JP2010014962A - Display panel, its manufacturing method, and electronic device - Google Patents

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Hiroki Makino
洋樹 牧野
Shohei Katsuta
昇平 勝田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display panel capable of preventing a crack in a brittle substrate from being enlarged and preventing the display panel having a curved surface from being broken. <P>SOLUTION: This display panel 30a is provided with the first substrate 10 being brittle, the second substrate 20 arranged by opposing to the first substrate 10, and a display medium layer 15 provided between the first substrate 10 and the second substrate 20. In the first substrate 10 and the second substrate 20, the first substrate 10 is curved to face outward, and an inorganic membrane 22a for preventing water from permeating into a crack formed on an end face of the first substrate 10 and preventing the crack from being expanded is provided on the end face of the first substrate 10. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、表示パネル及びその製造方法、並びに電子機器に関し、特に、脆性基板を用いた曲面状の表示パネル及びその製造方法、並びに電子機器に関するものである。   The present invention relates to a display panel, a manufacturing method thereof, and an electronic device, and more particularly to a curved display panel using a brittle substrate, a manufacturing method thereof, and an electronic device.

液晶表示パネルは、例えば、薄膜トランジスタ(以下、「TFT」と称する)アレイ基板と、TFTアレイ基板に対向して配置されたカラーフィルタ基板と、両基板の間に設けられた液晶層とを備えている。   The liquid crystal display panel includes, for example, a thin film transistor (hereinafter referred to as “TFT”) array substrate, a color filter substrate disposed facing the TFT array substrate, and a liquid crystal layer provided between the two substrates. Yes.

例えば、特許文献1には、アレイ基板とカラーフィルタ基板との基板端面に、両基板間の隙間を埋めるように、防湿性、耐湿性、絶縁性の特性を備えたUV樹脂を塗布し、その後、UV照射することによって樹脂を硬化させて保護コート層を形成する液晶表示パネルの製造方法が開示されている。そして、これによれば、基板端面からの水分や不純物の侵入による配線パターンの電界腐食を防止し、液晶表示パネル使用時の信頼性を向上させることができ、製造工程において生じる基板端面からの静電気の侵入を防止することができるため、素子破壊や絶縁膜破壊による液晶表示パネルの表示異常を低減させることができる、と記載されている。
特開平10−187054号公報
For example, in Patent Document 1, UV resin having moisture-proof, moisture-proof, and insulating characteristics is applied to the substrate end surfaces of the array substrate and the color filter substrate so as to fill a gap between the two substrates, and thereafter A method of manufacturing a liquid crystal display panel in which a resin is cured by UV irradiation to form a protective coating layer is disclosed. According to this, electric field corrosion of the wiring pattern due to intrusion of moisture and impurities from the substrate end surface can be prevented, and reliability when using the liquid crystal display panel can be improved, and static electricity generated from the substrate end surface in the manufacturing process can be improved. It is described that display abnormality of the liquid crystal display panel due to element destruction or insulation film destruction can be reduced.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-187054

ところで、液晶表示パネルを用いた表示装置では、特に、携帯電話などのモバイル用途において、液晶表示パネルの表示面を湾曲させた斬新なデザインが、近年、注目されている。   By the way, in a display device using a liquid crystal display panel, a novel design in which the display surface of the liquid crystal display panel is curved has been attracting attention in recent years, particularly in mobile applications such as mobile phones.

この表示面を湾曲させた曲面状の液晶表示パネルは、パネル自体を構成するガラス基板をエッチングにより薄板化してパネル自体を薄型化すると共に、その薄板化されたパネル自体に対して曲げ応力を負荷し続けて、曲面状の形状を保持することにより、実現することができる。   The curved liquid crystal display panel with a curved display surface is made thin by etching the glass substrate that constitutes the panel itself, and a bending stress is applied to the thin panel itself. This can be realized by maintaining the curved shape.

ここで、ガラス基板を用いた曲面状の液晶表示パネルでは、湾曲させたときのガラス基板の曲率及びガラス基板の厚さによって、ガラス基板に発生する曲げ応力が決まるので、ガラス基板の強度よりも大きな曲げ応力が発生する曲率でガラス基板を湾曲させると、ガラス基板が割れてしまって、液晶表示パネルが破損するおそれがある。そして、この液晶表示パネルの破損を抑制するには、ガラス基板をさらに薄板化してガラス基板に発生する曲げ応力を小さくすることが考えられる。   Here, in a curved liquid crystal display panel using a glass substrate, the bending stress generated in the glass substrate is determined by the curvature of the glass substrate and the thickness of the glass substrate when the glass substrate is bent. If the glass substrate is bent with a curvature that generates a large bending stress, the glass substrate may be broken and the liquid crystal display panel may be damaged. In order to suppress the breakage of the liquid crystal display panel, it is conceivable to further reduce the bending stress generated in the glass substrate by further thinning the glass substrate.

しかしながら、ガラス基板をさらに薄板化することにより、液晶表示パネルの破損を一応、抑制することができても、脆性を有するガラス基板を湾曲させた状態で長時間保持すると、ガラス基板の分断時にその端面に形成された微小なクラックが成長することにより、ガラス基板の割れが発生して、液晶表示パネルが破損するおそれがある。   However, even if the glass substrate can be further reduced in thickness by suppressing the damage of the liquid crystal display panel, if the glass substrate having brittleness is held in a curved state for a long time, the glass substrate is broken when the glass substrate is divided. When the minute crack formed on the end face grows, the glass substrate may break, and the liquid crystal display panel may be damaged.

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することにある。   The present invention has been made in view of this point, and an object of the present invention is to suppress the growth of cracks in a brittle substrate and to suppress the breakage of a curved display panel.

上記目的を達成するために、本発明は、脆性を有する第1基板の端面に無機膜を設けるようにしたものである。   In order to achieve the above object, according to the present invention, an inorganic film is provided on an end face of a brittle first substrate.

具体的に本発明に係る表示パネルは、脆性を有する第1基板と、上記第1基板に対向して配置された第2基板と、上記第1基板及び第2基板の間に設けられた表示媒体層とを備えた表示パネルであって、上記第1基板及び第2基板は、該第1基板が外方に向くように湾曲しており、上記第1基板の端面には、該第1基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜が設けられていることを特徴とする。   Specifically, a display panel according to the present invention includes a brittle first substrate, a second substrate disposed to face the first substrate, and a display provided between the first substrate and the second substrate. A display panel comprising a medium layer, wherein the first substrate and the second substrate are curved so that the first substrate faces outward, and the end surface of the first substrate has the first substrate An inorganic film for suppressing the penetration of moisture into the crack formed on the end face of the substrate and suppressing the growth of the crack is provided.

上記の構成によれば、第1基板が外方に向くように第1基板及び第2基板が湾曲しているので、第1基板には、引張応力が常に負荷されている。ここで、脆性を有する第1基板の端面には、第1基板を作製するために、例えば、大判の母基板を分断した際に形成された微小なクラックが存在している。そして、この第1基板の端面に形成されたクラックは、その周りの基板自体に引張応力が負荷された状態で、大気中の水分が介在することにより、基板端面から基板面内に成長するおそれがあるものの、第1基板の端面に無機膜が設けられているので、大気中の水分との接触が抑制され、基板端面から基板面内に成長することが抑制される。これにより、脆性を有する第1基板及びそれを備えた曲面状の表示パネルの破損が抑制されるので、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することが可能になる。   According to the above configuration, since the first substrate and the second substrate are curved so that the first substrate faces outward, a tensile stress is always applied to the first substrate. Here, on the end face of the brittle first substrate, there are minute cracks formed when, for example, a large mother substrate is divided in order to produce the first substrate. The cracks formed on the end surface of the first substrate may grow from the end surface of the substrate into the substrate surface due to the presence of moisture in the atmosphere with a tensile stress applied to the surrounding substrate itself. However, since the inorganic film is provided on the end surface of the first substrate, contact with moisture in the atmosphere is suppressed, and growth from the substrate end surface into the substrate surface is suppressed. Thereby, since the breakage of the brittle first substrate and the curved display panel including the same is suppressed, the growth of cracks in the brittle substrate can be suppressed, and the breakage of the curved display panel can be suppressed. It becomes possible.

