JP2010038924A - Protective film-fitted optical film and method for producing the same - Google Patents

Protective film-fitted optical film and method for producing the same Download PDF

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研二 綱島
Wataru Gunda
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an excellent protective film-fitted optical film, e.g., the protective film-fitted wide optical film with a width of ≥2m, in which separation voltage is hard to be caused when, after production of a polarizing plate, the protective film is interlayer-separated, adverse influence is hardly exerted to a liquid crystal element, and further, paste is not substantially left after the separation, and to provide a method for producing the same. <P>SOLUTION: In the protective film-fitted optical film obtained by laminating a protective film on at least one side of an optical film, an adhesion material layer is not substantially present in the boundary between the optical film and the protective film, and also, unevenness of thickness measured across the width direction of the optical film is ≤5%. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は広幅、例えば2m幅以上の広幅の保護フィルム付き光学フィルムであって、厚みむらが小さく、偏光板の作成後等に該保護フィルムを層間剥離するときに剥離電圧の発生が抑制され、液晶素子等の周辺の素子に悪い影響を与えることなく、しかも剥離時の糊残りの発生が抑制された、優れた保護フィルム付き光学フィルムおよびその製造方法に関するものであり、特に液晶表示部材などの光学用途に相応しいフィルムを提供するものである。なお、ここでいう保護フィルムとは、最終的に液晶ディスプレイなどを構成する光学部材としては使用されることはないが、その製造工程で光学フィルムをゴミや傷などから保護をするフィルムである。   The present invention is an optical film with a protective film having a wide width, for example, a width of 2 m or more, with small thickness unevenness, and the generation of a peeling voltage is suppressed when the protective film is delaminated after creation of a polarizing plate, The present invention relates to an excellent optical film with a protective film that does not adversely affect peripheral elements such as liquid crystal elements and suppresses the generation of adhesive residue at the time of peeling, and a method for producing the same. A film suitable for optical applications is provided. In addition, although a protective film here is not used as an optical member which finally comprises a liquid crystal display etc., it is a film which protects an optical film from dust, a crack, etc. in the manufacturing process.

従来の光学フィルムの場合、光学フィルムの表面に発生する傷やゴミの付着から保護するために、該光学フィルムの上に粘着性を有したオレフィン系共押出フィルムや、ポリエステルフィルムの上にアクリル系の粘着剤を塗工したコーティングフィルム等からなる保護フィルムが用いられることが多い。   In the case of a conventional optical film, in order to protect from scratches and dust adhering to the surface of the optical film, an adhesive olefin-based coextruded film on the optical film or an acrylic film on the polyester film In many cases, a protective film made of a coating film coated with the above adhesive is used.

ところが、上述の光学フィルムに保護フィルムを貼り合せる工程で、光学フィルムと保護フィルムの間に空気層を噛み込んだり、保護フィルムが皺になって貼り合されたりすることがしばしば発生していた。特に光学フィルムの幅が例えば2m幅以上と広くなればなるほど、これらの空気の噛み込みや皺の発生の頻度は高くなり、大幅な生産性低下の原因となっていた。これは、保護フィルムが柔らかく腰が無いためか、厚み均質性(特に幅方向の厚み均質性)が悪くフィルムの平面性が悪いためか、あるいは滑り性が全く無いためかと推定される。   However, in the process of bonding the protective film to the optical film described above, it often occurred that an air layer was bitten between the optical film and the protective film, or the protective film became a ridge and bonded. In particular, the greater the width of the optical film is, for example, 2 m or more, the higher the frequency of these air entrapments and wrinkles, causing a significant reduction in productivity. This is presumably due to the fact that the protective film is soft and has no stiffness, the thickness uniformity (particularly the thickness uniformity in the width direction) is poor and the flatness of the film is poor, or there is no slipperiness.

さらに、保護フィルムには、粘着材を使用しているために、光学フィルムから層間剥離するときに粘着材の一部が残る糊残り現象が発生することがあり、これが大きな光学欠点となることが多かった。   Furthermore, since an adhesive is used for the protective film, an adhesive residue phenomenon may occur in which a part of the adhesive remains when delamination from the optical film, which may be a major optical defect. There were many.

さらに、光学フィルムを液晶素子に組んだ後に該保護フィルムを層間剥離するときに大きな剥離電圧が発生して、液晶素子を破壊したり、光学的な欠点を発生させたりすると言う大きな問題点もあった。   In addition, when the protective film is delaminated after the optical film is assembled on the liquid crystal element, there is a big problem that a large peeling voltage is generated and the liquid crystal element is destroyed or an optical defect is generated. It was.

本発明の第一の目的は、かかる従来の保護フィルムが貼り合わせられた光学フィルムの欠点を解消して、しかも例えば2m以上の広幅の光学フィルムを提供し、さらには層間剥離時に糊残りや、剥離電圧の発生しにくい光学フィルムを提供するものである。   The first object of the present invention is to eliminate the disadvantages of the optical film on which such a conventional protective film is bonded, and to provide a wide optical film of, for example, 2 m or more, and further, adhesive residue at the time of delamination, It is an object of the present invention to provide an optical film that hardly generates a peeling voltage.

なお、このように粘着材層を用いなくて光学フィルムと保護フィルムを層間接着する方法としては、すでに共押出しを用いたものが提案されている(例えば、特許文献1、特許
文献2参照。)。すなわち、これらはいずれも光学フィルム樹脂と保護フィルム樹脂とを
共に融点以上に加熱して溶融状態でお互いの層を積層し、その後幅方向に拡大するなどして層間の接着力を得る方法である。しかし、このような方法では、積層フィルムの総厚さの全体的な均質性は得られても、各層を構成するそれぞれ個別の層厚みを調整することができず、したがって幅方向の厚さの均質性を得ることができないために、保護フィルムを剥離して光学フィルムを取り出した場合、光学フィルムの厚さ均質性が悪く、したがって光学特性として最も重要なリターデーションムラなどの光学欠点が発生して、実用上の大きな問題となる場合があった。特に幅が例えば2mを越すような幅広の光学フィルムの場合には、この厚みムラは非常に顕著となり、このような共押出方法では、例えば幅2m以
上の広幅光学フィルムの製法には適していない場合があった。さらにこれら異種の樹脂層を含んだ積層体自体の回収が困難であり、したがって製造コストが高くなり、生産性の劣る方法であった。
特開2002−338705号公報 特開2003−240953号公報
As a method for interlaminating an optical film and a protective film without using an adhesive material layer as described above, a method using coextrusion has already been proposed (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2). . That is, both of these are methods in which the optical film resin and the protective film resin are both heated to the melting point or higher, and the layers are laminated in the molten state, and then expanded in the width direction, etc., to obtain the adhesive force between the layers. . However, in such a method, although the overall homogeneity of the total thickness of the laminated film can be obtained, the thickness of each individual layer constituting each layer cannot be adjusted. When the protective film is peeled off and the optical film is taken out because the homogeneity cannot be obtained, the optical film thickness uniformity is poor, and therefore optical defects such as retardation unevenness, which is the most important optical property, occur. In some cases, this is a big problem in practical use. In particular, in the case of a wide optical film whose width exceeds 2 m, for example, this thickness unevenness becomes very remarkable, and such a coextrusion method is not suitable for a method for producing a wide optical film having a width of 2 m or more, for example. There was a case. Furthermore, it was difficult to recover the laminate itself containing these different types of resin layers, so that the manufacturing cost was high and the productivity was poor.
JP 2002-338705 A JP 2003-240953 A

前述のように本発明の第一の目的は、従来の保護フィルムが接着剤層を介して貼り合わせられた光学フィルムの欠点を解消して、しかも例えば2m以上の広幅の光学フィルムを提供し、さらには層間剥離時に糊残りや、剥離電圧の発生しにくい保護フィルム付き光学フィルムを提供することである。本発明の第二の目的は、従来の共押出し法により得られた保護フィルム付き光学フィルムの欠点を解消して、幅が例えば2mを越すような幅広の光学フィルムであっても、光学フィルムの厚さ均質性に優れ、光学特性として最も重要なリターデーションムラなどの光学欠点の発生が抑制され、実用上高い価値を有する保護フィルム付き光学フィルムを提供することである。   As described above, the first object of the present invention is to eliminate the disadvantages of the optical film in which the conventional protective film is bonded via the adhesive layer, and to provide a wide optical film of, for example, 2 m or more, Furthermore, it is providing the optical film with a protective film which is hard to generate | occur | produce the adhesive residue and peeling voltage at the time of delamination. The second object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the optical film with a protective film obtained by the conventional coextrusion method, and even if the optical film is wide, such as over 2 m in width, An object is to provide an optical film with a protective film that has excellent thickness uniformity, suppresses the occurrence of optical defects such as retardation unevenness, which is the most important optical property, and has a practically high value.

本発明の課題は、上記第一の目的と第二の目的とを同時に達成することにある。   The subject of this invention is achieving the said 1st objective and the 2nd objective simultaneously.

発明者らは鋭意検討の結果、光学フィルムの少なくとも片面に保護フィルムが積層されてなる光学フィルムにおいて、該光学フィルムと保護フィルムとの界面に一般に言われている粘着材層が実質的に存在しない構成の光学フィルムであって、前記光学フィルムの幅方向に渡って測定した厚みむらが(ピーク対ピークで)5%以下である保護フィルム付き光学フィルムが、上記の課題を解決することを見出し、本発明に至った。   As a result of intensive studies, the inventors have found that an optical film in which a protective film is laminated on at least one surface of the optical film has substantially no adhesive layer generally said at the interface between the optical film and the protective film. It is an optical film of a structure, Comprising: The thickness nonuniformity measured across the width direction of the said optical film (peak-to-peak) finds that the optical film with a protective film solves said subject, 5% or less, The present invention has been reached.

粘着材層は実質的に存在しないが、該光学フィルムと該保護フィルムとの層間剥離力は10g/25mm幅〜300g/25mm幅程度の強い接着力を示すことが好ましい。
このような構成にすることにより、さらに容易に2m幅以上の幅の広い光学フィルムを提供できるのである。
すなわち本発明は、
(1)光学フィルム(A)の少なくとも片面に保護フィルム(B)が積層されてなる保護フィルム付き光学フィルムにおいて、該光学フィルムと保護フィルムとの界面に粘着材層が実質的に存在せず、かつ前記光学フィルム(A)の幅方向に渡って測定した厚みむらが(ピーク対ピークで)5%以下である、保護フィルム付き光学フィルムに関する。なお、本発明において、粘着材層が実質的に存在しないとは、共押出または塗工により粘着性を有する材料の独立した表面層を形成していない状態であることをいう。
Although the pressure-sensitive adhesive layer is not substantially present, it is preferable that the delamination force between the optical film and the protective film exhibits a strong adhesive force of about 10 g / 25 mm width to 300 g / 25 mm width.
With such a configuration, a wide optical film having a width of 2 m or more can be provided more easily.
That is, the present invention
(1) In the optical film with a protective film in which the protective film (B) is laminated on at least one surface of the optical film (A), an adhesive layer is not substantially present at the interface between the optical film and the protective film, And it is related with the optical film with a protective film whose thickness nonuniformity measured across the width direction of the said optical film (A) is 5% or less (peak-to-peak). In the present invention, the phrase “the adhesive material layer substantially does not exist” means that an independent surface layer of an adhesive material is not formed by coextrusion or coating.

以下(2)から(14)は、それぞれ本発明の好ましい実施形態の1つである。
(2)前記光学フィルム(A)と前記保護フィルム(B)との層間剥離力が10g/25mm幅〜300g/25mm幅である、上記(1)に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
(3)前記保護フィルム付き光学フィルムの幅が2m以上である、上記(1)または(2)に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
(4)前記光学フィルム(A)が、アクリル系樹脂、環状オレフィン系樹脂、メチルペンテン系樹脂、透明性に優れたポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリマレイミド系樹脂、およびシンジオタクティックポリプロピレン系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂を含んでなる、上記(1)から(4)のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
(5)前記光学フィルム(A)のガラス転移温度(Tg)が120℃以上である、上記(
4)に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
(6)前記光学フィルム(A)と接する側の前記保護フィルム(B)の表面の摩擦係数が1以下である、上記(1)から(5)のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィ
ルム。
(7)前記保護フィルム(B)の表面固有抵抗値が1011Ω/□以下である、上記(1)から(6)のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
(8)前記保護フィルム(B)の水蒸気透過率が20(g/m2・日/0.1mm)以上
である、上記(1)から(7)のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。(9)前記保護フィルム(B)の2m以上の幅方向に渡って測定した厚みむらが、5%以下である、上記(1)から(3)、および(5)から(7)のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
(10)前記保護フィルム(B)が、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)、ポリプロピレン、およびそれらの変性体である変性ポリオレフィン、ポリエステル、ならびにポリカーボネートからなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂を含んでなる、上記(1)から(8)のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
(11)前記光学フィルム(A)の少なくとも片面に、原料となる樹脂の溶融体を押出積層(EL:Extrusion Laminate)して前記保護フィルム(B)を形成する工程を有する製造方法により、上記(1)から(10)のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルムを製造する保護フィルム付き光学フィルムの製造方法。
(12)前記保護フィルム(B)を加熱して該保護フィルム(B)の歪を取り除いた後に、該保護フィルム(B)の上に、原料となる溶融樹脂層を積層密着して冷却することにより前記光学フィルム(A)を形成する工程を有する製造方法により、上記(1)から(10)のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルムを製造する保護フィルム付き光学フィルムの製造方法。
The following (2) to (14) are each one of preferred embodiments of the present invention.
(2) The optical film with a protective film according to (1), wherein an interlayer peeling force between the optical film (A) and the protective film (B) is 10 g / 25 mm width to 300 g / 25 mm width.
(3) The optical film with a protective film according to (1) or (2), wherein the optical film with the protective film has a width of 2 m or more.
(4) The optical film (A) is an acrylic resin, a cyclic olefin resin, a methylpentene resin, a polystyrene resin excellent in transparency, a polycarbonate resin, a polyester resin, a polymaleimide resin, and a syndiotac. The optical film with a protective film according to any one of (1) to (4), comprising at least one resin selected from the group consisting of tick polypropylene resins.
(5) The glass transition temperature (Tg) of the optical film (A) is 120 ° C. or higher (above (
The optical film with a protective film as described in 4).
(6) The optical film with a protective film according to any one of (1) to (5), wherein the surface of the protective film (B) on the side in contact with the optical film (A) has a friction coefficient of 1 or less. the film.
(7) The optical film with a protective film according to any one of (1) to (6), wherein the protective film (B) has a surface specific resistance value of 10 11 Ω / □ or less.
(8) With the protective film according to any one of (1) to (7) above, wherein the protective film (B) has a water vapor transmission rate of 20 (g / m 2 · day / 0.1 mm) or more. Optical film. (9) Any of the above (1) to (3) and (5) to (7), wherein the thickness unevenness measured over a width direction of 2 m or more of the protective film (B) is 5% or less 2. An optical film with a protective film according to item 1.
(10) The protective film (B) includes at least one resin selected from the group consisting of linear low density polyethylene (LLDPE), polypropylene, and modified polyolefins, polyesters, and polycarbonates thereof. The optical film with a protective film according to any one of (1) to (8).
(11) On the at least one surface of the optical film (A), a manufacturing method including the step of forming the protective film (B) by extrusion laminating (EL: Extrusion Laminate) a resin melt as a raw material. The manufacturing method of the optical film with a protective film which manufactures the optical film with a protective film of any one of 1) to (10).
(12) After removing the distortion of the protective film (B) by heating the protective film (B), a molten resin layer as a raw material is laminated and cooled on the protective film (B) and cooled. The manufacturing method of the optical film with a protective film which manufactures the optical film with a protective film of any one of said (1) to (10) with the manufacturing method which has the process of forming the said optical film (A) by.

