JP2010008149A - Inspection region setting method - Google Patents

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宏治 吉井
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection region setting method which enables extensive and collective setting of the inspection region of solders and foreign matters in a multi-electrode IC mounting part by foreign matter inspecting small regions and which is capable of easily performing the setting of the inspection region to an inspection region having specific color data. <P>SOLUTION: The inspection region 20 as a whole is set to so as to set the foreign matter inspecting small regions 24 for inspecting the foreign matters to divide the whole region of the inspection region 20 by the foreign matter inspecting small regions 24. The foreign matter inspecting region is set, by removing a land-inspecting regions 9 from the divided regions and the color data of a specific region is acquired, with respect to the foreign matter inspecting region to acquire the position coordinates of the region which coincides with those of the color data of the specific region from taken image data. A specific region inspecting region is again set to a detected region and the foreign matter inspecting small regions are reset at the periphery of the specific region inspecting region to perform region setting, with respect to the inspection region as a whole. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子機器などに使用される基板の検査領域設定方法に係り、特に、1つのIC(集積回路)に複数の電極を有した部品を実装する場合の実装部における検査領域の設定方法に関するものである。   The present invention relates to a method for setting an inspection area of a substrate used in an electronic device or the like, and more particularly, a method for setting an inspection area in a mounting portion when a component having a plurality of electrodes is mounted on one IC (integrated circuit). It is about.

電子部品実装においては、チップ型の抵抗やコンデンサなど、小型で安価な部品が表面実装されるが、電子機器の高性能化、小型化に伴い、基板サイズも小型化が求められ、更には、表面上の部品点数により、電源やグランドが表面上に配置不可能になることで、基板の多層化が進み各層間をスルーホールで結合している。   In electronic component mounting, small and inexpensive components such as chip-type resistors and capacitors are surface-mounted, but along with the high performance and miniaturization of electronic devices, the substrate size is also required to be reduced. Depending on the number of parts on the surface, it becomes impossible to arrange a power source or a ground on the surface. As a result, the number of layers of the substrate has increased, and the layers are connected by through holes.

また、小型で高機能を求めるため、求められる電子機器専用のIC、特にBGA(Ball Grid Array)やCSP(Chip Scale Package)が開発され、専用ICを1つ実装することにより機能と面積の効率化が図られている。   In addition, in order to demand small size and high functionality, ICs dedicated to the required electronic devices, especially BGA (Ball Grid Array) and CSP (Chip Scale Package), have been developed, and the efficiency of function and area is achieved by mounting one dedicated IC. It is planned.

それらの実装工程は、図19に示すように、半田印刷90と、チップマウンタ91と、多機能機92と、リフロー炉93により構成されるが、工程を経ていくごとに製品単価が上昇する。特に、多機能機92における実装では部品単価も高価であり、実装による異常が発生した場合には、多機能機92の前後での仕損金額は何十倍にもなる。   As shown in FIG. 19, these mounting steps are constituted by a solder printing 90, a chip mounter 91, a multi-function device 92, and a reflow furnace 93, and the product unit price increases with each step. In particular, in the mounting in the multi-function device 92, the component unit price is also expensive, and when an abnormality occurs due to mounting, the amount of loss before and after the multi-function device 92 becomes several tens of times.

また、チップマウンタ91でのプリント基板1へのチップ4のマウント後、IC実装部にチップがある場合には、IC5およびプリント基板1に共にダメージがあるため、IC実装前の基板品質保証が求められており、チップマウンタ91と多機能機92の間に半田印刷状態とBGAやCSP部分へのチップ咬み込み防止のための異物検査が導入されることがある。   In addition, after the chip 4 is mounted on the printed circuit board 1 by the chip mounter 91, if there is a chip in the IC mounting portion, both the IC 5 and the printed circuit board 1 are damaged. In some cases, a solder printing state and a foreign matter inspection for preventing the bite of the chip into the BGA or CSP are introduced between the chip mounter 91 and the multi-function device 92.

しかし、BGAやCSPのような多電極部において基板のランド外の異物を検査するためには各ランド部以外の検査を行うことになる。通常、ランド部検査にはガーバーデータを用い、半田色の教示による色判定検査が用いられることがあるが、同様の工程で異物検査を行う際は、異物は不特定であるため、基板の色を教示して検査領域内で基板色情報が存在しない場合に、異物が存在すると判定している。   However, in order to inspect foreign matter outside the land of the substrate in a multi-electrode part such as BGA or CSP, inspections other than each land part are performed. Generally, Gerber data is used for land inspection, and color determination inspection based on the teaching of solder color is sometimes used. However, when performing foreign object inspection in the same process, since the foreign object is unspecified, If there is no substrate color information in the inspection area, it is determined that there is a foreign object.