上記無機膜は、上記第1基板の外表面にも設けられていてもよい。   The inorganic film may be provided on the outer surface of the first substrate.

上記の構成によれば、大判の母基板を分断した際に第1基板の外表面に微小なクラックが形成された場合でも、無機膜が第1基板の外表面にも設けられているので、第1基板の外表面に接触する大気中の水分の介在による外表面におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することが可能になる。   According to the above configuration, even when a minute crack is formed on the outer surface of the first substrate when the large mother substrate is divided, the inorganic film is also provided on the outer surface of the first substrate. It is possible to suppress the growth of cracks on the outer surface due to the presence of atmospheric moisture in contact with the outer surface of the first substrate, and to suppress the damage to the curved display panel.

上記第2基板は、脆性を有し、上記第2基板の端面には、該第2基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜が設けられていてもよい。   The second substrate has brittleness, and the end surface of the second substrate suppresses the penetration of moisture into the crack formed on the end surface of the second substrate, thereby suppressing the growth of the crack. An inorganic film may be provided.

上記の構成によれば、第1基板が外方に向くように第1基板及び第2基板が湾曲しているので、第2基板の内表面側には、第1基板に負荷されている引張応力よりも弱いものの、僅かな引張応力が常に負荷されている。ここで、脆性を有する第2基板の端面には、第2基板を作製するために、例えば、大判の母基板を分断した際に形成された微小なクラックが存在している。そして、この第2基板の端面に形成されたクラックは、その周りの基板自体に引張応力が負荷された状態で、大気中の水分が介在することにより、基板端面から基板面内に成長するおそれがあるものの、第2基板の端面に無機膜が設けられているので、大気中の水分との接触が抑制され、基板端面から基板面内に成長することが抑制される。これにより、脆性をそれぞれ有する第1基板及び第2基板、並びにそれらを備えた曲面状の表示パネルの破損が抑制される。   According to said structure, since the 1st board | substrate and the 2nd board | substrate are curving so that a 1st board | substrate may face outward, the tension | tensile_strength currently loaded on the 1st board | substrate is carried out to the inner surface side of a 2nd board | substrate. Although it is weaker than the stress, a slight tensile stress is always applied. Here, on the end face of the second substrate having brittleness, for example, there are minute cracks formed when a large mother substrate is divided in order to produce the second substrate. The crack formed on the end surface of the second substrate may grow from the end surface of the substrate into the substrate surface due to the presence of moisture in the atmosphere in a state where tensile stress is applied to the surrounding substrate itself. However, since the inorganic film is provided on the end surface of the second substrate, contact with moisture in the atmosphere is suppressed, and growth from the substrate end surface into the substrate surface is suppressed. Thereby, the breakage of the first substrate and the second substrate each having brittleness, and the curved display panel including them are suppressed.

上記第1基板及び第2基板は、ガラス製であり、上記表示媒体層は、液晶層であってもよい。   The first substrate and the second substrate may be made of glass, and the display medium layer may be a liquid crystal layer.

第1基板及び第2基板がガラス製であり、表示媒体層が液晶層であるので、一対のガラス基板の間に液晶層が封入された液晶表示パネルが具体的に構成される。   Since the first substrate and the second substrate are made of glass and the display medium layer is a liquid crystal layer, a liquid crystal display panel in which the liquid crystal layer is sealed between a pair of glass substrates is specifically configured.

また、本発明に係る表示パネルの製造方法は、脆性を有する第1基板、及び第2基板を、該第1基板及び第2基板の間に表示媒体層を封入するように貼り合わせることにより、貼合体を作製する貼合体作製工程と、上記貼合体における第1基板の端面に、該第1基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜を形成する無機膜形成工程と、上記第1基板の端面に無機膜が形成された貼合体を、該第1基板が外方に向くように湾曲状に変形させる変形工程とを備える表示パネルの製造方法であって、上記無機膜形成工程では、上記貼合体を真空雰囲気で処理することにより、上記第1基板に含有する水分の少なくとも一部を除去することを特徴とする。   Further, the method for manufacturing a display panel according to the present invention includes bonding the first substrate and the second substrate having brittleness so as to enclose the display medium layer between the first substrate and the second substrate, The bonded body manufacturing process for manufacturing the bonded body, and the end surface of the first substrate in the bonded body, the penetration of moisture into the crack formed on the end surface of the first substrate is suppressed, and the growth of the crack is suppressed. An inorganic film forming step for forming an inorganic film for the first substrate, and a deforming step for deforming the bonded body having the inorganic film formed on the end face of the first substrate into a curved shape so that the first substrate faces outward. In the method for manufacturing a display panel, in the inorganic film forming step, at least a part of moisture contained in the first substrate is removed by treating the bonded body in a vacuum atmosphere.

上記の方法によれば、無機膜形成工程において、貼合体作製工程で作製された貼合体を真空雰囲気で処理するので、第1基板に含有する水分の少なくとも一部が除去された後に、その第1基板の端面に無機膜が形成されることになり、その後の変形工程において、第1基板の端面に大気中の水分が接触することが抑制される。そして、変形工程では、第1基板が外方に向くように第1基板及び第2基板を湾曲させるので、第1基板には、引張応力が常に負荷されることになる。ここで、脆性を有する第1基板の端面には、第1基板を作製するために、貼合体作製工程の前又は後において、例えば、大判の母基板を分断した際に形成された微小なクラックが存在している。そして、この第1基板の端面に形成されたクラックは、その周りの基板自体に引張応力が負荷された状態で、大気中の水分が介在することにより、基板端面から基板面内に成長するおそれがあるものの、無機膜形成工程で第1基板の端面に無機膜が形成されるので、大気中の水分との接触が抑制され、基板端面から基板面内に成長することが抑制される。これにより、脆性を有する第1基板及びそれを備えた曲面状の表示パネルの破損が抑制されるので、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することが可能になる。   According to the above method, in the inorganic film forming step, since the bonded body manufactured in the bonded body manufacturing step is processed in a vacuum atmosphere, after at least a part of the moisture contained in the first substrate is removed, the first An inorganic film is formed on the end surface of one substrate, and in the subsequent deformation process, it is suppressed that moisture in the atmosphere contacts the end surface of the first substrate. In the deforming step, the first substrate and the second substrate are curved so that the first substrate faces outward, so that a tensile stress is always applied to the first substrate. Here, on the end face of the brittle first substrate, for example, a minute crack formed when the large-sized mother substrate is divided before or after the bonded body production step in order to produce the first substrate. Is present. The cracks formed on the end surface of the first substrate may grow from the end surface of the substrate into the substrate surface due to the presence of moisture in the atmosphere with a tensile stress applied to the surrounding substrate itself. However, since the inorganic film is formed on the end surface of the first substrate in the inorganic film forming step, contact with moisture in the atmosphere is suppressed, and growth from the substrate end surface into the substrate surface is suppressed. Thereby, since the breakage of the brittle first substrate and the curved display panel including the same is suppressed, the growth of cracks in the brittle substrate is suppressed, and the breakage of the curved display panel can be suppressed. It becomes possible.

上記無機膜形成工程は、上記無機膜をスパッタリング法又はCVD法により形成してもよい。   In the inorganic film forming step, the inorganic film may be formed by a sputtering method or a CVD method.

上記の方法によれば、スパッタリング法又はCVD法では、真空雰囲気で処理されるので、無機膜形成工程において、第1基板に含有する水分の少なくとも一部が具体的に除去される。   According to the above method, since the sputtering method or the CVD method is performed in a vacuum atmosphere, at least a part of the moisture contained in the first substrate is specifically removed in the inorganic film forming step.

また、本発明に係る電子機器は、曲面状の表示パネルを備えた電子機器であって、上記表示パネルは、脆性を有する第1基板と、該第1基板に対向して配置された第2基板と、該第1基板及び第2基板の間に設けられた表示媒体層とを備え、上記第1基板及び第2基板は、該第1基板が外方に向くように湾曲しており、上記第1基板の端面には、該第1基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜が設けられていることを特徴とする。   The electronic device according to the present invention is an electronic device including a curved display panel, and the display panel includes a brittle first substrate and a second substrate disposed to face the first substrate. A substrate and a display medium layer provided between the first substrate and the second substrate, wherein the first substrate and the second substrate are curved so that the first substrate faces outward, The end surface of the first substrate is provided with an inorganic film for suppressing the penetration of moisture into the crack formed on the end surface of the first substrate and suppressing the growth of the crack. To do.

