JP2010024526A - Copper particulate dispersion and production method therefor - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a copper particulate dispersion which has less possibility of being contaminated by impurities of inorganic components and has been produced with a safe method, and to provide a production method therefor. <P>SOLUTION: The copper particulate dispersion containing a hydrazine derivative and copper particulates is produced with a method comprising the steps of: (a) mixing a precursor of the copper particulates with the hydrazine derivative; and (b) adding water to the obtained mixture and heating the resulting mixture to reduce the precursor and deposit the copper particulates. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、銅微粒子分散体及びその製造方法に関する。本発明の銅微粒子分散体は、特にエレクトロニクス分野で配線基板の回路パターン形成用材料である、導電性インク、導電性ペーストとして好適に用いることのできる。   The present invention relates to a copper fine particle dispersion and a method for producing the same. The copper fine particle dispersion of the present invention can be suitably used as a conductive ink or conductive paste which is a circuit pattern forming material for a wiring board, particularly in the electronics field.

近年、金属微粒子を含有する導電性材料をインクジェット印刷法や、スクリーン印刷法により所望のパターンを形成し、回路基板における配線等を形成する技術(導電性パターンの形成技術)が注目を集めている。現状、この用途に用いられる導電性材料(導電性パターン形成用組成物)としては、銀微粒子を含有するものが中心であるが、銀ではエレクトロマイグレーションが発生する問題があるため、低コスト化が可能で且つエレクトロマイグレーションが生じるおそれのない、銅の微粒子をインク化又はペースト化して用いることが望まれている。   2. Description of the Related Art In recent years, a technique for forming a wiring pattern on a circuit board by forming a desired pattern using a conductive material containing fine metal particles by an ink jet printing method or a screen printing method (conducting pattern forming technology) has attracted attention. . At present, the conductive materials (compositions for forming conductive patterns) used for this purpose are mainly those containing silver fine particles, but there is a problem that electromigration occurs in silver, so the cost can be reduced. It is desired to use copper fine particles that are capable of being produced and that are free from the occurrence of electromigration, in the form of ink or paste.

しかしながら、銅は酸化されやすく、ナノサイズの銅微粒子ではその傾向がさらに顕著となる。酸化された銅は著しく導電性が低下するため、銅微粒子をインク若しくはペーストとして用いるためには、分散性を維持しながら酸化を防止することが大きな課題となっている。   However, copper is easily oxidized, and the tendency becomes more remarkable with nano-sized copper fine particles. Oxidized copper has a significant decrease in electrical conductivity. Therefore, in order to use copper fine particles as ink or paste, preventing oxidation while maintaining dispersibility is a major issue.

このような課題を解決するため、酸化防止剤として、窒素原子を分子構造内に有する有機化合物を銅微粒子と共存させ、銅金属表面に吸着させ、銅微粒子と酸素や水との接触を妨げ酸化を防ぐと同時に、銅微粒子相互の凝集を防止し、分散性を保持する方法が検討されている。例えば、酸化防止剤として、アルキルアミンを利用する方法(例えば、特許文献1)やベンゾトリアゾールを利用する方法(例えば、特許文献2)が知られている。   In order to solve such problems, as an antioxidant, an organic compound having a nitrogen atom in the molecular structure is allowed to coexist with the copper fine particles and adsorbed on the surface of the copper metal, thereby preventing the copper fine particles from contacting oxygen and water. At the same time, a method for preventing coagulation of copper fine particles and maintaining dispersibility has been studied. For example, as an antioxidant, a method using alkylamine (for example, Patent Document 1) and a method using benzotriazole (for example, Patent Document 2) are known.

しかしながら、例えば、特許文献1に記載の方法では、還元剤として水素化ホウ素ナトリウムを使用しているため、精製を行ってもホウ素化合物やナトリウムイオンが不純物として残存するおそれがあり、電子材料分野での利用は制限されるおそれがある。また、例えば特許文献2に記載の方法では、不純物成分が残らないヒドラジンを還元剤として使用しているが、製造時に短時間で大量のヒドラジンを添加する必要があり、工業規模での実施には非常に危険性が高いという問題点があった。   However, for example, in the method described in Patent Document 1, since sodium borohydride is used as a reducing agent, boron compounds and sodium ions may remain as impurities even after purification. Use of may be restricted. Further, for example, in the method described in Patent Document 2, hydrazine that does not leave an impurity component is used as a reducing agent. However, it is necessary to add a large amount of hydrazine in a short time at the time of production. There was a problem that it was very dangerous.

以上のように従来の方法では、十分なものとはいえず、工業的に更なる検討が要望されている。   As described above, the conventional methods are not sufficient, and further studies are required industrially.

特開2007−321215号公報JP 2007-32215 A 特開2004−211108号公報JP 2004-211108 A

本発明は、上記の背景技術に鑑みてなされたものであり、その目的は不純物無機成分の混入のおそれがなく、且つ安全な方法により製造された銅微粒子分散体及びその製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described background art, and an object thereof is to provide a copper fine particle dispersion produced by a safe method without the possibility of mixing of inorganic impurities and a production method thereof. It is in.

本発明者は、銅微粒子分散体及びその製造方法について鋭意検討した結果、特定のヒドラジン誘導体及び銅微粒子を含有する銅微粒子分散体により、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies on the copper fine particle dispersion and the production method thereof, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by a copper fine particle dispersion containing a specific hydrazine derivative and copper fine particles, and have completed the present invention. It was.

すなわち、本発明は、以下に示すとおりの銅微粒子分散体及びその製造方法、銅微粒子及びその製造方法、並びに導電性パターン形成用組成物に関するものである。   That is, the present invention relates to a copper fine particle dispersion and a production method thereof, a copper fine particle and a production method thereof, and a conductive pattern forming composition as described below.

[1]下記一般式(1)   [1] The following general formula (1)

Figure 2010024526
Figure 2010024526

[一般式(1)中、R〜Rは各々独立して、水素原子、炭素数が1〜18のアルキル基、炭素数5〜10の芳香族基、炭素数が1〜4のアルキル基で芳香環上の水素原子が1〜3置換された炭素数5〜10の芳香族基、又は炭素数5〜10の芳香族基で水素原子が1〜3置換された炭素数1〜4のアルキル基を表す。ただし、R〜Rが全て水素原子となることはない。]
で示されるヒドラジン誘導体と、平均粒子径が1〜1000nmの範囲の銅微粒子を含有する銅微粒子分散体。
[In General Formula (1), R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic group having 5 to 10 carbon atoms, or an alkyl having 1 to 4 carbon atoms. Group having 5 to 10 carbon atoms substituted with 1 to 3 hydrogen atoms on the aromatic ring, or 1 to 4 carbon atoms having 1 to 3 hydrogen atoms substituted with an aromatic group having 5 to 10 carbon atoms Represents an alkyl group. However, R 1 to R 4 are not all hydrogen atoms. ]
A copper fine particle dispersion containing a hydrazine derivative represented by the formula (1) and copper fine particles having an average particle diameter in the range of 1 to 1000 nm.

[2]一般式(1)において、R、Rが各々独立して、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数3〜18の直鎖状、分岐状若しくは環式のアルキル基、炭素数5〜10の芳香族基、メチル基で芳香環上の水素が1〜3置換された炭素数5〜10の芳香族基、フェニル基で水素が1〜3置換されたメチル基、又はフェニル基で水素原子が1〜3置換されたエチル基を表し(ただし、R、Rは同時に水素原子となることはない。)、R、Rが水素原子である上記[1]に記載の銅微粒子分散体。 [2] In general formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms, carbon An aromatic group having 5 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 5 to 10 carbon atoms in which hydrogen on the aromatic ring is substituted by 1 to 3 with a methyl group, a methyl group having 1 to 3 hydrogen atoms substituted with a phenyl group, or phenyl In the above [1], an ethyl group in which a hydrogen atom is substituted by 1 to 3 by a group (provided that R 1 and R 2 do not simultaneously become a hydrogen atom), and R 3 and R 4 are hydrogen atoms. The copper fine particle dispersion as described.

[3]一般式(1)において、R、Rが各々独立して、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、neo−ペンチル基、t−ペンチル基、n−ヘキシル基、i−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、4−メチルフェニル基、ベンジル基、又は2−フェニルエチル基を表し(ただし、R、Rは同時に水素原子となることはない。)、R、Rが水素原子である上記[1]又は[2]に記載の銅微粒子分散体。 [3] In General Formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, i-pentyl group, neo-pentyl group, t-pentyl group, n-hexyl group, i-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, cyclohexyl group, phenyl group, 4-methylphenyl group, benzyl group, or 2-phenylethyl group (provided that R 1 , R 2 is not a hydrogen atom at the same time.), The copper fine particle dispersion according to [1] or [2], wherein R 3 and R 4 are hydrogen atoms.

[4]銅微粒子に対し、ヒドラジン誘導体を5〜10000重量%含有する上記[1]乃至[3]のいずれかに記載の銅微粒子分散体。   [4] The copper fine particle dispersion according to any one of the above [1] to [3], which contains 5 to 10,000% by weight of a hydrazine derivative with respect to the copper fine particles.

[5]以下のa)及びb)の工程を含む上記[1]乃至[4]のいずれかに記載の銅微粒子分散体の製造方法。   [5] The method for producing a copper fine particle dispersion according to any one of the above [1] to [4], comprising the following steps a) and b).

a)上記一般式(1)で示されるヒドラジン誘導体と銅微粒子前駆体を混合する工程。   a) A step of mixing a hydrazine derivative represented by the general formula (1) and a copper fine particle precursor.

b)a)工程で得た混合物に水を加え、それを加熱することにより銅微粒子を還元析出させる工程。   b) A step of reducing and precipitating copper fine particles by adding water to the mixture obtained in step a) and heating the mixture.

[6]銅微粒子前駆体が、銅酸化物、銅水酸化物、銅ハロゲン化物、銅無機酸塩、銅有機酸塩及び銅キレート錯体からなる群より選ばれる一種又は二種以上の化合物である上記[5]に記載の銅微粒子分散体の製造方法。   [6] The copper fine particle precursor is one or more compounds selected from the group consisting of copper oxide, copper hydroxide, copper halide, copper inorganic acid salt, copper organic acid salt and copper chelate complex. The manufacturing method of the copper fine particle dispersion as described in said [5].

[7]銅微粒子前駆体が、亜酸化銅、酸化銅、水酸化銅、硝酸銅、塩基性炭酸銅、ギ酸銅、酢酸銅、プロピオン酸銅、酪酸銅、イソ酪酸銅、吉草酸銅、イソ吉草酸銅、ピバリン酸銅、シュウ酸銅、マロン酸銅、安息香酸銅、クエン酸銅及びアセチルアセトナト銅からなる群より選ばれる一種又は二種以上である上記[5]に記載の銅微粒子分散体の製造方法。   [7] Copper fine particle precursor is cuprous oxide, copper oxide, copper hydroxide, copper nitrate, basic copper carbonate, copper formate, copper acetate, copper propionate, copper butyrate, copper isobutyrate, copper valerate, iso Copper fine particles according to [5] above, which are one or more selected from the group consisting of copper valerate, copper pivalate, copper oxalate, copper malonate, copper benzoate, copper citrate and copper acetylacetonate. A method for producing a dispersion.

[8]上記[1]乃至[4]のいずれかに記載の銅微粒子分散体を含む導電性パターン形成用組成物。   [8] A conductive pattern forming composition comprising the copper fine particle dispersion according to any one of [1] to [4].

[9]平均粒子径が1〜1000nmの範囲の銅微粒子であって、下記一般式(1)   [9] Copper fine particles having an average particle diameter in the range of 1 to 1000 nm, the following general formula (1)

Figure 2010024526
Figure 2010024526

[一般式(1)中、R〜Rは各々独立して、水素原子、炭素数が1〜18のアルキル基、炭素数5〜10の芳香族基、炭素数が1〜4のアルキル基で芳香環上の水素原子が1〜3置換された炭素数5〜10の芳香族基、又は炭素数5〜10の芳香族基で水素原子が1〜3置換された炭素数1〜4のアルキル基を表す。ただし、R〜Rが全て水素原子となることはない。]
で示されるヒドラジン誘導体により銅微粒子表面が被覆されている銅微粒子。
[In General Formula (1), R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic group having 5 to 10 carbon atoms, or an alkyl having 1 to 4 carbon atoms. Group having 5 to 10 carbon atoms substituted with 1 to 3 hydrogen atoms on the aromatic ring, or 1 to 4 carbon atoms having 1 to 3 hydrogen atoms substituted with an aromatic group having 5 to 10 carbon atoms Represents an alkyl group. However, R 1 to R 4 are not all hydrogen atoms. ]
Copper fine particles whose copper fine particle surface is coated with a hydrazine derivative represented by

[10]上記[1]乃至[4]のいずれかに記載の銅微粒子分散体から分離操作により銅微粒子を分離する上記[9]に記載の銅微粒子の製造方法。   [10] The method for producing copper fine particles according to [9], wherein the copper fine particles are separated from the copper fine particle dispersion according to any one of [1] to [4] by a separation operation.

