することによって、文字列による検索あるいは条件選択による検索が可能となっている。グループ詳細画面において検索が完了すると、検索条件に合致した項目を含むレコードが別のリストとしてポップアップ表示されたり、あるいは検索条件に合致した項目を含むレコードが、ジョブの一覧を示すリスト上でマークされる。

オペレータが入力部２３を操作して、検索条件に合致した項目を含むレコードの中から所望のレコードを選択し、その後、オペレータが操作部２３を操作して表示部２２に表示された詳細表示ボタンを押下すると、ＣＰＵ２１は、選択されたレコードに対応するジョブについてのジョブ情報をハードディスク２４から取得し、当該ジョブ情報を示すジョブ詳細画面を表示部２２に表示させる。これにより、オペレータによって選択されたジョブについてのジョブ情報（露光ジョブ情報２００及び露光処理結果情報２１０）が表示部２２に表示される。なお、検索を実行せずに、オペレータが入力部２３を利用して、リストから所望のレコードを直接選択できるようにしても良い。

ジョブ詳細画面においては、前のジョブについてのジョブ情報（以後、「前のジョブ情報」と呼ぶ）を表示するための表示ボタンが表示されるとともに、次のジョブについてのジョブ情報（以後、「次のジョブ情報」と呼ぶ）を表示するための表示ボタンが表示されている。ここで、「前のジョブ」とは、グループ詳細画面のリストにおいて、ジョブ詳細画面に現在表示されているジョブ情報に対応するジョブのレコードよりも一つ上のレコードのジョブを意味している。また、「次のジョブ」とは、グループ詳細画面のリストにおいて、ジョブ詳細画面に現在表示されているジョブ情報に対応するジョブのレコードよりも一つ下のレコードのジョブを意味している。オペレータが入力部２３を操作することによって、前のジョブ情報を表示するための表示ボタンが押下されると、ＣＰＵ２１は、前のジョブ情報を示すジョブ詳細画面を表示部２２に表示させる。これに対して、オペレータが入力部２３を操作することによって、次のジョブ情報を表示するための表示ボタンが押下されると、ＣＰＵ２１は、次のジョブ情報を示すジョブ詳細画面を表示部２２に表示させる。これにより、グループ詳細画面にまで戻ることなく、他のジョブ情報を表示することができる。

なお、グループ詳細画面において、「戻る」と示されたボタンあるいは「グループ一覧画面」と示されたボタンを表示し、当該ボタンが押下されると、グループ一覧画面を表示するように装置制御部２を構成しても良い。また、ジョブ詳細画面において「戻る」と示されたボタンを表示し、当該ボタンが押下されると、グループ詳細画面を表示するように装置制御部２を構成しても良いし、ジョブ詳細画面において「グループ詳細画面」と示されたボタンと、「グループ一覧画面」と示されたボタンを表示し、押下されたボタンに応じた画面が表示されるように装置制御部２を構成しても良い。

このように、本実施の形態１に係る露光装置１では、露光グループ単位で各基板についてのジョブ情報（露光ジョブ情報２００及び露光処理結果情報２１０）が管理されているため、露光グループを特定することによって、当該露光グループを構成する各基板のジョブ情報を確認することができる。

＜ジョブ一覧画面を利用したジョブ情報の表示＞
次に、ジョブ一覧画面を利用して所望のジョブ情報を表示させる場合の本露光装置１の動作について説明する。オペレータが入力部２３に対して所定の操作を行うと、その操作情報がＣＰＵ２１に入力され、ＣＰＵ２１は、装置処理結果情報５００に含まれるすべてのジョブ情報に対応するジョブの一覧を示すジョブ一覧画面を表示部２２に表示させる。ジョブ一覧画面ではジョブの一覧がリスト形式で示されている。例えば、本露光装置１のハードディスク２４で管理できるジョブ情報の数が６０００件である場合には、ジョブ一覧画面で表示できるジョブの数は６０００件が上限となる。

本露光装置１では、グループ一覧画面と同様に、表示対象のジョブの数が多く、表示部２２において、ジョブの一覧を一度で表示できない場合には、オペレータは入力部２３を操作して表示部２２の画面をスクロールすることが可能となっており、表示部２２の画面がスクロールされることによって、ジョブの一覧がすべて表示できるようになっている。