上記の構成によれば、表示パネルにおいて、第1基板が外方に向くように第1基板及び第2基板が湾曲しているので、第1基板には、引張応力が常に負荷されている。ここで、脆性を有する第1基板の端面には、第1基板を作製するために、例えば、大判の母基板を分断した際に形成された微小なクラックが存在している。そして、この第1基板の端面に形成されたクラックは、その周りの基板自体に引張応力が負荷された状態で、大気中の水分が介在することにより、基板端面から基板面内に成長するおそれがあるものの、第1基板の端面に無機膜が設けられているので、大気中の水分との接触が抑制され、基板端面から基板面内に成長することが抑制される。これにより、脆性を有する第1基板及びそれを備えた曲面状の表示パネルの破損が抑制されるので、電子機器において、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することが可能になる。   According to the above configuration, in the display panel, since the first substrate and the second substrate are curved so that the first substrate faces outward, a tensile stress is always applied to the first substrate. Here, on the end face of the brittle first substrate, there are minute cracks formed when, for example, a large mother substrate is divided in order to produce the first substrate. The cracks formed on the end surface of the first substrate may grow from the end surface of the substrate into the substrate surface due to the presence of moisture in the atmosphere with a tensile stress applied to the surrounding substrate itself. However, since the inorganic film is provided on the end surface of the first substrate, contact with moisture in the atmosphere is suppressed, and growth from the substrate end surface into the substrate surface is suppressed. This suppresses breakage of the brittle first substrate and the curved display panel including the first substrate. Therefore, in the electronic device, the growth of the crack in the brittle substrate is suppressed, and the curved display panel is damaged. It becomes possible to suppress.

本発明によれば、脆性を有する第1基板の端面に無機膜が設けられているので、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することができる。   According to the present invention, since the inorganic film is provided on the end face of the brittle first substrate, it is possible to suppress the growth of cracks in the brittle substrate and to suppress the breakage of the curved display panel.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the following embodiments.

《発明の実施形態1》
図1〜図9は、本発明に係る表示パネル及びその製造方法、並びに電子機器の実施形態1を示している。
Embodiment 1 of the Invention
1 to 9 show Embodiment 1 of a display panel, a manufacturing method thereof, and an electronic apparatus according to the present invention.

図1は、本実施形態の液晶表示パネル30aの湾曲方向に沿った断面図であり、図2は、液晶表示パネル30aの湾曲方向に沿った側面図であり、図3は、液晶表示パネル30aの湾曲方向と直交する方向に沿った他の断面図である。また、図4は、液晶表示パネル30aを備えた携帯電話50の斜視図であり、図5は、携帯電話50の正面図であり、図6は、携帯電話50の側面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view taken along the bending direction of the liquid crystal display panel 30a of this embodiment, FIG. 2 is a side view taken along the bending direction of the liquid crystal display panel 30a, and FIG. 3 is a liquid crystal display panel 30a. It is other sectional drawing along the direction orthogonal to the curve direction of this. 4 is a perspective view of the mobile phone 50 including the liquid crystal display panel 30a, FIG. 5 is a front view of the mobile phone 50, and FIG. 6 is a side view of the mobile phone 50.

液晶表示パネル30aは、図1及び図2に示すように、脆性を有する第1基板として設けられたTFTアレイ基板10と、TFTアレイ基板10に対向して配置され、脆性を有する第2基板として設けられたカラーフィルタ基板20と、TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の間に表示媒体層として設けられた液晶層15と、TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20を互いに接着すると共に、それらの両基板10及び20の間に液晶層15を封入するためのシール材16とを備え、TFTアレイ基板10が外方に向くようにTFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20が湾曲している。なお、液晶表示パネル30aのサイズは、例えば、2型(縦40mm×横55mm、厚さ0.05mm〜0.3mm×2)であり、その曲率半径が50mm〜400mmである。   As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal display panel 30a includes a TFT array substrate 10 provided as a brittle first substrate, and a TFT array substrate 10 that is disposed to face the TFT array substrate 10 and serves as a brittle second substrate. The color filter substrate 20 provided, the liquid crystal layer 15 provided as a display medium layer between the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20, the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 are adhered to each other, and their A sealing material 16 for enclosing the liquid crystal layer 15 is provided between both the substrates 10 and 20, and the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 are curved so that the TFT array substrate 10 faces outward. The size of the liquid crystal display panel 30a is, for example, type 2 (length 40 mm × width 55 mm, thickness 0.05 mm to 0.3 mm × 2), and the radius of curvature is 50 mm to 400 mm.

TFTアレイ基板10は、例えば、ガラス基板などの脆性を有する基板上に互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート線(不図示)と、各ゲート線と直交する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース線(不図示)と、各ゲート線及び各ソース線の交差部毎にそれぞれ設けられた複数のTFT(不図示)と、各TFTを覆うように設けられた層間絶縁膜(不図示)と、その層間絶縁膜上にマトリクス状に設けられ、各TFTにそれぞれ接続された複数の画素電極(不図示)とを備えたTFTアレイ層11を有している。なお、TFTアレイ層11の表面には、配向膜(不図示)が設けられている。ここで、各画素電極は、画像の最小単位である画素を構成すると共に、マトリクス状に配列することにより全体で画像表示を行う表示領域、すなわち、図4及び図5の表示画面Dを構成している。   The TFT array substrate 10 has a plurality of gate lines (not shown) provided so as to extend in parallel to each other on a brittle substrate such as a glass substrate and so as to extend in parallel to each other in a direction orthogonal to each gate line. A plurality of source lines (not shown) provided on each gate, a plurality of TFTs (not shown) provided at each gate line and each intersection of the source lines, and interlayer insulation provided so as to cover each TFT The TFT array layer 11 includes a film (not shown) and a plurality of pixel electrodes (not shown) provided in a matrix on the interlayer insulating film and connected to each TFT. An alignment film (not shown) is provided on the surface of the TFT array layer 11. Here, each pixel electrode constitutes a pixel which is the minimum unit of an image, and constitutes a display area for displaying an image as a whole by arranging in a matrix, that is, a display screen D of FIGS. ing.

TFTアレイ基板10のカラーフィルタ基板20よりも突出した部分には、図1及び図2に示すように、上記各ゲート線や各ソース線などにそれぞれ接続するための複数の接続端子を備えた端子領域Tが設けられている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the TFT array substrate 10 is provided with a plurality of connection terminals for connecting to the gate lines and the source lines, as shown in FIGS. A region T is provided.

カラーフィルタ基板20は、例えば、ガラス基板などの脆性を有する基板上に設けられた赤色層(R)、緑色層(G)及び青色層(B)を有するカラーフィルタ層(不図示)、並びにブラックマトリクスと、それらのカラーフィルタ層及びブラックマトリクスを覆うように設けられた共通電極(不図示)とを備えている。なお、上記共通電極の表面には、配向膜(不図示)が設けられている。   The color filter substrate 20 is, for example, a color filter layer (not shown) having a red layer (R), a green layer (G) and a blue layer (B) provided on a brittle substrate such as a glass substrate, and black. A matrix and a common electrode (not shown) provided to cover the color filter layer and the black matrix are provided. An alignment film (not shown) is provided on the surface of the common electrode.

TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面には、その端面に形成されたクラックC(図7参照)への水分の浸透を抑制して、クラックCの成長を抑制するための無機膜22aが設けられている。   An inorganic film 22a is formed on each end face of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 to suppress the penetration of moisture into the cracks C (see FIG. 7) formed on the end faces, thereby suppressing the growth of the cracks C. Is provided.

上記構成の液晶表示パネル30aは、TFTアレイ基板10上の各画素電極とカラーフィルタ基板20上の共通電極との間に配置する液晶層15に所定の電圧を印加して、液晶層15を構成する液晶分子の配向状態を変えることにより、各画素毎にパネル内を透過する光の透過率を調整して、画像を表示するように構成されている。   The liquid crystal display panel 30a having the above configuration configures the liquid crystal layer 15 by applying a predetermined voltage to the liquid crystal layer 15 disposed between each pixel electrode on the TFT array substrate 10 and the common electrode on the color filter substrate 20. By changing the alignment state of the liquid crystal molecules, the transmittance of the light transmitted through the panel is adjusted for each pixel to display an image.