本発明は、また、
(13)上記(1)から(10)のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルムに対して、加熱処理、延伸処理、およびリラックス処理のうち少なくとも1つの処理を行い、前記光学フィルム(A)の電気特性、機械特性、および/または光学特性の改良を行う工程を有する、改良された保護フィルム付き光学フィルムの製造方法。
(14)該処理が延伸処理であり、該延伸処理が同時2軸延伸である、上記(13)に記載の保護フィルム付き光学フィルムの処理方法。
The present invention also provides
(13) The optical film with a protective film according to any one of (1) to (10) is subjected to at least one of a heat treatment, a stretching treatment, and a relaxation treatment, and the optical film ( A method for producing an improved optical film with a protective film, comprising the step of improving the electrical properties, mechanical properties, and / or optical properties of A).
(14) The method for treating an optical film with a protective film according to (13), wherein the treatment is a stretching treatment, and the stretching treatment is simultaneous biaxial stretching.

本発明の構成の光学フィルムにすることにより、例えば2m幅以上の広幅光学フィルムでも保護フィルムとの間に空気の噛み込みなどの欠点が無くて均一に貼り合わせが可能となり、大型ディスプレイ用途に有効であるばかりか、広幅光学フィルムへの対応が可能であり、光学フィルム部材のコスト削減につながることが期待される。   By using the optical film having the structure of the present invention, for example, even a wide optical film having a width of 2 m or more can be uniformly bonded without any defects such as air entrapment between the protective film and effective for large display applications. In addition, it is possible to cope with a wide optical film, which is expected to lead to cost reduction of the optical film member.

さらに保護フィルムの層間剥離時も糊残りが実質的になく、ハイグレードな光学用フィルム部材として使用することが期待される。
また、保護フィルムの層間剥離時の剥離帯電圧も非常に低いものとなり、低電圧でも駆動する次世代の液晶にも有効に使用可能となることが期待される。
Furthermore, there is substantially no adhesive residue even when the protective film is delaminated, and it is expected to be used as a high-grade optical film member.
Moreover, the peeling band voltage at the time of delamination of the protective film is very low, and it is expected that the protective film can be effectively used for the next generation liquid crystal driven even at a low voltage.

さらに、従来はシリコンコートされた離形PETフィルムを粘着加工されたPETフィルムから剥離して、その粘着PETフィルムを光学フィルムに重ね合わせていたが、本発明の光学フィルムを用いることにより、これらの2枚のPETフィルムが不要となり、製造工程が大幅に簡略化され、生産コストの大幅低下が可能となることが期待される。   Furthermore, in the past, the release-coated PET film coated with silicon was peeled off from the PET film subjected to adhesive processing, and the adhesive PET film was superposed on the optical film. By using the optical film of the present invention, It is expected that two PET films are unnecessary, the manufacturing process is greatly simplified, and the production cost can be greatly reduced.

さらに、該保護フィルムを貼り合せた光学フィルムを、必要によって、そのままテンタ
ーなどの加熱炉に供給して延伸やリラックス処理などを保護フィルムが付いたまま行うことが出来、高品位な位相差フィルムの製造も可能となることが期待される。
Furthermore, if necessary, the optical film on which the protective film is bonded can be directly supplied to a heating furnace such as a tenter to perform stretching or relaxation treatment with the protective film attached, and a high-quality retardation film. Manufacturing is also expected to be possible.

本発明は、光学フィルム(A)の少なくとも片面に保護フィルム(B)が積層されてなる光学フィルムにおいて、該光学フィルム(A)の幅が好ましくは2m以上、さらに好ましくは2.5m以上、特に好ましくは3m以上の生産性に優れた光学フィルムであって、該光学フィルム(A)と該保護フィルム(B)との界面に粘着材層が実質的に存在しない保護フィルム付き光学フィルムであって、かつ前記光学フィルム(A)の幅方向に渡って測定した厚みむらが5%以下である保護フィルム付き光学フィルムであるが、該光学フィルム(A)と該保護フィルム(B)との層間剥離力は、10〜300g/25mm幅、好ましくは、15〜150g/25mm幅であることが望ましい。層間剥離力が10g/25mm未満だと、光学フィルム走行中や、搬送中、さらにはカッティング時などの外力がかかるときに保護フィルムが光学フィルムから剥離する恐れがあるためであり、逆に層間剥離力が300g/25mmを越す強い接着力の場合には、保護フィルムを剥離するときに光学フィルムに皺やダメージを与えたりする恐れがあるためである。   In the optical film in which the protective film (B) is laminated on at least one surface of the optical film (A), the width of the optical film (A) is preferably 2 m or more, more preferably 2.5 m or more. Preferably, the optical film is excellent in productivity of 3 m or more, and is an optical film with a protective film in which an adhesive layer is not substantially present at the interface between the optical film (A) and the protective film (B). And the thickness unevenness measured over the width direction of the optical film (A) is an optical film with a protective film of 5% or less, and the delamination between the optical film (A) and the protective film (B) The force is 10 to 300 g / 25 mm width, preferably 15 to 150 g / 25 mm width. If the delamination force is less than 10 g / 25 mm, the protective film may peel off from the optical film when an external force is applied, such as when the optical film is running, transported, or even during cutting. This is because when the strength exceeds 300 g / 25 mm, the optical film may be wrinkled or damaged when the protective film is peeled off.

本発明を構成する光学フィルム(A)は、アクリル系樹脂、環状オレフィン系樹脂、透明性に優れたポリスチレン(PSt)系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリマレイミド系樹脂、およびシンジオタクティックポリプロピレン(SPP)系樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも1種の樹脂を含んでなることが好ましい。   The optical film (A) constituting the present invention includes an acrylic resin, a cyclic olefin resin, a polystyrene (PSt) resin excellent in transparency, a polycarbonate resin, a polyester resin, a polymaleimide resin, and syndiotactic. It is preferable to comprise at least one resin selected from the group consisting of polypropylene (SPP) resins.

本発明を構成する光学フィルム(A)は、光学フィルム厚さ100μmに換算したとき、波長550nmにおける光線透過率が88%以上、ヘイズ値は、1.5%以下であるフィルムである。光学フィルム(A)には、それ以外に特に限定はなく、上記条件を満たす限り各種の透明フィルムを適宜使用することができる。   The optical film (A) constituting the present invention is a film having a light transmittance at a wavelength of 550 nm of 88% or more and a haze value of 1.5% or less when converted to an optical film thickness of 100 μm. There are no particular limitations on the optical film (A), and various transparent films can be appropriately used as long as the above conditions are satisfied.

光学フィルム(A)の光学フィルム厚さ100μmに換算したときの波長550nmにおける光線透過率は、好ましくは90%以上であり、ヘイズ値は、好ましくは1.0%以下である。光学フィルム(A)を、光学等方性フィルムとして利用する場合は、波長589nmにおける面内の光学リターデーション値Reは、好ましくは10nm以下、さらに好ましくは5nm以下であり、厚さ方向のリターデーション値Rthは、好ましくは15nm以下、さらに好ましくは10nm以下、特に好ましくは5nm以下である。もちろん光学フィルム(A)を位相差フィルムとして使用する場合は、用途によって異なるが、保護フィルムを貼り合わせたままで延伸する条件を変えることにより、例えばRe値として30−60nm、Rth値として100−250nmの値の光学フィルムが好んで用いられる。これ以上の値となると液晶表示部材として用いた場合、着色や虹模様などの表示欠点となる場合があるためである。 The light transmittance at a wavelength of 550 nm when converted to an optical film thickness of 100 μm of the optical film (A) is preferably 90% or more, and the haze value is preferably 1.0% or less. When the optical film (A) is used as an optical isotropic film, the in-plane optical retardation value Re at a wavelength of 589 nm is preferably 10 nm or less, more preferably 5 nm or less, and retardation in the thickness direction. The value R th is preferably 15 nm or less, more preferably 10 nm or less, particularly preferably 5 nm or less. When using an optical film (A) as a retardation film, of course, it varies depending on the application, by changing the conditions of stretching while adhering a protective film, for example, as Re value 30-60 nm, as R th value 100- An optical film with a value of 250 nm is preferably used. This is because when the value is higher than this, it may cause display defects such as coloring or rainbow pattern when used as a liquid crystal display member.

このような光学均質性を得るためには、光学フィルム(A)の幅方向に渡って測定した厚みむらが(ピーク対ピークで)5%以下であることが、有効である。より望ましくは、該光学フィルムの長さ方向、および(例えば2m幅以上に渡った)幅方向の厚みムラが、いずれも3%以下、好ましくは2%以下である事が好ましい。このような厳しい厚み均質性を得るには、公知例である特許文献1、特許文献2のような共押出方法は必ずしも適切ではない。なぜなら、共押出フィルムの厚み制御は各層個別ではなく全層合計の厚みを均一にするものであり、一部の層を剥離すると厚み精度は著しく低下するからである。なお、本法では光学フィルム(A)、(B)の少なくとも一方は個別に製膜することから、公知の手法により厚みむらを低く抑えることが可能である。たとえば、各基材に対し厚みむら上限の一桁程度細かい精度を持つインライン厚み計を幅方向に渡って測定可能な状態とし、幅方向の基材位置の厚みに応じて対応する口金位置からの溶融樹脂吐出量をヒートボ
ルト等の流量自動調整機構により増減させるといった方法があげられる。なお、光学フィルム(A)の厚みむらとは、押出積層して保護フィルム(B)層を形成する前の光学フィルム(A)の厚みむらである。
In order to obtain such optical homogeneity, it is effective that the thickness unevenness measured in the width direction of the optical film (A) is 5% or less (peak to peak). More desirably, the thickness unevenness in the length direction of the optical film and in the width direction (for example, over 2 m width or more) are both 3% or less, preferably 2% or less. In order to obtain such strict thickness uniformity, co-extrusion methods such as Patent Document 1 and Patent Document 2, which are known examples, are not necessarily appropriate. This is because the thickness control of the coextruded film is to make the total thickness of each layer uniform, not to each individual layer, and when a part of the layers is peeled off, the thickness accuracy is remarkably lowered. In this method, since at least one of the optical films (A) and (B) is formed separately, the thickness unevenness can be suppressed by a known method. For example, an in-line thickness gauge with an accuracy that is finer than the upper limit of the thickness unevenness for each base material can be measured in the width direction, and from the base position corresponding to the thickness of the base material position in the width direction. For example, the molten resin discharge amount may be increased or decreased by an automatic flow rate adjusting mechanism such as a heat bolt. In addition, the thickness unevenness of an optical film (A) is the thickness unevenness of the optical film (A) before extrusion-laminating and forming a protective film (B) layer.

さらに、光学フィルム(A)のガラス転移温度Tgは120℃以上、好ましくは125℃以上、さらに好ましくは130℃以上であることが好ましい。これは60℃程度の高温にさらされる可能性の高い自動車用途などの厳しい使用環境下でも安定した寸法安定性を有するばかりか、部材の負荷テスト(85℃、65RH%、500時間、および105℃、0RH%、500時間)においても、安定した寸法安定性を有することが望ましいためである。   Furthermore, the glass transition temperature Tg of the optical film (A) is 120 ° C. or higher, preferably 125 ° C. or higher, more preferably 130 ° C. or higher. This has not only stable dimensional stability even under severe use environment such as automotive applications that are likely to be exposed to high temperatures of about 60 ° C, but also component load tests (85 ° C, 65RH%, 500 hours, and 105 ° C) , 0 RH%, 500 hours), it is desirable to have stable dimensional stability.

さらに光学フィルム(A)の中心線平均表面粗さRaは、100nm以下、好ましくは
50nm以下、さらに好ましくは20nm以下であることが好ましい。これは液晶表示部材として用いた場合、表面荒れは、画像の歪みになったり、さらには斜め方向から観察した時には画像がぼけたりするおそれがあるためである。光学フィルム(A)の中心線平均表面粗さRaを100nm以下とするには、口金より吐出した溶融樹脂を、表面粗度をRy=0.1以下とした冷却ドラム表面に接触させて固化させるようにすればよい。
Furthermore the center line average surface roughness R a of the optical film (A) is, 100 nm or less, preferably 50nm or less, and more preferably is 20nm or less. This is because when used as a liquid crystal display member, surface roughness may cause distortion of the image, or the image may be blurred when observed from an oblique direction. To the center line average surface roughness R a of the optical film (A) and 100nm or less, the molten resin discharged from the die, so as to solidify the surface roughness is brought into contact with the cooling drum surface was Ry = 0.1 or less You can do it.

さらに光学フィルム(A)の少なくとも片面の表面濡れ張力は40mN/m以上、好ましくは45mN/m以上が好ましい。これは、本発明を構成する光学フィルム(A)と偏光子などの他の光学部材との界面の強い接着性を得るために好適な条件である。光学フィルム(A)の表面濡れ張力を40mN/m以上とするには、基材表面に対しプラズマやコロナ放電といった処理を施せばよく、処理雰囲気、放電電圧、電流値、処理時間等により調整可能である。   Furthermore, the surface wetting tension of at least one surface of the optical film (A) is 40 mN / m or more, preferably 45 mN / m or more. This is a suitable condition for obtaining strong adhesiveness at the interface between the optical film (A) constituting the present invention and another optical member such as a polarizer. In order to set the surface wetting tension of the optical film (A) to 40 mN / m or more, the substrate surface may be subjected to treatment such as plasma or corona discharge, which can be adjusted by the treatment atmosphere, discharge voltage, current value, treatment time, etc. It is.

