JP2010021138A - Organic electroluminescent device and its manufacturing method - Google Patents

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JP2010021138A JP2009138534A JP2009138534A JP2010021138A JP 2010021138 A JP2010021138 A JP 2010021138A JP 2009138534 A JP2009138534 A JP 2009138534A JP 2009138534 A JP2009138534 A JP 2009138534A JP 2010021138 A JP2010021138 A JP 2010021138A
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JP2009138534A
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Shuhei Nakatani
Megumi Sakagami
Kiyohiko Takagi
修平 中谷
恵 坂上
清彦 高木
Original Assignee
Panasonic Corp
パナソニック株式会社
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent device which restrains light-emitting luminance variations in a pixel and light-emitting variations among the pixels and is excellent on stability and life characteristics, and its manufacturing method. <P>SOLUTION: The organic electroluminescent device includes a positive electrode for pouring in holes, a layer with a light-emitting function having a plurality of various light-emitting colors, a negative electrode for pouring electrons, and a liquid-repellent layer for separating ranges into a plurality of respective light-emitting colors, wherein the layer having the light-emitting function provides a pixel range at an inner side rather than a range separated by the liquid-repellent layer. Liquid-drop separation is carried out on an end face of the liquid-repellent layer in this structure, and the pixel range becomes a stable range of film thickness since the pixel range is regulated inside the range separated by the liquid-repellent layer even though film thickness variations are generated by swelling of the liquid-drop caused by surface tension at this end face. The organic electroluminescent device restrains light-emitting luminance variations in the pixel and light-emitting variations among the pixels, and has excellent stability and excellent life characteristics. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセント装置およびその製造方法にかかり、特に携帯電話やテレビなどのディスプレイや表示素子、各種光源などに用いられ、低輝度から光源用途等の高輝度まで幅広い輝度範囲で駆動される電界発光素子である有機エレクトロルミネッセント素子を用いた有機エレクトロルミネッセント装置に関する。 The present invention relates to an organic electroluminescent device and a manufacturing method thereof, a display or display devices such as mobile phones and televisions, used like various light sources, a wide luminance range from a low luminance to high luminance, such as light sources for use relates to an organic electroluminescent device using an organic electroluminescence element is a light emitting element to be driven.

有機エレクトロルミネッセント素子は固体蛍光性物質の電界発光現象を利用した発光デバイスであり、小型のディスプレイとして一部で実用化されている。 The organic electroluminescence element is a light-emitting device utilizing the electroluminescence phenomenon of solid fluorescent material, it is put into practical use in some as small display.

有機エレクトロルミネッセント素子は発光機能を有した層(以下発光層)に用いられる材料によって、いくつかのグループに分類することが出来る。 The organic electroluminescent device depending on the material used for the layer having the light emitting function (hereinafter emitting layer), some of it can be classified into groups. 代表的なもののひとつは発光層に低分子量の有機化合物を用いる低分子有機エレクトロルミネッセント素子で、主に真空蒸着法を用いて作成される。 One typical in low-molecular organic electroluminescent device using an organic compound of low molecular weight light-emitting layer, is created mainly by vacuum evaporation. そして今一つは発光層に高分子化合物を用いる高分子有機エレクトロルミネッセント素子である。 And one more is polymer organic electroluminescence element using a polymer compound in the light emitting layer.

高分子有機エレクトロルミネッセント素子は各機能層を構成する材料を溶解した溶液を用いることでスピンコート法やインクジェット法、印刷法等による成膜が可能であり、その簡便なプロセスから低コスト化や大面積化が期待できる技術として注目されている。 Polymer organic electroluminescence element is a spin-coating method, an inkjet method by using a solution prepared by dissolving the materials constituting the functional layers, a film can be formed by the printing method or the like, cost reduction from the simple process and a large area has been attracting attention as a technology that can be expected.

典型的な高分子有機エレクトロルミネッセント素子は陽極および陰極の間に電荷注入層、発光層等の複数の機能層を積層することで作製される。 Typical polymeric organic electroluminescence element charge injection layer between the anode and the cathode, is produced by superimposing a plurality of functional layers such as a light emitting layer. この高分子有機エレクトロルミネッセント素子を用いてアクティブマトリックス型のディスプレイを製造しようとすると、TFT(薄膜トランジスタ)などの駆動回路と共に、同一基板上に複数の有機エレクトロルミネッセント素子を配列して形成する必要がある。 If you try to manufacture an active matrix type display using the polymer organic electroluminescence element, the driving circuit, such as a TFT (thin film transistor), by arranging a plurality of organic electroluminescent elements on the same substrate formed There is a need to.

例えば、発光層として高分子膜を塗布法によって形成したボトムエミッション型の有機エレクトロルミネッセント素子では、まず、ガラスまたはプラスチック基板上に陽極としてのITO(インジウム錫酸化物)を成膜したガラス基板上に電荷注入層としてのPEDOT:PSS(ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸の混合物:以下PEDOTと記載する)薄膜をスピンコート、インクジェット、ノズルコート法、ディスペンス法、印刷法などによって成膜する。 For example, in the bottom emission type organic electroluminescent device forming a polymer film by a coating method as a light emitting layer, first, a glass substrate was formed ITO (indium tin oxide) as an anode on a glass or plastic substrate PEDOT as the charge injection layer above: PSS (mixture of polythiophene and polystyrene sulfonic acid: hereinafter referred to as PEDOT) film spin coating, ink-jet, nozzle coating, a dispensing method, deposited by a printing method. PEDOTは電荷注入層として事実上の標準となっている材料であり、陽極側に配置されることでホール注入層として機能する。 PEDOT is a material which is a de facto standard as the charge injection layer, which functions as a hole injecting layer be disposed on the anode side.

PEDOT層の上に電子ブロック層としての機能を有するインターレイヤおよび発光層としてポリフェニレンビニレン(以下PPVと表す)およびその誘導体、またはポリフルオレンおよびそれらの誘導体、デンドリマーおよびその誘導体、特に中心にイリジウム等の燐光発光中心を有するデンドリマーがスピンコート法等上記の塗布方法によって成膜される。 Polyphenylene vinylene (hereinafter referred to as PPV) and its derivatives as interlayer and a light-emitting layer has a function as an electron blocking layer over the PEDOT layer or polyfluorene and derivatives thereof, dendrimers and derivatives thereof, such as iridium, particularly central, dendrimers with phosphorescent center is formed by the coating method of a spin coating method or the like above. そしてこれら発光層上に、真空蒸着法、電子ビーム蒸着、スパッタ法等によって陰極としての金属層が成膜され素子が完成する。 Then on these light-emitting layer by vacuum deposition, electron beam evaporation, are metal layers deposited as a cathode by a sputtering method or the like element is completed.

このような高分子有機エレクトロルミネッセント素子では、インクジェット法やその他の塗布方法において、1画素毎にPEDOTおよびインターレイヤ、発光層を形成しており、各層のサイズや膜厚のばらつきが生じ易く、たとえばこの膜厚ムラが輝度ムラ、膜厚が薄い部分への電流集中による寿命の低下等の課題を有しており、これが画素ばらつきの原因となりひいては寿命にも影響を与えていた。 In such a polymer organic electroluminescence element, in an ink-jet method or other method of coating, PEDOT and interlayer for each pixel, and to form a light emitting layer, liable variation of each layer of the size and thickness , for example, a problem such as a reduction in life this thickness unevenness due to current concentration of luminance unevenness, the film thickness to a thin portion, which had also affected the thus life cause pixel variation.

そこで、電荷注入層および発光層を高精度に配列するために種々の構成が提案されている(例えば特許文献1)。 Therefore, various configurations have been proposed to arrange a charge injection layer and the luminescent layer with high precision (for example, Patent Document 1).
この有機エレクトロルミネッセント素子は、異なる色の複数の画素を構成する複数の有機エレクトロルミネッセント素子を備え、第1および第2の電極との間に発光層およびキャリア輸送層を挟み、発光層およびキャリア輸送層を一体化することにより位置あわせ精度の緩和をはかるものである。 The organic electroluminescence element is a different color to form a plurality of pixels of comprising a plurality of organic electroluminescence elements, sandwiching the light emitting layer and a carrier transporting layer between the first and second electrodes, the light emitting it is intended to achieve positioning accuracy of relaxation by integrating layers and carrier transport layer. この例では、ホール輸送層、電子輸送層のいずれについてもNPBやAlqなどの低分子有機材料が用いられている。 In this example, a hole transport layer, a low molecular organic material such as NPB and Alq for any of the electron transport layer is used.

また、同様に位置ずれを防ぐために、画素間を分離するための領域に重なるように発光層を形成し、隣接する発光層間に生じる境界部と、有機層で構成される電子輸送層やホール輸送層などの電荷注入層の境界部とが一致するように形成した構造も提案されている。 In order to prevent the positional deviation in the same manner, the light-emitting layer was formed so as to overlap the region for isolation between pixels, and a boundary portion that occurs adjacent light-emitting layers, electron transporting layer or a hole transporting composed of organic layers forming a structure such that the boundary of the charge injection layer is matched such as a layer has been proposed. (例えば特許文献2) (E.g. Patent Document 2)

上記特許文献1および2の構造においては、いずれも、画素を分離する領域(画素規制部)上に、発光層および電荷注入層が設けられており、これらの上層に真空蒸着法で電極が形成される。 In the structure of Patent Document 1 and 2, both, on the area (pixel restricting portion) for separating the pixel, the light emitting layer and the charge injection layer is provided, the electrode by vacuum deposition to these upper layer forming It is.

大画面のディスプレイを製造する場合には、低分子型の有機材料をRGBそれぞれに分離形成する場合はマスク蒸着が用いられるが、マスクの大きさが大きくなるとたわみや伸び等が問題となり、高精度のアライメントを行うことは困難である。 In the production of large-screen displays, the case of forming separate the low molecular type organic material in each RGB is mask deposition is used, the size increases the bending and elongation of a mask or the like becomes a problem, high-precision it is difficult to perform the alignment. 一方、発光層を構成する物質を溶液化して、塗布・印刷法を用いて塗り分ける方法は広く検討されている。 On the other hand, to a solution of the material constituting the light-emitting layer, a method of separately coating with a coating and printing method it is widely studied. 例えば、特許文献3には、インクジェット法を用いる有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法において発光層の成膜範囲を正孔注入・輸送層の成膜範囲と同等かそれ以上にすることでリーク電流を抑制するという方法が提案されており、SiO 2で作製した絶縁膜の開口部にポリイミドで形成した撥液層(バンク)が形成されている。 For example, Patent Document 3, the leakage current by the deposition range of the light-emitting layer to equal to or higher than the film formation range of the hole injecting and transporting layer in the manufacturing method of the organic electroluminescent element using an ink-jet method has been proposed a method of suppressing, liquid repellent layer formed of polyimide in the opening of the insulating film formed by SiO 2 (bank) is formed. しかしながら、撥液層に塗布液(有機樹脂)が這い上がり、膜厚が不均一となるという問題があり、リークは改善されても発光層の膜厚のバラツキは改善されておらず、この膜厚ムラが輝度ムラ、膜厚が薄い部分への電流集中による寿命の低下等の原因となっていた。 However, the coating liquid repellent layer (organic resin) is creep up, there is a problem that the film thickness becomes uneven, leak be improved not improved the variation in thickness of the light-emitting layer, the film the thickness unevenness was caused such as reduction of life due to current concentration on the part luminance unevenness, the film thickness thin.

そこで、この這い上がりを抑制すべく、撥液層の表面に疎水性加工を施し、這い上がりを低減する方法も提案されている(特許文献4)。 Therefore, in order to suppress the creeping-up, subjected to a hydrophobic processing on the surface of the liquid repellent layer it has also been proposed a method of reducing creep-up (Patent Document 4). この場合、這い上がりは低減されるものの、表面張力により、画素領域内でこの有機樹脂層の盛り上がりが生じ周縁部に比べて中央部は膜厚が大きくなるという問題があった。 In this case, although the wicking is reduced, due to surface tension, the central portion than the peripheral portion occurs swelling of the organic resin layer in the pixel region has a problem that the film thickness increases. このように、特許文献4には、バンク構造をもつ有機エレクトロルミネッセント素子において、撥液層上部にCF プラズマ処理を行うことにより、液滴保持容積の拡大と表面張力による保持力向上により、液滴分離を行なうようにした素子構造が提案されている。 Thus, Patent Document 4, an organic electroluminescent device having the bank structure, by performing CF 4 plasma treatment on the upper liquid-repellent layer, the retention improvement by expanding the surface tension of the droplet holding volume , element structure to perform the droplet separator has been proposed. また素子構造の形成においては、発光機能を有する層の塗布に先立ち、紫外線照射を行なうようにしているため、親液性領域にフッ素原子が付着しても、紫外線によってフッ素原子を除去することができ、親液性領域の親液性が低下することはなく、良好な状態の正孔注入層を形成し得るとしている。 In forming the device structure, prior to application of the layer having the light emitting function, because it to perform the ultraviolet radiation, even if adhered fluorine atom lyophilic region, the removal of fluorine by ultraviolet can not be liquophilic lyophilic region is reduced, and to be capable of forming a hole injection layer of good condition.

特開2003−257656号公報 JP 2003-257656 JP 特開2004−119304号公報 JP 2004-119304 JP 国際公開第01/074121号明細書 WO 01/074121 Pat. 特開2007−111616号公報 JP 2007-111616 JP

しかしながら、特許文献4の構成によっても、撥液層が発光機能を有した層からの光取り出し性を低下させ、また撥液層を有機系材料で構成した場合、この有機系材料からの不純物混入で発光特性が低下するという問題があった。 However, the configuration of Patent Document 4, decrease the light extraction efficiency from the layer lyophobic layer having a light emitting function, also case where the liquid repellent layer of an organic material, impurity contamination from the organic material emission characteristics is lowered in.
また、有機撥液層上部および側面の撥水化に用いられるフッ素プラズマによる汚染により、発光効率が低下するという問題もあった。 Also, the contamination by fluorine plasma used in the water repellent organic liquid-repellent layer top and side surfaces, luminous efficiency was also lowered.

本発明は、前記実情に鑑みてなされたものであり、各画素内の発光輝度ばらつきや画素間の発光ムラを抑制し安定で寿命特性に優れた有機エレクトロルミネッセント装置およびその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, provide a light-emitting luminance variation or organic electroluminescence excellent stable life characteristics by suppressing uneven light emission between the pixel Tsu St. device and a manufacturing method thereof in each pixel an object of the present invention is to. 特に、複数の発光色での発光が必要な表示素子、即ち、フルカラーディスプレイやマルチカラーディスプレイを、特に発光材料を溶液にて塗布する場合に起こる場合に課題となる、各画素内の発光輝度ばらつきや画素間の発光ムラを抑制し安定で寿命特性に優れた有機エレクトロルミネッセント装置およびその製造方法を提供することを目的とする。 In particular, emission must display device in multiple luminescent colors, i.e., a full-color display and multi-color display, is a problem especially when occurring in the case of applying the light emitting material with a solution, emission luminance variation in each pixel and to provide an organic electroluminescent device and a manufacturing method thereof excellent in stability and life characteristics by suppressing uneven light emission between and pixels.
また本発明は、有機エレクトロルミネッセント装置の発光効率の向上をはかることを目的とする。 The present invention aims to improve the luminous efficiency of the organic electroluminescent device.

そこで本発明の有機エレクトロルミネッセント装置は、基板上に形成された第1の電極と、第1の電極上に設けられると共に第1の電極に応じて複数の異なる発光色をもつ発光機能を有した層と、前記発光機能を有した層を前記第1の電極と挟み込むように配置された第2の電極と、第1の電極の周囲に設けられ複数の前記発光色毎に領域を分離する撥液層とを有し、前記発光機能を有した層が、前記撥液層で分離された領域よりも内側に画素領域を規定されたことを特徴とする。 Therefore the organic electroluminescent device of the present invention includes a first electrode formed on a substrate, a light-emitting function having a plurality of different emission colors in response to the first electrode with is provided on the first electrode a layer having a second electrode a layer having the light emitting function are arranged so as to sandwich the first electrode, the area for each of a plurality of the light emitting color is provided around the first electrode separation to have a liquid-repellent layer, the layer having the light emitting function, characterized in that than regions separated by the liquid-repellent layer defined a pixel region on the inside.
この構成によれば、撥液層の端面で液滴分離がなされるが、この端面で表面張力に起因する液滴のもりあがりによって、膜厚にばらつきが生じても、画素領域が前記撥液層で分離された領域よりも内側に規定されているため、画素領域内は、膜厚の安定した領域となっており、各画素内の発光輝度ばらつきや画素間の発光ムラを抑制し、安定で寿命特性に優れ有機エレクトロルミネッセント装置を提供することが可能となる。 According to this configuration, although the droplet separator at the end face of the liquid-repellent layer is made, by swelling of the droplets due to surface tension at this end face, even when variation in the film thickness, the pixel region is the liquid-repellent layer in order as defined inside the isolated region, the pixel region, has a thickness of stable region, to suppress the non-uniformity in light emission between the emission luminance variation or pixels in each pixel, a stable it is possible to provide an organic electroluminescent device excellent in life characteristics.
なお、陽極は基板上に配置されるが、基板に接触して配置されても、接触せずに上方に配置されてもよい。 Incidentally, the anode is being placed on the substrate, be arranged in contact with the substrate, may be disposed above without contacting. また、本実施の形態の陽極と陰極の配置関係は、陽極が基板に近い側に設けられてもいる態様を示したが、陰極が基板に近い側に設けられる形態でもよい。 The arrangement relationship between the anode and the cathode in this embodiment has an anode showed aspects are also provided on the side closer to the substrate, the cathode may be in a form provided on the side closer to the substrate.

