JP2010033278A - ネットリスト生成方法 - Google Patents

ネットリスト生成方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010033278A
JP2010033278A JP2008193932A JP2008193932A JP2010033278A JP 2010033278 A JP2010033278 A JP 2010033278A JP 2008193932 A JP2008193932 A JP 2008193932A JP 2008193932 A JP2008193932 A JP 2008193932A JP 2010033278 A JP2010033278 A JP 2010033278A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
information
stress
storage unit
model parameter
data
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2008193932A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirobumi Watanabe
博文 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2008193932A priority Critical patent/JP2010033278A/ja
Publication of JP2010033278A publication Critical patent/JP2010033278A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】高精度回路シミュレーションを実現するため、面内応力データを利用して素子ごとの応力による特性劣化を加味した回路シミュレーション用のネットリストを生成する。
【解決手段】素子情報を格納する第1の記憶部を参照して、レイアウトデータを構成する素子を識別し、回路シミュレーションを行う為のモデルとモデルパラメータと位置情報を第2の記憶部に記憶し、半導体ICの応力面内分布データと、検量線データとを格納する第4の記憶部を参照して、各素子の位置情報から応力情報を抽出し、抽出した応力情報と検量線データから素子の新たなモデルパラメータを算出して第2の記憶部のモデルパラメータを新たなモデルパラメータで書き換え、レイアウトデータから結線情報を抽出し、第3の記憶部に記憶して、第2の記憶部と第3の記憶部に格納された情報からネットリストを作成する。
【選択図】図1