さらに光学フィルム(A)の表面比抵抗値は1012Ω/□以下、好ましくは1010Ω/□以下、108Ω/□以下の範囲であるのが好ましい。これは、本発明を構成する光学フ
ィルム(A)を搬送、剥離などの工程での剥離帯電を避けたり、ゴミやほこりの吸着を防止するのに有効なためである。光学フィルム(A)の表面比抵抗値を1012Ω/□以下とするには、帯電防止剤を基材原料中に練り込む、または基材表面に塗工するようにすればよい。
Furthermore, the surface specific resistance value of the optical film (A) is 10 12 Ω / □ or less, preferably 10 10 Ω / □ or less, preferably 10 8 Ω / □ or less. This is because the optical film (A) constituting the present invention is effective for avoiding peeling electrification in steps such as transporting and peeling, and preventing dust and dust from being adsorbed. In order to set the surface resistivity of the optical film (A) to 10 12 Ω / □ or less, the antistatic agent may be kneaded into the base material or coated on the base material surface.

本発明の光学フィルム(A)の少なくとも一部を構成する材料として好ましく用いられる樹脂としては、アクリル系樹脂、環状オレフィン系樹脂、メチルペンテン系樹脂、透明性に優れたポリスチレン(PSt)樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリマレイミド系樹脂、シンジオタクティックポリプロピレン(SPP)系樹脂などから選ばれた光学用の樹脂を挙げることができる。   As a resin preferably used as a material constituting at least a part of the optical film (A) of the present invention, acrylic resin, cyclic olefin resin, methylpentene resin, polystyrene (PSt) resin excellent in transparency, polycarbonate Examples thereof include optical resins selected from a series resin, a polyester series resin, a polymaleimide series resin, a syndiotactic polypropylene (SPP) series resin, and the like.

環状オレフィン系樹脂としては、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物をはじめとする各種COP、ジシクロペンタジエンまたはテトラシクロドデセンとエチレンとの共重合体をはじめとする各種COCおよびその水素化物、およびノルボルネン系重合体などから選ばれた1種以上で、ガラス転移点が100℃以上、好ましくは130℃以上ものが好ましい。ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物は、特公昭58−43412号公報、特開昭63−218727号公報などでよく知られている。またジシクロペンタジエンとエチレンとの共重合体は、特開昭63−314220号公報などでも知られており、ノルボルネン系重合体は米国特許第2883372号明細書、特公昭46−14910号公報、特開平1−149738号公報などに示されているようにジシクロペンタジエン類とジエノフイルとの混合物から4環体以上の多環ノルボルネン系化合物を得たのち重合体にしたものなどが知られている。もちろんジシクロペンタジエン類は、そのメチルやエチル置換体などのアルキル置換体や、エンド異性体、キキソ異性体またはこれらの混合
物なども含んでも良い。該環状ポリオレフィンの分子量は数平均分子量で30000以上、70000未満、好ましくは35000以上、60000未満であるのが、フィルムの機械強度、特に衝撃性、押出成形などの点で好ましい。
Cyclic olefin resins include various COPs including hydrides of ring-opening polymers of dicyclopentadiene, various COCs including copolymers of dicyclopentadiene or tetracyclododecene and ethylene, and hydrides thereof. And at least one selected from norbornene polymers and the like, and those having a glass transition point of 100 ° C. or higher, preferably 130 ° C. or higher are preferable. A hydride of a ring-opening polymer of dicyclopentadiene is well known in Japanese Patent Publication No. 58-43412 and Japanese Patent Laid-Open No. 63-218727. A copolymer of dicyclopentadiene and ethylene is also known in JP-A-63-331420 and the like, and norbornene-based polymers are described in U.S. Pat. No. 2,883,372 and JP-B-46-14910. As disclosed in, for example, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 1-149738, a polymer obtained by obtaining a polycyclic norbornene compound having four or more rings from a mixture of dicyclopentadiene and dienophile is known. Of course, the dicyclopentadiene may also include alkyl substituents such as methyl and ethyl substituents, endo isomers, taxo isomers, and mixtures thereof. The cyclic polyolefin has a number average molecular weight of 30,000 or more and less than 70,000, preferably 35,000 or more and less than 60,000, from the viewpoint of the mechanical strength of the film, particularly impact properties and extrusion molding.

メチルペンテン系樹脂とは、4−メチルペンテン−1ホモポリマー単独重合体や、それに炭素数5、8、10、12、20などの任意の長さのコモノマーを2〜20モル%程度共重合させた共重合メチルペンテンポリマーなども含み、これらの主たるものは三井化学株式会社からTPX(登録商標)として市販されている。   The methylpentene resin is a copolymer of 4-methylpentene-1 homopolymer homopolymer and a comonomer having an arbitrary length such as carbon number 5, 8, 10, 12, 20 or the like, and is copolymerized to about 2 to 20 mol%. The main ones of these are commercially available from Mitsui Chemicals, Inc. as TPX (registered trademark).

ポリマレイミド系樹脂とは、特開2000−294042号公報、特開2006−70134公報などに記載のもの代表される樹脂で、東ソー株式会社が開発したN−置換マレイミド・オレフィン共重合体、およびそれにブタジエン・スチレン共重合体ゴム粒子、スチレン・アクリロニトリル共重合体をグラフト化してなるグラフト変性1,3−ブタジエ
ン・スチレン共重合体ゴムなどを添加した樹脂を例示することができる。
The polymaleimide resin is a resin represented by those described in JP-A-2000-294042, JP-A-2006-70134, etc., and an N-substituted maleimide / olefin copolymer developed by Tosoh Corporation, and Examples thereof include resins to which butadiene / styrene copolymer rubber particles, graft-modified 1,3-butadiene / styrene copolymer rubber obtained by grafting styrene / acrylonitrile copolymer are added.

ポリスチレン(PSt)系樹脂とは、基本骨格にスチレンから導かれる基を有した高分子化合物で、タクティシティとしては、アタクチックポリマーを主としたポリマーが透明性に優れていて好ましい。透明性を害さない範囲で、すなわち、厚さ80μmのフィルムにしたときに、光線透過率が88%以上の値が保たれる範囲でアイソタクチックポリスチレンやシンジオタクティックポリスチレンを含有したポリスチレンでも、さらに、これにエチレン基のような他のモノマーを20モル%程度以下共重合したものでも良い。PSジャパン株式会社などから市販されている。なお、本発明において透明性に優れたポリスチレン樹脂とは、厚さ80μmのフィルムにしたときに、波長550nmにおける光線透過率が88%以上のポリスチレン樹脂をいう。   The polystyrene (PSt) resin is a polymer compound having a group derived from styrene in the basic skeleton, and as the tacticity, a polymer mainly composed of an atactic polymer is preferable because of its excellent transparency. In a range that does not impair transparency, that is, a polystyrene containing isotactic polystyrene or syndiotactic polystyrene within a range in which the light transmittance is maintained at a value of 88% or more when the film has a thickness of 80 μm, Further, it may be copolymerized with another monomer such as ethylene group in an amount of about 20 mol% or less. It is commercially available from PS Japan. In addition, the polystyrene resin excellent in transparency in this invention means the polystyrene resin whose light transmittance in wavelength 550nm is 88% or more, when it is set as a 80-micrometer-thick film.

アクリル系ポリマー(樹脂)としては、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)、ポリメタクリレートなどで代表されるポリマーで、これらの共重合体などを含む光線透過率の高い光学的に透明なポリマーである。また、特開2006−265543号公報に示されているように、カルボキシル基含有アクリル共重合体に環化反応を行うことにより得られるグルタル酸無水物単位含有共重合体は、高いガラス転移温度Tgを有するのみならず、高度な耐熱性、無色透明性、熱安定性に優れた成形加工特性を有し、さらに異物も減少し、光学材料に要求されている高度な無色透明性、低異物アクリルポリマーとなるので本発明を構成するフィルムにも有効に用いることができる。もちろん、これにアクリルゴムを分散させて強靱性を付与したポリマー、例えば特開2006−283013号公報に示されているように、グルタル酸無水物単位を有するアクリル樹脂に、該アクリル樹脂との屈折率差が0.05以下で、該粒子径が1μm以下のアクリル弾性体粒子を配合したポリマーなども有効である。
さらに、特開2007−63541号公報などに示されているようなラクトン環を有するガラス転移温度Tgが120℃以上のアクリル樹脂や、特開2006−27090号公報などに開示されているようなポリ乳酸をブレンドしたアクリル樹脂などが好ましく用いられる。
The acrylic polymer (resin) is a polymer typified by polymethyl methacrylate (PMMA), polymethacrylate, and the like, and is an optically transparent polymer having a high light transmittance including these copolymers. Moreover, as disclosed in JP-A-2006-265543, a glutaric anhydride unit-containing copolymer obtained by subjecting a carboxyl group-containing acrylic copolymer to a cyclization reaction has a high glass transition temperature Tg. In addition, it has high heat resistance, colorless transparency, excellent heat processing stability and molding properties, and also reduces foreign matter, and has high colorless transparency and low foreign matter acrylic required for optical materials. Since it becomes a polymer, it can be used effectively for the film constituting the present invention. Of course, a polymer in which acrylic rubber is dispersed to impart toughness, for example, an acrylic resin having a glutaric anhydride unit as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-283013, is refracted with the acrylic resin. A polymer containing acrylic elastic particles having a rate difference of 0.05 or less and a particle diameter of 1 μm or less is also effective.
Furthermore, an acrylic resin having a lactone ring and a glass transition temperature Tg of 120 ° C. or higher as disclosed in JP-A-2007-63541 or a polysiloxane disclosed in JP-A-2006-27090 is disclosed. An acrylic resin blended with lactic acid is preferably used.

ポリカーボネート系樹脂とは、炭酸とグリコールあるいは2価フェノールとのポリエステルで、−O−CO−O−のカーボネート結合を有する高分子で、ビスフェノールと炭酸エステルの高分子が最も実用的に用いられており、帝人株式会社(パンライト(登録商標)、ピュアエース(登録商標))、株式会社カネカ(エルメック(登録商標))、三菱エンジニアリングプラスチック株式会社(ユーピロン(登録商標))などから市販されている。もちろんこれにフルオレン基を有したモノマーを共重合したポリマー(例えば、特開2005−189632号公報など参照。)は位相差の逆波長分散を示すので、このようなポリカーボネートも用途によっては好んで用いることができる。   Polycarbonate resin is a polyester of carbonic acid and glycol or dihydric phenol, and is a polymer having a carbonate bond of -O-CO-O-, and a polymer of bisphenol and carbonate is most practically used. , Teijin Limited (Panlite (registered trademark), Pure Ace (registered trademark)), Kaneka Corporation (Elmec (registered trademark)), Mitsubishi Engineering Plastics (Iupilon (registered trademark)), and the like. Of course, a polymer obtained by copolymerizing a monomer having a fluorene group (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-189632) exhibits reverse wavelength dispersion of retardation, and such a polycarbonate is also preferably used depending on the application. be able to.

ポリエステル系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。
シンジオタクティックポリプロピレン(SPP)系樹脂は、プロピレンの単独重合体であってもよく、またプロピレンと少量の他のα−オレフィンとの共重合体であってもよい。共重合体である場合にあっては、プロピレン含量が95モル%以上、特に97モル%以上のものが好ましい。プロピレンのtriad連鎖でみたシンジオタクティシティーが0.6
以上であることが好ましく、メルトフローレート(230℃、2.16kg荷重)は0.1〜50g/10分であることが好ましい。
Examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate.
The syndiotactic polypropylene (SPP) resin may be a propylene homopolymer or a copolymer of propylene and a small amount of other α-olefin. In the case of a copolymer, the propylene content is preferably 95 mol% or more, particularly 97 mol% or more. Syndiotacticity as seen by propylene triad chain is 0.6
The melt flow rate (230 ° C., 2.16 kg load) is preferably 0.1 to 50 g / 10 min.

本発明を構成する光学フイルム(A)中には公知の任意の添加剤、例えば着色防止剤、酸化防止剤、帯電防止剤、熱安定剤、結晶核剤、接着向上剤、すべり剤、ブロッキング防止剤、耐侯剤、消泡剤、透明化剤、粘度調整剤などを含有させてもよい。帯電防止としては、ドデシルベンゼンスルホン酸塩、ビス(オクチルポリオキシエチレン)ホスフェートソーダ、ドデシルベンゼンスルホン酸ホスホニウム、アルキルスルホン酸塩、アルキルスルホン酸ホスホニウム、スチレンスルホン酸、ポリエチレングリコールなどの公知の帯電防止剤などがあるが、これらには限定されない。透湿性のある帯電防止剤を添加剤として用いると、乾燥時、および経時での耐電防止安定性に優れるので好ましい。ここで透湿性のある帯電防止剤としては、カリウム(K)、ルビジウム(Rb)、セシウム(Ce)、リチウム(Li)、ナトリウム(Na)、などのアルカリ金属から選ばれたイオン基を有するアイオノマーポリマーを挙げることができ、本発明の場合には特にカリウム(K)イオンを含有したポリマーの含有が、フィルムの透湿性、相溶性、透明性の点で好ましい。透湿性アイオノマーの代表例としては、ポリスチレンスルホン酸塩(PSS)アイオノマー、エチレン系スルホン酸塩アイオノマー、エチレン・不飽和カルボン酸アイオノマーなどがあり、代表的なポリマーとしては三井デュポンポリケミカル株式会社から市販されているエンティラ(商品名)が特に優れている。もちろんこれと同時に相溶化剤を併用しても良い。これらの帯電防止剤の添加量としては、透明性およびブリードアウト性などの点から重量換算で20%以下、好ましくは10%以下、さらに好ましくは5%以下が良い。   In the optical film (A) constituting the present invention, any known additive such as an anti-coloring agent, an antioxidant, an antistatic agent, a thermal stabilizer, a crystal nucleating agent, an adhesion improver, a slipping agent, and an anti-blocking agent. Agents, anti-foaming agents, antifoaming agents, clearing agents, viscosity modifiers, and the like may be included. Known antistatic agents such as dodecylbenzenesulfonate, bis (octylpolyoxyethylene) phosphate soda, phosphonium dodecylbenzenesulfonate, alkylsulfonate, phosphonium alkylsulfonate, styrenesulfonate, polyethylene glycol, etc. However, it is not limited to these. It is preferable to use an antistatic agent having moisture permeability as an additive because it is excellent in antistatic stability during drying and over time. Here, as an antistatic agent having moisture permeability, an ionomer having an ionic group selected from alkali metals such as potassium (K), rubidium (Rb), cesium (Ce), lithium (Li), and sodium (Na). In the present invention, the inclusion of a polymer containing potassium (K) ions is particularly preferred in terms of moisture permeability, compatibility and transparency of the film. Typical examples of moisture permeable ionomers include polystyrene sulfonate (PSS) ionomer, ethylene sulfonate ionomer, and ethylene / unsaturated carboxylic acid ionomer. Typical polymers are commercially available from Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd. ENTILA (trade name) is particularly excellent. Of course, a compatibilizer may be used at the same time. The addition amount of these antistatic agents is 20% or less, preferably 10% or less, more preferably 5% or less in terms of weight in terms of transparency and bleed-out properties.