また、本発明の有機エレクトロルミネッセント装置は、前記第1の電極または第2の電極のいずれかと発光機能を有した層との間に形成され、かつ、前記発光機能を有した層の発光領域を規制して画素領域を形成する画素規制部を有し、前記発光機能を有した層が、前記撥液層で分離された領域内において、前記画素規制部上に跨って一体的に形成されたものを含む。 The organic electroluminescent device of the present invention, the is formed between the first electrode or layer having either a light-emitting function of the second electrode and the light emitting layer having the light emitting function a pixel regulating portion for forming a pixel region to regulate the region, layer having the light emitting function, in the liquid repellent layer in an isolated area, integrally formed astride on the pixel restricting portion including those that have been.
この構成によれば、前記発光機能を有した層が、前記撥液層で分離された領域内において、前記画素規制部上に跨って一体的に形成されているため、発光機能を有した層を形成するための塗布液がより広い領域に充填されることになり、撥液層で囲まれた共通領域内に円滑に充填され、安定な膜厚を、むらなく形成することができ、かつその内部で画素規制部によって規定されたより安定な膜厚の領域のみが発光に寄与する領域となる。 According to this configuration, the layer layer having the light emitting function, in the liquid repellent layer in an isolated area, because it is integrally formed astride on the pixel restricting portion, having a light emitting function will be the coating solution for forming the can is filled in a wider area, is smoothly charged into the common area which is surrounded by the lyophobic layer, a stable film thickness can be evenly formed, and therein only the region of stable thickness than defined by the pixel restricting portion is region contributing to light emission. このため、撥液層層で分離された領域端面(境界面)の近傍で膜厚の不安定な領域があったとしても、その領域は画素規制部で覆われ、電圧が印加されない非発光領域となる。 Therefore, even if an unstable region of the film thickness in the vicinity of the isolated regions facet liquid repellent layer layer (boundary surface), the area is covered by the pixel restricting portion, the non-light-emitting region to which no voltage is applied to become. さらにまた、画素規制部に起因する段差はなくすことができないものの、発光機能を有した層を画素毎に分離する場合に比べて複数画素分一体的に形成しているため、塗布腋が、より広い領域で、この段差上を流動することになり、より安定な塗布膜を得ることができる。 Furthermore, although it is impossible to eliminate the step resulting from the pixel restricting portion, because it forms a plurality of pixels integrated in comparison with the case of separating the layer having the light emitting function for each pixel, is applied armpit, more a wide area, will be flowing over the step, it is possible to obtain a more stable coating film. 従って微細な画素に対しても良好な色分離が可能となり、画素領域における発光機能を有した層の膜厚が安定していることから、長寿命でかつ信頼性の高い有機エレクトロルミネッセント装置を形成することが可能となる。 Thus even for fine pixels enables good color separation, since the thickness of the layer having the light emitting function in the pixel region is stable, long life and reliable high organic electroluminescent device it is possible to form a.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記撥液層は自己組織化膜であるものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, the liquid-repellent layer include those which are self-assembled film.
この構成により、フッ素プラズマなどを用いることなく、撥液層を形成することができるため、フッ素プラズマによる汚染による、発光効率の低下を防ぐことができる。 This configuration without using a fluorine plasma, it is possible to form a liquid repellent layer, it is possible to prevent contamination by fluorine plasma, the decrease in emission efficiency.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記撥液層はライン毎に前記領域が一体となるようにライン状に形成されたものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, the liquid-repellent layer include those wherein the area for each line is formed in a line shape so as to be integrated.
この構成により、1ライン毎に共通領域となるため、塗布液の流動化がより円滑となり、均一な塗布膜の形成が可能となる。 This configuration, since the common area for each line, becomes smoother fluidization of the coating liquid, it is possible to form a uniform coating film.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記画素規制部の少なくとも前記発光領域を規制する側の端部の厚みを200ナノメートル以下に構成したものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, including those constituting the thickness of the end portion on the side which restricts at least the light emitting region of the pixel restricting portion 200 nanometers or less.
画素規制部の膜厚は、上層に形成される発光機能を有した層の性能上は薄い方が好ましいが、ピンホール等ができるとショートすることから、実験結果から、好ましくは10nmから200nmの間、特に好ましくは10nmから100nmであることがいえる。 The film thickness of the pixel restricting portion is on the performance of the layer having the light emitting function is formed on the upper layer is preferably thin, since the short out can pinholes, from the experimental results, preferably 10nm from 200nm of during, it can be said especially preferably 100nm from 10 nm.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記画素規制部の開口端は、前記撥液層の開口端の内縁よりも内側に位置するようにしたものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, the open end of the pixel regulating unit, including those to be located inside the inner edge of the open end of the liquid-repellent layer.
この構成によれば、撥液層の存在による這い上がり部分を含む膜厚不安定領域を発光領域から除外することができるため、安定で信頼性の高い発光を得ることが可能となる。 According to this arrangement, it is possible to exclude the thickness unstable region containing the wicking portion due to the presence of the liquid-repellent layer from the light-emitting region, it is possible to obtain a highly stable and reliable light-emitting.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記第1の電極または第2の電極のうち、基板側に位置する一方の外端よりも外側に、前記撥液層の開口端の内縁が位置するようにしたものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, wherein one of the first electrode or the second electrode, outside the one outer end located on the substrate side, the open end of the liquid-repellent layer including those inner edge was positioned.
この構成によれば、撥液層の存在による這い上がり部分を含む膜厚不安定領域を発光領域から除外することができるため、安定で信頼性の高い発光を得ることが可能となる。 According to this arrangement, it is possible to exclude the thickness unstable region containing the wicking portion due to the presence of the liquid-repellent layer from the light-emitting region, it is possible to obtain a highly stable and reliable light-emitting.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記発光機能を有した層は、前記画素規制部側に一体的に形成され、電子または正孔の一方の注入を制御する電荷注入層を含むものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, the layer having the light emitting function is formed integrally with the pixel restricting portion, the charge injection layer for controlling one injection of electrons or holes including those containing.
この構成によれば、電荷注入層が、その上層に形成される発光機能を有した層に対して、画素規制部に起因する段差を低減するバッファ機能をもつことになり、より安定な膜厚を得ることができる。 According to this configuration, the charge injection layer, the layer having the light emitting function is formed on the upper layer, it will have a buffer function of reducing the step caused by the pixel regulating unit, more stable film thickness it is possible to obtain.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記電荷注入層は遷移金属酸化物層であるものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, the charge injection layer include those transition metal oxide layer.
この構成によれば、一体的に形成しても横方向のリークはなく、安定であるため、素子特性の向上を図ることが可能となる。 According to this arrangement, no lateral leakage be integrally formed, because it is stable, it is possible to improve the device characteristics.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記発光機能を有した層は塗布膜を含むものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, the layer having the light emitting function include those containing coating film.
この構成によれば、発光機能を有した層のすべてが塗布膜である必要はなく、少なくとも1層が塗布膜であればよい。 According to this arrangement, it is not necessary any layer having the light emitting function is applied film, at least one layer may be a coating film.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記画素規制部は無機絶縁膜であるものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, the pixel regulating unit including those which are an inorganic insulating film.
この構成によれば、無機絶縁膜は安定して優れた絶縁性を確保することができる。 According to this configuration, the inorganic insulating film can ensure excellent insulation properties stably.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記画素規制部は窒化シリコン膜であるものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, the pixel regulating unit including those which are silicon nitride film.
この構成によれば、窒化シリコン膜は緻密で絶縁性が高いため、薄くても絶縁性を確保することができることから、段差の低減を図ることができる。 According to this configuration, since the silicon nitride film has a high dense and insulating properties, since it be thinner can be ensured insulation, thereby reducing the level difference. また、窒化シリコン膜に代えて酸化シリコンを用いてもよい。 It may also be used silicon oxide instead of silicon nitride film. 酸化シリコンも絶縁性が高く、小さな膜厚で優れた絶縁性を確保することができる。 Silicon oxide have high insulating properties, it is possible to ensure excellent insulation properties with a small thickness.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記画素規制部なしに、一方の電極が画素領域を規定したものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, without the pixel restricting portion, including those having one electrode defines a pixel region.
この構成によれば、より薄型化をはかることができる。 According to this configuration, it is possible to achieve thinner.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置を製造する方法において、前記発光機能を有した層のうち、少なくとも発光領域をもつ層が、前記撥液層で分離された領域内に、所望の粘度の溶液を充填する工程を含む。 Further, the present invention provides a method of manufacturing the organic electroluminescent device, among the layer having the light emitting function, a layer having at least a light-emitting region, the liquid-repellent layer in an isolated area, the desired comprising the step of filling the viscosity of the solution.
この構成によれば、より、広い領域に溶液を充填すればよいため、ボイドがなく均一な塗布膜を形成することが可能となる。 According to this arrangement, more, since it is sufficient to fill the solution into a large area, it is possible to void without forming a uniform coating film.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置を製造する方法において、前記撥液層を形成する工程は、塗布法により自己組織化膜を形成する工程と、紫外線照射によりパターニングする工程とを含む。 Further, the present invention provides a method of manufacturing the organic electroluminescent device, the step of forming the liquid-repellent layer includes a step of forming a self-assembled film by a coating method, a step of patterning by ultraviolet irradiation including.
この構成により、フッ素プラズマなどを用いることなく、撥液層を形成することができるため、フッ素プラズマによる汚染による、発光効率の低下を防ぐことができる。 This configuration without using a fluorine plasma, it is possible to form a liquid repellent layer, it is possible to prevent contamination by fluorine plasma, the decrease in emission efficiency.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置の製造方法において、前記撥液層を形成する工程に先立ち、前記撥液層の形成された基板表面全体に、ドライプロセスにより、遷移金属酸化物からなる電荷注入層を形成する工程を含むものを含む。 Further, the present invention provides the above method for producing an organic electroluminescent device, prior to the step of forming the liquid-repellent layer, the whole formed substrate surface of the liquid repellent layer, by a dry process, the transition metal oxides It includes a step of forming a charge injection layer composed of.
この構成によれば、ドライプロセスにより、遷移金属酸化物層を形成しているためバンドギャップの低減をはかることができ、電荷注入特性の向上をはかることができるとともに、段差の低減をはかることができる。 According to this configuration, by a dry process, it is possible to reduce the band gap for forming the transition metal oxide layer, it is possible to improve the charge injection property, is possible to reduce the level difference it can. なお、撥液層の形成された基板表面に、発光領域を形成する層の形成に先立ち、塗布法によりPEDOTなどの電荷注入層(インターレイヤ)を形成するようにしてもよい。 Incidentally, the formed substrate surface of the liquid repellent layer, prior to the formation of a layer forming the light-emitting region may be formed charge injection layer such as PEDOT (the interlayer) by the coating method.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記充填する工程は、前記撥液層で分離された領域内に、インクジェット法により溶液を充填する工程であるものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, wherein the step of filling include those wherein the liquid repellent layer in an isolated area, a step of filling the solution by an ink jet method.
この構成によれば、撥液層に這い上がりが生じても、発光領域は画素規制部で規制されているため、安定な膜厚をもつ発光領域を得ることができる。 According to this configuration, even if creep up the liquid-repellent layer, the light emitting region because it is regulated by the pixel restricting portion, it is possible to obtain a light emitting region having a stable thickness. 特に、大サイズ基板を用いたときに基板内に均一な厚みを有する有機機能膜を形成でき、これによって発光ムラの少ないパネルを作製できるという効果を奏功する。 In particular, it can form an organic functional layer having a uniform thickness in the substrate when using a large size substrate, thereby successful the effect that a small panel of uneven light emission can be manufactured.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記充填する工程は、前記撥液層で分離された領域内に、ノズルコート法またはディスペンス法により溶液を充填する工程であるものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, wherein the step of filling include those in the liquid repellent layer in an isolated area, a step of filling the solution by a nozzle coating method or a dispensing method .
この構成によれば、撥液層に這い上がりが生じても、発光領域は画素規制部で規制されているため、安定な膜厚をもつ発光領域を得ることができるという効果を奏功する。 According to this configuration, even if creep up the liquid-repellent layer, the light emitting region because it is regulated by the pixel regulating unit, for successful the effect that it is possible to obtain a light emitting region having a stable thickness.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記第1電極の表面と、前記第1電極間の自己組織化膜が形成される層の表面とが同一平面上にあるものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, including those with a surface of the first electrode, and the surface of the layer self-assembled film is formed between the first electrode are coplanar .
この構成によれば、前記第1電極の表面と、前記第1電極間の自己組織化膜が形成される層の表面とが同一平面上にあるため、紫外線照射などにより自己組織化膜を感光させて親液化部を作製する際、段差部に十分に紫外線が当たらないことが原因で撥液部が残ることがなく、膜厚が安定する。 According to this configuration, the surface of the first electrode, since the surface of the layer self-assembled film is formed between the first electrode are coplanar, the self-assembled film by an ultraviolet irradiation photosensitive making the lyophilic portion by, it is without lyophobic portion remains due not exposed sufficiently ultraviolet the step portion, the thickness is stabilized.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記第1電極の端部がテーパ形状断面を有するものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, an end portion of the first electrode comprises a material having a tapered cross-section.
この構成によれば、前記第1電極の端部がテーパ形状断面を有するため、紫外線により自己組織化膜の親液化部を作製する際、段差部に十分に紫外線が当たらないことが原因で撥液部が残るということがなく、膜厚が安定する。 According to this arrangement, since the end portion of the first electrode has a tapered cross section, making the lyophilic portion of the self-assembled film by UV-repellent because it does not touch enough ultraviolet stepped portion without that the liquid portion remains, the film thickness is stabilized.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記第1電極上に透明導電膜を有し、前記透明導電膜の撥液層方向の幅が、前記第1電極の撥液層方向の幅より大きいものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, wherein a transparent conductive film on the first electrode, the width of the liquid-repellent layer direction of the transparent conductive film, liquid-repellent layer direction of the first electrode including those of larger than the width.
この構成によれば、撥液層の端面で液滴分離がなされるが、この端面で表面張力に起因する液滴の盛り上がりによって、膜厚にばらつきが生じても、透明導電膜として規定されている画素領域が前記撥液層で分離された領域よりも内側に規定されているおり、画素領域内は、膜厚の安定した領域となっている。 According to this configuration, although the droplet separator at the end face of the liquid-repellent layer is made, by swelling of the droplets due to surface tension at this end face, even when variation in the film thickness, is defined as a transparent conductive film pixel region are provided is defined inside the isolated region in the liquid-repellent layer, the pixel region, and has a thickness of stable region. この結果、各画素内の発光輝度ばらつきや画素間の発光ムラを抑制し、安定で寿命特性に優れ有機エレクトロルミネッセント装置を提供することが可能となる。 As a result, uneven light emission between the emission luminance variation or pixels in each pixel is suppressed, it is possible to provide an organic electroluminescent device excellent in stability and life characteristics.
更に、段差部に十分に紫外線が当たらないことが原因で撥液部が残るということがなく、膜厚が安定する。 Furthermore, there is no possibility that it is lyophobic portion remains due not exposed sufficiently ultraviolet the step portion, the thickness is stabilized.

また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント装置において、前記第1電極間に画素規制層を有し、前記画素規制層の端部は前記第1電極の端部を覆い、前記画素規制層の端部はテーパ形状であるものを含む。 Further, in the above organic electroluminescence device, comprising a pixel regulating layer between the first electrode, an end portion of the pixel regulating layer covers the end portion of the first electrode, the pixel regulating layer end of including those which are tapered.
この構成によれば、第1の上に成膜された画素規制層により第1の電極端部の段差が緩和され、更に画素規制層の端部はテーパ形状になっているので、紫外線により自己組織化膜の親液化部を作製する際、段差部に十分に紫外線が当たらないことが原因で撥液部が残るということがなく、膜厚が安定する。 According to this configuration, the pixel regulating layer deposited on the first being the step of the first electrode end is alleviated, since the end portion of the further pixel regulating layer has a tapered shape, self by ultraviolet making the lyophilic portion of the assembled film, without that lyophobic part remains because it does not touch enough ultraviolet light stepped portion, the thickness is stabilized.

本発明の実施の形態1の有機エレクトロルミネッセント装置の要部を示す図、(a)は上面図、(b)は(a)のA−A断面図 Drawing showing the essential components of the organic electroluminescent device of Embodiment 1 of the present invention, (a) is a top view, (b) is a sectional view taken along A-A of (a) 本発明の実施の形態1の有機エレクトロルミネッセント装置の製造工程を示す図 It shows a manufacturing process of the organic electroluminescent device of Embodiment 1 of the present invention 本発明の実施の形態2の有機エレクトロルミネッセント装置を示す図、(a)は上面図、(b)は(a)のA−A断面図、(c)は(a)のB−B断面図 Shows an organic electroluminescent device according to the second embodiment of the present invention, (a) is a top view, (b) is a sectional view taken along A-A of (a), (c) the B-B of (a) a cross-sectional view 本発明の実施の形態3の有機エレクトロルミネッセント装置を示す図、(a)は上面図、(b)は(a)のA−A断面図、(c)は(a)のB−B断面図 It shows an organic electroluminescent device of the third embodiment of the present invention, (a) is a top view, (b) is a sectional view taken along A-A of (a), (c) the B-B of (a) a cross-sectional view 本発明の実施の形態4の有機エレクトロルミネッセント装置を示す図、(a)は上面図、(b)は(a)のA−A断面図、(c)は(a)のB−B断面図 It shows an organic electroluminescent device of the fourth embodiment of the present invention, (a) is a top view, (b) is a sectional view taken along A-A of (a), (c) the B-B of (a) a cross-sectional view 本発明の実施の形態5の有機エレクトロルミネッセント装置を示す図、(a)は上面図、(b)は(a)のA−A断面図、(c)は(a)のB−B断面図 Shows an organic electroluminescent device according to a fifth embodiment of the present invention, (a) is a top view, (b) is a sectional view taken along A-A of (a), (c) the B-B of (a) a cross-sectional view 本発明の実施の形態6の有機エレクトロルミネッセント装置を示す図、(a)は上面図、(b)は(a)のA−A断面図、(c)は(a)のB−B断面図 It shows an organic electroluminescent device of the sixth embodiment of the present invention, (a) is a top view, (b) is a sectional view taken along A-A of (a), (c) the B-B of (a) a cross-sectional view 本発明の実施の形態6の表示装置の等価回路図 Equivalent circuit diagram of a display device of a sixth embodiment of the present invention 本発明の実施の形態6の表示装置のレイアウト説明図 Layout diagram of a display device of a sixth embodiment of the present invention 本発明の実施の形態6の表示装置の上面説明図 Top explanatory view of a display device of a sixth embodiment of the present invention 本発明の実施の形態7の有機エレクトロルミネッセント装置を示す図 It shows an organic electroluminescent device of the seventh embodiment of the present invention 本発明の実施の形態8の有機エレクトロルミネッセント装置を示す図 It shows an organic electroluminescent device of the eighth embodiment of the present invention 本発明の実施の形態9の有機エレクトロルミネッセント装置を示す図 It shows an organic electroluminescent device of the ninth embodiment of the present invention 本発明の実施の形態10の有機エレクトロルミネッセント装置を示す図 It shows an organic electroluminescent device of the tenth embodiment of the present invention

(実施の形態1) (Embodiment 1)
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。 It will be described in detail with reference to the drawings, embodiments of the present invention.
図1(a)および(b)は、本発明の実施の形態の有機エレクトロルミネッセント装置の1ラインの一部を示す上面図およびこのA−A断面図である。 Figure 1 (a) and (b) are a top view and the A-A cross-sectional view showing a part of one line of the embodiment of an organic electroluminescent device of the present invention. 本実施の形態1の有機エレクトロルミネッセント装置は、図1に示すように、表面に積層された半導体薄膜内にTFTなどの素子(図示せず)の形成されたガラス基板11上に、複数の有機エレクトロルミネッセント素子がマトリックス状に配列されたもので、前記ガラス基板11上に、正孔を注入する第1の電極としての陽極12と、前記陽極12の一部に開口を有して形成され正孔または電子のうち少なくとも一方の注入を制御して発光機能を有した層の発光領域を規制する画素規制部13と、複数の異なる色に発光する発光機能を有した層14と、電子を注入する第2の電極としての陰極15と、複数の発光色毎に領域を分離する撥液層16とを有し、前記発光機能を有した層14が、前記撥液層16で分離された領域内において、前 The organic electroluminescent device of the first embodiment, as shown in FIG. 1, on a glass substrate 11 formed of elements such as laminated TFT in the semiconductor thin film (not shown) on the surface, a plurality those organic electroluminescent device are arranged in a matrix, on the glass substrate 11, an anode 12 as a first electrode for injecting holes, has an opening in a portion of the anode 12 a pixel regulating portion 13 for regulating the light emitting region of the layer having a controlled and light-emitting function of at least one of injection of the formed holes or electrons Te, and the layer 14 having a function of emitting a plurality of different colors , a cathode 15 as a second electrode for injecting electrons, and a liquid-repellent layer 16 which separates the regions for each of a plurality of light emitting colors, the layer 14 having the light emitting function is, in the liquid repellent layer 16 in isolated area, before 画素規制部13上に跨って一体的に形成されたことを特徴とする。 And wherein the integrally formed astride over the pixel restricting portion 13. 発光機能を有した層14は、前記撥液層16で分離された領域よりも内側に、画素規制部13の開口を有し、この開口により画素領域が規定されている。 Layer 14 having a light emitting function, inside the isolated region in the liquid repellent layer 16, has an opening of the pixel restricting portion 13 is defined pixel regions by the opening. ここで撥液層は、図2に要部拡大図を示すように、色毎にライン状に分離するように形成された自己組織化膜のパターンで構成されている。 Here repellent layer is composed of a pattern of self-assembled film formed so as to show the enlarged view in FIG. 2, for separating linearly for each color. この撥液層に囲まれた領域に、インクジェット法などにより発光層となる樹脂層が充填され、ライン毎に一体形成されている。 This region surrounded by the lyophobic layer, a resin layer serving as the light-emitting layer is filled by an inkjet method, it is integrally formed on each line. この画素規制部13の開口Oに相当する領域が発光領域となる。 Region corresponding to the opening O of the pixel restricting portion 13 is a light emitting region.