また、液晶表示パネル30aは、図4〜図6に示すように、湾曲状の第1の筐体41内に収容された枠状のベゼル(不図示)に取り付けられることにより、曲面状の形状を保持して、携帯電話50の表示画面Dを構成している。ここで、携帯電話50は、液晶表示パネル30aを備えた第1の筐体41と、種々の操作ボタンなどを備えた第2の筐体42とを有し、図6に示すように、第1の筐体41を第2の筐体42の内部にスライドして収容するように構成されている。   Further, as shown in FIGS. 4 to 6, the liquid crystal display panel 30 a is attached to a frame-like bezel (not shown) accommodated in the curved first casing 41, thereby forming a curved shape. And the display screen D of the mobile phone 50 is configured. Here, the mobile phone 50 has a first casing 41 having a liquid crystal display panel 30a and a second casing 42 having various operation buttons and the like, as shown in FIG. One housing 41 is configured to be slid and accommodated inside the second housing 42.

次に、液晶表示パネル30aの製造方法について、図7〜図9を用いて説明する。なお、本実施形態の製造方法は、貼合体作製工程、分断工程、無機膜形成工程及び変形工程を備える。   Next, a method for manufacturing the liquid crystal display panel 30a will be described with reference to FIGS. In addition, the manufacturing method of this embodiment is provided with a bonded body production process, a dividing process, an inorganic film formation process, and a deformation process.

<貼合体作製工程>
まず、例えば、厚さ0.7mm程度のガラス基板上に、周知の方法を用いて、ゲート線、ソース線、TFT及び画素電極を含むTFTアレイ層11を形成することにより、各々、TFTアレイ層11を有する複数の表示領域がマトリクス状に配置されたTFTアレイ母基板(110、図7参照)を作製する。なお、TFTアレイ母基板(110)上には、各TFTアレイ層11を覆うようにポリイミド樹脂を成膜した後に、ラビング処理を行うことにより配向膜を形成する。ここで、図7は、貼合体作製工程で作製された大判の貼合体130の断面図である。
<Bonded body production process>
First, for example, a TFT array layer 11 including a gate line, a source line, a TFT, and a pixel electrode is formed on a glass substrate having a thickness of about 0.7 mm by using a well-known method. A TFT array mother substrate (110, see FIG. 7) in which a plurality of display regions having 11 are arranged in a matrix is manufactured. On the TFT array mother substrate (110), a polyimide resin film is formed so as to cover each TFT array layer 11, and then an alignment film is formed by performing a rubbing process. Here, FIG. 7 is sectional drawing of the large-sized bonding body 130 produced at the bonding body production process.

また、例えば、厚さ0.7mm程度のガラス基板上に、周知の方法を用いて、ブラックマトリクス、カラーフィルタ層及び共通電極などを形成することにより、複数の表示領域がマトリクス状に配置されたカラーフィルタ母基板(120、図7参照)を作製する。なお、カラーフィルタ母基板(120)上には、各共通電極を覆うようにポリイミド樹脂を成膜した後に、ラビング処理を行うことにより配向膜を形成する。   In addition, for example, a plurality of display regions are arranged in a matrix by forming a black matrix, a color filter layer, a common electrode, and the like on a glass substrate having a thickness of about 0.7 mm using a known method. A color filter mother substrate (120, see FIG. 7) is prepared. On the color filter mother substrate (120), a polyimide resin film is formed so as to cover each common electrode, and then an alignment film is formed by performing a rubbing process.

続いて、例えば、ディスペンサを用いて、カラーフィルタ母基板(120)における各表示領域の周囲にシール材16を枠状に描画する。   Subsequently, for example, using a dispenser, the sealing material 16 is drawn in a frame shape around each display region on the color filter mother substrate (120).

その後、シール材16が描画されたカラーフィルタ母基板(120)に対し、シール材16に囲まれた領域(表示領域)に液晶材料を滴下する。   Thereafter, a liquid crystal material is dropped onto a region (display region) surrounded by the sealing material 16 with respect to the color filter mother substrate (120) on which the sealing material 16 is drawn.

さらに、液晶材料が滴下されたカラーフィルタ母基板(120)とTFTアレイ母基板(110)とを、減圧下で互いの表示領域Dが重なり合うように貼り合わせた後に、大気圧に開放することにより、TFTアレイ母基板(110)及びカラーフィルタ母基板(120)の各外表面を加圧して、大判の貼合体(130、図7参照)を作製する。   Further, the color filter mother substrate (120) on which the liquid crystal material is dropped and the TFT array mother substrate (110) are bonded to each other so that the display regions D overlap each other under reduced pressure, and then released to atmospheric pressure. Then, the outer surfaces of the TFT array mother substrate (110) and the color filter mother substrate (120) are pressurized to produce a large bonded body (130, see FIG. 7).

引き続いて、上記貼合体(130)に挟持された各シール材16を硬化させた後に、TFTアレイ母基板(110)及びカラーフィルタ母基板(120)を構成する各ガラス基板を化学研磨処理(ケミカルエッチング処理)して、例えば、0.05mm〜0.3mm程度にそれぞれ薄板化することにより、図7に示すように、TFTアレイ母基板110及びカラーフィルタ母基板120を備え、各表示領域毎に液晶層15がシール材16により封入された大判の貼合体130を作製する。   Subsequently, after each sealing material 16 sandwiched between the bonded bodies (130) is cured, each glass substrate constituting the TFT array mother substrate (110) and the color filter mother substrate (120) is subjected to chemical polishing treatment (chemical Etching process), for example, by reducing the thickness to about 0.05 mm to 0.3 mm, respectively, as shown in FIG. 7, the TFT array mother substrate 110 and the color filter mother substrate 120 are provided, and each display region is provided. A large-sized bonded body 130 in which the liquid crystal layer 15 is sealed with the sealing material 16 is produced.

<分断工程>
まず、上記貼合体作製工程で作製された貼合体130のTFTアレイ母基板110の外表面において、各表示領域の周囲に沿って、例えば、円盤状の分断刃の刃先を当接させながら、その分断刃を転動させることにより、線状のクラックCを形成すると共に、そのクラックCを厚さ方向に成長させることにより、TFTアレイ母基板110を分断して、TFTアレイ基板10(図7参照)を作製する。ここで、上記分断刃は、その刃先が、例えば、タングステンカーバイドなどの超硬合金や焼結ダイヤモンドなどにより構成されている。
<Division process>
First, on the outer surface of the TFT array mother substrate 110 of the bonded body 130 manufactured in the bonded body manufacturing process, along the periphery of each display region, for example, while contacting the cutting edge of a disk-shaped cutting blade, By rolling the dividing blade, a linear crack C is formed, and the crack C is grown in the thickness direction, whereby the TFT array mother substrate 110 is divided and the TFT array substrate 10 (see FIG. 7). ). Here, the cutting edge of the cutting blade is made of, for example, cemented carbide such as tungsten carbide, sintered diamond, or the like.

続いて、TFTアレイ母基板110が分断された貼合体130を表裏反転させた後に、カラーフィルタ母基板120の外表面において、各表示領域の周囲に沿って、例えば、上記分断刃の刃先を当接させながら、その分断刃を転動させることにより、線状のクラックを形成すると共に、そのクラックCを厚さ方向に成長させることにより、カラーフィルタ母基板120を分断して、カラーフィルタ基板20(図7参照)を作製する。これにより、図7に示すように、TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20を備え、液晶層15がシール材16により封入された平面状の液晶表示パネル(貼合体)30が作製される。   Subsequently, after reversing the bonded body 130 from which the TFT array mother substrate 110 has been divided, the outer surface of the color filter mother substrate 120 is applied with, for example, the cutting edge of the dividing blade along the periphery of each display region. By rolling the cutting blade while contacting, a linear crack is formed, and the crack C is grown in the thickness direction, whereby the color filter mother substrate 120 is cut and the color filter substrate 20 is cut. (See FIG. 7). Thereby, as shown in FIG. 7, a planar liquid crystal display panel (bonded body) 30 including the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 and having the liquid crystal layer 15 sealed with the sealing material 16 is manufactured.