次に、本発明のもう1つの構成要素である、保護フィルム(B)について説明する。
ここで、保護フィルム(B)とは、最終的に液晶ディスプレイなどを構成する光学部材としては使用されることはないが、その製造工程で光学フィルムをゴミや傷などから保護をするフィルムをいう。保護フィルム(B)は、その水蒸気透過率が20(g/m2・日/
0.1mm)以上であることが好ましい。他の好ましい特性としては、光学フィルム(A
)と接する側の該保護フィルム(B)の表面の摩擦係数が1以下、好ましくは0.6以下であることが望ましい。摩擦係数が全く測定できないような場合(摩擦係数無限大)や、摩擦係数が2を越すような場合には、該保護フィルムが例えば2m以上の広幅の場合には、光学フィルムに接した瞬間、保護フィルムが滑らないので貼り合わせ時に保護フィルムと光学フィルム間に介在する空気層が除去できずに、空気を噛み込むなどの現象を生ずる場合があり、均質な貼り合わせが出来ないおそれがある。なお、保護フィルム(B)の表面の摩擦係数とは、押出積層して光学フィルム(A)層を形成する前の保護フィルム(B)の表面の摩擦係数である。
Next, the protective film (B), which is another component of the present invention, will be described.
Here, the protective film (B) refers to a film that is not used as an optical member that finally constitutes a liquid crystal display or the like, but protects the optical film from dust and scratches in the manufacturing process. . The protective film (B) has a water vapor transmission rate of 20 (g / m 2 · day /
0.1 mm) or more is preferable. Other preferable properties include an optical film (A
The coefficient of friction of the surface of the protective film (B) on the side in contact with) is 1 or less, preferably 0.6 or less. When the friction coefficient cannot be measured at all (the friction coefficient is infinite), or when the friction coefficient exceeds 2, for example, when the protective film has a wide width of 2 m or more, the moment when it contacts the optical film, Since the protective film does not slip, the air layer interposed between the protective film and the optical film cannot be removed at the time of bonding, and a phenomenon such as air entrainment may occur, and there is a possibility that uniform bonding cannot be performed. In addition, the friction coefficient of the surface of a protective film (B) is a friction coefficient of the surface of the protective film (B) before extrusion-laminating and forming an optical film (A) layer.

次に本発明を構成する保護フィルム(B)の特性としては、23℃、50RH%での表面固有抵抗値が1011Ω/□以下、好ましくは1010Ω/□以下、さらに好ましくは109Ω/□以下の光学フィルムであることが望ましい。これはゴミを吸着しないようにする
ばかりか、光学フィルムとの剥離帯電を極力発生させないようにするためでもある。保護フィルム(B)の表面固有抵抗値は、例えば透湿性ポリマーを後述する量で配合することにより上記範囲とすることができる。
Next, as the characteristics of the protective film (B) constituting the present invention, the surface specific resistance value at 23 ° C. and 50 RH% is 10 11 Ω / □ or less, preferably 10 10 Ω / □ or less, more preferably 10 9. An optical film of Ω / □ or less is desirable. This is not only to prevent dust from being adsorbed, but also to prevent the occurrence of peeling charge from the optical film as much as possible. The surface specific resistance value of the protective film (B) can be set to the above range by blending, for example, a moisture-permeable polymer in an amount described later.

保護フィルム(B)の光学フィルムと接しない側の表面濡れ張力は35mN/m以下、好ましくは32mN/m以下が好ましい。これは粘着材や指紋などの密着を防止するためである。一方、光学フィルムと接する側の面の表面濡れ張力は、製造条件によっても、欲しい層間剥離力によっても異なり、必要によってはより大きな層間剥離力が欲しいときには、貼り合わせ前に該保護フィルム(B)表面などに表面活性化処理などをして接着力を調整することができる。   The surface wetting tension on the side of the protective film (B) that does not contact the optical film is 35 mN / m or less, preferably 32 mN / m or less. This is to prevent adhesion of an adhesive material or a fingerprint. On the other hand, the surface wetting tension of the surface in contact with the optical film varies depending on the manufacturing conditions and the desired delamination force. If a larger delamination force is desired, if necessary, the protective film (B) before bonding Adhesive strength can be adjusted by surface activation treatment or the like on the surface.

さらに、本発明を構成する保護フィルム(B)の水蒸気透過率は、20(g/m2・日
/0.1mm)以上、好ましくは30−120(g/m2・日/0.1mm)と水蒸気透
過性に優れたフィルムであることが望ましい。これよりも小さな水蒸気透過率しか有さない保護フィルムだと、光学フィルム(A)とPVA偏光子との接着に水系接着材を用いた場合の貼り合わせ時に、水がフィルム断面から乾燥できず、保護フィルム(B)と光学フィルム(A)との界面に水ぶくれが生じたり、PVA偏光子の偏光度が低下したり、偏光子に黒点が出たりするなどの欠点が生じるおそれがある。保護フィルム(B)の水蒸気透過率は、例えば透湿性ポリマーを後述する量で配合することにより上記範囲とすることができる。
Further, the water vapor permeability of the protective film (B) constituting the present invention is 20 (g / m 2 · day / 0.1 mm) or more, preferably 30-120 (g / m 2 · day / 0.1 mm). It is desirable that the film has excellent water vapor permeability. If it is a protective film having only a water vapor transmission rate smaller than this, water cannot be dried from the film cross section at the time of bonding in the case of using a water-based adhesive for adhesion between the optical film (A) and the PVA polarizer, There is a possibility that defects such as blisters occur at the interface between the protective film (B) and the optical film (A), the degree of polarization of the PVA polarizer decreases, or black spots appear on the polarizer. The water vapor transmission rate of the protective film (B) can be set to the above range by, for example, blending a moisture-permeable polymer in an amount described later.

さらに、本発明を構成する保護フィルム(B)の例えば2m以上の幅方向に渡って測定した厚みむらが、5%以下、好ましくは3%以下、さらに好ましくは2%以下であることが好ましい。フィルムの厚さムラは光学的なリターデーションのムラにつながるばかりか、貼り合わせ時の積層ムラをもたらす場合があるので、これらを防止するため上記の条件を満たすことが好ましい。保護フィルム(B)の幅方向に渡って測定した厚みむらを5%以下とするには、厚みむら上限の一桁程度細かい精度を持つインライン厚み計を幅方向に渡って測定可能な状態とし、幅方向の基材位置の厚みに応じて対応する口金位置からの溶融樹脂吐出量をヒートボルト等の流量自動調整機構により増減させるといった方法が挙げられる。なお、保護フィルム(B)の厚みむらとは、押出積層して光学フィルム(A)層を形成する前の保護フィルム(B)の厚みむらである。   Furthermore, the thickness unevenness measured over the width direction of, for example, 2 m or more of the protective film (B) constituting the present invention is 5% or less, preferably 3% or less, more preferably 2% or less. The film thickness unevenness not only leads to optical retardation unevenness but may also cause lamination unevenness at the time of bonding. Therefore, it is preferable to satisfy the above conditions in order to prevent these. In order to reduce the thickness unevenness measured across the width direction of the protective film (B) to 5% or less, an in-line thickness gauge having an accuracy that is about an order of magnitude finer than the upper limit of the thickness unevenness can be measured across the width direction, There is a method of increasing or decreasing the amount of molten resin discharged from the corresponding base position according to the thickness of the base material position in the width direction by an automatic flow rate adjusting mechanism such as a heat bolt. The thickness unevenness of the protective film (B) is the thickness unevenness of the protective film (B) before extrusion lamination to form the optical film (A) layer.

さらに、本発明を構成する保護フィルム(B)の破断強度は、20MPa以上、好まし
くは40MPa以上、さらに好ましくは100MPa以上であることが望ましい。通常の
プロテクトフィルムといわれるオレフィン系のフィルムの破断強度は18MPa以下のものが多いため、2m以上の広幅プロテクトフィルムを光学フィルムに貼り合わせる時に、プロテクトフィルムの腰がないために弛んだり、皺が入ったりして、空気の噛み込みや、皺のない均一な貼り合わせが困難であるが、破断強度が例えば20MPa以上と大きな強度を持った保護フィルム(B)であれば、皺や空気を噛み込ませずに均一に張り合わせが可能となるので好ましい。
Furthermore, the breaking strength of the protective film (B) constituting the present invention is desirably 20 MPa or more, preferably 40 MPa or more, and more preferably 100 MPa or more. Since the rupture strength of olefin-based films, which are usually called protective films, is often less than 18 MPa, when a wide protective film of 2 m or more is pasted on an optical film, the protective film is loose and wrinkles occur. However, if the protective film (B) has a large strength such as 20 MPa or more, it is difficult to bite air and air, although it is difficult to evenly bond air and wrinkle-free evenly. It is preferable because it can be bonded evenly.

さらに、本発明を構成する保護フィルム(B)の長手方向、幅方向の面内リターデーション値のバラツキとしては、5nm以下が好ましく、さらに好ましくは3nm以下である。また、リターデーションの絶対値としては5nm以下、好ましくは2nm以下のものが光学的均質性に優れて好ましい。これは、液晶表示部材として使用したときの検査段階で、プロテクトフィルムの光学ムラが検出されると、検査に悪影響を与えるおそれがあるためである。   Furthermore, the variation in the in-plane retardation values in the longitudinal direction and the width direction of the protective film (B) constituting the present invention is preferably 5 nm or less, and more preferably 3 nm or less. Further, the absolute value of retardation is preferably 5 nm or less, preferably 2 nm or less because of excellent optical homogeneity. This is because if the optical unevenness of the protective film is detected in the inspection stage when used as a liquid crystal display member, the inspection may be adversely affected.

さらに、本発明を構成する保護フィルム(B)に存在する光学異物欠点は偏光板検査工程などで検出されないことが好ましい。具体的には、100μm以上の異物欠点としては、1個/1m2以下、40μm以上100μm未満の異物は、10個/m2以下であることが好ましい。さらに、直交ニコル下に該保護フィルムをおいた場合には、欠点が検出されないことも好ましい。 Furthermore, it is preferable that the optical foreign-material defect which exists in the protective film (B) which comprises this invention is not detected by a polarizing plate inspection process. Specifically, the foreign matter defect of 100 μm or more is preferably 1 piece / m 2 or less and the foreign matter of 40 μm or more and less than 100 μm is 10 pieces / m 2 or less. Furthermore, it is also preferable that no defects are detected when the protective film is placed under crossed Nicols.

さらに本発明を構成する保護フィルム(B)の少なくとも一部を構成する材料として好ましいポリマーとしては、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)、ポリプロピレン(PP)、およびそれらの変性体である変性ポリオレフィン、ポリエステル、ならびにポリカーボネートからなる群から選ばれたポリマー単独、あるいはそれらのブレンド、を挙げることができる。これら各種ポリマーを含んでなるフィルムは、単層でも、積層でも使用することができる。これらの保護フィルムは無延伸でも、必要に応じて一軸や二軸に延伸・熱処理しても良い。延伸することにより保護フィルムとしての剛性や強度が大きくなり、厚み均質性も向上したり、経時での安定性が増加したり、さらに経時で寸法変化してもフィルムの平面性などの形状を修正し易いので好ましいこともある。   Furthermore, as a polymer preferable as a material constituting at least a part of the protective film (B) constituting the present invention, linear low density polyethylene (LLDPE), polypropylene (PP), and modified polyolefins and polyesters thereof are modified products. , As well as polymers selected from the group consisting of polycarbonates alone, or blends thereof. A film comprising these various polymers can be used in a single layer or in a laminate. These protective films may be unstretched or may be stretched and heat-treated uniaxially or biaxially as necessary. Stretching increases the rigidity and strength of the protective film, improves thickness uniformity, increases stability over time, and corrects the shape such as film flatness even if the dimensions change over time. It may be preferable because it is easy to do.

本発明を構成するフィルム(B)の場合、保護フィルムの機能としては、接着剤の糊が保護フィルムに転写しないような防汚性が必須であるが、LLDPEやPPなどのポリオレフィン系のフィルムではこの防汚性はポリマー自体に最初から備わった機能であるので、特別に表面処理などは必要ないが、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルムなどのフィルムには防汚性が必ずしも十分でないため、表面処理をして防汚性機能を付与する必要が生ずる場合があり、したがって保護フィルムとしての価格が高くなるという欠点があるので、この観点からは、本発明を構成する保護フィルム(B)としては、ポリオレフィン系のフィルムが好ましい。さらに本発明を構成する保護フィルム(B)には、ゴミの吸着防止や、剥離帯電の防止のために、帯電防止機能が求められる場合が多い。この機能を付与には、保護フィルムにコーティングなどの変性をする方法もあるが、生産性を考えた場合、高分子系の帯電防止剤を練り込んでからシーティングする方法が良い。特に、帯電防止機能のみならず透湿性をも一挙に付与する方法として特定のアイオノマーを用いる方法が特に有効である。   In the case of the film (B) constituting the present invention, as a function of the protective film, an antifouling property that prevents the adhesive paste from being transferred to the protective film is essential, but in a polyolefin film such as LLDPE or PP, This antifouling function is a function that is inherent to the polymer itself, so no special surface treatment is required, but the film is not necessarily adequate for antifouling properties such as polyester film and polycarbonate film. From this point of view, as a protective film (B) constituting the present invention, there is a drawback that it is necessary to impart an antifouling function and thus there is a disadvantage that the price as a protective film is high. Polyolefin films are preferred. Furthermore, the protective film (B) constituting the present invention is often required to have an antistatic function in order to prevent dust from being adsorbed or to prevent peeling. In order to impart this function, there is a method of modifying the protective film such as coating, but considering productivity, a method of sheeting after kneading a polymer antistatic agent is preferable. In particular, a method using a specific ionomer is particularly effective as a method for imparting not only an antistatic function but also moisture permeability.