この有機エレクトロルミネッセント装置は、前記発光機能を有する層14が、前記撥液層16で分離された領域内において、前記画素規制部13上に跨って一体的に形成されているため、発光機能を有した層を形成するための塗布液はより広い領域に充填されることになり、撥液層で囲まれた共通領域内に円滑に充填され、安定な膜厚で、むらなく形成することができる。 The organic electroluminescent device, a layer 14 having the light emitting function, in said separated liquid repellent layer 16 region, since it is integrally formed astride on the pixel restricting portion 13, the light emitting the coating liquid for forming a layer having a function would be filled in a larger area, are smoothly filled into the common area which is surrounded by the lyophobic layer, a stable film thickness and evenly formed be able to. そしてその内部で画素規制部によって規定されたより安定な膜厚の領域のみが発光に寄与する領域となる。 The only region of the stable film thickness than defined by the pixel restricting portion is region contributing to light emission therein. このため、撥液層16の近傍で膜厚の不安定な領域があったとしても、その領域は画素規制部13で覆われ、電圧が印加されない領域となる。 Therefore, even if an unstable region of the film thickness in the vicinity of the liquid repellent layer 16, the region covered by the pixel restricting portion 13 is a region where no voltage is applied. さらにまた、画素規制部に起因する段差はなくすことができないものの、発光機能を有した層を画素毎に分離する場合に比べて複数画素分一体的に形成しているため、塗布腋が、より広い領域で、この段差上を流動することになり、より安定な塗布膜を得ることができる。 Furthermore, although it is impossible to eliminate the step resulting from the pixel restricting portion, because it forms a plurality of pixels integrated in comparison with the case of separating the layer having the light emitting function for each pixel, is applied armpit, more a wide area, will be flowing over the step, it is possible to obtain a more stable coating film. 従って幅方向は狭小であっても、長さ方向は一体的に形成されて長いため、微細な色分離が可能となり、画素領域における発光機能を有した層の膜厚が安定していることから、長寿命でかつ信頼性の高い有機エレクトロルミネッセント素子を形成することが可能となる。 Therefore, even if the width direction of a narrow, because the length direction is longer integrally formed, it is possible to fine color separation, since the thickness of the layer having the light emitting function in the pixel region is stable , it is possible to form a long service life and reliable organic electroluminescent element. また、撥液層が自己組織化膜で構成されており、膜厚が薄い上、フッ素プラズマを用いる事無く形成でき、プラズマダメージを抑制し、信頼性の高い有機エレクトロルミネッセント装置を提供することが可能となる。 Further, the liquid repellent layer is constituted by self-assembled film, on the film thickness is thin, without be formed by using a fluorine plasma, suppressing plasma damage, to provide a highly reliable organic electroluminescent device it becomes possible.

次に本発明の実施の形態1の有機エレクトロルミネッセント装置の製造方法について説明する。 Then the method of manufacturing the organic electroluminescent device of Embodiment 1 of the present invention will be described.
まず、図2(a)に示すように、ガラス基板11上に、スパッタリング法によりITO薄膜を形成し、これをフォトリソグラフィによりパターニングすることにより、陽極12を形成する。 First, as shown in FIG. 2 (a), on a glass substrate 11, an ITO film was formed by sputtering, which is patterned by photolithography, to form the anode 12.

次いで、スパッタリング法により窒化シリコン膜を形成しこれをフォトリソグラフィによりパターニングすることにより、画素規制部13を形成する。 Then, by patterning by photolithography so forming a silicon nitride film by a sputtering method to form the pixel restricting portion 13.
続いて、図2(b)に示すように、真空蒸着法により、金属酸化物薄膜を形成し、これをフォトリソグラフィによりパターニングすることにより、電荷注入層14aを形成する。 Subsequently, as shown in FIG. 2 (b), by vacuum evaporation, to form a metal oxide thin film, which is patterned by photolithography to form a charge injection layer 14a.

この後、塗布法により、自己組織化膜を形成し、紫外線を選択照射することで、この自己組織化膜を親水化し、図2(c)に示すように、撥液層16のパターンを形成する。 Thereafter, by a coating method, to form a self-assembled film, by selecting ultraviolet irradiation, the self-assembled film is hydrophilized, as shown in FIG. 2 (c), a pattern of liquid-repellent layer 16 to.
この後、図2(d)に示すように、塗布法により高分子材料からなる発光層14bを塗布する。 Thereafter, as shown in FIG. 2 (d), applying the light emitting layer 14b made of a polymeric material by a coating method. そして熱処理を行い硬化させる。 And cured by heat treatment.
そして最後に蒸着法によって陰極15(図1参照)を形成する。 And forming the cathode 15 (see FIG. 1) by the last evaporation.

このように本発明の方法によれば、高分子材料を塗布することにより形成される発光層14bは撥液層によってパターニングされるため、製造が容易でかつ大面積化が可能である。 According to the method of the present invention, the light emitting layer 14b is formed by applying a polymeric material to be patterned by the liquid repellent layer, it is possible to easy and a large area is manufactured. また、撥液層が自己組織化膜で構成されているため、プラズマによるダメージもなく、発光効率が高く、信頼性の高い有機エレクトロルミネッセント装置を形成することが可能となる。 Further, since the liquid repellent layer is composed of a self-organizing film, no plasma damage, high luminous efficiency, it is possible to form a high organic electroluminescent device reliability.

(撥液層) (Liquid-repellent layer)
撥液層は以下のようにして形成される。 Liquid repellent layer is formed as follows. 表面に、フルオロアルキルシランなどからなる自己組織化膜を形成することにより、これが撥液層として機能し、撥液処理を行う。 On the surface, by forming a self-assembled film made of fluoroalkyl silane, which functions as the liquid-repellent layer, it performs the liquid-repellent treatment. この撥液処理によって自己組織化膜からなる撥液層16が形成される。 Repellent layer 16 made of self-assembled film by the liquid-repellent treatment is formed. そして、この撥液層16により、陽極12およびこの表面に形成された画素規制部13の表面全体に対し、発光機能を有した液状体は所定の接触角を持つようになる。 Then, this liquid repellent layer 16, the entire surface of the pixel restricting portion 13 formed on the anode 12 and the surface to liquid material having a light emitting function is to have a predetermined contact angle.

基板表面を処理するための有機分子膜は、基板に結合可能な官能基と、その反対側に親液基あるいは撥液基といった基板の表面性を改質する(表面エネルギーを制御する)官能基と、これらの官能基を結ぶ炭素の直鎖あるいは一部分岐した炭素鎖を備えており、基板に結合して自己組織化して分子膜、例えば単分子膜を形成するものである。 The organic molecular film for processing the substrate surface (controlling surface energy) and a functional group capable of binding to the substrate, modifying the surface properties of the substrate such as a lyophilic group or Bachiekimoto on the opposite side functional groups When provided with a linear or partially branched carbon chain of carbon connecting these functional groups, and forms a self-assembled to molecular film, for example, a monomolecular film bonded to the substrate.

自己組織化膜とは、基板などの下地層の構成原子と反応可能な結合性官能基と、それ以外の直鎖分子とからなり、該直鎖分子の相互作用により極めて高い配向性を有する化合物を、配向させて形成された膜である。 The self-assembled monolayer, and constituent atoms capable of reacting with binding functional group of the underlying layer, such as a substrate made of an other linear molecule, a compound having an extremely high orientation by the interaction of the straight chain molecules and a film formed by orienting. この自己組織化膜は、単分子を配向させて形成されているので、極めて膜厚を薄くすることができ、しかも、分子レベルで均一な膜となる。 The self-assembled film, since it is formed by orienting a monomolecular, it is possible to reduce the very thickness, moreover, made at the molecular level and uniform film. 即ち、膜の表面に同じ分子が位置するため、膜の表面に均一でしかも優れた撥液性を付与することができる。 That is, in order to position the same molecule on the surface of the membrane, it is possible to impart excellent liquid repellency be approximately uniformly on the surface of the membrane.

上記の高い配向性を有する化合物として、例えばフルオロアルキルシランを用いた場合には、膜の表面にフルオロアルキル基が位置するように各化合物が配向されて自己組織化膜が形成されるので、膜の表面に均一な撥液性が付与される。 As a compound having a high orientation of the, for example, in the case of using a fluoroalkyl silane is because each compound is oriented self-assembled film is formed such that fluoroalkyl groups on the surface of the film located, film uniform liquid repellency is imparted to the surface of the.

このような自己組織化膜を形成する化合物としては、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロデシルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロデシルトリクロロシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリクロロシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等のフルオロアルキルシラン(以下「FAS」という)を挙げることができる。 Examples of such compounds to form a self-assembled film, heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydronaphthalene-decyl triethoxysilane, heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydronaphthalene-decyl trimethoxysilane, heptadeca 1,1,2,2-tetrahydronaphthalene-decyl trichlorosilane, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydronaphthalene-octyltriethoxysilane, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydronaphthalene-octyl trimethoxy silane, trideca 1,1,2,2-tetrahydronaphthalene-octyl trichlorosilane, fluoroalkyl silanes, such as trifluoropropyl trimethoxy silane (hereinafter referred to as "FAS") can be exemplified. 使用に際しては、一つの化合物を単独で用いるのも好ましいが、2種以上の化合物を組合せて使用しても、よい。 In use, it is also preferable to use one compound alone, it is used in combination of two or more compounds may. また、本実施の形態においては、前記の自己組織化膜を形成する化合物として、前記FASを用いるのが、基板との密着性および良好な撥液性を付与する上で好ましい。 Further, in this embodiment, as the compound forming the self-assembled film, use the FAS is preferable for imparting adhesiveness and good liquid repellency to the substrate.

FASは、一般的に構造式RnSiX (4−n)で表される。 FAS is generally represented by the structural formula RnSiX (4-n). ここでnは1以上3以下の整数を表し、Xはメトキシ基、エトキシ基、ハロゲン原子などの加水分解基である。 Where n is an integer of 1 to 3, X is a methoxy group, an ethoxy group, hydrolyzable group such as a halogen atom. またRはフルオロアルキル基であり、(CF )(CF (CH [ここでxは0 In addition, R is a fluoroalkyl group, (CF 3) (CF 2 ) x (CH 2) y [ wherein x is 0
以上10以下の整数を、yは0以上4以下の整数を表す]の構造を持ち、複数個のRまたはXがSiに結合している場合には、RまたはXはそれぞれすべて同じでも良いし、異なっていてもよい。 To 10 of an integer, y has a structure of 0 to 4 represent the following integer, when a plurality of R or X are bonded to Si, R or X represents respectively may all be the same , it may be different. Xで表される加水分解基は加水分解によりシラノールを形成して、基板(ガラス)等の下地のヒドロキシル基と反応してシロキサン結合で基板と結合する。 The hydrolytic group indicated by X forms silanol by hydrolysis, to bind to the substrate by siloxane bond by reacting with base hydroxyl groups, such as a substrate (glass). 一方、Rは表面に(CF )等のフルオロ基を有するため、基板等の下地表面を濡れにくい(表面エネルギーが低い)表面に改質する。 Meanwhile, R represents because it has a fluoro group such as a surface (CF 3), hardly wet underlying surface of the substrate or the like (surface energy is low) to modify the surface.

そして、紫外光などにより自己組織化膜の官能基(たとえばフルオロ基)を部分的に除去し、ヒドロキシル基を表面に部分的に存在させることにより、撥液性を制御することができる。 Then, the functional group of the self-assembled monolayer (e.g., fluoro) and partially removed by ultraviolet light, a hydroxyl group by partially present on the surface, it is possible to control the liquid repellency.

自己組織化膜は、上記の原料化合物と被処理体(この例では陽極および画素規制部が形成されたガラス基板11)とを同一の密閉容器中に入れておき、室温の場合は2〜3日程度の間放置することで被処理体の表面に形成される。 Self-assembled film, the above-described raw material compound and the target object previously put the (glass substrate 11 on which the anode and the pixel restricting portion is formed in this example) in the same closed container, in the case of room temperature 2-3 It is formed on the surface of the object by standing for the day or so. また、密閉容器全体をたとえば100℃に保持することにより、3時間程度で自己組織化膜を被処理体の表面に形成することができる。 Further, by maintaining the entire sealed container for example 100 ° C., it is possible to form a self-assembled film on the surface of the object to be processed in about 3 hours.
以上、気相からの撥液層の形成方法について説明したが、液相からも自己組織化膜は形成可能である。 Having described the method of forming the liquid-repellent layer from the gas phase, the self-assembled film from the liquid phase can be formed. 例えば、原料化合物を含む溶液中に被処理体を浸積し、洗浄、乾燥することで被処理体の表面に自己組織化膜を形成することができる。 For example, it is possible in a solution containing a raw material compound was immersed the object to be processed, washed, to form a self-assembled monolayer on the surface of the object by drying.

なお、自己組織化膜を形成する前に、被処理体の表面に紫外光を照射したり、溶媒により洗浄したりして、前処理を施すことができる。 Incidentally, before forming the self-assembled film, or irradiating ultraviolet light on the surface of the object, or by washing with a solvent, it is possible to pre-process is performed.

(画素規制部) (Pixel restricting portion)
また、透光性のガラス基板11の上に陽極12として形成された透光性電極ITOに、発光領域を規制する画素規制部13が設けられる。 Further, the transparent electrode ITO formed as an anode 12 on the transparent glass substrate 11, pixel restricting portion 13 for restricting the light-emitting region is provided. ここで画素規制部の厚みは、画素規制部に用いられる絶縁膜の材料およびプロセスによって下限があり、上層に形成される発光機能を有した層の性能上は薄い方が好ましいが、ピンホール等ができるとショートすることから、好ましくは10nmから200nmの間の範囲で用いられ、特に好ましくは10nmから100nmである。 Wherein the thickness of the pixel restricting portion, there is a lower limit by the materials and processes of the insulating film used for the pixel restricting portion, although the performance of the layer having the light emitting function is formed on the upper layer is preferably thin, pinholes or the like since the short when it is, preferably used in the range between 200nm from 10 nm, particularly preferably from 10 nm 100 nm.

この画素規制部は、SiO , SiN、SiON、Al 、AlN等の絶縁性の無機物、もしくはポリイミド等の有機材料が用いられる。 The pixel regulating unit, SiO 2, SiN, SiON, an insulating inorganic material such as Al 2 O 3, AlN, or organic material such as polyimide is used. ただし、膜厚が上記のように極めて薄い領域になった場合、無機材料を用いる方が絶縁破壊等に対して有利である。 However, if the film thickness becomes extremely thin region as described above, better to use an inorganic material is advantageous for dielectric breakdown and the like. 無機材料は上記の他にピンホール等がなく絶縁性に優れたものであれば適用可能である。 Inorganic materials can be applied as long as it is excellent in addition to the pin hole or the like without insulating the.

(ホール注入層) (Hole injection layer)
その後、ホール注入層14aとして、有機物であれば上記のポリチオフェン系のPEDT: PSS等の材料をスピンコートやインクジェット法、ノズルコート法で形成する。 Thereafter, as the hole injection layer 14a, if the organic material above polythiophene PEDT: spin coating or ink jet method a material such as PSS, formed by a nozzle coating method. 他にポリアニリン系の材料も用いることが出来る。 Other material of polyaniline-based can also be used. 無機物のホール注入層も知られており、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化バナジウム、酸化ルテニウム等が用いられる。 Hole injection layer of inorganic are also known, tungsten oxide, vanadium oxide, ruthenium oxide or the like is used. その他にフラーレン等の炭素化合物を蒸着して用いることが出来る。 Other may be used by depositing a carbon compound such as fullerene. これらは、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法によって形成される。 These vacuum deposition, electron beam deposition, is formed by sputtering. 膜厚は、5nmから200nmの間で用いるのが好ましい。 The film thickness is preferably used at between 5nm of 200 nm.
また、酸化モリブデンや、酸化タングステン、フラーレン等の炭素化合物等蒸着やスパッタ法で形成される膜が好ましく用いられる。 Moreover, and molybdenum oxide, tungsten oxide, the film formed by the carbon compounds such as vapor deposition or sputtering method such as fullerene are preferably used. 特に遷移金属の酸化物類は、イオン化ポテンシャルが大きく発光材料へのホール注入が容易であり、安定性にも優れていることから特に好ましい。 In particular oxides of transition metals are easy to hole injection ionization potential to increase the light emitting material, particularly preferred since it is excellent in stability. これらの酸化物類は成膜時または成膜後に欠陥準位を有するように作製することがホール注入層を高めるのに有効である。 These oxides are it is effective to enhance the hole injection layer made to have a defect level after the formation or during the film formation.

(発光層・インターレイヤ) (Light-emitting layer and the inter-layer)
ホール注入層(14a)の上には、有機半導体材料を塗布して、発光層(14b)を形成する。 On the hole injection layer (14a) is coated with the organic semiconductor material to form a light emitting layer (14b). また、発光層14bと陰極との間には電子注入層14cが形成される。 The electron injecting layer 14c is formed between the light emitting layer 14b and the cathode. この際、発光層とホール注入層の間にホールブロッキング層などとして、インターレイヤ(中間層)を設けると発光効率が向上する。 In this case, as such a hole blocking layer between the light-emitting layer and the hole injection layer, the luminous efficiency is improved and provided interlayer (intermediate layer). このホールブロッキング層としては、ポリフルオレン系の高分子材料で発光層に用いる材料よりLUMO(最低空軌道)レベルが高いか、もしくは電子の移動度が小さいTFB等が用いられるが、これに限ったものではない。 As the hole blocking layer, or LUMO (lowest unoccupied molecular orbital) level higher than the material used for the light-emitting layer of a polymeric material of polyfluorene, or the electron mobility is less TFB, or the like is used, limited to this not. 発光層としては、ポリフルオレン系、ポリフェニレンビニレン系、ペンダント型、デンドリマー型、塗布型の低分子系を含め、溶媒に溶解させ、塗布して薄膜を形成出来るものであれば種類を問わない。 As the light emitting layer, polyfluorene, a polyphenylene vinylene, including pendant, dendrimeric, low molecular weight of the coating type, dissolved in a solvent, any kind as long as a thin film to be formed by coating. 発光層(発光機能を有した層)には、発光機能を有する材料を複数種含むことができ、ホールと電子の移動度や注入性、発光色度の調節をすることができる。 The light-emitting layer (the layer having the light emitting function), a material having a light emitting function can be a containing multiple species can be mobility and injectability of holes and electrons, the adjustment of the light emission chromaticity. また、発光材料をドーパントとして用いる場合は、ホスト材料にドーパントを混合した塗布液を用いることができる。 In the case of using a light-emitting material as a dopant, it is possible to use a coating solution obtained by mixing a dopant in the host material. ドーパントとしては、公知の蛍光発光材料や燐光発光材料を用いることができる。 The dopant may be any known fluorescent material or phosphorescent material. これらの材料は、いわゆる低分子、高分子あるいはオリゴマー等いずれであってもよい。 These materials, so-called small molecules, may be any polymer or oligomer. また高分子のホスト材料に低分子のドーパントを添加する等種々の組み合わせをとることも可能である。 Further, it is possible to take a equal variety of combinations of adding dopant of the low molecular host material of a polymer.