特許文献1には、多電極を有するCSPにおける検査領域設定方法が開示されており、1つの検査領域を準備し、パッドの個数を入力することにより、CSP実装面全域の検査領域を一括して設定する方法が記載されている。
特開平11−307595号公報
Patent Document 1 discloses an inspection region setting method in a CSP having multiple electrodes. By preparing one inspection region and inputting the number of pads, the inspection region over the entire CSP mounting surface is collectively displayed. The method of setting is described.
JP-A-11-307595

近年、基板面積内への部品配置効率化のため、BGA電極の配置も単なる等ピッチとなっておらず、図20に示すように、基板7のランド6のピッチは等間隔部分Aと不等間隔部分Bとが存在する。また、それによりBGA実装面にはパターンの他、図21に示すように、スルーホール8などが配置されており、背景色として複数の色情報を設定する必要があり、さらには同一サイズの領域設定では、ランド検査領域や周囲の異物検査領域との重なりが発生することにより重複領域が発生してしまう。これらを考慮して作業者が最適な領域と背景色条件を設定する場合には膨大な時間を要する。   In recent years, in order to increase the efficiency of component placement within the board area, the BGA electrodes are not arranged at the same pitch, and the pitch of the lands 6 of the board 7 is not equal to the equally spaced portion A as shown in FIG. An interval portion B exists. As a result, in addition to the pattern, through holes 8 are arranged on the BGA mounting surface as shown in FIG. 21, and it is necessary to set a plurality of pieces of color information as background colors. In the setting, an overlapping area occurs due to the overlap with the land inspection area and the surrounding foreign object inspection area. Considering these, it takes an enormous amount of time when the operator sets the optimum region and background color condition.

特許文献1に記載の方法では、等間隔部分に対する領域には対応可能であるが、図20に示すように、不等間隔のランド6で構成されている多電極ICに対しては、領域を設定することができなくなると同時にランド間の異物の検査ができない。   In the method described in Patent Document 1, it is possible to deal with regions corresponding to equally-spaced portions. However, as shown in FIG. At the same time, it is impossible to set the foreign matter between lands.

本発明の目的は、前記従来の課題を解決し、多電極部品の実装部内における半田や異物検査領域を、複数種類の領域を有する検査領域への検査領域を容易に設定することを可能とする検査領域設定方法を提供することにある。   An object of the present invention is to solve the above-described conventional problems and to easily set an inspection area to an inspection area having a plurality of types of areas for solder and foreign matter inspection areas in a mounting portion of a multi-electrode component. It is to provide an inspection area setting method.

前記目的を達成するため、請求項1に記載の発明は、検査領域全域を検査小領域に分割し、分割された前記検査小領域から特定部位を含む領域を除去し、前記特定部位の色情報とそれ以外の部位の色情報とに基づく閾値により、前記特定部位周辺の前記検査小領域を再設定する
請求項2に記載の発明は、請求項1記載の検査領域設定方法において、前記検査小領域を設定する際に、検出対象の異物の大きさに基づいて前記検査小領域の設定を行うことを特徴とする。
In order to achieve the object, the invention according to claim 1 divides the entire inspection region into inspection small regions, removes a region including a specific region from the divided inspection small region, and color information of the specific region The inspection subregion around the specific part is reset according to a threshold value based on the color information of the other part and the part other than the color information. The inspection area setting method according to claim 2, When the area is set, the inspection small area is set based on the size of the foreign object to be detected.

請求項3に記載の発明は、請求項1又は2記載の検査領域設定方法において、前記特定部位周辺の前記検査小領域の再設定において、重複して設定された検査小領域に対して、重複して設定された前記検査小領域を、その始終点座標に基づいて削除あるいは無効化あるいは縮小化を行うことを特徴とする。   The invention according to claim 3 is the inspection region setting method according to claim 1 or 2, wherein the inspection small region around the specific part is overlapped with respect to the inspection small region set in duplicate. The inspection small area set as described above is deleted, invalidated, or reduced based on the start / end coordinates.

請求項4に記載の発明は、請求項1から3いずれか記載の検査領域設定方法において、前記検査小領域の再設定において、再設定された前記検査小領域が前記検査領域の半田検査領域および特定部位と重なった場合、再設定された前記検査小領域に対して、前記半田検査領域が配置されている方向に基づいて検査領域を縮小することを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the inspection region setting method according to any one of the first to third aspects, in the resetting of the inspection small region, the reset small inspection region is a solder inspection region of the inspection region and When overlapping with a specific part, the inspection area is reduced based on the direction in which the solder inspection area is arranged with respect to the reset inspection small area.

請求項5に記載の発明は、請求項1から4いずれか記載の検査領域設定方法において、前記検査小領域が縮小された場合の閾値設定において、縮小比率に応じて検出割合閾値あるいは検出割合を導き出す基準面積値を変化させることを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, in the inspection area setting method according to any one of the first to fourth aspects, in the threshold setting when the inspection small area is reduced, a detection ratio threshold or a detection ratio is set according to the reduction ratio. The reference area value to be derived is changed.

請求項6に記載の発明は、請求項1から5いずれか記載の検査領域設定方法において、特定部位がスルーホールであることを特徴とする。   The invention according to claim 6 is the inspection region setting method according to any one of claims 1 to 5, wherein the specific part is a through hole.