このようなフィルムは、例えば、マトリックスポリマーに、特定の金属イオンを含有する透湿性ポリマーを、特定量を含有させて、これら金属イオンを含有する透湿性ポリマーと相溶化剤とを混練することによって得ることができる。マトリックスポリマーに使用される透湿性ポリマーとは、水蒸気透過率が1000(g/m2・日/0.1mm)以上、
好ましくは2000(g/m2・日/0.1mm)以上と大きな透湿性を有するポリマー
である。上記条件を満たす限り、透湿性ポリマーの種類には特に制限はなく、各種の透湿性ポリマーを適宜使用することができるが、金属イオン含有透湿性ポリマーを使用することが特に好ましい。透湿性ポリマーとして特に好ましい金属イオンを含有する透湿性ポリマーとしては、カリウム(K)、ルビジウム(Rb)、セシウム(Ce)、リチウム(Li)、ナトリウム(Na)、などのアルカリ金属から選ばれた金属イオン基を有するアイオノマーポリマーを用いることが好ましい。本発明の場合には特にカリウム(K)イオンを含有したポリマーの含有が、フィルムの透湿性、相溶性、透明性の点で好ましい。金属イオン基を有するアイオノマーポリマーの代表例としては、ポリスチレンスルホン酸塩(PSS)アイオノマー、エチレン系スルホン酸塩アイオノマー等のスルホン酸塩アイオノマー、エチレン・不飽和カルボン酸アイオノマーなどを挙げることができる。
Such a film is obtained by, for example, mixing a moisture-permeable polymer containing a specific metal ion in a matrix polymer with a specific amount and kneading the moisture-permeable polymer containing the metal ion and a compatibilizing agent. Obtainable. The moisture-permeable polymer used for the matrix polymer has a water vapor transmission rate of 1000 (g / m 2 · day / 0.1 mm) or more,
A polymer having a large moisture permeability of 2000 (g / m 2 · day / 0.1 mm) or more is preferable. As long as the above conditions are satisfied, the type of moisture-permeable polymer is not particularly limited, and various types of moisture-permeable polymers can be used as appropriate, but it is particularly preferable to use metal ion-containing moisture-permeable polymers. The moisture-permeable polymer containing metal ions particularly preferable as the moisture-permeable polymer was selected from alkali metals such as potassium (K), rubidium (Rb), cesium (Ce), lithium (Li), and sodium (Na). It is preferable to use an ionomer polymer having a metal ion group. In the case of the present invention, the inclusion of a polymer containing potassium (K) ions is particularly preferred in terms of moisture permeability, compatibility and transparency of the film. Representative examples of the ionomer polymer having a metal ion group include sulfonate ionomers such as polystyrene sulfonate (PSS) ionomer and ethylene sulfonate ionomer, and ethylene / unsaturated carboxylic acid ionomer.

もちろん、透湿性ポリマーとして、透湿性の比較的大きな樹脂である水酸基(OH)を有するセルローストリアセテート(TAC)、ポリビニルアルコール(PVA)、セロファン、さらには、エーテル基を有するポリエステルエーテルエラストマー、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどをマトリックスポリマーに添加することもできるが、大きな透湿性と湿度に対する寸法安定性とを両立したフィルムやシートは得る観点からは、上記の金属イオン含有透湿性ポリマーを使用することが好ましい。したがって透湿性ポリマーは、金属イオンを含有するポリマーが本発明の組成としては非常に好ましいが、必ずしもこれには限定されることはなく、例えばポリエチレングリコールのようなエーテル化合物なども有効である。   Of course, as the moisture-permeable polymer, cellulose triacetate (TAC) having a hydroxyl group (OH), which is a relatively large moisture-permeable resin, polyvinyl alcohol (PVA), cellophane, and polyester ether elastomer having an ether group, ethylene oxide, Propylene oxide or the like can be added to the matrix polymer, but from the viewpoint of obtaining a film or sheet having both high moisture permeability and dimensional stability against humidity, it is preferable to use the above metal ion-containing moisture-permeable polymer. . Accordingly, the moisture-permeable polymer is preferably a polymer containing metal ions as the composition of the present invention, but is not necessarily limited thereto, and an ether compound such as polyethylene glycol is also effective.

この透湿性ポリマーの含有量は要求する性能に依存するために、特に限定はしないが、通常は全ポリマーの重量を100重量%としたとき、これに対して1〜99重量%程度であり、好ましくは5〜98重量%である。
(エチレン・不飽和カルボン酸共重合体アイオノマー)
金属イオンを含有する透湿性ポリマーとして好ましく用いられるエチレン・不飽和カルボン酸共重合体のアイオノマーとは、エチレン・不飽和カルボン酸ランダム共重合体のカルボキシル基の一部もしくは全部がアルカリ金属などで中和された構造のものである。
ここに不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチルなどを挙げることができ、特にアクリル酸またはメタクリル酸が好ましい。また共重合成分となりうる他の単量体としては、酢酸ビニルのようなビニルエステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸nブチル、アクリル酸イソオクチル、メタクリル酸メチルのような不飽和カルボン酸エステル、一酸化炭素などを例示することができる。
The content of the moisture-permeable polymer depends on the required performance, and is not particularly limited. Usually, when the weight of the whole polymer is 100% by weight, it is about 1 to 99% by weight, Preferably it is 5-98 weight%.
(Ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer ionomer)
The ionomer of an ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer that is preferably used as a moisture-permeable polymer containing metal ions means that some or all of the carboxyl groups of the ethylene / unsaturated carboxylic acid random copolymer are alkali metals. It has a unified structure.
Examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, monomethyl maleate, monoethyl maleate and the like, and acrylic acid or methacrylic acid is particularly preferable. Other monomers that can be copolymer components include vinyl esters such as vinyl acetate, methyl acrylate, ethyl acrylate, isobutyl acrylate, nbutyl acrylate, isooctyl acrylate, and methyl methacrylate. Examples thereof include saturated carboxylic acid esters and carbon monoxide.

上記エチレン・不飽和カルボン酸ランダム共重合体としてはエチレン成分が60〜90重量%、特に70〜88重量%、不飽和カルボン酸成分が10〜40重量%、特に12〜30重量%、その他不飽和単量体成分が0〜30重量%、特に0〜20重量%の割合で共重合されているものが好ましい。かかる共重合体は、例えば高温高圧下で各重合成分をランダム共重合することによって得る事ができる。また、総和が上記要件を満たす限り、不飽和カルボン酸成分単位の異なるものを2種以上用いてもよい。なお、アイオノマーのイオン源としては、アルカリ金属、すなわちリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、またはセシウムが好ましく用いられるが、特にカリウムが好適である。また、アイオノマーの中の不飽和カルボン酸成分としては、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸モノメチルエステル、マレイン酸モノエチルエステル、無水マレイン酸などを例示することができる。アイオノマー中のアルカリ金属カチオン含有量は、アイオノマー1kg当たり0.4〜4モル、好ましくは0.6〜2モルの範囲にあることが望ましい。   As the ethylene / unsaturated carboxylic acid random copolymer, the ethylene component is 60 to 90 wt%, particularly 70 to 88 wt%, the unsaturated carboxylic acid component is 10 to 40 wt%, particularly 12 to 30 wt%, It is preferable that the saturated monomer component is copolymerized in a proportion of 0 to 30% by weight, particularly 0 to 20% by weight. Such a copolymer can be obtained, for example, by randomly copolymerizing each polymerization component under high temperature and high pressure. Moreover, as long as the total satisfies the above requirements, two or more types having different unsaturated carboxylic acid component units may be used. The ionomer ion source is preferably an alkali metal, that is, lithium, sodium, potassium, rubidium, or cesium, with potassium being particularly preferred. Examples of the unsaturated carboxylic acid component in the ionomer include acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, maleic acid monomethyl ester, maleic acid monoethyl ester, and maleic anhydride. The alkali metal cation content in the ionomer is desirably 0.4 to 4 mol, preferably 0.6 to 2 mol, per kg of ionomer.

本発明で好ましく用いられるアイオノマーとしては、190℃、2160g荷重におけるメルトフローレートが、0.01〜1000g/10分、特に0.1〜100g/10分のものを使用するのが好ましく、具体的には、三井デュポンポリケミカル株式会社製のエンティラ(商標)SD100、MK400、MK153などが特に好ましい例として挙げられる。   As ionomers preferably used in the present invention, those having a melt flow rate at 190 ° C. under a load of 2160 g of 0.01 to 1000 g / 10 min, particularly 0.1 to 100 g / 10 min are preferably used. In particular, ENTILA (trademark) SD100, MK400, MK153 manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd. and the like are particularly preferable examples.

(スルホン酸塩アイオノマー)
金属イオンを含有する透湿性ポリマーとして好ましく使用されるスルホン酸塩アイオノマーとは、スルホン酸塩を含む高分子アイオノマーであり、代表例としては、ポリスチレンスルホン酸(PSS)アイオノマーやエチレン系スルホン酸アイオノマーなどがある。スルホン酸のH置換基としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属などの金属カチオン、等を好ましく用いることができる。これらの透湿性アイオノマーに、多価アルコールや、ポリオキシエチレングリコール、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等のエーテル化合物等の親水性化合物を含有させることにより、さらなる透湿性の向上等の効果が期待できる。多価アルコールとしては、分子内に水酸基を3個以上持つ炭化水素化合物を挙げることができるが、炭素、水素および酸素のみから構成される化合物であってもよく、炭素、水素、酸素の外にさらに窒素のようなヘテロ原子を含有するものであってもよい。これらは、通常分子量が400以下、好ましくは80〜300であって、室温で液体状であっても固体状であってもよい。分子量が400を越えるものでも良いが透湿性の改良効果は小さい。
(Sulfonate ionomer)
The sulfonate ionomer preferably used as a moisture-permeable polymer containing metal ions is a polymer ionomer containing a sulfonate, and typical examples include polystyrene sulfonate (PSS) ionomer and ethylene sulfonate ionomer. There is. As the H substituent of sulfonic acid, metal cations such as alkali metals, alkaline earth metals, and transition metals can be preferably used. By incorporating hydrophilic compounds such as polyhydric alcohols and ether compounds such as polyoxyethylene glycol, ethylene oxide, and propylene oxide into these moisture-permeable ionomers, effects such as further improvement in moisture permeability can be expected. Examples of the polyhydric alcohol include hydrocarbon compounds having three or more hydroxyl groups in the molecule, but they may be compounds composed only of carbon, hydrogen and oxygen, in addition to carbon, hydrogen and oxygen. Further, it may contain a hetero atom such as nitrogen. These usually have a molecular weight of 400 or less, preferably 80 to 300, and may be liquid or solid at room temperature. The molecular weight may exceed 400, but the effect of improving moisture permeability is small.

このような多価アルコール化合物の具体例としては、グリセロール、ジグリセロール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、1,1,1−トリス(ヒドロキシルメチ
ル)エタン、2,2−ジ(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール、ソルビトール、1,3,5−トリヒドロキシベンゼン、1,3,5−トリヒドロキシ安息香酸、トリス(ヒドロキシメチル)アミノプロパン、N,N,N',N'−テトラキス(2−ヒドロキシエチル
)エチレンジアミン、N,N,N',N'−テトラキス(2−ヒドロキシプロピル)エチレン
ジアミンなどが例示できる。これらの中では、グリセロールまたはトリメチロールプロパンの如き脂肪族多価アルコールを用いるのが最も好ましい。
Specific examples of such polyhydric alcohol compounds include glycerol, diglycerol, trimethylolpropane, pentaerythritol, 1,1,1-tris (hydroxylmethyl) ethane, and 2,2-di (hydroxymethyl) -1, 3-propanediol, sorbitol, 1,3,5-trihydroxybenzene, 1,3,5-trihydroxybenzoic acid, tris (hydroxymethyl) aminopropane, N, N, N ′, N′-tetrakis (2- Hydroxyethyl) ethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetrakis (2-hydroxypropyl) ethylenediamine and the like can be exemplified. Of these, it is most preferable to use an aliphatic polyhydric alcohol such as glycerol or trimethylolpropane.

マトリックスポリマーとしては、ポリオレフィン、ポリスチレン(PSt)、ポリエステル、ポリカーネート(PC)、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリスルホン(PSF)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)などに代表されるポリマーが好ましく、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレンホモポリマー(LLDPE)、ポリプロピレンホモポリマー、ポリプロピレンランダムコポリマー、環状オレフィン(COP、COC)、メチルペンテンポリマー(PMP)等の通常光学用途に用いられるポリオレフィンを挙げることができる。   Matrix polymers include polyolefin, polystyrene (PSt), polyester, polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), polyethersulfone (PES), polysulfone (PSF), polyetheretherketone (PEEK), polyphenylene sulfide. Polymers typified by (PPS) and the like are preferable, such as low density polyethylene (LDPE), linear low density polyethylene homopolymer (LLDPE), polypropylene homopolymer, polypropylene random copolymer, cyclic olefin (COP, COC), and methylpentene polymer. Mention may be made of polyolefins usually used for optical applications such as (PMP).

本発明を構成する保護フィルム(B)は、マトリックスポリマー、および透湿性ポリマーのみで構成されていても良いし、さらにそれ以外の1種またはそれ以上の成分を含有していても良い。したがって、保護フィルム(B)は、上記マトリックスポリマー、および透湿性ポリマーのいずれにも該当しないポリマーを含有していても良いし、含有していなくとも良い。   The protective film (B) constituting the present invention may be composed only of a matrix polymer and a moisture-permeable polymer, and may further contain one or more other components. Therefore, the protective film (B) may or may not contain a polymer that does not correspond to any of the matrix polymer and the moisture-permeable polymer.

また、本発明の保護フィルム中(B)には公知の任意の添加剤、例えば着色防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、結晶核剤、接着向上剤、すべり剤、ブロッキング防止剤、耐侯剤、消泡剤、透明化剤、粘度調整剤などを含有させても良い。
帯電防止剤の好ましい例としては、ドデシルベンゼンスルホン酸塩、ビス(オクチルポリオキシエチレン)ホスフェートソーダ、ドデシルベンゼンスルホン酸ホスホニウム、アルキルスルホン酸塩、アルキルスルホン酸ホスホニウム、スチレンスルホン酸などの公知の帯電防止剤などがあるが、これらに限定はされない。これらの帯電防止剤の添加量としては、透明性およびブリードアウト性などの点から対ポリマー重量で5%以下が好ましい。
In the protective film of the present invention (B), any known additive such as an anti-coloring agent, an antioxidant, a heat stabilizer, a crystal nucleating agent, an adhesion improver, a slip agent, an anti-blocking agent, and an anti-glare agent Further, an antifoaming agent, a clarifying agent, a viscosity adjusting agent and the like may be contained.
Preferred examples of the antistatic agent include known antistatic agents such as dodecylbenzenesulfonate, bis (octylpolyoxyethylene) phosphate soda, phosphonium dodecylbenzenesulfonate, alkylsulfonate, phosphonium alkylsulfonate, and styrenesulfonate. There is an agent, but it is not limited to these. The addition amount of these antistatic agents is preferably 5% or less in terms of polymer weight from the viewpoint of transparency and bleed-out property.