(陰極) (cathode)
また、有機エレクトロルミネッセント素子の陰極15としては、仕事関数の小さい金属もしくは合金が用いられるが、トップエミッション構造の有機エレクトロルミネッセント素子を構成するために、透光性材料からなる導電膜を積層することで、透明陰極を形成することができる。 As the cathode 15 of the organic electroluminescent element, but smaller metal or alloy having a work function is used, to construct an organic electroluminescence element having a top emission structure, a conductive film made of a translucent material by laminating, it is possible to form a transparent cathode. この仕事関数の低い材料からなる超薄膜としては、Ba−Alの2層構造に限定されることなく、Ca−Alの2層構造、あるいはLi、Ce、Ca、Ba、In、Mg、Ti等の金属やこれらの酸化物、フッ化物に代表されるハロゲン化物、Mg−Ag合金、Mg−In合金等のMg合金や、Al−Li合金、Al−Sr合金、Al−Ba合金等のAl合金等が用いられる。 The ultra-thin film made of a material having a low work function, without being limited to a two-layer structure of the Ba-Al, 2-layer structure of Ca-Al, or Li, Ce, Ca, Ba, In, Mg, Ti, etc. metals and their oxides, halides typified by fluoride, Mg-Ag alloy, and Mg alloys such as Mg-in alloy, Al-Li alloy, Al-Sr alloy, Al alloy such as Al-Ba alloy and the like can be used. あるいはLiO /AlやLiF/Al等の積層構造の超薄膜と、透光性導電膜との積層構造も陰極材料として好適である。 Alternatively the ultra-thin film of a laminated structure such as LiO 2 / Al or LiF / Al, layered structure of the transparent conductive film is also suitable as a cathode material. さらにTiOxや、MoOx、WOx、TiOx、ZnO等の遷移金属酸化物で酸素欠損をもち導電性をしめすものは電子の注入層として使用することが出来る。 Further TiOx and, MoOx, WOx, TiOx, which shows the conductivity has an oxygen deficient transition metal oxide such as ZnO can be used as an electron injection layer.

(層構成) (Layer structure)
層構成は、発光した光を基板側から取り出すボトムエミッション型の他に、基板の反対側から取り出すいわゆるトップエミッション型でもよい。 Layer structure, in addition to the bottom emission type to extract emitted light from the substrate side, may be a so-called top emission type taken from the opposite side of the substrate. この場合は、陽極としては光を反射する陽極とするのが好ましく、陰極としては実質的に透光性のある陰極が用いられる。 In this case, it is preferable to an anode that reflects light as an anode, a cathode with a substantially transmissive is used as a cathode. 上記陰極および陽極は多層構成としてもよい。 The cathode and anode may have a multilayer structure. さらに、基板に近い方の電極を陰極とするいわゆるリバース構造をとることも可能である。 Furthermore, it is also possible to adopt a so-called reverse structure in which the electrode closer to the substrate as the cathode. この構造においてもボトムエミッション型、トップエミッション型がある。 Bottom emission type in this structure, there is a top emission type.

層構成としては、種々の層構成をとることができる。 The layer structure can take various layer structures. 例えば陽極12の側から順に正孔輸送層/電子ブロック層/上述した有機発光材料層(ともに図示せず)の三層構造としてもよいし、発光機能を有した層14を陰極15の側から順に電子輸送層/有機発光材料層(ともに図示せず)の二層構造、あるいは陽極12の側から順に正孔輸送層/有機発光材料層の2層構造(ともに図示せず)、あるいは陽極12の側から順に正孔注入層/正孔輸送層/電子ブロック層/有機発光材料層/正孔ブロック層/電子輸送層/電子注入層のごとく7層構造(ともに図示せず)としてもよい。 For example may be used as the three-layer structure of a hole transporting layer / electron blocking layer / the above-mentioned organic light emitting material layer in order from a side of the anode 12 (both not shown), a layer 14 having a light emitting function from the side of the cathode 15 sequentially an electron transporting layer / two-layer structure of the organic light emitting material layer (both not shown) or a two-layer structure (not both shown) of the hole transport layer / organic light emitting material layer in order from a side of the anode 12, or the anode 12 hole injection layer in this order from the side of the / hole transport layer / electron block layer / organic light emitting material layer / hole blocking layer / electron transport layer / 7-layer structure as an electron injection layer (not both shown) may be. またはより単純に発光機能を有した層14が上述した有機発光材料のみからなる単層構造であってもよい。 Or layer 14 having a more simple light-emitting function may be a single layer structure composed of only an organic light emitting material described above. このように実施の形態において発光機能を有した層14と呼称する場合は、発光機能を有した層14が正孔輸送層、電子ブロック層、電子輸送層などの機能層を有する多層構造である場合も含むものとする。 May be called a layer 14 having a light emitting function in the form of such implementation, the layer 14 is a hole transport layer having a light emitting function, an electron blocking layer is a multilayer structure having a functional layer such as an electron transport layer If it shall also be included. 後に説明する他の実施の形態についても同様である。 The same applies to other embodiments to be described later.

(実施の形態2) (Embodiment 2)
本実施の形態では、有機エレクトロルミネッセント素子を2次元配列した有機エレクトロルミネッセント装置を示すもので、図3(a)は上面図、図3(b)は図3(a)のA−A断面図、図3(c)は図3(a)のB−B断面図である。 In the present embodiment, shows an organic electroluminescent device having an array of organic electroluminescence element 2 dimensional, A of FIG. 3 (a) is a top view, FIG. 3 (b) FIGS. 3 (a) -A sectional view, FIG. 3 (c) is a B-B sectional view of FIG. 3 (a). 本実施の形態では、画素規制部13が縦横に配置され、画素領域Arを構成する領域に開口Oを形成している。 In this embodiment, the pixel restricting portion 13 is arranged vertically and horizontally to form an opening O in the region constituting the pixel region Ar. またこの画素規制部13は、陽極12上にパターン形成された正孔注入層14a上に撥液層16を形成している。 The pixel restricting portion 13 forms the liquid repellent layer 16 on the hole injection layer 14a, which is patterned on the anode 12. そしてこの撥液層16の開口端は、画素規制部13上に位置するように、すなわち、画素領域よりも外側に撥液層16が位置するように構成される。 The open end of the liquid repellent layer 16 is to be positioned on the pixel restricting portion 13, i.e., configured to position the liquid repellent layer 16 outside the pixel region.

この構成によれば、撥液層の端面で液滴分離がなされるが、この端面で表面張力に起因する液滴のもりあがりによって、膜厚にばらつきが生じても、画素領域が前記撥液層で分離された領域よりも内側に規定されているため、画素領域内は、膜厚の安定した領域となっており、各画素内の発光輝度ばらつきや画素間の発光ムラを抑制し、安定で寿命特性に優れ有機エレクトロルミネッセント装置を提供することが可能となる。 According to this configuration, although the droplet separator at the end face of the liquid-repellent layer is made, by swelling of the droplets due to surface tension at this end face, even when variation in the film thickness, the pixel region is the liquid-repellent layer in order as defined inside the isolated region, the pixel region, has a thickness of stable region, to suppress the non-uniformity in light emission between the emission luminance variation or pixels in each pixel, a stable it is possible to provide an organic electroluminescent device excellent in life characteristics.

(実施の形態3) (Embodiment 3)
本実施の形態でも、前記実施の形態2と同様、有機エレクトロルミネッセント素子を2次元配列した有機エレクトロルミネッセント装置を構成している。 In the present embodiment, similarly to the second embodiment, it constitutes the organic electroluminescent device having an array of organic electroluminescence element 2D. 図4(a)は上面図、図4(b)は図4(a)のA−A断面図、図4(c)は図4(a)のB−B断面図である。 4 (a) is a top view, FIG. 4 (b) A-A sectional view of FIG. 4 (a), FIG. 4 (c) is a B-B sectional view of FIGS. 4 (a). 本実施の形態では、正孔注入層14aが画素規制部13よりも上層に、複数の画素領域に渡って一体的に形成された点で前記実施の形態2と異なるが、他は前記実施の形態2と同様に形成されている。 In this embodiment, the hole injection layer 14a is in an upper layer than the pixel restricting portion 13, over a plurality of pixel areas different from the second embodiment in that integrally formed, but others of the embodiments It is formed in the same manner as embodiment 2. 正孔注入層14aが画素規制部13上に縦横に配置され、画素領域Arを構成する領域に開口Oを形成している。 Hole injection layer 14a are arranged vertically and horizontally on the pixel restricting portion 13 forms an opening O in the region constituting the pixel region Ar. また、この画素規制部13は、陽極12上に形成された正孔注入層14a上に撥液層16を形成している。 Further, the pixel restricting portion 13 forms the liquid repellent layer 16 on the hole injection layer 14a formed on the anode 12. そしてこの撥液層16の開口端は、画素規制部13上に位置するように、すなわち、画素領域よりも外側に撥液層16が位置するように構成される。 The open end of the liquid repellent layer 16 is to be positioned on the pixel restricting portion 13, i.e., configured to position the liquid repellent layer 16 outside the pixel region.

また、発光層と陽極との間に複数の発光部に跨って連続的に形成された正孔注入層14aとしてドライプロセスで形成した酸化モリブデンなどの遷移金属酸化物層を介在させると共に、この上層に電子ブロック層などのインターレイヤ14Sを配置している。 Further, with the interposition of a transition metal oxide layer, such as molybdenum oxide which is formed by a dry process as the hole injection layer 14a that is continuously formed over the plurality of light emitting portions between the light-emitting layer and the anode, the upper layer It is arranged inter-layer 14S, such as electron blocking layers.

すなわち、本発明は、少なくとも一組の電極と、前記電極間に形成された発光機能を有した層とを具備した複数の発光部を基板上に形成した有機エレクトロルミネッセント装置であって、少なくとも1種類の有機半導体からなる発光層に加え、前記一組の電極のうち少なくとも一方の電極と前記発光層との間に配されたホール注入層を有する。 That is, the present invention provides a plurality of light emitting parts of the organic electroluminescent device formed on a substrate which is provided with at least one pair of electrodes and a layer having the light emitting function formed between the electrodes, in addition to the light-emitting layer composed of at least one organic semiconductor, having a hole injection layer disposed between the light emitting layer and at least one electrode of said pair of electrodes. 酸化モリブデンなど、前記遷移金属の酸化物層は、複数の発光部に跨って連続的に形成されたことを特徴とする。 Such as molybdenum oxide, the oxide layer of the transition metal is characterized in that it is continuously formed over the plurality of light emitting portions. これは横方向の導電率が小さいため、複数の画素に跨って一体的に形成しても、クロストークがほとんど無いため画素ばらつきが小さく、高精度の発光特性を得る事が可能となる。 This is because lateral conductivity is small, be formed integrally over a plurality of pixels, the pixel variation for crosstalk little small, it is possible to obtain light emission characteristics of high accuracy.

この構成において、遷移金属の酸化物層を発光層よりも下層側に配したときは遷移金属の酸化物層を複数の画素に跨って一体的に形成することにより、インターレイヤ14Sおよび発光層14bの形成に際し、陽極12上と画素規制部13上のいずれも正孔注入層14a上となり、有機発光材料に対する接触角が同じであるため、この画素規制部13の開口端での塗布時の液滴のかたよりがなく、比較的平坦な表面を図ることができる。 In this configuration, by integrally forming over a plurality of pixels oxide layer of a transition metal when placed on the lower layer side than the light emitting layer of an oxide layer of a transition metal, inter-layer 14S and the light-emitting layer 14b upon the formation, either on the anode 12 and on the pixel restricting portion 13 becomes the hole injection layer 14a, since the contact angle with respect to the organic light emitting material is the same, the liquid at the coating at the open end of the pixel restricting portion 13 no deviation of droplets, it is possible to achieve a relatively flat surface. 従って、発光機能を有した層の上層に形成される電極の形成に際してもさらなる高精度のパターンを得る事が可能となる。 Therefore, it becomes possible to obtain a pattern of even higher accuracy in forming the electrodes formed on the upper layer of the layer having the light emitting function.

(実施の形態4) (Embodiment 4)
次に本発明の実施の形態4について説明する。 Next will be described a fourth embodiment of the present invention.
本実施の形態でも、前記実施の形態2、3と同様、有機エレクトロルミネッセント素子を2次元配列した有機エレクトロルミネッセント装置を構成している。 In the present embodiment, similarly to the second and third embodiments, and constitutes an organic electroluminescent device having an array of organic electroluminescence element 2D. 図5(a)は上面図、図5(b)は図5(a)のA−A断面図、図5(c)は図5(a)のB−B断面図である。 5 (a) is a top view, FIG. 5 (b) A-A sectional view of FIG. 5 (a), FIG. 5 (c) is a B-B sectional view of FIGS. 5 (a). 前記実施の形態1乃至3では撥液層16を縦横に形成したが、本実施の形態では、撥液層16をライン状に形成したことを特徴とするもので、インターレイヤ14Sと発光層14bは縦方向には一体的にライン状をなすように形成されている。 Wherein Although Embodiments 1 to 3, the liquid repellent layer 16 of the embodiment is formed vertically and horizontally, in this embodiment, characterized in that the formation of the liquid repellent layer 16 in a line shape, inter-layer 14S and the light-emitting layer 14b It is formed so as to form the integrally linearly in the vertical direction. 本実施の形態では、前記実施の形態2と同様、正孔注入層14aは画素規制部13よりも下層に、パターン形成されている。 In this embodiment, similarly to the second embodiment, the hole injection layer 14a to the lower layer than the pixel restricting portion 13, and is patterned. 画素規制部13が縦横に配置され、画素領域Arを構成する領域に開口Oを形成している。 Pixel restricting portion 13 is arranged vertically and horizontally to form an opening O in the region constituting the pixel region Ar. またこの画素規制部13は、陽極12上に形成された正孔注入層14a上に形成されており、さらにこの上層に撥液層16が形成されている。 The pixel restricting portion 13 is formed on the hole injection layer 14a formed on the anode 12, is further liquid repellent layer 16 is formed on the upper layer. そしてこの撥液層16の開口端は、画素規制部13上に位置するように、すなわち、画素領域よりも外側に撥液層16が位置するように構成される。 The open end of the liquid repellent layer 16 is to be positioned on the pixel restricting portion 13, i.e., configured to position the liquid repellent layer 16 outside the pixel region.

また、発光層と陽極との間に複数の発光部に跨って連続的に形成された正孔注入層14aとしてドライプロセスで形成した酸化モリブデンなどの遷移金属酸化物層を介在させると共に、この上層に電子ブロック層などのインターレイヤ14Sを配置している。 Further, with the interposition of a transition metal oxide layer, such as molybdenum oxide which is formed by a dry process as the hole injection layer 14a that is continuously formed over the plurality of light emitting portions between the light-emitting layer and the anode, the upper layer It is arranged inter-layer 14S, such as electron blocking layers.

すなわち、本発明は、少なくとも一組の電極と、前記電極間に形成された発光機能を有した層とを具備した複数の発光部を基板上に形成した有機エレクトロルミネッセント装置であって、少なくとも1種類の有機半導体からなる発光層に加え、前記一組の電極のうち陽極と前記発光層との間に配されたホール注入層を有する。 That is, the present invention provides a plurality of light emitting parts of the organic electroluminescent device formed on a substrate which is provided with at least one pair of electrodes and a layer having the light emitting function formed between the electrodes, in addition to the at least one light-emitting layer made of an organic semiconductor, having a hole injection layer disposed between the anode and the light emitting layer of said pair of electrodes. インターレイヤ14Sおよび発光層14bは、複数の発光部に跨ってライン状に連続的に形成されたことを特徴とする。 Interlayer 14S and the light-emitting layer 14b is characterized in that it is continuously formed over the plurality of light emitting portions in a line shape. これは横方向の導電率が小さいため、複数の画素に跨って一体的に形成しても、クロストークがほとんど無いため画素ばらつきが小さく、高精度の発光特性を得る事が可能となる。 This is because lateral conductivity is small, be formed integrally over a plurality of pixels, the pixel variation for crosstalk little small, it is possible to obtain light emission characteristics of high accuracy.

この構成において、インターレイヤ14Sおよび発光層14bの形成に際し、ライン状に一体的に形成され、ライン方向には安定した膜厚で形成される一方、撥液層との界面近傍では若干の這い上がりを形成するが、撥液層の端部よりも内側に画素規制部13が形成されているため、発光に寄与する画素領域は膜厚の安定した領域となっているため、長寿命で信頼性の高い有機エレクトロルミネッセント素子を形成することが可能となる。 In this configuration, upon formation of the inter-layer 14S and the light-emitting layer 14b, it is integrally formed in a line shape, whereas in the line direction is formed in a stable thickness, slight wicking in the vicinity of the interface between the liquid-repellent layer forms a, since it is pixel restricting portion 13 on the inner side of the end portion of the liquid-repellent layer is formed, since the contributing pixel region emitting has a stable region of the film thickness, reliability and long life it is possible to form a high organic electroluminescence element of.

また、この構成によれば、電荷注入層として遷移金属の酸化物を用いることにより、発光強度が極めて大きく特性の安定な有機エレクトロルミネッセント発光装置を得ることができる。 Further, according to this configuration, by using the oxide of a transition metal as the charge injection layer may be luminous intensity to obtain a stable organic electroluminescent light emitting device of very high properties. これは、2種類の高分子材料のクーロン相互作用による緩やかな結合が外れ易いPEDOTのように電流密度の増大に際しても、不安定となったりすることなく、安定な特性を維持することができ、発光強度を安定化させることができる。 This, without loose coupling due to the Coulomb interaction of the two polymeric materials also upon an increase in the current density as likely PEDOT off, or become unstable, it is possible to maintain a stable characteristic, the emission intensity can be stabilized. このように遷移金属酸化物からなる電荷注入層を基板側に複数の画素に跨って一体的に配することで、有機エレクトロルミネッセント発光装置において広範囲の電流密度に亘って素子の発光強度および、発光効率を高レベルに維持することができ、また、寿命も向上する。 By arranging the integrally Such charge injection layer made of transition metal oxides and over a plurality of pixels on the substrate side, the light emission intensity of the device over a wide range of current density in an organic electroluminescent light emitting device and , the luminous efficiency can be maintained at a high level, it is also improved lifetime. 従って、発光機能を有した層に対して基板側か上層側かあるいは両方か、いずれの側に遷移金属の酸化物層を配した場合にも、安定でキャリア注入特性は大きく、発光効率の向上を図ることが可能となる。 Therefore, either both or either substrate side or upper side of the layer having the light emitting function, even when the decor oxide layer of a transition metal on either side, stable carrier injection characteristics is large, improvement in luminous efficiency it is possible to achieve. また、本発明に用いられる酸化物は可視光領域で実質的に透明である、膜厚が多少のバラツキを持っていたとしても電荷注入特性が大きく変化しないという特徴を有している。 The oxide used in the present invention are substantially transparent in the visible light region, it has a feature that the film thickness is not changed significantly charge injection properties as had slight variations.

