JP2010061723A - Semiconductor memory device - Google Patents

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Masamichi Asano
正通 浅野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory device which enables high-speed information input. <P>SOLUTION: The semiconductor memory device 1 inputs a plurality of data through a data line into a plurality of memory cells specified by a signal input into an address line. A high-speed input processing part 530 defines a plurality of voltage ranges divided by a plurality of threshold voltages defined beforehand and converts a multi-value logic signal input from the outside into a binary number with multiple digits corresponding to the multi-value logic signal defined for each voltage range. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、多値の論理信号を入力信号とする半導体メモリー装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor memory device using a multi-value logic signal as an input signal.

NANDフラッシュメモリーで代表される、シリアル入力、シリアル出力のファイルメモリー型の半導体メモリー装置では、入力されるデータを一次的に保持する揮発性の記憶部に記憶させ、そこから不揮発性の記憶部にまとめて書き込む処理が行われている(例えば、特許文献1参照)。
昨今、このようなファイルメモリー型の半導体メモリー装置で扱うデータ量が多くなりその不揮発性の記憶部の容量の大容量化が進んでいる(例えば、非特許文献1参照)。
特開2000−100184号公報 桑野、「NAND型フラッシュROMの使い方」、CQ出版社、Interface(2007年3月号)、p.77−78.
In a serial input and serial output file memory type semiconductor memory device represented by NAND flash memory, input data is stored in a volatile storage unit that temporarily holds data, and then stored in a nonvolatile storage unit. A batch writing process is performed (see, for example, Patent Document 1).
In recent years, the amount of data handled by such a file memory type semiconductor memory device has increased, and the capacity of the nonvolatile storage section has been increased (for example, see Non-Patent Document 1).
JP 2000-1000018 A Kuwano, “How to Use NAND Flash ROM”, CQ Publisher, Interface (March 2007 issue), p. 77-78.

ところで、ファイルメモリー型の半導体メモリー装置における不揮発性の記憶部の容量の大容量化に伴い、一度に書き込まれるデータ量も増加させる方法がとられている。それに伴い、一度に書き込まれるデータ量に応じて書き込み処理時間が長くなる。
その書き込み処理時間は、データを半導体メモリー装置の揮発性のメモリー領域に入力する入力時間と、入力されたデータを不揮発性の記憶部に一括で書き込む転送書き込み時間とに分けられる。
例えば、16Gbit(ギガビット)すなわち2GByte(ギガバイト)のファイルメモリーの場合、同時に書き込んだり、読み出したりするメモリー領域は、2KByte(キロバイト(=2048Byte(バイト)))となる。
このメモリー領域に書き込む場合、同時に2048個の書き込みデータをシリアルで入力すると、
By the way, as the capacity of the non-volatile storage unit in the file memory type semiconductor memory device is increased, a method of increasing the amount of data written at one time has been taken. Along with this, the write processing time becomes longer according to the amount of data written at one time.
The write processing time can be divided into an input time for inputting data into the volatile memory area of the semiconductor memory device and a transfer write time for collectively writing the input data into the nonvolatile storage unit.
For example, in the case of a file memory of 16 Gbit (gigabit), that is, 2 Gbyte (gigabyte), the memory area to be written or read simultaneously is 2 Kbyte (kilobyte (= 2048 bytes (byte))).
When writing to this memory area, if 2048 write data are input serially at the same time,

2048×30(ns)=61(μs(マイクロ秒)) 2048 × 30 (ns) = 61 (μs (microsecond))

の入力時間が必要になる。そのシリアル入力の入力サイクルは、30ns(ナノ秒)とした。一方、転送書き込み時間は、2048Byte(バイト)を同時に一括で書き込むことになるので、約200(μs(マイクロ秒))必要となる。この場合の書き込み処理時間は、約260(μs(マイクロ秒))となる。 Input time is required. The input cycle of the serial input was 30 ns (nanoseconds). On the other hand, the transfer write time requires about 200 (μs (microseconds)) since 2048 bytes (bytes) are simultaneously written at once. The write processing time in this case is about 260 (μs (microseconds)).

さらに、高速化するために一括に書き込み処理をするデータ量を増加させて、4096Byte(バイト)の一括に書き込み処理を行うと、転送書き込み時間は約200(μs(マイクロ秒))と変わらないが、シリアルで入力する入力時間は、   Furthermore, if the amount of data to be collectively written is increased to increase the speed and the write processing is performed in a batch of 4096 bytes (bytes), the transfer write time is not changed to about 200 (μs (microseconds)). The input time for serial input is

4096×30(ns)=122(μs(マイクロ秒)) 4096 × 30 (ns) = 122 (μs (microseconds))

となる。この場合の書き込み処理時間は、約320(μs(マイクロ秒))となる。
このように一括に書き込むデータ量を増加させると、書き込み処理時間に対する書き込みデータの入力時間の比率が高くなる。そのため、一括書き込みによる時間短縮の利点が損なわれ、高速化の妨げとなることが問題になる。
It becomes. In this case, the write processing time is about 320 (μs (microseconds)).
When the amount of data to be written in a lump is increased in this way, the ratio of the write data input time to the write processing time increases. For this reason, the advantage of shortening the time by batch writing is lost, which hinders speeding up.

本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、その目的は、高速に情報を入力することを可能とする半導体メモリー装置を提供することにある。   The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of inputting information at high speed.

上記問題を解決するために、本発明は、アドレス線に入力される信号によって指定される複数のメモリセルにデータ線を介して複数のデータを入力する半導体メモリー装置であって、予め定められる複数の異なる閾値電圧で分割される複数の電圧範囲を定め、外部から入力される多値の論理信号を該電圧範囲ごとに定められた多値の論理信号に対応する複数桁の2進数に変換する入力信号処理部を備えることを特徴とする半導体メモリー装置である。   In order to solve the above problem, the present invention provides a semiconductor memory device for inputting a plurality of data via a data line to a plurality of memory cells specified by a signal input to an address line. A plurality of voltage ranges divided by different threshold voltages are defined, and a multi-value logic signal input from the outside is converted into a multi-digit binary number corresponding to the multi-value logic signal determined for each voltage range. A semiconductor memory device comprising an input signal processing unit.

本発明は、上記発明の半導体メモリー装置において、前記入力信号処理部は、入力される少なくとも一つの前記多値の論理信号を分岐して前記閾値電圧の異なる複数の比較器で2値化する判定部と、前記論理信号に応じて前記判定部が出力する2値化された複数の出力信号を前記複数桁の2進数に変換するエンコード部と、を備えることとする。   According to the present invention, in the semiconductor memory device according to the invention described above, the input signal processing unit branches at least one input multi-value logic signal and binarizes the plurality of comparators having different threshold voltages. And an encoding unit for converting a plurality of binarized output signals output from the determination unit according to the logic signal into the binary digits of the plurality of digits.

本発明は、上記発明の半導体メモリー装置において、前記入力信号処理部は、1又は複数の前記データ線の入力部に設けられることとする。   According to the present invention, in the semiconductor memory device of the above invention, the input signal processing unit is provided in an input unit of one or a plurality of the data lines.

本発明は、上記発明の半導体メモリー装置において、前記入力信号処理部は、1又は複数の前記アドレス線の入力部に設けられることとする。   According to the present invention, in the semiconductor memory device of the above invention, the input signal processing unit is provided in an input unit of one or a plurality of the address lines.