次に本発明の保護フィルム付き光学フィルムの製造方法の好ましい1例について述べるが、本発明の保護フィルム付き光学フィルムの製造方法はこれに限定されるものではない。   Next, although one preferable example of the manufacturing method of the optical film with a protective film of this invention is described, the manufacturing method of the optical film with a protective film of this invention is not limited to this.

従来から採用されている保護フィルムは、感圧接着剤が積層された複合フィルム、あるいは粘着剤がコーティングされた粘着剤層を有していた保護フィルムであったために、2m以上の広幅の保護フィルムを光学フィルムに貼り合わせるときにはどうしても粘着面が滑らないために空気層を噛み込むことが多く、このような表面欠点のある保護フィルムの貼り合わせられた光学フィルムは光学用の検査工程を通過できない場合が多いので、光学用には使用することが困難であるという欠点があった。   The protective film that has been conventionally used is a composite film in which a pressure-sensitive adhesive is laminated, or a protective film having a pressure-sensitive adhesive layer coated with a pressure-sensitive adhesive. When sticking to an optical film, the air layer is often bitten because the adhesive surface does not slip by all means, and the optical film on which the protective film with such a surface defect is stuck cannot pass the optical inspection process Therefore, there is a drawback that it is difficult to use for optical use.

本発明の光学フィルムは、光学フィルム(A)と保護フィルム(B)との界面に粘着材層が実質的に存在しないため、上記の欠点を有効に解消することができる。以下、粘着材層を実質的に用いずに、層間剥離力が10〜300g/25mm幅の範囲内にある保護フィルム付き光学フィルムを提供する方法を述べる。   In the optical film of the present invention, since the adhesive layer is not substantially present at the interface between the optical film (A) and the protective film (B), the above disadvantages can be effectively eliminated. Hereinafter, a method for providing an optical film with a protective film having a delamination force in the range of 10 to 300 g / 25 mm width without substantially using an adhesive layer will be described.

1.別途製膜された光学フィルム(A)の少なくとも片面に、原料となる樹脂の溶融体を押出積層(EL:Extrusion Laminate)して保護フィルム(B)形成する方法。
なお、この方法では、従来行われていた光学フィルムの上に保護フィルムをラミネート
する従来の製造装置をそのまま利用できる点で実用化し易いメリットがある。
1. A method of forming a protective film (B) by extrusion laminating (EL: Extrusion Laminate) a resin melt as a raw material on at least one surface of a separately formed optical film (A).
This method has an advantage that it can be put into practical use in that a conventional manufacturing apparatus for laminating a protective film on an optical film, which has been conventionally performed, can be used as it is.

2.別途製膜された透湿性のある保護フィルム(B)をそのまま、あるいは該保護フィルム(B)の歪みを加熱などで取り除いた後に、該保護フィルム(B)の上に原料となる樹脂の溶融体を押出積層(EL)して光学フィルム(A)層を形成する方法。この方法では、光学フィルムの厚みムラなど均一にした後に既に製造された保護フィルムをキャストドラムに差し入れれば良いので、双方のフィルムのロスが小さくなるというメリットがある。   2. A melt of a resin serving as a raw material on the protective film (B) after the separately formed moisture-permeable protective film (B) is left as it is or after the distortion of the protective film (B) is removed by heating or the like Is a method of forming an optical film (A) layer by extrusion lamination (EL). This method has an advantage that the loss of both films can be reduced because a protective film that has already been manufactured after making the thickness unevenness of the optical film uniform can be inserted into the cast drum.

3.かくして得られた光学フィルムの少なくとも片面に保護フィルムが積層されてなる光学フィルム(保護フィルム付き光学フィルム)を、オーブン式等の加熱炉に入れる等の手法を用いて、該保護フィルム付き光学フィルムを加熱処理、(同時二軸延伸などの)延伸処理、リラックス処理などの各種処理を行い、該保護フィルム付き光学フィルムの機械特性の改良、除電等の電気特性の改良、および/または光学的な位相差の調整等の光学特性の改良を行う方法。   3. Using an optical film (optical film with a protective film) obtained by laminating a protective film on at least one surface of the optical film thus obtained, the optical film with the protective film is placed in a heating furnace such as an oven type. Various treatments such as heat treatment, stretching treatment (such as simultaneous biaxial stretching), and relaxation treatment are performed to improve the mechanical properties of the optical film with the protective film, the electrical properties such as static elimination, and / or the optical position. A method for improving optical characteristics such as phase difference adjustment.

(フィルムの製膜)
保護フィルム(B)あるいは光学フィルム(A)となるマトリックスポリマーから水分、気体、溶融、揮発物、分解物などの分子量100未満の超低分子揮発物を除去し、その含有量を0.05重量%以下にした不純物の少ない原料を準備することが好ましい。保護フィルム(B)として水蒸気透過率が20(g/m2・日/0.1mm)以上の透湿性を
付与したい場合には、透湿性化合物、例えば、カリウムイオンを含有するエチレンメタクリル酸ポリマー〔例えば、三井デュポンポリケミカル株式会社製のエンティラ(登録商標)〕と相溶化剤とを添加混合した原料を用いることができる。該原料をシート押出機等で溶融させ、必要に応じて微細なフィルターを通過させたのちに口金より溶融シートを吐出させ冷却ドラムに密着固化させてキャストシートを得ることができる。なお、この際に積層シートとして、他のポリマーの層と積層することも可能である。なお、キャスト密着の方式は、静電印可密着方式が、高速製膜、無欠点製膜、取扱性などの観点で特に好ましい。このようなポリマーに静電密着方式を適用するためには、該樹脂の溶融温度での比抵抗が108〜1010Ω・cm程度の値であることが求められるので、マトリックスポリマー
の溶融時の比抵抗が1013Ω・cm以上と高いときには、金属イオンを含有するポリマー、特に好ましくは上記したカリウムアイオノマーを添加することにより比抵抗を調整することができる。この場合、静電密着性のみならず、得られたフィルムにも透湿性を付与できると言うメリットもある。
(Film formation)
Ultra low molecular volatiles with a molecular weight of less than 100 such as moisture, gas, melt, volatiles, and decomposition products are removed from the matrix polymer to be the protective film (B) or optical film (A), and the content is 0.05 weight. It is preferable to prepare a raw material with less impurities that is less than or equal to%. When it is desired to impart moisture permeability of 20 (g / m 2 · day / 0.1 mm) or more as the protective film (B), a moisture permeable compound, for example, an ethylene methacrylate polymer containing potassium ions [ For example, a raw material obtained by adding and mixing ENTILA (registered trademark) manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd.] and a compatibilizing agent can be used. The raw material can be melted with a sheet extruder or the like, and after passing through a fine filter as necessary, the molten sheet is discharged from the die and adhered and solidified on the cooling drum to obtain a cast sheet. In this case, it is also possible to laminate with other polymer layers as a laminated sheet. In addition, as a method of cast adhesion, the electrostatic application adhesion method is particularly preferable from the viewpoints of high-speed film formation, defect-free film formation, handleability, and the like. In order to apply the electrostatic adhesion method to such a polymer, the specific resistance at the melting temperature of the resin is required to be a value of about 10 8 to 10 10 Ω · cm. When the specific resistance is as high as 10 13 Ω · cm or more, the specific resistance can be adjusted by adding a polymer containing metal ions, particularly preferably the potassium ionomer described above. In this case, there is an advantage that moisture permeability can be imparted to the obtained film as well as electrostatic adhesion.

本発明の保護フィルム付き光学フィルムの製造は、上記の方法に限定されることはなく、ニップロール(ソフト&ハード)方式、ベルト方式、カレンダー方式、エアーナイフ方式、エアーチャンバー方式などを適宜用いることもできる。また、ドラム材質はクロムメッキ、ステンレスまたはセラミックからなる最大表面粗さRy0.1μm以下の表面ドラ
ムを用いることが好ましい。またドラム表面温度は、ポリマーの種類にもよるが、そのポリマーのガラス転移温度近傍がよい。また、ドラフト比は10以下と小さい方が光学的に等方なフィルムとなるので好ましい。なお、フィルムの用途との関係や、その他の必要に応じて、熱処理や延伸を付加させても良く、他のポリマーとの共押出しやラミネートにより積層体を作製しても良い。さらに、コーティングなどによって、表面を変性したり、表面に種々の特性を適宜付加、付与してもよい。
(実施例/比較例)
以下、実施例および比較例を参照しながら、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明はいかなる意味においても、以下に示す実施例に限定されるものではない。
(物性の評価方法)
以下の実施例、比較例においては、フィルムの各種物性は、以下の測定方法にしたがっ
て評価した。
(1)水蒸気透過率
mocon社製のPERMTRAN−W1Aを用いて、JIS K7129 B法にしたがって40℃、90RH%で測定した。単位はg/m2・日/0.1mmで表す。
(2)光線透過率
日立製作所製の分光光度計U−3410を用いて測定し、波長300nmから700nmまでの可視光線の全光線透過率を測定し、550nmにおける値を採用した。単位は%で表す。
(3)リターデーションR
フィルムの複屈折△nにフィルムの厚さd(nm)を掛けたものである。
面内のリターデーションReの測定には、(i)ナトリウムD線(589nm)を光源として直交ニコル下の偏光顕微鏡に試料フィルム面が光軸と垂直となるように置き、該試料によって生じた位相ずれRがリターデーションであり、これをコンペンセーターの補償値から求めるか、あるいは(ii)ナトリウムD線を光源に用いて、アッベの屈折計から主軸方向の屈折率nxからそれと直角方向の屈折率nyをひいた複屈折△n(=nx−ny)に厚さdを掛けて求めても良い。
The production of the optical film with a protective film of the present invention is not limited to the above method, and a nip roll (soft & hard) method, a belt method, a calendar method, an air knife method, an air chamber method, etc. may be used as appropriate. it can. The drum material is preferably a surface drum made of chrome plating, stainless steel or ceramic and having a maximum surface roughness Ry of 0.1 μm or less. The drum surface temperature is preferably close to the glass transition temperature of the polymer, although it depends on the type of polymer. A draft ratio as small as 10 or less is preferable because an optically isotropic film is obtained. It should be noted that heat treatment and stretching may be added according to the relationship with the use of the film and other needs, and a laminate may be produced by co-extrusion or lamination with other polymers. Furthermore, the surface may be modified by coating or the like, and various characteristics may be appropriately added to the surface.
(Example / Comparative Example)
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. In addition, this invention is not limited to the Example shown below in any meaning.
(Evaluation method of physical properties)
In the following examples and comparative examples, various physical properties of the films were evaluated according to the following measuring methods.
(1) Water vapor transmission rate Using PERMONRAN-W1A manufactured by mocon, the water vapor transmission rate was measured at 40 ° C. and 90 RH% according to JIS K7129 B method. The unit is expressed as g / m 2 · day / 0.1 mm.
(2) Light transmittance Measured using a spectrophotometer U-3410 manufactured by Hitachi, Ltd., the total light transmittance of visible light from a wavelength of 300 nm to 700 nm was measured, and a value at 550 nm was adopted. The unit is expressed in%.
(3) Retardation R
The film birefringence Δn is multiplied by the film thickness d (nm).
For the measurement of in-plane retardation Re, (i) the phase produced by the sample was placed in a polarizing microscope under crossed Nicols with sodium D line (589 nm) as the light source, with the sample film surface perpendicular to the optical axis. refraction deviation R is retardation, or obtains it from the compensation value of the compensator, or (ii) using the sodium D line as the light source, the Abbe refractometer in the same perpendicular direction from the refractive indices n x in the main axis direction birefringence by subtracting the rate n y △ n (= n x -n y) to be determined by multiplying the thickness d.