本発明によれば、BGA実装部などの印刷および異物検査領域を短時間で容易に設定することが可能となり、また個別に設定が必要な色の背景条件も、全ての検査エリアにおいて容易に設定することができる。しかも、複雑に設定する必要のある微小な検査領域についても、動的再配置により検査領域個数と領域サイズの最適化を行うため、教示時間の短縮につながり、さらには検査領域の最適配置により検査時間の短縮化を図ることができる。   According to the present invention, it is possible to easily set a printing and foreign matter inspection area such as a BGA mounting portion in a short time, and color background conditions that need to be individually set can be easily set in all inspection areas. can do. Moreover, even for small inspection areas that need to be set in a complicated manner, the number of inspection areas and the area size are optimized by dynamic relocation, leading to a reduction in teaching time and further inspection by optimal arrangement of inspection areas. Time can be shortened.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(実施の形態1)
本発明に係る検査領域設定方法を説明するための実施の形態1を図1〜図18を参照して説明する。
(Embodiment 1)
A first embodiment for explaining an inspection region setting method according to the present invention will be described with reference to FIGS.

図1は本実施の形態の基本構成を示すブロック図、図2は本実施の形態における検査領域設定に係るフローチャート、図3は本実施の形態におけるプリント基板上にBGAを実装する基板面を図式化して示す説明図である。   FIG. 1 is a block diagram showing a basic configuration of the present embodiment, FIG. 2 is a flowchart relating to inspection area setting in the present embodiment, and FIG. 3 is a schematic diagram of a substrate surface on which a BGA is mounted on a printed circuit board in the present embodiment. FIG.

図1において、1はプリント基板、2は半田、3はプリント基板1を撮像する撮像部、5はプリント基板1を照明する照明部、10は撮像部3からの画像を記憶する画像記憶手段、11は画像記憶手段10の画像から色抽出を行う色抽出手段、12は色抽出手段11の結果より領域を設定する領域設定手段、13は領域設定手段13での設定等を基に特定の領域を検出する検出手段、14はデータ入力手段、15は演算処理部を示し、図3において、6はランド、7はプリント基板、8はスルーホール、20は検査領域全体を示す。   In FIG. 1, 1 is a printed circuit board, 2 is solder, 3 is an imaging unit that images the printed circuit board 1, 5 is an illumination unit that illuminates the printed circuit board 1, and 10 is an image storage unit that stores an image from the imaging unit 3. 11 is a color extraction unit that extracts colors from the image stored in the image storage unit 10, 12 is a region setting unit that sets a region based on the result of the color extraction unit 11, and 13 is a specific region based on the setting in the region setting unit 13. In FIG. 3, 6 is a land, 7 is a printed circuit board, 8 is a through hole, and 20 is an entire inspection area.

図1〜図3において、検査領域設定に係る処理が開始されると、ステップS1において、データ入力手段14より演算処理部15にランド領域となるデータを読み込む。ここで用いられるデータは半田印刷を行う際のマスクの座標を示すガーバーデータであることが一般的である。次に、ステップS2において、読み込んだランド領域のデータより対象となるBGA実装部分を検査領域全体20として設定する。   In FIG. 1 to FIG. 3, when the processing related to the inspection area setting is started, data to be a land area is read from the data input means 14 into the arithmetic processing section 15 in step S1. The data used here is generally Gerber data indicating the coordinates of the mask when performing solder printing. Next, in step S <b> 2, the target BGA mounting portion is set as the entire inspection area 20 based on the read land area data.

次に、ステップS3にて、図4に示すように異物を検出させる異物検査小領域24を設定する。異物検査小領域24のサイズについては、検出すべき対象異物のサイズより求める必要があり、これを求める例を図5,図6に示す。図5は異物30を包含する異物検査小領域23の検査領域幅31と検査領域高さ32を図式化している。   Next, in step S3, as shown in FIG. 4, a foreign substance inspection small area 24 for detecting foreign substances is set. The size of the foreign substance inspection subregion 24 needs to be obtained from the size of the target foreign substance to be detected, and examples of obtaining this are shown in FIGS. FIG. 5 schematically shows the inspection area width 31 and the inspection area height 32 of the foreign object inspection small area 23 including the foreign object 30.

ここで異物30は、円形と仮定し、検査領域幅31をW、検査領域高さ32をHとし、W=Hとする。この場合、異物30の面積はW/2*W/2*πとなり、異物検査小領域23の面積はW*Wであるから、異物検査小領域23に占める異物30の割合は、(W/2*W/2*π)/W*W*100[%]となる。仮に、W=2とした場合、78.5%となる。   Here, the foreign material 30 is assumed to be circular, and the inspection area width 31 is W, the inspection area height 32 is H, and W = H. In this case, since the area of the foreign matter 30 is W / 2 * W / 2 * π and the area of the foreign matter inspection subregion 23 is W * W, the ratio of the foreign matter 30 to the foreign matter inspection subregion 23 is (W / 2 * W / 2 * π) / W * W * 100 [%]. If W = 2, it is 78.5%.