ジョブ一覧画面では、行方向の一つのレコードが一つのジョブに対応するようにリストが構成されている。そして、ジョブ一覧画面では、リストの列方向の項目としては、ジョブの内容が概観できるような情報が示されている。例えば、ジョブの番号、ジョブに対応する基板が属する露光グループの番号、ジョブの開始日時／終了日時、装置レシピ１３２の番号、必要関連情報１１１や不必要関連情報１１２の代表的な情報の名称などが、列方向の項目として示される。

ジョブ一覧画面においては、リストに示されている複数の項目のうち、どの項目についても、入力部２３を操作することによって、文字列による検索あるいは条件選択による検索が可能となっている。ジョブ一覧画面において検索が完了すると、検索条件に合致した項目を含むレコードが別のリストとして表示部２２にポップアップ表示されたり、あるいは検索条件に合致した項目を含むレコードが、ジョブの一覧を示すリスト上でマークされる。

オペレータが入力部２３を操作して、検索条件に合致した項目を含むレコードの中から所望のレコードを選択し、その後、オペレータが操作部２３を操作して表示部２２に表示された詳細表示ボタンを押下すると、ＣＰＵ２１は、選択されたレコードに対応するジョブについてのジョブ情報をハードディスク２４から読み出して、当該ジョブ情報を示すジョブ詳細画面を表示部２２に表示させる。ジョブ詳細画面には、示されているジョブ情報に対応する基板が属する露光グループに関する情報（露光グループの番号、露光グループのタイトル、露光グループに対する露光処理の開始日時及び終了日時）も示される。これにより、オペレータによって選択されたジョブについてのジョブ情報（露光ジョブ情報２００及び露光処理結果情報２１０）が表示部２２に表示される。

なお、ジョブ一覧画面において検索を実行せずに、オペレータが入力部２３を利用してジョブ一覧画面のリストから所望のレコードを選択できるようにしても良い。また、グループ一覧画面を利用してジョブ情報を選択する場合と同様に、ジョブ詳細画面において、ジョブ一覧画面のリスト上の一つ上のレコードに対応するジョブのジョブ情報を表示するための表示ボタンと、一つ下のレコードに対応するジョブのジョブ情報を表示するための表示ボタンとを表示して、ジョブ詳細画面からこれらのジョブ情報を表示できるようにしても良い。また、ジョブ詳細画面において、「戻る」と示されたボタンを表示したり、「ジョブ一覧画面」と示されたボタンを表示したりして、ジョブ詳細画面をジョブ一覧画面に簡単に切り替えられるようにしても良い。

上記の例では、露光処理が終了した基板についてのジョブ情報を表示する場合について説明したが、露光処理が行われていない基板の露光ジョブ情報２００や、露光処理中の基板の露光ジョブ情報２００を表示できるように本露光装置１を構成しても良い。例えば、上述のリスト一覧画面において、グループ処理結果情報４００は生成されていないもののグループ管理情報３００は生成されている露光グループ（以後、「未処理基板を含む露光グループ」と呼ぶ）もリストに登録し、当該リストから、未処理基板を含む露光グループが選択されると、選択された露光グループに含まれる各基板についての露光ジョブ情報２００を表示部２２にできるように装置制御部２を構成しても良い。また、上記のジョブ一覧画面において、未処理基板を含む露光グループに属する各基板についてのジョブもリストに登録し、当該リストから、未処理基板を含む露光グループに属するある基板についてのジョブが選択されると、選択されたジョブについての露光ジョブ情報２００を表示部２２にできるように装置制御部２を構成しても良い。これにより、オペレータは任意のタイミングで露光ジョブ情報２００を確認することができる。特に、露光処理中の基板についての露光ジョブ情報２００を表示できるように構成した場合には、ある基板についての露光処理中に処理エラーが生じて露光処理部３の動作が異常停止した際には、オペレータは、処理エラーが生じた基板についての露光ジョブ情報２００を表示部２２ですぐに確認することができ、処理エラーの原因を迅速に特定することができる。

以上のように、本実施の形態１に係る露光装置１では、描画データ１００に関する情報について、露光処理に必要な必要関連情報１１１だけではなく、露光処理には必要でない不必要関連情報１１２も記憶しているため、露光処理部３での露光処理に不具合が生じた場合にその不具合の原因を追求するために不必要関連情報１１２をすぐに利用することができる。