厚さ方向のリターデーションRthの測定には、上記アッベ屈折計を用いてフィルム面内の屈折率nx、nyと厚さ方向の屈折率nzを求めて次式に従い求める。
th=〔(nx+ny)/2〕−nz
単位はnm。
(4)表面抵抗
主電極(50mmφ)、主電極と同心円のガード電極(内径70mmφ、外径80mmφ)と対電極(80mmφ)との間にフィルムを挿み、1kVの電圧を印加したときの主電極からガード電極に流れる電流値から抵抗を求め、これに60πを乗じて表面抵抗とした。測定は23℃で湿度は60%で行った。単位はΩ/□で表す。
(5)表面粗さRa
JIS B0601に従い、小坂研究所製の高精度薄膜段差計ET−10を用いて測定した。測定条件は、触針先端半径0.5μm、針圧5mg、測定長1mm、カットオフ0.08mm。中心線平均粗さRaは、粗さ曲線の中心線から上下にずれた成分の面積を引き算して出た差額の面積を測定長で割り、その値を中心線に加えたもの。単位はnmで表す。
(6)ヘイズ
JIS K6782の方法に従いトータルヘイズを求めた。単位は%で表す。
(7)フィルム厚さ
JIS K7130 A法によりマイクロメータ法で測定する。単位はμmで表す。
(8)厚みムラ
アンリツ株式会社製フィルムシックネステスタ「KG601A」を用い、フィルムの縦方向には20m長にサンプリングしたフィルムを、幅方向には2m以上の連続的に厚みを測定する。フィルムの搬送速度は3m/分とした。測定長での厚み最大値Tmax(μm)
、最小値Tmin(μm)から、
R=Tmax−Tmin
を求め、Rと測定長の平均厚みTave(μm)から
厚みむら(%)=R/Tave×100
として求めた。
(9)表面張力
JIS C2151(2006)の濡れ張力測定法により測定する。単位はmN/mで表す。
(10)ガラス転移温度Tg
走査熱量計DSCとして、セイコー電子工業株式会社製のロボットDSC「RDC22
0」を用い、データ解析装置として、同社製ディスクステーション「SSC/5200」を用いて、サンプル約5mgをアルミニウム製の受皿に入れ、室温から20℃/分で昇温した。このときに観測されるガラス状態からゴム状態への移転に基づくベースラインからのずれ開始温度と終了温度との算術平均値をガラス転移点(Tg)とした。
(11)層間剥離力
ミネベア株式会社製万能引張試験機『TCM−1kNB』を用い、180度ピール、剥離速度300mm/分、23℃、60%RH雰囲気中で行った。
(12)破断強度
JIS K7127に規定された方法にて測定する
(13)異物
直交状態(クロスニコル)に二枚の偏光板を配置して透過光を遮断し、二枚の偏光板の間に試料を置く。片側から光を照射し、反対側から光学顕微鏡で1cm2当たりの直径1
00μ以上の異物、40μm以上100μm未満の異物数をカウントした。
(14)剥離耐電圧
貼り合せられたフィルムを、幅70mm、長さ100mmの大きさにカットし、いずれかのフィルムの片端部を把持し、簡易巻取り機にセットし、剥離角度150°、剥離速度3m/minとなるようにして剥離した。このときに発生するフィルム表面の電位を、電位測定機(春日電機社製、KSD−0103)にて測定した。測定は、23℃×50%RHの環境下で行った。
(15)摩擦係数
ASTM−D1894−63に準じて製作したスリップテスターを用いて、荷重200g、接触面積63.5×63.5mm、移動速度150mm/分の条件で、フィルム同士の摩擦係数(μs)を測定する。
For the measurement of the thickness direction retardation R th, determined according to the following equation seeking refractive indices n x, n y and a thickness direction refractive index n z of the film plane by using the Abbe refractometer.
n th = [(n x + ny ) / 2] −n z
The unit is nm.
(4) Surface resistance A main electrode (50 mmφ), a main electrode when a voltage of 1 kV is applied by inserting a film between a guard electrode (inner diameter 70 mmφ, outer diameter 80 mmφ) concentric with the main electrode and a counter electrode (80 mmφ) The resistance was obtained from the value of the current flowing from the electrode to the guard electrode, and this was multiplied by 60π to obtain the surface resistance. The measurement was performed at 23 ° C. and a humidity of 60%. The unit is represented by Ω / □.
(5) Surface roughness Ra
According to JIS B0601, it measured using the high precision thin film level | step difference meter ET-10 made from a Kosaka laboratory. The measurement conditions were a stylus tip radius of 0.5 μm, a needle pressure of 5 mg, a measurement length of 1 mm, and a cutoff of 0.08 mm. The centerline average roughness Ra is obtained by dividing the area of the difference obtained by subtracting the area of the component shifted vertically from the centerline of the roughness curve by the measurement length and adding the value to the centerline. The unit is expressed in nm.
(6) Haze Total haze was determined according to the method of JIS K6782. The unit is expressed in%.
(7) Film thickness Measured by the micrometer method according to JIS K7130 A method. The unit is expressed in μm.
(8) Thickness unevenness Using a film thickness tester “KG601A” manufactured by Anritsu Co., Ltd., a film sampled 20 m long in the longitudinal direction of the film, and continuously measuring a thickness of 2 m or more in the width direction. The conveyance speed of the film was 3 m / min. Maximum thickness T max (μm) at the measurement length
From the minimum value T min (μm),
R = T max −T min
From the average thickness T ave (μm) of R and measurement length, thickness unevenness (%) = R / T ave × 100
As sought.
(9) Surface tension Measured by the wetting tension measurement method of JIS C2151 (2006). The unit is represented by mN / m.
(10) Glass transition temperature Tg
As a scanning calorimeter DSC, a robot DSC “RDC22” manufactured by Seiko Electronics Industry Co., Ltd.
0 ”was used as a data analysis device, and a disk station“ SSC / 5200 ”manufactured by the same company was used. About 5 mg of a sample was placed in an aluminum tray and heated from room temperature at 20 ° C./min. The arithmetic average value of the deviation start temperature and end temperature from the baseline based on the transition from the glass state to the rubber state observed at this time was defined as the glass transition point (Tg).
(11) Interlaminar peeling force Using a universal tensile tester “TCM-1kNB” manufactured by Minebea Co., Ltd., 180 ° peel, peeling rate of 300 mm / min, 23 ° C., 60% RH atmosphere.
(12) Breaking strength Measured by the method defined in JIS K7127 (13) Foreign matter Two polarizing plates are arranged in an orthogonal state (crossed Nicols) to block transmitted light, and a sample is placed between the two polarizing plates. Put. Irradiate light from one side and diameter 1 cm 2 with an optical microscope from the other side
The number of foreign matters of 00 μm or more and foreign particles of 40 μm or more and less than 100 μm were counted.
(14) Separation withstand voltage The laminated film was cut into a size of 70 mm in width and 100 mm in length, one end of either film was gripped, and set in a simple winder, with a peeling angle of 150 °, Peeling was performed at a peeling speed of 3 m / min. The potential of the film surface generated at this time was measured with a potential measuring device (KSD-0103, manufactured by Kasuga Denki Co., Ltd.). The measurement was performed in an environment of 23 ° C. × 50% RH.
(15) Friction coefficient Using a slip tester manufactured according to ASTM-D1894-63, the friction coefficient (μs) between films under the conditions of a load of 200 g, a contact area of 63.5 × 63.5 mm, and a moving speed of 150 mm / min. ).

(実施例1)
保護フィルム用のポリマーとして、ポリプロピレンポリマーPP(株式会社プライムポリマー製プライムポリプロF300SP)を用い、透湿性ポリマーとして、エチレンアクリル酸系のカリウムアイオノマー(エンティラ(商標)MK400:三井デュポンポリケミカル株式会社製)と相溶化剤として分子量4000のポリエチレングリコールを用いた。このPPポリマー20重量%に対して、透湿性ポリマー80重量%の組成の均一混合体を撹拌式加熱槽中で、105℃で4時間乾燥した。その後、これを押出機ホッパーに供給し、押出機内で280℃で溶融させ、異物を濾過後、口金より吐出させた。該溶融体にエアーチャンバーで内で静圧で25℃のクロムメッキ冷却ドラムに押し付け冷却後に、該保護フィルム(B1)を巻き取った。保護フィルム(B1)の厚さは25μm、フィルム幅は2.4m幅であった。かくして得られた保護フィルムの物性は、下記の通り。
Example 1
Polypropylene polymer PP (Prime Polypro F300SP manufactured by Prime Polymer Co., Ltd.) is used as the polymer for the protective film, and ethylene acrylic acid potassium ionomer (Entila (trademark) MK400: Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd.) is used as the moisture permeable polymer. Polyethylene glycol having a molecular weight of 4000 was used as a compatibilizing agent. A uniform mixture having a composition of 80% by weight of a moisture-permeable polymer with respect to 20% by weight of the PP polymer was dried at 105 ° C. for 4 hours in a stirring heating tank. Thereafter, this was supplied to an extruder hopper, melted at 280 ° C. in the extruder, and foreign matter was filtered and discharged from the die. The melt was pressed against a chromium plating cooling drum at a static pressure of 25 ° C. in an air chamber and cooled, and then the protective film (B1) was wound up. The thickness of the protective film (B1) was 25 μm, and the film width was 2.4 m. The physical properties of the protective film thus obtained are as follows.

水蒸気透過率 70(g/m2・日・/0.1mm)
光線透過率 89(%)
ヘイズ 4.6(%)
幅方向2.4mの厚みムラ 1.8(%)
リターデーションR 1(nm)
中心線平均粗さRa 60(nm)
表面張力 37(mN/m)
表面比抵抗 1010(Ω/□)
摩擦係数(光学フィルムと接する面) 0.4
破断強度 45(MPa)
異物 100μm以上 0(個/m2
40μm以上100μm未満 5(個/m2
次に光学フィルム(A1)用のポリマーとして、アクリルポリマー(ダイセルデグサ株式会社製、PLEXIGLAS(登録商標)hw55 高耐熱グレード、Tg:122℃)を用い
た。該ポリマーを95℃で4時間乾燥後、ベント式押出機に供給して280℃で溶融後、ベントポートから水分やモノマーを吸引させた後、異物を濾過後、口金より吐出させた。該アクリル溶融体を、既に製膜してある25μmの保護フィルム(冷却ドラム面に接している)のドラム面とは逆面上に押出溶融ラミネート(EL)する公知の手法を用いたが、密着手段としてはロールで押し付けるのではなく、溶融している光学フィルム面に静電荷ピニング方式で印可させて密着積層した。ピニングは負の直流電圧を1.2万V、電流値は3mAで印加して、25℃の鏡面クロムメッキロールに密着させた後、直ちに光学アクリルフィルム面を該フィルムのガラス転移温度Tg近傍の120℃の熱風で加熱して光学フィルム(A)の機械特性を改良し、除電処理後冷却して、該フィルムを巻き取り、厚さ40μm、幅2.3m幅の光学アクリルフィルム(A1)と、厚さ25μmの保護フィルム(B1)とが密着した厚さ65μm、幅2.3m幅の保護フィルム付き光学フィルム(1)を得た。
かくして得られた保護フィルム付き光学フィルム(1)から保護フィルム(B1)を剥離して得られた光学フィルム(A1)自身のフィルム特性は以下の通りであった。
Water vapor transmission rate 70 (g / m 2 · day · / 0.1 mm)
Light transmittance 89 (%)
Haze 4.6 (%)
Thickness variation of 2.4m in width direction 1.8 (%)
Retardation R 1 (nm)
Centerline average roughness Ra 60 (nm)
Surface tension 37 (mN / m)
Surface specific resistance 10 10 (Ω / □)
Coefficient of friction (surface in contact with optical film) 0.4
Breaking strength 45 (MPa)
Foreign matter 100 μm or more 0 (pieces / m 2 )
40 μm or more and less than 100 μm 5 (pieces / m 2 )
Next, an acrylic polymer (manufactured by Daicel Degussa, Inc., PLEXIGLAS (registered trademark) hw55 high heat resistance grade, Tg: 122 ° C.) was used as the polymer for the optical film (A1). The polymer was dried at 95 ° C. for 4 hours, supplied to a vented extruder and melted at 280 ° C., water and monomers were sucked from the vent port, foreign matter was filtered, and then discharged from the die. The acrylic melt was used by a known technique of extrusion melt lamination (EL) on the opposite side of the drum surface of the 25 μm protective film (which is in contact with the cooling drum surface) already formed. As a means, instead of pressing with a roll, it was applied to the surface of the melted optical film by an electrostatic charge pinning method and adhered and laminated. For pinning, a negative DC voltage of 12,000 V and a current value of 3 mA were applied and brought into close contact with a mirror-finished chromium plating roll at 25 ° C., and then the optical acrylic film surface was immediately placed near the glass transition temperature Tg of the film. Heating with hot air of 120 ° C. improves the mechanical properties of the optical film (A), cools after static elimination treatment, winds up the film, and forms an optical acrylic film (A1) having a thickness of 40 μm and a width of 2.3 m. An optical film (1) with a protective film having a thickness of 65 μm and a width of 2.3 m was obtained, in which the protective film (B1) having a thickness of 25 μm was adhered.
The film characteristics of the optical film (A1) itself obtained by peeling off the protective film (B1) from the optical film with protective film (1) thus obtained were as follows.

層間剥離力 35(g/25mm)
剥離帯電圧 発生せず
ガラス転移温度Tg 122(℃)
光線透過率 92(%)
ヘイズ 0.8(%)
幅方向の2.3mの厚みムラ 2.0(%)
面内リターデーションRe 1(nm)
面外リターデーションRth 3(nm)
中心線平均粗さRa 15(nm)
表面張力 46(mN/m)
表面比抵抗 1012(Ω/□)
異物 100μm以上 0(個/m2
40μm以上100μm未満 1(個/m2
水蒸気透過率 25(g/m2・日・/0.1mm)
本発明の保護フィルム(B1)と光学アクリルフィルム(A1)とからなる保護フィルム付き光学フィルム(1)の実用的価値、例えば、偏光子の保護フィルムとしての価値を確認するため、以下の通り積層偏光板を作成し、その評価を行った。
Delamination force 35 (g / 25mm)
No peeling band voltage Glass transition temperature Tg 122 (° C)
Light transmittance 92 (%)
Haze 0.8 (%)
2.3m thickness unevenness in the width direction 2.0 (%)
In-plane retardation Re 1 (nm)
Out-of-plane retardation Rth 3 (nm)
Centerline average roughness Ra 15 (nm)
Surface tension 46 (mN / m)
Surface specific resistance 10 12 (Ω / □)
Foreign matter 100 μm or more 0 (pieces / m 2 )
40 μm or more and less than 100 μm 1 (piece / m 2 )
Water vapor transmission rate 25 (g / m 2 · day · / 0.1 mm)
In order to confirm the practical value of the optical film (1) with a protective film comprising the protective film (B1) and the optical acrylic film (A1) of the present invention, for example, the value as a protective film of a polarizer, the following lamination is performed. A polarizing plate was created and evaluated.

コーターでポリビニルアルコールPVA系の水系の粘着剤を本発明の保護フィルムつき光学フィルム(1)の光学フィルム面(A1)に塗工加工を行い、これをポリビニルアルコールPVA偏光子の両面に貼り合わせ、保護フィルム(B1)/光学アクリルフィルム(A1)/粘着剤/PVA偏光子/粘着剤/光学アクリルフィルム(A1)/保護フィルム(B1)からなる5層のフィルムをそのまま85℃の熱風で乾燥させた。   A coater is used to apply a polyvinyl alcohol PVA-based water-based adhesive to the optical film surface (A1) of the optical film (1) with a protective film of the present invention, and this is bonded to both surfaces of the polyvinyl alcohol PVA polarizer. A five-layer film consisting of protective film (B1) / optical acrylic film (A1) / adhesive / PVA polarizer / adhesive / optical acrylic film (A1) / protective film (B1) is dried as it is with hot air at 85 ° C. It was.

得られた本発明の保護フィルム(B1)/光学アクリルフィルム(A1)/PVA偏光子/光学アクリルフィルム(A1)/保護フィルム(B1)からなる5層積層フィルムの貼り合わせ時の外観状態をとして以下の基準に従い評価したところ、カール、皺および斑点などの一切の表面欠点は見られなかった。   Appearance state at the time of bonding of the five-layer laminated film comprising the obtained protective film (B1) / optical acrylic film (A1) / PVA polarizer / optical acrylic film (A1) / protective film (B1) of the present invention When evaluated according to the following criteria, no surface defects such as curl, wrinkles and spots were observed.