本発明は、複数のメモリセルと、入力される選択信号に基づいて前記メモリセルを選択する行デコーダと、入力される選択信号に基づいて列制御線に接続する前記メモリセルを選択する列デコーダと、前記複数のメモリセルに対する書き込み及び読み出しをする情報を転送処理単位で一時的に記憶する揮発型記憶部と、外部から入力されるアドレス情報に基づいて前記複数のメモリセルを選択し、選択された前記複数のメモリセルの第1の選択信号と選択された前記複数のメモリセルに対応する前記揮発型記憶部の記憶領域の第2の選択信号とを関連付けて出力し、前記揮発型記憶部の記憶領域を選択する前記第2の選択信号を外部から入力される制御信号に応じて出力するアドレス制御部と、前記外部から入力される制御信号及び制御情報に基づいて前記書き込み及び読み出しを制御して、前記揮発型記憶部と前記複数のメモリセルとの間の情報を転送処理単位で転送させる制御処理部と、を備える半導体メモリー装置であって、予め定められる複数の異なる閾値電圧で分割される複数の電圧範囲を定め、外部から入力される多値の論理信号を該電圧範囲ごとに定められた多値の論理信号に対応する複数桁の2進数に変換する入力信号処理部と、を備え、前記入力信号処理部は、前記外部から入力される制御信号及び制御情報に基づいて、前記揮発型記憶部への前記書き込みをする情報、前記アドレス制御部への前記アドレス情報、前記制御処理部への前記書き込み及び読み出しを制御する前記制御情報のうち少なくともいずれか一つの情報の入力処理を行うことを特徴とする半導体メモリー装置である。   The present invention includes a plurality of memory cells, a row decoder that selects the memory cells based on an input selection signal, and a column decoder that selects the memory cells connected to a column control line based on an input selection signal. A volatile storage unit that temporarily stores information to be written to and read from the plurality of memory cells in units of transfer processing, and the plurality of memory cells are selected based on address information input from the outside. A first selection signal of the plurality of memory cells selected and a second selection signal of a storage area of the volatile storage unit corresponding to the selected memory cells are output in association with each other, and the volatile storage An address control unit for outputting the second selection signal for selecting a storage area of the unit in accordance with a control signal input from the outside, and the control signal and control information input from the outside A control processing unit that controls the writing and reading based on the information to transfer information between the volatile memory unit and the plurality of memory cells in units of transfer processing, and is determined in advance. A plurality of voltage ranges divided by a plurality of different threshold voltages are defined, and a multi-value logic signal input from the outside is converted into a multi-digit binary number corresponding to the multi-value logic signal determined for each voltage range. An input signal processing unit for converting, and the input signal processing unit is configured to write information to the volatile storage unit based on a control signal and control information input from the outside, and the address control unit A process of inputting at least one of the address information to the control information and the control information for controlling the writing to and reading from the control processing unit is performed. A body-memory devices.

この発明によれば、半導体メモリー装置は、アドレス線に入力される信号によって指定される複数のメモリセルにデータ線を介してそれぞれのデータを同時に入力する。そして、半導体メモリー装置における入力信号処理部は、予め定められる複数の異なる閾値電圧で分割される複数の電圧範囲を定め、外部から入力される多値の論理信号を該電圧範囲ごとに定められた多値の論理信号に対応する複数桁の2進数に変換する処理をする。
これにより、同じ情報量を取り込む際に入力処理回数を減らすことができ、入力処理を高速化することができる。
According to the present invention, the semiconductor memory device simultaneously inputs the respective data to the plurality of memory cells specified by the signal input to the address line via the data line. The input signal processing unit in the semiconductor memory device defines a plurality of voltage ranges divided by a plurality of different predetermined threshold voltages, and multi-valued logic signals input from the outside are determined for each voltage range. A process of converting to a multi-digit binary number corresponding to a multi-value logic signal is performed.
Thereby, when the same amount of information is taken in, the number of input processes can be reduced, and the input process can be speeded up.

また、この発明によれば、上記に記載の半導体メモリー装置において、入力信号処理部は、判定部とエンコード部を設けることとする。判定部は、入力される少なくとも一つの多値の論理信号を分岐して閾値電圧の異なる複数の比較器で2値化する。エンコード部は、論理信号に応じて判定部が出力する2値化された複数の出力信号を複数桁の2進数に変換する。
これにより、入力信号に多値の論理信号を用いることができ、1回の入力処理で取り込む信号に複数の情報を含ませることができる。信号ごとに含まれる複数の情報を、一度に取り込むことができ、取り込み回数を減らすことができ、入力処理を高速化することができる。
According to the present invention, in the semiconductor memory device described above, the input signal processing unit includes a determination unit and an encoding unit. The determination unit branches at least one input multi-valued logic signal and binarizes it with a plurality of comparators having different threshold voltages. The encoding unit converts the plurality of binarized output signals output from the determination unit according to the logic signal into a binary number of a plurality of digits.
Thereby, a multi-valued logic signal can be used for the input signal, and a plurality of pieces of information can be included in the signal captured by one input process. A plurality of pieces of information included in each signal can be captured at a time, the number of captures can be reduced, and input processing can be speeded up.

また、この発明によれば、上記に記載の半導体メモリー装置において、入力信号処理部は、1又は複数のデータ線の入力部に設けられることとする。
これにより、データ線からの入力処理を高速化することができる。
According to the invention, in the semiconductor memory device described above, the input signal processing unit is provided in the input unit of one or a plurality of data lines.
Thereby, the input processing from the data line can be speeded up.

また、この発明によれば、上記に記載の半導体メモリー装置において、前記入力信号処理部は、1又は複数のアドレス線の入力部に設けられることとする。
これにより、アドレス線からの入力処理を高速化することができる。
According to the invention, in the semiconductor memory device described above, the input signal processing unit is provided in an input unit of one or a plurality of address lines.
Thereby, the input processing from the address line can be speeded up.

また、この発明によれば、入力信号処理部は、予め定められる複数の異なる閾値電圧で分割される複数の電圧範囲を定め、前記外部から入力される多値の論理信号を該電圧範囲ごとに定められた多値の論理信号に対応する複数桁の2進数に変換する。また、入力信号処理部は、外部から入力される制御信号及び制御情報に基づいて、揮発型記憶部への書き込みをする情報、アドレス制御部へのアドレス情報、制御処理部への書き込み及び読み出しを制御する制御情報のうち少なくともいずれか一つの情報の入力処理を行う。
これにより、半導体メモリー装置は、多値の論理信号で示されるデータ、アドレス情報、制御情報についての入力処理を行うことができ、外部からの情報を入力する入力処理を高速化し効率よく行うことができる。
Further, according to the present invention, the input signal processing unit determines a plurality of voltage ranges divided by a plurality of different predetermined threshold voltages, and outputs the multi-valued logic signal input from the outside for each voltage range. It is converted into a multi-digit binary number corresponding to a predetermined multi-value logic signal. Further, the input signal processing unit performs information writing to the volatile storage unit, address information to the address control unit, writing to and reading from the control processing unit based on the control signal and control information input from the outside. Input processing of at least one of the control information to be controlled is performed.
As a result, the semiconductor memory device can perform input processing for data, address information, and control information indicated by multilevel logic signals, and can speed up and efficiently perform input processing for inputting information from the outside. it can.

以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。
図1は、本実施形態による半導体メモリー装置の構成を示す概略ブロック図である。
この図に示される半導体メモリー装置1は、NAND型フラッシュメモリーを示す。
半導体メモリー装置1は、メモリー領域100、レジスタ200、アドレス制御部310、制御処理部410、入出力バッファ部510、出力バッファ部520、高速入力処理部530を備える。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic block diagram showing the configuration of the semiconductor memory device according to the present embodiment.
The semiconductor memory device 1 shown in this figure is a NAND flash memory.
The semiconductor memory device 1 includes a memory area 100, a register 200, an address control unit 310, a control processing unit 410, an input / output buffer unit 510, an output buffer unit 520, and a high-speed input processing unit 530.

半導体メモリー装置1におけるメモリー領域100は、半導体メモリー装置1における記憶領域である。メモリー領域100は、メモリセルアレイ100M、行線制御部(行デコーダ)120、列線制御部(列デコーダ)130を備える。
メモリセルアレイ100Mは、2次元に配列された複数のメモリセルを備え、各メモリセルは行線と列線を介して入力される選択信号に基づいて選択され、選択されたメモリセルに対して消去・書き込み・読み出し処理が行われる。行線制御部120は、入力される選択信号に基づいて、メモリセルアレイ100Mにおいて選択するメモリセルが接続されている行線に対して選択信号を出力する。列線制御部130は、入力される選択信号に基づいて、メモリセルアレイ100Mにおいて選択するメモリセルが接続されている列線に対して選択信号を出力する。
The memory area 100 in the semiconductor memory device 1 is a storage area in the semiconductor memory device 1. The memory area 100 includes a memory cell array 100M, a row line control unit (row decoder) 120, and a column line control unit (column decoder) 130.
Memory cell array 100M includes a plurality of memory cells arranged two-dimensionally, and each memory cell is selected based on a selection signal input via a row line and a column line, and erased with respect to the selected memory cell • Write / read processing is performed. The row line control unit 120 outputs a selection signal to the row line to which the memory cell to be selected in the memory cell array 100M is connected based on the input selection signal. The column line control unit 130 outputs a selection signal to the column line to which the memory cell to be selected in the memory cell array 100M is connected based on the input selection signal.