よって、この場合、異物検査小領域23に占める割合を(W/2*W/2*π)/W*W*100[%]とすることにより検出可能となるが、図6に示すように、4箇所の異物検査小領域23の中央に異物30が存在した場合、各異物検査小領域23において、この割合が最も低くなって、{(W/2*W/2*π)/4}/W*W*100[%]となり、仮に、W=2とした場合には、19.625%となり、異物検査小領域23の1/5にも満たない面積しか存在しなくなる。この場合は、異物形状が全て検出することができた例であり、実際の撮像においては色の濃淡変化などもあり、実際の安定した判定を行うことができなくなる。   Therefore, in this case, detection can be made by setting the ratio of the foreign substance inspection small area 23 to (W / 2 * W / 2 * π) / W * W * 100 [%], but as shown in FIG. When the foreign substance 30 exists in the center of the four foreign substance inspection subareas 23, this ratio becomes the lowest in each foreign substance inspection subarea 23, and {(W / 2 * W / 2 * π) / 4} / W * W * 100 [%]. If W = 2, it is 19.625%, and there is only an area that is less than 1/5 of the foreign matter inspection subregion 23. In this case, all of the foreign object shapes can be detected, and in actual imaging, there are color shading changes and the like, and actual stable determination cannot be performed.

そこで、異物検査小領域24については、検出対象となる異物30を包含する矩形形状の1/4の大きさ以下で設定し、検査領域全体20に対して配置することにより、全ての異物検査小領域24において、{(W/2*W/2*π)/4}/W/2*W/2*100[%]の割合以上で検出が可能になる。   Therefore, the foreign matter inspection small region 24 is set to a size equal to or less than ¼ of the rectangular shape including the foreign matter 30 to be detected, and is arranged with respect to the entire inspection region 20, so that all the foreign matter inspection small regions 24 are set. In the area 24, detection is possible at a ratio of {(W / 2 * W / 2 * π) / 4} / W / 2 * W / 2 * 100 [%] or more.

前記のようにしてステップS4において、検査領域全体20に異物検査小領域24を全面に設定する。   As described above, in step S4, the foreign substance inspection small area 24 is set over the entire inspection area 20.

ステップS5では、検査領域全体20(プリント基板1の全面)に設定された異物検査小領域24に対し、ランド検査領域9と重なる部分の削除あるいは無効化あるいは縮小化を行う。ランド検査領域9の始終点範囲内に存在する異物検査小領域24は削除あるいは無効化を行い、異物検査を行わないようにする。一部が始終点内に存在する場合についても同様に削除あるいは無効化してもよい。本来検出すべきサイズの面積で1/4以下、長さで1/2以下で設定しているため、仮にランド検査領域9に包含されていない場合であって異物検査小領域24を削除あるいは無効化した場合であっても、隣接する異物検査小領域24が存在しているため、異物を検出する上では影響を受けない。   In step S5, a portion overlapping the land inspection area 9 is deleted, invalidated, or reduced with respect to the foreign substance inspection small area 24 set in the entire inspection area 20 (the entire surface of the printed circuit board 1). The foreign substance inspection small area 24 existing within the start / end point range of the land inspection area 9 is deleted or invalidated so that the foreign substance inspection is not performed. Similarly, when a part exists in the start and end points, it may be deleted or invalidated. Since the area of the size to be detected is set to ¼ or less and the length is set to ½ or less, the foreign substance inspection small area 24 is deleted or invalid if it is not included in the land inspection area 9. Even if it is a case, since there is an adjacent foreign substance inspection subregion 24, there is no influence in detecting a foreign substance.

ステップS6では図1に示すような構成において、実際に検査対象となるプリント基板1を照明部5で照射し、撮像部3で撮像して、画像情報を画像記憶手段10に記憶させる。   In step S6, in the configuration as shown in FIG. 1, the printed circuit board 1 that is actually to be inspected is irradiated by the illumination unit 5, imaged by the imaging unit 3, and image information is stored in the image storage unit 10.

ステップS7で画像記憶手段10に記憶させた画像情報から、図7に示す半田の不塗りを検査するためのランド色情報と異物検出のための背景色となる基板色情報201の色情報取得を行う。また、このときに異物検査をする場合に背景色として基板全面に配置されている基板色と区別して設定するため、ランド色情報と基板色情報201と異なっているスルーホール8などの部分を特定箇所色情報202として取得する必要がある。   From the image information stored in the image storage means 10 in step S7, the color information of the land color information for inspecting the unpainted solder shown in FIG. 7 and the substrate color information 201 as the background color for detecting foreign matter is obtained. Do. Also, in order to distinguish and set the background color from the substrate color that is arranged on the entire surface of the substrate when performing foreign object inspection at this time, a portion such as the through hole 8 that is different from the land color information and the substrate color information 201 is specified. It is necessary to obtain the location color information 202.

なぜなら、背景色としての基板色情報201以外に特定箇所色情報202を適宜設定しない場合は、図8のように一様な状態となってしまい、全く抽出できなくなるからである。   This is because if the specific location color information 202 other than the substrate color information 201 as the background color is not set as appropriate, it becomes uniform as shown in FIG. 8 and cannot be extracted at all.

しかし、図7において、スルーホール8がある領域63,領域64,領域65,領域66には特定箇所色情報202、スルーホール8のない領域67,領域68,領域69,領域70に基板色情報201を設定すると、図9に示すように、抽出領域60として抽出することが可能になる。   However, in FIG. 7, the specific color information 202 is provided in the region 63, the region 64, the region 65, and the region 66 with the through hole 8, and the substrate color information is provided in the region 67, the region 68, the region 69, and the region 70 without the through hole 8. When 201 is set, the extraction area 60 can be extracted as shown in FIG.