(実施の形態5) (Embodiment 5)
次に本発明の実施の形態5について説明する。 Next will be described a fifth embodiment of the present invention.
本実施の形態では、画素規制部13を用いることなく、陽極12と、正孔注入層14aとを1素子毎に個別となるようにパターニングし、この上層に、これら陽極12および正孔注入層14aのパターンよりも外側に矩形の開口Oをもつように撥液層16が形成されるようにし、この撥液層16上に、インターレイヤ14Sと発光層14bとが形成されたことを特徴とするもので、前記実施の形態2、3、4と同様、有機エレクトロルミネッセント素子を2次元配列した有機エレクトロルミネッセント装置を構成している。 In the present embodiment, without using the pixel restricting portion 13, an anode 12, a hole injection layer 14a patterned so as to individually for each element, in the upper layer, these anode 12 and the hole injection layer as liquid repellent layer 16 is formed to have a rectangular opening O outside the pattern 14a, on the liquid repellent layer 16, and characterized in that the interlayer 14S and the light-emitting layer 14b is formed It intended to, as in embodiment 2, 3, 4 of the embodiment, constituting an organic electroluminescent device having an array of organic electroluminescence element 2D. 図6(a)は上面図、図6(b)は図6(a)のA−A断面図、図6(c)は図6(a)のB−B断面図である。 6 (a) is a top view, FIG. 6 (b) A-A sectional view of FIG. 6 (a), FIG. 6 (c) is a B-B sectional view of FIGS. 6 (a).
本実施の形態では、撥液層16を開口O をもつように形成し、インターレイヤ14S In this embodiment, to form a liquid repellent layer 16 to have an opening O 0, inter-layer 14S
と発光層14bはこの開口O 内に形成されているが、本実施の形態では、画素規制部1 And the light emitting layer 14b is formed in the opening O 0 but, in this embodiment, the pixel restricting portion 1
3を用いる事無く、陽極および正孔注入層を個別にパターニングし、これらによって画素領域Arを規定している。 3 the use of a no, the anode and the hole injection layer is patterned separately, it defines a pixel region Ar by these. そしてこの撥液層16の開口端は、陽極12および正孔注入層14aよりも外側、すなわち、画素領域よりも外側に位置するように構成される。 The open end of the liquid-repellent layer 16, the outer side than the anode 12 and the hole injection layer 14a, i.e., configured to be positioned outside the pixel region.

ここでも、正孔注入層14aとしてはドライプロセスで形成した酸化モリブデンなどの遷移金属酸化物層を用いている。 Again, it is a transition metal oxide layer, such as molybdenum oxide which is formed by a dry process as the hole injection layer 14a.

すなわち、本発明は、少なくとも一組の電極と、前記電極間に形成された発光機能を有した層とを具備した複数の発光部を基板上に形成した有機エレクトロルミネッセント装置であって、少なくとも1種類の有機半導体からなる発光層に加え、前記一組の電極のうち陽極と前記発光層との間に配されたホール注入層を有する。 That is, the present invention provides a plurality of light emitting parts of the organic electroluminescent device formed on a substrate which is provided with at least one pair of electrodes and a layer having the light emitting function formed between the electrodes, in addition to the at least one light-emitting layer made of an organic semiconductor, having a hole injection layer disposed between the anode and the light emitting layer of said pair of electrodes. 陽極と正孔注入層とインターレイヤ14Sと発光層14bとが個別に形成されて画素領域を構成したことを特徴とする。 An anode and a hole injection layer and the interlayer 14S and the light-emitting layer 14b is characterized by being configured the pixel region are formed separately.

この構成において、インターレイヤ14Sおよび発光層14bの形成に際し、個別に形成され、撥液層との界面近傍では若干の這い上がりを形成するが、撥液層の端部よりも内側に陽極12が形成されているため、発光に寄与する画素領域は這い上がり領域よりも内側に位置し、膜厚の安定した領域となっているため、長寿命で信頼性の高い有機エレクトロルミネッセント素子を形成することが可能となる。 In this configuration, upon formation of the inter-layer 14S and the light-emitting layer 14b, it is formed separately, but in the vicinity of the interface between the liquid-repellent layer forms a slight wicking, anode 12 inside the end portion of the liquid-repellent layer because it is formed, contributing pixel region emitting is located inside the wicking region, because that is the thickness of the stable region, forming a highly reliable organic electroluminescent element with a long life it is possible to become.

(実施の形態6) (Embodiment 6)
次に本発明の実施の形態6について説明する。 Next will be described a sixth embodiment of the present invention.
本実施の形態でも、画素規制部13を用いることなく、陽極12と、正孔注入層14aとを1素子毎に個別となるようにパターニングし、この上層に、これら陽極12および正孔注入層14aのパターンよりも外側にライン状に撥液層16が形成されるようにし、この撥液層16上に、インターレイヤ14Sと発光層14bとが縦方向には一体的にライン状をなすように形成されたことを特徴とするもので、前記実施の形態2、3、4と同様、有機エレクトロルミネッセント素子を2次元配列した有機エレクトロルミネッセント装置を構成している。 In the present embodiment, without using the pixel restricting portion 13, an anode 12, a hole injection layer 14a patterned so as to individually for each element, in the upper layer, these anode 12 and the hole injection layer as liquid repellent layer 16 in a line shape outside the pattern of 14a is formed, on the liquid repellent layer 16, so as to form an integrally-line shape in the light emitting layer 14b Togatate direction interlayer 14S characterized in that formed, as in embodiment 2, 3, 4 of the embodiment, constituting an organic electroluminescent device having an array of organic electroluminescence element 2D. 図7(a)は上面図、図7(b)は図7(a)のA−A断面図、図7(c)は図7(a)のB−B断面図である。 7 (a) is a top view, FIG. 7 (b) is a sectional view taken along A-A of FIG. 7 (a), FIG. 7 (c) is a B-B sectional view of FIGS. 7 (a).
前記実施の形態4と同様、本実施の形態でも、撥液層16をライン状に形成し、インターレイヤ14Sと発光層14bは縦方向には一体的にライン状をなすように形成されているが、本実施の形態では、画素規制部13を用いる事無く、陽極および正孔注入層を個別にパターニングし、これらによって画素領域Arを規定している。 Similarly to the fourth embodiment, also in this embodiment, to form a liquid repellent layer 16 in a line shape, inter-layer 14S and the light-emitting layer 14b is vertically formed so as to form a integrally linear but in the present embodiment, without using the pixel restricting portion 13, the anode and the hole injection layer is patterned separately, defines a pixel region Ar by these. そしてこの撥液層16の開口(O )端は、陽極12および正孔注入層14aよりも外側、すなわち、画素領域よりも外側に位置するように構成される。 The opening (O 1) end of the liquid-repellent layer 16, the outer side than the anode 12 and the hole injection layer 14a, i.e., configured to be positioned outside the pixel region.

ここでも、正孔注入層14aとしてはドライプロセスで形成した酸化モリブデンなどの遷移金属酸化物層を用いている。 Again, it is a transition metal oxide layer, such as molybdenum oxide which is formed by a dry process as the hole injection layer 14a.

すなわち、本発明は、少なくとも一組の電極と、前記電極間に形成された発光機能を有した層とを具備した複数の発光部を基板上に形成した有機エレクトロルミネッセント装置であって、少なくとも1種類の有機半導体からなる発光層に加え、前記一組の電極のうち陽極と前記発光層との間に配されたホール注入層を有する。 That is, the present invention provides a plurality of light emitting parts of the organic electroluminescent device formed on a substrate which is provided with at least one pair of electrodes and a layer having the light emitting function formed between the electrodes, in addition to the at least one light-emitting layer made of an organic semiconductor, having a hole injection layer disposed between the anode and the light emitting layer of said pair of electrodes. 陽極と正孔注入層とが個別に形成されて画素領域を構成し、インターレイヤ14Sおよび発光層14bは、複数の発光部に跨ってライン状に連続的に形成されたことを特徴とする。 The anode and the hole injection layer is formed separately constitute a pixel region, the inter-layer 14S and the light-emitting layer 14b is characterized in that it is continuously formed over the plurality of light emitting portions in a line shape. これは横方向の導電率が小さいため、複数の画素に跨って一体的に形成しても、クロストークがほとんど無いため画素ばらつきが小さく、高精度の発光特性を得る事が可能となる。 This is because lateral conductivity is small, be formed integrally over a plurality of pixels, the pixel variation for crosstalk little small, it is possible to obtain light emission characteristics of high accuracy.

この構成において、インターレイヤ14Sおよび発光層14bの形成に際し、ライン状に一体的に形成され、ライン方向には安定した膜厚で形成される一方、撥液層との界面近傍では若干の這い上がりを形成するが、撥液層の端部よりも内側に陽極12が形成されているため、発光に寄与する画素領域は這い上がり領域よりも内側に位置し、膜厚の安定した領域となっているため、長寿命で信頼性の高い有機エレクトロルミネッセント素子を形成することが可能となる。 In this configuration, upon formation of the inter-layer 14S and the light-emitting layer 14b, it is integrally formed in a line shape, whereas in the line direction is formed in a stable thickness, slight wicking in the vicinity of the interface between the liquid-repellent layer forms a, since the anode 12 is formed on the inner side than the end portion of the liquid-repellent layer, which contributes pixel region emitting is located inside the creeping-up area, a thickness of the stable region because there, it is possible to form a high organic electroluminescence element reliability and long life.

なお、本実施の形態の変形例として、前記実施の形態1乃至7の構成において、遷移金属の酸化物層を、発光機能を有した層よりも上層側に配してもよい。 As a modification of this embodiment, in the configuration of Embodiments 1 to 7 of the embodiment, an oxide layer of a transition metal, may be disposed on the upper side of the layer having the light emitting function. また、遷移金属の酸化物層は、下地の発光機能を有した層を保護し、スパッタリングダメージあるいはプラズマダメージなどを回避可能であるため、電極の形成には、大面積基板に適したスパッタリング法を用いることができる。 The oxide layer of a transition metal, to protect the layer having a base of a light-emitting function, it is possible to avoid sputtering damage or plasma damage, the formation of electrodes, a sputtering method which is suitable for large-area substrate it can be used. このためITO等の透明電極を、発光機能を有した層の上面にスパッタして形成するトップエミッション型も有機層のダメージ無く作製することができる。 A transparent electrode Thus ITO or the like, a top emission type formed by sputtering on the upper surface of the layer having the light emitting function can also be produced without damage of the organic layer. また陰極を1体電極ではなく個別電極として形成する場合にも、発光層がエッチングダメージを受けるのを回避することができる。 In the case of forming the individual electrodes rather than one body electrode cathode may also be the light emitting layer to avoid etching damage.

以上のように、本発明によれば、高輝度に至るまで、幅広い輝度範囲にわたって安定に動作し、かつ寿命特性に優れた有機エレクトロルミネッセント発光装置を実現することができる。 As described above, according to the present invention, up to a high brightness, stable operating over a wide luminance range, and it is possible to realize an excellent organic electroluminescent light emitting device life property.

また本発明は、上記有機エレクトロルミネッセント発光装置において、前記1対の電極のうち基板上に形成される第1の電極(ここでは陽極)の有効面積が、絶縁膜で構成された画素規制部によって規定されており、前記遷移金属の酸化物層は前記画素規制部上を覆うように一体的に形成される。 The present invention, in the organic electroluminescent light emitting device, the effective area of ​​the first electrode formed on the substrate (here the anode) of said pair of electrodes, pixel regulating made of an insulating film is defined by parts, the oxide layer of the transition metal are integrally formed so as to cover the said pixel restricting portion.

(成膜方法) (Film-forming method)
また、本発明の有機エレクトロルミネッセント素子を構成する機能層のうち、遷移金属酸化物層の成膜については上記方法に限定されるものではなく、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法、分子線エピタキシー法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法、熱CVD法、プラズマCVD法、MOCVD法などのドライプロセスが望ましい。 Also, of the functional layer constituting the organic electroluminescence element of the present invention, the deposition of the transition metal oxide layer is not limited to the above method, vacuum deposition, electron beam deposition, molecular beam epitaxy, sputtering, reactive sputtering, ion plating method, laser ablation method, thermal CVD method, a plasma CVD method, is desirable dry process such as MOCVD. また、酸化物のナノ粒子等を適用することも出来る。 It is also possible to apply the nanoparticles or the like of the oxide. この場合は、ゾルゲル法、ラングミュア・ブロジェット法(LB法)、レイヤーバイレイヤー法、スピンコート法、インクジェット法、ディップコーティング法、スプレー法などの湿式法などからも適宜選択可能であり、結果的に本発明の効果を奏効し得るように形成可能な方法であれば、いかなるものでもよいことはいうまでもない。 In this case, a sol-gel method, a Langmuir-Blodgett method (LB method), layer-by-layer method, spin coating method, an ink-jet method, dip coating method, may be appropriately selected from such a wet method such as a spray method, as a result, if the effect of the present invention capable of forming method so as to respond to, of course it may be any.

本発明の発光機能を有した層(発光層、或いは、必要に応じて形成される正孔注入層、電子注入層)を高分子材料で形成する場合、スピンコーティング法や、キャスティング法や、ディッピング法や、バーコート法や、ロールを用いた印刷法、インクジェット法等の湿式成膜法であってもよい。 The layer having the light emitting function of the present invention (luminescent layer, or a hole injection layer formed if necessary, an electron injection layer) When forming a polymer material, or a spin coating method, a casting method, dipping law and, bar coating method, a printing method using a roll, a wet film formation method such as an ink jet method. これにより、大規模な真空装置が不要であるため、安価な設備で成膜が可能となるとともに、容易に大面積の有機エレクトロルミネッセント素子の作成が可能となるとともに、有機エレクトロルミネッセント素子の各層間の密着性が向上するため、素子における短絡を抑制することができ、安定性の高い有機エレクトロルミネッセント素子を形成することができる。 Thus, since a large vacuum apparatus is not required, along with film formation can be performed with inexpensive equipment, easily with it becomes possible to create organic electroluminescence element having a large area, the organic electroluminescent to improve the adhesion between the layers of the element, it is possible to suppress a short circuit in the device, it is possible to form a highly stable organic electroluminescence element. これら有機材料を塗布する場合は、一般的には有機溶媒に溶解させて用いる。 When applying these organic materials are generally used by being dissolved in an organic solvent. 溶媒の沸点は乾燥時間が許す限り、沸点が200℃を超える高沸点溶媒を用いた方が、乾燥ムラがより少なくなる。 Unless the boiling point of the solvent drying time permits, preferable to use the high boiling point solvent having a boiling point greater than 200 ° C. is, drying unevenness is less.

なお、ガラス基板11は無色透明なガラスの一枚板である。 The glass substrate 11 is a single plate of colorless transparent glass. ガラス基板11としては、例えば透明または半透明のソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英ガラス等の遷移金属酸化物ガラス、無機フッ化物ガラス等の無機ガラスを用いることができる。 As the glass substrate 11, a transparent or semi-transparent soda lime glass, glass containing barium and strontium, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, transition metal oxide glass such as quartz glass, inorganic fluoride or an inorganic glass such as fluoride glass. なお、トップエミッション構造をとる場合は、不透明基板、たとえばシリコン等、も用いることができる。 In the case of taking a top-emission structure, it can be used opaque substrate, for example silicon, also.

(実施の形態7) (Embodiment 7)
次に本発明の実施の形態7を、図11を参照しながら説明する。 Then the seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 11.
図11(a)は、本実施の形態に係る有機エレクトロルミネッセント装置の平面図であり、図11(b)は図11(a)におけるA−Aでの断面図である。 11 (a) is a plan view of an organic electroluminescent device according to this embodiment, FIG. 11 (b) is a sectional view at A-A in FIG. 11 (a).
図11において、11は基板であり、後述する平坦化膜も含む。 11, 11 denotes a substrate, including a planarization film which will be described later. 12は陽極である。 12 is an anode. 20は、撥液性自己組織化膜に紫外線を当て親液化した部分、26は撥液性を残した部分である。 20 is lyophilic portions irradiated with ultraviolet rays to lyophobic self-assembled film, 26 is a portion left liquid repellency. 図11は、(ア)基板準備、(イ)陽極形成、(ウ)自己組織化膜形成、(エ)親液部・撥液部形成、(オ)有機発光層形成、(カ)陰極形成という有機エレクトロルミネッセント装置の製造過程において、上記(エ)工程を終了した時点での有機エレクトロルミネッセント装置の図である。 Figure 11 (a) substrate preparation, (b) an anode formed, (c) self-assembled film is formed, (d) lyophilic portion, the liquid repellent portion formed, (e) an organic light emitting layer formed, (f) a cathode formed in the manufacturing process of the organic electroluminescent device that is a view of an organic electroluminescent device upon completion of the above (d) step. 図11(c)は、同じ時点での実施の形態6に対応する平面図であり、図11(d)は図11(c)におけるA−Aでの断面図である。 FIG. 11 (c) is a plan view corresponding to the sixth embodiment at the same time, FIG. 11 (d) is a sectional view at A-A in FIG. 11 (c).
本実施の形態は、陽極12の表面21と陽極間の自己組織化膜が形成される層の表面22が同一平面にあり、自己組織化膜からなる撥液層26の開口部の幅24が陽極の幅23より大きいことを特徴としている。 This embodiment, the surface 22 of the layer self-assembled film between surfaces 21 and the anode of the anode 12 is formed is in the same plane, the width 24 of the opening of the liquid-repellent layer 26 made of self-assembled film It is characterized by greater than the width 23 of the anode.

このような構造を実現するためには、(イ)陽極形成工程において、陽極間を平坦化膜で埋める工程が追加さればよい。 To realize such a structure, in (a) an anode forming process, step of filling between an anode in the planarizing film may be added. すなわち、図11(d)のように、通常のフォトリソ工程で陽極を形成した後、樹脂などを陽極より厚くスピンコートし、陽極の表面が出現するまで全面プラズマエッチングを施せば良い。 That is, as shown in FIG. 11 (d), the after forming an anode in a conventional photolithographic process, a resin and thicker spin coating from the anode, may be subjected to entire surface plasma etch until the surface of the anode occurs. 或いは、画素に対応した段差を持つ基板を準備し、陽極材料を全面成膜し、基板表面が出現するまで全面にプラズマエッチングを施しても良い。 Alternatively, to prepare a substrate having a step corresponding to the pixel, the anode material entirely deposited, may be subjected to plasma etching on the entire surface until the substrate surface appears.

本構成によれば、ポリイミド樹脂などの有機系材料からなるバンクを使用していないので、有機系材料からの不純物混入で発光特性が低下することがなくなる。 According to this construction, does not use a bank of organic material such as polyimide resin, it is unnecessary to decrease the emission characteristics impurity contamination from organic materials. また、フッ素プラズマなどを用いることなく、撥液層を形成することができるため、フッ素プラズマによる汚染による、発光効率の低下を防ぐことが可能となる。 Further, without using a fluorine plasma, it is possible to form a liquid repellent layer, by contamination by fluorine plasma, it is possible to prevent a decrease in luminous efficiency.