図2を参照し、メモリセルアレイ100Mにおける構成例について説明する。
(a)は、複数連なって配置されるメモリセルの接続関係を示す概略ブロック図である。この図に示される複数のメモリセルには、情報を記憶する単位となるメモリセルQn1〜Qn32と、メモリセルQn1〜Qn32をそれぞれ選択する制御信号が入力される行線WL1〜WL32と、直列に接続されたメモリセルQn1〜Qn32が選択される際に書き込み時や読み出し時などにその情報が入出力される列線CLnと、直列に接続されたメモリセルQn1〜Qn32の一端が接続される基準電位が示されている。
メモリセルQn1〜Qn32は、それぞれがMOSトランジスタとして機能する半導体素子であり、図示される半導体素子は、コントロールゲートを有するフローティングゲート型MOS(Metal-Oxide Semiconductor)トランジスタを例として示されている。各半導体素子のコントロールゲートは、メモリセルQn1〜Qn32を選択する制御信号がそれぞれ入力される行線WL1〜WL32に接続される。
A configuration example in the memory cell array 100M will be described with reference to FIG.
(A) is a schematic block diagram which shows the connection relation of the memory cell arrange | positioned in multiple numbers. The plurality of memory cell shown in this figure, the memory cell Q n1 to Q n32 which is a unit for storing information, a row line control signal for selecting the memory cells Q n1 to Q n32 each are input WL1~WL32 When a column line CLn to the information, such as during the time and read and write in the memory cells Q n1 to Q n32 which are connected in series is selected is input, the memory cells Q n1 to Q that are connected in series A reference potential to which one end of n32 is connected is shown.
Each of the memory cells Q n1 to Q n32 is a semiconductor element that functions as a MOS transistor, and the illustrated semiconductor element is a floating gate MOS (Metal-Oxide Semiconductor) transistor having a control gate. . A control gate of each semiconductor element, a control signal for selecting the memory cells Q n1 to Q n32 are connected to the row line WL1~WL32 respectively input.

ソース電位が印加されるソース線SLには、直列に接続されたメモリセルQn1〜Qn32の一端(ソース)が接続され、直列に接続されたメモリセルQn1〜Qn32の他端(ドレイン)には、列線CLnが接続される。接続される列線CLnには、図示されない列線制御部130が接続され、列線制御部130に入力されるアドレス情報にしたがってメモリセルQn1〜Qn32のいずれかが選択された場合に、選択されたメモリセルに対して列線CLnを介して消去・書き込み・読み出しに必要な情報が転送される。
メモリセルQn1〜Qn32のコントロールゲートには、それぞれ行線WL1〜WL32が接続され、選択されるメモリセルに対しての制御信号が入力される。
One end (source) of the memory cells Q n1 to Q n32 connected in series is connected to the source line SL to which the source potential is applied, and the other end (drain) of the memory cells Q n1 to Q n32 connected in series. ) Is connected to a column line CLn. A column line controller 130 (not shown) is connected to the connected column line CLn, and when any of the memory cells Q n1 to Q n32 is selected according to address information input to the column line controller 130, Information necessary for erasing, writing, and reading is transferred to the selected memory cell via the column line CLn.
The control gates of the memory cells Q n1 to Q n32, are respectively the row lines WL1~WL32 is connected, the control signal of the memory cell to be selected is input.

(b)は、その記憶セル部を示す平面図である。
シリコン基板の上には、素子分離絶縁膜で囲まれた領域にメモリセルQn1〜Qn32が連なって形成されている。各メモリセルQn1〜Qn32は、基板に絶縁膜を介してフローティングゲート(FG)が形成され、電荷蓄積層を形成する。この上に絶縁膜を介してコントロールゲートが形成され、コントロールゲートはそれぞれの行線WL1〜WL32に接続されている。
(B) is a plan view showing the memory cell portion.
On the silicon substrate, memory cells Q n1 to Q n32 are formed continuously in a region surrounded by the element isolation insulating film. In each of the memory cells Q n1 to Q n32 , a floating gate (FG) is formed on the substrate via an insulating film to form a charge storage layer. A control gate is formed thereon via an insulating film, and the control gate is connected to the respective row lines WL1 to WL32.

また、半導体メモリー装置1におけるレジスタ200は、メモリー領域100に対する書き込み・読み出し処理において一時的に情報を記憶する揮発型の記憶領域である。
図を参照し、シリアル入出力を行う半導体メモリー装置1におけるメモリー領域100とレジスタ200に関する動作について説明する。
図3は、半導体メモリー装置の消去動作を示す図である。
この図には、半導体メモリー装置1におけるメモリー領域100と、メモリー領域100に設けられたブロック処理領域110と、レジスタ200が示されている。
前述した構成と同じ構成には同じ符号を付け、異なる構成のブロック処理領域110について説明する。
メモリー領域100は、複数のブロックに分割され、その一つがブロック処理領域110として示される。ブロック処理領域110は、そのブロック単位で、消去動作・書き込み動作・読み出し動作が行われる領域である。この図に示されるブロック処理領域110の容量は、2048(2kByte(キロバイト)×8bit(ビット))列×32行のブロックを例に示すと、524,288セルの記憶領域を同時に処理することとなる。レジスタ200は、ブロック処理領域110に対する消去動作・書き込み動作・読み出し動作が行われる際に、一時的に入出力する情報を記憶する領域となる。この図に示される消去動作では、そのブロック処理領域110に対する一度の消去処理でブロック処理領域に記憶されている情報が消去される。また、消去動作では、レジスタ200が介在することなく処理される。
The register 200 in the semiconductor memory device 1 is a volatile storage area that temporarily stores information in the write / read processing for the memory area 100.
With reference to the drawings, operations related to the memory area 100 and the register 200 in the semiconductor memory device 1 that performs serial input / output will be described.
FIG. 3 is a diagram illustrating an erasing operation of the semiconductor memory device.
In this figure, a memory area 100 in the semiconductor memory device 1, a block processing area 110 provided in the memory area 100, and a register 200 are shown.
The same reference numerals are given to the same components as those described above, and the block processing areas 110 having different configurations will be described.
The memory area 100 is divided into a plurality of blocks, one of which is shown as a block processing area 110. The block processing area 110 is an area where an erase operation, a write operation, and a read operation are performed for each block. The block processing area 110 shown in this figure has a capacity of 2048 (2 kbytes (kilobytes) × 8 bits (bits)) columns × 32 rows. For example, the storage area of 524,288 cells can be processed simultaneously. Become. The register 200 is an area for temporarily storing information to be input / output when an erase operation, a write operation, and a read operation are performed on the block processing area 110. In the erasing operation shown in this figure, the information stored in the block processing area is erased by a single erasing process on the block processing area 110. In the erase operation, processing is performed without the register 200 being interposed.

図4は、半導体メモリー装置の書き込み動作を示す図である。
前述した構成と同じ構成には同じ符号を付け、異なる構成のページ111について説明する。
メモリー領域100におけるブロック処理領域110は、複数のページに分割され、その一つがページ111として示される。ページ111は、そのページ単位で、書き込み動作・読み出し動作が行われる領域である。この図に示されるページ111の容量は、2048Byte(バイト(=2kByte(キロバイト)))の例を示す。1ページの容量である2kByte(キロバイト)は、16,384セル(2048×8bit(ビット))となる。その1ページの記憶領域を同時に書き込み処理することとなる。また、レジスタ200には、1ページ分のデータがシリアル入力で入力される。そして、レジスタ200からページ111にページ単位での書き込み処理が行われる。
FIG. 4 is a diagram showing a write operation of the semiconductor memory device.
The same reference numerals are given to the same components as those described above, and the pages 111 having different configurations will be described.
The block processing area 110 in the memory area 100 is divided into a plurality of pages, one of which is shown as a page 111. The page 111 is an area where a write operation and a read operation are performed in units of pages. The capacity of the page 111 shown in this figure shows an example of 2048 bytes (bytes (= 2 kbytes (kilobytes))). One page capacity of 2 kBytes (kilobytes) is 16,384 cells (2048 × 8 bits (bits)). That one page storage area is written simultaneously. In addition, one page of data is input to the register 200 by serial input. Then, a write process in units of pages is performed from the register 200 to the page 111.

図5は、半導体メモリー装置の読み出し動作を示す図である。
前述した構成と同じ構成には同じ符号を付け、レジスタ200を介しての読み出し動作について説明する。
ページ111からレジスタ200にページ単位での読み出し処理が行われる。そして、レジスタ200から、1ページ分のデータがシリアル出力で出力される。
FIG. 5 is a diagram illustrating a read operation of the semiconductor memory device.
The same reference numerals are given to the same components as those described above, and a read operation via the register 200 will be described.
A page-by-page read process is performed from the page 111 to the register 200. Then, one page of data is output from the register 200 as serial output.