また、得られた5層積層フィルムを23℃、85RH%の高湿下で500時間放置した後の外観状態を観察したところ、全く外観にはカール、皺、着色などの変化は全く見られなかった。   In addition, when the appearance of the obtained 5-layer laminated film was allowed to stand for 500 hours under high humidity of 23 ° C. and 85 RH%, no changes such as curling, wrinkles, and coloring were observed in the appearance. It was.

さらに該5層積層フィルムから保護フィルム(B1)を剥離したところ剥離耐電は殆ど発生しなかった。
このように本発明の保護フィルム付き光学フィルムは、例えば偏光板の保護フィルムとしても優れた特性を示すことがわかる。また、本発明の保護フィルムつき光学フィルムは、帯電防止性にも優れているので、ゴミの付着が抑制され、クリーンな、表面欠点のない光学フィルム(A)を比較的容易に得ることができる。したがって、本発明の一部を構成する光学フィルム(A)は、液晶用の部材、例えば偏光フィルムなどの保護フィルムや位相差フィルム、さらにはコンパクトデイスク、ビデオデイスク、光カードなどとして好適に用いられる。
Further, when the protective film (B1) was peeled off from the five-layer laminated film, peel resistance was hardly generated.
Thus, it turns out that the optical film with a protective film of this invention shows the characteristic outstanding also as a protective film of a polarizing plate, for example. In addition, since the optical film with a protective film of the present invention is excellent in antistatic properties, it is possible to relatively easily obtain a clean optical film (A) having no surface defects by suppressing the adhesion of dust. . Therefore, the optical film (A) constituting a part of the present invention is suitably used as a liquid crystal member, for example, a protective film such as a polarizing film, a retardation film, a compact disk, a video disk, an optical card, and the like. .

(比較例1)
実施例1で用いた保護フィルム(B1)の代わりに、通常市販されている水蒸気透過率が1(g/m2・日・/0.1mm)の無延伸キャストポリプロピレンフィルムCPP(
C1)を使用した他は、実施例1と同様にして5層フィルムを作成したところ、水系接着剤を塗工して乾燥過程で偏光子の黒色変色、水蒸気の透過不足によると思われる水ぶくれ、気泡の噛み込みなどの外観上の欠点が見られ、偏光子用の保護フィルムとしては用いる事はできなかった。
(Comparative Example 1)
Instead of the protective film (B1) used in Example 1, a commercially available unstretched cast polypropylene film CPP having a water vapor transmission rate of 1 (g / m 2 · day · / 0.1 mm) (
Except for using C1), a five-layer film was prepared in the same manner as in Example 1. The water-based adhesive was applied, and the black color of the polarizer was dried during the drying process. Defects in the appearance such as the entrapment of bubbles were observed, and it could not be used as a protective film for a polarizer.

さらに、光学フィルムの厚みムラも8%と大きなものしか得られなかった。
なお、この市販のCPPフィルム(C1)の特性は以下のようであった。水蒸気透過率0.5(g/m2・日・/0.1mm)、光線透過率70(%)、ヘイズ8(%)、幅方
向の厚みムラ12%、100μm以上の異物は多数存在していた。
Furthermore, the thickness unevenness of the optical film was only as large as 8%.
The characteristics of this commercially available CPP film (C1) were as follows. Water vapor permeability 0.5 (g / m 2 · day · 0.1 mM), light transmittance 70%, a haze 8 (%), 12% the width direction of the thickness unevenness, there are many 100μm or more foreign bodies It was.

(比較例2)
実施例1で用いた光学フィルム(A1)用のアクリルポリマーと、保護フィルム(B1)用のオレフィン樹脂とを公知の共押出法によって保護フィルム(B1')/光学アクリ
ルフィルム(A1')となる2層積層フィルムを製膜した。保護フィルム(B1')25μm、光学アクリルフィルム(A1')40μmからなる厚さ65μmのフィルム(1')を得た。層間剥離力は50g/25mmと強い接着力を有していたが、これを剥離した後に光学アクリルフィルム(A1')の幅方向の厚みムラを測定したところ、15%もの大き
な厚みの分布が存在しており、到底このような厚みムラの大きなフィルム、すなわちリターデーションRのムラの大きなフィルムを光学フィルムとしては用いることは困難である。
(Comparative Example 2)
The acrylic polymer for the optical film (A1) used in Example 1 and the olefin resin for the protective film (B1) are converted into a protective film (B1 ′) / optical acrylic film (A1 ′) by a known coextrusion method. A two-layer laminated film was formed. A 65 μm-thick film (1 ′) consisting of a protective film (B1 ′) of 25 μm and an optical acrylic film (A1 ′) of 40 μm was obtained. The delamination force was as strong as 50 g / 25 mm, but when the thickness unevenness in the width direction of the optical acrylic film (A1 ′) was measured after peeling it, a thickness distribution as large as 15% was present. Therefore, it is difficult to use such a film having a large thickness unevenness, that is, a film having a large retardation R as an optical film.

(実施例2)
光学フィルム(A2)を構成するポリマーとして、環状オレフィンポリマーCOC(アペル6015T、Tg145℃、三井化学株式会社製)74重量%に透湿性ポリマーとしてエチレンアクリル酸系のカリウムアイオノマー("エンティラ"MK400:三井デュポン社
製)を25重量%、相溶化剤として分子量6000のポリテトラメチレングリコールを1重量%添加したポリマー混合体を用いた。該混合体を撹拌式加熱槽中で、105℃で4時間乾燥し原料として用いた。
(Example 2)
As a polymer constituting the optical film (A2), cyclic olefin polymer COC (Appel 6015T, Tg 145 ° C., Mitsui Chemicals, Inc.) 74% by weight as a moisture permeable polymer, ethylene acrylic acid type potassium ionomer (“ENTILA” MK400: Mitsui) A polymer mixture containing 25% by weight of DuPont) and 1% by weight of polytetramethylene glycol having a molecular weight of 6000 as a compatibilizing agent was used. The mixture was dried in a stirred heating tank at 105 ° C. for 4 hours and used as a raw material.

一方、保護フィルムとしては、実施例1で用いた保護フィルム(B1)を用いて、実施例1と同様にして光学フィルム(A2)に保護フィルム(B1)が積層された2層フィルムを得た。なお、保護フィルム(B1)の摩擦係数(光学フィルム(A2)と接する面)は、0.45だった。   On the other hand, as the protective film, the protective film (B1) used in Example 1 was used to obtain a two-layer film in which the protective film (B1) was laminated on the optical film (A2) in the same manner as in Example 1. . The friction coefficient of the protective film (B1) (surface in contact with the optical film (A2)) was 0.45.

これにより、厚さ30μm、幅2.6m幅の光学COCフィルム(A2)と、厚さ25μmの保護PPフィルム(B1)とが密着した厚さ55μm、幅2.6m幅の複合フィルム(保護フィルムつき光学フィルム(2))を得た。その後、該積層フィルムを光学フィルムのTg近傍の135℃で加熱処理して光学フィルム(A)の機械特性を改良し、徐電処理をした。   Thus, a composite film (protective film) having a thickness of 55 μm and a width of 2.6 m in which the optical COC film (A2) having a thickness of 30 μm and a width of 2.6 m and the protective PP film (B1) having a thickness of 25 μm are in close contact with each other. An optical film (2)) was obtained. Thereafter, the laminated film was heat-treated at 135 ° C. near the Tg of the optical film to improve the mechanical properties of the optical film (A), and subjected to slow current treatment.

かくして得られた複合フィルム(2)から保護フィルム(B1)を剥離して得られた光学フィルム(A2)自身のフィルム特性は以下の通りであった。
層間剥離力 25(g/25mm)
剥離耐電圧 発生無し
ガラス転移温度Tg 145(℃)
光線透過率 91(%)
ヘイズ 0.8(%)
面内リターデーションRe 1(nm)
面外リターデーションRth 2(nm)
中心線平均粗さRa 10(nm)
表面張力 40(mN/m)
表面比抵抗 109(Ω/□)
異物 100μm以上 0(個/m2
40μm以上100μm未満 1(個/m2
水蒸気透過率 25(g/m2・日・/0.1mm)
幅方向2.6mの厚みムラ 1.0(%)
The film properties of the optical film (A2) itself obtained by peeling off the protective film (B1) from the composite film (2) thus obtained were as follows.
Delamination force 25 (g / 25mm)
No peeling withstand voltage generation Glass transition temperature Tg 145 (℃)
Light transmittance 91 (%)
Haze 0.8 (%)
In-plane retardation Re 1 (nm)
Out-of-plane retardation Rth 2 (nm)
Centerline average roughness Ra 10 (nm)
Surface tension 40 (mN / m)
Surface specific resistance 10 9 (Ω / □)
Foreign matter 100 μm or more 0 (pieces / m 2 )
40 μm or more and less than 100 μm 1 (piece / m 2 )
Water vapor transmission rate 25 (g / m 2 · day · / 0.1 mm)
Thickness variation of 2.6m in the width direction 1.0 (%)

Claims (14)

光学フィルム(A)の少なくとも片面に保護フィルム(B)が積層されてなる保護フィルム付き光学フィルムにおいて、該光学フィルム(A)と該保護フィルム(B)との界面に粘着材層が実質的に存在せず、かつ前記光学フィルム(A)の幅方向に渡って測定した厚みむらが5%以下である、保護フィルム付き光学フィルム。   In the optical film with a protective film in which the protective film (B) is laminated on at least one surface of the optical film (A), an adhesive layer is substantially formed at the interface between the optical film (A) and the protective film (B). The optical film with a protective film which does not exist and the thickness unevenness measured over the width direction of the optical film (A) is 5% or less. 前記光学フィルム(A)と前記保護フィルム(B)との層間剥離力が10g/25mm幅〜300g/25mm幅である、請求項1に記載の保護フィルム付き光学フィルム。   The optical film with a protective film according to claim 1, wherein the delamination force between the optical film (A) and the protective film (B) is 10 g / 25 mm width to 300 g / 25 mm width. 前記保護フィルム付き光学フィルムの幅が2m以上である、請求項1または2に記載の保護フィルム付き光学フィルム。   The optical film with a protective film according to claim 1 or 2, wherein the width of the optical film with the protective film is 2 m or more. 前記光学フィルム(A)が、アクリル系樹脂、環状オレフィン系樹脂、メチルペンテン系樹脂、透明性に優れたポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリマレイミド系樹脂、およびシンジオタクティックポリプロピレン系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂を含んでなる、請求項1から3のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。   The optical film (A) is an acrylic resin, a cyclic olefin resin, a methylpentene resin, a polystyrene resin having excellent transparency, a polycarbonate resin, a polyester resin, a polymaleimide resin, and a syndiotactic polypropylene resin. The optical film with a protective film according to any one of claims 1 to 3, comprising at least one resin selected from the group consisting of resins. 前記光学フィルム(A)のガラス転移温度(Tg)が120℃以上である、請求項4に記載の保護フィルム付き光学フィルム。   The optical film with a protective film of Claim 4 whose glass transition temperature (Tg) of the said optical film (A) is 120 degreeC or more. 前記光学フィルム(A)と接する側の前記保護フィルム(B)の表面の摩擦係数が1以下である、請求項1から5のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。   The optical film with a protective film according to any one of claims 1 to 5, wherein a friction coefficient of a surface of the protective film (B) on a side in contact with the optical film (A) is 1 or less. 前記保護フィルム(B)の表面固有抵抗値が1011Ω/□以下である、請求項1から6のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。 The optical film with a protective film according to any one of claims 1 to 6, wherein the protective film (B) has a surface resistivity of 10 11 Ω / □ or less. 前記保護フィルム(B)の水蒸気透過率が20(g/m2・日/0.1mm)以上であ
る、請求項1から7のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。
The optical film with a protective film according to any one of claims 1 to 7, wherein the protective film (B) has a water vapor transmission rate of 20 (g / m 2 · day / 0.1 mm) or more.
前記保護フィルム(B)の2m以上の幅方向に渡って測定した厚みむらが、5%以下である、請求項1から3、および5から7のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。   The optical film with a protective film according to any one of claims 1 to 3 and 5 to 7, wherein the thickness unevenness measured in the width direction of 2 m or more of the protective film (B) is 5% or less. . 前記保護フィルム(B)が、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)、ポリプロピレン、およびそれらの変性体である変性ポリオレフィン、ポリエステル、ならびにポリカーボネートからなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂を含んでなる、請求項1から8のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルム。   The protective film (B) comprises at least one resin selected from the group consisting of linear low density polyethylene (LLDPE), polypropylene, and modified polyolefins, polyesters, and polycarbonates thereof. Item 9. The optical film with a protective film according to any one of Items 1 to 8. 前記光学フィルム(A)の少なくとも片面に、原料となる樹脂の溶融体を押出積層して前記保護フィルム(B)を形成する工程を有する製造方法により、請求項1から10のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルムを製造する保護フィルム付き光学フィルムの製造方法。   The manufacturing method which has the process of extrusion-laminating the melt of resin used as a raw material on at least one side of the optical film (A) to form the protective film (B), according to any one of claims 1 to 10. The manufacturing method of the optical film with a protective film which manufactures the optical film with a protective film of description. 保護フィルム(B)を加熱して保護フィルム(B)の歪を取り除いた後に、該保護フィルム(B)の上に、原料となる溶融樹脂層を積層密着して冷却することにより該光学フィルム(A)を形成する工程を有する製造方法により、請求項1から10のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルムを製造する保護フィルム付き光学フィルムの製造方法。   After removing the distortion of the protective film (B) by heating the protective film (B), a molten resin layer as a raw material is laminated on the protective film (B) and cooled to cool the optical film (B). The manufacturing method of the optical film with a protective film which manufactures the optical film with a protective film of any one of Claim 1 to 10 by the manufacturing method which has the process of forming A). 請求項1から10のいずれか1項に記載の保護フィルム付き光学フィルムに対して、加熱処理、延伸処理、およびリラックス処理のうち少なくとも1つの処理を行い、前記光学フィルム(A)の電気特性、機械特性、および/または光学特性の改良を行う工程を有する、改良された保護フィルム付き光学フィルムの製造方法。   The optical film with a protective film according to any one of claims 1 to 10, wherein at least one of heat treatment, stretching treatment, and relaxation treatment is performed, and the electrical characteristics of the optical film (A), The manufacturing method of the optical film with the improved protective film which has the process of improving a mechanical characteristic and / or an optical characteristic. 該処理が延伸処理であり、該延伸処理が同時2軸延伸である、請求項13に記載の保護フィルム付き光学フィルムの処理方法。   The processing method of the optical film with a protective film according to claim 13, wherein the treatment is a stretching treatment, and the stretching treatment is simultaneous biaxial stretching.
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