抽出領域60は図9に示す斜線部であり、個々の異物検査小領域においては、検査領域幅61をXとし、検査領域高さ62をYとしX=Yの矩形領域と仮定すると、抽出領域60の面積はX*X*π/4となる。基板色情報201のみで抽出する場合は、矩形領域(図9の異物検査小領域全体)における割合が約21%でしか抽出できなくなるが、特定箇所が存在する部分に特定箇所色情報202を設定し、それ以外の部分に基板色情報201を設定することで、抽出領域60の周囲の異物検査小領域に絞り込むことができ、抽出領域60の割合が約78.5%で検出することが可能となる。   The extraction area 60 is a hatched portion shown in FIG. 9, and in each foreign substance inspection small area, assuming that the inspection area width 61 is X, the inspection area height 62 is Y, and X = Y is a rectangular area X The area of 60 is X * X * π / 4. When the extraction is performed only with the substrate color information 201, the extraction can be performed only at a ratio of about 21% in the rectangular area (the entire foreign substance inspection small area in FIG. 9), but the specific location color information 202 is set in a portion where the specific location exists. In addition, by setting the substrate color information 201 in the other part, it is possible to narrow down to the foreign substance inspection small area around the extraction area 60, and the ratio of the extraction area 60 can be detected at about 78.5%. It becomes.

次に、ステップS8では、実際に検査対象となるプリント基板1を照明部5で照射し、撮像部3で撮像して、画像情報を画像記憶手段10に記憶させるか、あるいはステップS6で取得し画像記憶手段10に記憶されている画像情報を読み出す。   Next, in step S8, the printed circuit board 1 to be actually inspected is irradiated by the illumination unit 5, and imaged by the imaging unit 3, and image information is stored in the image storage means 10, or acquired in step S6. Image information stored in the image storage means 10 is read out.

ステップS9にて、ステップS8で取得した画像情報を元に特定箇所色情報202の存在する部分の検出を行う。   In step S9, a portion where the specific location color information 202 exists is detected based on the image information acquired in step S8.

その検出方法としては、異物検査小領域24に対して、特定箇所色情報202と同じ色情報を有する面積を抽出し、一定の割合以上でスルーホール8が存在すると設定する。スルーホール8のサイズが異物検査小領域24と同サイズであると仮定した場合、異物検査小領域24の面積の1/6以上の異物を検出すると設定することにより、異物検査小領域24とスルーホール8の位置関係によらずスルーホール8を検出することが可能となる。図10に示すように、スルーホール8が異物検査小領域24と同サイズであり、4領域にまたがって存在していたとしても、個々の異物検査小領域24内部にスルーホール8が19%程度は存在することになる。   As the detection method, an area having the same color information as the specific location color information 202 is extracted from the foreign substance inspection small region 24 and set to have the through holes 8 at a certain ratio or more. When it is assumed that the size of the through hole 8 is the same size as the foreign matter inspection small region 24, it is set to detect the foreign matter more than 1/6 of the area of the foreign matter inspection small region 24. The through hole 8 can be detected regardless of the positional relationship of the holes 8. As shown in FIG. 10, even though the through hole 8 is the same size as the foreign substance inspection small region 24 and exists over four regions, the through hole 8 is about 19% in each foreign particle inspection small region 24. Will exist.

ただし、通常は図10に示すように、スルーホール34の位置が異物検査小領域24に対して等分された位置には存在し得ないため、異物検査小領域24で検出する領域は領域35,領域36のようにスルーホール34の全域を検出することできない。   However, normally, as shown in FIG. 10, since the position of the through hole 34 cannot exist at a position equally divided with respect to the foreign matter inspection small region 24, the region detected by the foreign matter inspection small region 24 is the region 35. , The entire region of the through hole 34 cannot be detected as in the region 36.

そこで、ステップS10においては、スルーホール8が存在する領域を基に、図11に示すように、実際のスルーホール34の重心を検出するための検査領域37を設定する。この検査領域37はステップS9にて検出した異物検査小領域24の2倍の領域を設定することにより、スルーホール34を包含することができる。   Therefore, in step S10, based on the region where the through hole 8 exists, an inspection region 37 for detecting the actual center of gravity of the through hole 34 is set as shown in FIG. The inspection area 37 can include the through hole 34 by setting an area twice as large as the foreign substance inspection small area 24 detected in step S9.

ステップS11において、スルーホール34の円形状を検出し、重心38とスルーホール径39を求める。   In step S11, the circular shape of the through hole 34 is detected, and the center of gravity 38 and the through hole diameter 39 are obtained.

ステップS12にて、図12に示すように、ステップS11にて求めた重心38にスルーホール径39でスルーホール部における異物検査小領域80を設定する。このとき、異物検査小領域80に対しては、背景色として特定箇所色情報202を設定しておくことが可能である。   In step S12, as shown in FIG. 12, a foreign substance inspection small region 80 in the through-hole portion is set with a through-hole diameter 39 at the center of gravity 38 obtained in step S11. At this time, it is possible to set the specific part color information 202 as the background color for the foreign substance inspection small area 80.