また、半導体メモリー装置1におけるアドレス制御部310は、入力されるアドレス情報と制御信号に基づいて選択されるメモリセルに対しての選択信号を生成し、メモリー領域100の行線制御部120及び列線制御部130に入力する。また、アドレス制御部310は、レジスタ200に対して、情報転送時に必要となるレジスタ200のアドレス情報を出力する。このアドレス制御部310が出力する選択信号により、行線制御部120、列線制御部130及びレジスタ200が連携して動作することが可能となり、半導体メモリー装置1の内部での転送処理が行える。   Further, the address control unit 310 in the semiconductor memory device 1 generates a selection signal for the memory cell selected based on the input address information and the control signal, and the row line control unit 120 and the column in the memory region 100 are generated. Input to the line control unit 130. In addition, the address control unit 310 outputs address information of the register 200 necessary for information transfer to the register 200. The row line control unit 120, the column line control unit 130, and the register 200 can operate in cooperation with each other by the selection signal output from the address control unit 310, and transfer processing inside the semiconductor memory device 1 can be performed.

半導体メモリー装置1における制御処理部410は、入力される制御信号及び制御情報(コマンド)に基づいて、半導体メモリー装置1における各処理におけるタイミング信号を生成し、レジスタ200、アドレス制御部310に出力する。制御処理部410は、入力される制御情報(コマンド)を記憶する記憶部と、記憶された情報を判定する判定処理部を有する。また、制御処理部410は、生成したタイミング信号に基づき、処理状態を示す信号を出力する。   The control processing unit 410 in the semiconductor memory device 1 generates a timing signal in each processing in the semiconductor memory device 1 based on the input control signal and control information (command), and outputs the timing signal to the register 200 and the address control unit 310. . The control processing unit 410 includes a storage unit that stores input control information (command) and a determination processing unit that determines the stored information. In addition, the control processing unit 410 outputs a signal indicating a processing state based on the generated timing signal.

図を参照し、入出力バッファ部510、出力バッファ部520及び高速入力処理部530を介して入出力される半導体メモリー装置1の入出力信号について説明する。
図6は、半導体メモリー装置1の外部との接続を示す構成例である。
この図には、半導体メモリー装置1と、半導体メモリー装置1が接続されるシステムバス(System Bus)2が示されている。このシステムバス2に接続される信号は複数あり、情報を入出力するデータバスの信号と、情報を入出力する制御を行う制御信号とがある。
この図に示されるデータバスは、8bit(ビット)並列に入出力が行える例が示される。また、このシステムバス2とのインターフェース仕様には、コマンド入力方式を用いる。このコマンド入力方式により、アドレス入力と、データ入力と、データ出力の全ての情報の入出力を共通に用いるI/O1端子〜I/O8端子(以下、I/O1端子〜I/O8端子をまとめて「I/O端子」と記す。)の8つの端子のみで行うことができる。それらの端子を用いてシリアル入力、シリアル出力とすることで、ピン数を大幅に減らすことができ、さらに、メモリー容量にも依存することなくピン配置の互換性を保つことができる。
The input / output signals of the semiconductor memory device 1 input / output via the input / output buffer unit 510, the output buffer unit 520, and the high-speed input processing unit 530 will be described with reference to the drawings.
FIG. 6 is a configuration example showing connection of the semiconductor memory device 1 to the outside.
In this figure, a semiconductor memory device 1 and a system bus 2 (System Bus) 2 to which the semiconductor memory device 1 is connected are shown. There are a plurality of signals connected to the system bus 2, and there are a data bus signal for inputting / outputting information and a control signal for controlling input / output of information.
The data bus shown in this figure shows an example in which input / output can be performed in parallel with 8 bits (bits). A command input method is used for the interface specification with the system bus 2. By this command input method, I / O1 terminal to I / O8 terminal (hereinafter referred to as I / O1 terminal to I / O8 terminal) that commonly use input / output of all information of address input, data input, and data output are summarized. (Referred to as “I / O terminal”). By using these terminals for serial input and serial output, the number of pins can be greatly reduced, and the pin arrangement compatibility can be maintained without depending on the memory capacity.

また、半導体メモリー装置1は、I/O端子の入出力タイミングを制御する信号が入出力される制御信号端子として、/CE端子、/RE端子、/WE端子、R/BY端子、ALE端子、CLE端子、/WP端子を備える。
各制御信号端子(/CE端子、/RE端子、/WE端子、R/BY端子、ALE端子、CLE端子及び/WP端子)には、それぞれの制御信号として/CE信号、/RE信号、/WE信号、R/BY信号、ALE信号、CLE信号、/WP信号が入力される。また、R/BY端子には、ステータス表示信号としてR/BY信号が出力される。
In addition, the semiconductor memory device 1 has a / CE terminal, a / RE terminal, a / WE terminal, an R / BY terminal, an ALE terminal, a control signal terminal to which a signal for controlling the input / output timing of the I / O terminal is input / output. A CLE terminal and a / WP terminal are provided.
Each control signal terminal (/ CE terminal, / RE terminal, / WE terminal, R / BY terminal, ALE terminal, CLE terminal, and / WP terminal) has a / CE signal, / RE signal, / WE as its control signal. A signal, an R / BY signal, an ALE signal, a CLE signal, and a / WP signal are input. The R / BY terminal outputs an R / BY signal as a status display signal.

各信号の機能について説明する。
/CE信号は、チップ・イネーブル信号を示し、半導体メモリー装置の選択信号として用いられる入力信号である。/RE信号は、リード・イネーブル信号を示し、I/O端子を介してデータを読み出す際に使用される入力信号である。/WE信号は、ライト・イネーブル信号を示し、I/O端子を介してデータを書き込む際に使用される入力信号である。ALE信号は、アドレス・ラッチ・イネーブル信号を示し、アドレス情報又は入力データを半導体メモリー装置内部のアドレス・レジスタに取り込む際に使用される入力信号である。この信号に「H(ハイ)」が入力されているときに/WE信号が立ち上がることによりアドレス情報が取り込まれ、この信号に「L(ロー)」が入力されているときに/WE信号が立ち上がることにより入力データが取り込まれる。CLE信号は、コマンド・ラッチ・イネーブル信号を示し、動作コマンドを半導体メモリー装置内部のコマンド・レジスタに取り込む際に使用される入力信号である。/WP信号は、ライト・プロテクト信号を示し、入力信号が不確定なときなどに、予期せぬ書き込みや消去が行われないようにするための信号である。R/BY信号は、レディー・ビジー信号を示し、半導体メモリー装置内部の動作状態を表示する信号である。
The function of each signal will be described.
The / CE signal indicates a chip enable signal and is an input signal used as a selection signal for the semiconductor memory device. The / RE signal indicates a read enable signal and is an input signal used when reading data through the I / O terminal. The / WE signal indicates a write enable signal and is an input signal used when writing data via the I / O terminal. The ALE signal indicates an address latch enable signal, and is an input signal used when address information or input data is taken into an address register inside the semiconductor memory device. When “H (high)” is input to this signal, the address information is taken in by the rise of the / WE signal, and when “L (low)” is input to this signal, the / WE signal rises. As a result, the input data is captured. The CLE signal indicates a command latch enable signal and is an input signal used when an operation command is taken into a command register inside the semiconductor memory device. The / WP signal indicates a write protect signal, and is a signal for preventing unexpected writing or erasing when the input signal is indeterminate. The R / BY signal indicates a ready / busy signal and is a signal for displaying an operation state inside the semiconductor memory device.

半導体メモリー装置1では、書き込み・読み出しの情報並びに制御信号などが入出力バッファ部510、出力バッファ部520及び高速入力処理部530を介してそれぞれ入出力される。
半導体メモリー装置1における入出力バッファ部510は、制御信号の入力処理及び状態表示信号の出力処理を行う入出力処理部である。出力バッファ部520は、読み出しデータをI/O端子に出力する出力処理部である。高速入力処理部530は、I/O端子から入力されるアドレス情報、書き込みデータ及び制御情報(コマンド)の入力処理を行う入力処理部である。
In the semiconductor memory device 1, write / read information and control signals are input / output via the input / output buffer unit 510, the output buffer unit 520, and the high-speed input processing unit 530.
The input / output buffer unit 510 in the semiconductor memory device 1 is an input / output processing unit that performs control signal input processing and status display signal output processing. The output buffer unit 520 is an output processing unit that outputs read data to the I / O terminal. The high-speed input processing unit 530 is an input processing unit that performs an input process of address information, write data, and control information (command) input from the I / O terminal.