例えば、本実施の形態１のように不必要関連情報１１２にネガ／ポジ情報１１２ａが含まれている場合には、露光処理に不具合が発生した際に、作業者は入力部２３を操作することによって表示部２２にネガ／ポジ情報１１２ａを表示し、その内容をすぐに確認することができる。作業者は、表示されたネガ／ポジ情報１１２ａを参照して露光パターンがネガ型かポジ型かを確認し、その型が本来あるべき型と相違するときには、露光処理の不具合の原因が、誤った型の露光パターンを露光したことにあると判断することができる。

また、不必要関連情報１１２に露光パターンサイズ情報１１２ｂが含まれている場合には、露光処理に不具合が発生した際に、作業者は、露光パターンサイズ情報１１２ｂを表示部２２に表示する。そして、作業者は、表示されている露光パターンサイズ情報１１２ｂを参照して露光パターンの大きさを確認し、その大きさが本来あるべき大きさと相違するときには、露光処理の不具合の原因が、誤った大きさの露光パターンを露光したことにあると判断することができる。

これに対して、従来の露光装置のように、本実施の形態１に係る露光装置１が仮に露光処理で必要な必要関連情報１１１だけしか記憶していない場合には、露光処理の不具合の原因をすぐに突き止めることが困難となる。具体的には、必要関連情報１１１を参照して露光処理の不具合の原因を特定できない場合には、作業者は描画データ１００を設計した部門に対して、使用した描画データ１００が示す露光パターンがネガ型かポジ型かどうかや露光パターンの大きさなど、描画データ１００に関する他の情報を問い合わせる必要があり、露光処理の原因をすぐには特定できない。

本実施の形態１では、露光装置１が不必要関連情報１１２を記憶しているため、露光処理の不具合の原因を追求するために露光処理を行った現場で不必要関連情報１１２をすぐに利用することができる。よって、露光処理の原因を迅速に突き止めることができる。

また、本実施の形態１に係る露光装置１では、基板単位で、露光処理で直接使用される露光関連情報１４０と、露光処理で直接使用されない不必要関連情報１１２とが互いに関連付けられて記憶されているため、上述のようにグループ一覧画面やジョブ一覧画面を利用して、ある基板についての露光関連情報１４０及び不必要関連情報１１２、言い換えれば、あるジョブについての露光ジョブ情報２００をすぐに利用することができる。したがって、ある基板に対する露光処理に不具合が発生した際に、その原因を突き止めるために、当該基板についての露光関連情報１４０及び不必要関連情報１１２をすぐに利用することができる。よって、露光処理の不具合をさらに迅速に突き止めることができる。

また、本実施の形態１では、基板単位で、露光処理結果情報２１０と露光ジョブ情報２００とが互いに関連付けられて記憶されているため、つまり、基板単位で、露光処理結果情報２１０と、露光関連情報１４０と、不必要関連情報１１２とが互いに関連付けられて記憶されているため、ある基板についての露光処理結果情報２１０を参照して、当該基板に対する露光処理に不具合が発生していると判明した場合には、その原因を突き止めるために、当該基板についての露光関連情報１４０及び不必要関連情報１１２をすぐに利用することができる。よって、露光処理の不具合の原因をさらに迅速に突き止めることができる。

また、本実施の形態１では、ロット単位やカセット単位などの露光グループの単位で、基板単位情報（露光ジョブ情報２００や、露光ジョブ情報２００及び露光処理結果情報２１０なら成る情報）が記憶されているため、ある露光グループに属するすべての基板についての基板単位情報をすぐに利用することができる。特に複数の基板で露光グループが構成されている場合には、当該複数の基板についての基板単位情報が互いに対応付けられて記憶されているため、ある基板に対する露光処理の不具合の原因を突き止める際に、当該基板についての基板単位情報だけではなく、当該基板が属する露光グループの他の基板についての基板単位情報もすぐに利用することができる。よって、露光処理の不具合の原因をさらに迅速に突き止めることができる。

なお、上述の例では、露光装置１が備えるハードディスク２４において装置処理結果情報５００を管理していたが、図９に示されるように、露光装置１にネットワーク５を通じて接続された記憶装置６に装置処理結果情報５００を記憶させて、当該記憶装置６において装置処理結果情報５００を管理しても良い。記憶装置６としては、露光装置１が組み込まれる基板処理システムのホストコンピュータであっても良いし、専用の管理サーバであっても良い。