[11]分離操作が、濾過、遠心分離、又は銅微粒子以外の成分の留去である上記[10]に記載の銅微粒子の製造方法。   [11] The method for producing copper fine particles according to [10], wherein the separation operation is filtration, centrifugation, or distillation of components other than the copper fine particles.

[12]上記[9]に記載の銅微粒子と、銅微粒子を分散させる分散剤とを含む導電性パターン形成用組成物。   [12] A conductive pattern forming composition comprising the copper fine particles according to [9] above and a dispersant for dispersing the copper fine particles.

本発明の銅微粒子分散体は、ヒドラジン誘導体が還元剤及び酸化防止剤として作用し、さらに還元剤を添加する必要がないため、不純物無機成分が混入するおそれがなく、電子材料分野での利用が制限されるおそれもない。   In the copper fine particle dispersion of the present invention, since the hydrazine derivative acts as a reducing agent and an antioxidant and it is not necessary to add a reducing agent, there is no possibility that an inorganic impurity component is mixed in, and it can be used in the field of electronic materials. There is no risk of restriction.

本発明の銅微粒子分散体の製造方法は、ヒドラジン誘導体が還元剤及び酸化防止剤として作用するため、安全性に優れ、また特別な反応装置の設置が必要なく、設備投資及び、ユーティリティコスト低減が図れる。   The method for producing a copper fine particle dispersion of the present invention is excellent in safety because the hydrazine derivative acts as a reducing agent and an antioxidant, and does not require the installation of a special reaction apparatus, reducing capital investment and utility costs. I can plan.

また、本発明の銅微粒子分散体から分離操作により分離された銅微粒子は、当該粒子表面がヒドラジン誘導体により被覆されているため、有機溶媒等で容易に再分散することができる。   Further, the copper fine particles separated from the copper fine particle dispersion of the present invention by the separation operation can be easily redispersed with an organic solvent or the like because the surface of the particles is coated with a hydrazine derivative.

さらに本発明は、低価格で入手、製造可能なヒドラジン誘導体を利用しているため、コスト性に優れる。   Furthermore, since the present invention utilizes a hydrazine derivative that can be obtained and manufactured at a low price, it is excellent in cost.

以下に、本発明をさらに詳細に説明する。   The present invention is described in further detail below.

本発明の銅微粒子分散体において、ヒドラジン誘導体とは、下記一般式(1)   In the copper fine particle dispersion of the present invention, the hydrazine derivative means the following general formula (1)

Figure 2010024526
Figure 2010024526

[一般式(1)中、R〜Rは各々独立して、水素原子、炭素数が1〜18のアルキル基、炭素数5〜10の芳香族基、炭素数が1〜4のアルキル基で芳香環上の水素原子が1〜3置換された炭素数5〜10の芳香族基、又は炭素数5〜10の芳香族基で水素原子が1〜3置換された炭素数1〜4のアルキル基を表す。ただし、R〜Rが全て水素原子となることはない。]
で示される化合物からなる群より選ばれる一種又は二種以上の化合物である。
[In General Formula (1), R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic group having 5 to 10 carbon atoms, or an alkyl having 1 to 4 carbon atoms. Group having 5 to 10 carbon atoms substituted with 1 to 3 hydrogen atoms on the aromatic ring, or 1 to 4 carbon atoms having 1 to 3 hydrogen atoms substituted with an aromatic group having 5 to 10 carbon atoms Represents an alkyl group. However, R 1 to R 4 are not all hydrogen atoms. ]
It is a 1 type, or 2 or more types of compound chosen from the group which consists of a compound shown by these.

本発明の銅微粒子分散体において、ヒドラジン誘導体としては、特に限定するものではないが、還元力、分解性及び分解生成物の除去性を考慮すると、上記一般式(1)において、置換基R、Rが各々独立して水素原子、メチル基、エチル基、炭素数3〜18の直鎖状、分岐状若しくは環式のアルキル基、炭素数5〜10の芳香族基、メチル基で芳香環上の水素が1〜3置換された炭素数5〜10の芳香族基、フェニル基で水素が1〜3置換されたメチル基、又はフェニル基で水素原子が1〜3置換されたエチル基を表し(ただし、R、Rは同時に水素原子となることはない)、置換基R、Rが水素原子である化合物からなる群より選ばれる一種又は二種以上の化合物であることが好ましく、上記一般式(1)において、置換基R、Rが各々独立して水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、neo−ペンチル基、t−ペンチル基、n−ヘキシル基、i−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、4−メチルフェニル基、ベンジル基、又は2−フェニルエチル基を表し(ただし、R、Rは同時に水素原子となることはない。)、置換基R、Rが水素原子である化合物からなる群より選ばれる一種又は二種以上の化合物であることがさらに好ましい。 In the copper fine particle dispersion of the present invention, the hydrazine derivative is not particularly limited. However, in view of reducing power, decomposability and removability of decomposition products, in the above general formula (1), the substituent R 1 , R 2 is each independently a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic group having 5 to 10 carbon atoms, and a methyl group. An aromatic group having 5 to 10 carbon atoms in which 1 to 3 hydrogen atoms on the ring are substituted, a methyl group in which 1 to 3 hydrogen atoms are substituted with a phenyl group, or an ethyl group in which 1 to 3 hydrogen atoms are substituted with a phenyl group (Wherein R 1 and R 2 are not hydrogen atoms at the same time), and the substituents R 3 and R 4 are one or more compounds selected from the group consisting of compounds that are hydrogen atoms Is preferable, and in the general formula (1), Substituent R 1, R 2 are each independently a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, i- propyl, n- butyl group, i- butyl group, sec- butyl group, t- butyl group N-pentyl group, i-pentyl group, neo-pentyl group, t-pentyl group, n-hexyl group, i-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group , N-undecyl group, n-dodecyl group, cyclohexyl group, phenyl group, 4-methylphenyl group, benzyl group, or 2-phenylethyl group (provided that R 1 and R 2 are simultaneously hydrogen atoms) It is more preferable that the substituents R 3 and R 4 be one or two or more compounds selected from the group consisting of compounds each having a hydrogen atom.

本発明の銅微粒子分散体において、上記一般式(1)で示されるヒドラジン誘導体としては、例えば、置換基R、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、メチルヒドラジン、エチルヒドラジン、n−プロピルヒドラジン、i−プロピルヒドラジン、n−ブチルヒドラジン、i−ブチルヒドラジン、sec−ブチルヒドラジン、t−ブチルヒドラジン、n−ペンチルヒドラジン、i−ペンチルヒドラジン、neo−ペンチルヒドラジン、t−ペンチルヒドラジン、n−ヘキシルヒドラジン、i−ヘキシルヒドラジン、n−ヘプチルヒドラジン、n−オクチルヒドラジン、n−ノニルヒドラジン、n−デシルヒドラジン、n−ウンデシルヒドラジン、n−ドデシルヒドラジン、シクロヘキシルヒドラジン、フェニルヒドラジン、4−メチルフェニルヒドラジン、ベンジルヒドラジン、2−フェニルエチルヒドラジン等が例示される。 In the copper fine particle dispersion of the present invention, as the hydrazine derivative represented by the general formula (1), for example, as the hydrazine derivative in which the substituents R 1 , R 3 and R 4 are hydrogen atoms, specifically, Methyl hydrazine, ethyl hydrazine, n-propyl hydrazine, i-propyl hydrazine, n-butyl hydrazine, i-butyl hydrazine, sec-butyl hydrazine, t-butyl hydrazine, n-pentyl hydrazine, i-pentyl hydrazine, neo-pentyl hydrazine T-pentylhydrazine, n-hexylhydrazine, i-hexylhydrazine, n-heptylhydrazine, n-octylhydrazine, n-nonylhydrazine, n-decylhydrazine, n-undecylhydrazine, n-dodecylhydrazine, cyclohexylhydrazine, F Sulfonyl hydrazine, 4-methylphenyl hydrazine, benzyl hydrazine, 2-phenylethyl hydrazine, and the like.

また、例えば、置換基Rがメチル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジメチルヒドラジン、1−メチル−1−エチルヒドラジン、1−メチル−1−n−プロピルヒドラジン、1−メチル−1−i−プロピルヒドラジン、1−メチル−1−n−ブチルヒドラジン、1−メチル−1−i−ブチルヒドラジン、1−メチル−1−sec−ブチルヒドラジン、1−メチル−1−t−ブチルヒドラジン、1−メチル−1−n−ペンチルヒドラジン、1−メチル−1−i−ペンチルヒドラジン、1−メチル−1−neo−ペンチルヒドラジン、1−メチル−1−t−ペンチルヒドラジン、1−メチル−1−n−ヘキシルヒドラジン、1−メチル−1−i−ヘキシルヒドラジン、1−メチル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−メチル−1−n−オクチルヒドラジン、1−メチル−1−n−ノニルヒドラジン、1−メチル−1−n−デシルヒドラジン、1−メチル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−メチル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−メチル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−メチル−1−フェニルヒドラジン、1−メチル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−メチル−1−ベンジルヒドラジン、1−メチル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is a methyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-dimethylhydrazine, 1-methyl-1-ethylhydrazine, 1- Methyl-1-n-propylhydrazine, 1-methyl-1-i-propylhydrazine, 1-methyl-1-n-butylhydrazine, 1-methyl-1-i-butylhydrazine, 1-methyl-1-sec- Butyl hydrazine, 1-methyl-1-t-butyl hydrazine, 1-methyl-1-n-pentyl hydrazine, 1-methyl-1-i-pentyl hydrazine, 1-methyl-1-neo-pentyl hydrazine, 1-methyl -1-t-pentylhydrazine, 1-methyl-1-n-hexylhydrazine, 1-methyl-1-i-hexylhydrazine, 1-methyl-1-n-he Butyl hydrazine, 1-methyl-1-n-octyl hydrazine, 1-methyl-1-n-nonyl hydrazine, 1-methyl-1-n-decyl hydrazine, 1-methyl-1-n-undecyl hydrazine, 1- Methyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-methyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-methyl-1-phenylhydrazine, 1-methyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-methyl-1-benzylhydrazine, Examples include 1-methyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine.

また、例えば、置換基Rがエチル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジエチルヒドラジン、1−エチル−1−n−プロピルヒドラジン、1−エチル−1−i−プロピルヒドラジン、1−エチル−1−n−ブチルヒドラジン、1−エチル−1−i−ブチルヒドラジン、1−エチル−1−sec−ブチルヒドラジン、1−エチル−1−t−ブチルヒドラジン、1−エチル−1−n−ペンチルヒドラジン、1−エチル−1−i−ペンチルヒドラジン、1−エチル−1−neo−ペンチルヒドラジン、1−エチル−1−t−ペンチルヒドラジン、1−エチル−1−n−ヘキシルヒドラジン、1−エチル−1−i−ヘキシルヒドラジン、1−エチル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−エチル−1−n−オクチルヒドラジン、1−エチル−1−n−ノニルヒドラジン、1−エチル−1−n−デシルヒドラジン、1−エチル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−エチル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−エチル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−エチル−1−フェニルヒドラジン、1−エチル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−エチル−1−ベンジルヒドラジン、1−エチル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Also, for example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is an ethyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-diethylhydrazine, 1-ethyl-1-n-propylhydrazine, 1-ethyl-1-i-propyl hydrazine, 1-ethyl-1-n-butyl hydrazine, 1-ethyl-1-i-butyl hydrazine, 1-ethyl-1-sec-butyl hydrazine, 1-ethyl-1- t-butylhydrazine, 1-ethyl-1-n-pentylhydrazine, 1-ethyl-1-i-pentylhydrazine, 1-ethyl-1-neo-pentylhydrazine, 1-ethyl-1-t-pentylhydrazine, 1 -Ethyl-1-n-hexylhydrazine, 1-ethyl-1-i-hexylhydrazine, 1-ethyl-1-n-heptylhydrazine, 1-ethyl-1- n-octylhydrazine, 1-ethyl-1-n-nonylhydrazine, 1-ethyl-1-n-decylhydrazine, 1-ethyl-1-n-undecylhydrazine, 1-ethyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-ethyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-ethyl-1-phenylhydrazine, 1-ethyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-ethyl-1-benzylhydrazine, 1-ethyl-1- (2- Examples include phenyl) ethylhydrazine and the like.