ステップS13にて、図13に示すように、異物検査小領域80を設定したことにより異物検査小領域80と重複して設定されることになる非異物検査小領域81に対して、同一領域での2重検査および背景色の異なる条件での検査を防ぐために、削除あるいは無効化設定を行う。   In step S13, as shown in FIG. 13, by setting the foreign substance inspection small area 80, the non-foreign substance inspection small area 81 that is set to overlap with the foreign substance inspection small area 80 is the same area. In order to prevent double inspection and inspection under different conditions of the background color, deletion or invalidation setting is performed.

この状態ではスルーホール34の周囲に未検査領域が存在してしまうため、ステップS14において、図14に示すように、異物検査小領域82をスルーホール34の周囲近傍に再配置する。   In this state, there is an uninspected area around the through hole 34. Therefore, in step S14, the foreign substance inspection small area 82 is rearranged near the periphery of the through hole 34 as shown in FIG.

ここで、ステップS15として異物検査小領域の最適化を行う。図14の場合はスルーホール34の周囲近傍と、ステップS4で設定した異物検査小領域24で重複する部分は存在するが、それぞれが完全に包含する領域はないため、領域変更を行わずに異物検査を行う。重複チェックは、異物検査小領域24の始点≦異物検査小領域82の始点、異物検査小領域82の終点≦異物検査小領域24の終点、または、異物検査小領域82の始点≦異物検査小領域24の始点、異物検査小領域82の終点≦異物検査小領域82の終点、の条件となり、どちらか包含される側の領域を削除あるいは無効化する。完全同一領域の場合も同様であり、どちらかの領域を削除あるいは無効化する。   Here, in step S15, the foreign substance inspection small area is optimized. In the case of FIG. 14, there are overlapping portions in the vicinity of the through hole 34 and in the foreign substance inspection small area 24 set in step S4. However, since there is no area completely included in each area, the foreign substance is not changed without changing the area. Perform an inspection. The overlap check is performed by starting the foreign matter inspection subregion 24 ≦ the starting point of the foreign matter inspection subregion 82, the end point of the foreign matter inspection subregion 82 ≦ the end point of the foreign matter inspection subregion 24, or the starting point of the foreign matter inspection subregion 82 ≦ foreign matter inspection subregion. The start point of 24, the end point of the foreign substance inspection small area 82 ≤ the end point of the foreign substance inspection small area 82, and the included area is deleted or invalidated. The same applies to the completely same area, and either area is deleted or invalidated.

なお、図17に示すように、重複異物検査小領域86と重複異物検査小領域87が存在した場合、図18に示すように、双方で完全に重複している重複異物検査小領域88に対して無効化あるいは削除を行うことにより、全域の異物検査小領域を損なわず検査領域を確保することが可能となる。   As shown in FIG. 17, when there is an overlapped foreign substance inspection small area 86 and an overlapped foreign substance inspection small area 87, as shown in FIG. By invalidating or deleting the inspection area, it is possible to secure the inspection area without damaging the entire foreign substance inspection small area.

ステップS16としては、図15に示すように、別のスルーホールが近傍に存在する場合で、再配置した異物検査小領域82がスルーホール83と重なった場合は、スルーホールの相対位置関係により検査領域の縮小を行う。   In step S16, as shown in FIG. 15, when another through hole exists in the vicinity and the rearranged foreign substance inspection small region 82 overlaps the through hole 83, the inspection is performed according to the relative positional relationship of the through holes. Reduce the area.

図15のようにスルーホール84に対し、スルーホール83が+Yの方向にある場合は図16に示すように、異物検査小領域82のYの幅を異物検査小領域80のY下端座標と同一座標とする。   When the through hole 83 is in the + Y direction with respect to the through hole 84 as shown in FIG. 15, the Y width of the foreign substance inspection small area 82 is the same as the Y lower end coordinate of the foreign substance inspection small area 80 as shown in FIG. Use coordinates.

ただし、図16の場合、スルーホール84に対し、スルーホール83は+Xの方向でもあるので、この場合は、異物検査小領域82のYの幅を異物検査小領域80のX右端座標と同一座標としてもよい。   However, in the case of FIG. 16, the through hole 83 is also in the + X direction with respect to the through hole 84. In this case, the Y width of the foreign substance inspection small area 82 is the same coordinate as the X right end coordinate of the foreign substance inspection small area 80. It is good.

ステップS17として、異物検査小領域を再配置した際には、周囲にランドが存在する場合があり、この場合も図15,図16に示したスルーホールに重なった場合と同様に異物検査小領域の縮小化を行うことにより検査領域を最適化する。   In step S17, when the foreign substance inspection small area is rearranged, there may be a land around it. In this case as well, the foreign substance inspection small area is overlapped with the through hole shown in FIGS. The inspection area is optimized by reducing the size.