<無機膜形成工程>
図8は、液晶表示パネル30aを製造するためのスパッタリング装置60の概略図である。
<Inorganic film forming process>
FIG. 8 is a schematic view of a sputtering apparatus 60 for manufacturing the liquid crystal display panel 30a.

スパッタリング装置60は、図8に示すように、処理室61と、処理室61の内部に陽極として設けられ、複数の液晶表示パネル30を載置するためのステージ62と、処理室61の内部に陰極として設けられたターゲット63と、処理室61の内部を排気するためのロータリーポンプ64と、処理室61の内部に不活性ガスを導入するためのガス導入弁65と、ステージ62及びターゲット63の間に電圧を印加するための直流電源66とを備えている。ここで、ステージ62の表面には、各液晶表示パネル30の端部を挿入して、各液晶表示パネル30を立てた状態に保持するための複数の溝が形成されていてもよい。   As shown in FIG. 8, the sputtering apparatus 60 is provided as an anode inside the processing chamber 61, the processing chamber 61, a stage 62 for mounting the plurality of liquid crystal display panels 30, and the processing chamber 61. A target 63 provided as a cathode, a rotary pump 64 for exhausting the inside of the processing chamber 61, a gas introduction valve 65 for introducing an inert gas into the processing chamber 61, a stage 62 and a target 63 And a DC power supply 66 for applying a voltage therebetween. Here, on the surface of the stage 62, a plurality of grooves for inserting the end portions of the liquid crystal display panels 30 and holding the liquid crystal display panels 30 in an upright state may be formed.

上記構成のスパッタリング装置60により無機膜22aを形成には、まず、図8に示すように、上記分断工程で作製された複数の液晶表示パネル30を処理室61の内部に収容して、各液晶表示パネル30をステージ62上に立てた状態に載置した後に、処理室61の内部をロータリーポンプ64により排気することにより、各液晶表示パネル30に含有する水分、特に、TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面に付着している水分を十分に除去すると共に、処理室61の内部を真空状態にする。   In order to form the inorganic film 22a by the sputtering apparatus 60 having the above-described configuration, first, as shown in FIG. 8, a plurality of liquid crystal display panels 30 produced in the dividing step are accommodated in a processing chamber 61, and each liquid crystal is displayed. After the display panel 30 is placed on the stage 62, the interior of the processing chamber 61 is evacuated by the rotary pump 64, whereby moisture contained in each liquid crystal display panel 30, particularly the TFT array substrate 10 and the color. Moisture adhering to each end face of the filter substrate 20 is sufficiently removed, and the inside of the processing chamber 61 is evacuated.

続いて、処理室61の内部に、不活性ガスとして、例えば、アルゴンガスをガス導入弁65を介して導入すると共に、ステージ62及びターゲット63の間に直流電源66を介して電圧を印加することにより、処理室61の内部に導入されたアルゴンガスをイオン化し、そのイオン化されたアルゴン正イオンとターゲット63との衝突により発生したスパッタ粒子SをTFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の上側の各端面に堆積させることにより、無機膜22a(例えば、厚さ1000Å〜3000Å)を形成する。ここで、無機膜22aは、例えば、金、銀、アルミニウム、クロムなどの金属膜である。   Subsequently, as an inert gas, for example, argon gas is introduced into the processing chamber 61 through the gas introduction valve 65, and a voltage is applied between the stage 62 and the target 63 through the DC power supply 66. As a result, the argon gas introduced into the processing chamber 61 is ionized, and the sputtered particles S generated by the collision between the ionized argon positive ions and the target 63 are converted into each of the upper side of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20. By depositing on the end face, an inorganic film 22a (for example, a thickness of 1000 to 3000 mm) is formed. Here, the inorganic film 22a is, for example, a metal film such as gold, silver, aluminum, or chromium.

その後、TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の他の端面にも、上記と同様な処理を行うことにより、各液晶表示パネル30の4辺の端面に無機膜22aを形成する。   Thereafter, an inorganic film 22a is formed on the end surfaces of the four sides of each liquid crystal display panel 30 by performing the same process as described above on the other end surfaces of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20.

本実施形態では、無機膜22aを形成する方法として、まず、スパッタリング法を例示したが、以下に示す(プラズマ)CVD法であってもよい。   In the present embodiment, the sputtering method is exemplified as a method for forming the inorganic film 22a. However, the following (plasma) CVD method may be used.

図9は、液晶表示パネル30aを製造するためのプラズマCVD装置70の概略図である。   FIG. 9 is a schematic view of a plasma CVD apparatus 70 for manufacturing the liquid crystal display panel 30a.

プラズマCVD装置70は、図9に示すように、処理室71と、処理室71の内部に設けられ、複数の液晶表示パネル30を載置するためのサセプター72と、サセプター72の下側に設けられ、サセプター72及びそれに載置された各液晶表示パネル30を加熱するためのヒーター73と、処理室71の内部に設けられ、原料ガスを拡散させるためのシャワープレート74と、処理室71の内部を排気するためのロータリーポンプ75と、処理室71の内部に原料ガスをシャワープレート74を介して導入するためのガス導入弁76と、サセプター72及びシャワープレート74の間に高周波電力を印加するための高周波電源(不図示)とを備えている。ここで、サセプター72の表面には、各液晶表示パネル30の端部を挿入して、各液晶表示パネル30を立てた状態に保持するための複数の溝が形成されていてもよい。   As shown in FIG. 9, the plasma CVD apparatus 70 is provided in a processing chamber 71, a susceptor 72 for placing a plurality of liquid crystal display panels 30, and a lower side of the susceptor 72. A heater 73 for heating the susceptor 72 and each liquid crystal display panel 30 mounted thereon, a shower plate 74 provided in the processing chamber 71 for diffusing the source gas, and the interior of the processing chamber 71 For applying high-frequency power between the rotary pump 75 for exhausting the gas, the gas introduction valve 76 for introducing the source gas into the processing chamber 71 via the shower plate 74, and the susceptor 72 and the shower plate 74. High frequency power supply (not shown). Here, on the surface of the susceptor 72, a plurality of grooves for inserting the end portions of the liquid crystal display panels 30 and holding the liquid crystal display panels 30 in an upright state may be formed.

上記構成のプラズマCVD装置70により無機膜22aを形成するには、まず、図9に示すように、上記分断工程で作製された複数の液晶表示パネル30を処理室71の内部に収容して、各液晶表示パネル30をサセプター72上に立てた状態に載置した後に、処理室71の内部をロータリーポンプ75により排気することにより、液晶表示パネル30に含有する水分、特に、TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の端面に付着している水分を十分に除去すると共に、処理室71の内部を真空状態にする。   In order to form the inorganic film 22a by the plasma CVD apparatus 70 having the above configuration, first, as shown in FIG. 9, the plurality of liquid crystal display panels 30 produced in the dividing step are accommodated in the processing chamber 71, After each liquid crystal display panel 30 is placed on the susceptor 72, the inside of the processing chamber 71 is evacuated by the rotary pump 75, whereby moisture contained in the liquid crystal display panel 30, particularly the TFT array substrate 10 and Moisture adhering to the end face of the color filter substrate 20 is sufficiently removed, and the inside of the processing chamber 71 is evacuated.

続いて、処理室71の内部に、原料ガスをガス導入弁76及びシャワープレート74を介して導入すると共に、サセプター72及びシャワープレート74の間に高周波電力を印加することにより、原料ガスをプラズマ化し、その原料ガスのプラズマPにより、無機膜22a(例えば、厚さ1000Å〜3000Å)を形成する。ここで、無機膜22aは、例えば、酸化シリコン膜などの酸化膜や窒化シリコン膜などの窒化膜である。   Subsequently, the source gas is introduced into the processing chamber 71 via the gas introduction valve 76 and the shower plate 74, and the source gas is converted into plasma by applying high-frequency power between the susceptor 72 and the shower plate 74. The inorganic film 22a (for example, a thickness of 1000 to 3000 mm) is formed by the plasma P of the source gas. Here, the inorganic film 22a is, for example, an oxide film such as a silicon oxide film or a nitride film such as a silicon nitride film.