また、例えば、置換基Rがn−プロピル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−n−プロピルヒドラジン、1−n−プロピル−1−i−プロピルヒドラジン、1−n−プロピル−1−n−ブチルヒドラジン、1−n−プロピル−1−i−ブチルヒドラジン、1−n−プロピル−1−sec−ブチルヒドラジン、1−n−プロピル−1−t−ブチルヒドラジン、1−n−プロピル−1−n−ペンチルヒドラジン、1−n−プロピル−1−i−ペンチルヒドラジン、1−n−プロピル−1−neo−ペンチルヒドラジン、1−n−プロピル−1−t−ペンチルヒドラジン、1−n−プロピル−1−n−ヘキシルヒドラジン、1−n−プロピル−1−i−ヘキシルヒドラジン、1−n−プロピル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−n−プロピル−1−n−オクチルヒドラジン、1−n−プロピル−1−n−ノニルヒドラジン、1−n−プロピル−1−n−デシルヒドラジン、1−n−プロピル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−n−プロピル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−n−プロピル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−n−プロピル−1−フェニルヒドラジン、1−n−プロピル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−n−プロピル−1−ベンジルヒドラジン、1−n−プロピル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is an n-propyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-n-propyl hydrazine and 1-n-propyl. -1-i-propyl hydrazine, 1-n-propyl-1-n-butyl hydrazine, 1-n-propyl-1-i-butyl hydrazine, 1-n-propyl-1-sec-butyl hydrazine, 1-n -Propyl-1-t-butylhydrazine, 1-n-propyl-1-n-pentylhydrazine, 1-n-propyl-1-i-pentylhydrazine, 1-n-propyl-1-neo-pentylhydrazine, 1 -N-propyl-1-t-pentylhydrazine, 1-n-propyl-1-n-hexylhydrazine, 1-n-propyl-1-i-hexylhydrazine, 1-n-propyl -1-n-heptylhydrazine, 1-n-propyl-1-n-octylhydrazine, 1-n-propyl-1-n-nonylhydrazine, 1-n-propyl-1-n-decylhydrazine, 1-n -Propyl-1-n-undecylhydrazine, 1-n-propyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-n-propyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-n-propyl-1-phenylhydrazine, 1-n- Examples include propyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-n-propyl-1-benzylhydrazine, 1-n-propyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like.

また、例えば、置換基Rがi−プロピル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−i−プロピルヒドラジン、1−i−プロピル−1−n−ブチルヒドラジン、1−i−プロピル−1−i−ブチルヒドラジン、1−i−プロピル−1−sec−ブチルヒドラジン、1−i−プロピル−1−t−ブチルヒドラジン、1−i−プロピル−1−n−ペンチルヒドラジン、1−i−プロピル−1−i−ペンチルヒドラジン、1−i−プロピル−1−neo−ペンチルヒドラジン、1−i−プロピル−1−t−ペンチルヒドラジン、1−i−プロピル−1−n−ヘキシルヒドラジン、1−i−プロピル−1−i−ヘキシルヒドラジン、1−i−プロピル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−i−プロピル−1−n−オクチルヒドラジン、1−i−プロピル−1−n−ノニルヒドラジン、1−i−プロピル−1−n−デシルヒドラジン、1−i−プロピル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−i−プロピル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−i−プロピル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−i−プロピル−1−フェニルヒドラジン、1−i−プロピル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−i−プロピル−1−ベンジルヒドラジン、1−i−プロピル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of hydrazine derivatives in which the substituent R 1 is an i-propyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-i-propylhydrazine and 1-i-propyl. -1-n-butylhydrazine, 1-i-propyl-1-i-butylhydrazine, 1-i-propyl-1-sec-butylhydrazine, 1-i-propyl-1-t-butylhydrazine, 1-i -Propyl-1-n-pentylhydrazine, 1-i-propyl-1-i-pentylhydrazine, 1-i-propyl-1-neo-pentylhydrazine, 1-i-propyl-1-t-pentylhydrazine, 1 -I-propyl-1-n-hexylhydrazine, 1-i-propyl-1-i-hexylhydrazine, 1-i-propyl-1-n-heptylhydrazine, 1-i-propyl -1-n-octylhydrazine, 1-i-propyl-1-n-nonylhydrazine, 1-i-propyl-1-n-decylhydrazine, 1-i-propyl-1-n-undecylhydrazine, 1- i-propyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-i-propyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-i-propyl-1-phenylhydrazine, 1-i-propyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1 Examples include -i-propyl-1-benzylhydrazine, 1-i-propyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like.

また、例えば、置換基Rがn−ブチル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−n−ブチルヒドラジン、1−n−ブチル−1−i−ブチルヒドラジン、1−n−ブチル−1−sec−ブチルヒドラジン、1−n−ブチル−1−t−ブチルヒドラジン、1−n−ブチル−1−n−ペンチルヒドラジン、1−n−ブチル−1−i−ペンチルヒドラジン、1−n−ブチル−1−neo−ペンチルヒドラジン、1−n−ブチル−1−t−ペンチルヒドラジン、1−n−ブチル−1−n−ヘキシルヒドラジン、1−n−ブチル−1−i−ヘキシルヒドラジン、1−n−ブチル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−n−ブチル−1−n−オクチルヒドラジン、1−n−ブチル−1−n−ノニルヒドラジン、1−n−ブチル−1−n−デシルヒドラジン、1−n−ブチル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−n−ブチル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−n−ブチル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−n−ブチル−1−フェニルヒドラジン、1−n−ブチル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−n−ブチル−1−ベンジルヒドラジン、1−n−ブチル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is an n-butyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-n-butylhydrazine and 1-n-butyl. -1-i-butylhydrazine, 1-n-butyl-1-sec-butylhydrazine, 1-n-butyl-1-t-butylhydrazine, 1-n-butyl-1-n-pentylhydrazine, 1-n -Butyl-1-i-pentylhydrazine, 1-n-butyl-1-neo-pentylhydrazine, 1-n-butyl-1-t-pentylhydrazine, 1-n-butyl-1-n-hexylhydrazine, 1 -N-butyl-1-i-hexylhydrazine, 1-n-butyl-1-n-heptylhydrazine, 1-n-butyl-1-n-octylhydrazine, 1-n-butyl-1-n-nonylhydrazine 1-n-butyl-1-n-decylhydrazine, 1-n-butyl-1-n-undecylhydrazine, 1-n-butyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-n-butyl-1-cyclohexyl Hydrazine, 1-n-butyl-1-phenylhydrazine, 1-n-butyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-n-butyl-1-benzylhydrazine, 1-n-butyl-1- (2 -Phenyl) ethylhydrazine and the like are exemplified.

また、例えば、置換基Rがi−ブチル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−i−ブチルヒドラジン、1−i−ブチル−1−sec−ブチルヒドラジン、1−i−ブチル−1−t−ブチルヒドラジン、1−i−ブチル−1−n−ペンチルヒドラジン、1−i−ブチル−1−i−ペンチルヒドラジン、1−i−ブチル−1−neo−ペンチルヒドラジン、1−i−ブチル−1−t−ペンチルヒドラジン、1−i−ブチル−1−n−ヘキシルヒドラジン、1−i−ブチル−1−i−ヘキシルヒドラジン、1−i−ブチル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−i−ブチル−1−n−オクチルヒドラジン、1−i−ブチル−1−n−ノニルヒドラジン、1−i−ブチル−1−n−デシルヒドラジン、1−i−ブチル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−i−ブチル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−i−ブチル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−i−ブチル−1−フェニルヒドラジン、1−i−ブチル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−i−ブチル−1−ベンジルヒドラジン、1−i−ブチル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 In addition, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is an i-butyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-i-butylhydrazine and 1-i-butyl. -1-sec-butylhydrazine, 1-i-butyl-1-t-butylhydrazine, 1-i-butyl-1-n-pentylhydrazine, 1-i-butyl-1-i-pentylhydrazine, 1-i -Butyl-1-neo-pentylhydrazine, 1-i-butyl-1-t-pentylhydrazine, 1-i-butyl-1-n-hexylhydrazine, 1-i-butyl-1-i-hexylhydrazine, 1 -I-butyl-1-n-heptylhydrazine, 1-i-butyl-1-n-octylhydrazine, 1-i-butyl-1-n-nonylhydrazine, 1-i-butyl-1-n-decylhydrazine 1-i-butyl-1-n-undecylhydrazine, 1-i-butyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-i-butyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-i-butyl-1-phenylhydrazine, Examples include 1-i-butyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-i-butyl-1-benzylhydrazine, 1-i-butyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like.

また、例えば、置換基Rがsec−ブチル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−sec−ブチルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−t−ブチルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−n−ペンチルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−i−ペンチルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−neo−ペンチルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−t−ペンチルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−n−ヘキシルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−i−ヘキシルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−n−オクチルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−n−ノニルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−n−デシルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−フェニルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−ベンジルヒドラジン、1−sec−ブチル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is a sec-butyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-sec-butylhydrazine and 1-sec-butyl. -1-t-butylhydrazine, 1-sec-butyl-1-n-pentylhydrazine, 1-sec-butyl-1-i-pentylhydrazine, 1-sec-butyl-1-neo-pentylhydrazine, 1-sec -Butyl-1-t-pentylhydrazine, 1-sec-butyl-1-n-hexylhydrazine, 1-sec-butyl-1-i-hexylhydrazine, 1-sec-butyl-1-n-heptylhydrazine, 1 -Sec-butyl-1-n-octylhydrazine, 1-sec-butyl-1-n-nonylhydrazine, 1-sec-butyl-1-n-decylhydride Razine, 1-sec-butyl-1-n-undecylhydrazine, 1-sec-butyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-sec-butyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-sec-butyl-1-phenylhydrazine 1-sec-butyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-sec-butyl-1-benzylhydrazine, 1-sec-butyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like.

また、例えば、置換基Rがt−ブチル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−t−ブチルヒドラジン、1−t−ブチル−1−n−ペンチルヒドラジン、1−t−ブチル−1−i−ペンチルヒドラジン、1−t−ブチル−1−neo−ペンチルヒドラジン、1−t−ブチル−1−t−ペンチルヒドラジン、1−t−ブチル−1−n−ヘキシルヒドラジン、1−t−ブチル−1−i−ヘキシルヒドラジン、1−t−ブチル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−t−ブチル−1−n−オクチルヒドラジン、1−t−ブチル−1−n−ノニルヒドラジン、1−t−ブチル−1−n−デシルヒドラジン、1−t−ブチル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−t−ブチル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−t−ブチル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−t−ブチル−1−フェニルヒドラジン、1−t−ブチル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−t−ブチル−1−ベンジルヒドラジン、1−t−ブチル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of hydrazine derivatives in which the substituent R 1 is a t-butyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-t-butylhydrazine and 1-t-butyl. -1-n-pentylhydrazine, 1-t-butyl-1-i-pentylhydrazine, 1-t-butyl-1-neo-pentylhydrazine, 1-t-butyl-1-t-pentylhydrazine, 1-t -Butyl-1-n-hexylhydrazine, 1-t-butyl-1-i-hexylhydrazine, 1-t-butyl-1-n-heptylhydrazine, 1-t-butyl-1-n-octylhydrazine, 1 -T-butyl-1-n-nonylhydrazine, 1-t-butyl-1-n-decylhydrazine, 1-t-butyl-1-n-undecylhydrazine, 1-t-butyl-1-n-dodecyl Hydraj 1-t-butyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-t-butyl-1-phenylhydrazine, 1-t-butyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-t-butyl-1-benzylhydrazine 1-t-butyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like.

また、例えば、置換基Rがn−ペンチル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−n−ペンチルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−i−ペンチルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−neo−ペンチルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−t−ペンチルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−n−ヘキシルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−i−ヘキシルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−n−オクチルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−n−ノニルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−n−デシルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−フェニルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−ベンジルヒドラジン、1−n−ペンチル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of hydrazine derivatives in which the substituent R 1 is an n-pentyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-n-pentylhydrazine and 1-n-pentyl. -1-i-pentylhydrazine, 1-n-pentyl-1-neo-pentylhydrazine, 1-n-pentyl-1-t-pentylhydrazine, 1-n-pentyl-1-n-hexylhydrazine, 1-n -Pentyl-1-i-hexylhydrazine, 1-n-pentyl-1-n-heptylhydrazine, 1-n-pentyl-1-n-octylhydrazine, 1-n-pentyl-1-n-nonylhydrazine, 1 -N-pentyl-1-n-decylhydrazine, 1-n-pentyl-1-n-undecylhydrazine, 1-n-pentyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-n-penty 1-cyclohexyl hydrazine, 1-n-pentyl-1-phenylhydrazine, 1-n-pentyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-n-pentyl-1-benzylhydrazine, 1-n-pentyl Examples include -1- (2-phenyl) ethylhydrazine.

また、例えば、置換基Rがi−ペンチル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−i−ペンチルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−neo−ペンチルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−t−ペンチルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−n−ヘキシルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−i−ヘキシルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−n−オクチルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−n−ノニルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−n−デシルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−フェニルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−ベンジルヒドラジン、1−i−ペンチル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is an i-pentyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-i-pentylhydrazine and 1-i-pentyl. -1-neo-pentylhydrazine, 1-i-pentyl-1-t-pentylhydrazine, 1-i-pentyl-1-n-hexylhydrazine, 1-i-pentyl-1-i-hexylhydrazine, 1-i -Pentyl-1-n-heptylhydrazine, 1-i-pentyl-1-n-octylhydrazine, 1-i-pentyl-1-n-nonylhydrazine, 1-i-pentyl-1-n-decylhydrazine, 1 -I-pentyl-1-n-undecylhydrazine, 1-i-pentyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-i-pentyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-i-pen Til-1-phenylhydrazine, 1-i-pentyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-i-pentyl-1-benzylhydrazine, 1-i-pentyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine, etc. Is exemplified.