図を参照し、高速入力処理部530の詳細について説明する。
図7は、高速入力処理部530における入出力の関係を示す図である。
この図に示される表は、高速入力処理部530に入力される信号の標準電圧と、入力される信号の電圧が示す情報を2進数化した結果と、その情報を連続する2つのメモリセルに書き込むデータの関連付けを示す。
この表の各列の項目は、入力信号の「入力電圧(4値)」、入力信号が有する情報を示す「2進ロジック」、出力信号である「DIN*(Odd)」及び「DIN*(Even)」を示す。また、各行の項目は、入力される入力信号DINの標準電圧として、0.0V(ボルト)、0.6V(ボルト)、1.2V(ボルト)、1.8V(ボルト)を示す。
この表には、入力信号の電圧に応じて変換された各列の論理値が示される。例えば、入力電圧が0.6V(ボルト)であれば、その入力電圧を変換して、出力信号DIN*(Odd)及びDIN*(Even)には、それぞれ「1」と「0」が出力される。
Details of the high-speed input processing unit 530 will be described with reference to the drawings.
FIG. 7 is a diagram illustrating an input / output relationship in the high-speed input processing unit 530.
The table shown in this figure shows the standard voltage of the signal input to the high-speed input processing unit 530, the result of binarizing information indicated by the voltage of the input signal, and the information in two consecutive memory cells. Indicates the association of data to be written.
The items in each column of this table are “input voltage (four values)” of the input signal, “binary logic” indicating information included in the input signal, “DIN * (Odd)” and “DIN * ( Even) ". The items in each row indicate 0.0 V (volt), 0.6 V (volt), 1.2 V (volt), and 1.8 V (volt) as standard voltages of the input signal DIN.
This table shows the logical value of each column converted according to the voltage of the input signal. For example, if the input voltage is 0.6V (volt), the input voltage is converted, and “1” and “0” are output to the output signals DIN * (Odd) and DIN * (Even), respectively. The

図を参照し、半導体メモリー装置1における高速入力処理部530の構成について説明する。
図8は、高速入力処理部530の構成を示すブロック図である。
半導体メモリー装置1における高速入力処理部530は、比較処理部10と、エンコーダ部20を備える。
高速入力処理部530における比較処理部10は、I/O端子から入力される信号DIN1〜DINnの電圧を予め定められた閾値と比較することにより判定し、判定した結果を出力信号din11〜din83で出力する複数の電圧比較回路11、12、・・・、18を備える。
The configuration of the high-speed input processing unit 530 in the semiconductor memory device 1 will be described with reference to the drawings.
FIG. 8 is a block diagram illustrating a configuration of the high-speed input processing unit 530.
The high-speed input processing unit 530 in the semiconductor memory device 1 includes a comparison processing unit 10 and an encoder unit 20.
The comparison processing unit 10 in the high-speed input processing unit 530 makes a determination by comparing the voltages of the signals DIN1 to DINn input from the I / O terminals with a predetermined threshold value, and the determination result is output as the output signals din11 to din83. A plurality of voltage comparison circuits 11, 12,.

図9は、比較処理部10における一つの電圧比較回路11の構成を示すブロック図である。
この図に示される電圧比較回路11は、入力信号DIN1が入力される入力端子TDIN1と、コンパレータCMP11、12及び13を備える。
入力端子TDIN1には、各コンパレータCMP11、12及び13の非反転入力が接続され、各コンパレータCMP11、12及び13の反転入力は、それぞれ基準電位Vref1、Vref2及びVref3にそれぞれ接続される。また、各コンパレータCMP11、12及び13の出力は、出力端子Tdin11、12及び13に接続される。この図における基準電位Vref1、Vref2及びVref3は、それぞれ0.3V(ボルト)、0.9V(ボルト)及び1.5V(ボルト)である。
電圧比較回路11は、一つの入力端子TDIN1に入力される信号の電圧を、基準電位Vref1、Vref2及びVref3で定められる閾値電圧で判定し、入力されている信号の電圧が、段階的に設定される閾値のどの範囲に相当するかを判定する。この図に示される電圧比較回路11は、入力される信号が4つに分割された電圧範囲のどの範囲の電圧で入力されているかを判定できる。
FIG. 9 is a block diagram illustrating a configuration of one voltage comparison circuit 11 in the comparison processing unit 10.
The voltage comparison circuit 11 shown in this figure includes an input terminal TDIN1 to which an input signal DIN1 is input, and comparators CMP11, 12 and 13.
A non-inverting input of each of the comparators CMP11, 12 and 13 is connected to the input terminal TDIN1, and an inverting input of each of the comparators CMP11, 12 and 13 is connected to a reference potential Vref1, Vref2 and Vref3, respectively. The outputs of the comparators CMP11, 12 and 13 are connected to output terminals Tdin11, 12 and 13. The reference potentials Vref1, Vref2, and Vref3 in this figure are 0.3 V (volt), 0.9 V (volt), and 1.5 V (volt), respectively.
The voltage comparison circuit 11 determines the voltage of a signal input to one input terminal TDIN1 with a threshold voltage determined by the reference potentials Vref1, Vref2, and Vref3, and the voltage of the input signal is set stepwise. It is determined which range of the threshold value corresponds to. The voltage comparison circuit 11 shown in this figure can determine in which voltage range the input signal is divided into four voltage ranges.

図10は、エンコーダ部20における一つのエンコーダ回路21の構成を示すブロック図である。
エンコーダ回路21は、インバータIV1、IV2及びIV3並びにNOR(ノア)1及びNOR2を備える。
入力端子Tdin2は、インバータIV1の入力端子に接続される。入力端子Tdin1は、NOR1の一方の入力端子に接続され、NOR1の他方の入力端子にインバータIV1の出力端子が接続される。入力端子Tdin3は、NOR2の一方の入力端子に接続され、NOR2の他方の入力端子にはNOR1の出力端子が接続され、インバータIV3を介して出力端子TDIN*(Odd)に接続される。インバータIV1の出力端子は、インバータIV2を介して出力端子TDIN*(Even)に接続される。
FIG. 10 is a block diagram showing a configuration of one encoder circuit 21 in the encoder unit 20.
The encoder circuit 21 includes inverters IV1, IV2, and IV3, and NOR (nor) 1 and NOR2.
The input terminal Tdin2 is connected to the input terminal of the inverter IV1. The input terminal Tdin1 is connected to one input terminal of NOR1, and the output terminal of the inverter IV1 is connected to the other input terminal of NOR1. The input terminal Tdin3 is connected to one input terminal of NOR2, the other input terminal of NOR2 is connected to the output terminal of NOR1, and is connected to the output terminal TDIN * (Odd) via the inverter IV3. The output terminal of the inverter IV1 is connected to the output terminal TDIN * (Even) via the inverter IV2.

図11は、高速入力処理部530における電圧判定回路11とエンコーダ回路21の動作を示す図である。
図に示される表は、高速入力処理部530に入力される信号の標準電圧と、それぞれの入力レベルにおける電圧判定回路11の出力信号と、エンコーダ回路21の出力信号の関係を示す。この表の各列の項目は、入力される入力信号DINの標準電圧として、0.0V(ボルト)、0.6V(ボルト)、1.2V(ボルト)、1.8V(ボルト)を示す。この表の各行の項目は、中間信号din1、2及び3と、出力信号DIN*(Odd)及びDIN*(Even)を示す。各列と各行とで示される配列では、入力信号DINの電圧に応じた各信号の論理状態が示される。
FIG. 11 is a diagram illustrating operations of the voltage determination circuit 11 and the encoder circuit 21 in the high-speed input processing unit 530.
The table shown in the figure shows the relationship between the standard voltage of the signal input to the high-speed input processing unit 530, the output signal of the voltage determination circuit 11 at each input level, and the output signal of the encoder circuit 21. The items in each column of this table indicate 0.0 V (volt), 0.6 V (volt), 1.2 V (volt), and 1.8 V (volt) as standard voltages of the input signal DIN. The items in each row of this table indicate intermediate signals din1, 2 and 3, and output signals DIN * (Odd) and DIN * (Even). In the array indicated by each column and each row, the logical state of each signal corresponding to the voltage of the input signal DIN is indicated.

図を参照し、半導体メモリー装置の入出力信号のタイミングについて説明する。
図12は、半導体メモリー装置のアドレス情報入力処理を示すタイミングチャートである。
この図に示されるタイミングチャートには、サイクルTCMD1で入力されるコマンドにしたがって、それに続くサイクルTA1〜TA3によってアドレス情報が入力される動作が行われる際に各信号を遷移させるタイミングが示されている。このタイミングチャートにしたがって各サイクルでの信号の遷移を説明する。
The timing of input / output signals of the semiconductor memory device will be described with reference to the drawings.
FIG. 12 is a timing chart showing address information input processing of the semiconductor memory device.
In the timing chart shown in this figure, the timing at which each signal is transitioned when an operation in which address information is input in subsequent cycles T A1 to T A3 is performed in accordance with a command input in cycle T CMD1 is shown. Has been. The transition of signals in each cycle will be described according to this timing chart.