図９に示される露光システムでは、露光装置１における装置制御部２の外部Ｉ／Ｆ部２６にネットワーク５を通じて記憶装置６が接続されており、装置制御部２のＣＰＵ２１は、外部Ｉ／Ｆ部２６及びネットワーク５を通じて記憶装置６にアクセスすることが可能となっている。ＣＰＵ２１は、所望の露光ジョブ情報２００及びそれに対応する露光処理結果情報２１０を表示部２２に表示する際には、ネットワーク５を通じて記憶装置６内の装置処理結果情報５００を参照し、それに含まれる表示対象の露光ジョブ情報２００及び露光処理結果情報２１０を読み出してメモリ２５に一時的に記憶する。そして、ＣＰＵ２１は、メモリ２５に記憶された露光ジョブ情報２００及び露光処理結果情報２１０を表示部２２に表示させる。

このように、露光装置１が、装置処理結果情報５００を記憶する記憶装置６にアクセスすることが可能である場合であっても、上記と同様の効果を得ることができる。

実施の形態２．
図１０は本発明の実施の形態２に係る露光装置１１の構成を示すブロック図である。本実施の形態２に係る露光装置１１は、上述の実施の形態１に係る露光装置１とは異なり、露光用のマスク１５を使用して基板上に露光パターンを露光する露光装置である。本実施の形態２に係る露光装置１１は、上述の露光装置１と同様に、例えば、基板処理システムにおいて他の基板処理装置にインライン接続される。また、本露光装置１１において、カセットステージ及び搬送ロボットを有する機構を搬送Ｉ／Ｆ部として設けて、この搬送Ｉ／Ｆ部を利用して露光装置１を他の基板処理装置に接続しても良い。以下に、実施の形態１に係る露光装置１との相違点を中心にして、本実施の形態２に係る露光装置１１について説明する。

図１０に示されるように、本実施の形態２に係る露光装置１１は、装置制御部１２と、露光処理部１３と、露光用の複数のマスク１５を収納することが可能なマスクストッカー１４とを備えており、これらの構成要素は例えば一つの筺体内に収納されている。装置制御部１２は、露光処理部１３を制御して、装置全体の動作を統括的に管理する。露光処理部１３は、基板を支持する支持台や、基板に対して光や電子ビームを照射する照射部等を備えており、マスクストッカー１４から供給されるマスク１５を使用して、基板上に形成されたレジスト等に露光パターンを露光する。装置制御部１２は、一般的なコンピュータで構成されており、実施の形態１に係る装置制御部２と同様の構成、つまり上述の図２に示される構成を有している。

次に、マスク１５の設計からマスク１５を使用した露光処理の結果が得られるまでの一連の処理について説明する。図１１は当該一連の処理を示すフローチャートである。

図１１に示されるように、ますステップｓ２１において、露光処理部３で使用されるマスク１５が設計される。具体的には、ＣＡＤ装置においてマスクパターンの設計を行い、当該マスクパターンを示すＣＡＤデータをマスクデータとして生成する。

次にステップｓ２２において、ステップｓ２１で生成されたマスクデータに基づいてマスク１５が製造される。そして、ステップｓ２３において、製造されたマスク１５がマスクストッカー１４に設置される。

次にステップｓ２４において、ステップｓ２２で製造されたマスク１５に関する情報であるマスク関連情報１１５が露光装置１にインポートされる。露光装置１にインポートされたマスク関連情報１１５はハードディスク２４に記憶される。

本実施の形態２では、基板上に形成する露光パターンの種類に応じて、マスク１５とそれに対応するマスク関連情報１１５が複数生成される。したがって、マスクストッカー１１４には複数のマスク１５が設置され、当該複数のマスク１５にそれぞれ対応する複数のマスク関連情報１１５がハードディスク２４に記憶される。

図１２はマスク関連情報１１５の構成例を示す図である。図１２に示されるように、マスク関連情報１１５は、必要関連情報１１６と不必要関連情報１１７とで構成されている。必要関連情報１１６は、露光処理部３において基板上に露光パターンを露光するために直接必要なマスク１５に関する情報であって、不必要関連情報１１７は、露光処理部３において基板上に露光パターンを露光するためには直接必要ではないマスク１５に関する情報である。必要関連情報１１６には、例えば、マスク識別情報１１６ａと、アライメントマーク情報１１６ｂとが含まれている。不必要関連情報１１７には、例えば、ネガ／ポジ情報１１７ａと、マスクサイズ情報１１７ｂと、マスクデータ情報１１７ｃと、マスク設置情報１１７ｄとが含まれている。