また、自己組織化膜からなる撥液層26の開口部の幅24が陽極の幅23より大きいので、陽極12上は、膜厚の安定した領域となる。 Further, since the width 24 of the opening of the liquid-repellent layer 26 made of self-assembled film is greater than the width 23 of the anode, the anode 12 on is a thickness of a stable region. すなわち、撥液層26の端面27で液滴分離がなされるが、この端面で表面張力に起因する液滴の盛り上がりによって、膜厚にばらつきが生じても、陽極12として規定されている画素領域が前記撥液層で分離された領域よりも内側に規定されているため、画素領域内は、膜厚の安定した領域となっており、各画素内の発光輝度ばらつきや画素間の発光ムラを抑制し、安定で寿命特性に優れ有機エレクトロルミネッセント装置を提供することが可能となる。 That is, the droplet separation at the end face 27 of the liquid-repellent layer 26 is made, by swelling of the droplets due to surface tension at this end face, even when variation in the film thickness, the pixel region defined as an anode 12 since There are defined inside the isolated region in the liquid-repellent layer, the pixel region is a thickness of the stable region, uneven light emission between the emission luminance variation or pixels in each pixel suppressing, it is possible to provide an organic electroluminescent device excellent in stability and life characteristics.

更に、陽極12の表面21と陽極間の自己組織化膜が形成される層の表面22が同一平面上にあるので、紫外線により自己組織化膜の親液化部20を作製する際、図11(d)の28のような段差部に十分に紫外線が当たらないことが原因で撥液部が残るということがなく、膜厚が安定する。 Further, since the surface 21 and the surface 22 of the layer self-assembled film is formed between the anode of the anode 12 are coplanar, making the lyophilic portion 20 of the self-assembled film by ultraviolet, 11 ( it is no that lyophobic portion remains due sufficiently ultraviolet stepped portion such as 28 d) does not hit, the film thickness is stabilized.

また、図11(a)のようにライン状に撥液部を設けると、1ライン毎に共通領域となるため、塗布液の流動化がより円滑となり、均一な塗布膜の形成が可能となる。 Further, when providing the liquid repellent portion in a line shape as shown in FIG. 11 (a), the order becomes a common area for each line, becomes smoother fluidization of the coating liquid, it is possible to form a uniform coating film . このとき、陽極は多層構造であってもよい。 In this case, the anode may have a multilayer structure. なお、本実施の形態の陽極と陰極の配置関係は、陽極が基板に近い側に設けられてもいる態様を示したが、陰極が基板に近い側に設けられる形態でもよい。 The arrangement relationship between the anode and the cathode in this embodiment has an anode showed aspects are also provided on the side closer to the substrate, the cathode may be in a form provided on the side closer to the substrate.

(実施の形態8) (Embodiment 8)
次に本発明の実施の形態8を、図12を参照しながら説明する。 Then the eighth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 12.
図12(a)は、本実施の形態に係る有機エレクトロルミネッセント装置の平面図であり、図12(b)は図12(a)におけるA−Aでの断面図である。 12 (a) is a plan view of an organic electroluminescent device according to this embodiment, FIG. 12 (b) is a sectional view at A-A in FIG. 12 (a).
図12において、11は基板、12は陽極である。 12, 11 denotes a substrate, 12 is an anode. 20は撥液性自己組織化膜に紫外線を当て親液化した部分、26は撥液性を残した部分である。 20 lyophilic portion irradiated with ultraviolet rays to lyophobic self-assembled film, 26 is a portion left liquid repellency.

図12は、(ア)基板準備、(イ)陽極形成、(ウ)自己組織化膜形成、(エ)親液部・撥液部形成、(オ)有機発光層形成、(カ)陰極形成という有機エレクトロルミネッセント装置の製造過程において、上記(エ)工程を終了した時点での有機エレクトロルミネッセント装置の図である。 Figure 12 (a) substrate preparation, (b) an anode formed, (c) self-assembled film is formed, (d) lyophilic portion, the liquid repellent portion formed, (e) an organic light emitting layer formed, (f) a cathode formed in the manufacturing process of the organic electroluminescent device that is a view of an organic electroluminescent device upon completion of the above (d) step. 図12(c)は、同じ時点での実施の形態6に対応する平面図で、図12(d)は図12(c)におけるA−Aでの断面図である。 FIG. 12 (c), a plan view corresponding to the sixth embodiment at the same time, FIG. 12 (d) is a sectional view at A-A in FIG. 12 (c).

本実施の形態は、陽極12の端部30がテーパ形状であり、自己組織化膜からなる撥液層26の開口部の幅24が陽極の幅23より大きいことを特徴としている。 This embodiment, the end 30 of the anode 12 is tapered, and wherein the width 24 of the opening of the liquid-repellent layer 26 made of self-assembled film is greater than the width 23 of the anode. このような構造を実現するためには、(イ)陽極形成工程において、フォトリソ工程で陽極をパターニングする時、端部にハーフトーンマスクを使用し、厚みが端部に向かって薄くなるレジストを残せばよい。 To realize such a structure, in (a) an anode forming process, when patterning the anode in photolithography process using a half-tone mask in the end, leave the resist thickness decreases toward the end Bayoi. 本構成によると、ポリイミド樹脂などの有機系材料からなるバンクを使用していないので、有機系材料からの不純物混入で発光特性が低下することがなくなる。 With this configuration, does not use a bank of organic material such as polyimide resin, it is unnecessary to decrease the emission characteristics impurity contamination from organic materials. また、フッ素プラズマなどを用いることなく、撥液層を形成することができるため、フッ素プラズマによる汚染による、発光効率の低下を防ぐことができる。 Further, without using a fluorine plasma, it is possible to form a liquid repellent layer, it is possible to prevent contamination by fluorine plasma, the decrease in emission efficiency.

また、自己組織化膜からなる撥液層26の開口部の幅24が陽極の幅23より大きいので、陽極12上は、膜厚の安定した領域となる。 Further, since the width 24 of the opening of the liquid-repellent layer 26 made of self-assembled film is greater than the width 23 of the anode, the anode 12 on is a thickness of a stable region. すなわち、撥液層26の端面27で液滴分離がなされるが、この端面で表面張力に起因する液滴の盛り上がりによって、膜厚にばらつきが生じても、陽極12として規定されている画素領域が前記撥液層で分離された領域よりも内側に規定されている。 That is, the droplet separation at the end face 27 of the liquid-repellent layer 26 is made, by swelling of the droplets due to surface tension at this end face, even when variation in the film thickness, the pixel region defined as an anode 12 There are defined inside the isolated region in the liquid-repellent layer. そして画素領域内は、膜厚の安定した領域となっており、その結果、各画素内の発光輝度ばらつきや画素間の発光ムラを抑制し、安定で寿命特性に優れ有機エレクトロルミネッセント装置を提供することが可能となる。 The pixel region is a thickness of the stable region, the result, uneven light emission between the emission luminance variation or pixels in each pixel is suppressed, excellent stability and life characteristics organic electroluminescent device it is possible to provide.

更に、陽極12の端部30がテーパ形状であるので、紫外線により自己組織化膜の親液化部20を作製する際、図12(d)の28のような段差部に十分に紫外線が当たらないことが原因で撥液部が残るということがなく、膜厚が安定する。 Furthermore, since the end portion 30 of the anode 12 is a tapered shape, making the lyophilic portion 20 of the self-assembled film by UV, does not hit enough UV to the stepped portion such as 28 shown in FIG. 12 (d) it is no that lyophobic portion remains due thickness is stabilized. また、図12(a)のように、ライン状に撥液部を設けると、1ライン毎に共通領域となるため、塗布液の流動化がより円滑となり、均一な塗布膜の形成が可能となる。 Further, as shown in FIG. 12 (a), the the line shape provided liquid repellent portion, since the common area for each line, becomes smoother fluidization of the coating liquid, it is possible to form a uniform coating film Become. なお陽極は多層構造であっても良い。 The anode may be a multi-layer structure. また、本実施の形態の陽極と陰極の配置関係は、陽極が基板に近い側に設けられてもいる態様を示したが、陰極が基板に近い側に設けられる形態でもよい。 The arrangement relationship between the anode and the cathode in this embodiment has an anode showed aspects are also provided on the side closer to the substrate, the cathode may be in a form provided on the side closer to the substrate.

(実施の形態9) (Embodiment 9)
次に本発明の実施の形態9を、図13を参照しながら説明する。 Then the ninth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 13.
図13(a)は、本実施の形態に係る有機エレクトロルミネッセント装置の平面図であり、図13(b)は図13(a)におけるA−Aでの断面図である。 13 (a) is a plan view of an organic electroluminescent device according to the present embodiment, FIG. 13 (b) is a sectional view at A-A in FIG. 13 (a).
図13において、11は基板、12は陽極である。 13, 11 denotes a substrate, 12 is an anode. 20は撥液性自己組織化膜に紫外線を当て親液化した部分であり、26は撥液性を残した部分である。 20 is a lyophilic portion irradiated with ultraviolet rays to lyophobic self-assembled film, 26 is a portion left liquid repellency. 40は陽極12上で、かつ、自己組織化膜より下に形成され、有機エレクトロルミネッセント装置の光共振を制御する透明導電膜である。 40 on the anode 12, and is formed below the self-organizing film is a transparent conductive film for controlling the optical resonator of the organic electroluminescent device. 透明導電膜としてはITOなどが使用できる。 Such as ITO can be used as the transparent conductive film.

図13は、(ア)基板準備、(イ)陽極形成、(ウ)自己組織化膜形成、(エ)親液部・撥液部形成、(オ)有機発光層形成、(カ)陰極形成という有機エレクトロルミネッセント装置の製造過程において、上記(エ)工程を終了した時点での有機エレクトロルミネッセント装置の図である。 Figure 13 (a) substrate preparation, (b) an anode formed, (c) self-assembled film is formed, (d) lyophilic portion, the liquid repellent portion formed, (e) an organic light emitting layer formed, (f) a cathode formed in the manufacturing process of the organic electroluminescent device that is a view of an organic electroluminescent device upon completion of the above (d) step. 図13(c)は、同じ時点での実施の形態6に対応する平面図で、図13(d)は図13(c)におけるA−Aでの断面図である。 13 (c) is a plan view corresponding to the sixth embodiment at the same time, FIG. 13 (d) is a sectional view at A-A in FIG. 13 (c).

本実施の形態は、陽極12上に陽極12の幅41より広い幅42を持つ透明電導膜40を形成し、自己組織化膜からなる撥液層26の開口部の幅24が透明導電膜の幅43より大きいことを特徴としている。 This embodiment, a transparent conductive film 40 having a width 42 than the width 41 of the anode 12 on the anode 12, the width 24 of the opening of the liquid-repellent layer 26 made of self-assembled film is of a transparent conductive film It is characterized by greater than the width 43. このような構造を実現するためには、(イ)陽極形成工程において、フォトリソ工程で陽極を形成した後、陽極上に透明電導膜をスパッタなどで成膜し、陽極12の幅41より広い幅42を持つようにフォトリソグラフィーでパターニングすれば良い。 To realize such a structure, in (a) an anode forming step, after forming the anode in the photolithography process, the transparent conductive film on the anode was formed in the sputtering, wider than the width 41 of the anode 12 42 may be patterned by photolithography to have.

本構成によれば、ポリイミド樹脂などの有機系材料からなるバンクを使用していないので、有機系材料からの不純物混入で発光特性が低下することがなくなる。 According to this construction, does not use a bank of organic material such as polyimide resin, it is unnecessary to decrease the emission characteristics impurity contamination from organic materials. また、フッ素プラズマなどを用いることなく、撥液層を形成することができるため、フッ素プラズマによる汚染による、発光効率の低下を防ぐことができる。 Further, without using a fluorine plasma, it is possible to form a liquid repellent layer, it is possible to prevent contamination by fluorine plasma, the decrease in emission efficiency. 更に、自己組織化膜からなる撥液層26の開口部の幅24が透明導電膜40の幅43より大きいので、陽極12上は、膜厚の安定した領域となる。 Furthermore, since the width 24 of the opening of the liquid-repellent layer 26 made of self-assembled film is greater than the width 43 of the transparent conductive film 40, an anode 12 on is a thickness of a stable region.

すなわち、撥液層26の端面27で液滴分離がなされるが、この端面で表面張力に起因する液滴の盛り上がりによって、膜厚にばらつきが生じても、透明導電膜40として規定されている画素領域が前記撥液層で分離された領域よりも内側に規定されている。 That is, the droplet separation at the end face 27 of the liquid-repellent layer 26 is made, by swelling of the droplets due to surface tension at this end face, even when variation in the film thickness is defined as the transparent conductive film 40 It is defined inside the region where the pixel area is separated by the liquid-repellent layer. そして画素領域内は、膜厚の安定した領域となっており、その結果、各画素内の発光輝度ばらつきや画素間の発光ムラを抑制し、安定で寿命特性に優れ有機エレクトロルミネッセント装置を提供することが可能となる。 The pixel region is a thickness of the stable region, the result, uneven light emission between the emission luminance variation or pixels in each pixel is suppressed, excellent stability and life characteristics organic electroluminescent device it is possible to provide.

更に、陽極12上に成膜された透明度導電膜40により陽極12端部の段差28が緩和され、紫外線により自己組織化膜の親液化部20を作製する際、図13(d)の28のような段差部に十分に紫外線が当たらないことが原因で撥液部が残るということがなく、膜厚が安定する。 Further, the anode 12 end of the step 28 is relieved by the formed transparent Doshirubedenmaku 40 on the anode 12, making the lyophilic portion 20 of the self-assembled film by ultraviolet, 13 28 of (d) the step portions sufficiently UV does not strike such that without that lyophobic portion remains due thickness is stabilized. また、図13(a)のようにライン状に撥液部を設けると、1ライン毎に共通領域となるため、塗布液の流動化がより円滑となり、均一な塗布膜の形成が可能となる。 Further, when providing the liquid repellent portion in a line shape as shown in FIG. 13 (a), the order becomes a common area for each line, becomes smoother fluidization of the coating liquid, it is possible to form a uniform coating film . なお、陽極は多層構造であってもよい。 Incidentally, the anode may have a multilayer structure. また、本実施の形態の陽極と陰極の配置関係は、陽極が基板に近い側に設けられている態様を示したが、陰極が基板に近い側に設けられる形態でも良い。 The arrangement relationship between the anode and the cathode in this embodiment has an anode showed manner provided closer to the substrate, the cathode may be in a form provided on the side closer to the substrate.

(実施の形態10) (Embodiment 10)
次に本発明の実施の形態10を、図14を参照しながら説明する。 Then the tenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 14.
図14(a)は、本実施の形態に係る有機エレクトロルミネッセント装置の平面図であり、図14(b)は図14(a)におけるA−Aでの断面図である。 Figure 14 (a) is a plan view of an organic electroluminescent device according to this embodiment, FIG. 14 (b) is a sectional view at A-A in FIG. 14 (a).
図14において、11は基板、12は陽極である。 14, 11 denotes a substrate, 12 is an anode. 20は撥液性自己組織化膜に紫外線を当て親液化した部分であり、26は撥液性を残した部分である。 20 is a lyophilic portion irradiated with ultraviolet rays to lyophobic self-assembled film, 26 is a portion left liquid repellency. 50は陽極12の間に、端部が陽極12の端部を覆うように形成された画素規制層である。 50 Between the anode 12, the end portion is a pixel regulating layer formed to cover an end portion of the anode 12. 画素規制層は、自己組織化膜の下に形成される。 Pixel regulating layer is formed under the self-assembled monolayer.

図14は、(ア)基板準備、(イ)陽極形成、(ウ)自己組織化膜形成、(エ)親液部・撥液部形成、(オ)有機発光層形成、(カ)陰極形成という有機エレクトロルミネッセント装置の製造過程において、上記(エ)工程を終了した時点での有機エレクトロルミネッセント装置の図である。 Figure 14 (a) substrate preparation, (b) an anode formed, (c) self-assembled film is formed, (d) lyophilic portion, the liquid repellent portion formed, (e) an organic light emitting layer formed, (f) a cathode formed in the manufacturing process of the organic electroluminescent device that is a view of an organic electroluminescent device upon completion of the above (d) step.

図14(c)は、同じ時点での実施の形態6に対応する平面図で、図14(d)は図14(c)におけるA−Aでの断面図である。 FIG. 14 (c), a plan view corresponding to the sixth embodiment at the same time, FIG. 14 (d) is a sectional view at A-A in FIG. 14 (c). 本実施の形態は、陽極12の間に、端部51が陽極12の端部を覆うように形成された画素規制層50を有し、更に画素規制層50は、端部にテーパ部51を有し、端部以外の部分52は段差を有せず、自己組織化膜からなる撥液層26の開口部の幅24が陽極12の幅23より大きいことを特徴としている。 This embodiment, while the anode 12 has a pixel regulating layer 50 formed so that the end portion 51 covers the end portion of the anode 12, further pixel regulating layer 50, a tapered portion 51 on the end portion a, portion 52 other than the end portion does not have a level difference, and wherein the width 24 of the opening of the liquid-repellent layer 26 made of self-assembled film is greater than the width 23 of the anode 12.
このような構造を実現するためには(イ)陽極形成工程において、フォトリソ工程で陽極を形成した後、陽極上に画素規制層を陽極12より厚く成膜し、ハーフトーンマスクを用いてパターニングすれば良い。 In (b) Anode forming step in order to realize such a structure, after forming the anode in the photolithography process, the pixel regulating layer was formed thicker than the anode 12 on the anode, by patterning using a halftone mask if may. 画素規制層としては、SiO などの絶縁物が使用できる。 The pixel regulating layer, an insulating material such as SiO 2 may be used.

本構成によると、ポリイミド樹脂などの有機系材料からなるバンクを使用していないので、有機系材料からの不純物混入で発光特性が低下することがなくなる。 With this configuration, does not use a bank of organic material such as polyimide resin, it is unnecessary to decrease the emission characteristics impurity contamination from organic materials. また、フッ素プラズマなどを用いることなく、撥液層を形成することができるため、フッ素プラズマによる汚染による、発光効率の低下を防ぐことが可能となる。 Further, without using a fluorine plasma, it is possible to form a liquid repellent layer, by contamination by fluorine plasma, it is possible to prevent a decrease in luminous efficiency.

また、自己組織化膜からなる撥液層26の開口部の幅24が陽極の幅23より大きいので、陽極12上は、膜厚の安定した領域となる。 Further, since the width 24 of the opening of the liquid-repellent layer 26 made of self-assembled film is greater than the width 23 of the anode, the anode 12 on is a thickness of a stable region. すなわち、撥液層26の端面27で液滴分離がなされるが、この端面で表面張力に起因する液滴の盛り上がりによって、膜厚にばらつきが生じても、陽極12として規定されている画素領域が前記撥液層で分離された領域よりも内側に規定されているため、画素領域内は、膜厚の安定した領域となる。 That is, the droplet separation at the end face 27 of the liquid-repellent layer 26 is made, by swelling of the droplets due to surface tension at this end face, even when variation in the film thickness, the pixel region defined as an anode 12 since There are defined inside the isolated region in the liquid-repellent layer, the pixel region, a thickness of a stable region. その結果、各画素内の発光輝度ばらつきや画素間の発光ムラを抑制し、安定で寿命特性に優れ有機エレクトロルミネッセント装置を提供することが可能となる。 As a result, uneven light emission between the emission luminance variation or pixels in each pixel is suppressed, it is possible to provide an organic electroluminescent device excellent in stability and life characteristics.

さらに、陽極12上に成膜された画素規制層50により陽極12端部の段差28が緩和され、更に画素規制層50の端部51はテーパ形状になっているので、紫外線により自己組織化膜の親液化部20を作製する際、図14(d)の28のような段差部に十分に紫外線が当たらないことが原因で撥液部が残るということがなく、膜厚が安定する。 Further, the anode 12 end of the step 28 is reduced by the pixel regulating layer 50 which is formed on the anode 12, since even the end 51 of the pixel regulating layer 50 has a tapered shape, the self-assembled film by ultraviolet of making the lyophilic portion 20, without that lyophobic part because it does not touch enough ultraviolet light stepped portion such as 28 in FIG. 14 (d) remain, the film thickness is stabilized.