その後、TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の他の端面にも、上記と同様な処理を行うことにより、各液晶表示パネル30の4辺の端面に無機膜22aを形成する。   Thereafter, an inorganic film 22a is formed on the end surfaces of the four sides of each liquid crystal display panel 30 by performing the same process as described above on the other end surfaces of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20.

<変形工程>
上記無機膜形成工程で4辺の端面に無機膜22aが形成された平面状の液晶表示パネル30を、図1及び図2に示すように、TFTアレイ基板10側が外方に向くように湾曲状に変形させながら、例えば、枠状のベゼル(不図示)に両面テープなどの接着層を介して貼り付けることにより、曲面状の液晶表示パネル30aを作製する。ここで、上記ベゼルは、例えば、長さ方向の断面が円弧状に形成された凹面を有し、その凹面が液晶表示パネル30aの表示領域に重なる部分において矩形状に開口するように構成されている。
<Deformation process>
As shown in FIGS. 1 and 2, the flat liquid crystal display panel 30 in which the inorganic films 22a are formed on the end surfaces of the four sides in the inorganic film forming step is curved so that the TFT array substrate 10 side faces outward. For example, the curved liquid crystal display panel 30a is manufactured by sticking to a frame-like bezel (not shown) through an adhesive layer such as a double-sided tape. Here, the bezel has, for example, a concave surface in which a cross section in the length direction is formed in an arc shape, and the concave surface is configured to open in a rectangular shape in a portion overlapping the display region of the liquid crystal display panel 30a. Yes.

以上のようにして、本実施形態の液晶表示パネル30aを製造することができる。   As described above, the liquid crystal display panel 30a of this embodiment can be manufactured.

以上説明したように、本実施形態の液晶表示パネル30a及びその製造方法、並びに携帯電話50によれば、無機膜形成工程において、貼合体作製工程及び分断工程で作製された液晶表示パネル(貼合体)30をスパッタリング法又はプラズマCVD法により真空雰囲気で処理するので、TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20に含有する水分の少なくとも一部が除去された後に、そのTFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面に無機膜22aが形成されることになり、その後の変形工程において、TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面に大気中の水分が接触することが抑制される。そして、変形工程では、TFTアレイ基板10が外方に向くようにTFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20を湾曲させるので、TFTアレイ基板10には、引張応力が常に負荷されていると共に、カラーフィルタ基板20の内表面側には、TFTアレイ基板10に負荷されている引張応力よりも弱いものの、僅かな引張応力が常に負荷されていることになる。ここで、脆性を有するTFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面には、TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20を作製するために、貼合体作製工程の前又は後において、例えば、大判のTFTアレイ母基板110及びカラーフィルタ母基板120を各表示領域毎に分断した際に形成された微小なクラックCが存在している。そして、このTFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面に形成されたクラックCは、その周りの基板自体に引張応力が負荷された状態で、大気中の水分が介在することにより、基板端面から基板面内に成長するおそれがあるものの、無機膜形成工程でTFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面に無機膜22aが形成されるので、大気中の水分との接触が抑制され、基板端面から基板面内に成長することが抑制される。これにより、脆性をそれぞれ有するTFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20、並びにそれらを備えた曲面状の液晶表示パネル30aの破損を抑制することができるので、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することができる。   As described above, according to the liquid crystal display panel 30a and the manufacturing method thereof and the mobile phone 50 of the present embodiment, in the inorganic film forming step, the liquid crystal display panel (bonded body) manufactured in the bonded body manufacturing step and the dividing step. ) 30 is processed in a vacuum atmosphere by sputtering or plasma CVD, so that at least part of the moisture contained in the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 is removed, and then the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 are removed. An inorganic film 22a is formed on each end face of the substrate, and in the subsequent deformation process, it is suppressed that moisture in the atmosphere contacts the end faces of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20. In the deformation process, the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 are curved so that the TFT array substrate 10 faces outward, so that the TFT array substrate 10 is always loaded with tensile stress and the color filter. A slight tensile stress is always applied to the inner surface side of the substrate 20 although it is weaker than the tensile stress applied to the TFT array substrate 10. Here, in order to fabricate the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 on each end face of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 having brittleness, for example, in the large format, There are minute cracks C formed when the TFT array mother substrate 110 and the color filter mother substrate 120 are divided for each display region. The cracks C formed on the respective end faces of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 are affected by the presence of moisture in the atmosphere while tensile stress is applied to the surrounding substrate itself. In the inorganic film forming step, the inorganic film 22a is formed on each end face of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20, so that contact with moisture in the atmosphere is suppressed. Growth from the substrate end surface to the substrate surface is suppressed. Thereby, since it is possible to suppress the damage of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 each having brittleness, and the curved liquid crystal display panel 30a including them, the growth of cracks in the brittle substrate is suppressed, Damage to the curved display panel can be suppressed.

《発明の実施形態2》
図10は、本実施形態の液晶表示パネル30bの湾曲方向に沿った断面図であり、図11は、液晶表示パネル30bの湾曲方向に沿った側面図であり、図12は、液晶表示パネル30bの湾曲方向と直交する方向に沿った他の断面図である。なお、以下の各実施形態において、図1〜図9と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
<< Embodiment 2 of the Invention >>
FIG. 10 is a cross-sectional view along the bending direction of the liquid crystal display panel 30b of the present embodiment, FIG. 11 is a side view along the bending direction of the liquid crystal display panel 30b, and FIG. 12 is a liquid crystal display panel 30b. It is other sectional drawing along the direction orthogonal to the curve direction of this. In addition, in each following embodiment, the same code | symbol is attached | subjected about the same part as FIGS. 1-9, and the detailed description is abbreviate | omitted.

上記実施形態1の液晶表示パネル30aでは、無機膜22aがTFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面のみに設けられていたが、本実施形態の液晶表示パネル30bでは、図10〜図12に示すように、無機膜22bがTFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面と、TFTアレイ基板10の外表面とを覆うように設けられている。ここで、液晶表示パネル30bは、上記実施形態1の無機膜形成工程において、例えば、TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面に無機膜22bを形成した後に、スパッタリング装置60の処理室61の内部でTFTアレイ基板10をその外表面がターゲット63に対向するように、又はプラズマCVD装置70の処理室71の内部でTFTアレイ基板10をその外表面がシャワープレート74に対向するようにそれぞれ配置させて無機膜22bを形成することにより、製造することができる。なお、無機膜22bは、表示領域にも形成されるので、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜などの無色透明な薄膜により構成される。   In the liquid crystal display panel 30a of the first embodiment, the inorganic film 22a is provided only on each end face of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20, but in the liquid crystal display panel 30b of the present embodiment, FIGS. As shown, the inorganic film 22b is provided so as to cover the end surfaces of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 and the outer surface of the TFT array substrate 10. Here, the liquid crystal display panel 30b is formed in the processing chamber 61 of the sputtering apparatus 60 after the inorganic film 22b is formed on each end face of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20, for example, in the inorganic film forming step of the first embodiment. Of the TFT array substrate 10 so that the outer surface thereof faces the target 63 or inside the processing chamber 71 of the plasma CVD apparatus 70 so that the outer surface of the TFT array substrate 10 faces the shower plate 74. It can be manufactured by forming the inorganic film 22b. Since the inorganic film 22b is also formed in the display region, it is formed of a colorless and transparent thin film such as a silicon oxide film or a silicon nitride film.

本実施形態の液晶表示パネル30bによれば、無機膜22bがTFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面だけでなくTFTアレイ基板10の外表面にも設けられているので、TFTアレイ基板10の外表面に接触する大気中の水分の介在によるTFTアレイ基板10の外表面におけるクラックの成長が抑制され、上記実施形態1の液晶表示パネル30aよりも、曲面状の表示パネルの破損を抑制することができる。   According to the liquid crystal display panel 30b of the present embodiment, the inorganic film 22b is provided not only on the end surfaces of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20, but also on the outer surface of the TFT array substrate 10. The growth of cracks on the outer surface of the TFT array substrate 10 due to the presence of moisture in the atmosphere in contact with the outer surface of the TFT is suppressed, and the curved display panel is less damaged than the liquid crystal display panel 30a of the first embodiment. be able to.