また、例えば、置換基Rがneo−ペンチル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−neo−ペンチルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−t−ペンチルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−n−ヘキシルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−i−ヘキシルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−n−オクチルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−n−ノニルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−n−デシルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−フェニルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−ベンジルヒドラジン、1−neo−ペンチル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, as a hydrazine derivative in which the substituent R 1 is a neo-pentyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms, specifically, 1,1-di-neo-pentylhydrazine, 1-neo-pentyl -1-t-pentylhydrazine, 1-neo-pentyl-1-n-hexylhydrazine, 1-neo-pentyl-1-i-hexylhydrazine, 1-neo-pentyl-1-n-heptylhydrazine, 1-neo -Pentyl-1-n-octylhydrazine, 1-neo-pentyl-1-n-nonylhydrazine, 1-neo-pentyl-1-n-decylhydrazine, 1-neo-pentyl-1-n-undecylhydrazine, 1-neo-pentyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-neo-pentyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-neo-pe Nthyl-1-phenylhydrazine, 1-neo-pentyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-neo-pentyl-1-benzylhydrazine, 1-neo-pentyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine, etc. Is exemplified.

また、例えば、置換基Rがt−ペンチル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−t−ペンチルヒドラジン、1−t−ペンチル−1−n−ヘキシルヒドラジン、1−t−ペンチル−1−i−ヘキシルヒドラジン、1−t−ペンチル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−t−ペンチル−1−n−オクチルヒドラジン、1−t−ペンチル−1−n−ノニルヒドラジン、1−t−ペンチル−1−n−デシルヒドラジン、1−t−ペンチル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−t−ペンチル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−t−ペンチル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−t−ペンチル−1−フェニルヒドラジン、1−t−ペンチル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−t−ペンチル−1−ベンジルヒドラジン、1−t−ペンチル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of hydrazine derivatives in which the substituent R 1 is a t-pentyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-t-pentylhydrazine and 1-t-pentyl. -1-n-hexylhydrazine, 1-t-pentyl-1-i-hexylhydrazine, 1-t-pentyl-1-n-heptylhydrazine, 1-t-pentyl-1-n-octylhydrazine, 1-t -Pentyl-1-n-nonylhydrazine, 1-t-pentyl-1-n-decylhydrazine, 1-t-pentyl-1-n-undecylhydrazine, 1-t-pentyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-t-pentyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-t-pentyl-1-phenylhydrazine, 1-t-pentyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-t-pe Examples thereof include nyl-1-benzylhydrazine and 1-t-pentyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine.

また、例えば、置換基Rがn−ヘキシル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−n−ヘキシルヒドラジン、1−n−ヘキシル−1−i−ヘキシルヒドラジン、1−n−ヘキシル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−n−ヘキシル−1−n−オクチルヒドラジン、1−n−ヘキシル−1−n−ノニルヒドラジン、1−n−ヘキシル−1−n−デシルヒドラジン、1−n−ヘキシル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−n−ヘキシル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−n−ヘキシル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−n−ヘキシル−1−フェニルヒドラジン、1−n−ヘキシル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−n−ヘキシル−1−ベンジルヒドラジン、1−n−ヘキシル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, as a hydrazine derivative in which the substituent R 1 is an n-hexyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms, specifically, 1,1-di-n-hexylhydrazine, 1-n-hexyl -1-i-hexylhydrazine, 1-n-hexyl-1-n-heptylhydrazine, 1-n-hexyl-1-n-octylhydrazine, 1-n-hexyl-1-n-nonylhydrazine, 1-n -Hexyl-1-n-decylhydrazine, 1-n-hexyl-1-n-undecylhydrazine, 1-n-hexyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-n-hexyl-1-cyclohexylhydrazine, 1- n-hexyl-1-phenylhydrazine, 1-n-hexyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-n-hexyl-1-benzylhydrazine, 1-n-hexyl R-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like are exemplified.

また、例えば、置換基Rがi−ヘキシル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−i−ヘキシルヒドラジン、1−i−ヘキシル−1−n−ヘプチルヒドラジン、1−i−ヘキシル−1−n−オクチルヒドラジン、1−i−ヘキシル−1−n−ノニルヒドラジン、1−i−ヘキシル−1−n−デシルヒドラジン、1−i−ヘキシル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−i−ヘキシル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−i−ヘキシル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−i−ヘキシル−1−フェニルヒドラジン、1−i−ヘキシル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−i−ヘキシル−1−ベンジルヒドラジン、1−i−ヘキシル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, as hydrazine derivatives in which the substituent R 1 is an i-hexyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms, specifically, 1,1-di-i-hexylhydrazine, 1-i-hexyl -1-n-heptylhydrazine, 1-i-hexyl-1-n-octylhydrazine, 1-i-hexyl-1-n-nonylhydrazine, 1-i-hexyl-1-n-decylhydrazine, 1-i -Hexyl-1-n-undecylhydrazine, 1-i-hexyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-i-hexyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-i-hexyl-1-phenylhydrazine, 1-i- Examples include hexyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-i-hexyl-1-benzylhydrazine, 1-i-hexyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like. Indicated.

また、例えば、置換基Rがn−ヘプチル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−n−ヘプチルヒドラジン、1−n−ヘプチル−1−n−オクチルヒドラジン、1−n−ヘプチル−1−n−ノニルヒドラジン、1−n−ヘプチル−1−n−デシルヒドラジン、1−n−ヘプチル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−n−ヘプチル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−n−ヘプチル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−n−ヘプチル−1−フェニルヒドラジン、1−n−ヘプチル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−n−ヘプチル−1−ベンジルヒドラジン、1−n−ヘプチル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is an n-heptyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-n-heptylhydrazine and 1-n-heptyl. -1-n-octylhydrazine, 1-n-heptyl-1-n-nonylhydrazine, 1-n-heptyl-1-n-decylhydrazine, 1-n-heptyl-1-n-undecylhydrazine, 1- n-heptyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-n-heptyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-n-heptyl-1-phenylhydrazine, 1-n-heptyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1 Examples include -n-heptyl-1-benzylhydrazine, 1-n-heptyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like.

また、例えば、置換基Rがn−オクチル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−n−オクチルヒドラジン、1−n−オクチル−1−n−ノニルヒドラジン、1−n−オクチル−1−n−デシルヒドラジン、1−n−オクチル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−n−オクチル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−n−オクチル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−n−オクチル−1−フェニルヒドラジン、1−n−オクチル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−n−オクチル−1−ベンジルヒドラジン、1−n−オクチル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is an n-octyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-n-octylhydrazine and 1-n-octyl. -1-n-nonylhydrazine, 1-n-octyl-1-n-decylhydrazine, 1-n-octyl-1-n-undecylhydrazine, 1-n-octyl-1-n-dodecylhydrazine, 1- n-octyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-n-octyl-1-phenylhydrazine, 1-n-octyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-n-octyl-1-benzylhydrazine, 1-n -Octyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like are exemplified.

また、例えば、置換基Rがn−ノニル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−n−ノニルヒドラジン、1−n−ノニル−1−n−デシルヒドラジン、1−n−ノニル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−n−ノニル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−n−ノニル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−n−ノニル−1−フェニルヒドラジン、1−n−ノニル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−n−ノニル−1−ベンジルヒドラジン、1−n−ノニル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is an n-nonyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-n-nonylhydrazine and 1-n-nonyl. -1-n-decylhydrazine, 1-n-nonyl-1-n-undecylhydrazine, 1-n-nonyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-n-nonyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-n- Nonyl-1-phenylhydrazine, 1-n-nonyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-n-nonyl-1-benzylhydrazine, 1-n-nonyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine, etc. Is exemplified.

また、例えば、置換基Rがn−デシル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−n−デシルヒドラジン、1−n−デシル−1−n−ウンデシルヒドラジン、1−n−デシル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−n−デシル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−n−デシル−1−フェニルヒドラジン、1−n−デシル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−n−デシル−1−ベンジルヒドラジン、1−n−デシル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is an n-decyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-n-decylhydrazine and 1-n-decyl. -1-n-undecylhydrazine, 1-n-decyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-n-decyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-n-decyl-1-phenylhydrazine, 1-n-decyl- Examples include 1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-n-decyl-1-benzylhydrazine, 1-n-decyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like.

また、例えば、置換基Rがn−ウンデシル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−n−ウンデシルヒドラジン、1−n−ウンデシル−1−n−ドデシルヒドラジン、1−n−ウンデシル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−n−ウンデシル−1−フェニルヒドラジン、1−n−ウンデシル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−n−ウンデシル−1−ベンジルヒドラジン、1−n−ウンデシル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 For example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is an n-undecyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-di-n-undecylhydrazine, 1-n- Undecyl-1-n-dodecylhydrazine, 1-n-undecyl-1-cyclohexylhydrazine, 1-n-undecyl-1-phenylhydrazine, 1-n-undecyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-n -Undecyl-1-benzylhydrazine, 1-n-undecyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like are exemplified.

また、例えば、置換基Rがn−ドデシル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジ−n−ドデシルヒドラジン、1−n−ドデシル−1−シクロヘキシルヒドラジン、1−n−ドデシル−1−フェニルヒドラジン、1−n−ドデシル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−n−ドデシル−1−ベンジルヒドラジン、1−n−ドデシル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, as a hydrazine derivative in which the substituent R 1 is an n-dodecyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms, specifically, 1,1-di-n-dodecylhydrazine, 1-n-dodecyl -1-cyclohexylhydrazine, 1-n-dodecyl-1-phenylhydrazine, 1-n-dodecyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-n-dodecyl-1-benzylhydrazine, 1-n-dodecyl- Examples include 1- (2-phenyl) ethylhydrazine.

また、例えば、置換基Rがシクロヘキシル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジシクロヘキシルヒドラジン、1−シクロヘキシル−1−フェニルヒドラジン、1−シクロヘキシル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−シクロヘキシル−1−ベンジルヒドラジン、1−シクロヘキシル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is a cyclohexyl group, and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-dicyclohexylhydrazine, 1-cyclohexyl-1-phenylhydrazine, 1- Examples include cyclohexyl-1- (4-methyl) phenylhydrazine, 1-cyclohexyl-1-benzylhydrazine, 1-cyclohexyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like.

また、例えば、置換基Rがフェニル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジフェニルヒドラジン、1−フェニル−1−(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−フェニル−1−ベンジルヒドラジン、1−フェニル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 For example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is a phenyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-diphenylhydrazine and 1-phenyl-1- (4-methyl). Examples include phenylhydrazine, 1-phenyl-1-benzylhydrazine, 1-phenyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like.

また、例えば、置換基Rが4−メチルフェニル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ビス(4−メチル)フェニルヒドラジン、1−(4−メチル)フェニル−1−ベンジルヒドラジン、1−(4−メチル)フェニル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, as a hydrazine derivative in which the substituent R 1 is a 4-methylphenyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms, specifically, 1,1-bis (4-methyl) phenylhydrazine, 1- Examples include (4-methyl) phenyl-1-benzylhydrazine, 1- (4-methyl) phenyl-1- (2-phenyl) ethylhydrazine and the like.

また、例えば、置換基Rがベンジル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ジベンジルヒドラジン、1−ベンジル−1−(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 Further, for example, specific examples of hydrazine derivatives in which the substituent R 1 is a benzyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-dibenzylhydrazine and 1-benzyl-1- (2-phenyl). ) Ethyl hydrazine and the like are exemplified.

そして、例えば、置換基Rが2−フェニルエチル基、R、Rが水素原子であるヒドラジン誘導体としては、具体的には、1,1−ビス(2−フェニル)エチルヒドラジン等が例示される。 For example, specific examples of the hydrazine derivative in which the substituent R 1 is a 2-phenylethyl group and R 3 and R 4 are hydrogen atoms include 1,1-bis (2-phenyl) ethylhydrazine and the like. Is done.

これらのヒドラジン誘導体のうち、上記一般式(1)において、置換基R〜Rの炭素数が各々12を超えないものが好ましい。R〜Rの炭素数が各々12を超えると、還元力が低下したり、銅微粒子分散体の調製時における分解生成物である炭化水素類の沸点が高くなり、蒸発、気散することができずに銅微粒子分散体中に残存するおそれがあり、導電性パターン形成用組成物として使用した場合に、金属銅としての純度や、形成した銅薄膜の導電性に悪影響を与える場合がある。還元力、コスト及び安全性を考慮すると、ヒドラジン誘導体としては、n−プロピルヒドラジン、i−プロピルヒドラジン、n−ブチルヒドラジン、t−ブチルヒドラジン、n−ペンチルヒドラジン、n−ヘキシルヒドラジン、n−ヘプチルヒドラジン、n−オクチルヒドラジン、n−ノニルヒドラジン、n−デシルヒドラジン、n−ウンデシルヒドラジン、n−ドデシルヒドラジン、シクロヘキシルヒドラジン、フェニルヒドラジン、ベンジルヒドラジン、1,1−ジメチルヒドラジン及び1,1−ジエチルヒドラジンからなる群の中より選ばれる一種、又は二種以上を組み合わせて用いることがさらに好ましい。 Among these hydrazine derivatives, those in which the carbon number of each of the substituents R 1 to R 4 does not exceed 12 in the general formula (1) are preferable. When the carbon number of each of R 1 to R 4 exceeds 12, the reducing power is reduced, or the boiling point of the hydrocarbons that are decomposition products at the time of preparing the copper fine particle dispersion is increased, and it is evaporated and diffused. In the case of using as a conductive pattern forming composition, the purity as metallic copper and the conductivity of the formed copper thin film may be adversely affected. . In view of reducing power, cost and safety, hydrazine derivatives include n-propyl hydrazine, i-propyl hydrazine, n-butyl hydrazine, t-butyl hydrazine, n-pentyl hydrazine, n-hexyl hydrazine, n-heptyl hydrazine. N-octylhydrazine, n-nonylhydrazine, n-decylhydrazine, n-undecylhydrazine, n-dodecylhydrazine, cyclohexylhydrazine, phenylhydrazine, benzylhydrazine, 1,1-dimethylhydrazine and 1,1-diethylhydrazine It is more preferable to use one kind selected from the group consisting of two or more kinds in combination.