アドレス情報入力処理に先立ち、CLE端子には「L(ロー)」が、/CE端子には「L(ロー)」が、/WE端子には「H(ハイ)」が、ALE端子には「L(ロー)」がそれぞれ入力される。それにより、I/O端子は、ハイインピーダンスとなる(時刻ta0)。 Prior to the address information input process, “L (low)” is set for the CLE terminal, “L (low)” is set for the / CE terminal, “H (high)” is set for the / WE terminal, and “L (low)” is set for the ALE terminal. L (low) "is input. Thereby, the I / O terminal becomes high impedance (time t a0 ).

サイクルTCMD1では、CLE端子に「H(ハイ)」が、/WE端子には「L(ロー)」がそれぞれ入力され、I/O端子にコマンド(CMD)情報を示す信号がシステムバス2を介して設定される。/WE端子に「H(ハイ)」が入力されると、/WE信号の立ち上がりのタイミングでI/O端子に設定されている信号によって示される情報が、内部のコマンド判定部における記憶部に記録される。その記憶部に記憶されたコマンド(CMD)情報の判定処理が行われ、続くサイクルではアドレス情報が入力されるサイクルであると判定される。再び/CE端子には、「L(ロー)」が、入力されI/O端子は、ハイインピーダンスとなる(時刻ta1)。 In cycle T CMD1 , “H (high)” is input to the CLE terminal, “L (low)” is input to the / WE terminal, and a signal indicating command (CMD) information is input to the system bus 2 at the I / O terminal. Set through. When “H (high)” is input to the / WE terminal, information indicated by the signal set in the I / O terminal at the rising timing of the / WE signal is recorded in the storage unit in the internal command determination unit. Is done. Processing for determining command (CMD) information stored in the storage unit is performed, and it is determined that the subsequent cycle is a cycle in which address information is input. Again, “L (low)” is input to the / CE terminal, and the I / O terminal becomes high impedance (time t a1 ).

サイクルTA1では、ALE端子には「H(ハイ)」が、/WE端子には「L(ロー)」がそれぞれ入力され、I/O端子にアドレス情報(Add)を示す信号がシステムバス2を介して設定される。/WE端子に「H(ハイ)」が入力されると、/WE信号の立ち上がりのタイミングでI/O端子に設定されている信号が、内部のアドレス判定部に取り込まれ、アドレス情報の一部として設定される。再び/CE端子には「L(ロー)」が入力され、I/O端子は、ハイインピーダンスとなる(時刻ta2)。
サイクルTA2とサイクルTA3では、サイクルTA1と同じ動作のサイクルが繰り返し行われ、分割してアドレス情報が取り込まれることとなる。
この図に示されるアドレス情報の入力は、3サイクルで行われるが、入力される情報は6byte(バイト)の情報として入力することができる。
In cycle T A1 , “H (high)” is input to the ALE terminal, “L (low)” is input to the / WE terminal, and a signal indicating address information (Add) is input to the I / O terminal. Is set via When “H (high)” is input to the / WE terminal, a signal set to the I / O terminal at the rising timing of the / WE signal is taken into the internal address determination unit, and a part of the address information Set as Again, “L (low)” is input to the / CE terminal, and the I / O terminal becomes high impedance (time t a2 ).
In the cycle T A2 and the cycle T A3 , the same operation cycle as the cycle T A1 is repeatedly performed, and the address information is fetched in a divided manner.
The address information shown in this figure is input in three cycles, but the input information can be input as 6-byte (byte) information.

図13は、半導体メモリー装置のデータ入力処理を示すタイミングチャートである。
このタイミングチャートには、サイクルTCMD2で入力されるコマンドにしたがって、それに続くサイクルTD1〜TD3によってデータ情報が入力される動作が行われる際に各信号を遷移させるタイミングが示されている。このタイミングチャートにしたがって各サイクルでの信号の遷移を説明する。
FIG. 13 is a timing chart showing data input processing of the semiconductor memory device.
This timing chart shows the timing of transition of each signal when an operation in which data information is input in subsequent cycles T D1 to T D3 is performed according to a command input in cycle T CMD2 . The transition of signals in each cycle will be described according to this timing chart.

アドレス情報入力処理に先立ち、CLE端子には「L(ロー)」が、/CE端子には「L(ロー)」が、/WE端子には「H(ハイ)」が、ALE端子には「L(ロー)」がそれぞれ入力される。それにより、I/O端子は、ハイインピーダンスとなる(時刻td0)。 Prior to the address information input process, “L (low)” is set for the CLE terminal, “L (low)” is set for the / CE terminal, “H (high)” is set for the / WE terminal, and “L (low)” is set for the ALE terminal. L (low) "is input. Thereby, the I / O terminal becomes high impedance (time td0 ).

サイクルTCMD2では、CLE端子に「H(ハイ)」が、/WE端子には「L(ロー)」がそれぞれ入力され、I/O端子にコマンド(CMD)情報を示す信号がシステムバス2を介して設定される。/WE端子に、「H(ハイ)」が入力されると、/WE信号の立ち上がりのタイミングでI/O端子に設定されている信号が、内部のコマンド判定部における記憶部に記録される。その記憶部に記憶されたコマンド(CMD)情報が、コマンド情報として判定処理が行われ、続くサイクルではデータ情報が入力されるサイクルであると判定される。再び/CE端子には、「L(ロー)」が、入力されI/O端子は、ハイインピーダンスとなる(時刻td1)。 In cycle TCMD2 , “H (high)” is input to the CLE terminal, “L (low)” is input to the / WE terminal, and a signal indicating command (CMD) information is input to the system bus 2 at the I / O terminal. Set through. When “H (high)” is input to the / WE terminal, the signal set in the I / O terminal at the rising timing of the / WE signal is recorded in the storage unit in the internal command determination unit. The command (CMD) information stored in the storage unit is subjected to determination processing as command information, and it is determined that the subsequent cycle is a cycle in which data information is input. Again, “L (low)” is input to the / CE terminal, and the I / O terminal becomes high impedance (time t d1 ).

サイクルTD1では、ALE端子には「H(ハイ)」が、/WE端子には「L(ロー)」がそれぞれ入力され、I/O端子に入力データ(Data)を示す信号がシステムバス2を介して設定される。/WE端子に「H(ハイ)」が入力されると、/WE信号の立ち上がりのタイミングでI/O端子に設定されている信号が、内部のレジスタに記録される。再び/CE端子には「L(ロー)」が入力され、I/O端子は、ハイインピーダンスとなる(時刻td2)。
サイクルTD2とサイクルTD3では、サイクルTD1と同じ動作のサイクルが繰り返し行われ、分割してデータ情報が繰り返しレジスタに記憶されることとなる。
この図に示されるデータ入力は、3サイクルで行われるが、入力される情報は6byte(バイト)の情報として入力することができる。
In cycle TD1 , “H (high)” is input to the ALE terminal, “L (low)” is input to the / WE terminal, and a signal indicating input data (Data) is input to the I / O terminal. Is set via When “H (high)” is input to the / WE terminal, the signal set to the I / O terminal at the rising timing of the / WE signal is recorded in the internal register. Again, “L (low)” is input to the / CE terminal, and the I / O terminal becomes high impedance (time t d2 ).
In the cycle T D2 and the cycle T D3 , the same operation cycle as the cycle T D1 is repeatedly performed, and the data information is repeatedly stored in the register.
The data input shown in this figure is performed in three cycles, but the input information can be input as 6-byte (byte) information.

図14は、半導体メモリー装置のデータ入力処理を示すタイミングチャートである。
このタイミングチャートには、連続するアドレスA0からA9で示される記憶領域に10個のデータを5サイクルで記録する動作における各信号の遷移のタイミングが示されている。各サイクルにおける信号の遷移を説明する。
このタイミングチャートに示されるアドレス情報(Address(ADD))、入力信号DIN、並びに、出力信号DIN*(Odd)及びDIN*(Even)の詳細は、上記説明を参照することとし、各サイクルにおける遷移について説明する。
FIG. 14 is a timing chart showing data input processing of the semiconductor memory device.
This timing chart shows the transition timing of each signal in the operation of recording 10 data in 5 cycles in the storage area indicated by consecutive addresses A0 to A9. A signal transition in each cycle will be described.
For details of the address information (Address (ADD)), the input signal DIN, and the output signals DIN * (Odd) and DIN * (Even) shown in this timing chart, refer to the above description and change in each cycle. Will be described.