Description

本発明は、レイアウトデータから抽出するポストレイアウトネットリスト抽出技術を用いた回路シミュレーション用のネットリスト生成方法に関する。
近年における半導体集積回路(IC)は、半導体素子パターンの微細化、高集積化、及び動作の高速化が進んでおり、集積回路に要求される設計仕様も複雑となっている。
益々複雑化する半導体ICを設計するにあたり、設計した各要素回路の機能検証や集積回路全体の動作検証のために精度の高い回路シミュレーション技術が望まれる。例えば回路設計をした後のレイアウト設計において、レイアウト設計をして初めて明確になる寄生素子などを考慮したポストレイアウトシミュレーションは、高精度回路シミュレーションを支える技術の一つとして知られている。
図3は、従来の回路シミュレーション装置の構成図である。回路シミュレータには、マスクレイアウトデータ101と、トランジスタサイズ抽出部102と、デバイス測定データ104と、パラメータ抽出部105と、ネットリスト103とパラメータ106が入力される回路シミュレータ100と、出力部107から構成される。
トランジスタサイズ抽出部102は、解析する回路の設計情報を有するマスクレイアウトデータ101からトランジスタなどのサイズデータを抽出する。抽出されたトランジスタサイズデータは、ネットリスト103として回路シミュレータ100に入力される。
なお、ネットリスト103には、トランジスタのサイズのみだけでなく容量や抵抗なども含まれる。図3では、マスクレイアウトデータ101から抽出されるデータとしてトランジスタデータのみを示しているが、容量や抵抗体などの回路を構成する素子のデータも抽出される。
一方、パラメータ抽出部105は、デバイスの実測値であるデバイス測定データ104からシミュレーションに必要なパラメータを抽出する。抽出されたパラメータは、回路シミュレータ100に入力される。
なお、トランジスタサイズの他、ソース及びドレイン領域の不純物濃度やゲート絶縁膜の膜厚なども考慮される。
回路シミュレータ100では、入力されたネットリスト103及びパラメータ106を照合し、入力されたパラメータ106の中からネットリスト内の各トランジスタサイズに最適なモデルパラメータを選択して回路動作をシミュレーションする。
出力部では、上記回路シミュレーションによって得られた結果を出力する。例えば、解析対象の回路に所定の入力信号を与えたときに、出力端子にどのような出力信号が得られるかのシミュレーション結果が、出力結果として得られる。また、種々の抵抗や容量を考慮した回路遅延の算出を行うこともできる。
通常は回路シミュレータによるシミュレーション結果を参考にして、回路のレイアウトの修正が行われ、修正後のレイアウトに対して同様の手順でサイドシミュレーションを実行し、上記手順を繰り返すことで、最適な回路設計を行うことができる。
しかしながら、従来の回路シミュレーションでは、トランジスタサイズの設計データと、入力された実測データとを基に、各トランジスタの設計サイズに最も近いトランジスタサイズの実測データの電気的特性を当てはめる。そのため、回路シミュレーションの算出値と実際の回路を用いた実測値との間の誤差をなくすことは、本質的にできない。それ故、回路シミュレーションの算出値と実測値との間の誤差を回路設計上問題のないレベルにすることが求められる。
集積回路のデザインルールが大きい場合には、パラメータとしてトランジスタのサイズのみを用いる従来の方法でも、ゲート電極の形状、ソース及びドレイン領域の深さ、不純物濃度などの補正を加えることで、出力の誤差は実用上問題のない値以下に抑えることが可能である。
ところが、集積回路の微細化が進むにつれ、従来の方法による回路シミュレーションでは実際の回路動作とのずれが顕著になってきている。特に、電子素子の中でも、MISトランジスタやバイポーラトランジスタの動作についての誤差が大きくなっている。
そこで、例えば特許文献1に記載の回路シミュレーション方法によれば、トランジスタの動作に影響の大きいトランジスタを囲む素子分離用絶縁膜からの応力を新たなパラメータとして付加してシミュレーションを行っている。
特開2004−086546号公報
近年では、高精度化の要求も一段と強くなっており、例えばパッケージングによるわずかな特性変動が生む精度の劣化も設計段階で把握し、抑制させなければならない。
しかしながら、特許文献1における技術は、トランジスタの活性領域のサイズやゲート電極の素子分離用絶縁膜からの距離などにより変化する素子分離用絶縁膜からの応力を考慮するものであり、チップ内の面内応力分布による実際のパッケージ応力変動を考慮することはできず、高精度ICの設計には限界があった。
そこで本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、高精度回路シミュレーションを実現するため、面内応力データを利用して素子ごとの応力による特性劣化を加味した回路シミュレーション用のネットリストを生成する。
上記課題を解決するため、本発明におけるネットリスト生成方法は、ユーザからの半導体ICのレイアウトデータを受け付ける入力ステップと、素子レイヤ情報と回路シミュレーションモデル情報とモデルパラメータ情報を格納する第1の記憶部を参照して、レイアウトデータを構成する素子を識別する素子識別ステップと、素子に回路シミュレーションを行う為のモデルとモデルパラメータと位置情報を第2の記憶部に記憶する素子情報記憶ステップと、半導体ICの応力面内分布データと、各デバイスが持っているモデルパラメータと応力の相関を示す検量線データとを格納する第4の記憶部を参照して、素子識別ステップにて識別した各素子の位置情報から応力情報を抽出する応力情報抽出ステップと、応力情報抽出ステップにて抽出した応力情報と検量線データから素子の新たなモデルパラメータを算出するモデルパラメータ算出ステップと、素子情報記憶ステップにて第2の記憶部に記憶したモデルパラメータを新たなモデルパラメータで書き換えるモデルパラメータ更新ステップと、レイアウトデータから結線情報を抽出する結線情報抽出ステップと、結線情報抽出ステップにて抽出した結線情報を第3の記憶部に記憶する結線情報記憶ステップと、第2の記憶部と第3の記憶部に格納された情報からレイアウト位置に依存した応力によって変動するモデルパラメータを含むネットリストを作成するネットリスト作成ステップとを備えることを特徴とする。