本発明の銅微粒子分散体には、本発明の趣旨に反しない程度であれば、上記した以外のヒドラジン誘導体を含んでいても差し支えない。   The copper fine particle dispersion of the present invention may contain a hydrazine derivative other than those described above as long as it does not contradict the spirit of the present invention.

上記した一般式(1)で示されるヒドラジン誘導体は市販のものでもよいし、公知の方法により合成したものでも良く、特に限定されない。公知の調製法としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩を亜硫酸塩や塩化スズ(II)等の還元剤で還元する方法、白金触媒を用いてヒドラゾンやアジンを接触還元する方法、アシルヒドラジンの還元、N−ニトロソアミンの還元、高後続ニトロ化合物の還元的カップリング、ヒドラジンやアジンのアルキル化及びアリール化、アミンとクロラミンの反応(Reasching反応)等の方法が挙げられる。また、一般式(1)で示されるヒドラジン誘導体の純度について、特に限定するものではないが、電子材料分野での使用を考慮すると、95%以上が好ましく、99%以上がさらに好ましい。   The hydrazine derivative represented by the above general formula (1) may be a commercially available product or may be synthesized by a known method, and is not particularly limited. Known preparation methods include, for example, a method of reducing an aromatic diazonium salt with a reducing agent such as sulfite or tin (II) chloride, a method of catalytic reduction of hydrazone or azine using a platinum catalyst, reduction of acylhydrazine, Examples include reduction of N-nitrosamines, reductive coupling of highly succeeding nitro compounds, alkylation and arylation of hydrazine and azine, reaction of amine and chloramine (Reaching reaction), and the like. Further, the purity of the hydrazine derivative represented by the general formula (1) is not particularly limited, but is preferably 95% or more, and more preferably 99% or more in consideration of use in the field of electronic materials.

本発明の銅微粒子分散体において、含有される銅微粒子は、平均粒子径が1〜1000nmの範囲のものである。銅微粒子の粒子径が1nm未満になると、銅表面の活性が高くなり、酸化を抑制できなくなる場合がある。また、導電性パターン形成用組成物としての用途を考慮すると、銅微粒子の平均粒子径は1〜400nmの範囲が好ましい。銅微粒子の粒子径を400nm以下とすることにより、長期保存した場合に銅微粒子が沈降したり、沈殿が発生したりする等の分散性の低下を抑制することができる。   In the copper fine particle dispersion of the present invention, the contained copper fine particles have an average particle diameter in the range of 1 to 1000 nm. When the particle diameter of the copper fine particles is less than 1 nm, the activity on the copper surface is increased and the oxidation may not be suppressed. Moreover, when the use as a composition for electroconductive pattern formation is considered, the average particle diameter of a copper fine particle has the preferable range of 1-400 nm. By setting the particle diameter of the copper fine particles to 400 nm or less, it is possible to suppress a decrease in dispersibility, such as precipitation of copper fine particles or precipitation when stored for a long period of time.

本発明において、銅微粒子の粒子径の測定方法としては、一般的な粒子の測定方法を用いることができる。例えば、透過型電子顕微鏡(TEM),電界放射型透過電子顕微鏡(FE−TEM),電界放射型走査電子顕微鏡(FE−SEM)等を適宜使用することができる。平均粒子径の値は、例えば、
(1)上記装置を用いて測定し、観測された視野の中から、粒子径が比較的そろっている箇所を3箇所選択する、
(2)粒径測定に最も適した倍率で撮影し、各々の写真から、一番多数存在すると思われる銅微粒子を100個選択し、それらの直径をものさしで測り、測定倍率を除して、個々の銅微粒子の粒子径を算出する、
(3)これらの値を算術平均する、
ことにより求めることができる。また、標準偏差については、上記観察時に個々の銅微粒子の粒子径と数により求めることができる。そして、変動係数は、上記した平均粒子径及びその標準偏差に基づいて、下式により算出することができる。
In the present invention, a general particle measuring method can be used as a method for measuring the particle diameter of the copper fine particles. For example, a transmission electron microscope (TEM), a field emission transmission electron microscope (FE-TEM), a field emission scanning electron microscope (FE-SEM), or the like can be used as appropriate. The average particle size value is, for example,
(1) Measure using the above apparatus, and select three locations where the particle diameters are relatively uniform from the observed field of view.
(2) Take a photograph at the most suitable magnification for particle size measurement, select 100 copper fine particles that are most likely to exist from each photograph, measure their diameter with a ruler, and divide the measurement magnification, Calculate the particle size of each copper fine particle,
(3) arithmetically average these values,
Can be obtained. The standard deviation can be obtained from the particle size and number of individual copper fine particles during the observation. The coefficient of variation can be calculated by the following equation based on the above average particle diameter and its standard deviation.

変動係数=標準偏差/体積平均粒子径×100(%)。   Coefficient of variation = standard deviation / volume average particle diameter × 100 (%).

本発明の銅微粒子分散体において、ヒドラジン誘導体と銅微粒子の組成比は特に限定するものではないが、銅微粒子量に対し、ヒドラジン誘導体が5〜10000重量%であることが好ましく、50〜1000重量%であることがさらに好ましい。ヒドラジン誘導体の量が銅微粒子量に対し、5重量%未満では酸化を抑制できないおそれがあり、10000重量%を超えて使用しても、使用しただけの向上効果は得られないだけでなく、銅微粒子分散体中の単位重量当たりの金属銅の含有量が低下するため好ましくない。   In the copper fine particle dispersion of the present invention, the composition ratio of the hydrazine derivative and the copper fine particle is not particularly limited, but the hydrazine derivative is preferably 5 to 10,000% by weight with respect to the amount of copper fine particles, and 50 to 1000% by weight. % Is more preferable. If the amount of the hydrazine derivative is less than 5% by weight relative to the amount of copper fine particles, the oxidation may not be suppressed. Even if the amount exceeds 10000% by weight, not only the improvement effect is obtained, but also copper is not obtained. This is not preferable because the content of metallic copper per unit weight in the fine particle dispersion is lowered.

本発明の銅微粒子分散体において、その組成は、上記一般式(1)で示されるヒドラジン誘導体と平均粒子径が1〜1000nmの範囲の銅微粒子のみでも特に問題はないが、その他に、ヒドラジン誘導体が溶解し、ヒドラジン誘導体と反応しないものであれば、どの様な有機溶媒を含んでいても一向に差し支えない。このような有機溶媒としては、例えば、アルコール類、グリコール類、エーテル類、エステル類、炭化水素類、及び芳香族炭化水素類からなる群より選ばれる一種、又は相溶性のある二種以上の混合物が挙げられる。   In the copper fine particle dispersion of the present invention, the hydrazine derivative represented by the general formula (1) and the copper fine particles having an average particle size in the range of 1 to 1000 nm are not particularly problematic, but in addition, the hydrazine derivative Any organic solvent can be used as long as it dissolves and does not react with the hydrazine derivative. Examples of such an organic solvent include one kind selected from the group consisting of alcohols, glycols, ethers, esters, hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons, or a mixture of two or more kinds having compatibility. Is mentioned.

具体的には、アルコール類としては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、i−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ターピネオール等が挙げられ、グリコール類としては、具体的には、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール等が挙げられ、エーテル類としては、具体的には、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,4−ジオキサン等が挙げられ、エステル類としては、具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトン等が挙げられ、炭化水素類としては、具体的には、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン、n−ウンデカン、n−ドデカン、シクロヘキサン、デカリン等が挙げられ、芳香族炭化水素類としては、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、n−プロピルベンゼン、i−プロピルベンゼン、n−ブチルベンゼン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が挙げられる。   Specifically, as alcohols, methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, i-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, pentanol, hexanol, heptanol, octanol, cyclohexanol , Benzyl alcohol, terpineol, and the like. Specific examples of glycols include ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, pentanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, tripropylene glycol, and the like. Specific examples of ethers include diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and triethylene glycol dimethyl ether. , Triethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,4-dioxane, and the like. Specific examples of the esters include methyl formate, ethyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, Examples thereof include methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, and γ-butyrolactone. Specific examples of hydrocarbons include n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, and n-nonane. , N-decane, n-undecane, n-dodecane, cyclohexane, decalin and the like. Specific examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, n-propylbenzene, i-propyl. Benzene, n-butylbenzene, mesitylene, chlorobenzene, Examples include dichlorobenzene.

中でもコスト及び安全性の面から、エタノール、i−プロピルアルコール、ターピネオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、γ−ブチロラクトン、n−デカン、トルエン及びn−ブチルベンゼンからなる群より選ばれる一種、又は相溶性のある二種以上を組み合わせて用いることがさらに好ましい。   Among them, from the viewpoint of cost and safety, one selected from the group consisting of ethanol, i-propyl alcohol, terpineol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol dimethyl ether, γ-butyrolactone, n-decane, toluene and n-butylbenzene, or It is more preferable to use a combination of two or more compatible types.

本発明の銅微粒子分散体において、その組成に有機溶媒を含む場合、ヒドラジン誘導体と銅微粒子の合計量は、銅微粒子分散体全体の重量に対して0.1重量%以上、100重量%未満で、残部が有機溶媒であることが好ましく、10重量%以上、80重量%以下で残部が有機溶媒であることがさらに好ましい。銅微粒子分散体全体の重量に対し、ヒドラジン誘導体と銅微粒子の合計量が10重量%未満では、導電性パターン形成用組成物として利用する際に、濃縮等の操作が必要となり作業工数の増加を招くおそれがあり、80重量%を超えると、流動性が低下して作業性が著しく低下するおそれがある。   In the copper fine particle dispersion of the present invention, when the composition includes an organic solvent, the total amount of the hydrazine derivative and the copper fine particle is 0.1 wt% or more and less than 100 wt% with respect to the total weight of the copper fine particle dispersion. The balance is preferably an organic solvent, more preferably 10 wt% or more and 80 wt% or less, and the balance is more preferably an organic solvent. When the total amount of the hydrazine derivative and the copper fine particles is less than 10% by weight with respect to the total weight of the copper fine particle dispersion, an operation such as concentration is required when using the composition as a conductive pattern forming composition. If it exceeds 80% by weight, the fluidity is lowered and the workability may be significantly lowered.

本発明の銅微粒子分散体は必要に応じ、その形態を自由に選択することができる。例えば、銅微粒子分散体中のヒドラジン誘導体及び/又は有機溶媒の一部を除去することにより所望の濃度の濃縮液として用いたり、ペースト状に加工して用いることもできる。さらには、濃縮物、又はペースト状加工物は、上記したような有機溶媒の共存下で再分散できることから、有機溶媒の置換を自由に行うことができる。   The form of the copper fine particle dispersion of the present invention can be freely selected as necessary. For example, it can be used as a concentrated liquid having a desired concentration by removing a part of the hydrazine derivative and / or organic solvent in the copper fine particle dispersion, or can be processed into a paste. Furthermore, since the concentrate or paste-like processed product can be redispersed in the presence of the organic solvent as described above, the organic solvent can be freely replaced.

本発明の銅微粒子分散体は、ヒドラジン誘導体と銅微粒子とを接触させることで製造することができる。公知の調製法としては、例えば、液層に分散した銅微粒子に対して、ヒドラジン誘導体を加え混合したり、気化させたヒドラジン誘導体を銅微粒子粉体と接触させる方法が挙げられる。しかしながら、銅微粒子は大気雰囲気下ですぐに酸化を受けるため、上記方法では複雑で高価な製造装置が必要となり、莫大なコストがかかるため、工業的に有利ではない。よって、銅微粒子を合成する際に同時にヒドラジン誘導体と接触させる方法が好ましい。   The copper fine particle dispersion of the present invention can be produced by bringing a hydrazine derivative and copper fine particles into contact with each other. As a known preparation method, for example, a method in which a hydrazine derivative is added to and mixed with copper fine particles dispersed in a liquid layer, or a vaporized hydrazine derivative is brought into contact with a copper fine particle powder. However, since the copper fine particles are immediately oxidized in the air atmosphere, the above method requires a complicated and expensive manufacturing apparatus, and enormous costs are required, which is not industrially advantageous. Therefore, a method of contacting the hydrazine derivative at the same time when the copper fine particles are synthesized is preferable.