必要関連情報１１６に含まれるマスク識別情報１１６ａは、マスク１５を識別するためのＩＤである。アライメントマーク情報１１６ｂは、アライメントマークの種類と座標を示す情報である。マスク１５には、露光処理部３において照射部と基板との位置合わせを行うためのアライメントマークが形成されており、アライメントマーク情報１１６ｂは、このアライメントマークの種類と座標とを示している。

不必要関連情報１１７に含まれるネガ／ポジ情報１１７ａは、マスク１５がネガ型かポジ型かを示す情報である。マスクサイズ情報１１７ｂは、マスク１５の大きさを示す情報である。マスクデータ情報１１７ｃは、マスクデータに関する情報であって、マスクデータのファイル名やそのデータ量などが含まれている。マスク設置情報１１７ｄは、マスク１５のマスクストッカー１４への設置に関する情報であって、マスク１５がマスクストッカー１４内のどの場所に設置されているかを特定するための情報や、マスク１５がマスクストッカー１４に設置された日時などが含まれている。

マスク関連情報１１５の露光装置１１へのインポートは、描画データ関連情報１１０の場合と同様に、例えば、オペレータが装置制御部２の入力部２３を操作したり、マスク関連情報１１５を記憶したコンピュータをネットワークを通じて露光装置１１に接続したり、マスク関連情報１１５を記憶した可搬性の記憶媒体を露光装置１１に接続することによって行うことができる。本実施の形態２に係る露光装置１１においても、ハードディスク２４に記憶されている、ＣＰＵ２１が実行する動作プログラムＰは、装置制御部２に、マスク関連情報１１５の入力を受け付けるステップと、入力されたマスク関連情報１１５を記憶するステップとを実行させるプログラムとして機能する。

マスク関連情報１１５の露光装置１１へのインポートが完了し、その後、ステップｓ２５において、本露光装置１１の前段に配置された基板処理装置のコンピュータからネットワークを通じてグループ露光処理命令が外部Ｉ／Ｆ部２６に入力されると、当該グループ露光処理命令はＣＰＵ２１に入力される。グループ露光処理命令が入力されたＣＰＵ２１は、ステップｓ２６において露光ジョブ情報２００を生成し、それをハードディスク２４に記憶する。

実施の形態１と同様に、グループ露光処理命令は、少なくと一つの基板から成る露光グループの単位で発行される命令であって、基板ごとの露光処理命令が露光グループを構成するすべての基板についてまとめられたものである。ステップｓ２６においては、前段の基板処理装置から、ある露光グループについてグループ露光処理命令が発行されると、当該露光グループを構成する各基板についての露光ジョブ情報２００が生成される。

本実施の形態２に係る露光ジョブ情報２００は、図５に示される実施の形態１に係る露光ジョブ情報２００において、描画データ関連情報１１０の替わりにマスク関連情報１１５を含むものである。したがって、本実施の形態２に係る露光ジョブ情報２００では、基板情報１２０と、露光処理部１３での露光条件１３０と、マスク関連情報１１５とが互いに関連付けられている。そして、基板情報１２０と、露光条件１３０と、マスク関連情報１１５の必要関連情報１１６とは、露光処理部１３において基板上に露光パターンを露光するために直接必要な情報である露光関連情報１４０を構成している。

ステップｓ２６において、ＣＰＵ２１は、前段の基板処理装置から通知された処理対象の露光グループに含まれる各基板について、基板情報１２０、露光条件１３０及びマスク関連情報１１５をハードディスク２４から読み出し、それらを関連付けて露光ジョブ情報２００を生成し、生成した露光ジョブ情報２００をハードディスク２４に記憶する。

次にステップｓ２７において、ＣＰＵ２１は、処理対象の露光グループについてのグループ管理情報３００を生成する。本実施の形態２に係るグループ管理情報３００は、実施の形態１と同様に、それに対応する露光グループを構成する各基板についての露光ジョブ情報２００を含んでいる。特に、複数の基板で構成された露光グループについてのグループ管理情報３００では、当該複数の基板についての露光ジョブ情報２００が互いに関連付けられている。ＣＰＵ２１は、処理対象の露光グループを構成する各基板についての露光ジョブ情報２００をハードディスク２４から読み出して、それらを含むグループ管理情報３００を生成し、それをハードディスク２４に記憶する。