ユーザからの半導体ICのレイアウトデータを受け付ける入力ステップと、素子レイヤ情報と回路シミュレーションモデル情報とモデルパラメータ情報を格納する第1の記憶部を参照して、レイアウトデータを構成する素子を識別する素子識別ステップと、半導体ICの応力面内分布データと、各デバイスが持っているモデルパラメータと応力の相関を示す検量線データとを格納する第4の記憶部を参照して、素子識別ステップにて識別した各素子の位置情報から応力情報を抽出する応力情報抽出ステップと、応力情報抽出ステップにて抽出した応力情報と検量線データから素子の新たなモデルパラメータを算出するモデルパラメータ算出ステップと、素子に回路シミュレーションを行う為のモデルと新たなモデルパラメータを第2の記憶部に記憶する素子情報記憶ステップと、レイアウトデータから結線情報を抽出する結線情報抽出ステップと、結線情報抽出ステップにて抽出した結線情報を第3の記憶部に記憶する結線情報記憶ステップと、第2の記憶部と第3の記憶部に格納された情報からレイアウト位置に依存した応力によって変動するモデルパラメータを含むネットリストを作成するネットリスト作成ステップとを備えることを特徴とする。
応力面内分布データは、実測値であることを特徴とする。
応力面内分布データは、シミュレーションデータであることを特徴とする。
検量線データは、実測値であることを特徴とする。
検量線データは、シミュレーションデータであることを特徴とする。
本発明により、面内応力データを利用することで、素子ごとの応力による特性劣化を加味した高精度回路シミュレーションを実現可能となる。
図1は、本発明の実施形態におけるネットリスト生成方法を示す図である。本ネットリスト生成方法は、入力部201と、結線情報抽出部202と、素子識別部204と、第1の記憶部205と、第2の記憶部206と、第3の記憶部203と、応力情報抽出及びモデルパラメータ算出部207と、第4の記憶部208と、回路情報ネットリスト作成部209とで構成される。
入力部201は、ユーザによる半導体ICのレイアウトデータの入力を受け付ける。第1の記憶部205には、素子レイヤ情報、回路シミュレーションモデル情報、モデルパラメータ情報が予め格納されており、素子識別部204は、第1の記憶部205に格納されている情報を基に素子識別を行い、それぞれの素子に素子情報を割り当てる。
第2の記憶部206は、素子識別部204で割り当てられた素子識別情報をそれぞれの素子と関連付けて格納する。素子情報は、例えばトランジスタの場合にはチップ内での座標、トランジスタの種類、回路シミュレーションモデル、トランジスタサイズ情報(Width/Length)などである。
第4の記憶部208には、応力面内分布データ及び各デバイスが持っているモデルパラメータと応力の相関を示す検量線データが予め格納されており、応力情報抽出部及びモデルパラメータ算出部207は、各素子に関連付けられた素子情報のチップ内座標から第4の記憶部208に格納されている応力面内分布データとを照合し、各素子が受ける応力の特定を行う。続いて、特定した応力データと第4の記憶部に格納されている検量線データから各素子の応力による変動を受けた後のモデルパラメータの値を算出し、第2の記憶部の素子情報を書き換える(追加する)。
一方、上記フローとは独立に、結線情報抽出部202では、入力されたレイアウトデータから素子同士の結線情報の抽出を行う。抽出された結線情報は、第3の記憶部203に格納される。
回路情報ネットリスト作成部209は、上記応力情報抽出及びモデルパラメータ算出部207によって更新された第2の記憶部206及び第3の記憶部203に格納されたデータから回路シミュレーションに必要な回路図情報ネットリストを作成する。
本実施形態において作成されたネットリストには、レイアウトの位置に依存した応力によって変動したモデルパラメータが含まれており、応力を考慮した高精度の回路シミュレーションを実現することが可能である。
図2は、本発明の他の実施形態におけるネットリスト生成方法を示す図である。本実施形態によれば、各素子の位置情報を用いて応力の影響を特定し、検量線データから各素子の応力による変動を受けた後のモデルパラメータの算出プロセスを第2の記憶部への素子情報格納前に行うよう構成される。
すなわち、本ネットリスト生成装置は、上記構成と同様に入力部301と、結線情報抽出部302と、素子識別部304と、第1の記憶部305と、応力情報抽出及びモデルパラメータ算出部306と、第4の記憶部307と、第2の記憶部308と、第3の記憶部303と、回路情報ネットリスト作成部309とで構成される。
入力部301は、ユーザによる半導体ICのレイアウトデータの入力を受け付け、第1の記憶部305には、素子レイヤ情報、回路シミュレーションモデル情報、モデルパラメータ情報が予め格納されており、素子識別部304は、第1の記憶部305に格納されている情報を基に素子識別を行い、それぞれの素子に素子情報を割り当てる。
次に、応力情報抽出部及びモデルパラメータ算出部306は、第4の記憶部307に予め格納された応力面内分布データ及び検量線データから、各素子に関連付けられた素子情報のチップ内座標から第4の記憶部307に格納されている応力面内分布データとを照合し、各素子が受ける応力の特定を行う。続いて、特定した応力データと第4の記憶部に格納されている検量線データから各素子の応力による変動を受けた後のモデルパラメータの値を算出し、素子識別部304で割り当てられた素子情報を更新(追加)する。
続いて、第2の記憶部308は、素子識別部304で割り当てられ、応力情報抽出部及びモデルパラメータ算出部306によって更新された素子識別情報をそれぞれの素子と関連付けて格納する。素子情報は、例えばトランジスタの場合にはチップ内での座標、トランジスタの種類、回路シミュレーションモデル、トランジスタサイズ情報(Width/Length)などである。
一方、上記フローとは独立に、結線情報抽出部302では、入力されたレイアウトデータから素子同士の結線情報の抽出を行う。抽出された結線情報は、第3の記憶部303に格納される。
回路情報ネットリスト作成部309は、第2の記憶部308及び第3の記憶部303に格納されたデータから回路シミュレーションに必要な回路図情報ネットリストを作成する。
なお、本発明の実施形態で用いる応力面内分布データは実測して作成することが望ましいが、応力シミュレーションによって作成してもよい。また、検量線データも同様に実測して作成することが望ましいが、デバイスシミュレーションによるデバイスから抽出したデータを用いてもよい。
以上、本発明の好適な実施の形態により本発明を説明した。ここでは特定の具体例を示して本発明を説明したが、特許請求の範囲に定義された本発明の広範囲な趣旨および範囲から逸脱することなく、これら具体例に様々な修正および変更が可能である。
本発明の実施形態に係るネットリスト生成方法を示す図である。 本発明の他の実施形態に係るネットリスト生成方法を示す図である。 従来の回路シミュレーション装置の構成図である。
符号の説明
201 入力部
202 結線情報抽出部
203 第3の記憶部
204 素子識別部
205 第1の記憶部
206 第2の記憶部
207 応力情報抽出及びモデルパラメータ算出部
208 第4の記憶部
209 回路情報ネットリスト作成部