また、図14(a)のようにライン状に撥液部を設けると、1ライン毎に共通領域となるため、塗布液の流動化がより円滑となり、均一な塗布膜の形成が可能となる。 Further, when providing the liquid repellent portion in a line shape as shown in FIG. 14 (a), the order becomes a common area for each line, becomes smoother fluidization of the coating liquid, it is possible to form a uniform coating film . このとき、陽極は多層構造であってもよい。 In this case, the anode may have a multilayer structure. 本実施の形態の陽極と陰極の配置関係は、陽極が基板に近い側に設けられてもいる態様を示したが、陰極が基板に近い側に設けられる形態でもよい。 Arrangement of anodes and cathodes of the present embodiment has an anode showed aspects are also provided on the side closer to the substrate, the cathode may be in a form provided on the side closer to the substrate.

(実施の形態11) (Embodiment 11)
(基板TFT) (Substrate TFT)
次に、本発明の有機エレクトロルミネッセント発光装置を用いた表示装置について説明する。 Next, the display device will be described using an organic electroluminescent light emitting device of the present invention. 本実施の形態の表示装置は、基本的には、機能層として、陽極側に酸化モリブデン層を介在させた図3に示した実施の形態2の有機エレクトロルミネッセント発光装置と同様の発光装置を用いてアクティブマトリックス型の表示装置を構成したものである。 Display device of this embodiment is basically the functional layer, the organic electroluminescent light emitting device similar to the light emitting device of the second embodiment shown in FIG. 3 is interposed molybdenum oxide layer on the anode side it is obtained by constituting the active matrix type display device using. この表示装置は、図8にこのアクティブマトリックス型の表示装置の等価回路図、図9にレイアウト説明図、図10に上面説明図を示すように、各画素に駆動回路を形成したアクティブマトリックス型の表示装置を構成するものである。 The display device is an equivalent circuit diagram of the active matrix type display device in FIG. 8, the layout diagram in FIG. 9, as shown in the top diagram in Figure 10, the active matrix type in which a driver circuit is formed each pixel It constitutes a display device.

この表示装置140は、図8乃至図10に示すように、画素を形成する有機エレクトロルミネッセント素子(エレクトロルミネッセント)110およびスイッチングトランジスタ130、光検出素子としてのカレントトランジスタ120とからなる2つのTFT(T1,T2)とコンデンサCとからなる駆動回路を上下左右に複数個配列し、左右方向に並んだ各駆動回路の第1のTFT(T1)のゲート電極を走査線143に接続して走査信号を与え、また上下方向に並んだ各駆動回路の第1のTFTのドレイン電極をデータ線に接続し、発光信号を供給するように構成されている。 The display device 140, as shown in FIGS. 8 to 10, the organic electroluminescent device (electroluminescent) 110 and the switching transistor 130 to form a pixel, composed of the current transistor 120 serving as a light-detecting element 2 one of the TFT (T1, T2) and a plurality arranged a drive circuit composed of a capacitor C to the vertically and horizontally to connect the first gate electrode of the TFT (T1) of the respective drive circuits arranged in the horizontal direction to the scanning line 143 given scan signals Te, also connects the first drain electrode of the TFT of the driving circuit arranged in the vertical direction to the data line, and is configured to provide an emission signal. エレクトロルミネッセント素子(エレクトロルミネッセント)の一端には駆動用電源(図示せず)が接続され、コンデンサCの一端は接地されている。 One end of the electroluminescent device (electroluminescent) connected driving power source (not shown), one end of the capacitor C is grounded. 143は走査線、144は信号線、145は共通給電線、147は走査線ドライバ、148は信号線ドライバ、149は共通給電線ドライバである。 143 scanning lines, 144 denotes a signal line, 145 is a common feed line, 147 scan line driver, 148 denotes a signal line driver 149 is a common feeder line driver.

有機エレクトロルミネッセント装置を構成する有機エレクトロルミネッセント素子の断面説明図(図3参照)、図10はこの表示装置の上面説明図である。 Sectional view of an organic electroluminescence element constituting the organic electroluminescent device (see FIG. 3), FIG. 10 is a top illustration of the display device. 図3および図10に示すように、駆動用の薄膜トランジスタ(図示せず)を形成したガラス基板100に、陽極(Al)12、酸化モリブデン層(遷移金属酸化物層)14a、有機バッファ層として電子ブロック層:インターレイヤ14S、発光層14b(赤色発光層14R,緑色発光層14G,青色発光層14B)、陰極15を形成してトップエミッション型の有機エレクトロルミネッセント素子を形成している。 As shown in FIGS. 3 and 10, electrons in the glass substrate 100 formed with the driving thin film transistor (not shown), an anode (Al) 12, molybdenum oxide layer (transition metal oxide layer) 14a, as the organic buffer layer block layer: interlayer 14S, the light emitting layer 14b (red light emitting layer 14R, the green light emitting layer 14G, the blue light emitting layer 14B), forming an organic electroluminescence element having a top emission type to form a cathode 15. 構造としては、陽極および電荷注入層は個別に形成され、発光層は画素規制部13としての酸化シリコン層と、撥液層16で開口面積を規定され、陰極15は、陽極に直交する方向に走行するストライプ状に形成されている。 The structure, the anode and the charge injection layer is formed separately, the light emitting layer and the silicon oxide layer as the pixel restricting portion 13 is defined the opening area in the liquid repellent layer 16, the cathode 15, in a direction perpendicular to the anode It is formed in stripes running. なおこの駆動用の薄膜トランジスタは、例えばガラス基板100上に有機半導体層(高分子層)を形成し、これを、ゲート絶縁膜で被覆しこの上にゲート電極を形成すると共にゲート絶縁膜に形成したスルーホールを介してソース・ドレイン電極を形成してなるものである。 Note thin film transistor for driving, for example on a glass substrate 100 to form the organic semiconductor layer (polymer layer), which is coated with a gate insulating film formed on the gate insulating film to form a gate electrode on the those obtained by forming a source and drain electrode through the through hole. そして、この上にポリイミド膜などを塗布して絶縁層(平坦層)を形成し、その上部に陽極(ITO)12、酸化モリブデン層14a、インターレイヤ14S、発光層14b(14R,14G,14B)などの有機半導体層、酸化モリブデン層からなるバッファ層(図示せず)、2層構造の陰極15(Ba−Al超薄膜、ITO)を形成して有機エレクトロルミネッセント素子を形成した構造を有している。 Then, a polyimide film or the like coated with an insulating layer on the form a (flat layer), an anode thereon (ITO) 12, molybdenum oxide layer 14a, the inter-layer 14S, the light emitting layer 14b (14R, 14G, 14B) the organic semiconductor layer such as a buffer layer made of molybdenum oxide layer (not shown), the cathode 15 having a two-layer structure (Ba-Al ultrathin film, ITO) formed a structure to form an organic electroluminescent element have a are doing. なお、図10では、コンデンサや配線については省略したが、これらも同じガラス基板上に形成されている。 In FIG. 10, it has been omitted capacitors and wiring, which are also formed on the same glass substrate. このようなTFTと有機エレクトロルミネッセント素子からなる画素が同一基板上に複数個マトリクス状に形成されてアクティブマトリクス型の表示装置を構成している。 Is formed in a plurality a matrix to constitute an active matrix display device in such a TFT and an organic electroluminescent consisting St. element pixel same substrate.

発光機能を有した層14は、酸化シリコン層(絶縁層)で構成した画素規制部13上に、自己規制化膜のパターンで形成された撥液層16の開口部Oにインクジェット法により、発光層が形成される。 Layer 14 having a light emitting function, on the pixel restricting portion 13 configured of a silicon oxide layer (insulating layer), by an inkjet method in the opening O of the self-regulation of membrane liquid-repellent layer 16 formed in a pattern of light emission layers are formed.

すなわち、製造に際しては、まず、ガラス基板100上に形成された走査線143、信号線144、スイッチングTFT130、画素電極を構成するアルミニウムのパターンからなる電極12(図9および図3参照)、遷移金属酸化物層13の上に画素規制部13を形成し、その後開口部を設ける。 That is, in manufacture, first, the scanning line 143 formed on a glass substrate 100, signal lines 144, (see FIG. 9 and FIG. 3) the switching TFT 130, the electrode 12 consisting of a pattern of aluminum which constitutes a pixel electrode, a transition metal pixel restricting portion 13 is formed on the oxide layer 13, then an opening.
そしてこの上層に、自己組織化膜を塗布しマスクを用いて紫外線照射を行なうことでパターニングし、撥液層16のパターンを形成する。 And this layer is coated with a self-assembled monolayer using a mask patterned by performing UV irradiation to form a pattern of liquid-repellent layer 16.
この後、インクジェット法によって必要に応じてバッファ層としてTFBを塗布する。 Thereafter, applying the TFB as a buffer layer as required by an ink jet method. このTFB層は遷移金属酸化物層と同様に全面に塗布してもよいし、開口部に対応する部分だけに塗布してもよい。 The TFB layer may be applied to the entire surface like the transition metal oxide layer may be applied only to a portion corresponding to the opening.
そして、乾燥工程を経て、開口部に対応する位置にインクジェット法によって所望の色(RGBのいずれか)に対応する高分子有機EL材料を塗布し、発光層14b(14R,14G,14B)を形成する。 Then, formed through a drying process, the ink-jet method at a position corresponding to the opening by applying a polymer organic EL material corresponding to the desired color (either RGB), the light emitting layer 14b (14R, 14G, 14B) the to.
さらに、バッファ層(図示せず)を成膜し、最後に表示画素141が配置されている領域に対して陰極15(図3参照)を形成する。 Furthermore, deposited buffer layer (not shown), to form a cathode 15 (see FIG. 3) to a region of the last display pixels 141 are disposed.

この構成によれば、プラズマ照射を用いる事無く撥液層のパターンを形成することができるため、発光効率の高い有機エレクトロルミネッセント装置を得ることができ、また高速駆動が可能で信頼性の高い表示装置を提供することができる。 According to this arrangement, it is possible to form a no liquid-repellent layer pattern by using a plasma irradiation, it is possible to obtain a high luminous efficiency organic electroluminescent device, also the reliability can operate at high speed it is possible to provide a high display device. また、発光層は、画素領域よりも大きい領域に高精度にサイズが制御された、撥液層16で規定された領域内に充填されている。 Further, the light-emitting layer, size precision in a region larger than the pixel area is controlled, it is filled in a region defined by the liquid repellent layer 16. このためインクジェット法により、位置ずれも無く確実に発光層を形成することができ、また周縁部の膜厚の不安定な領域は画素領域とならないため、膜厚およびサイズが高精度に制御された発光層を持つ画素領域を得ることができる。 By this reason the ink jet method, positional deviation even without it is possible to form a reliable light-emitting layer and an unstable region of the thickness of the peripheral portion is not a pixel area, thickness and size is controlled with high accuracy it is possible to obtain a pixel region having an emission layer.
従って、発光層が均一に形成された表面に形成されると共に、表面も平滑な状態を維持できることになり、発光層が均一に形成され、電界集中もなく、陽極および陰極によって印加される電界が均一に発光層に付与され、良好な発光特性を得ることができる。 Accordingly, the light emitting layer is formed uniformly formed surface, the surface also becomes able to maintain a smooth state, the light emitting layer is uniformly formed, no electric field concentration, the electric field applied by an anode and cathode is uniformly applied to the light-emitting layer, it is possible to obtain a good luminescence properties. また各発光層が均一に形成されることになり、発光特性のばらつきもなく良好な発光特性を得ることができる。 The result that each light-emitting layer is uniformly formed, no variation in light emission characteristics can be obtained good luminous characteristics.
また、陰極15の成膜時あるいはパターニング時においては、発光層は、少なくとも酸化モリブデン層からなるバッファ層で覆うようにすれば、スパッタダメージあるいはプラズマダメージから保護され、信頼性の高い膜形成が可能となる。 Further, at the time of film formation or during patterning of the cathode 15, the light-emitting layer, at least if to cover the buffer layer made of molybdenum oxide layer is protected from sputtering damage or plasma damage, possible high film forming reliable to become.

次にエレクトロルミネッセント素子を2次元的に複数配置した発光装置を用いた照明装置の例を、図10を援用して説明する。 Next, examples of a lighting device using a light-emitting device in which a plurality arranged electroluminescence elements two-dimensionally will be explained with reference to FIG. 10. 2次元的に配置されたエレクトロルミネッセント素子110について、例えば全てのエレクトロルミネッセント素子110を一斉に点灯/消灯するような構成は極めて容易に実現できる。 About two-dimensionally arranged electroluminescent device 110, for example simultaneously turned on / off so as to constitute all of the electroluminescent device 110 can be realized very easily. ただしこのように一斉に点灯/消灯するような構成であっても、少なくとも一方の電極(例えばAlで構成される画素電極(図3などにおける陽極12参照))は個々のエレクトロルミネッセント素子1単位に分離した構成とすることが望ましい。 However even in this way simultaneously turned on / off as constituting, (pixel electrode formed of, for example, Al (see anode 12 in FIG. 3 and the like)) of at least one of the electrodes each electroluminescent element 1 it is desirable that the configuration in which separate units. これは何らかの要因によって表示画素141に欠陥があったとしても、欠陥が当該表示画素141に留まるため、照明装置全体の製造歩留まりを向上させることができるからである。 Even this was defective display pixel 141 for some reason, since the defects remain in the display pixel 141 is because it is possible to improve the manufacturing yield of the entire lighting device. このような構成を有する照明装置は、例えば家庭における一般的な照明器具に応用することができる。 Lighting device having such a structure can be applied to general lighting fixtures in for example, a home. この場合に照明装置を極めて薄く構成することができるから、天井のみならず壁面にも容易に設置することができるようになる。 Since it is possible to extremely thin form an illumination device in this case, so it can be easily installed on the wall as well as ceiling only.

また、2次元的に配置されたエレクトロルミネッセント素子は任意のデータを供給することで、その発光パターンを簡単に制御することができ、かつ本発明に係るエレクトロルミネッセント素子は、その発光領域を例えば40μm角程度のサイズで構成できるから、照明装置にデータを供給してパネル型の表示装置と兼用するようなアプリケーションを構成できる。 Further, the electroluminescent elements arranged two-dimensionally by supplying any data, electroluminescent device according to the emission pattern can be controlled easily, and the present invention, the light emitting because the region can be configured in a size of, for example, about 40μm square, it can be constructed application that serves as the feed to the panel-type display device data to the lighting device. もちろんこの場合には表示画素141は位置に応じて赤色、緑色、青色に塗り分けられている必要があるが、インクジェット法を用いることにより、極めて容易に多色化が可能となる。 Of course red depending on the display pixel 141 located in this case, green, it is necessary to have been painted in blue, by using the ink jet method, it is possible to very easily multiple colors.

従来は照明装置と表示装置を比較したときに、その発光輝度は照明装置の方が大きいものであった。 When the comparing display device and the illuminating device conventionally the emission luminance was intended direction of the illumination device is large. しかしながら本発明に係るエレクトロルミネッセント素子110は十分に大きく面積をとることができ、極めて高い発光輝度を有しているため、照明装置と表示装置を兼用できるのである。 However electroluminescent device 110 according to the present invention may take the sufficiently large area, since it has a very high luminance, it can be also used a lighting device and a display device. この場合、照明装置と表示装置ではその機能の違い(すなわち使用モード)に起因して発光輝度を調整する機構が必要となるが、この機構は例えば前記実施の形態1に示した構成を採用し駆動電流を制御して各エレクトロルミネッセント素子の発光輝度を調整することで実現できる。 In this case, mechanisms in the lighting device and a display device for adjusting the emission brightness due to the difference of the function (i.e., use mode) but is required, the mechanism adopts the configuration shown in the first embodiment example by controlling the drive current can be realized by adjusting the light emission luminance of each electroluminescent device. 即ち照明装置として使用する場合は全てのエレクトロルミネッセント素子をより大きな電流で駆動し、表示装置として使用する場合は小電流でかつ階調に応じて制御された電流値で(すなわち画像データに応じて)各エレクトロルミネッセント素子を駆動すればよい。 That all of the electroluminescent element when used as a lighting device is driven with a larger current, when used as a display device at a current value that is controlled in response to and tone a small current (i.e., the image data Correspondingly) may be driven to the electroluminescent element. このようなアプリケーションにおいて、照明装置として機能する場合の電源と、表示装置として機能する場合の電源は単一のものとしてもよいが、駆動電流を制御する、例えばディジタル−アナログ変換器のダイナミックレンジが大きく、表示装置として使用する際の階調数が不足するような場合には、図8および図9に示す共通給電線145に接続された電源(図示せず)を使用モードに応じて切り替えるような構成とすることが望ましい。 In such applications, the power supply when functioning as a lighting device, power may be as a single case of functioning as a display device, and controls the drive current, for example, a digital - the dynamic range of the analog converter large, if such insufficient number of gradations when used as a display device, is switched according to the use mode power supplies connected to the common power supply line 145 shown in FIGS. 8 and 9 (not shown) it is desirable that the Do configuration. もちろん照明装置としての使用モードにおいても、明るさの制御が必要な態様(すなわち調光機能を有する照明装置)にあっては、先に説明した階調に応じた電流値制御によって容易に対応することができる。 Of course even in the mode of use as a lighting device, in the required brightness control mode (i.e. illumination device having a light control function), readily accommodated by the current value control corresponding to the gray level previously described be able to. また本発明のエレクトロルミネッセント素子は、ガラス基板100の上のみならず例えばPETなどの樹脂基板上にも形成できることから、様々なイルミネーション用の照明装置としても応用することができる。 The electroluminescent device of the present invention, because it can be formed on a resin substrate, such as not only example PET on a glass substrate 100, can be applied as a lighting device for various for illumination.

なお、薄膜トランジスタを有機トランジスタで構成してもよい。 It is also possible to constitute a thin film transistor in the organic transistor. また薄膜トランジスタ上に有機エレクトロルミネッセント素子を積層した構造、あるいは有機エレクトロルミネッセント素子上に薄膜トランジスタを積層した構造なども有効である。 Also effective structure by stacking the organic electroluminescence element on the thin film transistor, or even such structure obtained by laminating a thin film transistor organic electroluminescent on St. element.

加えて、高画質のエレクトロルミネッセント表示装置を得るために、有機エレクトロルミネッセント素子を形成したエレクトロルミネッセント基板と、TFT、コンデンサ、配線などを形成したTFT基板とを、エレクトロルミネッセント基板の電極とTFT基板の電極とが接続バンク(撥液層となる突出部)を用いて接続されるように貼り合わせるようにしてもよい。 In addition, in order to obtain the electroluminescent display device of high image quality, and electroluminescent substrate formed with the organic electroluminescence element, TFT, a capacitor, and a TFT substrate to form such wiring, electroluminescent may be bonded to the St. substrate electrode and the TFT substrate of the electrode is connected with the connection bank (protruding portion serving as the liquid-repellent layer).

またこの遷移金属酸化物層は、積層方向の比抵抗が、面方向の比抵抗の3分の1程度となるように成膜される。 The transition metal oxide layer has a specific resistance in the stacking direction, it is formed to have about one third of the resistivity in the surface direction. また、膜厚を従来では考えられなかった厚さである膜厚40nmとすることにより、厚膜のMoO 層によって表面の平坦化および平滑化をはかった上で、良好に発光領域の面積を規制するように構成している。 Further, with the thickness 40nm of the conventional film thickness is the thickness was not considered of, after working to flatten and smooth the surface by MoO 3 layer of a thick film, the area of the well-emitting region It is configured so as to regulate.