異物の検査として、異物検査小領域を設定し、その内部に背景色を設定し、背景色と異なる色部分を抽出し、その抽出された値の異物検査小領域に対する割合で異物の存在を検出する。しかしながら、ステップS16,ステップS17のように、異物検査小領域を縮小化した場合は、基準となる異物検査小領域の面積が変わってしまい、異物が存在した場合の比率が変わるため、検出感度が変化してしまう。検査領域全てに対して個別に割合の閾値及び基準面積値を設定することでも対応はできるが、図4に示すように、膨大な検出領域となった場合は、個別で設定を行うとデータの管理が煩雑になる。   As a foreign object inspection, set up a foreign substance inspection small area, set a background color inside it, extract a color part different from the background color, and detect the presence of foreign substances at a ratio of the extracted value to the foreign substance inspection small area To do. However, when the foreign substance inspection small area is reduced as in steps S16 and S17, the area of the reference foreign substance inspection small area changes, and the ratio when the foreign substance exists changes. It will change. Although it is possible to cope with this by setting the threshold value and the reference area value individually for all the inspection areas, as shown in FIG. Management becomes complicated.

このような場合に対しては、縮小比率に応じて、検出割合閾値あるいは検出割合を導き出す基準面積値を変化させる。   For such a case, the detection ratio threshold or the reference area value from which the detection ratio is derived is changed according to the reduction ratio.

例えば、異物検出小領域の幅をXとし、高さをYとして、異物検出小領域内の検出閾値を基準面積の50%と設定する。この場合、異物が1/2*X*Yの面積以上存在すると、異物有と検出することが可能であるが、異物検出小領域が重複しているため、高さが3/4になったとした場合、基準面積はX*3/4*Yとなる。   For example, the width of the foreign object detection small area is set to X, the height is set to Y, and the detection threshold in the foreign object detection small area is set to 50% of the reference area. In this case, it is possible to detect the presence of foreign matter when the foreign matter is present in an area of 1/2 * X * Y or more, but the height is 3/4 because the foreign matter detection sub-regions overlap. In this case, the reference area is X * 3/4 * Y.

そこで、縮小割合3/4に応じて、一つの領域は検出割合を可変させる。   Therefore, the detection ratio of one region is varied in accordance with the reduction ratio 3/4.

基準面積値はX*Yのままとし、その領域の検出割合を50%*3/4=3/8とする。この場合、他の異物検出小領域と同一基準として検査が可能である。   The reference area value remains X * Y, and the detection ratio of that region is 50% * 3/4 = 3/8. In this case, the inspection can be performed on the same basis as other foreign object detection small areas.

他の領域は、基準面積値を縮小したサイズとし、検出割合はそのままで検査を行う。   The other areas are inspected with the reference area value reduced and the detection ratio is kept as it is.

この場合は、検出割合は、他の領域検査割合と同一であるため、検出感度を変更する場合に一律に変更が可能となる。   In this case, since the detection ratio is the same as the other area inspection ratio, the detection sensitivity can be changed uniformly when the detection sensitivity is changed.

この方法としては、どちらを選択することでも異物の検出感度は維持されたままとなる。   As for this method, the detection sensitivity of foreign matters remains maintained regardless of which method is selected.

本発明は、多電極を有する電子部品の実装工程において、多電極ICの被実装部の不均等な検査領域の設定を短時間で設定できるものであり、多品種少量生産の工程や新機種導入時の早期検証において有用である。   In the mounting process of an electronic component having a multi-electrode, the present invention can set the non-uniform inspection area of the mounted portion of the multi-electrode IC in a short time. Useful for early verification of time.

本発明の実施の形態1に係る検査領域設定方法の実施の形態の基本構成を示すブロック図The block diagram which shows the basic composition of embodiment of the inspection area | region setting method which concerns on Embodiment 1 of this invention. 実施の形態1における検査領域設定に係るフローチャートFlowchart relating to inspection area setting in the first embodiment 実施の形態1におけるプリント基板上にBGAを実装する基板面を図式化して示す説明図Explanatory drawing which shows the board | substrate surface which mounts BGA on the printed circuit board in Embodiment 1 schematically 実施の形態1において検査領域に対し異物検査小領域を設定した場合の説明図Explanatory drawing when a foreign substance inspection small area is set for an inspection area in the first embodiment 実施の形態1における異物検査小領域の説明図Explanatory drawing of the foreign substance inspection small area in Embodiment 1 実施の形態1における実施形態の異物検査小領域のサイズに関する説明図Explanatory drawing regarding the size of the foreign substance inspection small region of the first embodiment 実施の形態1におけるスルーホールと異物の色による検出方法を示す説明図Explanatory drawing which shows the detection method by the color of a through hole and a foreign material in Embodiment 1. 実施の形態1において図7に示す方法で検査した場合の説明図Explanatory drawing when inspecting by the method shown in FIG. 7 in the first embodiment 実施の形態1において異物を抽出した場合の説明図Explanatory drawing when a foreign object is extracted in the first embodiment 実施の形態1におけるスルーホールとスルーホールを検出した異物検査小領域の説明図Explanatory drawing of the foreign substance inspection small area which detected the through hole and the through hole in Embodiment 1 実施の形態1におけるスルーホールとスルーホール用検査領域の説明図Explanatory drawing of the inspection area for through holes and through holes in the first embodiment 実施の形態1において図11にて抽出されたスルーホール形状から求められたスルーホール用異物検査小領域の説明図Explanatory drawing of the foreign substance inspection small area for through-holes calculated | required from the through-hole shape extracted in FIG. 11 in Embodiment 1 実施の形態1においてスルーホールと重複して削除された異物検査小領域の説明図Explanatory drawing of the foreign substance inspection small area deleted in duplicate with the through hole in the first embodiment 実施の形態1においてスルーホール周囲近傍に異物検査小領域を設定した場合の説明図Explanatory drawing when a foreign substance inspection small region is set in the vicinity of the through hole in the first embodiment 実施の形態1における重複した異物検査小領域の説明図Explanatory drawing of the overlapped foreign substance inspection small area in the first embodiment 実施の形態1において異物検査小領域を縮小化した場合の説明図Explanatory drawing when the foreign substance inspection small area is reduced in the first embodiment 実施の形態1における複数の重複異物検査小領域の説明図Explanatory drawing of the some overlap foreign substance inspection small area in Embodiment 1 実施の形態1における重複異物検査小領域より実際に無効化あるいは削除を行う領域の説明図Explanatory drawing of the area | region which actually invalidates or deletes from the overlapping foreign material inspection small area in Embodiment 1 従来のBGA実装工程の構成を示す説明図Explanatory drawing which shows the structure of the conventional BGA mounting process 従来例のプリント基板とランドの配置についての説明図Explanatory drawing about arrangement of printed circuit board and land of conventional example 従来例のプリント基板とランドとスルーホールの配置についての説明図Explanatory drawing about arrangement of printed circuit board, land and through hole of conventional example