本発明の銅微粒子分散体の製造方法において、銅微粒子の合成方法は特に制限はなく、公知のいずれの方法も使用できるが、電子材料分野での利用を前提とした場合、不純物無機成分の混入を避けるため、銅イオンとヒドラジン誘導体を混合し、加熱する事でヒドラジン誘導体の還元作用を利用し、銅微粒子を析出させる方法が好ましい。本法によれは、銅微粒子の生成と銅微粒子とヒドラジン誘導体との接触を、同時且つ、同一の反応容器で行うことができ、工業的に有利である。   In the method for producing a copper fine particle dispersion according to the present invention, the method for synthesizing copper fine particles is not particularly limited, and any known method can be used. In order to avoid this, it is preferable to mix copper ions and a hydrazine derivative and to heat, and to utilize the reducing action of the hydrazine derivative to precipitate copper fine particles. According to this method, the production of copper fine particles and the contact between the copper fine particles and the hydrazine derivative can be carried out simultaneously and in the same reaction vessel, which is industrially advantageous.

本発明の銅微粒子分散体の製造方法は、以下の2の工程を含む。   The method for producing a copper fine particle dispersion of the present invention includes the following two steps.

a)ヒドラジン誘導体と銅微粒子前駆体を混合する工程(以下、a工程と称する。)
b)a工程で得た混合物に水を加え、それを加熱することにより銅微粒子を還元析出させる工程(以下、b工程と称する。)
本発明の銅微粒子分散体の製造方法においては、上記a工程及びb工程を実施していればよく、それら以外の工程を追加して実施しても一向に差し支えない。例えば、ヒドラジン誘導体及び/又は銅微粒子前駆体を希釈する工程、ヒドラジン誘導体と銅微粒子前駆体の混合物を希釈又は濃縮する工程、ヒドラジン誘導体と銅微粒子前駆体の混合物を冷却又は加熱する工程、銅微粒子分散体を洗浄する工程、銅微粒子分散体を希釈又は濃縮する工程、銅微粒子分散体中の銅微粒子を凝集及び/又は沈降させる工程等を適宜実施することができる。
a) A step of mixing a hydrazine derivative and a copper fine particle precursor (hereinafter referred to as a step).
b) A step of reducing and precipitating copper fine particles by adding water to the mixture obtained in step a and heating it (hereinafter referred to as step b).
In the method for producing a copper fine particle dispersion of the present invention, it is only necessary to carry out the step a and the step b, and there may be no problem even if other steps are added. For example, a step of diluting a hydrazine derivative and / or a copper fine particle precursor, a step of diluting or concentrating a mixture of the hydrazine derivative and the copper fine particle precursor, a step of cooling or heating the mixture of the hydrazine derivative and the copper fine particle precursor, a copper fine particle A step of washing the dispersion, a step of diluting or concentrating the copper fine particle dispersion, a step of aggregating and / or precipitating the copper fine particles in the copper fine particle dispersion, and the like can be appropriately performed.

本発明の銅微粒子分散体の製造方法において、a工程で使用する銅微粒子前駆体としては、銅イオンを含む化合物であればよく、特に限定するものではないが、具体的には、亜酸化銅、酸化銅等の銅酸化物、水酸化銅(I)、水酸化銅(II)等の銅水酸化物、フッ化銅、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅等の銅ハロゲン化物、塩基性炭酸銅、亜硝酸銅、硝酸銅、亜硫酸銅、硫酸銅、リン酸銅、ピロリン酸銅等の銅無機酸塩、ギ酸銅、酢酸銅、プロピオン酸銅、酪酸銅、イソ酪酸銅、吉草酸銅、イソ吉草酸銅、ピバリン酸銅、シュウ酸銅、マロン酸銅、コハク酸銅、マレイン酸銅、安息香酸銅、クエン酸銅、酒石酸銅等の銅有機酸塩、アセチルアセトナト銅、エチレンジアミン銅等の銅キレート錯体等を好適に用いることができる。これらの中でもコストの面から、酢酸銅が特に好ましい。上記以外の銅微粒子前駆体を使用しても差し支えないが、入手が困難であったり、高価であったりするため、工業的に不利な場合がある。また銅微粒子前駆体としては、電子材料用に市販されている高純度のものを使用することができるが、工業的に流通しているものを使用してもよい。   In the method for producing a copper fine particle dispersion of the present invention, the copper fine particle precursor used in step a is not particularly limited as long as it is a compound containing copper ions, and specifically, cuprous oxide. , Copper oxides such as copper oxide, copper hydroxides such as copper hydroxide (I) and copper hydroxide (II), copper halides such as copper fluoride, copper chloride, copper bromide and copper iodide, bases Copper carbonate, copper nitrite, copper nitrate, copper sulfite, copper sulfate, copper phosphate, copper pyrophosphate and other copper inorganic acid salts, copper formate, copper acetate, copper propionate, copper butyrate, copper isobutyrate, valeric acid Copper, copper isovalerate, copper pivalate, copper oxalate, copper malonate, copper succinate, copper maleate, copper benzoate, copper citrate, copper tartrate, etc., copper acetylacetonate, ethylenediamine A copper chelate complex such as copper can be suitably used. Among these, copper acetate is particularly preferable from the viewpoint of cost. Although copper fine particle precursors other than those described above may be used, they may be industrially disadvantageous because they are difficult to obtain or expensive. Moreover, as a copper fine particle precursor, although the high purity thing marketed for electronic materials can be used, you may use what is distribute | circulated industrially.

本発明の銅微粒子分散体の製造方法において、a工程で使用するヒドラジン誘導体としては、例えば、上記一般式(1)で示されるヒドラジン誘導体が使用される。   In the method for producing a copper fine particle dispersion of the present invention, as the hydrazine derivative used in step a, for example, a hydrazine derivative represented by the above general formula (1) is used.

本発明の銅微粒子分散体の製造方法において、a工程でのヒドラジン誘導体と銅微粒子前駆体の混合比は特に限定するものではないが、銅微粒子前駆体の1モル当量に対し、ヒドラジン誘導体が0.25〜1000モル当量の範囲であることが好ましく、1〜100モル当量の範囲であることがさらに好ましい。ヒドラジン誘導体の量が金属銅量に対し、0.25モル当量未満では金属銅への還元が完全に進行しないおそれがあり、1000モル当量を超えて多量に使用しても、使用しただけの向上効果は得られないばかりでなく、銅微粒子分散体の単位重量当たりの金属銅の含有量が低下するため好ましくない。   In the method for producing a copper fine particle dispersion of the present invention, the mixing ratio of the hydrazine derivative and the copper fine particle precursor in step a is not particularly limited, but the hydrazine derivative is 0 with respect to 1 molar equivalent of the copper fine particle precursor. It is preferably in the range of 25 to 1000 molar equivalents, more preferably in the range of 1 to 100 molar equivalents. If the amount of hydrazine derivative is less than 0.25 molar equivalents relative to the amount of metallic copper, there is a risk that reduction to metallic copper may not proceed completely. Not only is the effect not obtained, but the content of metallic copper per unit weight of the copper fine particle dispersion is lowered, which is not preferable.

本発明の銅微粒子分散体の製造方法において、b工程で加える水は、銅微粒子分散体を電子材料として使用することを考慮すると、例えば、イオン交換水、純水や超純水等のイオン性物質やパーティクル等を極力低減させたものが好ましい。   In the method for producing a copper fine particle dispersion of the present invention, the water added in step b is ionic such as ion-exchanged water, pure water or ultrapure water in consideration of using the copper fine particle dispersion as an electronic material. What reduced the substance, the particle, etc. as much as possible is preferable.

本発明の銅微粒子分散体の製造方法において、b工程で加える水の量は銅微粒子前駆体の水和状態に由来する水の持込み量に依存するため、規定することは困難ではあるが、あえて規定すると、銅微粒子前駆体の1モル当量に対し、銅微粒子前駆体の水和状態に由来する水の持込み量と加える水の量が2〜100モル当量の範囲になるように加えればよく、4〜10モル当量の範囲になるように加えることがさらに好ましい。銅微粒子前駆体の1モル当量に対し、銅微粒子前駆体の水和状態に由来する水の持込み量と加える水の量が2モル当量未満であると、金属銅への還元が完全に進行しないおそれがあり、100モル当量を超えて加えても、加えただけの向上効果は得られない。   In the method for producing a copper fine particle dispersion of the present invention, the amount of water added in step b depends on the amount of water brought in from the hydrated state of the copper fine particle precursor, and thus it is difficult to define, but dare to If it prescribes | regulates, what is necessary is just to add so that the amount of water brought in and the amount of added water derived from the hydration state of a copper fine particle precursor may become the range of 2-100 molar equivalent with respect to 1 molar equivalent of a copper fine particle precursor, It is more preferable to add so that it may become the range of 4-10 molar equivalent. When the amount of water brought from the hydration state of the copper fine particle precursor and the amount of added water are less than 2 molar equivalents relative to 1 molar equivalent of the copper fine particle precursor, the reduction to metallic copper does not proceed completely. There is a possibility, and even if it adds exceeding 100 molar equivalent, the improvement effect only added is not acquired.

本発明の銅微粒子分散体の製造方法において、b工程における加熱温度は、ヒドラジン誘導体が銅イオンを金属銅まで還元できる温度であればよく、特に制限されるものではないが、通常0〜300℃の範囲であり、50〜200℃の範囲が好ましい。0℃未満では、還元反応は極めて遅くなるおそれがあり、300℃を超える温度では、ヒドラジン誘導体が分解する場合があるため、現実的ではない。   In the method for producing a copper fine particle dispersion of the present invention, the heating temperature in step b is not particularly limited as long as the hydrazine derivative can reduce copper ions to metallic copper, but is usually 0 to 300 ° C. The range of 50-200 degreeC is preferable. If it is less than 0 ° C., the reduction reaction may be extremely slow, and if it exceeds 300 ° C., the hydrazine derivative may decompose, which is not realistic.

本発明の銅微粒子分散体の製造方法において、b工程では、還元反応を制御するために、pH調整を行ってもよい。pH調整を行うため塩基としては、例えば、アンモニア水の他、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化テトラメチルアンモニウム等の四級アンモニウム塩が挙げられる。これらは電子材料用に市販されている高純度のものを使用することができるが、工業的に流通しているものを使用してもよい。   In the method for producing a copper fine particle dispersion of the present invention, in step b, pH adjustment may be performed in order to control the reduction reaction. Examples of the base for adjusting the pH include ammonia water, alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide and sodium hydroxide, and quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium hydroxide. Although these can use the highly purified thing marketed for electronic materials, you may use what is distribute | circulated industrially.

本発明の銅微粒子分散体の製造方法において、a工程及び/又はb工程では有機溶媒を添加してもよい。このような有機溶媒としては、本発明の銅微粒子分散体に含有することができる上記した有機溶媒と同じものを使用することができる。   In the method for producing a copper fine particle dispersion of the present invention, an organic solvent may be added in step a and / or step b. As such an organic solvent, the same organic solvent as described above that can be contained in the copper fine particle dispersion of the present invention can be used.

本発明の銅微粒子分散体の製造方法において、不純物無機成分が混入してもよい場合には、銅微粒子前駆体とヒドラジン誘導体との混合物にさらに還元剤を加えてもよい。還元剤としては、銅イオンを金属銅まで還元できる還元力を有するものであればよく、特に限定するものではないが、具体的には、ヒドラジン、ソジウムハイドロホスフェート、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、リチウムボロハイドライド、ソジウムボロハイドライド、ボラン、ジボラン、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ギ酸等が好適なものとして例示される。これらの中でも安全性及びコストの面から、ソジウムボロハイドライドが特に好ましい。還元剤としては、電子材料用に市販されている高純度のものを使用することができるが、工業的に流通しているものを使用してもよい。還元剤の使用量は、銅イオンを完全に金属銅まで還元できる量であればよく、特に限定するものではないが、銅微粒子前駆体の1モル当量に対し、1〜10モル当量の範囲であることが好ましく、1〜2モル当量の範囲であることがさらに好ましい。還元剤の使用量が銅イオンのモル数に対し、1モル当量未満では金属銅への還元が完全に進行しないおそれがあり、10モル当量を超えて使用しても、使用しただけの向上効果は得られない。   In the method for producing a copper fine particle dispersion of the present invention, when an impurity inorganic component may be mixed, a reducing agent may be further added to the mixture of the copper fine particle precursor and the hydrazine derivative. The reducing agent is not particularly limited as long as it has a reducing power capable of reducing copper ions to metallic copper. Specifically, hydrazine, sodium hydrophosphate, tetrabutylammonium borohydride, lithium Preferred examples include borohydride, sodium borohydride, borane, diborane, formaldehyde, acetaldehyde, formic acid and the like. Among these, sodium borohydride is particularly preferable from the viewpoint of safety and cost. As the reducing agent, a high-purity one that is commercially available for electronic materials can be used, but those that are commercially available may also be used. The amount of the reducing agent used is not particularly limited as long as copper ions can be completely reduced to metallic copper, but is within a range of 1 to 10 molar equivalents relative to 1 molar equivalent of the copper fine particle precursor. It is preferable that it is in the range of 1 to 2 molar equivalents. If the amount of the reducing agent used is less than 1 molar equivalent relative to the number of moles of copper ions, the reduction to metallic copper may not proceed completely, and even if it exceeds 10 molar equivalents, the improvement effect only by use. Cannot be obtained.