ここでは遷移金属酸化物層116としての厚いMoO 層と、陽極であるAl層からなる第1の電極112との間にTFBからなるバッファ層(電子ブロック層)を介在させるようにしたが、このバッファ層はなくてもよい。 Here a thick MoO 3 layer of the transition metal oxide layer 116 has been buffer layer composed of TFB between the first electrode 112 made of Al layer is an anode (electron blocking layer) so as to be interposed, may not this buffer layer.

(実施例1) (Example 1)
図7(a)(b)および(c)に示したように、個別電極状にパターニングされたITOのパターンを陽極12として形成したガラス基板11に、酸化モリブデン層からなるホール注入層を形成してその後、ドライエッチングにて、画素領域を決定するようにパターニングした。 As shown in FIG. 7 (a) (b) and (c), a pattern of ITO patterned into individual electrodes form the glass substrate 11 formed as the anode 12, to form a hole injection layer made of molybdenum oxide layer then Te, by dry etching, and patterned so as to determine a pixel area. 画素のサイズは、120μm*300μmであり、画素数は、200*200画素とした。 Pixel size of is a 120μm * 300μm, the number of pixels, was 200 * 200 pixels. 次に、自己組織化膜によって撥液層16を形成した。 Next, to form the liquid repellent layer 16 by the self-assembled film. すなわち自己組織化膜形成のための溶液中に、陽極12およびホール注入層の形成されたガラス基板を浸漬し、乾燥した後、紫外線を用いて選択露光することによって、露光領域の自己組織化膜を除去し非露光領域に相当する撥液層を残留させることで、画素規制部上にライン状の撥液層16を形成した。 That the solution for the self-assembled film is formed, a glass substrate formed with the anode 12 and the hole injection layer was dipped, dried, by selecting exposure using ultraviolet, self-assembled film exposure area It is to remain liquid-repellent layer corresponding to the unexposed areas were removed to form a line-shaped liquid repellent layer 16 on the pixel restricting portion. 画素規制部と撥液層の端部とは5μm離れるように形成した。 The end portion of the pixel restricting portion and the liquid-repellent layer was formed away 5 [mu] m. 次にインターレイヤとしてTFBを20nm、ポリフルオレン骨格を有する緑色発光材料をキシレン溶媒に溶解させ、乾燥後に80nmの厚みになるように形成した。 Then 20nm The TFB as interlayer, a green light-emitting material having a polyfluorene backbone was dissolved in xylene solvent, was formed to have a thickness of 80nm after drying. なお、インクジェット法において、撥液層に挟まれた各画素に跨ってライン状に塗布した。 Note that in the ink jet method, was applied in a line across the respective pixels sandwiched between the liquid-repellent layer. また赤色発光材料、青色発光材料についても同様に撥液層に挟まれた各画素に跨ってライン状に塗布した。 The red light-emitting material, was applied in a line shape across each pixel similarly sandwiched between the liquid-repellent layer also for the blue light-emitting material. これにより、1画素毎に液滴を落とす方法に比べ、液滴量のバラツキが緩和され発光させた場合の均一性が向上する。 Thus, compared with the method of dropping droplets to each pixel, thereby improving the uniformity of the case where the variation of the droplet amount was emitted relaxed. 有機発光材料を乾燥、ベークした後に、陰極としてバリウムを5nm、アルミニウムを100nm真空蒸着した。 The organic light emitting material drying, after baking, was 5nm barium as a cathode, aluminum is 100nm vacuum deposition. 陰極はストライプ上の画素をすべて覆うように形成した。 The cathode was formed to cover all pixels on the stripe.

以上、得られた試料について、陽極と陰極間に7Vの直流電圧を印加し、発光のプロファイルを測定した。 Although the resulting sample, applying a DC voltage of 7V between the anode and the cathode, luminescence was measured profile. 発光プロファイルは、高精細のCCDカメラで撮影した。 Emission profiles were taken with a high resolution CCD camera.
次にこれらの試料を初期輝度5000cdになるように電流を設定し、定電流駆動を行い、輝度半減寿命を測定した結果極めて良好であった、またこれら膜厚の不均一性によると思われる発光プロファイルのゆがみと、それから引き起こされる発光寿命の低減は、本発明によって改善されていることがわかる。 Then these samples sets the current so that the initial luminance 5000 cd, a constant current driving was very good results obtained by measuring the luminance half life and the light emitting probably due to the heterogeneity of these thicknesses profile and distortion, reduction of emission life caused therefrom, it can be seen that are improved by the present invention.
なお、酸化モリブデンのかわりに、酸化タングステンを用いた場合でも同様な結果が得られた。 Instead of molybdenum oxide, similar results even when a tungsten oxide was obtained.

(実施例2) (Example 2)
実施例1において、ホール注入層を酸化モリブデンからPEDT:PSSにして形成した以外、実施例1と同様にして有機エレクトロルミネッセント素子を作製した場合にも良好な特性を得ることができた。 In Example 1, PEDT hole injection layer from the molybdenum oxide except that was formed in the PSS, it was possible to obtain excellent characteristics even when producing an organic electroluminescent element in the same manner as in Example 1.

(実施例3) (Example 3)
次に、薄膜トランジスタをガラス基板に形成した、低温ポリシリコン基板を用いて、RGBの塗り分けを行った。 Next, a thin film transistor formed on a glass substrate by using low-temperature polysilicon substrate, were separately applied RGB. TFT基板には、絶縁性の有機材料にて平坦化膜を形成した。 The TFT substrate was formed a planarization film by an insulating organic material. その基板上に、透明電極としてITOをスパッタ法で形成しその後、同様にSiNにて画素規制部をそれぞれの厚みで形成し、所望の発光領域になるようにドライエッチングを行った。 On the substrate, then formed by sputtering ITO as a transparent electrode was formed in a similar manner to the pixel restricting portion at SiN in each thickness, the dry etching was performed so that a desired light emitting area. その後、自己組織化膜からなる撥液層16を画素列毎に形成した。 Then, to form the liquid repellent layer 16 made of self-assembled film in each pixel column. これにより撥液層で素子の列ごとにストライプ状に分割した。 Thus it was divided into stripes for each of the elements in the liquid-repellent layer sequence. また、すなわちホール注入層としてPEDT:PSSの代わりに酸化タングステンをスパッタ法にて50nm形成した。 Also, i.e. PEDT as a hole injection layer: was 50nm formed by sputtering a tungsten oxide instead of PSS. 酸化タングステンは、撥液層の上部も含めて全体にスパッタした。 Tungsten oxide was sputtered on the entire, including the top of the liquid-repellent layer. これは、PEDTに比べて横方向の抵抗が低く、クロストークが生じないと特徴があるため、このような使い方が出来る。 This low transverse resistance than PEDT, because of the characteristic when no crosstalk, this usage is possible. 次に撥液層で分割された列毎に、インターレイヤ14SとしてTFBを20nmの厚さになるようにディスペンサーを用いて塗布を行った。 Then for each column divided by lyophobic layer, it was coated with a dispenser so that the TFB as interlayer 14S in a thickness of 20 nm. それを乾燥、ベーキングしたあとに、発光層として、同様にディスペンサーを用いて、撥液層で分割されたそれぞれの列に赤色発光材料、緑色発光材料、青色発光材料のインクを調合し、平均で80nmの厚みになるように塗布を行った。 It is dried, after the baked, as a light-emitting layer, similarly using a dispenser, red light-emitting material in each column divided by the liquid repellent layer, a green luminescent material, formulated ink of the blue light emitting material, average the coating was carried out so that the thickness of 80nm. その後、陰極としてバリウムを5nm、アルミニウムを100nm真空蒸着した。 Thereafter, 5nm barium as a cathode, aluminum is 100nm vacuum deposition. 陰極はストライプ上の画素をすべて覆うように形成した。 The cathode was formed to cover all pixels on the stripe. 得られた試料の一部のTFTを外部回路で動作させ発光状態と寿命を評価した。 Operating the part of the TFT of the obtained sample by external circuitry to evaluate lighting conditions and lifetime. その緑色の発光列で得られた結果を測定した。 Was measured results obtained in the green light emitting column.

この場合も実施例1とほぼ同様な結果と傾向を得た。 Again obtain substantially the same results and trends as in Example 1.
すなわち、画素規制部膜厚が200nm以下であり、かつストライプ状の発光領域を有するように撥液層を形成し画素の端部と撥液層との距離を5nm以上にすると、輝度半減寿命が向上し、発光プロファイルもほぼ矩形になることが示された。 That is, the pixel restricting portion thickness is at 200nm or less, and when forming the liquid-repellent layer so as to have a striped light-emitting region to the distance between the end portion and the liquid repellent layer of the pixel than 5 nm, the luminance half life improved, emission profiles were also shown to be substantially rectangular.

本発明の有機エレクトロルミネッセント装置、および画像形成装置は、有機エレクトロルミネッセント素子において、特に発光層を塗布型で行う時に課題となる画素内の発光輝度の均一性あるいは長期にわたる安定な発光を得ることが必要な種々の装置において利用でき、例えばテレビ、ディスプレイの多色発光を必要とするアプリケーションのみならず、単色発光を利用する露光デバイス、プリンタ、ファクシミリなどに適用が可能である。 The organic electroluminescent device of the present invention, and an image forming apparatus, in the organic electroluminescent device, particularly stable emission over uniformity or long-term light emission luminance of the pixel which becomes a problem when performing a light-emitting layer is a coating type available in various devices necessary to obtain, for example television, not only applications requiring multi-color light emission display is applicable exposure device utilizing the single color emission, printer, etc. facsimile. また有機エレクトロルミネッセント素子は有機発光材料の選定によってRed、Green、Blueの三原色を得ることができるから、例えばRGBそれぞれの色にて露光する露光装置を用いれば、印画紙を直接露光するタイプの画像形成装置に適用することもできる。 The organic electroluminescence element Red depending on the selection of the organic light emitting material, Green, and can obtain a Blue three primary colors, for example, by using the exposure apparatus that exposes at each of the RGB colors, the type for exposing the photographic paper directly It can also be applied to an image forming apparatus.

11 ガラス基板12 陽極13 画素規制部14 発光機能を有した層15 陰極16 撥液層100 ガラス基板O、O 、O 開口 11 glass substrate 12 anode 13 pixel restricting portion 14 emitting function having a layer 15 cathode 16 repellent layer 100 glass substrate O, O 0, O 1 opening

Claims (20)

  1. 基板上に形成された第1の電極と、第1の電極上に設けられると共に第1の電極に応じて複数の異なる発光色をもつ発光機能を有した層と、前記発光機能を有した層を前記第1の電極とで挟み込むように配置された第2の電極と、第1の電極の周囲に設けられ複数の前記発光色毎に領域を分離する撥液層とを有し、 A first electrode formed on a substrate, the layer having the light emitting function having a plurality of different emission colors in response to the first electrode with is provided on the first electrode, the layer having the light emitting function the and a second electrode disposed so as to sandwich between the first electrode, and a liquid-repellent layer separating the regions for each of a plurality of the light emitting color is provided around the first electrode,
    前記発光機能を有した層が、前記撥液層で分離された領域よりも内側に画素領域を規定された有機エレクトロルミネッセント装置。 Wherein the layer having the light emitting function is organic electroluminescent device define a pixel region on the inner side of the isolated region with the liquid-repellent layer.
  2. 請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって、 An organic electroluminescent device according to claim 1,
    前記第1の電極または第2の電極のいずれかと発光機能を有した層との間に形成され、かつ、 It is formed between the layer having either a light-emitting function of the first electrode or the second electrode, and
    前記発光機能を有した層の発光領域を規制して画素領域を形成する画素規制部を有し、 A pixel regulating portion for forming a pixel region by regulating the light emitting region of the layer having the light emitting function,
    前記発光機能を有した層が、前記撥液層で分離された領域内において、前記画素規制部上に跨って一体的に形成された有機エレクトロルミネッセント装置。 Wherein the layer having the light emitting function is, in the liquid repellent layer in an isolated area, an organic electroluminescent device which is integrally formed over on the pixel restricting portion.
  3. 請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって、 An organic electroluminescent device according to claim 1 or 2,
    前記撥液層は自己組織化膜である有機エレクトロルミネッセント装置。 The organic electroluminescent device wherein the liquid repellent layer is a self-assembled film.
  4. 請求項2または3に記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって 前記撥液層はライン毎に前記領域が一体となるようにライン状に形成された有機エレクトロルミネッセント装置。 The organic electroluminescent device wherein the liquid repellent layer an organic electroluminescent device, wherein the area for each line is formed in a line shape so as to be integrated according to claim 2 or 3.
  5. 請求項2乃至4のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって 前記画素規制部の少なくとも前記発光領域を規制する側の端部の厚みを200ナノメートル以下に構成した有機エレクトロルミネッセント装置。 The organic electroluminescent device is a an organic electroluminescence constituted at least the thickness of the end portion on the side which restricts the light emitting region 200 nm or less of the pixel restricting portion Tsu according to any one of claims 2 to 4 St. apparatus.
  6. 請求項2乃至5のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって、 An organic electroluminescent device according to any one of claims 2 to 5,
    前記画素規制部の開口端は、前記撥液層の開口端の内縁よりも内側に位置するようにした有機エレクトロルミネッセント装置。 The open end of the pixel restricting portion, the organic electroluminescent device so as to be positioned inside the inner edge of the open end of the liquid-repellent layer.
  7. 請求項2乃至5のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって、 An organic electroluminescent device according to any one of claims 2 to 5,
    前記第1の電極または第2の電極のうち、基板側に位置する一方の外端よりも外側に、前記撥液層の開口端の内縁が位置するようにした有機エレクトロルミネッセント装置。 Wherein one of the first electrode or the second electrode, outside the one outer end located on the substrate side, the organic electroluminescent device inner edge of the open end of the liquid-repellent layer was positioned.
  8. 請求項2乃至7のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって、 An organic electroluminescent device according to any one of claims 2 to 7,
    前記発光機能を有した層は、前記画素規制部側に一体的に形成され、電子または正孔の一方の注入を制御する電荷注入層を含む有機エレクトロルミネッセント装置。 Wherein the layer having the light emitting function is formed integrally with the pixel restricting portion, the organic electroluminescent device comprising a charge injection layer for controlling one injection of electrons or holes.
  9. 請求項8に記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって、 An organic electroluminescent device according to claim 8,
    前記電荷注入層は遷移金属酸化物層である有機エレクトロルミネッセント装置。 The charge injection layer of the organic electroluminescent device is a transition metal oxide layer.
  10. 請求項2乃至9のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって、 An organic electroluminescent device according to any one of claims 2 to 9,
    前記発光機能を有した層は塗布膜を含む有機エレクトロルミネッセント装置。 Layer having the light emitting function of the organic electroluminescent device comprising a coating film.
  11. 請求項2乃至10のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって、 An organic electroluminescent device according to any one of claims 2 to 10,
    前記画素規制部は無機絶縁膜である有機エレクトロルミネッセント装置。 The pixel restricting portion of the organic electroluminescent device is an inorganic insulating film.
  12. 請求項1乃至11のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント装置の製造方法であって、 A method for manufacturing an organic electroluminescent device according to any one of claims 1 to 11,
    前記発光機能を有した層のうち、少なくとも発光領域をもつ層の形成に先立ち、 Of the layer having the light emitting function, prior to the formation of a layer having at least a light-emitting region,
    撥液層を形成する工程を有し、 And a step of forming a liquid repellent layer,
    前記撥液層で分離された領域内に、所望の粘度の溶液を充填し、前記発光領域をもつ層を形成する工程を含む有機エレクトロルミネッセント装置の製造方法。 The liquid-repellent layer in an isolated area, a method of manufacturing an organic electroluminescent device including a step of forming a desired solution is filled with the viscosity, the layer having the light emitting region.
  13. 請求項10に記載の有機エレクトロルミネッセント装置の製造方法であって、 A method for manufacturing an organic electroluminescent device according to claim 10,
    前記撥液層を形成する工程は、塗布法により自己組織化膜を形成する工程と、紫外線照射によりパターニングする工程とを含む有機エレクトロルミネッセント装置の製造方法。 Step includes the steps of forming a self-assembled film by a coating method, method for manufacturing an organic electroluminescent device including a step of patterning by ultraviolet irradiation to form the liquid-repellent layer.
  14. 請求項12に記載の有機エレクトロルミネッセント装置の製造方法であって、 A method for manufacturing an organic electroluminescent device according to claim 12,
    前記撥液層を形成する工程に先立ち、 Prior to the step of forming the liquid repellent layer,
    前記撥液層の形成された基板表面全体に、ドライプロセスにより、遷移金属酸化物からなる電荷注入層を形成する工程を含む有機エレクトロルミネッセント装置の製造方法。 The whole formed substrate surface of the liquid repellent layer, manufacturing method of an organic electroluminescent device including a step of a dry process to form a charge injection layer made of transition metal oxide.
  15. 請求項12乃至14のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント装置の製造方法であって、 A method for manufacturing an organic electroluminescent device according to any one of claims 12 to 14,
    前記充填する工程は、 Wherein the step of filling,
    前記撥液層で分離された領域内に、インクジェット法により溶液を充填する工程である有機エレクトロルミネッセント装置の製造方法。 Manufacturing method of the liquid repellent layer in an isolated area, the organic electroluminescent device solution is a step of filling the ink jet method.
  16. 請求項12乃至15のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント装置の製造方法であって、 A method for manufacturing an organic electroluminescent device according to any one of claims 12 to 15,
    前記充填する工程は、 Wherein the step of filling,
    前記撥液層で分離された領域内に、ノズルコート法またはディスペンス法により溶液を充填する工程である有機エレクトロルミネッセント装置の製造方法。 The liquid-repellent layer in an isolated area, the method of manufacturing the organic electroluminescent device is a step of filling the solution by a nozzle coating method or a dispensing method.
  17. 請求項3に記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって、 An organic electroluminescent device according to claim 3,
    前記第1電極の表面と、前記第1電極間の自己組織化膜が形成される層の表面とが同一平面上にある有機エレクトロルミネッセント装置。 Wherein a surface of the first electrode, and the surface of the layer self-assembled film is formed between said first electrode is an organic electroluminescent devices on the same plane.
  18. 請求項3に記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって、 An organic electroluminescent device according to claim 3,
    前記第1電極の端部がテーパ形状断面を有する有機エレクトロルミネッセント装置。 An end portion of the first electrode is an organic electroluminescent device having a tapered cross-section.
  19. 請求項3に記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって、 An organic electroluminescent device according to claim 3,
    前記第1電極上に透明導電膜を有し、前記透明導電膜の撥液層方向の幅が、前記第1電極の撥液層方向の幅より大きい有機エレクトロルミネッセント装置。 The first has a transparent conductive film on the electrode, the transparent conductive width of the liquid repellent layer direction of the membrane, the greater the organic electroluminescent than the liquid repellent layer width of the first electrode Tsu cent apparatus.
  20. 請求項3に記載の有機エレクトロルミネッセント装置であって、 An organic electroluminescent device according to claim 3,
    前記第1電極間に画素規制層を有し、前記画素規制層の端部は前記第1電極の端部を覆い、前記画素規制層の端部はテーパ形状である有機エレクトロルミネッセント装置。 The first inter-electrode has a pixel regulating layer, an end portion of the pixel regulating layer covers the end portion of the first electrode, an end portion of the pixel regulating layer is an organic electroluminescent device which is tapered.
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