Claims (6)

  1. ユーザからの半導体ICのレイアウトデータを受け付ける入力ステップと、
    素子レイヤ情報と回路シミュレーションモデル情報とモデルパラメータ情報を格納する第1の記憶部を参照して、前記レイアウトデータを構成する素子を識別する素子識別ステップと、
    前記素子に回路シミュレーションを行う為のモデルとモデルパラメータと位置情報を第2の記憶部に記憶する素子情報記憶ステップと、
    前記半導体ICの応力面内分布データと、各デバイスが持っているモデルパラメータと応力の相関を示す検量線データとを格納する第4の記憶部を参照して、前記素子識別ステップにて識別した各素子の位置情報から応力情報を抽出する応力情報抽出ステップと、
    前記応力情報抽出ステップにて抽出した応力情報と前記検量線データから前記素子の新たなモデルパラメータを算出するモデルパラメータ算出ステップと、
    前記素子情報記憶ステップにて前記第2の記憶部に記憶したモデルパラメータを前記新たなモデルパラメータで書き換えるモデルパラメータ更新ステップと、
    前記レイアウトデータから結線情報を抽出する結線情報抽出ステップと、
    前記結線情報抽出ステップにて抽出した結線情報を第3の記憶部に記憶する結線情報記憶ステップと、
    前記第2の記憶部と前記第3の記憶部に格納された情報からレイアウト位置に依存した応力によって変動するモデルパラメータを含むネットリストを作成するネットリスト作成ステップとを備えることを特徴とするネットリスト作成方法。
  2. ユーザからの半導体ICのレイアウトデータを受け付ける入力ステップと、
    素子レイヤ情報と回路シミュレーションモデル情報とモデルパラメータ情報を格納する第1の記憶部を参照して、前記レイアウトデータを構成する素子を識別する素子識別ステップと、
    前記半導体ICの応力面内分布データと、各デバイスが持っているモデルパラメータと応力の相関を示す検量線データとを格納する第4の記憶部を参照して、前記素子識別ステップにて識別した各素子の位置情報から応力情報を抽出する応力情報抽出ステップと、
    前記応力情報抽出ステップにて抽出した応力情報と前記検量線データから前記素子の新たなモデルパラメータを算出するモデルパラメータ算出ステップと、
    前記素子に回路シミュレーションを行う為のモデルと前記新たなモデルパラメータを第2の記憶部に記憶する素子情報記憶ステップと、
    前記レイアウトデータから結線情報を抽出する結線情報抽出ステップと、
    前記結線情報抽出ステップにて抽出した結線情報を第3の記憶部に記憶する結線情報記憶ステップと、
    前記第2の記憶部と前記第3の記憶部に格納された情報からレイアウト位置に依存した応力によって変動するモデルパラメータを含むネットリストを作成するネットリスト作成ステップとを備えることを特徴とするネットリスト作成方法。
  3. 前記応力面内分布データは、実測値であることを特徴とする請求項1又は2記載のネットリスト作成方法。
  4. 前記応力面内分布データは、シミュレーションデータであることを特徴とする請求項1又は2記載のネットリスト作成方法。
  5. 前記検量線データは、実測値であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のネットリスト作成方法。
  6. 前記検量線データは、シミュレーションデータであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のネットリスト作成方法。
JP2008193932A 2008-07-28 2008-07-28 ネットリスト生成方法 Withdrawn JP2010033278A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008193932A JP2010033278A (ja) 2008-07-28 2008-07-28 ネットリスト生成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008193932A JP2010033278A (ja) 2008-07-28 2008-07-28 ネットリスト生成方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010033278A true JP2010033278A (ja) 2010-02-12