次にステップｓ２８において、処理対象の露光グループにおける一枚の基板が露光処理部１３に搬入されると、ステップｓ２９において、露光処理部１３が、搬入された基板に対して露光処理を行う。ステップｓ２９では、まず、装置制御部１２のＣＰＵ２１がハードディスク２４からグループ管理情報３００を読み出して、読み出したグループ管理情報３００から、処理対象の一つの基板についての露光ジョブ情報２００を取り出す。そして、ＣＰＵ２１は、取り出した露光ジョブ情報２００のマスク識別情報１１６ａを、マスク１５をマスクストッカー１４から露光処理部１３に搬送する図示しない搬送装置に出力する。この搬送装置は、装置制御部１２の外部Ｉ／Ｆ部２６にネットワークを通じて接続されている。搬送装置は、入力されたマスク識別情報１１６ａで特定されるマスク１５をマスクストッカー１４から取り出して露光処理部１３に搬入する。そして、ＣＰＵ２１は、取得した露光ジョブ情報２００に含まれる露光関連情報１４０を外部Ｉ／Ｆ部２６を通じて露光処理部１３に出力する。露光処理部１３は、搬入されたマスク１５を使用し、入力された露光関連情報１４０に基づいて基板上のレジスト等に露光パターンを露光する。これにより、マスク１５に形成されたパターンが基板上のレジスト等に転写される。

その後、ステップｓ３０において、露光処理部１３は、露光処理の結果を示す露光処理結果情報２１０を生成し、それを装置制御部１２のＣＰＵ２１に出力し、ＣＰＵ２１は受け取った露光処理結果情報２１０をハードディスク２４に記憶されているグループ管理情報３００に登録する。ＣＰＵ２１は、ある基板についての露光処理結果情報２１０を、当該基板についての露光ジョブ情報２００に対応付けてグループ管理情報３００に登録する。実施の形態１と同様に、露光処理結果情報２１０には、例えば、露光処理が正常に行われたかどうかを示す情報、アライメントの結果を示す情報、基板に対するフォーカスの結果を示す情報、露光精度を示す情報などが含まれている。本実施の形態２でも同様に、グループ管理情報３００に、それが対応する露光グループの各基板についての露光処理結果情報２１０が含められることによって、グループ処理結果情報４００が生成される。ステップｓ３０が実行されると、ステップｓ３１において、露光処理が終了した基板が露光処理部１３から搬出される。

次にステップｓ３２において、装置制御部１２のＣＰＵ２１は、処理対象の露光グループにおいて、露光処理が行われていない基板が存在するかどうかを判定する。ステップｓ３２において、露光処理が行われていない基板が存在すると判定されると、再度ステップｓ２８が実行されて、未処理の基板が露光処理部１３に搬入される。その後、同様にして、ステップｓ２９〜ｓ３２が実行される。

処理対象の露光グループのすべての基板について露光処理が行われると、グループ処理結果情報４００が得られる。本実施の形態２に係るグループ処理結果情報４００は、実施の形態１と同様に、グループ管理情報３００に対して、それに対応する露光グループに含まれる各基板についての露光処理結果情報２１０を含めたものである。グループ処理結果情報４００では、基板単位で、露光ジョブ情報２００と露光処理結果情報２１０とが関連付けられている。

ステップｓ３２において、露光処理が行われていない基板は存在しないと判定され、未処理の露光グループが存在する場合には（ステップｓ３３の“Ｙｅｓ”）、再度ステップｓ２５が実行されて、露光処理が行われていない露光グループについてのグループ露光処理命令がＣＰＵ２１に入力される。その後、同様の処理が実行されて、新たな露光グループについてのグループ処理結果情報４００が生成される。

ステップｓ３２において、露光処理が行われていない基板は存在しないと判定され、未処理の露光グループが存在しない場合には（ステップｓ３３の“Ｎｏ”）、ステップｓ３４において、ＣＰＵ２１は、得られた複数の露光グループについてのグループ処理結果情報４００を互いに関連付けて、それらを装置処理結果情報５００としてハードディスク２４に記憶する。

このようにして生成された装置処理結果情報５００に含まれる露光ジョブ情報２００及び露光処理結果情報２１０は、実施の形態１と同様にして、オペレータが装置制御部１２の入力部２３に対して所定の操作を行うことによって、表示部２２に表示することができる。

以上のように、本実施の形態２に係る露光装置１１では、マスク１５に関する情報について、露光処理に直接必要な必要関連情報１１６だけではなく、露光処理には直接必要ではない不必要関連情報１１７も記憶しているため、露光処理部１３での露光処理に不具合が生じた場合にその不具合の原因を追求する際に不必要関連情報１１７をすぐに利用することができる。