本発明の銅微粒子分散体は、そのままで又は必要に応じて添加剤を混合する等して、インク状又はペースト状の導電性パターン形成用組成物として好適に用いることができる。   The copper fine particle dispersion of the present invention can be suitably used as an ink-like or paste-like conductive pattern forming composition as it is or by mixing an additive as necessary.

また、本発明の銅微粒子分散体のそれ以外の用途としては、電極材料、触媒、着色剤、化粧品、近赤外線吸収剤、光記録材料、偏光材料、偽造防止用インク、電磁波シールド材等の材料等が挙げられる。   Other uses of the copper fine particle dispersion of the present invention include materials such as electrode materials, catalysts, colorants, cosmetics, near infrared absorbers, optical recording materials, polarizing materials, anti-counterfeiting inks, and electromagnetic shielding materials. Etc.

本発明の銅微粒子は、平均粒子径が1〜1000nmの範囲の銅微粒子であって、上記一般式(1)で示されるヒドラジン誘導体が当該粒子表面に吸着していることをその特徴とする。   The copper fine particles of the present invention are copper fine particles having an average particle diameter in the range of 1 to 1000 nm, and are characterized in that the hydrazine derivative represented by the general formula (1) is adsorbed on the particle surface.

本発明の銅微粒子としては、導電性パターン形成用組成物としての用途を考慮すると、平均粒子径が1〜400nmの範囲のものが好ましい。   The copper fine particles of the present invention are preferably those having an average particle diameter in the range of 1 to 400 nm in consideration of the use as a conductive pattern forming composition.

本発明の銅微粒子は、上記した本発明の銅微粒子分散体から分離操作により銅微粒子を分離し、粉末の形状で得ることができる。   The copper fine particles of the present invention can be obtained in the form of powder by separating the copper fine particles from the copper fine particle dispersion of the present invention by a separation operation.

本発明の銅微粒子の製造方法において、銅微粒子の分離操作としては、特に限定するものではないが、例えば、濾過、遠心分離、銅微粒子以外の成分の留去等が挙げられる。   In the method for producing copper fine particles of the present invention, the operation for separating the copper fine particles is not particularly limited, and examples thereof include filtration, centrifugal separation, and distillation of components other than the copper fine particles.

本発明の銅微粒子の製造方法において、分離操作が濾過である場合、その濾過効率を向上させるため、貧溶媒を添加し銅微粒子の凝集を促すことができる。貧溶媒としては、例えば、メタノール、アセトニトリル及び水等の極性溶媒から選ばれる1種若しくは相溶性のある2種以上の混合物を好適に用いることができる。   In the method for producing copper fine particles of the present invention, when the separation operation is filtration, a poor solvent can be added to promote aggregation of the copper fine particles in order to improve the filtration efficiency. As a poor solvent, the 1 type chosen from polar solvents, such as methanol, acetonitrile, and water, or 2 or more types of compatible mixtures can be used conveniently, for example.

本発明の銅微粒子の製造方法において、分離操作が遠心分離である場合、公知の方法を用いることができる。   In the method for producing copper fine particles of the present invention, when the separation operation is centrifugation, a known method can be used.

本発明の銅微粒子の製造方法において、分離操作が銅微粒子以外の成分の留去である場合、公知の方法を用いることができ、その方法は特に限定されないが、留去に必要な加熱温度が、ヒドラジン誘導体の分解温度以上である場合、減圧条件下で行うことが好ましい。   In the method for producing copper fine particles of the present invention, when the separation operation is distillation of components other than copper fine particles, a known method can be used, and the method is not particularly limited. When the temperature is higher than the decomposition temperature of the hydrazine derivative, it is preferably carried out under reduced pressure conditions.

本発明の銅微粒子は、有機溶媒に再分散させ、必要に応じて添加剤を混合する等して、インク状若しくはペースト状の導電性パターン形成用組成物として好適に用いることができる。   The copper fine particles of the present invention can be suitably used as an ink-like or paste-like conductive pattern forming composition by re-dispersing in an organic solvent and mixing additives as necessary.

本発明の導電性パターン形成用組成物は、上記した本発明の銅微粒子分散体を含有するか、又は上記した本発明の銅微粒子と当該銅微粒子を分散させる分散剤とを含有する。   The conductive pattern forming composition of the present invention contains the above-described copper fine particle dispersion of the present invention, or contains the above-described copper fine particles of the present invention and a dispersant for dispersing the copper fine particles.

本発明の導電性パターン形成用組成物において、本発明の銅微粒子を分散させる分散剤としては、特に限定するものではないが、本発明の銅微粒子の表面には、上記一般式(1)で示されるヒドラジン誘導体が吸着しているため、有機溶媒を分散剤として使用することにより、その濃度、粘度等を自由にコントロールすることができる。   In the composition for forming a conductive pattern of the present invention, the dispersant for dispersing the copper fine particles of the present invention is not particularly limited, but the surface of the copper fine particles of the present invention is represented by the general formula (1). Since the hydrazine derivative shown is adsorbed, its concentration, viscosity, etc. can be freely controlled by using an organic solvent as a dispersant.

有機溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば、アルコール類、グリコール類、エーテル類、エステル類、炭化水素類、及び芳香族炭化水素類からなる群より選ばれる一種、又は相溶性のある二種以上の混合物が挙げられる。   Although it does not specifically limit as an organic solvent, For example, it is 1 type chosen from the group which consists of alcohols, glycols, ethers, ester, hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons, or compatibility. The mixture of 2 or more types is mentioned.

具体的には、アルコール類としては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、i−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ターピネオール等が挙げられ、グリコール類としては、具体的には、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール等が挙げられ、エーテル類としては、具体的には、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,4−ジオキサン等が挙げられ、エステル類としては、具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトン等が挙げられ、炭化水素類としては、具体的には、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン、n−ウンデカン、n−ドデカン、シクロヘキサン、デカリン等が挙げられ、芳香族炭化水素類としては、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、n−プロピルベンゼン、i−プロピルベンゼン、n−ブチルベンゼン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が挙げられる。   Specifically, as alcohols, methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, i-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, pentanol, hexanol, heptanol, octanol, cyclohexanol , Benzyl alcohol, terpineol, and the like. Specific examples of glycols include ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, pentanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, tripropylene glycol, and the like. Specific examples of ethers include diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and triethylene glycol dimethyl ether. , Triethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,4-dioxane, and the like. Specific examples of the esters include methyl formate, ethyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, Examples thereof include methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, and γ-butyrolactone. Specific examples of hydrocarbons include n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, and n-nonane. , N-decane, n-undecane, n-dodecane, cyclohexane, decalin and the like. Specific examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, n-propylbenzene, i-propyl. Benzene, n-butylbenzene, mesitylene, chlorobenzene, Examples include dichlorobenzene.

これらの中でもコスト及び安全性の面から、エタノール、i−プロピルアルコール、ターピネオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、γ−ブチロラクトン、n−デカン、トルエン及びn−ブチルベンゼンからなる群より選ばれる一種、又は相溶性のある二種以上を組み合わせて用いることがさらに好ましい。   Among these, from the viewpoint of cost and safety, one kind selected from the group consisting of ethanol, i-propyl alcohol, terpineol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol dimethyl ether, γ-butyrolactone, n-decane, toluene and n-butylbenzene. It is more preferable to use two or more compatible types in combination.

上記した本発明の銅微粒子と当該銅微粒子を分散させる分散剤とを含有する導電性パターン形成用組成物において、銅微粒子量は、銅微粒子と分散剤全体の重量に対して0.1重量%以上、100重量%未満で、残部が有機溶媒であることが好ましく、10重量%以上、80重量%以下で残部が有機溶媒であることがさらに好ましい。銅微粒子と分散剤全体の重量に対し、銅微粒子の合計量が10重量%未満では、その使用の際に濃縮等の操作が必要となり作業工数の増加を招くおそれがあり、80重量%を超えると、流動性が低下して作業性が著しく低下するおそれがある。   In the conductive pattern forming composition containing the copper fine particles of the present invention and the dispersant for dispersing the copper fine particles, the amount of the copper fine particles is 0.1% by weight with respect to the weight of the copper fine particles and the entire dispersant. As mentioned above, it is preferable that it is less than 100 weight% and the remainder is an organic solvent, and it is more preferable that it is 10 weight% or more and 80 weight% or less, and the remainder is an organic solvent. If the total amount of the copper fine particles is less than 10% by weight with respect to the weight of the copper fine particles and the entire dispersant, the operation such as concentration is required at the time of use, which may increase the number of work steps, and exceeds 80% by weight. Then, the fluidity is lowered and the workability may be significantly lowered.

本発明の導電性パターン形成用組成物は、必要に応じて、粘度調整剤、表面張力調整剤等の添加剤を含有することができる。   The composition for forming an electroconductive pattern of the present invention can contain additives such as a viscosity modifier and a surface tension modifier as necessary.

本発明の導電性パターン形成用組成物は、インクジェットやディスペンサー又はスクリーン印刷で基板上に描画し加熱することによりプリント配線に利用することができ、また基板上に塗布し乾燥することにより高密度記録材料や遮光用フィルター等として利用することができる。   The conductive pattern forming composition of the present invention can be used for printed wiring by drawing and heating on a substrate by ink jet, dispenser or screen printing, and high density recording by applying and drying on a substrate. It can be used as a material or a light shielding filter.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定解釈されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not construed as being limited in any way by these examples.

なお、以下の実施例において、銅微粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)で、観測した視野の中から、粒子径が比較的そろっている箇所を3箇所選択し、100,000倍の倍率で撮影を行い、それぞれの写真から、粒子を計100個選択し、その直径をものさしで測り、測定倍率を除して粒子径を算出し、これらの値を算術平均することにより求めた。TEMは日本電子製、商品名「JEM−2000FX」を使用した。   In the following examples, the average particle diameter of the copper fine particles was selected from three locations where the particle diameters were relatively uniform from the field of view observed with a transmission electron microscope (TEM), and 100,000. Take a photo at double magnification, select a total of 100 particles from each photo, measure the diameter with a ruler, calculate the particle size by dividing the measurement magnification, and obtain these values by arithmetic averaging It was. TEM used the product name "JEM-2000FX" made by JEOL.

実施例1 n−ヘキシルヒドラジンを含有した銅微粒子分散体の調製.
n−ヘキシルヒドラジン20gに酢酸銅(II)一水和物2gを加え完全に溶解させた後、水2gを加え100℃で30分加熱攪拌することで、黒色の銅微粒子分散体を得た。この銅微粒子分散体をTEMで観測し平均粒子径を求めたところ、34nm(標準偏差17.7、変動係数52%)であった。得られた銅微粒子分散体は大気中で1時間放置しても、酸化による変色は見られず、均一な分散状態を維持していた。銅微粒子分散体にアセトニトリル:水=1:1(v/v)溶液100mlを加え静置し、生じた沈殿を濾過することにより、銅微粒子粉体を得た。得られた銅微粒子粉体はi−ブチルアルコールに再分散可能であった。
Example 1 Preparation of a copper fine particle dispersion containing n-hexylhydrazine.
After adding 2 g of copper (II) acetate monohydrate to 20 g of n-hexylhydrazine and completely dissolving it, 2 g of water was added and the mixture was heated and stirred at 100 ° C. for 30 minutes to obtain a black copper fine particle dispersion. When this copper fine particle dispersion was observed with a TEM and the average particle size was determined, it was 34 nm (standard deviation 17.7, coefficient of variation 52%). Even if the obtained copper fine particle dispersion was left in the atmosphere for 1 hour, no discoloration due to oxidation was observed, and the uniform dispersion state was maintained. To the copper fine particle dispersion, 100 ml of acetonitrile: water = 1: 1 (v / v) solution was added and allowed to stand, and the resulting precipitate was filtered to obtain a copper fine particle powder. The obtained copper fine particle powder was redispersible in i-butyl alcohol.

実施例2 n−ドデシルヒドラジンを含有した銅微粒子分散体の調製.
n−ドデシルヒドラジン20gとオクタノール20gを混合し酢酸銅(II)一水和物2g、水2gを加え110℃で30分加熱攪拌することで、黒色の銅微粒子分散体を得た。この銅微粒子分散体をTEMで観測し平均粒子径を求めたところ、54nm(標準偏差19.4、変動係数36%)であった。得られた銅微粒子分散体は大気中で1時間放置しても、酸化による変色は見られず、均一な分散状態を維持していた。銅微粒子分散体にアセトニトリル:水=1:1(v/v)溶液100mlを加え静置し、生じた沈殿を濾過することにより、銅微粒子粉体を得た。得られた銅微粒子粉体はトルエンに再分散可能であった。
Example 2 Preparation of a copper fine particle dispersion containing n-dodecylhydrazine.
20 g of n-dodecylhydrazine and 20 g of octanol were mixed, 2 g of copper (II) acetate monohydrate and 2 g of water were added, and the mixture was heated and stirred at 110 ° C. for 30 minutes to obtain a black copper fine particle dispersion. When this copper fine particle dispersion was observed with a TEM and the average particle size was determined, it was 54 nm (standard deviation 19.4, coefficient of variation 36%). Even if the obtained copper fine particle dispersion was left in the atmosphere for 1 hour, no discoloration due to oxidation was observed, and the uniform dispersion state was maintained. To the copper fine particle dispersion, 100 ml of acetonitrile: water = 1: 1 (v / v) solution was added and allowed to stand, and the resulting precipitate was filtered to obtain a copper fine particle powder. The obtained copper fine particle powder was redispersible in toluene.