サイクルTでは、アドレス情報として、「A0」が設定され、入力信号DINには、1.2V(ボルト)が入力されることにより、出力信号DIN*(Odd)には、「H(ハイ)」が、DIN*(Even)には、「L(ロー)」が出力される。サイクルTでは、アドレス情報として、「A2」が設定され、入力信号DINには、0.6V(ボルト)が入力されることにより、出力信号DIN*(Odd)には、「L(ロー)」が、DIN*(Even)には、「H(ハイ)」が出力される。サイクルTでは、アドレス情報として、「A4」が設定され、入力信号DINには、0.0V(ボルト)が入力されることにより、出力信号DIN*(Odd)には、「L(ロー)」が、DIN*(Even)には、「L(ロー)」が出力される。サイクルTでは、アドレス情報として、「A6」が設定され、入力信号DINには、1.8V(ボルト)が入力されることにより、出力信号DIN*(Odd)には、「H(ハイ)」が、DIN*(Even)には、「H(ハイ)」が出力される。サイクルTでは、アドレス情報として、「A8」が設定され、入力信号DINには、0.6V(ボルト)が再び入力されることにより、出力信号DIN*(Odd)には、「L(ロー)」が、DIN*(Even)には、「H(ハイ)」が出力される。 In the cycle T 0 , “A0” is set as address information, and 1.2 V (volts) is input to the input signal DIN, so that “H (high)” is output to the output signal DIN * (Odd). "Is output to DIN * (Even) as" L (low) ". In the cycle T 1 , “A2” is set as address information, and 0.6 V (volt) is input to the input signal DIN, so that “L (low)” is output to the output signal DIN * (Odd). ”Is output to DIN * (Even) as“ H (high) ”. In the cycle T 2 , “A4” is set as the address information, and 0.0 V (volt) is input to the input signal DIN, so that “L (low)” is output to the output signal DIN * (Odd). "Is output to DIN * (Even) as" L (low) ". In cycle T 3 , “A6” is set as the address information, and 1.8 V (volts) is input to the input signal DIN, so that “H (high) is output to the output signal DIN * (Odd)”. ”Is output to DIN * (Even) as“ H (high) ”. In cycle T 4 , “A8” is set as address information, and 0.6 V (volts) is input again to the input signal DIN, so that “L (low) is output to the output signal DIN * (Odd). ) ”Is output as“ H (high) ”in DIN * (Even).

このように、一つのサイクルでDIN*(Odd)とDIN*(Even)で示される各セルにデータを書き込むことができる。このDIN*(Odd)とDIN*(Even)を参照する指標となるアドレスは、Ai(iは整数)で示される。連続する2つのセルに同時に書き込むことができる。すなわち、アドレスAi(i=2×n)には、出力信号DIN*(Odd)で示される情報が、アドレスAi(i=2×n+1)には、出力信号DIN*(Even)で示される情報が同じ書き込みサイクルで同時に書き込まれる。   In this way, data can be written into each cell indicated by DIN * (Odd) and DIN * (Even) in one cycle. An address serving as an index for referring to the DIN * (Odd) and DIN * (Even) is indicated by Ai (i is an integer). Two consecutive cells can be written simultaneously. That is, the information indicated by the output signal DIN * (Odd) at the address Ai (i = 2 × n), and the information indicated by the output signal DIN * (Even) at the address Ai (i = 2 × n + 1). Are simultaneously written in the same write cycle.

図15は、図14に示した動作を表として示した図である。
アドレスA0とA1、アドレスA2とA3、アドレスA4とA5、アドレスA6とA7、アドレスA8とA9には、1回の入力処理で取り込まれたデータを同じサイクルにおいて、2つのアドレスに書き込みが行われる。すなわち、10個のデータを書き込むには、5回の取り込みで行うことができ、5サイクルの書き込みサイクルで処理される。
FIG. 15 shows the operation shown in FIG. 14 as a table.
Addresses A0 and A1, addresses A2 and A3, addresses A4 and A5, addresses A6 and A7, and addresses A8 and A9 are written to two addresses in the same cycle. . That is, to write 10 pieces of data, it can be performed by taking in 5 times, and is processed in 5 write cycles.

図16は、従来の実施形態による半導体メモリー装置のデータ入力処理を示すタイミングチャートである。
入力信号に多値の論理信号を用いない入力方法では、1回の入力処理で取り込まれたデータは、その都度、所定のアドレスに書き込みが行われる。
また、図17は、図16に示した動作を表として示した図である。
アドレスA0からA9まで、順に、1回の入力処理で取り込まれたデータを同じサイクルにおいて、その都度書き込みが行われる。
すなわち、10個のデータを書き込むには、10回の取り込みが必要となり、10サイクルの書き込みサイクルで処理される。前述の本実施形態における書き込み処理では、入力信号に4値での論理信号として定義したので、従来の方法の半分のサイクル数で入力処理を行うことが可能となる。
FIG. 16 is a timing chart showing data input processing of the semiconductor memory device according to the conventional embodiment.
In an input method that does not use a multi-valued logic signal as an input signal, data captured by one input process is written to a predetermined address each time.
FIG. 17 is a diagram showing the operation shown in FIG. 16 as a table.
From the addresses A0 to A9, the data fetched by one input process is written in order in the same cycle.
That is, in order to write 10 pieces of data, 10 captures are required and processing is performed in 10 write cycles. In the above-described write processing in the present embodiment, the input signal is defined as a four-value logic signal, so that the input processing can be performed with half the number of cycles of the conventional method.

なお、本発明は、上記の各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で変更可能である。本実施形態における半導体メモリー装置として、NAND型フラッシュメモリーを例として示したが、他の構成の半導体メモリー装置であってもよい。
また、高速入力処理を行う端子をアドレス用端子とデータ用端子とを共通にして用いるI/O端子として説明したが、アドレス用端子とデータ用端子を分離した構成の半導体メモリー装置に適用してもよい。
また、同時に入力する信号数を8個のI/O端子によって処理することとしたが、必要とされる信号数に合わせて他の信号数としてもよい。
The present invention is not limited to the above embodiments, and can be modified without departing from the spirit of the present invention. Although a NAND flash memory is shown as an example of the semiconductor memory device in the present embodiment, a semiconductor memory device having another configuration may be used.
Further, although the terminal for performing high-speed input processing has been described as an I / O terminal that uses an address terminal and a data terminal in common, the present invention is applied to a semiconductor memory device having a configuration in which the address terminal and the data terminal are separated. Also good.
Further, although the number of simultaneously input signals is processed by the eight I / O terminals, other signal numbers may be used in accordance with the required number of signals.

また、入力される信号の電圧をさらに細分化された電圧範囲で判定する場合には、図18に示すように、前述の電圧判定回路11の代わりに電圧比較回路31とすることも可能である。この電圧比較回路11bは、入力信号DIN1が入力される入力端子TDIN1と、コンパレータCMP31、32、33、34、35、36及び37を備える。
入力端子TDIN1には、各コンパレータCMP31、32、33、34、35、36及び37の非反転入力が接続され、各コンパレータCMP31、32、33、34、35、36及び37の反転入力は、基準電位Vref1、Vref2、Vref3、Vref4、Vref5、Vref6及びVref7にそれぞれ接続される。また、各コンパレータCMP31、32、33、34、35、36及び37の出力は、出力端子Tdin11、12、13、14、15、16及び17にそれぞれ接続される。
この図における基準電位Vref1、Vref2、Vref3、Vref4、Vref5、Vref6及びVref7は、それぞれ0.8V(ボルト)、0.9V(ボルト)、1.0V(ボルト)、1.1V(ボルト)、1.2V(ボルト)、1.3V(ボルト)、1.4V(ボルト)である。すなわち、電圧比較回路31は、入力される信号を8つに分割された電圧範囲の信号が入力されているかを判定できる。そして、電圧比較回路31に接続されるエンコーダも、8入力3出力型のプライオリティ・エンコーダ回路を適応することにより同時に入力することができる情報を3bit(ビット)とすることができる。
Further, when the voltage of the input signal is determined in a further subdivided voltage range, it is possible to use a voltage comparison circuit 31 instead of the voltage determination circuit 11 as shown in FIG. . The voltage comparison circuit 11b includes an input terminal TDIN1 to which an input signal DIN1 is input, and comparators CMP31, 32, 33, 34, 35, 36, and 37.
The non-inverting input of each comparator CMP31, 32, 33, 34, 35, 36 and 37 is connected to the input terminal TDIN1, and the inverting input of each comparator CMP31, 32, 33, 34, 35, 36 and 37 is a reference. Connected to the potentials Vref1, Vref2, Vref3, Vref4, Vref5, Vref6 and Vref7, respectively. The outputs of the comparators CMP31, 32, 33, 34, 35, 36, and 37 are connected to output terminals Tdin11, 12, 13, 14, 15, 16, and 17, respectively.
The reference potentials Vref1, Vref2, Vref3, Vref4, Vref5, Vref6, and Vref7 in this figure are 0.8V (volt), 0.9V (volt), 1.0V (volt), 1.1V (volt), 1 .2V (volt), 1.3V (volt), 1.4V (volt). That is, the voltage comparison circuit 31 can determine whether a signal in a voltage range obtained by dividing the input signal into eight is input. The encoder connected to the voltage comparison circuit 31 can also apply 3 bits (bits) of information that can be input simultaneously by adapting the 8-input 3-output type priority encoder circuit.