符号の説明Explanation of symbols

1 プリント基板
2 半田
3 撮像部
6 ランド
5 照明部
7 プリント基板
8,83,84 スルーホール
9 ランド検査領域
10 画像記憶手段
11 色抽出手段
12 領域設定手段
13 検出手段
14 データ入力手段
15 演算処理部
20 検査領域全体
23,24,80,82 異物検査小領域
30 異物
31,61 検査領域幅
32,62 検査領域高さ
33 異物
34 スルーホール
35,36 領域
37 検査領域
38 重心
39 スルーホール径
60 抽出領域
63〜70 領域
86〜88 重複異物検査小領域
201 基板色情報
202 特定箇所色情報
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Printed circuit board 2 Solder 3 Imaging part 6 Land 5 Illumination part 7 Printed circuit board 8,83,84 Through hole 9 Land inspection area 10 Image storage means 11 Color extraction means 12 Area setting means 13 Detection means 14 Data input means 15 Operation processing part 20 Whole inspection area 23, 24, 80, 82 Foreign object inspection small area 30 Foreign object 31, 61 Inspection area width 32, 62 Inspection area height 33 Foreign object 34 Through hole 35, 36 area 37 Inspection area 38 Center of gravity 39 Through hole diameter 60 Extraction Area 63 to 70 Area 86 to 88 Sub-foreign particle inspection small area 201 Substrate color information 202 Specific location color information

Claims (6)

検査領域全域を検査小領域に分割し、
分割された前記検査小領域から特定部位を含む領域を除去し、
前記特定部位の色情報とそれ以外の部位の色情報とに基づく閾値により、前記特定部位周辺の前記検査小領域を再設定することを特徴とする検査領域設定方法。
Divide the entire inspection area into inspection small areas,
Removing the region including the specific part from the divided examination subregion,
An inspection region setting method comprising: resetting the inspection small region around the specific region based on a threshold value based on the color information of the specific region and the color information of other regions.
前記検査小領域を設定する際に、検出対象の異物の大きさに基づいて前記検査小領域の設定を行うことを特徴とする請求項1記載の検査領域設定方法。   2. The inspection area setting method according to claim 1, wherein when setting the inspection small area, the inspection small area is set based on a size of a foreign object to be detected. 前記特定部位周辺の前記検査小領域の再設定において、重複して設定された検査小領域に対して、重複して設定された前記検査小領域を、その始終点座標に基づいて削除あるいは無効化あるいは縮小化を行うことを特徴とする請求項1又は2記載の検査領域設定方法。   In the resetting of the examination subregion around the specific part, the examination subregion set redundantly is deleted or invalidated based on the start / end coordinates for the examination subregion set redundantly. Alternatively, the inspection area setting method according to claim 1 or 2, wherein the reduction is performed. 前記検査小領域の再設定において、再設定された前記検査小領域が前記検査領域の半田検査領域および特定部位と重なった場合、再設定された前記検査小領域に対して、前記半田検査領域が配置されている方向に基づいて検査領域を縮小することを特徴とする請求項1から3いずれか記載の検査領域設定方法。   In the resetting of the inspection small area, when the reset inspection small area overlaps the solder inspection area and the specific part of the inspection area, the solder inspection area 4. The inspection area setting method according to claim 1, wherein the inspection area is reduced based on a direction in which the inspection area is arranged. 前記検査小領域が縮小された場合の閾値設定において、縮小比率に応じて検出割合閾値あるいは検出割合を導き出す基準面積値を変化させることを特徴とする請求項1から4いずれか記載の検査領域設定方法。   The inspection area setting according to any one of claims 1 to 4, wherein in the threshold setting when the inspection small area is reduced, a detection ratio threshold or a reference area value for deriving the detection ratio is changed according to the reduction ratio. Method. 前記特定部位がスルーホールであることを特徴とする請求項1から5いずれか記載の検査領域設定方法。   6. The inspection region setting method according to claim 1, wherein the specific part is a through hole.
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