実施例3 フェニルヒドラジンを含有した銅微粒子分散体の調製.
フェニルヒドラジン20gに酢酸銅(II)一水和物2gを加え完全に溶解させた後、水2gを加え110℃で30分加熱攪拌することで、黒色の銅微粒子分散体を得た。この銅微粒子分散体をTEMで観測し平均粒子径を求めたところ、68nm(標準偏差18.1、変動係数27%)であった。得られた銅微粒子分散体は大気中で1時間放置しても、酸化による変色は見られず、均一な分散状態を維持していた。銅微粒子分散体にアセトニトリル:水=1:1(v/v)溶液100mlを加え静置し、生じた沈殿を濾過することにより、銅微粒子粉体を得た。得られた銅微粒子粉体はジエチレングリコールジメチルエーテルに再分散可能であった。
Example 3 Preparation of a copper fine particle dispersion containing phenylhydrazine.
After adding 2 g of copper (II) acetate monohydrate to 20 g of phenylhydrazine and completely dissolving it, 2 g of water was added and the mixture was heated and stirred at 110 ° C. for 30 minutes to obtain a black copper fine particle dispersion. When this copper fine particle dispersion was observed with a TEM and the average particle size was determined, it was 68 nm (standard deviation 18.1, variation coefficient 27%). Even if the obtained copper fine particle dispersion was left in the atmosphere for 1 hour, no discoloration due to oxidation was observed, and the uniform dispersion state was maintained. To the copper fine particle dispersion, 100 ml of acetonitrile: water = 1: 1 (v / v) solution was added and allowed to stand, and the resulting precipitate was filtered to obtain a copper fine particle powder. The obtained copper fine particle powder was redispersible in diethylene glycol dimethyl ether.

実施例4 1,1−ジメチルヒドラジンを含有した銅微粒子分散体の調製.
1,1−ジメチルヒドラジン20gと1,4−ジオキサン20gを混合し、シュウ酸銅(II)・0.5水和物2g、水2gを加え70℃で30分加熱攪拌することで、黒色の銅微粒子分散体を得た。この銅微粒子分散体をTEMで観測し平均粒子径を求めたところ、95nm(標準偏差20.9、変動係数22%)であった。得られた銅微粒子分散体は大気中で1時間放置しても、酸化による変色は見られず、均一な分散状態を維持していた。銅微粒子分散体にアセトニトリル:水=1:1(v/v)溶液100mlを加え静置し、生じた沈殿を濾過することにより、銅微粒子粉体を得た。得られた銅微粒子粉体はn−オクタンに再分散可能であった。
Example 4 Preparation of a copper fine particle dispersion containing 1,1-dimethylhydrazine.
Mixing 20 g of 1,1-dimethylhydrazine and 20 g of 1,4-dioxane, adding 2 g of copper (II) oxalate.0.5 hydrate and 2 g of water, and heating and stirring at 70 ° C. for 30 minutes, A copper fine particle dispersion was obtained. When this copper fine particle dispersion was observed with a TEM and the average particle size was determined, it was 95 nm (standard deviation 20.9, variation coefficient 22%). Even if the obtained copper fine particle dispersion was left in the atmosphere for 1 hour, no discoloration due to oxidation was observed, and the uniform dispersion state was maintained. To the copper fine particle dispersion, 100 ml of acetonitrile: water = 1: 1 (v / v) solution was added and allowed to stand, and the resulting precipitate was filtered to obtain a copper fine particle powder. The obtained copper fine particle powder was redispersible in n-octane.

比較例1 ヒドラジンを含有した銅微粒子分散体の調製.
ヒドラジン一水和物20gとエチレングリコール20gを混合し酢酸銅(II)一水和物2gを加え50℃で30分加熱攪拌したところ、黒色の銅微粒子分散体は得られず、赤褐色の銅粒子沈殿物が生成した。この銅微粒子沈殿物をTEMで観測し平均粒子径を算出したところ、1100nm(標準偏差28.5、変動係数2.6%)であった。銅粒子沈殿物を濾過することにより、銅粒子粉体を得た。得られた銅粒子粉体はエタノールに再分散可能であったが、1時間程度で沈降した。
Comparative Example 1 Preparation of a copper fine particle dispersion containing hydrazine.
When 20 g of hydrazine monohydrate and 20 g of ethylene glycol were mixed, 2 g of copper (II) acetate monohydrate was added and stirred with heating at 50 ° C. for 30 minutes, a black copper fine particle dispersion was not obtained, and reddish brown copper particles A precipitate was formed. When this copper fine particle precipitate was observed with TEM and the average particle size was calculated, it was 1100 nm (standard deviation 28.5, variation coefficient 2.6%). The copper particle powder was obtained by filtering a copper particle precipitate. The obtained copper particle powder was redispersible in ethanol, but settled in about 1 hour.

Claims (12)

下記一般式(1)
Figure 2010024526
[一般式(1)中、R〜Rは各々独立して、水素原子、炭素数が1〜18のアルキル基、炭素数5〜10の芳香族基、炭素数が1〜4のアルキル基で芳香環上の水素原子が1〜3置換された炭素数5〜10の芳香族基、又は炭素数5〜10の芳香族基で水素原子が1〜3置換された炭素数1〜4のアルキル基を表す。ただし、R〜Rが全て水素原子となることはない。]
で示されるヒドラジン誘導体と、平均粒子径が1〜1000nmの範囲の銅微粒子を含有する銅微粒子分散体。
The following general formula (1)
Figure 2010024526
[In General Formula (1), R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic group having 5 to 10 carbon atoms, or an alkyl having 1 to 4 carbon atoms. Group having 5 to 10 carbon atoms substituted with 1 to 3 hydrogen atoms on the aromatic ring, or 1 to 4 carbon atoms having 1 to 3 hydrogen atoms substituted with an aromatic group having 5 to 10 carbon atoms Represents an alkyl group. However, R 1 to R 4 are not all hydrogen atoms. ]
A copper fine particle dispersion containing a hydrazine derivative represented by the formula (1) and copper fine particles having an average particle diameter in the range of 1 to 1000 nm.
一般式(1)において、R、Rが各々独立して、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数3〜18の直鎖状、分岐状若しくは環式のアルキル基、炭素数5〜10の芳香族基、メチル基で芳香環上の水素が1〜3置換された炭素数5〜10の芳香族基、フェニル基で水素が1〜3置換されたメチル基、又はフェニル基で水素原子が1〜3置換されたエチル基を表し(ただし、R、Rは同時に水素原子となることはない。)、R、Rが水素原子であることを特徴とする請求項1に記載の銅微粒子分散体。 In General Formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms, 10 aromatic group, an aromatic group having 5 to 10 carbon atoms in which hydrogen on the aromatic ring is substituted by 1 to 3 by a methyl group, a methyl group in which hydrogen is substituted by 1 to 3 by a phenyl group, or hydrogen by a phenyl group 2. An ethyl group having 1 to 3 atoms substituted (provided that R 1 and R 2 are not hydrogen atoms at the same time), and R 3 and R 4 are hydrogen atoms. The copper fine particle dispersion described in 1. 一般式(1)において、R、Rが各々独立して、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、neo−ペンチル基、t−ペンチル基、n−ヘキシル基、i−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、4−メチルフェニル基、ベンジル基、又は2−フェニルエチル基を表し(ただし、R、Rは同時に水素原子となることはない。)、R、Rが水素原子であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の銅微粒子分散体。 In the general formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl. Group, t-butyl group, n-pentyl group, i-pentyl group, neo-pentyl group, t-pentyl group, n-hexyl group, i-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl Represents a group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, cyclohexyl group, phenyl group, 4-methylphenyl group, benzyl group, or 2-phenylethyl group (provided that R 1 and R 2 are simultaneously The copper fine particle dispersion according to claim 1 or 2, wherein R 3 and R 4 are hydrogen atoms. 銅微粒子に対し、ヒドラジン誘導体を5〜10000重量%含有することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の銅微粒子分散体。 The copper fine particle dispersion according to any one of claims 1 to 3, wherein the copper fine particle contains a hydrazine derivative in an amount of 5 to 10,000% by weight. 以下のa)及びb)の工程を含む請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の銅微粒子分散体の製造方法。
a)上記一般式(1)で示されるヒドラジン誘導体と銅微粒子前駆体を混合する工程。
b)a)工程で得た混合物に水を加え、それを加熱することにより銅微粒子を還元析出させる工程。
The manufacturing method of the copper fine particle dispersion in any one of Claims 1 thru | or 4 including the process of the following a) and b).
a) A step of mixing a hydrazine derivative represented by the general formula (1) and a copper fine particle precursor.
b) A step of reducing and precipitating copper fine particles by adding water to the mixture obtained in step a) and heating the mixture.
銅微粒子前駆体が、銅酸化物、銅水酸化物、銅ハロゲン化物、銅無機酸塩、銅有機酸塩及び銅キレート錯体からなる群より選ばれる一種又は二種以上の化合物であることを特徴とする請求項5に記載の銅微粒子分散体の製造方法。 The copper fine particle precursor is one or two or more compounds selected from the group consisting of copper oxide, copper hydroxide, copper halide, copper inorganic acid salt, copper organic acid salt and copper chelate complex. The method for producing a copper fine particle dispersion according to claim 5. 銅微粒子前駆体が、亜酸化銅、酸化銅、水酸化銅、硝酸銅、塩基性炭酸銅、ギ酸銅、酢酸銅、プロピオン酸銅、酪酸銅、イソ酪酸銅、吉草酸銅、イソ吉草酸銅、ピバリン酸銅、シュウ酸銅、マロン酸銅、安息香酸銅、クエン酸銅及びアセチルアセトナト銅からなる群より選ばれる一種又は二種以上であることを特徴とする請求項5に記載の銅微粒子分散体の製造方法。 Copper fine particle precursor is cuprous oxide, copper oxide, copper hydroxide, copper nitrate, basic copper carbonate, copper formate, copper acetate, copper propionate, copper butyrate, copper isobutyrate, copper valerate, copper isovalerate The copper according to claim 5, which is one or more selected from the group consisting of copper pivalate, copper oxalate, copper malonate, copper benzoate, copper citrate and copper acetylacetonate. A method for producing a fine particle dispersion. 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の銅微粒子分散体を含む導電性パターン形成用組成物。 The composition for conductive pattern formation containing the copper fine particle dispersion in any one of Claims 1 thru | or 4. 平均粒子径が1〜1000nmの範囲の銅微粒子であって、下記一般式(1)
Figure 2010024526
[一般式(1)中、R〜Rは各々独立して、水素原子、炭素数が1〜18のアルキル基、炭素数5〜10の芳香族基、炭素数が1〜4のアルキル基で芳香環上の水素原子が1〜3置換された炭素数5〜10の芳香族基、又は炭素数5〜10の芳香族基で水素原子が1〜3置換された炭素数1〜4のアルキル基を表す。ただし、R〜Rが全て水素原子となることはない。]
で示されるヒドラジン誘導体により銅微粒子表面が被覆されていることを特徴とする銅微粒子。
Copper fine particles having an average particle diameter in the range of 1 to 1000 nm, the following general formula (1)
Figure 2010024526
[In General Formula (1), R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic group having 5 to 10 carbon atoms, or an alkyl having 1 to 4 carbon atoms. Group having 5 to 10 carbon atoms substituted with 1 to 3 hydrogen atoms on the aromatic ring, or 1 to 4 carbon atoms having 1 to 3 hydrogen atoms substituted with an aromatic group having 5 to 10 carbon atoms Represents an alkyl group. However, R 1 to R 4 are not all hydrogen atoms. ]
A copper fine particle, wherein the surface of the copper fine particle is coated with a hydrazine derivative represented by the formula:
請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の銅微粒子分散体から分離操作により銅微粒子を分離することを特徴とする請求項9に記載の銅微粒子の製造方法。 The method for producing copper fine particles according to claim 9, wherein the copper fine particles are separated from the copper fine particle dispersion according to any one of claims 1 to 4 by a separation operation. 分離操作が、濾過、遠心分離、又は銅微粒子以外の成分の留去であることを特徴とする請求項10に記載の銅微粒子の製造方法。 The method for producing copper fine particles according to claim 10, wherein the separation operation is filtration, centrifugation, or distillation of components other than the copper fine particles. 請求項9に記載の銅微粒子と、銅微粒子を分散させる分散剤とを含む導電性パターン形成用組成物。 The composition for electroconductive pattern formation containing the copper fine particle of Claim 9, and the dispersing agent which disperse | distributes a copper fine particle.
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