例えば、本実施の形態２のように不必要関連情報１１７にネガ／ポジ情報１１７ａが含まれている場合には、露光処理に不具合が発生した際に、作業者は入力部２３を操作することによって表示部２２にネガ／ポジ情報１１７ａを表示し、その内容をすぐに確認することができる。作業者は、表示されたネガ／ポジ情報１１７ａを参照して、使用したマスク１５がネガ型かポジ型かを確認し、その型が本来あるべき型と相違するときには、露光処理の不具合の原因が、誤った型のマスク１５を使用して露光したことにあると判断することができる。

また、不必要関連情報１１７にマスクサイズ情報１１７ｂが含まれている場合には、露光処理に不具合が発生した際に、作業者は、マスクサイズ情報１１７ｂを表示部２２に表示する。そして、作業者は、表示されているマスクサイズ情報１１７ｂを参照して、マスク１５の大きさを確認し、その大きさが本来あるべき大きさと相違するときには、露光処理の不具合の原因が、誤った大きさのマスク１５を使用して露光したことにあると判断することができる。

このように、本実施の形態２では、露光装置１１が不必要関連情報１１７を記憶しているため、露光処理の不具合の原因を追求するために露光処理を行った現場で不必要関連情報１１７をすぐに利用することができる。よって、露光処理の原因を迅速に突き止めることができる。

また、本実施の形態２では、基板単位で、露光関連情報１４０と不必要関連情報１１７とが互いに関連付けられて記憶され、また基板単位で、露光処理結果情報２１０と、露光関連情報１４０と、不必要関連情報１１７とが互いに関連付けられて記憶されているため、上述の実施の形態１と同様に、露光処理の不具合の原因をさらに迅速に突き止めることができる。

また、本実施の形態２では、露光グループ単位で基板単位情報（露光ジョブ情報２００や、露光ジョブ情報２００及び露光処理結果情報２１０なら成る情報）が記憶されているため、ある露光グループに属するすべての基板についての基板単位情報をすぐに利用することができる。特に、複数の基板で露光グループが構成されている場合には、当該複数の基板についての基板単位情報が互いに対応付けられて記憶されているため、ある基板に対する露光処理の不具合の原因を突き止める際に、当該基板についての基板単位情報だけではなく、当該基板が属する露光グループの他の基板についての基板単位情報もすぐに利用することができる。よって、露光処理の不具合の原因をさらに迅速に突き止めることができる。

なお、上述の例では、露光装置１１が備えるハードディスク２４において装置処理結果情報５００を管理していたが、上述の図９に示される構成と同様に、露光装置１１にネットワークを通じて接続された記憶装置に装置処理結果情報５００を記憶させて、当該記憶装置において装置処理結果情報５００を管理しても良い。このような記憶装置としては、露光装置１１が組み込まれる基板処理システムのホストコンピュータであっても良いし、専用の管理サーバであっても良い。このように、露光装置１１が、装置処理結果情報５００を記憶する記憶装置にアクセスすることが可能である場合であっても、上記と同様の効果を得ることができる。

本発明の実施の形態１に係る露光装置の構成を示すブロック図である。 本発明の実施の形態１に係る装置制御部の構成を示すブロック図である。 描画データの設計から、描画データを使用した露光処理の結果が得られるまでの一連処理を示すフローチャートである。 本発明の実施の形態１に係る描画データ関連情報の構成を示す図である。 本発明の実施の形態１に係る露光ジョブ情報の構成を示す図である。 本発明の実施の形態１に係るグループ管理情報の構成を示す図である。 本発明の実施の形態１に係るグループ処理結果情報の構成を示す図である。 本発明の実施の形態１に係る装置処理結果情報の構成を示す図である。 本発明の実施の形態１に係る露光装置の変形例を含む露光システムの構成を示すブロック図である。 本発明の実施の形態２に係る露光装置の構成を示すブロック図である。 マスクの設計から、マスクを使用した露光処理の結果が得られるまでの一連処理を示すフローチャートである。 本発明の実施の形態２に係るマスク関連情報の構成を示す図である。

符号の説明

１，１１ 露光装置
３，１３ 露光処理部
６ 記憶装置
１５ マスク
２２ 表示部
２４ ハードディスク
１００ 描画データ
１１０ 描画データ関連情報
１１５ マスク関連情報
１１２，１１７ 不必要関連情報
１４０ 露光関連情報
２００ 露光ジョブ情報
２１０ 露光処理結果情報
Ｐ 動作プログラム