Family

ID=41737686

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008193932A Withdrawn JP2010033278A (ja) 2008-07-28 2008-07-28 ネットリスト生成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010033278A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011216084A (ja) * 2010-03-16 2011-10-27 Ricoh Co Ltd 半導体集積回路のレイアウト設計装置、レイアウト設計方法及びレイアウト設計プログラム並びに半導体集積回路装置の製造方法
US8745571B2 (en) 2011-02-14 2014-06-03 International Business Machines Corporation Analysis of compensated layout shapes
CN104535233A (zh) * 2014-12-08 2015-04-22 云南电网公司电力科学研究院 一种覆冰输电线路应力监测系统

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011216084A (ja) * 2010-03-16 2011-10-27 Ricoh Co Ltd 半導体集積回路のレイアウト設計装置、レイアウト設計方法及びレイアウト設計プログラム並びに半導体集積回路装置の製造方法
US8745571B2 (en) 2011-02-14 2014-06-03 International Business Machines Corporation Analysis of compensated layout shapes
CN104535233A (zh) * 2014-12-08 2015-04-22 云南电网公司电力科学研究院 一种覆冰输电线路应力监测系统

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7783999B2 (en) Electrical parameter extraction for integrated circuit design
US8176444B2 (en) Analyzing multiple induced systematic and statistical layout dependent effects on circuit performance
US20070198967A1 (en) Computation of electrical properties of an ic layout
JP2006209702A (ja) 半導体装置設計プログラム
US20160335384A1 (en) 3d resist profile aware etch-bias model
US7665050B2 (en) Semiconductor device verification system and semiconductor device fabrication method
JP2009087169A (ja) 回路シミュレーション方法、回路シミュレーション装置、及びプログラム
JP2004086546A (ja) 回路シミュレーション方法
KR20090077692A (ko) 반도체 장치의 제조 방법, 반도체 장치의 제조 프로그램 및반도체 장치의 제조 시스템
US10162931B2 (en) Method of forming serpentine resistor
JP2010218252A (ja) 統計的タイミング解析用セルライブラリ作成装置、統計的タイミング解析装置、統計的タイミング解析用セルライブラリ作成方法および統計的タイミング解析方法
US8762897B2 (en) Semiconductor device design system and method of using the same
CN112784520A (zh) 集成电路时延检测方法、装置、存储介质及电子设备
US8850374B2 (en) Method of reducing parasitic mismatch
JP2010033278A (ja) ネットリスト生成方法
US20060190854A1 (en) Method for incorporating pattern dependent effects in circuit simulations
JP2006343217A (ja) 回路シミュレーション方法および回路シミュレーション装置
JP4969416B2 (ja) 動作タイミング検証装置及びプログラム
US7073148B1 (en) Antenna violation correction in high-density integrated circuits
JP4997710B2 (ja) Lsiのセルのライブラリデータ生成方法
US20080141189A1 (en) Method for robust statistical semiconductor device modeling
JP5405055B2 (ja) 半導体装置の解析及び設計装置、及び半導体装置の解析及び設計方法
US8185369B2 (en) Method and apparatus for characterizing properties of electronic devices depending on device parameters
US8032847B2 (en) Layout design method of semiconductor integrated circuit
JP2007199256A (ja) 集積回路の設計方法、設計装置及びプログラム

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20111004