本発明の実施形態による半導体メモリー装置の構成を示す概略ブロック図である。1 is a schematic block diagram illustrating a configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. 本実施形態による半導体メモリー装置におけるメモリセルの構成を示す概略ブロック図である。2 is a schematic block diagram showing a configuration of a memory cell in the semiconductor memory device according to the present embodiment. FIG. 本実施形態による半導体メモリー装置の消去動作を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating an erasing operation of the semiconductor memory device according to the present embodiment. 本実施形態による半導体メモリー装置の書き込み動作を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a write operation of the semiconductor memory device according to the present embodiment. 本実施形態による半導体メモリー装置の読み出し動作を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a read operation of the semiconductor memory device according to the present embodiment. 本実施形態による半導体メモリー装置の外部との接続を示す構成例である。2 is a configuration example showing connection of the semiconductor memory device according to the present embodiment to the outside. 従来の実施形態による半導体メモリー装置のデータ入力処理を示す図である。It is a figure which shows the data input process of the semiconductor memory device by the conventional embodiment. 本実施形態による高速入力回路の構成を示すブロック図(その1)である。It is a block diagram (the 1) which shows the structure of the high-speed input circuit by this embodiment. 本実施形態による高速入力回路の構成を示すブロック図(その2)である。It is a block diagram (the 2) which shows the structure of the high-speed input circuit by this embodiment. 本実施形態による高速入力回路の構成を示すブロック図(その3)である。It is a block diagram (the 3) which shows the structure of the high-speed input circuit by this embodiment. 本実施形態による高速入力回路の動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the high-speed input circuit by this embodiment. 本実施形態による半導体メモリー装置のアドレス情報入力処理を示すタイミングチャートである。5 is a timing chart showing address information input processing of the semiconductor memory device according to the present embodiment. 本実施形態による半導体メモリー装置のデータ入力処理を示すタイミングチャートである。4 is a timing chart showing a data input process of the semiconductor memory device according to the present embodiment. 本実施形態による半導体メモリー装置の連続するデータ入力処理を示すタイミングチャートである。4 is a timing chart showing continuous data input processing of the semiconductor memory device according to the present embodiment. 本実施形態による半導体メモリー装置のデータ入力処理を示す図である。It is a figure which shows the data input process of the semiconductor memory device by this embodiment. 従来の実施形態による半導体メモリー装置の連続するデータ入力処理を示すタイミングチャートである。6 is a timing chart showing continuous data input processing of a semiconductor memory device according to a conventional embodiment. 従来の実施形態による半導体メモリー装置のデータ入力処理を示す図である。It is a figure which shows the data input process of the semiconductor memory device by the conventional embodiment. 本実施形態による高速入力回路の構成を示すブロック図(その2)である。It is a block diagram (the 2) which shows the structure of the high-speed input circuit by this embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体メモリー装置1
100 メモリー領域、100M メモリセルアレイ
120 行線制御部、130 列線制御部
200 レジスタ
310 アドレス制御部
410 制御処理部
510 入出力バッファ部、520 出力バッファ部、530 高速入力処理部
1 Semiconductor memory device 1
100 memory area, 100M memory cell array 120 row line control unit, 130 column line control unit 200 register 310 address control unit 410 control processing unit 510 input / output buffer unit, 520 output buffer unit, 530 high-speed input processing unit

Claims (5)

アドレス線に入力される信号によって指定される複数のメモリセルにデータ線を介して複数のデータを入力する半導体メモリー装置であって、
予め定められる複数の異なる閾値電圧で分割される複数の電圧範囲を定め、外部から入力される多値の論理信号を該電圧範囲ごとに定められた多値の論理信号に対応する複数桁の2進数に変換する入力信号処理部
を備えることを特徴とする半導体メモリー装置。
A semiconductor memory device for inputting a plurality of data via a data line to a plurality of memory cells specified by a signal input to an address line,
A plurality of voltage ranges divided by a plurality of predetermined different threshold voltages are defined, and a multi-valued logic signal input from the outside is a multi-digit 2 corresponding to the multi-valued logic signal determined for each voltage range. A semiconductor memory device comprising an input signal processing unit for converting to a decimal number.
前記入力信号処理部は、
入力される少なくとも一つの前記多値の論理信号を分岐して前記閾値電圧の異なる複数の比較器で2値化する判定部と、前記論理信号に応じて前記判定部が出力する2値化された複数の出力信号を前記複数桁の2進数に変換するエンコード部と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体メモリー装置。
The input signal processor is
A decision unit for branching at least one input multi-valued logic signal and binarizing with a plurality of comparators having different threshold voltages; and binarization output by the decision unit according to the logic signal An encoding unit for converting a plurality of output signals into the binary digits of the plurality of digits;
The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising:
前記入力信号処理部は、
1又は複数の前記データ線の入力部に設けられる
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体メモリー装置。
The input signal processor is
The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is provided at an input portion of the one or more data lines.
前記入力信号処理部は、
1又は複数の前記アドレス線の入力部に設けられる
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の半導体メモリー装置。
The input signal processor is
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is provided in an input portion of one or a plurality of the address lines. 5.
複数のメモリセルと、入力される選択信号に基づいて前記メモリセルを選択する行デコーダと、入力される選択信号に基づいて列制御線に接続する前記メモリセルを選択する列デコーダと、前記複数のメモリセルに対する書き込み及び読み出しをする情報を転送処理単位で一時的に記憶する揮発型記憶部と、外部から入力されるアドレス情報に基づいて前記複数のメモリセルを選択し、選択された前記複数のメモリセルの第1の選択信号と選択された前記複数のメモリセルに対応する前記揮発型記憶部の記憶領域の第2の選択信号とを関連付けて出力し、前記揮発型記憶部の記憶領域を選択する前記第2の選択信号を外部から入力される制御信号に応じて出力するアドレス制御部と、前記外部から入力される制御信号及び制御情報に基づいて前記書き込み及び読み出しを制御して、前記揮発型記憶部と前記複数のメモリセルとの間の情報を転送処理単位で転送させる制御処理部と、を備える半導体メモリー装置であって、
予め定められる複数の異なる閾値電圧で分割される複数の電圧範囲を定め、外部から入力される多値の論理信号を該電圧範囲ごとに定められた多値の論理信号に対応する複数桁の2進数に変換する入力信号処理部と、
を備え、
前記入力信号処理部は、
前記外部から入力される制御信号及び制御情報に基づいて、前記揮発型記憶部への前記書き込みをする情報、前記アドレス制御部への前記アドレス情報、前記制御処理部への前記書き込み及び読み出しを制御する前記制御情報のうち少なくともいずれか一つの情報の入力処理を行う
ことを特徴とする半導体メモリー装置。
A plurality of memory cells; a row decoder that selects the memory cells based on an input selection signal; a column decoder that selects the memory cells connected to a column control line based on an input selection signal; A plurality of memory cells that are selected based on address information input from the outside, and a volatile storage unit that temporarily stores information to be written to and read from the memory cells in units of transfer processing A first selection signal of the memory cell and a second selection signal of the storage area of the volatile storage section corresponding to the selected plurality of memory cells are output in association with each other, and the storage area of the volatile storage section An address control unit that outputs the second selection signal according to a control signal input from the outside based on the control signal and control information input from the outside And controls the serial writing and reading, a semiconductor memory device and a control processing unit for transferring the transfer process unit information between said volatile type memory unit said plurality of memory cells,
A plurality of voltage ranges divided by a plurality of predetermined different threshold voltages are defined, and a multi-valued logic signal input from the outside is a multi-digit 2 corresponding to the multi-valued logic signal determined for each voltage range. An input signal processing unit for converting to a hexadecimal number;
With
The input signal processor is
Based on the control signal and control information input from the outside, the information to be written to the volatile storage unit, the address information to the address control unit, and the writing and reading to the control processing unit are controlled. An input process of at least one of the control information is performed. A semiconductor memory device.
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