Claims (14)

1. 露光用のマスクを使用せずに露光処理を行う露光装置であって、
   露光パターンを示す描画データを使用して当該露光パターンを基板上に露光する露光処理部と、
   前記描画データに関する情報であって、前記露光処理部において前記露光パターンを露光するためには直接必要ではない情報である不必要関連情報を記憶する記憶部と
   を備える、露光装置。
2. 露光用のマスクを使用して露光処理を行う露光装置であって、
   前記マスクを使用して基板上に露光パターンを露光する露光処理部と、
   前記マスクに関する情報であって、前記露光処理部において前記露光パターンを露光するためには直接必要ではない情報である不必要関連情報を記憶する記憶部と
   を備える、露光装置。
3. 請求項１及び請求項２のいずれか一つに記載の露光装置であって、
   前記不必要関連情報を表示する表示部をさらに備える、露光装置。
4. 請求項１乃至請求項３のいずれか一つに記載の露光装置であって、
   前記記憶部は、基板単位で、前記露光処理部において前記露光パターンを露光するために直接必要な情報である露光関連情報と、前記不必要関連情報とを互いに関連付けてそれらを基板単位情報として記憶する、露光装置。
5. 請求項４に記載の露光装置であって、
   前記記憶部は、基板単位で、前記露光処理部での露光処理の結果を示す露光処理結果情報と、前記露光関連情報と、前記不必要関連情報とを互いに関連付けてそれらを基板単位情報として記憶する、露光装置。
6. 請求項４及び請求項５のいずれか一つに記載の露光装置であって、
   前記記憶部は、少なくとも一つの基板から成るグループの単位で前記基板単位情報を記憶する、露光装置。
7. 露光用のマスクを使用せずに露光処理を行う露光システムであって、
   露光パターンを示す描画データを使用して当該露光パターンを基板上に露光する露光装置と、
   前記描画データに関する情報であって、前記露光装置において前記露光パターンを露光するためには直接必要ではない情報である不必要関連情報を記憶し、前記露光装置がアクセス可能な記憶装置と
   を備える、露光システム。
8. 露光用のマスクを使用して露光処理を行う露光システムであって、
   前記マスクを使用して基板上に露光パターンを露光する露光装置と、
   前記マスクに関する情報であって、前記露光装置において前記露光パターンを露光するためには直接必要ではない情報である不必要関連情報を記憶し、前記露光装置がアクセス可能な記憶装置と
   を備える、露光システム。
9. 請求項７及び請求項８のいずれか一つに記載の露光システムであって、
   前記露光装置は、前記不必要関連情報を表示する表示部を備える、露光システム。
10. 請求項７乃至請求項９のいずれか一つに記載の露光システムであって、
    前記記憶装置は、基板単位で、前記露光処理装置において前記露光パターンを露光するために直接必要な情報である露光関連情報と、前記不必要関連情報とを互いに関連付けてそれらを基板単位情報として記憶する、露光システム。
11. 請求項１０に記載の露光システムであって、
    前記記憶装置は、基板単位で、前記露光処理装置での露光処理の結果を示す露光処理結果情報と、前記露光関連情報と、前記不必要関連情報とを互いに関連付けてそれらを基板単位情報として記憶する、露光システム。
12. 請求項１０及び請求項１１のいずれか一つに記載の露光システムあって、
    前記記憶装置は、少なくとも一つの基板から成るグループの単位で前記基板単位情報を記憶する、露光システム。
13. 露光用のマスクを使用せずに露光パターンを示す描画データを使用して当該露光パターンを基板上に露光する露光装置のためのプログラムであって、
    コンピュータのＣＰＵがメモリにおいて前記プログラムを実行することにより、前記コンピュータに、
    前記描画データに関する情報であって、前記露光パターンを露光するためには直接必要ではない情報の入力を受け付ける入力ステップと、
    前記入力ステップで入力された情報を記憶する記憶ステップと
    を実行させる、露光装置用のプログラム。
14. 露光用のマスクを使用して基板上に露光パターンを露光する露光装置のためのプログラムであって、
    コンピュータのＣＰＵがメモリにおいて前記プログラムを実行することにより、前記コンピュータに、
    前記マスクに関する情報であって、前記露光パターンを露光するためには直接必要ではない情報の入力を受け付ける入力ステップと、
    前記入力ステップで入力された情報を記憶する記憶ステップと
    を実行させる、露光装置用のプログラム。

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