《発明の実施形態3》
図13は、本実施形態の液晶表示パネル30cの湾曲方向に沿った断面図であり、図14は、液晶表示パネル30cの湾曲方向に沿った側面図であり、図15は、液晶表示パネル30cの湾曲方向と直交する方向に沿った他の断面図である。
<< Embodiment 3 of the Invention >>
FIG. 13 is a cross-sectional view along the bending direction of the liquid crystal display panel 30c of the present embodiment, FIG. 14 is a side view along the bending direction of the liquid crystal display panel 30c, and FIG. 15 is a liquid crystal display panel 30c. It is other sectional drawing along the direction orthogonal to the curve direction of this.

上記実施形態1の液晶表示パネル30aでは、無機膜22aがTFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面に設けられていたが、本実施形態の液晶表示パネル30cでは、図13〜図15に示すように、無機膜22cがTFTアレイ基板10の端面のみに設けられている。ここで、液晶表示パネル30cは、上記実施形態1の無機膜形成工程において、TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面に無機膜(22a)を形成する際に、例えば、カラーフィルタ基板20の端面に無機膜が成膜されないようにメタルマスクを用いることにより、製造することができる。   In the liquid crystal display panel 30a of the first embodiment, the inorganic film 22a is provided on each end face of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20. However, in the liquid crystal display panel 30c of the present embodiment, FIGS. As shown, the inorganic film 22 c is provided only on the end surface of the TFT array substrate 10. Here, when the inorganic film (22a) is formed on each end face of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 in the inorganic film forming step of the first embodiment, the liquid crystal display panel 30c is, for example, the color filter substrate 20 It can be manufactured by using a metal mask so that an inorganic film is not formed on the end face.

本実施形態の液晶表示パネル30cによれば、カラーフィルタ基板20よりも強い引張応力が負荷されるTFTアレイ基板10の端面のみに無機膜22cが設けられているので、TFTアレイ基板10の端面に接触する大気中の水分の介在によるTFTアレイ基板10の基板端面から基板面内へのクラックの成長が抑制され、曲面状の表示パネルの破損を効率的に抑制することができる。   According to the liquid crystal display panel 30c of this embodiment, since the inorganic film 22c is provided only on the end surface of the TFT array substrate 10 to which a stronger tensile stress than that of the color filter substrate 20 is applied, the end surface of the TFT array substrate 10 is provided. The growth of cracks from the substrate end surface of the TFT array substrate 10 into the substrate surface due to the presence of moisture in the atmosphere in contact with the substrate can be suppressed, and damage to the curved display panel can be efficiently suppressed.

《発明の実施形態4》
図16は、本実施形態の液晶表示パネル30dの湾曲方向に沿った断面図であり、図17は、液晶表示パネル30dの湾曲方向に沿った側面図であり、図18は、液晶表示パネル30dの湾曲方向と直交する方向に沿った他の断面図である。
<< Embodiment 4 of the Invention >>
16 is a cross-sectional view taken along the bending direction of the liquid crystal display panel 30d of the present embodiment, FIG. 17 is a side view taken along the bending direction of the liquid crystal display panel 30d, and FIG. 18 is a liquid crystal display panel 30d. It is other sectional drawing along the direction orthogonal to the curve direction of this.

上記実施形態3の液晶表示パネル30cでは、無機膜22cがTFTアレイ基板10の端面のみに設けられていたが、本実施形態の液晶表示パネル30dでは、図16〜図18に示すように、無機膜22dがTFTアレイ基板10の端面とその外表面とを覆うように設けられている。ここで、液晶表示パネル30dは、上記実施形態1の無機膜形成工程において、TFTアレイ基板10及びカラーフィルタ基板20の各端面に無機膜(22a)を形成する際に、例えば、カラーフィルタ基板20の端面に無機膜が成膜されないようにメタルマスクを用いることにより、TFTアレイ基板10の端面のみに無機膜22dを形成した後に、スパッタリング装置60の処理室61の内部でTFTアレイ基板10をその外表面がターゲット63に対向するように、又はプラズマCVD装置70の処理室71の内部でTFTアレイ基板10をその外表面がシャワープレート74に対向するようにそれぞれ配置させて無機膜22dを形成することにより、製造することができる。なお、無機膜22dは、上記実施形態2と同様に、表示領域にも形成されるので、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜などの無色透明な薄膜により構成される。   In the liquid crystal display panel 30c of the third embodiment, the inorganic film 22c is provided only on the end surface of the TFT array substrate 10. However, in the liquid crystal display panel 30d of the present embodiment, as shown in FIGS. A film 22d is provided so as to cover the end surface of the TFT array substrate 10 and the outer surface thereof. Here, when the inorganic film (22a) is formed on each end face of the TFT array substrate 10 and the color filter substrate 20 in the inorganic film formation step of the first embodiment, the liquid crystal display panel 30d is, for example, the color filter substrate 20 After the inorganic film 22d is formed only on the end surface of the TFT array substrate 10 by using a metal mask so that the inorganic film is not formed on the end surface of the TFT array substrate 10, the TFT array substrate 10 is placed inside the processing chamber 61 of the sputtering apparatus 60. The inorganic film 22d is formed by arranging the TFT array substrate 10 so that the outer surface faces the target 63 or inside the processing chamber 71 of the plasma CVD apparatus 70 so that the outer surface faces the shower plate 74. Can be manufactured. Since the inorganic film 22d is also formed in the display region as in the second embodiment, the inorganic film 22d is formed of a colorless and transparent thin film such as a silicon oxide film or a silicon nitride film.

本実施形態の液晶表示パネル30dによれば、無機膜22dがTFTアレイ基板10の端面だけでなくTFTアレイ基板10の外表面にも設けられているので、TFTアレイ基板10の外表面に接触する大気中の水分の介在によるTFTアレイ基板10の外表面におけるクラックの成長が抑制され、上記実施形態3の液晶表示パネル30cよりも、曲面状の表示パネルの破損を抑制することができる。   According to the liquid crystal display panel 30d of the present embodiment, since the inorganic film 22d is provided not only on the end surface of the TFT array substrate 10 but also on the outer surface of the TFT array substrate 10, it contacts the outer surface of the TFT array substrate 10. Growth of cracks on the outer surface of the TFT array substrate 10 due to the presence of moisture in the atmosphere is suppressed, and damage to the curved display panel can be suppressed as compared with the liquid crystal display panel 30c of the third embodiment.

上記各実施形態では、少なくともTFTアレイ基板10側の端面に無機膜を設けて、TFTアレイ基板10側が外方に向くように湾曲状に変形させた場合を例示したが、本発明は、カラーフィルタ基板側が外方に向くように湾曲状に変形させる場合にも適用することができる。なお、カラーフィルタ基板側が外方に向くように湾曲状に変形させる場合には、カラーフィルタ基板側に引張応力が負荷されるので、少なくともカラーフィルタ基板の端面に無機膜を設けることにより、脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制することができる。   In each of the above embodiments, the case where an inorganic film is provided at least on the end surface on the TFT array substrate 10 side and is deformed into a curved shape so that the TFT array substrate 10 side faces outward is described. The present invention can also be applied to a case where the substrate is deformed into a curved shape so as to face outward. When the color filter substrate side is deformed in a curved shape so that it faces outward, a tensile stress is applied to the color filter substrate side. Therefore, by providing an inorganic film at least on the end face of the color filter substrate, a brittle substrate It is possible to suppress the growth of cracks and to prevent the curved display panel from being damaged.

上記各実施形態では、表示パネルとして、液晶表示パネル30a〜30dを例示したが、本発明は、表示媒体層として少なくとも有機発光層を有する有機EL(Electro Luminescence)表示パネルなど、他の表示パネルにも適用することができる。   In each of the above embodiments, the liquid crystal display panels 30a to 30d are exemplified as the display panel. However, the present invention is applied to other display panels such as an organic EL (Electro Luminescence) display panel having at least an organic light emitting layer as a display medium layer. Can also be applied.

上記各実施形態では、カラーフィルタ基板が脆性を有するガラス基板を用いて作製されていたが、脆性を有さないプラスチック製のフィルム基板を用いて作製されていてもよい。すなわち、本発明では、表示パネルを湾曲状に変形させた際に、引張応力が負荷される少なくとも外方側の基板が脆性を有していればよい。   In each of the above embodiments, the color filter substrate is manufactured using a glass substrate having brittleness, but may be manufactured using a plastic film substrate having no brittleness. That is, in the present invention, it is only necessary that at least the outer substrate on which the tensile stress is applied has brittleness when the display panel is deformed into a curved shape.

上記各実施形態では、脆性基板として、ガラス基板を例示したが、本発明は、セラミックス基板、シリコン基板などの脆性基板についても適用することができる。   In each said embodiment, although the glass substrate was illustrated as a brittle board | substrate, this invention is applicable also to brittle board | substrates, such as a ceramic substrate and a silicon substrate.

以上説明したように、本発明は、脆性基板を用いた表示パネルの破損を抑制することができるので、脆性基板を用いた曲面状の表示パネルや曲面状に変形可能な表示パネルについて有用である。   As described above, the present invention can suppress the breakage of a display panel using a brittle substrate, and thus is useful for a curved display panel using a brittle substrate and a display panel that can be deformed into a curved shape. .

実施形態1に係る液晶表示パネル30aの断面図である。3 is a cross-sectional view of a liquid crystal display panel 30a according to Embodiment 1. FIG. 液晶表示パネル30aの側面図である。It is a side view of the liquid crystal display panel 30a. 液晶表示パネル30aの他の断面図である。It is other sectional drawing of the liquid crystal display panel 30a. 液晶表示パネル30aを備えた携帯電話50の斜視図である。It is a perspective view of the mobile telephone 50 provided with the liquid crystal display panel 30a. 携帯電話50の正面図である。2 is a front view of a mobile phone 50. FIG. 携帯電話50の側面図である。2 is a side view of a mobile phone 50. FIG. 液晶表示パネル30aを製造するための貼合体作製工程で作製された大判の貼合体130の断面図である。It is sectional drawing of the large-sized bonding body 130 produced at the bonding body preparation process for manufacturing the liquid crystal display panel 30a. 液晶表示パネル30aを製造するためのスパッタリング装置60の概略図である。It is the schematic of the sputtering device 60 for manufacturing the liquid crystal display panel 30a. 液晶表示パネル30aを製造するためのプラズマCVD装置70の概略図である。It is the schematic of the plasma CVD apparatus 70 for manufacturing the liquid crystal display panel 30a. 実施形態2に係る液晶表示パネル30bの断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display panel 30b which concerns on Embodiment 2. FIG. 液晶表示パネル30bの側面図である。It is a side view of the liquid crystal display panel 30b. 液晶表示パネル30bの他の断面図である。It is other sectional drawing of the liquid crystal display panel 30b. 実施形態3に係る液晶表示パネル30cの断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display panel 30c which concerns on Embodiment 3. FIG. 液晶表示パネル30cの側面図である。It is a side view of the liquid crystal display panel 30c. 液晶表示パネル30cの他の断面図である。It is another sectional view of liquid crystal display panel 30c. 実施形態4に係る液晶表示パネル30dの断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display panel 30d which concerns on Embodiment 4. FIG. 液晶表示パネル30dの側面図である。It is a side view of the liquid crystal display panel 30d. 液晶表示パネル30dの他の断面図である。It is another sectional view of liquid crystal display panel 30d.

符号の説明Explanation of symbols

C クラック
10 TFTアレイ基板(第1基板)
15 液晶層(表示媒体層)
20 カラーフィルタ基板(第2基板)
22a〜22d 無機膜
30 液晶表示パネル(貼合体)
30a〜30d 液晶表示パネル
50 携帯電話(電子機器)
C crack 10 TFT array substrate (first substrate)
15 Liquid crystal layer (display medium layer)
20 Color filter substrate (second substrate)
22a-22d Inorganic film 30 Liquid crystal display panel (bonding body)
30a-30d Liquid crystal display panel 50 Mobile phone (electronic equipment)

Claims (7)

脆性を有する第1基板と、
上記第1基板に対向して配置された第2基板と、
上記第1基板及び第2基板の間に設けられた表示媒体層とを備えた表示パネルであって、
上記第1基板及び第2基板は、該第1基板が外方に向くように湾曲しており、
上記第1基板の端面には、該第1基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜が設けられていることを特徴とする表示パネル。
A brittle first substrate;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A display panel comprising a display medium layer provided between the first substrate and the second substrate,
The first substrate and the second substrate are curved so that the first substrate faces outward,
The end surface of the first substrate is provided with an inorganic film for suppressing the penetration of moisture into the crack formed on the end surface of the first substrate and suppressing the growth of the crack. Display panel to be used.
請求項1に記載された表示パネルにおいて、
上記無機膜は、上記第1基板の外表面にも設けられていることを特徴とする表示パネル。
The display panel according to claim 1,
The display panel, wherein the inorganic film is also provided on an outer surface of the first substrate.
請求項1に記載された表示パネルにおいて、
上記第2基板は、脆性を有し、
上記第2基板の端面には、該第2基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜が設けられていることを特徴とする表示パネル。
The display panel according to claim 1,
The second substrate has brittleness,
The end surface of the second substrate is provided with an inorganic film for suppressing the penetration of moisture into the crack formed on the end surface of the second substrate and suppressing the growth of the crack. Display panel to be used.
請求項3に記載された表示パネルにおいて、
上記第1基板及び第2基板は、ガラス製であり、
上記表示媒体層は、液晶層であることを特徴とする表示パネル。
The display panel according to claim 3,
The first substrate and the second substrate are made of glass,
The display panel, wherein the display medium layer is a liquid crystal layer.
脆性を有する第1基板、及び第2基板を、該第1基板及び第2基板の間に表示媒体層を封入するように貼り合わせることにより、貼合体を作製する貼合体作製工程と、
上記貼合体における第1基板の端面に、該第1基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜を形成する無機膜形成工程と、
上記第1基板の端面に無機膜が形成された貼合体を、該第1基板が外方に向くように湾曲状に変形させる変形工程とを備える表示パネルの製造方法であって、
上記無機膜形成工程では、上記貼合体を真空雰囲気で処理することにより、上記第1基板に含有する水分の少なくとも一部を除去することを特徴とする表示パネルの製造方法。
A bonded body manufacturing step of manufacturing a bonded body by bonding the brittle first substrate and the second substrate so as to enclose the display medium layer between the first substrate and the second substrate;
An inorganic film forming step of forming an inorganic film on the end face of the first substrate in the bonded body by suppressing the penetration of moisture into the crack formed on the end face of the first substrate and suppressing the growth of the crack. When,
A method of manufacturing a display panel, comprising: a bonding step in which an inorganic film is formed on an end surface of the first substrate; and a deformation step of deforming the bonded body into a curved shape so that the first substrate faces outward.
In the inorganic film forming step, at least a part of moisture contained in the first substrate is removed by treating the bonded body in a vacuum atmosphere.
請求項5に記載された表示パネルの製造方法において、
上記無機膜形成工程は、上記無機膜をスパッタリング法又はCVD法により形成することを特徴とする表示パネルの製造方法。
In the manufacturing method of the display panel according to claim 5,
The said inorganic film formation process forms the said inorganic film by sputtering method or CVD method, The manufacturing method of the display panel characterized by the above-mentioned.
曲面状の表示パネルを備えた電子機器であって、
上記表示パネルは、脆性を有する第1基板と、該第1基板に対向して配置された第2基板と、該第1基板及び第2基板の間に設けられた表示媒体層とを備え、
上記第1基板及び第2基板は、該第1基板が外方に向くように湾曲しており、
上記第1基板の端面には、該第1基板の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、該クラックの成長を抑制するための無機膜が設けられていることを特徴とする電子機器。
An electronic device having a curved display panel,
The display panel includes a brittle first substrate, a second substrate disposed to face the first substrate, and a display medium layer provided between the first substrate and the second substrate,
The first substrate and the second substrate are curved so that the first substrate faces outward,
The end surface of the first substrate is provided with an inorganic film for suppressing the penetration of moisture into the crack formed on the end surface of the first substrate and suppressing the growth of the crack. Electronic equipment.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2014065567A1 (en) * 2012-10-26 2014-05-01 주식회사 토비스 Method for manufacturing curved display
CN103971608A (en) * 2014-05-26 2014-08-06 深圳市华星光电技术有限公司 Curved surface liquid crystal display device
US9784998B2 (en) 2012-10-26 2017-10-10 Tovis Co., Ltd. Method for manufacturing curved display

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